KR20130003998A - Liquid crystal display device and method of fabricating the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A liquid crystal display device and a manufacturing method thereof are provided to transmit uniformly the light of a light source to the display area of a liquid crystal panel without a light guide plate and to implement the light weight of the liquid crystal display device. CONSTITUTION: A liquid crystal display device(101) includes a liquid crystal panel(105) and a backlight unit(180). The backlight unit is prepared in the bottom of the liquid crystal panel. The backlight unit includes a reflecting plate(184), an optical sheet(186) and a light source(182). Depressed portions(109) are prepared in the bottom of the liquid crystal panel. Recesses are used as a micro lens. [Reference numerals] (169a) Red; (169b) Green; (169c) Blue

Description

액정표시장치 및 그 제조 방법{Liquid crystal display device and method of fabricating the same}Liquid crystal display device and method of manufacturing the same {Liquid crystal display device and method of fabricating the same}

본 발명은 액정표시장치에 관한 것이며, 특히 도광판을 삭제함으로써 경량 박형을 구현한 액정표시장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same, which realize a light weight and thin film by eliminating a light guide plate.

최근에 액정표시장치는 소비전력이 낮고, 휴대성이 양호한 기술 집약적이며, 부가가치가 높은 차세대 첨단 디스플레이(display)소자로 각광받고 있다. Recently, liquid crystal displays have been spotlighted as next generation advanced display devices having low power consumption, good portability, high technology value, and high added value.

이러한 액정표시장치 중에서도, 각 화소(pixel)별로 전압의 온(on)/오프(off)를 조절할 수 있는 스위칭 소자인 박막트랜지스터가 구비된 액티브 매트릭스형 액정표시장치가 해상도 및 동영상 구현능력이 뛰어나 가장 주목받고 있다.Among these liquid crystal display devices, an active matrix type liquid crystal display device having a thin film transistor, which is a switching device capable of controlling voltage on / off for each pixel, It is attracting attention.

도 1은 일반적인 액정표시장치의 하나의 화소영역에 대한 단면도이다. 1 is a cross-sectional view of one pixel area of a general liquid crystal display device.

도시한 바와 같이, 일반적인 액정표시장치(1)는 크게 액정패널(2)과 백라이트 유닛(90)으로 구성되고 있다.As shown in the drawing, a general liquid crystal display device 1 is largely composed of a liquid crystal panel 2 and a backlight unit 90.

상기 액정패널(2)은 서로 일정간격 이격되어 어레이 기판(10)과 컬러필터 기판(60)이 서로 마주하며 위치하고 있으며, 이들 두 기판(10, 60) 사이에는 액정층(80)이 개재되어 있다. 또한, 상기 백라이트 유닛(90)은 광원(91)과 도광판(92)과 반사판(93), 그리고 다수의 광학시트(95)를 포함하여 구성되고 있다.The liquid crystal panel 2 is spaced apart from each other by a predetermined distance and the array substrate 10 and the color filter substrate 60 face each other, and the liquid crystal layer 80 is interposed between the two substrates 10 and 60. . In addition, the backlight unit 90 includes a light source 91, a light guide plate 92, a reflection plate 93, and a plurality of optical sheets 95.

우선, 상기 액정패널(2)을 이루는 하나의 구성요소인 어레이 기판(10)에는 이의 상부에 게이트 전극(13)과 게이트 배선(15)이 형성되어 있으며, 상기 게이트 배선(15) 위로 전면에 게이트 절연막(17)이 형성되어 있다. First, a gate electrode 13 and a gate wiring 15 are formed on an array substrate 10, which is one component of the liquid crystal panel 2, and a gate is formed on the front surface of the gate wiring 15. The insulating film 17 is formed.

또한, 상기 게이트 절연막(17) 위로 액티브층(19a)과 오믹콘택층(19b)으로 구성된 반도체층(19)이 상기 게이트 전극(13)에 대응하여 형성되어 있으며, 상기 반도체층(19) 위로 상기 오믹콘택층(19b)과 각각 접촉하며 게이트 전극(13)을 사이에 두고 일정간격 이격하여 소스 및 드레인 전극(23, 25)이 형성되어 있다. 이때, 순차 적층된 상기 게이트 전극(13)과 게이트 절연막(17)과 반도체층(19)과 서로 이격하는 소스 및 드레인 전극(23, 23)은 스위칭 소자인 박막트랜지스터(Tr)를 이룬다. In addition, a semiconductor layer 19 including an active layer 19a and an ohmic contact layer 19b is formed on the gate insulating layer 17 to correspond to the gate electrode 13. The source and drain electrodes 23 and 25 are formed to be in contact with the ohmic contact layer 19b and spaced apart from each other with the gate electrode 13 interposed therebetween. In this case, the gate electrode 13, the gate insulating layer 17, and the source and drain electrodes 23 and 23 spaced apart from each other are sequentially formed as a thin film transistor Tr.

또한, 상기 게이트 절연막(17) 위로 상기 게이트 배선(15)과 교차하여 다수의 화소영역(P)을 정의하며 상기 소스 전극(23)과 연결되며 데이터 배선(미도시)이 형성되고 있다.In addition, a plurality of pixel regions P are defined on the gate insulating layer 17 to intersect the gate lines 15, are connected to the source electrodes 23, and data lines (not shown) are formed.

또한, 상기 데이터 배선(미도시)과 소스 및 드레인 전극(23, 25) 위로 상기 드레인 전극(25)을 노출시키는 드레인 콘택홀(29)을 갖는 보호층(27)이 형성되어 있으며, 상기 보호층(27) 위로 화소전극(30)이 상기 드레인 콘택홀(29)을 통해 상기 드레인 전극(25)과 접촉하며 각 화소영역(P) 별로 형성되어 있다. In addition, a protective layer 27 having a drain contact hole 29 exposing the drain electrode 25 is formed on the data line (not shown) and the source and drain electrodes 23 and 25. A pixel electrode 30 contacts the drain electrode 25 through the drain contact hole 29 and is formed for each pixel region P.

다음, 이러한 구성을 갖는 어레이 기판(10)과 마주하며 위치하는 상기 컬러필터 기판(60)의 내측면에는 각 화소영역(P)의 경계 즉 상기 게이트 배선(15)과 데이터 배선(미도시) 및 박막트랜지스터(Tr)에 대응하여 블랙매트릭스(62)가 형성되어 있으며, 상기 블랙매트릭스(62)로 둘러싸인 영역에는 적, 녹, 청색의 컬러필터 패턴(65a, 65b, 65c)이 순차 반복하는 형태를 갖는 컬러필터층(65)이 형성되어 있으며, 상기 컬러필터층(65) 하부에 투명 도전성 물질로 이루어진 공통전극(70)이 형성되어 있다.Next, an inner surface of the color filter substrate 60 facing the array substrate 10 having such a configuration may have a boundary of each pixel region P, that is, the gate wiring 15 and the data wiring (not shown) and The black matrix 62 is formed corresponding to the thin film transistor Tr, and the red, green, and blue color filter patterns 65a, 65b, and 65c are sequentially repeated in the region surrounded by the black matrix 62. A color filter layer 65 is formed, and a common electrode 70 made of a transparent conductive material is formed under the color filter layer 65.

또한, 상기 공통전극(70)과 하부 어레이 기판(10)상의 보호층(27)과 동시에 접촉하며, 일정간격을 가지며 배열된 다수의 패턴드 스페이서(85)가 형성되어 있다. In addition, a plurality of patterned spacers 85 are formed in contact with the common electrode 70 and the protective layer 27 on the lower array substrate 10 at the same time.

이때, 상기 어레이 기판(10)의 보호층(27) 상부 및 컬러필터 기판(60)의 공통전극(70) 하부에는 액정의 초기배향을 위한 배향막(미도시)이 각각 형성되어 있으며, 상기 두 기판(10, 60)의 배향막(미도시) 사이의 영역에는 액정이 개재되어 액정층(80)이 형성되어 있다.In this case, an alignment layer (not shown) for initial alignment of liquid crystals is formed on the protective layer 27 of the array substrate 10 and the common electrode 70 of the color filter substrate 60, respectively. The liquid crystal layer 80 is formed in the region between the alignment films (not shown) of (10, 60).

전술한 구성을 갖는 액정패널(2)의 하부에는 백라이트 유닛(90)이 구비되고 있다.The backlight unit 90 is provided below the liquid crystal panel 2 having the above-described configuration.

이때, 상기 백라이트 유닛(90)은 광원(91)과 상기 광원(91)과 그 일측이 마주하며 상기 광원으로부터 나온 빛의 방향을 바꾸어 상기 액정패널(2) 전면에 조사시키는 역할을 하는 도광판(92)이 구비되고 있다.In this case, the backlight unit 90 has a light guide plate 92 which faces the light source 91, the light source 91 and one side thereof, and changes the direction of the light emitted from the light source to irradiate the entire surface of the liquid crystal panel 2. ) Is provided.

또한 상기 도광판(92)으로부터 상기 액정패널(2)의 표시영역에 고른 휘도를 갖도록 하기 위해 다수의 광학시트(95)가 상기 도광판 상부에 구비되고 있으며, 도광판(92)으로 입사된 빛의 이용 효율을 높여 휘도 특성을 향상시키기 위해 상기 도광판(92)의 저면에는 반사판(93)이 구비되고 있다.In addition, a plurality of optical sheets 95 are provided on the light guide plate so as to have uniform luminance in the display area of the liquid crystal panel 2 from the light guide plate 92, and utilization efficiency of light incident on the light guide plate 92 is provided. The reflective plate 93 is provided on the bottom of the light guide plate 92 so as to improve the luminance characteristic.

전술한 바와같은 구성을 갖는 종래의 액정표시장치(1)는 상기 액정표시장치(1)를 이루는 구성요소 중 가장 큰 부피를 차지하는 것으로 상기 광원(91)으로부터 나온 빛을 상기 액정패널(2)에 고르게 조사되도록 하는 역할을 하는 도광판(90)이 구비됨으로써 액정패널(2)의 두께를 최소화한다고 하더라도 경량 박형의 표시장치를 구현하는데 한계가 있는 실정이다. The conventional liquid crystal display device 1 having the configuration as described above occupies the largest volume among the components constituting the liquid crystal display device 1 and transmits light from the light source 91 to the liquid crystal panel 2. Since the light guide plate 90 serving to evenly irradiate is provided, even if the thickness of the liquid crystal panel 2 is minimized, there is a limit in implementing a lightweight thin display device.

이러한 문제점을 해결하기 위해서 안출된 것으로, 본 발명은 도광판 없이 일측에 위치하는 광원으로부터 나온 빛을 효율적으로 액정패널의 표시영역으로 입사시킬 수 있는 구성을 가져 획기적으로 경량 박형을 구현할 수 있는 액정표시장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
The present invention has been made to solve the above problems, the present invention has a configuration that can efficiently enter the light from the light source located on one side without a light guide plate into the display area of the liquid crystal panel, the liquid crystal display device that can realize a lightweight thin significantly To provide that purpose.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 의한 액정표시장치는, 액정패널과; 상기 액정패널 저면에 구비되며 반사판과 광학시트와 광원을 포함하는 백라이트 유닛을 포함하며, 상기 액정패널의 저면에는 마이크로 렌즈의 역할을 하는 다수의 오목부가 구비됨으로써 도광판이 생략된 것이 특징이다. In order to achieve the above object, a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, the liquid crystal panel; The liquid crystal panel includes a backlight unit including a reflector plate, an optical sheet, and a light source. A plurality of recesses serving as micro lenses are provided on the bottom surface of the liquid crystal panel, so that the light guide plate is omitted.

상기 다수의 오목부 각각은 평면적으로 원 형태를 이루며, 상기 액정패널 전면에 동일한 크기 및 동일한 깊이를 가지며 형성되거나, 상기 액정패널의 일측면에 타측면으로 갈수록 점진적으로 더 커지거나 또는 작아지는 직경과 깊이를 갖거나, 또는 액정패널 전면에 있어 각각 동일한 직경을 가지며, 상기 액정패널의 일측면에 타측면으로 갈수록 점진적으로 더 커지거나 또는 작아지는 깊이를 갖는 것이 특징이다. Each of the plurality of concave parts may have a circular shape in plan view, and may have the same size and the same depth on the front surface of the liquid crystal panel, or may be gradually larger or smaller in diameter toward one side of the liquid crystal panel. The liquid crystal panel has a depth or the same diameter in the front of the liquid crystal panel, and has a depth that gradually increases or decreases toward one side of the liquid crystal panel toward the other side.

이때, 상기 다수의 각 오목부는 그 직경이 50㎛ 내지 500㎛이며, 상기 각 오목부간의 이격간격은 50㎛ 내지 100㎛이며, 상기 오목부의 깊이는 그 최대치가 상기 오목부가 구비되는 액정패널의 일 기판 두께의 2/3보다는 작거나 같은 것이 특징이다. In this case, each of the plurality of concave portions has a diameter of 50 μm to 500 μm, the spacing interval between the concave portions is 50 μm to 100 μm, and the maximum depth of the concave portion is one of the liquid crystal panel provided with the concave portion. It is characterized by being less than or equal to two thirds of the substrate thickness.

또한, 상기 액정패널의 양 외측면에 각각 부착된 편광판과; 상기 액정패널에 실장되는 인쇄회로기판과; 상기 액정패널의 가장자리를 두르는 서포트메인과; 상기 서포트메인 배면과 밀착되는 저면과 이의 측면으로 구성되는 커버버툼과; 상기 액정패널의 상면 및 측면 가장자리를 덮는 탑 커버를 더 포함한다. In addition, polarizing plates attached to both outer surfaces of the liquid crystal panel, respectively; A printed circuit board mounted on the liquid crystal panel; A support main body covering an edge of the liquid crystal panel; A cover bottom consisting of a bottom face and a side thereof in close contact with the support main back surface; A top cover may further include an upper surface and side edges of the liquid crystal panel.

또한, 상기 액정패널은, 제 1 기판과; 상기 제 1 기판 상에 가로방향으로 구비된 다수의 게이트 배선과; 상기 게이트 배선 위로 전면에 구비된 게이트 절연막과; 상기 게이트 절연막 위로 세로방향으로 형성되어 상기 다수의 게이트 배선과 교차하여 화소영역을 정의하는 다수의 데이터 배선과; 상기 각 화소영역 내에 상기 게이트 배선과 데이트 배선과 연결되며 형성된 구비된 박막트랜지스터와; 상기 박막트랜지스터를 덮으며 전면에 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극을 노출시키는 드레인 콘택홀을 갖는 보호층과; 상기 보호층 상부에 상기 드레인 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극과 접촉하며 각 화소영역 별로 형성된 화소전극과; 상기 제 1 기판과 대향하는 제 2 기판과; 상기 제 2 기판 하부에 상기 제 1 기판의 각 화소영역의 경계에 대응하는 형성된 블랙매트릭스와; 상기 블랙매트릭스로 둘러싸인 부분에 순차 반복되는 형태로 적, 녹, 청색 패턴을 가지며 형성된 컬러필터층과; 상기 제 1 및 제 2 기판과 접촉하며 각 화소영역의 경계에 일정간격 이격하며 형성된 기둥 모양의 패턴드 스페이서와; 상기 제 1, 2 기판 사이에 개재된 액정층을 포함한다. The liquid crystal panel may further include a first substrate; A plurality of gate lines provided in the horizontal direction on the first substrate; A gate insulating film provided on a front surface of the gate wiring; A plurality of data lines formed in a vertical direction over the gate insulating layer to define pixel regions crossing the plurality of gate lines; A thin film transistor formed in the pixel area and connected to the gate line and the data line; A protective layer covering the thin film transistor and having a drain contact hole on a front surface thereof to expose a drain electrode of the thin film transistor; A pixel electrode formed on each of the pixel areas in contact with the drain electrode through the drain contact hole on the passivation layer; A second substrate facing the first substrate; A black matrix formed below the second substrate and corresponding to a boundary of each pixel region of the first substrate; A color filter layer having red, green, and blue patterns sequentially formed in a portion surrounded by the black matrix; A columnar patterned spacer formed in contact with the first and second substrates and spaced apart from each other at a boundary of each pixel region; And a liquid crystal layer interposed between the first and second substrates.

이때, 상기 보호층 위로 각 화소별로 상기 드레인 전극과 접촉하며 형성된 화소전극과; 상기 컬러필터층을 덮으며 상기 제 2 기판 전면에 형성된 공통전극을 더 포함하거나, 또는 상기 보호층 위로 각 화소별로 상기 드레인 전극과 접촉하며 바(bar) 형태로 이격하며 형성된 다수의 화소전극과; 상기 보호층 위로 상기 화소전극과 교대하며 바 형태로 형성된 다수의 공통전극과; 상기 컬러필터층을 덮으며 상기 제 2 기판 전면에 형성된 오버코트층을 더 포함한다. In this case, a pixel electrode formed in contact with the drain electrode for each pixel on the passivation layer; A plurality of pixel electrodes covering the color filter layer and further comprising a common electrode formed on an entire surface of the second substrate, or contacting the drain electrode for each pixel on the passivation layer and spaced apart from each other in a bar shape; A plurality of common electrodes alternate with the pixel electrode on the passivation layer and formed in a bar shape; An overcoat layer is formed on the entire surface of the second substrate to cover the color filter layer.

본 발명의 일 실시예에 의한 액정표시장치의 제조 방법은, 액정패널과, 상기 액정패널 저면에 구비되며 반사판과 광학시트와 광원을 포함하는 백라이트 유닛을 포함하며, 상기 액정패널의 저면에는 마이크로 렌즈의 역할을 하는 다수의 오목부가 구비됨으로써 도광판이 생략된 것이 특징인 액정표시장치의 제조 방법에 있어서, 상기 액정패널의 상기 다수의 오목부가 형성되어야 하는 절연기판의 일면에 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계와; 상기 포토레지스트 패턴 외측으로 노출된 상기 절연기판을 식각액에 노출시킴으로써 상기 절연기판 일면에 다수의 오목부를 형성하는 단계와; 상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계를 포함한다. A method of manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention includes a liquid crystal panel and a backlight unit provided on the bottom of the liquid crystal panel and including a reflector, an optical sheet, and a light source, and a micro lens on the bottom of the liquid crystal panel. A method of manufacturing a liquid crystal display device, in which a light guide plate is omitted by providing a plurality of concave portions serving as a step of forming a photoresist pattern on one surface of an insulating substrate on which the plurality of concave portions of the liquid crystal panel should be formed. Wow; Forming a plurality of recesses on one surface of the insulating substrate by exposing the insulating substrate exposed to the outside of the photoresist pattern to an etchant; Removing the photoresist pattern.

이때, 상기 절연기판의 타측면 전면에 식각 방지 테이프 또는 포토레지스트층을 형성하는 단계를 더 포함한다. In this case, the method may further include forming an etch stop tape or a photoresist layer on the entire surface of the other side of the insulating substrate.

또한, 상기 절연기판을 식각액에 노출시키는 단계는, 상기 절연기판 일면 전체를 동일한 시간동안 식각액에 노출시키거나, 또는 상기 절연기판을 서서히 이동시켜 식각액에 노출되는 부분의 면적을 점진적으로 줄임으로써 상기 오목부의 깊이를 상기 절연기판의 일측면에서 타측면으로 갈수록 점진적으로 커지거나 또는 작아지도록 형성하는 것이 특징이다. In addition, exposing the insulating substrate to the etchant may expose the entire surface of the insulating substrate to the etchant for the same time, or gradually move the insulation substrate to gradually reduce the area of the portion exposed to the etchant. The negative depth may be formed to gradually increase or decrease from one side of the insulating substrate to the other side.

이때, 상기 절연기판을 식각액에 노출시키는 단계는 식각액을 스프레이 하는 스프레이법 또는 절연기판을 식각액이 담긴 수조에 담구는 디핑법으로 진행하는 것이 특징이다.  At this time, the step of exposing the insulating substrate to the etchant is characterized in that it proceeds by a spray method for spraying the etchant or a dipping method of dipping the insulating substrate in a bath containing the etchant.

또한, 상기 포토레지스트 패턴이 형성되지 않는 영역의 크기를 위치별로 달리함으로써 상기 오목부의 크기를 조절하는 것이 특징이다.
In addition, the size of the recess is adjusted by varying the size of the region where the photoresist pattern is not formed.

본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치는 도광판없이도 일측에 위치하는 광원으로부터 나온 빛이 액정패널의 표시영역에 고르게 입사되는 구조를 갖는 액정패널이 구비됨으로써 도광판을 생략할 수 있으므로 경량 박형의 액정표시장치를 제공하는 효과가 있다.The liquid crystal display according to the embodiment of the present invention is provided with a liquid crystal panel having a structure in which light from a light source positioned on one side is evenly incident on the display area of the liquid crystal panel without a light guide plate, so that the light guide plate can be omitted, thereby making it a lightweight thin liquid crystal display. There is an effect to provide a device.

또한, 도광판이 생략됨으로서 제조 부품을 줄일 수 있으므로 제조 비용을 저감시키는 효과가 있다.
In addition, since the light guide plate may be omitted, manufacturing parts may be reduced, thereby reducing manufacturing costs.

도 1은 일반적인 액정표시장치의 하나의 화소영역에 대한 단면도.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 도광판이 생략된 액정표시장치의 표시영역 일부에 대한 단면도.
도 3은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 도광판이 생략된 액정표시장치의 표시영역 일부에 대한 단면도.
도 4는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 도광판이 생략된 액정표시장치의 표시영역 일부에 대한 단면도.
도 5a 내지 도 5f는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치의 어레이 기판을 이루는 투명한 절연기판의 일면에 마이크로 렌즈의 역할을 하는 다수의 오목부를 형성하는 단계별 제조 단면도.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치를 제조하는 공정 단계 중 절연기판 스프레이 법에 의해 식각을 진행하여 일면에 오목부를 형성하는 단계를 나타난 도면.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치를 제조하는 공정 단계 중 절연기판을 디핑법에 의해 식각을 진행하여 일면에 오목부를 형성하는 단계를 나타난 도면.1 is a cross-sectional view of one pixel area of a general liquid crystal display device.
2 is a cross-sectional view of a part of a display area of a liquid crystal display device in which a light guide plate according to a first embodiment of the present invention is omitted.
3 is a cross-sectional view of a portion of a display area of a liquid crystal display device in which a light guide plate according to a second embodiment of the present invention is omitted.
4 is a cross-sectional view of a portion of a display area of a liquid crystal display device in which a light guide plate according to a third embodiment of the present invention is omitted.
5A through 5F are step-by-step manufacturing cross-sectional views of forming a plurality of recesses serving as micro lenses on one surface of a transparent insulating substrate forming an array substrate of a liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a view illustrating a step of forming a recess on one surface by etching by an insulating substrate spray method during a process of manufacturing a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention. FIG.
7 is a view illustrating a step of forming a recess on one surface by etching an insulating substrate by a dipping method during a process of manufacturing a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments according to the present invention will be described with reference to the drawings.

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치의 표시영역 일부에 대한 단면도이다. 설명의 편의를 위해 각 화소영역내에 구비되는 박막트랜지스터가 형성되는 부분은 스위칭 영역(TrA)이라 정의한다.2 is a cross-sectional view of a portion of a display area of a liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention. For convenience of description, a portion in which the thin film transistor provided in each pixel region is formed is defined as a switching region TrA.

도시한 바와 같이, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치(101)는 액정패널(105)과 백라이트 유닛(180) 그리고 도면에 나타내지 않았지만, 상기 액정패널(105)과 백라이트 유닛(180)을 모듈화하기 위한 탑 커버(미도시)와 보툼 커버(미도시) 및 서포트메인(미도시)으로 구성되고 있다.  As shown, the liquid crystal display device 101 according to the first exemplary embodiment of the present invention includes the liquid crystal panel 105 and the backlight unit 180 and the liquid crystal panel 105 and the backlight unit 180 although not shown. It is composed of a top cover (not shown), a bottom cover (not shown) and a support main (not shown) to modularize the.

이들 각각에 대해 좀 더 자세히 살펴보면, 상기 액정패널(105)은 화상표현의 핵심적인 역할을 담당하는 부분으로서, 액정층(148)을 사이에 두고 서로 대면 합착된 어레이 기판(107) 및 컬러필터 기판(160)을 포함한다. Looking at each of them in more detail, the liquid crystal panel 105 plays a key role in image expression, the array substrate 107 and the color filter substrate bonded to each other with the liquid crystal layer 148 interposed therebetween. 160.

상기 어레이 기판(107)에는 가로방향으로 다수의 게이트 배선(111)이 연장 형성되어 있으며, 상기 다수의 게이트 배선(111)과 교차하여 화소영역(P) 정의하며 세로방향으로 다수의 데이터 배선(130)이 형성되어 있다. 이때, 각 화소영역(P) 내의 상기 두 배선(115, 120)의 교차하는 지점 부근의 상기 스위칭 영역에는 스위칭 소자인 박막트랜지스터(Tr)가 형성되어 있다. A plurality of gate wires 111 extend in the horizontal direction in the array substrate 107, cross the plurality of gate wires 111 to define a pixel region P, and a plurality of data wires 130 in a vertical direction. ) Is formed. In this case, a thin film transistor Tr, which is a switching element, is formed in the switching region near the intersection point of the two wires 115 and 120 in each pixel region P.

조금 더 상세히 설명하면, 상기 어레이 기판(107)에는 상기 게이트 배선(111)과 상기 게이트 배선(111)에서 분기한 게이트 전극(115)이 형성되어 있으며, 상기 게이트 배선(111)과 게이트 전극(115) 위로 게이트 절연막(117)이 전면에 형성되어 있다. In more detail, the gate substrate 111 branched from the gate wiring 111 and the gate wiring 111 is formed on the array substrate 107, and the gate wiring 111 and the gate electrode 115 are formed. The gate insulating film 117 is formed on the entire surface.

또한, 상기 게이트 절연막(117) 위로 상기 게이트 배선(111)과 교차하여 상기 화소영역(P)을 정의하며 데이터 배선(미도시)이 형성되어 있다. In addition, the pixel region P is defined to intersect the gate wiring 111 on the gate insulating layer 117, and a data wiring (not shown) is formed.

그리고, 상기 게이트 절연막(117) 위로 각 화소영역(P)의 스위칭 영역(Tr)에 있어서는 순수 비정질 실리콘으로 이루어진 액티브층(120a)과 이의 상부로 불순물이 섞인 비정질 실리콘으로 이루어지며 이격하는 오믹콘택층(120b)을 포함하는 반도체층(120)이 형성되어 있으며, 상기 반도체층(120) 위로 상기 오믹콘택층(120b)과 접촉하며 서로 이격하여 상기 액티브층(120b)을 노출시키며 소스 전극(132) 및 드레인 전극(134) 형성되어 있다. In the switching region Tr of each pixel region P on the gate insulating layer 117, an ohmic contact layer made of an active layer 120a made of pure amorphous silicon and amorphous silicon mixed with impurities thereon. A semiconductor layer 120 including a 120b is formed, and contacts the ohmic contact layer 120b on the semiconductor layer 120 and is spaced apart from each other to expose the active layer 120b and to expose the source electrode 132. And a drain electrode 134 is formed.

이렇게 스위칭 영역(TrA)에 순차 적층된 상기 게이트 전극(115)과 게이트 절연막(117)과 반도체층(120)과 서로 이격하는 소스 전극(132) 및 드레인 전극(134)은 스위칭 소자인 박막트랜지스터(Tr)를 이룬다. 이때, 상기 소스 전극(132)은 상기 데이터 배선(미도시)과 연결되고 있다. The source electrode 132 and the drain electrode 134 which are spaced apart from the gate electrode 115, the gate insulating layer 117, and the semiconductor layer 120 sequentially stacked in the switching region TrA are thin film transistors (switching elements). Tr). In this case, the source electrode 132 is connected to the data line (not shown).

또한, 상기 데이터 배선(미도시)과 소스 및 드레인 전극(132, 134) 위로 상기 드레인 전극(134)을 노출시키는 드레인 콘택홀(140)을 갖는 보호층(138)이 형성되어 있으며, 상기 보호층(138) 위로 상기 드레인 콘택홀(140)을 통해 상기 드레인 전극(134)과 접촉하며 각 화소영역(P) 별로 판 형태를 갖는 화소전극(142)이 형성되어 있다.In addition, a passivation layer 138 having a drain contact hole 140 exposing the drain electrode 134 is formed on the data line (not shown) and the source and drain electrodes 132 and 134. A pixel electrode 142 is formed in contact with the drain electrode 134 through the drain contact hole 140 and has a plate shape for each pixel region P. Referring to FIG.

다음, 이러한 구성을 갖는 상기 어레이 기판(107)과 마주하는 상기 컬러필터 기판(160)에는 상기 어레이 기판(107)의 게이트 배선(111)과 데이터 배선(미도시) 및 박막트랜지스터(Tr)에 대응하여 각 화소영역(P)을 포획하는 형태로 블랙매트릭스(미도시)가 형성되어 있다. Next, the color filter substrate 160 facing the array substrate 107 having such a configuration corresponds to the gate wiring 111, the data wiring (not shown), and the thin film transistor Tr of the array substrate 107. As a result, a black matrix (not shown) is formed to capture each pixel region P. As shown in FIG.

그리고, 상기 컬러필터 기판(160)에는 상기 블랙매트릭스(165)로 포획된 영역에 대응하여 상기 어레이 기판(107)의 화소영역(P)에 대응하여 순차적으로 적, 녹, 청색의 컬러필터 패턴(169a, 169b, 169c)이 대응되는 컬러필터층(169)이 형성되어 있으며, 상기 컬러필터층(196)을 덮으며 투명 도전성 물질로 이루어진 공통전극(175)이 표시영역 전면에 형성되어 있다.In addition, the color filter substrate 160 may have a red, green, and blue color filter pattern sequentially corresponding to the pixel region P of the array substrate 107 corresponding to the region captured by the black matrix 165. A color filter layer 169 corresponding to 169a, 169b, and 169c is formed, and a common electrode 175 covering the color filter layer 196 and made of a transparent conductive material is formed on the entire display area.

또한, 상기 공통전극(170)과 하부 어레이 기판(107)상의 보호층(138)과 동시에 접촉하며, 상기 블랙매트리스(165)가 형성된 영역 즉, 상기 박막트랜지스터(Tr)가 형성된 스위칭 영역(TrA), 게이트 배선(111) 또는 데이터 배선(미도시) 상에 일정간격을 가지며 배열된 다수의 패턴드 스페이서(150)가 형성되어 있다. In addition, the common electrode 170 and the protective layer 138 on the lower array substrate 107 are simultaneously in contact with each other, and a region in which the black mattress 165 is formed, that is, a switching region TrA in which the thin film transistor Tr is formed. On the gate line 111 or the data line (not shown), a plurality of patterned spacers 150 arranged at regular intervals are formed.

이때, 상기 어레이 기판(107)의 보호층(138) 상부 및 컬러필터 기판(160)의 공통전극(170) 하부에는 액정의 초기배향을 위한 배향막(미도시)이 각각 형성되어 있으며, 상기 두 기판(10, 60)의 배향막(미도시) 사이의 영역에는 액정이 개재되어 액정층(148)이 형성되어 있다. In this case, an alignment layer (not shown) for initial alignment of liquid crystals is formed on the passivation layer 138 of the array substrate 107 and the common electrode 170 of the color filter substrate 160, respectively. Liquid crystal is interposed in the area | region between the orientation films (not shown) of (10, 60), and the liquid crystal layer 148 is formed.

한편, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치(101)의 액정패널(105)에 있어서는 상기 어레이 기판(107)상에 각 화소영역(P)별로 판 형태의 화소전극(142)이 형성되고, 상기 컬러필터 기판(160) 내측면에 상에 표시영역에 대응하여 공통전극(175)이 형성됨을 일례로 보이고 있지만 다양하게 변형이 가능하다. Meanwhile, in the liquid crystal panel 105 of the liquid crystal display device 101 according to the first embodiment of the present invention, a plate-shaped pixel electrode 142 is formed on each of the pixel regions P on the array substrate 107. The common electrode 175 is formed on the inner surface of the color filter substrate 160 corresponding to the display area, but various modifications are possible.

그 일 변형예로서 상기 액정패널(105)은 상기 어레이 기판(107) 상에 상기 게이트 배선(111)과 동일한 층에 동일한 물질로 나란하게 공통배선(미도시)이 더욱 형성되고, 화소전극(미도시)은 바(bar) 형태로서 각 화소영역(P)에 다수개 형성되고, 이러한 바(bar) 형태의 화소전극(미도시)과 각각 이격하며 교대하는 형태로 상기 공통배선(미도시)과 접촉하는 바(bar) 형태의 공통전극(미도시)이 형성되고, 상기 컬러필터 기판(160)에는 블랙매트릭스(165)와 컬러필터층(169) 및 상기 컬러필터층(169)을 덮으며 오버코트층(미도시)이 형성된 구성을 가질 수도 있다.  As a modification of the liquid crystal panel 105, a common wiring (not shown) is formed on the array substrate 107 in parallel with the same material on the same layer as the gate wiring 111, and a pixel electrode (not shown) is provided. And a plurality of bars are formed in each pixel region P as a bar shape, and are spaced apart from each other and alternately with the bar electrode pixel electrodes (not shown). A common electrode (not shown) in contact with a bar shape is formed, and the color filter substrate 160 covers the black matrix 165, the color filter layer 169, and the color filter layer 169 and overcoat layer ( It may have a configuration formed).

그리고 상기 액정패널(105)의 외측면에는 특정 빛만을 선택적으로 투과시키는 편광판(152, 177)이 각각 부착된다. In addition, polarizing plates 152 and 177 which selectively transmit only specific light are attached to the outer surface of the liquid crystal panel 105.

이 같은 액정패널(105)의 적어도 일 가장자리를 따라서는 연성회로기판 이나 테이프 캐리어 패키지(tape carrier package : TCP) 같은 연결부재(미도시)를 매개로 인쇄회로기판(미도시)이 실장된다.A printed circuit board (not shown) is mounted along at least one edge of the liquid crystal panel 105 via a connection member (not shown) such as a flexible circuit board or a tape carrier package (TCP).

이러한 구성을 갖는 액정패널(105)은 게이트 구동회로의 온/오프 신호에 의해 각 게이트 배선(111) 별로 선택된 박막트랜지스터(Tr)가 온(on) 되면 데이터 구동회로의 신호전압이 상기 데이터 배선(미도시)을 통해서 해당 화소전극(142)으로 전달되고, 이에 따른 화소전극(142)과 공통전극(175) 사이에 발현되는 전기장에 의해 액정분자의 배열방향이 변화되어 투과율 차이를 나타낸다.In the liquid crystal panel 105 having such a configuration, when the thin film transistor Tr selected for each gate wiring 111 is turned on by the on / off signal of the gate driving circuit, the signal voltage of the data driving circuit is changed to the data wiring ( The arrangement direction of the liquid crystal molecules is changed by the electric field generated between the pixel electrode 142 and the common electrode 175 through the pixel electrode 142 through the pixel electrode 142.

아울러 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치(101)에는 상기 액정패널(105)이 나타내는 투과율의 차이가 외부로 발현되도록 이의 배면에서 빛을 공급하는 백라이트 유닛(180)이 구비된다. In addition, the liquid crystal display device 101 according to the first embodiment of the present invention is provided with a backlight unit 180 for supplying light from its rear surface such that the difference in transmittance of the liquid crystal panel 105 is expressed to the outside.

이때, 상기 백라이트 유닛(180)은 백색 또는 은색의 반사판(184)과, 이러한 반사판(184) 상에 위치하는 다수의 광학시트(186)와 상기 액정패널(105)의 측면에 배치되는 광원(182)을 포함하며, 일반적으로 상기 반사판(184)과 다수의 광학시트(186) 사이에 배치되는 도광판이 생략된 것이 본 발명의 특징적인 구성이 되고 있다. In this case, the backlight unit 180 includes a white or silver reflector 184, a plurality of optical sheets 186 positioned on the reflector 184, and a light source 182 disposed on side surfaces of the liquid crystal panel 105. In general, the light guide plate disposed between the reflective plate 184 and the plurality of optical sheets 186 is omitted, which is a characteristic configuration of the present invention.

한편, 상기 광원(182)은 냉음극형광램프(Cold Cathode Fluorescent Lamp : CCFL), 외부전극형광램프(External Electrode Fluorescentt Lamp), 그리고 발광다이오드(Light Emitting Diode : LED, 이하 LED라 함) 중 어느 하나가 이용될 수 있다. On the other hand, the light source 182 is any one of a cold cathode fluorescent lamp (CCFL), an external electrode fluorescent lamp (External Electrode Fluorescentt Lamp), and a light emitting diode (Light Emitting Diode: LED, hereinafter referred to as LED) Can be used.

그리고, 상기 광학시트(186)는 확산시트와 적어도 하나의 집광시트 등을 포함하며, 상기 반사판(184)으로부터 반사된 빛을 확산 또는 집광하여 상기 액정패널(105)로 보다 균일한 면광원이 입사 되도록 하는 역할을 한다. The optical sheet 186 includes a diffusion sheet, at least one light collecting sheet, and the like, and diffuses or collects the light reflected from the reflecting plate 184 so that a more uniform surface light source is incident on the liquid crystal panel 105. Play a role.

이러한 구성을 갖는 액정패널(105)과 백라이트 유닛(180)은 도면에 나타내지 않았지만 탑커버(미도시)와 서포트메인(미도시) 그리고 커버버툼(미도시)을 통해 모듈화 되는데, 상기 탑커버(미도시)는 상기 액정패널(105)의 상면 및 측면 가장자리를 덮도록 단면이"ㄱ"형태로 절곡된 사각테 형상으로 전면을 개구하여 액정패널(105)에서 구현되는 화상을 표시하도록 구성되고 있다. Although the liquid crystal panel 105 and the backlight unit 180 having such a configuration are not shown in the drawings, the liquid crystal panel 105 and the backlight unit 180 are modularized through a top cover (not shown), a support main (not shown), and a cover bottom (not shown). H) is configured to display an image implemented in the liquid crystal panel 105 by opening the front surface in a rectangular frame having a cross section bent in a "b" shape to cover the top and side edges of the liquid crystal panel 105.

또한, 또한, 상기 액정패널(105) 및 백라이트 유닛(180)이 안착하여 액정표시장치(101) 전체 기구물 조립에 기초가 되는 상기 커버버툼(미도시)은 가장자리가 수직 절곡된 가장자리부를 구비한 사각형의 판 형상으로, 상기 백라이트 유닛(180) 배면에 밀착되는 수평면 및 이의 가장자리가 수직하게 상향 절곡된 측면으로 이루어진다.In addition, the cover bottom (not shown) on which the liquid crystal panel 105 and the backlight unit 180 are seated, and which is the basis for assembling the entire apparatus of the liquid crystal display device 101, has a quadrangle having a vertically bent edge. In the shape of a plate, a horizontal surface in close contact with the back of the backlight unit 180 and its edge is composed of a vertically upwardly bent side.

그리고, 이러한 커버버툼(미도시) 상에 안착되며 상기 액정패널(105) 및 백라이트 유닛(180)의 가장자리를 두르는 일 가장자리가 개구된 사각의 테 형상의 서포트메인(미도시)이 상기 탑커버(미도시)와 커버버툼(미도시)과 결합됨으로서 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치(101)가 구성되고 있다. In addition, a rectangular frame-shaped support main (not shown) seated on the cover bottom (not shown) and opening at one edge covering the edges of the liquid crystal panel 105 and the backlight unit 180 is the top cover (not shown). The liquid crystal display device 101 according to the first embodiment of the present invention is configured by being combined with a cover bottom (not shown) and a cover bottom (not shown).

이러한 구성을 갖는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치(101)에 있어서 가장 특징적인 것인 백라이트 유닛(180) 중 도광판이 생략되었다는 것과, 광원(182)으로부터 나온 빛의 방향을 바꾸어 면광원 형태로 상기 액정패널(105)로 입사되도록 하기 위해 상기 액정패널(105)의 어레이 기판(107)의 외측면은 그 자체로서 마이크로 렌즈의 역할을 하는 다수의 오목부(109)가 형성되고 있는 것이다.The light guide plate of the backlight unit 180 which is the most characteristic in the liquid crystal display device 101 according to the first embodiment of the present invention having such a configuration is omitted, and the direction of the light emitted from the light source 182 is changed. In order to be incident on the liquid crystal panel 105 in the form of a light source, the outer surface of the array substrate 107 of the liquid crystal panel 105 is formed with a plurality of concave portions 109 which serve as a micro lens by itself. will be.

이러한 마이크로 렌즈의 역할을 하는 다수의 오목부(109)는 상기 어레이 기판(107)의 베이스를 이루는 투명한 절연기판(108)의 외측면에 전술한 게이트 배선(111)과 데이터 배선(미도시) 및 박막트랜지스터(Tr) 등의 구성요소를 형성하기 전에 마스크 공정을 진행하여 상기 절연기판(108)을 선택적으로 식각함으로써 그 내부로 마이크로 렌즈로서의 역할을 하는 오목부(109)를 형성함으로써 상기 오목부(109)가 마이크로 렌즈로 동작함으로써 일측에 위치한 광원으로부터 나온 빛을 액정패널(105)로 균일한 휘도를 가지며 입사되도록 한 것이 특징이다. The plurality of recesses 109 serving as the micro lenses may include the gate wiring 111 and the data wiring (not shown) on the outer surface of the transparent insulating substrate 108 forming the base of the array substrate 107. Before forming components such as the thin film transistor Tr, a mask process is performed to selectively etch the insulating substrate 108 to form recesses 109 that serve as microlenses therein, thereby forming the recesses 109. 109 operates as a microlens so that light from a light source positioned at one side is incident on the liquid crystal panel 105 with uniform luminance.

이때, 식각되어 제거됨으로써 형성되는 다수의 오목부(109)는 평면적으로는 원 형태를 이루며, 본 발명의 제 1 실시예에 액정표시장치와 같이 상기 어레이 기판(107) 전면에 동일한 직경과 깊이를 가지며 형성될 수도 있으며, 또는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 액정표시장치(도 3의 201)의 표시영역의 단면 구성을 제시한 도 3과 같이, 일측에서 타측으로 점진적으로 그 직경과 깊이가 작아지거나 커지는 형태를 이룰 수도 있다.In this case, the plurality of concave portions 109 formed by etching are formed in a circular shape in plan view, and have the same diameter and depth on the entire surface of the array substrate 107 as in the first embodiment of the present invention. 3, the diameter and depth of the liquid crystal display device 201 of FIG. 3 are gradually increased from one side to the other side. It can also be smaller or larger.

또한, 상기 다수의 오목부(109)는 본 발명의 본 발명의 제 3 실시예에 따른 액정표시장치(도 4의 301)의 표시영역의 단면 구성을 제시한 도 4와 같이 그 직경은 일정하고 기 깊이가 일측면에서 타측면으로 갈수록 점진적으로 작아지거나 커지는 형태를 이룰 수도 있다.In addition, the plurality of concave portions 109 have a constant diameter as shown in FIG. 4, which shows a cross-sectional configuration of the display area of the liquid crystal display device 301 of FIG. 4 according to the third embodiment of the present invention. The depth may gradually decrease or increase from one side to the other side.

이때, 상기 어레이 기판(107)과 컬러필터 기판(160)의 베이스를 이루는 각 절연기판(108, 161)은 통상적으로 0.5t 내지 0.7t 정도의 두께를 가지므로 절연기판의 내구성 유지를 위해 상기 오목부(109)는 그 깊이가 상기 절연기판 두께의 2/3정도 보다는 작은 값을 갖도록 형성되는 것이 특징이다. In this case, since each of the insulating substrates 108 and 161 forming the base of the array substrate 107 and the color filter substrate 160 has a thickness of about 0.5t to 0.7t, the concave may be used to maintain the durability of the insulating substrate. The portion 109 is characterized in that the depth is smaller than about 2/3 of the thickness of the insulating substrate.

그리고 상기 오목부(109)의 직경은 50㎛ 내지 500㎛ 정도가 되는 것이 특징이며, 상기 오목부(109)간의 이격간격은 50㎛ 내지 100㎛ 정도가 되는 것이 특징이다. The concave portion 109 may have a diameter of about 50 μm to about 500 μm, and the gap between the concave portions 109 may be about 50 μm to about 100 μm.

이후에는 마이크로 렌즈의 역할을 하는 다수의 오목부(109)를 갖는 액정패널(105)에 있어 상기 다수의 오목부(109)를 형성하는 방법에 대해 설명한다.Hereinafter, a method of forming the plurality of recesses 109 in the liquid crystal panel 105 having the plurality of recesses 109 serving as the microlenses will be described.

도 5a 내지 도 5e는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치의 어레이 기판을 이루는 투명한 절연기판의 일면에 마이크로 렌즈의 역할을 하는 다수의 오목부를 형성하는 단계별 제조 단면도이다.5A to 5E are cross-sectional manufacturing steps of forming a plurality of recesses serving as micro lenses on one surface of a transparent insulating substrate forming an array substrate of a liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention.

우선, 도 5a에 도시한 바와 같이, 투명한 유리 재질의 절연기판(108)의 일면 상에 포토레지스트를 도포하여 포토레지스트층(380)을 형성한다.First, as shown in FIG. 5A, a photoresist layer 380 is formed by coating a photoresist on one surface of a transparent glass insulating substrate 108.

이후, 도 5b에 도시한 바와 같이, 상기 포토레지스트층(380)에 대해 빛의 차단영역(BA)과 투과영역(TA)을 갖는 노광 마스크(M)를 이용한 노광을 실시한다. 이때, 도면에서는 빛을 받는 부분이 현상 시 남게되는 네가티브 타입 포토레지스트층(380)을 형성한 것을 일례로 도시하였지만, 상기 노광 마스크(M)의 투과영역(TA)과 차단영역(BA)의 위치를 바꾸는 경우 현상 시 빛을 받은 부분이 제거되는 포지티브 타입 포토레지스트층을 형성할 수도 있다. Subsequently, as illustrated in FIG. 5B, the photoresist layer 380 is exposed using an exposure mask M having a light blocking area BA and a transmission area TA. In this case, although the negative type photoresist layer 380 is formed as an example in which the portion to receive light remains during development, the positions of the transmission area TA and the blocking area BA of the exposure mask M are illustrated. In the case of changing the photoresist layer, a positive type photoresist layer may be formed.

다음, 도 5c에 도시한 바와 같이, 상기 포토레지스트층(도 5b의 380)에 대해 현상액에 노출시키는 현상 공정을 진행함으로써 오목부(도 5e의 108)가 형성되어야 할 부분에 대해서는 상기 포토레지스트층(도 5b의 380)을 제거함으로써 상기 절연기판(108)의 표면을 노출시키고, 그 이외의 영역에 대해서는 포토레지스트 패턴(381)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 5C, the photoresist layer is formed at the portion where the recessed portion 108 of FIG. 5E is to be formed by performing the developing process of exposing the photoresist layer 380 of FIG. 5B to a developer. By removing 380 of FIG. 5B, the surface of the insulating substrate 108 is exposed, and the photoresist pattern 381 is formed in other areas.

이때 포토레지스트층(도 5b의 380)이 제거됨으로써 노출되는 영역의 면적은 절연기판(108) 전면에 동일한 크기를 갖도록 형성할 수도 있으며, 또는 절연기판(108)의 일측에서 타측으로 갈수록 점진적으로 큰 면적을 갖거나 또는 점진적으로 작은 면적을 갖도록 형성할 수도 있다.In this case, the area of the region exposed by removing the photoresist layer 380 of FIG. 5B may be formed to have the same size on the entire surface of the insulating substrate 108, or gradually increase from one side of the insulating substrate 108 to the other side. It may be formed to have an area or to have a gradually smaller area.

다음, 도 5d에 도시한 바와같이, 상기 포토레지스트 패턴이 형성된 절연기판의 일면을 상기 절연기판(108)과 반응하여 이를 식각하는 식각액에 노출시킴으로써 상기 절연기판(108)의 표면을 식각한다. 일례로 상기 절연기판(108)이 유리재질인 경우 상기 식각액은 불산 용액이 될 수 있다. Next, as shown in FIG. 5D, the surface of the insulating substrate 108 is etched by exposing one surface of the insulating substrate on which the photoresist pattern is formed to an etchant that reacts with the insulating substrate 108 to etch it. For example, when the insulating substrate 108 is made of glass, the etching solution may be a hydrofluoric acid solution.

이러한 식각액을 이용한 식각에 의해 충분한 시간이 지나면 도시한 바와같이 절연기판(108)의 표면에 곡면형태를 갖는 오목부(109)를 형성하게 된다.When sufficient time passes by etching using such an etchant, a concave portion 109 having a curved shape is formed on the surface of the insulating substrate 108 as shown.

이때, 상기 절연기판(108)의 식각은 도 6(본 발명의 액정표시장치를 제조하는 공정 단계 중 절연기판 스프레이 법에 의해 식각을 진행하여 일면에 오목부를 형성하는 단계를 나타난 도면)에 도시한 바와같이 식각액을 스프레이 장치(420)를 통해 분무하는 형태로 진행될 수도 있고, 또는 도 7(본 발명의 액정표시장치를 제조하는 공정 단계 중 절연기판을 디핑법에 의해 식각을 진행하여 일면에 오목부를 형성하는 단계를 나타난 도면)에 도시한 바와같이 식각액으로 채워진 수조(450)에 상기 절연기판(108)을 담구는 디핑법 형태로 진행 될 수 있다. In this case, the etching of the insulating substrate 108 is shown in FIG. 6 (a step of forming a recess on one surface by etching by an insulating substrate spray method during the process of manufacturing the liquid crystal display device of the present invention). As described above, the etching solution may be sprayed through the spray device 420, or FIG. 7 (in the process step of manufacturing the liquid crystal display of the present invention, the insulating substrate is etched by the dipping method to form a recess on one surface thereof. As shown in the drawing), the insulating substrate 108 may be immersed in the bath 450 filled with the etchant.

한편, 도면에 있어서는 절연기판(108)의 일면에 포토레지스트 패턴(381)이 형성된 상태에서 상기 식각이 진행됨을 보이고 있지만, 실질적으로 상기 절연기판(108)의 식각은 상기 절연기판(108)의 일면에 대해서는 상기 포토레지스트 패턴(381)이 형성되고 타면에 대해서는 전면을 덮는 형태로 포토레지스트층(385)을 형성하거나 또는 식각 방지를 위한 식각 방지 테이프 등을 부착한 후 진행되는 것이 특징이다.Meanwhile, in the drawing, although the etching is performed while the photoresist pattern 381 is formed on one surface of the insulating substrate 108, the etching of the insulating substrate 108 is substantially performed on one surface of the insulating substrate 108. For the photoresist pattern 381 is formed, and the other surface is formed after forming the photoresist layer 385 in the form covering the entire surface or by attaching an anti-etching tape for etching prevention.

한편, 도 6을 참조하면, 이러한 스프레이법에 의해 절연기판(108) 일면의 식각 진행 시, 식각액이 스프레이 되는 부분을 시간이 지남에 따라 점진적으로 줄임으로써 절연기판(108)의 일측에서 타측으로 갈수로 그 깊이가 점진적으로 작아지거나 커지는 형태를 갖도록 형성할 수 있다.Meanwhile, referring to FIG. 6, when the etching process of one surface of the insulating substrate 108 is performed by such a spray method, the portion to which the etching liquid is sprayed is gradually reduced over time, so that one side of the insulating substrate 108 can go from one side to the other. The depth of the log may be formed to have a form gradually smaller or larger.

즉, 식각의 초기에는 절연기판(108) 전면에 식각액이 스프레이 되도록 하고 상기 절연기판(108)을 식각액이 스프레이 되는 영역으로부터 상측으로 서서히 이동시킴으로써 식각액에 오랜 시간동안 노출된 부분에는 상대적으로 깊이가 깊은 오목부(109)가 형성되고 상대적으로 식각액에 작은 시간 노출된 부분에는 상대적으로 낮은 깊이를 갖는 오목부(109)가 형성된다.That is, in the initial stage of etching, the etching liquid is sprayed on the entire surface of the insulating substrate 108 and the insulating substrate 108 is gradually moved upward from the region to which the etching liquid is sprayed, so that the portion exposed to the etching liquid for a long time is relatively deep. A recess 109 is formed and a recess 109 having a relatively low depth is formed in a portion exposed to the etching liquid for a small time.

또한, 도 7에 도시한 바와같이, 디핑법에 의한 식각을 통해서도 상기 절연기판(108)에 일측으로부터 타측으로 점진적으로 그 깊이가 낮아지거나 또는 깊어지는 형태를 갖도록 다수의 오목부를 형성할 수 있다. In addition, as shown in FIG. 7, a plurality of recesses may be formed in the insulating substrate 108 so that the depth thereof gradually decreases or deepens from one side to the other side through the etching by the dipping method.

즉, 식각 초기에는 상기 절연기판(108) 전체를 상기 수조(450) 내의 식각 용액에 담구고 시간이 지남에 따라 상기 절연기판(108)을 서서히 꺼내면 절연기판(108)의 위치에 따라 식각용액에 노출되는 시간이 달라짐으로써 전술한 깊이가 다른 오목부(109)를 형성할 수 있다. That is, at the initial stage of etching, the entire insulating substrate 108 is immersed in the etching solution in the water tank 450 and the insulating substrate 108 is gradually taken out as time passes and the exposure substrate is exposed to the etching solution according to the position of the insulating substrate 108. By varying the time required, the concave portions 109 having different depths described above can be formed.

따라서 이러한 포토레지스트 패턴(381) 형태 조절 및 식각액에 노출되는 시간을 절연기판(108)의 위치별로 달리하는 것에 의해 본 발명의 제 2 및 제 3 실시시예에 따른 오목부(109)의 형태를 갖는 액정표시장치(도 2의 101, 도 3의 201, 도 4의 301)를 형성할 수 있다. Accordingly, the shape of the recess 109 according to the second and third exemplary embodiments of the present invention may be changed by controlling the shape of the photoresist pattern 381 and changing the time exposed to the etchant for each position of the insulating substrate 108. The liquid crystal display device (101 in FIG. 2, 201 in FIG. 3, and 301 in FIG. 4) can be formed.

다음, 도 5e에 도시한 바와같이, 식각이 완료되어 다수의 오목부(109)가 형성된 절연기판(108)에 남아있는 상기 포토레지스트 패턴(도 5d의 381)을 스트립을 통해 제거함으로써 다수의 오목부(109)를 갖는 절연기판(108)을 완성한다.Next, as shown in FIG. 5E, a plurality of recesses are removed by removing the photoresist pattern (381 of FIG. 5D) remaining on the insulating substrate 108 on which the etching is completed and the recesses 109 are formed. The insulating substrate 108 having the portion 109 is completed.

다음, 도 2를 참조하면, 전술한 바와같이 그 일면에 다수의 오목부(109)가 완성된 절연기판(108)을 이용하여 다수의 오목부(109)가 형성되지 않은 타면에 대해 일반적인 어레이 공정 즉, 게이트 배선(111)과 게이트 전극(115)을 형성하는 단계와, 게이트 절연막(117)을 형성하는 단계, 반도체층(120)과 데이터 배선(미도시)과 소스 및 드레인 전극(132, 134)을 진행하는 단계와, 상기 드레인 전극(134)을 노출시키는 드레인 콘택홀(140)을 갖는 보호층(138)을 형성하는 단계와, 드레인 전극(134)과 상기 드레인 콘택홀(140)을 통해 접촉하는 화소전극(142)을 형성하는 단계를 진행함으로써 어레이 기판(107)을 완성한다.Next, referring to FIG. 2, as described above, the general array process is performed on the other surface of which the plurality of recesses 109 are not formed by using the insulating substrate 108 on which one of the recesses 109 is completed. That is, forming the gate wiring 111 and the gate electrode 115, forming the gate insulating film 117, the semiconductor layer 120, the data wiring (not shown), and the source and drain electrodes 132 and 134. ), Forming a protective layer 138 having a drain contact hole 140 exposing the drain electrode 134, and through the drain electrode 134 and the drain contact hole 140. The array substrate 107 is completed by performing the step of forming the pixel electrode 142 in contact.

이후, 새로운 절연기판(161)의 일면에 블랙매트릭스(165)를 형성하는 단계와, 컬러필터층(169)을 형성하는 단계와 공통전극(175)을 형성하는 단계 및 패턴드 스페이서(150)를 형성하는 단계를 진행함으로서 컬러필터 기판(160)을 완성한다.Thereafter, forming a black matrix 165 on one surface of the new insulating substrate 161, forming a color filter layer 169, forming a common electrode 175, and forming a patterned spacer 150. By completing the step to complete the color filter substrate 160.

다음, 완성된 어레이 기판(107)과 컬러필터 기판(160)을 상기 화소전극(142)과 공통전극(175)이 서로 마주하도록 위치시킨 후 어느 하나의 기판의 표시영역 테두리를 따라 씰패턴(미도시)을 형성한 후, 상기 씰패턴(미도시) 내측으로 액정층(148)을 개재한 상태에서 상기 패턴드 스페이서(150)의 일끝단이 상기 보호층과 접촉하도록 합착함으로써 다수의 오목부(109)를 어레이 기판(107)의 외측면에 구비한 액정패널(105)을 완성한다. Next, the completed array substrate 107 and the color filter substrate 160 are positioned such that the pixel electrode 142 and the common electrode 175 face each other, and then seal patterns (not shown) along the edges of the display area of any one substrate. After forming), a plurality of concave portions are formed by bonding one end of the patterned spacer 150 in contact with the protective layer in a state where the liquid crystal layer 148 is interposed into the seal pattern (not shown). The liquid crystal panel 105 including the 109 on the outer side of the array substrate 107 is completed.

다음, 전술한 바와같이 완성된 액정패널(105)에 대해 양 외측면에 각각 제 1 및 제 2 편광판(152, 177)을 부착하고, 그 일측면에 광원(181)을 배치하고 반사판(184)과 광학시트(186)를 상기 다수의 오목부(109)가 형성된 어레이 기판(107)의 외측면에 부착된 상기 제 1 편광판(152)의 외측면에 실장하고, 상기 액정패널(105)의 어레이 기판(107)의 비표시영역에 연성회로기판이나 테이프 캐리어 패키지(tape carrier package : TCP) 같은 연결부재(미도시)를 매개로 인쇄회로기판(미도시)을 실장하고, 상기 액정패널(105)을 상기 서포트 메인(미도시)에 안착시킨 후, 커버버툼(미도시) 및 탑커버(미도시)를 체결함으로서 본원 제 1 실시예에 따른 액정표시장치(101)를 완성한다. Next, the first and second polarizing plates 152 and 177 are attached to both outer surfaces of the completed liquid crystal panel 105 as described above, and the light source 181 is disposed on one side thereof, and the reflecting plate 184 is disposed. And an optical sheet 186 mounted on an outer surface of the first polarizing plate 152 attached to an outer surface of the array substrate 107 having the plurality of recesses 109 formed thereon, and the array of the liquid crystal panel 105. A printed circuit board (not shown) is mounted on a non-display area of the substrate 107 via a connecting member (not shown) such as a flexible circuit board or a tape carrier package (TCP), and the liquid crystal panel 105 And the cover main (not shown) and the top cover (not shown) are seated on the support main (not shown), thereby completing the liquid crystal display device 101 according to the first embodiment of the present application.

한편, 도 5a 내지 도 5e에서는 절연기판 상태에서 일면을 선택적으로 식각하는 것을 일례로 보이고 있지만, 상기 액정패널(도 2의 105)의 외측면에 다수의 오목부(109)를 형성하는 공정은 액정패널(도 2의 105)을 형성한 후 진행될 수도 있다. Meanwhile, in FIGS. 5A to 5E, although one surface is selectively etched in an insulated substrate state, a process of forming a plurality of recesses 109 on the outer surface of the liquid crystal panel 105 of FIG. It may proceed after forming the panel 105 of FIG. 2.

이 경우, 액정패널(도 2의 105)의 컬러필터 기판(도 2의 160)의 외측면은 전면에 포토레지스트층 또는 식각방지 테이프를 부착하고, 어레이 기판(도 2의 107)의 외측면에 대해서는 전술한 바와같이 포토레지스트 패턴(도 5c의 381)을 형성한 후 절연기판(도 5c의 108)에 오목부(109)를 형성한 것과 동일한 방식으로 식각을 진행함으로써 동일한 결과를 얻을 수 있다.
In this case, the outer surface of the color filter substrate (160 in FIG. 2) of the liquid crystal panel (105 in FIG. 2) adheres a photoresist layer or an anti-etching tape to the front surface, and the outer surface of the array substrate (107 in FIG. 2). As described above, the same result can be obtained by forming the photoresist pattern 381 of FIG. 5C and then performing etching in the same manner as forming the recess 109 in the insulating substrate 108 of FIG. 5C.

본 발명은 전술한 실시예 및 변형예에 한정되지 않고, 발명의 취지를 벗어나지 않는 한 다양한 변화가 가능하다.  The present invention is not limited to the above-described embodiments and modifications, and various changes can be made without departing from the spirit of the invention.

101 : 액정표시장치 105 : 액정패널
107 : 어레이 기판 108, 161 : 절연기판
111 : 게이트 배선 115 : 게이트 전극
117 : 게이트 절연막 120 : 반도체층
120a : 액티브층 120b : 오믹콘택층
132 : 소스 전극 134 : 드레인 전극
138 : 보호층 140 : 드레인 콘택홀
142 : 화소전극 148 : 액정층
150 : 패턴드 스페이서 152 : 제 1 편광판
160 : 컬러필터 기판 165 : 블랙매트릭스
169 : 컬러필터층
169a, 169b, 169c : 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴
175 : 공통전극 177 : 제 2 편광판
180 : 백라이트 유닛 182 : 광원
184 : 반사판 186 : 광학시트
P : 화소영역 Tr : 박막트랜지스터
TrA : 스위칭 영역101: liquid crystal display device 105: liquid crystal panel
107: array substrate 108, 161: insulating substrate
111: gate wiring 115: gate electrode
117: gate insulating film 120: semiconductor layer
120a: active layer 120b: ohmic contact layer
132: source electrode 134: drain electrode
138: protective layer 140: drain contact hole
142: pixel electrode 148: liquid crystal layer
150: patterned spacer 152: first polarizing plate
160: color filter substrate 165: black matrix
169: color filter layer
169a, 169b, 169c: Red, Green, Blue Color Filter Pattern
175: common electrode 177: second polarizing plate
180: backlight unit 182: light source
184: reflector 186: optical sheet
P: Pixel Area Tr: Thin Film Transistor
TrA: switching area

Claims (14)

액정패널과;
상기 액정패널 저면에 구비되며 반사판과 광학시트와 광원을 포함하는 백라이트 유닛
을 포함하며, 상기 액정패널의 저면에는 마이크로 렌즈의 역할을 하는 다수의 오목부가 구비됨으로써 도광판이 생략된 것이 특징인 액정표시장치.
A liquid crystal panel;
The backlight unit is provided on the bottom of the liquid crystal panel and includes a reflector, an optical sheet, and a light source.
The liquid crystal display device of claim 1, wherein a plurality of recesses serving as micro lenses are disposed on the bottom surface of the liquid crystal panel so that the light guide plate is omitted.
제 1 항에 있어서,
상기 다수의 오목부 각각은 평면적으로 원 형태를 이루며, 상기 액정패널 전면에 동일한 크기 및 동일한 깊이를 가지며 형성된 것이 특징인 액정표시장치.
The method of claim 1,
And each of the plurality of concave portions has a circular shape in plan view, and has the same size and the same depth on the entire surface of the liquid crystal panel.
제 1 항에 있어서,
상기 다수의 오목부 각각은 평면적으로 원 형태를 이루며, 상기 액정패널의 일측면에 타측면으로 갈수록 점진적으로 더 커지거나 또는 작아지는 직경과 깊이를 갖는 것이 특징인 액정표시장치.
The method of claim 1,
Each of the plurality of concave portions may have a circular shape in plan view, and has a diameter and a depth gradually increasing or decreasing from one side of the liquid crystal panel toward the other side.
제 1 항에 있어서,
상기 다수의 오목부 각각은 평면적으로 원 형태를 이루며, 액정패널 전면에 있어 각각 동일한 직경을 가지며, 상기 액정패널의 일측면에 타측면으로 갈수록 점진적으로 더 커지거나 또는 작아지는 깊이를 갖는 것이 특징인 액정표시장치.
The method of claim 1,
Each of the plurality of recesses may have a circular shape in plan view, and may have the same diameter on the front of the liquid crystal panel, and may have a depth that gradually increases or decreases toward one side of the liquid crystal panel toward the other side. LCD display device.
제 1 항에 있어서,
상기 다수의 각 오목부는 그 직경이 50㎛ 내지 500㎛이며,
상기 각 오목부간의 이격간격은 50㎛ 내지 100㎛이며,
상기 오목부의 깊이는 그 최대치가 상기 오목부가 구비되는 액정패널의 일 기판 두께의 2/3보다는 작거나 같은 것이 특징인 액정표시장치.
The method of claim 1,
Each of the plurality of recesses has a diameter of 50 μm to 500 μm,
The spacing between each recess is 50㎛ to 100㎛,
And the depth of the recess is less than or equal to 2/3 of the thickness of one substrate of the liquid crystal panel provided with the recess.
제 1 항에 있어서,
상기 액정표시장치는,
상기 액정패널의 양 외측면에 각각 부착된 편광판과;
상기 액정패널에 실장되는 인쇄회로기판과;
상기 액정패널의 가장자리를 두르는 서포트메인과;
상기 서포트메인 배면과 밀착되는 저면과 이의 측면으로 구성되는 커버버툼과;
상기 액정패널의 상면 및 측면 가장자리를 덮는 탑 커버를 더 포함하는 액정표시장치.
The method of claim 1,
In the liquid crystal display device,
Polarizing plates respectively attached to both outer surfaces of the liquid crystal panel;
A printed circuit board mounted on the liquid crystal panel;
A support main body covering an edge of the liquid crystal panel;
A cover bottom consisting of a bottom face and a side thereof in close contact with the support main back surface;
And a top cover covering upper and side edges of the liquid crystal panel.
제 1 항에 있어서,
상기 액정패널은,
제 1 기판과;
상기 제 1 기판 상에 가로방향으로 구비된 다수의 게이트 배선과;
상기 게이트 배선 위로 전면에 구비된 게이트 절연막과;
상기 게이트 절연막 위로 세로방향으로 형성되어 상기 다수의 게이트 배선과 교차하여 화소영역을 정의하는 다수의 데이터 배선과;
상기 각 화소영역 내에 상기 게이트 배선과 데이트 배선과 연결되며 형성된 구비된 박막트랜지스터와;
상기 박막트랜지스터를 덮으며 전면에 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극을 노출시키는 드레인 콘택홀을 갖는 보호층과;
상기 보호층 상부에 상기 드레인 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극과 접촉하며 각 화소영역 별로 형성된 화소전극과;
상기 제 1 기판과 대향하는 제 2 기판과;
상기 제 2 기판 하부에 상기 제 1 기판의 각 화소영역의 경계에 대응하는 형성된 블랙매트릭스와;
상기 블랙매트릭스로 둘러싸인 부분에 순차 반복되는 형태로 적, 녹, 청색 패턴을 가지며 형성된 컬러필터층과;
상기 제 1 및 제 2 기판과 접촉하며 각 화소영역의 경계에 일정간격 이격하며 형성된 기둥 모양의 패턴드 스페이서와;
상기 제 1, 2 기판 사이에 개재된 액정층
을 포함하는 액정표시장치.
The method of claim 1,
In the liquid crystal panel,
A first substrate;
A plurality of gate lines provided in the horizontal direction on the first substrate;
A gate insulating film provided on a front surface of the gate wiring;
A plurality of data lines formed in a vertical direction over the gate insulating layer to define pixel regions crossing the plurality of gate lines;
A thin film transistor formed in the pixel area and connected to the gate line and the data line;
A protective layer covering the thin film transistor and having a drain contact hole on a front surface thereof to expose a drain electrode of the thin film transistor;
A pixel electrode formed on each of the pixel areas in contact with the drain electrode through the drain contact hole on the passivation layer;
A second substrate facing the first substrate;
A black matrix formed below the second substrate and corresponding to a boundary of each pixel region of the first substrate;
A color filter layer having red, green, and blue patterns sequentially formed in a portion surrounded by the black matrix;
A columnar patterned spacer formed in contact with the first and second substrates and spaced apart from each other at a boundary of each pixel region;
Liquid crystal layer interposed between the first and second substrates
Liquid crystal display comprising a.
제 7 항에 있어서,
상기 보호층 위로 각 화소별로 상기 드레인 전극과 접촉하며 형성된 화소전극과;
상기 컬러필터층을 덮으며 상기 제 2 기판 전면에 형성된 공통전극을 더 포함하는 액정표시장치.
The method of claim 7, wherein
A pixel electrode formed on the passivation layer in contact with the drain electrode for each pixel;
And a common electrode covering the color filter layer and formed on the entire surface of the second substrate.
제 7 항에 있어서,
상기 보호층 위로 각 화소별로 상기 드레인 전극과 접촉하며 바(bar) 형태로 이격하며 형성된 다수의 화소전극과;
상기 보호층 위로 상기 화소전극과 교대하며 바 형태로 형성된 다수의 공통전극과;
상기 컬러필터층을 덮으며 상기 제 2 기판 전면에 형성된 오버코트층을 더 포함하는 액정표시장치.
The method of claim 7, wherein
A plurality of pixel electrodes formed on the passivation layer in contact with the drain electrode for each pixel and spaced apart from each other in a bar shape;
A plurality of common electrodes alternate with the pixel electrode on the passivation layer and formed in a bar shape;
And an overcoat layer covering the color filter layer and formed on the entire surface of the second substrate.
액정패널과, 상기 액정패널 저면에 구비되며 반사판과 광학시트와 광원을 포함하는 백라이트 유닛을 포함하며, 상기 액정패널의 저면에는 마이크로 렌즈의 역할을 하는 다수의 오목부가 구비됨으로써 도광판이 생략된 것이 특징인 액정표시장치의 제조 방법에 있어서,
상기 액정패널의 상기 다수의 오목부가 형성되어야 하는 절연기판의 일면에 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계와;
상기 포토레지스트 패턴 외측으로 노출된 상기 절연기판을 식각액에 노출시킴으로써 상기 절연기판 일면에 다수의 오목부를 형성하는 단계와;
상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계
를 포함하는 액정표시장치의 제조 방법.
It includes a liquid crystal panel, a backlight unit provided on the bottom of the liquid crystal panel and including a reflecting plate, an optical sheet and a light source, and the bottom surface of the liquid crystal panel is provided with a plurality of concave portions serving as micro lenses, so that the light guide plate is omitted. In the manufacturing method of the liquid crystal display device,
Forming a photoresist pattern on one surface of an insulating substrate on which the plurality of recesses of the liquid crystal panel are to be formed;
Forming a plurality of recesses on one surface of the insulating substrate by exposing the insulating substrate exposed to the outside of the photoresist pattern to an etchant;
Removing the photoresist pattern
Method of manufacturing a liquid crystal display device comprising a.
제 10 항에 있어서,
상기 절연기판의 타측면 전면에 식각 방지 테이프 또는 포토레지스트층을 형성하는 단계를 더 포함하는 액정표시장치의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
And forming an etch stop tape or a photoresist layer on the entire surface of the other side of the insulating substrate.
제 10 항에 있어서,
상기 절연기판을 식각액에 노출시키는 단계는,
상기 절연기판 일면 전체를 동일한 시간동안 식각액에 노출시키거나,
또는 상기 절연기판을 서서히 이동시켜 식각액에 노출되는 부분의 면적을 점진적으로 줄임으로써 상기 오목부의 깊이를 상기 절연기판의 일측면에서 타측면으로 갈수록 점진적으로 커지거나 또는 작아지도록 형성하는 것이 특징인 액정표시장치의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
Exposing the insulating substrate to an etchant;
Exposing the entire surface of one surface of the insulating substrate to an etchant for the same time;
Or by gradually moving the insulating substrate to gradually reduce the area of the portion exposed to the etchant to form the depth of the recess to gradually increase or decrease from one side of the insulating substrate to the other side. Method of manufacturing the device.
제 12 항에 있어서,
상기 절연기판을 식각액에 노출시키는 단계는 식각액을 스프레이 하는 스프레이법 또는 절연기판을 식각액이 담긴 수조에 담구는 디핑법으로 진행하는 것이 특징인 액정표시장치의 제조 방법.
13. The method of claim 12,
The exposing the insulating substrate to the etchant includes a spray method of spraying the etchant or a dipping method of dipping the insulating substrate into a bath containing the etchant.
제 10 항에 있어서,
상기 포토레지스트 패턴이 형성되지 않는 영역의 크기를 위치별로 달리함으로써 상기 오목부의 크기를 조절하는 것이 특징인 액정표시장치의 제조 방법.11. The method of claim 10,
And controlling the size of the recess by changing the size of the region where the photoresist pattern is not formed.
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