KR20110125858A - Method and apparatus of manufacturing the patterned retarder - Google Patents

Method and apparatus of manufacturing the patterned retarder Download PDF

Info

Publication number
KR20110125858A
KR20110125858A KR1020100045470A KR20100045470A KR20110125858A KR 20110125858 A KR20110125858 A KR 20110125858A KR 1020100045470 A KR1020100045470 A KR 1020100045470A KR 20100045470 A KR20100045470 A KR 20100045470A KR 20110125858 A KR20110125858 A KR 20110125858A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
patterned
liquid crystal
film
alignment
light
Prior art date
Application number
KR1020100045470A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
조오형
김용환
최봉진
김병인
Original Assignee
동우 화인켐 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동우 화인켐 주식회사 filed Critical 동우 화인켐 주식회사
Priority to KR1020100045470A priority Critical patent/KR20110125858A/en
Publication of KR20110125858A publication Critical patent/KR20110125858A/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/13363Birefringent elements, e.g. for optical compensation
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3083Birefringent or phase retarding elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/13378Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
    • G02F1/133788Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation by light irradiation, e.g. linearly polarised light photo-polymerisation
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528Polarisers
    • G02F1/133548Wire-grid polarisers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

PURPOSE: A manufacturing method of a patternized retarder and manufacturing device thereof are provided to effectively shorten a process and time which manufactured a patternized retarder without needing an additional device for aligning each high price pattern area and each pattern area and without performing at least two masks working. CONSTITUTION: A manufacturing method of a patternized retarder includes as follows: a step of examining a patternized wire grid polarizer on a film which is available for optical alignment. The film of an optical alignment is for forming a liquid crystal layer on the film. The optically aligned film includes a chiralic material which is available for a liquid compound and optical modulation.

Description

패턴화 리타더의 제조방법과 이의 제조장치 {METHOD AND APPARATUS OF MANUFACTURING THE PATTERNED RETARDER}Method for manufacturing patterned retarder and apparatus for manufacturing same {METHOD AND APPARATUS OF MANUFACTURING THE PATTERNED RETARDER}

본 발명은 편광 안경 방식을 이용하는 입체화상표시장치에 적용될 수 있는 패턴화 리타더의 제조방법과 이의 제조장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a method of manufacturing a patterned retarder that can be applied to a stereoscopic image display apparatus using a polarizing glasses method, and a manufacturing apparatus thereof.

패턴화 리타더(Patterned retarder, 복굴절 매질 또는 위상차 필름이라고도 함)는 편광 안경 방식의 입체화상표시장치에 적용되어 입체 영상을 구현하는데 이용된다. A patterned retarder (also called a birefringent medium or a retardation film) is applied to a stereoscopic image display device of polarized glasses and used to implement a stereoscopic image.

도 1은 화상표시패널(103)의 일면에 기재(편광판)(105), 배향막(107) 및 액정 코팅층(109)을 포함하는 패턴화 리타더(101)를 포함하는 입체화상표시장치이다. 여기서 좌원 편광부(L, Left Circularly Polarized Light Part)와 우원 편광부(R, Right Circularly Polarized Light part)는 스트라이프(stripe) 형상을 이루며 교대로 반복하여 배치되는 구조를 가지고 있다. 좌원 편광부(L)를 통과한 빛은 사용자의 편광 안경에서 좌안의 편광 필름을 통과하고, 우원 편광부(R)를 통과한 빛은 사용자의 편광 안경에서 우안의 편광 필름을 통과하여 양안(兩眼)에 서로 다른 이미지를 맺히게 함으로써 입체 영상을 구현할 수 있다.FIG. 1 is a stereoscopic image display device including a patterned retarder 101 including a substrate (polarizing plate) 105, an alignment film 107, and a liquid crystal coating layer 109 on one surface of an image display panel 103. Here, the left circularly polarized light part (L) and the right circularly polarized light part (R) have a structure that is alternately and repeatedly arranged in a stripe shape. Light passing through the left circular polarizer L passes through the polarizing film of the left eye in the user's polarizing glasses, and light passing through the right circular polarizer R passes through the polarizing film of the right eye in the polarizing glasses of the user. By forming different images in iii), a stereoscopic image can be realized.

패턴화 리타더를 제조하는 방법은 일본국 특허공개 제2003-337226호와 같이 낱장의 기판 위에 배향막 형성용 조성물을 도포하여 배향막을 형성한다. 배향막 상에 마스크를 덮어 놓고 편광 광조사하여 A영역을 패턴화하고, 마스크를 이동한 후 편광 광조사하여 B영역을 패턴화한다. 패턴화된 배향막 상에 액정 코팅층 형성용 조성물을 도포한 후 자외선 조사하여 패턴화 리타더를 제조한다(도 2 참조).In the method for producing a patterned retarder, an alignment film is formed by applying a composition for forming an alignment film on a single substrate as in Japanese Patent Laid-Open No. 2003-337226. The mask is placed on the alignment layer to be irradiated with polarized light to pattern the area A. After the mask is moved, the polarized light is irradiated to pattern the B area. After coating the composition for forming a liquid crystal coating layer on the patterned alignment layer and irradiated with ultraviolet rays to prepare a patterned retarder (see FIG. 2).

이러한 방법은 배향막에 패턴화된 배향영역을 형성하기 위해 반드시 편광 노광기가 요구된다. 편광 노광기는 노광기에서 조사되는 빛을 편광시키는 것으로 편광을 위한 소자로 상당히 고가인 쿼츠(석영)가 사용되어야 하는 단점이 있다. 또한 공정을 단축시키기 위해 각 패턴 영역 형성 시 별도의 편광 노광기를 구비해야 한다.This method necessarily requires a polarizing exposure machine to form a patterned alignment region in the alignment film. The polarizing exposure machine polarizes the light irradiated from the exposure machine and has a disadvantage in that quartz (quartz), which is quite expensive, must be used as an element for polarization. In addition, in order to shorten the process, when forming each pattern region, a separate polarizing exposure machine should be provided.

또한, 2회의 마스크 작업과 각 패턴 영역을 얼라인 시키기 위한 얼라인 장치 및 얼라인 작업이 요구된다.In addition, an alignment apparatus and an alignment operation for aligning two mask operations and each pattern region are required.

이같이 패턴화 리타더를 제조하는 방법 및 장치가 매우 복잡하고, 장시간이 소요되는 문제가 있다.
Thus, the method and apparatus for manufacturing the patterned retarder is very complicated, there is a problem that takes a long time.

따라서, 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로써, 2회 이상의 마스크 작업을 수행하지 않고, 고가의 편광 노광기와 각 패턴영역을 얼라인하기 위한 별도의 장치가 필요하지 않아 패턴화 리타더를 제조하는 공정 및 시간을 효과적으로 단축할 수 있는 패턴화 리타더의 제조방법과 이의 제조장치를 제공하는데 있다.Accordingly, the present invention has been proposed to solve the above problems, and does not require two or more mask operations, and does not require an expensive polarizing exposure machine and a separate device for aligning each pattern region. The present invention provides a method of manufacturing a patterned retarder and an apparatus for manufacturing the same, which can effectively shorten the process and time for manufacturing the dough.

또한, 본 발명은 제조 공정이 간소화되고, 단시간의 대량생산에 적합한 공정을 채용하여 생산성을 향상시킬 수 있는 패턴화 리타더의 제조방법과 이의 제조장치를 제공하는데 있다.
In addition, the present invention provides a method of manufacturing a patterned retarder and a manufacturing apparatus thereof, which can simplify the manufacturing process and improve productivity by employing a process suitable for short time mass production.

1. 광 배향이 가능한 막 상에 패턴화된 와이어 그리드 편광자를 덮고 광 조사하는 단계를 포함하는 패턴화 리타더의 제조방법.1. A method of making a patterned retarder comprising covering and irradiating a patterned wire grid polarizer on a film capable of light orientation.

2. 위 1에 있어서, 광 배향이 가능한 막은 그 막 상에 액정층을 형성시키기 위한 배향막인 패턴화 리타더의 제조방법.2. The method according to the above 1, wherein the film capable of photo alignment is an alignment film for forming a liquid crystal layer on the film.

3. 위 1에 있어서, 광 배향이 가능한 막은 액정 화합물 및 광 변조가 가능한 카이럴성 물질을 포함하는 것인 패턴화 리타더의 제조방법.3. The method according to the above 1, wherein the photo-alignable film comprises a liquid crystal compound and a chiral material capable of light modulation.

4. 위 1내지 3 중 어느 한 항에 있어서, 와이어 그리드 편광자의 패턴은 투과축이 실질적으로 서로 수직이고, 와이어 그리드 편광자의 패턴은 반복되어 형성된 것인 패턴화 리타더의 제조방법.4. The method according to any one of the preceding 1, wherein the pattern of the wire grid polarizer is substantially perpendicular to the transmission axis, and the pattern of the wire grid polarizer is formed repeatedly.

5. 위 4에 있어서, 와이어 그리드 편광자의 패턴은 리타더 패턴과 대응되도록 형성된 것인 패턴화 리타더의 제조방법.5. The method of claim 4, wherein the pattern of the wire grid polarizer is formed to correspond to the retarder pattern.

6. 위 4에 있어서, 광은 비편광된 것인 패턴화 리타더의 제조방법.6. In the above 4, the light is unpolarized manufacturing method of the patterned retarder.

7. 위 4에 있어서, 와이어 그리드 편광자의 격자 주기는 광의 주파장 이하인 패턴화 리타더의 제조방법.7. The method according to the above 4, wherein the lattice period of the wire grid polarizer is less than or equal to the dominant wavelength of light.

8. 위 7에 있어서, 와이어 그리드 편광자의 격자 주기는 광의 주파장에 대해서 1/2 내지 1/4인 패턴화 리타더의 제조방법.8. The method according to the above 7, wherein the lattice period of the wire grid polarizer is 1/2 to 1/4 with respect to the dominant wavelength of light.

9. 기재를 이송시키는 이송부; 이송되는 상기 기재에 배향막을 형성하는 배향막 형성부; 상기 배향막에 패턴화된 와이어 그리드 편광자를 덮고 광 조사하여 패턴화된 배향막을 형성하는 패턴화된 배향막 형성부; 및 상기 패턴화된 배향막 상에 액정 코팅층을 형성하고 광 조사하여 패턴화 리타더를 형성하는 패턴화 리타더 형성부를 포함하는 패턴화 리타더의 제조장치.9. Transfer unit for transferring the substrate; An alignment film forming unit for forming an alignment film on the substrate to be transferred; A patterned alignment layer forming unit covering the patterned wire grid polarizer on the alignment layer and irradiating light to form a patterned alignment layer; And a patterned retarder forming unit forming a liquid crystal coating layer on the patterned alignment layer and irradiating light to form a patterned retarder.

10. 기재를 이송시키는 이송부; 이송되는 상기 기재에 광 변조가 가능한 카이럴성 물질이 포함된 액정 코팅층을 형성하는 액정 코팅층 형성부; 및 상기 액정 코팅층 상에 패턴화된 와이어 그리드 편광자를 덮고 광 조사하여 패턴화 리타더를 형성하는 패턴화 리타더 형성부를 포함하는 패턴화 리타더의 제조장치.
10. Transfer unit for transferring the substrate; A liquid crystal coating layer forming unit forming a liquid crystal coating layer including a chiral material capable of light modulation on the substrate to be transferred; And a patterned retarder forming unit covering the patterned wire grid polarizer on the liquid crystal coating layer and irradiating light to form a patterned retarder.

본 발명은 제조장치(노광장치, 얼라인 장치 등) 및 제조공정(2회의 마스크 작업 등)이 감소되어 비용을 절감할 수 있고, 공정시간을 단축할 수 있다. According to the present invention, the manufacturing apparatus (exposure apparatus, alignment apparatus, etc.) and the manufacturing process (two mask operations, etc.) can be reduced, thereby reducing costs and shortening the processing time.

또한, 본 발명은 패턴영역의 얼라인 시 발생되는 문제가 현저히 감소되어 패턴화 리타더의 품질을 향상시킬 수 있다.In addition, the present invention can significantly improve the quality of the patterned retarder due to the significantly reduced problems caused during the alignment of the pattern area.

또한, 본 발명은 롤 형상의 패턴화 리타더를 제조할 수 있어 이를 입체화상표시장치에 적용 시 제조공정이 간소화되고, 화상표시장치의 크기에 따라 패턴화 리타더를 절단하여 제공할 수 있으므로 공정마진을 크게 향상시킬 수 있다.In addition, the present invention can manufacture a roll-shaped patterned retarder, the manufacturing process is simplified when applied to a three-dimensional image display device, and can be provided by cutting the patterned retarder according to the size of the image display device process Margins can be greatly improved.

또한, 본 발명은 연속적인 공정으로 패턴화 리타더를 제조할 수 있어 대량생산 및 생산성을 향상시킬 수 있다.
In addition, the present invention can produce a patterned retarder in a continuous process to improve mass production and productivity.

도 1a 및 1b는 패턴화 리타더의 구조이고,
도 2는 종래 패턴화 리타더의 제조방법을 도식화한 것이고,
도 3은 본 발명의 일례에 따른 패턴화 리타더의 제조장치이고,
도 4는 본 발명에 따른 패턴화된 와이어 그리드 편광자의 피치(P), 선폭(W) 및 높이(H)의 정의를 도시한 것이고,
도 5a, 5b 및 5c는 본 발명에 따른 와이어 그리드 편광자의 패턴의 일례이고,
도 6은 본 발명에 따른 일례의 패턴화 리타더의 제조 방법이고,
도 7은 본 발명의 일례에 따른 패턴화 리타더의 제조장치이고,
도 8은 본 발명에 따른 일례의 패턴화 리타더의 제조 방법이고,
도 9는 본 발명에 따른 제조된 패턴화 리타더의 구조이다.
1A and 1B are the structure of the patterned retarder,
2 is a schematic diagram illustrating a method of manufacturing a conventional patterned retarder,
3 is an apparatus for manufacturing a patterned retarder according to an example of the present invention;
Figure 4 shows the definition of the pitch (P), line width (W) and height (H) of the patterned wire grid polarizer according to the present invention,
5A, 5B and 5C are examples of patterns of wire grid polarizers according to the present invention,
6 is a method of manufacturing an exemplary patterned retarder in accordance with the present invention;
7 is an apparatus for manufacturing a patterned retarder according to an example of the present invention;
8 is a method of manufacturing an exemplary patterned retarder in accordance with the present invention;
9 is a structure of a patterned retarder manufactured according to the present invention.

본 발명은 광 배향이 가능한 막 상에 패턴화된 와이어 그리드 편광자를 덮고 광 조사하는 단계를 포함함으로써, 제조장치와 공정이 감소되고 공정시간을 단축할 수 있으며 품질이 향상된 패턴화 리타더를 연속적으로 대량 생산할 수 있는 패턴화 리타더의 제조방법과 이의 제조장치에 관한 것이다.The present invention includes a step of covering and irradiating a patterned wire grid polarizer on a film capable of optical alignment, thereby reducing the manufacturing apparatus and the process, reducing the processing time, and continuously improving the quality of the patterned retarder. The present invention relates to a method for manufacturing a patterned retarder capable of mass production and an apparatus for manufacturing the same.

이하 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명의 패턴화 리타더의 제조방법은 광 배향이 가능한 막 상에 패턴화된 와이어 그리드 편광자를 덮고 광 조사하는 단계를 포함한다.The method of manufacturing the patterned retarder of the present invention includes the step of covering and irradiating a patterned wire grid polarizer on a film capable of light orientation.

상기 광 배향이 가능한 막은 그 막 상에 액정층을 형성시키기 위한 배향막, 또는 액정 화합물 및 광 변조가 가능한 카이럴성 물질을 포함하는 것일 수 있다.The photo-alignable film may include an alignment film for forming a liquid crystal layer on the film, or a liquid crystal compound and a chiral material capable of light modulation.

상기 와이어 그리드 편광자의 패턴은 리타더 패턴과 대응되도록 형성된다.The pattern of the wire grid polarizer is formed to correspond to the retarder pattern.

광 배향이 가능한 막이 그 막 상에 액정층을 형성시키기 위한 배향막인 경우의 패턴화 리타더의 제조방법은 하기와 같다.The manufacturing method of the patterned retarder when the film | membrane which can be photo-aligned is an oriented film for forming a liquid crystal layer on the film is as follows.

기재를 이송하는 단계; 상기 이송된 기재상에 배향막을 형성하는 단계; 상기 형성된 배향막 상에 패턴화된 와이어 그리드 편광자를 덮고 광 조사하여 패턴화된 배향막을 제조하는 단계; 및 상기 패턴화된 배향막 상에 액정 코팅층 형성용 조성물을 도포하고 광 조사하여 패턴화 리타더를 형성하는 단계를 포함한다.Transferring the substrate; Forming an alignment layer on the transferred substrate; Covering the patterned wire grid polarizer on the formed alignment layer and irradiating with light to form a patterned alignment layer; And applying a composition for forming a liquid crystal coating layer on the patterned alignment layer and irradiating with light to form a patterned retarder.

이때, 패턴화 리타더의 제조장치는 도 3과 같이, 광배향부(1)와 패턴화 리타더 형성부(3)를 포함할 수 있다. 광배향부(1)는 기재(5)를 권출하는 제1롤(7)과 기재(5)가 권취되는 제2롤(9)을 구비한 이송부(11)를 포함한다.In this case, the apparatus for manufacturing a patterned retarder may include an optical alignment unit 1 and a patterned retarder forming unit 3 as shown in FIG. 3. The photo-alignment part 1 includes a conveying part 11 having a first roll 7 for unwinding the substrate 5 and a second roll 9 for winding the substrate 5.

또한, 광배향부(1) 이전에 기재 상에 배향막을 형성하는 배향막 형성부(도시생략)를 포함한다. 배향막 형성부는 유동 주조법, 및 에어 나이프(air knife), 그라비아(gravure), 리버스 롤(reverse roll), 키스 롤(kiss roll), 스프레이(spray) 또는 블레이드(blade) 등의 통상의 장치가 사용될 수 있다. 배향막 형성은 배향막 형성부에 의하여 배향의 직전 과정에서 이루어질 수도 있고, 경우에 따라서 별도의 배향막 형성 공정을 통하여 배향막이 기재(5) 상에 형성될 수 있다. 또한 필요에 따라 배향막 형성부에는 형성된 배향막을 경화시키기 위해서 통상의 건조장치를 사용할 수 있다.An alignment film forming portion (not shown) for forming an alignment film on the substrate before the photoalignment portion 1 is also included. The alignment film forming unit may be a flow casting method and a conventional apparatus such as an air knife, gravure, reverse roll, kiss roll, spray or blade, etc. may be used. have. The alignment film may be formed in the process immediately before the alignment by the alignment film forming unit, and in some cases, the alignment film may be formed on the substrate 5 through a separate alignment film forming process. Moreover, in order to harden the formed oriented film, the usual drying apparatus can be used for the oriented film formation part as needed.

이송부(11)의 제1롤(7) 및 제2롤(9)은 독립적으로 모터 등의 구동원(도시생략)과 벨트나 체인 등의 동력전달부재(도시생략)로 연결되어 구동력을 전달받아 회전할 수 있도록 배치되는 것이 바람직하다.The first roll 7 and the second roll 9 of the conveying unit 11 are independently connected to a driving source (not shown) such as a motor and a power transmission member (not shown) such as a belt or a chain and rotated by receiving a driving force. It is desirable to be arranged so that it can.

또한, 장력유지 및 안정적인 기재의 이송을 위한 가이드 롤(도시생략) 및 공정에 따라 기재의 이송량을 제어하는 어큐뮬레이터(accumulator, 도시생략)를 다수 구비할 수 있다.In addition, a guide roll (not shown) and a accumulator (not shown) for controlling the transfer amount of the substrate in accordance with the process for maintaining the tension and stable transfer of the substrate can be provided.

광배향부(1)는 기재(5)의 상부에 제공된 배향막의 전체 영역을 일방향으로 배향할 수 있는 광(15)이 제공된다. 광(15)은 비편광된 것을 사용하며, 전자빔 또는 전자파 등을 사용할 수 있다. 전자파는 공정성이 뛰어난 자외선을 사용하는 것이 바람직하다.The photoalignment unit 1 is provided with light 15 capable of orientating the entire region of the alignment layer provided on the base 5 in one direction. The light 15 uses unpolarized light, and may use an electron beam or an electromagnetic wave. It is preferable to use the ultraviolet-ray excellent in fairness for electromagnetic waves.

특히 본 발명의 실시예에서 광(15)은 기재(5) 면에 제공되는 배향막의 종류에 따라 임의로 선택될 수 있으며 비접촉식으로 배향을 할 수 있으면 어느 것이나 가능하다.In particular, in the embodiment of the present invention, the light 15 may be arbitrarily selected according to the kind of the alignment film provided on the surface of the substrate 5, and any light may be provided as long as it can be oriented in a non-contact manner.

패턴화된 와이어 그리드 편광자(17)은 광(15)과 기재(5) 사이에 배치되는 것이 바람직하다. 패턴화된 와이어 그리드 편광자(17)의 편광기능은 도 4와 같이 격자선들 중심 간의 간격으로 정의되는 피치(P), 격자선의 선폭(W) 및 높이(H)에 영향을 받는다.The patterned wire grid polarizer 17 is preferably disposed between the light 15 and the substrate 5. The polarization function of the patterned wire grid polarizer 17 is influenced by the pitch P, the line width W and the height H of the grid lines, which are defined as the distance between the centers of the grid lines as shown in FIG. 4.

패턴화된 와이어 그리드 편광자를 통과하는 빛의 편광도를 향상시키기 위해서 피치(격자 주기, P)는 노광기 광의 주파장에 대하여 주파장 이하, 바람직하게는 주파장의 0.5배 이하, 보다 바람직하게는 주파장의 0.5 내지 0.25배의 크기인 것이 좋다. 또한 선폭(W)은 P에 대하여 0.5배 이하의 크기이고, 높이(H)는 W에 대해서 1배 이상의 크기 비로 형성되는 것이 패턴화 와이어 그리드 편광자를 통과하는 빛의 편광도를 향상에 바람직하다.To improve the degree of polarization of light passing through the patterned wire grid polarizer, the pitch (lattice period, P) is less than or equal to the principal wavelength of the exposure light, preferably less than or equal to 0.5 times the wavelength, more preferably the principal wavelength. It is preferably a size of 0.5 to 0.25 times. The line width W is 0.5 times or less with respect to P, and the height H is formed with a size ratio of 1 time or more with respect to W, which is preferable for improving the degree of polarization of light passing through the patterned wire grid polarizer.

패턴화된 와이어 그리드 편광자는 투명기재 상에 격자선이 배열된다.The patterned wire grid polarizer has lattice lines arranged on a transparent substrate.

투명기재는 유리 또는 폴리카보네이트(PC), 폴리이미드(PI), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 및 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 등의 합성 수지를 이용하여 필름 형태로 형성될 수 있다.The transparent substrate may be formed in a film form using glass or a synthetic resin such as polycarbonate (PC), polyimide (PI), polyethylene terephthalate (PET), and polyethylene naphthalate (PEN).

편광자의 격자는 광 반사율이 높은 금속 또는 금속 산화물로 형성될 수 있다. 일례로 알루미늄(Al), 은(Ag), 구리(Cu), 금(Au) 및 몰리브덴(Mo), 니켈(Ni) 등의 단일 금속 또는 이들의 합금으로 형성될 수 있다. 바람직하기로는 광 반사율이 높으면서 광 흡수율이 낮은 알루미늄(Al), 은(Ag) 또는 알루미늄몰리브덴옥사이드(AMO), 보다 바람직하기로는 가공성이 우수한 알루미늄몰리브덴옥사이드(AMO)으로 형성하는 것이 좋다. 또한, 상기 단일 금속 또는 합금이 복수의 층으로 적층된 다층 구조로 형성될 수 있다.The grating of the polarizer may be formed of a metal or metal oxide having high light reflectance. For example, it may be formed of a single metal such as aluminum (Al), silver (Ag), copper (Cu), gold (Au), molybdenum (Mo), nickel (Ni), or an alloy thereof. Preferably, it is preferable to form aluminum (Al), silver (Ag) or aluminum molybdenum oxide (AMO) having high light reflectance and low light absorption, and more preferably, aluminum molybdenum oxide (AMO) having excellent workability. In addition, the single metal or alloy may be formed in a multilayer structure in which a plurality of layers are stacked.

패턴화된 와이어 그리드 편광자의 격자 형성 방법은 투명기재 상에 나노 임프린트 리소그라피 방법, 레이저 간섭 리소그라피 방법, 또는 전자 빔 리소그라피 방법 등의 공지의 방법으로 형성될 수 있다.The lattice forming method of the patterned wire grid polarizer may be formed on a transparent substrate by a known method such as a nanoimprint lithography method, a laser interference lithography method, or an electron beam lithography method.

패턴화된 와이어 그리드 편광자의 패턴은 일례로 도 5a 내지 5c과 같이 형성될 수 있다. 이때, A는 투과축이고 B는 흡수축이며, 인접한 패턴의 투과축은 실질적으로 서로 수직이다. 본 발명에서 실질적으로 수직이라 함은 패턴화된 와이어 그리드 편광자에 의해 형성된 패턴화 리타더를 이용하여 입체화상의 구현이 가능한 정도의 각이며, 구체적으로 90±5°일 수 있다.The pattern of the patterned wire grid polarizer may be formed as shown in FIGS. 5A to 5C, for example. In this case, A is a transmission axis and B is an absorption axis, and transmission axes of adjacent patterns are substantially perpendicular to each other. Substantially vertical in the present invention is an angle of the degree to which the stereoscopic image can be implemented using a patterned retarder formed by the patterned wire grid polarizer, and specifically, may be 90 ± 5 °.

광(15)으로부터 조사되는 빛은 패턴화된 와이어 그리드 편광자를 통과하게 되면 빛이 편광되어 투과되며, 상기 편광된 빛에 의해 광 배향이 가능한 막 상에 패턴이 형성된다.When the light emitted from the light 15 passes through the patterned wire grid polarizer, the light is polarized and transmitted, and a pattern is formed on the film that can be photo-aligned by the polarized light.

패턴화 리타더 형성부(3)는 광배향부(1)의 일측에 설치되어 기재에 제공된 배향막에 액정 코팅층을 형성한다. 패턴화 리타더 형성부는 본 발명의 실시예에서는 연속 공정을 위하여 광배향부의 일측에 배치된 예를 도시하여 설명하고 있으나 이에 한정되는 것은 아니며 광배향이 끝난 이후의 별도 공정으로 진행하기 위하여 별도의 장치로 이루어지는 것도 가능하다.The patterned retarder forming portion 3 is provided on one side of the optical alignment portion 1 to form a liquid crystal coating layer on the alignment film provided on the substrate. Although the patterning retarder forming unit is illustrated and described with an example disposed on one side of the optical alignment unit for the continuous process in the embodiment of the present invention, the patterning retarder forming unit is not limited thereto. It is also possible.

패턴화 리타더 형성부(3)는 조성물 도포부(31), 조성물 건조부(33) 및 경화부(35)를 포함한다.The patterned retarder forming portion 3 includes a composition applying portion 31, a composition drying portion 33, and a curing portion 35.

조성물 도포부(31)는 액정 화합물 및 용매를 포함한 액정 코팅층 형성용 조성물을 배향막 상에 균일하게 도포하는 것이다. 이러한 조성물 도포부(31)는 유동 주조법, 및 에어 나이프(air knife), 그라비아(gravure), 리버스 롤(reverse roll), 키스 롤(kiss roll), 스프레이(spray) 또는 블레이드(blade) 등의 통상의 장치가 사용될 수 있다.The composition application | coating part 31 is apply | coating a composition for liquid crystal coating layer formation containing a liquid crystal compound and a solvent uniformly on a hard alignment film. Such a composition application part 31 is usually flow casting and air knife, gravure (reverse roll), reverse roll (kiss roll), spray (spray) or blade (blade), etc. Can be used.

조성물 건조부(33)는 조성물 도포부(31)에서 도포된 혼합 용액을 건조하여 코팅층을 형성하기 위한 것으로 이 역시 통상의 건조 장치가 사용될 수 있다.The composition drying unit 33 is for drying the mixed solution applied in the composition applying unit 31 to form a coating layer, which may also be a common drying apparatus.

경화부(35)는 노광기를 사용하여 상기 형성된 코팅층에 광을 조사하여 경화시키는 것으로, 자외선 등의 전자파(電磁波)를 조사하는 광원 등의 통상적인 장치가 사용될 수 있다. 또한, 히터를 사용하여 열경화시킬 수도 있다.The hardening part 35 irradiates and hardens the formed coating layer using an exposure machine, and a conventional apparatus such as a light source for irradiating electromagnetic waves such as ultraviolet rays may be used. Moreover, it can also thermoset using a heater.

추가로, 패턴화 리타더 형성부 이후에 본 발명은 결점 검사부(도시생략)를 포함하여 패턴화 리타더의 결점 검사를 실시할 수도 있다. 결점 검사부는 편광필터 등의 스캔을 사용하여 규정된 결점을 특정하고, 특정된 결점에 잉크 마킹, 바코드 마킹 등의 마킹 장치를 사용하여 표시하던가, 별도의 저장부에 결점정보(형태, 크기, 위치)를 저장하여 입체화상표시장치에 적용 시에 이를 활용할 수도 있다.In addition, after the patterned retarder forming unit, the present invention may include a defect inspection unit (not shown) to perform defect inspection of the patterned retarder. The defect inspection unit specifies a specified defect by using a scan such as a polarization filter, and displays the specified defect by using a marking device such as ink marking or barcode marking on the specified defect, or the defect information (shape, size, position) in a separate storage unit. ) Can be stored and applied to a stereoscopic image display device.

이와 같이 이루어지는 본 발명의 일례의 패턴화 리타더의 제조 방법을 도 6을 참조하여 상세하게 설명한다.The manufacturing method of the patterned retarder of an example of this invention made in this way is demonstrated in detail with reference to FIG.

먼저, 기재를 이송부(11)에 의하여 이송한다(S1). 이때, 기재가 롤 형상인 경우는 통상의 롤 투 롤(roll to roll) 방식으로 이동되는 것이 바람직하다. 또한, 장력유지 및 안정적인 기재의 이송을 위한 가이드 롤(도시생략) 및 공정에 따라 기재의 이송량을 제어하는 어큐물레이터(Accumulator)(도시생략)를 사용하는 것이 바람직하다.First, the base material is transferred by the transfer part 11 (S1). At this time, when the substrate is in a roll shape, it is preferable to move in the usual roll to roll method. In addition, it is preferable to use an accumulator (not shown) which controls the conveyance amount of the substrate in accordance with a guide roll (not shown) and a process for maintaining the tension and transferring the stable substrate.

기재상에 배향막을 형성한다(S3). 배향막 형성은 배향막 도포장치에 의해 실시되고 필요에 따라 건조장치에 의해 건조가 수행된다. 또한 별도의 배향막 형성 공정을 통하여 배향막이 기재 상에 형성되는 경우는 본 공정이 생략될 수도 있다.An alignment film is formed on the substrate (S3). Formation of the alignment film is carried out by the alignment film applying apparatus, and drying is performed by a drying apparatus as necessary. In addition, when the alignment film is formed on the substrate through a separate alignment film forming process, the present process may be omitted.

상기 배향막은 당 분야에서 일반적으로 사용되는 것으로 특별히 한정하지는 않으나, 유기 배향막을 사용하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하기로는 국제특허 제2005/096041호, 일본특허공개 평10-123461호, 일본특허공개 평10-227998호에 기재된 것을 사용하는 것이 좋다.The alignment layer is generally used in the art and is not particularly limited, but an organic alignment layer is preferably used. More preferably, those described in International Patent No. 2005/096041, Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 10-123461, and Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 10-227998 may be used.

유기 배향막은 아크릴레이트계, 폴리이미드계 또는 폴리아믹산이 함유된 배향막 형성용 조성물을 사용할 수 있다. 폴리아믹산은 디아민(di-amine)과 이무수물(dianhydride)을 반응시켜 얻어지는 폴리머이고 폴리이미드는 폴리아믹산을 이미드화하여 얻어지는 것으로 이들의 구조는 특별히 제한되지 않는다.As the organic alignment film, a composition for forming an alignment film containing an acrylate type, a polyimide type, or a polyamic acid may be used. The polyamic acid is a polymer obtained by reacting diamine and dianhydride, and the polyimide is obtained by imidating the polyamic acid, and their structure is not particularly limited.

배향막 형성용 조성물은 적절한 점도를 유지하는 것이 중요하다. 점도가 지나치게 높으면 압력을 가해도 쉽게 유동하지 않아 균일한 두께의 배향막 형성이 어려우며, 점도가 지나치게 낮으면 퍼짐성은 좋으나 배향막의 두께 조절이 어렵다. 일례로 25℃에서 1cP 내지 13cP인 것이 바람직하다.It is important to maintain a suitable viscosity of the composition for forming an alignment film. When the viscosity is too high, it is difficult to form an alignment film having a uniform thickness because it does not easily flow even when pressure is applied. When the viscosity is too low, the spreadability is good, but it is difficult to control the thickness of the alignment film. For example, it is preferable that they are 1cP thru | or 13cP at 25 degreeC.

또한 배향막 형성용 조성물은 표면 장력, 고형분의 함량 및 용제의 휘발성 등을 고려하는 것이 좋다. 특히 고형분의 함량은 점도나 표면장력에 영향을 미치므로 배향막의 두께나 경화 특성 등을 동시에 고려하여 조절하는 것이 좋다. 고형분의 함량이 지나치게 높으면 점도가 높아 배향막의 두께가 두꺼워지며, 지나치게 낮을 경우에는 용매의 비율이 높아 용액의 건조 후 얼룩이 생기는 문제점이 있다. 일례로 고형분의 함량이 0.1 내지 30중량%인 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the composition for forming the alignment layer considers the surface tension, the solid content, the volatility of the solvent, and the like. In particular, since the content of solid content affects the viscosity and surface tension, it is good to adjust the thickness and curing characteristics of the alignment film in consideration of the same. If the solid content is too high, the viscosity is high, the thickness of the alignment film is thick, if it is too low, there is a problem that a high proportion of the solvent causes a stain after drying the solution. For example, the content of the solid content is preferably 0.1 to 30% by weight.

배향막 형성용 조성물은 아크릴레이트계, 폴리이미드계 또는 폴리아믹산 등의 고형분이 용매에 용해된 용액상인 것이 좋다. 용매는 고형분을 용해시킬 수 있는 것으로 특별히 한정하지 않으며, 구체적으로 부틸셀로솔브, 감마-부티로락톤, N-메틸-2-피롤리돈 및 디프로필렌글리콜모노메틸에테르 등이 사용될 수 있다.It is preferable that the composition for oriented film formation is a solution form in which solid content, such as an acrylate type, a polyimide type, or a polyamic acid, melt | dissolved in the solvent. The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the solid content. Specifically, butyl cellosolve, gamma-butyrolactone, N-methyl-2-pyrrolidone and dipropylene glycol monomethyl ether may be used.

이러한 용매는 용해도, 점도, 표면장력 등을 고려하여 균일한 배향막을 형성할 수 있도록 적절히 혼합하여 사용한다.Such solvents are suitably mixed so as to form a uniform alignment film in consideration of solubility, viscosity, surface tension, and the like.

이외에 배향막 조성물은 효과적인 배향막 형성을 위하여 가교제 및 커플링제 등이 추가로 혼합될 수 있다.In addition to the alignment layer composition, a crosslinking agent and a coupling agent may be further mixed to form an effective alignment layer.

상기 배향막 상에 패턴화된 와이어 그리드 편광자를 이용하여 패턴화된 배향막 제조한다(S5). 광배향부에서 배향막 상에 패턴화된 와이어 그리드 편광자를 배치하고, 편광자의 상부에서 광을 조사하면 패턴화된 와이어 그리드 편광자를 통과한 편광된 빛에 의해 배향막의 배향방향이 패턴화된다.A patterned alignment layer is manufactured by using a wire grid polarizer patterned on the alignment layer (S5). When the patterned wire grid polarizer is disposed on the alignment layer in the optical alignment unit, and the light is irradiated from the upper portion of the polarizer, the alignment direction of the alignment layer is patterned by the polarized light passing through the patterned wire grid polarizer.

광은 비편광된 것을 사용하며, 전자빔 또는 전자파 등을 사용할 수 있다. 전자파는 공정성이 뛰어난 자외선을 사용하는 것이 바람직하다.The light uses unpolarized light, and may use an electron beam or an electromagnetic wave. It is preferable to use the ultraviolet-ray excellent in fairness for electromagnetic waves.

상기 패턴화된 배향막이 경화된 후에 액정 코팅층을 형성한다(S7). 액정 코팅층을 형성하는 단계(S7)는 배향된 배향막 상에 액정 코팅층 형성용 조성물을 도포한다(S9). 그리고 도포된 액정 코팅층 형성용 조성물을 건조시켜 코팅층을 형성한다(S11). 상기 코팅층을 광경화시킨다(S13). 이러한 과정을 거치면, 배향막의 배향 방향에 따라 액정 코팅층이 배향된 패턴화 리타더가 제조된다.After the patterned alignment layer is cured, a liquid crystal coating layer is formed (S7). In the forming of the liquid crystal coating layer (S7), the composition for forming a liquid crystal coating layer is coated on the aligned alignment layer (S9). Then, the coated liquid crystal coating layer-forming composition is dried to form a coating layer (S11). The coating layer is photocured (S13). Through this process, a patterned retarder in which the liquid crystal coating layer is aligned according to the alignment direction of the alignment layer is manufactured.

상기 액정 코팅층 형성용 조성물은 액정 화합물과 용매가 포함될 수 있으며, 액정 화합물은 일례로 반응성 액정 화합물(RM)이 포함될 수 있다. 반응성 액정 화합물(RM)의 예로서는 인포메이션디스플레이 10권 1호(반응성 액정 단량체의 최신 연구 동향)에 기재된 것을 들 수 있다.The composition for forming a liquid crystal coating layer may include a liquid crystal compound and a solvent, and the liquid crystal compound may include, for example, a reactive liquid crystal compound (RM). As an example of a reactive liquid crystal compound (RM), the thing described in Information Display 10 volume 1 (the latest research trend of the reactive liquid crystal monomer) is mentioned.

반응성 액정 화합물은 액정성을 발현할 수 있는 메조겐(mesogen)과 중합이 가능한 말단기를 포함하여 액정상을 갖게 되는 단량체 분자를 말한다. 반응성 액정 화합물을 중합하게 되면 액정의 배열된 상을 유지하면서 가교된 고분자 네트워크를 얻을 수 있게 된다. 반응성 액정 화합물 분자는 투명점(clearing point)으로부터 냉각하게 되면 같은 구조의 액정 고분자를 사용하는 경우보다 액정상에서 상대적으로 낮은 점도에서 보다 잘 배향된 구조를 갖는 대면적의 도메인을 얻을 수 있다.The reactive liquid crystal compound refers to a monomer molecule having a liquid crystal phase including a mesogen capable of expressing liquid crystal and a terminal group capable of polymerization. By polymerizing the reactive liquid crystal compound, it is possible to obtain a crosslinked polymer network while maintaining the aligned phase of the liquid crystal. When the reactive liquid crystal compound molecules are cooled from the clearing point, a large area domain having a structure that is better aligned at a relatively low viscosity in the liquid crystal phase may be obtained than when the liquid crystal polymer having the same structure is used.

이와 같이 형성된 액정 코팅층은 액정이 가지는 광학 이방성이나 유전율 등의 특성을 그대로 유지하면서도 고체상의 박막 형태를 가지고 있기 때문에 기계적이나 열적으로 안정하다.The liquid crystal coating layer thus formed is mechanically and thermally stable because it has a solid thin film form while maintaining the properties such as optical anisotropy and dielectric constant of the liquid crystal.

상기 반응성 액정 화합물(RM)은 코팅 공정의 효율성 및 코팅층의 균일성을 확보하기 위하여 용매에 희석시켜 액정 코팅층 형성용 조성물로 사용할 수 있다. 바람직하기로는 액정 화합물을 용해시킬 수 있는 용매에 용해되어 균일함을 갖는 것이 좋다.The reactive liquid crystal compound (RM) may be used as a composition for forming a liquid crystal coating layer by diluting in a solvent in order to secure the efficiency of the coating process and the uniformity of the coating layer. Preferably, it is good to melt | dissolve in the solvent which can melt | dissolve a liquid crystal compound, and to have uniformity.

일례로 반응성 액정 화합물은 이를 용해시킬 수 있는 용매 구체적으로 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA), 메틸에틸케톤(MEK), 이소프로필알콜(IPA), 자일렌 및 클로로포름 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합 용매를 사용하여 액정 코팅층 형성용 조성물을 제조할 수 있다.For example, the reactive liquid crystal compound may be a solvent capable of dissolving it, in particular one or two or more selected from propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), methyl ethyl ketone (MEK), isopropyl alcohol (IPA), xylene, and chloroform. The mixed solvent may be used to prepare a composition for forming a liquid crystal coating layer.

또한, 반응성 액정 화합물은 이를 중합 및 가교시키기 위한 개시제를 포함하여 코팅층 형성 조성물을 제조한다. 개시제는 공지의 광중합 개시제 또는 열중합 개시제를 사용할 수 있으며, 광중합 개시제가 반응시간 및 제어가 용이하여 바람직하다. 개시제는 반응성 액정 화합물 전체 고형분에 대해서 10중량% 이하, 바람직하게는 0.01 내지 5중량%이다.In addition, the reactive liquid crystal compound comprises an initiator for polymerizing and crosslinking it to prepare a coating layer forming composition. As the initiator, a known photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator may be used, and a photopolymerization initiator is preferable because of easy reaction time and control. The initiator is 10% by weight or less, preferably 0.01 to 5% by weight based on the total solids of the reactive liquid crystal compound.

반응성 액정 화합물은 첨가제를 추가로 포함하여 액정 코팅층 형성용 조성물을 제조한다. 첨가제는 일례로 분산제, 결합제(예컨대, 유리 라디칼 중합성 및 양이온성 중합성 결합성분), 방부제(예컨대, 글루타르디알데히드, 테트라메틸올아세틸렌우레아), 실란커플링제, 레벨링제, 가교제, 산화방지제, 탈기제, 소포제, 점도조절제, 유동 개선제, 침강방지제, 광택개선제, 윤활제, 접착 촉진제, 항피부제, 메팅제, 유화제, 안정제, 소수성 제제, 광안정화 첨가제, 처리 개선제 및 대전방지제 등이 사용될 수 있다.The reactive liquid crystal compound further includes an additive to prepare a composition for forming a liquid crystal coating layer. Additives include, for example, dispersants, binders (eg, free radical polymerizable and cationic polymerizable binders), preservatives (eg, glutaraldehyde, tetramethylolacetyleneurea), silane coupling agents, leveling agents, crosslinking agents, antioxidants Degassers, defoamers, viscosity modifiers, flow improvers, sedimentation inhibitors, gloss improvers, lubricants, adhesion promoters, anti-skinning agents, metting agents, emulsifiers, stabilizers, hydrophobic agents, light stabilizer additives, treatment improvers and antistatic agents have.

액정 코팅층 형성용 조성물 내의 반응성 액정 화합물의 함량은 5 내지 30중량%를 유지하도록 한다. 함량이 5중량% 미만으로 낮으면 위상차 구현이 불가능하고, 30중량%를 초과하는 경우에는 반응성 액정 화합물이 석출되어 균일한 액정 코팅층 형성이 어려운 문제가 있다.
The content of the reactive liquid crystal compound in the composition for forming a liquid crystal coating layer is to maintain 5 to 30% by weight. If the content is less than 5% by weight, it is impossible to implement retardation, and when the content exceeds 30% by weight, the reactive liquid crystal compound is precipitated, making it difficult to form a uniform liquid crystal coating layer.

또한 광 배향이 가능한 막이 액정 화합물 및 광 변조가 가능한 카이럴성 물질을 포함하는 경우의 패턴화 리타더의 제조방법은 하기와 같다.Moreover, the manufacturing method of the patterned retarder when the film | membrane which can be photo-aligned contains a liquid crystal compound and the chiral substance which can be modulated is as follows.

기재를 이송하는 단계; 상기 이송된 기재상에 광 변조가 가능한 카이럴성 물질이 포함된 액정 코팅층을 형성하는 단계; 및 상기 형성된 액정 코팅층 상에 패턴화된 와이어 그리드 편광자를 덮고 광 조사하여 패턴화 리타더를 형성하는 단계를 포함할 수 있다.Transferring the substrate; Forming a liquid crystal coating layer including a chiral material capable of light modulation on the transferred substrate; And covering the patterned wire grid polarizer on the formed liquid crystal coating layer and irradiating light to form a patterned retarder.

이때, 패턴화 리타더의 제조장치는 도 7과 같이, 기재(5)를 권출하는 제1롤(7)과 기재(5)가 권취되는 제2롤(9)을 구비한 이송부(11)와, 광(37)과 패턴화된 와이어 그리드 편광자(39)를 구비한 패턴화 리타더 형성부(3)를 포함할 수 있다.At this time, the manufacturing apparatus of the patterned retarder, as shown in Fig. 7, the transfer portion 11 having a first roll 7 for unwinding the substrate 5 and a second roll 9 for winding the substrate 5 And a patterned retarder forming portion 3 having light 37 and patterned wire grid polarizer 39.

이와 같이 이루어지는 본 발명의 일례의 패턴화 리타더의 제조 방법을 도 8과 같이 롤 투 롤 방식으로 기재를 이송(S1)하고, 기재 상에 광 변조가 가능한 카이럴성 물질이 포함된 액정 코팅층을 형성(S3)한 후에, 액정 코팅층 상에 패턴화된 와이어 그리드 편광자를 덮고 광 조사하여 경화한다(S5).In the manufacturing method of the patterned retarder of the present invention made as described above, the substrate is transferred (S1) in a roll-to-roll manner as shown in FIG. After forming (S3), the patterned wire grid polarizer is covered on the liquid crystal coating layer and cured by irradiating with light (S5).

이 방법은 배향막 없이 광 변조가 가능한 카이럴성 물질을 포함하는 액정 코팅층상에 직접 패턴화된 와이어 그리드 편광자를 덮고 광조사하여 패턴화 리타더를 제조한다.In this method, a patterned retarder is manufactured by covering and irradiating a patterned wire grid polarizer directly on a liquid crystal coating layer including a chiral material capable of light modulation without an alignment layer.

상기 액정 코팅층은 액정 코팅층 형성용 조성물에 일본국 특개평 10-153707에 개시된 광이성화 물질 또는 한국 특허등록 10-0603455에 기재된 광 변조가 가능한 카이럴성 물질을 함유하여 형성될 수 있다. 광 변조가 가능한 카이럴성 물질이 함유된 액정 코팅층 형성용 조성물은 배향막 없이, 액정 코팅층을 도포한 후 편광된 빛을 조사하면 액정이 배향방향을 가지게 된다.The liquid crystal coating layer may be formed by containing a photoisomerizable material disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 10-153707 or a chiral material capable of light modulation described in Korean Patent Registration No. 10-0603455. In the composition for forming a liquid crystal coating layer containing a chiral material capable of light modulation, the liquid crystal has an alignment direction when the polarized light is irradiated after applying the liquid crystal coating layer without the alignment layer.

본 발명은 광 변조가 가능한 카이럴성 물질이 함유된 액정 코팅층을 도포한 후 패턴화된 와이어 그리드 편광자를 덮고 광을 조사하는 방법으로 손쉽게 패턴화 리타더를 제조한다.The present invention easily prepares a patterned retarder by applying a liquid crystal coating layer containing a chiral material capable of light modulation and then covering the patterned wire grid polarizer and irradiating light.

이외에 구체적인 사항은 상기와 동일하다.
Other details are the same as above.

도 9는 본 발명에 따른 패턴화 리타더의 구조이다. 패턴화 리타더는 기재, 이 기재의 상부에 서로 다른 방향으로 배향이 이루어지고 스트라이프 형상을 가지며 교대로 배치되는 배향 영역(a, b) 및 이 배향 영역(a, b)의 상부에 배치되는 액정 코팅층(109)을 포함한다.9 is a structure of a patterned retarder according to the present invention. The patterned retarder is a substrate, an alignment region (a, b) which is oriented in different directions on top of the substrate, has a stripe shape, and is alternately arranged, and a liquid crystal disposed on the alignment region (a, b) The coating layer 109 is included.

본 발명의 기재는 유리기판, 시클로계 또는 노보넨 구조를 갖는 폴리올레핀계 필름, 트리아세틸셀룰로오스, 폴리카보네이트 필름 등의 공지의 광학필름, 바람직하기로는 편광판을 사용하는 것이 좋다. 또한, 기재가 롤(roll) 형상인 경우, 롤 형상의 패턴화 리타더를 제조할 수 있어, 이를 화상표시장치에 적용 시에 제조공정 간소화 및 공정마진이 향상되어서 유리하다.The substrate of the present invention preferably uses a known optical film such as a polyolefin-based film having a glass substrate, a cyclo-based or norbornene structure, a triacetyl cellulose, a polycarbonate film, and preferably a polarizing plate. In addition, when the substrate has a roll shape, a roll-shaped patterned retarder can be manufactured, which is advantageous because the manufacturing process is simplified and the process margin is improved when applied to the image display apparatus.

통상 패턴화 리타더를 사용한 입체화상표시장치는 좌원 편광과 우원 편광을 형성하기 위하여 편광판에 패턴화 리타더를 접착제 등을 통하여 적층하는 공정이 요구된다. 그러나 기재로 편광판을 사용하면 이러한 적층 공정이 생략되므로 공정단축뿐만 아니라 제조 비용도 절감할 수 있다.In general, a stereoscopic image display apparatus using a patterned retarder requires a step of laminating a patterned retarder on an polarizing plate through an adhesive or the like in order to form left circular polarization and right circular polarization. However, when the polarizing plate is used as the substrate, such a lamination process is omitted, thereby reducing manufacturing costs as well as process shortening.

상기 편광판은 편광자와 이 편광자의 적어도 한 면에 적층되는 편광자 보호필름을 포함한다. The polarizing plate includes a polarizer and a polarizer protective film laminated on at least one surface of the polarizer.

편광자는 폴리비닐알콜계 수지로 된 필름에 이색성 색소가 흡착 배향된 것을 사용할 수 있다. 상기 편광자를 구성하는 폴리비닐알콜계 수지로는 아세트산 비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산비닐과, 아세트산 비닐과 이와 공중합 가능한 다른 단량체와의 공중합체등을 사용할 수 있다. 여기서 아세트산 비닐과 공중합 가능한 다른 단량체로는 불포화 카르복시산류, 불포화 술폰산류, 올레핀류, 비닐에테르류 및 암모늄기를 갖는 아크릴아미드류 등을 사용할 수 있다. 편광자의 두께는 특별히 제한되지 않으며, 당 분야에서 사용되는 통상적인 두께로 제조할 수 있다. The polarizer may be one in which the dichroic dye is adsorbed and oriented on a film made of polyvinyl alcohol-based resin. As a polyvinyl alcohol-type resin which comprises the said polarizer, the copolymer etc. of polyvinyl acetate which is a homopolymer of vinyl acetate, a vinyl acetate, and the other monomer copolymerizable with this can be used. As the other monomer copolymerizable with vinyl acetate, unsaturated carboxylic acids, unsaturated sulfonic acids, olefins, vinyl ethers and acrylamides having an ammonium group may be used. The thickness of the polarizer is not particularly limited and may be prepared in the conventional thickness used in the art.

편광자 보호필름은 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분차폐성, 등방성 등이 우수한 것이 바람직하며, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 필름; 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 필름; 폴리카보네이트 필름; 폴리메틸(메타)아크릴레이트, 폴리에틸(메타)아크릴레이트 등의 아크릴계 필름; 폴리스티렌 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체 등의 스티렌계 필름; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 시클로계 또는 노보넨 구조를 갖는 폴리올레핀계 필름, 에틸렌프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀계 필름; 폴리이미드계 필름; 폴리에테르술폰계 필름; 술폰계 필름 등을 사용할 수 있으며, 이들의 두께 또한 특별히 제한되지 않는다.The polarizer protective film is preferably excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding, isotropy, etc., for example, polyester-based films such as polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polybutylene terephthalate; Cellulose films such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose; Polycarbonate film; Acrylic films such as polymethyl (meth) acrylate and polyethyl (meth) acrylate; Styrene-based films such as polystyrene acrylonitrile-styrene copolymer; Polyolefin-based films such as polyethylene, polypropylene, cyclo- or polyolefin-based films having a norbornene structure, and ethylene propylene copolymers; Polyimide film; Polyether sulfone-based film; A sulfone film etc. can be used, The thickness of these is also not specifically limited.

또한, 본 발명의 액정 코팅층은 패턴을 형성하여 인접한 패턴의 지상축 방향이 편광판의 흡수축(연신축) 방향과 독립적으로 각각 45° 및 135°를 유지함으로써 우원 편광부 및 좌원 편광부를 형성한다. In addition, the liquid crystal coating layer of the present invention forms a pattern so that the slow axis direction of the adjacent pattern maintains 45 ° and 135 °, respectively, independently of the absorption axis (stretch axis) direction of the polarizing plate, thereby forming the right polarizing part and the left circular polarizing part.

이러한 패턴화 리타더는 연속적으로 길이를 길게 생산할 수 있어 대량 생산에 용이하여 생산성이 증대된다. 또한 본 발명의 실시예의 패턴화 리타더는 기재가 유연한(Flexible) 형태를 나타낼 수 있는 필름으로 이루어져 다양한 조건을 가지는 이미지 패널에 부착이 가능하다.
Such a patterned retarder can be continuously produced in long lengths, which facilitates mass production, thereby increasing productivity. In addition, the patterned retarder of the embodiment of the present invention is made of a film that can exhibit a flexible form (flexible) can be attached to an image panel having a variety of conditions.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.
Hereinafter, preferred examples are provided to aid the understanding of the present invention, but the following examples are merely for exemplifying the present invention, and it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope and spirit of the present invention. It is natural that such variations and modifications fall within the scope of the appended claims.

실시예 1Example 1

권출된 75㎛ 두께의 편광판 상에 아크릴레이트계 배향액을 코팅하고 40℃에서 120초간 열풍 건조하여 1,000Å 두께의 배향막을 형성하였다. 편광판은 PVA 편광자의 한 면에 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 보호필름이 접합되고, 배향막이 코팅되는 다른 면에 시클로올레핀계 보호필름이 접합된 것을 사용하였다.An acrylate-based alignment liquid was coated on the uncoiled 75 μm-thick polarizing plate, followed by hot air drying at 40 ° C. for 120 seconds to form an alignment film having a thickness of 1,000 μm. As the polarizing plate, a triacetyl cellulose (TAC) protective film was bonded to one surface of the PVA polarizer, and a cycloolefin-based protective film was bonded to the other surface on which the alignment film was coated.

이송되는 편광판의 배향막 상에 패턴화된 와이어 그리드 편광자를 배치시켜서 14mW 노광 램프로 자외선을 조사하여 광배향된 배향막을 제조하였다. 패턴화된 와이어 그리드 편광자는 인접한 패턴의 투과축이 서로 수직이 되도록 패턴화하였다.A patterned wire grid polarizer was placed on the alignment film of the transferred polarizing plate and irradiated with ultraviolet rays with a 14mW exposure lamp to prepare a photoalignment alignment film. The patterned wire grid polarizer was patterned such that the transmission axes of adjacent patterns were perpendicular to each other.

반응성 액정 화합물을 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 (PGMEA)에 용해시켜 제조된 25중량%(고형분 함량)의 액정 코팅층 형성용 조성물을 상기 배향막 상에 도포하였다.A 25 wt% (solid content) composition for forming a liquid crystal coating layer prepared by dissolving a reactive liquid crystal compound in propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) was applied onto the alignment layer.

80℃에서 20초간 예비 건조한 후 110℃에서 5초간 건조하여 1.5㎛ 두께의 액정 코팅층을 형성하였다. 이후에 14mW 노광 램프로 500초간 자외선으로 광경화하여 액정 코팅층을 통과한 빛의 위상차 지연이 -λ/4만큼 되는 영역과 λ/4만큼 되는 영역이 교대로 존재하는 패턴화 리타더를 제조하였다.After preliminary drying at 80 ° C. for 20 seconds, the resultant was dried at 110 ° C. for 5 seconds to form a liquid crystal coating layer having a thickness of 1.5 μm. Subsequently, a patterned retarder having a 14 mW exposure lamp photocured with ultraviolet light for 500 seconds was alternately present in a region where the phase difference delay of light passing through the liquid crystal coating layer is -λ / 4 and a region that is λ / 4.

실시예 2Example 2

권출된 75㎛ 두께의 편광판(실시예 1과 동일한) 상에 광 변조가 가능한 카이럴성 물질과 반응성 액정 화합물을 클로로포름에 용해시켜 제조된 20중량%(고형분 함량)의 액정 코팅층 형성용 조성물을 코팅하고 40℃에서 120초간 열풍 건조하여 1.5㎛ 두께의 액정 코팅층을 형성하였다.Coating the composition for forming a liquid crystal coating layer of 20% by weight (solid content) prepared by dissolving a chiral material capable of optical modulation and a reactive liquid crystal compound in chloroform on a 75 μm-thick polarizing plate (same as Example 1). And hot air dried at 40 ° C. for 120 seconds to form a liquid crystal coating layer having a thickness of 1.5 μm.

이후에 이송되는 액정 코팅층 상에 패턴화된 와이어 그리드 편광자를 배치시켜서 14mW 노광 램프로 500초간 자외선을 조사하여 액정 코팅층을 통과한 빛의 위상차 지연이 -λ/4만큼 되는 영역과 λ/4만큼 되는 영역이 교대로 존재하는 패턴화 리타더를 제조하였다.
The patterned wire grid polarizer is then placed on the transferred liquid crystal coating layer and irradiated with ultraviolet light for 14 seconds with a 14 mW exposure lamp, whereby the phase difference delay of the light passing through the liquid crystal coating layer is -λ / 4 and λ / 4. Patterned retarders with alternating regions were produced.

1 : 광배향부 3 : 패턴화 리타더 형성부
5, 105 : 기재 7 : 제1롤
9 : 제2롤 11 : 이송롤
15, 37 : 광
17, 39 : 패턴화된 와이어 그리드 편광자
31 : 조성물 도포부
33 : 조성물 건조부
35 : 경화부
101: 패턴화 리타더 103 : 화상표시패널
107 : 배향막 109 : 액정 코팅층
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1: Optical alignment part 3: Patterned retarder formation part
5, 105: substrate 7: first roll
9: second roll 11: feed roll
15, 37: light
17, 39: patterned wire grid polarizer
31: coating composition
33: composition drying unit
35: hardened part
101: patterned retarder 103: image display panel
107: alignment film 109: liquid crystal coating layer

Claims (10)

광 배향이 가능한 막 상에 패턴화된 와이어 그리드 편광자를 덮고 광 조사하는 단계를 포함하는 패턴화 리타더의 제조방법.
A method of manufacturing a patterned retarder comprising covering and irradiating a patterned wire grid polarizer on a film capable of light orientation.
청구항 1에 있어서, 광 배향이 가능한 막은 그 막 상에 액정층을 형성시키기 위한 배향막인 패턴화 리타더의 제조방법.
The method of manufacturing a patterned retarder according to claim 1, wherein the film capable of photo alignment is an alignment film for forming a liquid crystal layer on the film.
청구항 1에 있어서, 광 배향이 가능한 막은 액정 화합물 및 광 변조가 가능한 카이럴성 물질을 포함하는 것인 패턴화 리타더의 제조방법.
The method of claim 1, wherein the photo-alignable film includes a liquid crystal compound and a chiral material capable of light modulation.
청구항 1내지 3 중 어느 한 항에 있어서, 와이어 그리드 편광자의 패턴은 투과축이 실질적으로 서로 수직이고, 와이어 그리드 편광자의 패턴은 반복되어 형성된 것인 패턴화 리타더의 제조방법.
The method of manufacturing a patterned retarder according to any one of claims 1 to 3, wherein the pattern of the wire grid polarizer is substantially perpendicular to the transmission axis, and the pattern of the wire grid polarizer is formed repeatedly.
청구항 4에 있어서, 와이어 그리드 편광자의 패턴은 리타더 패턴과 대응되도록 형성된 것인 패턴화 리타더의 제조방법.
The method of claim 4, wherein the pattern of the wire grid polarizer is formed to correspond to the retarder pattern.
청구항 4에 있어서, 광은 비편광된 것인 패턴화 리타더의 제조방법.
The method of claim 4, wherein the light is unpolarized.
청구항 4에 있어서, 와이어 그리드 편광자의 격자 주기는 광의 주파장 이하인 패턴화 리타더의 제조방법.
The method of manufacturing a patterned retarder according to claim 4, wherein the lattice period of the wire grid polarizer is equal to or less than the dominant wavelength of light.
청구항 7에 있어서, 와이어 그리드 편광자의 격자 주기는 광의 주파장에 대해서 1/2 내지 1/4인 패턴화 리타더의 제조방법.
The method of manufacturing a patterned retarder according to claim 7, wherein the lattice period of the wire grid polarizer is 1/2 to 1/4 with respect to the dominant wavelength of light.
기재를 이송시키는 이송부;
이송되는 상기 기재에 배향막을 형성하는 배향막 형성부;
상기 배향막에 패턴화된 와이어 그리드 편광자를 덮고 광 조사하여 패턴화된 배향막을 형성하는 패턴화된 배향막 형성부; 및
상기 패턴화된 배향막 상에 액정 코팅층을 형성하고 광 조사하여 패턴화 리타더를 형성하는 패턴화 리타더 형성부를 포함하는 패턴화 리타더의 제조장치.
A transfer unit for transferring the substrate;
An alignment film forming unit for forming an alignment film on the substrate to be transferred;
A patterned alignment layer forming unit covering the patterned wire grid polarizer on the alignment layer and irradiating light to form a patterned alignment layer; And
And a patterned retarder forming unit forming a liquid crystal coating layer on the patterned alignment layer and irradiating light to form a patterned retarder.
기재를 이송시키는 이송부;
이송되는 상기 기재에 광 변조가 가능한 카이럴성 물질이 포함된 액정 코팅층을 형성하는 액정 코팅층 형성부; 및
상기 액정 코팅층 상에 패턴화된 와이어 그리드 편광자를 덮고 광 조사하여 패턴화 리타더를 형성하는 패턴화 리타더 형성부를 포함하는 패턴화 리타더의 제조장치.
A transfer unit for transferring the substrate;
A liquid crystal coating layer forming unit forming a liquid crystal coating layer including a chiral material capable of light modulation on the substrate to be transferred; And
And a patterned retarder forming unit covering the patterned wire grid polarizer on the liquid crystal coating layer and irradiating light to form a patterned retarder.
KR1020100045470A 2010-05-14 2010-05-14 Method and apparatus of manufacturing the patterned retarder KR20110125858A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100045470A KR20110125858A (en) 2010-05-14 2010-05-14 Method and apparatus of manufacturing the patterned retarder

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100045470A KR20110125858A (en) 2010-05-14 2010-05-14 Method and apparatus of manufacturing the patterned retarder

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20110125858A true KR20110125858A (en) 2011-11-22

Family

ID=45395176

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100045470A KR20110125858A (en) 2010-05-14 2010-05-14 Method and apparatus of manufacturing the patterned retarder

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20110125858A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9651727B2 (en) 2013-07-04 2017-05-16 Samsung Display Co., Ltd. Polarizer, polarized light illuminating apparatus having the same and method of manufacturing the same
CN108474984A (en) * 2016-01-21 2018-08-31 夏普株式会社 The manufacturing method of liquid crystal display panel, the manufacturing method of phase plate and wiregrating polarizer
CN113568223A (en) * 2021-07-06 2021-10-29 信利(仁寿)高端显示科技有限公司 Multi-angle simultaneous alignment device and method for liquid crystal panel

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9651727B2 (en) 2013-07-04 2017-05-16 Samsung Display Co., Ltd. Polarizer, polarized light illuminating apparatus having the same and method of manufacturing the same
CN108474984A (en) * 2016-01-21 2018-08-31 夏普株式会社 The manufacturing method of liquid crystal display panel, the manufacturing method of phase plate and wiregrating polarizer
CN113568223A (en) * 2021-07-06 2021-10-29 信利(仁寿)高端显示科技有限公司 Multi-angle simultaneous alignment device and method for liquid crystal panel

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102417155B1 (en) Light absorption anisotropic film, three-dimensional light absorption anisotropic film, and fabrication methods thereof
KR102428495B1 (en) Polarizing plate and circularly polarizing plate
JP5885348B2 (en) Method for producing patterned retardation film
TWI641877B (en) Elliptical polarizer
CN110869827B (en) Elliptical polarizing plate
KR102359336B1 (en) Process for producing long retardation film
JP6937554B2 (en) A display device including a laminated body, a circularly polarizing plate including the laminated body, and the laminated body.
JP2014228864A (en) Inverse wavelength dispersion retardation film and display device including the same
TW201710334A (en) Liquid crystal cured film, optical film including the liquid crystal cured film, and display device
CN105264409A (en) Bonded optical member, and method for producing same
CN113508318B (en) Laminate body
JP2015203768A (en) Manufacturing method of retardation film
KR20120017664A (en) Patterned mask and method of manufacturing the patterned retarder using the same
WO2010110090A1 (en) Optical film, polarizing plate, and liquid crystal display device
KR20110125858A (en) Method and apparatus of manufacturing the patterned retarder
CN114051586A (en) Long film
CN111279232A (en) Method for producing polarizing film and polarizing film
JP2015200725A (en) Retardation film and manufacturing method therefor
JP6561449B2 (en) Method for producing retardation film with polarizer and method for evaluating retardation film
JP2015052679A (en) Retardation film and manufacturing method of the same
CN117157565A (en) Laminate and display device
JP7385380B2 (en) Manufacturing method of polarizing plate with retardation layer and hard coat layer
KR20160107585A (en) Retardation Film and Polarizing Plate Using the Same
JP2019215584A (en) Manufacturing method for optical laminate
TW201326989A (en) Method for manufacturing phase difference film

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination