KR20110129758A - Method of complex context-aware for status monitoring of semiconductor equipment and system thereof - Google Patents

Method of complex context-aware for status monitoring of semiconductor equipment and system thereof

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KR20110129758A
KR20110129758A KR1020100049309A KR20100049309A KR20110129758A KR 20110129758 A KR20110129758 A KR 20110129758A KR 1020100049309 A KR1020100049309 A KR 1020100049309A KR 20100049309 A KR20100049309 A KR 20100049309A KR 20110129758 A KR20110129758 A KR 20110129758A
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Abstract

PURPOSE: A complex situation method and system are provided to prevent danger which is expected in advance by monitoring error factors of semiconductor equipment in real time and to increase the power lifespan of a sensor node. CONSTITUTION: Each sensing value is received from a sensor node equipped with a plurality of sensors(S310). Whether the sensing value of the sensors oversteps corresponding critical range or not is monitored(S320). An alarm informing an error about a specific single sensor is created in case the sensing value of the specific single sensor oversteps the corresponding critical range(S330). The sensing value of the other single sensor is monitored for a fixed waiting time(S340). An alarm informing a complex error by the specific single sensor and the other single sensor in case the sensing value of the other single sensor oversteps the corresponding critical range(S350).

Description

반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 방법 및 시스템{Method of complex context-aware for status monitoring of semiconductor equipment and system thereof}Method of complex context-aware for status monitoring of semiconductor equipment and system

본 발명은 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 방법 및 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 다중센싱 기능이 있는 센서들을 이용하여 산업용 반도체 장비의 현재 상황을 실시간 파악할 수 있도록 하는, 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 방법 및 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a complex situation recognition method and system for monitoring a state of a semiconductor device. More particularly, the state of a semiconductor device, which enables a real-time grasp of the current situation of an industrial semiconductor device using sensors having a multi-sensing function. The present invention relates to a complex context awareness method and system for monitoring.

기존의 반도체 장비 공정 환경은 공장 내부에 수십 대의 장비가 조밀한 간격으로 배치된 형태를 갖는다. 반도체 공정 자체가 클린 시스템을 지향하기 때문에 공장 내부는 클린룸으로 구성되어 있으며, 보통 여러 대의 장비당 1명의 작업관리자가 지정 배치되어 있다. The existing semiconductor equipment processing environment has a structure in which dozens of equipments are arranged at dense intervals inside a factory. Since the semiconductor process itself is aimed at a clean system, the plant's interior consists of a clean room, usually with one work manager assigned to each unit.

반도체 장비에서 수행하는 대부분의 작업은 자동화되어 있으나, 일부 공정은 해당 작업관리자가 수작업으로 처리하기도 한다. 상기 수작업이 필요한 경우로는 장비에서 이상 동작이 발생한 경우를 들 수 있다. 상기 이상 동작이란 반도체 장비가 자동화 작업을 정상 수행하는 도중에 관리 작업자의 점검을 필요로 하는 경우를 의미한다. 대표적으로 미세 진동 발생 및 미세 가스 누출 상황이 있다.Most of the work performed on semiconductor equipment is automated, but some processes are handled manually by the task manager. When the manual work is necessary, an abnormal operation may occur in the equipment. The abnormal operation refers to a case in which the semiconductor equipment requires the inspection of the management worker during the normal operation of the automation work. Typically, there are micro vibrations and micro gas leaks.

반도체 장비는 초기에 세팅될 때 무진동 설계로 설치되지만, 시간이 지남에 따라 잔 진동을 상쇄하는 진동판의 노후 등으로 인해 장비의 자체에서 또는 장비의 주변에서 불시적인 진동이 종종 발생되기도 한다. 이는 반도체 공정에 불량품을 발생시키는 요인이 된다.Semiconductor equipment is initially installed in a vibration-free design when set up, but over time, due to the aging of the diaphragm, which cancels out the vibration of the glass, inadvertent vibrations often occur in the equipment itself or around the equipment. This is a factor that causes defective products in the semiconductor process.

또한, 반도체 장비 내부에 존재하는 버닝 테스트의 경우, 반도체 부품을 세척하거나 부품의 정상동작을 시험하기 위해 고온 고압의 가스를 이용하는데, 이러한 가스는 대부분 인체에 치명적인 유독가스이므로, 미량이라도 누출되면 전체 공장 내부에 급속도로 퍼지게 되어 작업자의 안전을 해칠 수 있는 위험이 있다.In addition, in the burning test existing inside the semiconductor equipment, a high temperature and high pressure gas is used to clean the semiconductor parts or to test the normal operation of the parts. Most of these gases are toxic gases that are fatal to the human body. There is a danger that it may spread rapidly inside the factory and it may damage the safety of workers.

그러므로, 해당 이상 동작에 대한 실시간 점검은 중요한 사항이다. 현재 국내의 경우 반도체 공장 내부에 먼지 및 이상온도 검출 등에 대한 상태감시 시스템은 구축되어 있으나, 기타 사항에 대해서는 미비한 실정이다. 또한, 종래의 경우 근무자가 일일이 PDA 형태의 단말기를 각각의 센서에 1:1에 연결하여 정보를 수집하는 수동적인 상태감시 시스템을 사용하므로, 복합적 요인에 의한 잠재적 장애나 이상 징후를 실시간으로 감시하기에는 한계가 있다.Therefore, real time check on the abnormal operation is important. Currently, in Korea, a condition monitoring system for dust and abnormal temperature detection is built in a semiconductor factory, but other matters are inadequate. In addition, in the conventional case, since a worker uses a passive state monitoring system that collects information by connecting a PDA-type terminal to each sensor in a 1: 1 manner, it is difficult to monitor in real time a potential failure or abnormality caused by a complex factor. There is a limit.

본 발명은 반도체 장비에 장애가 되는 다양한 요인들을 실시간 모니터링 하여 복합적인 원인에 의한 문제점 발생 시 그에 대응되는 복합 장애를 분석하여 알릴 수 있는 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 방법 및 시스템을 제공하는데 목적이 있다.An object of the present invention is to provide a complex situation recognition method and system for monitoring the status of a semiconductor device that can be informed by real-time monitoring of various factors that are obstacles to the semiconductor device by analyzing a complex failure corresponding to a problem caused by a complex cause. There is this.

본 발명은, 반도체 장비의 장애요인들을 감지하는 복수 개의 센서들을 구비한 센서노드로부터 각각의 센싱값을 수신하는 단계와, 상기 센서들의 센싱값이 해당 임계범위를 벗어나는지 모니터링하는 단계와, 상기 센서들 중 특정 단일 센서의 센싱값이 해당 임계범위를 벗어나는 경우, 상기 특정 단일 센서에 대한 장애를 분석하여 그에 대응되는 알람을 생성하는 단계와, 상기 특정 단일 센서의 장애가 감지된 상태에서, 상기 센서들 중 다른 단일 센서의 센싱값을 설정된 대기시간 동안 모니터링하는 단계, 및 상기 다른 단일 센서의 센싱값이 해당 임계범위를 벗어나는 경우, 상기 특정 단일 센서와 상기 다른 단일 센서에 의한 복합 장애를 분석하여 그에 대응되는 알람을 생성하는 단계를 포함하는 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 방법을 제공한다.The present invention includes the steps of receiving each sensing value from a sensor node having a plurality of sensors for detecting obstacles of the semiconductor equipment, monitoring whether the sensing value of the sensor is out of the corresponding threshold range, and the sensor If the sensing value of a particular single sensor is out of the threshold range, analyzing the failure of the specific single sensor and generating an alarm corresponding thereto, and in the state that the failure of the specific single sensor is detected, the sensors Monitoring the sensing value of the other single sensor during a set waiting time, and if the sensing value of the other single sensor is out of the corresponding threshold range, analyzing and responding to a complex failure caused by the specific single sensor and the other single sensor Complex situation recognition method for the status monitoring of the semiconductor device comprising the step of generating an alarm Provided.

여기서, 상기 복수 개의 센서들은, 온도센서, 진동센서, 압력센서, 가스센서 중 선택된 복수 개의 센서를 포함할 수 있다.Here, the plurality of sensors may include a plurality of sensors selected from a temperature sensor, a vibration sensor, a pressure sensor, and a gas sensor.

그리고, 상기 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 방법은, 해당 임계범위를 벗어난, 상기 특정 단일 센서 또는 상기 다른 단일 센서의 센싱값을 저장하는 단계를 더 포함할 수 있다.The complex situation recognition method for monitoring the state of the semiconductor device may further include storing a sensing value of the specific single sensor or the other single sensor that is out of a corresponding threshold range.

또한, 상기 다른 단일 센서의 센싱값을 모니터링하는 단계는, 상기 센싱값이 정상범위에 해당되는 센서들의 개수가 증가할수록, 상기 대기시간이 감소되도록 조절할 수 있다.또한, 상기 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 방법은, 상기 센서에서 감지된 각각의 센싱값을 해당 임계범위와 비교한 결과를 이미지, 그래프 또는 텍스트 중 적어도 하나의 형태로 표시하는 단계를 더 포함할 수 있다.The monitoring of the sensing value of the other single sensor may be controlled such that the waiting time is reduced as the number of sensors corresponding to the sensing value is in the normal range increases. The complex situation recognition method may further include displaying a result of comparing each sensing value sensed by the sensor with a corresponding threshold range in the form of at least one of an image, a graph, or text.

그리고, 본 발명은, 반도체 장비의 장애요인들을 실시간 감지하는 복수 개의 센서들로부터 각각의 센싱값을 수신하는 수신부와, 상기 센서들의 센싱값이 해당 임계범위를 벗어나는지 모니터링하는 제1모니터부와, 상기 모니터링 결과, 상기 센서들 중 특정 단일 센서의 센싱값이 해당 임계범위를 벗어나는 경우, 상기 특정 단일 센서에 대한 장애를 분석하여 그에 대응되는 알람을 생성하는 제1알람부와, 상기 특정 단일 센서의 장애가 감지된 상태에서, 상기 센서들 중 다른 단일 센서의 센싱값을 설정된 대기시간 동안 모니터링하는 제2모니터부, 및 상기 다른 단일 센서의 센싱값이 해당 임계범위를 벗어나는 경우, 상기 특정 단일 센서와 상기 다른 단일 센서에 의한 복합 장애를 분석하여 그에 대응되는 알람을 생성하는 제2알람부를 포함하는 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 시스템을 제공한다.In addition, the present invention, the receiving unit for receiving each sensing value from a plurality of sensors for detecting the obstacles of the semiconductor device in real time, the first monitor unit for monitoring whether the sensing value of the sensor is out of the corresponding threshold range, As a result of the monitoring, when a sensing value of a particular single sensor among the sensors is out of a corresponding threshold range, the first alarm unit for analyzing the failure of the particular single sensor and generates an alarm corresponding thereto, and of the specific single sensor A second monitor unit configured to monitor a sensing value of another single sensor among the sensors for a predetermined waiting time in a state where a failure is detected, and when the sensing value of the other single sensor is out of a corresponding threshold range, the specific single sensor and the A semiconductor including a second alarm unit for generating a corresponding alarm by analyzing a complex failure by another single sensor That the complex situation for the health surveillance of non-providing system.

여기서, 상기 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 시스템은, 해당 임계범위를 벗어난, 상기 특정 단일 센서 또는 상기 다른 단일 센서의 센싱값을 저장하는 저장부를 더 포함할 수 있다.The complex situation recognition system for monitoring the state of the semiconductor device may further include a storage configured to store sensing values of the specific single sensor or the other single sensor, which are out of a corresponding threshold range.

또한, 상기 제2모니터부는, 상기 센싱값이 정상범위에 해당되는 센서들의 개수가 증가할수록, 상기 대기시간이 감소되도록 조절할 수 있다.In addition, the second monitor may adjust the waiting time to decrease as the number of sensors whose sensing value corresponds to a normal range increases.

그리고, 상기 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 시스템은, 상기 센서에서 감지된 각각의 센싱값을 해당 임계범위와 비교한 결과를 이미지, 그래프 또는 텍스트 중 적어도 하나의 형태로 표시하는 표시부를 더 포함할 수 있다.The complex situation recognition system for monitoring the state of the semiconductor device may further include a display unit configured to display a result of comparing each sensing value detected by the sensor with a corresponding threshold range in the form of at least one of an image, a graph, or text. It may include.

본 발명에 따른 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 방법 및 시스템에 따르면, 반도체 장비의 장애 요인들을 실시간 모니터링 하여 복합적인 원인에 의한 문제점 발생 시 그에 대응되는 복합 장애를 분석하여 관리자 등에게 알릴 수 있어, 예상되는 위험을 미연에 방지하도록 하고 장애에 관한 신속한 대응이 가능하도록 하는 이점이 있다.According to the complex situation recognition method and system for monitoring the status of the semiconductor device according to the present invention, by monitoring the failure factors of the semiconductor device in real time can analyze the complex failure corresponding to the problem caused by the complex cause to inform the administrator Thus, there is an advantage in that anticipated risks are prevented in advance and rapid response to a failure can be made.

또한, 정해진 대기시간 동안 모니터링을 수행함에 따라 알람 발생빈도를 줄일 수 있으며, 센서노드의 전원수명을 증가시킬 수 있고, 작업자에게 불필요한 경고를 남발하지 않는 효과가 있다. 더욱이, 센싱값이 정상범위인 센서들이 증가할수록 모니터링을 위한 대기시간을 감소시키는 경우, 불필요한 모니터링 과정을 줄이면서 센서의 전원 또한 절약시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, by performing the monitoring for a predetermined waiting time, it is possible to reduce the frequency of alarm generation, increase the power life of the sensor node, there is an effect that does not cause unnecessary warning to the operator. In addition, when the number of sensors whose sensing value is in the normal range increases, the waiting time for monitoring is reduced, thereby reducing the unnecessary monitoring process and saving power of the sensor.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 시스템의 구성도이다.
도 2는 도 1의 개념도이다.
도 3은 도 1을 이용한 복합 상황인지 방법의 흐름도이다.
도 4는 도 3의 보다 구체적인 흐름도이다.
도 5는 도 3의 방법을 적용한 경우와 미적용한 경우에 대한 알람 발생빈도를 비교한 그래프이다.
도 6 및 도 7은 도 3의 방법을 위한 모니터링 화면의 예시도이다.
1 is a block diagram of a complex situation recognition system for monitoring the state of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
2 is a conceptual diagram of FIG. 1.
3 is a flowchart of a complex situation recognition method using FIG. 1.
4 is a more detailed flowchart of FIG. 3.
FIG. 5 is a graph comparing the frequency of alarm occurrences for the case where the method of FIG. 3 is applied and when the method of FIG. 3 is not applied.
6 and 7 are exemplary views of a monitoring screen for the method of FIG.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 시스템의 구성도이다. 도 2는 도 1의 개념도이다. 1 is a block diagram of a complex situation recognition system for monitoring the state of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. 2 is a conceptual diagram of FIG. 1.

일반적으로, 반도체 공장 내부에는 여러 개의 반도체 장비(10)가 조밀한 간격으로 배치되어 있다. 본 발명의 복합 상황인지 시스템(200)을 위하여, 상기 반도체 장비(10)의 외측 또는 주변에는, 상기 반도체 장비(10)의 이상 동작을 감시하는 센서노드(100)가 하나 또는 복수 개로 배치된다. Generally, several semiconductor equipments 10 are arranged at close intervals in a semiconductor factory. For the complex situational awareness system 200 of the present invention, one or more sensor nodes 100 for monitoring abnormal operation of the semiconductor device 10 are disposed outside or around the semiconductor device 10.

상기 센서노드(100)는 반도체 장비(10)의 장애요인들을 감지하는 복수 개의 센서들을 구비하고 있다. 여기서, 상기 센서들로는 온도센서(110), 진동센서(120), 압력센서(130), 가스센서(140)가 사용된다. 물론 센서들(110,120,130,140)의 종류 및 개수가 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.The sensor node 100 includes a plurality of sensors for detecting obstacles of the semiconductor device 10. Here, the sensors are used as the temperature sensor 110, vibration sensor 120, pressure sensor 130, gas sensor 140. Of course, the type and number of the sensors 110, 120, 130, and 140 are not necessarily limited thereto.

상기 센서노드(100)는 상기 각 센서들(110,120,130,140)의 센싱값을 취합하여 상기 시스템(200)에 설정된 주기로 전송한다. 이하에서는 상기 시스템(200)을 분석서버(200)로 명명한다.The sensor node 100 collects the sensing values of each of the sensors 110, 120, 130, and 140 and transmits them in a cycle set in the system 200. Hereinafter, the system 200 will be referred to as an analysis server 200.

상기 분석서버(200)는 상기 센서노드(100)로부터 유무선으로 수신한 센싱값들을 모니터링 및 분석하고, 분석된 위험요인, 잠재적 위험상황 등에 관한 알람을 발생하여 관리자 또는 작업자에게 미리 경고할 수 있다. 이러한 분석서버(200)는 수신부(210), 제1모니터부(220), 제1알람부(230), 제2모니터부(240), 제2알람부(250), 저장부(260), 표시부(270), 입력부(280)를 포함한다.The analysis server 200 may monitor and analyze sensing values received from the sensor node 100 in a wired or wireless manner, and generate an alarm regarding an analyzed risk factor, potential risk situation, and the like to warn an administrator or a worker in advance. The analysis server 200 includes a receiver 210, a first monitor 220, a first alarm 230, a second monitor 240, a second alarm 250, a storage 260, The display unit 270 and the input unit 280 are included.

도 3은 도 1을 이용한 복합 상황인지 방법의 흐름도이다. 이하에서는, 상기 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 방법에 관하여 상세히 설명한다.3 is a flowchart of a complex situation recognition method using FIG. 1. Hereinafter, a method of recognizing a complex situation for monitoring the state of the semiconductor device will be described in detail.

먼저, 반도체 장비(10)의 장애요인들을 감지하는 센서들(110,120,130,140)을 구비한 센서노드(100)로부터, 각각의 센싱값을 수신부(210)를 통해 유무선으로 수신한다(S210). 이때, 상기 수신된 각각의 센싱값들은 상기 저장부(260)에 저장된다. 상기 저장부(260)는 수신되는 센싱값의 관리가 용이하도록, 각 센서노드(100)의 ID 별로 구분하여 센싱값들을 저장한다.First, each sensing value is received through the receiver 210 via wire / wireless from the sensor node 100 including the sensors 110, 120, 130, and 140 for detecting obstacles of the semiconductor device 10 (S210). In this case, each of the received sensing values is stored in the storage unit 260. The storage unit 260 stores the sensing values by dividing them by ID of each sensor node 100 so as to easily manage the received sensing values.

이후, 제1모니터부(220)에서는 상기 센서들의 센싱값이 해당 임계범위를 벗어나는지를 모니터링한다(S220). 상기 시스템(200) 내에는 각 센서들의 종류 별로 해당 임계범위가 설정되어 있다. 상기 임계범위의 설정 등은 시스템(200)에서 자동 생성되거나, 혹은 입력부(280)를 통해 작업자 또는 관리자에 의해 설정될 수 있다.Thereafter, the first monitor unit 220 monitors whether the sensing values of the sensors deviate from a corresponding threshold range (S220). In the system 200, a corresponding threshold range is set for each sensor type. The setting of the threshold range may be automatically generated in the system 200 or set by an operator or an administrator through the input unit 280.

그리고, 상기 센서들 중 특정 단일 센서(Si)의 센싱값이 해당 임계범위를 벗어나는 경우, 상기 제1알람부(230)에서는 상기 특정 단일 센서(Si)에 대한 장애를 분석하여 그에 대응되는 알람을 생성한다(S230). 상기 S230단계에 의한 단일 장애 알람은 상기 관리자 또는 작업자 측의 단말기(ex, 휴대폰, PDA, PC 등)에 즉각 보고되어, 신속한 상황 인지 및 대응이 가능하도록 한다.When the sensing value of a specific single sensor (Si) of the sensors is out of the corresponding threshold range, the first alarm unit 230 analyzes a failure of the specific single sensor (Si) and generates an alarm corresponding thereto. It generates (S230). The single failure alarm by the step S230 is immediately reported to the terminal (ex, mobile phone, PDA, PC, etc.) of the manager or worker side to enable a quick situation recognition and response.

예를 들어, 반도체 장비(10) 자체 및 주변부의 진동을 감지하여 일정 크기 이상의 진동이 발생하면 관리자에게 알림으로써, 예상되는 위험을 경고하고 장애에 관한 신속한 대응이 가능하게 한다.For example, by detecting the vibration of the semiconductor device 10 itself and the periphery, and alerts the administrator when a vibration of a certain size or more occurs, it warns the expected risk and enables a quick response to the failure.

물론, 여기서 해당 임계범위를 벗어난 상기 특정 단일 센서(Si)의 센싱값은 저장부(260)에 저장하여 기록하도록 한다. 물론, 이후의 추가적인 센싱값 저장은 기존 저장된 정보를 포함하여 누적 저장된다. 이렇게 저장된 값들은 추후 원인 분석 등에 유용하게 이용될 수 있다.Of course, the sensing value of the specific single sensor Si outside of the corresponding threshold range may be stored and recorded in the storage unit 260. Of course, subsequent storage of additional sensing values is accumulated and stored, including previously stored information. The stored values can be usefully used for cause analysis.

다음, 제2모니터부(240)에서는 상기 특정 단일 센서(Si)의 장애가 감지된 상태에서, 상기 센서들 중 다른 단일 센서(Sj)의 센싱값을, 설정된 대기시간(T초) 동안 모니터링한다(S240). Next, the second monitor 240 monitors the sensing value of the other single sensor Sj among the sensors for a predetermined waiting time (T seconds) in a state where the failure of the specific single sensor Si is detected ( S240).

이때, 상기 S240단계에서는, 센싱값이 정상범위에 해당되는 센서들의 개수가 증가할수록, 상기 대기시간(T초)이 감소되도록 조절한다. 이는, 모든 센서들이 정상범위를 유지할 경우에는 복합 장애가 발생할 가능성이 줄어들기 때문이다. At this time, in step S240, as the number of sensors corresponding to the sensing value is in the normal range increases, the waiting time (T seconds) is adjusted to decrease. This is because, if all the sensors remain in the normal range, the probability of occurrence of complex failures is reduced.

즉, 센싱값이 정상범위인 센서들이 증가할수록 모니터링 시간(상기 대기시간)을 감소시켜서, 불필요한 모니터링 과정을 줄이면서 센서의 전원 또한 절약할 수 있게 한다. 반대로, 센싱값이 정상이 아닌 센서들이 증가할수록 모니터링 시간(상기 대기시간)을 늘려서 감시 과정을 더욱 증가시키고, 추후에 발생할 수 있는 복합 장애의 인지와 그에 따른 대처가 용이하도록 한다.That is, as sensors with a normal sensing range increase, the monitoring time (the waiting time) is reduced, thereby reducing the unnecessary monitoring process and saving power of the sensor. On the contrary, as the sensors whose sensing values are not normal increase, the monitoring time (the waiting time) is increased to further increase the monitoring process, and to facilitate the recognition and coping of a complex disorder that may occur later.

상기 S240단계 이후, 상기 다른 단일 센서(Sj)의 센싱값이 해당 임계범위를 벗어나는 경우, 상기 제2알람부(250)에서는 상기 특정 단일 센서(Si)와 상기 다른 단일 센서(Sj)에 의한 복합 장애를 분석하여 그에 대응되는 알람을 생성한다(S250). 상기 S250단계에 의한 복합 장애 알람 또한, 상기 관리자 또는 작업자 측의 단말기(ex, 휴대폰, PDA, PC 등)에 즉각 보고되어, 신속한 상황 인지 및 대응이 가능하도록 한다.After the step S240, when the sensing value of the other single sensor Sj is out of the corresponding threshold range, the second alarm unit 250 combines the specific single sensor Si and the other single sensor Sj. The failure is analyzed to generate an alarm corresponding thereto (S250). The complex fault alarm by the step S250 is also immediately reported to the terminal (ex, mobile phone, PDA, PC, etc.) of the manager or worker side to enable quick situation recognition and response.

물론, 여기서 해당 임계범위를 벗어난 상기 다른 단일 센서(Sj)의 센싱값은 저장부(260)에 저장하도록 한다. 물론, 이후의 추가적인 센싱값 저장은 기존 저장된 정보를 포함하여 누적 저장된다. Of course, the sensing value of the other single sensor Sj outside the corresponding threshold range may be stored in the storage unit 260. Of course, subsequent storage of additional sensing values is accumulated and stored, including previously stored information.

상기 표시부(270)는 상술한 일련의 과정뿐만 아니라, 상기 센서에서 감지된 각각의 센싱값을 해당 임계범위와 비교한 결과를 이미지, 그래프 또는 텍스트 중 적어도 하나의 형태로 표시하여, 모니터링의 시각적인 확인을 용이하게 하고, 해당 상황의 신속한 인지를 유도할 수 있다.The display unit 270 displays the result of comparing each sensing value detected by the sensor with a corresponding threshold range as well as the above-described series of processes in the form of at least one of an image, a graph, or text, thereby providing visual monitoring. It can facilitate identification and lead to rapid awareness of the situation.

도 4는 도 3의 보다 구체적인 흐름도이다. 이하의 복합 상황인지 알고리즘은 상기 분석서버(200)에서 수행된다. 이하에서는 도 4를 참조로 하여, 본 발명의 보다 구체적인 실시예를 알아보도록 한다.4 is a more detailed flowchart of FIG. 3. The following complex situation recognition algorithm is performed in the analysis server 200. Hereinafter, with reference to Figure 4, to look at a more specific embodiment of the present invention.

우선, 센서들(110,120,130,140)의 초기화를 명령한 다음(S410), 각 센서들(110,120,130,140)로부터 초기 센싱정보를 수신부(210)를 통해 수신한다(S415). 이에 따라 상기 수신부(210)가 "received normal condition ACK"를 수신하게 되며, 각 센서들(110,120,130,140)에 대한 초기 임계범위를 설정하도록 한다(S420). First, an initializing command of the sensors 110, 120, 130, and 140 is received (S410), and initial sensing information is received from the sensors 110, 120, 130, and 140 through the receiving unit 210 (S415). Accordingly, the receiver 210 receives the "received normal condition ACK" and sets an initial threshold range for each of the sensors 110, 120, 130, and 140 (S420).

이후, 제1모니터부(220)에서는 센서들(110,120,130,140)의 센싱값을 실시간 모니터링한다(S425). 다음, 상기 특정 단일 센서 S(i)의 센싱값이 발생했는지를 판단한다(S430). 이때, 상기 S430단계의 판단 결과, 발생한 S(i)의 센싱값이 없는 경우에는 상기 S425단계를 반복한다.Thereafter, the first monitor unit 220 monitors the sensing values of the sensors 110, 120, 130, and 140 in real time (S425). Next, it is determined whether a sensing value of the specific single sensor S (i) has occurred (S430). In this case, when there is no sensing value of the generated S (i) as a result of the determination in step S430, the step S425 is repeated.

만약, 상기 S430단계의 판단 결과 S(i)의 센싱값이 발생한 경우, 상기 S(i)의 센싱값을 저장부(260)에 저장하며(S435), 상기 제1모니터부(220)는 상기 발생한 S(i)의 센싱값이 해당 임계범위를 초과하는지를 또한 판단한다(S440). If the sensing value of S (i) occurs as a result of the determination in step S430, the sensing value of S (i) is stored in the storage unit 260 (S435), and the first monitor unit 220 It is also determined whether the sensed value of the generated S (i) exceeds the corresponding threshold range (S440).

상기 S440단계의 판단 결과, 상기 S(i)의 센싱값이 임계범위를 초과하지 않고 정상범위에 있는 경우에는 상기 S425단계를 반복한다. 반대로, 상기 S(i)의 센싱값이 임계범위를 초과한 것으로 판단된 경우, 상기 제1알람부(230)에서는 상기 S(i)에 대한 장애를 분석하여 그에 대응되는 알람을 생성한다(S445).As a result of the determination in step S440, if the sensing value of S (i) is within the normal range without exceeding the threshold range, the step S425 is repeated. On the contrary, when it is determined that the sensing value of the S (i) exceeds the threshold range, the first alarm unit 230 analyzes the failure of the S (i) and generates an alarm corresponding thereto (S445). ).

상기 S(i)에 대한 장애가 발생한 상태에서, 상기 제2모니터부(240)는 상기 다른 단일 센서인 S(j)의 센싱값을 상기 대기시간(T초) 동안 모니터링한다(S450). 그리고, 상기 제2모니터부(240)는 상기 대기시간(T초) 동안 S(j)의 센싱값이 발생했는지를 판단한다(S455). 이때, 상기 S455단계의 판단 결과, 발생한 S(j)의 센싱값이 없는 경우에는 상기 S425단계를 반복한다.In a state in which the failure for S (i) occurs, the second monitor unit 240 monitors the sensing value of the other single sensor S (j) for the waiting time (T seconds) (S450). The second monitor 240 determines whether a sensing value of S (j) has occurred during the waiting time (T seconds) (S455). At this time, if there is no sensing value of the generated S (j) as a result of the determination in step S455, step S425 is repeated.

만약, 상기 S455단계의 판단 결과 S(j)의 센싱값이 발생한 경우, 상기 S(j)의 센싱값을 저장부(260)에 저장하며(S460), 상기 제2모니터부(240)는 상기 발생한 S(j)의 센싱값이 해당 임계범위를 초과하는지를 또한 판단한다(S465). If the sensing value of S (j) occurs as a result of the determination in step S455, the sensing value of S (j) is stored in the storage unit 260 (S460), and the second monitor unit 240 It is also determined whether the sensed value of the generated S (j) exceeds the corresponding threshold range (S465).

상기 S465단계의 판단 결과, 상기 S(j)의 센싱값이 임계범위를 초과하지 않고 정상범위에 있는 경우에는 상기 S425단계를 반복한다. 반대로, 상기 S(j)의 센싱값이 임계범위를 초과한 것으로 판단된 경우, 상기 제2알람부(250)는 상기 S(i,j)에 대한 복합 장애를 분석하여 그에 대응되는 알람을 생성한다(S470).As a result of the determination in step S465, if the sensing value of S (j) is within the normal range without exceeding the threshold range, the step S425 is repeated. On the contrary, when it is determined that the sensing value of the S (j) exceeds the threshold range, the second alarm unit 250 analyzes the complex failure for the S (i, j) and generates an alarm corresponding thereto. (S470).

반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지의 일례에 해당되는 상기 S(i,j)에 관한 실시예는 이하의 표 1 및 표 2를 참조한다. 가스센서는 가스 누출 여부와 누출 가스의 양을 알 수 있으며, 온도센서는 반도체 장비(10) 주변부의 온도를 알 수 있고, 진동센서는 가속도센싱을 통해 진동을 감지할 수 있으며, 압력센서는 공기의 압력 정보 감지할 수 있다.For the embodiment of the S (i, j) corresponding to an example of whether or not a complex situation for monitoring the state of the semiconductor equipment, see Table 1 and Table 2 below. The gas sensor can know whether the gas leaks and the amount of leaked gas, the temperature sensor can know the temperature around the semiconductor device 10, the vibration sensor can detect the vibration through the acceleration sensing, the pressure sensor is air The pressure information can be detected.

복합장애 판정1 : S(i,j)Complex Disability Judgment 1: S (i, j) 구분division N2가스(정상)
200 ppm 이하
N2 gas (normal)
200 ppm or less
N2가스(누출)
200 ppm 이상
N2 gas (leakage)
200 ppm or more
저온
-40도~15도
Low temperature
-40 degrees-15 degrees
상온
15도~25도
Room temperature
15 degrees-25 degrees
고온
25도~125도
High temperature
25 degrees to 125 degrees
N2가스
(정상)
N2 gas
(normal)

N/A

N / A

N/A

N / A
대기시간(T)
감소
Wait time (T)
decrease
대기시간(T)
감소
Wait time (T)
decrease
대기시간(T)
추가,
잔존가스 점검
Wait time (T)
Add,
Residual Gas Check
N2가스
(누출)
N2 gas
(leakage)

N/A

N / A

N/A

N / A
대기시간(T) 추가,
가스누출
Add latency (T),
Gas leak
대기시간(T)
추가,
가스누출
Wait time (T)
Add,
Gas leak
대기시간(T)
추가,
가스누출
Wait time (T)
Add,
Gas leak
저온Low temperature 대기시간(T)
감소
Wait time (T)
decrease
대기시간(T)
추가,
가스누출
Wait time (T)
Add,
Gas leak

N/A

N / A

N/A

N / A

N/A

N / A
상온Room temperature 대기시간(T)
감소
Wait time (T)
decrease
대기시간(T)
추가,
가스누출
Wait time (T)
Add,
Gas leak

N/A

N / A

N/A

N / A

N/A

N / A
고온High temperature 대기시간(T)
추가,
잔존가스 점검
Wait time (T)
Add,
Residual Gas Check
대기시간(T)
추가,
가스누출
Wait time (T)
Add,
Gas leak

N/A

N / A

N/A

N / A

N/A

N / A

복합장애 판정2 : S(i,j)Combined Disability Decision 2: S (i, j) 가속도(정지)
(X,Y,Z축)
0g
Acceleration (stop)
(X, Y, Z axis)
0g
가속도(변화)
(X,Y축)
+/-2g {≠0g}
Acceleration (change)
(X, Y axis)
+/- 2g {≠ 0g}
가속도(변화)
(Z축)
+/-2g {≠0g}
Acceleration (change)
(Z axis)
+/- 2g {≠ 0g}
압력 (정지)
value : 0
Pressure (stop)
value : 0
압력 (변화)
value : 300~1100 {≠0}
Pressure (change)
value : 300 ~ 1100 {≠ 0}
가속도
(정지)
(X,Y,Z축)
acceleration
(stop)
(X, Y, Z axis)

N/A

N / A
대기시간(T)
추가
Wait time (T)
Add
대기시간(T) 추가Add wait time (T) 대기시간(T) 감소Wait time (T) reduction 대기시간(T)
추가,
진동 발생가능
Wait time (T)
Add,
Possible vibration
가속
도(변화)
(X,Y 축)
Acceleration
Degree (change)
(X, Y axis)
대기시간(T) 추가Add wait time (T)
N/A

N / A
대기시간(T) 추가Add wait time (T) 대기시간(T) 추가,
좌우진동 가능
Add latency (T),
Left and right vibration possible
대기시간(T)
추가,
좌우진동 발생
Wait time (T)
Add,
Vibration of left and right
가속도
(변화)
(Z축)
acceleration
(change)
(Z axis)
대기시간(T) 추가Add wait time (T) 대기시간(T)
추가
Wait time (T)
Add

N/A

N / A
대기시간(T) 추가,
상하진동 가능
Add latency (T),
Vertical vibration is possible
대기시간(T)
추가,
상하진동 발생
Wait time (T)
Add,
Vertical vibration
압력
(정지)
pressure
(stop)
대기시간(T) 감소Wait time (T) reduction 대기시간(T)
추가,
좌우진동 가능
Wait time (T)
Add,
Left and right vibration possible
대기시간(T) 추가,
상하진동 가능
Add latency (T),
Vertical vibration is possible

N/A

N / A

N/A

N / A
압력
(변화)
pressure
(change)
대기시간(T) 추가
진동 발생가능
Add wait time (T)
Possible vibration
대기시간(T) 추가,
좌우진동 발생
Add latency (T),
Vibration of left and right
대기시간(T) 추가,
상하진동 발생
Add latency (T),
Vertical vibration

N/A

N / A

N/A

N / A

표 1 및 표 2에 적용된 반도체 장비의 일례는 다음과 같다. 반도체용 가스는 CFC 및 PFC계 가스로서 CF4, C2F6, SF6, NF3, 프레온 등이 있으며 SiH4계로 SiH4, PH3, AsH3, B2H6 등이 있다. 불소 및 염소계열로 F2, Cl2, HF, HCl, BF3, HBr, WF6 등이 포함되며, 악취계로 NH3, H2S 등이 VOC계로 BTX, 아세톤, 알콜 등이 그리고 고순도가스로 He, N2, H2 등이 있다. An example of the semiconductor equipment applied to Table 1 and Table 2 is as follows. Gases for semiconductors include CF4, C2F6, SF6, NF3, Freon, etc. as CFC and PFC-based gases, and SiH4, PH3, AsH3, B2H6, etc. as SiH4. Fluorine and chlorine series include F2, Cl2, HF, HCl, BF3, HBr, WF6, etc. have.

일례에 해당되는 (주)지에스테크의 번인테스터 장비인 Chorus1110H-48는 반도체 부품의 테스트 온도범위가 -40도 ~ +125도이며, 해당 범위 내에서 온도를 변화시켜 가면서 반도체 부품을 테스트한다. Chorus1110H-48, GS Tech's burn-in tester equipment, which is an example, has a test temperature range of -40 ° C to + 125 ° C for semiconductor parts and tests the semiconductor parts by changing the temperature within the range.

표 3은 사용된 센서들에 의한 각 요소별 센싱 범위를 나타낸다.Table 3 shows the sensing range for each element by the sensors used.

구분division N2 가스N2 gas 온도 Temperature 압력 pressure 가속도acceleration 범위range 인체허용농도(TLV) 200ppm이하Human body concentration (TLV) 200ppm or less -40 - 125-40-125 300~1100mbar300-1100 mbar 16bit: +/-2g  16bit: +/- 2g

이때, 상기 Chorus1110H-48 장비를 사용하여, 저온에서 상온 또는 고온으로 테스트 환경을 변경할 때 테스터 장비 내부에 수분에 의한 결로가 발생하게 된다. 통상적으로, 저온에서 상온의 경우 시간이 지나면서 결로발생이 감소한다. At this time, when the test environment is changed from low temperature to room temperature or high temperature using the Chorus1110H-48 equipment, condensation due to moisture is generated inside the tester equipment. Typically, condensation decreases with time at low temperatures at room temperature.

그런데, 빈번한 테스트 과정을 위해서는 강제로 온도를 조절하여 실험을 하되, 내부의 결로 방지를 위해 N2 가스를 지속적으로 분사하여 결로 현상을 제거하면서 테스트를 수행하게 된다. 만일 내부 결로가 있는 상태에서 테스트가 수행되면, 반도체 부품의 핀(pin)이 수분에 노출되어 부식될 수 있으며, 부품의 내부 회로에 악영향을 끼치게 되고, 이는 불량품의 증가를 야기한다. 테스트가 끝난 후 번인테스터를 열고 부품이 반출될 때, 미량의 N2 가스가 테스터 내부에 남아있게 된다. 상기에서 언급한 가스는 유독가스가 대부분이므로, 잔존 가스 누출은 작업자에게 심각한 위험을 끼칠 수 있다. However, for the frequent test process, the experiment is performed by adjusting the temperature by force, but the test is performed while removing condensation by continuously spraying N2 gas to prevent internal condensation. If the test is performed in the presence of internal condensation, the pins of the semiconductor component may be exposed to moisture and corrode, adversely affecting the internal circuitry of the component, which causes an increase in defective products. When the burn-in tester is opened after the test and the part is taken out, traces of N2 gas remain inside the tester. Since the above-mentioned gases are mostly toxic gases, residual gas leakage can pose a serious danger to the operator.

이러한 문제점에 따라 반도체 장비(10)는 실시간 모니터링 되어야 하고, 가스, 온도 등에 따른 복합 장애 또한 실시간 감지해낼 수 있어야 한다. 표 1 및 표 2의 예를 참조하면, 가스 및 온도 센싱값에서 정상상태(초기 임계값 범위 이내)인 경우, 감시의 대기시간(T)은 감소된다. 이는 앞서와 같이 모든 센서들이 정상상태를 유지할 경우 복합장애가 발생할 가능성이 줄어들기 때문이다. According to this problem, the semiconductor device 10 should be monitored in real time, and should also be able to detect complex failures due to gas and temperature in real time. Referring to the examples of Tables 1 and 2, when the gas and temperature sensing values are in a steady state (within the initial threshold range), the waiting time T of the monitoring is reduced. This is because as described above, if all the sensors remain in a normal state, the probability of occurrence of a complex failure is reduced.

그러나, 센서들 중 1개라도 임계범위를 초과하게 되면, 복합 장애가 후속으로 발생할 가능성이 증가하므로, 이를 위해 타 센서(Sj)의 감시 대기시간(T)이 증가하게 된다. 만일, 대기시간(T) 이내에 2가지 센서(Si)(Sj) 모두 각각의 임계범위를 초과하게 되면, 복합 장애가 발생한 것으로 간주하고, 바로 S(i,j)에 관한 알람이 작업자에게 통보된다. 그러나, 대기시간(T) 이내에 단일 센서 S(i)와 중복으로 타 센서(Sj)가 임계범위를 초과하지 않는 상황이라면, 감시를 위한 대기시간(T)은 감소된다. However, if any one of the sensors exceeds the threshold range, the likelihood of a subsequent compound failure is increased, so that the monitoring wait time T of the other sensor Sj is increased for this purpose. If the two sensors Si (Sj) exceed their respective threshold ranges within the waiting time T, the composite fault is considered to have occurred, and an alarm on S (i, j) is immediately notified to the operator. However, if the other sensor Sj does not exceed the threshold in overlap with a single sensor S (i) within the waiting time T, the waiting time T for monitoring is reduced.

이상과 같은 과정이 반복적으로 수행되므로 대기시간(T)이 감소하게 되면 센서의 전원을 절약할 수 있게 된다. 이는 곧 전체 센서노드(100)의 수명을 연장하는 효과가 있으며, 위험의 단계에 따라 알림을 세분화하게 되므로 작업자에게 불필요한 알람 및 경고를 줄일 수 있다.Since the above process is repeatedly performed, when the waiting time T is reduced, power of the sensor can be saved. This has the effect of extending the life of the entire sensor node 100 soon, it can be broken down the notification according to the stage of danger can reduce unnecessary alarms and warnings to the operator.

기존의 경우, 별도의 대기시간의 조건을 두고 있지 않아, 센서값에 이상이 발생할 때마다 지속적으로 경고를 알리게 된다. 그러나, 본 발명의 경우는, 센서들(110,120,130,140)의 정상상태 빈도에 따라 유동적으로 설정되는 대기시간(T) 동안에 타 센서(Sj)의 센싱값을 모니터링하여 상황인지를 수행하고 알람을 생성함에 따라, 불필요한 알람 동작을 줄일 수 있다.In the conventional case, since there is no separate waiting time condition, a warning is continuously informed whenever an error occurs in the sensor value. However, in the case of the present invention, the sensing value of the other sensor (Sj) is monitored during the waiting time (T) which is set fluidly according to the steady state frequency of the sensors (110, 120, 130, 140) to perform the situation and generate an alarm The unnecessary alarm action can be reduced.

도 5는 도 3의 방법을 적용한 경우와 미적용한 경우에 대한 알람 발생빈도를 비교한 그래프이다. 실제로 실험 결과, 본 발명의 방법에 따른 상황인지를 적용한 경우는 미적용의 경우에 비하여, 동일 모니터링 시간 대비 알람 발생빈도를 약 85% 가량 줄일 수 있었다. 즉, 본 발명의 방법의 경우, 전체 모니터링 시간 중에서 상기 대기시간 동안에만 타 센서의 모니터링을 수행하므로, 그만큼 알람 발생빈도를 줄일 수 있는 것이다. 이는 결과적으로 전체 센서노드(100)의 전원수명을 증가시키게 되고, 작업자에게 불필요한 경고를 남발하지 않게 하는 효과가 있다.FIG. 5 is a graph comparing the frequency of alarm occurrences for the case where the method of FIG. 3 is applied and the case where the method of FIG. 3 is not applied. In fact, as a result of the experiment, the case of applying the situation according to the method of the present invention was able to reduce the alarm occurrence frequency by about 85% compared to the case of non-applied. That is, in the method of the present invention, since the other sensor is monitored only during the waiting time of the entire monitoring time, the alarm occurrence frequency can be reduced by that amount. This increases the power life of the entire sensor node 100 as a result, there is an effect that does not cause unnecessary warning to the operator.

도 6 및 도 7은 도 3의 방법을 위한 모니터링 화면의 예시도이다. 이는 상기 분석서버(200) 내의 표시부(270) 상에 구현되는 것으로서, 반도체 장비의 상태감시를 위한 모니터링 소프트웨어에 해당된다.6 and 7 are exemplary views of a monitoring screen for the method of FIG. This is implemented on the display unit 270 in the analysis server 200, and corresponds to the monitoring software for monitoring the state of the semiconductor equipment.

도 6의 경우, 각 센서노드(Node)의 목록과 센서노드 별 테스트 결과를 간이적으로 보여주는 화면이다. 도 7은 어느 일 센서노드에 관한 상세 분석 내용화면으로서, 각 센싱요소(온도,가스,압력,가속도(진동))별 센싱값을 수치 및 그래프로 표시하고 있으며, 불량상태 감지 내용 등을 시간 경과에 따라 텍스트로 누적하여 알리는 기능을 포함하고 있다.In FIG. 6, a list of sensor nodes and a test result for each sensor node are simply shown. FIG. 7 is a detailed analysis content screen of a sensor node, which displays sensing values for each sensing element (temperature, gas, pressure, acceleration (vibration)) in numerical values and graphs, and indicates a state of failure detection and the like over time. It also includes a function to accumulate text.

즉, 각각의 센서노드(100)는 필요에 따라 화면에 표시를 할 수 있으며, 표시된 센서노드(100)로부터 수신되는 센싱값의 상태를 그래프와 수치 등을 통해 분석하게 된다. 여기서, 특정 단일 센서(Si)가 임계값을 초과할 때 타 센서(Sj)의 초과 여부를 대기시간(T) 동안 지속적으로 점검하되, 타 센서(Sj)도 임계값을 초과하게 되면 복합장애로 인지하고. S(i,j)의 알람을 작업자에게 통보한다. 그러나, 대기시간(T) 이내에 타 센서(Sj)의 임계값 초과가 후속하여 발생하지 않으면, 단일 센서(Si)의 경고만 누적되며, 대기시간은 감소하게 된다.That is, each sensor node 100 can be displayed on the screen as necessary, and the state of the sensing value received from the displayed sensor node 100 is analyzed through graphs and numerical values. Here, when the specific single sensor (Si) exceeds the threshold value, whether the other sensor (Sj) is exceeded continuously during the waiting time (T), but if the other sensor (Sj) also exceeds the threshold value is a complex failure Recognize. The operator is informed of an alarm of S (i, j). However, if the threshold value of the other sensor Sj does not subsequently occur within the waiting time T, only the warning of the single sensor Si is accumulated, and the waiting time is reduced.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능한 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, these are merely exemplary and those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

100: 센서노드 110: 온도센서
120: 진동센서 130: 압력센서
140: 가스센서
200: 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 시스템
210: 수신부 220: 제1모니터부
230: 제1알람부 240: 제2모니터부
250: 제2알람부 260: 저장부
270: 표시부 280: 입력부
100: sensor node 110: temperature sensor
120: vibration sensor 130: pressure sensor
140: gas sensor
200: complex situational awareness system for monitoring the status of semiconductor equipment
210: receiving unit 220: first monitor unit
230: first alarm unit 240: second monitor unit
250: second alarm unit 260: storage unit
270: display unit 280: input unit

Claims (10)

반도체 장비의 장애요인들을 감지하는 복수 개의 센서들을 구비한 센서노드로부터 각각의 센싱값을 수신하는 단계;
상기 센서들의 센싱값이 해당 임계범위를 벗어나는지 모니터링하는 단계;
상기 센서들 중 특정 단일 센서의 센싱값이 해당 임계범위를 벗어나는 경우, 상기 특정 단일 센서에 대한 장애를 분석하여 그에 대응되는 알람을 생성하는 단계;
상기 특정 단일 센서의 장애가 감지된 상태에서, 상기 센서들 중 다른 단일 센서의 센싱값을 설정된 대기시간 동안 모니터링하는 단계; 및
상기 다른 단일 센서의 센싱값이 해당 임계범위를 벗어나는 경우, 상기 특정 단일 센서와 상기 다른 단일 센서에 의한 복합 장애를 분석하여 그에 대응되는 알람을 생성하는 단계를 포함하는 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 방법.
Receiving respective sensing values from a sensor node having a plurality of sensors for detecting obstacles of the semiconductor equipment;
Monitoring whether the sensing values of the sensors deviate from a corresponding threshold range;
Analyzing a failure of the specific single sensor when the sensing value of the specific single sensor is out of a corresponding threshold range, and generating an alarm corresponding thereto;
Monitoring a sensing value of another one of the sensors for a set waiting time when a failure of the specific single sensor is detected; And
When the sensing value of the other single sensor is out of the corresponding threshold range, the composite fault for the state monitoring of the semiconductor device comprising the step of analyzing the complex failure caused by the specific single sensor and the other single sensor to generate an alarm corresponding thereto. How is the situation.
청구항 1에 있어서,
상기 복수 개의 센서들은,
온도센서, 진동센서, 압력센서, 가스센서 중 선택된 복수 개의 센서를 포함하는 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 방법.
The method according to claim 1,
The plurality of sensors,
Complex situation recognition method for the state monitoring of semiconductor equipment including a plurality of sensors selected from the temperature sensor, vibration sensor, pressure sensor, gas sensor.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
해당 임계범위를 벗어난, 상기 특정 단일 센서 또는 상기 다른 단일 센서의 센싱값을 저장하는 단계를 더 포함하는 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 방법.
The method according to claim 1 or 2,
And storing a sensing value of the specific single sensor or the other single sensor that is outside of the threshold range.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 다른 단일 센서의 센싱값을 모니터링하는 단계는,
상기 센싱값이 정상범위에 해당되는 센서들의 개수가 증가할수록, 상기 대기시간이 감소되도록 조절하는 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 방법.
The method according to claim 1 or 2,
Monitoring the sensing value of the other single sensor,
And as the number of sensors whose sensing value is within a normal range increases, the waiting time is reduced.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 센서에서 감지된 각각의 센싱값을 해당 임계범위와 비교한 결과를 이미지, 그래프 또는 텍스트 중 적어도 하나의 형태로 표시하는 단계를 더 포함하는 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 방법.
The method according to claim 1 or 2,
And displaying a result of comparing each sensing value sensed by the sensor with a corresponding threshold range in the form of at least one of an image, a graph, and text.
반도체 장비의 장애요인들을 실시간 감지하는 복수 개의 센서들로부터 각각의 센싱값을 수신하는 수신부;
상기 센서들의 센싱값이 해당 임계범위를 벗어나는지 모니터링하는 제1모니터부;
상기 모니터링 결과, 상기 센서들 중 특정 단일 센서의 센싱값이 해당 임계범위를 벗어나는 경우, 상기 특정 단일 센서에 대한 장애를 분석하여 그에 대응되는 알람을 생성하는 제1알람부;
상기 특정 단일 센서의 장애가 감지된 상태에서, 상기 센서들 중 다른 단일 센서의 센싱값을 설정된 대기시간 동안 모니터링하는 제2모니터부; 및
상기 다른 단일 센서의 센싱값이 해당 임계범위를 벗어나는 경우, 상기 특정 단일 센서와 상기 다른 단일 센서에 의한 복합 장애를 분석하여 그에 대응되는 알람을 생성하는 제2알람부를 포함하는 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 시스템.
A receiver configured to receive respective sensing values from a plurality of sensors that detect obstacles of the semiconductor device in real time;
A first monitor unit configured to monitor whether the sensing values of the sensors deviate from a corresponding threshold range;
A first alarm unit configured to analyze a failure of the specific single sensor and generate an alarm corresponding thereto when a sensing value of a specific single sensor among the sensors is out of a corresponding threshold range as a result of the monitoring;
A second monitor unit configured to monitor sensing values of other single sensors among the sensors for a set waiting time when a failure of the specific single sensor is detected; And
When the sensing value of the other single sensor is out of the corresponding threshold range, the state monitoring of the semiconductor device including a second alarm unit for generating a corresponding alarm by analyzing the complex failure caused by the specific single sensor and the other single sensor Complex situational awareness system.
청구항 6에 있어서,
상기 복수 개의 센서들은,
온도센서, 진동센서, 압력센서, 가스센서센서된 복수 개의 센서를 포함하는 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 시스템.
The method of claim 6,
The plurality of sensors,
Complex situation recognition system for monitoring the status of semiconductor equipment including a plurality of sensors, such as temperature sensor, vibration sensor, pressure sensor, gas sensor.
청구항 6 또는 청구항 7에 있어서,
해당 임계범위를 벗어난, 상기 특정 단일 센서 또는 상기 다른 단일 센서의 센싱값을 저장하는 저장부를 더 포함하는 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 시스템.
The method according to claim 6 or 7,
And a storage unit configured to store sensing values of the specific single sensor or the other single sensor outside the threshold range.
청구항 6 또는 청구항 7에 있어서,
상기 제2모니터부는,
상기 센싱값이 정상범위에 해당되는 센서들의 개수가 증가할수록, 상기 대기시간이 감소되도록 조절하는 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 시스템.
The method according to claim 6 or 7,
The second monitor unit,
The complex situation recognition system for monitoring the state of the semiconductor device to adjust so that the waiting time is reduced, as the number of sensors that the sensing value is within the normal range increases.
청구항 6 또는 청구항 7에 있어서,
상기 센서에서 감지된 각각의 센싱값을 해당 임계범위와 비교한 결과를 이미지, 그래프 또는 텍스트 중 적어도 하나의 형태로 표시하는 표시부를 더 포함하는 반도체 장비의 상태감시를 위한 복합 상황인지 시스템.
The method according to claim 6 or 7,
And a display unit which displays a result of comparing each sensing value detected by the sensor with a corresponding threshold range in at least one of an image, a graph, and text.
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