KR20120045323A - Cooling substrate of electronic component for radiating heat and producing method thereof - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A cooling board for emitting heat from electronic components and a method for manufacturing the same are provided to increase bonding force and conductivity by forming a first coating part and a second coating part based on a low temperature spraying technique. CONSTITUTION: A first coating part(10) is formed at one side of a heat emitting part(20) based on a low temperature-based spraying unit. The heat emitting part emits heat from electronic components. The electronic components are directly installed on the first coating part. The first coating part functions as a conducting part. The first coating part is based on copper powder, copper alloy powder, or copper complex powder. Heat absorbed from the first coating part is discharged through the heat emitting part. The heat emitting part emits heat which is conducted from the substrate to the first coating part. A second coating part is stacked on another side of the heat emitting part.

Description

전자부품 방열용 냉각기판 및 그 제조방법{COOLING SUBSTRATE OF ELECTRONIC COMPONENT FOR RADIATING HEAT AND PRODUCING METHOD THEREOF}Cooling board for heat dissipation of electronic parts and its manufacturing method {COOLING SUBSTRATE OF ELECTRONIC COMPONENT FOR RADIATING HEAT AND PRODUCING METHOD THEREOF}

본 발명은, 방열부의 일면과 타면에 열전도성이 우수한 소재를 적층하여 기판상의 전자부품에서 발생되는 열이 쉽게 방출되도록 하는 전자부품 방열용 냉각기판 및 그 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to an electronic component heat dissipation cooling substrate and a method of manufacturing the same, in which a material having excellent thermal conductivity is laminated on one surface and the other surface of the heat dissipation unit so that heat generated from the electronic components on the substrate is easily released.

일반적으로 전자부품이 실장되는 PCB기판의 경우 전자부품이 동작할때 발생되는 발열로 인해 전자부품이나 PCB기판이 파손되거나 변형이 발생하고, 전자부품의 열에 의한 수명단축과 같은 문제가 발생되기도 한다.In general, in the case of a PCB board on which an electronic component is mounted, heat generation generated when the electronic component is operated causes damage or deformation of the electronic component or the PCB board, and a problem such as shortening of life due to heat of the electronic component may occur.

이러한 문제를 해결하기 위하여 전자 부품이 접합된 PCB기판의 반대측면에 금속재질로 이루어진 방열기판을 설치하여 전자부품에서 발생되는 열을 방출시키도록 한다.In order to solve this problem, the heat dissipation board made of a metal material is installed on the opposite side of the PCB board to which the electronic parts are bonded to dissipate heat generated from the electronic parts.

이러한 방열기판 설치시 PCB기판과 방열기판 간에 열전도율을 상승시키기 위하여 솔더를 이용하여 솔더링을 하거나, 열구리스를 도포하여 PCB기판의 전자부품에서 발생되는 열을 방열기판으로 방출되도록 한다.
When installing the heat dissipation board, in order to increase the thermal conductivity between the PCB and the heat dissipation board, soldering is performed using solder, or thermal grease is applied to dissipate heat generated from electronic components of the PCB to the heat dissipation board.

상기의 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 저온분사로 제1,2 코팅부를 방열부의 일면과 타면에 형성하여 방열부와 기판 간의 결합면이 치밀하게 형성되도록 하고, 이로 인해 전자부품이 실장되는 기판에서 전도되는 전자부품의 열이 냉각되는 냉각효율을 향상시키는 전자부품 방열용 냉각기판 및 그 제조방법을 제공하는데 있다.
An object of the present invention for solving the above problems is to form the first and second coatings on one surface and the other surface of the heat dissipation portion by low temperature spraying so that the coupling surface between the heat dissipation portion and the substrate is formed densely, and thus the electronic component is mounted. The present invention provides a cooling substrate for heat dissipation of an electronic component and a method of manufacturing the same, which improves a cooling efficiency of cooling heat of an electronic component conducted from a substrate.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 방열부의 일면에 제1 코팅부를 저온분사하여 형성하고, 상기 방열부의 타면에 제2 코팅부를 추가로 형성하여 제1 코팅부의 일면에 적층되는 기판에 실장되는 전자부품의 열을 배출하는 것을 특징으로 한다.The present invention for achieving the above object is formed by spraying the first coating portion on one surface of the heat dissipating part at a low temperature, and further formed a second coating portion on the other surface of the heat dissipation part to be mounted on a substrate laminated on one surface of the first coating part. It is characterized by discharging the heat of the electronic component.

상기 방열부를 통해 전도되는 열을 흡수하며, 분말로 형성되는 코팅소재가 저온분사되어 상기 방열부의 타면에 적층되는 제2 코팅부를 더 포함한다.It further includes a second coating to absorb the heat conducted through the heat radiating portion, the coating material formed of powder is sprayed at a low temperature to be laminated on the other surface of the heat radiating portion.

본 발명의 제조방법은, 일면에 전자제품이 실장되는 기판의 타면에 적층되는 방열부를 준비하는 준비단계와, 상기 방열부의 일면에 코팅소재의 분말을 저온분사하여 제1 코팅부를 형성하는 제1 코팅부 형성단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the manufacturing method of the present invention, a preparing step of preparing a heat dissipation unit laminated on the other side of the substrate on which the electronic product is mounted on one side, and a first coating to form a first coating unit by spraying powder of coating material on one side of the heat dissipation unit at low temperature It characterized in that it comprises a secondary forming step.

상기 방열부의 타면에 코팅소재의 분말을 저온분사하여 제2 코팅부를 형성하는 제2 코팅부 형성단계를 더 포함한다.
The second coating portion forming step of forming a second coating by spraying the powder of the coating material on the other surface of the heat dissipating portion further.

본 발명에 의하면, 방열부의 일면과 타면에 구리 또는 구리 복합 분말을 저온분사 코팅방법으로 제1,2 코팅부를 형성하여, 제1 코팅부의 일면에 적층되는 기판에서 전도된 열이 상기 제1 코팅부를 통해 방열부로 효율적으로 전도되어 제2 코팅부를 통해 쉽게 배출됨으로서 방열이 효과적으로 이루어져 전자부품의 수명을 크게 향상시키는 이점이 있다.According to the present invention, the first and second coating parts are formed on one surface and the other surface of the heat dissipating part by a low temperature spray coating method, and the heat conducted from the substrate laminated on one surface of the first coating part is transferred to the first coating part. Through the efficient conduction to the heat dissipation unit is easily discharged through the second coating unit has the advantage that the heat dissipation is effectively made to greatly improve the life of the electronic component.

또한, 저온분사를 이용하여 제1,2 코팅부를 형성하게 되므로 결합력과 전도율을 증가시키면서 중량이 감소하는 이점이 있다.
In addition, since the first and second coatings are formed using low temperature spraying, the weight is reduced while increasing the bonding force and conductivity.

도 1은 본 발명의 전자부품 방열용 냉각기판을 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 전자부품 방열용 냉각기판을 제조하기 위한 저온분사 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 전자부품 방열용 냉각기판의 제조방법을 나타낸 흐름도이다.
도 4는 본 발명의 제조방법에서 제1,2 코팅부 형성과정을 나타낸 흐름도이다.
도 5는 본 발명의 전자부품 방열용 냉각기판 제조방법에 제2코팅부 형성단계가 포함된 흐름도이다.
도 6은 본 발명의 전자부품 방열용 냉각기판에 제2 코팅부가 형성된 것을 나타낸 단면도이다.
도 7은 본 발명의 제조방법에서 방열부와 방열핀에 각각 코팅소재를 분사하여 제2 코팅부를 접합 형성하는 모습을 나타낸 도면이다.
도 8은 본 발명의 제조과정을 순서로 나타낸 도면이다.
도 9는 본 발명에서 방열부에 제1 코팅부를 코팅한 단면조직을 나타낸 도면이다.
도 10은 본 발명에서 방열부에 제1 코팅부를 코팅하여 에칭한 단면조직의 모습을 나타낸 도면이다.
1 is a cross-sectional view showing a cooling substrate for dissipating an electronic component of the present invention.
2 is a view schematically showing a low-temperature injection device for manufacturing a cooling substrate for dissipating the electronic component of the present invention.
3 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a cooling substrate for dissipating an electronic component of the present invention.
4 is a flowchart illustrating a process of forming first and second coating parts in the manufacturing method of the present invention.
5 is a flowchart in which a second coating part is formed in a method of manufacturing a cooling substrate for dissipating an electronic component according to the present invention.
6 is a cross-sectional view illustrating a second coating part formed on a cooling substrate for dissipating an electronic component of the present invention.
FIG. 7 is a view showing a state in which a coating material is sprayed onto the heat dissipation part and the heat dissipation fin in the manufacturing method of the present invention to form a second coating part.
8 is a view showing the manufacturing process of the present invention in order.
9 is a view showing a cross-sectional structure of the first coating portion coated on the heat dissipation portion in the present invention.
10 is a view showing a state of the cross-sectional structure of the coating by etching the first coating to the heat dissipation unit in the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전자부품 방열용 냉각기판 및 그 제조방법에 대하여 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 본 명세서에서는 서로 다른 실시예라도 동일?유사한 구성에 대해서는 동일?유사한 참조번호를 부여하고, 그 설명은 처음 설명으로 갈음한다.Hereinafter, a cooling substrate for dissipating an electronic component and a method of manufacturing the same according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the present specification, different embodiments are given the same or similar reference numerals for the same or similar configurations, and the description is replaced with the first description.

여기서 사용되는 저온분사라는 기술은 압축?팽창으로 생기는 초음속 기체 기류를 이용하여 분말이 코팅 대상물에 충돌할 때 발생하는 에너지에 의해 점착되면서 코팅되는 기술로서, 저온 분사 코팅은 코팅용 분말을 용융하여 코팅하는 기존의 용사코팅 방식과 달리 상온에서 코팅이 가능해져 소재의 변형?변질을 막을 수 있고, 내마모성?내피로성?내열성?내식성 등을 크게 향상시켜 자동차?항공?선박?반도체 부품의 수명과 성능을 획기적으로 개선할 수 있다. 특히 플라스틱처럼 열에 약한 소재나 산화하기 쉬운 알루미늄, 알루미늄 합금, 구리, 알루미늄 복합 소재, 구리합금, 구리 복합 소재, 티타늄 및 티타늄 합금 등 기존 고온 방식의 코팅을 적용하기 어려운 소재에도 사용할 수 있는 기술이다.The low temperature spraying technology used here is a technology that is coated by the energy generated when a powder collides with a coating object by using a supersonic gas stream generated by compression and expansion. Unlike conventional spray coating method, it can be coated at room temperature to prevent deformation and deterioration of materials, and greatly improve wear resistance, fatigue resistance, heat resistance, corrosion resistance, etc. to improve the life and performance of automobile, aviation, ship, and semiconductor parts. It can be greatly improved. In particular, it can be used for materials that are difficult to apply to conventional high temperature coatings such as heat-sensitive materials such as plastics, aluminum, aluminum alloys, copper, aluminum composite materials, copper alloys, copper composite materials, titanium and titanium alloys, which are easily oxidized.

이러한, 상기 저온분사를 사용하는 이유는 저온으로 코팅소재 분말을 분사하여 소재의 변형?변질을 막고, 내마모성?내피로성?내열성?내식성을 향상시키기 위하여 사용하며, 식각 및 증착을 통하지 않고 빠른시간에 원하는 위치에 원하는 형상의 구성물을 형성하기 위하여 사용한다.The reason for using the low-temperature spraying is to spray the coating material powder at a low temperature to prevent deformation and deterioration of the material, and to improve wear resistance, fatigue resistance, heat resistance, and corrosion resistance, and without etching and deposition in a short time. It is used to form a structure of a desired shape at a desired position.

도 1은 본 발명의 전자부품 방열용 냉각기판을 나타낸 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a cooling substrate for dissipating an electronic component of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명은 제1 코팅부(10)와, 방열부(20)를 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 1, the present invention includes a first coating part 10 and a heat dissipation part 20.

상기 제1 코팅부(10)는 전자부품의 열을 방열하는 방열부(20)의 일면에 저온 분사장치(40)를 통해 저온분사되어 형성된다.The first coating part 10 is formed by low temperature spraying through the low temperature spraying device 40 on one surface of the heat dissipating part 20 for dissipating heat of the electronic component.

이때, 상기 제1 코팅부(10)에는 기판이 적층되지 않고 전자부품이 직접 실장될 수 있다. 이를 위해 제1 코팅부(10)는 도전부로서의 역활을 하며, 임의의 형상으로 저온분사를 통해 형성된다.In this case, the electronic component may be directly mounted on the first coating part 10 without the substrate being stacked. To this end, the first coating part 10 serves as a conductive part and is formed through low temperature spraying in an arbitrary shape.

그리고, 상기 제1 코팅부(10)에는 전자부품이 실장되는 기판이 적층되는 구조로 이루어질 수 있다.In addition, the first coating part 10 may have a structure in which a substrate on which an electronic component is mounted is stacked.

상기 제1 코팅부(10)는 구리 분말 또는 구리 합금 분말 또는 구리 복합 분말로 이루어진다.The first coating part 10 is made of copper powder or copper alloy powder or copper composite powder.

이로 인해, 저온분사 코팅을 이용하여 제조된 기판으로 후공정을 통해 제조된 기판에 전자부품이 실장되는 제1 코팅부(10)로 부터 흡수된 열을 방열부(20)를 통하여 배출되기 쉽도록 한다.As a result, the heat absorbed from the first coating part 10 in which the electronic component is mounted on the substrate manufactured by the post-process to the substrate manufactured by the low temperature spray coating is easily discharged through the heat dissipating part 20. do.

상기 방열부(20)는 상기 제1 코팅부(10)를 통해 전도되는 기판상의 열을 방열하고, 상기 제1 코팅부(10)에서 전도되는 열이 빨리 방출되도록 한다.The heat dissipation unit 20 dissipates heat on the substrate conducted through the first coating unit 10 and allows the heat conducting from the first coating unit 10 to be quickly released.

그리고, 상기 방열부(20)는 마그네슘(Mg), 마그네슘 합금, 철(Fe), 철 합금, 알루미늄(Al), 알루미늄 합금, 구리(Cu) 또는 구리합금 중 어느 하나의 재질로 이루어져 상기 제1 코팅부(10)에서 전도되는 열이 외부로 방열되도록 한다.The heat dissipation unit 20 is made of any one material of magnesium (Mg), magnesium alloy, iron (Fe), iron alloy, aluminum (Al), aluminum alloy, copper (Cu) or copper alloy. The heat conducted from the coating 10 is to be radiated to the outside.

이러한 상기 방열부(20)의 타면에 제2 코팅부(30)가 추가로 형성될 수 있다.The second coating part 30 may be additionally formed on the other surface of the heat dissipation part 20.

상기 제2 코팅부(30)는 저온 분사장치(40)를 통해 저온분사되어 형성되며, 구리 분말 또는 구리 합금 분말 또는 구리 복합 분말로 이루어지고, 상기 방열부(20)에서 전도되는 열을 빠르게 방열시킨다.The second coating part 30 is formed by low temperature spraying through the low temperature injector 40, and is made of copper powder, copper alloy powder, or copper composite powder, and quickly radiates heat conducted from the heat radiating part 20. Let's do it.

그리고, 상기 제2 코팅부의 타면에는 별도의 방열핀(35)이 추가 적층 될 수 있다.In addition, a separate heat dissipation fin 35 may be additionally stacked on the other surface of the second coating part.

이러한 방열핀(35)은 마그네슘(Mg), 마그네슘 합금, 철(Fe), 철 합금, 알루미늄(Al), 알루미늄 합금, 구리(Cu) 또는 구리합금 중 어느 하나의 재질로 이루어져 상기 제2 코팅부(30)에서 전도되는 열이 외부로 방열되도록 한다.The heat dissipation fin 35 is made of any one material of magnesium (Mg), magnesium alloy, iron (Fe), iron alloy, aluminum (Al), aluminum alloy, copper (Cu) or copper alloy to the second coating portion ( The heat conducted in 30) is radiated to the outside.

도 2는 본 발명의 전자부품 방열용 냉각기판을 제조하기 위한 저온분사 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.2 is a view schematically showing a low-temperature injection device for manufacturing a cooling substrate for dissipating the electronic component of the present invention.

도 2를 참조하면 저온분사 장치(40)는 가스 컨트롤부(41), 메인가스 히터(42), 분말 송급 장치(43), 분말가스 히터(44), 혼합 챔버(45), 온도 컨트롤부(46), 분사노즐(47) 및 가스 저장부(48)를 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 2, the low temperature spray device 40 includes a gas control part 41, a main gas heater 42, a powder supply device 43, a powder gas heater 44, a mixing chamber 45, and a temperature control part ( 46), an injection nozzle 47 and a gas reservoir 48.

여기서 가스 컨트롤부(41)는 가스의 공급량을 제어하는 역할을 하며, 가스저장부(48)에 저장된 가스를 메인가스 히터(42)로 이동시키면서 상기 가스의 일부는 분말 송급 장치(43)로 이동시킨다. Here, the gas control unit 41 serves to control the supply amount of gas, while moving the gas stored in the gas storage unit 48 to the main gas heater 42, a part of the gas moves to the powder supply device 43. Let's do it.

상기 가스 저장부(48)에 저장된 가스는 압축공기, 질소, 헬륨, 아르곤 중 한종류 이상을 혼합한 혼합가스이다.The gas stored in the gas storage unit 48 is a mixed gas in which at least one of compressed air, nitrogen, helium, and argon is mixed.

상기 가스 콘트롤부(41)와 연결된 메인가스 히터(42)는 공급된 메인가스를 소정의 온도로 예열하는 역할을 한다. 메인가스 히터(42)에서 예열된 메인가스는 도면에서 화살표로 도시한 바와 같이, 연결관을 따라 혼합 챔버(45)로 공급한다.The main gas heater 42 connected to the gas control unit 41 serves to preheat the supplied main gas to a predetermined temperature. The main gas preheated by the main gas heater 42 is supplied to the mixing chamber 45 along the connecting pipe, as shown by the arrows in the figure.

상기 가스 컨트롤부(41)와 연결된 분말 송급 장치(43)는 코팅소재의 분말을 공급하며, 가스 컨트롤부(41)로부터 일부 이동된 가스를 이용하여 코팅소재 분말을 분말가스 히터(44)로 연결관을 통해 이동시킨다. The powder supply device 43 connected to the gas control part 41 supplies powder of the coating material, and connects the coating material powder to the powder gas heater 44 by using the gas partially moved from the gas control part 41. Move through the tube.

여기서 상기 분말가스 히터(44)는 스크류형상의 이송관(미도시함)과 이를 가열하는 저항선(미도시함)을 포함한다. Here, the powder gas heater 44 includes a screw-shaped transfer pipe (not shown) and a resistance wire (not shown) for heating it.

또한, 분말가스 히터(44)는 이송관을 직접 가열하는 직접 가열 방식의 이송관을 포함할 수도 있다. In addition, the powder gas heater 44 may include a transfer tube of a direct heating method for directly heating the transfer tube.

이러한 분말가스 히터(44) 및 메인가스 히터(42)는 온도 컨트롤부(46)를 통해 온도를 조절할 수 있다. The powder gas heater 44 and the main gas heater 42 may adjust the temperature through the temperature control unit 46.

그리고 분사노즐(47)은 방열부(20)를 향하게 배치된다. 여기서 분사노즐(47)은 방열부(20)의 표면에 대해 소정 각도(α)를 가지며, 바람직하게는 90°의 각도를 갖게 배치하는 것이 바람직하다.The injection nozzle 47 is disposed to face the heat dissipation unit 20. Here, the injection nozzle 47 has a predetermined angle α with respect to the surface of the heat dissipation unit 20, and preferably disposed at an angle of 90 degrees.

다음에 저온 분사장치(40)의 메인가스 히터(42)로 공급된 메인가스를 가열한다. 구체적으로, 가스 저장부(48)에 저장된 가스를 메인가스 히터(42)로 이동하고, 메인가스 히터(42)는 이동된 메인가스를 200℃ 내지 800℃의 온도로 가열한다. Next, the main gas supplied to the main gas heater 42 of the low temperature injector 40 is heated. Specifically, the gas stored in the gas storage unit 48 is moved to the main gas heater 42, and the main gas heater 42 heats the moved main gas to a temperature of 200 ° C. to 800 ° C.

여기서, 메인가스는 압축공기, 질소, 헬륨, 아르곤 중 한종류 이상을 혼합한 혼합가스이다. 이 경우 메인가스를 200℃ 미만의 온도로 가열하면 가스 분사 속도가 떨어져 생산 효율이 저하되는 문제가 발생한다. Here, the main gas is a mixed gas in which at least one of compressed air, nitrogen, helium, and argon is mixed. In this case, when the main gas is heated to a temperature of less than 200 ℃, the gas injection rate is lowered, there is a problem that the production efficiency is lowered.

또한 800℃를 넘는 온도로 가열하면 저온분사 장치(40)의 피팅 연결부가 열에 의해 변형되어 밀봉되지 않고 내구성이 저하되는 문제가 있다. 이에 따라 메인가스는 200℃ 내지 800℃의 온도로 가열한다.In addition, when heated to a temperature of more than 800 ℃ there is a problem that the fitting connection portion of the low-temperature spraying device 40 is deformed by heat and not sealed and durability is reduced. Accordingly, the main gas is heated to a temperature of 200 ℃ to 800 ℃.

다음에 가열된 메인가스에 구리, 구리합금 또는 구리 복합 소재로 이루어지는 코팅소재의 분말을 주입한다. 이를 위해 먼저, 코팅소재를 분말로 형성하여 분말 송급 장치(43)로부터 공급한다. Next, the powder of the coating material which consists of copper, a copper alloy, or a copper composite material is inject | poured into the heated main gas. To this end, first, the coating material is formed into a powder and supplied from the powder supply device 43.

이때, 상기 구리 복합 소재 분말은 구리 분말에 텅스텐, 실리콘 카바이드, Al2O3 등의 소재 분말이 첨가되어 혼합될 수 있다.In this case, the copper composite material powder may be mixed by adding a material powder, such as tungsten, silicon carbide, Al 2 O 3 to the copper powder.

다음에 가스 컨트롤부(41)에서 일부 이동된 분말가스를 이용하여 코팅소재 분말을 연결관을 통해 분말가스 히터(44)로 이동시킨다. Next, the coating material powder is moved to the powder gas heater 44 through the connecting pipe by using the powder gas partially moved by the gas control unit 41.

상기 분말가스 히터(44)로 코팅소재 분말은 분말가스 히터(44)의 스크류 형상의 이송관(미도시함)을 통과한다. 저항선(미도시함)에 의해 가열된 이송관을 통과하면서 코팅소재 분말은 소정 온도, 예를 들어 50℃ 내지 800℃로 예열된다. The powder coating material with the powder gas heater 44 passes through a screw-shaped feed tube (not shown) of the powder gas heater 44. The coating material powder is preheated to a predetermined temperature, for example, 50 ° C. to 800 ° C. while passing through a transfer tube heated by a resistance wire (not shown).

이와 같이 예열된 코팅소재 분말은 도 2에서 화살표로 도시된 바와 같이 연결관을 따라 혼합 챔버(45)로 이동된다. 여기서 코팅소재 분말을 예열하지 않고 혼합 챔버(45)로 이동할 수도 있다.The preheated coating material powder is moved to the mixing chamber 45 along the connecting tube as shown by the arrow in FIG. The coating material powder may be moved to the mixing chamber 45 without preheating.

그리고, 상기 코팅소재가 상온 또는 50 - 800℃의 온도로 가열되어 저온 분사장치(40)로 공급된뒤 저온 분사장치(40)의 분사노즐(47)을 통해 방열부(20)의 일면에 분사되어 형성되어 질 수 있다. Then, the coating material is heated to a temperature of 50 to 800 ℃ or supplied to the low temperature injector 40 and sprayed on one surface of the heat dissipation unit 20 through the injection nozzle 47 of the low temperature injector 40 Can be formed.

상기 코팅소재는 분사노즐(47)과 상기 방열부(20) 간의 거리는 5 - 80mm를 유지하고, 공급압력은 15 - 40kg/cm2로 분사하여 상기 방열부(20)의 일면과 타면에 상기 제1,2 코팅부(10,30)를 형성하게 된다.The coating material maintains the distance between the spray nozzle 47 and the heat dissipation unit 20 is 5-80mm, the supply pressure is sprayed at 15-40kg / cm 2 to the one side and the other surface of the heat dissipation unit 20 First and second coating parts 10 and 30 will be formed.

한편, 코팅소재 분말의 입자 크기는 5㎛ 내지 100㎛를 가질 수 있다. 코팅소재 분말의 입자 크기가 5㎛ 보다 작은 크기인 경우 보우 쇽(bow shock)작용에 의해 코팅이 정상적으로 이루어지지 않는 문제점이 발생하고, 100㎛를 넘게 되면 입자 크기가 너무 커 적층이 이루어지는 임계속도(critical velocity)에 도달하기 힘들어 진다. 이에 따라, 적층율이 저하되는 것을 확인할 수 있다. On the other hand, the particle size of the coating material powder may have a 5㎛ to 100㎛. When the particle size of the coating material powder is smaller than 5 μm, problems occur in that coating is not normally performed due to bow shock, and when the particle size exceeds 100 μm, the critical speed at which the particle size is too large is laminated ( critical velocity) becomes difficult to reach. Thereby, it can confirm that a lamination rate falls.

여기서 보우 쇽(bow shock)이란 코팅소재 분말과 기판 간의 충돌시 발생되는 충격파를 뜻한다.Bow shock refers to a shock wave generated when a collision between the coating material powder and the substrate.

상기의 임계속도는 코팅소재 분말의 입자 크기와 코팅소재 분말의 온도 및 공급압력에 의해 변화되어 질 수 있다.The critical speed may be changed by the particle size of the coating material powder and the temperature and supply pressure of the coating material powder.

이에 따라 코팅소재 분말의 입자크기는 1 내지 200㎛의 입자크기도 코팅이 가능하나 코팅의 경제성 측면에서 볼때 5㎛ 내지 100㎛를 가지는 것이 바람직하다. 또한 코팅소재 분말의 입자는 구형의 형상 또는 괴상을 가지게 된다. Accordingly, the particle size of the coating material powder may be coated with a particle size of 1 to 200㎛, but from the viewpoint of economics of the coating, it is preferable to have 5㎛ to 100㎛. In addition, the particles of the coating material powder has a spherical shape or mass.

구형의 형상의 입자를 갖는 코팅소재 분말은 다른 형상의 입자보다 코팅 효율이 우수하고 분말을 송급하는데 있어 유리한 특성이 있다.Coating material powder having spherical particles has superior coating efficiency than other shaped particles and has an advantageous property in supplying powder.

그리고, 상기 분사노즐(47)과 상기 방열부(20) 간의 거리는 1 - 100mm의 간격을 유지하면서 분사가 가능하다.In addition, the distance between the injection nozzle 47 and the heat dissipation unit 20 may be sprayed while maintaining a distance of 1-100 mm.

그러나, 상기 분사노즐(47)과 상기 제2 코팅부(30) 간의 간격을 1mm미만으로 하여 상기 코팅소재 분말을 분사하게 되면, 상기 코팅소재 분말이 보우쇽 효과에 의해 코팅이 이루어지지 않거나 코팅효율이 낮아지고, 또한 코팅부의 표면조도가 높게 나타나기 때문에 향후 후가공 등과 같은 추가적인 공정을 요하기 때문에 바람직하지 않다. However, when the coating material powder is sprayed with the interval between the spray nozzle 47 and the second coating part less than 1 mm, the coating material powder is not coated by the bowing effect or coating efficiency This is not preferable because it requires a further process, such as post-processing in the future because it is low, and the surface roughness of the coating portion is high.

또한, 상기 분사노즐(47)과 상기 방열부(35) 간의 간격을 100mm이상으로 이격시켜 상기 코팅소재 분말을 분사하게 되면, 코팅소재 분말이 임계속도 이하로 낮아지게 되어 상기 방열부(35)에 적층되지 않거나, 충분한 소성변형을 가져오지 않기 때문에 결합력이 낮거나 코팅층 사이에 공극이 존재하게 된다. In addition, when the coating material powder is sprayed by spacing the gap between the spray nozzle 47 and the heat dissipating part 35 to 100 mm or more, the coating material powder is lowered below a critical speed to the heat dissipating part 35. There is low bonding force or voids between coating layers because they do not stack or do not result in sufficient plastic deformation.

이러한 공극으로 인해 상기 방열부(20)와 상기 제1,2 코팅부(10,30)가 밀착되지 못하여 열이 제대로 전도되지 않을 뿐만 아니라 제품의 적용 및 사용시 코팅층의 방열부 기판으로부터 분리등과 같은 문제를 야기할 수 있다.Due to such voids, the heat dissipation part 20 and the first and second coating parts 10 and 30 are not in close contact with each other, and heat is not properly conducted. Can cause problems.

상기 코팅소재 분말의 분사에 의해 기판의 냉각성능을 보다 더 향상시키기 위하여 제1 코팅부(10)를 상기 방열부(20)의 일면에 형성시키고, 상기 방열부(20)의 타면에 제2 코팅부(30)를 더 형성된다.In order to further improve the cooling performance of the substrate by spraying the coating material powder, the first coating part 10 is formed on one surface of the heat dissipation part 20 and the second coating on the other surface of the heat dissipation part 20. The portion 30 is further formed.

도 3은 본 발명의 전자부품 방열용 냉각기판의 제조방법을 나타낸 흐름도이고, 도 4는 본 발명의 제조방법에서 코팅부 형성과정을 나타낸 흐름도이다.3 is a flowchart illustrating a manufacturing method of a cooling substrate for dissipating an electronic component of the present invention, and FIG. 4 is a flowchart illustrating a coating part forming process in the manufacturing method of the present invention.

도 3을 참조하여 제조방법을 좀더 상세하게 설명하면 다음과 같다.Referring to Figure 3 in more detail the manufacturing method as follows.

본 발명은 방열부를 준비하는 준비단계(S10)와, 제1 코팅부 형성단계(S20)를 통해 제1 코팅부(10)상의 전자부품에서 발생되는 열을 상기 방열부(20)를 통해 방열시키는 냉각기판을 제조할 수 있다.The present invention is to heat the heat generated from the electronic component on the first coating portion 10 through the preparatory step (S10) and the first coating portion forming step (S20) of the heat dissipation unit 20 to prepare a heat dissipation unit. Cooling substrates can be produced.

상기 준비단계(S10)는 전자제품의 열을 방열하도록 상기 기판의 타면에 적층되며, 마그네슘, 마그네슘 합금, 철, 철 합금, 알루미늄, 알루미늄 합금, 구리 또는 구리합금재질 중 어느 하나로 이루어지는 방열부(20)를 준비하는 단계이다.The preparation step (S10) is laminated on the other surface of the substrate to dissipate heat of the electronic product, the heat dissipation unit 20 made of any one of magnesium, magnesium alloy, iron, iron alloy, aluminum, aluminum alloy, copper or copper alloy material ) To prepare.

상기 제1 코팅부 형성단계(S20)는 구리 또는 구리 합금 또는 구리 복합 소재 중 어느 한가지로 이루어지는 코팅소재를 분말화하여 저온 분사장치(40)의 분사노즐(47)을 통해 저온분사 방식으로 방열부(20)의 일면에 제1 코팅부(10)를 형성하는 단계이다.The first coating unit forming step (S20) is a heat dissipation unit in a low-temperature spraying method through the injection nozzle 47 of the low-temperature injector 40 by powdering the coating material made of any one of copper, copper alloy or copper composite material It is a step of forming the first coating part 10 on one surface of the (20).

여기서, 상기 방열부(20)에 상기 제1 코팅부(10)를 코팅하는 과정은 상기 제1 코팅부(10)를 저온분사 코팅을 통해 상기 방열부(20)의 일면에 원하는 형상으로 분사하여 형성하게 된다.Here, the process of coating the first coating portion 10 on the heat dissipation portion 20 by spraying the first coating portion 10 in a desired shape on one surface of the heat dissipation portion 20 through a low temperature spray coating To form.

이로 인해 상기 제1 코팅부(10)에는 전자부품이 직접 실장되거나 전자부품이 실장되어진 기판이 적층될 수 있다.As a result, the first coating part 10 may be directly mounted with an electronic component or a substrate on which the electronic component is mounted.

이러한 상기 방열부(20)의 타면에 제2 코팅부(30)를 제2 코팅부 형성단계(S30)를 통해 추가로 형성할 수 있다.The second coating part 30 may be further formed on the other surface of the heat dissipating part 20 through the second coating part forming step S30.

상기 제2 코팅부 형성단계(S30)는 구리 또는 구리 합금 또는 구리 복합 소재 중 어느 한가지로 이루어지는 코팅소재를 분말화 하여 저온 분사장치(40)의 분사노즐(47)을 통해 저온분사 방식으로 방열부(20)의 타면에 제2 코팅부(30)를 형성하는 단계이다.The second coating part forming step (S30) is a heat dissipation unit in a low-temperature spraying method through the injection nozzle 47 of the low-temperature injector 40 by powdering the coating material made of any one of copper, copper alloy or copper composite material It is a step of forming the second coating part 30 on the other surface of the (20).

그리고, 상기 제2 코팅부 형성단계(S30) 이후에 상기 제2 코팅부(30)의 타면에 가압, 가열, 솔더링, 브레이징 접합중 어느 한가지를 통해 상기 방열핀(35)이 추가로 접합되어 적층 될 수 있다.After the second coating part forming step (S30), the heat dissipation fins 35 may be further bonded and stacked on the other surface of the second coating part 30 through any one of pressing, heating, soldering, and brazing bonding. Can be.

도 4를 참조하여 상기 코팅부 형성단계의 제조과정을 상세하게 설명하면 다음과 같다.Referring to Figure 4 describes the manufacturing process of the coating portion forming step in detail as follows.

상기 제1,2 코팅부(10,30)를 형성하는 단계는 제1 가열단계(S100)와, 제2 가열단계(S200)와, 예열단계(S300)와, 형성단계(S400)로 이루어진다.The forming of the first and second coating parts 10 and 30 may include a first heating step S100, a second heating step S200, a preheating step S300, and a forming step S400.

상기 제1 가열단계(S100)에서는 메인가스 히터(42) 내에 공급된 메인가스를 가열한다. 상기 메인가스는 압축공기, 질소, 헬륨 및 아르곤 중 한종류 이상을 혼합한 혼합가스일 수 있다. In the first heating step S100, the main gas supplied into the main gas heater 42 is heated. The main gas may be a mixed gas of at least one of compressed air, nitrogen, helium, and argon.

이때, 상기 메인가스는 200 - 800℃로 가열하여 공급하게 된다.At this time, the main gas is supplied by heating to 200-800 ℃.

그 다음으로 제2 가열단계(S200)에서는 분말가스 히터(44) 내에 공급된 분말가스를 가열한다. 상기 분말가스는, 압축공기, 질소, 헬륨 및 아르곤 중 한 종류 이상을 혼합한 혼합가스일 수 있다. Next, in the second heating step S200, the powder gas supplied into the powder gas heater 44 is heated. The powder gas may be a mixed gas in which one or more kinds of compressed air, nitrogen, helium, and argon are mixed.

이때, 상기 분말가스는 50 - 800℃로 가열하여 공급하게 된다.At this time, the powder gas is supplied by heating to 50-800 ℃.

그 다음, 상기 예열단계(S300)에서는 상기 가열된 분말가스의 기류에 구리 분말 또는 구리 합금 분말 또는 구리 복합 분말 중 어느 하나로 이루어지는 코팅소재를 혼합하여 예열한다. Then, in the preheating step (S300) is mixed with the coating material consisting of any one of copper powder, copper alloy powder or copper composite powder in the air stream of the heated powder gas to preheat.

이때, 상기 구리 복합 소재 분말은 구리 분말에 텅스텐, 실리콘 카바이드, Al2O3 등의 소재 분말이 첨가되어 혼합된다.At this time, the copper composite material powder is mixed with the copper powder, the material powder such as tungsten, silicon carbide, Al 2 O 3 is added.

그리고, 상기 구리합금은 구리와 텅스텐, 실리콘 카바이드, Al2O3등의 소재를 섞어 용융시킨 합금을 분말화 한 것이다.The copper alloy is obtained by powdering an alloy in which copper and tungsten, silicon carbide, and Al 2 O 3 are mixed and melted.

그 다음단계인, 상기 형성단계(S400)에서는 상기 예열된 코팅소재 분말을 상기 메인가스와 혼합하여 저온 분사장치(40)를 통해 분사하여 코팅층을 형성한다. In the next step, the forming step (S400) to form a coating layer by mixing the preheated coating material powder with the main gas and sprayed through a low temperature injector (40).

즉, 상기 저온 분사장치(40)의 분사노즐(47)과 상기 제1,2 코팅부(10,30)와의 거리를 5 - 50mm를 유지하면서, 공급 압력은 15 - 40kg/cm2로 상기 코팅소재 분말을 분사하여 상기 제1,2 코팅부(10,30)가 상기 방열부(20)의 일면과 타면에 형성되도록 한다. That is, while maintaining the distance between the injection nozzle 47 of the low temperature injector 40 and the first and second coating parts 10 and 30 5 to 50 mm, the supply pressure is 15 to 40 kg / cm 2 the coating The first and second coating parts 10 and 30 may be formed on one surface and the other surface of the heat dissipating part 20 by spraying a material powder.

이때, 상기 제1,2 코팅부(10,30)의 상기 코팅소재 분말은 구형으로 형성되며, 입자 크기가 5 - 100㎛로 이루어져 저온 분사장치(40)의 분사노즐(47)을 통해 분사되고, 상기 방열부(20)의 일면과 타면에 20 - 200㎛의 두께를 가지고 형성된다.At this time, the coating material powder of the first and second coating parts 10 and 30 is formed in a spherical shape, the particle size is 5 to 100㎛ made through the injection nozzle 47 of the low temperature injector 40 On one side and the other side of the heat dissipation unit 20 is formed to have a thickness of 20 to 200㎛.

이러한, 상기 코팅소재가 상온 또는 50 - 800℃의 온도로 가열되어 저온 분사장치(40)로 공급된 뒤 저온 분사장치(40)의 분사노즐(47)을 통해 방열부(20)의 일면과 타면에 분사되어 형성 질 수 있다. This, the coating material is heated to a temperature of 50 or 800 ℃ ℃ room temperature or 50 to 800 ℃ supplied to the low temperature injector 40 and then one surface and the other surface of the heat dissipation unit 20 through the injection nozzle 47 of the low temperature injector 40 Can be sprayed on and formed.

그리고, 상기 제2 코팅부(30)의 타면에는 방열부(20)의 열을 추가로 방열하도록 방열핀(35)이 결합 될 수 있다.The heat dissipation fin 35 may be coupled to the other surface of the second coating part 30 to further dissipate heat of the heat dissipation part 20.

이때, 상기 제2 코팅부(30)는 상기 방열부(20)의 타면과 상기 방열핀(35)의 일면에 상기 저온 분사장치(40)를 통해 코팅소재를 각각 분사하고, 두 코팅소재를 가열, 가압, 솔더링 또는 브레이징 접합의 방법 중 어느 하나의 방법으로 접합하여 형성될 수 있다.At this time, the second coating part 30 sprays the coating material on the other surface of the heat dissipating part 20 and one surface of the heat dissipation fin 35 through the low temperature spraying device 40, respectively, and heats the two coating materials. It can be formed by joining by any one of the method of pressing, soldering or brazing bonding.

상기 방열부(20)는 알루미늄(Al), 알루미늄 합금, 구리(Cu) 또는 구리 합금재질 중 어느 하나로 이루어져 열이 쉽게 방출될 수 있도록 한다.The heat dissipation unit 20 is made of any one of aluminum (Al), aluminum alloy, copper (Cu) or copper alloy material so that heat can be easily released.

이러한 과정을 통해 제조되는 전자부품 방열용 냉각기판은 상기 제1,2 코팅부(10,30)에 대하여 가열, 가압, 솔더링 또는 브레이징 접합 중 어느 한가지를 통하여 상기 제1 코팅부(10)와 방열부(20) 간 및 상기 방열부(20)와 제2 코팅부(30) 간의 결합력을 향상시킬 수 있다. The cooling substrate for dissipating the electronic component manufactured through the above process radiates heat to the first coating part 10 through any one of heating, pressing, soldering or brazing bonding to the first and second coating parts 10 and 30. The coupling force between the parts 20 and the heat dissipation part 20 and the second coating part 30 may be improved.

한편, 상기 방열부(20)와 상기 제1,2 코팅부(30) 간에는 알루미늄 복합분말을 저온분사하여 알루미늄 복합층을 더 형성할 수도 있다.Meanwhile, an aluminum composite layer may be further formed by spraying the aluminum composite powder at a low temperature between the heat dissipation unit 20 and the first and second coating units 30.

이처럼, 방열부의 일면과 타면에 구리 또는 구리 복합 분말을 저온분사 코팅방법으로 제1,2 코팅부를 형성하여, 제1 코팅부의 일면에 적층되는 기판에서 전도된 열이 상기 제1 코팅부를 통해 방열부로 효율적으로 전도되어 제2 코팅부를 통해 쉽게 배출됨으로서 방열이 효과적으로 이루어져 전자부품의 수명을 크게 향상시키는 이점이 있다.As such, the first and second coating parts are formed on one surface and the other surface of the heat dissipating part by a low temperature spray coating method, and heat conducted from the substrate laminated on one surface of the first coating part is transferred to the heat dissipating part through the first coating part. Efficiently conducted and easily discharged through the second coating, thereby effectively dissipating heat, thereby greatly improving the life of the electronic component.

또한, 저온분사를 이용하여 제1,2 코팅부를 형성하게 되므로 결합력과 전도율을 증가시키면서 중량이 감소하는 이점이 있다.In addition, since the first and second coatings are formed using low temperature spraying, the weight is reduced while increasing the bonding force and conductivity.

상기 실시예들은 각 실시예들의 전부 또는 일부가 선택적으로 조합되어 다양한 변형이 이루어질 수 있도록 구성될 수도 있다.
The above embodiments may be configured such that various modifications may be made by selectively combining all or part of the embodiments.

10 : 제1 코팅부 20 : 방열부
30 : 제2 코팅부 35 : 방열핀
40 : 저온분사 장치 41 : 가스 컨트롤부
42 : 메인가스 히터 43 : 분말 송급 장치
44 : 분말가스 히터 45 : 혼합 챔버
46 : 온도 컨트롤부 47 : 분사노즐
48 : 가스 저장부
10: first coating part 20: heat dissipation part
30: second coating portion 35: heat dissipation fin
40: low temperature injection device 41: gas control unit
42: main gas heater 43: powder feed device
44: powder gas heater 45: mixing chamber
46: temperature control unit 47: injection nozzle
48 gas storage unit

Claims (28)

전자부품의 열을 방열하는 방열부; 및
상기 방열부의 일면에 분말로 형성되는 코팅소재가 저온분사되어 적층되고, 상기 전자부품이 탑재되는 제1 코팅부;를 포함하는, 전자부품 방열용 냉각기판.
A heat dissipation unit for dissipating heat of the electronic component; And
And a first coating part on which one surface of the heat dissipating part is formed by spraying the coating material formed of powder at a low temperature, and the electronic component is mounted thereon.
제 1항에 있어서,
상기 방열부를 통해 전도되는 열을 흡수하며, 분말로 형성되는 코팅소재가 저온분사되어 상기 방열부의 타면에 적층되는 제2 코팅부;를 포함하는, 전자부품 방열용 냉각기판.
The method of claim 1,
And a second coating part which absorbs heat conducted through the heat dissipation part and is formed by powder coating at a low temperature to be laminated on the other surface of the heat dissipation part.
제 1항에 있어서,
상기 제2 코팅부의 타면에 적층되는 방열핀;을 더 포함하는 전자부품 방열용 냉각기판.
The method of claim 1,
And a heat dissipation fin stacked on the other surface of the second coating part.
제 1항에 있어서,
상기 제1 코팅부는, 구리 분말, 구리 합금 분말 또는 구리 복합 분말 중 어느 하나의 코팅소재로 이루어지는, 전자부품 방열용 냉각기판.
The method of claim 1,
The first coating part is made of a coating material of any one of copper powder, copper alloy powder or copper composite powder, the electronic component heat dissipation cooling substrate.
제 1항에 있어서,
상기 제1 코팅부는, 20 - 200㎛의 두께로 형성되는, 전자부품 방열용 냉각기판.
The method of claim 1,
The first coating part is formed of a thickness of 20 to 200㎛, Cooling substrate for electronic component heat dissipation.
제 2항에 있어서,
상기 제2 코팅부는, 구리 분말, 구리 합금 분말 또는 구리 복합 분말 중 어느 하나의 코팅소재로 이루어지는, 전자부품 방열용 냉각기판.
The method of claim 2,
The second coating part is made of a coating material of any one of copper powder, copper alloy powder or copper composite powder, the electronic component heat dissipation cooling substrate.
제 2항에 있어서,
상기 제2 코팅부는, 20 - 200㎛의 두께로 형성되는, 전자부품 방열용 냉각기판.
The method of claim 2,
The second coating part is formed of a thickness of 20 to 200㎛, Cooling substrate for electronic component heat dissipation.
제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 코팅소재는, 상온 또는 50 - 800℃의 온도로 가열되어 저온 분사장치로 공급되는, 전자부품 방열용 냉각기판.
3. The method according to claim 1 or 2,
The coating material is heated to room temperature or a temperature of 50-800 ℃ is supplied to a low temperature spray device, the electronic component heat dissipation cooling substrate.
제 1항에 있어서,
상기 방열부는 마그네슘, 마그네슘 합금, 철, 철 합금, 알루미늄, 알루미늄 합금, 구리 또는 구리합금재질 중 어느 하나로 이루어지는, 전자부품 방열용 냉각기판.
The method of claim 1,
The heat dissipation unit is made of any one of magnesium, magnesium alloy, iron, iron alloy, aluminum, aluminum alloy, copper or copper alloy material, a cooling substrate for electronic component heat dissipation.
전자제품 열을 방열하는 방열부를 준비하는 준비단계; 및
상기 방열부의 일면에 코팅소재의 분말을 저온분사하여 제1 코팅부를 형성하는 제1 코팅부 형성단계;를 포함하는, 전자부품 방열용 냉각기판 제조방법.
Preparing a heat dissipation unit for dissipating heat of electronics; And
And a first coating part forming step of forming a first coating part by spraying the powder of the coating material on one surface of the heat dissipation part at a low temperature.
제 10항에 있어서,
상기 방열부의 타면에 코팅소재의 분말을 저온분사하여 제2 코팅부를 형성하는 제2 코팅부 형성단계;를 더 포함하는, 전자부품 방열용 냉각기판 제조방법.
The method of claim 10,
And a second coating part forming step of forming a second coating part by spraying powder of the coating material on the other surface of the heat dissipating part at a low temperature.
제 10항에 있어서,
상기 제1 코팅부 형성단계는,
저온 분사장치의 메인가스 히터 내에 공급된 메인가스를 가열하는 제1 가열단계;
상기 저온 분사장치의 분말가스 히터내에 공급된 분말가스를 가열하는 제2 가열단계;
상기 가열된 분말가스의 기류에 상기 제1 코팅부를 형성하는 코팅소재를 분말로 형성하여 혼합하여 예열하는 예열단계; 및
상기 예열된 코팅소재를 상기 메인가스와 혼합하여 분사노즐을 통해 상기 제1 코팅부를 상기 방열부 일면에 형성하는 형성단계;를 포함하는, 전자부품 방열용 냉각기판 제조방법.
The method of claim 10,
The first coating portion forming step,
A first heating step of heating the main gas supplied into the main gas heater of the low temperature injector;
A second heating step of heating the powder gas supplied into the powder gas heater of the low temperature injector;
A preheating step of preforming and mixing the coating material forming the first coating part in a stream of the heated powder gas to form a powder; And
And forming the first coating part on one surface of the heat dissipation part through a spray nozzle by mixing the preheated coating material with the main gas.
제 11항에 있어서,
상기 제2 코팅부 형성단계는,
저온 분사장치의 메인가스 히터 내에 공급된 메인가스를 가열하는 제1 가열단계;
상기 저온 분사장치의 분말가스 히터내에 공급된 분말가스를 가열하는 제2 가열단계;
상기 가열된 분말가스의 기류에 상기 제2 코팅부를 형성하는 코팅소재를 분말로 형성하여 혼합하여 예열하는 예열단계; 및
상기 예열된 코팅소재를 상기 메인가스와 혼합하여 분사노즐을 통해 상기 제2 코팅부를 상기 방열부 타면에 형성하는 형성단계;를 포함하는, 전자부품 방열용 냉각기판 제조방법.
12. The method of claim 11,
The second coating portion forming step,
A first heating step of heating the main gas supplied into the main gas heater of the low temperature injector;
A second heating step of heating the powder gas supplied into the powder gas heater of the low temperature injector;
A preheating step of forming and mixing a coating material for forming the second coating part in the air stream of the heated powder gas and mixing the powder; And
And forming the second coating part on the other surface of the heat dissipation part through the injection nozzle by mixing the preheated coating material with the main gas.
제 12항 또는 제 13항에 있어서,
상기 메인가스와 분말가스는, 압축공기, 질소, 헬륨 및 아르곤 중 한종류 이상을 혼합한 혼합가스인, 전자부품 방열용 냉각기판 제조방법.
The method according to claim 12 or 13,
The main gas and the powder gas is a mixed gas in which at least one of compressed air, nitrogen, helium and argon is mixed.
제 12항 또는 제 13항에 있어서,
상기 제1 가열단계에서는 상기 메인가스를 200 - 800℃로 가열하는, 전자부품 방열용 냉각기판 제조방법.
The method according to claim 12 or 13,
In the first heating step, the main gas is heated to 200-800 ℃, the electronic component heat dissipation cooling substrate manufacturing method.
제 12항 또는 제 13항에 있어서,
상기 제2 가열단계에서는 상기 분말가스를 50 - 800℃로 가열하는, 전자부품 방열용 냉각기판 제조방법.
The method according to claim 12 or 13,
In the second heating step, the powder gas is heated to 50-800 ℃, the electronic component heat dissipation cooling substrate manufacturing method.
제 11항에 있어서,
상기 제1 코팅부 형성단계에서는 분사노즐과 상기 방열부 간의 거리를 1 - 100mm를 유지하며, 공급압력은 15 - 40kg/cm2로 이루어지는, 전자부품 방열용 냉각기판 제조방법.
12. The method of claim 11,
In the forming of the first coating part, the distance between the spray nozzle and the heat dissipation part is maintained at 1-100 mm, and the supply pressure is 15-40 kg / cm 2 .
제 11항에 있어서,
상기 제1 코팅부 형성단계에서 사용되는 상기 코팅소재 분말은 구형으로 형성되며, 입자의 크기가 5 - 100㎛로 이루어지는, 전자부품 방열용 냉각기판 제조방법.
12. The method of claim 11,
The coating material powder used in the first coating part forming step is formed in a spherical shape, the particle size of 5 to 100㎛, the manufacturing method of the electronic component heat dissipation cooling substrate.
제 11항에 있어서,
상기 제1 코팅부는, 저온 분사장치를 통해 저온분사되는 구리 분말, 구리 합금 분말 또는 구리 복합 분말 중 어느 하나의 코팅소재로 이루어지는, 전자부품 방열용 냉각기판 제조방법.
12. The method of claim 11,
The first coating part is made of a coating material of any one of copper powder, copper alloy powder or copper composite powder which is sprayed at a low temperature through a low temperature spraying device, the electronic component heat dissipation cooling substrate manufacturing method.
제 11항에 있어서,
상기 제1 코팅부는, 20 - 200㎛의 두께를 갖도록 저온분사되는, 전자부품 방열용 냉각기판 제조방법.
12. The method of claim 11,
The first coating part is a low-temperature spraying to have a thickness of 20 to 200㎛, electronic component heat dissipation cooling substrate manufacturing method.
제 12항에 있어서,
상기 제2 코팅부 형성단계에서는 분사노즐과 상기 방열부 간의 거리를 5 - 50mm를 유지하며, 공급압력은 15 - 40kg/cm2로 이루어지는, 전자부품 방열용 냉각기판 제조방법.
The method of claim 12,
In the forming of the second coating part, the distance between the spray nozzle and the heat dissipation part is maintained at 5 to 50 mm, and the supply pressure is 15 to 40 kg / cm 2 .
제 12항에 있어서,
상기 제2 코팅부 형성단계에서 사용되는 상기 코팅소재 분말은 구형으로 형성되며, 입자의 크기가 5 - 100㎛로 이루어지는, 전자부품 방열용 냉각기판 제조방법.
The method of claim 12,
The coating material powder used in the second coating part forming step is formed in a spherical shape, the particle size of 5 to 100㎛, the manufacturing method of the electronic component heat dissipation cooling substrate.
제 12항에 있어서,
상기 제2 코팅부는, 저온 분사장치를 통해 저온분사되는 구리 분말, 구리 합금 분말 또는 구리 복합 분말 중 어느 하나의 코팅소재로 이루어지는, 전자부품 방열용 냉각기판 제조방법.
The method of claim 12,
The second coating part is made of a coating material of any one of copper powder, copper alloy powder or copper composite powder which is sprayed at a low temperature through a low temperature spraying device, the electronic component heat dissipation cooling substrate manufacturing method.
제 12항에 있어서,
상기 제2 코팅부는, 20 - 200㎛의 두께를 갖도록 저온분사되는, 전자부품 방열용 냉각기판 제조방법.
The method of claim 12,
The second coating part is a low-temperature spraying to have a thickness of 20 to 200㎛, electronic component heat dissipation cooling substrate manufacturing method.
제 12항에 있어서,
상기 제2 코팅부의 타면에 방열핀이 적층되는, 전자부품 방열용 냉각기판 제조방법.
The method of claim 12,
The heat dissipation fin is laminated on the other surface of the second coating, electronic component heat dissipation cooling substrate manufacturing method.
제 12항에 있어서,
상기 제2 코팅부는, 상기 방열부와 방열핀 간에 저온 분사장치를 통해 코팅소재를 각각 분사하고, 두 코팅소재를 접합하여 형성하는, 전자부품 방열용 냉각기판 제조방법.
The method of claim 12,
The second coating unit, the coating material is sprayed between the heat dissipation unit and the heat dissipation fin through a low temperature spray device, respectively, and formed by bonding the two coating materials, electronic component heat dissipation cooling substrate manufacturing method.
제 10항 또는 제 11항에 있어서,
상기 코팅소재는, 상온 또는 50 - 800℃의 온도로 가열되어 저온 분사장치로 공급되는, 전자부품 방열용 냉각기판 제조방법.
The method according to claim 10 or 11,
The coating material is heated to room temperature or a temperature of 50-800 ℃ is supplied to a low temperature spray device, the electronic component heat dissipation cooling substrate manufacturing method.
제 10항에 있어서,
상기 방열부는 마그네슘, 마그네슘 합금, 철, 철 합금, 알루미늄, 알루미늄 합금, 구리 또는 구리합금재질 중 어느 하나로 이루어지는, 전자부품 방열용 냉각기판 제조방법.
The method of claim 10,
The heat dissipation unit is made of any one of magnesium, magnesium alloy, iron, iron alloy, aluminum, aluminum alloy, copper or copper alloy material, the electronic component heat dissipation cooling substrate manufacturing method.
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