KR20120011263A - Defroster device using surface heat source - Google Patents

Defroster device using surface heat source Download PDF

Info

Publication number
KR20120011263A
KR20120011263A KR1020100073028A KR20100073028A KR20120011263A KR 20120011263 A KR20120011263 A KR 20120011263A KR 1020100073028 A KR1020100073028 A KR 1020100073028A KR 20100073028 A KR20100073028 A KR 20100073028A KR 20120011263 A KR20120011263 A KR 20120011263A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
transparent substrate
conductive layer
transparent
transparent conductive
heat source
Prior art date
Application number
KR1020100073028A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
이시우
이유진
김동제
Original Assignee
주식회사 티지솔라
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 티지솔라 filed Critical 주식회사 티지솔라
Priority to KR1020100073028A priority Critical patent/KR20120011263A/en
Publication of KR20120011263A publication Critical patent/KR20120011263A/en

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B60—VEHICLES IN GENERAL
    • B60S—SERVICING, CLEANING, REPAIRING, SUPPORTING, LIFTING, OR MANOEUVRING OF VEHICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B60S1/00—Cleaning of vehicles
    • B60S1/02—Cleaning windscreens, windows or optical devices
    • B60S1/023—Cleaning windscreens, windows or optical devices including defroster or demisting means
    • B60S1/026—Cleaning windscreens, windows or optical devices including defroster or demisting means using electrical means
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A47—FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47L—DOMESTIC WASHING OR CLEANING; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47L1/00—Cleaning windows
    • A47L1/16—Devices for defrosting window-panes
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B2214/00—Aspects relating to resistive heating, induction heating and heating using microwaves, covered by groups H05B3/00, H05B6/00
    • H05B2214/02—Heaters specially designed for de-icing or protection against icing
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B3/00—Ohmic-resistance heating
    • H05B3/84—Heating arrangements specially adapted for transparent or reflecting areas, e.g. for demisting or de-icing windows, mirrors or vehicle windshields

Abstract

PURPOSE: A defrost device which can remove frost is provided to prevent that the view of a user is interrupted by removing hotwires. CONSTITUTION: A defrost device which can remove frost comprises a first transparent substrate, a second transparent substrate, a transparent conduction layer(200), a pair of electrodes(300), and a bonding film. The second transparent substrate faces to the first transparent substrate. The transparent conduction layer is located between the first transparent substrate and the second transparent substrate. One side of the transparent conduction layer contacts to one of the first transparent substrate and the second transparent substrate. The bonding film welds the first transparent substrate and the second transparent substrate.

Description

면 열원을 이용한 성에 제거 장치{DEFROSTER DEVICE USING SURFACE HEAT SOURCE}Defroster using cotton heat source {DEFROSTER DEVICE USING SURFACE HEAT SOURCE}

본 발명은 면 열원을 이용한 성에 제거 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 유리에 투명 전도층을 이용한 면 열원을 형성하여 미관 향상과 동시에 성에 제거 효과를 향상시킬 수 있는 면 열원을 이용한 성에 제거 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a defrosting device using a cotton heat source. More specifically, the present invention relates to a defrosting apparatus using a surface heat source that can form a surface heat source using a transparent conductive layer on glass, thereby improving aesthetics and improving the defrosting effect.

일반적으로, 기온 변동이 심한 경우(특히, 겨울철)에 실내 기온과 외기의 온도 차에 의해 유리의 표면에 성에가 맺히게 되어 시야(특히, 자동차 유리)를 가리게 되는 문제점이 있다.In general, when the temperature fluctuates severely (especially in winter), frost forms on the surface of the glass due to a difference in temperature between the indoor temperature and the outside air, thereby obstructing the field of view (particularly, automotive glass).

이러한 성에를 제거하기 위하여 열풍 또는 열선을 이용하는 기술이 개발되어 왔다.In order to remove these frosts, a technique using hot air or hot wire has been developed.

먼저, 열풍 방식은 차량에 열풍 그릴을 설치하여 유리의 실내측 표면을 향해 열풍을 방출함으로써, 성에를 제거하는 방식이다. 그러나, 이와 같은 열풍 방식은 열풍 그릴이 위치된 부분에서 점점 멀어질수록 온풍이 미치는 영향력이 떨어지는 단점을 가지고 있었으며, 성에 제거 속도가 매우 느리다는 단점을 가지고 있다.First, the hot air system is a method of removing frost by installing a hot air grille on a vehicle and emitting hot air toward the interior surface of the glass. However, such a hot air method has a disadvantage in that the influence of the warm air is less as the distance from the hot air grill is located, the disadvantage that the defrosting rate is very slow.

다음으로 열선 방식은 유리에 열선을 형성하고 열선으로 소정의 전류를 인가함으로써, 열선의 저항에 의해 발생하는 열을 이용하여 성에를 제거하는 방식이다. 그러나 이와 같은 열선 방식은 성에를 신속하게 제거할 수 있으나 열선으로 인해 시야를 방해하기 때문에 자동차의 전면 유리창에는 열선을 설치하기 어렵고 대면적에 균일하게 열을 전달하기 어렵다는 한계를 가지고 있다.Next, the hot wire method is a method of removing frost using heat generated by the resistance of the hot wire by forming a hot wire on the glass and applying a predetermined current to the hot wire. However, such a hot wire method can quickly remove frost, but because of the obstruction of vision due to the hot wire, it is difficult to install a hot wire on the windshield of the car and it is difficult to transfer heat uniformly over a large area.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 소정의 면적을 갖는 투명 전도층의 면 열원 이용한 성에 제거 장치를 제공하는데 목적이 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a defrosting device using a surface heat source of a transparent conductive layer having a predetermined area, which is devised to solve the above problems of the prior art.

본 발명의 상기 목적은 소정의 면적을 갖는 투명 전도층이 형성된 투명 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 면 열원을 이용한 성에 제거 장치에 의해 달성된다.The above object of the present invention is achieved by a defrosting device using a plane heat source, characterized in that it comprises a transparent substrate on which a transparent conductive layer having a predetermined area is formed.

또한, 본 발명의 상기 목적은 제1 투명기판; 상기 제1 투명 기판과 마주보는 제2 투명 기판; 상기 제1 투명 기판과 상기 제2 투명 기판 사이에 위치하되 일면이 상기 제1 투명 기판과 상기 제2 투명 기판 중 어느 하나에 접하는 투명 전도층; 상기 투명 전도층의 타면 가장자리부에 서로 평행하도록 배열되는 한 쌍의 전극; 및 상기 제1 투명 기판과 상기 제2 투명 기판 사이를 접합시키는 접합층을 포함하는 것을 특징으로 하는 면 열원을 이용한 성에 제거 장치에 의해 달성된다.In addition, the object of the present invention is a first transparent substrate; A second transparent substrate facing the first transparent substrate; A transparent conductive layer positioned between the first transparent substrate and the second transparent substrate, one surface of which is in contact with one of the first transparent substrate and the second transparent substrate; A pair of electrodes arranged to be parallel to each other at edges of the other surface of the transparent conductive layer; And a bonding layer for bonding the first transparent substrate and the second transparent substrate to each other.

또한, 본 발명의 상기 목적은 제1 투명 기판; 상기 제1 투명 기판과 마주보는 제2 투명 기판; 상기 제1 투명 기판과 상기 제2 투명 기판 사이를 접합시키는 접합층; 상기 제1 투명 기판 또는 상기 제2 투명 기판 상에 위치하는 투명 전도층; 상기 투명 전도층 상의 가장자리부에 서로 평행하도록 배열되는 한 쌍의 전극; 및 상기 투명 전도층 상에 위치하며 상기 전극을 덮는 보호층을 포함하는 것을 특징으로 하는 면 열원을 이용한 성에 제거 장치에 의해 달성된다.In addition, the above object of the present invention is a first transparent substrate; A second transparent substrate facing the first transparent substrate; A bonding layer bonding the first transparent substrate and the second transparent substrate to each other; A transparent conductive layer on the first transparent substrate or the second transparent substrate; A pair of electrodes arranged parallel to each other at an edge portion on the transparent conductive layer; And a protective layer on the transparent conductive layer and covering the electrode.

이때, 상기 제1 투명 기판 및 상기 제2 투명 기판은 유리일 수 있다.In this case, the first transparent substrate and the second transparent substrate may be glass.

상기 투명 전도층은 TCO(Transparent Conductive Oxide)일 수 있다.The transparent conductive layer may be transparent conductive oxide (TCO).

상기 투명 전도층은 화학기상 증착법으로 형성될 수 있다.The transparent conductive layer may be formed by chemical vapor deposition.

상기 전극은 상기 투명 전도층의 가장자리부에 단변 또는 장변 방향으로 배열될 수 있다.The electrode may be arranged in a short side or long side direction at an edge portion of the transparent conductive layer.

상기 투명 전도층의 타면에는 절연성 코팅막이 더 형성될 수 있다.An insulating coating film may be further formed on the other surface of the transparent conductive layer.

본 발명에 따르면, 투명 전도층을 이용하여 면 열원을 형성할 수 있기 때문에 열선이 필요 없어 시야가 방해되는 것을 방지할 수 있다.According to the present invention, since the planar heat source can be formed using the transparent conductive layer, it is possible to prevent the visual field from being obstructed without the need for a hot wire.

또한, 본 발명에 따르면, 투명 전도층을 이용하여 면 열원을 형성할 수 있기 때문에 대면적에 균일하게 열을 전달할 수 있어 성에 제거 효율을 향상시킬 수 있다.In addition, according to the present invention, since the plane heat source can be formed using the transparent conductive layer, heat can be uniformly transferred to the large area, thereby improving the defrosting efficiency.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 면 열원을 이용한 성에 제거 장치의 단면을 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명의 제2 일 실시예에 따른 면 열원을 이용한 성에 제거 장치의 단면을 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 면 열원을 이용한 성에 제거 장치의 평면을 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 다른 형태의 면 열원을 이용한 성에 제거 장치의 평면을 나타내는 도면이다.1 is a cross-sectional view of a defrosting apparatus using a surface heat source according to a first embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a defrosting apparatus using a surface heat source according to a second embodiment of the present invention.
3 is a view showing a plane of the defrosting apparatus using a surface heat source according to an embodiment of the present invention.
4 is a view showing a plane of the defroster using another type of surface heat source according to an embodiment of the present invention.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭하며, 길이 및 면적, 두께 등과 그 형태는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다.DETAILED DESCRIPTION The following detailed description of the invention refers to the accompanying drawings that show, by way of illustration, specific embodiments in which the invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are different but need not be mutually exclusive. For example, certain features, structures, and characteristics described herein may be implemented in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention in connection with an embodiment. It is also to be understood that the position or arrangement of the individual components within each disclosed embodiment may be varied without departing from the spirit and scope of the invention. The following detailed description, therefore, is not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention, if properly described, is defined only by the appended claims, along with the full range of equivalents to which such claims are entitled. In the drawings, like reference numerals refer to the same or similar functions throughout the several aspects, and length, area, thickness, and the like may be exaggerated for convenience.

이하에서는, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예들에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily implement the present invention.

제1 First 실시예Example

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 면 열원을 이용한 성에 제거 장치의 단면을 나타내는 도면이다.1 is a cross-sectional view of a defrosting apparatus using a surface heat source according to a first embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 의한 성에 제거 장치는 제1 투명 기판(110), 제2 투명 기판(120), 투명 전도층(200), 전극(300) 및 접합층(400)을 포함하여 구성될 수 있다.Referring to FIG. 1, a defrosting apparatus according to a first embodiment of the present invention may include a first transparent substrate 110, a second transparent substrate 120, a transparent conductive layer 200, an electrode 300, and a bonding layer ( 400).

먼저, 본 발명의 제1 실시예에 의한 제1 투명 기판(110) 및 제2 투명 기판(120)은 빛을 투과시킬 수 있는 투명한 재질로 예를 들면 유리(glass)일 수 있다.First, the first transparent substrate 110 and the second transparent substrate 120 according to the first embodiment of the present invention may be, for example, glass made of a transparent material capable of transmitting light.

다음으로, 본 발명의 제1 실시예에 의한 투명 전도층(200)은 일면이 제1 투명 기판(110)과 제2 투명 기판(120) 중 어느 하나에 접하도록 위치될 수 있다. 이러한 투명 전도층(200)은 TCO(Transparent Conductive Oxide)를 사용할 수 있는데, 일 예로 AZO(ZnO:Al), ITO(Indium-Tin-Oxide), GZO(ZnO:Ga), BZO(ZnO:B) 및 FTO(SnO2:F) 중 어느 하나일 수 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며 공지된 투명한 전도성 재질을 제한없이 사용할 수 있다.Next, the transparent conductive layer 200 according to the first embodiment of the present invention may be positioned such that one surface thereof is in contact with one of the first transparent substrate 110 and the second transparent substrate 120. The transparent conductive layer 200 may use transparent conductive oxide (TCO). For example, AZO (ZnO: Al), ITO (Indium-Tin-Oxide), GZO (ZnO: Ga), BZO (ZnO: B) And FTO (SnO 2 : F), but the present invention is not limited thereto, and a known transparent conductive material may be used without limitation.

본 발명의 투명 전도층(200)은 화학기상 증착법을 이용하여 대면적의 투명전도층(200)을 제1 투명 기판(110) 또는 제2 투명 기판(120) 상에 형성할 수 있다. 따라서, 제1 투명 기판(110) 또는 제2 투명 기판(120)이 곡면 형태일 경우에도 용이하게 형성할 수 있다. 예를 들면, LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 또는 APCVD(Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition)을 사용할 수 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.In the transparent conductive layer 200 of the present invention, a large conductive layer 200 can be formed on the first transparent substrate 110 or the second transparent substrate 120 by using chemical vapor deposition. Therefore, even when the first transparent substrate 110 or the second transparent substrate 120 has a curved shape, it can be easily formed. For example, low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) or atmospheric pressure chemical vapor deposition (APCVD) may be used, but the present invention is not limited thereto.

또한, 도시되지는 않았지만 투명 전도층(200)의 세정 및/또는 보호를 목적으로 별도의 코팅막(특히, 절연성, 발수성)을 선택적으로 더 형성할 수도 있다.In addition, although not shown, a separate coating film (particularly, insulating and water repellent) may be selectively formed for cleaning and / or protecting the transparent conductive layer 200.

다음으로, 본 발명의 제1 실시예에 의한 전극(300)은 투명 전도층(200)의 타면의 가장자리부에 서로 평행하도록 한 쌍으로 위치하여, 외부에서 공급되는 소정의 전압을 투명 전도층(200)에 인가하는 기능을 수행할 수 있다. 이러한 전극(300)은 전도성 재질로 일 예로 구리, 알루미늄, 티타늄, 몰리브덴, 텅스텐일 수 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며 공지된 전도성 재질을 제한없이 사용할 수 있다. 전극(200)의 보다 상세한 설명은 도 3 이하를 참조한 이하의 상세한 설명에 의해 이해될 수 있다.Next, the electrodes 300 according to the first embodiment of the present invention are positioned in pairs so as to be parallel to each other at the edges of the other surface of the transparent conductive layer 200, so that a predetermined voltage supplied from the outside is applied to the transparent conductive layer ( 200 may be applied to. The electrode 300 may be, for example, copper, aluminum, titanium, molybdenum, or tungsten as a conductive material, but the present invention is not limited thereto, and a known conductive material may be used without limitation. A more detailed description of the electrode 200 can be understood by the following detailed description with reference to FIG. 3 and below.

다음으로, 본 발명의 제1 실시예에 의한 접합층(400)은 제1 투명 기판(110)과 투명 전도층(200)을 접합시키는 기능을 수행할 수 있다. 이러한 접합층(400)은 접착성과 동시에 완충성을 포함하는 것이 바람직한데, 예를 들면 에틸렌 비닐 아세테이트(EVA: Ethylene Vinyl Acetate) 수지를 사용할 수 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것이 아니며 공지된 접착성 재질을 제한없이 사용할 수 있다.Next, the bonding layer 400 according to the first embodiment of the present invention may perform a function of bonding the first transparent substrate 110 and the transparent conductive layer 200. It is preferable that the bonding layer 400 includes adhesiveness and buffering property at the same time. For example, ethylene vinyl acetate (EVA) resin may be used, but the present invention is not limited thereto, and it is well known. The material can be used without limitation.

제2 2nd 실시예Example

도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 면 열원을 이용한 성에 제거 장치의 단면을 나타내는 도면이다.2 is a cross-sectional view of a defrosting apparatus using a surface heat source according to a second embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 의한 성에 제거 장치는 제1 투명 기판(110), 제2 투명 기판(120), 투명 전도층(200), 전극(300), 접합층(400) 및 보호층(500)을 포함하여 구성될 수 있다.Referring to FIG. 2, the defrosting apparatus according to the second embodiment of the present invention may include a first transparent substrate 110, a second transparent substrate 120, a transparent conductive layer 200, an electrode 300, and a bonding layer ( 400 and a protective layer 500.

먼저, 본 발명의 제2 일 실시예에 의한 제1 투명 기판(110) 및 제2 투명 기판(120)은 빛을 투과시킬 수 있는 투명한 재질로 예를 들면 유리(glass)일 수 있다.First, the first transparent substrate 110 and the second transparent substrate 120 according to the second embodiment of the present invention may be, for example, glass made of a transparent material capable of transmitting light.

다음으로, 본 발명의 제2 실시예에 의한 접합층(400)은 제1 투명 기판(110)과 제2 투명 기판(120) 사이에 위치하며 서로 접합시키는 기능을 수행할 수 있다. 이러한 접합층(400)은 접착성과 동시에 완충성을 포함하는 것이 바람직한데, 예를 들면 에틸렌 비닐 아세테이트(EVA: Ethylene Vinyl Acetate) 수지를 사용할 수 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것이 아니며 공지된 접착성 재질을 제한없이 사용할 수 있다.Next, the bonding layer 400 according to the second embodiment of the present invention may be located between the first transparent substrate 110 and the second transparent substrate 120 and perform a function of bonding to each other. It is preferable that the bonding layer 400 includes adhesiveness and buffering property at the same time. For example, ethylene vinyl acetate (EVA) resin may be used, but the present invention is not limited thereto, and it is well known. The material can be used without limitation.

다음으로, 본 발명의 제2 실시예에 의한 투명 전도층(200)은 제1 투명 기판(110) 또는 제2 투명 기판(120) 상에 위치할 수 있다. 이러한 투명 전도층(200)은 TCO(Transparent Conductive Oxide)을 사용할 수 있는데, 일 예로 AZO(ZnO:Al), ITO(Indium-Tin-Oxide), GZO(ZnO:Ga), BZO(ZnO:B) 및 FTO(SnO2:F) 중 어느 하나일 수 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며 공지된 투명한 전도성 재질을 제한없이 사용할 수 있다.Next, the transparent conductive layer 200 according to the second embodiment of the present invention may be located on the first transparent substrate 110 or the second transparent substrate 120. The transparent conductive layer 200 may use transparent conductive oxide (TCO), for example, AZO (ZnO: Al), ITO (Indium-Tin-Oxide), GZO (ZnO: Ga), BZO (ZnO: B) And FTO (SnO 2 : F), but the present invention is not limited thereto, and a known transparent conductive material may be used without limitation.

본 발명의 투명 전도층(200)은 화학기상 증착법을 이용하여 대면적의 투명 전도층(200)을 제1 투명 기판(110) 또는 제2 투명 기판(120) 상에 형성할 수 있다. 따라서, 제1 투명 기판(110) 또는 제2 투명 기판(120)이 곡면 형태일 경우에도 용이하게 형성할 수 있다. 예를 들면, LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 또는 APCVD (Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition)을 사용할 수 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.The transparent conductive layer 200 of the present invention can form a large conductive transparent layer 200 on the first transparent substrate 110 or the second transparent substrate 120 using chemical vapor deposition. Therefore, even when the first transparent substrate 110 or the second transparent substrate 120 has a curved shape, it can be easily formed. For example, LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) or APCVD (Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition) may be used, but the present invention is not limited thereto.

다음으로, 본 발명의 제2 실시예에 의한 전극(300)은 투명 전도층(200) 상의 가장자리부에 서로 평행하도록 한 쌍으로 위치하여, 외부에서 공급되는 소정의 전압을 투명전도층(200)에 인가하는 기능을 수행할 수 있다. 이러한 전극(300)은 전도성 재질로 일 예로 구리, 알루미늄, 티타늄, 몰리브덴, 텅스텐일 수 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며 공지된 전도성 재질을 제한없이 사용할 수 있다. 전극(200)의 보다 상세한 설명은 도 3 이하를 참조한 이하의 상세한 설명에 의해 이해될 수 있다.Next, the electrodes 300 according to the second exemplary embodiment of the present invention are positioned in pairs parallel to each other on the edge portion of the transparent conductive layer 200, so that a predetermined voltage supplied from the outside is applied to the transparent conductive layer 200. It can perform a function to apply to. The electrode 300 may be, for example, copper, aluminum, titanium, molybdenum, or tungsten as a conductive material, but the present invention is not limited thereto, and a known conductive material may be used without limitation. A more detailed description of the electrode 200 can be understood by the following detailed description with reference to FIG. 3 and below.

다음으로 본 발명의 제2 실시예에 의한 보호층(500)은 투명전도층(200) 상에 위치하며 전극(300)을 덮도록 형성될 수 있다. 이러한 보호층(500)은 투명 전도층(200)과 전극(300)을 보호할 수 있는 공지된 재질을 제한없이 사용할 수 있다.Next, the protective layer 500 according to the second embodiment of the present invention may be formed on the transparent conductive layer 200 and cover the electrode 300. The protective layer 500 may use any known material capable of protecting the transparent conductive layer 200 and the electrode 300 without limitation.

이와 같은 본 발명의 면 열원을 이용한 성에 제거 장치에 따르면, 투명 전도층(200)을 이용하여 면 열원을 형성할 수 있기 때문에 열선이 필요 없어 시야가 방해되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 투명 전도층(200)을 이용하여 면 열원을 형성할 수 있기 때문에 대면적에 균일하게 열을 전달할 수 있어 성에 제거 효과를 향상시킬 수 있다.According to the defrosting apparatus using the surface heat source of the present invention, since the surface heat source can be formed using the transparent conductive layer 200, it is possible to prevent the visual field from being obstructed without the need for a heating wire. In addition, since the surface heat source may be formed using the transparent conductive layer 200, heat may be uniformly transmitted to a large area, thereby improving the defrosting effect.

전극의 형태Form of electrode

이하에서는, 본 발명의 구현을 위하여 중요한 기능을 수행하는 전극(300)의 다양한 형태에 대하여 살펴보기로 한다.Hereinafter, various forms of the electrode 300 performing important functions for the implementation of the present invention will be described.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 면 열원을 이용한 성에 제거 장치의 평면을 나타내는 도면이다.3 is a view showing a plane of the defrosting apparatus using a surface heat source according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 다른 형태의 면 열원을 이용한 성에 제거 장치의 평면을 나타내는 도면이다.4 is a view showing a plane of the defroster using another type of surface heat source according to an embodiment of the present invention.

먼저, 도 3을 참조하면, 전극(300)이 투명 전도층(200)의 가장자리부에 수직 방향(단변)으로 평행하도록 형성된 경우, 투명 전도층(200)의 저항을 소비 전력 공식에 대입하면, 아래의 수학식 1을 만족한다.First, referring to FIG. 3, when the electrode 300 is formed to be parallel to the edge portion of the transparent conductive layer 200 in a vertical direction (short side), when the resistance of the transparent conductive layer 200 is substituted into the power consumption formula, The following Equation 1 is satisfied.

[수학식 1][Equation 1]

전선저항(RW) = [W(너비)/H(높이)] * 면저항(RS)Wire Resistance (R W ) = [W (Width) / H (Height)] * Surface Resistance (R S )

소비전력(P) = V2 / R = (H / W) * V2 / RS Power Consumption (P) = V 2 / R = (H / W) * V 2 / R S

다음으로, 도 4을 참조하면, 전극(300)이 투명 전도층(200)의 가장자리부에 수평 방향(장변)으로 평행하도록 형성된 경우, 투명 전도층(200)의 저항을 소비 전력 공식에 대입하면, 아래의 수학식 2를 만족한다.Next, referring to FIG. 4, when the electrode 300 is formed to be parallel to the edge portion of the transparent conductive layer 200 in the horizontal direction (long side), the resistance of the transparent conductive layer 200 is substituted into the power consumption formula. , Satisfies Equation 2 below.

[수학식 2][Equation 2]

전선저항(RW) = [H(높이)/W(너비)] * 면저항(RS)Wire resistance (R W ) = [H (height) / W (width)] * sheet resistance (R S )

소비전력(P) = V2 / R = (W / H) * V2 / RS Power Consumption (P) = V 2 / R = (w / h) * v 2 / R S

따라서, 전극(300)이 단변 방향으로 배열된 도 3 보다 전극(300)이 장변 방향으로 배열된 도 4의 전극(200)일 경우 소비 전력이 더 증가하는 것을 알 수 있다. 하지만, 도 4의 전류(I) 이동 경로가 더 짧기 때문에 빠른 시간 내에 성에를 효과적으로 제거할 수 있다는 장점이 있다.Accordingly, it can be seen that the power consumption increases when the electrode 300 is the electrode 200 of FIG. 4 arranged in the long side direction, rather than FIG. 3 in which the electrode 300 is arranged in the short side direction. However, since the current I movement path of FIG. 4 is shorter, the frost can be effectively removed in a short time.

이상의 상세한 설명에서 본 발명은 구체적인 구성요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나, 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명이 상기 실시예들에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형을 꾀할 수 있다. 따라서, 본 발명의 사상은 상기 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등하게 또는 등가적으로 변형된 모든 것들은 본 발명의 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.In the foregoing detailed description, the present invention has been described by specific embodiments such as specific components and the like, but the embodiments and drawings are provided only to help a more general understanding of the present invention, and the present invention is limited to the above embodiments. However, one of ordinary skill in the art can make various modifications and variations from this description. Therefore, the spirit of the present invention should not be construed as being limited to the above-described embodiments, and all of the equivalents or equivalents of the claims, as well as the following claims, I will say.

110: 제1 투명 기판
120: 제2 투명 기판
200: 투명 전도층
300: 전극
400: 접합층
500: 보호층110: first transparent substrate
120: second transparent substrate
200: transparent conductive layer
300: electrode
400: bonding layer
500: protective layer

Claims (8)

소정의 면적을 갖는 투명 전도층이 형성된 투명 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 면 열원을 이용한 성에 제거 장치.Defrosting apparatus using a surface heat source comprising a transparent substrate on which a transparent conductive layer having a predetermined area is formed. 제1 투명 기판;
상기 제1 투명 기판과 마주보는 제2 투명 기판;
상기 제1 투명 기판과 상기 제2 투명 기판 사이에 위치하되 일면이 상기 제1 투명 기판과 상기 제2 투명 기판 중 어느 하나에 접하는 투명 전도층;
상기 투명 전도층의 타면 가장자리부에 서로 평행하도록 배열되는 한 쌍의 전극; 및
상기 제1 투명 기판과 상기 제2 투명 기판 사이를 접합시키는 접합층
을 포함하는 것을 특징으로 하는 면 열원을 이용한 성에 제거 장치.A first transparent substrate;
A second transparent substrate facing the first transparent substrate;
A transparent conductive layer positioned between the first transparent substrate and the second transparent substrate, one surface of which is in contact with one of the first transparent substrate and the second transparent substrate;
A pair of electrodes arranged to be parallel to each other at edges of the other surface of the transparent conductive layer; And
Bonding layer for bonding between the first transparent substrate and the second transparent substrate
Defrosting device using a cotton heat source comprising a. 제1 투명 기판;
상기 제1 투명 기판과 마주보는 제2 투명 기판;
상기 제1 투명 기판과 상기 제2 투명 기판 사이를 접합시키는 접합층;
상기 제1 투명 기판 또는 상기 제2 투명 기판 상에 위치하는 투명 전도층;
상기 투명 전도층 상의 가장자리부에 서로 평행하도록 배열되는 한 쌍의 전극; 및
상기 투명 전도층 상에 위치하며 상기 전극을 덮는 보호층
을 포함하는 것을 특징으로 하는 면 열원을 이용한 성에 제거 장치.A first transparent substrate;
A second transparent substrate facing the first transparent substrate;
A bonding layer bonding the first transparent substrate and the second transparent substrate to each other;
A transparent conductive layer on the first transparent substrate or the second transparent substrate;
A pair of electrodes arranged parallel to each other at an edge portion on the transparent conductive layer; And
A protective layer on the transparent conductive layer and covering the electrode
Defrosting device using a cotton heat source comprising a. 제2항 또는 제3항에 있어서,
상기 제1 투명 기판 및 상기 제2 투명 기판은 유리인 것을 특징으로 하는 면 열원을 이용한 성에 제거 장치.The method according to claim 2 or 3,
The first transparent substrate and the second transparent substrate is a defrosting device using a surface heat source, characterized in that the glass. 제2항 또는 제3항에 있어서,
상기 투명 전도층은 TCO(Transparent Conductive Oxide)인 것을 특징으로 하는 면 열원을 이용한 성에 제거 장치.The method according to claim 2 or 3,
Defrosting apparatus using a surface heat source, characterized in that the transparent conductive layer is TCO (Transparent Conductive Oxide). 제2항 또는 제3항에 있어서,
상기 투명 전도층은 화학기상 증착법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 면 열원을 이용한 성에 제거 장치.The method according to claim 2 or 3,
Defrosting device using a surface heat source, characterized in that the transparent conductive layer is formed by a chemical vapor deposition method. 제2항 또는 제3항에 있어서,
상기 전극은 상기 투명 전도층의 가장자리부에 단변 또는 장변 방향으로 배열되는 것을 특징으로 하는 면 열원을 이용한 성에 제거 장치.The method according to claim 2 or 3,
The electrode is defrosting apparatus using a surface heat source, characterized in that arranged in the short side or long side direction at the edge of the transparent conductive layer. 제2항에 있어서,
상기 투명 전도층의 타면에는 절연성 코팅막이 더 형성되는 것을 특징으로 하는 면 열원을 이용한 성에 제거 장치.The method of claim 2,
Defrosting apparatus using a surface heat source, characterized in that the insulating coating film is further formed on the other surface of the transparent conductive layer.
KR1020100073028A 2010-07-28 2010-07-28 Defroster device using surface heat source KR20120011263A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100073028A KR20120011263A (en) 2010-07-28 2010-07-28 Defroster device using surface heat source

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100073028A KR20120011263A (en) 2010-07-28 2010-07-28 Defroster device using surface heat source

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20120011263A true KR20120011263A (en) 2012-02-07

Family

ID=45835518

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100073028A KR20120011263A (en) 2010-07-28 2010-07-28 Defroster device using surface heat source

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20120011263A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013162178A1 (en) * 2012-04-23 2013-10-31 주식회사 엘지화학 Heating element and method for manufacturing same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013162178A1 (en) * 2012-04-23 2013-10-31 주식회사 엘지화학 Heating element and method for manufacturing same
US8878101B2 (en) 2012-04-23 2014-11-04 Lg Chem, Ltd. Heating element and method for manufacturing same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20190141792A1 (en) Pane having an electric heating layer
JP5600364B2 (en) Transparent glazing with heatable coating and method for producing the same
CN106416422B (en) Glass plate with electric heating region
US9526130B2 (en) Transparent panel having a heatable coating
CN105723802B (en) Electrically heatable sheet with switching regions
JP6978940B2 (en) Heatable glass panel
KR101954004B1 (en) Transparent pane having an electrical heating layer, method for the production thereof, and use thereof
KR101970075B1 (en) Transparent pane having an electrical heating layer, method for the production thereof, and use thereof
JP6319102B2 (en) Plate for electric heating window
US10694586B2 (en) Transparent pane having a heatable coating
JP2014534104A (en) Heatable transparent material
JP2005529054A (en) Heatable window glass panel
BR112019010804A2 (en) capacitive sensor window glass
ES2805064T3 (en) Transparent glass with heating lining
JP2018501617A (en) Transparent panel with electrical heating layer and method for manufacturing the same
CN105376883B (en) It can uniform electrically heated automobile sandwich-glass without film layer area with communication window
KR101980023B1 (en) Transparent panel having heat coating
KR20120011263A (en) Defroster device using surface heat source
KR20120009372A (en) Defroster device using surface heat source includng electrode of different area
CA3015133A1 (en) Transparent window pane with electrical heating layer
KR20120003748A (en) Method for fabricating of defroster device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application