KR20120070451A - Transparent display board and method for manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 기재는 투명 전광판 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present disclosure relates to a transparent display board and a method of manufacturing the same.
최근, 조명, 실내외 광고판, 간판 등에 투명 전광판이 많이 사용되고 있다. 이러한 투명 전광판은 유리 기판 상에 전극을 패턴화 하고, 그 전극 사이를 발광 소자가 연결함으로써 이루어진다. 전극은 그 양단부가 발광 소자의 양극 및 음극과 각각 연결되어 있으므로, 발광 소자가 연결되면 빛을 발하게 된다. Recently, transparent electronic displays have been used for lighting, indoor and outdoor billboards, signboards, and the like. Such a transparent electronic plate is formed by patterning electrodes on a glass substrate, and a light emitting element is connected between the electrodes. Since both ends of the electrode are connected to the anode and the cathode of the light emitting device, the light is emitted when the light emitting device is connected.
여기서 전극을 패턴화하기 위해 마스크를 형성하고, 전극 물질을 증착 하는 등 여러 가지 제조 공정이 필요하다. 이에 따라 제조 공정이 복잡하고 공정 비용이 상승한다는 문제점이 있다. 또한, 통상적으로 전극은 인듐 주석 산화물(indium tin oxide, ITO)을 포함하는데, 이 물질은 그 비용이 높고 무게가 무겁다는 단점이 있다. In order to pattern the electrode, various manufacturing processes are required, such as forming a mask and depositing an electrode material. Accordingly, there is a problem that the manufacturing process is complicated and the process cost increases. In addition, electrodes typically include indium tin oxide (ITO), which has the disadvantage of high cost and weight.
따라서, 이를 대체할 수 있는 전극 물질 및 이러한 대체 전극 물질을 이용해 간단한 공정으로 전극을 형성할 수 있는 투명 전광판이 필요하다.Accordingly, there is a need for an electrode material that can substitute for this and a transparent electronic display plate capable of forming an electrode in a simple process using such an electrode material.
실시예는 제조 공정이 간단하고 공정 비용을 저감할 수 있는 투명 전광판 및 이의 제조 방법을 제공하고자 한다.The embodiment is to provide a transparent electronic display board and a method of manufacturing the same that can simplify the manufacturing process and reduce the process cost.
실시예에 따른 투명 전광판은, 적어도 하나 이상의 오목부를 포함하는 기판; 상기 오목부 내에 형성되는 전극; 및 상기 전극과 전기적으로 연결되는 발광 소자를 포함한다.In one embodiment, a transparent electronic display includes a substrate including at least one concave portion; An electrode formed in the recess; And a light emitting device electrically connected to the electrode.
실시예에 따른 투명 전광판 제조 방법은, 기판을 준비하는 단계; 상기 기판에 오목부를 형성하는 단계; 상기 오목부에 전극을 형성하는 단계; 및 상기 전극과 전기적으로 연결되도록 상기 기판에 발광 소자를 장착하는 단계를 포함한다.According to one or more exemplary embodiments, a method of manufacturing a transparent display board includes preparing a substrate; Forming a recess in the substrate; Forming an electrode in the recess; And mounting a light emitting device on the substrate to be electrically connected to the electrode.
실시예에 따른 투명 전광판에서는, 기판에 오목부를 형성하고, 그 오목부에 전극을 형성하므로, 전극 형성을 위한 패턴화 작업을 생략할 수 있다. 이에 의하여 제조 공정 및 제조 비용을 줄일 수 있다. 또한 오목부에 전극을 형성 시, 기존의 인듐 주석 산화물을 대체할 수 있는 다른 대체 전극 물질로 형성할 수 있다. In the transparent display board according to the embodiment, since the recess is formed in the substrate and the electrode is formed in the recess, the patterning work for forming the electrode can be omitted. This can reduce the manufacturing process and manufacturing costs. In addition, when the electrode is formed in the recess, it may be formed of another alternative electrode material that can replace the existing indium tin oxide.
실시예에 따른 투명 전광판 제조 방법에서는, 상술한 형태의 투명 전광판을 대체 전극 물질을 이용하여 간단한 인쇄 공정으로 형성할 수 있다.In the method of manufacturing a transparent display board according to the embodiment, the transparent display board of the above-described form may be formed by a simple printing process using a substitute electrode material.
도 1은 실시예에 따른 투명 전광판의 개략적인 단면도이다.
도 2 내지 도 6은 실시예에 따른 투명 전광판의 제조 방법의 단계들을 도시한 단면도들이다.
도 7은 실제 기판에 형성된 오목부의 평면 사진이다.
도 8은 오목부에 형성된 전극의 평면 사진이다.1 is a schematic cross-sectional view of a transparent display board according to an embodiment.
2 to 6 are cross-sectional views illustrating steps of a method of manufacturing a transparent display board according to an embodiment.
7 is a planar photograph of a recess formed in an actual substrate.
8 is a planar photograph of an electrode formed in a recess.
실시예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 “상/위(on)”에 또는 “하/아래(under)”에 형성된다는 기재는, 직접(directly) 또는 다른 층을 개재하여 형성되는 것을 모두 포함한다. 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다. In the description of embodiments, each layer, region, pattern, or structure may be “on” or “under” the substrate, each layer, region, pad, or pattern. Substrate formed in ”includes all formed directly or through another layer. Criteria for the top / bottom or bottom / bottom of each layer will be described with reference to the drawings.
도면에서 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들의 두께나 크기는 설명의 명확성 및 편의를 위하여 변형될 수 있으므로, 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다. The thickness or the size of each layer (film), region, pattern or structure in the drawings may be modified for clarity and convenience of explanation, and thus does not entirely reflect the actual size.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1을 참조하여 실시예에 따른 투명 전광판을 상세하게 설명한다. 도 1은 실시예에 따른 투명 전광판의 개략적인 단면도이다.Referring to Figure 1 will be described in detail a transparent display board according to an embodiment. 1 is a schematic cross-sectional view of a transparent display board according to an embodiment.
도 1을 참조하면, 실시예에 따른 투명 전광판은, 기판(10), 이 기판(10)에 형성되는 오목부(10a), 전극(20), 발광 소자(30)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the transparent display board according to the embodiment includes a
기판(10)은 유리, 투명 폴리머, 또는 프릿 글래스(frit glass) 등으로 이루어진다. 이 경우, 기판(10)은 투명 폴리머로 이루어져서 유연성을 가지는 것이 바람직하다.The
이러한 기판(10)에 오목부(10a)이 적어도 하나 이상 형성될 수 있다. 오목부(10a)의 깊이는 기판(10) 두께의 50% 이하로 형성될 수 있다. 오목부(10a)의 깊이가 기판(10) 두께의 50% 를 초과하게 되면 기판(10)에 형성된 오목부(10a)에 의해 이 부분에서 기판(10)의 물리적 강도가 약해질 수 있다. At least one
이러한 오목부(10a)의 형태는 기판(10)에 형성하고자 하는 전극(20)의 형태와 동일하게 형성될 수 있다. 즉, 오목부(10a)의 형태가 곧 전극(20)의 형태가 된다.The
이어서, 이러한 기판(10)의 오목부(10a)에 전극(20)이 형성된다. 전극(20)은 탄소 나노 튜브(carbon nano tube, CNT), 전도성 폴리머 및 은 나노 와이어(Ag nano wire)를 포함할 수 있다. 이는 기존의 인듐 주석 산화물(indium tin oxide, ITO)을 대체할 수 있는 물질로써 가격 면에서 유리하고, 간단한 공정으로 형성할 수 있다. 기존에 인듐 주석 산화물로 전극을 형성할 경우, 전극 패턴을 형성하기 위해 마스크를 이용한 증착법으로 형성하였다. 그러나 본 실시예에서는 기판(10)에 형성된 오목부(10a)에 전극(20)을 형성하기 때문에 이러한 진공 증착 공정을 생략할 수 있다. 또한, 기판(10)의 오목부(10a)에 전극(20)이 형성되므로 외부 환경 등에 의해 전극(20)이 부식되거나 손상되는 것을 방지할 수 있다. Subsequently, an
발광소자(30)는 LED(Light Emitting Diode), 레이저 다이오드(Lasar Diode), 유기 EL, LCD(Liquid Crystal Device), FED(Field Emission Device) 등과 같이 발광할 수 있는 모든 종류의 발광 소자가 적용될 수 있다.The
이하, 도 2 내지 도 6을 참조하여 실시예에 따른 투명 전광판의 제조 방법을 설명한다. 명확하고 간략한 설명을 위하여 앞서 설명한 내용과 동일 또는 극히 유사한 부분에 대해서는 상세한 설명을 생략하고 서로 다른 부분에 대해서 상세하게 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing the transparent display board according to the embodiment will be described with reference to FIGS. 2 to 6. For the sake of clarity and simplicity, the same or very similar parts to those described above will be omitted, and the different parts will be described in detail.
도 2 내지 도 6은 실시예에 따른 투명 전광판의 제조 방법의 단계들을 도시한 단면도들이다.2 to 6 are cross-sectional views illustrating steps of a method of manufacturing a transparent display board according to an embodiment.
먼저 도 2에 도시한 바와 같이, 투명 전광판에 적용될 수 있는 기판(10)을 준비한다.First, as shown in FIG. 2, a
이어서, 도 3 및 도 4에 도시한 바와 같이, 이러한 기판(10)에 전극부를 제외한 부분에 마스크(100)를 형성하고, 마스크 부분을 제외한 부분을 에칭하여 오목부(10a)을 형성한다. 이러한 오목부(10a)의 깊이는 기판(10) 두께의 50% 이하가 되도록 에칭한다.3 and 4, the
이어서, 도 5에 도시한 바와 같이, 인쇄 공정을 이용하여 전극(20)을 형성한다. 구체적으로 전극 재료(20)를 닥터 유닛(200)을 이용하여 오목부(10a)에 충진할 수 있다. 즉, 닥터 유닛(200)이 기판(10)에 접한 상태로 위치하여 도면에 도시된 화살표 방향으로 움직이면서 전극 재료(20)를 오목부(10a)에 충진한다. 따라서, 전극 재료(20)로는 기존의 인듐 주석 산화물이 아닌 인쇄가 가능한 페이스트 물질이 될 수 있다. 일례로, 전극 재료(20)는 탄소 나노 튜브(carbon nano tube, CNT), 전도성 폴리머 및 은 나노 와이어 잉크(Ag nano wire ink) 등을 포함할 수 있다. 전도성 폴리머로는 폴리티오핀의 유도체인 PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene))에 투명성 바인더를 첨가한 물질을 사용할 수 있다.Next, as shown in FIG. 5, the
이러한 인쇄 공정 후, 오목부(10a)에 형성된 전극(20)을 소성하는 단계를 포함할 수 있다.After such a printing process, it may include the step of firing the
이어서, 도 6에 도시한 바와 같이, 전극(20)과 전기적으로 연결될 수 있도록 발광 소자(30)를 장착할 수 있다. 즉, 기판(10)에 형성된 오목부(10a)에 의하여 이격 배치된 전극(20)은 발광 소자(30)에 의하여 전기적으로 연결된다. 이러한 발광 소자(30)는 전도성 접착제(도시하지 않음)에 의하여 부착될 수 있다. 일례로, 발광 소자(30)는 이방성 도전 필름(Anisotropic Conductive Film, ACF) 또는 실버 컨덕터(Silver Conductor 또는 실버 페이스트) 등으로 부착될 수 있다.Subsequently, as shown in FIG. 6, the
이하 도 7 및 도 8을 참조하여, 실제 적용된 실시예를 설명한다.Hereinafter, with reference to FIG. 7 and FIG. 8, an embodiment actually applied will be described.
도 7은 실제 기판에 형성된 오목부의 평면 사진이고, 도 8은 오목부에 형성된 전극의 평면 사진이다. 구체적으로 기판(10)에 오목부(10a)이 형성되고, 이 오목부(10a)에 전극(20)이 형성될 수 있다.7 is a planar photograph of a recess formed in an actual substrate, and FIG. 8 is a planar photograph of an electrode formed in a recess. Specifically, the
상술한 실시예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. The features, structures, effects and the like described in the foregoing embodiments are included in at least one embodiment of the present invention and are not necessarily limited to one embodiment. In addition, the features, structures, effects, and the like illustrated in the embodiments may be combined or modified with respect to other embodiments by those skilled in the art to which the embodiments belong. Therefore, it should be understood that the present invention is not limited to these combinations and modifications.
또한, 이상에서 실시예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed as limiting the scope of the present invention. It can be seen that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments may be modified. It is to be understood that the present invention may be embodied in many other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.
10: 기판
10a: 오목부
20: 전극(전극 재료)
30: 발광 소자10: Substrate
10a: concave
20: electrode (electrode material)
30: light emitting element
Claims (11)
상기 오목부 내에 형성되는 전극; 및
상기 전극과 전기적으로 연결되는 발광 소자
를 포함하는 투명 전광판.A substrate comprising at least one recess;
An electrode formed in the recess; And
Light emitting device electrically connected to the electrode
Transparent display board comprising a.
상기 오목부의 깊이는 상기 기판 두께의 50% 이하인 투명 전광판.The method of claim 1,
And a depth of the recess is 50% or less of the thickness of the substrate.
상기 오목부의 형태는 상기 전극의 형태와 동일한 투명 전광판.The method of claim 2,
The shape of the recess is the same as the shape of the electrode.
상기 전극은 탄소 나노 튜브(carbon nano tube, CNT), 전도성 폴리머 및 은 나노 와이어(Ag nano wire)로 이루어진 군에서 선택된 물질을 적어도 하나 포함하는 투명 전광판.The method of claim 1,
The electrode is a transparent electronic plate containing at least one material selected from the group consisting of carbon nanotubes (CNT), conductive polymers and silver nanowires (Ag nanowire).
상기 기판에 오목부를 형성하는 단계;
상기 오목부에 전극을 형성하는 단계; 및
상기 전극과 전기적으로 연결되도록 상기 기판에 발광 소자를 장착하는 단계를 포함하는 투명 전광판 제조 방법.Preparing a substrate;
Forming a recess in the substrate;
Forming an electrode in the recess; And
And mounting a light emitting device on the substrate to be electrically connected to the electrode.
상기 오목부를 형성하는 단계에서, 상기 오목부의 깊이는 상기 기판 두께의 50% 이하로 형성하는 투명 전광판 제조 방법. The method of claim 5,
In the step of forming the recess, the depth of the recess is formed to 50% or less of the thickness of the substrate.
상기 오목부를 형성하는 단계에서, 상기 오목부의 형태는 형성하고자 하는 상기 전극의 형태와 동일하게 하는 투명 전광판 제조 방법.The method of claim 6,
In the step of forming the recess, the shape of the recess is the same as the shape of the electrode to be formed transparent light plate manufacturing method.
상기 오목부를 형성하는 단계는, 포토 레지스트 공정을 포함하는 투명 전광판 제조 방법.The method of claim 7, wherein
Forming the concave portion, the method of manufacturing a transparent display board comprising a photoresist process.
상기 전극을 형성하는 단계는, 인쇄 공정을 이용하는 투명 전광판 제조 방법.The method of claim 5,
Forming the electrode, a transparent display board manufacturing method using a printing process.
상기 전극을 형성하는 단계는, 페이스트를 포함하는 전극 재료를 닥터 유닛을 이용하여 상기 오목부에 충진하는 단계를 포함하는 투명 전광판 제조 방법.10. The method of claim 9,
The forming of the electrode includes filling the recessed portion with an electrode material including a paste using a doctor unit.
상기 전극 재료는 탄소 나노 튜브(carbon nano tube, CNT), 전도성 폴리머 및 은 나노 와이어 잉크(Ag nano wire ink)로 이루어진 군에서 적어도 어느 하나를 포함하는 투명 전광판 제조 방법. The method of claim 10,
The electrode material comprises a carbon nano tube (CNT), a conductive polymer and a silver nano wire ink (Ag nano wire ink) comprising at least one of the group consisting of at least one.
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A201 | Request for examination | ||
E90F | Notification of reason for final refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |