KR20120120821A - Photo-sensitive composition for non-development negative thermal CTP printing - Google Patents

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KR20120120821A KR1020110038606A KR20110038606A KR20120120821A KR 20120120821 A KR20120120821 A KR 20120120821A KR 1020110038606 A KR1020110038606 A KR 1020110038606A KR 20110038606 A KR20110038606 A KR 20110038606A KR 20120120821 A KR20120120821 A KR 20120120821A
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Abstract

PURPOSE: A non-development negative thermal CTP printing photo-sensitive composition is provided to converse operational costs by manufacturing a printing plate without an electrolytic polishing process and an anodizing process. CONSTITUTION: A non-development negative thermal CTP printing photo-sensitive composition includes a lipophilic resin, a hydrophilic resin, and a hydrophilic/lipophilic conversion resin. The hydrophilic/lipophilic conversion resin is converted from hydrophilicity to lipophilicity by light energy. The composition further includes an infrared ray absorption dye. The infrared ray absorption dye absorbs light energy to generate heat. The heat converts the hydrophilic/lipophilic conversion resin. The composition further includes a plate wear resistance enhancing resin. The plate wear resistance enhancing resin is a compound which blocking 3-15% pre-isocyanate with one or more compounds of phenol, ethyl acetoacetate, e-caprolactam, and methyl ethyl ketoxime.

Description

무현상 네가티브 써멀 CTP 인쇄용 감광성 조성물{Photo-sensitive composition for non-development negative thermal CTP printing}Photo-sensitive composition for non-development negative thermal CTP printing

본 발명은 무현상 네가티브 써멀 CTP 인쇄용 감광성 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 비화선부의 현상공정이 필요없고, 축임물에 대해 내쇄성이 우수한 무현상 네가티브 써멀 CTP 인쇄용 감광성 조성물에 관한 것이다. The present invention relates to a photosensitive composition for developing negative thermal CTP printing, and more particularly, to a photosensitive composition for developing negative thermal CTP printing, which does not require a developing step of a non-wire portion and has excellent print resistance to condensed matter.

최근 많이 사용되고 있는 써멀 CTP는 PS와는 달리 컴퓨터로 데이터 작업을 하여 필름없이 인쇄판을 만드는 방법으로서, 필름을 이용하여 이미지를 형성하는 과정이 생략됨으로서 필름을 출력하는 시간과 비용이 절감되는 장점이 있다. 또한 이미지가 형성된 필름을 PS판에 올려놓고 노광을 하면서 발생할 수 있는 불량, 즉 소부과정으로부터 오는 망점 손실, 필름 훼손에 따른 이미지 손상, 먼지와 같은 이물질이 인쇄시에 나타나는 것을 방지할 수 있다. Thermal CTP, which is widely used in recent years, is a method of making a printing plate without a film by working with data unlike a PS, and has a merit of reducing time and cost of outputting a film by eliminating the process of forming an image using the film. In addition, it is possible to prevent defects that may occur when the film is formed on the PS plate and exposed, that is, the loss of dots from the baking process, image damage due to film damage, and foreign matter such as dust.

그러나 이와 같은 장점을 가진 써멀 CTP도 PS와 마찬가지로 알카리 수용액으로 현상하여 화선부와 비화선부를 구분하게 되는데, 알카리 수용액 현상과정에서 알카리 수용액의 피로도, 온도, 현상 속도에 따라 망점의 불량이 발생할 수 있으며, 사용된 알카리 수용액과 이를 수세한 물은 폐액으로서 환경문제를 야기하게 되고, 폐액을 처리하기 위해 폐수처리 설비 및 비용이 추가로 필요하게 된다. 이를 해결하는 방법으로 써멀 CTP의 현상시, 알카리 수용액 대신 고무 용액 또는 물로 현상하는 방법이 EP 1342568, PCT/EP 2005/052298, PCT/EP 2006/068303 및 10-2009-0050353등의 특허에 거론되어 있다. 하지만, 상기 특허 방법을 이용하기 위해서는 기존 써멀 CTP 인쇄판보다 2~3배 정도 높은 노광 에너지가 필요하여, 기존 써멀 CTP 세터에 사용하는데 어려움이 있다. 또한 고무 용액 또는 물로 현상을 하기 때문에 적지만 일부 폐액이 발생하고, 이를 위한 현상 설비가 따로 필요하며, 현상 공정중에 망점 불량이 발생할 수 있다.However, similar to PS, thermal CTP, which has such advantages, is developed with alkaline aqueous solution to distinguish fire and non-fired parts. In the process of developing alkaline solution, defects in dots may occur depending on fatigue, temperature, and development speed of alkaline aqueous solution. Alkaline aqueous solution used and water washed with water cause environmental problems as waste liquid, and waste water treatment facilities and costs are additionally required to treat the waste liquid. In order to solve this problem, in developing thermal CTP, a method of developing with rubber solution or water instead of alkaline aqueous solution has been mentioned in the patents of EP 1342568, PCT / EP 2005/052298, PCT / EP 2006/068303 and 10-2009-0050353. have. However, in order to use the patented method, exposure energy of about 2 to 3 times higher than that of the existing thermal CTP printing plate is required, which makes it difficult to use the existing thermal CTP setter. In addition, because the development with a rubber solution or water is small, but some waste fluid is generated, a separate development equipment is required for this, and defects in dots may occur during the development process.

또한 상술한 문제를 해결하기 위하여 노광한 인쇄판을 현상하지 않고 인쇄기에 부착하여 통상적인 인쇄과정을 통하여 현상하는 방법이 PCT/EP 2006/068498, US 5,922,512, 6,723,495 특허에 개시되어 있다. 이 방법을 자세히 살펴보면, 인쇄기에 부착된 인쇄판이 인쇄가 시작되면서 비화선부의 감광성 조성물 층은 판재에 공급되는 축임물에 의해 팽윤되고, 팽윤된 감광성 조성물 층은 잉크의 점착에 의해 인쇄 블랑켓 롤러에 전사, 제거되면서 현상되는 방식이다. 그러나 상기 방식은 축임물과 잉크의 점착에 따라 정상적인 인쇄가 되기까지 인쇄 종이 낭비가 발생할 수 있다. 또한 여전히 현상에 의한 망점 손실이 발생할 수 있고, 기존 써멀 CTP에 사용하는 것보다 높은 노광 에너지가 필요하며, 광개시제나 디아조화합물을 사용함으로써 명실에서 사용해야 하는 제한이 있다.In addition, in order to solve the above-mentioned problem, a method of developing an ordinary printing process by attaching an exposed printing plate to a printing machine without developing it is disclosed in PCT / EP 2006/068498, US 5,922,512, 6,723,495. Examining this method in detail, as the printing plate attached to the printing machine starts printing, the photosensitive composition layer of the non-firing portion is swollen by condensate supplied to the plate, and the swollen photosensitive composition layer is transferred to the printing blanket roller by the adhesion of ink. It is developed while being removed. However, in the above method, waste of printing paper may occur until normal printing according to adhesion of condensate and ink. In addition, there may still be a loss of dots due to development, a higher exposure energy than that used in the existing thermal CTP, and there is a limit to use in a clear room by using a photoinitiator or a diazo compound.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 무현상 네가티브 써멀 CTP 인쇄용 감광성 조성물을 제공하는 것이다. The present invention provides a photosensitive composition for printing negative thermal CTP printing to solve the above problems.

상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 무현상 네가티브 써멀 CTP 감광성 조성물로서, 상기 조성물은 친유성 수지, 친수성 수지 및 친수/친유성 변환수지를 포함하며, 여기에서 상기 친수/친유성 변환수지는 조사되는 빛 에너지에 의하여 친수성에서 친유성으로 변환되는 것을 특징으로 하는 무현상 네가티브 써멀 CTP 감광성 조성물을 제공한다.In order to solve the above problems, the present invention is a phenomenon-free negative thermal CTP photosensitive composition, the composition comprises a lipophilic resin, a hydrophilic resin and a hydrophilic / lipophilic conversion resin, wherein the hydrophilic / lipophilic conversion resin is irradiated It provides a non-developing negative thermal CTP photosensitive composition, characterized in that the conversion from hydrophilic to lipophilic by the light energy.

본 발명의 일 실시예에서 상기 조성물은 적외선 흡수염료를 더 포함하며, 상기 적외선 흡수 염료는 상기 조사되는 빛 에너지를 흡수, 열을 발생시키고, 상기 발생한 열에 따라 상기 친수/친유성 변환수지는 친수성에서 친유성으로 변환된다. In one embodiment of the present invention, the composition further comprises an infrared absorbing dye, the infrared absorbing dye absorbs the irradiated light energy, generates heat, and the hydrophilic / lipophilic conversion resin according to the generated heat in the hydrophilic Converted to lipophilic.

본 발명의 일 실시예에서 상기 조성물은 내쇄력 향상 반응성 수지를 더 포함하며, 여기에서 상기 내쇄력 향상 반응성 수지는 톨루엔디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 메틸렌디페닐디이소시아네이트 및 이소포론디이소시아네이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 화합물과, 2) 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 트리메티올프로판 및 펜타에리트리톨로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종이상의 화합물을 반응시켜 얻은 3 내지 15%의 프리이소시아네이트를 페놀, 에틸아세토아세테이트, e-카프로락탐 및 메텔에틸케톡심으로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종이상의 화합물로 블록화시킨 화합물이다. In one embodiment of the present invention the composition further comprises an anti-friction improving reactive resin, wherein the anti-friction improving reactive resin is composed of toluene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, methylene diphenyl diisocyanate and isophorone diisocyanate 3-15% free obtained by reacting one or two or more compounds selected from the group with one or two or more compounds selected from the group consisting of 2) ethylene glycol, propylene glycol, trimetholpropane and pentaerythritol Isocyanate is a compound obtained by blocking one or two or more compounds selected from the group consisting of phenol, ethyl acetoacetate, e-caprolactam, and methyl ethyl ketoxime.

본 발명의 일 실시예에서 상기 조성물은 착색제, 소포제, 레벨링(leveling)제, 슬립제, 경화제, 부착 촉진 증진제로부터 이루어진 군에서 선택될 수 있는 1종 이상의 첨가제를 더 포함하며, 여기에서 상기 조성물의 배합비는 하기 식을 따르는 것을 특징으로 하는 무현상 네가티브 써멀 CTP 감광성 조성물.In one embodiment of the present invention the composition further comprises one or more additives which may be selected from the group consisting of colorants, antifoams, leveling agents, slip agents, curing agents, adhesion promoters, wherein the composition of the composition A blend-free negative thermal CTP photosensitive composition characterized by following the following formula.

0.24 ≤ α ≤ 0.380.24 ≤ α ≤ 0.38

0.10 ≤ β ≤ 0.260.10 ≤ β ≤ 0.26

0.05 ≤ γ ≤ 0.150.05 ≤ γ ≤ 0.15

0.03 ≤ δ ≤ 0.070.03 ≤ δ ≤ 0.07

(상기 식에서 α = A/(A+B), β = C/(A+B), γ = D/(A+B+C), δ = E/(A+B+C) 이고, 여기서 A : 친유성 수지 질량, B : 친수성 수지 및 친수/친유성 변환 수지 질량, C : 내쇄력 향상 반응성 수지 질량, D : 적외선 흡수 염료 질량, E : 첨가제 질량임)Wherein α = A / (A + B), β = C / (A + B), γ = D / (A + B + C), δ = E / (A + B + C), where A : Mass of lipophilic resin, B: mass of hydrophilic resin and hydrophilic / lipophilic conversion resin, C: mass resistance of reactive resin, D: mass of infrared absorbing dye, E: mass of additive)

본 발명의 일 실시예에서 상기 친유성 수지는 비스페놀 A형 에폭시, 비스페놀 F형 에폭시, 사이클로알리파틱 에폭시, 노보락 페놀 타입 에폭시, 노볼락 크레졸 타입 에폭시, 크레졸 포름알데하이드 노보락, 크레졸 페놀 포름알데하이드 노보락 으로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 단량체 또는 고분자 수지로 이루어지고, 선택된 수지의 중량평균분자량이 단량체인 경우에는 500 ~ 600, 고분자 수지인 경우에는 6,000 ~ 20,000 이며, 산가가 50 mg KOH/g 이하이다. In one embodiment of the present invention, the lipophilic resin is bisphenol A epoxy, bisphenol F epoxy, cycloaliphatic epoxy, novolak phenol type epoxy, novolak cresol type epoxy, cresol formaldehyde novolak, cresol phenol formaldehyde novo It consists of one or two or more monomers or polymer resins selected from the group consisting of locks, the weight average molecular weight of the selected resin is 500 to 600 for the monomer, 6,000 to 20,000 for the polymer resin, the acid value is 50 mg KOH / g or less

본 발명의 일 실시예에서 상기 친수성 수지는 카르복실산기를 포함한 폴리아크릴산, 폴리메타크릴산, 메틸비닐에테르말레인산 으로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 고분자 수지로 이루어지고, 선택된 수지의 중량평균분자량이 200,000 ~ 1,500,000 이며, 산가가 500 mg KOH/g 이상이다. In one embodiment of the present invention, the hydrophilic resin is composed of one or two or more polymer resins selected from the group consisting of polyacrylic acid, polymethacrylic acid, methylvinyl ether maleic acid including carboxylic acid groups, and the weight average of the selected resin. It has a molecular weight of 200,000 to 1,500,000 and an acid value of 500 mg KOH / g or more.

본 발명의 일 실시예에서 상기 친수/친유성 변환수지는 안하이드라이드기를 포함한 스타일렌말레익안하이드라이드, 메틸비닐에테르말레인안하이드라이드 로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종의 고분자 수지로 이루어지고, 선택된 수지의 중량평균분자량이 200,000 ~ 1,500,000 이며, 산가가 500 mg KOH/g 이상이다. In one embodiment of the present invention, the hydrophilic / lipophilic conversion resin is composed of one or two polymer resins selected from the group consisting of styrene-maleic anhydride and methylvinyl ether maleanhydride including anhydride group, , The weight average molecular weight of the selected resin is 200,000 ~ 1,500,000, the acid value is 500 mg KOH / g or more.

본 발명은 또한 상술한 무현상 네가티브 써멀 CTP 감광성 조성물을 이용한 인쇄방법으로, 상기 방법은 알루미늄 지지체의 친수처리를 위한 전해연마/양극산화 공정를 포함하지 않는 것을 특징으로 하는 무현상 네가티브 써멀 CTP 감광성 조성물을 이용한 인쇄방법을 제공한다. The present invention is also a printing method using the above-described negative thermal CTP photosensitive composition, the method for hydrophilic treatment of an aluminum support It provides a printing method using a no-defect negative thermal CTP photosensitive composition, characterized in that it does not include an electropolishing / anodization process.

본 발명에 따른 무현상 네가티브 써멀 CTP 인쇄용 감광성 조성물은 비화선부의 현상공정이 완전히 생략된 평판 인쇄판의 제판으로서 현상 폐액이 발생하지 않고, 현상하지 않기 때문에 현상 공정에서 발생할 수 있는 망점의 손실이 없다. 또한 인쇄원판 생산시 전해연마와 양극산화 공정을 생략할 수 있으므로, 공정상 경제적이며, 기존 써멀 CTP 세터를 그대로 사용할 수 있고, 광개시제나 디아조화합물을 사용하지 않기 때문에 명실에서 사용해야 하는 제한에서 자유롭다. 더 나아가, 현상 공정에서 배출되는 폐알카리용액이 발생하지 않기 때문에 친환경적이라는 장점이 있다.The photosensitive composition for developing a negative thermal CTP printing according to the present invention is a plate making of a flat printing plate in which the developing process of the non-wire portion is completely omitted, and no developing waste solution is generated and there is no loss of dots that may occur in the developing process. In addition, electrolytic polishing and anodization processes can be omitted in the production of printed discs, which is economical in the process, and existing thermal CTP setters can be used as they are, and since they do not use photoinitiators or diazo compounds, they are free from restrictions that need to be used in clean rooms . Furthermore, there is an advantage that it is eco-friendly because the waste alkali solution discharged from the development process is not generated.

도 1은 본 발명에 따른 친수성 수지의 레이져(열) 노출에 의한 친유성 수지로의 변환을 나타내는 반응식이다.
도 2는 본 발명에 따른 친수/친유성 변환수지의 레이져(열) 노출에 의한 친유성 수지로의 변환 및 비노출시 물 또는 축임물 흡수로 인해 친수성 수지로 변환되는 메카니즘을 설명하는 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 블록 이소시아네이트 합성의 반응식이다.
도 4는 본 발명에 따른 블록화된 이소시아네이트가 특정 조건에서 반응하는 메카니즘을 나타내는 도면이다.
도 5는 종래의 인쇄공정을 설명하는 단계도이다.
1 is a reaction scheme showing conversion of a hydrophilic resin according to the present invention to a lipophilic resin by laser (heat) exposure.
FIG. 2 is a view illustrating a mechanism in which a hydrophilic / lipophilic conversion resin is converted to a lipophilic resin by laser (heat) exposure and water or condensate absorption during non-exposure according to the present invention.
3 is a scheme of block isocyanate synthesis in accordance with one embodiment of the present invention.
4 is a diagram showing the mechanism by which blocked isocyanates according to the invention react under certain conditions.
5 is a step diagram illustrating a conventional printing process.

본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다. In order to fully understand the present invention, operational advantages of the present invention, and objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings and the accompanying drawings which illustrate preferred embodiments of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로서, 본 발명을 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 설명하는 실시예에 한정되는 것이 아니다. 그리고, 본 발명을 명확하게 설명하기 위하여 설명과 관계없는 부분은 생략되며, 도면의 동일한 참조부호는 동일한 부재임을 나타낸다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the preferred embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings. However, the present invention can be implemented in various different forms, and is not limited to the embodiments described. In order to clearly describe the present invention, parts that are not related to the description are omitted, and the same reference numerals in the drawings denote the same members.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라, 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. Throughout the specification, when a part is said to "include" a certain component, it means that it may further include other components, without excluding the other components unless otherwise stated.

본 발명은 상술한 문제를 해결하기 위하여, 친수성 수지, 친유성 수지 및 친수/친유성 변환수지를 동시에 사용한다. 여기에서 친수/친유성 변환수지는 레이저와 같은 열 인가 수단에 의하여 친수성에서 친유성 수지로 변환되는 수지로서, 본 발명은 친수성 수지, 친유성 수지와 함께 친수/친유 변환 수지를 사용함으로써 레이저 조사시 수지 전체의 친수/친유 특성이 상기 친수/친유성 변환 수지의 특성에 의존하게 하였다. 이로써, 비록 친수 또는 친유성 수지가 존재하지만, 전체 인쇄용 조성물의 친수 또는 친유 특성은 상기 친수/친유성 변환 수지의 변환 여부에 따라 결정되게 하였다. The present invention uses a hydrophilic resin, a lipophilic resin and a hydrophilic / lipophilic conversion resin at the same time in order to solve the above problems. Herein, the hydrophilic / lipophilic conversion resin is a resin which is converted from hydrophilic to lipophilic resin by a heat applying means such as a laser, and the present invention uses a hydrophilic / lipophilic conversion resin together with a hydrophilic resin and a lipophilic resin in laser irradiation. The hydrophilic / lipophilic properties of the entire resin depended on the properties of the hydrophilic / lipophilic conversion resin. Thereby, although hydrophilic or lipophilic resins are present, the hydrophilic or lipophilic properties of the entire printing composition have been determined depending on whether or not the hydrophilic / lipophilic conversion resin is converted.

본 명세서에서 친유성 또는 친수성이라는 용어는 상대적인 표현이나, 친유성 수지는 수지내에 친수성 관능기인 카르복실산기를 소량 또는 포함하고 있지 않아야 하며, 산가(Acid value)가 50 mg KOH/g 이하인 수지를 의미한다. 따라서 친유성 수지는 비스페놀 A형 에폭시, 비스페놀 F형 에폭시, 사이클로알리파틱 에폭시, 노보락 페놀 타입 에폭시, 노볼락 크레졸 타입 에폭시, 크레졸 포름알데하이드 노보락, 크레졸 페놀 포름알데하이드 노보락 으로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 단량체 또는 고분자 수지로 이루어지고, 선택된 수지의 중량평균분자량이 단량체인 경우에는 500 ~ 600, 고분자 수지인 경우에는 6,000 ~ 20,000 인 것이 바람직하다.As used herein, the term lipophilic or hydrophilic is a relative expression, but a lipophilic resin should not contain a small amount or a carboxylic acid group that is a hydrophilic functional group in the resin, and means a resin having an acid value of 50 mg KOH / g or less. do. Thus, the lipophilic resin is selected from the group consisting of bisphenol A epoxy, bisphenol F epoxy, cycloaliphatic epoxy, novolak phenol type epoxy, novolac cresol type epoxy, cresol formaldehyde novolak, cresol phenol formaldehyde novolak It consists of a species or 2 or more types of monomers or polymer resins, and when the weight average molecular weight of the selected resin is a monomer, it is preferably 500 to 600, and in the case of a polymer resin, it is preferably 6,000 to 20,000.

반대로, 친수성 수지는 적어도 하나 이상의 카르복실산기를 포함하고 있으며, 산가가 500 mg KOH/g 이상인 수지를 의미한다. 이러한 친수성 수지로는 폴리아크릴산, 폴리메타크릴산, 메틸비닐에테르말레인산 수지가 있다. In contrast, a hydrophilic resin means a resin containing at least one carboxylic acid group and having an acid value of at least 500 mg KOH / g. Such hydrophilic resins include polyacrylic acid, polymethacrylic acid and methylvinyl ether maleic acid resins.

도 1은 본 발명에 따른 친수성 수지의 레이져(열) 노출에 의한 친유성 수지로의 변환을 나타내는 반응식으로서, 도 1은 비화선부에서는 충분한 친수성을 유지하도록 하고, 화선부에서는 촉매 또는 경화제에 의해 친유성으로 변환되는 메카니즘을 설명한다. 1 is a reaction equation showing the conversion of a hydrophilic resin to a lipophilic resin by laser (heat) exposure according to the present invention, Figure 1 is to maintain a sufficient hydrophilicity in the non-fired portion, lipophilic by a catalyst or a curing agent in the fired portion Explain the mechanism that translates to.

도 1을 참조하면, 친수성 수지만을 사용하는 경우, 친수성 수지를 친유성으로 변환시키기 위해서는 많은 에너지가 소모되었다. 따라서 촉매 또는 경화제 등이 필수적으로 수반되어야 하는 문제를 야기시켰다. Referring to FIG. 1, when only hydrophilic resins are used, a lot of energy is consumed in order to convert the hydrophilic resins into lipophilic. Therefore, a catalyst or a curing agent or the like caused a problem that must be accompanied.

본 발명자는 특히 카르복실산기를 포함하는 친수성 수지는 친수 특성이 우수하나, 내쇄력 및 잉크 감도 측면에서는 불리한 문제를 발견하고, 이를 개선하고자, 안하이드라이드(Anhydride)기를 포함하는 친수/친유성 변환 수지를 사용하였다. 본 발명의 일 실시예에서 친수/친유성 변환수지는 물과 함께 비교적 쉽게 카르복실산기로 바뀔 수 있는 안하이드라이드기를 가지고 있어야 하며, 산가가 500 mg KOH/g 이상이어야 한다. 이러한 친수/친유성 변환 수지로는 스타일렌말레익안하이드라이드, 메틸비닐에테르말레인안하이드라이드 수지가 있으며, 본 발명에 따른 친수성 및 친수/친유성 변환수지는 앞에서 언급된 수지로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 고분자 수지로 이루어지고, 선택된 수지의 중량평균분자량이 200,000 ~ 1,500,000 인 것이 바람직하다. 상기 친수/친유성 변환수지는 레이저 등에 의하여 열에 노출되지 않는 경우, 친수성을 유지하나, 열에 노출되는 경우 친유성으로 변환된다. 이는 안하이드라이드가 물과의 반응에 의하여 카르복실산으로 변환되나, 소정이상의 열이 인가됨에 따라 축약반응에 의하여 소수성 기능기로 변환되는 특성에 기인한다. In particular, the present inventors have found that hydrophilic resins containing carboxylic acid groups have excellent hydrophilic properties, but have disadvantageous disadvantages in terms of resistance to scratching and ink sensitivity, and to improve them, hydrophilic / lipophilic conversions including anhydride groups. Resin was used. In one embodiment of the present invention, the hydrophilic / lipophilic conversion resin should have an anhydride group which can be converted into a carboxylic acid group relatively easily with water, and the acid value should be 500 mg KOH / g or more. Such hydrophilic / lipophilic conversion resins include styrene-maleic anhydride and methylvinyl ether maleane-hydride resins. The hydrophilic and hydrophilic / lipophilic conversion resins according to the present invention are selected from the group consisting of the aforementioned resins. It is preferable that the weight average molecular weight of the resin selected from the species or two or more kinds of polymer resins is 200,000 to 1,500,000. The hydrophilic / lipophilic conversion resin maintains hydrophilicity when not exposed to heat by a laser or the like, but converts to lipophilic when exposed to heat. This is due to the property that the anhydride is converted to the carboxylic acid by the reaction with water, but converted to a hydrophobic functional group by the reduction reaction as a predetermined amount of heat is applied.

도 2는 본 발명에 따른 친수/친유성 변환수지의 레이져(열) 노출에 의한 친유성 수지로의 변환 및 비노출시 물 또는 축임물 흡수로 인해 친수성 수지로 변환되는 메카니즘을 설명하는 도면이다.FIG. 2 is a view illustrating a mechanism in which a hydrophilic / lipophilic conversion resin is converted to a lipophilic resin by laser (heat) exposure and water or condensate absorption during non-exposure according to the present invention.

본 발명자는 친수성 수지, 친수/친유성 변환 수지의 질량과 친유성 수지의 질량의 상대적 함량 비율은 하기 식을 따른다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM This inventor follows the following formula for the relative content ratio of the mass of a hydrophilic resin, a hydrophilic / lipophilic conversion resin, and the mass of a lipophilic resin.

0.24 ≤ α ≤ 0.380.24 ≤ α ≤ 0.38

(상기 식에서 α = A/(A+B)이고, 여기에서 A는 친유성 수지 질량이고 B는 친수성 수지 및 친수/친유성 변환 수지 질량임)Where α = A / (A + B), where A is the lipophilic resin mass and B is the hydrophilic resin and the hydrophilic / lipophilic conversion resin mass

만약, 친유성 수지 질량이 상기 수치범위를 초과하는 경우, 비선화부 스커밍 등의 문제가 발생하고, 상기 수치 범위 미만인 경우, 화선부 잉크 감도가 떨어지는 문제가 발생한다. If the lipophilic resin mass exceeds the above-mentioned numerical range, problems such as non-linearity summing and the like occur. If the lipophilic resin mass is below the above-mentioned numerical range, the problem of inferior ink sensitivity of the main line portion occurs.

본 발명에 따른 감광성 조성물은 상술한 수지 이외에 내쇄력 향상 반응성 수지를 포함하며, 상기 내쇄력 향상 반응성 수지는 1) 톨루엔디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 메틸렌디페닐디이소시아네이트 및 이소포론디이소시아네이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 화합물과, 2) 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 트리메티올프로판 및 펜타에리트리톨로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 화합물을 반응시켜 얻은 3 내지 15%정도의 프리이소시아네이트를 페놀, 에틸아세토아세테이트, e-카프로락탐 및 메텔에틸케톡심으로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종이상의 화합물인 블록화제로 이소시아네이트를 블록화시킨 물질인 것이 바람직하다. 여기에서 프리이소시아네이트는 반응성을 같는 이소시아네이트로서 도 4와 같이 감광액의 카르복실기나 에폭시기와 반응하여, 비화선부에서는 내쇄력을 향상시키고 화선부에서는 친유성을 증가시키는 것이 주요 목적이다. 이때, 프리이소시아네이트가 3% 미만이 되면 상기 효과가 미비하게 되고, 15% 이상이 되면, 화선부의 친유성은 더욱 향상되겠으나, 비화선부의 친유성질도 증가하게 되어 스커밍 현상이 발생할 수 있다. 여기에서 %는 전체 고분자 중량에 대한 프리이소시아네이트 기능기(NCO) 중량의 백분율이다. The photosensitive composition according to the present invention includes an anti-friction-improving reactive resin in addition to the above-mentioned resins, and the anti-friction-improving reactive resin comprises 1) toluene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, methylenediphenyl diisocyanate and isophorone diisocyanate. About 3 to 15% obtained by reacting one or two or more compounds selected from the group and 2) one or two or more compounds selected from the group consisting of ethylene glycol, propylene glycol, trimethol propane and pentaerythritol It is preferable that the preisocyanate is a substance in which isocyanate is blocked with a blocking agent, which is one or two or more compounds selected from the group consisting of phenol, ethyl acetoacetate, e-caprolactam, and methethyl ketoxime. Here, the pre-isocyanate is an isocyanate having the same reactivity, and the main purpose is to react with the carboxyl group or the epoxy group of the photosensitive liquid, as shown in FIG. At this time, when the isocyanate is less than 3%, the above effect is insignificant, and when the amount of the preisocyanate is 15% or more, the lipophilic portion of the caustic portion may be further improved, but the lipophilic quality of the non-caustic portion may also increase, thereby causing a scumming phenomenon. Where% is the percentage of preisocyanate functional group (NCO) weight relative to the total polymer weight.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 블록 이소시아네이트 합성의 반응식이다. 3 is a scheme of block isocyanate synthesis in accordance with one embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 양 끝단에 프리이소시아네이트기를 함유한 수지를 페놀, 에틸아세토아세테이트, e-카프로락탐 및 메텔에틸케톡심 등의 블록제와 반응시켜, 반응성의 이소시아네이트기를 (-NHCOO-R')로 블록화시켰음을 알 수 있다. 이로써 상온에서 프리이소시아네이트가 가지는 반응성을 억제하여, 감광성 조성물의 저장 안정성을 확보하고, 또한, 특정온도에서 반응성을 갖게 하여, 반응을 통한 비화선부의 내쇄력 향상과 화선부의 친유성질의 향상을 유도한다. Referring to FIG. 3, a resin containing a pre-isocyanate group at both ends is reacted with a blocking agent such as phenol, ethyl acetoacetate, e-caprolactam, and metelethyl ketoxime to react a reactive isocyanate group (-NHCOO-R '). It can be seen that it is blocked. This suppresses the reactivity of the pre-isocyanate at room temperature, ensures the storage stability of the photosensitive composition, and also makes the reactivity at a specific temperature, leading to the improvement of the anti-friction resistance of the non-activated portion and the lipophilic portion of the active substance through the reaction. .

도 4는 본 발명에 따른 블록화된 이소시아네이트가 특정 조건에서 반응하는 메카니즘을 나타내는 도면이다.4 is a diagram showing the mechanism by which blocked isocyanates according to the invention react under certain conditions.

도 4를 참조하면, 특정온도에서 블록이소시아네이트로부터 블록화제(R'-OH)는 분리되며, 이후 분리된 프리이소시아네이트와 친수성수지의 카르복실기, 친유성 수지의 에폭시기, 경화제 반응기 등과 반응을 진행하게 되며, 이때 화선부는 친유성이 더해지고, 비화선부는 내쇄력이 향상된다. 4, the blocking agent (R'-OH) is separated from the block isocyanate at a specific temperature, and then reacted with the separated preisocyanate and the carboxyl group of the hydrophilic resin, the epoxy group of the lipophilic resin, the curing agent reactor, and the like. At this time, the fire wire portion is added to the lipophilic, the non-fire line portion is improved in abrasion resistance.

본 발명의 일 실시예에서 상기 내쇄력 향상 반응성 수지의 배합량은 하기 식을 따른다. In one embodiment of the present invention, the blending amount of the anti-friction improving reactive resin follows the following formula.

0.10 ≤ β ≤ 0.260.10 ≤ β ≤ 0.26

상기 식에서 β = C/(A+B)이고, 여기에서 A : 친유성 수지 질량, B : 친수성 수지 및 친수/친유성 변환 수지 질량이고, C : 내쇄력 향상 반응성 수지 질량이다. Β = C / (A + B) in the above formula, where A is a lipophilic resin mass, B is a hydrophilic resin and a hydrophilic / lipophilic conversion resin mass, and C is an anti-friction improving reactive resin mass.

만약 β가 상기 수치범위를 초과하는 경우, 비화선부에서 스커밍 등의 문제가 발생하고, 상기 수치범위 미만인 경우, 내쇄력 향상을 기대하기 어렵다. If β exceeds the numerical range, problems such as scumming and the like occur in the non-wire portion, and if it is less than the numerical range, it is difficult to expect improvement in the breaking force.

본 발명에 따른 내쇄성이 향상된 무현상 네가티브 써멀 CTP 인쇄원판 감광성 조성물은 조사되는 레이저 빔 중에서 파장 700~1,200㎚ 영역의 적외선을 흡수하여 발열 현상이 일어나며, 이에 따라 사용된 친수/친유성 변환 수지를 친수성에서 친유성으로 변환시키고, 친유성 수지의 가교 밀도를 높여, 화선부의 친유성 성질을 높이는 적외선 흡수 염료를 포함한다. 따라서, 본 발명에 따른 적외선 흡수 염료는 700~1,200㎚의 적외선 영역에서 광 흡수성이 있는 안료 또는 염료가 바람직하며, 인돌(Indole)계, 시아닌(Cyanine)계, 프탈로시아닌(Phthalocyanine)계 염료가 이에 해당한다. 시판중인 적외선 흡수 염료로는 시그마-알드리치(Sigma-Aldrich)사의 IR-140, IR-746, IR-768 perchlorate, IR-755 chloride, IR-780 iodide, IR-780 perchlorate, IR-783, IR-786 perchlorate, IR-786, IR-792 perchlorate, IR-797 chloride, IR-797 perchlorate, IR-806, IR-813 chloride, IR-813 perchlorate, IR-820 과 FEW사의 S0094, ADS사의 830AT, 830WS 및 PCAS사의 IR-22B, IR-23B 등이 있다. The non-developed negative thermal CTP printed disc photosensitive composition according to the present invention absorbs infrared rays in the wavelength range of 700 to 1,200 nm in the irradiated laser beam to generate an exothermic phenomenon, and thus uses the hydrophilic / lipophilic conversion resin used. Infrared absorption dye which converts from hydrophilic to lipophilic, raises the crosslinking density of a lipophilic resin, and raises the lipophilic property of a caustic part. Therefore, the infrared absorbing dye according to the present invention is preferably a pigment or a dye having light absorption in the infrared region of 700 ~ 1,200nm, Indole-based, Cyanine-based, Phthalocyanine-based dyes do. Commercially available infrared absorbing dyes include IR-140, IR-746, IR-768 perchlorate, IR-755 chloride, IR-780 iodide, IR-780 perchlorate, IR-783, IR- from Sigma-Aldrich. 786 perchlorate, IR-786, IR-792 perchlorate, IR-797 chloride, IR-797 perchlorate, IR-806, IR-813 chloride, IR-813 perchlorate, IR-820 and FEW S0094, ADS 830AT, 830WS and PCAS IR-22B and IR-23B.

상기 적외선 흡수 염료의 배합비는 하기 식을 따른다. The compounding ratio of the said infrared absorbing dye follows the following formula.

0.05 ≤ γ ≤ 0.150.05 ≤ γ ≤ 0.15

(상기 식에서 γ = D/(A+B+C)이고, A : 친유성 수지 질량, B : 친수성 수지 및 친수/친유성 변환 수지 질량, C : 내쇄력 향상 반응성 수지 질량이고, D : 적외선 흡수 염료 배합량임)(Wherein γ = D / (A + B + C), A: lipophilic resin mass, B: hydrophilic resin and hydrophilic / lipophilic conversion resin mass, C: anti-friction improvement reactive resin mass, D: infrared absorption Dye amount)

만약 적외선 흡수 염료가 상기 수치범위 미만인 경우, 충분한 친수/친유성 변환 수지의 변환에 따른 화선부의 친유화를 기대하기 어렵고, 상기 수치범위를 초과할 경우에는 화선부의 친유화에는 더 유리하겠으나, 적외선 흡수 염료가 매우 고가인 점을 감안할 때, 경제성을 확보하기 어렵다.If the infrared absorbing dye is less than the above numerical range, it is difficult to expect the lipophilic of the caustic portion due to the conversion of sufficient hydrophilic / lipophilic conversion resin, and if it exceeds the above numerical range, it is more advantageous for the lipophilic of the caustic portion, but infrared absorption Given that dyes are very expensive, it is difficult to secure economic feasibility.

본 발명에 따른 감과성 조성물은 착색제, 소포제, 레벨링(leveling)제, 슬립제, 경화제, 부착 촉진 증진제 등에서 1종 이상 선택될 수 있는 첨가제를 포함할 수 있으며, 그 사용량은 보통 원액대비 5 내지 10 중량% 가 적당하며, 바람직하게는 아래식에 따라 그 배합비가 정해져야 한다.The sensitizing composition according to the present invention may include an additive which may be selected from one or more of a colorant, an antifoaming agent, a leveling agent, a slipping agent, a curing agent, an adhesion promoter, and the like, and the amount thereof is usually 5 to 10 relative to the stock solution. The weight% is suitable, and preferably the compounding ratio should be determined according to the following formula.

0.03 ≤ δ ≤ 0.070.03 ≤ δ ≤ 0.07

(상기 식에서 δ = E/(A+B+C)이고, A : 친유성 수지 질량, B : 친수성 수지 및 친수/친유성 변환 수지 질량, C : 내쇄력 향상 반응성 수지 질량이고, E : 첨가제 질량임)(Wherein δ = E / (A + B + C), A: lipophilic resin mass, B: hydrophilic resin and hydrophilic / lipophilic conversion resin mass, C: anti-friction improvement reactive resin mass, E: additive mass being)

이하 실시예 및 도면을 참조하여 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 다음에 소개되는 실시예는 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되는 것이다. 따라서 본 발명의 권리범위가 이에 한정되지는 아니한다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and drawings. The following embodiments are provided by way of example so that those skilled in the art can fully understand the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited thereto.

실시예Example

본 발명에 따른 감광성 조성물의 성능을 확인하기 위한 시험용 무현상 네가티브 써멀 CTP 인쇄원판 제작 및 시험 과정은 다음과 같다.The test-free negative thermal CTP printed disc fabrication and test procedure for confirming the performance of the photosensitive composition according to the present invention are as follows.

먼저, 순도 99.5%, 두께 0.3mm의 알루미늄 원판을 알칼리 탈지 후, 하기 표 1의 감광성 조성물을 도포/건조하여 제작하였다. 제작된 인쇄원판은 크레오사의 Trendsetter 800(써멀 CTP 세터)를 사용하여 화선부 이미지를 형성하였다. First, an aluminum disc having a purity of 99.5% and a thickness of 0.3 mm was alkali degreased and then prepared by applying / drying the photosensitive composition of Table 1 below. The fabricated printed disc was used to form a line image using Creo's Trendsetter 800 (thermal CTP setter).

실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 비교예3Comparative Example 3 비교예4Comparative Example 4 수지Suzy 친유성 수지Lipophilic resin 2626 1717 2626 3535 99 5252 99 친수성 수지 및
친수/친유 변환 수지
Hydrophilic resins and
Hydrophilic / lipophilic conversion resin
5252 5252 4343 5252 5252 1717 6060
내쇄력 향상
반응성 수지
Improved Immunity
Reactive resin
99 1818 1818 00 2626 1818 1818
적외선 흡수 염료Infrared absorbing dye 99 99 99 99 99 99 99 첨가제additive 44 44 44 44 44 44 44 배합
parameter
combination
parameter
αalpha 0.330.33 0.250.25 0.380.38 0.400.40 0.150.15 0.750.75 0.130.13
ββ 0.120.12 0.260.26 0.260.26 0.000.00 0.430.43 0.260.26 0.260.26 γγ 0.100.10 0.100.10 0.100.10 0.100.10 0.100.10 0.100.10 0.100.10 δδ 0.050.05 0.050.05 0.050.05 0.050.05 0.050.05 0.050.05 0.050.05

실험예Experimental Example

이미지가 형성된 인쇄판에 이소프로판올 10 중량%가 혼합된 수용액을 축임물로 사용하고, 인쇄테스트를 진행하여, 화선부 잉크 감도와 비화선부 스커밍 현상을 확인하였다. 인쇄판에 부착된 감광층의 내쇄력 측정은 인쇄판을 20℃의 축임물에 침지시킨 다음, 순면으로 감싸여진 약 500g의 추가 달린 막대기를 침지된 인쇄판에 올려놓고 15회 왕복하여 문지른다. 10분 단위로 측정을 반복하여, 감광층이 벗겨지기 시작하는 시간을 기록하고 결과를 [표 2]에 나타내었다.
An aqueous solution in which 10% by weight of isopropanol was mixed as a condensate was used as a condensate on the printed plate on which the image was formed, and the ink sensitivity of the wire part and the non-firing part scum phenomenon were confirmed. The measurement of the printing resistance of the photosensitive layer attached to the printing plate is immersed in the condensate at 20 ° C., then about 500g of additional rods covered with pure cotton are placed on the immersed printing plate and rubbed 15 times. The measurement was repeated in units of 10 minutes to record the time at which the photosensitive layer began to peel off and the results are shown in [Table 2].

실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 비교예3Comparative Example 3 비교예4Comparative Example 4 화선부 잉크 감도Caustic ink sensitivity 비화선부 스커밍Non-fireline Summing XX 내쇄력Strength 60분60 minutes 120분120 minutes 140분140 minutes 10분10 minutes 40분40 minutes 100분100 minutes 20분20 minutes

◎ : 좋음, ○ : 보통, △ : 미달, X : 나쁨◎: Good, ○: Normal, △: Less than, X: Bad

상기 표 2의 결과를 참조하면, 본 발명에 따른 감광성 조성물을 이용하는 경우, 화선부 잉크 감도, 비화선부 스커밍 개선, 내쇄력 등에 있어서, 개선 효과가 모두 발생하는 점을 알 수 있다. Referring to the results of Table 2, when using the photosensitive composition according to the present invention, it can be seen that all the improvement effect occurs in the line portion ink sensitivity, non-line portion scum improvement, the printing resistance.

기존 인쇄판의 생산공정은 아래의 도 5와 같은 19단계의 공정을 거쳐 생산된다. 하지만, 본 발명에 따른 감광성 조성물을 포함하는 인쇄판은 감광층이 인쇄에 적합한 부착력과 친수성을 갖추고 있어 비화선부의 현상공정이 필요치 않으므로, 균일한 표면과 표면적을 증가시키며, 이에 따라 보수성과 불감지화 처리 효과를 높여 감광액과 알루미늄 지지체의 접착력을 증진시키기 위한 전해연마 공정, 연마 후 알루미늄 산화피막을 만들어 지지체의 강도 향상 및 친수층을 만들어 주는 양극산화 공정을 축소 또는 생략할 수 있다. 그에 따라 본 발명의 인쇄판 생산 공정은 도 5에서 점선 블록에 포함된 공정을 생략하여 전체 인쇄 공정을 10단계로 감소시킬 수 있다. 따라서 기존 생산 공정과 비교하면 생산 설비비와 전기 사용량을 50%이상 줄일 수 있으며, 생산 속도 또한 기존 생산공정 대비 2배 이상 향상 시킬 수 있다. 또한 전해연마와 양극산화 공정을 축소 또는 생략할 수 있어, 연마하기 쉬운 고가의 고순도 알루미늄을 사용하지 않아도 된다. 다시 말해, 합성수지 판재나 다른 금속 재료도 적용이 가능하다는 것이다. 이는 종래에 비해 원가절감 효과가 상당하다는 것을 나타낸다. The production process of the existing printing plate is produced through a 19 step process as shown in FIG. However, the printing plate including the photosensitive composition according to the present invention does not require the developing process of the non-wire portion because the photosensitive layer has an adhesive force and hydrophilicity suitable for printing, thereby increasing the uniform surface and surface area, and thus maintainability and non-sensitization treatment. The electrolytic polishing process for enhancing the adhesion between the photoresist and the aluminum support by enhancing the effect, and the anodizing process for improving the strength of the support and making the hydrophilic layer by making the aluminum oxide film after polishing can be reduced or omitted. Accordingly, the printing plate production process of the present invention can reduce the entire printing process to 10 steps by omitting the process included in the dotted line block in FIG. Therefore, compared with the existing production process, the production equipment cost and electricity consumption can be reduced by more than 50%, and the production speed can also be more than doubled compared with the existing production process. In addition, the electropolishing and anodization processes can be reduced or omitted, eliminating the need for expensive, high-purity aluminum that is easy to polish. In other words, it is also possible to apply synthetic resin plates or other metallic materials. This indicates that the cost reduction effect is significant compared with the prior art.

특히, 최근 세계 인쇄시장에서 인쇄원판의 높은 가격으로 인하여 저렴하고 안정적이며, 친환경적인 인쇄원판의 수요가 꾸준히 증가하고 있는데, 본 발명은 이러한 여건에 부합하여, 현상공정의 생략으로 폐액이 발생하지 않아 친환경적이며 폐액 처리를 위한 설비와 비용이 불필요하고, 기존 써멀 CTP 세터 장비를 그대로 사용할 수 있으며, 가격이 저렴한 인쇄원판을 생산할 수 있게 한다.In particular, the demand for cheap, stable, and environmentally friendly printing discs is steadily increasing due to the high price of printing discs in the global printing market. In accordance with the present invention, waste liquid does not occur due to the omission of the developing process. It is eco-friendly and requires no facilities and costs for waste treatment, and can use existing thermal CTP setter equipment as it is, and can produce inexpensive printing discs.

Claims (8)

무현상 네가티브 써멀 CTP 감광성 조성물로서, 상기 조성물은
친유성 수지, 친수성 수지 및 친수/친유성 변환수지를 포함하며, 여기에서 상기 친수/친유성 변환수지는 조사되는 빛 에너지에 의하여 친수성에서 친유성으로 변환되는 것을 특징으로 하는 무현상 네가티브 써멀 CTP 감광성 조성물.
A no-degradation negative thermal CTP photosensitive composition, wherein the composition is
A lipophilic resin, a hydrophilic resin and a hydrophilic / lipophilic conversion resin, wherein the hydrophilic / lipophilic conversion resin is characterized by a light-free negative thermal CTP photosensitive, characterized in that the conversion from hydrophilic to lipophilic by irradiated light energy. Composition.
제 1항에 있어서,
상기 조성물은 적외선 흡수염료를 더 포함하며, 상기 적외선 흡수 염료는 상기 조사되는 빛 에너지를 흡수, 열을 발생시키고, 상기 발생한 열에 따라 상기 친수/친유성 변환수지는 친수성에서 친유성으로 변환되는 것을 특징으로 하는 무현상 네가티브 써멀 CTP 감광성 조성물.
The method of claim 1,
The composition further includes an infrared absorbing dye, wherein the infrared absorbing dye absorbs the irradiated light energy and generates heat, and the hydrophilic / lipophilic conversion resin is converted from hydrophilic to lipophilic according to the generated heat. No-development negative thermal CTP photosensitive composition.
제 2항에 있어서,
상기 조성물은 내쇄력 향상 반응성 수지를 더 포함하며, 여기에서 상기 내쇄력 향상 반응성 수지는 톨루엔디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 메틸렌디페닐디이소시아네이트 및 이소포론디이소시아네이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 화합물과, 2) 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 트리메티올프로판 및 펜타에리트리톨로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종이상의 화합물을 반응시켜 얻은 3 내지 15%의 프리이소시아네이트를 페놀, 에틸아세토아세테이트, e-카프로락탐 및 메텔에틸케톡심으로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종이상의 화합물로 블록화시킨 화합물인 것을 특징으로 하는 무현상 네가티브 써멀 CTP 감광성 조성물.
The method of claim 2,
The composition further comprises an anti-friction improving reactive resin, wherein the anti-friction improving reactive resin is one or two selected from the group consisting of toluene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, methylenediphenyl diisocyanate and isophorone diisocyanate 2 to 15% of the preisocyanate obtained by reacting at least one compound with 2 or more compounds selected from the group consisting of 2) ethylene glycol, propylene glycol, trimethol propane and pentaerythritol; and phenol and ethyl acetoacetate. , N-negative thermal CTP photosensitive composition, characterized in that the compound blocked by one or two or more compounds selected from the group consisting of e-caprolactam and methyl ethyl ketoxim.
제 3항에 있어서,
상기 조성물은 착색제, 소포제, 레벨링(leveling)제, 슬립제, 경화제, 부착 촉진 증진제로 이루어진 군에서 선택될 수 있는 1종 이상의 첨가제를 더 포함하며, 여기에서 상기 조성물의 배합비는 하기 식을 따르는 것을 특징으로 하는 무현상 네가티브 써멀 CTP 감광성 조성물.
0.24 ≤ α ≤ 0.38
0.10 ≤ β ≤ 0.26
0.05 ≤ γ ≤ 0.15
0.03 ≤ δ ≤ 0.07
(상기 식에서 α = A/(A+B), β = C/(A+B), γ = D/(A+B+C), δ = E/(A+B+C) 이고, 여기서 A : 친유성 수지 질량, B : 친수성 수지 및 친수/친유성 변환 수지 질량, C : 내쇄력 향상 반응성 수지 질량, D : 적외선 흡수 염료 질량, E : 첨가제 질량임)
The method of claim 3, wherein
The composition further comprises one or more additives that may be selected from the group consisting of colorants, antifoams, leveling agents, slip agents, curing agents, adhesion promoters, wherein the blending ratio of the composition is according to the following formula: A non-developing negative thermal CTP photosensitive composition.
0.24 ≤ α ≤ 0.38
0.10 ≤ β ≤ 0.26
0.05 ≤ γ ≤ 0.15
0.03 ≤ δ ≤ 0.07
Wherein α = A / (A + B), β = C / (A + B), γ = D / (A + B + C), δ = E / (A + B + C), where A : Mass of lipophilic resin, B: mass of hydrophilic resin and hydrophilic / lipophilic conversion resin, C: mass resistance of reactive resin, D: mass of infrared absorbing dye, E: mass of additive)
제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 친유성 수지는 비스페놀 A형 에폭시, 비스페놀 F형 에폭시, 사이클로알리파틱 에폭시, 노보락 페놀 타입 에폭시, 노볼락 크레졸 타입 에폭시, 크레졸 포름알데하이드 노보락, 크레졸 페놀 포름알데하이드 노보락으로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 단량체 또는 고분자 수지로 이루어지고, 선택된 수지의 중량평균분자량이 단량체인 경우에는 500 ~ 600, 고분자 수지인 경우에는 6,000 ~ 20,000 이며, 산가가 50 mg KOH/g 이하인 것을 특징으로 하는 무현상 네가티브 써멀 CTP 감광성 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 4,
The lipophilic resin is selected from the group consisting of bisphenol A epoxy, bisphenol F epoxy, cycloaliphatic epoxy, novolak phenol type epoxy, novolak cresol type epoxy, cresol formaldehyde novolak, cresol phenol formaldehyde novolak It consists of a species or two or more monomers or polymer resins, the weight average molecular weight of the selected resin is 500 to 600 when the monomer, 6,000 to 20,000 when the polymer resin, the acid value is 50 mg KOH / g or less No development negative thermal CTP photosensitive composition.
제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 친수성 수지는 카르복실산기를 포함한 폴리아크릴산, 폴리메타크릴산, 메틸비닐에테르말레인산으로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 고분자 수지로 이루어지고, 선택된 수지의 중량평균분자량이 200,000 ~ 1,500,000 이며, 산가가 500 mg KOH/g 이상인 것을 특징으로 하는 무현상 네가티브 써멀 CTP 감광성 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 4,
The hydrophilic resin is composed of one or two or more polymer resins selected from the group consisting of polyacrylic acid, polymethacrylic acid, methylvinyl ether maleic acid including a carboxylic acid group, the weight average molecular weight of the selected resin is 200,000 ~ 1,500,000, An undeveloped negative thermal CTP photosensitive composition, characterized by an acid value of at least 500 mg KOH / g.
제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 친수/친유성 변환수지는 안하이드라이드기를 포함한 스타일렌말레익안하이드라이드, 메틸비닐에테르말레인안하이드라이드 로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종의 고분자 수지로 이루어지고, 선택된 수지의 중량평균분자량이 200,000 ~ 1,500,000 이며, 산가가 500 mg KOH/g 이상인 것을 특징으로 하는 무현상 네가티브 써멀 CTP 감광성 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 4,
The hydrophilic / lipophilic conversion resin is composed of one or two polymer resins selected from the group consisting of styrene-maleic anhydride and methyl vinyl ether maleanhydride including anhydride group, and the weight average molecular weight of the selected resin. The non-developing negative thermal CTP photosensitive composition, which is 200,000 to 1,500,000 and has an acid value of 500 mg KOH / g or more.
제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 따른 무현상 네가티브 써멀 CTP 감광성 조성물을 이용한 인쇄방법으로, 상기 방법은 알루미늄 지지체의 친수처리를 위한 전해연마/양극산화 공정를 포함하지 않는 것을 특징으로 하는 무현상 네가티브 써멀 CTP 감광성 조성물을 이용한 인쇄방법.The printing method using the no-defect negative thermal CTP photosensitive composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the method is for hydrophilic treatment of an aluminum support. A printing method using a non-developing negative thermal CTP photosensitive composition, characterized in that it does not include an electropolishing / anodic oxidation process.
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