KR20120139280A - Optical assembly and backlight unit assembly - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 액정 디스플레이 장치(Liquid Crystal Display)에 사용되는 광학부재와 이를 포함하는 백라이트 유닛 어셈블리에 관한 것이다.The present invention relates to an optical member used in a liquid crystal display and a backlight unit assembly including the same.
광학용 디스플레이 소자로 사용되는 액정 디스플레이는 외부 광원의 투과율을 조절하여 화상을 나타내는 간접 발광 방식으로 광원 장치인 백라이트 유닛이 액정 디스플레이의 특성을 결정하는 중요한 부품으로 사용되고 있다.BACKGROUND ART A liquid crystal display used as an optical display element is an indirect light emission method in which an image is controlled by controlling a transmittance of an external light source, and a backlight unit, which is a light source device, is used as an important component for determining characteristics of a liquid crystal display.
백라이트 유닛(Back Light Unit, 이하 “BLU"라 약칭하는 경우가 있다.)은 냉음극형광램프 (CCFL : Cold Cathode Fluorescent Lamp), 또는 외부전극형광램프 (EEFL : External Electrode Fluorescent Lamp), 등의 광원을 이용하여 방출되는 빛을 순차적으로 도광판 또는 확산판, 확산 시트 및 프리즘 시트를 통과시켜 액정 패널에 도달하게 된다. The backlight unit (hereinafter sometimes referred to as "BLU") may be a light source such as a cold cathode fluorescent lamp (CCFL) or an external electrofluorescent lamp (EEFL). The light emitted by the light is sequentially passed through the light guide plate or the diffusion plate, the diffusion sheet, and the prism sheet to reach the liquid crystal panel.
여기서, 도광판은 에지형 백라이트 유닛의 경우 장착되는 것으로, BLU의 측면에 장착된 광원으로 부터 방출되는 광이 평면 형태인 액정 패널의 전면에 분포되도록 전달하며, 확산판은 상면에 놓이는 필름류의 지지체 역할을 하면서 BLU의 하면에 장착된 광원으로부터 방출되는 광이 확산판을 통하여 화면 전체에 걸쳐 균일한 광세기를 얻을 수 있도록 광을 확산하여 하부에 장착된 광원 등의 장치가 전면에서 보이지 않도록 은폐하는 기능을 수행한다. 또한 도광판 또는 확산판의 하부에는 액정 패널로 전달되지 못하고 경로를 벗어난 광을 다시 반사하여 이용될 수 있도록 함으로써 광원의 이용 효율을 증가시키기 위한 반사 시트가 구비된다.Here, the light guide plate is mounted in the case of the edge type backlight unit, and transmits the light emitted from the light source mounted on the side of the BLU to be distributed on the front surface of the flat liquid crystal panel, and the diffusion plate serves as a support for the films placed on the upper surface. While the light emitted from the light source mounted on the lower surface of the BLU diffuses the light through the diffuser plate to obtain a uniform light intensity across the entire screen to conceal the device such as the light source mounted on the lower part from the front Do this. In addition, the lower portion of the light guide plate or the diffuser plate is provided with a reflective sheet for increasing the use efficiency of the light source by allowing the light that is not delivered to the liquid crystal panel to be reflected and used again.
최근에는 냉음극형광램프 (CCFL), 또는 외부전극형광램프 (EEFL)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판 표시장치들이 대두되고 있다. 이러한 평판 표시장치로는 전계방출 표시장치(FED, Field Emission Display), 플라즈마 표시 패널(PDP, Plasma Display Panel) 및 발광 표시장치(LED, Light Emitting Device) 등이 있다. 특히 LED(Light Emitting Diode)의 사용이 급격한 증가를 이루고 있는데, LED는 상술한 표시장치 중에서도 유독성의 수은(Ag)을 사용하지 않으면서 색 재현성을 향상시킬 수 있으며, 필요한 시기에 짧은 시간 내에 점멸시켜 에너지 효율을 극대화하고, 색 재현성이 뛰어난 장점을 갖는다.Recently, various flat panel display devices that can reduce the weight and volume, which are disadvantages of the cold cathode fluorescent lamp (CCFL) or the external electrode fluorescent lamp (EEFL), have emerged. Such flat panel displays include field emission displays (FEDs), plasma display panels (PDPs), and light emitting devices (LEDs). In particular, the use of LEDs (Light Emitting Diodes) is rapidly increasing. LEDs can improve color reproducibility without using toxic mercury (Ag) among the above-mentioned display devices. It maximizes energy efficiency and has excellent color reproducibility.
BLU의 하단 전면에 LED를 분포시킨 직하형 BLU는 뛰어난 화질을 구현할 수 있기는 하지만 많은 수의 LED를 소모하여 가격이 높고, 다수의 LED를 사용하게 됨에 따라 높은 소비전력을 필요로 하며, 발열량이 많아 제품의 내구성을 저하시키는 문제점이 있다. 또한 후면에 놓인 LED가 전면에서 보이지 않도록 일정한 간격을 두고 확산판이 위치하게 됨에 따라 상대적으로 에지형 BLU에 비하여 두께가 보다 두꺼워 디자인 측면에서 상대적으로 단점을 가지고 있다.The direct type BLU that distributes LEDs on the bottom front of the BLU is able to realize excellent image quality, but it consumes a large number of LEDs and is high in price, and it requires high power consumption as a large number of LEDs are used. There are many problems that reduce the durability of the product. In addition, as the diffuser is positioned at regular intervals so that the LED placed on the back is not visible from the front, the thickness is relatively thicker than the edge type BLU, which has a disadvantage in terms of design.
이에 LED 광원을 BLU의 측면에 분포시킨 에지형 BLU의 적용 범위가 확대되고 있다. Accordingly, the application range of the edge type BLU in which the LED light source is distributed on the side of the BLU is expanding.
에지형 BLU는 BLU의 한 면 이상에 광원을 부착하여 전면으로 광이 분포되도록 도광판을 사용하여 제작된다. 이러한 에지형 BLU에 사용되는 도광판은 그 하부에 측면에 위치한 광원에서 입사한 광이 LCD Panel을 향하여 전면으로 출사할 수 있도록 패턴이 형성되어 있다. Edge type BLU is manufactured by using a light guide plate so that light is distributed to the front surface by attaching a light source to one or more surfaces of the BLU. The light guide plate used in the edge-type BLU has a pattern formed so that light incident from a light source located at the side of the edge type BLU can be emitted toward the front of the LCD panel.
인쇄 방식은 기존에 가장 오래된 도광판 후면 가공 방식으로 현재 양산화된 방식 중에서는 가장 짧은 공정 시간을 가지고 있다. 또한 낮은 장비가격으로 인하여 가장 보편화된 기술이며 높은 생산성을 가지고 있다. 그러나, 실크 스크린으로 이루어진 마스크를 사용하여 이러한 마스크가 사용에 따라 급격하게 수명이 단축되고, 다른 공정에 비하여 상대적으로 낮은 휘도를 나타낸다. 또한 작업 중 스크린이 흔들리는 등의 다양한 불량 요인이 존재하여 상대적으로 낮은 수율을 나타낸다. 또한 사용되는 수지의 대부분에 염소기를 포함하고 있어 유해한 공정으로 어려움을 겪고 있다. 금형 사출 방식은 기본적으로 형상이 만들어진 금형을 만들어 사출하는 방식으로 비교적 저렴하게 작업이 가능하다. 그러나, 후면 가공 시간이 상대적으로 길며, 높은 금형 비용을 감당할 필요가 있다. 또한 최적화된 형상을 제조함에 있어서 반복적으로 여러번 금형을 만들어야 함에 따라 긴 개발 기간이 소요되고, 고가의 장비가 필요하다. 또한 대면적에 적용하기 위해서 반드시 필요한 균일성을 확보하기 위한 방법이 개발 중인 상태로 대형 도광판에 적용하기가 어렵다. V 커팅은 V자 형의 가공기로 도광판의 후면에 연결 또는 떨어져 있는 형태의 프리즘을 가공하는 것으로 상대적으로 인쇄 방식에 비하여 높은 휘도를 구현할 수 있다. 그러나, 개별적인 도광판 마다 한줄씩 프리즘 라인 패턴을 형성하여야만 하므로 긴 가공 시간을 필요로 하여 생산성이 매우 낮다. 최근 도광판 후면 가공을 위하여 가장 선호하는 방식은 레이저 가공으로 상대적으로 다른 후면 가공 방식에 비하여 긴 가공 시간을 가지고 있으나, 높은 휘도의 구현이 가능하고, 프로그램만을 조정하여 제품을 바로 생산할 수 있어 개발 기간이 짧으며, 도광판 자체에 직접 접촉 없이 작업을 하므로 상대적으로 불량을 줄일 수 있고, 정밀한 패턴을 가공할 수 있다. 그러나, 이러한 레이저 가공 역시 개별적인 라인 패턴을 하나씩 새겨나가야 하므로 많은 공정 시간이 필요하다. The printing method is the oldest light guide plate rear processing method and has the shortest processing time among the current mass production methods. It is also the most popular technology due to low equipment price and high productivity. However, by using a mask made of silk screen, such a mask is abruptly shortened in life with use, and exhibits relatively low luminance as compared to other processes. In addition, there are various failure factors such as the screen shaking during the operation, resulting in a relatively low yield. In addition, most of the resins used include chlorine groups, and thus suffer from harmful processes. Mold injection method is basically a method of making a mold made of a shape that can be injected relatively inexpensive. However, the backside machining time is relatively long and there is a need to bear the high mold cost. In addition, in order to manufacture the optimized shape, the mold must be repeatedly made many times, which requires a long development period and requires expensive equipment. In addition, a method for securing uniformity necessary for large area is under development, and it is difficult to apply it to a large light guide plate. V-cutting is a V-shaped machine that processes prisms that are connected to or separated from the back of the light guide plate, and can achieve higher luminance than the printing method. However, since the prism line pattern must be formed one line for each light guide plate, a long processing time is required and the productivity is very low. Recently, laser processing is the most preferred method for the backside of the light guide plate, which has a longer processing time than other backside processing methods, but it is possible to realize high brightness and to produce a product immediately by adjusting only a program. It is short and works without direct contact with the light guide plate itself, so that it is possible to reduce defects and to process precise patterns. However, such laser processing also requires a lot of processing time since the individual line patterns must be carved out one by one.
이러한 다양한 가공 방식에서 확인된 낮은 휘도나 긴 작업 시간을 극복하기 위하여 최근 새롭게 연구되고 있는 방식으로 임프린팅 (Imprinting) 방식이 있다. 이것은 원하는 형상과 반대되는 형상의 금형을 만든 후 자외선, 열 등을 이용하여 수지를 도광판 상에 경화시키는 것으로 초기 금형을 만드는데 일정한 시간이 소요되나, 반복적으로 작업하는 공정중에 상대적으로 안정적인 품질 확보와 낮은 불량률을 나타내며, 원하는 형상을 다양하게 금형으로 만들 수 있어, 휘도 향상에도 효과가 높은 것으로 알려져 있다. In order to overcome the low luminance or long working time found in these various processing methods, there is an imprinting method as a new research method. This is to make a mold of the shape opposite to the desired shape and then to cure the resin on the light guide plate by using ultraviolet rays, heat, etc. It takes a certain time to make the initial mold, but relatively stable quality and low It is known that the defective rate is shown and the desired shape can be made into various molds, and the effect is high also for improving the luminance.
그러나, 이러한 임프린팅 방식은 도광판 상에 형성된 수지층이 하면의 반사 시트와 반복적인 마찰이나 충격으로 인하여 손상되어 전반적인 휘도를 감소시키고, 특정한 위치의 패턴을 집중적으로 손상시킬 경우 화면상에 백점 또는 흑점으로 화질 불량을 일으켜 제품 전체의 불량을 야기하기도 한다.However, this imprinting method reduces the overall brightness due to repetitive friction or impact of the resin layer formed on the light guide plate due to repetitive friction or impact on the lower surface of the light guide plate. This may cause a poor quality of the product, and may also cause a defect in the whole product.
또한 기존의 도광판은 상면에 아무런 형태의 가공도 들어가 있지 않은 면 상태의 도광판이 사용되어 왔다. In addition, the conventional light guide plate has been used a light guide plate of the state without any form of processing on the upper surface.
이러한 도광판은 상면으로 출사되는 빛이 사방으로 산란되어 상대적으로 낮은 휘도를 가지게 된다. 이를 극복하기 위하여 최근에는 도광판의 상면에 단면이 다각형, 반원형 또는 반타원형인 다면체 또는 기둥 형상을 가공하여 적용하고 있다. 도광판 상면에 단면이 다각형, 반원형 또는 반타원형의 다면체 또는 기둥 형상을 가공할 경우 측면에서 입사한 광이 일종의 렌즈 역할을 하는 다면체 또는 기둥 형상을 통하여 전면으로 집광되는 특성을 나타내어 휘도가 증가하고, 휘도의 균일도가 향상되는 효과를 나타내게 된다. 또한 기둥 형상으로 형성된 경우 일종의 광 경로 역할을 하여 화면 분할 구동을 가능하게 하여, 직하형 BLU와 같이 에지형 BLU에서도 높은 명암비를 구현할 수 있게 하여 고화질을 구현하게 한다. The light guide plate has relatively low luminance because light emitted to the upper surface is scattered in all directions. In order to overcome this, recently, a polygonal, semi-circular or semi-elliptic polyhedron or columnar shape is applied to the upper surface of the light guide plate. When processing a polygonal, semi-circular or semi-elliptic polyhedron or column shape on the upper surface of the light guide plate, the light incident from the side is condensed to the front through the polyhedron or column shape acting as a kind of lens. The effect of improving the uniformity of. In addition, when formed in a columnar shape, it acts as a kind of optical path to enable screen division driving, and high contrast ratio can be realized even in edge type BLUs such as direct type BLUs to realize high image quality.
이러한 도광판 상면에 형성된 다면체 또는 기둥 형상의 패턴은 도광판이 만들어 질 때 사출 또는 압출 공정에서 한번에 같이 만들어지는 것이 별도의 다면체 또는 기둥 형상의 패턴을 만드는 공정이 필요 없어 가장 유리하다. 그러나, 이러한 사출 또는 압출 공정은 단순히 무패턴의 도광판을 만드는 공정보다 높은 공정 정밀도와 균일도를 요구하여 많은 불량 발생 조건을 내포하고 있어 수율이 낮아지는 원인이 될 수 있으며, 사출 또는 압출 공정에서 만들 수 없는 복잡한 형상을 만들 경우 별도의 광경화형 수지 또는 열경화형 수지를 이용하여 패턴을 형성할 필요가 있다.The polyhedron or columnar pattern formed on the upper surface of the light guide plate is most advantageous because it is not necessary to make a separate polyhedron or columnar pattern when the light guide plate is made at the same time in the injection or extrusion process. However, such an injection or extrusion process requires a higher process precision and uniformity than a process of simply making a patternless light guide plate, which includes a lot of defect occurrence conditions, which may cause a low yield, and may be produced in an injection or extrusion process. In the case of making a complicated shape without a pattern, it is necessary to form a pattern using a separate photocurable resin or a thermosetting resin.
이러한 상면의 패턴도 도광판에 형성된 수지층이 상면의 광학 필름과 반복적인 마찰이나 충격으로 인하여 손상되어 전반적인 휘도를 감소시키고, 특정한 위치의 패턴을 집중적으로 손상시켜 나타날 수 있는 불량들을 발생시키게 된다.
The pattern of the upper surface is also damaged by the resin layer formed on the light guide plate due to repetitive friction or impact with the optical film of the upper surface to reduce the overall brightness, and to generate defects that may appear by intensively damaging the pattern at a specific position.
본 발명은 패턴이 형성된 구조층을 포함하는 광학 부재를 디스플레이에 적용할 경우, 상기 패턴이 형성된 구조층이 인접하는 광학 시트 또는 광학 필름 등에 의해 손상되지 않도록 하여 취급이 용이하도록 하며, 안정된 광경로를 유지하여 휘도 저하를 방지하도록 할 수 있는 탄성이 있는 수지 조성물 및 상기 수지 조성물로 제조된 광학 부재를 제공하고자 한다.
According to the present invention, when the optical member including the patterned structural layer is applied to a display, the patterned structural layer is not damaged by an adjacent optical sheet or an optical film, so as to be easily handled, and a stable optical path is provided. An object of the present invention is to provide an elastic resin composition and an optical member made of the resin composition, which can be maintained to prevent a decrease in luminance.
이에 본 발명은 바람직한 일 구현예로서 하기의 화학식 1, 2, 3 및 4 중 어느 하나 이상의 화합물을 포함하는 수지 조성물을 제공한다.Accordingly, the present invention provides a resin composition comprising any one or more compounds of the following Chemical Formulas 1, 2, 3 and 4 as a preferred embodiment.
화학식 1Formula 1
여기서, here,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
R7과 R8은 각각 -H 또는 탄소수 1~ 15의 알킬기로서 서로 같거나 다를 수 있으며,R 7 and R 8 may be the same as or different from each other as —H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms,
d는 0~25 사이의 정수이고,d is an integer from 0 to 25,
단, a=b=0인 경우는 제외한다.
Except that a = b = 0.
화학식 2(2)
여기서, here,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
w는 1 ~ 20 사이의 정수이고,w is an integer from 1 to 20,
단, a=b=0인 경우는 제외한다.
Except that a = b = 0.
화학식 3(3)
여기서, here,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
v는 1 ~ 20 사이의 정수이고,v is an integer from 1 to 20,
단, a=b=0인 경우는 제외한다.
Except that a = b = 0.
화학식 4Formula 4
여기서, here,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
R3는 이고, R6는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, c는 0 ~ 25 사이의 정수이고, x는 1 ~ 20 사이의 정수이며,R 3 is R 6 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, c is an integer of 0 to 25, x is an integer of 1 to 20,
R9는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, R 9 is —H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms,
단, a=b=c=0인 경우는 제외한다.Except that a = b = c = 0.
본 발명은 바람직한 제2 구현예로서, 기재층 및 상기 기재층의 적어도 일면의 표면에 패턴이 형성된 구조층을 포함하는 도광판으로서, 상기 구조층은 하기 화학식 1, 2, 3 및 4 중 어느 하나 이상의 화합물을 포함하는 수지 조성물로 제조된 수지 경화층인 것을 특징으로 하는 광학부재를 제공한다.As a second preferred embodiment of the present invention, a light guide plate including a substrate layer and a structure layer having a pattern formed on a surface of at least one surface of the substrate layer, wherein the structure layer is any one or more of the following Chemical Formulas 1, 2, 3 and 4 It provides an optical member, characterized in that the resin cured layer made of a resin composition comprising a compound.
화학식 1Formula 1
여기서, here,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
R7과 R8은 각각 -H 또는 탄소수 1~ 15의 알킬기로서 서로 같거나 다를 수 있으며,R 7 and R 8 may be the same as or different from each other as —H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms,
d는 0~25 사이의 정수이고,d is an integer from 0 to 25,
단, a=b=0인 경우는 제외한다.
Except that a = b = 0.
화학식 2(2)
여기서, here,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
w는 1 ~ 20 사이의 정수이고,w is an integer from 1 to 20,
단, a=b=0인 경우는 제외한다.
Except that a = b = 0.
화학식 3(3)
여기서, here,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
v는 1 ~ 20 사이의 정수이고,v is an integer from 1 to 20,
단, a=b=0인 경우는 제외한다.
Except that a = b = 0.
화학식 4Formula 4
여기서,
here,
R1은 이고, R4는 HR 1 is R 4 is H
또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고, Or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer from 0 to 25, z is an integer from 1 to 20,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
R3는 이고, R6는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, c는 0 ~ 25 사이의 정수이고, x는 1 ~ 20 사이의 정수이며,R 3 is R 6 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, c is an integer of 0 to 25, x is an integer of 1 to 20,
R9는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고,R 9 is —H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms,
단, a=b=c=0인 경우는 제외한다.Except that a = b = c = 0.
상기 구현예에 의한 광학부재는 수학식 1로 표현되는 탄성 회복률이 80% 이상인 것일 수 있다.In the optical member according to the embodiment, the elastic recovery rate expressed by Equation 1 may be 80% or more.
수학식Equation 1 One
상기 식에서, D1은 외부압력이 가해져 압축되어 들어간 깊이를 의미하며, D2는 외부압력이 가해지지 않은 상태의 광학 부재의 높이와 외부압력이 제거되어 회복시의 광학 부재의 높이와의 차이를 의미한다. In the above formula, D 1 means the depth that is compressed by the external pressure is applied, D 2 is the difference between the height of the optical member and the height of the optical member when the external pressure is removed to recover the external pressure is applied. it means.
상기 구현예에 의한 패턴은 그 형상이, 단면이 다각형, 반원형 및 반타원형 중 선택되는 것인 다면체 형상; 단면이 다각형, 반원형 및 반타원형 중 선택되는 것인 기둥 형상; 및 단면이 다각형, 반원형 및 반타원형 중 선택되는 곡선 기둥 형상으로 구성된 군에서 선택되는 것일 수 있다.The pattern according to the embodiment has a polyhedron shape, the shape of which is selected from among polygon, semi-circle and semi-ellipse in cross section; A columnar shape in which the cross section is selected from polygonal, semi-circular and semi-elliptic; And the cross-section may be selected from the group consisting of a curved column shape selected from polygonal, semi-circular and semi-elliptic.
상기 구현예에 의한 상기 화학식 1, 2, 3 및 4 중 어느 하나 이상을 포함하는 수지 조성물의 함량은 구조층을 형성하는 전체 수지에 대하여 5~99중량%인 것일 수 있다. The content of the resin composition including any one or more of Chemical Formulas 1, 2, 3, and 4 according to the embodiment may be 5 to 99% by weight based on the total resin forming the structural layer.
상기 구현예에 의한 광학부재는 폴리카보네이트 수지, 폴리스티렌 수지, 아크릴계 수지, 올레핀계 수지, 이들의 공중합체, 이들의 혼합물 및 이들의 유도체로 구성된 군에서 선택되는 재질로 제조된 것일 수 있다.Optical member according to the embodiment may be made of a material selected from the group consisting of polycarbonate resin, polystyrene resin, acrylic resin, olefin resin, copolymers thereof, mixtures thereof and derivatives thereof.
본 발명은 바람직한 제3 구현예로서, 상기 광학부재를 포함하는 백라이트 유닛 어셈블리를 제공한다.
As a third preferred embodiment of the present invention, a backlight unit assembly including the optical member is provided.
이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
본 발명은 광학 부재가 탄성을 나타낼 수 있도록 하는 재질로서, 화학식 1, 2, 3 및 4 중 어느 하나 이상의 화합물을 포함하는 수지 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a resin composition comprising a compound of any one or more of the formulas (1), (2), (3) and (4) as a material that enables the optical member to exhibit elasticity.
화학식 1Formula 1
여기서, here,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
R7과 R8은 각각 -H 또는 탄소수 1~ 15의 알킬기로서 서로 같거나 다를 수 있으며,R 7 and R 8 may be the same as or different from each other as —H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms,
d는 0~25 사이의 정수이고,d is an integer from 0 to 25,
단, a=b=0인 경우는 제외한다.
Except that a = b = 0.
화학식 2(2)
여기서, here,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
w는 1 ~ 20 사이의 정수이고,w is an integer from 1 to 20,
단, a=b=0인 경우는 제외한다.
Except that a = b = 0.
화학식 3(3)
여기서, here,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
v는 1 ~ 20 사이의 정수이고,v is an integer from 1 to 20,
단, a=b=0인 경우는 제외한다.
Except that a = b = 0.
화학식 4Formula 4
여기서, here,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
R3는 이고, R6는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, c는 0 ~ 25 사이의 정수이고, x는 1 ~ 20 사이의 정수이며,R 3 is R 6 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, c is an integer of 0 to 25, x is an integer of 1 to 20,
R9는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고,R 9 is —H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms,
단, a=b=c0인 경우는 제외한다.Except for a = b = c0.
상기 수지 조성물에 있어서, 화학식 1, 2, 3 및 4 중 어느 하나 이상의 화합물의 함량은 탄성 및 내스크래치성을 고려하여 전체 수지 조성물에 대해 15~80중량%인 것일 수 있으며, 또한, 화학식 1, 2, 3 및 4로 표시되는 화합물이 둘 이상 동시에 사용될 경우 각 화합물의 함량은 전체 수지 조성물에 대하여 5중량% 이상인 것일 수 있다.
In the resin composition, the content of any one or more of the compounds of Formulas 1, 2, 3 and 4 may be 15 to 80% by weight relative to the total resin composition in consideration of elasticity and scratch resistance, and, When two or more compounds represented by 2, 3, and 4 are used simultaneously, the content of each compound may be 5% by weight or more based on the total resin composition.
본 발명은 또한, 기재층 및 상기 기재층의 적어도 일면에 패턴이 형성된 구조층을 포함하는 광학부재로서, 상기 구조층은 하기 화학식 1, 2, 3 및 4 중 어느 하나 이상의 화합물을 포함하는 수지조성물로 제조된 수지 경화층인 것을 특징으로 하는 광학부재에 관한 것이다.The present invention also provides an optical member comprising a base layer and a structural layer having a pattern formed on at least one surface of the base layer, wherein the structural layer comprises a resin composition comprising any one or more compounds of the following Chemical Formulas 1, 2, 3 and 4 It relates to an optical member, characterized in that the resin cured layer prepared by.
화학식 1Formula 1
여기서, here,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
R7과 R8은 각각 -H 또는 탄소수 1~ 15의 알킬기로서 서로 같거나 다를 수 있으며,R 7 and R 8 may be the same as or different from each other as —H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms,
d는 0~25 사이의 정수이고,d is an integer from 0 to 25,
단, a=b=0인 경우는 제외한다.
Except that a = b = 0.
화학식 2(2)
여기서, here,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
w는 1 ~ 20 사이의 정수이고,w is an integer from 1 to 20,
단, a=b=0인 경우는 제외한다.
Except that a = b = 0.
화학식 3(3)
여기서, here,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
v는 1 ~ 20 사이의 정수이고,v is an integer from 1 to 20,
단, a=b=0인 경우는 제외한다.
Except that a = b = 0.
화학식 4Formula 4
여기서, here,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
R3는 이고, R6는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, c는 0 ~ 25 사이의 정수이고, x는 1 ~ 20 사이의 정수이며,R 3 is R 6 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, c is an integer of 0 to 25, x is an integer of 1 to 20,
R9는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고,R 9 is —H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms,
단, a=b=c=0인 경우는 제외한다.Except that a = b = c = 0.
상기 화학식 1, 2, 3 및 4의 화합물은 각각 분자량이 100~10,000의 화합물로서, 분자 구조 내에 유연한 알킬렌 옥사이드 사슬의 종류 및 길이를 조절하여 경화된 후 탄성률을 향상시켜 기재층 및 구조층을 포함하는 광학 부재의 구조층을 형성하는데 바람직하다.The compounds of Formulas 1, 2, 3 and 4 are each a compound having a molecular weight of 100 ~ 10,000, and cured by adjusting the type and length of the flexible alkylene oxide chain in the molecular structure to improve the elastic modulus to improve the base layer and the structural layer It is preferable to form the structural layer of the optical member containing.
이러한 화학식 1, 2, 3 및 4 중 어느 하나 이상의 화합물을 포함하는 수지조성물로 제조된 수지 경화층인 구조층을 포함하는 광학 부재는, 구조층 패턴 표면의 상면에서 평면압자를 이용하여 0.2031mN/sec의 가압속도로 최대압축력 1gf가 될 때까지 가압하고, 최대압축력에 도달했을 때 5초 동안 멈추어 압축한 후 압축력을 해제하였을 경우, 수학식 1로 표현되는 탄성 회복률이 80%이상일 수 있다.The optical member including a structural layer, which is a resin cured layer made of a resin composition containing any one or more of the compounds of Formulas 1, 2, 3, and 4, is 0.2031 mN / using a planar indenter on the upper surface of the structure layer pattern surface. When pressing the pressure up to the maximum compression force 1g f at a pressing speed of sec, and stops compression for 5 seconds when reaching the maximum compression force, and releases the compression force, the elastic recovery rate expressed by Equation 1 may be 80% or more.
수학식Equation 1 One
상기 식에서, D1은 외부압력이 가해져 압축되어 들어간 깊이를 의미하며, D2는 외부압력이 가해지지 않은 상태의 광학 부재의 높이와 외부압력이 제거되어 회복시의 광학 부재의 높이와의 차이를 의미한다. In the above formula, D 1 means the depth that is compressed by the external pressure is applied, D 2 is the difference between the height of the optical member and the height of the optical member when the external pressure is removed to recover the external pressure is applied. it means.
상기의 화학식 1에서 알킬렌 글리콜 구조는 탄성률을 상승시키며, 구조층을 형성할 때 화학식 2, 3, 4로 사용될 경우, 상기의 탄성 회복률을 만족하면서 광학적 특성도 만족시키게 된다. The alkylene glycol structure in Formula 1 increases the modulus of elasticity, and when used as Formulas 2, 3, and 4 when forming the structure layer, satisfies the optical properties while satisfying the elastic recovery rate.
상기 패턴이 형성된 구조층은 외부에서 주어진 힘이 부분적으로 집중되어 마찰이나 충격으로 인한 손상이 쉽게 발생할 수 있으나, 상기의 수지 조성물을 사용할 경우 쉽게 변형되었다가 다시 쉽게 복원되므로 외부의 충격에 쉽게 손상되지 않는다.The patterned structure layer is partially concentrated due to the force given from the outside, so that damage due to friction or impact may easily occur. However, when the resin composition is used, the structural layer is easily deformed and then easily restored, so that the external impact is not easily damaged. Do not.
또한 단순히 경도만을 향상시켜 광학 부재의 패턴은 손상되지 않더라도 인접한 광학 필름이나 반사 시트를 손상시키는 경우와 달리 다른 광학 부품에도 손상을 미치지 않는다.In addition, even if the hardness of the optical member is not improved by simply improving the hardness, it does not damage other optical components unlike the case where the adjacent optical film or the reflective sheet is damaged.
한편, 상기 패턴은 그 형상이, 단면이 다각형, 반원형 및 반타원형 중 선택되는 것인 다면체 형상; 단면이 다각형, 반원형 및 반타원형 중 선택되는 것인 기둥 형상; 및 단면이 다각형, 반원형 및 반타원형 중 선택되는 곡선 기둥 형상으로 구성된 군에서 선택되는 것일 수 있으나, 이에 국한되는 것은 아니다.On the other hand, the pattern is a polyhedron shape of which the cross-section is selected from polygonal, semi-circular and semi-elliptic; A columnar shape in which the cross section is selected from polygonal, semi-circular and semi-elliptic; And the cross section may be selected from the group consisting of a curved column shape selected from polygonal, semi-circular and semi-elliptic, but is not limited thereto.
본 발명에 적용되는 구조층을 형성하는 수지 조성물은 구조층을 형성하는 전체 수지에 대하여 5~99 중량 %를 포함하며, 바람직하게는 20~80 중량 %를 포함한다. 이 때 5 중량 % 미만을 포함할 경우 탄성 회복률의 증가가 미미하다. 또한 상기의 수지 이외에도 광 또는 열 경화제, 개시제 등을 포함할 수 있다.The resin composition for forming the structural layer applied to the present invention contains 5 to 99% by weight, preferably 20 to 80% by weight, based on the total resin for forming the structural layer. At this time, if less than 5% by weight, the increase in elastic recovery rate is minimal. In addition to the above resins, light or thermal curing agents, initiators and the like may be included.
본 발명의 광학 부재는 상기 화학식 1, 2, 3, 4의 수지에 경화제, 개시제 등의 첨가제를 첨가하여 액상 조성물을 제조한 후, 광학부재의 기재층에 코팅한 후 경화시킴으로써 제조될 수 있다.The optical member of the present invention may be prepared by adding an additive such as a curing agent and an initiator to the resins of Chemical Formulas 1, 2, 3, and 4 to prepare a liquid composition, coating the substrate layer of the optical member, and curing the same.
또한 본 발명의 광학 부재는 표면이 구조화된 수지 경화층으로써 복수개의 입체 구조물을 가지는 구조층을 광학 부재의 상면과 하면 중 어느 1면 이상에 포함하고, 구조층의 단면이 다각형, 반원형 또는 반타원형인 다면체 형상일 수 있으며, 또는 단면이 다각형, 반원형 또는 반타원형인 기둥 형상일 수 있으며, 또는 단면이 다각형, 반원형 또는 반타원형인 곡선 기둥 형상 중 선택된 한가지 이상의 패턴이 다수로 형성된 구조층을 포함하는 것일 수 있다.In addition, the optical member of the present invention includes a structural layer having a plurality of three-dimensional structures on any one or more of the upper and lower surfaces of the optical member, the surface of the structure is a resin cured layer structured, the cross section of the structural layer is polygonal, semi-circular or semi-elliptic It may be a polyhedron shape, or may be a column shape having a polygonal, semi-circular or semi-elliptical cross section, or a structural layer formed with a plurality of patterns selected from a plurality of curved column shapes having a polygonal, semi-circular or semi-elliptic cross section. It may be.
이와 같은 광학 부재는 도광판, 프리즘 필름 등일 수 있으며, 백라이트 유닛 어셈블리에 적용할 경우 광학 부재의 구조층이 가지는 탄성으로 인하여 인접하는 광학 필름이나 광학 시트 등에 의한 손상을 방지할 수 있어 취급이 용이할 뿐만 아니라, 안정된 광경로를 유지하여 휘도저하를 방지할 수 있다.
Such an optical member may be a light guide plate, a prism film, or the like. When applied to a backlight unit assembly, the optical member may prevent damage due to an adjacent optical film or an optical sheet due to the elasticity of the structural layer of the optical member. In addition, it is possible to maintain a stable optical path to prevent the luminance decrease.
이하 본 발명을 구체적인 실시예를 통해 설명하겠는바, 본 발명이 이들 실시예에 한정되지 않고 기술적 사상이 허용되는 범위 내에서 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가지 자에 의하여 다양하게 변경되어 실시될 수 있음은 물론이다.
The present invention will now be described in detail with reference to specific examples. However, it should be understood that the present invention is not limited to these embodiments and that various changes and modifications may be made therein without departing from the scope of the present invention. Of course.
합성예Synthetic example 1-1 내지 1-10 1-1 to 1-10
화학식 5로 표시되는 화합물 1몰에 화합물 R1 1.05몰을 반응 용기에 넣어 테트라하이드로 퓨란 용매 하에서 6시간 환류 반응을 진행하였다. 이후 화합물 R2 1.05몰을 추가하여 6시간 환류 반응을 진행하였다. 반응 후 미반응 물질 및 용매를 감압 증류하여 제거하여 화학식 1로 표시되는 화합물을 합성하였다. 합성예 1-1 내지 1-10에서 각 화합물의 변수는 표 1에 기재된 바와 같다.
1.05 mol of Compound R 1 was added to 1 mol of the compound represented by Chemical Formula 5 in a reaction vessel, and the reaction was performed under reflux for 6 hours under a tetrahydrofuran solvent. Thereafter, 1.05 moles of Compound R 2 were added to the mixture to reflux for 6 hours. After the reaction, the unreacted material and the solvent were distilled off under reduced pressure to synthesize a compound represented by Chemical Formula 1. The parameters of each compound in Synthesis Examples 1-1 to 1-10 are as described in Table 1.
[화학식 5][Chemical Formula 5]
Cl-[CR7R8]d-ClCl- [CR 7 R 8 ] d -Cl
여기서, R7과 R8은 각각 -H 또는 탄소수 1~ 15의 알킬기로서 서로 같거나 다를 수 있으며, d는 0~25 사이의 정수이다.Here, R 7 and R 8 may each be the same as or different from each other as -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, and d is an integer between 0 and 25.
R1은 CH2=CR4COO-[(CH2)zO]a-H이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이다.R 1 is CH 2 = CR 4 COO — [(CH 2 ) z O] a -H, a is an integer from 0 to 25, and z is an integer from 1 to 20.
R2는 CH2=CR5COO-[(CH2)yO]b-H이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고, R 2 is CH 2 = CR 5 COO-[(CH 2 ) y O] b -H, b is an integer from 0 to 25, y is an integer from 1 to 20,
단, a=b=0인 경우는 제외한다.
Except that a = b = 0.
합성예Synthetic example 2-1 내지 2-5 2-1 to 2-5
화학식 6으로 표시되는 화합물 1몰에 R1 1.05몰을 반응 용기에 넣어 테트라하이드로 퓨란 용매 하에서 50℃가 넘지 않도록 주의하면서 완전히 적가한 후 2시간 상온에서 교반시켜 반응을 진행하고, R2 1.05몰을 추가하여 반응을 진행하였다. 미반응 물질 및 용매를 감압 증류하여 제거하여 화학식 2로 표시되는 화합물을 합성하였다. 합성예 2-1 내지 2-5에서 각 화합물의 변수는 표 2에 기재된 바와 같다.
Put the R 1 of 1.05 mol Compound 1 mole represented by the general formula (6) in a reaction vessel under a tetrahydrofuran solvent and was stirred in after the 50 ℃ completely added dropwise, taking care not to exceed two hours at room temperature progress the reaction, R 2 to 1.05 moles In addition, the reaction proceeded. Unreacted material and solvent were removed by distillation under reduced pressure to synthesize a compound represented by the formula (2). The parameters of each compound in Synthesis Examples 2-1 to 2-5 are as described in Table 2.
[화학식 6][Formula 6]
OCN-C6H4-(CH2)w-C6H4-NCO OCN-C 6 H 4- (CH 2 ) w C 6 H 4 -NCO
여기서, w는 1 ~ 20 사이의 정수이다.Where w is an integer between 1 and 20.
R1은 CH2=CR4COO-[(CH2)zO]a-H이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이다.R 1 is CH 2 = CR 4 COO — [(CH 2 ) z O] a -H, a is an integer from 0 to 25, and z is an integer from 1 to 20.
R2는 CH2=CR5COO-[(CH2)yO]b-H이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 2 is CH 2 = CR 5 COO-[(CH 2 ) y O] b -H, b is an integer from 0 to 25, y is an integer from 1 to 20,
단, a=b=0인 경우는 제외한다.
Except that a = b = 0.
합성예Synthetic example 3-1 내지 3-7 3-1 to 3-7
화학식 7 OCN-(CH2)v-NCO 화합물 1몰에 R1 1.05몰을 반응 용기에 넣어 테트라하이드로 퓨란 용매 하에서 50℃가 넘지 않도록 주의하면서 완전히 적가한 후 2시간 상온에서 교반시켜 반응을 진행하고, R2 1.05몰을 추가하여 반응을 진행하였다. 미반응 물질 및 용매를 감압 증류하여 제거하여 화학식 3으로 표시되는 화합물을 합성하였다. 합성예 3-1 내지 3-7에서 각 화합물의 변수는 표 3에 기재된 바와 같다.Formula 7 OCN- (CH 2) v- NCO compounds into the R 1 1.05 mol to 1 mol of the reaction vessel under tetrahydro-furan solvent was stirred in after the 50 ℃ completely added dropwise, taking care not to exceed two hours at room temperature and the reaction proceeds , R 2 1.05 mol was added to proceed with the reaction. Unreacted material and solvent were removed by distillation under reduced pressure to synthesize a compound represented by the formula (3). The parameters of each compound in Synthesis Examples 3-1 to 3-7 are as described in Table 3.
[화학식 7][Formula 7]
OCN-(CH2)v-NCOOCN- (CH 2 ) v-NCO
여기서, v는 1 ~ 20 사이의 정수이다.Where v is an integer between 1 and 20.
R1은 CH2=CR4COO-[(CH2)zO]a-H이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이다.R 1 is CH 2 = CR 4 COO — [(CH 2 ) z O] a -H, a is an integer from 0 to 25, and z is an integer from 1 to 20.
R2는 CH2=CR5COO-[(CH2)yO]b-H이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 2 is CH 2 = CR 5 COO-[(CH 2 ) y O] b -H, b is an integer from 0 to 25, y is an integer from 1 to 20,
단, a=b=0인 경우는 제외한다.Except that a = b = 0.
합성예Synthetic example 4-1 내지 4-10 4-1 to 4-10
화학식 8로 표시되는 화합물 1몰에 R1 CH2=CR4COO-[(CH2)zO]a-H 1.05몰을 반응 용기에 넣어 테트라하이드로 퓨란 용매 하에서 50℃가 넘지 않도록 주의하면서 완전히 적가한 후 2시간 상온에서 교반시켜 반응을 진행하고, 순차적으로 R2 CH2=CR5COO-[(CH2)yO]b-H 1.05몰, R3 CH2=CR6COO-[(CH2)xO]c-H 1.05몰을 두시간 간격으로 추가하여 반응을 진행하였다. 미반응 물질 및 용매를 감압 증류하여 제거하여 화학식 4로 표시되는 화합물을 합성하였다. 합성예 4-1 내지 4-10에서 각 화합물의 변수는 표 4에 기재된 바와 같다.1.05 mol of R 1 CH 2 = CR 4 COO-[(CH 2 ) z O] a -H was added to 1 mol of the compound represented by the formula (8) in a reaction vessel, and completely added dropwise while being careful not to exceed 50 ° C under a tetrahydrofuran solvent. After stirring for 2 hours at room temperature, the reaction proceeds, and sequentially R 2 CH 2 = CR 5 COO-[(CH 2 ) y O] b -H 1.05 mol, R 3 CH 2 = CR 6 COO-[(CH 2 ) x O] c -H 1.05 mol was added at intervals of two hours to proceed with the reaction. Unreacted material and solvent were removed by distillation under reduced pressure to synthesize a compound represented by the formula (4). The parameters of each compound in Synthesis Examples 4-1 to 4-10 are as described in Table 4.
[화학식 8][Formula 8]
여기서, R9는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이다.R 9 is —H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms.
R1은 CH2=CR4COO-[(CH2)zO]a-H이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이다.R 1 is CH 2 = CR 4 COO — [(CH 2 ) z O] a -H, a is an integer from 0 to 25, and z is an integer from 1 to 20.
R2는 CH2=CR5COO-[(CH2)yO]b-H이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이다.R 2 is CH 2 = CR 5 COO — [(CH 2 ) y O] b -H, b is an integer between 0 and 25, and y is an integer between 1 and 20.
R3는 CH2=CR6COO-[(CH2)xO]c-H이고, c는 0 ~ 25 사이의 정수이고, x는 1 ~ 20 사이의 정수이고,R 3 is CH 2 = CR 6 COO-[(CH 2 ) x O] c -H, c is an integer from 0 to 25, x is an integer from 1 to 20,
단, a=b=0인 경우는 제외한다.Except that a = b = 0.
합성예Synthetic example 5-1 내지 5-4 5-1 to 5-4
화학식 5 Cl-[CR7R8]d-Cl 화합물 1몰에 R1 1.05몰을 반응 용기에 넣어 테트라하이드로 퓨란 용매 하에서 6시간 환류 반응을 진행하였다. 이후 R2 1.05몰을 추가하여 6시간 환류 반응을 진행하였다. 반응 후 미반응 물질 및 용매를 감압 증류하여 제거하여 화합물을 합성하였다. 합성예 5-1 내지 5-4에서 각 화합물의 변수는 표 5에 기재된 바와 같다.
Formula 5 Cl- [CR 7 R 8] d -Cl compounds into the R 1 to 1.05 mol per mol in the reactor vessel was carried out for 6 hours under reflux the reaction solvent is tetrahydrofuran. Thereafter, 1.05 mol of R 2 was added to proceed with reflux for 6 hours. After the reaction, the unreacted material and the solvent were distilled off under reduced pressure to synthesize a compound. The parameters of each compound in Synthesis Examples 5-1 to 5-4 are as described in Table 5.
[화학식 5][Chemical Formula 5]
Cl-[CR7R8]d-ClCl- [CR 7 R 8 ] d -Cl
여기서, R7과 R8은 각각 -H 또는 탄소수 1~ 15의 알킬기로서 서로 같거나 다를 수 있으며, d는 0~25 사이의 정수이다.Here, R 7 and R 8 may each be the same as or different from each other as -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, and d is an integer between 0 and 25.
R1은 CH2=CR4COO-[(CH2)zO]a-H이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이다.R 1 is CH 2 = CR 4 COO — [(CH 2 ) z O] a -H, a is an integer from 0 to 25, and z is an integer from 1 to 20.
R2는 CH2=CR5COO-[(CH2)yO]b-H이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이다.
R 2 is CH 2 = CR 5 COO — [(CH 2 ) y O] b -H, b is an integer between 0 and 25, and y is an integer between 1 and 20.
실시예Example 1~32 1 to 32
전체 조성 100 중량%에 대하여 상기의 합성예 1-1 ~ 4-10에서 제조된 화합물 40 중량%에 부틸 아크릴레이트(butyl acrylate) 40 중량%, 히드록시 에틸 아크릴레이트 40 wt% of butyl acrylate and hydroxy ethyl acrylate based on 40 wt% of the compounds prepared in Synthesis Examples 1-1 to 4-10 above based on 100 wt% of the total composition
(hydroxyethyl acrylate) 18중량%, 광개시제 벤조페논(benzophenone) 1 중량% (이상 화합(hydroxyethyl acrylate) 18% by weight, photoinitiator benzophenone (1% by weight)
물 Aldrich社), Irgacure 184C (Ciba社) 1 중량%를 상온에서 혼합하였다.
Water Aldrich), Irgacure 184C (Ciba) 1% by weight was mixed at room temperature.
기재층으로 PMMA 도광판 (KOLON 제조, 3mm) 위에 피치 (Pitch) 30um, 높이 15um의 미세한 다수의 프리즘 형상으로 이루어진 몰드에 상기의 수지를 사이에 두어 자외선 조사장치로 경화하여 패턴을 형성하였다.
A pattern was formed by curing the above resin in a mold having a plurality of fine prism shapes having a pitch of 30 μm and a height of 15 μm on a PMMA light guide plate (manufactured by KOLON, 3 mm) as a substrate layer.
비교예Comparative example 1~4 1-4
전체 조성 100 중량%에 대하여 상기의 합성예 5-1 ~ 5-4에서 제조된 화합물 40 중량%에 부틸 아크릴레이트(butyl acrylate) 40 중량%부, 히드록시 에틸 아크릴레이트 40 wt% of butyl acrylate (hydroxybutyl acrylate) to 40 wt% of the compounds prepared in Synthesis Examples 5-1 to 5-4 based on 100 wt% of the total composition
(hydroxyethyl acrylate) 18중량%, 광개시제 벤조페논(benzophenone) 1 중량% (이상 화합
(hydroxyethyl acrylate) 18% by weight, photoinitiator benzophenone (1% by weight)
물 Aldrich社), Irgacure 184C (Ciba社) 1 중량%를 상온에서 혼합하였다.
Water Aldrich), Irgacure 184C (Ciba) 1% by weight was mixed at room temperature.
기재층으로 PMMA 도광판 (KOLON 제조, 3mm) 위에 피치 (Pitch) 200um, 높이 100um의 미세한 다수의 프리즘 형상으로 이루어진 몰드에 상기의 수지를 사이에 두어 자외선 조사장치로 경화하여 패턴을 형성하였다.
A pattern was formed by curing the above resin in a mold having a plurality of fine prism shapes having a pitch of 200 μm and a height of 100 μm on a PMMA light guide plate (manufactured by KOLON, 3 mm) as a base material layer.
실시예 1 내지 32 및 비교예 1 내지 4에서 제조된 도광판에 대하여 아래와 같이 탄성 회복률 및 내스크래치성을 측정하여, 그 결과를 표 6에 나타내었다.
The elastic recovery rate and scratch resistance of the light guide plates manufactured in Examples 1 to 32 and Comparative Examples 1 to 4 were measured as follows, and the results are shown in Table 6.
(1) 탄성 회복률(1) elastic recovery rate
실시예 및 비교예에서 제조된 도광판의 패턴 부분을 일본 시마즈사의 미소압축경도계(Shimadzu DUH-W201S)를 사용하여 'Load-Unload test' 항목을 이용하여 D1 및 탄성회복률을 측정하였다. 직경 50㎛인 평면압자의 중앙 부분에 도광판 구조층에서 산 모양의 뾰족한 부분이 오도록 위치시킨 후, 다음의 조건에서 D1, D2 및 탄성회복률을 5회 반복하여 측정하고 평균값을 구한다.Examples and Comparative Examples of the pattern portion of the light guide plate is manufactured using the D 'Load-Unload test' item using the smiling compression hardness tester manufactured by Shimadzu Corporation in Japan (Shimadzu DUH-W201S) 1 and the elastic recovery was measured at. After placing the pointed part of the mountain in the light guide plate structure layer at the center of the planar indenter having a diameter of 50 μm, under the following conditions, D 1 , D 2 And the elastic recovery rate is repeated five times and the average value is obtained.
여기서 D1은 외부압력이 가해져 압축되어 들어간 깊이를 의미하며, D2는 외부압력이 가해지지 않은 상태의 도광판의 높이와 외부압력이 제거되어 회복시의 도광판의 높이와의 차이를 의미한다.Here, D 1 means the depth that is compressed by the external pressure is applied, D 2 means the difference between the height of the light guide plate in the state without the external pressure and the height of the light guide plate when the external pressure is removed.
[측정조건][Measuring conditions]
a. 가해주는 최대 압축력 : 1gf(=9.807mN)a. Maximum compressive force applied: 1g f (= 9.807mN)
b. 시간당 가해지는 압축력 : 0.2031mN/secb. Compression force per hour: 0.2031mN / sec
c. 최대 압축력에서의 멈춤시간 : 5secc. Stop time at maximum compression: 5 sec
(2) 내스크래치성(2) scratch resistance
상기 실시예 및 비교예에서 제조된 도광판의 패턴 부분을 IMOTO社의 Big Heart 테스트 장치에 의한 기본 무게를 사용하여 최소한의 압력을 가하였을 때, 구조층의 스크래치 발생 여부를 측정하였으며, 그 결과에 대한 손상의 정도를 육안 판단하였으며, 기준은 다음과 같다. When a minimum pressure was applied to the pattern portion of the light guide plate manufactured in the above Examples and Comparative Examples using the basic weight of the Big Heart test apparatus of IMOTO, the scratches of the structural layer were measured. The degree of damage was visually judged and the criteria are as follows.
내스크래치성 나쁨 ← × < △ < ○ < ◎ → 내스크래치성 우수
Bad scratch resistance ← × <△ <○ <◎ → Excellent scratch resistance
물성측정 결과, 도광판에 있어서 화학식 1, 2, 3 및 4 중 선택된 적어도 하나 이상을 포함하는 수지 조성물로 제조된 패턴은 탄성 회복률이 80% 이상이고 내스크래치성이 뛰어나다는 것을 알 수 있다.
As a result of measuring the physical properties, it can be seen that the pattern made of the resin composition including at least one selected from Chemical Formulas 1, 2, 3, and 4 in the light guide plate has an elastic recovery rate of 80% or more and excellent scratch resistance.
Claims (8)
화학식 1
여기서,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,
R7과 R8은 각각 -H 또는 탄소수 1~ 15의 알킬기로서 서로 같거나 다를 수 있으며,
d는 0~25 사이의 정수이며,
단, a=b=0인 경우는 제외한다.
화학식 2
여기서,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,
w는 1 ~ 20 사이의 정수이고,
단, a=b=0인 경우는 제외한다.
화학식 3
여기서,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,
v는 1 ~ 20 사이의 정수이고,
단, a=b=0인 경우는 제외한다.
화학식 4
여기서,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,
R3는 이고, R6는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, c는 0 ~ 25 사이의 정수이고, x는 1 ~ 20 사이의 정수이며,
R9는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고,
단, a=b=c=0인 경우는 제외한다.
Resin composition comprising a compound of any one or more of the following formula (1), (2), (3) and (4).
Formula 1
here,
R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
R 7 and R 8 may be the same as or different from each other as —H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms,
d is an integer from 0 to 25,
Except that a = b = 0.
(2)
here,
R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
w is an integer from 1 to 20,
Except that a = b = 0.
(3)
here,
R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
v is an integer from 1 to 20,
Except that a = b = 0.
Formula 4
here,
R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
R 3 is R 6 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, c is an integer of 0 to 25, x is an integer of 1 to 20,
R 9 is —H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms,
Except that a = b = c = 0.
상기 화학식 1, 2, 3 및 4 중 어느 하나 이상의 화합물의 함량은 전체 수지 조성물에 대해 15~80중량%인 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
The method of claim 1,
The content of any one or more of the compounds of Formulas 1, 2, 3 and 4 is a resin composition, characterized in that 15 to 80% by weight relative to the total resin composition.
상기 구조층은 하기 화학식 1, 2, 3 및 4 중 어느 하나 이상의 화합물을 포함하는 수지 조성물로 제조된 수지 경화층인 것을 특징으로 하는 광학부재.
화학식 1
여기서,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,
R7과 R8은 각각 -H 또는 탄소수 1~ 15의 알킬기로서 서로 같거나 다를 수 있으며,
d는 0~25 사이의 정수이고,
단, a=b=0인 경우는 제외한다.
화학식 2
여기서,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,
w는 1 ~ 20 사이의 정수이고,
단, a=b=0인 경우는 제외한다.
화학식 3
여기서,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,
v는 1 ~ 20 사이의 정수이고,
단, a=b=0인 경우는 제외한다.
화학식 4
여기서,
R1은 이고, R4는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, a는 0 ~ 25 사이의 정수이고, z는 1 ~ 20 사이의 정수이고,
R2는 이고, R5는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, b는 0 ~ 25 사이의 정수이고, y는 1 ~ 20 사이의 정수이고,
R3는 이고, R6는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고, c는 0 ~ 25 사이의 정수이고, x는 1 ~ 20 사이의 정수이며,
R9는 -H 또는 탄소수 1 ~ 15의 알킬기이고,
단, a=b=c=0인 경우는 제외한다.
A light guide plate comprising a substrate layer and a structural layer having a pattern formed on at least one surface of the substrate layer,
The structural layer is an optical member, characterized in that the resin cured layer made of a resin composition containing any one or more compounds of the following formula (1), (2), (3) and (4).
Formula 1
here,
R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
R 7 and R 8 may be the same as or different from each other as —H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms,
d is an integer from 0 to 25,
Except that a = b = 0.
(2)
here,
R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
w is an integer from 1 to 20,
Except that a = b = 0.
(3)
here,
R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
v is an integer from 1 to 20,
Except that a = b = 0.
Formula 4
here,
R 1 is R 4 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a is an integer of 0 to 25, z is an integer of 1 to 20,
R 2 is R 5 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, b is an integer of 0 to 25, y is an integer of 1 to 20,
R 3 is R 6 is -H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, c is an integer of 0 to 25, x is an integer of 1 to 20,
R 9 is —H or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms,
Except that a = b = c = 0.
수학식 1로 표현되는 탄성 회복률이 80% 이상인 광학부재.
수학식 1
상기 식에서, D1은 외부압력이 가해져 압축되어 들어간 깊이를 의미하며, D2는 외부압력이 가해지지 않은 상태의 광학 부재의 높이와 외부압력이 제거되어 회복시의 광학 부재의 높이와의 차이를 의미한다.
The method of claim 3,
An optical member having an elastic recovery rate of 80% or more represented by Equation 1.
Equation 1
In the above formula, D 1 means the depth that is compressed by the external pressure is applied, D 2 is the difference between the height of the optical member and the height of the optical member when the external pressure is removed to recover the external pressure is applied. it means.
상기 패턴은 그 형상이, 단면이 다각형, 반원형 및 반타원형 중 선택되는 것인 다면체 형상; 단면이 다각형, 반원형 및 반타원형 중 선택되는 것인 기둥 형상; 및 단면이 다각형, 반원형 및 반타원형 중 선택되는 곡선 기둥 형상으로 구성된 군에서 선택되는 것임을 특징으로 하는 광학부재.
The method of claim 3,
The pattern may have a polyhedron shape whose cross section is selected from a polygon, a semicircle and a semi-ellipse; A columnar shape in which the cross section is selected from polygonal, semi-circular and semi-elliptic; And a cross section having a curved column shape selected from polygonal, semi-circular and semi-elliptic shapes.
상기 화학식 1, 2, 3 및 4 중 어느 하나 이상을 포함하는 수지 조성물의 함량은 구조층을 형성하는 전체 수지에 대하여 5~99중량%인 것을 특징으로 하는 광학부재.
The method of claim 3,
The content of the resin composition comprising any one or more of Formulas 1, 2, 3, and 4 is an optical member, characterized in that 5 to 99% by weight based on the total resin forming the structural layer.
광학부재는 폴리카보네이트 수지, 폴리스티렌 수지, 아크릴계 수지, 올레핀계 수지, 이들의 공중합체, 이들의 혼합물 및 이들의 유도체로 구성된 군에서 선택되는 재질로 제조된 것을 특징으로 하는 광학부재.
The method of claim 3,
The optical member is made of a material selected from the group consisting of polycarbonate resin, polystyrene resin, acrylic resin, olefin resin, copolymers thereof, mixtures thereof and derivatives thereof.
A backlight unit assembly comprising the optical member of any one of claims 1 to 7.
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---|---|---|---|
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KR1020110059005A KR20120139280A (en) | 2011-06-17 | 2011-06-17 | Optical assembly and backlight unit assembly |
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