KR20120075705A - Protective thin film and electronic devices comprising the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A protective film and an electric element including the same are provided to minimize the reduction of lifetime and efficiency of the electric element due to moisture and oxygen by forming a protective layer after forming an element layer in order to cover the element layer. CONSTITUTION: A first inorganic material layer(211a) is formed on a base(B). The base is composed of one among glass, plastic, a high molecule film, paper, and a silicon wafer. A plurality of first patterns(212a-1) is formed on the first inorganic material layer. A second inorganic material layer(211b) is formed on the plurality of first patterns. A third inorganic material layer(211c) is formed in the plurality of second patterns. An element layer is formed at one side of the base. The element layer is an electro-optic layer or a thin film battery layer.

Description

보호막 및 이를 포함하는 전자 소자{Protective thin film and electronic devices comprising the same}Protective film and electronic device comprising the same

본 발명은 수분 및 산소의 침투를 방지하는 보호막 및 이를 포함하는 전자 소자에 관한 것이다.The present invention relates to a protective film for preventing the penetration of moisture and oxygen and an electronic device comprising the same.

정보 통신 기술의 비약적인 발전과 함께 디스플레이 소자로 평판표시장치(Flat Panel Display)가 각광 받고 있다. 이러한 평판표시장치는 액정표시장치(Liquid Crystal Display), 플라즈마표시장치(Plasma Display Panel) 및 유기발광표시장치(Organic Light Emitting Deviece) 등이 대표적이다.With the rapid development of information and communication technology, flat panel displays have been in the spotlight as display elements. Such flat panel displays include liquid crystal displays, plasma display panels, organic light emitting devices, and the like.

그 중에서 유기발광표시장치는 시야각이 넓고, 빠른 응답속도를 가지고 있어 고화질의 디스플레이 구현이 가능하다. 이러한 유기발광표시장치는 기판, 기판 상에 형성된 하부전극, 하부전극 상에 형성된 유기물층 및 유기물층 상에 형성된 상부전극, 상기 하부전극, 유기물층 및 상부전극을 커버하는 봉지부를 포함한다. 여기서, 통상적으로 기판은 유리 기판 또는 플라스틱 기판을 사용한다. 그리고 유기물층은 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 정공저지층 및 전자수송층을 포함한다. 또한 봉지부로는 일반적으로 글래스 캡(glass cap) 및 메탈캔(metal can) 등을 사용한다.Among them, the organic light emitting display device has a wide viewing angle and a fast response speed, thereby enabling high quality display. The organic light emitting display device includes a substrate, a lower electrode formed on the substrate, an organic material layer formed on the lower electrode, and an upper electrode formed on the organic material layer, and an encapsulation portion covering the lower electrode, the organic material layer, and the upper electrode. Here, typically, the substrate uses a glass substrate or a plastic substrate. The organic layer includes a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, a hole blocking layer and an electron transport layer. In addition, the encapsulation portion generally uses a glass cap and a metal can.

한편, 최근에는 그 형상이 플랙서블(flexible)하게 변하는 유기발광표시장치의 제작이 각광받고 있다. 이를 위해, 기판으로 그 성질이 플랙서블(flexible)한 고분자 필름, 종이 기판, 플라스틱(PE, PES, PEN)을 이용한다. 그리고 플랙서블(flexible)한 유기발광표시장치를 제조하기 위해서, 봉지부로 무기물 또는 유기물로 이루어진 패턴을 이용한다. 이때, 무기물로 이루어진 패턴 형태의 봉지부는 수분 및 산소의 침투를 차단하는 효과는 뛰어나나, 물질 특성상 무기물 박막 내에 결함이 발생되는 문제가 있다. 그리고 이러한 무기물 박막 내의 결함을 통해 수분 및 산소가 침투된다. 또한 유기물로 이루어지며 패터닝된 봉지부는 결함의 발생은 적으나, 시간이 지날수록 수분 및 산소의 차단 능력이 상실되는 문제가 있다. 이와 같이 봉지부가 수분 및 산소의 침투를 효과적으로 방지하지 못하게 됨에 따라, 유기발광표시장치의 효율이 감소될 뿐만아니라 수명이 단축된다.On the other hand, recently, the manufacture of an organic light emitting display device having a flexible shape thereof has been in the spotlight. To this end, a flexible polymer film, a paper substrate, and plastics (PE, PES, and PEN) are used as the substrate. In order to manufacture a flexible organic light emitting display device, a pattern made of an inorganic material or an organic material is used as an encapsulation part. At this time, the encapsulation portion formed of the inorganic material is excellent in blocking the penetration of moisture and oxygen, there is a problem that a defect occurs in the inorganic thin film due to the material properties. And moisture and oxygen penetrate through the defect in the inorganic thin film. In addition, the patterned encapsulation portion made of organic material has a problem of less occurrence of defects, but loss of moisture and oxygen blocking ability with time. As the encapsulation portion does not effectively prevent the penetration of moisture and oxygen, not only the efficiency of the organic light emitting display device is reduced but also the life thereof is shortened.

본 발명의 일 기술적 과제는 수분 및 산소의 침투를 방지하는 보호막 및 이를 포함하는 전자 소자를 제공하는 데 있다.One technical problem of the present invention is to provide a protective film for preventing the penetration of moisture and oxygen and an electronic device including the same.

본 발명의 다른 일 기술적 과제는 수분 및 산소의 침투를 방지하여, 전자 소자의 효율 및 수명을 향상시키는 보호막 및 이를 포함하는 전자 소자를 제공하는 데 있다.Another technical problem of the present invention is to provide a protective film for preventing the penetration of moisture and oxygen, improving the efficiency and life of the electronic device and an electronic device including the same.

본 발명의 또 다른 일 기술적 과제는 수분 및 산소의 침투를 방지하는 보호막을 포함하는 기판을 제공하는 데 있다.Another technical problem of the present invention is to provide a substrate including a protective film for preventing the penetration of moisture and oxygen.

본 발명에 따른 보호막은 무기물층, 유기물로 이루어진 복수의 패턴이 상기 무기물층 상에서 상호 이격되어 형성된 유기물 패턴층을 포함한다.The protective film according to the present invention includes an organic pattern layer in which a plurality of patterns made of an inorganic material and an organic material are spaced apart from each other on the inorganic material layer.

상기 무기물층 및 유기물 패턴층이 상하 방향으로 교대로 복수번 적층된다.The inorganic material layer and the organic material pattern layer are laminated a plurality of times alternately in the vertical direction.

상기 상하 방향으로 복수번 적층된 유기물 패턴층 각각의 복수의 패턴에 있어서, 상측에 배치된 상기 복수의 패턴과 하측에 배치된 복수의 패턴이 서로 엇갈리게 배치되도록 형성된다.In the plurality of patterns of each of the organic pattern layers stacked multiple times in the vertical direction, the plurality of patterns disposed on the upper side and the plurality of patterns disposed on the lower side are alternately arranged.

상기 유기물 패턴층의 복수의 패턴 사이의 이격 거리는 상기 무기물층에 형성된 복수의 결함 사이의 이격 거리에 비해 작도록 형성된다.The separation distance between the plurality of patterns of the organic pattern layer is formed to be smaller than the separation distance between the plurality of defects formed in the inorganic layer.

본 발명에 따른 기판은 베이스, 상기 베이스의 일측면에 형성된 보호막을 포함하고, 상기 보호막은 베이스의 일측에 형성된 무기물층, 유기물로 이루어진 복수의 패턴이 상기 무기물층 상에서 상호 이격되어 형성된 유기물 패턴층을 포함한다.The substrate according to the present invention includes a base, a protective film formed on one side of the base, the protective film is an inorganic material layer formed on one side of the base, a plurality of patterns consisting of an organic material is formed on the organic material layer formed spaced apart from each other on the inorganic layer Include.

상기 베이스는 유리, 플라스틱, 고분자 필름, 종이, 실리콘 웨이퍼 중 하나를 사용한다.The base uses one of glass, plastic, polymer film, paper, and silicon wafer.

상기 무기물층 및 유기물 패턴층이 상하 방향으로 교대로 복수번 적층되도록 형성되고, 상측에 배치된 상기 복수의 패턴과 하측에 배치된 복수의 패턴이 서로 엇갈리게 배치되도록 형성된다.The inorganic layer and the organic pattern layer are formed to be alternately stacked in a plurality of times in the vertical direction, and the plurality of patterns disposed on the upper side and the plurality of patterns disposed on the lower side are alternately disposed.

상기 유기물 패턴층의 복수의 패턴 사이의 이격 거리는 상기 무기물층에 형성된 복수의 결함 사이의 이격 거리에 비해 작도록 형성된다.The separation distance between the plurality of patterns of the organic pattern layer is formed to be smaller than the separation distance between the plurality of defects formed in the inorganic layer.

본 발명에 따른 전자 소자는 상기 베이스의 일측에 형성된 소자층, 상기 베이스와 소자층 사이 및 상기 소자층의 상측 중 적어도 어느 하나의 위치에 형성되며, 무기물층 및 유기물 재료를 이용하여 형성된 복수의 패턴이 상기 무기물층 상에서 상호 이격 배치되는 유기물 패턴층을 구비하는 보호막을 포함한다.The electronic device according to the present invention is formed on at least one of the device layer formed on one side of the base, between the base and the device layer and the upper side of the device layer, a plurality of patterns formed using an inorganic material and an organic material It includes a protective film having an organic pattern layer spaced apart from each other on the inorganic layer.

상기 베이스는 유리, 플라스틱, 고분자 필름, 종이, 실리콘 웨이퍼 중 하나를 사용한다.The base uses one of glass, plastic, polymer film, paper, and silicon wafer.

상기 보호막의 무기물층 및 유기물 패턴층이 상하 방향으로 교대로 복수번 적층되고, 상측에 배치된 상기 복수의 패턴과 하측에 배치된 복수의 패턴이 서로 엇갈리게 배치되도록 형성된다.The inorganic layer and the organic pattern layer of the protective film are alternately stacked in a plurality of times in the vertical direction, and the plurality of patterns disposed on the upper side and the plurality of patterns disposed on the lower side are alternately arranged.

상기 소자층은 전기 광학층, 박막 전지층인 것을 특징으로 한다.The device layer is characterized in that the electro-optical layer, a thin film battery layer.

상술한 바와 같이 본 발명의 실시예들에서는 베이스, 베이스의 일측에 형성된 무기물층, 유기물을 이용하여 형성된 복수의 패턴이 상기 무기물층 상에서 상호 이격 배치된 유기물 패턴층으로 이루어진 보호막을 포함하도록 기판을 제작한다. 여기서, 유기물 패턴층은 무기물층에 형성될 수 있는 결함으로 수분 및 산소가 침투하는 것을 방지할 수 있다. 이에, 실시예들에 의하면 수분 및 산소의 침투를 최소화하는 기판을 제작할 수 있다. 특히 베이스가 플랙서블한 고분자 필름, 종이, 플라스틱(PE, PES, PEN 등) 일 경우, 종래에 비하여 수분 및 산소의 침투 방지 효과가 크다.As described above, in the embodiments of the present invention, a substrate is manufactured such that a base, an inorganic layer formed on one side of the base, and a plurality of patterns formed by using an organic material include a protective film made of an organic pattern layer spaced apart from each other on the inorganic layer. do. Here, the organic pattern layer may prevent penetration of moisture and oxygen into defects that may be formed in the inorganic layer. Thus, according to the embodiments it is possible to manufacture a substrate that minimizes the penetration of moisture and oxygen. In particular, when the base is a flexible polymer film, paper, plastic (PE, PES, PEN, etc.), the effect of preventing penetration of moisture and oxygen is greater than in the prior art.

또한, 실시예들에 따른 전자 소자에서는 베이스와 소자층 사이 및 상기 소자층의 상측 중 적어도 어느 하나의 위치에 보호막을 형성하는데, 여기서 보호막은 무기물층 및 유기물 재료를 이용하여 형성된 복수의 패턴이 상기 무기물층 상에서 상호 이격 배치되는 유기물 패턴층으로 이루어진다. 이에, 상기와 같은 보호막에 의해 외부의 수분 및 산소가 침투되어 전자 소자의 효율 및 수명이 감소되는 것을 최소화할 수 있다.In addition, in the electronic device according to the embodiments, a protective film is formed between at least one of the base and the device layer and above the device layer, wherein the protective film includes a plurality of patterns formed using an inorganic material and an organic material. It consists of an organic pattern layer spaced apart from each other on the inorganic layer. Accordingly, external moisture and oxygen penetrate by the passivation layer as described above, thereby minimizing the reduction of efficiency and lifespan of the electronic device.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판을 도시한 단면도
도 2는 실시예에 따른 유기물 패턴층을 형성하는 방법을 설명하기 위하여, 무기물층에 형성된 복수의 결함 사이의 이격 거리, 유기물 패턴층의 복수의 패턴 사이의 이격 거리를 도시한 단면도
도 3은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판을 도시한 단면도
도 4a 내지 도 4f는 제 1 실시예에 따른 기판 상에 소자층을 형성하는 전자 소자의 제조 방법을 순서적으로 도시한 단면도
도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 전자 소자를 도시한 단면도
도 6은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 전자 소자를 도시한 단면도1 is a cross-sectional view showing a substrate according to a first embodiment of the present invention
2 is a cross-sectional view illustrating a separation distance between a plurality of defects formed in the inorganic layer and a plurality of patterns of the organic pattern layer in order to explain a method of forming the organic pattern layer according to the embodiment.
3 is a cross-sectional view showing a substrate according to a second embodiment of the present invention;
4A to 4F are cross-sectional views sequentially illustrating a method of manufacturing an electronic device for forming an element layer on a substrate according to a first embodiment.
5 is a cross-sectional view illustrating an electronic device according to a second embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view illustrating an electronic device according to a third embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 더욱 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described an embodiment of the present invention in more detail. It will be apparent to those skilled in the art that the present invention may be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, It is provided to let you know. Like numbers refer to like elements in the figures.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판을 도시한 단면도이다. 도 2는 실시예에 따른 유기물 패턴층을 형성하는 방법을 설명하기 위하여, 무기물층에 형성된 복수의 결함 사이의 이격 거리, 유기물 패턴층의 복수의 패턴 사이의 이격 거리를 도시한 단면도이다. 도 3은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판을 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a substrate according to a first embodiment of the present invention. 2 is a cross-sectional view illustrating a separation distance between a plurality of defects formed in the inorganic layer and a plurality of patterns of the organic pattern layer in order to explain a method of forming an organic pattern layer according to an embodiment. 3 is a cross-sectional view showing a substrate according to a second embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 제 1 실시예에 따른 기판은 베이스(b), 베이스(b) 상에 형성된 제 1 무기물층(211a), 제 1 무기물층(211a) 상에서 유기물을 이용하여 형성된 복수의 제 1 패턴(212a-1)이 일정 거리로 이격 배치되어 형성된 제 1 유기물 패턴층(212a), 제 1 유기물 패턴층(212a) 상에 형성된 제 2 무기물층(211b), 제 2 무기물층(211b) 상에서 유기물을 이용하여 형성된 복수의 제 2 패턴(212b-1)이 일정 거리로 이격 배치되어 형성된 제 2 유기물 패턴층(212b), 제 2 유기물 패턴층(212b) 상에 형성된 제 2 무기물층(211b)을 포함한다.Referring to FIG. 1, the substrate according to the first embodiment includes a plurality of agents formed by using an organic material on the base b, the first inorganic material layer 211a formed on the base b, and the first inorganic material layer 211a. The first organic pattern layer 212a formed by separating the first pattern 212a-1 at a predetermined distance, the second inorganic layer 211b and the second inorganic layer 211b formed on the first organic pattern layer 212a. The second organic pattern layer 212b and the second inorganic pattern layer 212b formed on the second organic pattern layer 212b are formed by separating a plurality of second patterns 212b-1 formed by using an organic material on the substrate at a predetermined distance. ).

실시예에서는 베이스(b)로 플랙서블(flexible)한 가요성 재료 예를 들어, 플라스틱(PE, PES, PEN 등), 고분자 필름, 종이 등을 이용한다. 물론 이에 한정되지 않고, 베이스(b)로 유리, 웨이퍼 등 다양한 재료를 이용할 수 있다.In the embodiment, a flexible material flexible to the base (b), for example, plastic (PE, PES, PEN, etc.), a polymer film, paper, or the like is used. Of course, the present invention is not limited thereto, and various materials such as glass and a wafer can be used as the base b.

보호막(210)은 외부의 수분 및 산소가 침투하는 것을 방지하는 역할을 한다. 이러한 보호막(210)은 도 1에 도시된 바와 같이 복수의 무기물층(211a, 211b, 211c) 및 복수의 유기물 패턴층(212a, 212b)을 교대로 적층하여 형성한다. 즉, 베이스(b)의 상부면에 제 1 무기물층(211a), 제 1 유기물 패턴층(212a), 제 2 무기물층(211b), 제 2 유기물 패턴층(212b) 및 제 3 무기물층(211c)을 적층하여 형성한다. 여기서 제 1 유기물 패턴층(212a)은 유기물로 형성된 복수의 제 1 패턴(212a-1)으로 이루어지고, 상기 복수의 제 1 패턴(212a-1)은 제 1 무기물층(211a) 상에서 일정 거리 이격 되도록 형성된다. 또한, 제 2 유기물 패턴층(212b)은 유기물로 형성된 복수의 제 2 패턴(212b-1)으로 이루어지고, 상기 복수의 제 2 패턴(212b-1)은 제 2 무기물층(211b) 상에서 일정 거리 이격 되도록 형성된다.The protective film 210 serves to prevent external moisture and oxygen from penetrating. As shown in FIG. 1, the passivation layer 210 is formed by alternately stacking a plurality of inorganic material layers 211a, 211b and 211c and a plurality of organic pattern layers 212a and 212b. That is, the first inorganic material layer 211a, the first organic material pattern layer 212a, the second inorganic material layer 211b, the second organic material pattern layer 212b and the third inorganic material layer 211c are formed on the upper surface of the base b. ) Is laminated. Here, the first organic pattern layer 212a is formed of a plurality of first patterns 212a-1 formed of an organic material, and the plurality of first patterns 212a-1 are spaced apart from each other on the first inorganic layer 211a by a predetermined distance. It is formed to be. In addition, the second organic pattern layer 212b includes a plurality of second patterns 212b-1 formed of an organic material, and the plurality of second patterns 212b-1 are disposed at a predetermined distance on the second inorganic layer 211b. It is formed to be spaced apart.

한편, 무기물로 이루어진 박막은 수분 및 산소의 침투를 차단하는 능력은 뛰어나나, 도 2에 도시된 바와 같이, 결함이 발생될 수 있다. 그리고 이러한 결함을 통해 수분 및 산소가 침투하는 문제가 있다. 또한, 유기물로 이루어진 막은 무기물에 비해 결함 발생이 적으나, 시간이 지남에 따라 수분 및 산소가 침투를 방지하는 능력을 상실하는 문제가 있다. 따라서, 실시예에서는 복수의 무기물층(211a, 211b, 211c) 및 복수의 유기물 패턴층(212a, 212b)을 교대로 적층한다. 이때, 제 1 및 제 2 유기물 패턴층(212a, 212b)의 각각의 복수의 제 1 및 제 2 패턴(212a-1 , 212b-1) 사이의 이격 거리(d2)는 제 1 내지 제 3 무기물층(211a, 211b, 211c)에 형성될 수 있는 복수의 결함 사이의 이격 거리(d1)에 비해 작도록 형성한다. 실험 및 여러 연구결과들에 의하면 무기물층(211a, 211b, 211c)에 형성된 결함의 크기는 평균 약 10㎛이고, 상기 복수의 결함 사이의 평균 이격 거리(d1)는 100㎛이다. 이에 실시예에서는 제 1 유기물 패턴층(212a)의 제 1 복수의 패턴(212a-1) 사이의 이격 거리(d2) 및 제 2 유기물 패턴층(212b)의 제 2 복수의 패턴(212b-1) 사이의 이격 거리(d2) 각각이 제 1 내지 제 3 무기물층(211a, 211b, 211c)에 형성될 수 있는 복수의 결함 사이의 이격 거리(d1)에 비해 작도록 형성한다. 이러한 제 1 및 제 2 유기물 패턴층(212a, 212b)에 의해 제 1 내지 제 3 무기물층(211a, 211b, 211c)의 결함으로 수분 및 산소가 침투하여 확산하는 것을 방지할 수 있다. 복수의 무기물층(211a, 211b, 211c) 및 복수의 유기물 패턴층(212a, 212b)을 형성하는 방법에 대한 상세한 설명은 하기에서 하기로 한다.On the other hand, the thin film made of an inorganic material is excellent in the ability to block the penetration of moisture and oxygen, as shown in Figure 2, a defect may occur. And there is a problem that moisture and oxygen penetrate through these defects. In addition, although the film made of organic material has less defects than the inorganic material, there is a problem in that moisture and oxygen lose their ability to prevent penetration over time. Therefore, in the embodiment, the plurality of inorganic material layers 211a, 211b, and 211c and the plurality of organic material pattern layers 212a and 212b are alternately stacked. In this case, the separation distance d2 between the plurality of first and second patterns 212a-1 and 212b-1 of the first and second organic pattern layers 212a and 212b may correspond to the first to third inorganic material layers. It is formed so as to be smaller than the separation distance d1 between a plurality of defects that may be formed at (211a, 211b, 211c). According to experiments and various studies, the average size of defects formed in the inorganic layers 211a, 211b, and 211c is about 10 μm, and the average distance d1 between the plurality of defects is 100 μm. Therefore, in the embodiment, the separation distance d2 between the first plurality of patterns 212a-1 of the first organic pattern layer 212a and the second plurality of patterns 212b-1 of the second organic pattern layer 212b are provided. Each of the separation distances d2 is formed to be smaller than the separation distances d1 between a plurality of defects that may be formed in the first to third inorganic layers 211a, 211b, and 211c. The first and second organic pattern layers 212a and 212b may prevent moisture and oxygen from penetrating and diffusing into the defects of the first to third inorganic material layers 211a, 211b and 211c. A detailed description of the method of forming the plurality of inorganic layers 211a, 211b, and 211c and the plurality of organic pattern layers 212a and 212b will be given below.

상기에서는 도 1에 도시된 바와 같이 베이스(b) 상에 제 1 무기물층(211a), 제 1 유기물 패턴층(212a), 제 2 무기물층(211b), 제 2 유기물 패턴층(212b) 및 제 3 무기물층(211c)을 적층하여 형성하는 기판을 설명하였다. 하지만 이에 한정되지 않고 도 3에 도시된 바와 같이, 베이스(b) 상에 제 1 무기물층(211a), 제 1 무기물층(211a) 상에 형성된 상에 형성된 하나의 유기물 패턴층(212a), 유기물 패턴층(212a) 상에 형성된 제 2 무기물층(211b)을 포함하는 보호막(210)을 포함하도록 기판을 제작할 있다.In the above, as shown in FIG. 1, the first inorganic material layer 211a, the first organic material pattern layer 212a, the second inorganic material layer 211b, the second organic material pattern layer 212b and the second material are formed on the base b. The board | substrate formed by laminating | stacking 3 inorganic material layers 211c was demonstrated. However, the present invention is not limited thereto, and as shown in FIG. 3, one organic pattern layer 212a and an organic material formed on the first inorganic material layer 211a and the first inorganic material layer 211a are formed on the base b. The substrate may be manufactured to include the passivation layer 210 including the second inorganic layer 211b formed on the pattern layer 212a.

또한, 도시되지는 않았지만 베이스(b) 상에 3개 이상의 무기물층 및 2개 이상의 유기물 패턴층을 구비하도록 보호막(210)이 형성된 기판을 제작할 수도 있다.In addition, although not shown, a substrate on which the protective film 210 is formed may be manufactured to include three or more inorganic layers and two or more organic pattern layers on the base (b).

도 4a 내지 도 4f는 제 1 실시예에 따른 기판 상에 소자층을 형성하는 전자 소자의 제조 방법을 순서적으로 도시한 단면도이다. 하기에서는 도 4a 내지 도 4f를 참조하여, 제 1 실시예에 따른 기판을 이용하여 전자 소자를 제작하는 방법을 순서적으로 설명한다.4A to 4F are cross-sectional views sequentially illustrating a method of manufacturing an electronic device for forming an element layer on a substrate according to a first embodiment. Hereinafter, a method of manufacturing an electronic device using the substrate according to the first embodiment will be described in order with reference to FIGS. 4A to 4F.

도 4a를 참조하면, 베이스(b)를 마련하고, 베이스(b) 상에 제 1 무기물층(211a)을 형성한다. 실시예에서는 베이스(b)로 플랙서블한 플라스틱 필름 예를 들어, PE, PES, PEN 중 어느 하나의 필름을 이용한다. 그리고 이러한 베이스(b) 상에 SiNx, SiO2, AIN, SiON, MgO 및 Al2O3 와 같은 AlxOy 등의 무기물 재료를 증착하여 제 1 무기물층(211a)을 형성한다. 이때, 플라즈마 화학 증착법(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), 스퍼터링(Sputtering) 방법, 전자빔 증착법(Electron Vapor deposition), 화학기상증착법(Chemical Vapor deposition) 또는 원자층 증착법(ALD : Atomic layer deposition) 등의 방법을 이용하여 증착할 수 있다. 물론 이에 한정되지 않고, 베이스(b) 상에 무기물을 증착할 수 있는 다양한 방법을 이용할 수 있다. 또한 이에 한정되지 않고 무기물 재료에 따라 스크린 프린팅, 잉크젯 프린팅과 같은 프린팅 방법 또는 스핀 코팅과 같은 방법이 이용될 수 있다.Referring to FIG. 4A, a base b is provided and a first inorganic material layer 211a is formed on the base b. In the embodiment, a plastic film flexible as the base (b), for example, any one of PE, PES, and PEN is used. In addition, an inorganic material such as SiNx, SiO 2 , AIN, SiON, MgO, and AlxOy, such as Al 2 O 3 , is deposited on the base b to form the first inorganic layer 211a. At this time, methods such as plasma enhanced chemical vapor deposition, sputtering, electron vapor deposition, chemical vapor deposition, or atomic layer deposition (ALD) may be used. Can be deposited. Of course, the present invention is not limited thereto, and various methods of depositing an inorganic material on the base b may be used. In addition, depending on the inorganic material, a printing method such as screen printing, inkjet printing, or a method such as spin coating may be used.

도 4b를 참조하면, 제 1 무기물층(211a) 상에 유기물 재료로 이루어진 복수의 제 1 패턴(212a-1)이 상호 이격되도록 형성하여, 제 1 유기물 패턴층(212a)을 제작한다. 여기서 제 1 및 제 2 무기물층(211a, 211b)에는 도 2에 도시된 바와 같이 결함이 발생될 있다. 이에, 실시예에서는 제 1 유기물 패턴층(212a)의 복수의 제 1 패턴(212a-1) 사이의 이격 거리(d2)가 도 2에 도시된 바와 같이, 제 1 유기물 패턴층(212a)의 하부에 위치한 제 1 무기물층(211a)에 형성될 수 있는 복수의 결함 사이의 이격 거리(d1) 및 후속 형성되는 제 2 무기물층(211b)에 발생될 수 있는 복수의 결함 사이의 이격 거리(d1)에 비해 작도록 형성한다. 실험 및 다른 연구 결과들에 의하면 무기물로 이루어진 박막 내의 복수의 결함 사이의 평균 이격 거리(d1)는 평균 100㎛이고, 상기 복수의 결함의 사이즈는 평균 10㎛이다. 이에, 실시예에서는 복수의 제 1 패턴(212a-1) 사이의 이격 거리(d2)가 100㎛보다 작도록 조절하여, 제 1 유기물 패턴층(212a)을 형성한다. 이는 제 1 무기물층(211a) 및 제 2 무기물층(211b)의 결함을 통해 수분 및 산소가 침투하는 것을 용이하게 방지하기 위함이다. 이때, 제 1 유기물 패턴층(212a)은 파릴렌(parylene), 파라핀(paraffin), 데프론(PTFE), 폴리카보네이트(Polycarbonate), PET, 폴리우레아(Polyurea) 등의 고분자 화합물을 열분해 증착 방법을 이용하여 증착하여 형성할 수 있다. 물론 이에 한정되지 않고, 플라즈마 화학 증착법(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), 전자빔 증착법(Electron Vapor deposition), 화학기상증착법(Chemical Vapor deposition) 또는 원자층 증착법(ALD : Atomic layer deposition) 등의 방법을 이용하여 증착하여, 형성할 수 있다. 이때, 도시되지는 않았지만, 상호 이격 배치된 복수의 개구부를 가지는 쉐도우 마스크를 이용하여 증착 공정을 실시함으로써, 복수의 제 1 패턴(212a-1)이 상호 이격되어 형성된 제 1 유기물 패턴층(212a)을 형성할 수 있다. 이때, 마스크에 마련된 복수의 개구부 사이의 이격 거리는 적어도 제 1 무기물층(211a) 및 후속 형성되는 제 2 무기물층(211b)에 발생될 복수의 결함 사이의 이격 거리(d1)에 비해 작도록 형성된 것을 사용하는 것이 바람직하다. 즉, 복수의 개구부 사이의 이격 거리가 100㎛에 비해 작도록 제작된 마스크를 이용한다. 물론 상기에서 설명한 증착 방법에 한정되지 않고, 제 1 유기물 패턴층(212a)을 증착할 수 있는 다양한 증착 방법을 이용할 수 있다. 또한 유기물 재료에 따라 스크린 프린팅, 잉크젯 프린팅과 같은 프린팅 방법 또는 스핀 코팅과 같은 방법이 이용될 수 있다.Referring to FIG. 4B, a plurality of first patterns 212a-1 made of an organic material are formed on the first inorganic layer 211a to be spaced apart from each other, thereby manufacturing a first organic pattern layer 212a. Here, defects may occur in the first and second inorganic layers 211a and 211b as shown in FIG. 2. Thus, in the embodiment, the separation distance d2 between the plurality of first patterns 212a-1 of the first organic pattern layer 212a is lower than the first organic pattern layer 212a as shown in FIG. 2. Separation distance d1 between a plurality of defects that may be formed in the first inorganic layer 211a and a distance between the plurality of defects that may occur in the second inorganic layer 211b that is formed next, d1. It is formed to be smaller than. Experiments and other studies have shown that the average separation distance d1 between a plurality of defects in an inorganic thin film is on average 100 μm, and the size of the plurality of defects is on average 10 μm. Thus, in the embodiment, the first organic pattern layer 212a is formed by adjusting the separation distance d2 between the plurality of first patterns 212a-1 to be smaller than 100 μm. This is to easily prevent moisture and oxygen from penetrating through the defects of the first inorganic layer 211a and the second inorganic layer 211b. In this case, the first organic pattern layer 212a may be a pyrolytic deposition method of a polymer compound such as parylene, paraffin, deferon (PTFE), polycarbonate, PET, polyurea, or the like. It can be formed by evaporation. Of course, the present invention is not limited thereto, and methods such as plasma enhanced chemical vapor deposition, electron vapor deposition, chemical vapor deposition, or atomic layer deposition (ALD) may be used. By vapor deposition. In this case, although not shown, the first organic pattern layer 212a formed by separating the plurality of first patterns 212a-1 by performing a deposition process using a shadow mask having a plurality of openings spaced apart from each other is formed. Can be formed. In this case, the separation distance between the plurality of openings provided in the mask is smaller than the separation distance d1 between the plurality of defects to be generated in at least the first inorganic layer 211a and the second inorganic layer 211b to be formed later. It is preferable to use. That is, the mask manufactured so that the space | interval distance between a some opening part may be small compared with 100 micrometers is used. Of course, the present invention is not limited to the above-described deposition method, and various deposition methods capable of depositing the first organic pattern layer 212a may be used. Depending on the organic material, a printing method such as screen printing, inkjet printing or a method such as spin coating may be used.

도 4c를 참조하면, 제 1 유기물 패턴층(212a) 상에 제 2 무기물층(211b)을 형성한다. 이때 제 2 무기물층(211b)은 상기에서 설명한 제 1 무기물층(211a)의 형성 방법과 동일한 방법으로 형성하는 것이 바람직하다. 또한, 제 2 무기물층(211b)은 제 1 무기물층(211a)을 형성한 재료와 동일한 재료를 이용하여 제작하는 것이 더욱 바람직하다. 물론 이에 한정되지 않고 제 1 무기물층(211a)과 다른 재료를 이용하여 제 2 무기물층(211b)을 형성할 수도 있다.Referring to FIG. 4C, a second inorganic material layer 211b is formed on the first organic pattern layer 212a. At this time, the second inorganic material layer 211b is preferably formed by the same method as the method of forming the first inorganic material layer 211a described above. Further, the second inorganic material layer 211b is more preferably manufactured using the same material as the material on which the first inorganic material layer 211a is formed. Of course, the present invention is not limited thereto, and the second inorganic layer 211b may be formed using a material different from that of the first inorganic layer 211a.

도 4d를 참조하면, 제 2 무기물층(211b) 상에 유기물 재료로 이루어진 복수의 제 2 패턴(212b-1)이 상호 이격되도록 형성하여, 제 2 유기물 패턴층(212b)을 제작한다. 이때, 제 2 유기물 패턴층(212b)은 상기에서 설명한 제 1 유기물 패턴층(212a)과 동일한 방법으로 형성한다. 또한 제 2 유기물 패턴층(212b)은 제 1 유기물 패턴층(212a)을 형성한 재료와 동일한 재료를 이용하여 제작하는 것이 바람직하다. 물론 이에 한정되지 않고 제 1 유기물 패턴층(212a)과 다른 재료를 이용하여 제 2 유기물 패턴층(212b)을 형성할 수 있다. 그리고 제 2 유기물 패턴층(212b)의 복수의 제 2 패턴(212b-1)은 제 1 유기물 패턴층(212a)의 복수의 제 1 패턴(212a-1)과 동일한 크기로 제작되는 것이 바람직하다. 이때, 제 2 유기물 패턴층(212b)의 복수의 제 2 패턴(212b-1) 사이의 이격 거리(d2)는 상기 제 2 유기물 패턴층(212b)의 하부에 배치된 제 2 무기물층(211b)에 형성될 수 있는 복수의 결함 사이의 이격 거리(d1) 및 후속 형성되는 제 3 무기물층(211c)에 발생될 수 있는 복수의 결함 사이의 이격 거리(d1)에 비해 작도록 형성한다. 예를 들어, 실시예에서는 복수의 제 2 패턴(212b-1) 사이의 이격 거리(d2)가 100㎛보다 작도록 조절하여, 제 2 유기물 패턴층(212b)을 형성한다. 이때, 제 2 유기물 패턴층(212b)의 복수의 제 2 패턴(212b-1) 사이의 이격 거리는 제 1 유기물 패턴층(212a)의 복수의 제 1 패턴(212a-1) 사이의 이격 거리와 동일하도록 제작되는 것이 효과적이다. 그리고 도 4d에 도시된 바와 같이, 제 2 유기물 패턴층(212b)의 복수의 제 2 패턴(212b-1)의 배치가 제 1 유기물 패턴층(212a)의 복수의 제 1 패턴(212a-1)의 배치와 엇갈리도록 형성되는 것이 효과적이다. 예를 들어, 복수의 제 1 패턴(212a-1) 사이의 이격 공간의 중심부 상측에 제 2 패턴(212b-1)의 중심부가 위치하도록 형성할 수 있다.Referring to FIG. 4D, a plurality of second patterns 212b-1 made of an organic material are formed on the second inorganic layer 211b to be spaced apart from each other, thereby manufacturing a second organic pattern layer 212b. In this case, the second organic pattern layer 212b is formed in the same manner as the first organic pattern layer 212a described above. In addition, the second organic pattern layer 212b is preferably manufactured using the same material as the material on which the first organic pattern layer 212a is formed. Of course, the present invention is not limited thereto, and the second organic pattern layer 212b may be formed using a material different from that of the first organic pattern layer 212a. The plurality of second patterns 212b-1 of the second organic pattern layer 212b may be manufactured to have the same size as the plurality of first patterns 212a-1 of the first organic pattern layer 212a. In this case, the separation distance d2 between the plurality of second patterns 212b-1 of the second organic pattern layer 212b is the second inorganic material layer 211b disposed under the second organic pattern layer 212b. It is formed to be smaller than the separation distance (d1) between the plurality of defects that may be formed in and the separation distance (d1) between the plurality of defects that may occur in the third inorganic layer 211c that is formed subsequently. For example, in the embodiment, the second organic pattern layer 212b is formed by adjusting the separation distance d2 between the plurality of second patterns 212b-1 to be smaller than 100 μm. In this case, the separation distance between the plurality of second patterns 212b-1 of the second organic pattern layer 212b is the same as the separation distance between the plurality of first patterns 212a-1 of the first organic pattern layer 212a. To be effective. As illustrated in FIG. 4D, the arrangement of the plurality of second patterns 212b-1 of the second organic pattern layer 212b may include the plurality of first patterns 212a-1 of the first organic pattern layer 212a. It is effective to be staggered with the arrangement of the. For example, the center portion of the second pattern 212b-1 may be formed above the center portion of the separation space between the plurality of first patterns 212a-1.

도 4e를 참조하면, 제 2 유기물 패턴층(212b) 상에 제 3 무기물층(211c)을 형성한다. 이때, 제 3 무기물층(211c)은 상기에서 설명한 제 1 및 제 2 무기물층(211b)을 형성시 사용한 재료와 동일한 재료를 이용하여, 동일한 방법으로 형성하는 것이 바람직하다. 물론 이에 한정되지 않고 제 1 및 제 2 무기물층(211b)과 다른 재료 및 다른 방법으로 제 3 무기물층(211c)을 형성할 수도 있다.Referring to FIG. 4E, a third inorganic layer 211c is formed on the second organic pattern layer 212b. In this case, the third inorganic layer 211c is preferably formed by the same method using the same material as the material used to form the first and second inorganic layer 211b described above. Of course, the present invention is not limited thereto, and the third inorganic layer 211c may be formed using a material different from that of the first and second inorganic layer 211b.

이를 통해, 베이스(b) 상에 제 1 무기물층(211a), 제 1 유기물 패턴층(212a), 제 2 무기물층(211b), 제 2 유기물 패턴층(212b) 및 제 3 무기물층(211c)이 적층된 보호막(210)이 형성된 기판(S)이 형성된다. 즉, 베이스(b) 상에 복수의 무기물층(211a, 211b, 211c) 및 복수의 유기물 패턴층(212a, 212b)을 교대로 적층한다. 따라서 이와 같이 형성된 제 1 및 제 2 유기물 패턴층(212b)에 의해 제 1 내지 제 3 무기물층(211c)의 결함으로 수분 및 산소가 침투되어 확산되는 것을 방지할 수 있다.Accordingly, the first inorganic material layer 211a, the first organic material pattern layer 212a, the second inorganic material layer 211b, the second organic material pattern layer 212b and the third inorganic material layer 211c are formed on the base b. A substrate S on which the laminated protective film 210 is formed is formed. That is, the inorganic layers 211a, 211b, and 211c and the organic pattern layers 212a and 212b are alternately stacked on the base b. Therefore, it is possible to prevent moisture and oxygen from penetrating and diffusing into the defects of the first to third inorganic material layers 211c by the first and second organic material pattern layers 212b thus formed.

도 4f를 참조하면, 상기와 같이 형성된 기판(S) 상에 소자층(300)을 형성한다. 즉, 기판(S)의 제 3 무기물층(211c) 상에 소자층(300)을 형성한다. 실시예에서는 소자층(300)으로 유기발광층을 예로 들어 설명한다. 즉, 제 3 무기물층(211c) 상에 먼저 프린팅 방법으로 페이스트 상태의 니켈(Ni)을 프린팅하여 제 1 전극(310)을 형성한다. 물론 이에 한정되지 않고, 반사율이 높고, 일함수가 높은 다양한 재료를 이용하여 제 1 전극(310)을 형성할 수 있다. 또한, 재료에 따라 프린팅 방법 이외에 다양한 증착 방법을 이용하여 제 1 전극(310)을 형성할 수 있다. 그리고 제 1 전극(310) 상에 정공주입층(Hole Injection Layer)(321), 정공수송층(Hole Transport Layer)(322), 발광층(Emitting Layer)(323) 및 전자수송층(Electron Transport Layer)(324)을 순서대로 적층한다. 즉, 제 1 전극(310) 상에 예를 들어, CuPc, 2-TNATA 및 MTDATA 중 어느 하나를 사용하여 정공주입층(321)을 형성한다. 이어서, 정공주입층(321) 상에 예를 들어, NPB 및 TPD 등의 정공을 효율적으로 전달할 수 있는 재료를 사용하여 정공수송층(322)을 형성한다. 그리고 정공수송층(321) 상에 발광층(323)을 형성한다. 발광층(323)은 예를 들어, Alq3: C545T 으로 구성된 녹색발광층, DPVBi로 구성된 청색발광층 및 CBP:Ir(acac)으로 구성된 적색발광층 및 이들로 구성된 구룹 등의 발광 특성이 우수한 재료를 사용한다. 이어서, 발광층(323) 상에 예를 들어, Alp3, Bebq2 등의 물질을 사용하여 전자수송층(324)을 형성한다. 이러한 정공주입층(321), 정공수송층(322), 발광층(323) 및 전자수송층(324)은 열 증착 방식으로 증착한다. 물론 이에 한정되지 않고 재료에 따라 열 증착 방식 이외에 프린팅, 스핀 코팅, 롤 코팅, 스탬핑 등의 다양한 방법으로 형성할 수 있다. 이후, 전자수송층(324) 상에 제 2 전극(330)을 형성한다. 실시예에서는 LiF-Al, Mg:Ag, Ca-Ag 등의 금속을 100Å 내지 1000Å의 두께로 증착하여 빛이 투과할 수 있는 투과율을 갖도록 제 2 전극(330)을 형성한다.Referring to FIG. 4F, the device layer 300 is formed on the substrate S formed as described above. That is, the device layer 300 is formed on the third inorganic layer 211c of the substrate S. In the embodiment, the organic light emitting layer will be described as the device layer 300 as an example. That is, the first electrode 310 is formed by first printing nickel (Ni) in a paste state on the third inorganic layer 211c by printing. Of course, the present invention is not limited thereto, and the first electrode 310 may be formed using various materials having high reflectance and high work function. In addition, depending on the material, the first electrode 310 may be formed using various deposition methods in addition to the printing method. In addition, a hole injection layer 321, a hole transport layer 322, an emitting layer 323, and an electron transport layer 324 are formed on the first electrode 310. ) Are stacked in order. That is, the hole injection layer 321 is formed on the first electrode 310 using, for example, CuPc, 2-TNATA, or MTDATA. Subsequently, the hole transport layer 322 is formed on the hole injection layer 321 using a material capable of efficiently transferring holes such as NPB and TPD. The light emitting layer 323 is formed on the hole transport layer 321. The light emitting layer 323 is made of, for example, a material having excellent light emitting characteristics such as a green light emitting layer composed of Alq3: C545T, a blue light emitting layer composed of DPVBi, and a red light emitting layer composed of CBP: Ir (acac), and a group composed thereof. Subsequently, the electron transport layer 324 is formed on the light emitting layer 323 by using, for example, Alp3 or Bebq2. The hole injection layer 321, the hole transport layer 322, the light emitting layer 323, and the electron transport layer 324 are deposited by thermal evaporation. Of course, the present invention is not limited thereto, and may be formed by various methods, such as printing, spin coating, roll coating, and stamping, in addition to thermal evaporation. Thereafter, the second electrode 330 is formed on the electron transport layer 324. In an embodiment, a metal such as LiF-Al, Mg: Ag, Ca-Ag, or the like is deposited to a thickness of 100 GPa to 1000 GPa to form a second electrode 330 to have a light transmittance.

이와 같이 실시에에서는 플랙서블한 베이스(b) 상에 제 1 무기물층(211a), 제 1 유기물 패턴층(212a), 제 2 무기물층(211b), 제 2 유기물 패턴층(212b) 및 제 3 무기물층(211c)이 적층된 보호막(210)이 형성된 기판(S)을 제작하고, 상기 기판 (S) 상에 소자층(300)을 형성한 전자 소자를 제작하였다. 여기서 제 1 유기물 패터층(212a)의 복수의 제 1 패턴(212a-1)은 상호 일정거리 이격되도록 형성되고, 제 2 유기물 패터층(212b)의 복수의 제 1 패턴(212b-1)은 상호 일정거리 이격되도록 형성된다. 따라서, 이러한 제 1 및 제 2 유기물 패터층(212a, 212b)에 의해 제 1 내지 제 3 무기물층(211c)의 결함을 통해 수분 및 산소가 침투되어 확산되는 것을 최소화할 수 있다. 이로 인해, 수분 및 산소에 의해 전자 소자의 효율 및 수명이 감소되는 것을 종래에 비해 최소화시킬 수 있다.Thus, in the embodiment, the first inorganic material layer 211a, the first organic material pattern layer 212a, the second inorganic material layer 211b, the second organic material pattern layer 212b and the third on the flexible base b are provided. A substrate S on which the protective layer 210 on which the inorganic layer 211c is stacked is formed is fabricated, and an electronic device in which the device layer 300 is formed on the substrate S is fabricated. Here, the plurality of first patterns 212a-1 of the first organic pattern layer 212a are formed to be spaced apart from each other by a predetermined distance, and the plurality of first patterns 212b-1 of the second organic pattern layer 212b are mutually It is formed to be spaced a certain distance apart. Therefore, the penetration of water and oxygen through the defects of the first to third inorganic material layers 211c by the first and second organic pattern layers 212a and 212b can be minimized. As a result, it is possible to minimize the reduction in efficiency and lifespan of the electronic device due to moisture and oxygen as compared with the related art.

상기에서는 베이스(b) 상에 제 1 무기물층(211a), 제 1 유기물 패턴층(212a), 제 2 무기물층(211b), 제 2 유기물 패턴층(212b), 제 3 무기물층(211c)이 적층된 보호막(210)으로 이루어진 기판(S) 상에 소자층(300)을 형성하는 전자 소자를 설명하였다. 하지만 이에 한정되지 않고, 도 2에 도시된 바와 같이, 제 1 무기물층(211a), 유기물 패턴층(212a), 제 2 무기물층(211b)이 적층된 보호막(210)으로 이루어진 기판(S) 상에 소자층(300)을 형성하는 전자 소자를 제작할 수 있다.In the above, the first inorganic layer 211a, the first organic pattern layer 212a, the second inorganic layer 211b, the second organic pattern layer 212b and the third inorganic layer 211c are formed on the base b. An electronic device for forming the device layer 300 on the substrate S formed of the stacked protective film 210 has been described. However, the present invention is not limited thereto, and as illustrated in FIG. 2, the first S inorganic layer 211a, the organic pattern layer 212a, and the second inorganic layer 211b may be stacked on the substrate S formed of the passivation layer 210. An electronic device for forming the device layer 300 can be manufactured.

도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 전자 소자를 도시한 단면도이다.5 is a cross-sectional view illustrating an electronic device according to a second exemplary embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 제 2 실시예에 따른 전자 소자는 베이스(b) 상부의 일부에 소자층(300)을 형성하고, 베이스(b) 상에서 소자층(300)을 커버하도록 보호막(210)을 형성한다. 여기서 소자층(300)은 제 1 전극(310), 정공주입층(321), 정공수송층(322), 발광층(323) 및 전자수송층(324), 제 2 전극(320)이 적층된 유기발광층일 수 있다. 그리고 보호막(210)은 소자층(300)을 커버하도록 형성된 제 1 무기물층(211a), 제 1 무기물층(211a) 상에서 복수의 제 1 패턴(212a-1)이 일정 간격 이격되도록 형성된 제 1 유기물 패턴층(212a), 제 1 유기물 패턴층(212a) 상에 형성된 제 2 무기물층(211b), 제 2 무기물층(211b) 상에서 복수의 제 2 패턴(212b-1)이 일정 간격 이격되도록 형성된 제 2 유기물 패턴층(212b), 제 2 유기물 패턴층(212b) 상에 형성된 제 2 무기물층(211b)을 포함한다. 즉, 베이스(b) 상에 소자층(300)을 먼저 형성하고 상기 베이스(b) 상에서 소자층(300)을 커버하도록 보호막(210)을 형성한다. 이와 같은 보호막(210)을 통해 수분 및 산소에 의해 전자 소자의 효율 및 수명이 감소되는 것을 종래에 비해 최소화시킬 수 있다.Referring to FIG. 5, the electronic device according to the second embodiment forms a device layer 300 on a portion of the base (b), and covers the protective layer 210 to cover the device layer 300 on the base (b). Form. The device layer 300 is an organic light emitting layer in which the first electrode 310, the hole injection layer 321, the hole transport layer 322, the light emitting layer 323, the electron transport layer 324, and the second electrode 320 are stacked. Can be. In addition, the passivation layer 210 may include a first inorganic material 211a formed to cover the device layer 300 and a first organic material formed such that a plurality of first patterns 212a-1 are spaced apart from each other on the first inorganic material layer 211a. A second inorganic layer 211b formed on the pattern layer 212a, the first organic pattern layer 212a, and a plurality of second patterns 212b-1 formed on the second inorganic layer 211b so as to be spaced apart from each other by a predetermined interval. And a second inorganic material layer 211b and a second inorganic material layer 211b formed on the second organic pattern layer 212b. That is, the device layer 300 is first formed on the base b, and the passivation layer 210 is formed to cover the device layer 300 on the base b. Through such a protective film 210 it is possible to minimize the efficiency and life of the electronic device is reduced by the moisture and oxygen than in the prior art.

상기에서는 소자층(300)으로 유기발광층을 예를 들어 설명하였다. 하지만 이에 한정되지 않고, 다양한 전자 소자에 적용될 수 있다. 예를 들어, 전기를 이용하여 광을 발생시키는 전기광학소자 및 디스플레이소자 등 다양한 전자 소자에 적용할 수 있다. 또한, 플랙서블한 베이스(b) 상에 소자층(300)을 형성하여 플랙서블한 전기 광학 소자 및 디스플레이 소자 등의 전자 소자를 제작하는 경우에, 실시예들에 따른 보호막(210)을 적용할 수 있다.In the above, the organic light emitting layer has been described as an example of the device layer 300. However, the present invention is not limited thereto and may be applied to various electronic devices. For example, the present invention can be applied to various electronic devices such as an electro-optical device and a display device that generate light using electricity. In addition, when the electronic device such as the flexible electro-optical device and the display device is manufactured by forming the device layer 300 on the flexible base (b), the protective film 210 according to the embodiments may be applied. Can be.

또한, 상기에서는 전기에 의해 광을 발생시키는 전기광학소자 또는 디스플레이소자에 대해 설명하였으나, 광을 발생시키지 않는 다양한 전자 소자 예를 들어, 박막 전지에 보호막을 적용시킬 수 있다.In addition, although the above description has been given of an electro-optical device or a display device that generates light by electricity, a protective film may be applied to various electronic devices that do not generate light, for example, a thin film battery.

도 6은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 전자 소자를 도시한 단면도이다.6 is a cross-sectional view illustrating an electronic device according to a third exemplary embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면, 베이스(b) 및 베이스(b) 상에 형성된 제 1 보호막(210)으로 이루어진 기판(S) 상에 형성된 소자층(300), 제 2 소자층(300) 상에 형성된 제 2 보호막(220)을 포함하도록 전자 소자를 제작할 수 있다. 여기서 제 1 및 제 2 보호막(220)은 동일한 구성 및 구조로 제작된다. 즉, 제 1 및 제 2 보호막(220) 각각은 제 1 무기물층(211a), 제 1 유기물 패턴층(212a), 제 2 무기물층(211b), 제 2 유기물 패턴층(212b), 제 3 무기물층(211c)으로 이루어 진다. 그리고 소자층(300)은 박막 형태의 박막 전지일 수 있다. 이와 같은 보호막(210)을 통해 수분 및 산소에 의해 전자 소자의 효율 및 수명이 감소되는 것을 종래에 비해 최소화시킬 수 있다.Referring to FIG. 6, an element layer 300 formed on a substrate S and a second element layer 300 formed on a substrate S formed of a base B and a first passivation layer 210 formed on the base b. 2, an electronic device may be manufactured to include the passivation layer 220. Here, the first and second passivation layers 220 are manufactured in the same configuration and structure. That is, each of the first and second passivation layers 220 may include a first inorganic material layer 211a, a first organic material pattern layer 212a, a second inorganic material layer 211b, a second organic material pattern layer 212b and a third inorganic material. It is made of layer 211c. The device layer 300 may be a thin film battery of a thin film form. Through such a protective film 210 it is possible to minimize the efficiency and life of the electronic device is reduced by the moisture and oxygen than in the prior art.

상기에서는 제 1 보호막(210)과 제 2 보호막(220) 사이에 형성되는 소자층(300)으로 박막 전지를 예를 들어 설명하였다. 하지만 이에 한정되지 않고 유기발광층과 같은 다양한 전기광학층을 소자층(300)으로 이용할 수 있다.In the above, the thin film battery has been described as an example of the device layer 300 formed between the first passivation layer 210 and the second passivation layer 220. However, the present invention is not limited thereto, and various electro-optic layers such as an organic light emitting layer may be used as the device layer 300.

211a: 제 1 무기물층 211b: 제 2 무기물층
211c: 제 3 무기물층 212a: 제 1 유기물층
212b: 제 2 유기물층211a: first inorganic layer 211b: second inorganic layer
211c: third inorganic material layer 212a: first organic material layer
212b: second organic material layer

Claims (12)

무기물층;
유기물로 이루어진 복수의 패턴이 상기 무기물층 상에서 상호 이격되어 형성된 유기물 패턴층을 포함하는 보호막.Inorganic layer;
A protective film comprising an organic pattern layer formed of a plurality of patterns made of an organic material spaced apart from each other on the inorganic material layer. 청구항 1에 있어서,
상기 무기물층 및 유기물 패턴층이 상하 방향으로 교대로 복수번 적층되는 보호막.The method according to claim 1,
A protective film in which the inorganic layer and the organic pattern layer is laminated a plurality of times alternately in the vertical direction. 청구항 2에 있어서,
상기 상하 방향으로 교대로 복수번 적층된 유기물 패턴층 각각의 복수의 패턴에 있어서,
상측에 배치된 상기 복수의 패턴과 하측에 배치된 복수의 패턴이 서로 엇갈리게 배치되도록 형성되는 보호막.The method according to claim 2,
In the plurality of patterns of each of the organic material pattern layer laminated alternately a plurality of times in the vertical direction,
The protective film is formed so that the plurality of patterns arranged on the upper side and the plurality of patterns arranged on the lower side are alternately arranged. 청구항 1에 있어서,
상기 유기물 패턴층의 복수의 패턴 사이의 이격 거리는 상기 무기물층에 형성된 복수의 결함 사이의 이격 거리에 비해 작도록 형성하는 보호막.The method according to claim 1,
A protective film is formed so that the separation distance between the plurality of patterns of the organic pattern layer is smaller than the separation distance between a plurality of defects formed in the inorganic material layer. 베이스;
상기 베이스의 일측면에 형성된 보호막을 포함하고,
상기 보호막은 베이스의 일측에 형성된 무기물층;
유기물로 이루어진 복수의 패턴이 상기 무기물층 상에서 상호 이격되어 형성된 유기물 패턴층을 포함하는 기판.Base;
A protective film formed on one side of the base,
The protective film is an inorganic layer formed on one side of the base;
A substrate comprising an organic pattern layer formed of a plurality of patterns made of an organic material spaced apart from each other on the inorganic material layer. 청구항 5에 있어서,
상기 베이스는 유리, 플라스틱, 고분자 필름, 종이, 실리콘 웨이퍼 중 하나를 사용하는 기판.The method according to claim 5,
The base is a substrate using one of glass, plastic, polymer film, paper, silicon wafer. 청구항 5에 있어서,
상기 무기물층 및 유기물 패턴층이 상하 방향으로 교대로 복수번 적층되도록 형성되고,
상측에 배치된 상기 복수의 패턴과 하측에 배치된 복수의 패턴이 서로 엇갈리게 배치되도록 형성되는 기판.The method according to claim 5,
The inorganic material layer and the organic material pattern layer is formed so as to be alternately stacked a plurality of times in the vertical direction,
The substrate is formed such that the plurality of patterns disposed on the upper side and the plurality of patterns disposed on the lower side are alternately arranged. 청구항 5에 있어서,
상기 유기물 패턴층의 복수의 패턴 사이의 이격 거리는 상기 무기물층에 형성된 복수의 결함 사이의 이격 거리에 비해 작도록 형성하는 기판.The method according to claim 5,
The separation distance between the plurality of patterns of the organic material pattern layer is formed to be smaller than the separation distance between a plurality of defects formed in the inorganic material layer. 상기 베이스의 일측에 형성된 소자층;
상기 베이스와 소자층 사이 및 상기 소자층의 상측 중 적어도 어느 하나의 위치에 형성되며, 무기물층 및 유기물 재료를 이용하여 형성된 복수의 패턴이 상기 무기물층 상에서 상호 이격 배치되는 유기물 패턴층을 구비하는 보호막을 포함하는 전자 소자.An element layer formed on one side of the base;
A protective film formed between at least one of the base and the device layer and an upper side of the device layer, and a plurality of patterns formed by using an inorganic material and an organic material are disposed on the inorganic material and spaced apart from each other. Electronic device comprising a. 청구항 9에 있어서,
상기 베이스는 유리, 플라스틱, 고분자 필름, 종이, 실리콘 웨이퍼 중 하나를 사용하는 전자 소자.The method according to claim 9,
The base is an electronic device using one of glass, plastic, polymer film, paper, silicon wafer. 청구항 9에 있어서,
상기 보호막의 무기물층 및 유기물 패턴층이 상하 방향으로 교대로 복수번 적층되고,
상측에 배치된 상기 복수의 패턴과 하측에 배치된 복수의 패턴이 서로 엇갈리게 배치되도록 형성되는 전자 소자.The method according to claim 9,
The inorganic material layer and the organic material pattern layer of the protective film are alternately stacked a plurality of times in the vertical direction,
And the plurality of patterns disposed above and the plurality of patterns disposed below are alternately arranged. 청구항 9 내지 청구항 11에 있어서,
상기 소자층은 전기 광학층, 박막 전지층인 전자 소자.The method according to claim 9 to 11,
The device layer is an electro-optical layer, a thin film battery layer.
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