KR20110080151A - Ｈｐｐｄ-억제제를 포함하는 제초제 조성물 및 잔디 중의 잡초 방제 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 제초적 유효량의 HPPD 억제제와 약해 경감제를 포함하는 조성물을 사용하여, 잔디에 현저한 장해를 초래하지 않고 잔디 중의 잡초를 방제하는 방법에 관한 것이다.
Description
본 발명은 제초적 유효량의 HPPD 억제제와 약해 경감제(safener)를 포함하는 조성물을 사용하여 잔디에 현저한 장해(injury)를 초래하지 않으면서 잔디 중의 잡초를 방제하는 방법에 관한 것이다.
고품질의 건강한 잔디는 예를 들면, 잔디밭, 골프 코스, 스포츠 구역 및 도로 인접 구역에 필수적이다. 잡초는 잔디 식물과 잡초 사이의 색상과 텍스쳐(texture)의 대비로 인하여 잔디의 품질을 저하시킬 수 있다. 또한, 잡초는 사용 가능한 물 및 영양소에 대하여 잔디 식물과 경쟁하여, 바람직한 잔디 커버를 통상적으로 빈약하게 한다. 따라서, 잔디 품질을 강화시켜 고품질의 건강한 잔디를 제공하는 신규한 방법에 대한 요구가 존재한다.
HPPD 억제제는 다양한 작물에서 잡초에 대하여 효과적인 제초제로 공지되어 있다. 그러나, 이는 특정 잔디 종에 대해서는 황백화(chlorosis), 마름병(burning) 및 위축(stunting)을 포함하는 식물약해(phytotoxicity)를 유발할 수 있다. 식물약해는 HPPD 억제제가 난지형 잔디에 시용되는 경우 특히 심하다. 따라서, 잔디, 특히 난지형 잔디에 대한 HPPD 억제제의 식물약해를 감소시키는 데 대한 요구가 존재한다.
제WO 2007/011847호에는 메소트리온의 과립상 제형이 잔디에 대한 메소트리온의 식물약해를 감소시키는 데 도움이 될 수 있음이 기재되어 있다. 그러나, 메소트리온의 잔디 안전성을 추가로 개선시키는 것이 바람직하다.
놀랍게도, 본 발명에 이르러, HPPD 억제제의 식물약해 효과는, 특정 약해 경감제와 함께 잔디에 시용되는 경우, 제초제 효능 손실 없이 추가로 감소될 수 있음이 밝혀졌다. 특히, 메소트리온, 또는 이의 염 또는 금속 킬레이트의 식물약해 효과는 특정 약해 경감제와 함께 시용되는 경우, 제초제 효능 손실 없이 추가로 감소될 수 있음이 밝혀졌다.
임의로 약해 경감제와 배합한, 메소트리온과 다양한 기타 제초제 및 식물 성장 조 절제와의 혼합물은 예를 들면, 제WO 08/011506호, 제WO 08/011509호, 제WO 08/011511호, 제WO 08/011283호, GB 제2452374호, GB 제2452375호, GB 제2452376호, GB 제2452377호, 제WO 09/019431호, 제WO 09/019432호, 제WO 09/027032호, 제WO 09/027029호, 제WO 09/027033호, 제WO 09/027030호, 제WO 09/027034호, 제WO 09/027031호, 제WO 09/027028호 및 제WO 09/027027호에 공지되어 있다.
본 발명에 따라, 잔디에 현저한 장해를 초래하지 않고 잔디 중의 잡초를 방제하는 방법으로서, 상기 방법이, 제초적 유효량의 화학식 I의 화합물 이외의 HPPD 억제제와 사이프로설파미드 및 화학식 IV의 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 약해 경감제 화합물을 포함하는 조성물로서, 단, 상기 조성물이 메소트리온, 아트라진 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 클로피랄리드 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 에토푸메세이트 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 페녹사프로프-에틸 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 이마자퀸 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 옥사디아존 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 펜디메탈린 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 프리미설푸론 및 화학식 IV의 화합물; 하나 이상의 HPPD 억제제, 하나 이상의 식물 성장 조절제 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 아트라진 및 사이프로설파미드; 메소트리온, 클로피랄리드 및 사이프로설파미드; 메소트리온, 에토푸메세이트 및 사이프로설파미드; 메소트리온, 페녹사프로프-에틸 및 사이프로설파미드; 메소트리온, 이마자퀸 및 사이프로설파미드; 메소트리온, 옥사디아존 및 사이프로설파미드; 메소트리온, 펜디메탈린 및 사이프로설파미드; 메소트리온, 프리미설푸론 및 사이프로설파미드; 또는 하나 이상의 HPPD 억제제, 하나 이상의 식물 성장 조절제 및 사이프로설파미드로 이루어지지 않는 상기 조성물을 상기 잔디에 시용함을 포함하는, 잔디에 현저한 장해를 초래하지 않고 잔디 중의 잡초를 방제하는 방법이 제공된다.
[화학식 I]
[화학식 IV]
당해 방법의 다른 양태에서, 상기 조성물은 메소트리온, 아트라진 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 클로피랄리드 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 에토푸메세이트 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 페녹사프로프-에틸 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 이마자퀸 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 옥사디아존 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 펜디메탈린 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 프리미설푸론 및 화학식 IV의 화합물; 하나 이상의 HPPD 억제제, 하나 이상의 식물 성장 조절제 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 아트라진 및 사이프로설파미드; 메소트리온, 클로피랄리드 및 사이프로설파미드; 메소트리온, 에토푸메세이트 및 사이프로설파미드; 메소트리온, 페녹사프로프-에틸 및 사이프로설파미드; 메소트리온, 이마자퀸 및 사이프로설파미드; 메소트리온, 옥사디아존 및 사이프로설파미드; 메소트리온, 펜디메탈린 및 사이프로설파미드; 메소트리온, 프리미설푸론 및 사이프로설파미드; 또는 하나 이상의 HPPD 억제제, 하나 이상의 식물 성장 조절제 및 사이프로설파미드를 포함하지 않는다.
본 발명의 추가의 양태에서, 제초적 유효량의 화학식 I의 화합물 이외의 HPPD 억제제 및 사이프로설파미드 및 화학식 IV의 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 약해 경감제로 본질적으로 이루어진 조성물을 잔디에 시용함을 포함하여, 잔디에 현저한 장해를 초래하지 않고 잔디 중의 잡초를 방제하는 방법이 제공된다. 적합하게는, 조성물은 제초적 유효량의 화학식 I의 화합물 이외의 HPPD 억제제 및 사이프로설파미드 및 화학식 IV의 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 약해 경감제로 이루어진다.
화학식 I
HPPD 억제제는 효소 4-하이드록시페닐-피루베이트 디옥시게나제를 억제하는 선택적 제초제이고, 카로테노이드 생합성에 영향을 미쳐 작용한다. 화학식 I의 화합물 이외의 어떠한 HPPD 억제제라도 본 발명의 방법에 따라 사용될 수 있다. 예를 들면, HPPD 억제제는 트리케톤, 이소옥사졸, 피라졸, 벤조비사이클론 및 케토스피라독스로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있다. 트리케톤, 이소옥사졸 및 피라졸에 속하는 개별적인 화합물의 추가의 세부 사항은 PCT 공개 번호 제WO 2005/053407호(이의 기재 내용은 본원에서 참조로 인용된다)에서 찾을 수 있지만, 메소트리온, 설코트리온, 이소옥사플루톨, 이소옥사클로르톨, 벤조페납, 피라졸리네이트 및 피라족시펜을 언급할 수 있다. 본 발명에 사용하기에 적합한 추가의 HPPD 억제제는 템보트리온, 토프라메존 및 상기 화합물들 중의 어느 것이든 간에 이의 모든 호변이성체 형태를 포함한다. 모든 시판중인 HPPD 억제제의 완전한 목록은 살충제 매뉴얼(Pesticide Manual, published by the British Crop Protection Council, 14th edition)에서 찾을 수 있다.
본 발명의 한 양태에서, HPPD 억제제는 메소트리온, 템보트리온 및 토프라메존으로 이루어진 그룹으로부터 선택된다. 본 발명의 추가의 양태에서, HPPD 억제제는 템보트리온이다. 본 발명의 또 다른 양태에서, HPPD 억제제는 토프라메존이다. 본 발명의 또 다른 양태에서, HPPD 억제제는 메소트리온이다.
메소트리온(2-(2'-니트로-4'-메틸설포닐벤조일)-1,3-사이클로헥산디온)은 HPPD 억제제의 트리케톤 부류의 구성원이다. 산 형태에서, 이의 구조는 다음과 같이 나타낼 수 있다:
산 형태 이외에, 메소트리온은 또한 염 및 금속 킬레이트, 예를 들면, 구리 킬레이트를 형성한다. 이러한 금속 킬레이트는 특히, 미국 특허 제5,912,207호(이의 기재 내용은 본원에서 참조로 인용된다)에 기재되어 있으며, 당해 문헌에서 이는 킬레이트화되지 않은 메소트리온과 비교시 특정 환경하에 예상 외의 우수한 안정성을 갖는 것으로 나타나 있다.
메소트리온은 옥수수 및 잔디에 발아 후(post-emergence) 시용시 광범위한 성장 단계의 넓은 스펙트럼의 광엽 잡초를 방제하는 이의 능력으로 가장 잘 공지되어 있다. 이는 통상적으로, 시용시 존재하는 잡초와 이후 4주 이하 동안 발아하는 잡초를 방제하기 위해 낮은 비율로(시용 타이밍에 대한 제초제 제형에 따라 헥타르당 활성 성분 100 내지 225g) 사용된다. 일단 시용되면, 메소트리온은 잎, 발아, 뿌리 및 종자에 의하여 신속하게 흡수된다. 민감한 잡초에 있어서, 이는 식물 성장의 필수적 과정인, 카로테노이드 생합성을 붕괴시키고, 이는 식물 사멸을 유도한다. 잡초와는 달리, 옥수수 식물 및 특정한 잔디 종은 활성 화합물을 불활성 화합물들로 신속하게 분해시킴으로써 메소트리온에 내성일 수 있다.
본원 명세서에서 사용된 명칭 '메소트리온'은 메소트리온의 염 및 킬레이트화된 형태 뿐만 아니라 산 형태도 포함하고, 또한 기하 이성체를 발생시킬 수 있는 임의의 에놀 호변이성체 형태도 포함한다. 추가로, 특정한 경우, 다양한 치환체 및/또는 킬레이트화된 형태는 광학 이성 및/또는 입체이성에 기여할 수 있다. 모든 이러한 호변이성체 형태, 라세미 혼합물 및 이성체는 본 발명의 영역 내에 포함된다.
본 발명의 한 양태에서, 메소트리온은 산 형태로서 존재한다. 추가의 양태에서, 메소트리온은 염 또는 금속 킬레이트로서 존재한다.
메소트리온의 적합한 염은 농업 또는 원예 용도를 위한 염의 형성에 대한 기술 분야에 공지되어 있고 허용되는 양이온 또는 음이온의 염들을 포함한다. 이러한 염들은 예를 들면, 아민, 알칼리 금속 염기, 알칼리 토금속 염기 및 4급 암모늄 염기를 사용하여 형성될 수 있다.
메소트리온을 포함하는 2-(치환된 벤조일)-l,3-사이클로헥산디온 화합물의 금속 킬레이트는 특히 미국 특허 제5,912,207호에 기재되어 있다. 한 양태에서, 메소트리온의 적합한 금속 킬레이트는 다음 화학식의 구조를 갖는다:
(여기서, M은 2가 또는 3가 금속 이온이다)
적합하게는, 2가 또는 3가 금속 이온은 Cu2+, Co2+, Zn2+, Ni2+, Ca2+, Al3+, Ti3+ 또는 Fe3+ 이온일 수 있다. 보다 적합하게는, 금속 이온은 Cu2+, Ni2+, Zn2+ 및 Co2+와 같은 2가 전이금속 이온일 수 있다. 보다 적합하게는, 금속 이온은 Cu2+ 및 Zn2 +이고, 가장 적합하게는 Cu2 +일 수 있다.
본 발명에 사용하기 위한 메소트리온의 제초적 금속 킬레이트는 상기 언급된 미국 특허에 기재된 방법에 의하여 제조될 수 있거나 화학 문헌에 기재되거나 사용된 공지된 방법의 적용 및 응용에 의하여 제조될 수 있다. 특히, 2가 또는 3가 금속 이온 공급원일 수 있는 임의의 적합한 염도 본 발명에 따르는 디온 화합물의 금속 킬레이트를 형성하는 데 사용할 수 있다. 특히 적합한 염들은 클로라이드, 설페이트, 니트레이트, 카보네이트, 포스페이트 및 아세테이트를 포함한다.
구문 "잔디에 현저한 장해를 초래하지 않음"은 잔디의 식물약해, 백화(bleaching) 또는 위축의 허용되지 않는 수준 및/또는 잔디 색상 및 품질의 허용되지 않는 감소를 초래하지 않음을 의미한다. 잔디 색상 및 품질은 1 내지 9 등급을 기본으로 한, 산업 표준 평가이며, 9는 잔디의 암녹색 및 최고 품질을 나타낸다. 잔디 품질의 평가는 잔디 스탠드(turf stand)의 위축, 균일성 및 밀도를 포함하는, 몇 가지 인자를 기본으로 한다. 6 이하의 잔디 품질은 허용되지 않는 것으로 간주된다.
본원에 사용된 구문 "잔디에 시용함"은 잔디 자체에 직접 시용, 잔디의 로커스(locus)에 시용, 잔디에서 성장하는 잡초에 시용, 잔디 종자에 시용 및 잔디 종자가 파종된 또는 파종될 노지에 시용을 포함한다. "로커스"는 토양, 종자 및 묘목 뿐만 아니라 정착 식물을 포함하는 것으로 의도된다.
용어 "제초적 유효량"은 식물의 성장에 대한 조절 또는 개질 효과를 발생시킬 수 있는 HPPD 억제제의 양을 나타낸다. 조절 또는 개질 효과는 자연적인 발달로부터의 모든 일탈, 예를 들면, 사멸, 지연, 엽소, 백화 현상(albinism), 왜소화(dwarfing) 등을 포함한다. 예를 들면, 사멸되지 않은 식물은 종종 위축되고 개화 중단으로 비경쟁적이다. 용어 "식물"은 종자, 묘목, 대묘, 뿌리, 괴경, 수간, 잎줄기, 잎 및 열매를 포함하는 식물의 모든 물리적 부분을 지칭한다.
본원 명세서에서 사용된 용어 "약해 경감제"는 잔디에 대한 제초제의 식물약해 효과를 감소시키는 화합물을 의미한다. 따라서, 약해 경감제(또는 해독제)는 잔디에 대한 이의 식물약해 잠재성을 감소시키거나 제거하여 제초제 선택성을 강화시키는 효과를 갖는다. 용어 "해독적 유효량"은 제초제에 대한 유익한 작물(beneficial crop)의 식물약해 반응을 상당한 정도로 중화시키는 약해 경감제 화합물의 양을 나타낸다.
본 발명의 한 양태에서, 약해 경감제는 사이프로설파미드이다. 본 발명의 또 다른 양태에서, 약해 경감제는 화학식 IV의 화합물이다.
한 양태에서, 조성물은 액체이다. 액상 조성물은 용제, 현탁제 또는 에멀젼 등과 같은 제형 유형을 포함한다.
또 다른 양태에서, 조성물은 고형이다. 고형 조성물은 과립, 분말, 분진, 플레이트, 정제, 스틱 등과 같은 제형 유형을 포함한다. 예를 들면, 제형은 과립일 수 있다. 비료 과립 및 불활성 담체 과립을 포함하는, 임의의 적합한 과립이 본 발명에 따라 사용될 수 있다. 한 양태에서, 과립은 비료 과립이다.
HPPD 억제 제초제 대 약해 경감제의 비는 제초제의 선택, 약해 경감제의 선택, 제형 유형 및 조성물이 시용되는 각종 잔디 종에 따라 변화될 수 있다. 당업자는 어떠한 제시된 시나리오에 대해서라도 적합한 비를 결정하는 데 친숙하다. 통상적으로, 제초제 대 약해 경감제의 비는 중량 기준으로 약 50:1 내지 1:50이다. 한 양태에서, 제초제 대 약해 경감제의 비는 중량 기준으로 20:1 내지 1:1이다.
필요한 경우, 본 발명은, 예를 들면 잡초 방제의 스펙트럼을 강화시키기 위해, 하나 초과의 HPPD 억제 제초제의 혼합물의 사용을 포함한다. 또한, 본 발명과 관련하여 하나 초과의 약해 경감제의 혼합물을, 예를 들면, 선택도를 강화시키기 위해(즉, 제초제 조성물의 감소된 장해를 보다 넓은 범위의 바람직한 잔디 종에 제공하기 위해) 사용하는 것도 가능하다.
특히, 본 발명의 방법에서 사용하기 위한 HPPD 억제 제초제와 약해 경감제의 다음 혼합물을 언급할 수 있다: 메소트리온과 사이프로설파미드; 메소트리온과 화학식 IV의 화합물; 템보트리온과 사이프로설파미드; 템보트리온과 화학식 IV의 화합물; 토프라메존과 사이프로설파미드; 및 토프라메존과 화학식 IV의 화합물.
본 발명의 한 양태에서, HPPD 억제제는 메소트리온이고, 약해 경감제는 사이프로설파미드이다. 본 발명의 추가의 양태에서, HPPD 억제제는 메소트리온이고, 약해 경감제는 화학식 IV의 화합물이다.
본 발명의 조성물의 시용률은 방제되는 잡초의 특정 유형, 필요한 방제도, 잔디 종 및 시용 타이밍 및 방법에 좌우될 것이다. 일반적으로, 본 발명의 조성물은 활성 성분 0.005 내지 약 5.0kg/헥타르(kg/ha)의 시용률로 시용될 수 있다. 활성 성분 약 0.1 내지 약 3.0kg/ha의 시용률이 바람직하며, 활성 성분 약 0.5 내지 1.2kg/ha의 시용률이 특히 바람직하다.
본 발명의 조성물은 단자엽 잡초 및 쌍자엽 잡초를 포함하는 대다수의 작물학적으로 중요한 잡초를 방제하는 데 사용될 수 있다.
예를 들면, 본 발명은 쌍자엽 잡초, 예를 들면, 아부틸론(Abutilon) 종, 암브로시아(Ambrosia) 종, 아마란투스(Amaranthus) 종, 케노포듐(Chenopodium) 종, 에리시뭄(Erysimum) 종, 유포비아(Euphorbia) 종, 팔로피아(Fallopia) 종, 갈륨(Galium) 종, 하이드로코틸(Hydrocotyle) 종, 리포모에아(lpomoea) 종, 라뮴(Lamium) 종, 메디카고(Medicago) 종, 옥살리스(Oxalis) 종, 플란타고(Plantago) 종, 폴리고눔(Polygonum) 종, 리차르디아(Richardia) 종, 시다(Sida) 종, 시나피스(Sinapis) 종, 솔라눔(Solanum) 종, 스텔라리아(Stellaria) 종, 타락사쿰(Taraxacum) 종, 트리폴리움(Trifolium) 종, 베로니카(Veronica) 종, 비올라(Viola) 종 및 크산티움(Xanthium) 종을 방제하는 데 사용될 수 있다.
본 발명은 또한 단자엽 잡초, 예를 들면, 아그로스티스(Agrostis) 종, 알로페쿠루스(Alopecurus) 종, 아페라(Apera) 종, 아베나(Avena) 종, 브라키아리아(Brachiaria) 종, 브로무스(Bromus) 종, 디기타리아(Digitaria) 종, 에키노클로아(Echinochloa) 종, 엘레우시네(Eleusine) 종, 에리오클로아(Eriochloa) 종, 레프토클로아(Leptochloa) 종, 롤리움(Lolium) 종, 오토클로아(Ottochloa) 종, 파니쿰(Panicum) 종, 파스팔룸(Paspalum) 종, 팔라리스(Phalaris) 종, 포아(Poa) 종, 로트보엘리아(Rottboellia) 종, 세타리아(Setaria) 종, 소르굼(Sorghum) 종, 이들 목초 잡초 중의 어느 하나의 본질적으로 민감성일 뿐만 아니라 저항성인(예: ACCase 및/또는 ALS 저항성) 생물형, 및 광엽 단자엽 잡초, 예를 들면, 콤멜리나(Commelina) 종, 모노코리아(Monochoria) 종, 사기타리아(Sagittaria) 종 및 사초(sadges), 예를 들면, 사이페루스(Cyperus) 종 및 시르푸스(Scirpus) 종을 방제하는 데 사용될 수도 있다.
보다 구체적으로, 본 발명의 조성물에 의하여 방제될 수 있는 잡초 중에서, 돌피(barnyard grass)(Echinochloa crus - galli), 대형 평활성 바랭이(crabgrass)(Digitaria sanguinalis , Digitaria ischaemum), 왕바랭이(goosegrass)(Eleusine indica), 겨이삭띠(bent grass)(Agrostis 종), 금 강아지풀(yellow foxtail)(Setaria glauca), 기름골(yellow nutsedge)(Cyperus esculenlus), 윈드밀그래스(windmillgrass)(Chloris verticillata) 및 님블윌(nimblewill)(Muhlenbergia schreberi)과 같은 단자엽 잡초, 및 민들레(dandelion)(Taraxacum 종), 백색 및 적색 클로버(Trifolium 종), 별꽃(chickweed)(Stellaria media), 광대나물(henbit)(Lamium amplexicaule), 선개불알풀(corn speedwell)(Veronica arvensis), 괭이밥속(oxalis)(Oxalis 종), 사슴뿔 질경이 및 광엽 질경이(buckhorn and broadleaf plantain)(Plantago lanceolata, Plantago major), 달러 위드(dollar weed)(Hydrocotyle umbellata), 플로리다 퍼슬리(FL pusley)(Richardia scabra), 램스쿼터(lambsquarters)(Chenopodium 종), 노트위드(knotweed)(Fallopia 종), 두드러기쑥(ragweed)(Ambrosia artemisiifolia), 야생 제비꽃(wild violets)(Viola 종), 명아주(pigweed)(Amaranthus 종), 잔개자리(black medic)(Medicago lupulina), 헤지 위드(hedge weed)(Erysimum officinale), 미나리아재비(buttercup)(Ranunculus sardous), 석류풀(carpetweed)(Mollugo verticillata), 소리쟁이(curly dock)(Rumex cripsus), 플로리다 베토니(florida betony)(Stachys floridana), 별꽃아재비(galinsoga)(Galinsoga ciliata), 덩굴광대수염(ground ivy)(Glechoma hederacea), 힐올(healall)(Prunella vulgaris), 론 버위드(lawn burweed)(Saliva sessilis), 쇠뜨기말(marestail)(Conyza canadensis), 쇠비름(common purslane)(Portulaca oleracea), 냉이(shepherd's purse)(Capsella bursa - pastoris), 씀바귀(sowthistle)(Sanchus oleraceus), 스와인크레스(swinecress)(Coronopus didymus), 캐나다 엉겅퀴(Canada thistle)(Cirsium arvense), 버베나(verbena)(Verbena hastata) 및 야생 당근(Daucus carota)과 같은 쌍자엽 잡초가 언급될 수 있다.
본 발명의 목적을 위하여, 용어 '잡초'는 자생 작물과 같은 불필요한 작물 종을 포함한다. 예를 들면, 골프 코스에서와 같은 잔디 작물의 맥락에서, 크리핑 벤트그래스 풋팅 그린 터프(creeping bentgrass putting green turf)는 상이한 다양한 목초가 관리되는 페어웨이 섹션에서 발견되는 경우, "자생 식물"로 간주될 수 있다. 아래에 열겨된 기타 목초는 유사하게, 잘못된 장소에서 발견되는 경우 잡초로 간주될 수 있다.
본 발명의 이점은 상기 조성물이 시용되어 정착 잔디 중의 잡초를 사멸하는 경우에 가장 많이 보여진다. 본 발명은 냉지형 잔디(cool-season turf grasse) 및 난지형 잔디(warm-season turf grasse) 둘 다에 시용될 수 있다.
냉지형 잔디는 예를 들면, 블루그래스(Bluegrasses)(Poa L.), 예를 들면, 켄터키 블루그래스(Kentucky Bluegrass)(Poa pratensis L.), 큰새포아풀(Rough Bluegrass)(Poa trivialis L.), 캐나다 블루그래스(Canada Bluegrass)(Poa compressa L.) 및 애뉴얼 블루그래스(Annual Bluegrass)(Poa annua L.); 벤트그래스(Agrostis L.), 예를 들면, 크리핑 벤트그래스(Agrostis palustris Huds.), 콜로니얼 벤트그래스(Colonial Bentgrass)(Agrostis tenius Sibth .), 벨벳 벤트그래스(Velvet Bentgrass)(Agrostis canina L.) 및 레드톱(Redtop)(Agrostis alba L.); 페스큐(Fescues)(Festuca L.), 예를 들면, 크리핑 레드 페스큐(Creeping Red Fescue)(Festuca rubra L.), 츄잉스 페스큐(Chewings Fescue)(Festuca rubra var. commutata Gaud.), 쉽 페스큐(Sheep Fescue)(Festuca ovina L.), 하드 페스큐(Hard Fescue)(Festuca longifolia), 톨 페스큐(Tall Fescue)(Festuca arundinacea Schreb .), 미도우 페스큐(Meadow Fescue)(Festuca elatior L.); 라이그래스(Ryegrasses)(Lolium L.), 예를 들면, 페레니얼 라이그래스(Perennial Ryegrass)(Lolium perenne L.), 애뉴얼 (이탈리안) 라이그래스{Annual (Italian) Ryegrass}(Lolium multiflorum Lam.); 위트그래스(Wheatgrasses)(Agropyron Gaertn.), 예를 들면, 페어웨이 위트그래스(Fairway Wheatgrass)(Agropyron cristatum (L.) Gaertn.), 웨스턴 위트그래스(Western Wheatgrass)(Agropyron smithii Rydb.); 스무드 브롬(Smooth Brome)(Bromus inermis Leyss.); 및 티모시(Timothy)(Phleum L.)를 포함한다.
난지형 잔디의 예는 버뮤다그래스(Bermudagrasses)(Cynodon L. C. Rich), 조이시아그래스(Zoysiagrasses)(Zoysia Willd .), 세인트 어거스틴그래스(St. Augustinegrass)(Stenotaphrum secundatum (Walt.) Kuntze), 센티피드그래스(Centipedegrass)(Eremochloa ophiuroides (Munro.) Hack.), 카펫그래스(Carpetgrass)(Axonopus Beauv .), 바히아그래스(Bahiagrass)(Paspalum notatum Flugge.), 키쿠유그래스(Kikuyugrass)(Pennisetum clandestinum Hochst. ex Chiov.), 버팔로그래스(Buffalograss)(Buchloe dactyloides (Nutt.) Engelm.), 센티피드그래스(Eremochloa 종), 조이시아 그래스(Zoysia grass)(Zoysia 종) 및 시쇼어 파스팔럼(Seashore paspalum)(Paspalum vaginatum swartz)이다.
난지형 잔디는 냉지형 잔디보다 HPPD 억제제의 시용에 의한 장해에 더 민감하다. 한 양태에서, 상기 조성물은 난지형 잔디에 시용된다.
본 발명은 통상적인 육종 또는 유전 공학법의 결과, 제초제 또는 제초제 부류(및 적합하게는, HPPD 억제 제초제)를 포함하는, 해충 및 살충제에 대해 내성을 갖게 된 잔디에 시용될 수 있다. 제초제에의 내성은 통상적인 잔디와 비교하여 특정 제초제로 인한 장해에 대한 민감성이 감소됨을 의미한다. 잔디는 예를 들면, HPPD 억제제, 예를 들면, 메소트리온, EPSPS 억제제, 예를 들면, 글리포세이트 또는 글루포시네이트에 대해 내성을 갖도록 변형 또는 품종개량될 수 있다. 옥수수는 메소트리온에 본래 내성임이 주목된다. 본 발명의 한 양태에서, 잔디는 HPPD 내성이다.
본 발명의 조성물은, 상기 배합물이 시용되는 작물에 따라, 방제가 필요한 로커스에 발아 전 또는 발아 후 시용함에 의해, 바람직하지 않은 초목의 성장을 방제하는 데 유용하다. 그러므로, 한 양태에서, 본 발명의 제초제 조성물은 발아 전 시용으로서 시용된다. 추가의 양태에서, 본 발명의 제초제 조성물은 발아 후 시용으로서 시용된다.
본 발명의 HPPD 억제 화합물 및 약해 경감제는 동시에 또는 임의의 순서로 순차적으로 시용될 수 있다. 순차적으로 투약되는 경우, 성분들은 적합한 시간 척도로, 예를 들면, 제1 성분을 투약하는 시간과 마지막 성분을 투약하는 시간 사이가 24시간 이하로 되도록 임의의 순서로 투약될 수 있다. 적합하게는, 모든 성분들은 수 시간, 예를 들면, 1시간의 시간 척도 내에 투약된다. 성분들이 동시에 투약되는 경우, 이는 개별적으로 또는 탱크 믹스로서 또는 모든 성분들의 예비 제형화 혼합물로서 투약될 수 있다. 한 양태에서, 본 발명의 혼합물 또는 조성물은 파종 전에 종자 처리로서 작물에 시용될 수 있다.
본 발명의 방법이 HPPD 억제제와 약해 경감제의 공제형화(co-formulated) 조성물의 잔디에의 시용을 지칭하는 경우, 상기 조성물은 HPPD 억제 화합물과 약해 경감제 둘 다를 포함한다. 예를 들면, HPPD 억제 화합물 및 약해 경감제는 모든 다른 제형 성분과 함께 균질하게 혼합될 수 있다. 성분들은 이어서 압축, 압출 또는 과립화시켜 고형 제형을 형성할 수 있다. 대안적으로, HPPD 억제 화합물과 약해 경감제는 함께 혼합되고 피막으로서 예비형성된 고형 제형의 표면에 또는 과립으로 흡수되는 용매 중에서 시용된다. 대안적으로, HPPD 억제 화합물은 다른 제형 성분과 혼합되어 고형 제형을 형성하고, 약해 경감제는 이후에 상기 고형 제형의 표면에 시용하거나 그 반대로 할 수 있다. 대안적으로, HPPD 억제 화합물과 약해 경감제는 캡슐화되어 '고형' 조성물을 형성하는 액상 형태일 수 있다.
본 발명의 방법이 두 조성물의 잔디에의 개별적 시용(동시에 또는 순차적으로)을 지칭하는 경우, 하나는 HPPD 억제제를 포함하고, 다른 하나는 약해 경감제를 포함하고, 하나 또는 두 조성물은 고형 제형일 수 있다.
실질적으로, 본 발명의 방법에 사용되는 조성물은 당해 산업 분야에 공지되거나 사용되는 다양한 애쥬번트 및 담체를 함유하는 제형으로서 시용된다.
유화성 농축물(emulsifiable concentrate)은 물 또는 기타 액체에 분산성인 균질한 액상 조성물이고, 활성 화합물과 액상 또는 고형 유화제로 전체적으로 이루어져 있거나, 액상 담체, 예를 들면, 크실렌, 중질 방향족 나프타(heavy aromatic naphtha), 이소포론 및 기타 비휘발성 유기 용매를 함유할 수도 있다. 사용시, 이러한 농축물은 물 또는 기타 액체에 분산되고, 통상적으로, 처리되는 영역에 스프레이로서 시용된다. 활성 성분의 양은 상기 농축물의 약 0.5 내지 약 95% 범위일 수 있다.
제초제 적용을 위한 기타 유용한 제형은 아세톤, 알킬화 나프탈렌, 크실렌 및 기타 유기 용매와 같은, 목적하는 농도로 완전히 용해되는 용매 중의 활성 성분의 간단한 용액을 포함한다. 활성 성분이, 저온 비등 분산제 용매 담체의 증발의 결과로써, 미분된 형태로 분산되는 가압 분무기가 사용될 수도 있다.
난지형 잔디에 대한 보다 우수한 잔디 안전도는 일반적으로 HPPD 억제제와 약해 경감제의 제형이 고형 제형으로서 시용되는 경우 달성됨이 주목된다. 본 발명의 조성물은 따라서 과립으로서(및 적합하게는, 안정화 과립으로서), 습윤성 분말로서, 분말 또는 분진으로서, 액상수화제(flowable)로서 또는 서방성 형태, 예를 들면, 마이크로캡슐제로서 제형화될 수 있다. 이러한 제형은 활성 성분을 약 0.5중량% 정도로 적게 내지는 약 95중량% 이상으로 많게 함유할 수 있다. 임의의 제시된 화합물에 대한 최적량은 제형, 시용 장치 및 방제되는 식물 특성에 좌우될 것이다.
습윤성 분말은 물 또는 기타 액상 담체에 용이하게 분산되는 미분된 입자의 형태이다. 입자는 고형 매트리스에 보유된 활성 성분을 함유한다. 통상적인 고형 매트릭스는 백토, 카올린 점토, 실리카 및 기타 즉시 습윤(readily wet) 유기 또는 무기 고체를 포함한다. 습윤성 분말은 통상적으로 약 5 내지 약 95% 활성 성분 + 소량의 습윤 분산제 또는 유화제를 함유한다.
과립 제형은 압출성형물과 비교적 조악한 입자 둘 다를 포함하고, 통상적으로, 목초의 억제가 필요한 영역에 희석 없이 시용된다. 과립 제형에 대한 통상적인 담체는 비료, 모래, 백토, 아타펄자이트 점토, 벤토나이트 점토, 몬트모릴로나이트 점토, 질석, 펄라이트, 탄산칼슘, 브릭, 부석, 납석, 고령토, 백운석, 플라스터, 목분, 분쇄된 옥수수대, 분쇄된 땅콩 껍질, 당, 염화나트륨, 황산나트륨, 규산나트륨, 붕산나트륨, 마그네시아, 운모, 산화철, 산화아연, 산화티탄, 산화안티몬, 빙정석, 석고, 규조토, 황산칼슘 및 활성 화합물을 흡수하거나 이로 피복될 수 있는 기타 유기 또는 무기 물질을 포함한다. 비료 과립 담체가 특히 적합하다. 과립 제형은 통상적으로 표면 활성제, 예를 들면, 중질 방향족 나프타, 케로센 및 기타 석유 분획 또는 식물유; 및/또는 점착제, 예를 들면, 덱스트린, 글루 또는 합성 수지를 포함할 수 있는 약 5 내지 약 25%의 활성 성분을 함유한다. 적합하게는, 과립 제형은 메소트리온과 약해 경감제의 하나 이상의 금속 킬레이트를 함유하는 하나 이상의 과립상 기재 물질을 포함하는 안정화 조성물일 수 있다. 과립상 기재 물질은 상기 언급된 통상적인 담체 중의 하나이고/이거나, 비료 물질, 예를 들면, 우레아/포름알데히드 비료, 우레아, 염화칼륨, 암모니아 화합물, 인 화합물, 황, 유사한 식물 영양분 및 미량 영양소 및 이들의 혼합물 또는 배합물일 수 있다. 메소트리온과 약해 경감제의 금속 킬레이트는 과립을 통하여 균질하게 분포될 수 있거나 과립이 형성된 후 과립 기재 상에 분무 함침되거나 흡수될 수 있다.
분진은 활성 물질과 미분 고체, 예를 들면, 활석, 점토, 소맥분 및 분산제 및 담체로서 작용하는 기타 유기 및 무기 고체와의 자유 유동성(free-flowing) 혼합물이다.
마이크로캡슐제는 통상적으로, 봉입된 물질이 조절된 속도로 주위로 벗어나도록 하는 불활성 다공성 쉘에 봉입된 활성 물질의 액적 또는 과립이다. 캡슐화된 과립은 일반적으로 과립 기공 개구를 밀봉하는 다공성 막을 갖고 과립 기공 내에 액상 형태의 활성 화학종을 보유하는 다공성 과립이다. 과립은 통상적으로 직경 1mm 내지 1cm, 바람직하게는 1 내지 2mm의 범위이다. 과립은 압출, 응집 또는 프릴링(prilling)에 의하여 형성되거나, 천연 발생한다. 이러한 물질의 예는 질석, 소결 점토, 고령토, 아타펄자이트 점토, 톱밥 및 과립상 탄소이다. 쉘 또는 막 물질은 천연 및 합성 고무, 셀룰로스 물질, 스티렌-부타디엔 공중합체, 폴리아크릴로니트릴, 폴리아크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리우레아, 폴리우레탄 및 전분 크산테이트를 포함한다.
상기 기재된 이들 제형 중 다수는 습윤제, 분산제 또는 유화제를 포함한다. 예로는 알킬 및 알킬아릴 설포네이트 및 설페이트 및 이들의 염들, 다가 알코올; 폴리에톡시화 알코올, 에스테르 및 지방 아민이 있다. 이러한 제제는, 사용되는 경우, 통상적으로 제형의 0.1 내지 15중량%를 포함한다.
상기 기재된 제형 유형에서 본 발명에서 사용하기 위한 조성물을 제형화시키는 데 유용한 적합한 농업용 애쥬번트 및 담체는 당업자에게 익히 공지되어 있다. 상이한 부류의 적합한 예는 아래의 비제한적인 목록에 나타난다.
사용될 수 있는 액상 담체는 물, 톨루엔, 크실렌, 석유 나프타, 작물 오일, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 사이클로헥산온, 아세트산 무수물, 아세토니트릴, 아세토페논, 아밀 아세테이트, 2-부탄온, 클로로벤젠, 사이클로헥산, 사이클로헥산올, 알킬 아세테이트, 디아세톤알코올, 1,2-디클로로프로판, 디에탄올아민, p-디에틸벤젠, 디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜 아비테이트, 디에틸렌 글리콜 부틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 에틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸 에테르, N,N-디메틸 포름아미드, 디메틸 설폭사이드, 1,4-디옥산, 디프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜 메틸 에테르, 디프로필렌 글리콜 디벤조에이트, 디프록시톨, 알킬 피롤리디논, 에틸 아세테이트, 2-에틸 헥산올, 에틸렌 카보네이트, 1,1,1-트리클로로에탄, 2-헵탄온, 알파 피넨, d-리모넨, 에틸렌 글리콜, 에틸렌 글리콜 부틸 에테르, 에틸렌 글리콜 메틸 에테르, 감마-부티로락톤, 글리세롤, 글리세롤 디아세테이트, 글리세롤 모노아세테이트, 글리세롤 트리아세테이트, 헥사데칸, 헥실렌 글리콜, 이소아밀 아세테이트, 이소보르닐 아세테이트, 이소옥탄, 이소포론, 이소프로필 벤젠, 이소프로필 미리스테이트, 락트산, 라우릴아민, 메시틸 옥사이드, 메톡시-프로판올, 메틸 이소아밀 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 메틸 라우레이트, 메틸 옥타노에이트, 메틸 올레에이트, 메틸렌 클로라이드, m-크실렌, n-헥산, n-옥틸아민, 옥타데칸산, 옥틸 아민 아세테이트, 올레산, 올레일아민, o-크실렌, 페놀, 폴리에틸렌 글리콜 (PEG400), 프로피온산, 프로필렌 글리콜, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, p-크실렌, 톨루엔, 트리에틸 포스페이트, 트리에틸렌 글리콜, 크실렌 설폰산, 파라핀, 광유, 트리클로로에틸렌, 퍼클로로에틸렌, 에틸 아세테이트, 아밀 아세테이트, 부틸 아세테이트, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 및 고분자량 알코올, 예를 들면, 아밀 알코올, 테트라하이드로푸르푸릴 알코올, 헥산올, 옥탄올 등. 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 글리세린, N-메틸-2-피롤리디논 등을 포함한다. 물은 일반적으로 농축물의 희석을 위한 선택에 의한 담체이다.
적합한 고형 담체는 활석, 이산화티탄, 납석 점토, 실리카, 아타펄자이트 점토, 키젤거(kieselguhr), 백악, 규조토, 석회, 탄산칼슘, 벤토나이트 점토, 백토, 비료, 면실피, 소맥분, 대두분, 부석, 목분, 호두 껍질 분말, 리그닌 등을 포함한다.
광범위한 표면 활성제가 조성물에 사용될 수 있다. 표면 활성제는 특성상 음이온성, 양이온성, 비이온성 또는 중합체성일 수 있고, 유화제, 습윤제, 현탁제로서 또는 기타 목적을 위하여 사용될 수 있다. 통상적인 표면 활성제는 알킬 설페이트의 염, 예를 들면, 디에탄올암모늄 라우릴 설페이트; 알킬아릴설포네이트 염, 예를 들면, 칼슘 도데실 벤젠설포네이트; 알킬페놀-알킬렌 옥사이드 부가 생성물, 예를 들면, 노닐페놀-C18 에톡실레이트; 알코올-알킬렌 옥사이드 부가 생성물, 예를 들면, 트리데실 알코올-C16 에톡실레이트; 비누, 예를 들면, 스테아르산나트륨; 알킬나프탈렌설포네이트 염, 예를 들면, 나트륨 디부틸나프탈렌설포네이트; 설포석시네이트 염의 디알킬 에스테르, 예를 들면, 나트륨 디(2-에틸헥실)설포석시네이트; 소르비톨 에스테르, 예를 들면, 소르비톨 올레에이트; 4급 아민, 예를 들면, 라우릴 트리메틸암모늄 클로라이드; 지방산의 폴리에틸렌 글리콜 에스테르, 예를 들면, 폴리에틸렌 글리콜 스테아레이트; 에틸렌 옥사이드와 프로필렌 옥사이드의 블록 공중합체; 및 모노알킬 및 디알킬 포스페이트 에스테르의 염을 포함한다.
농업용 조성물에 통상적으로 사용되는 기타 애쥬번트는 안료, 산화방지제, 발포제, 광 차단제, 상용화제, 봉쇄제, 중화제 및 완충제, 부식 억제제, 염료, 취기제, 확전제(spreading agent), 침투 보조제, 미량 영양소, 연화제, 윤활제, 점착제 등을 포함한다. 조성물은 또한 특정 비료 담체, 예를 들면, 질산암모늄, 우레아 등과 제형화될 수도 있다.
본 발명에 따라, 메소트리온과 화학식 IV의 약해 경감제 화합물을 포함하는 제초제 조성물이 제공되며, 단, 조성물은 메소트리온, 아트라진 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 클로피랄리드 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 에토푸메세이트 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 페녹사프로프-에틸 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 이마자퀸 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 옥사디아존 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 펜디메탈린 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 프리미설푸론 및 화학식 IV의 화합물; 또는 메소트리온, 하나 이상의 식물 성장 조절제(예: 트리넥사팍-에틸, 프로헥사디온-칼슘, 파클로부트라졸, 유니코사졸, 메피콰트-클로라이드 및 클로르메콰트-클로라이드) 및 화학식 IV의 화합물로 이루어지지 않는다.
본 발명에 따라, 또한 메소트리온과 화학식 IV의 약해 경감제 화합물을 포함하는 제초제 조성물이 제공되며, 단, 조성물은 메소트리온, 아트라진 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 클로피랄리드 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 에토푸메세이트 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 페녹사프로프-에틸 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 이마자퀸 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 옥사디아존 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 펜디메탈린 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 프리미설푸론 및 화학식 IV의 화합물; 또는 메소트리온, 하나 이상의 식물 성장 조절제 및 화학식 IV의 화합물을 포함하지 않는다.
본 발명에 따라, 활성 성분으로서 본질적으로 메소트리온 및 화학식 IV의 약해 경감제 화합물로 이루어진 제초제 조성물이 제공된다. 적합하게는, 제초제 조성물은 활성 성분으로서 메소트리온 및 화학식 IV의 약해 경감제 화합물로 이루어진다.
본 발명에 따라, 메소트리온과 화학식 IV의 약해 경감제 화합물을 포함하는 과립상 조성물이 제공된다.
또한, 추가로, 기타 살생적 활성 성분 또는 조성물이 본 발명의 제초제 조성물과 배합될 수 있다. 예를 들면, 조성물은 활성 스펙트럼을 확장시키기 위하여, HPPD 억제제와 약해 경감제 이외에, 기타 제초제, 살충제, 살진균제, 살균제, 살비제, 살선충제 및/또는 식물 성장 조절제를 함유할 수 있다. 특히, 본 발명의 조성물은 글리포세이트, 글루포시네이트, 디캄바, s-메톨라클로르, 아세토클로르 및 2,4-D로 이루어진 그룹으로부터 선택된 제초제를 추가로 포함한다.
위의 제형 각각은 제형의 기타 성분들(희석제, 유화제, 계면활성제 등)과 함께 제초제를 함유하는 패키지로서 제조될 수 있다.
당해 제형은 통상적인 방법에 의하여 방제가 필요한 영역에 시용될 수 있다. 예를 들면, 정착된 잔디에 과립상 제형을 시용하는 것은 핸드 헬드 스프레더(hand held spreader), 푸쉬 스프레더(push spreader) 또는 트랙터에 부착된 스프레더에 의한 분포를 통하여 수행될 수 있다. 잔디가 파종된 또는 파종될 토양의 표면에 시용된 분진 또는 과립상 조성물은 관개(irrigating), 디스킹(discing), 드래깅(dragging) 또는 혼합 작동과 같은 통상적인 수단에 의하여 토양의 표면 아래에 분포시킬 수 있다.
본 발명은 잡초 방제가 필요한 임의의 상황, 예를 들면, 농업, 골프 코스, 스포츠 필드 또는 기타 전문적으로 관리된 잔디 영역 또는 정원에 사용될 수 있다. 본 발명은 잔디의 선택적 잡초 방제에 특히 적합하다. 비료 과립 상에 피복되거나 비료 과립에 함침된 메소트리온과 약해 경감제의 혼합물이 특히 유용하다.
다음 예는 단지 예시적인 목적을 위해서이다. 실시예는 반드시 수행된 전체 시험의 대표로 의도된 것은 아닌며, 본 발명은 어떠한 식으로든 제한하려는 것이 아니다. 당업자가 인지하는 바와 같이, 제초제 시험에서, 용이하게 조절되지 않는 상당수의 인자는 개별적인 시험의 결과에 영향을 미치고 이를 재생 불가능하게 만들 수 있다. 예를 들면, 결과는 환경 인자, 예를 들면, 특히 일광 및 물의 양, 토양 유형, 토양의 pH, 온도 및 습도에 따라 변화할 수 있다. 또한, 파종 깊이, 개별적이고 배합된 제초제의 시용률, 약해 경감제의 시용률, 개별적인 제초제 대 약해 경감제의 비 및 시험되는 작물 또는 잡초의 특성이 시험의 결과에 영향을 미칠 수 있다. 결과는 잔디 종 사이에서 및 잔디 종류 내에서 변화할 수 있다.
실시예
실시예 1
메소트리온의 액상 제형(Callisto®)을 약해 경감제의 존재 및 부재하에 아래의 표에 나타낸 다양한 비율에서 분무 시용에 의하여 버뮤다그래스(Cynodon dactylon x C. dactylon) 및 조이시아 그래스(Zoysia matrella)에 시용하였다. 시용 후 7일, 14일 및 21일 째에 성장 억제율(%), 퍼센티지 약해(황백화 및/또는 마름병)을 측정하는 평가를 실시하였다.
당해 결과는 난지형 잔디에 메소트리온의 액상 제형을 화학식 IV의 화합물 또는 사이프로설파미드와 배합하여 시용하는 경우, 약해 경감이 달성됨을 나타낸다. 특히 우수한 약해 경감이 화학식 IV의 화합물에 대해 관찰된다.
Claims (15)
- 잔디에 현저한 장해(injury)를 초래하지 않으면서 잔디 중의 잡초를 방제하는 방법으로서,
상기 방법이,
제초적 유효량의 화학식 I의 화합물 이외의 HPPD 억제제와 사이프로설파미드 및 화학식 IV의 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 약해 경감제 화합물을 포함하는 조성물로서, 단, 상기 조성물이 메소트리온, 아트라진 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 클로피랄리드 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 에토푸메세이트 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 페녹사프로프-에틸 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 이마자퀸 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 옥사디아존 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 펜디메탈린 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 프리미설푸론 및 화학식 IV의 화합물; 하나 이상의 HPPD 억제제, 하나 이상의 식물 성장 조절제 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 아트라진 및 사이프로설파미드; 메소트리온, 클로피랄리드 및 사이프로설파미드; 메소트리온, 에토푸메세이트 및 사이프로설파미드; 메소트리온, 페녹사프로프-에틸 및 사이프로설파미드; 메소트리온, 이마자퀸 및 사이프로설파미드; 메소트리온, 옥사디아존 및 사이프로설파미드; 메소트리온, 펜디메탈린 및 사이프로설파미드; 메소트리온, 프리미설푸론 및 사이프로설파미드; 또는 하나 이상의 HPPD 억제제, 하나 이상의 식물 성장 조절제 및 사이프로설파미드로 이루어지지 않는 상기 조성물을 상기 잔디에 시용함을 포함하는, 방법.
화학식 I
화학식 IV
- 제1항에 있어서, 상기 HPPD 억제제가 메소트리온, 템보트리온 및 토프라메존으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는, 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 HPPD 억제제가 메소트리온인, 방법.
- 제3항에 있어서, 상기 약해 경감제가 사이프로설파미드인, 방법.
- 제3항에 있어서, 상기 약해 경감제가 화학식 IV의 화합물인, 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 조성물이 액체인, 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 조성물이 고체인, 방법.
- 제7항에 있어서, 상기 조성물이 불활성 과립 또는 비료 과립인, 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 잔디가 난지형 잔디인, 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 잔디가 HPPD 내성인, 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제초제 대 상기 약해 경감제의 비가 20:1 내지 1:1인, 방법.
- 메소트리온과 화학식 IV의 약해 경감제 화합물을 포함하는 제초제 조성물로서,
단, 상기 조성물이 메소트리온, 아트라진 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 클로피랄리드 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 에토푸메세이트 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 페녹사프로프-에틸 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 이마자퀸 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 옥사디아존 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 펜디메탈린 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 프리미설푸론 및 화학식 IV의 화합물; 또는 메소트리온, 하나 이상의 식물 성장 조절제 및 화학식 IV의 화합물로 이루어지지 않는, 제초제 조성물. - 메소트리온과 화학식 IV의 약해 경감제 화합물을 포함하는 제초제 조성물로서,
단, 상기 조성물이 메소트리온, 아트라진 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 클로피랄리드 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 에토푸메세이트 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 페녹사프로프-에틸 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 이마자퀸 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 옥사디아존 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 펜디메탈린 및 화학식 IV의 화합물; 메소트리온, 프리미설푸론 및 화학식 IV의 화합물; 또는 메소트리온, 하나 이상의 식물 성장 조절제 및 화학식 IV의 화합물을 포함하지 않는, 제초제 조성물. - 메소트리온과 화학식 IV의 약해 경감제 화합물을 포함하는 과립상 조성물.
- 제12항 내지 제14항 중의 어느 한 항에 있어서, 글리포세이트, 글루포시네이트, 디캄바, s-메톨라클로르, 아세토클로르 및 2-4D로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 제초제를 추가로 포함하는, 제초제 조성물.
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