KR20120087665A - Semiconductor memory apparatus - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A semiconductor memory device is provided to reduce an area of a semiconductor chip by reducing areas of a sub hole and a sub word line driver. CONSTITUTION: A plurality of mats(MAT(A),MAT(B)) include a plurality of memory cells. A plurality of bit line sense amplifiers amplify memory cell data. A plurality of sub word line drivers are arranged in a column direction of each mat and selects a sub word line connected to a gate of a memory cell transistor comprising each mat. A plurality of sub holes(S/H(A),S/H(B)) includes a switching device which is arranged in an intersection of a plurality of bit line sense amplifiers and the plurality of the sub word line drivers and switches a segment input and output line connected to the bit line sense amplifier.

Description

반도체 메모리 장치{SEMICONDUCTOR MEMORY APPARATUS}Semiconductor memory device {SEMICONDUCTOR MEMORY APPARATUS}

본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 웨이퍼당 반도체 칩 개수를 증가시킬 수 있는 반도체 메모리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a semiconductor memory device capable of increasing the number of semiconductor chips per wafer.

일반적으로 반도체 메모리 장치는 복수의 메모리 셀들 및 이들을 제어하기 위한 회로로 구성된다. 이러한 일반적인 반도체 메모리 장치의 복수의 메모리 셀들이 배열되는 구조를 살펴보면 다음 도 1과 같다.In general, a semiconductor memory device is composed of a plurality of memory cells and a circuit for controlling them. A structure in which a plurality of memory cells of such a general semiconductor memory device are arranged will be described with reference to FIG. 1.

도 1은 일반적인 반도체 메모리 장치의 셀 배열 구조를 나타내는 도면이다.1 is a diagram illustrating a cell array structure of a general semiconductor memory device.

도 1을 참조하면, 일반적인 반도체 메모리 장치는 복수의 매트(MAT)를 포함하고, 각 매트(MAT)의 로우 방향으로 배치되어 셀 데이터를 증폭하는 복수의 비트 라인 센스 앰프(BLSA)와 각 매트(MAT)의 컬럼 방향으로 셀 트랜지스터(미도시)의 게이트에 연결된 서브 워드 라인(미도시)을 드라이브하는 복수의 서브 워드 라인 드라이버(SWD)가 배치된다.Referring to FIG. 1, a general semiconductor memory device includes a plurality of mats MATs, a plurality of bit line sense amplifiers BLSA and a plurality of mats disposed in a row direction of each mat MAT to amplify cell data. A plurality of sub word line drivers SWD for driving a sub word line (not shown) connected to a gate of a cell transistor (not shown) are disposed in the column direction of the MAT.

또한, 비트 라인 센스 앰프(BLSA)와 서브 워드 라인 드라이버(SWD)가 만나는 교차지역, 즉, 서브 홀(S/H)에는 비트 라인 센스 앰프(BLSA)와 연결되는 세그먼트 입출력 라인(SIO, 미도시)을 스위칭할 수 있는 스위치 소자가 배치된다.In addition, a segment input / output line SIO (not shown) connected to the bit line sense amplifier BLSA is formed at an intersection area where the bit line sense amplifier BLSA and the sub word line driver SWD meet, that is, the sub hole S / H. The switch element which can switch) is arrange | positioned.

그러나, 최근 반도체 메모리 장치의 집적도가 증대됨에 따라, 데이터 입출력 라인의 수가 기하급수적으로 증대되는 추세이다. 예컨대, DDR2 장치의 경우, 2 내지 8개의 데이터 입출력 라인이 필요한 반면 DDR3 장치의 경우, 8 내지 16개의 데이터 입출력 라인이 필요하다. 이와 같이, 데이터 입출력 라인의 수가 증대되면 데이터 입출력 라인이 배치되는 영역의 면적 역시 그 수에 비례하여 증대된다. 이에 따라 데이터 입출력 라인 수에 의해 그 면적이 결정되는 서브 워드라인 드라이버(SWD) 영역의 면적도 증대되어 웨이퍼당 반도체 칩 개수를 늘리는 데에는 한계가 있다.However, with the recent increase in the degree of integration of semiconductor memory devices, the number of data input / output lines has increased exponentially. For example, DDR2 devices require two to eight data input / output lines, while DDR3 devices require eight to sixteen data input / output lines. As such, when the number of data input / output lines is increased, the area of the area where the data input / output lines are arranged also increases in proportion to the number. Accordingly, the area of the sub word line driver (SWD) area whose area is determined by the number of data input / output lines is also increased, and there is a limit in increasing the number of semiconductor chips per wafer.

본 발명이 해결하려는 과제는 반도체 셀 배열 구조를 변경하여 반도체 칩 면적을 감소시킴으로써 웨이퍼 당 반도체 칩 개수를 늘릴 수 있도록 하는 반도체 메모리 장치를 제공하려는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of increasing the number of semiconductor chips per wafer by changing the semiconductor cell array structure to reduce the semiconductor chip area.

본 발명에 따른 반도체 메모리 장치는 복수의 메모리 셀을 포함하는 복수의 매트와, 상기 각 매트의 로우 방향으로 배치되어 상기 각 매트를 이루는 메모리 셀 데이터를 증폭하는 복수의 비트 라인 센스 앰프와, 상기 각 매트의 컬럼 방향으로 배치되어 상기 각 매트를 이루는 메모리 셀 트랜지스터 게이트에 연결된 서브 워드 라인을 선택하기 위한 복수의 서브 워드 라인 드라이버 및 상기 복수의 비트 라인 센스 앰프와 상기 복수의 서브 워드 라인 드라이버가 교차하는 영역에 배치되어 상기 비트 라인 센스 앰프와 연결된 세그먼트 입출력 라인을 스위칭하는 스위칭 소자를 구비하는 복수의 서브 홀을 포함하되, 상기 복수의 매트 중 어느 하나의 매트와 상기 어느 하나의 매트와 인접하게 배치된 또다른 매트는 서로 접하여 배열되는 것을 특징으로 한다.A semiconductor memory device according to the present invention includes a plurality of mats including a plurality of memory cells, a plurality of bit line sense amplifiers arranged in a row direction of each mat to amplify memory cell data constituting the mats, A plurality of sub word line drivers and a plurality of bit line sense amplifiers and the plurality of sub word line drivers for selecting sub word lines arranged in the column direction of the mat and connected to the memory cell transistor gates forming the mats; A plurality of sub-holes disposed in an area and having a switching element for switching a segment input / output line connected to the bit line sense amplifier, wherein the plurality of sub-holes are disposed adjacent to one of the mats and the one of the mats; Another mat is arranged in contact with each other All.

본 발명에 따른 반도체 메모리 장치는 복수의 매트 중 인접한 두 개의 매트 사이에 배치되었던 서브 워드 라인 드라이버와 서브 홀의 면적을 감소시킴으로써 반도체 칩의 면적을 줄일 수 있게 된다.The semiconductor memory device according to the present invention can reduce the area of the semiconductor chip by reducing the area of the sub word line driver and the sub holes that are disposed between two adjacent mats among the plurality of mats.

이에 따라, 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치는 웨이퍼당 반도체 칩의 개수를 늘릴 수 있어 원가 경쟁력을 향상시킬 수 있게 된다.Accordingly, the semiconductor memory device according to the present invention can increase the number of semiconductor chips per wafer, thereby improving the cost competitiveness.

도 1은 일반적인 반도체 메모리 장치의 셀 배열 구조를 나타내는 도면, 및
도 2 내지 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 셀 배열 구조를 나타내는 도면이다.
1 is a diagram illustrating a cell array structure of a general semiconductor memory device; and
2 to 4 are diagrams illustrating a cell array structure of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예를 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명의 일실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 일실시예로 인하여 한정되는 식으로 해석되어서는 안된다. 본 발명의 일실시예는 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 쉽게 설명하기 위해 제공되는 것이다.Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, one embodiment of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited due to the embodiments described below. One embodiment of the present invention is provided to more easily explain the present invention to those skilled in the art.

도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 셀 배열 구조를 나타내는 도면이다.2 is a diagram illustrating a cell array structure of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 메모리 장치는 복수의 매트(MAT(A), MAT(B))를 포함한다. 이때, 매트(MAT)는, 알려진 바와 같이, 복수의 메모리 셀들(미도시)로 구성될 수 있으며, 복수의 메모리 셀들을 선택하기 위한 복수의 서브 워드 라인(SWL)이 일정 간격을 가지고 매트(MAT)의 로우 방향으로 연장된다.2, a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention includes a plurality of mats MAT (A) and MAT (B). At this time, the mat MAT may be composed of a plurality of memory cells (not shown), and the plurality of sub word lines SWL for selecting the plurality of memory cells are spaced apart from each other at a predetermined interval. Extend in the row direction.

또한, 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 메모리 장치는 각 매트(MAT(A), MAT(B))의 로우 방향 또는 서브 워드 라인(SWL)과 평행하는 양측 가장자리에 배치되어 메모리 셀 데이터를 증폭하는 복수의 비트 라인 센스 앰프(BLSA(A), BLSA(A'), BLSA(B), BLSA(B'))와, 각 매트(MAT(A), MAT(B))의 컬럼 방향 또는 서브 워드 라인(SWL)과 수직을 이루는 양측 가장자리에 메모리 셀 트랜지스터(미도시)의 게이트에 연결된 서브 워드 라인(SWL)을 선택하기 위한 복수의 서브 워드 라인 드라이버(SWD(A), SWD(B)) 및 상기 복수의 비트 라인 센스 앰프(BLSA(A), BLSA(A'), BLSA(B), BLSA(B'))와 상기 복수의 서브 워드 라인 드라이버(SWD(A), SWD(B))가 교차되는 영역에 서브 홀(S/H(A), S/H(A'), S/H(B), S/H(B'))이 배치된다. 이때, 복수의 매트(MAT(A), MAT(B)) 중 어느 하나의 매트(MAT(A), 이하, '제1매트'라 함)와 제1매트(MAT(A))와 인접하게 배치된 또다른 매트(MAT(B), 이하, '제2매트'라 함)는 서로 접하여 배치된다. 즉, 종래 제1매트(MAT(A))와 제2매트(MAT(B)) 사이에 배치된 비트 라인 센스 앰프(BLSA)과 세그먼트 입출력 라인을 스위칭하기 위한 스위치 소자(SW)를 포함하는 서브 홀(S/H)이 배치되지 않는다.In addition, the semiconductor memory device according to the embodiment of the present invention is disposed at both edges parallel to the row direction of each mat MAT (A) and MAT (B) or parallel to the sub word line SWL to amplify the memory cell data. A plurality of bit line sense amplifiers (BLSA (A), BLSA (A '), BLSA (B), BLSA (B')), and the column directions or subs of each mat (MAT (A), MAT (B)). A plurality of sub word line drivers SWD (A) and SWD (B) for selecting a sub word line SWL connected to a gate of a memory cell transistor (not shown) at both edges perpendicular to the word line SWL. And the plurality of bit line sense amplifiers BLSA (A), BLSA (A '), BLSA (B), BLSA (B') and the plurality of sub word line drivers SWD (A) and SWD (B). Sub-holes S / H (A), S / H (A '), S / H (B), and S / H (B') are arranged in the region where is crossed. In this case, one of the mats MAT (A) and MAT (B) is adjacent to the mat MAT (A), hereinafter referred to as “first mat” and the first mat MAT (A). The other mats (MAT (B), hereinafter referred to as 'second mats') are disposed in contact with each other. That is, the sub includes a bit line sense amplifier BLSA disposed between the first mat MAT (A) and the second mat MAT (B) and a switch element SW for switching segment input / output lines. The hole S / H is not arranged.

이에 따라, 본 발명의 일실시예에서 제1매트(MAT(A))과 제2매트(MAT(B))에 배치되는 서브 워드 라인(SWL)은 각 서브 워드 라인 드라이버(SWD), 즉, 제1서브 워드 라인 드라이버(SWD(A))와 제2서브 워드 라인 드라이버(SWD(B))에 의해 선택된다.Accordingly, in one embodiment of the present invention, the sub word lines SWL disposed on the first mat MAT (A) and the second mat MAT (B) are each sub word line driver SWD, that is, It is selected by the first sub word line driver (SWD (A)) and the second sub word line driver (SWD (B)).

또한, 본 발명의 일실시예에서 서브 홀(S/H)에 배치되었던 스위치 소자(SW)는 비트 라인 센스 앰프(BLSA) 영역에 배치된다.In addition, in one embodiment of the present invention, the switch element SW disposed in the sub-hole S / H is disposed in the bit line sense amplifier BLSA region.

이와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 메모리 장치는 제1매트(MAT(A))와 제2매트(MAT(B)) 사이에 배치되었던 서브 워드 라인 드라이버(SWD)와 서브 홀(S/H)를 배치시킬 필요가 없기 때문에 기존의 서브 워드 라인 드라이버(SWD)와 서브 홀(S/H)이 배치되었던 영역의 면적을 최소화할 수 있어 웨이퍼당 반도체 칩 개수를 늘릴 수 있게 된다.As described above, in the semiconductor memory device according to the embodiment, the sub word line driver SWD and the sub hole S disposed between the first mat MAT (A) and the second mat MAT (B). Since there is no need to arrange / H), the area of the area where the existing sub word line driver SWD and the sub hole S / H are disposed can be minimized, thereby increasing the number of semiconductor chips per wafer.

한편, 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 메모리 장치는, 도 3에 도시된 바와 같이, 제1매트(MAT(A))와 제2매트(MAT(B)) 사이에 더미 셀(dummy cell)을 배치시킬 수 있다. 이때, 더미 셀(dummy cell)은 리던던시 셀로 구성되거나, 리페어 시 리던던시 셀도 불량인 경우 논리회로로 구성될 수 있다. 이와 같이 구성되는 경우 제1매트(MAT(A))과 제2매트(MAT(B))에 배치되는 서브 워드 라인(SWL)은 각 서브 워드 라인 드라이버(SWD), 즉, 제1서브 워드 라인 드라이버(SWD(A))와 제2서브 워드 라인 드라이버(SWD(B))에 의해 선택되고, 서브 홀(S/H)에 배치되었던 스위치 소자(SW)는 비트 라인 센스 앰프(BLSA) 영역에 배치된다.Meanwhile, in the semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention, as shown in FIG. 3, a dummy cell is disposed between the first mat MAT (A) and the second mat MAT (B). Can be placed. In this case, the dummy cell may be configured as a redundancy cell, or may be configured as a logic circuit when the redundancy cell is also defective. In this configuration, the sub word lines SWL disposed on the first mat MAT (A) and the second mat MAT (B) are each sub word line driver SWD, that is, the first sub word line. The switch element SW selected by the driver SWD (A) and the second sub word line driver SWD (B) and disposed in the sub-hole S / H is placed in the bit line sense amplifier BLSA region. Is placed.

또한, 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 메모리 장치는, 도 4에 도시된 바와 같이, 제1매트(MAT(A)와 제2매트(MAT(B)) 사이에 더미 셀(dummy cell)과 입출력 스위치(IOSW)를 포함한다. 이때, 더미 셀(dummy cell)은 리던던시 셀로 구성되거나, 리페어 시 리던던시 셀도 불량인 경우 논리회로로 구성될 수 있다. 이와 같이 구성되는 경우 제1매트(MAT(A))과 제2매트(MAT(B))에 배치되는 서브 워드 라인(SWL)은 각 서브 워드 라인 드라이버(SWD), 즉, 제1서브 워드 라인 드라이버(SWD(A))와 제2서브 워드 라인 드라이버(SWD(B))에 의해 선택되고, 서브 홀(S/H)에 배치되었던 스위치 소자(SW)는 입출력 스위치(IOSW) 영역에 배치된다. 이때, 입출력 스위치(IOSW) 영역은 종래 서브 홀(S/H)의 면적보다 작게 형성된다.In addition, as shown in FIG. 4, a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention may include a dummy cell between a first mat MAT (A) and a second mat MAT (B). In this case, the dummy cell may be configured as a redundancy cell, or may be configured as a logic circuit when the redundancy cell is also defective when repaired. A)) and the sub word line SWL disposed on the second mat MAT (B) are each sub word line driver SWD, that is, the first sub word line driver SWD (A) and the second sub. The switch element SW selected by the word line driver SWD (B) and arranged in the sub-hole S / H is arranged in the input / output switch IOSW region, where the input / output switch IOSW region is conventionally It is formed smaller than the area of the sub-holes S / H.

이와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 메모리 장치는 서브 워드 라인 드라이버(SWD)와 서브 홀(S/H)의 면적을 감소시킴으로써 반도체 칩 면적을 감소시켜 웨이퍼당 반도체 칩 개수를 늘릴 수 있다. As described above, the semiconductor memory device according to the embodiment may reduce the area of the semiconductor chip by reducing the area of the sub word line driver SWD and the sub hole S / H, thereby increasing the number of semiconductor chips per wafer. .

Claims (6)

복수의 메모리 셀을 포함하는 복수의 매트;
상기 각 매트의 로우 방향으로 배치되어 상기 각 매트를 이루는 메모리 셀 데이터를 증폭하는 복수의 비트 라인 센스 앰프;
상기 각 매트의 컬럼 방향으로 배치되어 상기 각 매트를 이루는 메모리 셀 트랜지스터 게이트에 연결된 서브 워드 라인을 선택하기 위한 복수의 서브 워드 라인 드라이버; 및
상기 복수의 비트 라인 센스 앰프와 상기 복수의 서브 워드 라인 드라이버가 교차하는 영역에 배치되어 상기 비트 라인 센스 앰프와 연결된 세그먼트 입출력 라인을 스위칭하는 스위칭 소자를 구비하는 복수의 서브 홀;을 포함하되,
상기 복수의 매트 중 어느 하나의 매트와 상기 어느 하나의 매트와 인접하게 배치된 또다른 매트는,
서로 접하여 배열되는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.
A plurality of mats including a plurality of memory cells;
A plurality of bit line sense amplifiers arranged in a row direction of each mat to amplify memory cell data constituting each mat;
A plurality of sub word line drivers arranged in a column direction of each mat to select sub word lines connected to memory cell transistor gates forming the mats; And
And a plurality of sub-holes disposed in an area where the plurality of bit line sense amplifiers and the plurality of sub word line drivers cross each other and having switching elements for switching segment input / output lines connected to the bit line sense amplifiers.
Any one mat of the plurality of mats and another mat disposed adjacent to any one of the mats,
A semiconductor memory device, characterized in that arranged in contact with each other.
제1항에 있어서,
상기 어느 하나의 매트와 상기 또다른 매트가 접한 부분에 배치되는 더미 셀을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.
The method of claim 1,
And a dummy cell disposed at a portion where the mat and the mat are in contact with each other.
제1항에 있어서,
상기 어느 하나의 매트와 상기 또다른 매트가 접한 부분에 배치되는 더미 셀; 및
상기 더미 셀과 상기 비트 라인 센스 앰프가 교차되는 부분에 배치되어 상기 비트 라인 센스 앰프와 연결된 상기 세그먼트 입출력 라인을 스위칭하는 입출력 스위치;
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.
The method of claim 1,
A dummy cell disposed at a portion where the one mat and the another mat are in contact with each other; And
An input / output switch disposed at a portion where the dummy cell and the bit line sense amplifier cross each other and switching the segment input / output line connected to the bit line sense amplifier;
The semiconductor memory device further comprises.
제1항에 있어서, 상기 비트 라인 센스 앰프 영역은,
상기 세그먼트 입출력 라인을 스위칭하는 스위칭 소자가 배치되는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.
The method of claim 1, wherein the bit line sense amplifier region,
And a switching element for switching the segment input and output lines.
제2항에 있어서, 상기 더미 셀은,
리던던시 셀로 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.
The method of claim 2, wherein the dummy cell,
And a redundancy cell.
제2항에 있어서, 상기 더미 셀은,
리던던시 회로가 불량인 경우 논리회로로 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.
The method of claim 2, wherein the dummy cell,
And a redundancy circuit comprising a logic circuit if the redundancy circuit is defective.
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