KR20110092217A - Liquid crystal display device, method of manufacturing the same, and polymer composition - Google Patents

Liquid crystal display device, method of manufacturing the same, and polymer composition Download PDF

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Abstract

PURPOSE: A liquid crystal display element, manufacturing method thereof, polymer composition are provided to have wide viewing angle and have high reliability. CONSTITUTION: A manufacturing method of a liquid crystal display element includes as follows. A block(3) is formed by spraying polymer composition containing organic solvent. A liquid crystal cell is arranged by facing the block by interposing a pair of substrate formed on the block on a layer of a liquid crystal molecule layer.

Description

액정 표시 소자와 그의 제조 방법 및, 중합체 조성물 {LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND POLYMER COMPOSITION}Liquid crystal display element, its manufacturing method, and a polymer composition {LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND POLYMER COMPOSITION}

본 발명은, 액정 표시 소자의 제조 방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 시야각이 넓고, 응답 속도가 빠른 액정 표시 소자를 제조하기 위한 신규의 방법에 관한 것이다.This invention relates to the manufacturing method of a liquid crystal display element. More specifically, the present invention relates to a novel method for producing a liquid crystal display device having a wide viewing angle and a fast response speed.

액정 표시 소자 중, 수직 배향 모드로서 종래 알려져 있는 MVA((Multi-Domain Vertical Alignment)형 패널은, 액정 패널 중에 돌기물을 형성하고, 이에 의해 액정 분자의 쓰러지는 방향을 규제함으로써, 시야각의 확대를 도모하고 있다. 그러나, 이 방식에 의하면, 돌기물에 유래하는 투과율 및 콘트라스트의 부족이 불가피하고, 또한 액정 분자의 응답 속도가 느리다는 문제가 있다. Among the liquid crystal display elements, an MVA (Multi-Domain Vertical Alignment) panel conventionally known as a vertical alignment mode forms projections in the liquid crystal panel, thereby restricting the falling direction of the liquid crystal molecules, thereby increasing the viewing angle. However, according to this system, the lack of transmittance and contrast derived from the projections is inevitable, and there is a problem that the response speed of the liquid crystal molecules is slow.

최근, 상기와 같은 MVA형 패널의 문제점을 해결하기 위해, PSA(Polymer Sustained Alignment) 모드가 제안되었다. PSA 모드는, 패턴 형상 도전막 부착 기판 및 패턴을 갖지 않는 도전막 부착 기판으로 이루어지는 한 쌍의 기판의 간극, 혹은 2매의 패턴 형상 도전막 부착 기판으로 이루어지는 한 쌍의 기판의 간극에 중합성의 화합물을 함유하는 액정 조성물을 협지(狹持)하고, 도전막 간에 전압을 인가한 상태에서 자외선을 조사하여 중합성 화합물을 중합하고, 이에 의해 프리틸트각 특성을 발현하여 액정의 배향 방향을 제어하고자 하는 기술이다. 이 기술에 의하면, 도전막을 특정한 구성으로 함으로써 시야각의 확대 및 액정 분자 응답의 고속화를 도모할 수 있어, MVA형 패널에 있어서 불가피했던 투과율 및 콘트라스트의 부족의 문제도 해소된다. 그러나 PSA 모드에서는, 상기 중합성 화합물의 중합을 위해 예를 들면 100,000J/㎡라는 다량의 자외선의 조사가 필요하여, 그 때문에 액정 분자가 분해되는 문제가 발생하는 것 외에, 자외선 조사에 의해서도 중합되지 않았던 미(未)반응 화합물이 액정층 중에 잔존하게 되어, 이들이 서로 작용하여 표시 불균일이 발생하여, 전압 보전 특성에 악영향을 미치거나, 혹은 패널의 장기 신뢰성에 문제가 발생하는 것이 분명해지고 있다. Recently, in order to solve the above problems of the MVA panel, a PSA (Polymer Sustained Alignment) mode has been proposed. PSA mode is a polymerizable compound in a gap between a pair of substrates formed of a substrate with a patterned conductive film and a substrate with a conductive film not having a pattern, or a gap of a pair of substrates formed of two substrates with a patterned conductive film. The liquid crystal composition containing the polymer is sandwiched, and the polymerizable compound is polymerized by irradiating ultraviolet rays in a state where a voltage is applied between the conductive films, thereby expressing a pretilt angle characteristic to control the alignment direction of the liquid crystal. Technology. According to this technique, by setting the conductive film in a specific configuration, it is possible to increase the viewing angle and to speed up the liquid crystal molecular response, and also to solve the problem of lack of transmittance and contrast which is inevitable in the MVA panel. In the PSA mode, however, irradiation of a large amount of ultraviolet light, for example 100,000 J / m 2, is required for the polymerization of the polymerizable compound, which causes a problem that the liquid crystal molecules are decomposed. It is clear that unreacted compounds which have not been left in the liquid crystal layer are caused to interact with each other, resulting in display unevenness, adversely affecting voltage integrity characteristics, or causing problems in long-term reliability of the panel.

이들에 대하여 비특허문헌 1은, 반응성 메소겐(mesogen)을 함유하는 폴리이미드계 액정 배향제로 형성된 액정 배향막을 이용하는 방법을 제안하고 있다. 비특허문헌 1에 의하면, 이러한 방법에 의해 형성된 액정 배향막을 구비하는 액정 표시 소자는, 액정 분자의 응답이 고속이라고 한다. 그러나 비특허문헌 1에는, 어떠한 반응성 메소겐을 어떠한 양으로 사용해야 하는지에 대한 지침은 전혀 기재되어 있지 않고, 또한 필요한 자외선 조사량도 여전히 많아, 표시 특성, 특히 전압 보전 특성에 관한 우려는 불식되고 있지 않다. Non-patent document 1 has proposed the method of using the liquid crystal aligning film formed from the polyimide-type liquid crystal aligning agent containing reactive mesogen (mesogen). According to the nonpatent literature 1, the liquid crystal display element provided with the liquid crystal aligning film formed by such a method says that the response of a liquid crystal molecule is high speed. However, Non-Patent Literature 1 does not describe any reactive mesogen in what amount, and there is still a large amount of ultraviolet irradiation required, and there is no concern about display characteristics, especially voltage integrity characteristics. .

일본공개특허공보 2010-97188호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2010-97188 일본공개특허공보 평5-107544호Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-107544

Y. -J. Lee 등, SID 09 DIGEST, p. 666(2009) Y.-J. Lee et al., SID 09 DIGEST, p. 666 (2009) T. J. Scheffer 등, J. Appl. Phys. vol. 48, p. 1783(1977) T. J. Scheffer et al., J. Appl. Phys. vol. 48, p. 1783 (1977) F. Nakano, 등, JPN. J. Appl. Phys. vol. 19, p. 2013(1980) F. Nakano, et al., JPN. J. Appl. Phys. vol. 19, p. 2013 (1980)

본 발명은, 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 시야각이 넓고, 액정 분자의 응답 속도가 빨라, 표시 특성 및 장기 신뢰성이 우수한 액정 표시 소자의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. This invention is made | formed in view of the said situation, and an object of this invention is to provide the manufacturing method of the liquid crystal display element which has a wide viewing angle, the response speed of liquid crystal molecules is fast, and was excellent in display characteristics and long-term reliability.

본 발명에 의하면, 본 발명의 상기 과제는,According to this invention, the said subject of this invention is

도전막을 갖는 한 쌍의 기판의 당해 도전막 상에, 각각On the said conductive film of a pair of board | substrates which have a conductive film, respectively

(A) 하기식 (A-I):(A) the following formula (A-I):

Figure pat00001
Figure pat00001

(식 (A-I) 중, R은 수소 원자 또는 메틸기이고, Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 산소 원자 또는 황 원자임)(In formula (AI), R is a hydrogen atom or a methyl group, and Y 1 and Y 2 are each independently an oxygen atom or a sulfur atom.)

로 나타나는 기를 갖는 중합체 및,A polymer having a group represented by

(C) 유기 용매(C) organic solvent

를 함유하는 중합체 조성물을 도포하여 도막을 형성하고,A coating film is formed by applying a polymer composition containing

상기 도막을 형성한 한 쌍의 기판을, 액정 분자의 층을 개재하여 상기 도막이 상대하도록 대향 배치하여 액정 셀을 형성하고,A pair of substrates on which the coating film is formed are disposed to face each other such that the coating film is opposed to each other via a layer of liquid crystal molecules to form a liquid crystal cell,

상기 한 쌍의 기판이 갖는 도전막 간에 전압을 인가한 상태에서 상기 액정 셀에 광조사하는 공정을 거치는 액정 표시 소자의 제조 방법에 의해 달성된다. It is achieved by a method for manufacturing a liquid crystal display device which undergoes a step of irradiating light to the liquid crystal cell in a state where a voltage is applied between the conductive films of the pair of substrates.

본 발명의 방법에 의해 제조된 액정 표시 소자는, 시야각이 넓고, 액정 분자의 반응 속도가 빨라, 충분한 투과율 및 콘트라스트를 나타내고, 표시 특성이 우수한 데다, 장시간 연속 구동해도 표시 특성이 손상되는 일이 없다. The liquid crystal display device produced by the method of the present invention has a wide viewing angle, a fast reaction rate of liquid crystal molecules, exhibits sufficient transmittance and contrast, excellent display characteristics, and no display characteristics deterioration even when continuously driven for a long time. .

또한, 본 발명의 방법에 의하면, 조사에 필요한 빛의 양이 적어도 되기 때문에, 액정 분자 분해의 문제가 없어, 액정 표시 소자의 제조 비용의 삭감에도 이바지한다. In addition, according to the method of the present invention, since the amount of light required for irradiation is at least minimized, there is no problem of liquid crystal molecule decomposition, which also contributes to the reduction of the manufacturing cost of the liquid crystal display element.

따라서, 본 발명의 방법에 의해 제조된 액정 표시 소자는, 성능면 및 비용면의 쌍방에 있어서 종래 알려져 있는 액정 표시 소자보다 우수하여, 여러 가지 용도에 매우 적합하게 적용할 수 있다. Therefore, the liquid crystal display element manufactured by the method of this invention is superior to the liquid crystal display element known conventionally both in a performance point and a cost point, and can be applied suitably to various uses.

도 1은 실시예 및 비교예에서 제조한, 패터닝된 투명 도전막을 갖는 액정 셀 (1)에 있어서의 투명 도전막의 패턴을 나타내는 설명도이다.
도 2는 실시예 및 비교예에서 제조한, 패터닝된 투명 도전막을 갖는 액정 셀 (2)에 있어서의 투명 도전막의 패턴을 나타내는 설명도이다.
FIG. 1: is explanatory drawing which shows the pattern of the transparent conductive film in the liquid crystal cell 1 which has the patterned transparent conductive film manufactured by the Example and the comparative example.
FIG. 2: is explanatory drawing which shows the pattern of the transparent conductive film in the liquid crystal cell 2 which has the patterned transparent conductive film manufactured by the Example and the comparative example.

(발명을 실시하기 위한 형태)(Form to carry out invention)

<중합체 조성물><Polymer composition>

본 발명의 방법에 있어서 이용되는 중합체 조성물은,The polymer composition used in the method of the present invention,

(A) 하기식 (A-I):(A) the following formula (A-I):

Figure pat00002
Figure pat00002

(식 (A-I) 중, R은 수소 원자 또는 메틸기이고, Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 산소 원자 또는 황 원자임)(In formula (AI), R is a hydrogen atom or a methyl group, and Y 1 and Y 2 are each independently an oxygen atom or a sulfur atom.)

로 나타나는 기를 갖는 중합체(이하, 「중합체 (A)」라고도 함) 및,A polymer having a group represented by the following (hereinafter also referred to as "polymer (A)"),

(C) 유기 용매(C) organic solvent

를 함유한다. It contains.

상기 중합체 조성물에 있어서의 중합체 (A)는 바람직하게는 (메타)아크릴계 중합체이고, 당해 중합체 조성물은 바람직하게는 추가로,The polymer (A) in the polymer composition is preferably a (meth) acrylic polymer, and the polymer composition is preferably further

(B) 폴리암산, 그의 이미드화 중합체 및 폴리오르가노실록산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 중합체(이하, 「중합체 (B)」라고도 함)를 함유한다.(B) It contains at least 1 sort (s) of polymer (henceforth "polymer (B)") chosen from the group which consists of polyamic acid, its imidation polymer, and polyorganosiloxane.

[중합체 (A)][Polymer (A)]

본 발명에서 이용되는 중합체 (A)는, 상기식 (A-I)로 나타나는 기를 갖는다. 상기식 (A-I)에 있어서의 Y1 및 Y2는 각각 산소 원자인 것이 바람직하다. The polymer (A) used by this invention has group represented by said formula (AI). Y 1 and Y 2 in the formula (AI) are each preferably an oxygen atom.

중합체 (A)는, 상기식 (A-I)로 나타나는 기를 0.4∼3.0밀리몰/g의 범위에서 함유하는 것이 바람직하고, 1.0∼2.5밀리몰/g의 범위에서 함유하는 것이 보다 바람직하다. It is preferable to contain the group represented by said formula (A-I) in 0.4-3.0 mmol / g, and, as for a polymer (A), it is more preferable to contain in 1.0-2.5 mmol / g.

중합체 (A)는, 상기식 (A-I)로 나타나는 기 외에, 하기식 (P):In addition to the group represented by the above formula (A-I), the polymer (A) has the following formula (P):

Figure pat00003
Figure pat00003

(식 (P) 중, RI은 탄소수 4∼40의 알킬기 또는 탄소수 4∼40의 플루오로알킬기이거나, 또는 스테로이드 골격을 갖는 탄소수 17∼51의 탄화 수소기이고; (In formula (P), R I is a C4-C40 alkyl group or a C4-C40 fluoroalkyl group, or a C17-51 hydrocarbon group which has a steroid skeleton;

ZI은 단결합, *-O-, *-COO-, *-OCO-(단 이상에 있어서, 「*」을 붙인 결합손이 RI측임)이고, Z I is a single bond, * -O-, * -COO-, * -OCO- (wherein the bond at which "*" is attached is R I side),

R는 사이클로헥실렌기 또는 페닐렌기이고,R II is a cyclohexylene group or a phenylene group,

Z는 단결합 또는 *-(CH2)n5- (단, 「*」을 붙인 결합손이 RI측이고, n5는 1∼5의 정수임)이고,Z II is a single bond or * -(CH 2 ) n 5- (wherein the bond to which "*" is attached is R I side and n5 is an integer of 1 to 5),

n1은 1∼5의 정수이고, n1 is an integer of 1 to 5,

단 n1이 2 이상일 때, 복수로 존재하는 R 및 Z는 각각 서로 동일해도 상이해도 좋고, However, when n1 is two or more, two or more R <II> and Z <II> may mutually be same or different,

n2는 0 또는 1이고; n2 is 0 or 1;

Z*-O-, *-COO- 또는 *-OCO-(단, 「*」을 붙인 결합손이 RI측임)이고, Z III is * -O-, * -COO- or * -OCO- (wherein the bond to which "*" is attached is the R I side),

n3은 0∼2의 정수이고, n3 is an integer of 0 to 2,

n4는 0 또는 1임) n4 is 0 or 1)

로 나타나는 기를 추가로 갖는 것이 바람직하다. It is preferable to further have group represented by.

상기식 (P)에 있어서의 RI의 탄소수 4∼40의 알킬기로서는, 탄소수 6∼40의 알킬기가 바람직하고, 구체적으로는 예를 들면 헥실기, 옥틸기, 데실기, 도데실기, 헥사데실기, 스테아릴기 등을; As a C4-C40 alkyl group of R <I> in said Formula (P), a C6-C40 alkyl group is preferable, Specifically, for example, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group A stearyl group;

탄소수 4∼40의 플루오로알킬기로서는, 탄소수 4∼20의 플루오로알킬기가 바람직하고, 구체적으로는 예를 들면 트리플루오로메틸프로필기, 트리플루오로메틸부틸기, 트리플루오로메틸헥실기, 트리플루오로메틸데실기, 펜타플루오로에틸프로필기, 펜타플루오로에틸부틸기, 펜타플루오로에틸옥틸기 등을; As a C4-C40 fluoroalkyl group, a C4-C20 fluoroalkyl group is preferable, Specifically, a trifluoromethylpropyl group, a trifluoromethylbutyl group, a trifluoromethylhexyl group, a tri, Fluoromethyldecyl group, pentafluoroethylpropyl group, pentafluoroethylbutyl group, pentafluoroethyloctyl group, etc .;

스테로이드 골격을 갖는 17∼51의 탄화 수소기로서는, 예를 들면 콜레스타닐기, 콜레스테닐기, 라노스타닐기 등을 각각 들 수 있다. As a 17-51 hydrocarbon group which has a steroid skeleton, a cholestanyl group, a cholesteryl group, a lanostanyl group, etc. are mentioned, for example.

상기의 알킬기 및 플루오로알킬기는 각각 직쇄의 기인 것이 바람직하다. It is preferable that the said alkyl group and the fluoroalkyl group are each a linear group.

상기식 (P)에 있어서의 R의 사이클로헥실렌기 및 페닐렌기는 각각 1,4-사이클로헥실렌기 및 1,4-페닐렌기인 것이 바람직하다. It is preferable that the cyclohexylene group and the phenylene group of R <II> in said Formula (P) are 1, 4- cyclohexylene group and 1, 4- phenylene group, respectively.

상기식 (P)에 있어서의 n1은 1∼4의 정수인 것이 바람직하다. It is preferable that n1 in said Formula (P) is an integer of 1-4.

상기식 (P)에 있어서 -(R-Z)n1-로 나타나는 2가의 기로서는, n1이 1인 경우로서, 예를 들면 1,4-페닐렌기, 1,4-사이클로헥실렌기 등을; In the formula (P) - (R Ⅱ -Z Ⅱ) n1 - As the divalent group represented by, as if n1 is 1, for example, 1,4-phenylene, 1,4-cyclohexylene group, etc. of;

n1이 2인 경우로서, 예를 들면 4,4'-비페닐렌기, 4,4'-바이사이클로헥실렌기, 하기식:As n1 is 2, for example, a 4,4'-biphenylene group, a 4,4'-bicyclohexylene group, and a following formula:

Figure pat00004
Figure pat00004

(상기식 중, 「*」을 붙인 결합손이 RI측임) (In the above formula, the bonding hand with "*" is the R I side.)

의 각각으로 나타나는 기 등을;The group represented by each of;

n1이 3인 경우로서 하기식:When n1 is 3, the following formula:

Figure pat00005
Figure pat00005

(상기식 중, 「*」을 붙인 결합손이 RI측임) (In the above formula, the bonding hand with "*" is the R I side.)

으로 나타나는 기 등을; Such as represented by;

n1이 4인 경우로서 하기식:When n1 is 4, the following formula:

Figure pat00006
Figure pat00006

(상기식 중, 「*」을 붙인 결합손이 RI측임) (In the above formula, the bonding hand with "*" is the R I side.)

으로 나타나는 기 등을 각각 바람직한 것으로서 들 수 있다. The group etc. which are represented by these are mentioned as a preferable thing, respectively.

상기식 (P)에 있어서의 n3은 2인 것이 바람직하다. Z*-(CH2)n5-인 경우의 n5로서는 1 또는 2인 것이 바람직하다. It is preferable that n3 in said Formula (P) is 2. Z is * - (CH 2) n5 - that the n5 is 1 or 2. As the case is preferred.

중합체 (A)는, 상기식 (P)로 나타나는 기를 0.7밀리몰/g 이하의 범위에서 함유하는 것이 바람직하고, 0.1∼0.5밀리몰/g의 범위에서 함유하는 것이 보다 바람직하다. It is preferable to contain the group represented by said formula (P) in 0.7 mmol / g or less, and, as for a polymer (A), it is more preferable to contain in 0.1-0.5 mmol / g.

중합체 (A)에 대해서, 겔 투과 크로마토그래피(GPC, 용출 용매:테트라하이드로푸란)로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(이하, 「Mw」라고 함)은, 1,000∼100,000인 것이 바람직하고, 더욱이 3,000∼50,000인 것이 바람직하다. 또한, 동일한 조건에서 측정한 폴리스티렌 환산의 수 평균 분자량(이하, 「Mn」이라고 함)은, 700∼80,000인 것이 바람직하고, 더욱이 2,000∼40,000인 것이 바람직하다. It is preferable that the weight average molecular weight (henceforth "Mw") of polystyrene conversion measured by the gel permeation chromatography (GPC, elution solvent: tetrahydrofuran) about a polymer (A) is 1,000-100,000, Furthermore, It is preferable that it is 3,000-50,000. Moreover, it is preferable that the number average molecular weight (henceforth "Mn") of polystyrene conversion measured on the same conditions is 700-80,000, Furthermore, it is preferable that it is 2,000-40,000.

중합체 (A)는, (메타)아크릴계 중합체인 것이 바람직하다. 여기에서, 「(메타)아크릴계 중합체」란, 아크릴산, 메타크릴산, 아크릴산 에스테르 및 메타크릴산 에스테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종에 유래하는 구조 단위를 갖는 중합체를 말한다. It is preferable that a polymer (A) is a (meth) acrylic-type polymer. Here, "(meth) acrylic-type polymer" means the polymer which has a structural unit derived from at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of acrylic acid, methacrylic acid, acrylic acid ester, and methacrylic acid ester.

중합체 (A)의 제조 방법으로서는, 상기의 요건을 충족시키는 것인 한 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 기 Z1을 갖는 중합체를,The method for producing the polymer (A) is not particularly limited as long as it satisfies the above requirements, but for example, a polymer having a group Z 1 ,

상기식 (A-I)로 나타나는 기 및 기 Z2의 쌍방을 갖는 화합물, 또는 A compound having both a group represented by the formula (AI) and a group Z 2 , or

상기식 (A-I)로 나타나는 기 및 기 Z2의 쌍방을 갖는 화합물과 상기식 (A-I)로 나타나는 기를 갖지 않고 기 Z2를 갖는 화합물과의 혼합물 It does not have a group represented by the formula (AI) group and a compound having both the group Z 2 and the formula (AI) represented by the group in admixture with a compound having a Z 2

(여기에서, 기 Z1 및 Z2는 각각 이들이 반응하여 결합기를 생성하는 기임)Wherein groups Z 1 and Z 2 are each groups to which they react to form a bond group

과 반응시킴으로써 제조할 수 있다. 이때, 원료로서 사용되는 중합체를, 기 Z1 외에 상기식 (P)로 나타나는 기도 갖는 것으로 함으로써, 상기식 (A-I)로 나타나는 기 및 상기식 (P)로 나타나는 기의 쌍방을 갖는 중합체 (A)를 얻을 수 있다. It can manufacture by reacting with. In this case, a polymer used as a raw material based polymer (A) having both a group represented by the group, and the formula (P) other than Z 1 represented by the formula (AI) by as having airway represented by the above formula (P) Can be obtained.

상기 기 Z1로서는, 예를 들면 카복실기, 수산기, 산 무수물기 등을 들 수 있다. 기 Z2로서는, 기 Z1이 카복실기일 때는 에폭시기가; Examples of the group Z 1, for example, a carboxyl group, a hydroxyl group, an acid anhydride group, and the like. As the group Z 2, Z 1 group is an epoxy group when the carboxyl date;

기 Z1이 수산기일 때는 이소시아네이트기가; When the group Z 1 is a hydroxyl group, an isocyanate group;

기 Z1이 에폭시기일 때는 카복실기가; When the group Z 1 is an epoxy group, a carboxyl group;

기 Z1이 산 무수물기일 때는 수산기 또는 에폭시기가 각각 바람직하다. When the group Z 1 acid anhydride date is preferable that each hydroxyl group or an epoxy group.

기 Z1로서 카복실기를 갖는 중합체(이하, 「중합체 (b-1)」이라고 함)로서는, 예를 들면 카복실기를 갖는 중합성 불포화 화합물의 중합체, 카복실기를 갖는 중합성 불포화 화합물과 그 외의 중합성 불포화 화합물과의 공중합체, 폴리암산, 폴리암산의 부분 이미드화 중합체 등을 들 수 있지만, Group includes (hereinafter referred to as a "polymer (b-1)") polymer having a carboxyl group as Z 1, for example, polymerization having a carboxyl group polymerizable with the polymer, a carboxyl group of the unsaturated compound, unsaturated compound and other polymerizable unsaturated Copolymers with compounds, polyamic acid, partially imidized polymers of polyamic acid, and the like,

중합체 (A)가 (메타)아크릴계 중합체인 것이 바람직한 점에서, 그의 전구체인 중합체 (b-1)은, Since it is preferable that a polymer (A) is a (meth) acrylic-type polymer, the polymer (b-1) which is its precursor,

(메타)아크릴산 및 카복실기를 갖는 (메타)아크릴산 에스테르로부터 선택되는 적어도 1종의 중합성 불포화 화합물의 (공)중합체, 그리고(Co) polymers of at least one polymerizable unsaturated compound selected from (meth) acrylic acid esters having (meth) acrylic acid and a carboxyl group, and

카복실기를 갖는 중합성 불포화 화합물과 카복실기를 갖지 않는 (메타)아크릴산 에스테르와의 공중합체Copolymer of a polymerizable unsaturated compound having a carboxyl group with a (meth) acrylic acid ester having no carboxyl group

로부터 선택되는 (메타)아크릴계 중합체인 것이 바람직하다. It is preferable that it is a (meth) acrylic-type polymer chosen from.

상기의 카복실기를 갖는 중합성 불포화 화합물로서는, 예를 들면 (메타)아크릴산, 말레산; As a polymerizable unsaturated compound which has the said carboxyl group, For example, (meth) acrylic acid and maleic acid;

(메타)아크릴산과 락톤을 부가하여 얻어지는 불포화 화합물; 및 Unsaturated compounds obtained by adding (meth) acrylic acid and lactones; And

하이드록시알킬(메타)아크릴레이트와 2염기산 또는 그 무수물을 부가하여 얻어지는 불포화 화합물과로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 2염기산으로서는, 예를 들면 숙신산, 말레산, 프탈산 등을 들 수 있다. 이들 중, (메타)아크릴산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸숙신산 및 ω-카복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하고, 더욱이 (메타)아크릴산이 바람직하다. It is preferable to use 1 or more types chosen from the group which consists of an unsaturated compound obtained by adding hydroxyalkyl (meth) acrylate, a dibasic acid, or its anhydride. As said dibasic acid, succinic acid, maleic acid, phthalic acid etc. are mentioned, for example. Of these, at least one selected from the group consisting of (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylsuccinic acid and ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate is preferably used, and furthermore ( Meta) acrylic acid is preferred.

중합체 (b-1)이 카복실기를 갖는 중합성 불포화 화합물과 그 외의 중합성 불포화 화합물과의 공중합체인 경우, 그 외의 중합성 불포화 화합물의 일부 또는 전부를 상기식 (P)로 나타나는 기를 갖는 중합성 불포화 화합물(이하, 「화합물 (P)」라고 함)로 함으로써, 카복실기 및 상기식 (P)로 나타나는 기의 쌍방을 갖는 중합체로 할 수 있다. In the case where the polymer (b-1) is a copolymer of a polymerizable unsaturated compound having a carboxyl group and another polymerizable unsaturated compound, a polymerizable unsaturated compound having a group represented by the above formula (P) in part or all of the other polymerizable unsaturated compounds By setting it as a compound (henceforth "a compound (P)"), it can be set as the polymer which has both a carboxyl group and the group represented by said formula (P).

상기 화합물 (P)로서는, 상기식 (P)로 나타나는 기를 갖는 (메타)아크릴산 에스테르인 것이 바람직하다. As said compound (P), it is preferable that it is (meth) acrylic acid ester which has group represented by said formula (P).

이러한 화합물 (P)로서는, 예를 들면 콜레스타닐아크릴레이트, 4-(4'-n-프로필바이사이클로헥실-4-일)페닐메타크릴레이트, 4-(4'-n-부틸바이사이클로헥실-4-일)페닐메타크릴레이트, 4-(4'-n-펜틸바이사이클로헥실-4-일)페닐메타크릴레이트, 4-(4'-n-헥실바이사이클로헥실-4-일)페닐메타크릴레이트, 4-(4'-n-헵틸바이사이클로헥실-4-일)페닐메타크릴레이트, 4-(4'-n-프로필바이사이클로헥실-4-일)페닐아크릴레이트, 4-(4'-n-부틸바이사이클로헥실-4-일)페닐아크릴레이트, 4-(4'-n-펜틸바이사이클로헥실-4-일)페닐아크릴레이트, 4-(4'-n-헥실바이사이클로헥실-4-일)페닐아크릴레이트, 4-(4'-n-헵틸바이사이클로헥실-4-일)페닐아크릴레이트, 4-(4-n-헵틸사이클로헥실)페닐메타크릴레이트, 4-(4-n-헵틸사이클로헥실)페닐아크릴레이트, 4-(4-n-프로필사이클로헥실)페닐메타크릴레이트, 4-(4-n-프로필사이클로헥실)페닐아크릴레이트, 4-(4-n-부틸사이클로헥실)페닐메타크릴레이트, 4-(4-n-부틸사이클로헥실)페닐아크릴레이트, 4-(4-n-펜틸사이클로헥실)페닐메타크릴레이트, 4-(4-n-펜틸사이클로헥실)페닐아크릴레이트, 4-(4-n-헥실사이클로헥실)페닐메타크릴레이트, 4-(4-n-헥실사이클로헥실)페닐아크릴레이트, 4-도데실-페닐메타크릴레이트, 4-도데실페닐아크릴레이트 4-옥타데카닐-페닐메타크릴레이트, 4-옥타데카닐페닐아크릴레이트, 콜레스타닐메타크릴레이트 등을 들 수 있고,As such a compound (P), for example, cholestanyl acrylate, 4- (4'-n-propylbicyclohexyl-4-yl) phenyl methacrylate, 4- (4'-n-butylbicyclohexyl -4-yl) phenyl methacrylate, 4- (4'-n-pentylbicyclohexyl-4-yl) phenyl methacrylate, 4- (4'-n-hexylbicyclohexyl-4-yl) phenyl Methacrylate, 4- (4'-n-heptylbicyclohexyl-4-yl) phenylmethacrylate, 4- (4'-n-propylbicyclohexyl-4-yl) phenylacrylate, 4- ( 4'-n-butylbicyclohexyl-4-yl) phenylacrylate, 4- (4'-n-pentylbicyclohexyl-4-yl) phenylacrylate, 4- (4'-n-hexylbicyclo Hexyl-4-yl) phenylacrylate, 4- (4'-n-heptylbicyclohexyl-4-yl) phenylacrylate, 4- (4-n-heptylcyclohexyl) phenylmethacrylate, 4- ( 4-n-heptylcyclohexyl) phenylacrylate, 4- (4-n-propylcyclohexyl) phenylmethacrylate, 4- ( 4-n-propylcyclohexyl) phenylacrylate, 4- (4-n-butylcyclohexyl) phenylmethacrylate, 4- (4-n-butylcyclohexyl) phenylacrylate, 4- (4-n- Pentylcyclohexyl) phenyl methacrylate, 4- (4-n-pentylcyclohexyl) phenyl acrylate, 4- (4-n-hexylcyclohexyl) phenyl methacrylate, 4- (4-n-hexylcyclohexyl ) Phenyl acrylate, 4-dodecyl-phenyl methacrylate, 4-dodecylphenyl acrylate 4-octadecanyl-phenyl methacrylate, 4-octadecanylphenyl acrylate, cholestanyl methacrylate, etc. You can

수직 배향성의 관점에서, 4-(4'-n-펜틸바이사이클로헥실-4-일)페닐메타크릴레이트, 콜레스타닐메타크릴레이트, 4-(4'-n-펜틸바이사이클로헥실-4-일)페닐아크릴레이트 및 콜레스타닐아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 이용하는 것이 특히 바람직하다. In terms of vertical orientation, 4- (4'-n-pentylbicyclohexyl-4-yl) phenyl methacrylate, cholestanyl methacrylate, 4- (4'-n-pentylbicyclohexyl-4- It is especially preferable to use at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of 1) phenyl acrylate and cholestanyl acrylate.

상기식 (P)로 나타나는 기를 갖지 않는 중합성 불포화 화합물(이하, 「화합물 (Q-1)」이라고 함)로서는, 예를 들면 (메타)아크릴산 에스테르, 비닐 방향족 화합물, N-치환 말레이미드 및 매크로모노머(macromonomer)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하고, As a polymerizable unsaturated compound (henceforth "a compound (Q-1)") which does not have group represented by said formula (P), it is a (meth) acrylic acid ester, a vinyl aromatic compound, N-substituted maleimide, and a macro, for example. It is preferable to use at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a monomer (macromonomer),

특히 스티렌, α-메틸스티렌, 아세나프틸렌(acenaphthalene), 메틸(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 글리세롤모노(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 트리사이클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일(메타)아크릴레이트, 파라쿠밀(paracumyl)페놀의 에틸렌옥사이드변성(메타)아크릴레이트, N-사이클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드 및 N-페닐말레이미드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하다. Especially styrene, α-methylstyrene, acenaphthalene, methyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2- Hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate , Isobornyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane-8-yl (meth) acrylate, ethylene oxide modified (meth) acrylate of paracumylphenol, N-cyclo It is preferable to use at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of hexyl maleimide, N-benzyl maleimide, and N-phenyl maleimide.

중합체 (b-1)의 제조에 있어서의 카복실기를 갖는 중합성 불포화 화합물의 사용 비율로서는, 전체 중합성 불포화 화합물의 합계 중량에 대하여 4중량% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 5∼50중량%로 하는 것이 보다 바람직하고, 더욱이 10∼40중량%로 하는 것이 바람직하다. 화합물 (P)의 사용 비율로서는, 전부의 중합성 불포화 화합물의 합계에 대하여 60중량% 이하로 하는 것이 바람직하고, 5∼50중량%로 하는 것이 보다 바람직하고, 더욱이 10∼40중량%로 하는 것이 바람직하다. 화합물 (Q-1)의 사용 비율로서는, 전체 중합성 불포화 화합물의 합계 중량에 대하여 60중량% 이하로 하는 것이 바람직하고, 5∼50중량%로 하는 것이 보다 바람직하고, 더욱이 10∼40중량%로 하는 것이 바람직하다. As a use ratio of the polymerizable unsaturated compound which has a carboxyl group in manufacture of a polymer (b-1), it is preferable to set it as 4 weight% or more with respect to the total weight of all the polymerizable unsaturated compounds, and to set it as 5-50 weight%. It is more preferable, and it is preferable to set it as 10-40 weight% further. As a usage ratio of a compound (P), it is preferable to set it as 60 weight% or less with respect to the total of all the polymerizable unsaturated compounds, It is more preferable to set it as 5-50 weight%, Furthermore, it is set as 10-40 weight% desirable. As a usage ratio of a compound (Q-1), it is preferable to set it as 60 weight% or less with respect to the total weight of all the polymerizable unsaturated compounds, It is more preferable to set it as 5-50 weight%, Furthermore, to 10-40 weight% It is desirable to.

상기와 같은 중합성 불포화 단량체를 이용하는 중합체 (b-1)의 제조는, 공지의 라디칼 중합법에 의해 행할 수 있다. Production of the polymer (b-1) using the above-mentioned polymerizable unsaturated monomer can be performed by a well-known radical polymerization method.

중합체 (b-1)이 폴리암산 또는 그의 부분 이미드화 중합체인 경우, 이들은 각각 후술하는 중합체 (B)에 있어서의 폴리암산 또는 그의 이미드화 중합체의 합성과 동일하게 하여 제조할 수 있다. 중합체 (b-1)로서 폴리암산의 부분 이미드화 중합체를 사용하는 경우, 상기식 (A-I)로 나타나는 기의 도입 비율을 소망하는 값으로 하기 위해, 중합체의 이미드화율은 50% 이하로 하는 것이 바람직하고, 30% 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 폴리암산 및 폴리암산의 부분 이미드화 중합체를, 상기식 (P)로 나타나는 기를 갖는 것으로 하는 경우, 후술하는 특정 디아민을, 전체 디아민에 대하여 40몰% 이하의 범위에서 사용하는 것이 바람직하고, 10∼30몰%의 범위에서 사용하는 것이 보다 바람직하다. When a polymer (b-1) is a polyamic acid or its partial imidation polymer, these can be manufactured similarly to the synthesis of the polyamic acid or its imidation polymer in the polymer (B) mentioned later, respectively. When using the polyimide partial imidation polymer as a polymer (b-1), in order to make the introduction ratio of the group represented by said formula (AI) into a desired value, it is preferable that the imidation ratio of a polymer shall be 50% or less. It is preferable and it is more preferable to set it as 30% or less. In the case where the partially imidized polymer of polyamic acid and polyamic acid has a group represented by the above formula (P), it is preferable to use the specific diamine described later in a range of 40 mol% or less with respect to the total diamine, and from 10 to 10 It is more preferable to use in 30 mol% of range.

이상과 같이 하여 얻어진 중합체 (b-1)을, 상기식 (A-I)로 나타나는 기 및 에폭시기의 쌍방을 갖는 화합물(이하, 「화합물 (c-1)」이라고 함)과 반응시킴으로써, 중합체 (A)를 얻을 수 있다. The polymer (A) by reacting the polymer (b-1) obtained as described above with a compound having both of the group represented by the formula (AI) and the epoxy group (hereinafter referred to as "compound (c-1)"). Can be obtained.

여기에서 이용되는 화합물 (c-1)로서는, 글리시딜기와 상기식 (A-I)로 나타나는 기를 갖는 불포화 화합물 및 지환식 에폭시기와 상기식 (A-I)로 나타나는 기를 갖는 불포화 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하고, The compound (c-1) used herein includes at least one selected from the group consisting of an unsaturated compound having a glycidyl group and a group represented by formula (AI) and an unsaturated compound having an alicyclic epoxy group and a group represented by formula (AI). It is preferable to use 1 type,

특히 글리시딜(메타)아크릴레이트, 알릴글리시딜에테르, 글리시딜-α-에틸아크릴레이트, 크로토닐(crotonyl)글리시딜에테르, (이소)크로톤산 글리시딜에테르, N-(3,5-디메틸-4-글리시딜)벤질아크릴아미드, 4-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르, 2-(2,3-에폭시사이클로펜틸)에틸(메타)아크릴레이트, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸(메타)아크릴레이트 및 2-(7,8-에폭시〔트리사이클로[5.2.1.0]데시-2-일〕)에틸(메타)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하다. In particular, glycidyl (meth) acrylate, allyl glycidyl ether, glycidyl-α-ethyl acrylate, crotonyl glycidyl ether, (iso) crotonic acid glycidyl ether, N- (3 , 5-dimethyl-4-glycidyl) benzylacrylamide, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl ether, p-vinylbenzyl glycidyl ether, 2- (2,3-epoxycyclopentyl) Ethyl (meth) acrylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl (meth) acrylate and 2- (7,8-epoxy [tricyclo [5.2.1.0] dec-2-yl]) ethyl ( It is preferable to use at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a meta) acrylate.

중합체 (b-1)과 화합물 (c-1)과의 반응에 있어서의, 화합물 (c-1)의 사용 비율로서는, 중합체 (b-1)을 갖는 카복실기 1몰에 대하여 0.5∼1.0몰로 하는 것이 바람직하고, 0.6∼0.9몰로 하는 것이 보다 바람직하다. As a use ratio of the compound (c-1) in reaction of a polymer (b-1) and a compound (c-1), it shall be 0.5-1.0 mol with respect to 1 mol of carboxyl groups which have a polymer (b-1). It is preferable to set it as 0.6-0.9 mol, and it is more preferable.

중합체 (b-1)과 화합물 (c-1)과의 반응은, 필요에 따라 적당한 용매 중에서, 바람직하게는 촉매의 존재하에 행해진다. The reaction between the polymer (b-1) and the compound (c-1) is carried out in a suitable solvent, if necessary, preferably in the presence of a catalyst.

여기에서 사용되는 용매로서는, 예를 들면 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 아세트산 메톡시부틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등을 들 수 있다. 용매의 사용 비율은, 반응 용액의 고형분 농도(반응 용액 중의 용매 이외의 성분의 합계 중량이 반응 용액의 전체 중량에 차지하는 비율을 말함. 중합체 (A)의 설명에 있어서 이하 동일)가 20∼60중량%가 되는 비율로 하는 것이 바람직하다. As a solvent used here, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, methoxy butyl acetate, a propylene glycol monomethyl ether acetate, etc. are mentioned, for example. Can be. The use ratio of the solvent refers to the ratio of the solid content concentration (the total weight of components other than the solvent in the reaction solution to the total weight of the reaction solution. The same applies in the description of the polymer (A)) to 20 to 60 weight. It is preferable to set it as the ratio used as%.

사용되는 촉매로서는, 예를 들면 3급 아민, 4급 암모늄염, 알킬우레아, 이미다졸 화합물 등을 들 수 있다. 이들의 구체예로서, 상기 3급 아민으로서 예를 들면 디메틸벤질아민 등을; As a catalyst used, a tertiary amine, a quaternary ammonium salt, an alkylurea, an imidazole compound, etc. are mentioned, for example. As these specific examples, For example, dimethylbenzylamine etc. are mentioned as said tertiary amine;

상기 4급 암모늄염으로서 예를 들면 테트라부틸암모늄브로마이드, 테트라부틸포스포늄클로라이드, 테트라페닐포스포늄브로마이드, 헥사메틸포스포로트리아미드 등을; Examples of the quaternary ammonium salts include tetrabutylammonium bromide, tetrabutylphosphonium chloride, tetraphenylphosphonium bromide, hexamethylphosphorotriamide and the like;

상기 알킬우레아로서 예를 들면 3-(3',4'-디클로로페닐)-1,1-디메틸우레아 등을; Examples of the alkylurea include 3- (3 ', 4'-dichlorophenyl) -1,1-dimethylurea;

상기 이미다졸 화합물로서 예를 들면 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-운데실이미다졸, 2-페닐이미다졸 등을 각각 들 수 있다. 촉매의 사용 비율은, 중합체 (b-1)과 화합물 (c-1)과의 합계 100중량부에 대하여 0.001∼10중량부로 하는 것이 바람직하다. As said imidazole compound, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-undecyl imidazole, 2-phenylimidazole, etc. are mentioned, respectively. It is preferable that the usage ratio of a catalyst shall be 0.001-10 weight part with respect to a total of 100 weight part of a polymer (b-1) and a compound (c-1).

반응 온도는 바람직하게는 70∼110℃이고, 보다 바람직하게는 75∼90℃이다. The reaction temperature is preferably 70 to 110 ° C, more preferably 75 to 90 ° C.

반응 시간은 바람직하게는 2∼15시간이고, 보다 바람직하게는 5∼10시간이다. The reaction time is preferably 2 to 15 hours, more preferably 5 to 10 hours.

기 Z1로서 수산기를 갖는 중합체(이하, 「중합체 (b-2)」라고 함)로서는, 예를 들면 수산기를 갖는 중합성 불포화 화합물의 중합체, 수산기를 갖는 중합성 불포화 화합물과 그 외의 중합성 불포화 화합물과의 공중합체 등을 들 수 있다. As the polymer (hereinafter referred to as "polymer (b-2)") having a hydroxyl group as the group Z 1, for example, polymerization having hydroxyl groups polymerizable with the polymer, the hydroxyl group of the unsaturated compound, unsaturated compound and other polymerizable unsaturated The copolymer with a compound, etc. are mentioned.

상기의 수산기를 갖는 중합성 불포화 화합물로서는, 예를 들면 4-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 글리세롤모노(메타)아크릴레이트 등의 하이드록시알킬(메타)아크릴레이트 외에, N-메틸올아크릴아미드, 알릴알코올 등을 들 수 있고, 이들 중으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 바람직하다. As a polymerizable unsaturated compound which has the said hydroxyl group, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, glycerol mono (meth), for example In addition to the hydroxyalkyl (meth) acrylates, such as an acrylate, N-methylol acrylamide, allyl alcohol, etc. are mentioned, It is preferable to use 1 or more types chosen from these.

중합체 (b-2)가 수산기를 갖는 중합성 불포화 화합물과 그 외의 중합성 불포화 화합물과의 공중합체인 경우, 그 외의 중합성 불포화 화합물의 일부 또는 전부를 상기식 (P)로 나타나는 기를 갖는 중합성 불포화 화합물로 함으로써, 수산기 및 상기식 (P)로 나타나는 기의 쌍방을 갖는 중합체로 할 수 있다. 여기에서 상기식 (P)로 나타나는 기를 갖는 중합성 불포화 화합물로서는, 전술한 화합물 (P)와 동일한 것을 사용할 수 있다. In the case where the polymer (b-2) is a copolymer of a polymerizable unsaturated compound having a hydroxyl group and another polymerizable unsaturated compound, a polymerizable unsaturated compound having a group represented by the above formula (P) in part or all of the other polymerizable unsaturated compounds By setting it as a compound, it can be set as the polymer which has both a hydroxyl group and the group represented by said formula (P). Here, as the polymerizable unsaturated compound having a group represented by the formula (P), the same compounds as those of the compound (P) described above can be used.

중합체 (b-2)의 제조에 이용되는 상기식 (P)로 나타나는 기를 갖지 않는 그 외의 중합성 불포화 화합물(이하, 「화합물 (Q-2)」라고 함)로서는, 수산기 및 상기식 (P)로 나타나는 기의 쌍방 모두를 갖지 않는 (메타)아크릴산 에스테르, 비닐 방향족 화합물, N-치환 말레이미드 및 매크로모노머로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하고, As another polymerizable unsaturated compound (henceforth a "compound (Q-2)") which does not have group represented by said formula (P) used for manufacture of a polymer (b-2), it is a hydroxyl group and said formula (P). It is preferable to use at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a (meth) acrylic acid ester, a vinyl aromatic compound, N-substituted maleimide, and a macromonomer which do not have both of the groups represented by

특히 스티렌, α-메틸스티렌, 아세나프틸렌, 메틸(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 트리사이클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일(메타)아크릴레이트, 파라쿠밀페놀의 에틸렌옥사이드변성(메타)아크릴레이트, N-사이클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드 및 N-페닐말레이미드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하다. Especially styrene, α-methylstyrene, acenaphthylene, methyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2 -Ethylhexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane-8-yl (meth) acrylate, ethylene oxide modified (meth) acrylic of paracumylphenol It is preferable to use at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a rate, N-cyclohexyl maleimide, N-benzyl maleimide, and N-phenyl maleimide.

중합체 (b-2)의 제조에 있어서의 수산기를 갖는 중합성 불포화 화합물의 사용 비율로서는, 전체 중합성 불포화 화합물의 합계 중량에 대하여 20중량% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 30∼80중량%로 하는 것이 보다 바람직하고, 더욱이 40∼70중량%로 하는 것이 바람직하다. 화합물 (P)의 사용 비율로서는, 전체 중합성 불포화 화합물의 합계 중량에 대하여 60중량% 이하로 하는 것이 바람직하고, 5∼50중량%로 하는 것이 보다 바람직하고, 더욱이 10∼40중량%로 하는 것이 바람직하다. 화합물 (Q-2)의 사용 비율로서는, 전체 중합성 불포화 화합물의 합계 중량에 대하여 70중량% 이하로 하는 것이 바람직하고, 5∼60중량%로 하는 것이 보다 바람직하고, 더욱이 10∼50중량%로 하는 것이 바람직하다. As a use ratio of the polymerizable unsaturated compound which has a hydroxyl group in manufacture of a polymer (b-2), it is preferable to set it as 20 weight% or more with respect to the total weight of all the polymerizable unsaturated compounds, and set it as 30 to 80 weight%. It is more preferable, and further it is preferable to set it as 40 to 70 weight%. As a usage ratio of a compound (P), it is preferable to set it as 60 weight% or less with respect to the total weight of all the polymerizable unsaturated compounds, It is more preferable to set it as 5-50 weight%, Furthermore, to set it as 10-40 weight% desirable. As a usage ratio of a compound (Q-2), it is preferable to set it as 70 weight% or less with respect to the total weight of all the polymerizable unsaturated compounds, It is more preferable to set it as 5 to 60 weight%, Furthermore, to 10-50 weight% It is desirable to.

상기와 같은 중합성 불포화 단량체를 이용하는 중합체 (b-2)의 제조는, 공지의 라디칼 중합법에 의해 행할 수 있다. Production of the polymer (b-2) using the above-mentioned polymerizable unsaturated monomer can be performed by a well-known radical polymerization method.

이상과 같이 하여 얻어진 중합체 (b-2)를, 상기식 (A-I)로 나타나는 기 및 이소시아네이트기의 쌍방을 갖는 화합물(이하, 「화합물 (c-2)」라고 함)과 반응시킴으로써, 중합체 (A)를 얻을 수 있다. The polymer (A) by reacting the polymer (b-2) obtained as described above with a compound having both of the group represented by the formula (AI) and the isocyanate group (hereinafter referred to as "compound (c-2)"). ) Can be obtained.

여기에서 이용되는 화합물 (c-2)로서는, 예를 들면 2-(메타)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트, (메타)아크릴산 2-(2-이소시아네이트에톡시)에틸, 1,1-(비스아크릴로일옥시메틸)에틸이소시아네이트 등을 들 수 있다. As a compound (c-2) used here, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate, 2- (2-isocyanate ethoxy) ethyl (meth) acrylic acid, 1,1- (bisacrylo), for example Monooxymethyl) ethyl isocyanate, etc. are mentioned.

중합체 (b-2)와 화합물 (c-2)와의 반응에 있어서의 화합물 (c-2)의 사용 비율로서는, 중합체 (b-2)가 갖는 수산기 1몰에 대하여 0.4∼0.9몰로 하는 것이 바람직하고, 0.5∼0.8몰로 하는 것이 보다 바람직하다. As a usage ratio of the compound (c-2) in reaction of a polymer (b-2) and a compound (c-2), it is preferable to set it as 0.4-0.9 mol with respect to 1 mol of hydroxyl groups which a polymer (b-2) has, It is more preferable to set it as 0.5-0.8 mol.

중합체 (b-2)와 화합물 (c-2)와의 반응은, 필요에 따라 적당한 용매 중에서, 바람직하게는 촉매의 존재하에 행해진다. Reaction of a polymer (b-2) and a compound (c-2) is performed in a suitable solvent as needed, Preferably it is carried out in presence of a catalyst.

여기에서 사용되는 용매로서는, 예를 들면 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 아세트산 메톡시부틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등을 들 수 있다. 용매의 사용 비율은, 반응 용액의 고형분 농도가 20∼60중량%가 되는 비율로 하는 것이 바람직하다. As a solvent used here, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, methoxy butyl acetate, a propylene glycol monomethyl ether acetate, etc. are mentioned, for example. Can be. It is preferable to make into the ratio which the use ratio of a solvent become 20 to 60 weight% of solid content concentration of a reaction solution.

사용되는 촉매로서는, 예를 들면 아민 화합물, 유기 금속 화합물 등을 들 수 있다. 상기 아민 화합물로서는, 예를 들면 트리에틸아민, 트리프로필아민, 트리에틸렌디아민, 디아자바이사이클로운데센 등을; As a catalyst used, an amine compound, an organometallic compound, etc. are mentioned, for example. As said amine compound, For example, triethylamine, tripropylamine, triethylenediamine, diazabicyclo undecene, etc .;

유기 금속 화합물로서, 예를 들면 옥틸산 주석, 디부틸주석디아세테이트, 디부틸주석디라우레이트, 옥틸산 비스무트, 데칸산 비스무트 등을 각각 들 수 있다. 촉매를 사용하는 경우, 그 사용 비율은, 중합체 (b-2)와 화합물 (c-2)와의 합계 100중량부에 대하여 0.001∼2중량부로 하는 것이 바람직하다. Examples of the organometallic compound include tin octylate, dibutyltin diacetate, dibutyltin dilaurate, bismuth octylate and bismuth decanoate, respectively. When using a catalyst, it is preferable that the use ratio shall be 0.001-2 weight part with respect to a total of 100 weight part of a polymer (b-2) and a compound (c-2).

반응 온도는 바람직하게는 70∼110℃이고, 보다 바람직하게는 75∼90℃이다. The reaction temperature is preferably 70 to 110 ° C, more preferably 75 to 90 ° C.

반응 시간은 바람직하게는 2∼15시간이고, 보다 바람직하게는 5∼10시간이다. The reaction time is preferably 2 to 15 hours, more preferably 5 to 10 hours.

기 Z1로서 에폭시기를 갖는 중합체(이하, 「중합체 (b-3)」이라고 함)로서는, 예를 들면 에폭시기를 갖는 중합성 불포화 화합물의 중합체, 에폭시기를 갖는 중합성 불포화 화합물과 그 외의 중합성 불포화 화합물과의 공중합체, 에폭시 수지 등을 들 수 있다. As the polymer (hereinafter referred to as a "polymer (b-3)") having an epoxy group as the group Z 1, for example polymerization with an epoxy group polymerizable with the polymer, the epoxy group of the unsaturated compound, unsaturated compound and other polymerizable unsaturated The copolymer with a compound, an epoxy resin, etc. are mentioned.

상기의 에폭시기를 갖는 중합성 불포화 화합물로서는, 에폭시기를 갖는 (메타)아크릴산 에스테르 및 에폭시기를 갖는 스티렌 유도체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하고, As a polymerizable unsaturated compound which has the said epoxy group, it is preferable to use at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a (meth) acrylic acid ester which has an epoxy group, and a styrene derivative which has an epoxy group,

특히 글리시딜(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시부틸(메타)아크릴레이트, (3,4-에폭시사이클로헥실)메틸(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트글리시딜에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르, 2,4-디글리시딜옥시메틸스티렌 및 3,4,5-트리글리시딜메틸스티렌으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하다. Especially glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxybutyl (meth) acrylate, (3,4-epoxycyclohexyl) methyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate Dilether, o-vinylbenzylglycidylether, m-vinylbenzylglycidylether, p-vinylbenzylglycidylether, 2,4-diglycidyloxymethylstyrene and 3,4,5-triglycidyl It is preferable to use at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of dilmethylstyrene.

중합체 (b-3)이 에폭시기를 갖는 중합성 불포화 화합물과 그 외의 중합성 불포화 화합물과의 공중합체인 경우, 그 외의 중합성 불포화 화합물의 일부 또는 전부를 상기식 (P)로 나타나는 기를 갖는 중합성 불포화 화합물로 함으로써, 에폭시기 및 상기식 (P)로 나타나는 기의 쌍방을 갖는 중합체로 할 수 있다. 여기에서 상기식 (P)로 나타나는 기를 갖는 중합성 불포화 화합물로서는, 전술한 화합물 (P)와 동일한 것을 사용할 수 있다. In the case where the polymer (b-3) is a copolymer of a polymerizable unsaturated compound having an epoxy group with another polymerizable unsaturated compound, a polymerizable unsaturated compound having a group represented by the above formula (P) in part or all of the other polymerizable unsaturated compounds By setting it as a compound, it can be set as the polymer which has both an epoxy group and the group represented by said formula (P). Here, as the polymerizable unsaturated compound having a group represented by the formula (P), the same compounds as those of the compound (P) described above can be used.

중합체 (b-3)의 제조에 이용되는 상기식 (P)로 나타나는 기를 갖지 않는 그 외의 중합성 불포화 화합물(이하, 「화합물 (Q-3)」이라고 함)로서는, (메타)아크릴산 에스테르, 비닐방향족 화합물, N-치환 말레이미드 및 매크로모노머로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하고, As another polymerizable unsaturated compound (henceforth a "compound (Q-3)") which does not have group represented by said formula (P) used for manufacture of a polymer (b-3), it is (meth) acrylic acid ester and vinyl It is preferable to use at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of an aromatic compound, N-substituted maleimide, and a macromonomer,

특히 스티렌, α-메틸스티렌, 아세나프틸렌, 메틸(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 글리세롤모노(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 트리사이클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일(메타)아크릴레이트, 파라쿠밀페놀의 에틸렌옥사이드변성(메타)아크릴레이트, N-사이클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드 및 N-페닐말레이미드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하다. Especially styrene, α-methylstyrene, acenaphthylene, methyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (Meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isobor Nyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane-8-yl (meth) acrylate, ethylene oxide modified (meth) acrylate of paracumylphenol, N-cyclohexylmaleimide, N- It is preferable to use at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of benzyl maleimide and N-phenyl maleimide.

중합체 (b-3)의 제조에 있어서의 에폭시기를 갖는 중합성 불포화 화합물의 사용 비율로서는, 전체 중합성 불포화 화합물의 합계 중량에 대하여 20중량% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 30∼90중량%로 하는 것이 보다 바람직하고, 더욱이 40∼75중량%로 하는 것이 바람직하다. 화합물 (P)의 사용 비율로서는, 전체 중합성 불포화 화합물의 합계 중량에 대하여 60중량% 이하로 하는 것이 바람직하고, 5∼50중량%로 하는 것이 보다 바람직하고, 더욱이 10∼40중량%로 하는 것이 바람직하다. 화합물 (Q-3)의 사용 비율로서는, 전체 중합성 불포화 화합물의 합계 중량에 대하여 60중량% 이하로 하는 것이 바람직하고, 5∼50중량%로 하는 것이 보다 바람직하고, 더욱이 5∼40중량%로 하는 것이 바람직하다. As a use ratio of the polymerizable unsaturated compound which has an epoxy group in manufacture of a polymer (b-3), it is preferable to set it as 20 weight% or more with respect to the total weight of all the polymerizable unsaturated compounds, and to make it 30 to 90 weight% It is more preferable, and also it is preferable to set it as 40 to 75 weight% further. As a usage ratio of a compound (P), it is preferable to set it as 60 weight% or less with respect to the total weight of all the polymerizable unsaturated compounds, It is more preferable to set it as 5-50 weight%, Furthermore, to set it as 10-40 weight% desirable. As a usage ratio of a compound (Q-3), it is preferable to set it as 60 weight% or less with respect to the total weight of all the polymerizable unsaturated compounds, It is more preferable to set it as 5-50 weight%, Furthermore, as 5-40 weight% It is desirable to.

상기와 같은 중합성 불포화 단량체를 이용하는 중합체 (b-3)의 제조는, 공지의 라디칼 중합법에 의해 행할 수 있다. Production of the polymer (b-3) using the above-mentioned polymerizable unsaturated monomer can be performed by a well-known radical polymerization method.

중합체 (b-3)이 에폭시 수지인 경우, 이러한 중합체 (b-3)으로서는, 예를 들면 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 A형 에폭시 수지의 알코올성 수산기와 에피클로로히드린(epichlorohydrin)과의 반응에 의해 얻어지는 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지의 알코올성 수산기와 에피클로로히드린과의 반응에 의해 얻어지는 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 비페닐글리시딜에테르, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 트리글리시딜이소시아누레이트, 트리스페놀메탄형 에폭시 수지, 플루오렌에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 디사이클로펜타디엔형 에폭시 수지를 들 수 있는 것 외에, 공중합형의 에폭시 수지를 사용할 수 있다. In the case where the polymer (b-3) is an epoxy resin, such a polymer (b-3) may be, for example, reacted with an alcoholic hydroxyl group and epichlorohydrin of a bisphenol A type epoxy resin or a bisphenol A type epoxy resin. Epoxy resin, bisphenol S-type epoxy resin, biphenyl glycidyl ether, phenol novolak type obtained by reaction of an alcoholic hydroxyl group and epichlorohydrin of an epoxy resin, bisphenol F-type epoxy resin, bisphenol F-type epoxy resin Epoxy resin, cresol novolak-type epoxy resin, triglycidyl isocyanurate, trisphenol methane type epoxy resin, fluorene epoxy resin, alicyclic epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, In addition, copolymerization Type epoxy resin can be used.

이상과 같이 하여 얻어진 또는 준비된 중합체 (b-3)을, 상기식 (A-I)로 나타나는 기 및 카복실기의 쌍방을 갖는 화합물(이하, 「화합물 (c-3)」이라고 함)과 반응시킴으로써, 중합체 (A)를 얻을 수 있다. The polymer (b-3) obtained or prepared as mentioned above is made to react with the compound which has both a group represented by said formula (AI), and a carboxyl group (henceforth a "compound (c-3)"), and a polymer (A) can be obtained.

여기에서 이용되는 화합물 (c-3)으로서는, 예를 들면 (메타)아크릴산, ω-카복시-폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일에틸숙신산 등을 들 수 있다. As a compound (c-3) used here, (meth) acrylic acid, (omega)-carboxy- polycaprolactone mono (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyl ethyl succinic acid, etc. are mentioned, for example.

중합체 (b-3)과 화합물 (c-3)과의 반응에 있어서의 화합물 (c-3)의 사용 비율로서는, 중합체 (b-3)이 갖는 에폭시기 1몰에 대하여 0.2∼1.0몰로 하는 것이 바람직하고, 0.4∼0.9몰로 하는 것이 보다 바람직하다. As a usage ratio of the compound (c-3) in reaction of a polymer (b-3) and a compound (c-3), it is preferable to set it as 0.2-1.0 mol with respect to 1 mol of epoxy groups which a polymer (b-3) has. More preferably 0.4 to 0.9 mol.

중합체 (b-3)과 화합물 (c-3)과의 반응은, 필요에 따라 적당한 용매 중에서, 바람직하게는 촉매의 존재하에 행해진다. The reaction between the polymer (b-3) and the compound (c-3) is carried out in a suitable solvent, if necessary, preferably in the presence of a catalyst.

여기에서 사용되는 용매로서는, 예를 들면 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 아세트산 메톡시부틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등을 들 수 있다. 용매의 사용 비율은, 반응 용액의 고형분 농도가 20∼60중량%가 되는 비율로 하는 것이 바람직하다. As a solvent used here, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, methoxy butyl acetate, a propylene glycol monomethyl ether acetate, etc. are mentioned, for example. Can be. It is preferable to make into the ratio which the use ratio of a solvent become 20 to 60 weight% of solid content concentration of a reaction solution.

사용되는 촉매로서는, 예를 들면 3급 아민, 4급 암모늄염, 알킬우레아, 이미다졸 화합물 등을 들 수 있다. 이들의 구체예로서, 상기 3급 아민으로서 예를 들면 디메틸벤질아민 등을; As a catalyst used, a tertiary amine, a quaternary ammonium salt, an alkylurea, an imidazole compound, etc. are mentioned, for example. As these specific examples, For example, dimethylbenzylamine etc. are mentioned as said tertiary amine;

상기 4급 암모늄염으로서 예를 들면 테트라부틸암모늄브로마이드, 테트라부틸포스포늄클로라이드, 테트라페닐포스포늄브로마이드, 헥사메틸포스포로트리아미드 등을; Examples of the quaternary ammonium salts include tetrabutylammonium bromide, tetrabutylphosphonium chloride, tetraphenylphosphonium bromide, hexamethylphosphorotriamide and the like;

상기 알킬우레아로서 예를 들면 3-(3',4'-디클로로페닐)-1,1-디메틸우레아 등을;Examples of the alkylurea include 3- (3 ', 4'-dichlorophenyl) -1,1-dimethylurea;

상기 이미다졸 화합물로서 예를 들면 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-운데실이미다졸, 2-페닐이미다졸 등을 각각 들 수 있다. 촉매의 사용 비율은, 중합체 (b-3)과 화합물 (c-3)과의 합계 100중량부에 대하여 0.001∼10중량부로 하는 것이 바람직하다. As said imidazole compound, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-undecyl imidazole, 2-phenylimidazole, etc. are mentioned, respectively. It is preferable that the use ratio of a catalyst shall be 0.001-10 weight part with respect to a total of 100 weight part of a polymer (b-3) and a compound (c-3).

반응 온도는 바람직하게는 70∼110℃이고, 보다 바람직하게는 75∼90℃이다. The reaction temperature is preferably 70 to 110 ° C, more preferably 75 to 90 ° C.

반응 시간은 바람직하게는 2∼15시간이고, 보다 바람직하게는 5∼10시간이다. The reaction time is preferably 2 to 15 hours, more preferably 5 to 10 hours.

기 Z1로서 산 무수물기를 갖는 중합체(이하, 「중합체 (b-4)」라고 함)로서는, 예를 들면 산 무수물기를 갖는 중합성 불포화 화합물의 중합체, 산 무수물기를 갖는 중합성 불포화 화합물과 그 외의 중합성 불포화 화합물과의 공중합체 등을 들 수 있다. Group (hereinafter referred to as "polymer (b-4)") polymer having an acid anhydride group as Z 1 Examples of such polymeric other unsaturated compounds and those having a polymer, an acid anhydride of the polymerizable unsaturated compound such having an acid anhydride The copolymer with a polymerizable unsaturated compound, etc. are mentioned.

상기의 무수물기를 갖는 중합성 불포화 화합물로서는, 예를 들면 무수 말레산, 메틸 무수 말레산, 테트라하이드로 무수 프탈산, 메틸테트라하이드로 무수 프탈산, 무수 메틸나딕산(methylnadic acid) 등을 들 수 있다. Examples of the polymerizable unsaturated compound having an anhydride group include maleic anhydride, methyl maleic anhydride, tetrahydro phthalic anhydride, methyltetrahydro phthalic anhydride, methylnadic acid and the like.

중합체 (b-4)가 산 무수물기를 갖는 중합성 불포화 화합물과 그 외의 중합성 불포화 화합물과의 공중합체인 경우, 그 외의 중합성 불포화 화합물의 일부 또는 전부를 상기식 (P)로 나타나는 기를 갖는 중합성 불포화 화합물로 함으로써, 산 무수물기 및 상기식 (P)로 나타나는 기의 쌍방을 갖는 중합체로 할 수 있다. 여기에서 상기식 (P)로 나타나는 기를 갖는 중합성 불포화 화합물로서는, 전술한 화합물 (P)와 동일한 것을 사용할 수 있다. In the case where the polymer (b-4) is a copolymer of a polymerizable unsaturated compound having an acid anhydride group with another polymerizable unsaturated compound, a polymerizable polymer having a group represented by the above formula (P) in which part or all of the other polymerizable unsaturated compounds are represented By setting it as an unsaturated compound, it can be set as the polymer which has both an acid anhydride group and the group represented by said formula (P). Here, as the polymerizable unsaturated compound having a group represented by the formula (P), the same compounds as those of the compound (P) described above can be used.

중합체 (b-4)의 제조에 이용되는 상기식 (P)로 나타나는 기를 갖지 않는 그 외의 중합성 불포화 화합물로서는, 상기의 화합물 (Q-1)과 동일한 것을 사용할 수 있다. As another polymerizable unsaturated compound which does not have group represented by said formula (P) used for manufacture of a polymer (b-4), the thing similar to said compound (Q-1) can be used.

중합체 (b-4)의 제조에 있어서의 산 무수물기를 갖는 중합성 불포화 화합물의 사용 비율로서는, 전체 중합성 불포화 화합물의 합계 중량에 대하여 20중량% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 30∼80중량%로 하는 것이 보다 바람직하고, 더욱이 40∼70중량%로 하는 것이 바람직하다. 화합물 (P)의 사용 비율로서는, 전체 중합성 불포화 화합물의 합계 중량에 대하여 60중량% 이하로 하는 것이 바람직하고, 5∼50중량%로 하는 것이 보다 바람직하고, 더욱이 10∼40중량% 하는 것이 바람직하다. 화합물 (Q-1)의 사용 비율로서는, 전체 중합성 불포화 화합물의 합계 중량에 대하여 70중량% 이하로 하는 것이 바람직하고, 5∼60중량%로 하는 것이 보다 바람직하고, 더욱이 10∼50중량%로 하는 것이 바람직하다. As a use ratio of the polymerizable unsaturated compound which has an acid anhydride group in manufacture of a polymer (b-4), it is preferable to set it as 20 weight% or more with respect to the total weight of all the polymerizable unsaturated compounds, and it is 30-80 weight% More preferably, it is more preferable to set it as 40 to 70 weight%. As a usage ratio of a compound (P), it is preferable to set it as 60 weight% or less with respect to the total weight of all the polymerizable unsaturated compounds, It is more preferable to set it as 5-50 weight%, Furthermore, it is preferable to set it as 10-40 weight% Do. As a usage ratio of a compound (Q-1), it is preferable to set it as 70 weight% or less with respect to the total weight of all the polymerizable unsaturated compounds, It is more preferable to set it as 5 to 60 weight%, Furthermore, to 10-50 weight% It is desirable to.

상기와 같은 중합성 불포화 단량체를 이용하는 중합체 (b-4)의 제조는, 공지의 라디칼 중합법에 의해 행할 수 있다. Production of the polymer (b-4) using the above-mentioned polymerizable unsaturated monomer can be performed by a well-known radical polymerization method.

이상과 같이 하여 얻어진 중합체 (b-4)를, 상기식 (A-I)로 나타나는 기 및 기 Z2로서의 수산기의 쌍방을 갖는 화합물(이하, 「화합물 (c-4) 」라고 함) 또는 상기식 (A-I)로 나타나는 기 및 기 Z2로서의 에폭시기의 쌍방을 갖는 화합물과 반응시킴으로써, 중합체 (A)를 얻을 수 있다. 이하, 기 Z2가 수산기인 경우와 에폭시기인 경우로 나누어 설명한다. The compound (b-4) obtained as described above has a compound (hereinafter referred to as "compound (c-4)") having the both of the group represented by the formula (AI) and the hydroxyl group as the group Z 2 (hereinafter referred to as "compound (c-4)") or the formula ( by AI) reaction with a compound having a group and a group represented by both the epoxy group as Z 2, it is possible to obtain the polymer (a). Hereinafter, it demonstrates dividing into the case where group Z <2> is a hydroxyl group and an epoxy group.

기 Z2가 수산기인 경우에 사용되는 화합물 (c-4)로서는, 예를 들면 하이드록시알킬(메타)아크릴레이트, N-메틸올아크릴아미드, 알릴알코올 등을 들 수 있다. Group The compound (c-4) used in the case where Z 2 is a hydroxyl group includes, for example, hydroxyalkyl (meth) acrylate, N- methylol acrylamide, allyl alcohol, and the like.

중합체 (b-4)와 화합물 (c-4)와의 반응에 있어서의 화합물 (c-4)의 사용 비율로서는, 중합체 (b-4)를 갖는 산 무수물기 1몰에 대하여 0.2∼1.0몰로 하는 것이 바람직하고, 0.4∼0.9몰로 하는 것이 보다 바람직하다. As a use ratio of the compound (c-4) in reaction of a polymer (b-4) and a compound (c-4), it shall be 0.2-1.0 mol with respect to 1 mol of acid anhydride groups which have a polymer (b-4). It is preferable to set it as 0.4-0.9 mol.

중합체 (b-4)와 화합물 (c-4)와의 반응은, 필요에 따라 적당한 용매 중에서, 바람직하게는 촉매의 존재하에 행해진다. The reaction between the polymer (b-4) and the compound (c-4) is carried out in a suitable solvent, if necessary, preferably in the presence of a catalyst.

여기에서 사용되는 용매로서는, 예를 들면 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 아세트산 메톡시부틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등을 들 수 있다. 용매의 사용 비율은, 반응 용액의 고형분 농도가 20∼60중량%가 되는 비율로 하는 것이 바람직하다. As a solvent used here, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, methoxy butyl acetate, a propylene glycol monomethyl ether acetate, etc. are mentioned, for example. Can be. It is preferable to make into the ratio which the use ratio of a solvent become 20 to 60 weight% of solid content concentration of a reaction solution.

사용되는 촉매로서는, 예를 들면 이미다졸 화합물을 들 수 있고, 그 구체예로서, 예를 들면 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-운데실이미다졸, 2-페닐이미다졸 등을 들 수 있다. 촉매의 사용 비율은, 중합체 (b-4)와 화합물 (c-4)와의 합계 100중량부에 대하여 0.001∼1중량부로 하는 것이 바람직하다. As a catalyst used, an imidazole compound is mentioned, for example, As a specific example, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-phenylimidazole etc. are mentioned. It is preferable that the use ratio of a catalyst shall be 0.001-1 weight part with respect to a total of 100 weight part of a polymer (b-4) and a compound (c-4).

반응 온도는 바람직하게는 70∼110℃이고, 보다 바람직하게는 75∼90℃이다. Reaction temperature becomes like this. Preferably it is 70-110 degreeC, More preferably, it is 75-90 degreeC.

반응 시간은 바람직하게는 2∼15시간이고, 보다 바람직하게는 5∼10시간이다. The reaction time is preferably 2 to 15 hours, more preferably 5 to 10 hours.

한편, 기 Z2가 에폭시기인 경우에 사용되는, 상기식 (A-I)로 나타나는 기 및 에폭시기의 쌍방을 갖는 화합물로서는, 상기의 화합물 (c-1)과 동일한 것을 사용할 수 있다. Meanwhile, the group includes compounds having both the group and an epoxy group represented by the formula (AI) used in the case where Z 2 is an epoxy group, may be the same as the above compound (c-1).

중합체 (b-4)와 화합물 (c-1)과의 반응에 있어서의 화합물 (c-1)의 사용 비율로서는, 중합체 (b-4)가 갖는 산 무수물기 1몰에 대하여 0.3∼1.0몰로 하는 것이 바람직하고, 0.4∼0.9몰로 하는 것이 보다 바람직하다. As a use ratio of the compound (c-1) in reaction of a polymer (b-4) and a compound (c-1), it is 0.3-1.0 mol with respect to 1 mol of acid anhydride groups which a polymer (b-4) has. It is preferable to set it as 0.4-0.9 mol, and it is more preferable.

중합체 (b-4)와 화합물 (c-1)과의 반응은, 필요에 따라 적당한 용매 중에서, 바람직하게는 촉매의 존재하에 행해진다. The reaction between the polymer (b-4) and the compound (c-1) is carried out in a suitable solvent, if necessary, preferably in the presence of a catalyst.

여기에서 사용되는 용매로서는, 예를 들면 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 아세트산 메톡시부틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등을 들 수 있다. 용매의 사용 비율은, 반응 용액의 고형분 농도가 20∼60중량%가 되는 비율로 하는 것이 바람직하다. As a solvent used here, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, methoxy butyl acetate, a propylene glycol monomethyl ether acetate, etc. are mentioned, for example. Can be. It is preferable to make into the ratio which the use ratio of a solvent become 20 to 60 weight% of solid content concentration of a reaction solution.

사용되는 촉매로서는, 예를 들면 이미다졸 화합물을 들 수 있고, 그 구체예로서, 예를 들면 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-운데실이미다졸, 2-페닐이미다졸 등을 들 수 있다. 촉매의 사용 비율은, 중합체 (b-4)와 화합물 (c-1)과의 합계 100중량부에 대하여 0.001∼2중량부로 하는 것이 바람직하다. As a catalyst used, an imidazole compound is mentioned, for example, As a specific example, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-phenylimidazole etc. are mentioned. It is preferable that the use ratio of a catalyst shall be 0.001-2 weight part with respect to a total of 100 weight part of a polymer (b-4) and a compound (c-1).

반응 온도는 바람직하게는 70∼110℃이고, 보다 바람직하게는 75∼90℃이다. The reaction temperature is preferably 70 to 110 ° C, more preferably 75 to 90 ° C.

반응 시간은 바람직하게는 2∼15시간이고, 보다 바람직하게는 5∼10시간이다. The reaction time is preferably 2 to 15 hours, more preferably 5 to 10 hours.

이와 같이 하여 제조된 중합체 (A)는, 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. The polymer (A) produced in this way can be used individually or in mixture of 2 or more types.

[중합체 (B)][Polymer (B)]

본 발명에 있어서 임의적으로 이용되는 중합체 (B)는, 폴리암산, 그의 이미드화 중합체 및 폴리실록산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 중합체이다. 중합체 (B)는, 바람직하게는 상기식 (A-I)로 나타나는 기를 갖지 않는다. 중합체 (B)는, 상기식 (P)로 나타나는 기를 갖고 있어도 좋다. The polymer (B) used arbitrarily in this invention is at least 1 sort (s) of polymer chosen from the group which consists of polyamic acid, its imidation polymer, and polysiloxane. The polymer (B) preferably does not have a group represented by the formula (A-I). The polymer (B) may have a group represented by the formula (P).

- 폴리암산 및 그의 이미드화 중합체 -Polyamic acid and imidized polymers thereof

상기 폴리암산은 예를 들면 테트라카본산 2무수물과 디아민을 반응함으로써 합성할 수 있다. 여기에서 사용되는 테트라카본산 2무수물 및 디아민은, 각각 바람직하게는 상기식 (A-I)로 나타나는 기를 갖지 않는다. 상기 이미드화 중합체는 상기 폴리암산을 탈수 폐환하여 이미드화함으로써 합성할 수 있다. The said polyamic acid can be synthesize | combined, for example by making tetracarboxylic dianhydride and diamine react. Tetracarboxylic dianhydride and diamine used here preferably do not have the group represented by said formula (A-I), respectively. The said imidation polymer can be synthesize | combined by dehydrating and ring-closing the said polyamic acid.

{테트라카본산 2무수물} {Tetracarboxylic dianhydride}

상기 폴리암산을 합성하기 위해 이용되는 테트라카본산 2무수물로서는, 예를 들면 지방족 테트라카본산 2무수물, 지환식 테트라카본산 2무수물, 방향족 테트라카본산 2무수물 등을 들 수 있다. 이들의 구체예로서는, 지방족 테트라카본산 2무수물로서, 예를 들면 부탄테트라카본산 2무수물 등을; As tetracarboxylic dianhydride used for synthesize | combining the said polyamic acid, aliphatic tetracarboxylic dianhydride, alicyclic tetracarboxylic dianhydride, aromatic tetracarboxylic dianhydride, etc. are mentioned, for example. As these specific examples, As an aliphatic tetracarboxylic dianhydride, For example, butanetetracarboxylic dianhydride etc .;

지환식 테트라카본산 2무수물로서, 예를 들면 1,2,3,4-사이클로부탄테트라카본산 2무수물, 2,3,5-트리카복시사이클로펜틸아세트산 2무수물, 1,3,3a,4,5,9b-헥사하이드로-5-(테트라하이드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]푸란-1,3-디온, 1,3,3a,4,5,9b-헥사하이드로-8-메틸-5-(테트라하이드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]푸란-1,3-디온, 3-옥사바이사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온-6-스피로-3'-(테트라하이드로푸란-2',5'-디온), 5-(2,5-디옥소테트라하이드로-3-푸라닐)-3-메틸-3-사이클로헥센-1,2-디카본산 무수물, 3,5,6-트리카복시-2-카복시메틸노르보르난-2:3,5:6-2무수물, 4,9-디옥사트리사이클로[5.3.1.02,6]운데칸-3,5,8,10-테트라온 등을; As alicyclic tetracarboxylic dianhydride, For example, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5- tricarboxy cyclopentyl acetic dianhydride, 1,3,3a, 4, 5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4 , 5,9b-hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 3- Oxabicyclo [3.2.1] octane-2,4-dione-6-spiro-3 '-(tetrahydrofuran-2', 5'-dione), 5- (2,5-dioxotetrahydro-3 -Furanyl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride, 3,5,6-tricarboxy-2-carboxymethylnorbornan-2: 3,5: 6-2 anhydride, 4,9-dioxatricyclo [5.3.1.0 2,6 ] undecane-3,5,8,10-tetraone and the like;

방향족 테트라카본산 2무수물로서, 예를 들면 피로멜리트산 2무수물 등을 각각 들 수 있는 것 외에, 특허문헌 1(일본공개특허공보 2010-97188호)에 기재된 테트라카본산 2무수물을 사용해도 좋다. As aromatic tetracarboxylic dianhydride, a pyromellitic dianhydride etc. can be mentioned, respectively, For example, In addition, you may use the tetracarboxylic dianhydride of patent document 1 (Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-97188).

상기 폴리암산을 합성하기 위해 이용되는 테트라카본산 2무수물로서는, 이들 중, 지환식 테트라카본산 2무수물만을 이용하거나, 지환식 테트라카본산 2무수물과 방향족 테트라카본산 2무수물과의 혼합물을 이용하는 것이 바람직하다. 후자의 경우, 전체 테트라카본산 2무수물 중에 차지하는 지환식 테트라카본산 2무수물의 비율은, 20몰% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 40몰% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하다. As tetracarboxylic dianhydride used for synthesize | combining the said polyamic acid, among these, using only alicyclic tetracarboxylic dianhydride or using a mixture of alicyclic tetracarboxylic dianhydride and aromatic tetracarboxylic dianhydride is used. desirable. In the latter case, the ratio of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride in the total tetracarboxylic dianhydride is preferably 20 mol% or more, more preferably 40 mol% or more.

{디아민} {Diamine}

상기 폴리암산을 합성하기 위해 이용되는 디아민으로서는, 상기식 (P)로 나타나는 기를 갖는 디아민(이하, 「특정 디아민」이라고 함)을 포함하는 디아민을 이용하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 얻어지는 폴리암산 및 그의 이미드화 중합체를 상기식 (P)로 나타나는 기를 갖는 것으로 할 수 있다. As a diamine used for synthesize | combining the said polyamic acid, it is preferable to use the diamine containing the diamine (henceforth "specific diamine") which has group represented by said formula (P). Thereby, the polyamic acid obtained and its imidation polymer can be made to have group represented by said formula (P).

특정 디아민에 있어서의 상기식 (P)로 나타나는 기는, Z가 단결합이고, n1이 1 또는 2인 기가 바람직하다. n1은 1인 것이 보다 바람직하다. The group represented by the formula (P) in the specific diamine is preferably a group in which Z II is a single bond and n1 is 1 or 2. It is more preferable that n1 is 1.

본 발명에 있어서의 특정 디아민으로서는, 상기식 (P)로 나타나는 기를 갖는 방향족 디아민인 것이 바람직하고, 그 구체예로서 예를 들면 도데칸옥시-2,4-디아미노벤젠, 펜타데칸옥시-2,4-디아미노벤젠, 헥사데칸옥시-2,4-디아미노벤젠, 옥타데칸옥시-2,4-디아미노벤젠, 도데칸옥시-2,5-디아미노벤젠, 펜타데칸옥시-2,5-디아미노벤젠, 헥사데칸옥시-2,5-디아미노벤젠, 옥타데칸옥시-2,5-디아미노벤젠, 콜레스타닐옥시-3,5-디아미노벤젠, 콜레스테닐옥시-3,5-디아미노벤젠, 3,5-디아미노벤조산 콜레스타닐, 3,5-디아미노벤조산 콜레스테닐, 3,5-디아미노벤조산 라노스타닐 등을 들 수 있고, 이들 중의 1종 또는 2종 이상을 이용하는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서의 특정 디아민으로서는, 특히 헥사데칸옥시-2,5-디아미노벤젠, 옥타데칸옥시-2,5-디아미노벤젠, 콜레스타닐옥시-3,5-디아미노벤젠 및 콜레스테닐옥시-3,5-디아미노벤젠으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하다. As a specific diamine in this invention, it is preferable that it is aromatic diamine which has group represented by said formula (P), As a specific example, dodecaneoxy-2, 4- diamino benzene, pentadecaneoxy-2, 4-diaminobenzene, hexadecaneoxy-2,4-diaminobenzene, octadecaneoxy-2,4-diaminobenzene, dodecaneoxy-2,5-diaminobenzene, pentadecaneoxy-2,5- Diaminobenzene, hexadecaneoxy-2,5-diaminobenzene, octadecaneoxy-2,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-3,5-diaminobenzene, cholestenyloxy-3,5- Diaminobenzene, 3,5-diaminobenzoic acid cholestanyl, 3,5-diaminobenzoic acid cholestenyl, 3,5-diaminobenzoic acid ranostanyl, and the like. It is preferable to use. Specific diamines in the present invention are, in particular, hexadecaneoxy-2,5-diaminobenzene, octadecaneoxy-2,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-3,5-diaminobenzene and cholesteryl It is preferable to use at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of oxy-3, 5- diamino benzene.

상기 폴리암산을 합성하기 위해 이용되는 디아민으로서는, 상기와 같은 특정 디아민만을 사용해도 좋고, 특정 디아민과 그 외의 디아민을 병용해도 좋다. As a diamine used for synthesize | combining the said polyamic acid, only the specific diamine mentioned above may be used, and a specific diamine and other diamine may be used together.

여기에서 사용할 수 있는 그 외의 디아민은, 상기식 (P)로 나타나는 기를 갖지 않는 디아민이고, 예를 들면 지방족 디아민, 지환식 디아민, 방향족 디아민, 디아미노오르가노실록산 등으로서 상기 특정 디아민에 해당하지 않는 것이다. 이들의 구체예로서는, 지방족 디아민으로서, 예를 들면 1,1-메타자일릴렌디아민, 1,3-프로판디아민, 테트라메틸렌디아민, 펜타메틸렌디아민, 헥사메틸렌디아민 등을; Other diamine which can be used here is diamine which does not have group represented by said formula (P), For example, it does not correspond to the said specific diamine as aliphatic diamine, alicyclic diamine, aromatic diamine, diamino organosiloxane, etc. will be. As these specific examples, As an aliphatic diamine, For example, 1, 1- metha xylylenediamine, 1, 3- propanediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine, etc .;

지환식 디아민으로서, 예를 들면 1,4-디아미노사이클로헥산, 4,4'-메틸렌비스(사이클로헥실아민), 1,3-비스(아미노메틸)사이클로헥산 등을; As alicyclic diamine, For example, 1, 4- diamino cyclohexane, 4, 4'- methylenebis (cyclohexylamine), 1, 3-bis (aminomethyl) cyclohexane, etc .;

방향족 디아민으로서, 예를 들면 p-페닐렌디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐술피드, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐, 4,4'-디아미노-2,2'-비스(트리플루오로메틸)비페닐, 2,7-디아미노플루오렌, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플루오로프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사플루오로프로판, 4,4'-(p-페닐렌디이소프로필리덴)비스아닐린, 4,4'-(m-페닐렌디이소프로필리덴)비스아닐린, 1,4-비스(4-아미노페녹시) 벤젠, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 2,6-디아미노피리딘, 3,4-디아미노피리딘, 2,4-디아미노피리미딘, 3,6-디아미노아크리딘, 3,6-디아미노카르바졸, N-메틸-3,6-디아미노카르바졸, N-에틸-3,6-디아미노카르바졸, N-페닐-3,6-디아미노카르바졸, N,N'-비스(4-아미노페닐)-벤지딘, N,N'-비스(4-아미노페닐)-N,N'-디메틸벤지딘 등을; As aromatic diamine, for example, p-phenylenediamine, 4,4'- diaminodiphenylmethane, 4,4'- diaminodiphenyl sulfide, 1,5- diaminonaphthalene, 2,2'-dimethyl -4,4'-diaminobiphenyl, 4,4'-diamino-2,2'-bis (trifluoromethyl) biphenyl, 2,7-diaminofluorene, 4,4'-diamino Diphenyl ether, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy Phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 4,4 '-(p-phenylenediisopropylidene) bisaniline, 4,4'-(m- Phenylenediisopropylidene) bisaniline, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 2,6-diaminopyridine, 3,4 -Diaminopyridine, 2,4-diaminopyrimidine, 3,6-diaminoacridine, 3,6-diaminocarbazole, N-methyl-3,6-diaminocarbazole, N-ethyl-3 , 6-diaminocarbazole, N-fe Benzidine and the like, N, N'- bis (4-aminophenyl) -N, N'- dimethyl benzidine-3,6-diamino-carbazole, N, N'- bis (4-aminophenyl);

디아미노오르가노실록산으로서, 예를 들면 1,3-비스(3-아미노프로필)-테트라메틸디실록산 등을 각각 들 수 있는 것 외에, 특허문헌 1(일본공개특허공보 2010-97188호)에 기재된 디아민을 사용해도 좋다. Examples of the diaminoorganosiloxanes include 1,3-bis (3-aminopropyl) -tetramethyldisiloxane and the like, and are described in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2010-97188). You may use diamine.

상기 폴리암산을 합성하기 위해 이용되는 디아민으로서는, 상기와 같은 특정 디아민을, 전체 디아민에 대하여 2몰% 이상 포함하는 것이 바람직하고, 2∼60몰% 포함하는 것이 보다 바람직하고, 5∼40몰% 포함하는 것이 더욱 바람직하고, 특히 10∼30몰% 포함하는 것이 바람직하다. As diamine used for synthesize | combining the said polyamic acid, it is preferable to contain 2 mol% or more of said specific diamine with respect to all diamine, It is more preferable to contain 2 to 60 mol%, It is more preferable that it is 5-40 mol% It is more preferable to contain, and it is preferable to contain especially 10-30 mol%.

{분자량 조절제} {Molecular weight regulator}

상기 폴리암산을 합성할 때에, 상기와 같은 테트라카본산 2무수물 및 디아민과 함께, 적당한 분자량 조절제를 이용하여 말단 수식형의 중합체를 합성하는 것으로 해도 좋다. 이러한 말단 수식형의 중합체로 함으로써, 본 발명의 효과를 손상시키는 일 없이 중합체 조성물의 도포성(인쇄성)을 개선할 수 있다. When synthesize | combining the said polyamic acid, you may make it synthesize | combine a terminal-modified polymer using a suitable molecular weight modifier with tetracarboxylic dianhydride and diamine as mentioned above. By setting it as such a terminal modified polymer, the coating property (printability) of a polymer composition can be improved, without impairing the effect of this invention.

상기 분자량 조절제로서는, 예를 들면 산 1무수물, 모노아민 화합물, 모노이소시아네이트 화합물 등을 들 수 있다. 이들의 구체예로서는, 산 1무수물로서는, 예를 들면 무수 말레산, 무수 프탈산, 무수 이타콘산, n-데실숙신산 무수물, n-도데실숙신산 무수물, n-테트라데실숙신산 무수물, n-헥사데실숙신산 무수물 등을; As said molecular weight modifier, an acid monoanhydride, a monoamine compound, a monoisocyanate compound, etc. are mentioned, for example. As these specific examples, as acid monoanhydride, for example, maleic anhydride, phthalic anhydride, itaconic anhydride, n-decylsuccinic anhydride, n-dodecylsuccinic anhydride, n-tetradecylsuccinic anhydride, n-hexadecylsuccinic anhydride My back;

모노아민 화합물로서, 예를 들면 아닐린, 사이클로헥실아민, n-부틸아민, n-펜틸아민, n-헥실아민, n-헵틸아민, n-옥틸아민 등을; As a monoamine compound, For example, aniline, cyclohexylamine, n-butylamine, n-pentylamine, n-hexylamine, n-heptylamine, n-octylamine, etc .;

모노이소시아네이트 화합물로서, 예를 들면 페닐이소시아네이트, 나프틸이소시아네이트 등을 각각 들 수 있다. As a monoisocyanate compound, phenyl isocyanate, naphthyl isocyanate, etc. are mentioned, respectively.

분자량 조절제의 사용 비율은, 사용하는 테트라카본산 2무수물 및 디아민의 합계 100중량부에 대하여 10중량부 이하로 하는 것이 바람직하다. It is preferable to make the use ratio of a molecular weight modifier into 10 weight part or less with respect to a total of 100 weight part of tetracarboxylic dianhydride and diamine to be used.

{폴리암산의 합성} {Synthesis of Polyamic Acid}

폴리암산의 합성 반응에 제공되는 테트라카본산 2무수물과 디아민과의 사용 비율은, 디아민의 아미노기 1당량에 대하여 테트라카본산 2무수물의 산 무수물기가 0.2∼2당량이 되는 비율이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.3∼1.2당량이 되는 비율이다. The use ratio of tetracarboxylic dianhydride and diamine to be used for the polyamic acid synthesis reaction is preferably a ratio in which the acid anhydride group of tetracarboxylic dianhydride is 0.2 to 2 equivalents to 1 equivalent of the amino group of the diamine. The ratio is 0.3 to 1.2 equivalents.

폴리암산의 합성 반응은, 바람직하게는 유기 용매 중에 있어서, 바람직하게는 -20℃∼150℃, 보다 바람직하게는 0∼100℃에서, 바람직하게는 0.1∼24시간, 보다 바람직하게는 0.5∼12시간 행해진다. Synthesis reaction of polyamic acid, Preferably in an organic solvent, Preferably it is -20 degreeC-150 degreeC, More preferably, it is 0-100 degreeC, Preferably it is 0.1-24 hours, More preferably, it is 0.5-12 Time is done.

여기에서 유기 용매로서는, 예를 들면 N-메틸-2-피롤리돈, N,N-디메틸아세트 아미드, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸술폭사이드, γ-부티로락톤, 테트라메틸우레아, 헥사메틸포스포트리아미드 등의 비(非)프로톤성 극성 용매; As the organic solvent, for example, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, tetramethylurea, hexa Non-protic polar solvents such as methyl phosphotriamide;

m-크레졸, 자일레놀, 페놀, 할로겐화 페놀 등의 페놀성 용매를 들 수 있다. 유기 용매의 사용량(a)은, 테트라카본산 2무수물 및 디아민의 합계량(b)이, 반응 용액의 전체량(a+b)에 대하여 0.1∼30중량%가 되도록 하는 양인 것이 바람직하다. Phenolic solvents, such as m-cresol, a xylenol, a phenol, and a halogenated phenol, are mentioned. It is preferable that the usage-amount (a) of an organic solvent is an amount so that the total amount (b) of tetracarboxylic dianhydride and diamine may be 0.1-30 weight% with respect to the total amount (a + b) of a reaction solution.

이상과 같이 하여, 폴리암산을 용해하여 이루어지는 반응 용액이 얻어진다. As described above, a reaction solution obtained by dissolving polyamic acid is obtained.

이 반응 용액은 그대로 중합체 조성물의 조제에 제공해도 좋고, 반응 용액 중에 포함되는 폴리암산을 단리한 후에 중합체 조성물의 조제에 제공해도 좋고, 또는 단리한 폴리암산을 정제한 후에 중합체 조성물의 조제에 제공해도 좋다. 폴리암산을 탈수 폐환하여 이미드화 중합체로 하는 경우에는, 상기 반응 용액을 그대로 탈수 폐환 반응에 제공해도 좋고, 반응 용액 중에 포함되는 폴리암산을 단리한 후에 탈수 폐환 반응에 제공해도 좋고, 또는 단리한 폴리암산을 정제한 후에 탈수 폐환 반응에 제공해도 좋다. 폴리암산의 단리 및 정제는 공지의 방법에 따라 행할 수 있다. This reaction solution may be used as it is for preparation of a polymer composition, may be used to prepare a polymer composition after isolating polyamic acid contained in the reaction solution, or may be used to prepare a polymer composition after purifying the isolated polyamic acid. good. In the case where the polyamic acid is dehydrated and closed to give an imidized polymer, the reaction solution may be used as it is for dehydration ring closure, or after isolation of the polyamic acid contained in the reaction solution, or may be used for dehydration ring closure. After refine | purifying an acid, you may provide for dehydration ring-closure reaction. Isolation and purification of polyamic acid can be performed according to a well-known method.

{이미드화 중합체의 합성} {Synthesis of imidized polymer}

상기 이미드화 중합체는, 상기와 같이 하여 합성된 폴리암산을 탈수 폐환하여 이미드화함으로써 얻을 수 있다. The said imidation polymer can be obtained by dehydrating and ring-closing the polyamic acid synthesize | combined as mentioned above and imidating.

본 발명에 있어서의 이미드화 중합체는, 그의 전구체인 폴리암산이 갖고 있던 암산 구조 전부를 탈수 폐환한 완전 이미드화물이라도 좋고, 암산 구조의 일부만을 탈수 폐환하여, 암산 구조와 이미드환 구조가 병존하는 부분 이미드화물이라도 좋다. 본 발명에 있어서의 이미드화 중합체는, 그의 이미드화율이 40% 이상인 것이 바람직하다. 이 이미드화율은, 이미드화 중합체의 암산 구조의 수와 이미드환 구조의 수와의 합계에 대한 이미드환 구조의 수가 차지하는 비율을 백분율로 나타낸 것이다. The imidation polymer in this invention may be the complete imide which dehydrated and closed all the dark acid structures which the polyamic acid which is its precursor has, and dehydrates and rings only a part of the dark acid structure, and a dark acid structure and an imide ring structure coexist. A partial imide may be sufficient. It is preferable that the imidation ratio of the imidation polymer in this invention is 40% or more. This imidation ratio shows the ratio which the number of the imide ring structure to the sum of the number of the dark acid structures of the imidation polymer, and the number of imide ring structures occupies as a percentage.

폴리암산의 탈수 폐환은, 바람직하게는 폴리암산을 가열하는 방법에 의해, 또는 폴리암산을 유기 용매에 용해하고, 이 용액 중에 탈수제 및 탈수 폐환 촉매를 첨가하여 필요에 따라 가열하는 방법에 의해 행해진다. 이 중, 후자의 방법에 의한 것이 바람직하다. The dehydration ring closure of polyamic acid is preferably carried out by a method of heating the polyamic acid, or by dissolving the polyamic acid in an organic solvent, adding a dehydrating agent and a dehydration ring closure catalyst to the solution, and heating it as necessary. . Among these, it is preferable by the latter method.

상기 폴리암산의 용액 중에 탈수제 및 탈수 폐환 촉매를 첨가하는 방법에 있어서, 탈수제로서는, 예를 들면 무수 아세트산, 무수 프로피온산, 무수 트리플루오로아세트산 등의 산 무수물을 이용할 수 있다. 탈수제의 사용량은, 폴리암산의 암산 구조의 1몰에 대하여 0.01∼20몰로 하는 것이 바람직하다. 탈수 폐환 촉매로서는, 예를 들면 피리딘, 콜리딘, 루티딘, 트리에틸아민 등의 3급 아민을 이용할 수 있다. 탈수 폐환 촉매의 사용량은, 사용하는 탈수제 1몰에 대하여 0.01∼10몰로 하는 것이 바람직하다. 탈수 폐환 반응에 이용되는 유기 용매로서는, 폴리암산의 합성에 이용되는 것으로서 예시한 유기 용매를 들 수 있다. 탈수 폐환 반응의 반응 온도는 바람직하게는 0∼180℃이고, 보다 바람직하게는 10∼150℃이다. 반응 시간은 바람직하게는 1.0∼120시간이고, 보다 바람직하게는 2.0∼30시간이다. In the method of adding a dehydrating agent and a dehydrating ring-closure catalyst in the solution of the polyamic acid, for example, acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride and trifluoroacetic anhydride can be used as the dehydrating agent. It is preferable that the usage-amount of a dehydrating agent shall be 0.01-20 mol with respect to 1 mol of the dark acid structure of polyamic acid. As the dehydration ring closure catalyst, tertiary amines such as pyridine, collidine, lutidine and triethylamine can be used, for example. It is preferable that the usage-amount of a dehydration ring-closure catalyst shall be 0.01-10 mol with respect to 1 mol of dehydrating agents used. As an organic solvent used for a dehydration ring-closure reaction, the organic solvent illustrated as what is used for the synthesis | combination of a polyamic acid is mentioned. The reaction temperature of the dehydration ring-closure reaction is preferably 0 to 180 ° C, more preferably 10 to 150 ° C. The reaction time is preferably 1.0 to 120 hours, more preferably 2.0 to 30 hours.

이와 같이 하여 폴리이미드를 함유하는 반응 용액이 얻어진다. 이 반응 용액은, 이것을 그대로 중합체 조성물의 조제에 제공해도 좋고, 반응 용액으로부터 탈수제 및 탈수 폐환 촉매를 제거한 후에 중합체 조성물의 조제에 제공해도 좋고, 폴리이미드를 단리한 후에 중합체 조성물의 조제에 제공해도 좋고, 또는 단리한 폴리이미드를 정제한 후에 중합체 조성물의 조제에 제공해도 좋다. 이들 정제 조작은 공지의 방법에 따라 행할 수 있다. In this way, a reaction solution containing a polyimide is obtained. This reaction solution may be provided as it is to preparation of a polymer composition as it is, may be provided to preparation of a polymer composition after removing a dehydrating agent and a dehydration ring-closure catalyst from a reaction solution, or may be provided to preparation of a polymer composition after isolation of a polyimide. Alternatively, the isolated polyimide may be purified and then used for preparation of the polymer composition. These purification operations can be performed according to a well-known method.

[폴리오르가노실록산] [Polyorganosiloxane]

상기 폴리오르가노실록산은, 상기식 (P)로 나타나는 기를 갖는 것이 바람직하고, 이 기를 0.01몰/g 이하의 범위에서 함유할 수 있다. 상기 폴리오르가노실록산이 갖는 상기식 (P)로 나타나는 기의 비율로서는, 0.0001∼0.005몰/g인 것이 바람직하고, 0.0002∼0.002몰/g인 것이 보다 바람직하다. It is preferable that the said polyorganosiloxane has group represented by said formula (P), and can contain this group in 0.01 mol / g or less range. As a ratio of the group represented by said Formula (P) which the said polyorganosiloxane has, it is preferable that it is 0.0001-0.005 mol / g, and it is more preferable that it is 0.0002-0.002 mol / g.

상기 폴리오르가노실록산에 대해서, 겔 투과 크로마토그래피에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 Mw는, 500∼1,000,000인 것이 바람직하고, 1,000∼100,000인 것이 보다 바람직하고, 더욱이 1,000∼50,000인 것이 바람직하다. It is preferable that the weight average molecular weight Mw of polystyrene conversion measured by the gel permeation chromatography about the said polyorganosiloxane is 500-1,000,000, It is more preferable that it is 1,000-100,000, Furthermore, it is preferable that it is 1,000-50,000. .

상기 폴리오르가노실록산은 어떠한 방법에 의해 제조된 것이라도 좋지만, 예를 들면 알콕시실란 화합물, 바람직하게는 상기식 (P)로 나타나는 기 및 알콕실기를 갖는 실란 화합물(이하, 「실란 화합물 (a1)」이라고 함), 또는 실란 화합물 (a1)과 다른 알콕시실란 화합물(이하,「실란 화합물 (a2)」라고 함)과의 혼합물을,The polyorganosiloxane may be produced by any method, but for example, an alkoxysilane compound, preferably a silane compound having a group represented by the formula (P) and an alkoxyl group (hereinafter referred to as "silane compound (a1) Or a mixture of a silane compound (a1) and another alkoxysilane compound (hereinafter referred to as "silane compound (a2)"),

디카본산 및 알코올의 존재하에 반응시키는 방법(제조법 1), 또는 가수 분해 ·축합하는 방법(제조법 2), 또는A method of reacting in the presence of dicarboxylic acid and alcohol (manufacturing method 1), or a method of hydrolysis and condensation (manufacturing method 2), or

에폭시기 및 알콕실기를 갖는 실란 화합물(이하, 「실란 화합물 (a2-1)」이라고 함), 또는 실란 화합물 (a2-1)과 다른 알콕시실란 화합물(이하, 「실란 화합물 (a2-2)」라고 함)과의 혼합물을, A silane compound having an epoxy group and an alkoxyl group (hereinafter referred to as "silane compound (a2-1)") or alkoxysilane compound different from the silane compound (a2-1) (hereinafter referred to as "silane compound (a2-2)"). Mixture),

디카본산 및 알코올의 존재하에 반응시킨 후에 추가로 상기식 (P)로 나타나는 기 및 카복실기를 갖는 화합물(이하, 「특정 카본산」이라고 함)과 반응시키는 방법(제조법 3), 또는After reacting in the presence of dicarboxylic acid and alcohol, it is further reacted with a compound having a group represented by the formula (P) and a carboxyl group (hereinafter referred to as "specific carbonic acid") (Manufacturing method 3), or

가수 분해·축합한 후에 추가로 특정 카본산과 반응시키는 방법(제조법 4)에 의해 제조할 수 있다. It can manufacture by the method (manufacturing method 4) which makes it react with specific carbonic acid further after hydrolysis and condensation.

상기 실란 화합물 (a2-1) 및 (a2-2)는 각각 상기식 (A-I)로 나타나는 기를 갖지 않는 것이 바람직하고, 이 경우에는 실란 화합물 (a2-1) 및 (a2-2)를 합친 집합은 실란 화합물 (a2)의 범위와 일치한다. 또한, 상기 실란 화합물 (a1), (a2-1) 및 (a2-3)은, 상기식 (A-I)로 나타나는 기를 갖지 않는 것이 바람직하다. The silane compounds (a2-1) and (a2-2) preferably do not each have a group represented by the formula (AI), and in this case, the aggregate of the silane compounds (a2-1) and (a2-2) together is It is consistent with the range of the silane compound (a2). Moreover, it is preferable that the said silane compounds (a1), (a2-1), and (a2-3) do not have group represented by said formula (A-I).

상기 실란 화합물 (a1)로서는, 하기식 (a1-1):As said silane compound (a1), following formula (a1-1):

Figure pat00007
Figure pat00007

(식 (a1-1) 중, RI, R, ZI, Z, Z, n1, n2, n3 및 n4는 각각 상기식 (P)에 있어서의 것과 동일한 의미이고, (Formula (a1-1), and of, R I, R Ⅱ, Z I, Z Ⅱ, Z Ⅲ, n1, n2, n3 and n4 are the same meaning as in the formula (P), respectively,

R1은 페닐기 또는 탄소수 1∼12의 알킬기이거나, 또는 탄소수 1∼12의 알킬기를 갖는 알킬페닐기이고, R 1 is a phenyl group or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an alkylphenyl group having an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms,

n은 1∼3의 정수임) n is an integer of 1 to 3)

로 나타나는 화합물을 들 수 있다. 식 (a1-1) 중의 n은 1인 것이 바람직하다. The compound represented by is mentioned. It is preferable that n in Formula (a1-1) is 1.

이러한 실란 화합물 (a1)의 구체예로서는, 예를 들면 n-부틸트리메톡시실란, n-부틸트리에톡시실란, n-부틸트리-n-프로폭시실란, n-부틸트리-i-프로폭시실란, n-부틸트리-n-부톡시실란, n-부틸트리-sec-부톡시실란, n-부틸트리-n-펜탁시실란, n-부틸트리-sec-부톡시실란, n-부틸트리페녹시실란, n-부틸트리-p-메틸페녹시 실란, n-펜틸트리메톡시실란, n-펜틸트리에톡시실란, n-펜틸트리-n-프로폭시실란, n-펜틸트리-i-프로폭시실란, n-펜틸트리-n-부톡시실란, n-펜틸트리-sec-부톡시실란, n-펜틸트리-n-펜탁시실란, n-펜틸트리-sec-부톡시실란, n-펜틸트리페녹시실란, n-펜틸트리-p-메틸페녹시실란, 2-(퍼플루오로-n-헥실)에틸트리메톡시실란, 2-(퍼플루오로-n-헥실)에틸트리에톡시실란, 2-(퍼플루오로-n-헥실)에틸트리-n-프로폭시실란, 2-(퍼플루오로-n-헥실)에틸트리-i-프로폭시실란, 2-(퍼플루오로-n-헥실)에틸 트리-n-부톡시실란, 2-(퍼플루오로-n-헥실)에틸트리-sec-부톡시실란, 2-(퍼플루오로-n-옥틸)에틸트리메톡시실란, 2-(퍼플루오로-n-옥틸)에틸트리에톡시실란, 2-(퍼플루오로-n-옥틸)에틸트리-n-프로폭시실란, 2-(퍼플루오로-n-옥틸)에틸트리-i-프로폭시실란, 2-(퍼플루오로-n-옥틸)에틸트리-n-부톡시실란, 2-(퍼플루오로-n-옥틸) 에틸트리-sec-부톡시실란, n-도데실트리메톡시실란, n-도데실트리에톡시실란, n-도데실트리-n-프로폭시실란, n-도데실트리-i-프로폭시실란, n-도데실트리-n-부톡시실란, n-도데실트리-sec-부톡시실란 등을 들 수 있고, 이들 중으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있다. As a specific example of such a silane compound (a1), for example, n-butyltrimethoxysilane, n-butyltriethoxysilane, n-butyltri-n-propoxysilane, n-butyltri-i-propoxysilane , n-butyltri-n-butoxysilane, n-butyltri-sec-butoxysilane, n-butyltri-n-pentasilane, n-butyltri-sec-butoxysilane, n-butyltriphenoxy Cysilane, n-butyltri-p-methylphenoxy silane, n-pentyltrimethoxysilane, n-pentyltriethoxysilane, n-pentyltri-n-propoxysilane, n-pentyltri-i -Propoxysilane, n-pentyltri-n-butoxysilane, n-pentyltri-sec-butoxysilane, n-pentyltri-n-penttaxysilane, n-pentyltri-sec-part Methoxysilane, n-pentyltriphenoxysilane, n-pentyltri-p-methylphenoxysilane, 2- (perfluoro-n-hexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (perfluoro-n -Hexyl) ethyltriethoxysilane, 2- (perfluoro-n-hexyl) ethyltri-n-propoxysilane, 2- (perfluoro-n-hexyl) ethyltri-i-propoxysil , 2- (perfluoro-n-hexyl) ethyl tri-n-butoxysilane, 2- (perfluoro-n-hexyl) ethyltri-sec-butoxysilane, 2- (perfluoro-n- Octyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (perfluoro-n-octyl) ethyltriethoxysilane, 2- (perfluoro-n-octyl) ethyltri-n-propoxysilane, 2- (perfluoro Rho-n-octyl) ethyltri-i-propoxysilane, 2- (perfluoro-n-octyl) ethyltri-n-butoxysilane, 2- (perfluoro-n-octyl) ethyltri-sec -Butoxysilane, n-dodecyltrimethoxysilane, n-dodecyltriethoxysilane, n-dodecyltri-n-propoxysilane, n-dodecyltri-i-propoxysilane, n-dode Siltri-n-butoxysilane, n-dodecyl tri-sec-butoxysilane, etc. are mentioned, One or more types selected from these can be used.

상기 실란 화합물 (a2-1)로서는, 예를 들면 3-글리시딜옥시프로필트리메톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필트리에톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필디메틸메톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필디메틸에톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리에톡시실란 등을 들 수 있고, 이 들 중으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있다. As said silane compound (a2-1), for example, 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltriethoxysilane, 3-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane, 3 -Glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidyloxypropyldimethylmethoxysilane, 3-glycidyloxypropyldimethylethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxy Silane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, etc. can be mentioned, One or more types selected from these can be used.

상기 실란 화합물 (a2-2)는, 바람직하게는 상기 실란 화합물 (a1) 및 실란 화합물 (a2-1) 이외의 알콕시실란 화합물이고, 예를 들면 바람직하게는 하기식 (a2-2-1):The said silane compound (a2-2), Preferably it is an alkoxysilane compound other than the said silane compound (a1) and a silane compound (a2-1), For example, Preferably, it is a following formula (a2-2-1):

(R2)mSi(OR3)4-m (a2-2-1) (R 2 ) m Si (OR 3 ) 4-m (a2-2-1)

(식 (a2-2-1) 중, R2는 탄소수 1∼3의 알킬기, 탄소수 1∼3의 플루오로알킬기 또는 페닐기이거나, 또는 탄소수 1∼3의 알킬기를 갖는 알킬페닐기이고,(In formula (a2-2-1), R <2> is a C1-C3 alkyl group, a C1-C3 fluoroalkyl group, or a phenyl group, or an alkylphenyl group which has a C1-C3 alkyl group,

R3은 페닐기 또는 탄소수 1∼12의 알킬기이거나, 또는 탄소수 1∼12의 알킬기를 갖는 알킬페닐기이고, R 3 is a phenyl group or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkylphenyl group having an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms,

m은 0∼3의 정수임) m is an integer of 0 to 3)

로 나타나는 화합물을 들 수 있다. The compound represented by is mentioned.

상기식 (a2-2-1)로 나타나는 화합물로서는, 예를 들면 에틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 테트라메톡시실란 및 테트라에톡시실란으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용하는 것이 바람직하고, 특히 테트라메톡시실란 및 테트라에톡시실란으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용하는 것이 바람직하다. As a compound represented by said formula (a2-2-1), for example, ethyl trimethoxysilane, ethyl triethoxysilane, methyl trimethoxysilane, methyl triethoxysilane, tetramethoxysilane, and tetraethoxysilane It is preferable to use 1 or more types chosen from the group which consists of, and it is especially preferable to use 1 or more types chosen from the group which consists of tetramethoxysilane and tetraethoxysilane.

본 발명에 있어서의 폴리오르가노실록산을 제조할 때에 원료로서 사용되는 각 실란 화합물의, 전체 실란 화합물에 대한 사용 비율은, 폴리오르가노실록산의 제조 방법에 따라 이하와 같다. The use ratio with respect to all the silane compounds of each silane compound used as a raw material at the time of manufacturing the polyorganosiloxane in this invention is as follows according to the manufacturing method of a polyorganosiloxane.

(1) 폴리오르가노실록산의 제조를 제조법 1 또는 2에 의하는 경우; (1) the preparation of polyorganosiloxane by preparation method 1 or 2;

실란 화합물 (a1): 바람직하게는 1몰% 이상, 보다 바람직하게는 2∼40몰%, 더욱 바람직하게는 5∼20몰% Silane compound (a1): Preferably it is 1 mol% or more, More preferably, it is 2-40 mol%, More preferably, it is 5-20 mol%

실란 화합물 (a2): 바람직하게는 99몰% 이하, 보다 바람직하게는 60∼98몰%, 더욱 바람직하게는 80∼95몰% Silane compound (a2): Preferably it is 99 mol% or less, More preferably, it is 60-98 mol%, More preferably, it is 80-95 mol%

(2) 폴리오르가노실록산의 제조를 제조법 3 또는 4에 의하는 경우; (2) the preparation of polyorganosiloxanes according to preparation 3 or 4;

실란 화합물 (a2-1): 바람직하게는 50몰% 이상, 보다 바람직하게는 60∼100몰%, 더욱 바람직하게는 80∼100몰% Silane compound (a2-1): Preferably it is 50 mol% or more, More preferably, it is 60-100 mol%, More preferably, it is 80-100 mol%

실란 화합물 (a2-2): 바람직하게는 50몰% 이하, 보다 바람직하게는 0∼40몰%, 더욱 바람직하게는 0∼20몰% Silane compound (a2-2): Preferably it is 50 mol% or less, More preferably, it is 0-40 mol%, More preferably, it is 0-20 mol%

이하, 제조법 1 및 3에서 행해지는, 실란 화합물을 디카본산 및 알코올의 존재하에 반응시키는 방법에 대해서 설명한다. Hereinafter, the method of making the silane compound reacted in manufacture methods 1 and 3 in presence of dicarboxylic acid and alcohol is demonstrated.

여기에서 사용되는 디카본산으로서는, 옥살산, 말론산, 탄소수 2∼4의 알킬렌기에 2개의 카복실기가 결합하여 이루어지는 화합물, 벤젠디카본산 등일 수 있다. 구체적으로는 예를 들면 옥살산, 말론산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 등을 들 수 있고, 이들 중으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 바람직하다. 특히 바람직하게는 옥살산이다. Examples of the dicarboxylic acid used herein include oxalic acid, malonic acid, a compound in which two carboxyl groups are bonded to an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, benzenedicarboxylic acid, and the like. Specifically, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, etc. are mentioned, It is preferable to use 1 or more types selected from these. Particularly preferably oxalic acid.

디카본산의 사용 비율은, 원료로서 사용하는 실란 화합물이 갖는 알콕실기의 합계 1몰에 대한 카복실기의 양이, 0.2∼2.0몰이 되는 양으로 하는 것이 바람직하고, 0.5∼1.5몰이 되는 양으로 하는 것이 보다 바람직하다. It is preferable that the use ratio of dicarboxylic acid is made into the quantity which becomes 0.2-2.0 mol, and the quantity of carboxyl group with respect to a total of 1 mol of alkoxyl groups which the silane compound used as a raw material is made into 0.5-1.5 mol. More preferred.

상기 알코올로서는, 1급 알코올을 매우 적합하게 사용할 수 있고, 탄소수 1∼4의 지방족 1급 알코올을 사용하는 것이 바람직하고, 메탄올, 에탄올, i-프로판올, n-프로판올, i-부탄올, sec-부탄올 및 t-부탄올로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용하는 것이 보다 바람직하고, 특히 메탄올 및 에탄올로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용하는 것이 바람직하다. As said alcohol, a primary alcohol can be used suitably, It is preferable to use a C1-C4 aliphatic primary alcohol, and methanol, ethanol, i-propanol, n-propanol, i-butanol, sec-butanol And it is more preferable to use 1 or more types chosen from the group which consists of t-butanol, and it is especially preferable to use 1 or more types chosen from the group which consists of methanol and ethanol.

제조법 1 및 3에 있어서의 알코올의 사용 비율은, 반응 용액의 전체량에 차지하는 실란 화합물 및 디카본산의 비율이, 3∼80중량%가 되는 비율로 하는 것이 바람직하고, 25∼70중량%가 되는 비율로 하는 것이 보다 바람직하다. It is preferable to make into the ratio which the ratio of the silane compound and dicarboxylic acid which occupy the whole amount of the reaction solution to become 3 to 80 weight%, and the use ratio of the alcohol in the manufacturing methods 1 and 3 becomes 25 to 70 weight% It is more preferable to set it as a ratio.

반응 온도는 1∼100℃로 하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 15∼80℃이다. It is preferable to make reaction temperature into 1-100 degreeC, More preferably, it is 15-80 degreeC.

반응 시간은 0.5∼24시간으로 하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼8시간이다. The reaction time is preferably 0.5 to 24 hours, more preferably 1 to 8 hours.

제조법 1 및 3의 실란 화합물의 반응에 있어서는, 상기와 같은 알코올 이외에 다른 용매는 사용하지 않는 것이 바람직하다. In the reaction of the silane compounds of Production Methods 1 and 3, it is preferable not to use any solvent other than the above alcohols.

상기와 같은 제조법에 있어서는, 실란 화합물과 디카본산과의 반응에 의해 생성된 중간체에 알코올이 작용함으로써, 실란 화합물의 (공)축합체인 폴리오르가노실록산이 생성되는 것이라고 추측된다 . In the above production method, it is estimated that the polyorganosiloxane which is the (co) condensate of a silane compound produces | generates by alcohol acting on the intermediate produced | generated by reaction of a silane compound and dicarboxylic acid.

다음으로, 제조법 2 및 4에서 행해지는, 실란 화합물의 가수 분해·축합 반응에 대해서 설명한다. Next, the hydrolysis and condensation reaction of the silane compound performed in Production Methods 2 and 4 will be described.

이 가수 분해·축합 반응은, 실란 화합물과 물을, 바람직하게는 촉매의 존재하에, 바람직하게는 적당한 유기 용매 중에서 반응시킴으로써 행할 수 있다. This hydrolysis-condensation reaction can be performed by making a silane compound and water react in the presence of a catalyst, Preferably in a suitable organic solvent.

여기에서 사용되는 물의 비율은, 원료로서 사용하는 실란 화합물이 갖는 알콕실기의 합계 1몰에 대한 양으로서, 0.5∼2.5몰로 하는 것이 바람직하다. The ratio of water used here is an amount with respect to the total of 1 mol of the alkoxyl groups which the silane compound used as a raw material has, and it is preferable to set it as 0.5-2.5 mol.

상기 촉매로서는, 산, 염기, 금속 화합물 등을 들 수 있다. 이러한 촉매의 구체예로서는, 산으로서 예를 들면 염산, 황산, 질산, 아세트산, 포름산, 옥살산, 말레산 등을 들 수 있다. As said catalyst, an acid, a base, a metal compound, etc. are mentioned. As an example of such a catalyst, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, acetic acid, formic acid, oxalic acid, maleic acid, etc. are mentioned, for example.

염기로서는, 무기 염기 및 유기 염기의 어느 것도 사용할 수 있고, 무기 염기로서 예를 들면 암모니아, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 나트륨메톡사이드, 칼륨메톡사이드, 나트륨에톡사이드, 칼륨에톡사이드 등을 ; As the base, any of an inorganic base and an organic base can be used, and examples of the inorganic base include ammonia, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium methoxide, potassium methoxide, sodium ethoxide, potassium ethoxide and the like;

유기 염기로서는 예를 들면 트리에틸아민, 트리-n-프로필아민, 트리-n-부틸 아민, 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘과 같은 3급의 유기 아민; 테트라메틸암모늄하이드록사이드 등을 각각 들 수 있다. Examples of the organic base include tertiary organic amines such as triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butyl amine, pyridine and 4-dimethylaminopyridine; Tetramethylammonium hydroxide, and the like.

금속 화합물로서 예를 들면 티탄 화합물, 지르코늄 화합물 등을 들 수 있다. As a metal compound, a titanium compound, a zirconium compound, etc. are mentioned, for example.

촉매의 사용 비율은, 원료로서 사용하는 실란 화합물의 합계 100중량부에 대하여 10중량부 이하로 하는 것이 바람직하고, 0.001∼10중량부로 하는 것이 보다 바람직하고, 더욱이 0.001∼1중량부로 하는 것이 바람직하다. It is preferable to set it as 10 weight part or less with respect to a total of 100 weight part of the silane compound used as a raw material, It is more preferable to set it as 0.001-10 weight part, Furthermore, it is preferable to set it as 0.001-1 weight part. .

상기 유기 용매로서는, 예를 들면 알코올, 케톤, 아미드, 에스테르 및 그 외의 비프로톤성 화합물을 들 수 있다. 상기 알코올로서는, 수산기를 1개 갖는 알코올, 수산기를 복수개 갖는 알코올 및 수산기를 복수개 갖는 알코올의 부분 에스테르의 어느 것도 사용할 수 있다. 상기 케톤으로서는, 모노케톤 및 β-디케톤을 바람직하게 사용할 수 있다. 이들 중, 수산기를 복수개 갖는 알코올의 부분 에스테르를 사용하는 것이 바람직하고, 특히 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르 등을 바람직하게 예시할 수 있고, 이들 중으로부터 선택되는 1종 이상을 사용하는 것이 특히 바람직하다. As said organic solvent, alcohol, ketone, an amide, ester, and other aprotic compounds are mentioned, for example. As said alcohol, all of the partial ester of the alcohol which has one hydroxyl group, the alcohol which has two or more hydroxyl groups, and the alcohol which has two or more hydroxyl groups can be used. As the ketone, monoketone and β-diketone can be preferably used. Of these, it is preferable to use partial esters of alcohols having a plurality of hydroxyl groups, and in particular, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether , Propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, etc. can be illustrated preferably, It is especially preferable to use 1 or more types chosen from these.

유기 용매의 사용 비율로서는, 반응 용액 중의 유기 용매 이외의 성분의 합계 중량이 반응 용액의 전체량에 차지하는 비율로서, 1∼90중량%가 되는 비율로 하는 것이 바람직하고, 10∼70중량%가 되는 비율로 하는 것이 보다 바람직하다. As a usage ratio of an organic solvent, it is preferable to set it as the ratio which becomes 1 to 90 weight% as a ratio which the total weight of components other than the organic solvent in a reaction solution occupies for the total amount of reaction solution, and becomes 10 to 70 weight% It is more preferable to set it as a ratio.

실란 화합물의 가수 분해·축합 반응시에 첨가되는 물은, 원료인 실란 화합물 중에 또는 실란 화합물을 유기 용매에 용해한 용액 중에, 단속적으로 또는 연속적으로 첨가할 수 있다. The water added at the time of the hydrolysis-condensation reaction of a silane compound can be added intermittently or continuously in the silane compound which is a raw material, or in the solution which melt | dissolved a silane compound in the organic solvent.

촉매는, 원료인 실란 화합물 중 또는 실란 화합물을 유기 용매에 용해한 용액 중에 미리 첨가해 두어도 좋고, 혹은 첨가되는 물 중에 용해 또는 분산시켜 두어도 좋다. The catalyst may be added in advance in the silane compound as a raw material or in a solution in which the silane compound is dissolved in an organic solvent, or may be dissolved or dispersed in water to be added.

반응 온도는 1∼100℃로 하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 15∼80℃이다. It is preferable to make reaction temperature into 1-100 degreeC, More preferably, it is 15-80 degreeC.

반응 시간은 0.5∼24시간으로 하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼8시간이다. The reaction time is preferably 0.5 to 24 hours, more preferably 1 to 8 hours.

이상과 같은 수단에 의해 제조법 1 및 2에 있어서는, 본 발명에 있어서의 중합체 조성물에 함유될 수 있는 폴리오르가노실록산이 직접 얻어지고;In the manufacturing methods 1 and 2 by the above means, the polyorganosiloxane which can be contained in the polymer composition in this invention is obtained directly;

한편, 제조법 3 및 4에 있어서는, 폴리오르가노실록산의 전구체인 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산이 얻어진다. 제조법 3 및 4에 있어서는, 이 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산을 추가로 특정 카본산과 반응시킴으로써, 본 발명에 있어서의 중합체 조성물에 함유되는 (A) 폴리오르가노실록산를 얻을 수 있다. On the other hand, in manufacturing methods 3 and 4, the polyorganosiloxane which has an epoxy group which is a precursor of polyorganosiloxane is obtained. In the manufacturing methods 3 and 4, (A) polyorganosiloxane contained in the polymer composition in this invention can be obtained by making the polyorganosiloxane which has this epoxy group react with specific carbonic acid further.

여기에서 사용되는 특정 카본산은, 상기식 (P)로 나타나는 기 및 카복실기를 갖는 화합물이다. 특정 카본산으로서는, 예를 들면 하기식 (C-1):The specific carboxylic acid used herein is a compound having a group represented by the formula (P) and a carboxyl group. As a specific carbonic acid, it is following formula (C-1):

Figure pat00008
Figure pat00008

(식 (C-1) 중, RI, R, ZI, Z, Z, n1, n2, n3 및 n4는 각각 상기식 (P)에 있어서의 것과 동일한 의미임) (In formula (C-1), R I , R II , Z I , Z II , Z III , n1, n2, n3 and n4 have the same meanings as those in the formula (P).)

로 나타나는 화합물을 들 수 있다. 상기식 (C-1)로 나타나는 화합물의 구체예로서는, 예를 들면 발레르산, 카프로산, 카프릴산, 데칸산, 도데칸산, 테트라데칸산, 4-(n-펜틸)벤조산, 4-(n-헥실)벤조산, 4-(n-헵틸)벤조산, 4-(n-옥틸)벤조산, 4-(n-노닐)벤조산, 4-(n-데실)벤조산, 4-(n-도데실)벤조산, 4-(n-옥타데실)벤조산, 4-(4-펜틸-사이클로헥실)-벤조산, 4-(4-헵틸-사이클로헥실)-벤조산 등을 들 수 있고, 이들 중으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있다. The compound represented by is mentioned. As a specific example of a compound represented by said formula (C-1), for example, valeric acid, caproic acid, caprylic acid, decanoic acid, dodecanoic acid, tetradecanoic acid, 4- (n-pentyl) benzoic acid, 4- (n -Hexyl) benzoic acid, 4- (n-heptyl) benzoic acid, 4- (n-octyl) benzoic acid, 4- (n-nonyl) benzoic acid, 4- (n-decyl) benzoic acid, 4- (n-dodecyl) benzoic acid , 4- (n-octadecyl) benzoic acid, 4- (4-pentyl-cyclohexyl) -benzoic acid, 4- (4-heptyl-cyclohexyl) -benzoic acid, and the like, and one or more selected from these. Can be used.

에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산과의 반응에 사용되는 특정 카본산의 사용 비율은, 전구체 폴리오르가노실록산이 갖는 에폭시기 1몰에 대하여 5∼50몰로 하는 것이 바람직하고, 10∼40몰로 하는 것이 보다 바람직하다. It is preferable to use the specific carbonic acid used for reaction with the polyorganosiloxane which has an epoxy group as 5-50 mol with respect to 1 mol of epoxy groups which precursor polyorganosiloxane has, and it is more preferable to set it as 10-40 mol. Do.

에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산과 특정 카본산과의 반응은, 적당한 촉매의 존재하에, 바람직하게는 적당한 유기 용매 중에서 실시할 수 있다. The reaction between the polyorganosiloxane having an epoxy group and the specific carbonic acid can be carried out in the presence of a suitable catalyst, preferably in a suitable organic solvent.

여기에서 사용되는 촉매로서는, 유기 염기를 사용할 수 있는 것 외에, 에폭시 화합물과 카본산과의 반응을 촉진하는 소위 경화 촉진제로서 공지의 화합물을 이용할 수 있다. 이 촉매로서는, 4급의 유기 아민을 사용하는 것이 바람직하고, 특히 테트라메틸암모늄하이드록사이드 등을 바람직하게 예시할 수 있다. As a catalyst used here, an organic base can be used and a well-known compound can be used as what is called a hardening accelerator which promotes reaction of an epoxy compound and a carboxylic acid. As this catalyst, it is preferable to use quaternary organic amine, and especially tetramethylammonium hydroxide etc. can be illustrated preferably.

촉매는, 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산 100중량부에 대하여 바람직하게는 100중량부 이하이고, 보다 바람직하게는 0.01∼100중량부, 더욱 바람직하게는 0.1∼20중량부의 비율로 사용된다. The catalyst is preferably 100 parts by weight or less, more preferably 0.01 to 100 parts by weight, still more preferably 0.1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyorganosiloxane having an epoxy group.

에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산과 특정 카본산과의 반응시에 사용되는 유기 용매로서는, 예를 들면 탄화 수소 화합물, 에테르 화합물, 에스테르 화합물, 케톤 화합물, 아미드 화합물, 알코올 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중, 에테르 화합물, 에스테르 화합물, 케톤 화합물이, 원료 및 생성물의 용해성 그리고 생성물의 정제의 용이성의 관점에서 바람직하다. 용매는, 고형분 농도(반응 용액 중의 용매 이외의 성분의 합계 중량이 용액의 전체 중량에 차지하는 비율)가, 바람직하게는 0.1중량% 이상, 보다 바람직하게는 5∼50중량%가 되는 양으로 사용된다. As an organic solvent used at the time of reaction of the polyorganosiloxane which has an epoxy group with specific carbonic acid, a hydrocarbon compound, an ether compound, an ester compound, a ketone compound, an amide compound, an alcohol compound, etc. are mentioned, for example. Of these, ether compounds, ester compounds, and ketone compounds are preferred in view of solubility of raw materials and products and ease of purification of products. The solvent is used in an amount such that the solid content concentration (the ratio of the total weight of the components other than the solvent in the reaction solution to the total weight of the solution) is preferably 0.1% by weight or more, and more preferably 5 to 50% by weight. .

반응 온도는 바람직하게는 0∼200℃이고, 보다 바람직하게는 50∼150℃이다. Reaction temperature becomes like this. Preferably it is 0-200 degreeC, More preferably, it is 50-150 degreeC.

반응 시간은 바람직하게는 0.1∼50시간, 보다 바람직하게는 0.5∼20시간이다. The reaction time is preferably 0.1 to 50 hours, more preferably 0.5 to 20 hours.

제조법 1∼4의 어느 방법에 의해 상기와 같이 하여 얻어진 (A) 폴리오르가노실록산은, 공지의 적당한 방법에 의해 정제한 후 중합체 조성물의 조제에 제공하는 것이 바람직하다. It is preferable to provide the preparation of a polymer composition after refine | purifying the polyorganosiloxane (A) obtained as mentioned above by any of the manufacturing methods 1-4 by a suitable well-known method.

[(C) 유기 용매] [(C) Organic Solvent]

본 발명에 있어서의 (C) 유기 용매로서는, 예를 들면 N-메틸-2-피롤리돈, γ-부티로락톤, γ-부티로락탐, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 락트산 부틸, 아세트산 부틸, 메틸메톡시프로피오네이트, 에틸에톡시프로피오네이트, 에틸렌글리콜메틸에테르, 에틸렌글리콜에틸에테르, 에틸렌글리콜-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜-i-프로필에테르, 에틸렌글리콜-n-부틸에테르(부틸셀로솔브), 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디이소부틸케톤, 이소아밀프로피오네이트, 이소아밀이소부틸레이트, 디이소펜틸에테르 등을 들 수 있다. Examples of the organic solvent (C) in the present invention include N-methyl-2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, γ-butyrolactam, N, N-dimethylformamide, and N, N-dimethyl. Acetamide, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, ethylene glycol monomethyl ether, butyl lactate, butyl acetate, methyl methoxy propionate, ethyl ethoxy propionate, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol Ethyl ether, ethylene glycol-n-propyl ether, ethylene glycol-i-propyl ether, ethylene glycol-n-butyl ether (butyl cellosolve), ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, Diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diisobutyl ketone , Isoamyl propionate, isoamyl isobutylate, diisopentyl ether and the like.

[그 외의 성분] [Other Ingredients]

본 발명에 있어서의 중합성 조성물은, 상기와 같은 중합체 (A), 중합체 (B) 및 (C) 유기 용매 외에, 본 발명의 효과를 감쇄하지 않는 한, 필요에 따라 그 외의 성분을 함유해도 좋다. 이러한 그 외의 성분으로서는, 예를 들면 중합성 불포화 화합물, 광중합 개시제, 라디칼 포착제, 분자 내에 적어도 하나의 에폭시기를 갖는 화합물(이하, 「에폭시 화합물」이라고 함), 관능성 실란 화합물, 계면 활성제 등을 들 수 있고, 이들 중으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있다. In addition to the above polymers (A), polymers (B), and (C) organic solvents, the polymerizable composition in the present invention may contain other components as necessary, so long as the effects of the present invention are not attenuated. . Examples of such other components include a polymerizable unsaturated compound, a photopolymerization initiator, a radical scavenger, a compound having at least one epoxy group in the molecule (hereinafter referred to as an "epoxy compound"), a functional silane compound, a surfactant, and the like. These, and 1 or more types chosen from these can be used.

{중합성 불포화 화합물} {Polymerizable Unsaturated Compound}

본 발명에 있어서 임의적으로 이용되는 중합성 불포화 화합물로서는, 예를 들면 비페닐 구조를 갖는 디(메타)아크릴레이트, 페닐-사이클로헥실 구조를 갖는 디(메타)아크릴레이트, 2,2-디페닐프로판 구조를 갖는 디(메타)아크릴레이트, 디페닐메탄 구조를 갖는 디(메타)아크릴레이트, 디페닐티오에테르 구조를 갖는 디-티오(메타)아크릴레이트 및 그 외의 화합물 (B-1), 메타크릴산-5ξ-콜레스탄-3-일, 메타크릴산 4-(4'-페닐-바이사이클로헥실-4-일)페닐에스테르, 메타크릴산 4-옥틸옥시페닐에스테르, 메타크릴산 4-(4-펜틸사이클로헥실)페닐에스테르 등을 들 수 있다. Examples of the polymerizable unsaturated compound optionally used in the present invention include di (meth) acrylate having a biphenyl structure, di (meth) acrylate having a phenyl-cyclohexyl structure, and 2,2-diphenylpropane. Di (meth) acrylate having a structure, di (meth) acrylate having a diphenylmethane structure, di-thio (meth) acrylate having a diphenylthioether structure and other compounds (B-1), methacryl Acid-5ξ-cholestan-3-yl, methacrylic acid 4- (4'-phenyl-bicyclohexyl-4-yl) phenyl ester, methacrylic acid 4-octyloxyphenyl ester, methacrylic acid 4- (4 -Pentyl cyclohexyl) phenyl ester, etc. are mentioned.

이러한 중합성 불포화 화합물의 사용 비율로서는, 중합체 (A) 및 존재하는 경우에는 중합체 (B)의 합계 100중량부에 대하여 100중량부 이하로 하는 것이 바람직하고, 5∼50중량부 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. As a usage ratio of such a polymerizable unsaturated compound, it is preferable to set it as 100 weight part or less with respect to a total of 100 weight part of a polymer (A) and a polymer (B), and to make it 5 to 50 weight part or less more. desirable.

{광중합 개시제} {Photopolymerization initiator}

상기 광중합 개시제로서는 예를 들면 α-디케톤, 아실로인(acyloin), 아실로인에테르, 벤조페논 화합물, 아세토페논 화합물, 퀴논 화합물, 할로겐 화합물, 아실포스핀옥사이드, 유기 과산화물 등을 들 수 있다. As said photoinitiator, (alpha)-diketone, an acyloin, an acyloin ether, a benzophenone compound, an acetophenone compound, a quinone compound, a halogen compound, an acylphosphine oxide, an organic peroxide etc. are mentioned, for example. .

광중합 개시제로서는, 열안정성이 높다는 관점에서 벤조페논 화합물을 사용하는 것이 바람직하고, 특히 티옥산톤(thioxanton), 2,4-디에틸티옥산톤, 티옥산톤-4-술폰산, 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 및 페닐-(4-p-톨릴술파닐-페닐)-메타논으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용하는 것이 바람직하다. As a photoinitiator, it is preferable to use a benzophenone compound from a viewpoint of high thermal stability, Especially, a thioxanthone, 2, 4- diethyl thioxanthone, a thioxanthone-4- sulfonic acid, benzophenone, 4 1 type selected from the group consisting of 4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, and phenyl- (4-p-tolylsulfanyl-phenyl) -methanone It is preferable to use the above.

본 발명에 있어서의 중합체 조성물 중의 광중합 개시제의 사용 비율은, 중합체 (A) 및 존재하는 경우에는 중합성 불포화 화합물의 합계 100중량부에 대하여 30중량부 이하로 하는 것이 바람직하고, 0.5∼30중량부로 하는 것이 보다 바람직하고, 특히 1∼20중량부로 하는 것이 바람직하다. It is preferable that the use ratio of the photoinitiator in the polymer composition in this invention shall be 30 weight part or less with respect to a total of 100 weight part of a polymer (A) and a polymerizable unsaturated compound, and is 0.5-30 weight part It is more preferable, and it is especially preferable to use 1-20 weight part.

{라디칼 포착제} {Radical scavenger}

상기 라디칼 포착제는, 기판 상에 본 발명에 있어서의 중합체 조성물을 도포하여 도막으로 할 때에 바람직하게 행해지는 가열에 의해, 중합체 (A)가 갖는 중합성 탄소-탄소 2중 결합이 바람직하지 않은 반응을 일으키는 것을 회피하기 위해, 본 발명에서의 중합체 조성물 중에 함유될 수 있다. The radical scavenger is a reaction in which the polymerizable carbon-carbon double bond possessed by the polymer (A) is not preferred by heating, which is preferably performed when the polymer composition according to the present invention is applied onto a substrate to form a coating film. In order to avoid causing this, it may be contained in the polymer composition in the present invention.

이러한 라디칼 포착제의 구체예로서는, 예를 들면 펜타에리트리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트], 티오디에틸렌비스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트], 옥타데실-3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트, 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)벤젠, N,N'-헥산-1,6-디일비스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐프로피온아미드), 3,3',3",5'5"-헥사-tert-부틸-α,α',α"-(메시틸렌-2,4,6-트리일)트리-p-크레졸, 4,6-비스(옥틸티오메틸)-o-크레졸, 4,6-비스(도데실티오메틸)-o-크레졸, 에틸렌비스(옥시에틸렌)비스[3-(5-tert-부틸-4-하이드록시-m-톨릴)프로피오네이트], 헥사메틸렌비스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트], 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온 등을 들 수 있고, 이들 중으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있다. As a specific example of such a radical trapping agent, for example, pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], thiodiethylenebis [3- (3 , 5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 1,3, 5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, N, N'-hexane-1,6-diylbis [3- (3,5 -Di-tert-butyl-4-hydroxyphenylpropionamide), 3,3 ', 3 ", 5'5" -hexa-tert-butyl-α, α', α "-(mesitylene-2,4 , 6-triyl) tri-p-cresol, 4,6-bis (octylthiomethyl) -o-cresol, 4,6-bis (dodecylthiomethyl) -o-cresol, ethylenebis (oxyethylene) bis [3- (5-tert-butyl-4-hydroxy-m-tolyl) propionate], hexamethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate ], 1,3,5-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -1,3,5-tria True-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, etc. can be mentioned, One or more types selected from these can be used.

본 발명에 있어서의 라디칼 포착제의 사용 비율은, 중합체 (A) 및 존재하는 경우에는 중합성 불포화 화합물의 합계 100중량부에 대하여 바람직하게는 10중량 부 이하이고, 보다 바람직하게는 0.1∼5중량부이다. The use ratio of the radical trapping agent in this invention becomes like this. Preferably it is 10 weight part or less with respect to a total of 100 weight part of a polymer (A) and a polymerizable unsaturated compound, More preferably, it is 0.1-5 weight It is wealth.

{에폭시 화합물} {Epoxy compound}

상기 에폭시 화합물은, 분자 내에 적어도 하나의 에폭시기를 갖는 화합물이지만, 상기의 중합체 (A)가 에폭시기를 갖는 경우는 제외된다. Although the said epoxy compound is a compound which has at least 1 epoxy group in a molecule | numerator, the case where said polymer (A) has an epoxy group is excluded.

본 발명에 있어서의 에폭시 화합물로서는, N,N-디글리시딜아미노기를 갖는 화합물이 바람직하고, 그 구체예로서 예를 들면 N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-자일렌디아민, 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)사이클로헥산, N,N,N',N'-테트라글리시딜-4,4'-디아미노디페닐메탄, N,N-디글리시딜-벤질아민, N,N-디글리시딜-아미노메틸사이클로헥산, N,N-디글리시딜-사이클로헥실아민 등을 들 수 있고, 이들 중으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있다. As an epoxy compound in this invention, the compound which has N, N- diglycidylamino group is preferable, As a specific example, N, N, N ', N'- tetraglycidyl-m-xyl Rendiamine, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N, N ', N'-tetraglycidyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, N , N- diglycidyl-benzylamine, N, N- diglycidyl-aminomethylcyclohexane, N, N- diglycidyl-cyclohexylamine, etc. are mentioned, 1 type chosen from these The above can be used.

이들 에폭시 화합물의 배합 비율은, 중합체 (A) 100중량부에 대하여 바람직하게는 40중량부 이하이고, 보다 바람직하게는 30중량부 이하이다. The compounding ratio of these epoxy compounds becomes like this. Preferably it is 40 weight part or less with respect to 100 weight part of polymers (A), More preferably, it is 30 weight part or less.

{관능성 실란 화합물} {Functional silane compound}

상기 관능성 실란 화합물로서는, 예를 들면 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 2-아미노프로필트리메톡시실란, 2-아미노프로필트리에톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 3-우레이드프로필트리메톡시실란, 3-우레이드프로필트리에톡시실란, N-에톡시카보닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-에톡시카보닐-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-트리에톡시실릴프로필트리에틸렌트리아민, N-트리메톡시실릴프로필트리에틸렌트리아민, 10-트리메톡시실릴-1,4,7-트리아자데칸 등을 들 수 있다. As said functional silane compound, 3-aminopropyl trimethoxysilane, 3-aminopropyl triethoxysilane, 2-aminopropyl trimethoxysilane, 2-aminopropyl triethoxysilane, N- (2 -Aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-ureidepropyltrimethoxysilane, 3-ureidepropyltriethoxy Silane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-triethoxysilylpropyltriethylenetriamine, N-trimeth And methoxysilylpropyltriethylenetriamine, 10-trimethoxysilyl-1,4,7-triazadecane and the like.

이들 관능성 실란 화합물의 배합 비율은, 중합체 (A) 100중량부에 대하여 바람직하게는 2중량부 이하이고, 보다 바람직하게는 0.2중량부 이하이다. The compounding ratio of these functional silane compounds becomes like this. Preferably it is 2 weight part or less with respect to 100 weight part of polymers (A), More preferably, it is 0.2 weight part or less.

{계면 활성제} {Surfactants}

상기 계면 활성제로서는, 예를 들면 비이온 계면 활성제, 음이온 계면 활성제, 양이온 계면 활성제, 양성 계면 활성제, 실리콘 계면 활성제, 폴리알킬렌옥사이드 계면 활성제, 불소 함유 계면 활성제 등을 들 수 있다. As said surfactant, a nonionic surfactant, an anionic surfactant, a cationic surfactant, an amphoteric surfactant, a silicone surfactant, a polyalkylene oxide surfactant, a fluorine-containing surfactant etc. are mentioned, for example.

본 발명에 있어서의 중합체 조성물이 계면 활성제를 함유하는 경우, 그 함유 비율로서는, 중합체 조성물의 전체 100중량부에 대하여 바람직하게는 10중량부 이하이고, 보다 바람직하게는 1중량부 이하이다. When the polymer composition in the present invention contains a surfactant, the content ratio is preferably 10 parts by weight or less, more preferably 1 part by weight or less based on 100 parts by weight of the polymer composition.

[중합체 조성물] [Polymer Composition]

본 발명에 있어서 이용되는 중합체 조성물은, 상기와 같은 중합체 (A), 또는 중합체 (A)와 중합체 (B)와의 혼합물, 또는 이들과 임의적으로 사용되는 그 외의 성분을, 상기와 같은 (C) 유기 용매에 용해한 용액으로서 조제되는 것이 바람직하다. The polymer composition used in the present invention is a polymer (A) or a mixture of a polymer (A) and a polymer (B), or any other component optionally used in these and the like (C) organic It is preferable to prepare as a solution which melt | dissolved in the solvent.

중합체 조성물에 있어서의 중합체 (B)의 사용 비율로서는, 중합체 (A) 및 중합체 (B)의 합계에 대하여 95중량% 이하로 하는 것이 바람직하고, 50∼95중량%로 하는 것이 바람직하고, 더욱이 60∼90중량%로 하는 것이 바람직하다. As a usage ratio of the polymer (B) in a polymer composition, it is preferable to set it as 95 weight% or less with respect to the sum total of a polymer (A) and a polymer (B), It is preferable to set it as 50 to 95 weight%, Furthermore, 60 It is preferable to set it as -90 weight%.

(C) 유기 용매의 사용 비율로서는, 중합체 조성물의 고형분 농도(중합체 조성물 중의 (C) 유기 용매 이외의 성분의 합계 중량이 중합체 조성물의 전체 중량에 차지하는 비율)가 1∼15중량%가 되는 비율로 하는 것이 바람직하고, 1.5∼8중량%가 되는 비율로 하는 것이 보다 바람직하다. As a usage ratio of (C) an organic solvent, it is a ratio which solid content concentration (the ratio which the total weight of components other than the (C) organic solvent in a polymer composition occupies for the total weight of a polymer composition) of 1-15 weight% of a polymer composition. It is preferable to, and it is more preferable to set it as the ratio used as 1.5 to 8 weight%.

<액정 표시 소자의 제조 방법> <Method of Manufacturing Liquid Crystal Display Element>

본 발명의 액정 표시 소자의 제조 방법은,The manufacturing method of the liquid crystal display element of this invention,

도전막을 갖는 한 쌍의 기판의 당해 도전막 상에, 각각 상기와 같은 중합체 조성물을 도포하여 도막을 형성하고, On the said conductive film of a pair of board | substrates which have a conductive film, the above-mentioned polymer composition is apply | coated, respectively, and a coating film is formed,

상기 도막을 형성한 한 쌍의 기판을, 액정 분자의 층을 개재하여 상기 도막이 상대하도록 대향 배치하여 액정 셀을 형성하고, A pair of substrates on which the coating film is formed are disposed to face each other such that the coating film is opposed to each other via a layer of liquid crystal molecules to form a liquid crystal cell,

상기 한 쌍의 기판이 갖는 도전막 간에 전압을 인가한 상태에서 상기 액정 셀에 광조사하는 공정을 거치는 것을 특징으로 한다. And a step of irradiating light to the liquid crystal cell in a state where a voltage is applied between the conductive films of the pair of substrates.

여기에서, 기판으로서는 예를 들면 플로트 유리, 소다 유리와 같은 유리; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에테르술폰, 폴리카보네이트와 같은 플라스틱 등으로 이루어지는 투명 기판 등을 이용할 수 있다. Here, as a board | substrate, For example, glass, such as float glass and a soda glass; A transparent substrate made of polyethylene such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyether sulfone, polycarbonate, or the like can be used.

상기 도전막으로서는, 투명 도전막을 이용하는 것이 바람직하고, 예를 들면 SnO2로 이루어지는 NESA(등록 상표)막, In2O3-SnO2로 이루어지는 ITO막 등을 이용할 수 있다. 이 도전막은, 각각 복수의 영역으로 구획된 패턴 형상 도전막인 것이 바람직하다. 이러한 도전막 구성으로 하면, 도전막 간에 전압을 인가할 때(후술)에 이 각 영역마다 상이한 전압을 인가함으로써 각 영역마다 액정 분자의 프리틸트각의 방향을 바꿀 수 있어, 이에 따라 시야각 특성을 보다 넓게 하는 것이 가능해진다. As the conductive film, a transparent conductive film is preferably used. For example, an NESA (registered trademark) film made of SnO 2 , an ITO film made of In 2 O 3 -SnO 2 , and the like can be used. It is preferable that this conductive film is a patterned conductive film partitioned into a plurality of regions, respectively. With such a conductive film configuration, the direction of the pretilt angle of the liquid crystal molecules can be changed for each region by applying a different voltage for each region when a voltage is applied between the conductive films (to be described later). It becomes possible to widen.

이러한 기판의 당해 도전막 상에, 중합체 조성물을 도포하는 데는, 예를 들면 롤 코터법, 스피너법, 인쇄법, 잉크젯법 등의 적절한 도포 방법에 의할 수 있다. 도포 후, 당해 도포면을 예비 가열(프리베이킹)하고, 이어서 소성(포스트베이킹)함으로써 도막을 형성한다. 프리베이킹 조건은 예를 들면 40∼120℃에서 0.1∼5분이고, 포스트베이킹 조건은 바람직하게는 120∼300℃, 보다 바람직하게는 150∼250℃에서, 바람직하게는 5∼200분, 보다 바람직하게는 10∼100분이다. 포스트베이킹 후의 도막의 막두께는 바람직하게는 0.001∼1㎛이고, 보다 바람직하게는 0.005∼0.5㎛이다. In order to apply | coat a polymer composition on the said electrically conductive film of such a board | substrate, it can be based on suitable coating methods, such as a roll coater method, a spinner method, the printing method, the inkjet method, for example. After application | coating, the said coating surface is preheated (prebaked) and then baked (postbaking), and a coating film is formed. The prebaking conditions are, for example, 0.1 to 5 minutes at 40 to 120 ° C, and the postbaking conditions are preferably 120 to 300 ° C, more preferably 150 to 250 ° C, preferably 5 to 200 minutes, more preferably Is 10 to 100 minutes. The film thickness of the coating film after postbaking becomes like this. Preferably it is 0.001-1 micrometer, More preferably, it is 0.005-0.5 micrometer.

이와 같이 하여 형성된 도막은 이것을 그대로 다음 공정의 액정 셀의 제조에 제공해도 좋고, 혹은 액정 셀의 제조에 앞서 필요에 따라 도막면에 대한 러빙 처리를 행해도 좋다. 이 러빙 처리는, 도막면에 대하여 예를 들면 나일론, 레이온, 코튼 등의 섬유로 이루어진 천을 감은 롤로 일정 방향으로 문지름으로써 행할 수 있다. 여기에서, 특허문헌 2(일본공개특허공보 평5-107544호)에 기재되어 있는 바와 같이, 일단 러빙 처리를 행한 후에 도막면의 일부에 레지스트막을 형성하고, 추가로 앞의 러빙 처리와 상이한 방향으로 러빙 처리를 행한 후에 레지스트막을 제거하는 처리를 행하여, 영역마다 상이한 러빙 방향으로 함으로써, 얻어지는 액정 표시 소자의 시계 특성을 더욱 개선하는 것이 가능하다. The coating film formed in this way may be used as it is for the manufacture of the liquid crystal cell of a next process as it is, or you may perform a rubbing process with respect to a coating film surface as needed before manufacture of a liquid crystal cell. This rubbing process can be performed by rubbing in a fixed direction with the roll which wound the cloth which consists of fibers, such as nylon, a rayon, and cotton, with respect to a coating film surface, for example. Here, as described in Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open Publication No. Hei 5-107544), after a rubbing treatment is performed, a resist film is formed on a part of the coating film surface, and further in a direction different from the previous rubbing treatment. After performing a rubbing process, the process of removing a resist film is performed, and it is possible to further improve the field of view characteristic of the liquid crystal display element obtained by making it into the rubbing direction different for every area | region.

이어서, 상기 도막을 형성한 한 쌍의 기판을, 액정 분자의 층을 개재하여 상기 도막이 상대하도록 대향 배치하여 액정 셀을 형성한다. Subsequently, a pair of substrates on which the coating film is formed are disposed to face each other so that the coating film faces through a layer of liquid crystal molecules to form a liquid crystal cell.

여기에서 사용되는 액정 분자로서는, 부(負)의 유전 이방성을 갖는 네마틱형 액정이 바람직하고, 예를 들면 디시아노벤젠계 액정, 피리다진계 액정, 시프 베이스계 액정, 아족시계 액정, 비페닐계 액정, 페닐사이클로헥산계 액정 등을 이용할 수 있다. 액정 분자의 층의 두께는 1∼5㎛로 하는 것이 바람직하다. As a liquid crystal molecule used here, the nematic liquid crystal which has negative dielectric anisotropy is preferable, For example, dicyano benzene type liquid crystal, a pyridazine type liquid crystal, a siphon base type liquid crystal, a cyan clock liquid crystal, a biphenyl type A liquid crystal, a phenyl cyclohexane type liquid crystal, etc. can be used. It is preferable that the thickness of the layer of liquid crystal molecules shall be 1-5 micrometers.

이러한 액정을 이용하여 액정 셀을 제조하는 데는, 예를 들면 이하의 2가지 방법을 들 수 있다. For producing a liquid crystal cell using such a liquid crystal, the following two methods are mentioned, for example.

제1 방법으로서는, 각각의 액정 배향막이 대향하도록 간극(셀 갭)을 개재하여 2매의 기판을 대향 배치하고, 2매의 기판의 주변부를 시일제(sealing agent)를 이용하여 접합하고, 기판 표면 및 시일제에 의해 구획된 셀 갭 내에 액정을 주입 충전한 후, 주입공을 봉지함으로써, 액정 셀을 제조할 수 있다. 혹은 제2 방법으로서, 액정 배향막을 형성한 2매의 기판 중 한쪽의 기판 상의 소정의 위치에 예를 들면 자외광 경화성의 시일제를 도포하고, 추가로 액정 배향막면 상에 액정을 적하한 후, 액정 배향막이 대향하도록 다른 한쪽의 기판을 접합함과 함께 액정을 기판의 전체면에 펴 바르고, 이어서 기판의 전체면에 자외광을 조사하여 시일제를 경화함으로써, 액정 셀을 제조할 수 있다. As a 1st method, two board | substrates are opposingly arranged through a gap (cell gap) so that each liquid crystal aligning film may oppose, and the peripheral part of two board | substrates is joined using a sealing agent, and the board | substrate surface And after filling and filling the liquid crystal into the cell gap partitioned by the sealing agent, the liquid crystal cell can be produced by sealing the injection hole. Or as a 2nd method, after apply | coating an ultraviolet-ray curable sealing compound, for example to the predetermined position on one of the two board | substrates with which the liquid crystal aligning film was formed, and further dropping a liquid crystal on the liquid crystal aligning film surface, A liquid crystal cell can be manufactured by bonding another board | substrate so that a liquid crystal aligning film may oppose, spreading a liquid crystal on the whole surface of a board | substrate, then irradiating ultraviolet light to the whole surface of a board | substrate, and hardening a sealing compound.

그 후, 상기 한 쌍의 기판이 갖는 도전막 간에 전압을 인가한 상태에서 상기 액정 셀에 광조사한다. Thereafter, the liquid crystal cell is irradiated with light while a voltage is applied between the conductive films of the pair of substrates.

여기에서 인가하는 전압은, 예를 들면 5∼50V의 직류 또는 교류로 할 수 있다. The voltage applied here can be, for example, 5 to 50 V DC or alternating current.

조사하는 빛으로서는, 예를 들면 150∼800nm의 파장의 빛을 포함하는 자외선 및 가시광선을 이용할 수 있지만, 300∼400nm의 파장의 빛을 포함하는 자외선이 바람직하다. 조사광의 광원으로서는, 예를 들면 저압 수은 램프, 고압 수은 램프, 중수소 램프, 메탈 할라이드 램프, 아르곤 공명 램프, 크세논 램프, 엑시머 레이저 등을 사용할 수 있다. 상기의 바람직한 파장 영역의 자외선은, 상기 광원을, 예를 들면 필터, 회절 격자 등과 병용하는 수단 등에 의해 얻을 수 있다. 빛의 조사량으로서는, 바람직하게는 1,000J/㎡ 이상 100,000J/㎡ 미만이고, 보다 바람직하게는 1,000∼50,000J/㎡이다. 종래 알려져 있는 PSA 모드의 액정 표시 소자의 제조에 있어서는, 100,000J/㎡ 정도의 빛을 조사하는 것이 필요했지만, 본 발명의 방법에 있어서는, 광조사량을 50,000J/㎡ 이하, 더욱이 10,000J/㎡ 이하로 한 경우라도 소망하는 액정 표시 소자를 얻을 수 있어, 액정 표시 소자의 제조 비용의 삭감에 이바지하는 것 외에, 강한 빛의 조사에 기인하는 전기 특성의 저하, 장기 신뢰성의 저하를 회피할 수 있다. As the light to be irradiated, for example, ultraviolet rays and visible rays containing light having a wavelength of 150 to 800 nm can be used, but ultraviolet rays containing light having a wavelength of 300 to 400 nm are preferable. As a light source of irradiation light, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a deuterium lamp, a metal halide lamp, an argon resonance lamp, a xenon lamp, an excimer laser, etc. can be used, for example. Ultraviolet rays in the above preferred wavelength region can be obtained by means of using the light source together with a filter, a diffraction grating, or the like, for example. As an irradiation amount of light, Preferably it is 1,000 J / m <2> or less than 100,000 J / m <2>, More preferably, it is 1,000-50,000 J / m <2>. In the manufacture of the liquid crystal display element of the conventionally known PSA mode, although it was necessary to irradiate about 100,000 J / m <2> light, in the method of this invention, the light irradiation amount is 50,000 J / m <2> or less, Furthermore, 10,000 J / m <2> or less Even if it is set as desired, a desired liquid crystal display element can be obtained, and it can contribute to the reduction of the manufacturing cost of a liquid crystal display element, and can lower the electrical characteristic resulting from strong light irradiation, and the fall of long-term reliability.

그리고, 상기와 같은 처리를 시행한 후의 액정 셀의 외측 표면에 편광판을 접합함으로써, 액정 표시 소자를 얻을 수 있다. 여기에서 사용되는 편광판으로서는, 폴리비닐알코올을 연신 배향시키면서 요오드를 흡수시킨 「H막」이라고 불리는 편광막을 아세트산 셀룰로오스 보호막으로 사이에 끼운 편광판, 또는 H막 그 자체로 이루어지는 편광판 등을 들 수 있다. And a liquid crystal display element can be obtained by bonding a polarizing plate to the outer surface of the liquid crystal cell after performing the above process. As a polarizing plate used here, the polarizing plate etc. which sandwiched the polarizing film called "H film | membrane" which absorbed iodine while extending | stretching polyvinyl alcohol by the cellulose acetate protective film, or the polarizing plate which consists of H film itself are mentioned.

실시예Example

<중합체 (A)의 합성> Synthesis of Polymer (A)

합성예 A-1 Synthesis Example A-1

냉각관 및 교반기를 구비한 플라스크 안에서, p-비닐벤질글리시딜에테르 64g, N-페닐말레이미드 20g 및 4-(4'-n-펜틸바이사이클로헥실-4-일)페닐메타크릴레이트 16g을 디에틸렌글리콜디에틸에테르 300g에 용해하고, 여기에 추가로 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 8g 및 α-메틸스티렌다이머 8g을 더하여 질소 치환했다. 그 후, 반응계를 온화하게 교반을 계속하면서, 질소 버블링하면서 80℃로 승온하고, 이 온도를 보존유지하여 5시간 중합했다. In a flask equipped with a cooling tube and a stirrer, 64 g of p-vinylbenzyl glycidyl ether, 20 g of N-phenylmaleimide and 16 g of 4- (4'-n-pentylbicyclohexyl-4-yl) phenyl methacrylate were added. It melt | dissolved in 300 g of diethylene glycol diethyl ethers, Furthermore, 8 g of 2,2'- azobisisobutyronitrile and 8 g of (alpha)-methylstyrene dimers were added and nitrogen-substituted. Thereafter, the temperature of the reaction system was increased to 80 DEG C while stirring was continued with nitrogen bubbling, and the polymerization was carried out for 5 hours while preserving this temperature.

이어서, 이 반응 용액에 메타크릴산 28g, p-메톡시페놀 0.5g 및 테트라부틸암모늄브로마이드 4.4g을 첨가하고, 120℃의 온도에서 9시간 반응을 행했다. 또한, 무수 숙신산 12.5g을 첨가하고, 100℃의 온도에서 6시간 반응을 행한 후, 반응 혼합물의 온도를 85℃로 보존유지한 채로 2회 물세정하고, 감압에서 농축을 행하여, 얻어진 농축물에 디에틸렌글리콜디에틸에테르를 첨가하여 희석함으로써, 중합체 (A-1)을 함유하는 용액(중합체 농도 32.2중량%)을 얻었다. 얻어진 중합체 (A-1)에 대해서, GPC를 측정한 결과, Mw=7,800, Mn=5,200이었다. Subsequently, 28 g of methacrylic acid, 0.5 g of p-methoxyphenol and 4.4 g of tetrabutylammonium bromide were added to the reaction solution, and the reaction was carried out at a temperature of 120 ° C. for 9 hours. Further, 12.5 g of succinic anhydride was added and the reaction was carried out at a temperature of 100 ° C. for 6 hours, followed by washing with water twice while maintaining the temperature of the reaction mixture at 85 ° C., and concentrated under reduced pressure to obtain a concentrated product. Ethylene glycol diethyl ether was added and diluted to obtain a solution (polymer concentration of 32.2% by weight) containing the polymer (A-1). GPC was measured about the obtained polymer (A-1), and Mw was 7,800 and Mn was 5,200.

합성예 A-2 Synthesis Example A-2

냉각관 및 교반기를 구비한 플라스크에, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 3g 및 디에틸렌글리콜디에틸에테르 200g을 넣고, 계속해서 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트 60g, N-페닐말레이미드 10g, 콜레스타닐메타크릴레이트 20g, 스티렌 10g 및 α-메틸스티렌다이머(연쇄 이동제) 5g을 넣어 질소 치환한 후, 온화하게 교반을 계속하면서, 반응계를 80℃로 승온하고, 이 온도를 보존유지하여 5시간 중합했다. Into a flask equipped with a cooling tube and a stirrer, 3 g of 2,2'-azobisisobutyronitrile and 200 g of diethylene glycol diethyl ether were added, followed by 60 g of 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and N-phenyl. 10 g of maleimide, 20 g of cholestanyl methacrylate, 10 g of styrene, and 5 g of α-methylstyrene dimer (chain transfer agent) were added to replace the nitrogen, followed by gentle stirring, and the temperature of the reaction system was raised to 80 ° C. It preserve | saved and superposed | polymerized for 5 hours.

이어서, 이 반응 용액에 2-(메타)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 65g을 첨가하고, 120℃의 온도에서 8시간 반응을 행한 후, 반응계의 온도를 85℃로 보존유지한 채로 2회 물세정하고, 감압에서 농축을 행하여, 얻어진 농축물에 디에틸렌글리콜디에틸에테르를 첨가하여 희석함으로써, 중합체 (A-2)를 함유하는 용액(중합체 농도 33.8중량%)을 얻었다. 얻어진 중합체 (A-2)에 대해서, GPC를 측정한 결과, Mw=8,900, Mn=5,800이었다. Subsequently, 65 g of 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate was added to the reaction solution, and the reaction was carried out at a temperature of 120 ° C. for 8 hours, followed by water washing twice while maintaining the temperature of the reaction system at 85 ° C., The mixture was concentrated at a reduced pressure, and diethylene glycol diethyl ether was added to the obtained concentrate to dilute to obtain a solution containing a polymer (A-2) (polymer concentration of 33.8 wt%). GPC was measured about the obtained polymer (A-2), and Mw was 8,900 and Mn was 5,800.

<비교 합성예> Comparative Synthesis Example

합성예 a-1 Synthesis Example a-1

냉각관 및 교반기를 구비한 플라스크에, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 3g 및 디에틸렌글리콜디에틸에테르 200g을 넣고, 계속해서 메타크릴산 15g, N-페닐말레이미드 30g, 콜레스타닐메타크릴레이트 35g, 스티렌 20g 및 α-메틸스티렌다이머(연쇄 이동제) 5g을 넣어 질소 치환한 후, 온화하게 교반을 계속하면서, 반응 계를 80℃로 승온하고, 이 온도를 보존유지하여 3시간 중합했다. 그 후, 반응계를 100℃로 승온하여 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.5g을 추가하고, 추가로 1시간 중합을 계속함으로써, 중합체 (a-1)을 함유하는 용액(중합체 농도 32.8중량%)을 얻었다. 얻어진 중합체 (a-1)에 대해서, GPC를 측정한 결과, Mw=11,700, Mn=6,100이었다. To a flask equipped with a cooling tube and a stirrer, 3 g of 2,2'-azobisisobutyronitrile and 200 g of diethylene glycol diethyl ether were added, followed by 15 g of methacrylic acid, 30 g of N-phenylmaleimide, and cholestanyl. After adding 35 g of methacrylate, 20 g of styrene, and 5 g of α-methylstyrene dimer (chain transfer agent) to replace the nitrogen, the reaction system was heated to 80 ° C. while gently stirring was continued, and the temperature was kept at this temperature to polymerize for 3 hours. did. Thereafter, the reaction system was heated to 100 ° C, 0.5 g of 2,2'-azobisisobutyronitrile was added, and the polymerization was continued for 1 hour to further include a solution containing polymer (a-1) (polymer concentration 32.8 % By weight) was obtained. GPC was measured about the obtained polymer (a-1), and Mw was 11,700 and Mn was 6,100.

<중합체 (B)의 합성> Synthesis of Polymer (B)

[폴리암산의 합성] [Synthesis of Polyamic Acid]

합성예 B-1 Synthesis Example B-1

테트라카본산 2무수물로서 1,2,3,4-사이클로부탄테트라카본산 2무수물 98g(0.50몰) 및 피로멜리트산 2무수물 110g(0.50몰) 그리고 디아민으로서 4,4'-디아미노디페닐메탄 200g(1.0몰)을 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 230g 및 γ-부티로락톤 2,100 g으로 이루어지는 혼합 용매에 용해하고, 40℃에서 3시간 반응을 행한 후, γ-부티로락톤 1,350g을 추가함으로써, 폴리암산 (B-1)을 함유하는 용액(중합체 농도 10중량%, 용액 점도 125mPa·s)을 얻었다. 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride 98 g (0.50 mol) as tetracarboxylic dianhydride and 110 g (0.50 mol) pyromellitic dianhydride and 4,4'-diaminodiphenylmethane as diamine 200 g (1.0 mole) was dissolved in a mixed solvent consisting of 230 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and 2,100 g of gamma -butyrolactone, and reacted at 40 ° C for 3 hours, followed by gamma -butyrolactone By adding 1,350 g, a solution containing a polyamic acid (B-1) (polymer concentration of 10% by weight, solution viscosity of 125 mPa · s) was obtained.

합성예 B-2 Synthesis Example B-2

테트라카본산 2무수물로서 1,2,3,4-사이클로부탄테트라카본산 2무수물 200g(1.0몰) 및 디아민으로서 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐 210g(1.0몰)을 NMP 370g 및 γ-부티로락톤 3,300g으로 이루어지는 혼합 용매에 용해하고, 40℃에서 3시간 반응을 행함으로써, 폴리암산 (B-2)를 함유하는 용액(중합체 농도 10중량%, 용액 점도 160mPa·s)을 얻었다. 200 g (1.0 mole) of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride as tetracarboxylic dianhydride and 210 g (1.0 mole) of 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl as diamine Solution was dissolved in a mixed solvent consisting of 370 g of NMP and 3,300 g of γ-butyrolactone, and reacted at 40 ° C. for 3 hours to give a solution containing polyamic acid (B-2) (polymer concentration of 10% by weight and solution viscosity of 160 mPa). S) was obtained.

[이미드화 중합체의 합성] [Synthesis of imidized polymer]

합성예 B-3 Synthesis Example B-3

테트라카본산 2무수물로서 2,3,5-트리카복시사이클로펜틸아세트산 2무수물 110g(0.50몰) 그리고 디아민으로서 p-페닐렌디아민 43g(0.40몰) 및 3-(3,5-디아미노벤조일옥시)콜레스탄 52g(0.10몰)을 NMP 830g에 용해하고, 60℃에서 6시간 반응을 행하여, 폴리암산 용액을 얻었다. 얻어진 폴리암산 용액을 소량 분취하고, NMP를 더하여 중합체 농도 10중량%의 용액으로 하여 측정한 용액 점도는 60mPa·s였다. 110 g (0.50 mol) of 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride as tetracarboxylic dianhydride and 43 g (0.40 mol) of p-phenylenediamine and 3- (3,5-diaminobenzoyloxy) as diamine 52 g (0.10 mol) of cholestan were dissolved in 830 g of NMP, and the mixture was reacted at 60 ° C for 6 hours to obtain a polyamic acid solution. A small amount of the obtained polyamic acid solution was aliquoted, and the solution viscosity measured as a solution having a polymer concentration of 10% by weight by adding NMP was 60 mPa · s.

이어서, 얻어진 폴리암산 용액에 NMP 1,900g을 추가하고, 피리딘 40g 및 무수 아세트산 51g을 첨가하여 110℃에서 4시간 탈수 폐환 반응을 행했다. 탈수 폐환 반응 후, 계 내의 용매를 새로운 NMP로 용매 치환(본 조작에서 탈수 폐환 반응에 사용한 피리딘 및 무수 아세트산을 계 외로 제거함)함으로써, 이미드화율 약 50%의 이미드화 중합체 (B-3)을 약 15중량% 함유하는 용액을 얻었다. 얻어진 이미드화 중합체를 소량 분취하고, NMP를 더하여 중합체 농도 10중량%의 용액으로 하여 측정한 용액 점도는 47mPa·s였다. Subsequently, 1,900 g of NMP was added to the obtained polyamic acid solution, 40 g of pyridine and 51 g of acetic anhydride were added, and dehydration ring-closure reaction was performed at 110 degreeC for 4 hours. After the dehydration ring-closure reaction, the solvent in the system is replaced with a new NMP (pyridine and acetic anhydride used in the dehydration ring-closure reaction in this operation are removed to the outside of the system) to thereby remove the imidized polymer (B-3) having an imidation ratio of about 50%. A solution containing about 15% by weight was obtained. A small amount of the obtained imidized polymer was aliquoted, and the solution viscosity measured as a solution having a polymer concentration of 10% by weight by adding NMP was 47 mPa · s.

[폴리오르가노실록산의 합성] [Synthesis of Polyorganosiloxane]

합성예 B-4 Synthesis Example B-4

교반기, 온도계, 적하 깔때기 및 환류 냉각관을 구비한 반응 용기에, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 45.2g 및 테트라에톡시실란 18.8g, 도데실트리에톡시실란 3.3g을 넣고, 이것을 교반하여, 실란 화합물의 혼합 용액을 조제했다. 이어서, 이 용액을 60℃까지 가열한 후, 여기에 물 8.8g 및 옥살산 0.1g으로 이루어진 옥살산 용액을 적하했다. 적하 종료 후, 용액 온도 90℃에서 3시간 가열하고 나서 실온까지 냉각했다. 이어서 여기에 부틸셀로솔브 76.2g을 더함으로써, 폴리오르가노실록산 (B-4)를 함유하는 용액을 조제했다. 45.2 g of propylene glycol monomethyl ether, 18.8 g of tetraethoxysilane, and 3.3 g of dodecyl triethoxysilane were added to a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel, and a reflux cooling tube, and the mixture was stirred to obtain a silane compound. The mixed solution was prepared. Subsequently, after heating this solution to 60 degreeC, the oxalic acid solution which consists of 8.8 g of water and 0.1 g of oxalic acid was dripped here. After completion of the dropwise addition, the solution was heated at 90 ° C for 3 hours, and then cooled to room temperature. Next, the solution containing polyorganosiloxane (B-4) was prepared by adding 76.2 g of butyl cellosolves here.

이 용액에 함유되는 폴리오르가노실록산 (B-4)의 중량 평균 분자량 Mw는 11,000이었다. The weight average molecular weight Mw of the polyorganosiloxane (B-4) contained in this solution was 11,000.

실시예 1 Example 1

<중합체 조성물의 조제> <Preparation of a polymer composition>

중합체 (A)로서 상기 합성예 A-1에서 얻은 중합체 (A-1)을 함유하는 용액과, 중합체 (B)로서 상기 합성예 B-1에서 얻은 폴리암산 (B-1)을 함유하는 용액을, 각 용액 중에 포함되는 중합체의 중량비가 (A-1):(B-1)=20:80이 되도록 혼합하고, 추가로 (C) 유기 용매로서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 및 부틸셀로솔브(BC)를 더하여 희석하여, BC 농도가 전체 유기 용매에 대하여 20중량%이고, 고형분 농도가 6.0중량%인 용액으로 했다. A solution containing the polymer (A-1) obtained in Synthesis Example A-1 as the polymer (A) and a solution containing the polyamic acid (B-1) obtained in Synthesis Example B-1 as the polymer (B) And mixing so that the weight ratio of the polymer contained in each solution is (A-1) :( B-1) = 20: 80, and further (C) N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) as an organic solvent. And butyl cellosolve (BC) was added and diluted, and it was set as the solution which BC concentration is 20 weight% with respect to all the organic solvent, and solid content concentration is 6.0 weight%.

이 용액을 공경 1㎛의 필터를 이용하여 여과함으로써, 중합체 조성물을 조제했다. 이 중합체 조성물의 유기 용매 조성은, 디에틸렌글리콜디에틸에테르:NMP:γ-부티로락톤:BC=3:20:57:20(중량비)이었다. The polymer composition was prepared by filtering this solution using the filter of 1 micrometer of pore diameters. The organic solvent composition of this polymer composition was diethylene glycol diethyl ether: NMP: gamma-butyrolactone: BC = 3: 20: 57: 20 (weight ratio).

<액정 셀의 제조> <Production of Liquid Crystal Cells>

상기에서 조제한 중합체 조성물을 이용하여, 투명 전극의 패턴(3종류) 및 자외선 조사량(3수준)을 변경하여, 계 9개의 액정 표시 소자를 제조하여, 하기와 같이 평가했다. Using the polymer composition prepared above, the pattern (three types) and ultraviolet irradiation amount (three levels) of the transparent electrode were changed, the nine liquid crystal display elements were manufactured, and the following evaluation was carried out.

[패턴 없는 투명 전극을 갖는 액정 셀의 제조] [Production of Liquid Crystal Cell Having Patternless Transparent Electrode]

상기에서 조제한 중합체 조성물을, 액정 배향막 인쇄기(닛폰샤신인사츠 가부시키가이샤 제조)를 이용하여 ITO막으로 이루어지는 투명 전극을 갖는 유리 기판의 투명 전극면 상에 도포하고, 80℃의 핫 플레이트 상에서 1분간 가열(프리베이킹)하여 용매를 제거한 후, 150℃의 핫 플레이트 상에서 10분간 가열(포스트베이킹)하여, 평균 막두께 600Å의 도막을 형성했다. The polymer composition prepared above was apply | coated on the transparent electrode surface of the glass substrate which has a transparent electrode which consists of an ITO film | membrane using a liquid crystal aligning film printing machine (made by Nippon Shashin-Insatsu Co., Ltd.), and for 1 minute on an 80 degreeC hotplate After heating (prebaking) to remove the solvent, it was heated (postbaking) for 10 minutes on a 150 ° C hot plate to form a coating film having an average film thickness of 600 kPa.

이 도막에 대하여, 레이온 천을 감은 롤을 갖는 러빙 머신에 의해, 롤 회전수 400rpm, 스테이지 이동 속도 3cm/초, 모족(毛足) 압입 길이 0.1mm로 러빙 처리를 행했다. 그 후, 초순수 중에서 1분간 초음파 세정을 행하고, 이어서 100℃ 클린 오븐 안에서 10분간 건조함으로써, 액정 배향막을 갖는 기판을 얻었다. 이 조작을 반복하여, 액정 배향막을 갖는 기판을 한 쌍(2매) 얻었다. About this coating film, the rubbing process was performed by the rubbing machine which has the roll which rolled up the rayon cloth at roll rotation speed 400rpm, stage movement speed 3cm / sec, and hairpin indentation length 0.1mm. Thereafter, ultrasonic cleaning was performed in ultrapure water for 1 minute, and then dried in a 100 ° C clean oven for 10 minutes to obtain a substrate having a liquid crystal alignment film. This operation was repeated and the pair (2 sheets) of the board | substrate which has a liquid crystal aligning film was obtained.

또한 상기 러빙 처리는, 액정의 쓰러짐을 제어하고, 배향 분할을 간단한 방법으로 행하는 목적으로 행한 약한 러빙 처리이다. Moreover, the said rubbing process is a weak rubbing process performed in order to control the fall of a liquid crystal, and to perform orientation division by a simple method.

다음으로, 상기 한 쌍의 기판 중 1매에 대해서, 액정 배향막을 갖는 면의 외연(外緣)에 직경 5.5㎛의 산화 알루미늄구(球) 함유 에폭시 수지 접착제를 도포한 후, 한 쌍의 기판을 액정 배향막면이 상대하도록 겹쳐 압착하고, 접착제를 경화시켰다. 이어서, 액정 주입구로부터 한 쌍의 기판 간에, 네마틱형 액정(메르크사 제조, MLC-6608)을 충전한 후, 아크릴계 광경화 접착제로 액정 주입구를 봉지함으로써, 액정 셀을 제조했다. Next, after apply | coating the aluminum oxide sphere containing epoxy resin adhesive of diameter 5.5micrometer to the outer edge of the surface which has a liquid crystal aligning film, about one sheet of the said pair of board | substrates, a pair of board | substrate was It pressed so that a liquid crystal aligning film surface could face, and hardened the adhesive agent. Subsequently, after filling a nematic liquid crystal (MLC-6608 by Merck Co., Ltd.) between a pair of board | substrates from a liquid crystal injection port, the liquid crystal cell was manufactured by sealing a liquid crystal injection port with an acryl-type photocuring adhesive.

상기의 조작을 반복하여 행하여, 패턴 없는 투명 전극을 갖는 액정 셀을 3 개 제조했다. 그 중 1개는 그대로 후술하는 프리틸트각의 평가에 제공했다. 나머지 2개의 액정 셀에 대해서는, 각각 하기의 방법에 의해 도전막 간에 전압을 인가한 상태에서 광조사한 후에 프리틸트각 및 전압 보전율의 평가에 제공했다. The above operation was repeated to produce three liquid crystal cells having a transparent electrode without a pattern. One of them was used for evaluation of the pretilt angle mentioned later as it is. Each of the remaining two liquid crystal cells was subjected to light irradiation in the state where a voltage was applied between the conductive films by the following method, and then used for evaluation of the pretilt angle and the voltage holding ratio.

상기에서 얻은 액정 셀 중 2개의 대해서, 각각 전극 간에 주파수 60Hz의 교류 10V를 인가하고, 액정이 구동하고 있는 상태에서, 광원으로 메탈 할라이드 램프를 사용한 자외선 조사 장치를 이용하여, 자외선을 10,000J/㎡ 또는 100,000J/㎡의 조사량으로 조사했다. 또한 이 조사량은, 파장 365nm 기준에서 측정되는 광량계를 이용하여 계측한 값이다. For two of the liquid crystal cells obtained above, an alternating current of 10 Hz at a frequency of 60 Hz is applied between the electrodes, and the ultraviolet light is 10,000 J / m 2 using an ultraviolet irradiation device using a metal halide lamp as the light source while the liquid crystal is being driven. Or it investigated with the irradiation amount of 100,000 J / m <2>. In addition, this irradiation amount is the value measured using the photometer measured by wavelength 365nm reference.

[프리틸트각의 평가] [Evaluation of Pretilt Angle]

상기에서 제조한 각 액정 셀에 대해서, 각각 비특허문헌 2(T. J. Scheffer 등, J. Appl. Phys. vol. 48, p. 1783(1977)) 및 비특허문헌 3(F. Nakano, 등, JPN. J. Appl. Phys. vol. 19, p. 2013(1980))에 기재된 방법에 준거하여 He-Ne 레이저광을 이용하는 결정 회전법에 의해 측정한 액정 분자의 기판면으로부터의 경사각의 값을 프리틸트각으로 했다. For each liquid crystal cell prepared above, Non-Patent Document 2 (TJ Scheffer et al., J. Appl. Phys. Vol. 48, p. 1783 (1977)) and Non-Patent Document 3 (F. Nakano, et al., JPN) According to the method described in J. Appl. Phys. Vol. 19, p. 2013 (1980)), the value of the inclination angle from the substrate surface of the liquid crystal molecules measured by the crystal rotation method using the He-Ne laser beam is free. Tilt angle was used.

광 미조사의 액정 셀, 조사량 10,000J/㎡의 액정 셀 및 조사량 100,000J/㎡의 액정 셀의 각각의 프리틸트각을 표 1에 나타냈다. Table 1 shows each of the pretilt angles of the non-irradiated liquid crystal cell, the liquid crystal cell having an irradiation amount of 10,000 J / m 2, and the liquid crystal cell having an irradiation amount of 100,000 J / m 2.

[전압 보전율의 평가] [Evaluation of Voltage Integrity]

상기에서 제조한 각 액정 셀에 대하여, 23℃에서 5V의 전압을 60마이크로초의 인가 시간, 167밀리초의 스팬으로 인가한 후, 인가 해제로부터 167밀리초 후의 전압 보전율을 측정했다. 측정 장치로서는 가부시키가이샤 토요테크니카 제조, VHR-1을 사용했다. About each liquid crystal cell produced above, after applying the voltage of 5V at 23 degreeC in 60 microseconds application time and the span of 167 milliseconds, the voltage preservation rate after 167 milliseconds after application | release cancellation was measured. As a measurement apparatus, VHR-1 manufactured by Toyo Technica Co., Ltd. was used.

조사량 10,000J/㎡의 액정 셀 및 조사량 10,000J/㎡의 액정 셀의 각각의 전압 보전율을 표 1에 나타냈다. Table 1 shows the voltage holding ratios of the liquid crystal cell having an irradiation amount of 10,000 J / m 2 and the liquid crystal cell having an irradiation amount of 10,000 J / m 2.

[패터닝된 투명 전극을 갖는 액정 셀 (1)의 제조] [Production of Liquid Crystal Cell 1 with Patterned Transparent Electrode]

상기에서 조제한 중합체 조성물을, 도 1에 나타낸 바와 같은 슬릿 형상으로 패터닝되어, 복수의 영역으로 구획된 ITO 전극을 각각 갖는 유리 기판(A 및 B)의 각 전극면 상에 액정 배향막 인쇄기(닛폰샤신인사츠 가부시키가이샤 제조)를 이용하여 도포하고, 80℃의 핫 플레이트 상에서 1분간 가열(프리베이킹)하여 용매를 제거한 후, 150℃의 핫 플레이트 상에서 10분간 가열(포스트베이킹)하여, 평균 막두께 600Å의 도막을 형성했다. 이 도막에 대해서, 초순수 중에서 1분간 초음파 세정을 행한 후, 100℃ 클린 오븐 안에서 10분간 건조함으로써, 액정 배향막을 갖는 기판을 얻었다. 이 조작을 반복하여, 액정 배향막을 갖는 기판을 한 쌍(2매) 얻었다. The polymer composition prepared above is patterned in the slit shape as shown in FIG. 1, and is a liquid crystal aligning film printing machine (Nippon-shasin company) on each electrode surface of the glass substrates A and B which respectively have the ITO electrode divided into the some area | region. After coating by Co., Ltd.), the solvent was removed by heating on a hot plate at 80 ° C. for 1 minute (prebaking), and then heated (post baking) on a hot plate at 150 ° C. for 10 minutes to obtain an average film thickness of 600 kPa. Formed a coating film. About this coating film, after performing ultrasonic cleaning in ultrapure water for 1 minute, it dried in a 100 degreeC clean oven for 10 minutes, and obtained the board | substrate which has a liquid crystal aligning film. This operation was repeated and the pair (2 sheets) of the board | substrate which has a liquid crystal aligning film was obtained.

이어서, 상기 한 쌍의 기판 중 1매의 기판에 대해서, 액정 배향막을 갖는 면의 외연에 직경 5.5㎛의 산화 알루미늄구 함유 에폭시 수지 접착제를 도포한 후, 한 쌍의 기판을 액정 배향막면이 상대하도록 겹쳐 압착하고, 접착제를 경화했다. 이어서, 액정 주입구로부터 한 쌍의 기판 간에, 네마틱형 액정(메르크사 제조, MLC-6608)을 충전한 후, 아크릴계 광경화 접착제로 액정 주입구를 봉지함으로써, 액정 셀을 제조했다. Subsequently, after apply | coating the aluminum oxide sphere containing epoxy resin adhesive of diameter 5.5micrometer to the outer edge of the surface which has a liquid crystal aligning film with respect to one board | substrate of the said pair of board | substrates, so that a pair of board | substrates may face a liquid crystal aligning film surface. It crimp | bonded over and hardened the adhesive agent. Subsequently, after filling a nematic liquid crystal (MLC-6608 by Merck Co., Ltd.) between a pair of board | substrates from a liquid crystal injection port, the liquid crystal cell was manufactured by sealing a liquid crystal injection port with an acryl-type photocuring adhesive.

상기의 조작을 반복하여 행하여, 패터닝된 투명 전극을 갖는 액정 셀을 3개 제조했다. 그 중 1개는 그대로 후술하는 응답 속도의 평가에 제공했다. 나머지 2개의 액정 셀에 대해서는, 상기 패턴 없는 투명 전극을 갖는 액정 셀의 제조에 있어서의 것과 동일한 방법에 의해, 도전막 간에 전압을 인가한 상태에서 10,000J/㎡ 또는 100,000J/㎡의 조사량으로 광조사한 후에 응답 속도의 평가에 제공했다. The above operation was repeated to produce three liquid crystal cells having a patterned transparent electrode. One of them was used for evaluation of the response speed mentioned later as it is. For the remaining two liquid crystal cells, light is emitted at a dose of 10,000 J / m 2 or 100,000 J / m 2 in a state where a voltage is applied between the conductive films by the same method as in the production of the liquid crystal cell having the transparent electrode without the pattern. After the investigation, the response speed was evaluated.

또한, 여기에서 이용한 전극의 패턴은, PSA 모드에 있어서의 전극 패턴과 동종의 패턴이다. In addition, the pattern of the electrode used here is a pattern similar to the electrode pattern in PSA mode.

[응답 속도의 평가] [Evaluation of response speed]

상기에서 제조한 각 액정 셀에 대해서, 우선 전압을 인가하지 않고 가시광 램프를 조사하여 액정 셀을 투과한 빛의 휘도를 포토 멀티 미터로 측정하고, 이 값을 상대 투과율 0%로 했다. 다음으로 액정 셀의 전극 간에 교류 60V를 5초간 인가했을 때의 투과율을 상기와 동일하게 하여 측정하고, 이 값을 상대 투과율 100%로 했다. About each liquid crystal cell manufactured above, the brightness of the light which permeate | transmitted the liquid crystal cell was irradiated by irradiating a visible light lamp first without applying a voltage, and this value was made into 0% of the relative transmittance. Next, the transmittance | permeability when AC 60V was applied for 5 second between the electrodes of a liquid crystal cell was measured similarly to the above, and this value was made into 100% of the relative transmittance | permeability.

이때 각 액정 셀에 대하여 교류 60V를 인가했을 때에, 상대 투과율이 10%에서 90%로 이행할 때까지의 시간을 측정하고, 이 시간을 응답 속도라고 정의하여 평가했다. At this time, when AC 60V was applied to each liquid crystal cell, the time until the relative transmittance shifted from 10% to 90% was measured, and this time was defined as the response speed and evaluated.

광 미조사의 액정 셀, 조사량 10,000J/㎡의 액정 셀 및 조사량 100,000J/㎡의 액정 셀의 각각의 응답 속도를 표 1에 나타냈다. Table 1 shows the response speeds of the non-irradiated liquid crystal cell, the liquid crystal cell of irradiation amount 10,000 J / m 2, and the liquid crystal cell of irradiation amount 100,000 J / m 2, respectively.

[패터닝된 투명 전극을 갖는 액정 셀 (2)의 제조] [Production of Liquid Crystal Cell 2 with Patterned Transparent Electrodes]

상기에서 조제한 중합체 조성물을 이용하여, 도 2에 나타내는 바와 같은 피시본(fish born) 형상으로 패터닝된 ITO 전극을 각각 갖는 유리 기판(A 및 B)을 사용한 것 외는, 상기 패터닝된 투명 전극을 갖는 액정 셀 (1)의 제조와 동일하게 하여, 광 미조사의 액정 셀, 조사량 10,000J/㎡의 액정 셀 및 조사량 100,000J/㎡의 액정 셀을 제조하고, 각각 상기와 동일하게 하여 응답 속도의 평가에 제공했다. 평가 결과는 표 1에 나타냈다. A liquid crystal having the patterned transparent electrode, except that glass substrates A and B each having an ITO electrode patterned in a fishborn shape as shown in FIG. 2 were used using the polymer composition prepared above. In the same manner as in the manufacture of the cell 1, a non-irradiated liquid crystal cell, a liquid crystal cell having an irradiation amount of 10,000 J / m 2, and a liquid crystal cell having an irradiation amount of 100,000 J / m 2 were produced, and the evaluation was performed in the same manner as described above, respectively. Provided. The evaluation results are shown in Table 1.

실시예 2∼4 그리고 비교예 1 및 2 Examples 2-4 and Comparative Examples 1 and 2

상기 실시예 1에 있어서, 각 성분의 사용량을 각각 표 1에 기재한 바와 같이 한 것 외는, 실시예 1과 동일하게 하여 중합체 조성물을 조제하고, 이것을 이용하여 각종 액정 셀을 제조하여 평가했다. 또한 비교예 2에서는, 중합체 (B)를 2종류 이용했다. In the said Example 1, the polymer composition was prepared like Example 1 except having used the usage-amount of each component as Table 1, and various liquid crystal cells were produced and evaluated using this. In Comparative Example 2, two types of polymers (B) were used.

평가 결과는 표 1에 나타냈다. The evaluation results are shown in Table 1.

실시예 5 Example 5

중합체 (A)로서 상기 합성예 A-2에서 얻은 중합체 (A-2)를 함유하는 용액과, 중합체 (B)로서 상기 합성예 B-4에서 얻은 폴리오르가노실록산 (B-4)를 함유하는 용액을, 각 용액 중에 포함되는 중합체의 중량비가 (A-2):(B-4)=40:60이 되도록 혼합하고, 추가로 유기 용매로서 디에틸렌글리콜디에틸에테르(DEGDEE), 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGMME) 및 부틸셀로솔브(BC)를 더하여 희석하여, 용매 농도가 DEGDEE:PGMME:BC=5:30:65(중량비), 고형분 농도가 6.0중량%인 용액으로 했다. 이 용액을 공경 1㎛의 필터를 이용하여 여과함으로써, 중합체 조성물을 조제했다. A solution containing the polymer (A-2) obtained in Synthesis Example A-2 as polymer (A) and a polyorganosiloxane (B-4) obtained in Synthesis Example B-4 as polymer (B). The solution was mixed so that the weight ratio of the polymer contained in each solution was (A-2) :( B-4) = 40: 60, and also diethylene glycol diethyl ether (DEGDEE) and propylene glycol mono were used as an organic solvent. Methyl ether (PGMME) and butyl cellosolve (BC) were added and diluted, and it was set as the solution whose solvent concentration was DEGDEE: PGMME: BC = 5: 30: 65 (weight ratio), and solid content concentration was 6.0 weight%. The polymer composition was prepared by filtering this solution using the filter of 1 micrometer of pore diameters.

상기에서 조제한 중합체 조성물을 이용하여 각종 액정 셀을 제조하여 평가했다. Various liquid crystal cells were produced and evaluated using the polymer composition prepared above.

평가 결과는 표 1에 나타냈다. The evaluation results are shown in Table 1.

Figure pat00009
Figure pat00009

표 1의 결과로부터 본 발명의 방법에 있어서는, 자외선 조사량을 100,000J/㎡(PSA 모드에 있어서 종래 채용되어 온 값임)로 하면 얻어지는 프리틸트각의 정도가 과잉이 되어, 10,000J/㎡ 또는 그 이하의 조사량에 있어서 적정한 프리틸트각이 되는 것을 알 수 있다. 또한, 조사량이 적은 경우라도 충분히 빠른 응답 속도가 얻어지고 있고, 또한 전압 보전율도 우수하다. In the method of this invention from the result of Table 1, when the ultraviolet irradiation amount is set to 100,000 J / m <2> (it is the value conventionally employ | adopted in PSA mode), the degree of the pretilt angle obtained will become excess, and 10,000 J / m <2> or less It turns out that it becomes an appropriate pretilt angle in the irradiation amount of. Moreover, even if the irradiation amount is small, a sufficiently fast response speed is obtained, and the voltage holding ratio is also excellent.

따라서, 본 발명의 방법에 의하면, PSA 모드, 혹은 추가로 새로운 동작 모드의 장점을 적은 광조사량으로 실현할 수 있기 때문에, 높은 광조사량에 기인하는 표시 불균일의 발생, 전압 보전 특성의 저하 및 장기 신뢰성의 부족의 우려 없이, 시야각이 넓고, 액정 분자의 응답 속도가 빨라, 투과율이 높고, 그리고 콘트라스트가 높은 액정 표시 소자를 제조할 수 있다. Therefore, according to the method of the present invention, the advantages of the PSA mode, or in addition to the new operation mode, can be realized with a small amount of light irradiation. A liquid crystal display device having a wide viewing angle, a fast response speed of liquid crystal molecules, a high transmittance and a high contrast can be manufactured without fear of lack.

1 : ITO 전극
2 : 슬릿부
3 : 차광막
1: ITO electrode
2: slit part
3: shading film

Claims (8)

도전막을 갖는 한 쌍의 기판의 당해 도전막 상에, 각각
(A) 하기식 (A-I):
Figure pat00010

(식 (A-I) 중, R은 수소 원자 또는 메틸기이고, Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 산소 원자 또는 황 원자임)
로 나타나는 기를 갖는 중합체 및,
(C) 유기 용매
를 함유하는 중합체 조성물을 도포하여 도막을 형성하고,
상기 도막을 형성한 한 쌍의 기판을, 액정 분자의 층을 개재하여 상기 도막이 상대하도록 대향 배치하여 액정 셀을 형성하고,
상기 한 쌍의 기판이 갖는 도전막 간에 전압을 인가한 상태에서 상기 액정 셀에 광조사하는 공정을 거치는 것을 특징으로 하는 액정 표시 소자의 제조 방법.
On the said conductive film of a pair of board | substrates which have a conductive film, respectively
(A) the following formula (AI):
Figure pat00010

(In formula (AI), R is a hydrogen atom or a methyl group, and Y 1 and Y 2 are each independently an oxygen atom or a sulfur atom.)
A polymer having a group represented by
(C) organic solvent
A coating film is formed by applying a polymer composition containing
A pair of substrates on which the coating film is formed are disposed to face each other such that the coating film is opposed to each other via a layer of liquid crystal molecules to form a liquid crystal cell,
And a step of irradiating the liquid crystal cell with light while a voltage is applied between the conductive films of the pair of substrates.
제1항에 있어서,
상기 (A) 중합체가 (메타)아크릴계 중합체인 액정 표시 소자의 제조 방법.
The method of claim 1,
The manufacturing method of the liquid crystal display element whose said (A) polymer is a (meth) acrylic-type polymer.
제2항에 있어서,
상기 중합체 조성물이, 추가로
(B) 폴리암산, 그의 이미드화 중합체 및 폴리오르가노실록산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 중합체를 함유하는 것인 액정 표시 소자의 제조 방법.
The method of claim 2,
The polymer composition is further
(B) The manufacturing method of the liquid crystal display element which contains at least 1 sort (s) of polymer chosen from the group which consists of polyamic acid, its imidation polymer, and polyorganosiloxane.
제3항에 있어서,
상기 (B) 중합체가,
상기식 (A-I)로 나타나는 기를 갖지 않는 폴리암산 및 그의 이미드화 중합체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 중합체인 액정 표시 소자의 제조 방법.
The method of claim 3,
The (B) polymer,
The manufacturing method of the liquid crystal display element which is at least 1 sort (s) of polymer chosen from the group which consists of polyamic acid which does not have group represented by said formula (AI), and its imidation polymer.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 도전막의 각각이, 복수의 영역으로 구획된 패턴 형상 도전막인 액정 표시 소자의 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 4,
A method for producing a liquid crystal display element, wherein each of the conductive films is a patterned conductive film partitioned into a plurality of regions.
(A) 제1항에 기재된 상기식 (A-I)로 나타나는 기를 갖는 (메타)아크릴계 중합체, 그리고
(B) 폴리암산, 그의 이미드화 중합체 및 폴리오르가노실록산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 중합체를 함유하는 것을 특징으로 하는 중합체 조성물.
(A) (meth) acrylic-type polymer which has group represented by said formula (AI) of Claim 1, and
(B) A polymer composition characterized by containing at least one polymer selected from the group consisting of polyamic acid, its imidized polymer and polyorganosiloxane.
제6항에 있어서,
도전막을 갖는 한 쌍의 기판의 당해 도전막 상에 각각 도막을 형성하고,
상기 도막을 형성한 한 쌍의 기판을, 액정 분자의 층을 개재하여 상기 도막이 상대하도록 대향 배치하여 액정 셀을 형성하고,
상기 한 쌍의 기판이 갖는 도전막 간에 전압을 인가한 상태에서 상기 액정 셀에 광조사하는 공정을 거치는 액정 표시 소자의 제조 방법에서,
상기 도막을 형성하기 위해 사용되는 것을 특징으로 하는, 중합체 조성물.
The method of claim 6,
Coating films are formed on the conductive films of the pair of substrates having the conductive films, respectively.
A pair of substrates on which the coating film is formed are disposed to face each other such that the coating film is opposed to each other via a layer of liquid crystal molecules to form a liquid crystal cell,
In the manufacturing method of the liquid crystal display element which goes through the process of irradiating light to the said liquid crystal cell in the state which applied the voltage between the conductive films which the said pair of board | substrates have,
A polymer composition, characterized in that it is used to form the coating film.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 액정 표시 소자의 제조 방법에 의해 제조된 것을 특징으로 하는 액정 표시 소자. It was manufactured by the manufacturing method of the liquid crystal display element in any one of Claims 1-4, The liquid crystal display element characterized by the above-mentioned.
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