KR20110122505A - Substrate processing apparatus - Google Patents

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KR20110122505A
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gas
separation
chemical liquid
exhaust
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KR1020100042056A
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Inventor
강경민
이상하
이승준
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주식회사 디엠에스
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    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment

Abstract

PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to conveniently sift out mist chemical solution which is included in a gas by passing the gas while forming a cyclone air current. CONSTITUTION: A chamber case(2) includes a chamber which is large enough to accept a substrate. A chemical solution supplying unit(4) supplies chemical solution(W) to the substrate in the chamber. A chemical solution collecting unit(6) collects the chemical solution which is supplied in the chemical solution supplying unit. An exhausting unit(8) exhausts the air of the chamber of the chamber case by a suction force. A mist separating unit(10) sifts out mist chemical solution which is included in a gas.

Description

기판처리장치{substrate processing apparatus}Substrate processing apparatus

본 발명은 각종 약액을 이용하여 기판을 처리할 때 약액의 손실을 줄일 수 있는 기판처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus that can reduce the loss of the chemical liquid when processing the substrate using various chemical liquids.

평판표시소자용 기판 제조를 위한 포토리소그라피(photolithography) 작업은 이미 잘 알려진 바와 같이 크게 포토공정과 에칭공정으로 구성된다.Photolithography operations for manufacturing substrates for flat panel display devices, as is well known, are largely composed of a photo process and an etching process.

이러한 포토공정과 에칭공정은 대부분 각종 약액(예: 현상액, 에칭액, 박리액)들을 기판 측에 분사하거나 도포하는 방식으로 진행되며 기판을 수용할 수 있는 크기의 챔버를 구비한 챔버장치 내에서 행해진다.Most of the photo process and the etching process are performed by spraying or applying various chemicals (e.g. developer, etching solution, stripping solution) to the substrate side, and are performed in a chamber apparatus having a chamber of a size that can accommodate the substrate. .

상기 챔버장치는, 기판 처리에 사용된 약액을 챔버로부터 다시 회수할 수 있도록 연결 형성된 회수부와, 챔버를 배기하면서 내부 압력을 균일하게 유지할 수 있도록 연결 형성된 배기부를 포함하여 이루어진다.The chamber apparatus includes a recovery part connected to form a chemical liquid used for processing the substrate from the chamber, and an exhaust part connected to maintain the internal pressure uniformly while exhausting the chamber.

특히, 상기 배기부는, 배기통로 일측에 통상의 필터를 구비하여 챔버의 배기시 기체 중에 포함된 미스트(mist) 형태의 약액을 필터 방식으로 직접 걸러낼 수 있도록 구성된다.In particular, the exhaust part is provided with a conventional filter on one side of the exhaust passage so as to directly filter the mist-type chemical liquid contained in the gas during exhaust of the chamber by a filter method.

그러면, 상기 배기부로 챔버를 배기할 때 기체 중에 미스트 형태의 약액이 포함된 상태로 함께 배출되면서 발생할 수 있는 약액의 손실을 최대한 줄일 수 있다.Then, when the chamber is exhausted to the exhaust portion, it is possible to reduce as much as possible the loss of the chemical liquid which may occur while being discharged together with the mist-containing chemical liquid in the gas.

하지만, 상기와 같이 배기부의 배기통로 일측을 가로막는 상태로 필터를 설치하고 이 필터로 미스트 형태의 약액을 기체로부터 걸러내는 방식은 여러 가지의 단점이 있다.However, as described above, the filter is installed in a state in which one side of the exhaust passage is blocked, and the method of filtering the mist-type chemical liquid from the gas has various disadvantages.

특히, 배기통로 일측을 가로막는 상태로 필터를 설치하면, 챔버 내부를 흡입력으로 배기할 때 흡입력을 저하시켜서 만족할 만한 배기 효율을 얻기가 어렵다.In particular, when the filter is installed in a state in which one side of the exhaust passage is blocked, it is difficult to obtain a satisfactory exhaust efficiency by lowering the suction force when exhausting the inside of the chamber with the suction force.

그리고, 필터로 걸러진 약액들은 대부분 필터 표면에 그대로 달라붙은 상태로 머물게 되므로 약액의 회수율이 현저하게 저하되는 현상을 초래할 수 있다.In addition, since most of the chemicals filtered by the filter stay intact on the surface of the filter, the recovery rate of the chemicals may be significantly reduced.

더욱이, 필터 표면에 약액들이 그대로 달라붙은 상태가 되면 챔버의 배기시 흡입력의 손실이 더욱 크게 발생할 수 있다.Furthermore, if the chemical liquids are stuck to the filter surface as they are, the loss of suction power during the exhaust of the chamber may occur more.

또한, 소모성 필터들의 유지 보수에 과다한 시간과 비용이 소요될 수 있다.In addition, maintenance of the consumable filters may take excessive time and cost.

이러한 문제들은 배기부의 배기통로 일측에 필터를 직접 설치하여 이 필터를 통과하는 상태로 기체를 흘러보내면서 미스트 형태의 약액들을 걸러내는 구조로 이루어져 있기 때문이다.These problems are because the filter is installed directly on one side of the exhaust passage of the exhaust portion to filter the mist-like chemicals while flowing the gas through the filter.

따라서, 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로서,Therefore, the present invention has been proposed to solve the above problems,

본 발명의 목적은, 챔버 내부를 배기할 때 사이클론(cyclone) 기류(氣流)를 형성하는 상태로 기체를 흘러보내면서 기체 중에 포함된 미스트 형태의 약액을 간편하게 걸러낼 수 있는 기판처리장치를 제공한다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus that can easily filter out mist-containing chemical liquid contained in a gas while flowing the gas in a state of forming a cyclone stream when exhausting the inside of the chamber. .

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여,In order to achieve the object as described above,

기판을 수용할 수 있는 크기의 챔버를 구비한 챔버케이스;A chamber case having a chamber sized to accommodate a substrate;

상기 챔버케이스의 챔버 내부에 위치된 기판을 향하여 약액을 공급할 수 있도록 형성된 약액공급부;A chemical solution supply unit configured to supply a chemical solution toward a substrate located inside the chamber of the chamber case;

상기 약액공급부에서 공급한 약액을 회수할 수 있도록 상기 챔버케이스와 연결된 회수관으로 구성된 약액회수부;A chemical liquid collection unit configured of a recovery pipe connected to the chamber case to recover the chemical liquid supplied from the chemical liquid supply unit;

상기 챔버케이스의 챔버 내부를 흡입력으로 배기할 수 있도록 상기 챔버케이스와 연결된 배기관으로 구성되는 배기부;An exhaust unit comprising an exhaust pipe connected to the chamber case to exhaust the inside of the chamber of the chamber case with suction force;

상기 배기부의 배기관 일측에 연결되어 싸이클론 기류를 형성하는 상태로 기체를 흘러보내면서 기체 중에 포함된 미스트 형태의 약액을 걸러낼 수 있도록 형성된 미스트 분리부;A mist separation unit connected to one side of an exhaust pipe of the exhaust unit so as to filter the chemical liquid in the form of mist contained in the gas while flowing the gas in a state of forming a cyclone air stream;

를 포함하는 기판처리장치를 제공한다.It provides a substrate processing apparatus comprising a.

이와 같은 본 발명은, 약액공급부는 물론이거니와 약액회수부 및 배기부를 구비하여 배기 및 약액의 회수가 가능한 챔버 내에서 기판을 향하여 약액을 도포하거나 분사하는 방식으로 기판 처리 작업을 간편하게 진행할 수 있다.The present invention, as well as the chemical liquid supply unit, and also provided with a chemical liquid recovery unit and the exhaust portion can easily proceed with the substrate processing operation by applying or spraying the chemical liquid toward the substrate in the chamber capable of exhaust and recovery of the chemical liquid.

더욱이, 본 발명은 상기 배기부와 대응하는 미스트 분리부를 구비하여 상기 챔버케이스의 챔버를 배기할 때 싸이클론 기류(氣流)를 형성하는 방식으로 기체를 흘러보내면서 기체 중에 포함된 미스트 형태의 약액을 걸러내서 재사용이 가능하도록 간편하게 회수할 수 있다.Furthermore, the present invention is provided with a mist separation unit corresponding to the exhaust portion to flow the gas in a manner that forms a cyclone air flow when exhausting the chamber of the chamber case to contain the mist-type chemical liquid contained in the gas It can be easily recovered for filtering and reuse.

특히, 상기한 미스트 분리부의 구조에 의하면, 예를 들어, 배기통로 일측을 직접 가로막는 상태로 필터를 설치하여 필터로 미스트 형태의 약액을 직접 걸러내는 배기 구조로 이루어지는 종래의 기판처리장치들이 갖는 문제점들을 개선할 수 있다.In particular, according to the structure of the mist separation unit, there is a problem that the conventional substrate processing apparatus consisting of an exhaust structure for filtering the mist liquid directly into the filter by installing a filter in a state of directly blocking one side of the exhaust passage. It can be improved.

도 1은 본 발명의 일실시 예에 따른 기판처리장치의 전체 구조를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2 내지 도 4는 본 발명의 일실시 예에 따른 미스트 분리부의 세부 구조 및 작용을 설명하기 위한 도면들이다. 1 is a view schematically showing the overall structure of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 to 4 are views for explaining the detailed structure and operation of the mist separation unit according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 실시 예들은 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자들이 본 발명의 실시가 가능한 범위 내에서 설명된다.The embodiments of the present invention will be described by those skilled in the art to which the present invention is applicable.

따라서, 본 발명의 실시 예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있는 것이므로 본 발명의 특허청구범위는 아래에서 설명하는 실시 예들로 인하여 한정되는 것은 아니다.Therefore, since the embodiments of the present invention can be modified in various other forms, the claims of the present invention are not limited to the embodiments described below.

도 1은 본 발명의 일실시 예에 따른 기판처리장치의 전체 구조를 개략적으로 나타낸 도면으로서, 도면 부호 2는 챔버케이스를 지칭한다.1 is a view schematically showing the overall structure of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, 2 denotes a chamber case.

상기 챔버케이스(2)는 기판(G)을 수용할 수 있는 크기의 챔버(C)를 내부에 구비하고 통상의 박스 타입으로 이루어질 수 있다.The chamber case 2 is provided with a chamber (C) of a size that can accommodate the substrate (G) therein may be made of a conventional box type.

상기 챔버케이스(2)는 예를 들어, 로울러 컨베이어와 같은 통상의 이송장치(M)에 의해 기판(G)이 일측에서 타측을 향하여 옮겨지면서 상기 챔버(C) 내부로 공급되거나 외부로 배출되도록 구성될 수 있다.The chamber case 2 is configured to be supplied into or discharged from the inside of the chamber C while the substrate G is moved from one side to the other side by a conventional transfer device M such as a roller conveyor. Can be.

상기 본 발명의 일실시 예에 따른 기판처리장치는, 기판(G) 측에 약액(W)을 공급하는 약액공급부(4)와, 이 약액공급부(4)에서 공급한 약액(W)을 회수하는 약액회수부(6)를 포함한다.The substrate processing apparatus according to the embodiment of the present invention, the chemical liquid supply unit 4 for supplying the chemical liquid (W) to the substrate (G) side, and recovers the chemical liquid (W) supplied from the chemical liquid supply unit (4) The chemical liquid collection part 6 is included.

다시 도 1을 참조하면, 상기 약액공급부(4)는, 상기 챔버케이스(2) 내부에서 기판(G)과 대응하도록 배치되는 노즐(N1)과, 이 노즐(N1) 측에 약액(W)을 공급할 수 있도록 연결된 약액공급탱크(N2)를 포함하여 이루어질 수 있다.Referring back to FIG. 1, the chemical liquid supply unit 4 includes a nozzle N1 disposed to correspond to the substrate G in the chamber case 2, and the chemical liquid W is disposed on the nozzle N1 side. It may be made including a chemical supply tank (N2) connected to be able to supply.

상기 노즐(N1)은 예를 들어, 상기 챔버케이스(2) 내부에 배치되는 기판(G)의 일면(윗면)을 향하여 약액(W)을 분사하거나 도포할 수 있도록 배치된 상태로 상기 챔버(C) 내부에 제공된다.For example, the nozzle C may be disposed to spray or apply the chemical liquid W toward one surface (upper surface) of the substrate G disposed in the chamber case 2. Is provided inside.

상기 약액공급탱크(N2)는 약액(W)이 담겨질 수 있도록 형성된 통상의 유체 탱크 형태로 이루어질 수 있으며, 상기 챔버케이스(2) 외측에 배치된다.The chemical liquid supply tank (N2) may be formed in the form of a conventional fluid tank formed so that the chemical liquid (W) is contained, it is disposed outside the chamber case (2).

상기 약액공급탱크(N2)에는 예를 들어, 기판(G)의 현상이나 에칭, 박리 작업 등을 진행하기 위한 약액(W)이 담겨질 수 있다.The chemical liquid supply tank N2 may contain, for example, a chemical liquid W for developing, etching, or peeling the substrate G.

상기 약액공급탱크(N2)와 상기 노즐(N1) 사이는 도 1에서와 같이 공급관(N3)으로 연결되며, 도면에는 나타내지 않았지만 통상의 유체 펌프의 펌핑에 의해 상기 약액공급탱크(N2)의 약액(W)이 상기 공급관(N3)을 통해 상기 노즐(N1) 측에 공급되도록 셋팅될 수 있다.Between the chemical liquid supply tank (N2) and the nozzle (N1) is connected to the supply pipe (N3) as shown in Figure 1, although not shown in the figure, the chemical liquid of the chemical liquid supply tank (N2) by the pumping of a conventional fluid pump ( W) may be set to be supplied to the nozzle N1 side through the supply pipe N3.

이와 같이 유체 펌프의 펌핑으로 유체(약액)를 공급하는 구조는 해당 분야에서 이미 널리 알려지고 사용하는 것이므로 더욱 상세한 설명은 생략한다.As such, the structure for supplying the fluid (chemical liquid) to the pumping of the fluid pump is already widely known and used in the art, and thus a detailed description thereof will be omitted.

상기한 약액공급부(4)의 구조에 의하면, 상기 노즐(N1)이 상기 약액공급탱크(N2)로부터 약액(W)을 공급받아서 기판(G)을 향하여 분사하거나 도포할 수 있다.According to the structure of the chemical liquid supply unit 4, the nozzle (N1) can receive the chemical liquid (W) from the chemical liquid supply tank (N2) can be sprayed or applied toward the substrate (G).

그리고, 상기 약액회수부(6)는, 상기 챔버케이스(2)의 챔버(C)로부터 약액(W)을 회수할 수 있도록 일단이 연결된 회수관(R1)과, 이 회수관(R1)의 타단과 연결되어 회수한 약액(W)을 담을 수 있도록 형성된 약액회수탱크(R2)를 포함하여 이루어질 수 있다.The chemical liquid collection unit 6 includes a recovery pipe R1 connected at one end thereof to recover the chemical liquid W from the chamber C of the chamber case 2, and the other of the recovery pipe R1. It may be made to include a chemical recovery tank (R2) formed so as to contain the recovered chemical liquid (W) connected to the stage.

상기 회수관(R1)의 일단은 도 1에서와 같이 상기 챔버케이스(2)의 챔버(C) 바닥면에 일단을 연결하면 좋다.One end of the recovery pipe (R1) may be connected to one end to the bottom surface of the chamber (C) of the chamber case (2) as shown in FIG.

그러면, 상기 챔버(C)의 바닥면에 고여있는 약액(W)들이 상기 회수관(R1)을 따라 낙하하는 상태로 배출될 수 있다.Then, the chemical liquids W accumulated on the bottom surface of the chamber C may be discharged while falling along the recovery pipe R1.

그리고, 상기 약액회수부(6)는 상기 챔버(C)에서 회수한 약액(W)을 상기 약액공급부(4) 측에 다시 공급할 수 있도록 셋팅될 수 있다.In addition, the chemical liquid collection unit 6 may be set to supply the chemical liquid W recovered in the chamber C to the chemical liquid supply unit 4 again.

예를 들어, 도 1에서와 같이 상기 약액회수탱크(R2)와 상기 약액공급탱크(N2) 사이를 이음관(R3)으로 연결하고, 도면에는 나타내지 않았지만 상기 이음관(R3) 일측에 통상의 유체 펌프를 설치할 수 있다.For example, as shown in Figure 1 is connected between the chemical liquid recovery tank (R2) and the chemical liquid supply tank (N2) by a joint pipe (R3), although not shown in the figure is a common fluid on one side of the joint pipe (R3) The pump can be installed.

그러면, 상기 약액회수탱크(R2)에 담겨진 약액(W)을 유체 펌프의 펌핑으로 상기 약액공급탱크(N2) 측에 다시 공급할 수 있다.Then, the chemical liquid W contained in the chemical liquid recovery tank R2 may be supplied again to the chemical liquid supply tank N2 by pumping a fluid pump.

상기한 약액회수부(6)의 구조에 의하면, 상기 챔버케이스(2) 내부에서 상기 약액공급부(4)로 약액(W)을 분사하거나 도포하면서 기판(G)을 처리하는 작업을 진행할 때 상기 챔버(C) 바닥에 고여진 약액(W)들을 회수하여 상기 약액공급부(4) 측에 공급할 수 있다.According to the structure of the chemical liquid recovery unit 6, the chamber when the process of processing the substrate (G) while injecting or applying the chemical liquid (W) to the chemical liquid supply unit 4 in the chamber case (2) (C) The chemical liquids W collected at the bottom may be recovered and supplied to the chemical liquid supply part 4.

상기 본 발명의 일실시 예에 따른 기판처리장치는, 상기 챔버케이스(2)의 내부를 배기(排氣)할 수 있도록 형성된 배기부(8)를 포함하여 이루어진다.The substrate treating apparatus according to the embodiment of the present invention includes an exhaust unit 8 formed to exhaust the inside of the chamber case 2.

상기 배기부(8)는 흡입력으로 상기 챔버케이스(2)의 챔버(C) 내부를 배기할 수 있도록 형성된다.The exhaust part 8 is formed to exhaust the inside of the chamber C of the chamber case 2 with suction force.

다시 도 1을 참조하면, 상기 배기부(8)는, 상기 챔버케이스(2)의 챔버(C) 일측과 연결되는 배기관(T1)과, 이 배기관(T1)의 타단과 연결되어 흡입력을 발생하는 배기용 구동원(T2)을 포함하여 이루어질 수 있다.Referring back to FIG. 1, the exhaust unit 8 is connected to an exhaust pipe T1 connected to one side of the chamber C of the chamber case 2 and connected to the other end of the exhaust pipe T1 to generate suction force. It may be made including a driving source (T2) for exhaust.

상기 배기관(T1)은 상기 챔버케이스(2)의 챔버(C) 일측과 연통하도록 일단이 연결된다.One end of the exhaust pipe T1 is connected to communicate with one side of the chamber C of the chamber case 2.

그리고, 상기 배기관(T1)의 타단은 배기용 구동원(T2)과 연결되며, 이 배기용 구도원(T2)은 예를 들어, 전동 팬(fan)을 구비하여 이 전동 팬의 회전 동작에 의해 흡입력을 발생하는 통상의 블로워장치(blower)를 사용할 수 있다.The other end of the exhaust pipe T1 is connected to the exhaust driving source T2, and the exhaust composition T2 is provided with, for example, an electric fan, and has a suction force due to the rotation operation of the electric fan. It is possible to use a conventional blower (blower) for generating a.

상기 배기용 구동원(T2)은 상기 배기관(T1)으로 상기 챔버케이스(2)의 챔버(C)와 연결된 상태에서 상기 배기관(T1)을 통해 상기 챔버(C) 외부로 배기가 가능하게 흡입력을 발생할 수 있도록 셋팅된다.The exhaust driving source T2 may generate suction force to be exhausted to the outside of the chamber C through the exhaust pipe T1 while being connected to the chamber C of the chamber case 2 by the exhaust pipe T1. It is set to be.

그러면, 상기 배기용 구동원(T2)의 작동시 발생하는 흡입력으로 상기 챔버케이스(2)의 챔버(C) 내부의 기체(A)를 외부로 배기할 수 있다.Then, the gas A inside the chamber C of the chamber case 2 may be exhausted to the outside by the suction force generated when the exhaust driving source T2 is operated.

상기 배기부(8)의 구조에 의하면, 상기 챔버케이스(2) 내부에 약액(W)을 이용하여 통상의 방법으로 기판(G)을 처리하는 작업을 진행할 때 상기 챔버(2) 내부를 간편하게 배기 처리할 수 있다.According to the structure of the exhaust section 8, the chamber 2 is simply evacuated inside the chamber 2 when the substrate G is processed in the usual manner using the chemical liquid W. Can be processed.

특히, 상기와 같이 챔버(C) 내부를 배기하면, 이 챔버(C)의 내부 압력을 일정하게 유지할 수 있으므로 상기 약액공급부(4)로 기판(G)을 향하여 약액(W)을 분사하거나 도포할 때 균일한 작업 품질을 얻을 수 있다.Particularly, when the interior of the chamber C is exhausted as described above, the internal pressure of the chamber C can be kept constant. When uniform work quality can be obtained.

한편, 본 발명의 일실시 예에 따른 기판처리장치는, 상기 배기부(8)의 작동시 상기 챔버케이스(2) 외부로 배기되는 기체(A) 중에 포함된 미스트(mist) 형태의 약액(W1, 이하 "미스트"라고 함.)을 걸러내기 위한 미스트 분리부(10)를 포함하여 이루어진다.On the other hand, the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, the chemical liquid (W1) in the form of mist (mist) contained in the gas (A) that is exhausted to the outside of the chamber case (2) during operation of the exhaust (8) , Hereinafter referred to as a "mist".

도 2 내지 도 4는 상기 미스트 분리부(10)의 세부 구조 및 작용을 설명하기 위한 도면들이다.2 to 4 are views for explaining the detailed structure and operation of the mist separation unit 10.

상기 미스트 분리부(10)는 상기 배기부(8)의 배기 구간 내에서 원심분리방식 즉, 나선(螺線) 모양의 싸이클론(cyclone) 기류(氣流)를 형성하는 상태로 기체(A)를 흘러보내면서 기체(A) 중에 포함된 미스트(W1)를 걸러낼 수 있도록 형성된다.The mist separation unit 10 is a gas (A) in a state that forms a centrifugal separation method, that is, a spiral cyclone air flow in the exhaust section of the exhaust section (8). While flowing, it is formed to filter the mist (W1) contained in the gas (A).

도 2를 참조하면, 상기 미스트 분리부(10)는, 일측에서 타측을 향하여 연장된 분리공간(S)을 구비한 분리통(D1)과, 이 분리통(D1) 일측과 연결되어 상기 분리공간(S) 내부로 기체(A)가 유입될 수 있는 통로를 제공하는 유입포트(D2)와, 상기 분리통(D1) 일측에서 상기 분리공간(S) 안쪽을 향하도록 연장되어 기체(A)가 외부로 배출될 수 있는 통로를 제공하는 배출포트(D3)와, 상기 분리공간(S) 일측과 연결되어 기체(A)로부터 분리된 미스트(W1)가 외부로 배출될 수 있는 통로를 제공하는 회수포트(D4)를 포함하여 이루어질 수 있다.Referring to FIG. 2, the mist separation unit 10 includes a separation cylinder D1 having a separation space S extending from one side to the other side, and the separation space D1 connected to one side of the separation cylinder D1. (S) Inlet port (D2) for providing a passage through which gas (A) can be introduced into the inside, and the gas (A) is extended from one side of the separation cylinder (D1) toward the inside of the separation space (S) A discharge port D3 for providing a passage that can be discharged to the outside, and the recovery to provide a passage for the mist (W1) separated from the gas (A) connected to one side of the separation space (S) can be discharged to the outside It may be made by including the port (D4).

상기 분리통(D1)은 외부와 차단된 상태의 분리공간(S)을 구비하고, 도 2에서와 같이 상기 배기부(8)의 배기관(T1) 일측을 연결하는 상태로 배치된다.The separation cylinder D1 has a separation space S in a state of being blocked from the outside, and is disposed in a state of connecting one side of the exhaust pipe T1 of the exhaust part 8 as shown in FIG. 2.

상기 분리통(D1)은 도 2를 기준으로 할 때 일측에서 타측을 향하여 원통 모양으로 연장 형성되며, 좌측에서 우측으로 진행할 때 외부둘레가 점차 좁아지면서 대략 원뿔(cone) 모양의 경사부(S1)를 갖도록 형성된다.The separating cylinder (D1) is formed in a cylindrical shape extending from one side toward the other side when the reference to Figure 2, the outer circumference gradually narrows when proceeding from left to right, the conical inclined portion (Se) (S1) It is formed to have.

상기한 분리공간(S)은 기체(A) 중에 포함된 미스트(W1)가 내부면에 달라붙으면서 기체(A)로부터 분리될 수 있도록 하는 공간을 제공한다.The separation space S provides a space that allows the mist W1 included in the gas A to be separated from the gas A while sticking to the inner surface.

상기 유입포트(D2)와 배출포트(D3)는, 기체(A)가 상기 분리통(D1) 내부로 유입된 후, 일측에서 타측을 향하여 나선(螺線) 모양의 싸이클론(cyclone) 기류(氣流)를 형성하는 상태로 흐르면서 배출될 수 있도록 형성된다.The inflow port (D2) and the discharge port (D3), after the gas (A) flows into the separation cylinder (D1), the spiral cyclone (cyclone) air flow flows from one side to the other side ( It is formed so that it can be discharged while flowing in a state of forming a flow.

즉, 상기 유입포트(D2)는 도 2를 기준으로 할 때 상기 분리통(D1)의 좌측 외부면 일측과 일단이 연결되어 상기 분리공간(S)과 연통되고, 타단은 상기 분리통(D1)을 사이에 두고 배치된 일측 배기관(T1, 챔버측)과 연결될 수 있다.That is, the inflow port (D2) is connected to one side and one side of the outer surface of the left side of the separation cylinder (D1) when communicating with the separation space (S1), the other end is the separation cylinder (D1) It may be connected to one side exhaust pipe (T1, chamber side) disposed between the.

그리고, 상기 배출포트(D3)는, 도 2를 기준으로 할 때 상기 분리통(D1)의 좌,우측 단부 중에서 상기 유입포트(D2)와 대응하는 단부(좌측)를 관통하여 상기 분리공간(S) 일측(좌측)에서 타측(우측)을 향하는 상태로 일단이 연장되어 상기 분리공간(S)과 연통되고, 타단은 상기 분리통(D1)을 사이에 두고 배치되는 배기관(T1, 배기용 구동원측)과 연결될 수 있다.In addition, the discharge port D3 passes through an end portion (left side) corresponding to the inflow port D2 among the left and right ends of the separation cylinder D1 based on FIG. 2. One end is extended from one side (left side) to the other side (right side) to communicate with the separation space (S), and the other end of the exhaust pipe (T1), the exhaust source source side is disposed with the separation cylinder (D1) interposed therebetween. ) Can be connected.

특히, 상기 유입포트(D2)는 도 3을 기준으로 할 때 상기 분리공간(S)의 중심부를 벗어난 지점과 연결되고, 상기 배출포트(D3)는 도 2를 기준으로 할 때 상기 분리공간(S) 중심부에 위치하도록 연장 형성하면 좋다.In particular, the inflow port (D2) is connected to a point outside the center of the separation space (S) when the reference to Figure 3, the discharge port (D3) when the reference to Figure 2 the separation space (S) ) May be formed so as to be located at the center.

그러면, 도 3 및 도 4에서와 같이 상기 분리통(D1) 내부로 유입된 기체(A)가 상기 분리공간(S) 일측에서 타측을 향하여 더욱 원활하게 나선(螺線) 모양의 싸이클론 기류를 형성하는 상태로 흐르도록 가이드할 수 있다.Then, as shown in FIGS. 3 and 4, the gas A introduced into the separation cylinder D1 smoothly spirals toward the other side from one side of the separation space S. It can guide to flow in the state to form.

그리고, 상기 분리통(D1)이 경사부(S1)를 갖도록 형성하면, 기체(A)가 상기 분리공간(S) 내부 일측에서 타측을 향하여 이동된 후 상기 배출포트(D3)로 원활하게 배출되도록 가이드할 수 있다.Then, when the separation cylinder (D1) is formed to have an inclined portion (S1), so that the gas (A) is moved toward the other side from one side inside the separation space (S) to be smoothly discharged to the discharge port (D3). You can guide.

다시, 도 2를 참조하면, 상기 회수포트(D4)는, 상기 분리통(D1)의 하부에서 상기 분리공간(S)과 연통되도록 형성된다.Again, referring to FIG. 2, the recovery port D4 is formed to communicate with the separation space S at a lower portion of the separation cylinder D1.

그리고, 상기 회수포트(D4)는 상기 약액회수부(6)의 약액회수탱크(R2)와 이음관(D5)으로 연결된 상태로 제공될 수 있다.In addition, the recovery port (D4) may be provided in a state connected to the chemical recovery tank (R2) and the joint pipe (D5) of the chemical recovery unit (6).

그러면, 상기 분리통(D1)의 분리공간(S) 바닥면에 고여있는 액체(미스트)가 상기 회수포트(D4)와 이음관(D5)을 통해 배출되면서 상기 약액회수탱크(R2) 내부에 담겨질 수 있다.Then, the liquid (mist) accumulated on the bottom surface of the separation space (S) of the separation container (D1) is discharged through the recovery port (D4) and the joint pipe (D5) to be contained in the chemical recovery tank (R2). Can be.

상기한 미스트 분리부(10)는, 상기 챔버케이스(2)의 챔버(C)를 상기 배기부(8)로 배기할 때 상기 분리통(D1) 내부에서 원심분리방식 즉, 나선 모양의 싸이클론 기류를 형성하는 상태로 기체(A)를 흘러보내면서 기체(A) 중에 포함된 미스트(W1)를 간편하게 걸려낼 수 있다.The mist separation unit 10 is a centrifugal method, that is, a spiral cyclone inside the separation cylinder D1 when the chamber C of the chamber case 2 is exhausted to the exhaust unit 8. Mist W1 contained in gas A can be easily caught, flowing gas A in the state which forms airflow.

예를 들어, 상기 배기부(8)의 배기용 구동원(T2)를 작동시키면, 챔버(C) 내부의 기체(A)가 상기 배기관(T1)의 연결 구간 내에서 상기 미스트 분리부(10)의 분리통(D1) 내부를 거치면서 배기가 이루어진다.For example, when the driving source T2 for exhaust of the exhaust unit 8 is operated, the gas A inside the chamber C may be connected to the mist separation unit 10 in the connection section of the exhaust pipe T1. Exhaust is made while passing through the inside of the separation container (D1).

즉, 상기 분리통(D1) 내부로 유입된 기체(A)는, 도 3에서와 같이 상기 분리공간(S)에서 상기 배출포트(D3)를 중심으로 돌면서 도 4에서와 같이 상기 분리공간(S) 일측에서 타측을 향하여 나선(螺線) 모양의 기류를 형성하는 상태로 이동하면서 상기 배출포트(D3)를 통해 배출된다.That is, the gas A introduced into the separation cylinder D1 is rotated around the discharge port D3 in the separation space S as shown in FIG. 3 and the separation space S as shown in FIG. 4. ) Is discharged through the discharge port (D3) while moving to form a spiral air flow from one side toward the other side.

이러한 나선 모양의 기류 흐름에 의하면, 상기 분리통(D1) 내부로 유입된 기체(A) 전체가 상기 분리공간(S)의 내부면은 물론이거니와 배출포트(D3)의 외부면과 반복적으로 접촉하면서 이동하는 상태가 될 수 있다.According to such a spiral air flow, the entire gas (A) introduced into the separation cylinder (D1) is repeatedly contacted with the outer surface of the discharge port (D3) as well as the inner surface of the separation space (S). It may be in a moving state.

이때, 기체(A) 중에 포함된 미스트(W1)는 점도(粘度)를 가지므로 상기와 같이 기체(A)가 이동할 때 상기 분리공간(S)의 내부면과 배출포트(D3)의 외부면 측에 달라붙게 된다.At this time, since the mist W1 contained in the gas A has a viscosity, when the gas A moves as described above, an inner surface side of the separation space S and an outer surface side of the discharge port D3 are provided. Clinging to

이와 같은 작용에 의하면, 기체(A)의 이동 중에 미스트(W1)를 간편하게 분리 제거할 수 있으므로 미스트(W1)가 분리 제거된 기체(A)만 상기 배출포트(D3) 측으로 배출되면서 배기가 이루어질 수 있다.According to this operation, since the mist (W1) can be easily separated and removed during the movement of the gas (A), only the gas (A) from which the mist (W1) is separated and discharged to the discharge port (D3) side can be exhausted. have.

그리고, 상기 분리공간(S)의 내부면과 배출포트(D3)의 외부면 측에 달라붙은 미스트(W1)는 상기 분리공간(S)의 바닥면 쪽으로 흘러내리면서 상기 회수포트(D4)를 통해 배출되어 재사용이 가능하도록 상기 약액회수탱크(R2) 측에 담겨질 수 있다.And, the mist (W1) stuck to the inner surface of the separation space (S) and the outer surface side of the discharge port (D3) flows toward the bottom surface of the separation space (S) through the recovery port (D4) It may be discharged to be contained in the chemical recovery tank (R2) to enable reuse.

따라서, 본 발명은 상기 배기부(8)로 챔버케이스(2) 내부를 배기할 때, 기체(A)의 이동 중에 미스트(W1)를 간편하게 걸러내서 기체(A)만 배기 되도록 하고, 미스트(W1)는 재활용이 가능하게 회수할 수 있다.Therefore, in the present invention, when exhausting the inside of the chamber case 2 to the exhaust part 8, the mist W1 is easily filtered out during the movement of the gas A so that only the gas A is exhausted. ) Can be recovered for recycling.

특히, 상기 분리통(D1) 내부에서 나선 모양의 싸이클론 기류를 형성하는 상태로 기체(A)를 흘러보내면서 기체(A) 중에 포함된 미스트(W1)를 걸러내는 방식은, 예를 들어 배기통로 일측을 직접 가로막는 상태로 통상의 필터를 설치하여 필터로 미스트를 걸러내는 배기구조가 갖는 단점들을 개선할 수 있다.In particular, the method of filtering the mist (W1) contained in the gas (A) while flowing the gas (A) in the form of a spiral cyclone air flow in the separating cylinder (D1), for example, an exhaust cylinder By installing a conventional filter in a state of directly blocking one side of the furnace, it is possible to improve the disadvantages of the exhaust structure that filters the mist by the filter.

즉, 배기통로 상에 설치된 필터에 의해 배기 압력(흡입력)이 낮아지거나, 필터의 잦은 유지보수에 따른 과다한 시간과 비용이 소요되는 것을 방지할 수 있다.That is, it is possible to prevent the exhaust pressure (suction input) from being lowered by the filter provided on the exhaust passage, or the excessive time and cost due to frequent maintenance of the filter.

또한, 필터 측에 미스트가 그대로 달라붙어서 미스트의 회수율이 현저하게 저하되는 현상도 방지할 수 있다.In addition, the phenomenon that the mist is stuck to the filter side as it is and the recovery rate of the mist is remarkably lowered can also be prevented.

2: 챔버케이스 4: 약액공급부 6: 약액회수부
8: 배기부 10: 미스트 분리부 G: 기판
A: 기체 W: 약액 W1: 미스트2: chamber case 4: chemical supply part 6: chemical recovery part
8: Exhaust 10: Mist Separation G: Substrate
A: gas W: chemical W1: mist

Claims (5)

기판을 수용할 수 있는 크기의 챔버를 구비한 챔버케이스;
상기 챔버케이스의 챔버 내부에 위치된 기판을 향하여 약액을 공급할 수 있도록 형성된 약액공급부;
상기 약액공급부에서 공급한 약액을 회수할 수 있도록 상기 챔버케이스와 연결된 회수관으로 구성된 약액회수부;
상기 챔버케이스의 챔버 내부를 흡입력으로 배기할 수 있도록 상기 챔버케이스와 연결된 배기관으로 구성되는 배기부;
상기 배기부의 배기관 일측에 연결되어 싸이클론 기류를 형성하는 상태로 기체를 흘러보내면서 기체 중에 포함된 미스트 형태의 약액을 걸러낼 수 있도록 형성된 미스트 분리부;
를 포함하는 기판처리장치.A chamber case having a chamber sized to accommodate a substrate;
A chemical solution supply unit configured to supply a chemical solution toward a substrate located inside the chamber of the chamber case;
A chemical liquid collection unit configured of a recovery pipe connected to the chamber case to recover the chemical liquid supplied from the chemical liquid supply unit;
An exhaust unit comprising an exhaust pipe connected to the chamber case to exhaust the inside of the chamber of the chamber case with suction force;
A mist separation unit connected to one side of an exhaust pipe of the exhaust unit so as to filter the chemical liquid in the form of mist contained in the gas while flowing the gas in a state of forming a cyclone air stream;
Substrate processing apparatus comprising a. 청구항 1에 있어서,
상기 미스트 분리부는,
일측에서 타측을 향하여 연장된 분리공간을 구비한 분리통;
상기 분리통과 연결되어 상기 분리공간 내부로 기체가 유입될 수 있는 통로를 제공하는 유입포트;
상기 유입포트를 통해 유입되는 기체가 상기 분리공간을 거쳐서 외부로 배출될 수 있는 통로를 제공할 수 있도록 상기 분리통과 연결되는 배출포트;
상기 분리통의 분리공간에서 기체의 이동 중에 기체로부터 분리된 미스트 형태의 약액이 상기 분리통 외부로 배출될 수 있는 통로를 제공할 수 있도록 형성된 회수포트;
를 포함하는 기판처리장치.The method according to claim 1,
The mist separation unit,
A separator having a separating space extending from one side to the other side;
An inlet port connected to the separator to provide a passage through which gas can be introduced into the separator space;
A discharge port connected to the separation tube to provide a passage through which the gas introduced through the inflow port can be discharged to the outside through the separation space;
A recovery port formed to provide a passage through which the mist-form chemical liquid separated from the gas during the movement of the gas in the separation space of the separation container can be discharged to the outside of the separation container;
Substrate processing apparatus comprising a. 청구항 2에 있어서,
상기 분리통은,
일측에서 타측을 향하여 연장될 때 외부둘레가 점차 좁아지는 상태의 경사부를 갖도록 형성되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method according to claim 2,
The separator is,
Substrate processing apparatus, characterized in that it is formed to have an inclined portion of the outer circumference gradually narrows when extending from one side toward the other side. 청구항 2에 있어서,
상기 유입포트는,
상기 분리통의 일측 단부와 대응하는 외부면 상에서 상기 분리공간의 중심부를 벗어난 지점과 연결되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method according to claim 2,
The inlet port,
Substrate processing apparatus, characterized in that connected to the point out of the center of the separation space on the outer surface corresponding to one end of the separation cylinder. 청구항 2에 있어서,
상기 배출포트는,
상기 분리통의 일측 단부 및 타측 단부 중에서 상기 유입포트와 대응하는 단부를 관통하여 상기 분리공간의 중심부를 따라 타측을 향하여 연장 형성되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method according to claim 2,
The discharge port,
Substrate processing apparatus, characterized in that extending through the end corresponding to the inlet port from one side end and the other end of the separation tube toward the other side along the center of the separation space.
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