KR20110073725A - Liquid crystal display device - Google Patents

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KR20110073725A
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Abstract

PURPOSE: An LCD device is provided to increase the intensity of radiation by changing an optical path. CONSTITUTION: An upper substrate(200) and a lower plate(100) are facing each other. A liquid crystal layer(300) is formed between the upper substrate and the lower substrate. A lower polarizing plate(160) is formed on the lower surface of the lower plate. A backlight(400) is formed on the bottom of the lower polarizing plate. Optical path change units(500) are formed between the lower polarizing plate and the backlight. The optical path changes the optical path of the light emitted from the backlight. The optical path change units increase the amount of light which transmitted to the upper plate.

Description

액정표시장치{Liquid Crystal Display Device}[0001] The present invention relates to a liquid crystal display device,

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 휘도 특성이 개선된 액정표시장치에 관한 것이다. The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device having improved luminance characteristics.

액정표시장치는 동작 전압이 낮아 소비 전력이 적고 휴대용으로 쓰일 수 있는 등의 이점으로 노트북 컴퓨터, 모니터, 우주선, 항공기 등에 이르기까지 응용분야가 넓고 다양하다.Liquid crystal display devices have a wide range of applications ranging from notebook computers, monitors, spacecrafts, aircrafts, etc. to the advantages of low power consumption and low power consumption.

액정표시장치는 하부기판, 상부기판, 및 상기 양 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 구성되며, 전계 인가 유무에 따라 액정층의 배열이 조절되고 그에 따라 광의 투과도가 조절되어 화상이 표시되는 장치이다. The liquid crystal display device includes a lower substrate, an upper substrate, and a liquid crystal layer formed between the two substrates, and the arrangement of the liquid crystal layers is adjusted according to whether an electric field is applied, and thus the light transmittance is adjusted to display an image. .

이하, 도면을 참조로 종래의 액정표시장치에 대해서 설명하기로 한다. Hereinafter, a conventional liquid crystal display device will be described with reference to the drawings.

도 1은 종래의 액정표시장치의 개략적인 단면도이다. 1 is a schematic cross-sectional view of a conventional liquid crystal display device.

도 1에서 알 수 있듯이, 종래의 액정표시장치는 하부 기판(10), 상부 기판(20), 상기 하부기판(10)과 상부기판(20) 사이에 형성된 액정층(30), 및 상기 하부 기판(10) 아래에 형성된 백라이트(40)를 포함하여 이루어진다. As can be seen in FIG. 1, a conventional liquid crystal display device includes a lower substrate 10, an upper substrate 20, a liquid crystal layer 30 formed between the lower substrate 10 and the upper substrate 20, and the lower substrate. 10 includes a backlight 40 formed below.

상기 하부기판(10)의 상면 상에는 소자층(14)이 형성되어 있다. 상기 소자 층(14)은 게이트 라인 및 데이터 라인과 같은 배선층(12)을 포함하여 이루어진다. 도시하지는 않았지만, 상기 소자층(14)은 상기 배선층(12)과 연결되는 박막 트랜지스터 및 상기 박막 트랜지스터와 연결되는 화소 전극을 포함하여 이루어진다. An element layer 14 is formed on the upper surface of the lower substrate 10. The device layer 14 includes a wiring layer 12 such as a gate line and a data line. Although not illustrated, the device layer 14 may include a thin film transistor connected to the wiring layer 12 and a pixel electrode connected to the thin film transistor.

상기 상부기판(20)의 하면 상에는 화소 영역 이외의 영역으로 광이 누설되는 것을 방지하기 위한 차광층(22)이 형성되어 있고, 상기 차광층(22) 사이의 영역에는 색상 구현을 위한 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러필터층(24)이 형성되어 있다. 도시하지는 않았지만, 상기 컬러필터(24) 상에는 상기 화소 전극과 함께 전계를 형성하기 위한 공통 전극이 형성되어 있다. A light shielding layer 22 is formed on a lower surface of the upper substrate 20 to prevent light from leaking to regions other than the pixel region, and red (R) for realizing color is formed in the region between the light shielding layers 22. ), Green (G) and blue (B) color filter layers 24 are formed. Although not shown, a common electrode for forming an electric field together with the pixel electrode is formed on the color filter 24.

상기 하부 기판(10)의 하면 상에는 하부 편광판(16)이 형성되어 있고, 상기 상부 기판(20)의 상면 상에는 상부 편광판(26)이 형성되어 있어, 상기 백라이트(40)에 공급되는 광의 편광방향을 조절할 수 있게 된다. The lower polarizing plate 16 is formed on the lower surface of the lower substrate 10, and the upper polarizing plate 26 is formed on the upper surface of the upper substrate 20, so that the polarization direction of the light supplied to the backlight 40 is changed. It can be adjusted.

상기 백라이트(40)는 상기 하부 기판(10)의 아래에 배치되어 상기 하부 기판(10) 쪽으로 광을 공급하는 역할을 한다. 상기 백라이트(40)는 도시하지는 않았지만, 광원 및 상기 광원으로부터 조사된 광이 상기 하부 기판(10) 쪽으로 균일하게 조사될 수 있도록 하는 다양한 구성요소들, 예를 들어 도광판, 확산시트 등을 포함하여 이루어진다. The backlight 40 is disposed under the lower substrate 10 to supply light toward the lower substrate 10. Although not shown, the backlight 40 may include a light source and various components such as a light guide plate, a diffusion sheet, and the like that may uniformly irradiate the light emitted from the light source toward the lower substrate 10. .

이와 같은 종래의 액정표시장치는 화소 전극과 공통 전극 사이의 전계 인가 유무에 따라 상기 액정층(30)의 배열상태가 변경되고, 그에 따라 상기 백라이트(40)에서 공급되는 광의 투과도가 변경되어 화상이 표시되는 원리이다. In such a conventional liquid crystal display device, the arrangement state of the liquid crystal layer 30 is changed according to whether an electric field is applied between the pixel electrode and the common electrode, and accordingly, the transmittance of light supplied from the backlight 40 is changed to display an image. It is the principle displayed.

그러나, 이와 같은 종래의 액정표시장치는 상기 백라이트(40)에서 공급된 광 의 일부만이 화상을 표시하는데 이용되고 대부분의 광은 손실되는 단점이 있다. 즉, 종래의 액정표시장치는 광투과도가 떨어져 휘도 특성이 저하되는 단점이 있다. However, such a conventional liquid crystal display device has a disadvantage in that only a part of the light supplied from the backlight 40 is used to display an image and most of the light is lost. That is, the conventional liquid crystal display has a disadvantage in that the light transmittance is lowered and the luminance characteristic is lowered.

이와 같이 종래의 액정표시장치에서 광투과도를 저하시키는 원인으로서 상기 상부 기판(20)에 형성된 차광층(22)을 들 수 있다. As such, the light blocking layer 22 formed on the upper substrate 20 may be cited as a cause of lowering the light transmittance in the conventional liquid crystal display device.

즉, 도 1의 화살표로 표시된 바와 같이, 상기 백라이트(40)에서 공급되는 광은 상기 하부 기판(10), 액정층(30), 및 상부 기판(20)을 차례로 통과하게 되는데, 이때, 상기 차광층(22)이 형성된 영역(A영역)으로는 광이 통과하지 못하기 때문에 그만큼의 광은 실제로 화상을 표시하는데 기여하지 못하고 손실되게 된다. That is, as indicated by the arrow of FIG. 1, the light supplied from the backlight 40 passes through the lower substrate 10, the liquid crystal layer 30, and the upper substrate 20 in turn. Since light does not pass through the area (area A) in which the layer 22 is formed, that much light does not actually contribute to displaying an image and is lost.

따라서, 상기 백라이트(40)에서 공급된 광의 상당부가 상기 차광층(22)에 의해 차단되기 때문에 광투과도가 떨어져 휘도 특성이 저하되는 문제가 있다. Therefore, since a substantial part of the light supplied from the backlight 40 is blocked by the light shielding layer 22, there is a problem in that the light transmittance is lowered and the luminance characteristic is lowered.

본 발명은 전술한 종래의 문제점을 해결하기 위해 고안된 것으로서, 본 발명은 백라이트에서 공급되는 광의 상당부가 실제로 화상을 표시하는데 기여할 수 있도록 함으로써 광투과도를 증진시켜 휘도 특성이 개선된 액정표시장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention has been devised to solve the above-mentioned conventional problems, and the present invention provides a liquid crystal display device having improved luminance characteristics by improving light transmittance by allowing a substantial portion of light supplied from a backlight to actually display an image. For the purpose of

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해서, 서로 대향하는 상부 기판 및 하부 기판; 상기 상부 기판 및 하부 기판 사이에 형성되는 액정층; 상기 하부 기판의 하면에 형성된 하부 편광판; 상기 하부 편광판 아래에 형성되는 백라이트; 및 상기 하부 편광판과 상기 백라이트 사이에 형성되어, 상기 백라이트에서 방출된 광의 경로를 변경하여 상기 상부 기판으로 공급되는 광량을 증가시키는 역할을 하는 광 경로 변경부를 포함하여 이루어진 액정표시장치를 제공한다. The present invention, in order to achieve the above object, the upper substrate and the lower substrate facing each other; A liquid crystal layer formed between the upper substrate and the lower substrate; A lower polarizer formed on a lower surface of the lower substrate; A backlight formed under the lower polarizer; And an optical path changing unit formed between the lower polarizing plate and the backlight to change the path of light emitted from the backlight to increase the amount of light supplied to the upper substrate.

상기 광 경로 변경부는 상기 백라이트에서 방출되어 상기 상부 기판 상에 형성되는 차광층에 대응하는 영역으로 진입하는 광을 굴절시킴으로써 상기 차광층 사이 영역으로 공급되는 광량을 증가시키기 위한 굴절 패턴으로 이루어질 수 있다. The light path changing unit may be formed as a refractive pattern for increasing the amount of light supplied to an area between the light blocking layers by refracting light emitted from the backlight and entering a region corresponding to the light blocking layer formed on the upper substrate.

상기 광 경로 변경부는 상기 백라이트에서 방출되어 상기 상부 기판 상에 형성되는 차광층에 대응하는 영역으로 진입하는 광을 반사시킴으로써 상기 차광층 사이 영역으로 공급되는 광량을 증가시키기 위한 반사 패턴으로 이루어질 수 있으며, 이 경우는, 상기 광 경로 변경부에서 반사된 광을 상기 상부 기판 쪽으로 유도하기 위하나 광 유도부를 추가로 포함할 수 있다. 상기 광 유도부는 상기 백라이트의 광원 아래에 위치하는 광 반사물질로 이루어질 수 있다. The light path changing unit may be formed as a reflection pattern for increasing the amount of light supplied to the area between the light blocking layers by reflecting the light emitted from the backlight and entering the area corresponding to the light blocking layer formed on the upper substrate. In this case, in order to guide the light reflected by the light path changing unit toward the upper substrate, it may further include a light inducing unit. The light guide part may be formed of a light reflecting material positioned under a light source of the backlight.

상기 광 경로 변경부는 상기 하부 기판 상의 더미 영역 전체 및 액티브 영역에 형성되는 게이트 라인, 데이터 라인, 및 박막 트랜지스터에 대응하는 패턴으로 형성될 수 있다. The optical path changing unit may be formed in a pattern corresponding to a gate line, a data line, and a thin film transistor formed in the entire dummy region and the active region on the lower substrate.

상기 광 경로 변경부는 상기 상부 기판 상에 형성되는 차광층에 대응하는 패턴으로 형성될 수 있다. The light path changing unit may be formed in a pattern corresponding to the light blocking layer formed on the upper substrate.

상기 광 경로 변경부는 상기 하부 편광판의 하면 상에 프린팅 공정을 통해 직접 패턴 형성될 수 있으며, 이 경우는 상기 하부 편광판으로 와이어 그리드 구조의 편광판을 이용할 수 있다. The optical path changing unit may be directly patterned on a lower surface of the lower polarizing plate through a printing process, and in this case, a polarizing plate having a wire grid structure may be used as the lower polarizing plate.

상기 광 경로 변경부는 소정 패턴의 시트 구조물로 이루어져 있고, 상기 시트 구조물은 상기 하부 편광판의 하면 상에 부착될 수 있다. The optical path changing part may be formed of a sheet structure having a predetermined pattern, and the sheet structure may be attached on a lower surface of the lower polarizer.

이상과 같은 본 발명에 따르면 다음과 같은 효과가 있다. According to the present invention as described above has the following effects.

본 발명은 하부 편광판과 백라이트 사이에 광 경로 변경부를 형성함으로써, 백라이트에서 방출되어 차광층에 대응하는 영역으로 진입하는 광의 경로를 변경하여 차광층 사이 영역으로 공급되는 광량을 증가시킬 수 있다. 즉, 본 발명에 따르면, 차광층에 의해 차단될 예정인 광의 경로를 변경하여 그 광이 화상을 표시하는데 기여할 수 있도록 함으로써 광투과도가 증진되고 그에 따라 휘도 특성이 개선되는 효과가 있다. According to the present invention, the light path changing part is formed between the lower polarizer and the backlight, thereby changing the path of light emitted from the backlight and entering the area corresponding to the light blocking layer, thereby increasing the amount of light supplied to the area between the light blocking layers. That is, according to the present invention, by changing the path of the light to be blocked by the light shielding layer so that the light can contribute to display the image, the light transmittance is enhanced, thereby improving the luminance characteristic.

이하, 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 설명하기로 한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치의 개략적인 단면도이다. 2 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2에서 알 수 있듯이, 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치는, 하부 기판(100), 상부 기판(200), 액정층(300), 백라이트(400), 광 경로 변경부(500), 및 광 유도부(550)를 포함하여 이루어진다. As can be seen in Figure 2, the liquid crystal display according to an embodiment of the present invention, the lower substrate 100, the upper substrate 200, the liquid crystal layer 300, the backlight 400, the optical path changing unit 500 , And the light induction part 550.

상기 하부기판(100)의 상면 상에는 소자층(140)이 형성되어 있다. An element layer 140 is formed on an upper surface of the lower substrate 100.

상기 소자층(140)은 게이트 라인 및 데이터 라인과 같은 배선층(120)을 포함하여 이루어진다. 도시하지는 않았지만, 상기 소자층(140)은 스위칭 소자로서 상기 게이트 라인 및 데이터 라인과 각각 연결된 박막 트랜지스터를 포함하고, 또한 상기 박막 트랜지스터와 연결되는 화소 전극을 포함하여 이루어진다. 횡전계를 통해 상기 액정층(300)을 구동하는 소위 IPS(In Plane Switching)모드의 경우에는 상기 화소 전극과 평행하게 배열되는 공통 전극이 상기 소자층(140)에 추가로 형성된다. The device layer 140 includes a wiring layer 120 such as a gate line and a data line. Although not shown, the device layer 140 includes a thin film transistor connected to the gate line and the data line, respectively, as a switching element, and also includes a pixel electrode connected to the thin film transistor. In the so-called IPS (In Plane Switching) mode in which the liquid crystal layer 300 is driven through a transverse electric field, a common electrode arranged in parallel with the pixel electrode is further formed in the device layer 140.

상기 하부기판(100)의 하면 상에는 소정의 광축을 구비한 하부 편광판(160)이 형성되어 있다. 상기 하부 편광판(160)은 시트(sheet) 구조의 편광판으로 이루어질 수도 있고, 와이어 그리드(Wire Grid) 구조의 편광판으로 이루어질 수도 있으며, 이와 같은 하부 편광판(160)의 종류는 상기 광 경로 변경부(500)의 형성방법에 따라서 적절히 선택할 수 있다. 이점에 대해서는 후술하기로 한다. The lower polarizer 160 having a predetermined optical axis is formed on the lower surface of the lower substrate 100. The lower polarizer 160 may be formed of a sheet polarizer, or may be formed of a wire grid polarizer, and the type of the lower polarizer 160 may be the optical path changing unit 500. Can be appropriately selected depending on the formation method. This will be described later.

상기 상부 기판(200)은 상기 액정층(300)을 사이에 두고 상기 하부 기판(100)과 대향하고 있다. The upper substrate 200 faces the lower substrate 100 with the liquid crystal layer 300 interposed therebetween.

상기 상부 기판(200)의 하면 상에는 화소 영역 이외의 영역으로 광이 누설되는 것을 차단하기 위한 차광층(220)이 형성되어 있고, 상기 차광층(220) 사이의 영역에는 색상 구현을 위한 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러필터층(240)이 형성되어 있다. 도시하지는 않았지만, 상기 컬러필터(240) 상에는 상기 화소 전극과 함께 전계를 형성하기 위한 공통 전극이 형성될 수 있다. 다만, 전술한 바와 같이 IPS 모드의 경우에는 상기 하부 기판(100) 상에 화소 전극과 공통 전극이 서로 평행하게 배열되어 양자 사이에 횡전계를 형성하기 때문에, 상기 상부 기판(200)의 컬러필터층(240) 상에는 공통 전극이 형성되지 않고, 그 대신에 기판 평탄화를 위한 오버 코트층이 형성될 수 있다. A light shielding layer 220 is formed on a lower surface of the upper substrate 200 to block light leakage to a region other than the pixel region, and red (R) for realizing color is formed in the region between the light shielding layers 220. ), Green (G), and blue (B) color filter layers 240 are formed. Although not shown, a common electrode for forming an electric field together with the pixel electrode may be formed on the color filter 240. However, as described above, in the IPS mode, since the pixel electrode and the common electrode are arranged parallel to each other on the lower substrate 100 to form a transverse electric field therebetween, the color filter layer of the upper substrate 200 ( The common electrode is not formed on the 240, and an overcoat layer for planarizing the substrate may be formed instead.

상기 상부 기판(200)에 형성되는 차광층(220)은 상기 하부 기판(100)에 형성되는 게이트 라인, 데이터 라인, 및 박막 트랜지스터 형성 영역으로 광이 누설되는 것을 차단하기 위한 것이기 때문에, 상기 차광층(220)은 상기 게이트 라인, 데이터 라인, 및 박막 트랜지스터 영역을 덮을 수 있도록 매트릭스 구조로 형성되며, 공정 오차 등을 고려하여 상기 게이트 라인, 데이터 라인, 및 박막 트랜지스터 영역보다는 다소 큰 크기로 형성될 수 있다. Since the light blocking layer 220 formed on the upper substrate 200 is used to block light leakage from the gate line, the data line, and the thin film transistor forming region formed on the lower substrate 100, the light blocking layer The 220 may be formed in a matrix structure so as to cover the gate line, the data line, and the thin film transistor region. have.

상기 상부 기판(200)의 상면에는 상부 편광판(260)이 형성될 수 있으며, 상기 상부 편광판(260)은 그 광축이 상기 하부 편광판(160)과 수직이 되도록 형성될 수 있다. 상기 상부 편광판(260)도 전술한 하부 편광판(160)과 마찬가지로 시트(sheet) 구조의 편광판 또는 와이어 그리드(Wire Grid) 구조의 편광판으로 이루어질 수도 있다. 다만, 상기 하부 편광판(160)은 광 경로 변경부(500)의 형성 방법 에 따라서 편광판의 종류를 구별하여 적용하는 것이 바람직하지만, 상기 상부 편광판(260)은 그와 같이 구별하여 적용할 필요는 없다. An upper polarizer 260 may be formed on an upper surface of the upper substrate 200, and the upper polarizer 260 may be formed such that its optical axis is perpendicular to the lower polarizer 160. Like the lower polarizer 160, the upper polarizer 260 may also be formed of a sheet polarizer or a wire grid polarizer. However, the lower polarizer 160 is preferably applied by distinguishing the type of polarizer according to the method of forming the optical path changing unit 500, but the upper polarizer 260 does not need to be distinguished and applied as such. .

상기 백라이트(400)는 상기 하부 기판(100)의 아래, 보다 구체적으로는 상기 하부 기판(100)의 하면에 형성된 하부 편광판(160)의 아래에 배치되어 상기 하부 기판(100) 쪽으로 광을 공급하는 역할을 한다. The backlight 400 is disposed under the lower substrate 100, more specifically, under the lower polarizer 160 formed on the lower surface of the lower substrate 100 to supply light toward the lower substrate 100. Play a role.

상기 백라이트(400)는 다양한 형태의 백라이트가 적용될 수 있다. 즉, 일측에 광원을 배치하고 광원에서 방출된 광을 상부쪽으로 유도하기 위한 도광판을 상기 광원과 마주하도록 배치하는 소위 에치형 백라이트 뿐만 아니라 광원을 전면에 배치하여 별도의 도광판 없이 광을 상부쪽으로 공급하는 직하형 백라이트 모두 적용이 가능하다. 또한, 광원으로는 CCFL(Cold Cathode Fluorescent Lamp), LED(Light Emitting Diode), FFL(Flat Fluorescent Lamp) 등 당업계에 공지된 다양한 광원이 이용될 수 있다. The backlight 400 may have various types of backlights applied thereto. That is, a light source is disposed on one side and a light guide plate for guiding the light emitted from the light source to the upper side, as well as a so-called etch-type backlight disposed to face the light source, is disposed in front of the light source to supply light upward without a separate light guide plate. Both direct type backlights are applicable. In addition, various light sources known in the art may be used as a light source, such as a cold cathode fluorescent lamp (CCFL), a light emitting diode (LED), or a flat fluorescent lamp (FFL).

또한, 상기 백라이트(400)는 광원에서 방출된 광이 상기 하부 기판(100) 쪽으로 균일하게 공급될 수 있도록 하기 위한 확산 시트, 프리즘 시트 등의 광 필름을 추가로 포함하여 이루어진다. In addition, the backlight 400 may further include an optical film such as a diffusion sheet and a prism sheet for uniformly supplying the light emitted from the light source toward the lower substrate 100.

상기 광 경로 변경부(500)는 상기 백라이트(400)에서 방출된 광의 경로를 변경하여 상기 상부 기판(100)으로 공급되는 광량을 증가시키는 역할을 하는 것이다. 보다 구체적으로, 상기 광 경로 변경부(500)는 상기 백라이트(400)에서 방출된 광의 경로를 변경하여 상기 상부 기판(100)의 차광층(220) 사이 영역으로 공급되는 광량을 증가시키는 역할을 한다. The optical path changing unit 500 changes the path of the light emitted from the backlight 400 to increase the amount of light supplied to the upper substrate 100. More specifically, the light path changing unit 500 changes the path of the light emitted from the backlight 400 to increase the amount of light supplied to the area between the light blocking layers 220 of the upper substrate 100. .

상기 광 경로 변경부(500)는 상기 하부 기판(100)과 상기 백라이트(400) 사이, 보다 구체적으로는 상기 하부 편광판(160)과 상기 백라이트(400) 사이에 형성된다. The optical path changing unit 500 is formed between the lower substrate 100 and the backlight 400, more specifically, between the lower polarizer 160 and the backlight 400.

상기 백라이트(400)에서 방출된 광은 상기 하부 기판(100), 액정층(300), 및 상부 기판(100)을 통과하면서 여러 가지 원인에 의해 손실될 수 있는데, 특히, 상기 하부 편광판(160) 및 상부 편광판(260)을 통과하면서 상당량의 광이 상기 하부 편광판(160) 및 상부 편광판(260)에 의해 흡수되어 손실되게 된다. The light emitted from the backlight 400 may be lost by various causes while passing through the lower substrate 100, the liquid crystal layer 300, and the upper substrate 100, in particular, the lower polarizer 160. And while passing through the upper polarizing plate 260, a considerable amount of light is absorbed and lost by the lower polarizing plate 160 and the upper polarizing plate 260.

따라서, 상기 광 경로 변경부(500)를 상기 하부 기판(100)과 상기 하부 편광판(160) 사이에 형성하게 되면, 상기 하부 편광판(160)을 통과하면서 이미 상당량의 광이 손실되었기 때문에 상기 광 경로 변경부(500)를 통해 얻고자 하는 광량 증가효과를 극대화할 수 없게 되고, 이와 같은 이유로 인해서, 본 발명에 따른 광 경로 변경부(500)는 상기 하부 편광판(160) 아래에 형성된다.Therefore, when the optical path changing unit 500 is formed between the lower substrate 100 and the lower polarizer 160, since the light path has already been lost while a considerable amount of light has passed through the lower polarizer 160, the optical path has changed. It is impossible to maximize the effect of increasing the amount of light to be obtained through the changing unit 500, and for this reason, the light path changing unit 500 according to the present invention is formed under the lower polarizing plate 160.

상기 광 경로 변경부(500)는 상기 백라이트(400)에서 방출된 광의 경로를 변경하여 상기 상부 기판(200)의 차광층(220) 사이의 영역으로 공급되는 광량을 증가시키기 위한 것으로서, 도시된 바와 같이, 상기 백라이트(400)에서 방출된 광을 반사시키도록 구성될 수도 있고, 경우에 따라서는 상기 백라이트(400)에서 방출된 광을 굴절시키도록 구성될 수도 있다. 이점에 대해서 구체적으로 설명하면 다음과 같다. The optical path changing unit 500 changes the path of the light emitted from the backlight 400 to increase the amount of light supplied to the area between the light blocking layers 220 of the upper substrate 200. In the same manner, the backlight 400 may be configured to reflect light emitted from the backlight 400, and in some cases, may be configured to refract the light emitted from the backlight 400. This will be described in detail below.

앞에서 설명한 바와 같이, 상기 상부 기판(100) 상에 형성된 차광층(220)에 의해서 상당량의 광이 차단되기 때문에, 상기 백라이트(400)에서 방출된 광 중에서 상기 차광층(220)에 대응하는 영역으로 진입하는 광이 화상을 표시하는데 기여하지 못하고 손실되게 된다. As described above, since a considerable amount of light is blocked by the light blocking layer 220 formed on the upper substrate 100, the light is emitted from the backlight 400 to a region corresponding to the light blocking layer 220. The incoming light does not contribute to displaying the image and is lost.

따라서, 상기 광 경로 변경부(500)는 상기 차광층(220)에 대응하는 영역으로 진입하는 광의 경로를 변경해야 하고, 상기 광 경로 변경부(500)에 의해서 그 경로가 변경된 광은 상기 차광층(220) 사이의 영역으로 유도되어야 한다. Therefore, the light path changing unit 500 should change the path of light entering the area corresponding to the light blocking layer 220, and the light whose path is changed by the light path changing unit 500 is the light blocking layer. It should be directed to the area between 220.

이와 같은 점을 고려할 때, 상기 광 경로 변경부(500)는 상기 차광층(220)에 대응하는 영역으로 진입하는 광의 경로를 변경하기 위한 패턴으로 형성되어야 하며, 상기 광 경로 변경부(500)에서 광의 경로를 변경하기 위한 패턴으로는, 입사된 광을 상기 차광층(220) 사이의 영역으로 굴절시키는 패턴 또는 입사된 광을 반사시켜 재활용할 수 있도록 하는 패턴을 이용할 수 있다. In consideration of the above, the light path changing unit 500 should be formed in a pattern for changing the path of light entering the area corresponding to the light blocking layer 220, and in the light path changing unit 500. As a pattern for changing the path of the light, a pattern for refracting incident light into a region between the light blocking layers 220 or a pattern for reflecting and recycling the incident light may be used.

상기 광 경로 변경부(500)로서 입사된 광을 차광층(220) 사이의 영역으로 굴절시키는 패턴을 사용하게 되면, 상기 광 경로 변경부(500) 만을 구성함으로써 원하는 광투과도 증진효과를 얻을 수 있다. 이 경우 상기 광 경로 변경부(500)는 당업계에 공지된 다양한 굴절 패턴을 이용할 수 있다. When the light path changing unit 500 uses a pattern for refracting incident light into a region between the light blocking layers 220, only the light path changing unit 500 may be configured to obtain a desired light transmittance enhancement effect. . In this case, the optical path changing unit 500 may use various refractive patterns known in the art.

상기 광 경로 변경부(500)로서 입사된 광을 반사시키는 패턴을 사용하게 되면 상기 광 경로 변경부(500)에서 반사된 광을 다시 재반사시켜 상기 하부 기판(100) 쪽으로 유도하기 위한 추가 구성이 요구된다. 이 경우 상기 광 경로 변경부(500)는 화이트 레진 또는 알루미늄과 같은 금속물질을 반사 패턴으로 이용할 수 있다. When the pattern reflecting the incident light is used as the optical path changing unit 500, an additional configuration for re-reflecting the light reflected by the optical path changing unit 500 to guide the lower substrate 100 may be used. Required. In this case, the light path changing unit 500 may use a metal material such as white resin or aluminum as a reflective pattern.

상기 광 유도부(550)는 이와 같이 상기 광 경로 변경부(500)에서 반사된 광 을 재반사시켜 상기 상부 기판(100) 쪽으로 유도하기 위한 것이다. 따라서, 상기 광 유도부(550)는 광 반사 물질로 이루어진다. 이와 같은 상기 광 유도부(550)는 상기 백라이트(400) 아래, 구체적으로는 상기 백라이트(400)의 광원 보다 아래쪽에 위치한다. 만약, 광 반사 물질로 이루어진 광 유도부(550)가 상기 백라이트(400)의 광원 보다 위쪽에 위치하게 되면, 상기 백라이트(400)의 광원에서 방출된 광이 하부 기판(100) 쪽으로 균일하게 공급되지 못하기 때문이다. The light guide part 550 is to guide the light reflected by the light path changing part 500 back to the upper substrate 100. Therefore, the light guide part 550 is made of a light reflective material. The light guide part 550 is positioned below the backlight 400, specifically, below the light source of the backlight 400. If the light induction part 550 made of the light reflection material is positioned above the light source of the backlight 400, the light emitted from the light source of the backlight 400 may not be uniformly supplied toward the lower substrate 100. Because.

한편, 상기 백라이트(400) 자체에도 광원에서 방출된 광의 손실을 최소화하기 위해서 광원의 아래쪽에 광 반사를 위한 반사판이 포함될 수 있는데, 이 경우에는 상기 백라이트(400)에 포함된 반사판이 상기 광 유도부(550)로서 기능하게 되고, 따라서, 별도의 광 유도부(550)를 구성할 필요가 없게 된다. On the other hand, the backlight 400 itself may include a reflector for reflecting light in the lower portion of the light source in order to minimize the loss of light emitted from the light source, in this case, the reflector included in the backlight 400 is the light guide unit ( 550, so there is no need to configure a separate light guide portion 550.

전술한 바와 같이 상기 광 경로 변경부(500)는 상기 차광층(220)에 대응하는 영역으로 공급되는 광의 경로를 변경해야 하기 때문에, 상기 차광층(220)에 대응하는 패턴으로 형성될 수 있다. 한편, 상기 상부 기판(200)에 형성되는 차광층(220)은 상기 하부 기판(100)에 형성되는 게이트 라인, 데이터 라인, 박막 트랜지스터 영역으로 광이 누설되는 것을 차단하기 위한 것이므로, 상기 차광층(220)은 상기 게이트 라인, 데이터 라인, 및 박막 트랜지스터의 패턴에 따라 변경 형성된다. As described above, since the light path changing unit 500 needs to change the path of the light supplied to the area corresponding to the light blocking layer 220, the light path changing unit 500 may be formed in a pattern corresponding to the light blocking layer 220. On the other hand, since the light blocking layer 220 formed on the upper substrate 200 is intended to block light leakage to the gate line, data line, and thin film transistor regions formed on the lower substrate 100, the light blocking layer ( 220 is changed according to the pattern of the gate line, the data line, and the thin film transistor.

결국, 상기 광 경로 변경부(500)는 상기 상부 기판(200)에 형성되는 차광층(220)에 대응하는 패턴이나 또는 상기 하부 기판(100)에 형성되는 게이트 라인, 데이터 라인, 및 박막 트랜지스터에 대응하는 패턴으로 형성될 수 있는데, 이하에서 상기 광 경로 변경부(500)의 구체적인 패턴에 대해서 설명하기로 한다. As a result, the light path changing unit 500 may include a pattern corresponding to the light blocking layer 220 formed on the upper substrate 200 or a gate line, a data line, and a thin film transistor formed on the lower substrate 100. The pattern may be formed in a corresponding pattern. Hereinafter, a specific pattern of the optical path changing unit 500 will be described.

도 3a는 하부 기판(100)의 개략적인 레이아웃이고, 도 3b는 상부 기판(200)의 개략적인 레이아웃이다. 3A is a schematic layout of the lower substrate 100, and FIG. 3B is a schematic layout of the upper substrate 200.

도 3a에서 알 수 있듯이, 하부 기판(100)은 화상을 디스플레이하는 액티브 영역(Active Area: A/A)과 상기 액티브 영역(A/A) 외곽의 더미 영역(Dummy Area: D/A)를 포함하여 이루어진다. As can be seen in FIG. 3A, the lower substrate 100 includes an active area (A / A) for displaying an image and a dummy area (D / A) outside the active area (A / A). It is done by

상기 액티브 영역(A/A)에는 가로 방향으로 게이트 라인(120a)이 배열되어 있고, 세로 방향으로 데이터 라인(120b)이 배열되어 있으며, 상기 게이트 라인(120a) 및 데이터 라인(120b)이 교차하는 영역에는 상기 게이트 라인(120a) 및 데이터 라인(120b)과 각각 연결되는 박막 트랜지스터(T)가 형성되어 있다. The gate line 120a is arranged in the horizontal direction in the active region A / A, the data line 120b is arranged in the vertical direction, and the gate line 120a and the data line 120b cross each other. In the region, the thin film transistor T connected to the gate line 120a and the data line 120b is formed.

이와 같은, 게이트 라인(120a), 데이터 라인(120b), 및 박막 트랜지스터(T)의 구성은 당업계에 공지된 다양한 형태로 변경될 수 있다. 예를 들어, 상기 박막 트랜지스터(T)가 상기 게이트 라인(120a)과 중첩되도록 형성될 수도 있고, 상기 데이터 라인(120b)이 곧은 직선 형태가 아닌 굽은 직선 형태로 이루어질 수도 있다. As such, the configuration of the gate line 120a, the data line 120b, and the thin film transistor T may be changed in various forms known in the art. For example, the thin film transistor T may be formed to overlap the gate line 120a, and the data line 120b may be formed in a curved straight line instead of a straight straight line.

상기 더미 영역(D/A)에는 도시하지는 않았지만 다양한 패드들이 형성되어 있다. 또한, 상기 패드들은 외부로부터 신호가 인가되어야 하기 때문에 액정표시장치에서 외부로 노출될 수 있어야 한다. 일반적으로 상기 패드들은 하부 기판(100)에만 형성되고 상부 기판(200)에는 형성되지 않기 때문에 상기 더미 영역(D/A)은 상부 기판(200)에 비하여 하부 기판(100)이 크게 형성되고, 그로 인해서 하부 기판(100)의 크기가 상부 기판(200)의 크기보다 크게 형성된다. Although not shown, various pads are formed in the dummy area D / A. In addition, the pads should be able to be exposed to the outside in the liquid crystal display because a signal must be applied from the outside. In general, since the pads are formed only on the lower substrate 100 and are not formed on the upper substrate 200, the dummy region D / A has a larger lower substrate 100 than the upper substrate 200. Therefore, the size of the lower substrate 100 is larger than that of the upper substrate 200.

도 3b에서 알 수 있듯이, 상부 기판(200)도 화상을 디스플레이하는 액티브 영역(Active Area: A/A)과 상기 액티브 영역(A/A) 외곽의 더미 영역(Dummy Area: D/A)를 포함하여 이루어진다. 다만, 전술한 바와 같이, 상부 기판(100)의 더미 영역(D/A)은 하부 기판(100)의 더미 영역(D/A) 보다 작게 형성된다. As shown in FIG. 3B, the upper substrate 200 also includes an active area (A / A) for displaying an image and a dummy area (D / A) outside the active area (A / A). It is done by However, as described above, the dummy region D / A of the upper substrate 100 is smaller than the dummy region D / A of the lower substrate 100.

상기 상부 기판(200) 상에는 차광층(220)이 매트릭스 구조로 형성되어 있다. The light blocking layer 220 is formed on the upper substrate 200 in a matrix structure.

상기 차광층(220)은 상기 액티브 영역(A/A) 내에서 상기 하부 기판(200)의 게이트 라인(120a), 데이터 라인(120b), 및 박막 트랜지스터(T) 영역을 덮도록 형성되며, 공정 마진 등을 고려하여 상기 게이트 라인(120a), 데이터 라인(120b), 및 박막 트랜지스터(T) 영역 보다 다소 큰 크기로 형성된다. 상기 차광층(220)은 또한 더미 영역(D/A) 전체에 형성된다. The light blocking layer 220 is formed to cover the gate line 120a, the data line 120b, and the thin film transistor T region of the lower substrate 200 in the active region A / A. In consideration of a margin, the gate line 120a, the data line 120b, and the thin film transistor T are formed to have a size slightly larger than that of the region. The light blocking layer 220 is also formed in the entire dummy area D / A.

이상 설명한 하부 기판(100) 및 상부 기판(200)을 고려하여 설계되는 본 발명에 따른 광 경로 변경부(500)은 패턴은 도 4a 및 도 4b와 같다. The pattern of the optical path changing unit 500 according to the present invention designed in consideration of the lower substrate 100 and the upper substrate 200 described above is the same as that of FIGS. 4A and 4B.

도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 광 경로 변경부(500)의 패턴을 도시한 것으로서, 이는 광 경로 변경부(500)를 하부 기판(100)을 구성을 고려하여 형성한 것이다. 4A illustrates a pattern of the optical path changing unit 500 according to an exemplary embodiment of the present invention. The optical path changing unit 500 is formed in consideration of the lower substrate 100.

도 4a에서 알 수 있듯이, 상기 광 경로 변경부(500)의 패턴은 하부 기판(100)의 더미 영역(D/A) 전체와 더불어 하부 기판(100)의 액티브 영역(A/A) 내의 게이트 라인(120a), 데이터 라인(120b), 및 박막 트랜지스터(T)에 대응하는 패턴으로 형성할 수 있다. As can be seen in FIG. 4A, the pattern of the optical path changing unit 500 includes the entire dummy region D / A of the lower substrate 100 and a gate line in the active region A / A of the lower substrate 100. It may be formed in a pattern corresponding to the 120a, the data line 120b, and the thin film transistor T.

도 4b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 광 경로 변경부(500)의 패턴을 도시한 것으로서, 이는 광 경로 변경부(500)를 상부 기판(100)의 구성을 고려하여 형성 한 것이다. 4B illustrates a pattern of the optical path changing unit 500 according to another embodiment of the present invention, which is formed by considering the configuration of the upper substrate 100.

도 4b에서 알 수 있듯이, 상기 광 경로 변경부(500)의 패턴은 상부 기판(200)의 차광층(220)에 대응하는 패턴으로 형성할 수 있다. As shown in FIG. 4B, the pattern of the light path changing unit 500 may be formed in a pattern corresponding to the light blocking layer 220 of the upper substrate 200.

이상 설명한 상기 광 경로 변경부(500)는 상기 하부 편광판(160) 상에 직접 패턴 형성할 수 있다. The optical path changing unit 500 described above may be directly patterned on the lower polarizer 160.

즉, 상기 하부 편광판(160)의 하면 상에 도 4a 또는 도 4b에 따른 광 경로 변경부(500) 패턴을 스크린 프린팅(screen printing), 롤 프린팅(roll printing), 임프린팅(imprinting) 등 다양한 방식의 프린팅 공정으로 형성할 수 있다. That is, various methods such as screen printing, roll printing, and imprinting the light path changing unit 500 pattern according to FIG. 4A or 4B are performed on the lower surface of the lower polarizer 160. It can be formed by the printing process of.

다만, 이와 같이 프린팅 공정을 이용하여 상기 하부 편광판(160)의 하면 상에 광 경로 변경부(500) 패턴을 직접형성할 경우에는 상기 하부 편광판(160)이 상기 프린팅 공정에 적합한 재료로 이루어져야 하는데, 상기 하부 편광판(160)으로 시트(sheet) 구조의 편광판을 이용할 경우에는 상기 프린팅 공정에 의해 하부 편광판(160)이 손상될 우려가 있다. 따라서, 이와 같이 프린팅 공정을 이용하여 상기 하부 편광판(160)의 하면 상에 광 경로 변경부(500) 패턴을 직접 형성할 경우에는 상기 하부 편광판(160)으로 와이어 그리드(Wire Grid) 구조의 편광판과 같은 프린팅 공정시 손상이 되지 않는 편광판을 이용하는 것이 바람직하다. However, when the optical path changing unit 500 pattern is directly formed on the lower surface of the lower polarizing plate 160 using the printing process, the lower polarizing plate 160 should be made of a material suitable for the printing process. When the polarizing plate having a sheet structure is used as the lower polarizing plate 160, the lower polarizing plate 160 may be damaged by the printing process. Therefore, when the optical path changing unit 500 pattern is directly formed on the lower surface of the lower polarizing plate 160 using the printing process as described above, the lower polarizing plate 160 may include a polarizing plate having a wire grid structure. It is preferable to use a polarizing plate which is not damaged during the same printing process.

한편, 상기 하부 편광판(160)의 하면 상에 광 경로 변경부(500) 패턴을 직접 형성하지 않고, 도 4a 또는 도 4b에 따른 광 경로 변경부(500) 패턴을 구비한 시트 구조물을 이용할 수도 있다. Meanwhile, the sheet structure having the light path changing unit 500 pattern of FIG. 4A or 4B may be used without directly forming the light path changing unit 500 pattern on the lower surface of the lower polarizing plate 160. .

이와 같이, 광 경로 변경부(500)를 시트 구조물로 형성한 경우에는 시트 구 조물을 상기 하부 편광판(160)의 하면 상에 부착하면 되고, 그에 따라 상기 하부 편광판(160)도 시트 구조의 편광판을 이용하면 충분하다. As such, when the optical path changing unit 500 is formed as a sheet structure, the sheet structure may be attached onto the lower surface of the lower polarizing plate 160. Accordingly, the lower polarizing plate 160 may also form a polarizing plate having a sheet structure. It is enough to use.

도 1은 종래의 액정표시장치의 개략적인 단면도이다. 1 is a schematic cross-sectional view of a conventional liquid crystal display device.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치의 개략적인 단면도이다. 2 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3a는 본 발명의 일 실시예에 따른 하부 기판의 개략적인 레이아웃이고, 도 3b는 본 발명의 일 실시예에 따른 상부 기판의 개략적인 레이아웃이다. 3A is a schematic layout of a lower substrate according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3B is a schematic layout of an upper substrate according to an embodiment of the present invention.

도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 광 경로 변경부의 패턴을 도시한 것이고, 도 4b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 광 경로 변경부의 패턴을 도시한 것이다. 4A illustrates a pattern of an optical path changing unit according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4B illustrates a pattern of an optical path changing unit according to another embodiment of the present invention.

<도면의 주요부 구성에 대한 부호의 설명><Description of the code | symbol about the structure of the principal part of drawing>

100: 하부 기판 160: 하부 편광판100: lower substrate 160: lower polarizing plate

200: 상부 기판 220: 차광층200: upper substrate 220: light shielding layer

300: 액정층 400: 백라이트300: liquid crystal layer 400: backlight

500: 광 경로 변경부 550: 광 유도부500: light path changing unit 550: light guide unit

Claims (10)

서로 대향하는 상부 기판 및 하부 기판;An upper substrate and a lower substrate facing each other; 상기 상부 기판 및 하부 기판 사이에 형성되는 액정층;A liquid crystal layer formed between the upper substrate and the lower substrate; 상기 하부 기판의 하면에 형성된 하부 편광판;A lower polarizer formed on a lower surface of the lower substrate; 상기 하부 편광판 아래에 형성되는 백라이트; 및A backlight formed under the lower polarizer; And 상기 하부 편광판과 상기 백라이트 사이에 형성되어, 상기 백라이트에서 방출된 광의 경로를 변경하여 상기 상부 기판으로 공급되는 광량을 증가시키는 역할을 하는 광 경로 변경부를 포함하여 이루어진 액정표시장치. And an optical path changing unit formed between the lower polarizing plate and the backlight to increase the amount of light supplied to the upper substrate by changing a path of light emitted from the backlight. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 광 경로 변경부는 상기 백라이트에서 방출되어 상기 상부 기판 상에 형성되는 차광층에 대응하는 영역으로 진입하는 광을 굴절시킴으로써 상기 차광층 사이 영역으로 공급되는 광량을 증가시키기 위한 굴절 패턴으로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시장치. The optical path changing unit may be formed of a refractive pattern for increasing the amount of light supplied to the areas between the light blocking layers by refracting light emitted from the backlight and entering a region corresponding to the light blocking layer formed on the upper substrate. Liquid crystal display device. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 광 경로 변경부는 상기 백라이트에서 방출되어 상기 상부 기판 상에 형성되는 차광층에 대응하는 영역으로 진입하는 광을 반사시킴으로써 상기 차광층 사이 영역으로 공급되는 광량을 증가시키기 위한 반사 패턴으로 이루어진 것을 특징 으로 하는 액정표시장치. The light path changing unit is formed of a reflective pattern for increasing the amount of light supplied to the area between the light shielding layer by reflecting the light emitted from the backlight and entering the area corresponding to the light shielding layer formed on the upper substrate. Liquid crystal display device. 제3항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 광 경로 변경부에서 반사된 광을 상기 상부 기판 쪽으로 유도하기 위하나 광 유도부를 추가로 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시장치. And guide the light reflected by the light path changing unit toward the upper substrate, but further comprising a light inducing unit. 제4항에 있어서, 5. The method of claim 4, 상기 광 유도부는 상기 백라이트의 광원 아래에 위치하는 광 반사물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시장치. And the light inducing part is formed of a light reflecting material positioned under the light source of the backlight. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 광 경로 변경부는 상기 하부 기판 상의 더미 영역 전체 및 액티브 영역에 형성되는 게이트 라인, 데이터 라인, 및 박막 트랜지스터에 대응하는 패턴으로 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치. And the optical path changing unit is formed in a pattern corresponding to a gate line, a data line, and a thin film transistor formed in the entire dummy region and the active region on the lower substrate. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 광 경로 변경부는 상기 상부 기판 상에 형성되는 차광층에 대응하는 패턴으로 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치. And the light path changing unit is formed in a pattern corresponding to the light blocking layer formed on the upper substrate. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 광 경로 변경부는 상기 하부 편광판의 하면 상에 프린팅 공정을 통해 직접 패턴 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치. The optical path changing unit is a liquid crystal display, characterized in that the pattern formed directly on the lower surface of the lower polarizing plate through a printing process. 제8항에 있어서, The method of claim 8, 상기 하부 편광판은 와이어 그리드 구조의 편광판으로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시장치. The lower polarizer is a liquid crystal display, characterized in that consisting of a polarizing plate of a wire grid structure. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 광 경로 변경부는 소정 패턴의 시트 구조물로 이루어져 있고, 상기 시트 구조물은 상기 하부 편광판의 하면 상에 부착되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시장치. And the light path changing unit is formed of a sheet structure having a predetermined pattern, and the sheet structure is attached to a lower surface of the lower polarizing plate.
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