KR20110070556A - A polarized uv irradiating apparatus - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A polarized ultraviolet ray projecting apparatus is provided to enhance ultraviolet utilization efficiency by minimizing a region which does not contribute to polarization and minimizing a difference between a width of an opening part, where a polarized ultraviolet ray having passed through a group of quartz substrates is outputted, and a width of the group of quartz substrates. CONSTITUTION: A polarized light violet ray projecting apparatus includes an ultraviolet ray source(101) and plural quartz substrates(102). The quartz substrates are sequentially laminated at a lower part of the ultraviolet ray source while being tilted at the same angle, and have set gaps among themselves. A plurality of quartz substrates are shifted as long as a set width in a horizontal direction. The shifted direction is corresponding to the direction in which the quartz substrates are inclined.

Description

편광 자외선 조사 장치{A POLARIZED UV IRRADIATING APPARATUS}Polarizing ultraviolet irradiation device {A POLARIZED UV IRRADIATING APPARATUS}

본 발명은 편광 자외선 조사 장치에 관한 것으로서, 다수의 석영기판을 수평방향으로 소정 폭만큼 하나씩 시프트되도록 배치함으로써 편광에 기여하지 못하는 영역을 최소화하여, 석영기판이 차례로 적층되어 있는 석영기판 그룹을 통과한 편광 자외선이 출력되는 개구부의 폭(W1)과 석영기판 그룹의 폭(W2)의 차이를 최소화함으로써, 자외선의 사용 효율을 높인 편광 자외선 조사 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a polarized ultraviolet irradiation device, by arranging a plurality of quartz substrates to be shifted one by one by a predetermined width in the horizontal direction, thereby minimizing regions that do not contribute to polarization, and passing the quartz substrate groups in which the quartz substrates are sequentially stacked. The present invention relates to a polarized ultraviolet irradiation device which improves the use efficiency of ultraviolet rays by minimizing the difference between the width W1 of the opening through which the polarized ultraviolet light is output and the width W2 of the quartz substrate group.

일반적으로 액정표시장치는 경량, 박형, 저소비 전력구동 등의 특징으로 인해 그 응용범위가 점차 넓어지고 있는 추세에 있다. 이에 따라 액정표시장치는 휴대용 컴퓨터, 휴대폰, 사무 자동화 기기 등에 있어서 화면을 디스플레이하기 위한 수단으로서 널리 이용되고 있다.BACKGROUND ART In general, liquid crystal display devices have tended to be gradually widened due to their light weight, thinness, and low power consumption. Accordingly, the liquid crystal display device is widely used as a means for displaying a screen in portable computers, mobile phones, office automation equipment and the like.

통상적으로 액정표시장치는 매트릭스형태로 배열된 다수의 제어용 스위칭 소자에 인가되는 영상신호에 따라 광의 투과량이 조절되어 화면에 원하는 화상을 표시하게 된다.In general, a liquid crystal display device displays a desired image on a screen by adjusting the amount of light transmitted according to image signals applied to a plurality of control switching elements arranged in a matrix.

이러한 액정표시장치는 상부기판인 컬러필터 기판과 하부기판인 박막 트랜지스터 어레이 기판이 서로 대향하고 상기 두 기판 사이에 액정층이 형성된 액정패널 과, 상기 액정패널에 주사신호 및 화상정보를 공급하여 액정패널을 동작시키는 구동부를 포함하여 구성된다.The liquid crystal display includes a liquid crystal panel in which a color filter substrate as an upper substrate and a thin film transistor array substrate as a lower substrate are opposed to each other, and a liquid crystal layer is formed between the two substrates, and a scan signal and image information are supplied to the liquid crystal panel. It is configured to include a drive unit for operating.

상기 박막 트랜지스터 어레이 기판에는, 서로 교차하도록 형성되어 다수의 화소를 정의하는 게이트 라인 및 데이터 라인과, 상기 각 화소 내에 하나씩 형성된 화소전극과, 상기 각 화소 내의 게이트 라인과 데이터 라인이 교차하는 영역에 형성되어 게이트 라인과 연결된 게이트 전극 및 데이터 라인과 연결된 소스 전극 및 화소전극과 연결된 드레인 전극으로 구성되는 박막 트랜지스터가 형성된다.The thin film transistor array substrate may be formed in a region where gate lines and data lines formed to cross each other to define a plurality of pixels, pixel electrodes formed one in each pixel, and regions in which the gate lines and data lines in each pixel cross. The thin film transistor includes a gate electrode connected to the gate line, a source electrode connected to the data line, and a drain electrode connected to the pixel electrode.

그리고, 상기 컬러필터 기판에는, 상기 박막 트랜지스터 어레이 기판의 화소 영역을 제외한 부분의 빛을 차단하는 블랙 매트릭스와, 컬러를 표시하기 위한 적색, 녹색, 청색의 컬러필터 층과, 상기 화소전극과 함께 전계를 형성하여 액정층을 구동하는 공통전극이 형성된다.In addition, the color filter substrate may include a black matrix that blocks light in portions other than the pixel region of the thin film transistor array substrate, a color filter layer of red, green and blue colors for displaying colors, and the pixel electrode. To form a common electrode for driving the liquid crystal layer.

이와 같이 구성된 액정표시장치는, 상기 박막 트랜지스터 어레이 기판의 화소전극과 컬러필터 기판의 공통전극이 형성하는 전계에 따라 액정의 배열 상태가 변경되고 그에 따라 광의 투과도가 변경되어 화상이 재현되게 된다.In the liquid crystal display device configured as described above, the arrangement state of the liquid crystal is changed according to the electric field formed by the pixel electrode of the thin film transistor array substrate and the common electrode of the color filter substrate, and thus the light transmittance is changed to reproduce an image.

액정표시장치는 액정의 전기광학적 효과를 이용한 것이고, 이러한 전기광학적 효과는 액정 자체의 이방성과 액정의 분자 배열 상태에 의해 결정되므로, 상기 액정의 분자 배열에 대한 제어는 액정표시장치에서의 화상 표시 품위를 안정화하는데 큰 영향을 미치게 된다. 따라서, 액정 분자의 초기 배열을 고르게 하되 소정 각도로 기울어지도록 하기 위하여 컬러필터 기판과 박막 트랜지스터 어레이 기판 중에 액정층과 접하는 면에 배향막이 형성된다.The liquid crystal display device utilizes the electro-optical effect of the liquid crystal. Since the electro-optic effect is determined by the anisotropy of the liquid crystal itself and the molecular arrangement state of the liquid crystal, the control of the molecular arrangement of the liquid crystal is an image display quality in the liquid crystal display device. This will have a big impact on stabilization. Therefore, an alignment layer is formed on the surface of the color filter substrate and the thin film transistor array substrate in contact with the liquid crystal layer in order to uniformize the initial arrangement of the liquid crystal molecules but to incline the predetermined angle.

상기 배향막을 형성하는 방법으로는 러빙배향법과 광배향법이 있다.As a method of forming the alignment film, there are a rubbing orientation method and a photoalignment method.

상기 러빙 배향법은 기판 상에 폴리이미드와 같은 배향 물질을 도포한 후, 러빙포가 감겨진 러빙롤을 회전시켜 마찰을 통해 배향 물질이 일정 방향으로 정렬되도록 하는 방법이다.The rubbing orientation method is a method of applying an alignment material such as polyimide onto a substrate, and then rotating the rubbing roll on which the rubbing cloth is wound so that the alignment material is aligned in a predetermined direction through friction.

그러나, 상기 러빙 배향법은 러빙 시에 러빙포와의 마찰에 의해 먼지나 정전기가 발생하는 문제가 있어 왔다.However, the rubbing orientation method has a problem that dust and static electricity are generated by friction with the rubbing cloth during rubbing.

상기 광배향법은 기판 상에 광반응기를 갖는 광배향 물질을 도포한 후, 소정 방향으로 편광된 자외선(UV)을 조사함으로써 광배향 물질이 편광된 자외선에 반응하여 일정 방향으로 정렬되도록 하는 방법이다.The photoalignment method is a method of applying a photoalignment material having a photoreactor on a substrate and then irradiating the ultraviolet (UV) polarized in a predetermined direction so that the photoalignment material is aligned in a predetermined direction in response to the polarized ultraviolet light. .

상기 광배향법은 마찰이 일어나지 않으므로 러빙 배향법과 같은 먼지나 정전기 문제가 발생하지 않으며, 광배향 물질이 전 영역에 걸쳐서 고르게 정렬되는 장점이 있어서 최근에는 광배향법에 대한 연구가 활발히 이루어지고 있다.Since the optical alignment method does not generate friction, dust or static electricity problems such as a rubbing orientation method do not occur, and the optical alignment method has been actively studied in recent years because the optical alignment material is evenly aligned over the entire area.

상기 광배향법의 경우에 광배향 물질에 편광된 자외선을 조사하기 위해서 편광 자외선 조사 장치가 요구된다.In the case of the photoalignment method, a polarized ultraviolet irradiation device is required in order to irradiate polarized ultraviolet rays to the photoalignment material.

이하, 도 1을 참조하여 종래의 일반적인 편광 자외선 조사 장치에 대하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, referring to FIG. 1, a conventional polarized ultraviolet irradiation device will be described.

도 1에 도시한 바와 같이 종래의 일반적인 편광 자외선 조사 장치는 자외선 광원(1)과, 상기 자외선 광원(1)의 하부에 소정 각도로 기울어지도록 배치된 다수의 석영기판(2)과, 상기 석영기판(2)을 지지하는 홀더(3)로 구성된다. 이때, 상기 다수의 석영기판(2)은 서로 소정 간격을 두고 배치된다.As shown in FIG. 1, a conventional polarized ultraviolet light irradiation device includes an ultraviolet light source 1, a plurality of quartz substrates 2 arranged to be inclined at a predetermined angle under the ultraviolet light source 1, and the quartz substrate. It consists of the holder 3 which supports (2). At this time, the plurality of quartz substrates 2 are arranged at a predetermined interval from each other.

상기 자외선 광원(1)에서 비편광 자외선이 방출되어 상기 석영기판(2)에 소정 각도로 입사되며, 입사된 자외선의 대부분은 석영기판(2)을 투과하여 편광된 후에 기판(11) 상의 광배향 물질층(12)에 조사되게 된다.Non-polarized ultraviolet light is emitted from the ultraviolet light source 1 and incident on the quartz substrate 2 at a predetermined angle, and most of the incident ultraviolet rays are transmitted through the quartz substrate 2 to be polarized and then optically aligned on the substrate 11. The material layer 12 is irradiated.

상기와 같은 구성을 가지는 종래의 일반적인 편광 자외선 조사 장치는 다수의 석영기판(2)을 지나면서 굴절되는 자외선이 도달하지 못하여 편광에 기여하지 못하는 A, B 영역이 존재하므로, 다수의 석영기판(2)을 통과한 편광 자외선이 출력되는 개구부의 폭(W1)은 차례로 적층되어 있는 석영기판(2) 그룹의 폭(W2)보다 매우 좁아서 자외선의 이용 효율이 감소하는 문제점이 있어왔다.In the conventional general polarized ultraviolet light irradiation device having the above configuration, since the ultraviolet rays refracted by the plurality of quartz substrates 2 do not reach and thus do not contribute to the polarization, a plurality of quartz substrates 2 The width W1 of the opening through which the polarized ultraviolet light passing through) is output is much narrower than the width W2 of the group of quartz substrates 2 which are sequentially stacked, thereby reducing the utilization efficiency of the ultraviolet light.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 차례로 적층된 석영기판을 수평 방향으로 소정 폭만큼 하나씩 시프트되도록 배치함으로써 편광에 기여하지 못하는 영역을 최소화하여, 석영기판이 차례로 적층되어 있는 석영기판 그룹을 통과한 편광 자외선이 출력되는 개구부의 폭(W1)과 석영기판 그룹의 폭(W2)의 차이를 최소화함으로써, 자외선 사용 효율을 높인 편광 자외선 조사 장치를 제공하는 것이다.Accordingly, the present invention is to solve the problems of the prior art as described above, an object of the present invention is to minimize the area that does not contribute to the polarization by arranging the quartz substrate laminated in sequence to be shifted by a predetermined width one by one, Provides a polarized ultraviolet irradiation device that improves the use efficiency of ultraviolet rays by minimizing the difference between the width (W1) of the opening (W1) through which the quartz substrate group is sequentially stacked, and the width (W2) of the quartz substrate group. It is.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 실시에에 따른 편광 자외선 조사 장치는, 자외선 광원; 및 서로 동일한 각도로 기울어지도록 자외선 광원의 하부에 차례로 적층되며 서로 소정 간격을 가지는 다수의 석영기판; 을 포함하여 구성되며, 상기 다수의 석영기판은 아래로 갈수록 수평 방향으로 소정 폭(L)만큼 하나씩 시프트되며, 시프트되는 방향은 석영기판이 기울어진 방향에 대응되는 것을 특징으로 한다.Polarizing ultraviolet irradiation device according to a preferred embodiment of the present invention for achieving the above object, the ultraviolet light source; And a plurality of quartz substrates sequentially stacked below the ultraviolet light source so as to be inclined at the same angle with each other and having a predetermined distance from each other. The plurality of quartz substrates are shifted one by one by a predetermined width (L) in the horizontal direction toward the bottom, and the shifted direction corresponds to the inclined direction of the quartz substrate.

상기와 같은 구성을 가지는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 편광 자외선 조사 장치는, 차례로 적층된 석영기판을 수평 방향으로 소정 폭만큼 하나씩 시프트되도록 배치함으로써 편광에 기여하지 못하는 영역을 최소화함으로써, 석영기판이 차례로 적층되어 있는 석영기판 그룹을 통과한 편광 자외선이 출력되는 개구부의 폭(W1)과 석영기판 그룹의 폭(W2)의 차이가 최소화되므로, 자외선 이용 효율을 높일 수 있는 효과가 있다.In the polarization ultraviolet irradiation device according to the preferred embodiment of the present invention having the above configuration, the quartz substrate is minimized by minimizing the region that does not contribute to the polarization by arranging the quartz substrates stacked one by one by a predetermined width in the horizontal direction. Since the difference between the width (W1) of the opening W and the width (W2) of the quartz substrate group through which the polarized ultraviolet rays passing through the group of stacked quartz substrates are output is minimized, there is an effect of increasing the UV utilization efficiency.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 편광 자외선 조사 장치에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a polarizing ultraviolet irradiation device according to a preferred embodiment of the present invention with reference to the accompanying drawings will be described in detail.

도 2에 도시한 바와 같이 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 편광 자외선 조사 장치는, 자외선 광원(101); 및 서로 동일한 각도로 기울어지도록 자외선 광원(101)의 하부에 차례로 적층되며 서로 소정 간격을 가지는 다수의 석영기판(102); 을 포함하여 구성되며, 상기 다수의 석영기판(102)은 아래로 갈수록 수평 방향으로 소정 폭(L)만큼 하나씩 시프트되며, 시프트되는 방향은 석영기판(102)이 기울어진 방향에 대응된다.As shown in FIG. 2, the polarizing ultraviolet irradiation device according to the preferred embodiment of the present invention includes an ultraviolet light source 101; And a plurality of quartz substrates 102 sequentially stacked below the ultraviolet light source 101 so as to be inclined at the same angle with each other and having a predetermined distance from each other. The plurality of quartz substrates 102 are shifted one by one by a predetermined width L in the horizontal direction toward the bottom, and the shifted directions correspond to the inclined directions of the quartz substrate 102.

이와 같은 구성을 가지는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 편광 자외선 조사 장치에 구비된 각 구성 요소에 대하여 상세히 설명하면 다음과 같다.When described in detail with respect to each component provided in the polarizing ultraviolet irradiation device according to a preferred embodiment of the present invention having such a configuration as follows.

도 2를 참조하면, 상기 자외선 광원(101)은 비편광 자외선을 방출하는 광원으로서 고압 수은 램프가 사용될 수 있으나, 본 발명이 이에 한정되지는 않는다.Referring to FIG. 2, the ultraviolet light source 101 may be a high-pressure mercury lamp as a light source that emits unpolarized ultraviolet light, but the present invention is not limited thereto.

상기 자외선 광원(101)과 다수의 석영기판(102) 사이에는 광경로 변경 수단을 비롯한 다수의 광학 부재가 구비될 수 있다.A plurality of optical members may be provided between the ultraviolet light source 101 and the plurality of quartz substrates 102 including light path changing means.

상기 다수의 석영기판(102)은 서로 동일한 각도로 기울어지도록 자외선 광원(101)의 하부에 차례로 적층된다.The plurality of quartz substrates 102 are sequentially stacked below the ultraviolet light source 101 so as to be inclined at the same angle to each other.

상기 다수의 석영기판(102)은 서로 소정 간격(예 : 1[mm])을 두고 배치되며, 상기 다수의 석영기판(102) 사이에는 공기가 존재한다.The plurality of quartz substrates 102 are disposed at a predetermined interval (for example, 1 [mm]) from each other, and air is present between the plurality of quartz substrates 102.

상기 다수의 석영기판(102)의 하부에는 피조사체인 광배향 물질층(112)이 형성된 기판(111)이 배치되게 되며, 상기 다수의 석영기판(102)은 기판(111)에 대하여 소정 각도로 기울어지되 모든 석영기판(102)은 기판(111)에 대하여 동일한 각도를 가진다.The substrate 111 on which the photo-alignment material layer 112 as an irradiated body is formed is disposed below the plurality of quartz substrates 102, and the plurality of quartz substrates 102 are disposed at a predetermined angle with respect to the substrate 111. Inclined but all quartz substrates 102 have the same angle with respect to the substrate 111.

상기 다수의 석영기판(102)은 아래로 갈수록 수평 방향으로 소정 폭(L)만큼 하나씩 시프트되며, 상기 석영기판(102)이 시프트되는 방향은 좌측 방향 또는 우측 방향 중에서 석영기판(102)이 기울어진 방향에 대응된다. 이때, 상기 수평 방향은 기판(111)에 대하여 수평한 방향이다.The plurality of quartz substrates 102 are shifted one by one by a predetermined width L in a horizontal direction toward the bottom, and the direction in which the quartz substrates 102 are shifted is inclined in the left or right direction. Corresponds to the direction. In this case, the horizontal direction is a direction horizontal to the substrate 111.

도 2에는 상기 다수의 석영기판(102)이 아래로 갈수록 오른쪽 방향으로 소정 폭(L)만큼 하나씩 시프트되도록 배치되고, 상기 석영기판(102)이 시프트된 방향은 오른쪽인 것으로 도시하였으나, 이는 설명의 편의를 위해 일 예를 도시한 것으로 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 석영기판(102)이 시프트되는 방향은 수평 방향이되 석영기판(102)이 기울어진 방향에 대응되는 범위 내에서 다양한 예가 가능하다.In FIG. 2, the plurality of quartz substrates 102 are disposed to be shifted one by one by a predetermined width L in the right direction, and the direction in which the quartz substrates 102 are shifted is shown to the right. For convenience, the present invention is not limited thereto, and the quartz substrate 102 is shifted in a horizontal direction, but various examples are provided within a range corresponding to the tilted direction of the quartz substrate 102. It is possible.

상기 다수의 석영기판(102)이 아래로 갈수록 오른쪽 방향으로 소정 폭(L)만큼 하나씩 시프트되도록 배치된 것에 있어서, 상기 폭(L)은 공기와 석영기판(102)의 굴절률 차에 의해 석영기판(102)을 지날 때마다 광이 시프트되는 폭과 동일하며, 아래의 수학식 1과 같다.The plurality of quartz substrates 102 are arranged to be shifted one by one by a predetermined width L in the right direction as they go down. The width L is determined by a difference in refractive index between air and the quartz substrate 102. Each time it passes 102, it is equal to the width at which light is shifted, and is represented by Equation 1 below.

Figure 112009078659615-PAT00001
Figure 112009078659615-PAT00001

도 3을 참조하면, 상기 수학식 1에서 d는 석영기판(102)의 두께이고, θi는 석영기판(102)에 입사되는 자외선의 입사각이며, nq은 석영기판(102)의 굴절률이다.Referring to FIG. 3, in Equation 1, d is the thickness of the quartz substrate 102, θ i is the incident angle of ultraviolet light incident on the quartz substrate 102, and n q is the refractive index of the quartz substrate 102.

상기 수학식 1은 굴절률이 1인 공기로부터 굴절률이 nq인 석영기판(102)에 입사하는 자외선의 입사각이 θi이고 굴절각이 θq인 경우에 스넬의 법칙(snell's law)을 적용하여 도출해낸 식으로서, 이와 관련하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Equation 1 is derived by applying Snell's law when the incident angle of ultraviolet rays incident on the quartz substrate 102 having a refractive index of n q from the air having a refractive index of 1 is θ i and the refractive angle is θ q . As a formula, it will be described in detail in this regard.

먼저, 상기 공기의 굴절률, 석영기판(102)의 굴절률(nq), 입사각(θi) 및 굴절각(θq)을 스넬의 법칙에 적용하여 아래의 수학식 2을 얻은 후에 수학식 3과 같이 변경한다.First, the refractive index of air, the refractive index (n q ) of the quartz substrate 102, the incident angle (θ i ) and the refractive angle (θ q ) are applied to Snell's law to obtain Equation 2 below. Change it.

Figure 112009078659615-PAT00002
Figure 112009078659615-PAT00002

Figure 112009078659615-PAT00003
Figure 112009078659615-PAT00003

그리고, tanθq에 대한 식인 아래 수학식 4를 얻은 후에 수학식 5와 같이 변 경한다.Then, after obtaining Equation 4 below, which is an expression for tanθ q , it is changed to Equation 5.

Figure 112009078659615-PAT00004
Figure 112009078659615-PAT00004

Figure 112009078659615-PAT00005
Figure 112009078659615-PAT00005

후에, 상기 수학식 5의 θq에 수학식 3을 대입하면 수학식 1이 도출되게 된다.Subsequently, substituting Equation 3 into θ q of Equation 5 leads to Equation 1.

한편, 상기 다수의 석영기판(102)은 고정수단이 마련된 홀더에 의해 고정됨으로써 제조 시에 설계된 위치를 유지하게 되는데, 상기 홀더 및 고정 수단의 구성은 다양한 예가 가능하지만, 도 4에 일 예를 도시하였다.On the other hand, the plurality of quartz substrates 102 are fixed by a holder provided with a fixing means to maintain a position designed at the time of manufacture, the configuration of the holder and the fixing means can be various examples, but an example is shown in FIG. It was.

도 4를 참조하면, 상기 홀더(103)는 석영기판(102)의 네 측부 중에서 시프트되는 방향에 대응되는 측부에 인접한 두 측부에 대응되는 영역에 홈(103a)이 형성되며, 상기 홈(103a)에 석영기판(102)의 측부가 체결됨으로써 석영기판(12)의 유동이 방지되어 제조 시에 설계된 위치를 유지한다.Referring to FIG. 4, the holder 103 has a groove 103a formed in an area corresponding to two sides adjacent to a side corresponding to the shifted direction among the four sides of the quartz substrate 102, and the groove 103a. The side of the quartz substrate 102 is fastened to prevent the flow of the quartz substrate 12 to maintain the designed position at the time of manufacture.

도 4에 도시된 홀더(103) 및 홈(103a)은 일 예로서 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 홀더(103) 및 홈(103a)은 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 석영기판(102)을 안정적으로 고정하고 편광에 기여하는 영역을 최대화할 수 있는 범위 내에서 다양한 예가 가능하다.The holder 103 and the groove 103a shown in FIG. 4 are not limited to the present invention as an example, and the holder 103 and the groove 103a are quartz substrates within a range not departing from the gist of the present invention. Various examples are possible within the range capable of stably fixing 102 and maximizing an area contributing to polarization.

상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 따른 편광 자외선 조사 장치는 적어도 수평 방향으로 이동하면서 피조사체에 편광된 자외선을 조사한다.The polarized ultraviolet irradiation device which concerns on this invention which has the structure as mentioned above irradiates the ultraviolet-ray which polarized to the to-be-tested object, moving at least in a horizontal direction.

즉, 도 2를 참조하면, 상기 편광 자외선 조사 장치는 피조사체인 광배향 물질층(112)이 형성된 기판(111)의 상부에서 기판(111)과 평행한 방향으로 이동하면서 광배향 물질층(112)에 편광된 자외선을 조사한다. 이때, 상기 편광 자외선 조사 장치는 소정 방향으로 1회 이동하되 소정 거리(1.2[mm] 이하)마다 소정의 정지 시간(예 : 58[sec])을 가지면서 광배향 물질층에 편광된 자외선을 조사하거나, 또는 정지 시간 없이 1회 이상 왕복 이동하면서 편광된 자외선을 조사할 수 있으며, 편광 자외선 조사 장치의 이동 방법은 필요에 따라 다양한 변경이 가능할 것이다.That is, referring to FIG. 2, the polarization ultraviolet irradiation device moves in a direction parallel to the substrate 111 on the substrate 111 on which the photo-alignment material layer 112 is formed, which is an irradiated object. Irradiated with ultraviolet rays. In this case, the polarized ultraviolet irradiation device is moved once in a predetermined direction, but irradiated with polarized ultraviolet rays to the photo-alignment material layer while having a predetermined stop time (eg 58 [sec]) for each predetermined distance (1.2 [mm] or less). Alternatively, the polarized ultraviolet light may be irradiated while reciprocating one or more times without stopping time, and the moving method of the polarized ultraviolet light irradiation device may be variously modified as necessary.

상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 편광 자외선 조사 장치는 차례로 적층된 석영기판(102)을 수평 방향으로 소정 폭만큼 하나씩 시프트되도록 배치함으로써 편광에 기여하지 못하는 영역을 최소화하여, 석영기판(102)이 차례로 적층되어 있는 석영기판(102) 그룹을 통과한 편광 자외선이 출력되는 개구부의 폭(W1)과 석영기판(102) 그룹의 폭(W2)의 차이가 최소화되므로 자외선 사용 효율을 최대화할 수 있는 효과가 있다.Polarizing ultraviolet irradiation device according to a preferred embodiment of the present invention having the configuration as described above to minimize the area that does not contribute to polarization by arranging the quartz substrates 102 are sequentially shifted by a predetermined width in the horizontal direction, The use efficiency of ultraviolet rays is minimized because the difference between the width W1 of the opening W and the width W2 of the quartz substrate 102 group is outputted through the group of quartz substrates 102 in which the quartz substrates 102 are sequentially stacked. It has the effect of maximizing.

도 1은 종래의 일반적인 편광 자외선 조사 장치를 도시한 단면도.1 is a cross-sectional view showing a conventional general polarized ultraviolet irradiation device.

도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 편광 자외선 조사 장치를 도시한 단면도.2 is a cross-sectional view showing a polarized ultraviolet irradiation device according to a preferred embodiment of the present invention.

도 3은 도 2의 석영기판을 확대하여 도시한 도면으로서, 수학식 1을 도출하기 위한 단면도.3 is an enlarged view of the quartz substrate of FIG. 2, and is a cross-sectional view for deriving Equation 1; FIG.

도 4는 도 2에 있어서 석영기판을 고정하는 홀더 및 고정수단의 일 예를 도시한 사시도.4 is a perspective view showing an example of a holder and a fixing means for fixing a quartz substrate in FIG.

**도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명**** Description of the symbols for the main parts of the drawings **

101 : 자외선 광원101: UV light source

102 : 석영기판102: quartz substrate

103 : 홀더103: Holder

103a : 홀103a: hall

111 : 기판111: substrate

112 : 광배향 물질층112: photo-orientation material layer

Claims (6)

자외선 광원; 및Ultraviolet light source; And 서로 동일한 각도로 기울어지도록 자외선 광원의 하부에 차례로 적층되며 서로 소정 간격을 가지는 다수의 석영기판;A plurality of quartz substrates sequentially stacked below the ultraviolet light source to be inclined at the same angle to each other and having a predetermined distance from each other; 을 포함하여 구성되며,It is configured to include, 상기 다수의 석영기판은 아래로 갈수록 수평 방향으로 소정 폭(L)만큼 하나씩 시프트되며, 시프트되는 방향은 석영기판이 기울어진 방향에 대응되는 것을 특징으로 하는 편광 자외선 조사 장치.The plurality of quartz substrates are shifted one by one by a predetermined width (L) in the horizontal direction toward the bottom, and the shifted direction corresponds to the direction in which the quartz substrate is inclined. 제 1 항에 있어서, 상기 폭(L)은
Figure 112009078659615-PAT00006
에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는 편광 자외선 조사 장치. (여기서, d는 석영기판의 두께이고, θi는 석영기판에 입사되는 자외선의 입사각이며, nq은 석영기판의 굴절률이다.)The method of claim 1, wherein the width (L) is
Figure 112009078659615-PAT00006
It is determined by the polarized ultraviolet irradiation device. (Where d is the thickness of the quartz substrate, θ i is the angle of incidence of ultraviolet light incident on the quartz substrate, and n q is the refractive index of the quartz substrate.) 제 1 항에 있어서, 상기 자외선 광원과 다수의 석영기판은 수평 방향으로 이동하면서 피조사체에 편광된 자외선을 조사하는 것을 특징으로 하는 편광 자외선 조사 장치.The polarizing ultraviolet irradiation device according to claim 1, wherein the ultraviolet light source and the plurality of quartz substrates are irradiated with polarized ultraviolet rays to the irradiated object while moving in a horizontal direction. 제 1 항에 있어서, 상기 석영기판의 마주보는 두 측부에 대응되는 홀더가 추가로 구비되며, 상기 홀더에는 석영기판의 측부에 결합되어 석영기판을 고정하는 고정 수단이 구비된 것을 특징으로 하는 편광 자외서 조사 장치.The polarizer of claim 1, further comprising a holder corresponding to two opposite sides of the quartz substrate, wherein the holder is provided with fixing means coupled to a side of the quartz substrate to fix the quartz substrate. External investigation device. 제 4 항에 있어서, 상기 고정 수단은 홀더의 내부 방향으로 형성된 홈인 것을 특징으로 하는 편광 자외선 조사 장치.The polarizing ultraviolet irradiation device according to claim 4, wherein the fixing means is a groove formed in an inner direction of the holder. 제 4 항에 있어서, 상기 고정 수단은 석영기판의 네 측부 중에서 시프트되는 방향에 대응되는 측부에 인접한 두 측부와 대응되도록 형성된 것을 특징으로 하는 편광 자외선 조사 장치.The polarizing ultraviolet irradiation device according to claim 4, wherein the fixing means is formed to correspond to two sides adjacent to the side corresponding to the shifted direction among the four sides of the quartz substrate.
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