KR20110116540A - Cyclic olefin-based resin film and method of producting the same - Google Patents

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KR20110116540A
KR20110116540A KR1020100036007A KR20100036007A KR20110116540A KR 20110116540 A KR20110116540 A KR 20110116540A KR 1020100036007 A KR1020100036007 A KR 1020100036007A KR 20100036007 A KR20100036007 A KR 20100036007A KR 20110116540 A KR20110116540 A KR 20110116540A
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Abstract

본 발명은 환형 올레핀계 수지 필름 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 구체적으로는 가교도를 적정수준 이상으로 향상시켜 필름의 열팽창계수를 현저하게 개선시키는 장점이 있다. The present invention relates to a cyclic olefin resin film and a method for manufacturing the same, and specifically has an advantage of significantly improving the coefficient of thermal expansion of the film by improving the degree of crosslinking to an appropriate level or more.

Description

환형 올레핀계 수지 필름 및 이의 제조방법{CYCLIC OLEFIN-BASED RESIN FILM AND METHOD OF PRODUCTING THE SAME}Cyclic olefin resin film and its manufacturing method {CYCLIC OLEFIN-BASED RESIN FILM AND METHOD OF PRODUCTING THE SAME}

본 발명은 환형 올레핀계 수지 필름 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a cyclic olefin resin film and a method for producing the same.

환형 올레핀계 중합체는 주쇄 골격에 부피가 큰 치환 구조를 갖기 때문에 비정질성이며 우수한 투명성 내열성을 나타내면서 낮은 광탄성 계수와 저흡습성, 내산, 알칼리성 및 높은 전기 절연성을 가지고 있어서 디스플레이 용도, 광학 렌즈, 광 디스크, 광섬유, 투명 도전성 필름 기판 용도 등에 응용될 수 있는 재료로서 알려져 있다. Since the cyclic olefin polymer has a bulky substitution structure in the main chain skeleton, it is amorphous and has excellent transparency and heat resistance, and has a low photoelastic coefficient, low hygroscopicity, acid resistance, alkali resistance and high electrical insulation, so that it can be used for display applications, optical lenses, optical disks, It is known as a material which can be applied to optical fibers, transparent conductive film substrate applications and the like.

종래의 환형 올레핀계 중합체로 형성된 필름은 기본적으로 유연성이 적어 부러지거나, 단단함(toughness)이 떨어져 부서지기 쉽다. 또한, 열적으로도 불안정하여 열팽창 계수(CTE, Coefficient of Thermal Expansion)에서도 플라스틱 기판, 매트릭스, 광학 이방성 필름 등으로 사용하기에는 문제점이 많았다. Films formed of conventional cyclic olefin polymers are basically inflexible and therefore easily broken or broken off due to their toughness. In addition, thermally unstable, there was a lot of problems to use as a plastic substrate, a matrix, an optically anisotropic film, even in the coefficient of thermal expansion (CTE).

국내 공개특허번호 제2008-73168호에서는 환형 올레핀계 중합체를 포함하는 용액에 산 또는 염기 가교제를 첨가한 후 필름을 제막하는 기술이 개시되어 있으나, 이러한 방법으로 제막한 필름의 경우 투명도가 떨어지고 헤이즈가 발생하여 광학 필름 및 플렉시블 기판용으로 사용하기 부적절할 뿐만 아니라, 제막된 필름은 충분한 가교가 되지 않아 물성 특성을 개선시키기에 어려움이 있다. Korean Patent Publication No. 2008-73168 discloses a technique for forming a film after adding an acid or a base crosslinking agent to a solution containing a cyclic olefin-based polymer, but in the case of a film formed by such a method, transparency and haze In addition to being unsuitable for use for optical films and flexible substrates, the film formed has difficulty in improving physical properties due to insufficient crosslinking.

본 발명은 가교도를 향상시키고 열팽창계수를 포함한 물성을 현저히 개선시키는 환형 올레핀계 수지 필름 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다.The present invention provides a cyclic olefin resin film and a method for producing the same which improve the degree of crosslinking and significantly improve the physical properties including the coefficient of thermal expansion.

본 발명의 일 구현예는 하기 식 1으로 계산되는 가교도의 값이 2 이하인 환형 올레핀계 수지 필름인 것이다. One embodiment of the present invention is a cyclic olefin resin film having a value of 2 or less crosslinking degree calculated by the following formula (1).

<식 1><Equation 1>

Figure pat00001
Figure pat00001

(상기 식 1에서 770cm-1 영역은 실록산 반응 그룹에 의한 흡광도 값을 나타내며, 850cm-1 영역은 카보실릴 반응 그룹에 의한 흡광도 값을 나타내는 것이다.)(In Formula 1, the 770cm -1 region represents the absorbance value by the siloxane reaction group, and the 850cm -1 region represents the absorbance value by the carbosilyl reaction group.)

본 발명의 다른 일 구현예는 상기 환형 올레핀계 수지 필름은 선팽창율이 70ppm/℃ 이하인 환형 올레핀계 수지 필름이다. According to another embodiment of the present invention, the cyclic olefin resin film is a cyclic olefin resin film having a linear expansion ratio of 70 ppm / ° C. or less.

본 발명의 다른 일 구현예는 노보넨계 중합체를 용매에 녹여 고분자 용액을 제조하는 단계(S1); 상기 고분자 용액을 기판 상에 코팅한 후 건조하여 필름을 제조하는 단계(S2); 및 상기 필름을 산처리하는 단계(S3)를 포함하는 환형 올레핀계 수지 필름의 제조방법이다. Another embodiment of the present invention to dissolve a norbornene-based polymer in a solvent to prepare a polymer solution (S1); Coating the polymer solution on a substrate and then drying to prepare a film (S2); And it is a method for producing a cyclic olefin resin film comprising the step (S3) of the film acid treatment.

본 발명의 다른 일 구현예는 상기 S2 단계에서 건조공정은 15 내지 50℃에서 1 내지 24시간 동안 1차 건조한 후 100 내지 300℃에서 5분 내지 1시간 동안 2차 건조하는 환형 올레핀계 수지 필름의 제조방법이다. Another embodiment of the present invention is the drying step in the step S2 of the cyclic olefin resin film of the first drying for 1 to 24 hours at 15 to 50 ℃ and then secondary drying for 5 minutes to 1 hour at 100 to 300 ℃ It is a manufacturing method.

본 발명의 다른 일 구현예는 상기 1차 건조공정을 실시한 후 제조된 필름을 산처리하는 단계(S2-1)를 포함하는 환형 올레핀계 수지 필름의 제조방법이다. Another embodiment of the present invention is a method for producing a cyclic olefin resin film comprising the step (S2-1) of acid-processing the film produced after the first drying process.

본 발명의 다른 일 구현예는 상기 산처리공정은 1 내지 50w/w%인 산을 사용하여 처리하는 환형 올레핀계 수지 필름의 제조방법이다. According to another embodiment of the present invention, the acid treatment step is a method for producing a cyclic olefin resin film treated with an acid of 1 to 50 w / w%.

본 발명의 다른 일 구현예는 상기 산처리공정은 10 내지 50℃에서 1분 내지 1 시간 동안 실시하는 환형 올레핀계 수지 필름의 제조방법이다. According to another embodiment of the present invention, the acid treatment process is a method for producing a cyclic olefin resin film which is performed at 10 to 50 ° C. for 1 minute to 1 hour.

본 발명의 다른 일 구현예는 상기 산처리공정에서 사용되는 산은 염산, 질산, 황산, 아인산 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 무기산, 카르복실산, 술폰산, 술핀산, 인산 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 유기산을 단독 또는 혼합하여 사용되는 환형 올레핀계 수지 필름의 제조방법이다. According to another embodiment of the present invention, the acid used in the acid treatment is any one selected from the group consisting of hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, phosphorous acid, and combinations thereof, carboxylic acid, sulfonic acid, sulfinic acid, phosphoric acid, and the like. It is a manufacturing method of the cyclic olefin resin film used individually or in mixture of any organic acid selected from the group which consists of a combination.

본 발명의 다른 일 구현예는 상기 S1 단계에서 용매는 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄 및 테트라하이드로퓨란 중에서 선택되는 어느 하나 이상을 사용하는 환형 올레핀계 수지 필름의 제조방법이다. Another embodiment of the present invention is a method of producing a cyclic olefin resin film using any one or more of the solvent in the step S1 selected from toluene, xylene, dichloromethane and tetrahydrofuran.

본 발명의 다른 일 구현예는 상기 노보넨계 중합체는 하기 화학식 1로 표시되는 환형 올레핀계 수지 필름의 제조방법이다. Another embodiment of the present invention is a norbornene-based polymer is a method for producing a cyclic olefin resin film represented by the formula (1).

<화학식 1><Formula 1>

Figure pat00002
Figure pat00002

(상기 식에서, R1 내지 R8은 각각 독립적으로 수소, 산소, 질소, 규소 또는 황을 포함하는 연결기를 가지는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 탄화수소기, 극성기, 단일결합 또는 2가의 연결기를 가지는 방향족기, 실란기, 할로겐 원자 중에서 선택되며, Wherein R 1 to R 8 each independently represent a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a polar group, a single bond or a divalent linking group having a linking group including hydrogen, oxygen, nitrogen, silicon or sulfur. Group, silane group, halogen atom,

R1 내지 R4 중에서 적어도 하나는 실란기를 포함하고,At least one of R1 to R4 includes a silane group,

k와 i는 0 내지 3의 정수이고,k and i are integers from 0 to 3,

n은 0 내지 1 미만의 값을 가지고, m+n은 1인 것이다.)n has a value of 0 to less than 1, and m + n is 1).

본 발명의 다른 일 구현예는 상기 화학식 1에서 m:n의 몰비는 1 내지 100 : 0 내지 99인 환형 올레핀계 수지 필름의 제조방법이다. Another embodiment of the present invention is a method for producing a cyclic olefin resin film having a molar ratio of m: n in the general formula (1) is 1 to 100: 0 to 99.

본 발명의 다른 일 구현예는 상기 노보넨계 중합체는 중량평균분자량이 10,000 내지 1,000,000인 환형 올레핀계 수지 필름의 제조방법이다. Another embodiment of the present invention is a norbornene-based polymer is a method for producing a cyclic olefin resin film having a weight average molecular weight of 10,000 to 1,000,000.

본 발명의 다른 일 구현예는 상기 제조방법으로 제조된 환형 올레핀계 수지 필름이다. Another embodiment of the present invention is a cyclic olefin resin film prepared by the above production method.

본 발명의 다른 일 구현예는 상기 환형 올레핀계 수지 필름은 하기 식 1으로 계산되는 가교도의 값이 2 이하인 환형 올레핀계 수지 필름이다.According to another embodiment of the present invention, the cyclic olefin resin film is a cyclic olefin resin film having a value of 2 or less in the degree of crosslinking calculated by the following Equation 1.

<식 1><Equation 1>

Figure pat00003
Figure pat00003

(상기 식 1에서 770cm-1 영역은 실록산 반응 그룹에 의한 흡광도 값을 나타내며, 850cm-1 영역은 카보실릴 반응 그룹에 의한 흡광도 값을 나타내는 것이다.)(In Formula 1, the 770cm -1 region represents the absorbance value by the siloxane reaction group, and the 850cm -1 region represents the absorbance value by the carbosilyl reaction group.)

본 발명의 다른 일 구현예는 상기 환형 올레핀계 수지 필름은 선팽창율이 70ppm/℃ 이하인 환형 올레핀계 수지 필름이다. According to another embodiment of the present invention, the cyclic olefin resin film is a cyclic olefin resin film having a linear expansion ratio of 70 ppm / ° C. or less.

본 발명에 따른 환형 올레핀계 수지 필름 및 이의 제조방법은 가교도를 적정수준 이상으로 향상시켜 필름의 열팽창계수를 현저하게 개선시키는 장점이 있다.The cyclic olefin resin film and the manufacturing method thereof according to the present invention has an advantage of significantly improving the thermal expansion coefficient of the film by improving the degree of crosslinking to an appropriate level or more.

도 1은 실시예 1에 따라 제조된 필름의 FT-적외선 분광광도계(FT-IR spectrophotometer)로 측정한 결과를 나타낸 그래프이다.
도 2는 실시예 2에 따라 제조된 필름의 FT-적외선 분광광도계로 측정한 결과를 나타낸 그래프이다.
도 3은 실시예 6에 따라 제조된 필름의 FT-적외선 분광광도계로 측정한 결과를 나타낸 그래프이다.
도 4는 비교예 1에 따라 제조된 필름의 FT-적외선 분광광도계로 측정한 결과를 나타낸 그래프이다.
도 5는 비교예 4에 따라 제조된 필름의 FT-적외선 분광광도계로 측정한 결과를 나타낸 그래프이다.
1 is a graph showing the results measured by an FT-IR spectrophotometer of the film prepared according to Example 1.
Figure 2 is a graph showing the results measured by the FT-IR spectrophotometer of the film prepared according to Example 2.
Figure 3 is a graph showing the results measured by the FT-IR spectrophotometer of the film prepared according to Example 6.
Figure 4 is a graph showing the results measured by the FT-IR spectrophotometer of the film prepared according to Comparative Example 1.
5 is a graph showing the results measured by an FT-IR spectrophotometer of the film prepared according to Comparative Example 4.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 하기 식 1으로 계산되는 가교도의 값이 2 이하인 환형 올레핀계 수지 필름을 제공하는 것이다.
According to one embodiment of the present invention, it is to provide a cyclic olefin resin film having a value of 2 or less crosslinking degree calculated by the following formula (1).

<식 1><Equation 1>

Figure pat00004
Figure pat00004

(상기 식 1에서 770cm-1 영역은 실록산 반응 그룹에 의한 흡광도 값을 나타내며, 850cm-1 영역은 카보실릴 반응 그룹에 의한 흡광도 값을 나타내는 것이다.)
(In Formula 1, the 770cm -1 region represents the absorbance value by the siloxane reaction group, and the 850cm -1 region represents the absorbance value by the carbosilyl reaction group.)

본 발명에 따른 가교도는 상기 식 1에 의해 계산되는 값으로 정의할 수 있으며, 그 값이 2 이하, 바람직하게는 1 이하가 좋고, 상기 가교도가 낮으면 낮을수록 좋아 하한값은 무의미하다. 상기 가교도가 상기 범위 내에 있는 경우 필름의 열팽창계수가 작아지는 효과를 얻을 수 있다. The degree of crosslinking according to the present invention can be defined as a value calculated by Equation 1, and the value is 2 or less, preferably 1 or less, and the lower the degree of crosslinking, the lower the lower limit value is meaningless. When the degree of crosslinking is within the above range, the thermal expansion coefficient of the film may be reduced.

이를 구체적으로 설명하면, 환형 올레핀계 수지 필름은 고분자를 이용하여 제조되는 것인데, 환형 올레핀계 수지 필름의 물성을 향상시키는 중요한 요인으로는 환형 올레핀계 수지 필름의 고분자 사슬 간에 충분히 가교반응 시키는 것이 중요하다. Specifically, the cyclic olefin resin film is manufactured using a polymer, but an important factor for improving physical properties of the cyclic olefin resin film is that it is important to sufficiently crosslink the reaction between the polymer chains of the cyclic olefin resin film. .

상기 식 1으로 정의되는 가교도는 제조된 환형 올레핀계 수지 필름을 FT-적외선 분광광도계(FT-IR spectrophotometer)를 이용하여 770㎝-1 영역 및 850㎝-1 영역의 흡광도(Absorbance) 값을 측정하여 얻은 실험치를 상기 식 1에 대입하여 얻을 수 있으며, 상기 가교도로부터 가교반응의 정도를 알 수 있는 것이다. The degree of crosslinking is defined by the formula 1 are prepared by using a cyclic olefin resin-based film FT- infrared spectrophotometer (FT-IR spectrophotometer) by measuring the absorbance (Absorbance) value of 770㎝ -1 region and a region 850㎝ -1 The obtained experimental value can be obtained by substituting Equation 1 above, and the degree of crosslinking reaction can be known from the crosslinking degree.

특히, 770㎝-1 영역 및 850㎝-1 영역의 흡광도(Absorbance) 값을 측정하는 것이 중요한데, 770cm-1 영역은 올레핀계 수지 필름에 적용한 실록산 반응 그룹에 의한 흡광도 값을 나타내며 850cm-1 영역은 카보실릴 반응 그룹에 의한 흡광도 값을 나타내는 값으로서, 가교반응이 진행되면서 실록산 반응 그룹의 함량이 줄어들어 흡광도 값이 줄어드는 반면 카보실릴 반응 그룹의 함량은 변하지 않아 흡광도 값이 그대로이기 때문에 상대적인 가교 반응 진척 정도를 확인할 수 있기 때문이다. In particular, 770㎝ -1 areas and it is important to measure the value of absorbance (Absorbance) Area of 850㎝ -1, 770cm -1 region represents the absorbance obtained from the siloxane reactive groups is applied to the olefin-based resin film area is 850cm -1 Absorption value by the carbosilyl reaction group is a value that indicates the absorbance value decreases as the content of the siloxane reaction group decreases as the crosslinking reaction progresses, while the absorbance value remains the same as the content of the carbosilyl reaction group does not change. Because you can check.

상기 가교도의 값이 2 이하인 경우 환형 올레핀계 수지 필름의 고분자 사슬 간의 가교반응이 충분히 진행되어 고분자의 실록산 반응 그룹간 가교가 진행되어 열적인 충격을 가하더라도 필름의 유동성을 현저하게 줄일 수 있기 때문에 열팽창계수를 포함한 물성을 현저하게 향상시킬 수 있다. When the value of the degree of crosslinking is 2 or less, the crosslinking reaction between the polymer chains of the cyclic olefin resin film proceeds sufficiently, so that the crosslinking between the siloxane reaction groups of the polymer proceeds, and thus the fluidity of the film can be remarkably reduced even if a thermal shock is applied. Physical properties including coefficients can be significantly improved.

상기 환형 올레핀계 수지 필름은 선팽창율이 70ppm/℃ 이하, 바람직하게는 10 내지 50 ppm/℃인 것이 좋다. The cyclic olefin resin film has a linear expansion coefficient of 70 ppm / 占 폚 or less, preferably 10 to 50 ppm / 占 폚.

상기 선팽창율이 상기 범위 내에 있는 경우 열 충격을 가하더라도 필름의 늘어남이 없어 각종 내열 소재에 적용할 수 있는 장점이 있다. When the linear expansion rate is within the above range, there is no stretching of the film even when a thermal shock is applied, and there is an advantage that it can be applied to various heat-resistant materials.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 노보넨계 중합체를 용매에 녹여 고분자 용액을 제조하는 단계(S1), 상기 고분자 용액을 기판 상에 코팅한 후 건조하여 필름을 제조하는 단계(S2) 및 상기 필름을 산처리하는 단계(S3)를 포함하는 환형 올레핀계 수지 필름의 제조방법을 제공하는 것이다. According to an embodiment of the present invention, dissolving a norbornene-based polymer in a solvent to prepare a polymer solution (S1), coating the polymer solution on a substrate and drying to prepare a film (S2) and the film It is to provide a method for producing a cyclic olefin resin film comprising an acid treatment step (S3).

먼저, 노보넨계 중합체를 용매에 녹여 고분자 용액을 제조한다(S1). First, a norbornene-based polymer is dissolved in a solvent to prepare a polymer solution (S1).

상기 노보넨계 중합체는 하기 화학식 1로 표시되는 것이다.
The norbornene-based polymer is represented by the following formula (1).

<화학식 1><Formula 1>

Figure pat00005

Figure pat00005

상기 화학식 1에서, R1 내지 R8은 각각 독립적으로 수소, 산소, 질소, 규소 또는 황을 포함하는 연결기를 가지는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 탄화수소기, 극성기, 단일결합 또는 2가의 연결기를 가지는 방향족기, 실란기, 할로겐 원자 중에서 선택되며, R1 내지 R4 중에서 적어도 하나는 실란기를 포함하고, k와 i는 0 내지 3의 정수이고, n은 0 내지 1 미만의 값을 가지고, m+n은 1인 것이다. In Formula 1, R1 to R8 each independently have a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a polar group, a single bond or a divalent linking group having a linking group including hydrogen, oxygen, nitrogen, silicon or sulfur. Selected from an aromatic group, a silane group and a halogen atom, at least one of R1 to R4 includes a silane group, k and i are integers of 0 to 3, n has a value of 0 to less than 1, and m + n is It is one.

상기 m:n의 몰비는 1 내지 100 : 0 내지 99인 것이 바람직하다. 상기 m:n의 몰비가 상기 범위 내에 있는 경우 몰비를 변경하면서 적정한 가교도를 선정할 수 있기 때문에 원하는 물성을 선택적으로 적용할 수 있는 장점이 있다. The molar ratio of m: n is preferably 1 to 100: 0 to 99. When the molar ratio of m: n is within the above range, an appropriate crosslinking degree can be selected while changing the molar ratio, and thus there is an advantage that the desired physical properties can be selectively applied.

상기 수소, 산소, 질소, 규소 또는 황을 포함하는 연결기로는 카르보닐기, 옥시카르보닐기, 슬폰기, 에테르 결합, 티오에테르 결합, 이미노기, 아미드 결합, 실록산 결합 등을 들 수 있고, 이들의 복수를 포함하는 연결기일 수도 있다. Examples of the linking group containing hydrogen, oxygen, nitrogen, silicon, or sulfur include a carbonyl group, an oxycarbonyl group, a sulfone group, an ether bond, a thioether bond, an imino group, an amide bond, a siloxane bond, and the like. It may be a connector.

상기 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 탄화수소기는 메틸기, 에틸기, 프로필기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 알킬기; 시클로펜틸기, 시클로헥실기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 시클로알칸기; 비닐기, 아릴기, 프로페닐기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 알케닐기 중에서 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것이 바람직하다. The substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms includes any one alkyl group selected from the group consisting of methyl group, ethyl group, propyl group, and combinations thereof; Any one cycloalkane group selected from the group consisting of a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a combination thereof; It is preferable to include any one or more selected from any one alkenyl group selected from the group consisting of vinyl group, aryl group, propenyl group and combinations thereof.

상기 치환 또는 비치환된 탄화수소기는 직접 환 구조에 결합되거나, 연결기를 통해 결합되는 것이 바람직하다. The substituted or unsubstituted hydrocarbon group is preferably bonded directly to the ring structure, or is bonded through a linking group.

상기 극성기는 수산기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 카르보닐옥시기, 알콜시카르보닐기, 시아노기, 아미드기, 이미드기, 아미노기, 아실기, 술포닐기 및 카르복실기 등을 들 수 있다. 더욱 구체적으로는 상기 알콕시기로는 메톡시기, 에톡시기 등을 들 수 있고, 카르보닐옥시기로는 아세톡시기, 프로피오닐옥시기 등의 알킬카르보닐옥시기, 에톡시카르보닐기 등을 들 수 있고 아미노기로는 제1급 아미노기를 들 수 있다. Examples of the polar group include a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a carbonyloxy group, an alcohol cicarbonyl group, a cyano group, an amide group, an imide group, an amino group, an acyl group, a sulfonyl group, and a carboxyl group. More specifically, the alkoxy group includes a methoxy group, an ethoxy group, and the like, and the carbonyloxy group includes an alkylcarbonyloxy group such as an acetoxy group and propionyloxy group, an ethoxycarbonyl group, and the like. The primary amino group is mentioned.

상기 단일결합 또는 2가의 연결기를 가지는 방향족기에서 2가의 연결기로는 알킬렌기 특히 탄소수 1 내지 10, 바람직하게는 1 내지 5이며 예를 들어 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 아릴렌기, 옥시알킬렌기, 옥시아릴렌기, 옥시 카르보닐기, 이미노카르보닐기, 카르보닐기, 아세틸렌기, 우레일렌기, 황이나 산소 등 헤테로 원자, 아미노기 등을 들 수 있다. 또한 이들의 연결기를 2개 이상 조합하여도 된다. In the aromatic group having a single bond or a divalent linking group, the divalent linking group is an alkylene group, particularly 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 5 carbon atoms, for example, methylene group, ethylene group, trimethylene group, arylene group, oxyalkyl A hetero group, such as a ethylene group, an oxy arylene group, an oxy carbonyl group, an iminocarbonyl group, a carbonyl group, an acetylene group, a ureylene group, sulfur, oxygen, an amino group, etc. are mentioned. Moreover, you may combine 2 or more of these coupling groups.

이러한 연결기를 통하여 방향족기를 포함하여야 하는데 상기 방향족기는 방향족 화합물의 1 수소 이탈체를 포함한다. Through such a linking group, an aromatic group should be included, which includes one hydrogen leaving body of the aromatic compound.

상기 1 수소 이탈체로 구체적인 예로는 벤젠, 펜타렌, 나프탈렌, 아줄렌, 헵타렌, 비페닐렌, 인다센, 아세나프탈렌, 페난트렌, 안트라센, 플루오란센, 아세페난트릴렌, 프리페닐렌, 피렌, 크리센, 나프타센, 플라이아덴, 피센, 페릴렌, 펜파펜, 펜타센, 테트라페닐렌, 헥사펜, 펜사센, 루비센, 코로넨, 트리나프틸렌, 헵타펜, 헵타센, 피라센, 오바렌 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 단고리 화합물, 티오펜, 티안트렌, 푸란, 피란, 이소벤조푸란, 크로멘, 크산텐, 페노크사티인, 피롤, 이미다졸, 피라졸, 이소티아졸, 이소옥사졸, 피리딘, 피라딘, 피리미딘, 피리디진, 인돌리딘, 이소인돌, 인돌, 인다졸, 푸린, 퀴놀리딘, 이소퀴논, 퀴놀린, 프탈라진, 나프틸리딘, 키노키살린, 시노린, 프테리딘, 카르바졸, 베타카르보린, 페난틸리딘, 아크리딘, 페리미딘, 페난트롤린, 페나딘, 페나르사진, 페노티아딘, 프라잔, 페노키사진 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 헤테로고리 화합물 및 이들의 치환기를 가지는 것이 바람직하다. Specific examples of the 1 hydrogen leaving body include benzene, pentarene, naphthalene, azulene, heptarene, biphenylene, indacene, acenaphthalene, phenanthrene, anthracene, fluoranthene, acefenanthrene, prephenylene, pyrene , Chrysene, naphthacene, flyaden, pisene, perylene, penpafen, pentacene, tetraphenylene, hexaphene, pensasene, rubisen, coronene, trinaphthylene, heptaphene, heptacene, pyracene, Any one monocyclic compound selected from the group consisting of ovaren and combinations thereof, thiophene, thianthrene, furan, pyran, isobenzofuran, chromen, xanthene, phenoxathiine, pyrrole, imidazole, pyrazole, Isothiazole, Isoxazole, Pyridine, Pyridine, Pyrimidine, Pyridinine, Indolidine, Isoindole, Indole, Indazole, Purine, Quinolidine, Isoquinone, Quinoline, Phthazazine, Naphthyridine, Keno Chisarin, cynoline, pteridine, carbazole, betacarboline, phenanthilidine, acri It is preferred to have any one heterocyclic compound selected from the group consisting of dine, perimidine, phenanthroline, phenadine, phenarzin, phenothiadine, prazan, phenocyazine, and combinations thereof and substituents thereof. .

상기 실란기는 트리메톡시실릴기, 트릴에톡시실릴기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 알콕시실릴기 또는 트리메틸실릭시기, 트리에틸실리고시기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 트리오르가노실록시기인 것이 바람직하다. The silane group is any one selected from the group consisting of any one alkoxysilyl group or trimethylsilyl group, triethylsiligo group and combinations thereof selected from the group consisting of trimethoxysilyl group, triethoxysilyl group and combinations thereof. It is preferable that it is a triorgano siloxy group.

상기 할로겐 원자로는 불소, 염소, 브롬 등을 들 수 있다. Fluorine, chlorine, bromine, etc. are mentioned as said halogen atom.

상기 노보넨계 중합체는 중량평균분자량이 10,000 내지 1,000,000인 것이 필름을 제막하기 적절한 점에서 바람직하다. 상기 수치보다 낮을 경우 필름 형성이 되지않고 부러지는 성질을 가지며, 상기 수치보다 높을 경우 점도가 높아져서 제어하기 힘들어지는 단점이 있다.The norbornene-based polymer is preferably a weight average molecular weight of 10,000 to 1,000,000 in terms of suitable for forming a film. When the value is lower than the numerical value, the film is not formed without breaking, and when the value is higher than the numerical value, there is a disadvantage in that the viscosity becomes difficult to control.

상기 용매는 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄 및 테트라하이드로퓨란 중에서 선택되는 어느 하나 이상을 사용하는 것이 바람직하다. The solvent is preferably used at least one selected from toluene, xylene, dichloromethane and tetrahydrofuran.

상기 고분자 용액은 필요에 따라 각종 첨가제를 배합하여도 상관없다. The said polymer solution may mix | blend various additives as needed.

상기 첨가제로는 충전재, 산화방지제, 형광체, 자외선흡수제, 대전방지제, 광안정제, 근적외선 흡수제, 염료나 안료 등의 착색제, 윤활제, 가소제, 난연제, 가교제 등을 들 수 있다. 충전재로는 규소, 타이타늄, 알루미늄, 지르코늄 등의 금속 산화물 등을 들 수 있다.Examples of the additive include fillers, antioxidants, phosphors, ultraviolet light absorbers, antistatic agents, light stabilizers, near infrared absorbers, colorants such as dyes and pigments, lubricants, plasticizers, flame retardants, and crosslinking agents. Examples of the filler include metal oxides such as silicon, titanium, aluminum, and zirconium.

이어서, 상기 고분자 용액을 기판 상에 코팅한 후 건조하여 필름을 제조한다(S2). Subsequently, the polymer solution is coated on a substrate and then dried to prepare a film (S2).

상기 코팅공정은 통상적으로 본 발명이 속한 분야에서 널리 알려진 코팅공정, 예를 들어 바 코팅(bar coating), 스핀코팅, 그라비아코팅 등으로 채택할 수 있다. The coating process may be generally adopted as a coating process well known in the art to which the present invention pertains, for example, bar coating, spin coating, and gravure coating.

상기 건조공정은 필름 표면의 조도(roughness)를 우수하게 하기 위해 15 내지 50℃에서 1 내지 24시간 동안 1차 건조한 후 100 내지 300℃에서 5분 내지 1시간 동안 2차 건조하는 것이 바람직하다. The drying process is preferably first drying at 15 to 50 ℃ for 1 to 24 hours and then second drying at 100 to 300 ℃ for 5 minutes to 1 hour in order to improve the roughness of the film surface.

이때, 상기 1차 건조공정을 마친 후 제조된 필름을 산처리할 수 있다 (S2-1). At this time, the film may be subjected to acid treatment after the first drying process (S2-1).

상기 산처리공정은 상기 제조된 필름을 산에 침지하여 실시할 수도 있고, 필름에 산을 스프레이하는 방법으로 실시할 수도 있다. The acid treatment step may be carried out by immersing the produced film in acid, or may be carried out by spraying acid on the film.

상기 산처리공정은 1 내지 50w/w%인 산을 사용하여 처리하는 것이 충분한 가교도를 얻기 위한 점에서 바람직하다. 이때 산의 농도를 제어하기 위하여 산을 증류수에 희석시켜 사용하는 것으로 상기 산의 함량은 전체 무게중 산 성분의 무게를 나타내며 산 이외는 물을 의미한다.The acid treatment step is preferable in terms of obtaining a sufficient degree of crosslinking by treatment with an acid of 1 to 50 w / w%. In this case, the acid is diluted with distilled water in order to control the concentration of the acid, and the content of the acid indicates the weight of the acid component in the total weight, except for the acid, which means water.

상기 산으로는 염산, 질산, 황산, 아인산 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 무기산, 카르복실산, 술폰산, 술핀산, 인산 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 유기산을 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다. The acid may be any one organic acid selected from the group consisting of any one inorganic acid, carboxylic acid, sulfonic acid, sulfinic acid, phosphoric acid, and combinations thereof selected from the group consisting of hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, phosphorous acid, and combinations thereof. Or it can mix and use.

상기 산처리공정은 10 내지 50℃에서 1분 내지 1시간 동안 실시하는 것이 공정성을 확보하고 충분한 가교도를 얻기 위한 점에서 바람직하다. The acid treatment step is preferably performed at 10 to 50 ° C. for 1 minute to 1 hour in order to ensure processability and obtain sufficient crosslinking degree.

이때, 상기 산처리공정 후 세척공정을 더 실시할 수 있다. 상기 세척공정은 10 내지 50℃에서 1 내지 10분 동안 증류수를 사용하여 침지 또는 스프레이 방식으로 실시하여 산을 충분히 세척할 수 있다. At this time, the washing step after the acid treatment step may be further performed. The washing process may be performed by dipping or spraying using distilled water at 10 to 50 ° C. for 1 to 10 minutes to sufficiently wash the acid.

이어서, 상기 2차 건조공정 후 제조된 필름을 산처리하는 단계를 실시한다(S3). Subsequently, an acid treatment of the film produced after the secondary drying process is performed (S3).

상기 산처리공정은 상술한 바와 동일하게 실시할 수 있다. The acid treatment step can be carried out in the same manner as described above.

본 발명에 따른 산처리공정은 1차 건조 후 실시할 수 있으며, 1차 건조 후 산처리한 다음 2차 건조 후 다시 산처리할 수도 있으며, 1차 및 2차 건조 후 산처리할 수도 있다. Acid treatment process according to the present invention can be carried out after the first drying, acid treatment after the first drying, and then acid treatment again after the second drying, may be acid treatment after the first and second drying.

또한, 본 발명에 따른 산처리공정은 기판 위에 부착된 상태, 기판에서 이형한 상태 또는 일부가 기판에 부착된 상태로 실시할 수 있다. In addition, the acid treatment process according to the present invention can be carried out in a state attached on the substrate, a state released from the substrate or a part attached to the substrate.

본 발명에서는 환형 올레핀계 수지 필름을 건조공정을 거친 후 산처리하여 가교도를 높여 열적 특성이 우수한 효과를 얻을 수 있는 것이다. In the present invention, the cyclic olefin resin film is subjected to an acid treatment after drying to increase the degree of crosslinking, thereby obtaining an effect of excellent thermal properties.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상술한 제조방법에 따라 제조된 환형 올레핀계 수지 필름을 제공하는 것이다. According to one embodiment of the present invention, to provide a cyclic olefin resin film prepared according to the above-described manufacturing method.

상기 환형 올레핀계 수지 필름은 하기 식 1으로 계산되는 가교도의 값이 2 이하, 바람직하게는 1 이하인 것이 바람직하다. The value of the crosslinking degree computed by following formula 1 of the said cyclic olefin resin film is 2 or less, Preferably it is preferable that it is 1 or less.

<식 1><Equation 1>

Figure pat00006
Figure pat00006

(상기 식 1에서 770cm-1 영역은 실록산 반응 그룹에 의한 흡광도 값을 나타내며, 850cm-1 영역은 카보실릴 반응 그룹에 의한 흡광도 값을 나타내는 것이다.)
(In Formula 1, the 770cm -1 region represents the absorbance value by the siloxane reaction group, and the 850cm -1 region represents the absorbance value by the carbosilyl reaction group.)

상기 가교도 2 이하인 값을 가지는 환형 올레핀계 수지 필름은 상술한 바와 동일한 내용을 포함한다. The cyclic olefin resin film having a value having a crosslinking degree of 2 or less includes the same content as described above.

상기 환형 올레핀계 수지 필름은 선팽창율이 70ppm/℃ 이하, 바람직하게는 10 내지 50인 것이 바람직하다. The cyclic olefin resin film has a linear expansion coefficient of 70 ppm / ° C or lower, preferably 10 to 50.

상기 선팽창율이 70ppm/℃ 이하인 값을 가지는 환형 올레핀계 수지 필름은 상술한 바와 동일한 내용을 포함한다.
The cyclic olefin resin film having a value of the linear expansion coefficient of 70 ppm / ° C. or less includes the same contents as described above.

이하 본 발명의 바람직한 실시예 및 비교예를 설명한다.  그러나 하기한 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일뿐 본 발명이 하기한 실시예에 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, preferred embodiments and comparative examples of the present invention will be described. However, the following embodiments are merely preferred embodiments of the present invention, and the present invention is not limited to the following embodiments.

합성예Synthetic example 1:  One: 알릴아세테이트Allyl acetate 노보넨(AA-NB)의Of norbornene (AA-NB) 제조 Produce

4L 고압 반응기에 DCPD(dicyclopentadiene, 알드리치, 800㎖, 5.97㏖), 알릴아세테이트(알드리치, 2,247㎖, 11.93㏖)을 넣은 후 온도를 220℃까지 올렸다. 500rpm으로 교반하면서 2시간 반응시킨 후, 냉각수를 흘려보내서 상온으로 반응물을 식히고 진공 증류장치로 옮겼다. 진공 펌프를 이용하여 1torr로 감압하면서 증류하여 60℃에서 알릴아세테이트 노보넨 생성물을 얻었다(수율 44%).
DCPD (dicyclopentadiene, Aldrich, 800 ml, 5.97 mol) and allyl acetate (Aldrich, 2,247 ml, 11.93 mol) were put into a 4L high pressure reactor, and the temperature was raised to 220 degreeC. After reacting for 2 hours with stirring at 500 rpm, the reaction mixture was cooled to room temperature by cooling the cooling water and transferred to a vacuum distillation apparatus. Distillation under reduced pressure to 1 torr using a vacuum pump to obtain the allyl acetate norbornene product at 60 ℃ (yield 44%).

합성예Synthetic example 2:  2: 트리에톡시실릴Triethoxysilyl 노보넨(TES-NB)의Of norbornene (TES-NB) 제조 Produce

4L 고압 반응기에 DCPD(dicyclopentadiene, 알드리치, 352㎖, 3.63㏖), 바이닐트리에톡시실란 (알드리치, 1,098㎖, 5.25㏖)을 넣은 후 온도를 220℃까지 올렸다. 500rpm으로 교반하면서 2시간 반응시킨 후, 냉각수를 흘려보내서 상온으로 반응물을 식히고 진공 증류장치로 옮겼다. 진공 펌프를 이용하여 1torr로 감압하면서 증류하여 65℃에서 트리에톡시실릴 노보넨 생성물을 얻었다(수율 35%).
DCPD (dicyclopentadiene, Aldrich, 352 mL, 3.63 mol) and vinyltriethoxysilane (Aldrich, 1,098 mL, 5.25 mol) were put into a 4L high pressure reactor, and the temperature was raised to 220 degreeC. After reacting for 2 hours with stirring at 500 rpm, the reaction mixture was cooled to room temperature by cooling the cooling water and transferred to a vacuum distillation apparatus. Distillation under reduced pressure to 1 torr using a vacuum pump to give the triethoxysilyl norbornene product at 65 ℃ (yield 35%).

합성예Synthetic example 3:  3: 트리메톡시실릴Trimethoxysilyl 프로필  profile 메타크릴레이트Methacrylate 노보넨(TMSPMA-NB)의Of norbornene (TMSPMA-NB) 제조 Produce

4L 고압 반응기에 DCPD(dicyclopentadiene, 알드리치, 462㎖, 3.45㏖), 트리메톡시실릴 프로필 메타크릴레이트 (아크로스, 1,802㎖, 7.58㏖)을 넣은 후 온도를 200℃까지 올렸다. 500rpm으로 교반하면서 2시간 반응시킨 후, 냉각수를 흘려보내서 상온으로 반응물을 식히고 진공 증류장치로 옮겼다. 진공 펌프를 이용하여 1torr로 감압하면서 증류하여 95℃에서 트리메톡시실릴 프로필 메타크릴레이트 노보넨 생성물을 얻었다(수율 25%).
DCPD (dicyclopentadiene, Aldrich, 462 ml, 3.45 mol) and trimethoxysilyl propyl methacrylate (across, 1,802 ml, 7.58 mol) were put into a 4 L high pressure reactor, and the temperature was raised to 200 degreeC. After reacting for 2 hours with stirring at 500 rpm, the reaction mixture was cooled to room temperature by cooling the cooling water and transferred to a vacuum distillation apparatus. Distillation under reduced pressure to 1 torr using a vacuum pump to give trimethoxysilyl propyl methacrylate norbornene product at 95 ℃ (25% yield).

제조예Manufacturing example 1:  One: 알릴아세테이트Allyl acetate 노보넨Norborneen /Of 트리에톡시실릴Triethoxysilyl 노보넨Norborneen 부가 공중합체( Addition copolymer ( P1P1 ) 제조) Produce

1,000㎖ 쉬렌크(Schlenk) 플라스크에 모노머로 상기 합성예 1의 알릴아세테이트 노보넨(allyl acetate norbornene) 15.3g(0.0597㏖)과 상기 합성예 2의 트리에톡시실릴 노보넨(Triethoxysilyl norbornene) 39.7g(0.239㏖)과 정제된 톨루엔(toluene)을 용매로 161㎖ 같이 투입하였다. 이 플라스크에 CH2Cl2 5㎖에 녹인 촉매로 팔라듐(Ⅱ) 아세테이트(palladium (Ⅱ) acetate) 13.40㎎과 조촉매로 트리사이클로헥실포스핀(tricyclohexyl phosphine) 16.73㎎과 조촉매로 디메틸아닐리늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트(Dimethylanilinium tetrakis(pentafluorophenyl) borate) 95.62㎎을 투입하고 2시간 동안 100℃에서 교반하면서 공중합하였다.15.3 g (0.0597 mol) of allyl acetate norbornene of Synthesis Example 1 and 39.7 g of Triethoxysilyl norbornene of Synthesis Example 2 as monomers in a 1,000 ml Schlenk flask 0.239 mol) and purified toluene were added together with 161 mL as a solvent. The flask was dissolved in 5 ml of CH 2 Cl 2 with 13.40 mg of palladium (II) acetate and 16.73 mg of tricyclohexyl phosphine as cocatalyst and dimethylanilinium tetra as cocatalyst. 95.62 mg of dimethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate was added thereto and then copolymerized with stirring at 100 ° C. for 2 hours.

반응 2시간 후에 반응을 종료하고 반응물을 상온으로 식힌 후 고분자 용액이 균일한 상태가 되도록 톨루엔을 투입한 후 과량의 아세톤과 메탄올을 투입하여 흰색의 공중합체 파우더를 얻었다. 이 파우더를 거름종이와 유리 깔대기로 걸러서 70℃로 유지한 진공 오븐에 24시간 동안 건조하여 알릴아세테이트 노보넨과 트리에톡시실릴 노보넨의 공중합체 51.7g을 얻었다.(수율 투입한 모노머 총량 기준 94wt%). 이 공중합체의 수평균분자량(Mn)은 84,000, 중량평균분자량(Mw)은 345,000이었다.
After 2 hours, the reaction was terminated and the reactant was cooled to room temperature. Toluene was added to make the polymer solution uniform. Then, excess acetone and methanol were added to obtain a white copolymer powder. The powder was filtered through a filter paper and a glass funnel and dried in a vacuum oven maintained at 70 ° C. for 24 hours to obtain 51.7 g of a copolymer of allyl acetate norbornene and triethoxysilyl norbornene. %). The number average molecular weight (Mn) of this copolymer was 84,000, and the weight average molecular weight (Mw) was 345,000.

제조예Manufacturing example 2:  2: 알릴아세테이트Allyl acetate 노보넨Norborneen /Of 트리에톡시실릴Triethoxysilyl 노보넨Norborneen 부가 공중합체( Addition copolymer ( P2P2 ) 제조) Produce

1,000㎖ 쉬렌크(Schlenk) 플라스크에 모노머로 상기 합성예 1의 알릴아세테이트 노보넨(allyl acetate norbornene) 21.9g(0.132㏖)과 상기 합성예 2의 트리에톡시실릴 노보넨(Triethoxysilyl norbornene) 33.8g(0.132㏖)과 정제된 톨루엔(toluene)을 용매로 164㎖ 같이 투입하였다. 이 플라스크에 CH2Cl2 5㎖에 녹인 촉매로 팔라듐(Ⅱ) 아세테이트(palladium (Ⅱ) acetate) 11.84㎎과 조촉매로 트리사이클로헥실포스핀(tricyclohexyl phosphine) 14.79㎎과 조촉매로 디메틸아닐리늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트(Dimethylanilinium tetrakis(pentafluorophenyl) borate) 84.52㎎을 투입하고 2시간 동안 100℃에서 교반하면서 공중합하였다.21.9 g (0.132 mol) of allyl acetate norbornene of Synthesis Example 1 and 33.8 g of Triethoxysilyl norbornene of Synthesis Example 2 as monomers in a 1,000 ml Schlenk flask ( 0.132 mol) and purified toluene were added together with 164 mL as a solvent. The flask was dissolved in 5 ml of CH 2 Cl 2 with 11.84 mg of palladium (II) acetate and 14.79 mg of tricyclohexyl phosphine as a promoter and dimethylanilinium tetra as a cocatalyst. 84.52mg of dimethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate was added thereto, followed by copolymerization with stirring at 100 ° C for 2 hours.

반응 2시간 후에 반응을 종료하고 반응물을 상온으로 식힌 후 고분자 용액이 균일한 상태가 되도록 톨루엔을 투입한 후 과량의 아세톤과 메탄올을 투입하여 흰색의 공중합체 파우더를 얻었다. 이 파우더를 거름종이와 유리 깔대기로 걸러서 70℃로 유지한 진공 오븐에 24시간 동안 건조하여 알릴아세테이트 노보넨과 트리에톡시실릴 노보넨의 공중합체 49.7g을 얻었다.(수율 투입한 모노머 총량 기준 89wt%). 이 공중합체의 수평균분자량(Mn)은 60,000, 중량평균분자량(Mw)은 328,000이었다.
After 2 hours, the reaction was terminated and the reactant was cooled to room temperature. Toluene was added to make the polymer solution uniform. Then, excess acetone and methanol were added to obtain a white copolymer powder. The powder was filtered through a filter paper and a glass funnel and dried in a vacuum oven maintained at 70 ° C. for 24 hours to obtain 49.7 g of a copolymer of allyl acetate norbornene and triethoxysilyl norbornene. %). The number average molecular weight (Mn) of this copolymer was 60,000, and the weight average molecular weight (Mw) was 328,000.

제조예Manufacturing example 3:  3: 트리에톡시실릴Triethoxysilyl 노보넨Norborneen 중합체( polymer( P3P3 ) 제조) Produce

1,000㎖ 쉬렌크(Schlenk) 플라스크에 모노머로 상기 합성예 2의 트리에톡시실릴 노보넨(Triethoxysilyl norbornene) 51g(0.199㏖)과 정제된 톨루엔(toluene)을 용매로 200㎖ 같이 투입하였다. 이 플라스크에 CH2Cl2 5㎖에 녹인 촉매로 팔라듐(Ⅱ) 아세테이트(palladium (Ⅱ) acetate) 44.65㎎과 조촉매로 트리사이클로헥실포스핀(tricyclohexyl phosphine) 55.78㎎과 조촉매로 디메틸아닐리늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트(Dimethylanilinium tetrakis(pentafluorophenyl) borate) 318.7㎎을 투입하고 2시간 동안 100℃에서 교반하면서 중합하였다.Into a 1,000 ml Schlenk flask, 51 g (0.199 mol) of triethoxysilyl norbornene of Synthesis Example 2 as a monomer and purified toluene were added together as a solvent to 200 ml. The flask was dissolved in 5 ml of CH 2 Cl 2 with 44.65 mg of palladium (II) acetate and 55.78 mg of tricyclohexyl phosphine as cocatalyst and dimethylanilinium tetra as cocatalyst. 318.7 mg of dimethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate were added thereto and then polymerized with stirring at 100 ° C. for 2 hours.

반응 2시간 후에 반응을 종료하고 반응물을 상온으로 식힌 후 고분자 용액이 균일한 상태가 되도록 톨루엔을 투입한 후 과량의 아세톤과 메탄올을 투입하여 흰색의 공중합체 파우더를 얻었다. 이 파우더를 거름종이와 유리 깔대기로 걸러서 70℃로 유지한 진공 오븐에 24시간 동안 건조하여 트리에톡시실릴 노보넨의 중합체 32.4g을 얻었다.(수율 투입한 모노머 총량 기준 64wt%). 이 공중합체의 수평균분자량(Mn)은 265,000, 중량평균분자량(Mw)은 456,000이었다
After 2 hours, the reaction was terminated and the reactant was cooled to room temperature. Toluene was added to make the polymer solution uniform. Then, excess acetone and methanol were added to obtain a white copolymer powder. The powder was filtered through a filter paper and a glass funnel and dried in a vacuum oven maintained at 70 ° C. for 24 hours to obtain 32.4 g of a polymer of triethoxysilyl norbornene (64 wt% based on the total amount of monomer added). The number average molecular weight (Mn) of this copolymer was 265,000, and the weight average molecular weight (Mw) was 456,000.

제조예Manufacturing example 4:  4: 알릴아세테이트Allyl acetate 노보넨Norborneen /Of 트리메톡시실릴Trimethoxysilyl 프로필  profile 메타크릴레이트Methacrylate 노보넨Norborneen 부가 공중합체( Addition copolymer ( P4P4 ) 제조) Produce

1,000㎖ 쉬렌크(Schlenk) 플라스크에 모노머로 상기 합성예 1의 알릴아세테이트 노보넨(allyl acetate norbornene) 33.24g(0.20㏖)과 상기 합성예 3의 트리메톡시실릴 프로필 메타크릴레이트 노보넨(Trimethoxysilyl propyl methacrylate norbornene) 15.6g(0.05㏖)과 정제된 톨루엔(toluene)을 용매로 142㎖ 같이 투입하였다. 이 플라스크에 CH2Cl2 5㎖에 녹인 촉매로 팔라듐(Ⅱ) 아세테이트(palladium (Ⅱ) acetate) 11.23㎎과 조촉매로 트리사이클로헥실포스핀(tricyclohexyl phosphine) 14.02㎎과 조촉매로 디메틸아닐리늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트(Dimethylanilinium tetrakis(pentafluorophenyl) borate) 80.12㎎을 투입하고 2시간 동안 100℃에서 교반하면서 공중합하였다.33.24 g (0.20 mol) of allyl acetate norbornene of Synthesis Example 1 and trimethoxysilyl propyl methacrylate norbornene (Trimethoxysilyl propyl) of Synthesis Example 3 as monomers in a 1000 ml Schlenk flask 15.6 g (0.05 mol) of methacrylate norbornene and purified toluene were added together with 142 ml as a solvent. The flask was dissolved in 5 ml of CH 2 Cl 2 with 11.23 mg of palladium (II) acetate and 14.02 mg of tricyclohexyl phosphine as cocatalyst and dimethylanilinium tetra as cocatalyst. 80.12 mg of dimethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate was added thereto and copolymerized with stirring at 100 ° C. for 2 hours.

반응 2시간 후에 반응을 종료하고 반응물을 상온으로 식힌 후 고분자 용액이 균일한 상태가 되도록 톨루엔을 투입한 후 과량의 아세톤과 메탄올을 투입하여 흰색의 공중합체 파우더를 얻었다. 이 파우더를 거름종이와 유리 깔대기로 걸러서 70℃로 유지한 진공 오븐에 24시간 동안 건조하여 알릴아세테이트 노보넨과 트리메톡시실릴 프로필 메타크릴레이트 노보넨의 공중합체 45.3g을 얻었다.(수율 투입한 모노머 총량 기준 93wt%). 이 공중합체의 수평균분자량(Mn)은 74,000, 중량평균분자량(Mw)은 370,000이었다.
After 2 hours, the reaction was terminated and the reactant was cooled to room temperature. Toluene was added to make the polymer solution uniform. Then, excess acetone and methanol were added to obtain a white copolymer powder. The powder was filtered through a filter paper and a glass funnel and dried in a vacuum oven maintained at 70 ° C. for 24 hours to obtain 45.3 g of a copolymer of allyl acetate norbornene and trimethoxysilyl propyl methacrylate norbornene. 93 wt% based on total monomer). The number average molecular weight (Mn) of this copolymer was 74,000, and the weight average molecular weight (Mw) was 370,000.

제조예Manufacturing example 5: 5- 5: 5- 아릴아세테이트Aryl acetate -2--2- 노보넨Norborneen (( AAAA -- NBNB ) 단량체로만 중합된 중합체(Polymers polymerized only with monomers P5P5 ) 제조) Produce

모노머로 상기 합성예 1의 아릴아세테이트 노보넨 51g(0.199mol)을 사용하고 반응 시간을 6시간을 실시한 것을 제외하고는 제조예 3과 동일한 방법으로 제조하였다. 이때 아릴아세테이트 노보넨 중합체 44.9g (수율 88%)을 얻었다. 이 공중합체의 수평균분자량(Mn)은 223,000, 중량평균분자량(Mw)은 340,000이었다.
The monomer was prepared in the same manner as in Preparation Example 3, except that 51 g (0.199 mol) of aryl acetate norbornene of Synthesis Example 1 was used and the reaction time was performed for 6 hours. At this time, 44.9 g (yield 88%) of aryl acetate norbornene polymers were obtained. The number average molecular weight (Mn) of this copolymer was 223,000, and the weight average molecular weight (Mw) was 340,000.

실시예Example 1 One

5-아릴아세테이트-2-노보넨(AA-NB) 단량체와 5-트리에톡시실릴-2-노보넨(TES-NB) 단량체가 몰비로 8:2로 공중합된 중합체(P1)를 이용하여 디클로로메탄에 10중량%로 고분자 용액을 제조하고, 이것을 평탄한 유리 기판 위에 뿌린후 1200㎛ 간격을 두고 평탄한 칼날으로 밀어내었다. 상온에서 6시간 동안 용매를 증발 시키고(1차 건조) 유리 기판에서 필름을 이형시켰다. 이형된 필름을 필름의 양면이 노출된 텐터에 끼워 37w/w% 염산용액에 10분 동안 침지하여 꺼낸 후, 250℃에서 1시간 진공 건조(2차 건조)하여 투명한 필름을 얻었다.
Dichloro using polymer (P1) in which the 5-arylacetate-2-norbornene (AA-NB) monomer and the 5-triethoxysilyl-2-norbornene (TES-NB) monomer were copolymerized at a molar ratio of 8: 2. A polymer solution was prepared at 10% by weight in methane, sprinkled on a flat glass substrate, and then pushed out with a flat blade at intervals of 1200 μm. The solvent was evaporated at room temperature for 6 hours (primary drying) and the film was released from the glass substrate. The release film was inserted into a tenter where both sides of the film were exposed, soaked in 37 w / w% hydrochloric acid solution for 10 minutes, and then vacuum dried (secondary drying) at 250 ° C. for 1 hour to obtain a transparent film.

실시예Example 2 2

5-아릴아세테이트-2-노보넨(AA-NB) 단량체와 5-트리에톡시실릴-2-노보넨(TES-NB) 단량체가 몰비로 5:5로 공중합된 중합체(P2)를 이용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 투명한 필름을 얻었다.
Except that 5-arylacetate-2-norbornene (AA-NB) monomers and 5-triethoxysilyl-2-norbornene (TES-NB) monomers were polymerized in a 5: 5 molar ratio (P2). Then, a transparent film was obtained in the same manner as in Example 1.

실시예Example 3 3

5-트리에톡시실릴-2-노보넨(TES-NB) 단량체로만 중합된 중합체(P3)를 이용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 투명한 필름을 얻었다.
A transparent film was obtained in the same manner as in Example 1 except for using the polymer (P3) polymerized with only 5-triethoxysilyl-2-norbornene (TES-NB) monomer.

실시예Example 4 4

5-트리에톡시실릴-2-노보넨(TES-NB) 단량체 대신에 5-트리메톡시실릴프로필메타크릴레이트-2-노보넨(TMSPMA-NB) 단량체를 이용하여 중합된 중합체(P4)를 이용한 것을 제외하고는 실시예 1와 동일한 방법으로 투명한 필름을 얻었다.
Polymer (P4) polymerized using 5-trimethoxysilylpropylmethacrylate-2-norbornene (TMSPMA-NB) monomer instead of 5-triethoxysilyl-2-norbornene (TES-NB) monomer A transparent film was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was used.

실시예Example 5 5

5-아릴아세테이트-2-노보넨(AA-NB) 단량체와 5-트리에톡시실릴-2-노보넨(TES-NB) 단량체가 몰비로 5:5로 공중합된 중합체(P2)를 이용하여 디클로로메탄에 10중량%로 고분자 용액을 제조하고, 여기에 5중량%에 해당하는 규소 산화물(Degussa사 Aerosil S200제품)을 첨가하여 분산한 고분자 용액을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 투명한 필름을 얻었다.
Dichloro by using a polymer (P2) in which the 5-arylacetate-2-norbornene (AA-NB) monomer and the 5-triethoxysilyl-2-norbornene (TES-NB) monomer were copolymerized at a molar ratio of 5: 5. A polymer solution was prepared in 10% by weight in methane, and the polymer solution was transparent in the same manner as in Example 1, except that 5% by weight of silicon oxide (Degussa Aerosil S200 product) was added and dispersed. A film was obtained.

실시예Example 6 6

5-아릴아세테이트-2-노보넨(AA-NB) 단량체와 5-트리에톡시실릴-2-노보넨(TES-NB) 단량체가 몰비로 5:5로 공중합된 중합체(P2)를 이용하여 디클로로메탄에 10중량%로 고분자 용액을 제조하고, 여기에 5중량%에 해당하는 가교제(3-아미노프로필트리에톡시실란, Aldrich사 제품)을 첨가하여 분산한 고분자 용액을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 투명한 필름을 얻었다.
Dichloro by using a polymer (P2) in which the 5-arylacetate-2-norbornene (AA-NB) monomer and the 5-triethoxysilyl-2-norbornene (TES-NB) monomer were copolymerized at a molar ratio of 5: 5. Except for using a polymer solution prepared by dispersing a polymer solution at 10% by weight in methane and adding 5% by weight of a crosslinking agent (3-aminopropyltriethoxysilane, manufactured by Aldrich). A transparent film was obtained in the same manner as in 1.

비교예Comparative example 1 One

산처리를 하지 않은 것을 제외하고는 실시예 2와 동일한 방법으로 필름을 얻었다.
A film was obtained in the same manner as in Example 2 except that the acid treatment was not performed.

비교예Comparative example 2 2

5-아릴아세테이트-2-노보넨(AA-NB) 단량체와 5-트리에톡시실릴-2-노보넨(TES-NB) 단량체가 몰비로 5:5로 공중합된 중합체(P2)를 이용하여 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트(PGMEA)에 10중량%로 용액을 제조하고, 여기에 염산 5중량%가 녹아있는 PGMEA 용액을 천천히 떨어뜨리고, 10분 동안 쉐이킹을 가한 용액을 사용한 것을 제외하고는 비교예 1과 동일한 방법으로 필름을 얻었다.
Propylene using a polymer (P2) in which a 5-arylacetate-2-norbornene (AA-NB) monomer and a 5-triethoxysilyl-2-norbornene (TES-NB) monomer were copolymerized in a 5: 5 molar ratio. A solution was prepared in 10% by weight of glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), and a solution of PGMEA in which 5% by weight of hydrochloric acid was dissolved was slowly dropped, followed by shaking for 10 minutes. The film was obtained in the same manner as.

비교예Comparative example 3 3

산처리시 37w/w% 염산 대신에 10w/w% 염산을 사용한 것을 제외하고는 실시예 2와 동일한 방법으로 필름을 얻었다.
A film was obtained in the same manner as in Example 2, except that 10w / w% hydrochloric acid was used instead of 37w / w% hydrochloric acid during acid treatment.

비교예Comparative example 4 4

5-아릴아세테이트-2-노보넨(AA-NB) 단량체로만 중합된 중합체(P5)를 이용한 것을 제외하고는 실시예 2와 동일한 방법으로 투명한 필름을 얻었다.
A transparent film was obtained in the same manner as in Example 2 except for using the polymer (P5) polymerized with only 5-aryl acetate-2-norbornene (AA-NB) monomer.

특성 평가Property evaluation

실시예 1 내지 6 및 비교예 1 내지 4에 따라 제조된 필름을 하기의 측정방법으로 물성을 측정하여 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
The physical properties of the films prepared according to Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4 were measured by the following measuring methods, and the results are shown in Table 1 below.

1) 열팽창계수1) coefficient of thermal expansion

TMA(Perkin Elmer사 제품, Diamond TMA 모델)를 이용하여 필름을 가로 20㎜, 세로 4㎜로 절단하여 프로브에 장착하고 100mN의 하중을 가한 상태에서 승온 속도 10℃/min로 30℃에서 300℃까지 1차 승온 후 30℃로 냉각하고, 승온 속도 10℃/min로 30℃에서 300℃까지 2차 승온시켜, 2차 승온시의 40℃에서 250℃ 사이의 열팽창계수를 ppm/℃ 단위로 계산한다.
Using TMA (Perkin Elmer Co., Diamond TMA model), cut the film into 20mm length and 4mm length, mount it on the probe, and apply the temperature of 100mN from 30 ℃ to 300 ℃ at a heating rate of 10 ℃ / min. After the 1st temperature increase, it cools to 30 degreeC, and heats up 2nd degree from 30 degreeC to 300 degreeC at the temperature increase rate of 10 degreeC / min, and calculates the thermal expansion coefficient between 40 degreeC and 250 degreeC at the time of a secondary temperature rising in ppm / degreeC unit. .

2) 투과도 및 헤이즈2) Transmittance and Haze

헤이즈측정기 (Nippon Denshoku사 제품, NDH2000모델)을 이용하여 Method 3으로 D65 광원으로 필름의 투과도 및 헤이즈를 측정한다. 이때 파장은 550nm가 기준이다.
Using a haze meter (Nippon Denshoku, NDH2000 model), the transmittance and the haze of the film were measured using a D65 light source using Method 3. The wavelength is based on 550nm.

3) IR3) IR

FT-적외선 분광광도계(FT-IR spectrophotometer; Thermo Nicolet사 Avatar360 FT-IR제품)를 이용하여 반사모드(Smart Miracle 악세사리 장착)로 500~4000cm-1 영역의 Absorbance 값을 측정한다.
Absorbance value of 500 ~ 4000cm -1 region is measured by reflection mode (with Smart Miracle accessory) using FT-IR spectrophotometer (Avatar360 FT-IR from Thermo Nicolet).

두께(㎛)Thickness (㎛) 투과도(%)Permeability (%) 헤이즈(%)Haze (%) 가교도Degree of crosslinking 열팽창계수(ppm/℃)Thermal expansion coefficient (ppm / ℃) 실시예 1Example 1 100±5100 ± 5 9292 <1<1 <1<1 4646 실시예 2Example 2 100±5100 ± 5 9292 <1<1 <1<1 4141 실시예 3Example 3 100±5100 ± 5 9292 <1<1 <1<1 3535 실시예 4Example 4 100±5100 ± 5 9292 <1<1 <1<1 4040 실시예 5Example 5 120±5120 ± 5 9292 <1<1 <1<1 3232 실시예 6Example 6 110±5110 ± 5 9292 <1<1 <1<1 3636 비교예 1Comparative Example 1 100±5100 ± 5 9090 2020 9.49.4 142142 비교예 2Comparative Example 2 80±580 ± 5 8787 3030 8.28.2 135135 비교예 3Comparative Example 3 100±5100 ± 5 9090 1515 7.87.8 131131 비교예 4Comparative Example 4 100±5100 ± 5 9292 <1<1 --- 110110

실란기가 포함된 노르보르넨계 중합체를 이용하여 산처리를 통하여 중합체간의 가교반응을 진행하였으며, IR을 이용하여 반응정도를 확인하여 가교도를 확인하였다. The norbornene-based polymer containing a silane group was used to perform a crosslinking reaction between the polymers through acid treatment, and the degree of crosslinking was confirmed by using IR.

상기 표 1에서 보는 바와 같이 비교예 1 내지 3은 가교도 및 열팽창계수가 실시예 1 내지 6에 비하여 현저하게 높게 나타났으며, 비교예 4는 중합체가 실란기를 가지고 있지 않아 770cm-1 영역에서의 흡광도 값을 얻을 수 없어 가교도를 알 수 없었다. 따라서 비교예 1 내지 4는 가교가 되지 않았거나 가교도가 미흡할 경우 필름의 열팽창계수의 개선이 미미하나, 실시예 1 내지 6은 가교가 적정수준 이상인 경우 열팽창계수가 현저하게 개선되어 플라스틱 기판이나 내열성이 필요한 필름에 적용할 수 있었다. 이러한 필름은 열적 성질이 매우 우수하고, 광학적으로 투명하다. As shown in Table 1, Comparative Examples 1 to 3 showed a significantly higher crosslinking degree and thermal expansion coefficient than those of Examples 1 to 6, and Comparative Example 4 did not have a silane group in the 770cm- 1 region. Absorbance value could not be obtained and crosslinking degree was unknown. Therefore, in Comparative Examples 1 to 4, the thermal expansion coefficient of the film is insignificant when the crosslinking is not performed or the degree of crosslinking is insufficient. However, Examples 1 to 6 significantly improve the thermal expansion coefficient when the crosslinking is above an appropriate level, and thus the plastic substrate or heat resistance It could apply to the required film. Such films have very good thermal properties and are optically clear.

이로부터 본 발명에 따른 환형 올레핀계 수지 필름은 광학 필름, 플렉시블 기판, 일반 기판 등 여러 가지 전기적 용도에 사용할 수 있음을 알 수 있다.
From this, it can be seen that the cyclic olefin resin film according to the present invention can be used for various electrical applications such as an optical film, a flexible substrate, and a general substrate.

본 발명의 단순한 변형 또는 변경은 모두 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다. All simple modifications or changes of the present invention can be easily carried out by those skilled in the art, and all such modifications or changes can be seen to be included in the scope of the present invention.

Claims (15)

하기 식 1으로 계산되는 가교도의 값이 2 이하인 환형 올레핀계 수지 필름.
<식 1>
Figure pat00007

(상기 식 1에서 770cm-1 영역은 실록산 반응 그룹에 의한 흡광도 값을 나타내며, 850cm-1 영역은 카보실릴 반응 그룹에 의한 흡광도 값을 나타내는 것이다.)
The cyclic olefin resin film whose value of the crosslinking degree computed by following formula 1 is 2 or less.
<Equation 1>
Figure pat00007

(In Formula 1, the 770cm -1 region represents the absorbance value by the siloxane reaction group, and the 850cm -1 region represents the absorbance value by the carbosilyl reaction group.)
제1항에 있어서, 상기 환형 올레핀계 수지 필름은 선팽창율이 70ppm/℃ 이하인 환형 올레핀계 수지 필름. The cyclic olefin resin film of claim 1, wherein the cyclic olefin resin film has a linear expansion coefficient of 70 ppm / ° C or less. 노보넨계 중합체를 용매에 녹여 고분자 용액을 제조하는 단계(S1);
상기 고분자 용액을 기판 상에 코팅한 후 건조하여 필름을 제조하는 단계(S2); 및
상기 필름을 산처리하는 단계(S3)를 포함하는 환형 올레핀계 수지 필름의 제조방법.
Dissolving norbornene-based polymer in a solvent to prepare a polymer solution (S1);
Coating the polymer solution on a substrate and then drying to prepare a film (S2); And
A method of producing a cyclic olefin resin film comprising the step of acid treating the film (S3).
제3항에 있어서, 상기 S2 단계에서 건조공정은 15 내지 50℃에서 1 내지 24시간 동안 1차 건조한 후 100 내지 300℃에서 5분 내지 1시간 동안 2차 건조하는 환형 올레핀계 수지 필름의 제조방법.The method of claim 3, wherein the drying step in the step S2 is first dried at 15 to 50 ° C. for 1 to 24 hours, and then secondly dried at 100 to 300 ° C. for 5 minutes to 1 hour. . 제4항에 있어서, 상기 1차 건조공정을 실시한 후 제조된 필름을 산처리하는 단계(S2-1)를 포함하는 환형 올레핀계 수지 필름의 제조방법.The method of manufacturing a cyclic olefin resin film according to claim 4, further comprising an acid treatment (S2-1) of the produced film after performing the first drying process. 제3항 또는 제5항에 있어서, 상기 산처리공정은 1 내지 50w/w%인 산을 사용하여 처리하는 환형 올레핀계 수지 필름의 제조방법.The method for producing a cyclic olefin resin film according to claim 3 or 5, wherein the acid treatment step is performed using an acid of 1 to 50 w / w%. 제3항 또는 제5항에 있어서, 상기 산처리공정은 10 내지 50℃에서 1분 내지 1시간 동안 실시하는 환형 올레핀계 수지 필름의 제조방법. The method for producing a cyclic olefin resin film according to claim 3 or 5, wherein the acid treatment step is performed at 10 to 50 ° C for 1 minute to 1 hour. 제3항 또는 제5항에 있어서, 상기 산처리공정에서 사용되는 산은 염산, 질산, 황산, 아인산 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 무기산, 카르복실산, 술폰산, 술핀산, 인산 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 유기산을 단독 또는 혼합하여 사용되는 환형 올레핀계 수지 필름의 제조방법.According to claim 3 or 5, wherein the acid used in the acid treatment step is any one selected from the group consisting of hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, phosphorous acid and combinations thereof, carboxylic acid, sulfonic acid, sulfinic acid, phosphoric acid and A method for producing a cyclic olefin resin film used alone or in combination of any one of the organic acids selected from the group consisting of a combination of these. 제3항에 있어서, 상기 S1 단계에서 용매는 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄 및 테트라하이드로퓨란 중에서 선택되는 어느 하나 이상을 사용하는 환형 올레핀계 수지 필름의 제조방법.The method of claim 3, wherein the solvent in the step S1 using any one or more selected from toluene, xylene, dichloromethane and tetrahydrofuran. 제3항에 있어서, 상기 노보넨계 중합체는 하기 화학식 1로 표시되는 환형 올레핀계 수지 필름의 제조방법.

<화학식 1>
Figure pat00008


(상기 식에서, R1 내지 R8은 각각 독립적으로 수소, 산소, 질소, 규소 또는 황을 포함하는 연결기를 가지는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 탄화수소기, 극성기, 단일결합 또는 2가의 연결기를 가지는 방향족기, 실란기, 할로겐 원자 중에서 선택되며,
R1 내지 R4 중에서 적어도 하나는 실란기를 포함하고,
k와 i는 0 내지 3의 정수이고,
n은 0 내지 1 미만의 값을 가지고, m+n은 1인 것이다.)
The method of claim 3, wherein the norbornene-based polymer is represented by the following formula (1).

<Formula 1>
Figure pat00008


Wherein R 1 to R 8 each independently represent a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a polar group, a single bond or a divalent linking group having a linking group including hydrogen, oxygen, nitrogen, silicon or sulfur. Group, silane group, halogen atom,
At least one of R1 to R4 includes a silane group,
k and i are integers from 0 to 3,
n has a value of 0 to less than 1, and m + n is 1).
제10항에 있어서, 상기 화학식 1에서 m:n의 몰비는 1 내지 100 : 0 내지 99인 환형 올레핀계 수지 필름의 제조방법.The method of claim 10, wherein the molar ratio of m: n in Chemical Formula 1 is 1 to 100: 0 to 99. 제10항에 있어서, 상기 노보넨계 중합체는 중량평균분자량이 10,000 내지 1,000,000인 환형 올레핀계 수지 필름의 제조방법. The method of claim 10, wherein the norbornene-based polymer has a weight average molecular weight of 10,000 to 1,000,000. 제3항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따라 제조된 환형 올레핀계 수지 필름.The cyclic olefin resin film produced according to any one of claims 3 to 12. 제13항에 있어서, 상기 환형 올레핀계 수지 필름은 하기 식 1으로 계산되는 가교도의 값이 2 이하인 환형 올레핀계 수지 필름.
<식 1>
Figure pat00009


(상기 식 1에서 770cm-1 영역은 실록산 반응 그룹에 의한 흡광도 값을 나타내며, 850cm-1 영역은 카보실릴 반응 그룹에 의한 흡광도 값을 나타내는 것이다.)
The cyclic olefin resin film according to claim 13, wherein the cyclic olefin resin film has a value of 2 or less in the degree of crosslinking calculated by the following formula (1).
<Equation 1>
Figure pat00009


(In Formula 1, the 770cm -1 region represents the absorbance value by the siloxane reaction group, and the 850cm -1 region represents the absorbance value by the carbosilyl reaction group.)
제13항에 있어서, 상기 환형 올레핀계 수지 필름은 선팽창율이 70ppm/℃ 이하인 환형 올레핀계 수지 필름.The cyclic olefin resin film of claim 13, wherein the cyclic olefin resin film has a linear expansion coefficient of 70 ppm / ° C or less.
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EP2645357A1 (en) 2012-03-29 2013-10-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Display apparatus and driving method thereof

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