KR20120072891A - Method manufacturing of organic light emitting diode - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A method for manufacturing an organic light emitting device is provided to easily form a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer through one scanning process by separately arranging electron transport materials and hole transport materials in a source moving in one direction. CONSTITUTION: A first electrode(120) is located on a substrate(110). A hole injection layer(131) is located on the first electrode. A hole transport layer(132) is located on the hole injection layer. A light emitting layer(140) is located on the hole transport layer. An electron transport layer(151) and an electron injection layer(152) are located on the light emitting layer. A second electrode(160) is located on the electron injection layer.

Description

유기전계발광소자의 제조방법{METHOD MANUFACTURING OF ORGANIC LIGHT EMITTING DIODE}Manufacturing method of organic electroluminescent device {METHOD MANUFACTURING OF ORGANIC LIGHT EMITTING DIODE}

본 발명은 유기전계발광소자에 관한 것으로 보다 자세하게는 유기전계발광소자의 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to an organic light emitting display device, and more particularly, to a method of manufacturing an organic light emitting display device.

최근, 평판표시장치(FPD: Flat Panel Display)는 멀티미디어의 발달과 함께 그 중요성이 증대되고 있다. 이에 부응하여 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display: LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel: PDP), 전계방출표시장치(Field Emission Display: FED), 유기전계발광소자(Organic Light Emitting Device) 등과 같은 여러 가지의 평면형 디스플레이가 실용화되고 있다.2. Description of the Related Art In recent years, the importance of flat panel displays (FPDs) has been increasing with the development of multimedia. In response to this, a variety of liquid crystal displays (LCDs), plasma display panels (PDPs), field emission displays (FEDs), organic light emitting devices (Organic Light Emitting Devices), etc. Flat panel displays have been put into practical use.

특히, 유기전계발광소자는 응답속도가 1ms 이하로서 고속의 응답속도를 가지며, 소비 전력이 낮고 자체 발광이다. 또한, 시야각에 문제가 없어서 장치의 크기에 상관없이 동화상 표시 매체로서 장점이 있다. 또한, 저온 제작이 가능하고, 기존의 반도체 공정 기술을 바탕으로 제조 공정이 간단하므로 향후 차세대 평판 표시 장치로 주목받고 있다.In particular, the organic light emitting device has a high response time with a response speed of 1 ms or less, low power consumption, and self-luminous light. In addition, there is no problem in viewing angle, which is advantageous as a moving image display medium regardless of the size of the device. In addition, low-temperature manufacturing is possible, and the manufacturing process is simple based on the existing semiconductor process technology has attracted attention as a next-generation flat panel display device in the future.

유기전계발광소자는 양극과 음극 사이에 발광층을 포함하고 있어 양극으로부터 공급받는 정공과 음극으로부터 받은 전자가 발광층 내에서 결합하여 정공-전자쌍인 여기자(exciton)를 형성하고 다시 여기자가 바닥상태로 돌아오면서 발생하는 에너지에 의해 발광하게 된다.The organic light emitting device includes a light emitting layer between the anode and the cathode, and holes supplied from the anode and electrons received from the cathode combine in the light emitting layer to form an exciton, which is a hole-electron pair, and then the excitons return to the ground state. The energy is emitted by the generated energy.

그러나, 상기와 같은 유기전계발광소자는 사용되는 재료나 적층구조 등에 따라 소자의 수명 및 효율에 큰 영향을 미친다. 따라서, 보다 우수한 수명 및 효율을 갖는 유기전계발광소자를 개발하기 위한 연구가 계속 진행 중에 있다.
However, the organic light emitting device as described above has a great influence on the life and efficiency of the device depending on the material and the laminated structure used. Therefore, research for developing an organic light emitting display device having a superior lifetime and efficiency is ongoing.

본 발명은 우수한 수명 및 발광효율을 갖는 유기전계발광소자의 제조방법을 제공한다.
The present invention provides a method of manufacturing an organic light emitting display device having excellent lifespan and luminous efficiency.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 일 실시 예에 따른 유기전계발광소자의 제조방법은 기판 상에 제 1 전극을 형성하는 단계, 상기 제 1 전극이 형성된 상기 기판에 정공수송물질 및 전자수송물질이 순서대로 배열된 소스를 준비하는 단계, 상기 정공수송물질이 배치된 방향으로 상기 소스를 가열하면서 한번 스캔하여, 상기 제 1 전극 상에 정공수송층, 상기 정공수송물질과 상기 전자수송물질의 혼합층인 발광층 및 전자수송층을 동시에 순차적으로 형성하는 단계 및 상기 발광층 상에 제 2 전극을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.In order to achieve the above object, a method of manufacturing an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention comprises the steps of forming a first electrode on a substrate, the hole transport material and electron transport on the substrate on which the first electrode is formed Preparing a source in which materials are arranged in order, scanning once while heating the source in the direction in which the hole transport material is disposed, a hole transport layer on the first electrode, a mixed layer of the hole transport material and the electron transport material And sequentially forming a phosphorescent emission layer and an electron transporting layer at the same time, and forming a second electrode on the emission layer.

상기 소스는 상기 정공수송물질 및 상기 전자수송물질의 사이에 위치하는 녹색 인광 도펀트 물질을 더 포함하며, 상기 정공수송물질 및 상기 전자수송물질의 증착과 동시에 상기 도펀트 물질을 증착할 수 있다.The source may further include a green phosphorescent dopant material positioned between the hole transport material and the electron transport material, and may deposit the dopant material simultaneously with the deposition of the hole transport material and the electron transport material.

상기 정공수송층, 상기 정공수송물질과 상기 전자수송물질의 혼합층인 발광층 및 전자수송층을 형성하는 단계는, 상기 기판으로 상기 소스의 정공수송물질이 먼저 증착되어, 정공수송층을 형성하는 단계, 상기 정공수송층이 형성되면서, 상기 소스의 전자수송물질의 증착이 시작되어 상기 정공수송물질과 상기 전자수송물질의 공증착에 의해 상기 발광층을 형성하는 단계 및 상기 발광층이 형성되면서, 상기 전자수송물질만 증착되어 전자수송층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.Forming the hole transport layer, the light emitting layer and the electron transport layer which is a mixed layer of the hole transport material and the electron transport material, the hole transport material of the source is first deposited on the substrate, to form a hole transport layer, the hole transport layer While forming, the deposition of the electron transport material of the source is started to form the light emitting layer by the co-deposition of the hole transport material and the electron transport material and the light emitting layer is formed, only the electron transport material is deposited electrons Forming a transport layer may be included.

상기 정공수송층을 형성하기 전에, 상기 제 1 전극 상에 정공주입층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.Before forming the hole transport layer, the method may further include forming a hole injection layer on the first electrode.

상기 제 2 전극을 형성하기 전에, 상기 전자수송층 상에 전자주입층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.Before forming the second electrode, the method may further include forming an electron injection layer on the electron transport layer.

상기 발광층은 상기 정공수송물질과 상기 전자수송물질의 혼합비가 1:1일 수 있다.In the light emitting layer, a mixing ratio of the hole transport material and the electron transport material may be 1: 1.

상기 소스의 스캔은 상기 기판의 일측 외곽에서 시작하여 상기 기판의 타측 외곽에서 종료될 수 있다.
Scanning of the source may begin at one outer side of the substrate and end at the other outer side of the substrate.

본 발명의 일 실시 예에 따른 유기전계발광소자는 정공수송물질과 전자수송물질의 혼합비가 1:1인 발광층을 형성함으로써, 발광효율 및 수명을 크게 향상시킬 수 있는 이점이 있다. 또한, 소스를 스캔하는 공정을 통해, 정공수송층, 발광층 및 전자수송층을 간단하게 형성할 수 있는 이점이 있다.
An organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention has an advantage of greatly improving light emission efficiency and lifetime by forming a light emitting layer having a mixing ratio of a hole transport material and an electron transport material in a 1: 1 ratio. In addition, through the process of scanning the source, there is an advantage that can easily form a hole transport layer, a light emitting layer and an electron transport layer.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 유기전계발광소자를 나타낸 도면.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 유기전계발광소자를 제조하기 위한 증착장치를 나타낸 도면.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 소스를 나타낸 평면도.
도 4a 내지 도 4c는 본 발명의 일 실시 예에 따른 유기전계발광소자의 제조방법을 공정별로 나타낸 도면.
도 5는 본 발명의 실시예1 및 비교예에 따라 제조된 유기전계발광소자의 수명을 측정하여 나타낸 그래프.
도 6은 본 발명의 실시예1, 2 및 3에 따라 제조된 유기전계발광소자의 수명을 측정하여 나타낸 그래프.
1 is a view showing an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention.
2 is a view showing a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention.
3 is a plan view showing a source according to an embodiment of the present invention.
4A to 4C are diagrams illustrating processes for manufacturing an organic light emitting display device according to one embodiment of the present invention.
5 is a graph showing the life of the organic light emitting display device manufactured according to Example 1 and Comparative Example of the present invention.
Figure 6 is a graph showing the measurement of the life of the organic light emitting display device manufactured according to Examples 1, 2 and 3 of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시 예들을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 유기전계발광소자를 나타낸 도면이다.1 is a view showing an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 유기전계발광소자(100)는 기판(110), 상기 기판(110) 상에 위치하는 제 1 전극(120), 상기 제 1 전극(120) 상에 위치하는 정공주입층(131), 상기 정공주입층(131) 상에 위치하는 정공수송층(132), 상기 정공수송층(132) 상에 위치하는 발광층(140), 상기 발광층(140) 상에 위치하는 전자수송층(151), 상기 전자수송층(151) 상에 위치하는 전자주입층(152) 및 상기 전자주입층(152) 상에 위치하는 제 2 전극(160)을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 1, an organic light emitting display device 100 according to an embodiment of the present invention may include a substrate 110, a first electrode 120 and a first electrode 120 positioned on the substrate 110. On the hole injection layer 131 positioned on the hole, the hole transport layer 132 located on the hole injection layer 131, the light emitting layer 140 located on the hole transport layer 132, on the light emitting layer 140 The electron transport layer 151 may be positioned, an electron injection layer 152 positioned on the electron transport layer 151, and a second electrode 160 located on the electron injection layer 152.

상기 기판(110)은 유리, 플라스틱 또는 금속으로 이루어질 수 있으며, 반도체층, 게이트 전극, 소오스 전극 및 드레인 전극으로 이루어진 박막 트랜지스터를 더 포함할 수 있다.The substrate 110 may be made of glass, plastic, or metal, and may further include a thin film transistor including a semiconductor layer, a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode.

상기 제 1 전극(120)은 투명한 전극 또는 반사 전극일 수 있다. 제 1 전극(120)이 투명한 전극인 경우에 제 1 전극(120)은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide) 또는 ZnO(Zinc Oxide) 중 어느 하나일 수 있다. The first electrode 120 may be a transparent electrode or a reflective electrode. When the first electrode 120 is a transparent electrode, the first electrode 120 may be any one of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), or zinc oxide (ZnO).

또한, 제 1 전극(120)이 반사 전극일 경우에 제 1 전극(120)은 ITO, IZO 또는 ZnO 중 어느 하나로 이루어진 층 하부에 알루미늄(Al), 은(Ag) 또는 니켈(Ni) 중 어느 하나로 이루어진 반사층을 더 포함할 수 있고, 이와 더불어, ITO, IZO 또는 ZnO 중 어느 하나로 이루어진 두 개의 층 사이에 상기 반사층을 포함할 수 있다.In addition, when the first electrode 120 is a reflective electrode, the first electrode 120 is formed of any one of aluminum (Al), silver (Ag), or nickel (Ni) under a layer made of any one of ITO, IZO, or ZnO. The reflective layer may further include a reflective layer, and in addition, the reflective layer may be included between two layers made of any one of ITO, IZO, or ZnO.

제 1 전극(120)은 스퍼터링법(Sputtering), 증발법(Evaporation), 기상증착법(Vapor Phase Deposition) 또는 전자빔증착법(Electron Beam Deposition)을 사용하여 형성할 수 있다.The first electrode 120 may be formed using a sputtering method, an evaporation method, a vapor phase deposition method, or an electron beam deposition method.

상기 제 1 전극(120) 상에 정공주입층(131) 및 정공수송층(132)이 위치한다. 상기 정공주입층(131)은 제 1 전극(120)으로부터 발광층(140)으로 정공의 주입을 원활하게 하는 역할을 할 수 있으며, CuPc(cupper phthalocyanine), PEDOT(poly(3,4)-ethylenedioxythiophene), PANI(polyaniline) 및 NPD(N,N-dinaphthyl-N,N'-diphenyl benzidine)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상으로 이루어질 수 있으나 이에 한정되지 않는다. The hole injection layer 131 and the hole transport layer 132 are positioned on the first electrode 120. The hole injection layer 131 may play a role of smoothly injecting holes from the first electrode 120 to the emission layer 140, and may include cupper phthalocyanine (CuPc) and poly (3,4) -ethylenedioxythiophene (PEDOT). , PANI (polyaniline) and NPD (N, N-dinaphthyl-N, N'-diphenyl benzidine) may be made of any one or more selected from the group consisting of, but is not limited thereto.

정공주입층(131)은 증발법 또는 스핀코팅법을 이용하여 형성할 수 있다. The hole injection layer 131 may be formed using an evaporation method or a spin coating method.

상기 정공수송층(132)은 정공의 수송을 원활하게 하는 역할을 하며, NPD(N,N-dinaphthyl-N,N'-diphenyl benzidine), TPD(N,N'-bis-(3-methylphenyl)-N,N'-bis-(phenyl)-benzidine), s-TAD 및 MTDATA(4,4',4"-Tris(N-3-methylphenyl-N-phenyl-amino)-triphenylamine)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상으로 이루어질 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The hole transport layer 132 serves to facilitate the transport of holes, NPD (N, N-dinaphthyl-N, N'-diphenyl benzidine), TPD (N, N'-bis- (3-methylphenyl)- N, N'-bis- (phenyl) -benzidine), s-TAD and MTDATA (4,4 ', 4 "-Tris (N-3-methylphenyl-N-phenyl-amino) -triphenylamine) It may be made of any one or more, but is not limited thereto.

정공수송층(132)은 증발법 또는 스핀코팅법을 이용하여 형성할 수 있다. The hole transport layer 132 may be formed using an evaporation method or a spin coating method.

상기 정공수송층(132) 상에 발광층(140)이 위치한다. 발광층(140)은 정공수송물질과 전자수송물질의 혼합층일 수 있다. 여기서, 정공수송물질은 정공의 수송을 원할하게 하는 정공수송물질들로 이루어지며, 예를 들어 앞서 설명한 정공수송층과 동일한 물질로 이루어질 수 있다. 또한, 전자수송물질은 전자의 수송을 원할하게 하는 전자수송물질로 이루어지며, 예를 들어, Alq3(tris(8-hydroxyquinolino)aluminum), PBD, TAZ, spiro-PBD, BAlq 및 SAlq로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상으로 이루어질 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The emission layer 140 is positioned on the hole transport layer 132. The emission layer 140 may be a mixed layer of a hole transport material and an electron transport material. Here, the hole transport material is made of hole transport materials to facilitate the transport of holes, for example, may be made of the same material as the hole transport layer described above. In addition, the electron transport material is made of an electron transport material to facilitate the transport of electrons, for example, in the group consisting of Alq3 (tris (8-hydroxyquinolino) aluminum), PBD, TAZ, spiro-PBD, BAlq and SAlq It may be made of one or more selected, but is not limited thereto.

상기 발광층(140)은 정공수송물질과 전자수송물질의 혼합층으로 정공수송물질과 전자수송물질의 혼합비는 1:1로 이루어진다. 만약, 발광층(140)에서 정공수송물질과 전자수송물질의 혼합비가 어느 한쪽으로 비중이 높아지면, 전하들이 정공수송층과 발광층 또는 전자수송층과 발광층 사이의 계면에서 발광하지 않고 열로 손실되어 소자의 열화를 초래하는 문제점이 있다. 따라서, 본 발명에서는 발광층(140)에서 정공수송물질과 전자수송물질의 혼합비를 1:1로 형성한다.The light emitting layer 140 is a mixed layer of a hole transport material and an electron transport material, the mixing ratio of the hole transport material and the electron transport material is 1: 1. If the mixing ratio of the hole transporting material and the electron transporting material is increased to one of the light emitting layers 140, the charges are lost as heat without emitting light at the interface between the hole transporting layer and the light emitting layer or the electron transporting layer and the light emitting layer, thereby deteriorating the device. There is a problem that results. Therefore, in the present invention, the mixing ratio of the hole transporting material and the electron transporting material in the light emitting layer 140 is 1: 1.

그리고, 발광층(140)에 혼합된 정공수송물질과 전자수송물질은 각각이 발광층(140)의 호스트 물질로 작용한다. 그리고, 발광층(140)에는 녹색 인광 도펀트를 포함한다. 녹색 인광 도펀트로는 예를 들어 Ir(ppy)2(acac), Ir(ppy)3(fac tris(2-phenylpyridine)iridium) 등으로 이루어질 수 있다.The hole transport material and the electron transport material mixed in the light emitting layer 140 each act as a host material of the light emitting layer 140. In addition, the emission layer 140 includes a green phosphorescent dopant. The green phosphorescent dopant may include, for example, Ir (ppy) 2 (acac) or Ir (ppy) 3 (fac tris (2-phenylpyridine) iridium).

상기 발광층(140) 상에 전자수송층(151)이 위치한다. 전자수송층(151)은 전술한 전자수송물질로 이루어질 수 있다.The electron transport layer 151 is positioned on the light emitting layer 140. The electron transport layer 151 may be made of the above-described electron transport material.

상기 전자수송층(151) 상에 전자주입층(152)이 위치한다. 전자주입층(152)은 전자의 주입을 원활하게 하는 역할을 하며, Alq3(tris(8-hydroxyquinolino)aluminum), PBD, TAZ, spiro-PBD, BAlq 또는 SAlq를 사용할 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 또한, 전자주입층(152)은 무기물로 이루어질 수 있으며, 무기물은 금속화합물일 수 있다. 예를 들어, 전자주입층(152)은 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속을 포함할 수 있으며, 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속을 포함하는 금속화합물은 LiQ, LiF, NaF, KF, RbF, CsF, FrF, BeF2, MgF2, CaF2, SrF2, BaF2 및 RaF2로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상일 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 전자주입층(152)은 증발법 또는 스핀코팅법을 이용하여 형성할 수 있으며, 전자주입층(152)의 두께는 1 내지 50nm일 수 있다.The electron injection layer 152 is positioned on the electron transport layer 151. The electron injection layer 152 serves to facilitate the injection of electrons, and may be used as Alq3 (tris (8-hydroxyquinolino) aluminum), PBD, TAZ, spiro-PBD, BAlq or SAlq, but is not limited thereto. In addition, the electron injection layer 152 may be made of an inorganic material, and the inorganic material may be a metal compound. For example, the electron injection layer 152 may include an alkali metal or an alkaline earth metal, and the metal compound including the alkali metal or the alkaline earth metal may be LiQ, LiF, NaF, KF, RbF, CsF, FrF, BeF 2 , MgF 2, CaF 2, SrF 2 , BaF 2 and RaF 2 be at least one selected from the group consisting of, but not limited to this. The electron injection layer 152 may be formed using an evaporation method or a spin coating method, and the thickness of the electron injection layer 152 may be 1 to 50 nm.

상기 전자주입층(152) 상에 제 2 전극(160)이 위치한다. 제 2 전극(160)은 일함수가 낮은 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca), 알루미늄(Al), 은(Ag) 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있다. 여기서, 제 2 극(160)은 유기전계발광소자가 전면 또는 양면발광구조일 경우, 빛을 투과할 수 있을 정도로 얇은 두께로 형성할 수 있으며, 유기전계발광소자가 배면발광구조일 경우, 빛을 반사시킬 수 있을 정도로 두껍게 형성할 수 있다. 상기와 같이, 본 발명의 일 실시 예에 따른 유기전계발광소자(100)가 구성될 수 있다. The second electrode 160 is positioned on the electron injection layer 152. The second electrode 160 may be made of magnesium (Mg), calcium (Ca), aluminum (Al), silver (Ag), or an alloy thereof having a low work function. Here, the second pole 160 may be formed to a thickness thin enough to transmit light when the organic light emitting device is a front or double-sided light emitting structure, when the organic light emitting device is a rear light emitting structure, the light It can be formed thick enough to reflect. As described above, the organic light emitting display device 100 according to the exemplary embodiment of the present invention may be configured.

이하, 전술한 본 발명의 일 실시 예에 따른 유기전계발광소자의 제조방법을 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a method of manufacturing the organic light emitting display device according to the embodiment of the present invention described above is as follows.

도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 유기전계발광소자를 제조하기 위한 증착장치를 나타낸 도면이고, 도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 소스를 나타낸 평면도이다.2 is a view showing a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is a plan view showing a source according to an embodiment of the present invention.

도 2 및 도 3을 참조하면, 증착장치(300)는 진공챔버(310) 내에 기판(110)이 기판 플레이트(320)에 고정되고, 상기 기판(110)의 하부에는 증착재료가 담긴 소스(330)가 위치하게 된다. 이때, 소스(330)는 일정 방향으로 왕복 운동을 할 수 있다.2 and 3, in the deposition apparatus 300, a substrate 110 is fixed to a substrate plate 320 in a vacuum chamber 310, and a source 330 containing a deposition material under the substrate 110. ) Will be located. In this case, the source 330 may reciprocate in a predetermined direction.

소스(330)의 일면에는 일측에 정공수송물질(340)이 배열되고, 타측에 전자수송물질(360)이 배열된다. 그리고, 전자수송물질(340)과 정공수송물질(360) 사이에 녹색 인광 도펀트(350)가 배열된다. On one surface of the source 330, the hole transport material 340 is arranged on one side, and the electron transport material 360 is arranged on the other side. The green phosphorescent dopant 350 is arranged between the electron transport material 340 and the hole transport material 360.

위와 같이 구성된 증착장치(300)를 이용하여 본 발명의 유기전계발광소자의 제조방법을 공정별로 설명하면 다음과 같다.The manufacturing method of the organic electroluminescent device of the present invention using the deposition apparatus 300 configured as described above will be described as follows.

도 4a 내지 도 4c는 본 발명의 일 실시 예에 따른 유기전계발광소자의 제조방법을 공정별로 나타낸 도면이다.4A to 4C are diagrams illustrating processes for manufacturing an organic light emitting display device according to one embodiment of the present invention.

도 4a를 참조하면, 기판(110) 상에 제 1 전극 및 정공주입층을 형성한 후, 진공챔버의 기판 플레이트(320)에 기판(110)을 장착한다.Referring to FIG. 4A, after forming the first electrode and the hole injection layer on the substrate 110, the substrate 110 is mounted on the substrate plate 320 of the vacuum chamber.

그리고, 소스(330)에 정공수송물질(340), 전자수송물질(360) 및 녹색 인광 도펀트(미도시)를 배열한 후, 소스(330)를 가열하여 정공수송물질(340)이 배열된 방향으로 스캔한다.The hole transport material 340, the electron transport material 360, and the green phosphorescent dopant (not shown) are arranged in the source 330, and then the source 330 is heated to arrange the hole transport material 340. Scan with

이때, 소스(330)에는 정공수송물질(340)과 전자수송물질(360)이 이격되어 배열되기 때문에, 도면에 도시된 바와 같이, 정공수송물질(340)만 증발되는 영역(A1), 정공수송물질(340)과 전자수송물질(360)이 동시에 증발되는 영역(A2) 및 전자수송물질(360)만 증발되는 영역(A3)으로 나눠지게 된다. 그리고, 녹색 인광 도펀트(미도시)는 모든 영역에 동시에 증발되게 된다.In this case, since the hole transport material 340 and the electron transport material 360 are arranged to be spaced apart from each other in the source 330, as shown in the drawing, only the hole transport material 340 is evaporated (A1) and the hole transport is performed. The material 340 and the electron transport material 360 are divided into a region A2 at which the evaporation is simultaneously evaporated, and only the electron transport material 360 is evaporated. In addition, the green phosphorescent dopant (not shown) is simultaneously evaporated in all regions.

그리고, 상기 소스(330)의 스캔은 기판(110)의 일측 외곽에서 시작된다. 즉, 정공수송물질(340)만 증발되는 영역(A1)이 기판(110)의 일측 외곽에 위치하였다가 소스(330)의 스캔에 따라 기판(110)으로 증발되어 증착된다.In addition, the scanning of the source 330 starts at one side of the substrate 110. That is, the region A1 in which only the hole transport material 340 is evaporated is located at one outer side of the substrate 110 and then vaporized and deposited on the substrate 110 according to the scan of the source 330.

이어, 도 4b를 참조하면, 소스(330)를 제 1 스캔하면 정공수송물질(340)부터 증착되는 영역(A1)이 기판(110)에 먼저 증착되기 때문에, 정공수송물질(340)만 기판(110)에 증착되어 정공수송층(132)이 형성된다. Subsequently, referring to FIG. 4B, when the first scan of the source 330 is performed, since the region A1 deposited from the hole transport material 340 is first deposited on the substrate 110, only the hole transport material 340 may be used. The hole transport layer 132 is formed by being deposited on 110.

그리고, 정공수송물질(340)과 전자수송물질(360)이 동시에 증발되는 영역(A2)이 뒤이어 기판(110)에 증착되어, 정공수송물질(340)과 전자수송물질(360)이 공증착되어 발광층(140)이 형성된다.Then, a region A2 in which the hole transport material 340 and the electron transport material 360 are simultaneously evaporated is subsequently deposited on the substrate 110, and the hole transport material 340 and the electron transport material 360 are co-deposited. The light emitting layer 140 is formed.

그리고, 전자수송물질(360)이 증발되는 영역(A3)이 뒤이어 기판(110)에 증착되어, 전자수송층(151)이 형성된다. 따라서, 도 4c에 도시된 바와 같이, 기판(110) 상에 정공수송층(132), 발광층(140) 및 전자수송층(151)이 순차적으로 형성된다. 이때, 상기 소스(330)의 스캔은 기판(110)의 타측 외곽에서 종료된다. 즉, 도면에 도시된 바와 같이, 전자수송물질(360)만 증발되는 영역(A3)이 기판(110)의 타측 외곽까지 완전히 벗어난 후 스캔이 종료된다.A region A3 in which the electron transport material 360 is evaporated is subsequently deposited on the substrate 110 to form an electron transport layer 151. Therefore, as shown in FIG. 4C, the hole transport layer 132, the light emitting layer 140, and the electron transport layer 151 are sequentially formed on the substrate 110. In this case, the scan of the source 330 is terminated at the other outer periphery of the substrate 110. That is, as shown in the figure, the scan is terminated after the region A3 in which only the electron transport material 360 is evaporated completely escapes to the other outer side of the substrate 110.

다음, 전자수송층(151)이 형성된 기판(110) 상에 전자수송층 및 제 2 전극을 형성하여 본 발명의 일 실시 예에 따른 유기전계발광소자를 제조한다.Next, an electron transport layer and a second electrode are formed on the substrate 110 on which the electron transport layer 151 is formed, thereby manufacturing an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment.

상기와 같이, 본 발명의 일 실시 예에 따른 유기전계발광소자의 제조방법은 일방향으로 운동하는 소스에 전자수송물질 및 정공수송물질을 이격하여 배치함으로써, 총 1번의 스캔 공정으로 정공수송층(132), 발광층(140) 및 전자수송층(151)을 용이하게 형성할 수 있다.
As described above, in the method of manufacturing an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention, by disposing an electron transport material and a hole transport material on a source moving in one direction, the hole transport layer 132 in a total of one scanning process. The light emitting layer 140 and the electron transport layer 151 can be easily formed.

이하, 본 발명의 유기전계발광소자에 관하여 하기 실시예에서 상술하기로 한다. 다만, 하기의 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, the organic light emitting display device of the present invention will be described in detail in the following Examples. However, the following examples are merely to illustrate the present invention is not limited to the following examples.

실시예1Example 1

유리 기판 상에 발광 면적이 3mm×3mm 크기가 되도록 패터닝한 후 세정하였다. 기판 상에 양극인 ITO를 500Å의 두께로 성막하고, 정공주입층인 CuPc를 1000Å의 두께로 성막하였다. 그리고, 소스에 정공수송물질로 NPD를 구비하고, 전자수송물질로 spiro-PBD를 구비하고, 녹색 인광 도펀트로 Ir(PPY)3을 구비하였다. 이어, 무빙 소스에 열을 가해 스캔시켜 정공수송층을 1000Å의 두께로 성막하고, 녹색 발광층으로 상기 NPD와 spiro-PBD을 혼합한 발광층을 300Å의 두께로 성막하고, 전자수송층을 200Å의 두께로 성막하였다. 이때, 도펀트의 도핑 농도 18%였고, 발광층의 NPD와 spiro-PBD의 혼합비는 1:1이었다. 다음, 전자주입층인 LiF를 10Å의 두께로 성막하고, 음극인 Al을 1000Å의 두께로 성막하여 유기전계발광소자를 제작하였다.
The light emitting area was patterned to a size of 3 mm x 3 mm on the glass substrate and then washed. ITO which is an anode was formed into a film at a thickness of 500 kPa, and CuPc which was a hole injection layer was formed into a film at a thickness of 1000 kPa. The source was provided with NPD as a hole transport material, spiro-PBD as an electron transport material, and Ir (PPY) 3 as a green phosphorescent dopant. Subsequently, heat was applied to the moving source and scanned to form a hole transport layer at a thickness of 1000 mW, a light emitting layer in which the NPD and spiro-PBD were mixed at a thickness of 300 mW as a green light emitting layer, and an electron transport layer was formed at a thickness of 200 mW. . At this time, the doping concentration of the dopant was 18%, and the mixing ratio of NPD and spiro-PBD of the light emitting layer was 1: 1. Next, LiF, an electron injection layer, was formed to a thickness of 10 GPa, and Al, a cathode, was formed to a thickness of 1000 GPa, to fabricate an organic EL device.

비교예Comparative example

전술한 실시예1과 동일하게 정공주입층까지 형성하고, 하나의 소스가 구비된 챔버 내에서 정공수송층으로 CuPc를 1000Å의 두께로 성막하였다. 그리고, 호스트인 NPD에 도펀트인 Ir(PPY)3을 18% 도핑농도로 300Å의 두께로 발광층을 형성하였다. 다음, 전자수송층인 spiro-PBD를 200Å의 두께로 형성하고, 전자주입층인 LiF를 10Å의 두께로 성막하고, 음극인 Al을 1000Å의 두께로 성막하여 유기전계발광소자를 제조하였다.
In the same manner as in Example 1, the hole injection layer was formed, and CuPc was formed into a hole transport layer in a chamber provided with one source to a thickness of 1000 kPa. In addition, a light emitting layer was formed on NPD, a host, with a dopant Ir (PPY) 3 having a thickness of 300 GPa with an 18% doping concentration. Next, spiro-PBD, which is an electron transport layer, was formed to a thickness of 200 mW, a LiF, which was an electron injection layer, was formed to a thickness of 10 mW, and Al was formed to a thickness of 1000 mW to prepare an organic light emitting device.

상기 실시예1 및 비교예에 따라 제조된 유기전계발광소자의 구동전압, 발광효율, 양자효율 및 색좌표를 측정하여 하기 표 1에 나타내었고, 수명을 측정한 그래프를 도 5에 나타내었다. The driving voltage, the luminous efficiency, the quantum efficiency, and the color coordinates of the organic light emitting diodes manufactured according to Example 1 and Comparative Example were measured and shown in Table 1 below.


구동전압
(V)
Driving voltage
(V)
발광효율
(Cd/A)
Luminous efficiency
(Cd / A)
색좌표Color coordinates 양자효율(%)
Quantum Efficiency (%)
CIE_xCIE_x CIE_yCIE_y 비교예Comparative example 3.63.6 51.851.8 0.2360.236 0.7180.718 13.913.9 실시예1Example 1 3.83.8 76.376.3 0.2480.248 0.7060.706 20.620.6

상기 표 1 및 도 5를 참조하면, 비교예에 비해 본 발명의 실시예1에서 발광효율 및 양자효율이 1.5배 정도 향상된 것을 알 수 있었다. 즉, 비교예인 하나의 호스트에 하나의 도펀트가 포함된 유기전계발광소자에 비해, 본 발명의 실시예1은 2개의 호스트가 구비된 소스를 이용하여 정공수송물질과 전자수송물질의 혼합인 발광층을 형성함으로써, 발광효율 및 양자효율을 증가시킬 수 있음을 알 수 있었다.
Referring to Table 1 and Figure 5, it can be seen that in Example 1 of the present invention compared to the comparative example the luminous efficiency and quantum efficiency is about 1.5 times improved. That is, in comparison to an organic light emitting device in which one dopant is included in one host as a comparative example, Example 1 of the present invention uses a source provided with two hosts to form a light emitting layer that is a mixture of a hole transport material and an electron transport material. By forming, it was found that the luminous efficiency and the quantum efficiency can be increased.

실시예2Example 2

전술한 실시예1과 동일한 공정 조건 하에, 정공수송물질과 전자수송물질의 혼합비를 2:1로 달리하여 유기전계발광소자를 제조하였다.
Under the same process conditions as in Example 1, an organic light emitting diode was manufactured by varying the mixing ratio of the hole transport material and the electron transport material to 2: 1.

실시예3Example 3

전술한 실시예1과 동일한 공정 조건 하에, 정공수송물질과 전자수송물질의 혼합비를 1:2로 달리하여 유기전계발광소자를 제조하였다.
Under the same process conditions as in Example 1, an organic light emitting diode was manufactured by varying the mixing ratio of the hole transport material and the electron transport material to 1: 2.

상기 실시예1, 2 및 3에 따라 제조된 유기전계발광소자의 수명을 측정하여 나타낸 그래프를 도 6에 나타내었다.6 is a graph illustrating the lifespan of the organic light emitting diodes manufactured according to Examples 1, 2, and 3.

도 6을 참조하면, 실시예 2 및 3에 따라 제조된 유기전계발광소자에 비해 실시예1에 따라 제조된 유기전계발광소자의 수명 특성이 월등하게 향상된 것을 알 수 있다.Referring to FIG. 6, it can be seen that the life characteristics of the organic light emitting diodes manufactured according to Example 1 are significantly improved compared to the organic light emitting diodes manufactured according to Examples 2 and 3.

즉, 본 발명의 실시예1과 같이, 호스트로 작용하는 정공수송물질과 전자수송물질의 혼합비를 1:1로 형성함으로써, 발광층 내의 전하들이 어느 한쪽에 치우쳐져 발광하지 않고 열로 손실되면서 소자의 열화를 촉진하는 것을 방지할 수 있는 이점이 있다.That is, as in the first embodiment of the present invention, by forming a mixture ratio of the hole transport material and the electron transport material to act as a host 1: 1, the charge in the light emitting layer is biased on either side and is lost as heat without emitting light deterioration of the device There is an advantage that can be prevented from promoting.

상기와 같이, 본 발명의 일 실시 예에 따른 유기전계발광소자는 정공수송물질과 전자수송물질의 혼합비가 1:1인 발광층을 형성함으로써, 발광효율 및 수명을 크게 향상시킬 수 있는 이점이 있다. As described above, the organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention has an advantage in that the light emitting layer having a mixing ratio of the hole transport material and the electron transport material is 1: 1, thereby greatly improving luminous efficiency and lifetime.

또한, 소스를 스캔하는 공정을 통해, 정공수송층, 발광층 및 전자수송층을 간단하게 형성할 수 있는 이점이 있다. In addition, through the process of scanning the source, there is an advantage that can easily form a hole transport layer, a light emitting layer and an electron transport layer.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 상술한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 한다. 아울러, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어진다. 또한, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood that the invention may be practiced. Therefore, the embodiments described above are to be understood as illustrative and not restrictive in all aspects. In addition, the scope of the present invention is shown by the claims below, rather than the above detailed description. Also, it is to be construed that all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalent concepts are included in the scope of the present invention.

Claims (7)

기판 상에 제 1 전극을 형성하는 단계;
상기 제 1 전극이 형성된 상기 기판에 정공수송물질 및 전자수송물질이 순서대로 배열된 소스를 준비하는 단계;
상기 정공수송물질이 배치된 방향으로 상기 소스를 가열하면서 한번 스캔하여, 상기 제 1 전극 상에 정공수송층, 상기 정공수송물질과 상기 전자수송물질의 혼합층인 발광층 및 전자수송층을 동시에 순차적으로 형성하는 단계; 및
상기 발광층 상에 제 2 전극을 형성하는 단계를 포함하는 유기전계발광소자의 제조방법.
Forming a first electrode on the substrate;
Preparing a source in which a hole transport material and an electron transport material are arranged in order on the substrate on which the first electrode is formed;
Scanning the source once while heating the source in a direction in which the hole transport material is disposed, and simultaneously forming a hole transport layer, a light emitting layer that is a mixed layer of the hole transport material and the electron transport material, and an electron transport layer on the first electrode at the same time; ; And
A method of manufacturing an organic light emitting display device comprising the step of forming a second electrode on the light emitting layer.
제 1항에 있어서,
상기 소스는 상기 정공수송물질 및 상기 전자수송물질의 사이에 위치하는 녹색 인광 도펀트 물질을 더 포함하며,
상기 정공수송물질 및 상기 전자수송물질의 증착과 동시에 상기 도펀트 물질을 증착하는 유기전계발광소자의 제조방법.
The method of claim 1,
The source further includes a green phosphorescent dopant material positioned between the hole transport material and the electron transport material,
And depositing the dopant material simultaneously with the deposition of the hole transport material and the electron transport material.
제 1항에 있어서,
상기 정공수송층, 상기 정공수송물질과 상기 전자수송물질의 혼합층인 발광층 및 전자수송층을 형성하는 단계는,
상기 기판으로 상기 소스의 정공수송물질이 먼저 증착되어, 정공수송층을 형성하는 단계;
상기 정공수송층이 형성되면서, 상기 소스의 전자수송물질의 증착이 시작되어 상기 정공수송물질과 상기 전자수송물질의 공증착에 의해 상기 발광층을 형성하는 단계; 및
상기 발광층이 형성되면서, 상기 전자수송물질만 증착되어 전자수송층을 형성하는 단계를 포함하는 유기전계발광소자의 제조방법.
The method of claim 1,
Forming the hole transport layer, the light emitting layer and the electron transport layer that is a mixed layer of the hole transport material and the electron transport material,
Depositing a hole transport material of the source onto the substrate to form a hole transport layer;
Forming the light emitting layer by co-deposition of the hole transport material and the electron transport material by starting deposition of the electron transport material of the source while the hole transport layer is formed; And
The light emitting layer is formed, the method of manufacturing an organic light emitting device comprising the step of depositing only the electron transport material to form an electron transport layer.
제 1항에 있어서,
상기 정공수송층을 형성하기 전에,
상기 제 1 전극 상에 정공주입층을 형성하는 단계를 더 포함하는 유기전계발광소자의 제조방법.
The method of claim 1,
Before forming the hole transport layer,
A method of manufacturing an organic light emitting display device, the method comprising: forming a hole injection layer on the first electrode.
제 1항에 있어서,
상기 제 2 전극을 형성하기 전에,
상기 전자수송층 상에 전자주입층을 형성하는 단계를 더 포함하는 유기전계발광소자의 제조방법.
The method of claim 1,
Before forming the second electrode,
The method of manufacturing an organic light emitting display device further comprising the step of forming an electron injection layer on the electron transport layer.
제 1항에 있어서,
상기 발광층은 상기 정공수송물질과 상기 전자수송물질의 혼합비가 1:1인 유기전계발광소자의 제조방법.
The method of claim 1,
The light emitting layer is a manufacturing method of an organic light emitting device having a mixing ratio of the hole transport material and the electron transport material 1: 1.
제 1항에 있어서,
상기 소스의 스캔은 상기 기판의 일측 외곽에서 시작하여 상기 기판의 타측 외곽에서 종료되는 유기전계발광소자의 제조방법.
The method of claim 1,
The scanning of the source starts at one outside of the substrate and ends at the other outside of the substrate.
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