KR20110113688A - Light emitting device and lighting unit using the same - Google Patents

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KR20110113688A KR1020100033023A KR20100033023A KR20110113688A KR 20110113688 A KR20110113688 A KR 20110113688A KR 1020100033023 A KR1020100033023 A KR 1020100033023A KR 20100033023 A KR20100033023 A KR 20100033023A KR 20110113688 A KR20110113688 A KR 20110113688A
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Abstract

실시예에 따른 발광 소자는 발광 칩; 및 상기 발광 칩에서 출사된 빛에 의해 여기되는 적어도 한 종류의 형광체를 포함하는 광학 필름을 포함하며, 상기 광학 필름을 통과한 빛은 85 내지 100의 연색지수(CRI)를 가지며, 형광체는 설파이드 (Sulfide) 계열의 물질을 포함한다..The light emitting device according to the embodiment includes a light emitting chip; And an optical film including at least one kind of phosphors excited by light emitted from the light emitting chip, and the light passing through the optical film has a color rendering index (CRI) of 85 to 100, and the phosphor is sulfide ( Contains substances of the Sulfide family.

Description

발광 소자 및 이를 이용한 라이트 유닛{LIGHT EMITTING DEVICE AND LIGHTING UNIT USING THE SAME}LIGHT EMITTING DEVICE AND LIGHTING UNIT USING THE SAME}

실시예는 발광 소자 및 이를 이용한 라이트 유닛에 관한 것이다.An embodiment relates to a light emitting device and a light unit using the same.

발광 다이오드(LED)는 전기 에너지를 빛으로 변환하는 반도체 소자의 일종이다. 발광 다이오드는 형광등, 백열등 등 기존의 광원에 비해 저소비전력, 반영구적인 수명, 빠른 응답속도, 안전성, 환경친화성의 장점을 가진다. 이에 기존의 광원을 발광 다이오드로 대체하기 위한 많은 연구가 진행되고 있으며, 발광 다이오드는 실내외에서 사용되는 각종 램프, 디스플레이 장치, 전광판, 가로등 등의 라이트 유닛의 광원으로서 사용이 증가되고 있는 추세이다.Light emitting diodes (LEDs) are a type of semiconductor device that converts electrical energy into light. Light emitting diodes have the advantages of low power consumption, semi-permanent life, fast response speed, safety and environmental friendliness compared to conventional light sources such as fluorescent and incandescent lamps. Accordingly, many researches are being conducted to replace existing light sources with light emitting diodes, and the use of light emitting diodes is increasing as a light source for light units such as various lamps, display devices, electronic signs, and street lamps that are used indoors and outdoors.

한편, 발광 다이오드에서 방출되는 빛의 파장을 변화시켜 원하는 파장의 빛을 방출시키기 위한 많은 연구가 진행되고 있다.On the other hand, a lot of research is being conducted to change the wavelength of light emitted from the light emitting diode to emit light of a desired wavelength.

실시예는 연색 지수가 향상된 발광 소자 및 이를 이용한 라이트 유닛을 제공한다.The embodiment provides a light emitting device having an improved color rendering index and a light unit using the same.

실시예는 간단한 구조를 갖는 발광 소자 및 이를 이용한 라이트 유닛을 제공한다.The embodiment provides a light emitting device having a simple structure and a light unit using the same.

실시예에 따른 발광 소자는 발광 칩; 및 상기 발광 칩에서 출사된 빛에 의해 여기되는 적어도 한 종류의 형광체를 포함하는 광학 필름을 포함하며, 상기 광학 필름을 통과한 빛은 85 내지 100의 연색지수(CRI)를 가지며, 형광체는 설파이드 (Sulfide) 계열의 물질을 포함한다.The light emitting device according to the embodiment includes a light emitting chip; And an optical film including at least one kind of phosphors excited by light emitted from the light emitting chip, and the light passing through the optical film has a color rendering index (CRI) of 85 to 100, and the phosphor is sulfide ( Sulfide) family of materials.

실시예에 따른 라이트 유닛은 발광 칩; 상기 발광 칩에서 출사된 빛에 의해 여기되는 적어도 한 종류의 형광체를 포함하는 광학 필름; 및 상기 광학 필름을 통과한 빛을 확산시키는 광확산부를 포함하며, 상기 광학 필름을 통과한 빛은 85 내지 100의 연색지수(CRI)를 가진다.According to an embodiment, a light unit includes a light emitting chip; An optical film including at least one type of phosphor excited by light emitted from the light emitting chip; And a light diffusion unit for diffusing the light passing through the optical film, and the light passing through the optical film has a color rendering index (CRI) of 85 to 100.

실시예는 연색 지수가 향상된 발광 소자 및 이를 이용한 라이트 유닛을 제공할 수 있다.The embodiment can provide a light emitting device having an improved color rendering index and a light unit using the same.

실시예는 간단한 구조를 갖는 발광 소자 및 이를 이용한 라이트 유닛을 제공할 수 있다.The embodiment can provide a light emitting device having a simple structure and a light unit using the same.

도 1은 실시예에 따른 발광 소자를 나타내는 도면이다.
도 2는 실시예에 따른 광학 필름의 일례를 나타내는 도면이다.
도 3은 발광 칩의 색 온도에 따라 실시예에 따른 광학 필름 내에 포함되는 형광체의 종류 및 양을 나타내는 표이다.
도 4 내지 도 9는 실시예에 따른 광학 필름을 적용하는 경우 실시예에 따른 발광 소자의 연색지수(CRI) 변화를 나타낸 그래프이다.
도 10은 실시예에 따른 광학 필름의 다른 예를 나타낸 도면이다.
도 11은 실시예에 따른 발광 소자를 포함하는 라이트 유닛을 나타내는 도면이다.
1 is a view showing a light emitting device according to an embodiment.
It is a figure which shows an example of the optical film which concerns on an Example.
3 is a table showing the type and amount of phosphors included in the optical film according to the embodiment according to the color temperature of the light emitting chip.
4 to 9 are graphs showing a change in color rendering index (CRI) of the light emitting device according to the embodiment when the optical film according to the embodiment is applied.
10 is a view showing another example of an optical film according to the embodiment.
11 is a view illustrating a light unit including a light emitting device according to an embodiment.

실시예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 "위(on)"에 또는 "아래(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "위(on)"와 "아래(under)"는 "직접(directly)" 또는 "다른 층을 개재하여 (indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 각 층의 위 또는 아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다.In the description of the embodiments, it is to be understood that each layer (film), region, pattern or structure is formed "on" or "under" a substrate, each layer The terms " on "and " under " encompass both being formed" directly "or" indirectly " In addition, the criteria for the top or bottom of each layer will be described with reference to the drawings.

도면에서 각층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시되었다. 또한 각 구성요소의 크기는 실제크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다. In the drawings, the thickness or size of each layer is exaggerated, omitted, or schematically illustrated for convenience and clarity of description. In addition, the size of each component does not necessarily reflect the actual size.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 실시예에 따른 발광 소자 및 이를 이용한 라이트 유닛에 대해 설명한다.
Hereinafter, a light emitting device and a light unit using the same according to an embodiment will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 실시예에 따른 발광 소자를 나타내는 도면이다.1 is a view showing a light emitting device according to an embodiment.

도 1을 참조하면, 상기 발광 소자는 발광 칩(100), 상기 발광 칩(100)에서 출사된 빛에 의해 여기되는 적어도 한 종류의 형광체를 포함하는 광학 필름(1)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, the light emitting device may include a light emitting chip 100 and an optical film 1 including at least one kind of phosphor excited by light emitted from the light emitting chip 100.

상기 발광 칩(100)은 예를 들어, 발광 다이오드(LED : Light Emitting Diode)를 포함할 수 있으나, 이에 대해 한정하지는 않는다.The light emitting chip 100 may include, for example, a light emitting diode (LED), but is not limited thereto.

상기 발광 다이오드는 예를 들어, 적색, 녹색, 청색 또는 백색의 빛을 생성하는 적색, 녹색, 청색 또는 백색 발광 다이오드일 수 있다.The light emitting diode may be, for example, a red, green, blue or white light emitting diode that generates red, green, blue or white light.

일반적으로, 발광 다이오드(LED)는 질화물 반도체층들 사이의 에너지 밴드 갭 차이에 따라 빛을 생성하는 반도체 소자이다. 그런데, 이러한 발광 다이오드는 에너지 밴드 갭 차이에 따른 소정의 파장대의 빛만을 생성하므로 연색지수(CRI : Color Rendering Index)가 낮아서 고 품질의 빛이 요구되는 환경에는 적용되기 힘든 문제점이 있다.In general, light emitting diodes (LEDs) are semiconductor devices that generate light according to energy band gap differences between nitride semiconductor layers. However, since the light emitting diode generates only light of a predetermined wavelength band according to the energy band gap difference, the color rendering index (CRI) is low, and thus it is difficult to be applied to an environment requiring high quality light.

따라서, 실시예에서는 상기 발광 칩(100)에서 출사되는 빛이 상기 광학 필름(1)을 통과하도록 함으로써, 85 내지 100의 높은 연색 지수(CRI)를 확보한다. Therefore, in the embodiment, the light emitted from the light emitting chip 100 passes through the optical film 1, thereby securing a high color rendering index (CRI) of 85 to 100.

즉, 상기 광학 필름(1)을 통과하는 빛은 상기 광학 필름(1) 내에 포함된 적어도 한 종류의 형광체를 여기시켜 여기광이 생성되며, 상기 여기광에 의해 상기 발광 칩(100)에서 출사된 빛의 연색 지수(CRI)가 향상될 수 있다.That is, the light passing through the optical film 1 excites at least one kind of phosphor contained in the optical film 1 to generate excitation light, and the excitation light is emitted from the light emitting chip 100. Color rendering index (CRI) of light can be improved.

한편, 상기 광학 필름(1) 내에 포함되는 상기 형광체의 종류 및 양은 상기 발광 칩(100)에서 생성되는 빛의 색 온도(Color Temperature)에 따라 선택될 수 있다. Meanwhile, the type and amount of the phosphor included in the optical film 1 may be selected according to the color temperature of light generated by the light emitting chip 100.

이하, 상기 광학 필름(1)에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, the optical film 1 will be described in detail.

도 2는 상기 광학 필름(1)의 일례를 나타내는 도면이다.2 is a diagram illustrating an example of the optical film 1.

도 2를 참조하면, 상기 광학 필름(1)은 베이스 필름(10), 상기 베이스 필름(10) 상에 매트릭스 수지층(20), 상기 매트릭스 수지층(20) 상에 보호수지층(30), 상기 보호수지층(30) 상에 보호 필름(40), 상기 보호 필름(40) 상에 접착부재(50) 및 상기 접착부재(50) 상에 이형 필름(60)을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 2, the optical film 1 includes a base film 10, a matrix resin layer 20 on the base film 10, a protective resin layer 30 on the matrix resin layer 20, A protective film 40 on the protective resin layer 30, an adhesive member 50 on the protective film 40 and a release film 60 on the adhesive member 50 may be included.

상기 베이스 필름(10)은 양호한 광 투과성 및 내열성을 가지는 수지 재질로 형성되는 것이 바람직하며, 예를 들어, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene terephthalate : PET), 폴리에틸렌 나프탈레이트(Polyethylene naphthalate : PEN), 아크릴 수지, 폴리카보네이트(Polycarbonate : PC), 폴리스틸렌(Polystyrene : PS), 폴리메틸 메타크릴레이트(Polymethyl methacrylate : PMMA) 등으로 이루어진 군에서 선택적으로 형성될 수 있다. The base film 10 is preferably formed of a resin material having good light transmittance and heat resistance, for example, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), acrylic resin, It may be selectively formed from the group consisting of polycarbonate (PC), polystyrene (PS), polymethyl methacrylate (PMMA) and the like.

구체적으로는, 상기 베이스 필름(10)의 재질은 상기 광학 필름(1)의 용도에 따라 선택될 수 있는데, 예를 들어, 높은 광 투과성이 요구되는 경우에는 90% 이상의 광 투과율을 가지는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)를 사용할 수 있다. 또한 내열성, 내화학성이 요구되는 경우에는, 상기 베이스 필름(10)은 폴리카보네이트(Polycarbonate)로 형성될 수 있다. 다만, 상기 베이스 필름(10)의 재질에 대해 한정하지는 않는다.Specifically, the material of the base film 10 may be selected according to the use of the optical film 1, for example, polyethylene terephthalate having a light transmittance of 90% or more when high light transmittance is required. (PET) can be used. In addition, when heat resistance and chemical resistance are required, the base film 10 may be formed of polycarbonate. However, the material of the base film 10 is not limited.

상기 베이스 필름(10)의 두께는 예를 들어, 10μm 내지 500μm 일 수 있으며, 바람직하게는 20μm 내지 30μm일 수 있다. 10μm 이하의 필름은 취급이 난해하고, 500μm 이상의 필름은 광 투과율이 떨어질 수 있기 때문이다. 다만, 이에 대해 한정하지는 않는다.The base film 10 may have a thickness of, for example, 10 μm to 500 μm, and preferably 20 μm to 30 μm. This is because a film of 10 μm or less is difficult to handle, and a film of 500 μm or more may have a low light transmittance. However, this is not limitative.

상기 베이스 필름(10) 상에는 상기 매트릭스 수지층(20)이 형성될 수 있다. The matrix resin layer 20 may be formed on the base film 10.

상기 매트릭스 수지층(20)은 양호한 광 투과율, 점도, 경화 온도 등을 가지는 재질로 형성되는 것이 바람직하다. 상기 광학 필름(1)은 고온에서 빛을 방출하는 광원에 적용될 수 있으므로, 고온에서도 양호한 광 투과율과 점도 및 경도를 유지할 수 있어야 하기 때문이다.The matrix resin layer 20 is preferably formed of a material having a good light transmittance, viscosity, curing temperature and the like. Since the optical film 1 can be applied to a light source that emits light at a high temperature, it is necessary to maintain a good light transmittance, viscosity and hardness even at a high temperature.

구체적으로는, 상기 매트릭스 수지층(20)은 85% 이상의 광 투과율을 가지며, 120℃ 이하에서 경화되며, 3000cp 이상의 점도를 가져 상기 베이스 필름(10)과의 접착성이 양호한 재질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 매트릭스 수지층(20)은 수지 재질 및 실리콘 재질 중 적어도 하나로 형성될 수 있으며, 바람직하게는 실리콘 수지(Silicone Resin)로 형성될 수 있다. Specifically, the matrix resin layer 20 may have a light transmittance of 85% or more, may be cured at 120 ° C. or less, and may have a viscosity of 3000 cps or more and may be formed of a material having good adhesiveness with the base film 10. . For example, the matrix resin layer 20 may be formed of at least one of a resin material and a silicon material. Preferably, the matrix resin layer 20 may be formed of a silicone resin.

상기 매트릭스 수지층(20)의 두께는 20μm 내지 500μm 일 수 있으며, 바람직하게는 30μm 내지 50μm 일 수 있다. 이러한 두께 범위의 상기 매트릭스 수지층(20)은, 후술할 형광체, 확산제, 소포제 등이 용이하게 혼합될 수 있고, 빛이 안정적으로 투과될 수 있으며, 상기 베이스 필름(10) 상에 용이하게 도포될 수 있다. The matrix resin layer 20 may have a thickness of 20 μm to 500 μm, and preferably 30 μm to 50 μm. The matrix resin layer 20 having such a thickness range may be easily mixed with a phosphor, a diffusing agent, an antifoaming agent, and the like, which may stably transmit light, and is easily coated on the base film 10. Can be.

상기 매트릭스 수지층(20)은 형광체를 포함할 수 있다. 상기 형광체는 예를 들어, 액상의 매트릭스 수지층(20)에 혼합되어 교반기를 이용하여 교반함으로써 상기 매트릭스 수지층(20) 내에 포함될 수 있다.The matrix resin layer 20 may include a phosphor. For example, the phosphor may be included in the matrix resin layer 20 by being mixed with the liquid matrix resin layer 20 and stirred using a stirrer.

상기 형광체는 상기 발광 칩(100)에 의해 방출되는 빛에 의해 여기되어 여기광을 방출하며, 예를 들어, 실리케이트(Silicate) 계열, 설파이드(Sulfide ; 황화물) 계열, YAG 계열 및 TAG 계열 중 적어도 어느 하나를 사용할 수 있다.The phosphor is excited by light emitted by the light emitting chip 100 and emits excitation light. For example, at least any one of a silicate series, a sulfide series, a YAG series, and a TAG series may be used. You can use one.

상기 형광체는 상기 발광 칩(100)에서 방출되는 빛에 의해 여기되어 황색, 적색, 녹색 및 청색의 여기광을 방출하는 황색, 적색, 녹색 및 청색 형광체 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있으나, 상기 형광체의 종류에 대해 한정하지는 않는다.The phosphor may include at least one of yellow, red, green, and blue phosphors which are excited by light emitted from the light emitting chip 100 and emit yellow, red, green, and blue excitation light. It does not limit about kind.

상기 형광체는 상기 광학 필름(1)이 적용되는 상기 발광 칩(100)의 색 온도(Color Temperature)에 따라 상이한 종류 및 양이 상기 매트릭스 수지층(20)에 포함될 수 있다. 상기 발광 칩(100)에서 방출되는 빛의 색 온도에 따라 상기 형광체의 여기광의 세기가 상이하게 결정되기 때문이다.The phosphor may be included in the matrix resin layer 20 in a different kind and amount depending on the color temperature of the light emitting chip 100 to which the optical film 1 is applied. This is because the intensity of the excitation light of the phosphor is determined differently according to the color temperature of light emitted from the light emitting chip 100.

상기 형광체는 상기 발광 칩(100)의 연색지수(CRI)를 향상시킴으로써, 상기 발광 소자가 고 품질의 빛을 제공할 수 있도록 한다.The phosphor improves the color rendering index (CRI) of the light emitting chip 100, thereby allowing the light emitting device to provide high quality light.

도 3은 상기 발광 칩(100)의 색 온도에 따른 상기 광학 필름(1) 내에 포함되는 형광체의 종류 및 양을 나타내는 표이고, 도 4 내지 도 9는 상기 광학 필름(1)을 적용하는 경우 상기 발광 소자의 연색지수(CRI) 변화를 나타낸 그래프이다.3 is a table showing the type and amount of phosphors included in the optical film 1 according to the color temperature of the light emitting chip 100, and FIGS. 4 to 9 illustrate the case where the optical film 1 is applied. A graph showing the color rendering index (CRI) change of the light emitting device.

도 3, 도 4 및 도 5를 참조하면, 상기 발광 칩(100)의 색 온도가 3000K인 경우, 상기 광학 필름(1)에는 상기 매트릭스 수지층(20) 100 중량부(wt%)에 대해 주 파장이 650nm인 적색(R) 형광체 30 내지 40 중량부 및 주 파장이 515nm인 녹색(G) 형광체 30 내지 40 중량부가 포함될 수 있다.3, 4, and 5, when the color temperature of the light emitting chip 100 is 3000K, the optical film 1 may have a main weight with respect to 100 parts by weight (wt%) of the matrix resin layer 20. 30 to 40 parts by weight of the red (R) phosphor having a wavelength of 650 nm and 30 to 40 parts by weight of the green (G) phosphor having a main wavelength of 515 nm may be included.

상기 발광 칩(100)에서 방출되는 빛은 도 4에 도시된 바와 같이, 515nm 부근 및 650nm 부근의 빛의 세기가 상대적으로 낮으며 이에 따라 낮은 연색지수(CRI)를 가진다. 따라서, 상기 광학 필름(1) 내에 515nm 및 650nm의 주 파장을 가지는 상기 적색(R) 및 녹색(G) 형광체를 포함함으로써 상기 발광 소자가 도 5와 같이 대략 92의 연색지수(CRI)를 가지도록 할 수 있다. As shown in FIG. 4, the light emitted from the light emitting chip 100 has a relatively low intensity of light around 515 nm and around 650 nm, and thus has a low color rendering index (CRI). Therefore, the red (R) and green (G) phosphors having main wavelengths of 515 nm and 650 nm are included in the optical film 1 so that the light emitting device has a color rendering index (CRI) of approximately 92 as shown in FIG. 5. can do.

도 3, 도 6 및 도 7을 참조하면, 상기 발광 칩(100)의 색 온도가 4000K인 경우, 상기 광학 필름(1)에는 상기 매트릭스 수지층(20) 100 중량부(wt%)에 대해 주 파장이 650nm인 적색(R) 형광체 15 내지 25 중량부 및 주 파장이 515nm인 녹색(G) 형광체 15 내지 25 중량부가 포함될 수 있다.3, 6, and 7, when the color temperature of the light emitting chip 100 is 4000K, the optical film 1 may have a main weight with respect to 100 parts by weight (wt%) of the matrix resin layer 20. 15 to 25 parts by weight of the red (R) phosphor having a wavelength of 650 nm and 15 to 25 parts by weight of the green (G) phosphor having a main wavelength of 515 nm may be included.

상기 발광 칩(100)에서 방출되는 빛은 도 6에 도시된 바와 같이, 515nm 부근 및 650nm 부근의 빛의 세기가 상대적으로 낮으며 이에 따라 낮은 연색지수(CRI)를 가진다. 따라서, 상기 광학 필름(1) 내에 515nm 및 650nm의 주 파장을 가지는 상기 적색(R) 및 녹색(G) 형광체를 포함함으로써 상기 발광 소자가 도 7과 같이 대략 90의 연색지수(CRI)를 가지도록 할 수 있다.As shown in FIG. 6, the light emitted from the light emitting chip 100 has a relatively low intensity of light around 515 nm and around 650 nm, and thus has a low color rendering index (CRI). Therefore, the red (R) and green (G) phosphors having main wavelengths of 515 nm and 650 nm are included in the optical film 1 such that the light emitting device has a color rendering index (CRI) of approximately 90 as shown in FIG. 7. can do.

도 3, 도 8 및 도 9를 참조하면, 상기 발광 칩(100)의 색 온도가 5000K인 경우, 상기 광학 필름(1)에는 상기 매트릭스 수지층(20) 100 중량부(wt%)에 대해 주 파장이 650nm인 적색(R) 형광체 5 내지 15 중량부 및 주 파장이 515nm인 녹색(G) 형광체 8 내지 18 중량부가 포함될 수 있다.3, 8, and 9, when the color temperature of the light emitting chip 100 is 5000K, the optical film 1 may have a main weight with respect to 100 parts by weight (wt%) of the matrix resin layer 20. 5 to 15 parts by weight of the red (R) phosphor having a wavelength of 650 nm and 8 to 18 parts by weight of the green (G) phosphor having a main wavelength of 515 nm may be included.

상기 발광 칩(100)에서 방출되는 빛은 도 8에 도시된 바와 같이, 515nm 부근 및 650nm 부근의 빛의 세기가 상대적으로 낮으며 이에 따라 낮은 연색지수(CRI)를 가진다. 따라서, 상기 광학 필름(1) 내에 515nm 및 650nm의 주 파장을 가지는 상기 적색(R) 및 녹색(G) 형광체를 포함함으로써 상기 발광 소자가 도 9와 같이 대략 92의 연색지수(CRI)를 가지도록 할 수 있다.As shown in FIG. 8, the light emitted from the light emitting chip 100 has a relatively low intensity of light around 515 nm and around 650 nm, and thus has a low color rendering index (CRI). Therefore, the red (R) and green (G) phosphors having main wavelengths of 515 nm and 650 nm are included in the optical film 1 so that the light emitting device has a color rendering index (CRI) of approximately 92 as shown in FIG. 9. can do.

다만, 상기 발광 칩(100)의 종류 및 색 온도에 따라 상기 형광체의 종류 및 양은 달라질 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.However, the type and amount of the phosphor may vary according to the type and color temperature of the light emitting chip 100, but is not limited thereto.

한편, 상기 매트릭스 수지층(20)에는 확산제, 소포제, 첨가제, 경화제 중 적어도 하나가 더 포함될 수도 있다. Meanwhile, the matrix resin layer 20 may further include at least one of a diffusing agent, an antifoaming agent, an additive, and a curing agent.

상기 확산제는 상기 매트릭스 수지층(20)에 입사되는 빛을 산란시킴으로써 확산시킬 수 있다. 상기 확산제는 예를 들어, 산화실리콘(SiO2), 산화티타늄(TiO2), 산화아연(ZnO), 황산바륨(BaSO4), 탄산칼슘(CaSO4), 탄산마그네슘(MgCO3), 수산화알루미늄(Al(OH)3), 합성실리카, 글래스비드, 다이아몬드 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 한정하지는 않는다. The diffusion agent may be diffused by scattering light incident on the matrix resin layer 20. The diffusion agent is, for example, silicon oxide (SiO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), zinc oxide (ZnO), barium sulfate (BaSO 4 ), calcium carbonate (CaSO 4 ), magnesium carbonate (MgCO 3 ), hydroxide It may include, but is not limited to, aluminum (Al (OH) 3 ), synthetic silica, glass beads, diamond.

상기 확산제의 입자 크기는 빛의 확산에 적합한 크기로 선택될 수 있으며, 예를 들어 5~7μm의 지름을 가지도록 형성될 수 있다.The particle size of the diffusion agent may be selected to a size suitable for the diffusion of light, for example, may be formed to have a diameter of 5 ~ 7μm.

상기 소포제(antifoaming agent)는 상기 매트릭스 수지층(20) 내의 기포를 제거함으로써, 상기 광학 필름(1)의 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 특히, 상기 매트릭스 수지층(20)을 상기 베이스 필름(10) 상에 스크린 인쇄 방식에 의해 도포할 때 문제가 되는 기포문제를 해결할 수 있다.The antifoaming agent may improve the reliability of the optical film 1 by removing bubbles in the matrix resin layer 20. In particular, when the matrix resin layer 20 is applied on the base film 10 by a screen printing method, a problem of bubbles may be solved.

상기 소포제는 옥탄올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜 또는 각종 계면활성제 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 대해 한정하지는 않는다.The antifoaming agent may include at least one of octanol, cyclohexanol, ethylene glycol or various surfactants, but is not limited thereto.

상기 경화제는 상기 매트릭스 수지층(20)을 경화시킬 수 있으며, 상기 첨가제는 상기 형광체를 상기 매트릭스 수지층(20) 내에 고르게 분산하기 위해 사용될 수 있다.The curing agent may cure the matrix resin layer 20, and the additive may be used to evenly disperse the phosphor in the matrix resin layer 20.

상기 매트릭스 수지층(20) 상에는 상기 보호수지층(30)이 형성될 수 있다. The protective resin layer 30 may be formed on the matrix resin layer 20.

상기 보호수지층(30)은 양호한 광 투과율, 내열성 및 접착성을 가지는 수지 재질 또는/및 실리콘 재질로 형성될 수 있다. The protective resin layer 30 may be formed of a resin material and / or a silicon material having good light transmittance, heat resistance, and adhesion.

특히, 상기 보호수지층(30) 상에 형성되는 상기 보호 필름(40)과의 접착성이 양호한 재질로 형성되는 것이 바람직한데, 예를 들어, 상기 보호수지층(30)은 광 투과율이 85% 이상이며, 내열성 및 접착성이 뛰어난 실리콘 수지로 형성될 수 있다. In particular, the protective resin layer 30 is preferably formed of a material having good adhesion to the protective film 40 formed, for example, the protective resin layer 30 has a light transmittance of 85% Above, it can be formed of a silicone resin excellent in heat resistance and adhesion.

상기 보호수지층(30)의 두께는 예를 들어 20μm 내지 50μm 일 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The protective resin layer 30 may have a thickness of, for example, 20 μm to 50 μm, but is not limited thereto.

상기 매트릭스 수지층(20) 상에 바로 상기 보호 필름(40)을 형성하는 경우, 상기 매트릭스 수지층(20)과 상기 보호 필름(40) 사이의 접착력이 부족하여, 두 층 사이가 벌어지고, 두 층 사이에 수분이 침투하는 등의 현상이 발생하여 광학 필름의 신뢰성을 저해하는 요인이 될 수 있다. When the protective film 40 is directly formed on the matrix resin layer 20, the adhesive force between the matrix resin layer 20 and the protective film 40 is insufficient, so that two layers are formed. A phenomenon such as penetration of moisture between the layers may occur, which may be a factor that impairs the reliability of the optical film.

따라서, 실시예에서는 상기 매트릭스 수지층(20) 및 상기 보호 필름(40) 사이에 상기 보호수지층(30)을 형성함으로써, 상기 보호 필름(40)과의 접착을 견고히 하여 상기 광학 필름(1)의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.Therefore, in the embodiment, by forming the protective resin layer 30 between the matrix resin layer 20 and the protective film 40, the adhesion to the protective film 40 is firmly secured to the optical film 1 Can improve the reliability.

구체적으로는, 먼저 상기 매트릭스 수지층(20) 상에 반경화(B-stage) 상태의 상기 보호수지층(30)을 도포하고, 반경화 상태의 상기 보호수지층(30) 상에 상기 보호 필름(40)을 부착한 다음에 상기 보호수지층(30)을 경화시킴으로써, 상기 보호 필름(40)을 상기 보호수지층(30) 상에 견고히 접착하고, 상기 광학 필름(1)의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.Specifically, first, the protective resin layer 30 in a semi-cured state (B-stage) on the matrix resin layer 20, and the protective film on the protective resin layer 30 in the semi-cured state By attaching the 40 to the protective resin layer 30, the protective film 40 is firmly adhered to the protective resin layer 30, and the reliability of the optical film 1 can be improved. Can be.

또한, 실시예와 같이 상기 보호수지층(30)을 형성하는 경우, 상기 매트릭스 수지층(20)에 포함되는 형광체를 보호하는 효과가 있다. 즉, 상기 보호수지층(30)이 상기 발광 칩(100)으로부터 발생되는 열이 상기 형광체에 전달되는 것을 완충하는 효과를 하여, 상기 형광체가 열에 의해 열화되는 현상을 감소시킬 수 있다. 특히, 일반적으로 적색 형광체의 경우 열에 취약한 특성을 가지므로, 상기 보호수지층(30)에 의한 형광체 보호 효과가 더욱 뚜렷이 나타날 수 있다.In addition, when forming the protective resin layer 30 as in the embodiment, there is an effect of protecting the phosphor contained in the matrix resin layer 20. That is, the protective resin layer 30 may buffer the transfer of heat generated from the light emitting chip 100 to the phosphor, thereby reducing the phenomenon in which the phosphor is degraded by heat. In particular, in the case of the red phosphor generally has a property that is vulnerable to heat, the protective effect of the phosphor by the protective resin layer 30 may be more apparent.

상기 보호수지층(30) 상에는 상기 보호 필름(40)이 형성될 수 있다. 상기 보호 필름(40)은 상기 매트릭스 수지층(20)을 보호하여, 상기 광학 필름(1)의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.The protective film 40 may be formed on the protective resin layer 30. The protective film 40 may protect the matrix resin layer 20 to improve the reliability of the optical film 1.

상기 보호 필름(40)은 상기 베이스 필름(10)과 동일한 재질로 형성될 수 있으며, 예를 들어, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene terephthalate : PET), 폴리에틸렌 나프탈레이트(Polyethylene naphthalate : PEN), 아크릴 수지, 폴리카보네이트(Polycarbonate : PC), 폴리스틸렌(Polystyrene : PS), 폴리메틸 메타크릴레이트(Polymethyl methacrylate : PMMA) 등으로 이루어진 군에서 선택적으로 형성될 수 있다. The protective film 40 may be formed of the same material as the base film 10. For example, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), acrylic resin, poly It may be selectively formed from the group consisting of carbonate (PC), polystyrene (PS), polymethyl methacrylate (PMMA) and the like.

또한, 상기 보호 필름(40)의 두께는 예를 들어, 10μm 내지 500μm 일 수 있으며, 바람직하게는 25μm 일 수 있다. In addition, the thickness of the protective film 40 may be, for example, 10 μm to 500 μm, preferably 25 μm.

상기 보호 필름(40) 상에는 상기 접착부재(50)가 형성될 수 있다. The adhesive member 50 may be formed on the protective film 40.

상기 접착부재(50)는 몸체층(51)과, 상기 몸체층(51)의 양면에 제1 접착층(52a) 및 제2 접착층(52b)을 포함할 수 있다. The adhesive member 50 may include a body layer 51 and a first adhesive layer 52a and a second adhesive layer 52b on both surfaces of the body layer 51.

상기 제2 접착층(52b)은 상기 몸체층(51) 및 상기 보호 필름(40) 사이에 형성되어 두 층을 서로 접착시킨다. The second adhesive layer 52b is formed between the body layer 51 and the protective film 40 to adhere the two layers to each other.

또한, 상기 제1 접착층(52a)은 상기 몸체층(51) 상에 형성되어, 상기 발광 칩(100)에 상기 광학 필름(1)을 부착시킬 수 있다. In addition, the first adhesive layer 52a may be formed on the body layer 51 to attach the optical film 1 to the light emitting chip 100.

상기 접착부재(50)는 별도로 준비되어, 상기 보호 필름(40) 상에 부착되거나, 상기 보호 필름(40) 상에 순차적으로 적층됨으로써 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. 또한, 상기 접착부재(50)는 필요하지 않은 경우에는, 형성되지 않을 수도 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.
The adhesive member 50 may be separately prepared and attached to the protective film 40, or may be formed by sequentially laminating the protective film 40, but is not limited thereto. In addition, when the adhesive member 50 is not necessary, it may not be formed, but is not limited thereto.

도 10은 상기 광학 필름(1)의 다른 예를 나타낸 도면이다.10 is a diagram illustrating another example of the optical film 1.

도 10을 참조하면, 상기 광학 필름(1)은 베이스 필름(10), 상기 베이스 필름(10) 상에 매트릭스 수지층(20) 및 상기 매트릭스 수지층(20) 상에 점착성 수지층(30)을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 10, the optical film 1 may include a matrix resin layer 20 on the base film 10, the base film 10, and an adhesive resin layer 30 on the matrix resin layer 20. It may include.

상기 베이스 필름(10) 및 상기 매트릭스 수지층(20)에 대한 설명은 앞에서 설명한 것과 중복되므로 생략한다.Descriptions of the base film 10 and the matrix resin layer 20 are omitted because they overlap with those described above.

상기 점착성 수지층(30)은 양호한 광 투과율, 내열성을 가지며, 특히 뛰어난 점착성을 가지는 수지 재질 또는/및 실리콘 재질로 형성될 수 있다.The adhesive resin layer 30 may have a good light transmittance and heat resistance, and may be formed of a resin material and / or a silicone material having particularly excellent adhesiveness.

예를 들어, 상기 점착성 수지층(30)은 실리콘 수지, 바람직하게는 톨루엔(Toluene)을 포함하는 용제 타입의 실리콘 수지로 형성될 수 있다. 상기 톨루엔을 포함하는 실리콘 수지는 뛰어난 점착성을 가지는 동시에 높은 광 투과율을 가지므로, 상기 광학 필름(1)을 상기 발광 칩(100)에 부착하기 위한 별도의 접착부재를 형성할 필요가 없다.For example, the adhesive resin layer 30 may be formed of a silicone resin, preferably, a solvent type silicone resin containing toluene. Since the silicone resin containing toluene has excellent adhesiveness and high light transmittance, it is not necessary to form a separate adhesive member for attaching the optical film 1 to the light emitting chip 100.

즉, 상기 점착성 수지층(30)을 형성함으로써, 상기 광학 필름(1)의 제조공정이 간소화될 뿐만 아니라, 상기 광학 필름(1)의 두께가 얇아지고, 이에 따라 상기 광학 필름(1)을 투과하는 빛의 광 손실량도 줄어들 수 있다.That is, by forming the adhesive resin layer 30, not only the manufacturing process of the optical film 1 is simplified, but also the thickness of the optical film 1 becomes thin, thereby transmitting the optical film 1. The light loss of the light can also be reduced.

상기 톨루엔을 포함하는 실리콘 수지의 광 투과율은 적어도 90% 이상일 수 있으며, 점성은 2000 내지 10000cp(centipoise)일 수 있다. The light transmittance of the silicone resin including toluene may be at least 90%, and the viscosity may be 2000 to 10000 cps (centipoise).

한편, 상기 점착성 수지층(30)의 두께는 예를 들어 20μm 내지 100μm 로 형성되는 것이 바람직하다.On the other hand, it is preferable that the thickness of the said adhesive resin layer 30 is formed in 20 micrometers-100 micrometers, for example.

이러한 두께의 상기 점착성 수지층(30)은, 상기 발광 칩(100)으로부터 발생되는 열이 상기 매트릭스 수지층(20) 내에 포함된 형광체에 전달되는 것을 완충하는 효과를 하여, 상기 형광체가 열에 의해 열화되는 현상을 감소시킬 수 있다. 특히, 적색 형광체의 경우 열에 취약한 특성을 가지므로, 상기 점착성 수지층(30)에 의한 형광체 보호 효과가 더욱 뚜렷이 나타날 수 있다.The adhesive resin layer 30 having such a thickness buffers the transfer of heat generated from the light emitting chip 100 to the phosphor contained in the matrix resin layer 20, and the phosphor deteriorates by heat. This can reduce the phenomenon. In particular, since the red phosphor has a property that is vulnerable to heat, the phosphor protection effect by the adhesive resin layer 30 may be more pronounced.

상기 점착성 수지층(30)이 휘발성을 가지는 톨루엔을 포함하는 경우, 상기 매트릭스 수지층(20) 상에 반경화(B-stage) 상태로 형성한 후, 별도의 경화제를 사용하지 않고 전기 오븐, 적외선 건조기 등에 의해 열을 가하여 건조함으로써 경화시킬 수 있다. 다만, 상기 점착성 수지층(30)은 경화제를 첨가하여 경화시킬 수도 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.
When the adhesive resin layer 30 includes toluene having volatility, after being formed in a semi-cured state (B-stage) on the matrix resin layer 20, an electric oven or an infrared ray is used without using a separate curing agent. It can harden | cure by adding heat with a dryer etc. and drying. However, the adhesive resin layer 30 may be cured by adding a curing agent, but is not limited thereto.

도 11은 상기 발광 소자를 포함하는 라이트 유닛을 나타내는 도면이다.11 is a view illustrating a light unit including the light emitting device.

도 11을 참조하면, 상기 라이트 유닛은 상기 발광 칩(100), 상기 발광 칩(100)에서 출사된 빛에 의해 여기되는 적어도 한 종류의 형광체를 포함하는 광학 필름(1), 상기 광학 필름(1)을 통과한 빛을 확산시키는 광확산부를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 11, the light unit includes the light emitting chip 100, an optical film 1 including at least one type of phosphor excited by light emitted from the light emitting chip 100, and the optical film 1. It may include a light diffusion unit for diffusing the light passing through).

이때, 상기 광확산부는 상기 광학 필름(1)을 통과한 빛을 면광원화 시키는 도광판(200), 상기 도광판(200) 상에 형성되어 빛을 확산시키는 확산 시트(400) 및 상기 도광판(200) 아래에 설치되어 상기 도광판(200)의 출사면을 향해 빛을 반사시키는 반사 시트(300)를 포함할 수 있다. In this case, the light diffusion part includes a light guide plate 200 for surface-lightening the light passing through the optical film 1, a diffusion sheet 400 formed on the light guide plate 200, and the light guide plate 200. It may include a reflective sheet 300 installed below to reflect light toward the exit surface of the light guide plate 200.

상기 광학 필름(1)은, 도시된 것처럼, 상기 발광 칩(100) 및 상기 도광판(200) 사이에 형성될 수 있다. 이때, 상기 광학 필름(1)은 상기 발광 칩(100)의 출사면에 부착되거나, 상기 도광판(200)에 부착될 수도 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.As shown, the optical film 1 may be formed between the light emitting chip 100 and the light guide plate 200. In this case, the optical film 1 may be attached to the exit surface of the light emitting chip 100 or may be attached to the light guide plate 200, but is not limited thereto.

한편, 상기 라이트 유닛은 엣지(Edge) 방식으로 빛이 제공되는 것에 한정되지는 않으며, 직하(Top View) 방식으로 빛이 제공될 수도 있다. The light unit is not limited to providing light in an edge method, but may be provided in a top view method.

상기 라이트 유닛은 상기 발광 칩(100) 및 상기 광학 필름(1)을 포함함으로써, 높은 연색지수(CRI)를 가지는 고 품질의 빛을 제공할 수 있다. 또한, 상기 광학 필름(1)을 이용함으로써 높은 연색지수(CRI)를 구현하는데에 있어서 필요한 상기 발광 칩(100)의 수량을 최소화할 수 있는 효과가 있다.
The light unit may include the light emitting chip 100 and the optical film 1 to provide high quality light having a high color rendering index (CRI). In addition, the use of the optical film 1 has an effect of minimizing the quantity of the light emitting chip 100 required to implement a high color rendering index (CRI).

이상에서 실시예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Features, structures, effects, and the like described in the above embodiments are included in at least one embodiment of the present invention, and are not necessarily limited to only one embodiment. Furthermore, the features, structures, effects, and the like illustrated in each embodiment may be combined or modified with respect to other embodiments by those skilled in the art to which the embodiments belong. Therefore, it should be understood that the present invention is not limited to these combinations and modifications.

또한, 이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.In addition, the above description has been made with reference to the embodiment, which is merely an example, and is not intended to limit the present invention. Those skilled in the art to which the present invention pertains will be illustrated as above without departing from the essential characteristics of the present embodiment. It will be appreciated that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiment can be modified. And differences relating to such modifications and applications will have to be construed as being included in the scope of the invention defined in the appended claims.

1 : 광학 필름
100 : 발광 칩
1: optical film
100: light emitting chip

Claims (18)

발광 칩; 및
상기 발광 칩에서 출사된 빛에 의해 여기되는 적어도 한 종류의 형광체를 포함하는 광학 필름을 포함하며,
상기 광학 필름을 통과한 빛은 85 내지 100의 연색지수(CRI)를 가지고,
상기 형광체는 설파이드 (Sulfide) 계열의 물질을 포함하는 발광 소자.
Light emitting chip; And
An optical film including at least one kind of phosphors excited by light emitted from the light emitting chip,
Light passing through the optical film has a color rendering index (CRI) of 85 to 100,
The phosphor comprises a sulfide-based material.
제 1항에 있어서,
상기 발광 칩은 발광 다이오드를 포함하며, 상기 발광 다이오드는 적색, 녹색, 청색 또는 백색의 빛을 생성하는 적색, 녹색, 청색 또는 백색 발광 다이오드 중 적어도 하나를 포함하는 발광 소자.
The method of claim 1,
The light emitting chip includes a light emitting diode, and the light emitting diode includes at least one of red, green, blue, or white light emitting diodes that generate red, green, blue, or white light.
제 1항에 있어서,
상기 광학 필름에 포함된 형광체의 종류 및 양은 상기 발광 칩에서 출사되는 빛의 색 온도에 따라 상이하게 선택되는 발광 소자.
The method of claim 1,
The type and amount of phosphor contained in the optical film is differently selected according to the color temperature of the light emitted from the light emitting chip.
제 1항에 있어서,
상기 광학 필름은 베이스 필름과, 상기 베이스 필름 상에 매트릭스 수지층과, 상기 매트릭스 수지층 상에 접착부재를 포함하며,
상기 매트릭스 수지층에는 적어도 한 종류의 형광체가 포함되는 발광 소자.
The method of claim 1,
The optical film includes a base film, a matrix resin layer on the base film, and an adhesive member on the matrix resin layer,
At least one kind of phosphor is contained in the matrix resin layer.
제 4항에 있어서,
상기 매트릭스 수지층에는 적색 형광체 및 녹색 형광체가 포함되는 발광 소자.
The method of claim 4, wherein
The matrix resin layer includes a red phosphor and a green phosphor.
제 5 항에 있어서,
상기 적색 형광체는 CaS:Eu 를 포함하고,
상기 녹색 형광체는 SrGa2S4 : Eu2+ 를 포함하는 발광 소자.
The method of claim 5, wherein
The red phosphor comprises CaS: Eu,
A light emitting device including a Eu + 2: The green phosphor is SrGa 2 S 4.
제 5항에 있어서,
상기 적색 형광체의 주 파장은 650nm이고, 상기 녹색 형광체의 주 파장은 515nm 인 발광 소자.
6. The method of claim 5,
The main wavelength of the red phosphor is 650 nm, the main wavelength of the green phosphor is 515 nm.
제 5항에 있어서,
상기 발광 칩의 색 온도가 3000K 인 경우,
상기 매트릭수 수지층 100 중량부(wt%)에 대해 상기 적색 형광체 30 내지 40 중량부 및 상기 녹색 형광체 30 내지 40 중량부가 포함된 발광 소자.
6. The method of claim 5,
When the color temperature of the light emitting chip is 3000K,
A light emitting device comprising 30 to 40 parts by weight of the red phosphor and 30 to 40 parts by weight of the green phosphor with respect to 100 parts by weight (wt%) of the matrix water resin layer.
제 5항에 있어서,
상기 발광 칩의 색 온도가 4000K 인 경우,
상기 매트릭수 수지층 100 중량부(wt%)에 대해 상기 적색 형광체 15 내지 25 중량부 및 상기 녹색 형광체 15 내지 25 중량부가 포함된 발광 소자.
6. The method of claim 5,
When the color temperature of the light emitting chip is 4000K,
15 to 25 parts by weight of the red phosphor and 15 to 25 parts by weight of the green phosphor with respect to 100 parts by weight (wt%) of the matrix water resin layer.
제 5항에 있어서,
상기 발광 칩의 색 온도가 5000K 인 경우,
상기 매트릭수 수지층 100 중량부(wt%)에 대해 상기 적색 형광체 5 내지 15 중량부 및 상기 녹색 형광체 8 내지 18 중량부가 포함된 발광 소자.
6. The method of claim 5,
When the color temperature of the light emitting chip is 5000K,
A light emitting device comprising 5 to 15 parts by weight of the red phosphor and 8 to 18 parts by weight of the green phosphor with respect to 100 parts by weight (wt%) of the matrix water resin layer.
제 4항에 있어서,
상기 매트릭스 수지층의 두께는 20μm 내지 500μm 인 발광 소자.
The method of claim 4, wherein
The matrix resin layer has a thickness of 20 μm to 500 μm.
제 4항에 있어서,
상기 매트릭스 수지층은 실리콘 재질 및 수지 재질 중 적어도 하나로 형성된 발광 소자.
The method of claim 4, wherein
The matrix resin layer is formed of at least one of a silicon material and a resin material.
발광 칩;
상기 발광 칩에서 출사된 빛에 의해 여기되는 적어도 한 종류의 형광체를 포함하는 광학 필름; 및
상기 광학 필름을 통과한 빛을 확산시키는 광확산부를 포함하며,
상기 광학 필름을 통과한 빛은 85 내지 100의 연색지수(CRI)를 가지고,
상기 형광체는 설파이드 (Sulfide) 계열의 물질을 포함하는 라이트 유닛.
Light emitting chip;
An optical film including at least one type of phosphor excited by light emitted from the light emitting chip; And
It includes a light diffusion unit for diffusing the light passing through the optical film,
Light passing through the optical film has a color rendering index (CRI) of 85 to 100,
The phosphor is a light unit containing a sulfide-based material.
제 13항에 있어서,
상기 광확산부는 상기 광학 필름을 통과한 빛을 확산시키는 도광판 및 확산 시트 중 적어도 하나를 포함하는 라이트 유닛.
The method of claim 13,
The light diffusion unit includes at least one of a light guide plate and a diffusion sheet for diffusing light passing through the optical film.
제 13항에 있어서,
상기 광학 필름은 상기 발광 칩의 출사면에 부착되는 라이트 유닛.
The method of claim 13,
And the optical film is attached to an exit surface of the light emitting chip.
제 14항에 있어서,
상기 광학 필름은 상기 도광판에 부착되는 라이트 유닛.
The method of claim 14,
The optical film is attached to the light guide plate.
제 14항에 있어서,
상기 광학필름은 적색 형광체 및 녹색 형광체를 포함되는 라이트 유닛.
The method of claim 14,
The optical film is a light unit comprising a red phosphor and a green phosphor.
제 17 항에 있어서,
상기 적색 형광체는 CaS:Eu 를 포함하고,
상기 녹색 형광체는 SrGa2S4 : Eu2+ 를 포함하는 라이트 유닛.
The method of claim 17,
The red phosphor comprises CaS: Eu,
The green phosphor is SrGa 2 S 4: Eu light unit including a 2 +.
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