KR20110060597A - Curing resin composition for liquid crystal dropping method and method for manufacturing the same - Google Patents

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KR20110060597A KR1020090117219A KR20090117219A KR20110060597A KR 20110060597 A KR20110060597 A KR 20110060597A KR 1020090117219 A KR1020090117219 A KR 1020090117219A KR 20090117219 A KR20090117219 A KR 20090117219A KR 20110060597 A KR20110060597 A KR 20110060597A
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Abstract

PURPOSE: A curable resin composition for a liquid crystal dropping method is provided to ensure little contamination of liquid crystal, uniform hardening performance, and excellent storage stability. CONSTITUTION: A curable resin composition for a liquid crystal dropping method comprises the steps of: mixing components of a curable resin composition; removing foreign materials through a filter; and removing bubbles using a defoamer. The sealant composition for the liquid crystal display device comprises 100.0 parts by weight of modified epoxy resin including partially (meth)acrylate group; 5-30 parts by weight of a monomer represented by chemical formula (1); 1-10 parts by weight of thermosetting material; and 1-5 parts by weight of photopolymerization initiator.

Description

액정 적하 공법용 경화성 수지 조성물 및 그것의 제조방법{CURING RESIN COMPOSITION FOR LIQUID CRYSTAL DROPPING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}Curable resin composition for liquid crystal dropping method and its manufacturing method {CURING RESIN COMPOSITION FOR LIQUID CRYSTAL DROPPING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}

본 발명은 액정 적하 공법용 경화성 수지 조성물 및 그것의 제조방법에 관한 것으로 더욱 상세하게는, 경화성 수지와 무기물의 분산안정성을 도모하여 경화성능이 균일하고, 경화시간을 단축할 수 있고, 저장안정성이 우수하며, 액정에 대한 오염성이 적고, 경화 후 접착강도가 우수한 액정 적하 공법용 경화성 수지 조성물 및 그것의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a curable resin composition for a liquid crystal dropping method and a method for producing the same, and more particularly, the dispersion stability of the curable resin and the inorganic material is achieved, the curing performance is uniform, the curing time can be shortened, and the storage stability The present invention relates to a curable resin composition for a liquid crystal dropping method which is excellent in contamination with liquid crystals and has excellent adhesive strength after curing, and a method for producing the same.

최근 활발하게 연구 개발되고 있는 액정 표시장치(LCD)는 평판 표시장치(FPD)의 일종으로서 전체적인 구조가 2개의 기판 및 상기 2개의 기판 사이에 개재된 액정을 포함하는 구조로 이루어져 있다.Liquid crystal display (LCD), which is being actively researched and developed recently, is a kind of flat panel display (FPD) and has a structure in which the overall structure includes two substrates and a liquid crystal interposed between the two substrates.

이러한 액정 표시장치의 제조과정에서 2개의 기판 사이에 액정을 개재시키기 위해서는 2개의 기판 중에서 어느 1개의 기판 가장자리에 실란트 조성물을 도포하고 상기 2개의 기판을 합착한 다음, 상기 실란트 조성물을 경화하는 과정을 거쳐야 한다.In the manufacturing process of the liquid crystal display device, in order to interpose liquid crystal between two substrates, a sealant composition is applied to an edge of any one of the two substrates, the two substrates are bonded together, and then the process of curing the sealant composition is performed. You have to go through.

그런데, 경화공정 도중 또는 완료 후에 상기 실란트 조성물 또는 그 경화물이 상기 액정과 직접 접촉하게 되므로, 상기 경화공정은 신속하게 수행되어야 하고, 아울러 상기 실란트 조성물 또는 그 경화물이 액정으로 용출되지 않아야 한다. 또한, 외력에 대한 액정 표시장치의 신뢰성 향상을 위해 상기 경화물은 높은 접착 강도를 가질 필요가 있다.However, since the sealant composition or the cured product thereof comes into direct contact with the liquid crystal during or after the curing process, the curing process should be performed quickly and the sealant composition or the cured product should not be eluted into the liquid crystal. In addition, in order to improve the reliability of the liquid crystal display device against external force, the cured product needs to have a high adhesive strength.

한편, 액정표시 장치의 대형화 및 양산화를 위해 일반적으로 광경화, 열경화 병용법이 사용되고 있고, 이 때 에폭시 부분 아크릴레이트 수지를 사용하는 접착제가 사용되고 있다.On the other hand, in order to enlarge and mass-produce a liquid crystal display device, the photocuring and thermosetting combined use method is generally used, and the adhesive agent using an epoxy partial acrylate resin is used at this time.

액정표시 장치의 대형화 및 양산화를 위해 사용되는 액정 적하 공법은 광경화 및 열경화 병용 실란트 조성물을 사용하며, 한쪽의 투명 기판에 실란트 조성물 패턴을 형성하고, 내측에 액정을 적하하고, 다른 한쪽의 투명 기판을 겹쳐 밀봉하는 액정표시 장치의 제조방법이다.The liquid crystal dropping method used for the enlargement and mass production of a liquid crystal display device uses a photocuring and thermosetting combination sealant composition, forms a sealant composition pattern on one transparent substrate, drops a liquid crystal on the inside, and transparent on the other side. It is a manufacturing method of a liquid crystal display device which overlaps and seals a board | substrate.

그러나, 상기 액정 적하 공법은 액정과 미경화 상태의 실란트 조성물의 상호 접촉이 일어나 실란트 조성물의 성분이 액정으로 용출되어 액정의 액정 오염을 발생시키는 문제점이 발생되고 있다.However, in the liquid crystal dropping method, the liquid crystal and the uncured sealant composition are mutually contacted, so that the components of the sealant composition are eluted into the liquid crystal, thereby causing liquid crystal contamination of the liquid crystal.

본 발명의 목적은 액정 적하 공법에 사용되는 실란트용 수지 조성물로서, 액정에 대한 오염성이 매우 작고, 경화성능이 균일하며, 저장안정성이 우수한 액정 적하 공법용 경화성 수지 조성물 및 그것의 제조방법을 제공하는 것이다.DISCLOSURE OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a resin composition for sealants used in a liquid crystal dropping method, which provides a curable resin composition for a liquid crystal dropping method having a very low contaminant to liquid crystals, a uniform curing performance, and excellent storage stability, and a method for producing the same. will be.

상기 과제를 해결하기 위해 본 발명은 액정 적하 공법에 사용되는 경화성 수지 조성물의 제조 방법으로서, 상기 경화성 수지 조성물의 각 성분들을 혼합한 후에 필터를 통해 이물질을 제거한 후 탈포기를 이용하여 기포를 제거하는 공정을 포함하는 액정 적하 공법용 경화성 수지 조성물의 제조 방법을 제공한다.In order to solve the above problems, the present invention is a method for producing a curable resin composition used in the liquid crystal dropping method, after mixing the components of the curable resin composition after removing foreign matter through a filter to remove the air bubbles using a deaerator. It provides the manufacturing method of curable resin composition for liquid crystal dropping methods containing a process.

본 발명은 또한, 상기 제조방법으로 제조되고, 화학식(1)로 표시되는 모노머를 포함하는 액정 적하 공법용 경화성 수지 조성물을 포함한다(상기 화학식(1)에서, X는 O, S 또는 NH이고, R1은 H 또는 CH3이며, R2는 C1-30의 알킬기 또는 C3-30의 아릴기이다.).The present invention also includes a curable resin composition for a liquid crystal dropping method prepared by the above production method and containing a monomer represented by the formula (1) (In the formula (1), X is O, S or NH, R 1 is H or CH 3 , and R 2 is an alkyl group of C 1-30 or an aryl group of C 3-30 .

본 발명은 또한, 부분적으로 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 변성 에폭시 수지 100 중량부, 화학식(1)로 표시되는 모노머 5 내지 30 중량부, 열경화제 1 내지 10 중량부 및 광중합 개시제 1 내지 5 중량부를 포함하는 액정 표시 소자용 실란트 조성물을 제공한다.The present invention also, in part, 100 parts by weight of the modified epoxy resin containing a (meth) acrylate group, 5 to 30 parts by weight of the monomer represented by the formula (1), 1 to 10 parts by weight of the thermosetting agent and 1 to 5 parts by weight of the photopolymerization initiator It provides the sealant composition for liquid crystal display elements containing a part.

본 발명에 따르면, 경화성 수지와 유무기물의 분산안정성을 도모하여 균일한 경화성능을 확보하고, 저장안정성이 우수하며, 액정에 대한 오염성이 적고, 경화 후 접착강도가 우수한 액정 적하 공법용 경화성 수지 조성물을 얻을 수 있다.According to the present invention, the dispersion stability of the curable resin and the organic and inorganic to ensure uniform curing performance, excellent storage stability, less contamination to the liquid crystal, curable resin composition for liquid crystal dropping method excellent in adhesive strength after curing Can be obtained.

이하 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명의 액정 적하 공법용 경화성 수지 조성물의 제조방법은 액정 적하 공법에 사용되는 경화성 수지 조성물의 제조 방법으로서, 상기 경화성 수지 조성물의 각 성분들을 혼합한 후에 필터를 통해 이물질을 제거한 후 탈포기를 이용하여 기포를 제거하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.The manufacturing method of the curable resin composition for liquid crystal dropping method of this invention is a manufacturing method of the curable resin composition used for a liquid crystal dropping method, after mixing each component of the said curable resin composition, removes a foreign material through a filter, and then uses a degassing machine. Characterized in that it comprises a step of removing bubbles.

본 발명의 경화성 수지 조성물의 제조방법은 수지 조성물의 각 성분들을 혼합한 후에 필터를 통해 이물질을 제거한 후 탈포기를 이용하여 기포를 제거하는 공정을 거치게 함으로써, 수지 조성물들의 각 구성성분들의 균일한 혼합 및 분산을 촉진시킴으로써, 분산 균일도를 높일 수 있는 특징이 있다.In the method of preparing the curable resin composition of the present invention, after mixing each component of the resin composition, the foreign material is removed through a filter, and then subjected to a process of removing air bubbles using a deaerator, thereby uniformly mixing each component of the resin compositions. And by promoting the dispersion, there is a feature that can increase the dispersion uniformity.

따라서, 본 발명의 경화성 수지 조성물의 제조방법에 의해 제조된 경화성 수지 조성물은 경화성능이 균일하고, 저장안정성이 우수하며, 액정에 대한 오염성이 적고, 경화 후 접착강도가 우수한 장점이 있다.Therefore, the curable resin composition prepared by the method of preparing the curable resin composition of the present invention has the advantages of uniform curing performance, excellent storage stability, low contamination to liquid crystal, and excellent adhesive strength after curing.

상기 탈포기를 이용하여 기포를 제거하는 공정은 예를 들어, 상기 경화성 수지 조성물의 각 성분들의 혼합물을 탈포기에서 자전 및 공전시켜 탈포처리 하는 공정으로 수행할 수 있다.The process of removing bubbles using the degassing machine may be performed by, for example, a process of degassing by rotating and revolving a mixture of the components of the curable resin composition in a degassing machine.

바람직하게는, 상기 경화성 수지 조성물의 혼합물을 대략 20분 내지 40분 동 안 자전시키는 단계를 거친 후, 대략 20분 내지 40분 정도 공전시키는 단계를 거치게 함으로써 탈포처리 하는 공정, 또는 상기 경화성 수지 조성물의 혼합물을 대략 20분 내지 40분 동안 자전과 공전을 동시에 거치게 함으로써, 탈포처리 하는 공정으로 수행할 수 있다.Preferably, the process of defoaming by passing the step of rotating the mixture of the curable resin composition for about 20 to 40 minutes, and then idle for about 20 to 40 minutes, or of the curable resin composition The mixture may be subjected to a defoaming process by simultaneously rotating and rotating for about 20 to 40 minutes.

상기 자전 및 공전의 회전수(rpm)가 너무 작을 경우에는 소망하는 경화성 수지 조성물의 분산안정성 향상 등의 효과를 발휘하기 어려울 수 있으므로, 상기 자전 및 공전의 회전수(rpm)는 각각 상기 자전은 500rpm 이상, 상기 공전은 200rpm 이상인 것이 바람직하다.When the rotational speed and rotational speed (rpm) is too small, it may be difficult to achieve the effect of improving the dispersion stability of the curable resin composition, such as, the rotational speed and rotational revolution (rpm) of the rotation is 500rpm respectively As mentioned above, it is preferable that the said revolution is 200 rpm or more.

하나의 바람직한 예에서, 상기 경화성 수지 조성물은 하기 화학식(1)로 표시되는 모노머를 포함할 수 있다.In one preferred example, the curable resin composition may include a monomer represented by the following formula (1).

Figure 112009073894116-PAT00001
(1)
Figure 112009073894116-PAT00001
(One)

(상기 화학식(1)에서, X는 O, S 또는 NH이고, R1은 H 또는 CH3이며, R2는 C1-30의 알킬 또는 아릴기이다.)(In the formula (1), X is O, S or NH, R 1 is H or CH 3 , R 2 is an alkyl or aryl group of C 1-30 .)

또, 하나의 바람직한 예에서, 상기 경화성 수지 조성물은, 부분적으로 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 변성 에폭시 수지 100 중량부, 하기 화학식(1)로 표시되는 모노머 5 내지 30 중량부, 열경화제 1 내지 10 중량부 및 광중합 개시제 1 내지 5 중량부를 포함하는 것으로 이루어질 수 있다.Moreover, in one preferable example, the said curable resin composition is 100 weight part of modified epoxy resins which contain a (meth) acrylate group partially, 5-30 weight part of monomers represented by following General formula (1), and 1 to 1 thermosetting agent It may comprise 10 parts by weight and 1 to 5 parts by weight of the photopolymerization initiator.

Figure 112009073894116-PAT00002
(1)
Figure 112009073894116-PAT00002
(One)

(상기 화학식(1)에서, X는 O, S 또는 NH이고, R1은 H 또는 CH3이며, R2는 C1-30의 알킬기 또는 C3-30의 아릴기이다.) (In the formula (1), X is O, S or NH, R 1 is H or CH 3 , R 2 is an alkyl group of C 1-30 or an aryl group of C 3-30 .)

상기 화학식(1)로 표시되는 모노머 및 상기 변성 에폭시 수지는 상기 경화성 수지 조성물이 열경화 및 광경화에 의해 신속히 경화되게 하며, 기판 등에 도포된 수지 조성물에 직선성 및 접착성 등을 부여하는 작용을 한다.The monomer represented by the general formula (1) and the modified epoxy resin allow the curable resin composition to be cured rapidly by thermosetting and photocuring, and have a function of imparting linearity and adhesiveness to a resin composition applied to a substrate or the like. do.

상기 R2는 에틸렌 글리콜, 글리세린, 소르비톨, 트리 메틸올 프로판, (폴리)프로필렌글리콜, 1,3-프로판 디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 폴리에틸렌 글리콜, 모노(메타)아크릴레이트, 트리 메틸올에탄, 트리 메틸올프로판, 디이소시아네이트, 톨릴렌 디이소시아네이트, 크실렌 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트, 톨리딘, 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 트리메틸헥사 메틸렌 디이소시아테이트, 카프로락톤 에틸에스터, N-3-아크릴옥시-2-하이드록시프로필)-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-[5-(트리메톡시 실릴)-2-1-옥소-펜틸]카프로락탐, O-(비닐옥시에틸)-N-(트리에톡시실릴프로필)우레탄, 감마-운데카락톤, 엡실론-카프로락톤, 감마-데카락톤, 알파-도데카락톤, 감마-노나락톤, 감마-노나노락톤, 감마-발레로락톤, 알파-발레로락톤, 베타, 부티로락톤, 감마-부티로락톤, 베타-프로피오락톤, 알파-헥사노락톤 및 7-부틸-2-옥세파논으로 이루어진 군으로부터 선택된 적 어도 하나이다.R 2 is ethylene glycol, glycerin, sorbitol, trimethylol propane, (poly) propylene glycol, 1,3-propane diol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, polyethylene glycol, mono (meth) acrylate , Trimethylolethane, trimethylolpropane, diisocyanate, tolylene diisocyanate, xylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, tolidine, diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, caprolactone ethyl ester , N-3-acryloxy-2-hydroxypropyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, N- [5- (trimethoxy silyl) -2-1-oxo-pentyl] caprolactam, O- ( Vinyloxyethyl) -N- (triethoxysilylpropyl) urethane, gamma-undecalactone, epsilon-caprolactone, gamma-decaractone, alpha-dodecaractone, gamma-nonalactone, gamma-nonanolactone, Gamma-Valerolactone, Alpha-Ballet Lactone, beta, butyrolactone, gamma-least one selected from the enemy hexanoate lactone and 7-butyl-2-oxide Sefar the group consisting of non-butyrolactone, beta-propiolactone, alpha.

상기 부분적으로 (메타)아크릴레이트 변성 에폭시 수지는, 노블락형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 트리스 페놀 메탄형 에폭시 수지, 비스페놀형 에폭시 수지로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 수지를 단독으로 또는 둘 이상의 조합으로 사용할 수 있다.The (meth) acrylate-modified epoxy resin partially comprises at least one resin selected from the group consisting of noblock type epoxy resins, biphenyl type epoxy resins, naphthalene type epoxy resins, trisphenol methane type epoxy resins, and bisphenol type epoxy resins. It may be used alone or in combination of two or more.

상기 경화성 수지 조성물은 무기 충진제, 요변성 조절제 및 실란 커플링제로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나의 첨가제를 10 내지 40 중량부로 더 포함할 수 있다.The curable resin composition may further include 10 to 40 parts by weight of at least one additive selected from the group consisting of an inorganic filler, a thixotropic regulator and a silane coupling agent.

상기 부분적으로 (메타)아크릴레이트 변성 에폭시 수지는 점도가 1000 내지 15000cps인 수지가 사용될 수 있으며, 바람직하게는 5000 내지 10000 cps인 수지가 사용될 수 있다. 상기 부분적으로 (메타)아크릴레이트 변성 에폭시 수지의 점도는 수지의 합성 전 에폭시 수지의 점도를 조절함으로써 조절할 수 있다.As the partially (meth) acrylate-modified epoxy resin, a resin having a viscosity of 1000 to 15000 cps may be used, and preferably a resin having 5000 to 10000 cps may be used. The viscosity of the (meth) acrylate modified epoxy resin can be controlled in part by adjusting the viscosity of the epoxy resin before synthesis of the resin.

상기 부분적으로 (메타)아크릴레이트 변성 에폭시 수지의 점도가 1000cps 이하로 낮을 경우에는 부분적으로 (메타)아크릴레이트 변성 에폭시 수지가 나타내는 접착성 등의 고유한 특성이 발휘되기 어려운 문제점이 있고, 15000cps 이상일 경우에는 경화성 수지 조성물의 전체적인 점도 및 분산 안정성을 저하시키는 문제점이 있다.When the viscosity of the (meth) acrylate-modified epoxy resin is lower than 1000 cps, there is a problem that inherent characteristics such as adhesiveness of the (meth) acrylate-modified epoxy resin are partially difficult to be exhibited, and when it is 15000 cps or more. There is a problem of lowering the overall viscosity and dispersion stability of the curable resin composition.

상기 열경화제로는 20 ℃ 이하의 낮은 온도에서는 경화가 일어나지 않고 40 ℃ 이상의 고온에서 경화가 일어나는 잠재성 열경화제를 사용하는 것이 바람직하다. 잠재성 열경화제로는 이미다졸형, 디히드라지드형, 아민형의 열경화제로 이루어진 군에서 선택된 1 종이상의 열 경화제를 사용할 수 있다. 특히, 제조되는 액정 표시 소자의 액정의 오염을 방지하고, 기판과의 접착력 향상을 위하여 디히드라지드형 경화제를 사용하는 것이 바람직하다. As the thermosetting agent, it is preferable to use a latent thermosetting agent that hardening does not occur at a low temperature of 20 ° C or lower and hardening occurs at a high temperature of 40 ° C or higher. As the latent thermosetting agent, one type of thermosetting agent selected from the group consisting of imidazole type, dihydrazide type and amine type thermosetting agents can be used. In particular, it is preferable to use a dihydrazide-type hardening | curing agent in order to prevent the contamination of the liquid crystal of the liquid crystal display element manufactured, and to improve the adhesive force with a board | substrate.

상기 이미다졸 형 경화제의 구체적인 예로서, 2-메틸이미다졸, 1,2-디메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-메틸이미다졸, P-0505(시코쿠 코퍼레이션제품) 등을 들 수 있다. 또한, 상기 디히드라지드계 경화제의 구체적인 예로서 아미큐어 VDH, 아미큐어 UDH(아지노모토사제품), ADH, SDH, DDH, IDH(오츠카화학사제품), NDH(일본히드라진 공업사제품)등을 들 수 있다. 또한, 아민형의 경화제의 구체적인 예로서, 아미큐어 PN-23, 아미큐어 PN-H, 아미큐어 PN-31, 아미큐어 PN-40, 아미큐어 PN-23J, 아미큐어 PN-31J, 아미큐어 PN-40J, 아미큐어 MY-24, 아미큐어 MY-H, 아미큐어 MY-HK-1, 아미큐어 AH-203, 아미큐어 AH-300, 아미큐어 AH-154, 아미큐어 AH-163(아지노모토사제품) 등을 들 수 있다. 상기 열경화제의 함량은 부분적으로 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 변성 에폭시 수지 100중량부에 대하여 1 내지 10 중량부로 사용할 수 있다.Specific examples of the imidazole type curing agent include 2-methylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, P-0505 (manufactured by Shikoku Corporation), and the like. Can be. Specific examples of the dihydrazide-based curing agents include amcure VDH, amcure UDH (manufactured by Ajinomoto Co., Ltd.), ADH, SDH, DDH, IDH (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.), and NDH (manufactured by Nippon Hydrazine Industry Co., Ltd.). . Moreover, as a specific example of an amine-type hardening | curing agent, it is a cure PN-23, an cure PN-H, an cure PN-31, an cure PN-40, an cure PN-23J, an cure PN-31J, an cure PN -40J, amcure MY-24, amcure MY-H, amcure MY-HK-1, amcure AH-203, amcure AH-300, amcure AH-154, amcure AH-163 (manufactured by Ajinomoto Co., Ltd.) ), And the like. The amount of the thermosetting agent may be used in an amount of 1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the modified epoxy resin including a (meth) acrylate group.

상기 광중합 개시제는 벤조인계 화합물, 아세토페논류, 벤조페논류, 티옥산톤류, 안트라퀴논류, α-아실옥심에스테르류, 페닐글리옥시레이트류, 벤질류, 아조계 화합물, 티페닐술피드계 화합물, 아실포스핀옥시계 화합물, 유기 색소계 화합물, 철-프탈로시아닌계 화합물 등을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 벤조페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 벤질, 벤조일이소프로필에테르, 벤질디메틸케탈, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 티오크산톤으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 사용할 수 있다. The photopolymerization initiator is a benzoin compound, acetophenones, benzophenones, thioxanthones, anthraquinones, α-acyl oxime esters, phenylglyoxylates, benzyls, azo compounds, thiphenyl sulfide compounds , Acylphosphineoxy compound, organic pigment compound, iron-phthalocyanine compound and the like can be used. Specifically, at least one selected from the group consisting of benzophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, benzyl, benzoylisopropyl ether, benzyl dimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, and thioxanthone can be used. have.

상기 광중합 개시제의 함량은 상기 부분적으로 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 변성 에폭시 수지 100중량부에 대하여 1 내지 5 중량부로 사용할 수 있다. 상기 광중합 개시제로서 사용될 수 있는 화합물들은 단독으로 또는 둘 이상의 조합으로 사용될 수 있다. The content of the photopolymerization initiator may be used in an amount of 1 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the modified epoxy resin including the (meth) acrylate group. Compounds that can be used as the photopolymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.

상기 무기 충진제로서 실리카 또는 탈크 등의 충진제를 사용할 수 있다. 또한 상기 충진제로서 입자의 최대 크기는 5㎛이하인 것이 사용될 수 있다. 최대 입자의 크기가 5㎛를 초과하면 액정 표시 소자의 상하판 글래스 접착시 셀갭이 유지되지 않아 불량의 원인이 된다. 바람직하게는 2㎛ 이하의 평균입경을 갖고 입자 분포가 균일한 무기 충진제를 사용할 수 있다.As the inorganic filler, fillers such as silica or talc can be used. In addition, the maximum size of the particles as the filler may be used that is 5㎛ or less. If the maximum particle size exceeds 5 μm, the cell gap is not maintained during glass adhesion of the upper and lower glass plates of the liquid crystal display device, thereby causing defects. Preferably, an inorganic filler having an average particle diameter of 2 µm or less and having a uniform particle distribution may be used.

상기 무기 충진제의 종류는 특별히 한정되지는 않지만 상기 무기 충진제는 예를 들면 실리카, 규조토, 알루미나, 산화아연, 산화철, 산화마그네슘, 산화주석, 산화티탄, 수산화 마그네슘, 수산화 알루미늄, 탄산마그네슘, 황산바륨, 석고, 규산칼슘, 탈크, 유리 비드, 견운모, 활석백토, 벤토나이트, 질화알루미늄, 질화규소, 티탄산 칼륨, 제올라이트, 칼시아, 마그네시아, 페라이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함한다. 상기 무기 충진제들은 단독으로 또는 둘 이상의 조합으로 사용될 수 있다.Although the type of the inorganic filler is not particularly limited, the inorganic filler may be, for example, silica, diatomaceous earth, alumina, zinc oxide, iron oxide, magnesium oxide, tin oxide, titanium oxide, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, magnesium carbonate, barium sulfate, Gypsum, calcium silicate, talc, glass beads, mica, talc, bentonite, aluminum nitride, silicon nitride, potassium titanate, zeolite, calcia, magnesia and ferrite. The inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more.

상기 무기 충진제의 함량은 바람직하게는 부분적으로 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 변성 에폭시 수지 100중량부에 대하여 10 내지 40 중량부일 수 있다. 무기 충진제의 함량이 50 중량부를 초과하면 실란트 조성물의10 점도가 지나치게 상승하는 문제점이 있다. The content of the inorganic filler may preferably be 10 to 40 parts by weight based on 100 parts by weight of the modified epoxy resin including a (meth) acrylate group. If the content of the inorganic filler exceeds 50 parts by weight, there is a problem that 10 viscosity of the sealant composition is excessively increased.

한편, 상기 무기 충진제와 더불어 유기 충진제가 사용될 수도 있다. 상기 무기 충진제와 병용하여 사용될 수 있는 유기 충진제로서는 메타크릴산 메틸, 폴리스티렌 및 이와 공중합이 가능한 모노머들의 공중합체를 들 수 있다. Meanwhile, an organic filler may be used in addition to the inorganic filler. Examples of the organic filler that can be used in combination with the inorganic filler include methyl methacrylate, polystyrene, and copolymers of monomers copolymerizable therewith.

상기 기타 첨가제로서는 요변성 조절제(Thixotropic Agent) 및 실란 커플링제 외에도 광개시 촉진제, 레벨링제, 점도조절제, 계면활성제, 가소제, 자외선 흡수제 등이 추가로 사용될 수 있다.In addition to the thixotropic agent and the silane coupling agent, the other additives may further include photoinitiation accelerators, leveling agents, viscosity regulators, surfactants, plasticizers, ultraviolet absorbers, and the like.

상기 요변성 조절제로서는 메틸 셀룰로오스, 메틸에틸 케톤 퍼옥사이드, 산화폴리에틸렌 왁스, 변성 폴리프로필렌 에멀젼, 폴리아마이드 왁스, 유기(Organo) 클레이, 알킬 설페이트, 하이드록실 에틸셀룰로오스, 하이드록실 산 에스테르류, 폴리비닐 알코올, 폴리디메틸 실록산, 불포화 카르복실산 모노머류, 수산화 카르복실산 아마이드류, 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 알칼리 토금속 수산화물류, 알칼리 토금속 탄산염류 등이 사용될 수 있다. Examples of the thixotropic regulator include methyl cellulose, methyl ethyl ketone peroxide, polyethylene oxide wax, modified polypropylene emulsion, polyamide wax, organic clay, alkyl sulfate, hydroxyl ethyl cellulose, hydroxyl acid esters, and polyvinyl alcohol. , Polydimethyl siloxane, unsaturated carboxylic acid monomers, hydroxide carboxylic acid amides, ethylene glycol, diethylene glycol, alkaline earth metal hydroxides, alkaline earth metal carbonates and the like can be used.

또한, 전술한 첨가제 외에 평균 입자의 크기가 100nm 이하인 무기 입자를 첨가제로서 사용할 수 있다. 예를 들어, 무기 충진제로 사용될 수 있는 미세 실리카, 제올라이트, 알루미나, 스테아린산 알루미늄, 수산화 알루미나, 운모, 벤토나이트 등을 소량 사용할 수 있다.In addition to the above-mentioned additives, inorganic particles having an average particle size of 100 nm or less can be used as the additive. For example, a small amount of fine silica, zeolite, alumina, aluminum stearate, alumina hydroxide, mica, bentonite, or the like, which can be used as the inorganic filler, can be used.

조성물 내에 포함되는 상기 첨가제들의 총 함량은 부분적으로 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 변성 에폭시 수지 100중량부에 대하여 10 내지 40 중량부일 수 있다.The total content of the additives included in the composition may be 10 to 40 parts by weight based on 100 parts by weight of the modified epoxy resin including a (meth) acrylate group.

본 발명은 또한, 상기 제조 방법으로 제조되고, 하기 화학식(1)로 표시되는 모노머 를 포함하는 액정 적하 공법용 경화성 수지 조성물을 제공한다.This invention also provides curable resin composition for liquid crystal dropping methods manufactured by the said manufacturing method, and containing the monomer represented by following General formula (1).

Figure 112009073894116-PAT00003
Figure 112009073894116-PAT00003

(1)(One)

(상기 화학식(1)에서, X는 O, S 또는 NH이고, R1은 H 또는 CH3이며, R2는 C1-30의 알킬기 또는 C3-30의 아릴기이다.)(In the formula (1), X is O, S or NH, R 1 is H or CH 3 , R 2 is an alkyl group of C 1-30 or an aryl group of C 3-30 .)

상기 경화성 수지 조성물은 수분 및 공기의 함량이 작고, 우수한 분산 안정성을 나타내며, 화학식(1)의 모노머에 의해 우수한 접착성, 저장 안정성 및 기판 상에서의 직선성 등을 나타내는 특징이 있다.The curable resin composition has a small content of moisture and air, exhibits excellent dispersion stability, and has characteristics such as excellent adhesion, storage stability and linearity on a substrate by the monomer of the formula (1).

상기 R2는 에틸렌 글리콜, 글리세린, 소르비톨, 트리 메틸올 프로판, (폴리)프로필렌글리콜, 1,3-프로판 디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 폴리에틸렌 글리콜, 모노(메타)아크릴레이트, 트리 메틸올에탄, 트리 메틸올프로판, 디이소시아네이트, 톨릴렌 디이소시아네이트, 크실렌 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트, 톨리딘, 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 트리메틸헥사 메틸렌 디이소시아테이트, 카프로락톤 에틸에스터, N-3-아크릴옥시-2-하이드록시프로필)-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-[5-(트리메톡시 실릴)-2-1-옥소-펜틸]카프로락탐, O-(비닐옥시에틸)-N-(트리에톡시실릴프로필)우레탄, 감마-운데카락톤, 엡실론-카프로락톤, 감마-데카락톤, 알파-도데카락톤, 감마-노나락톤, 감마-노나노락톤, 감마- 발레로락톤, 알파-발레로락톤, 베타, 부티로락톤, 감마-부티로락톤, 베타-프로피오락톤, 알파-헥사노락톤 및 7-부틸-2-옥세파논으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나이다.R 2 is ethylene glycol, glycerin, sorbitol, trimethylol propane, (poly) propylene glycol, 1,3-propane diol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, polyethylene glycol, mono (meth) acrylate , Trimethylolethane, trimethylolpropane, diisocyanate, tolylene diisocyanate, xylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, tolidine, diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, caprolactone ethyl ester , N-3-acryloxy-2-hydroxypropyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, N- [5- (trimethoxy silyl) -2-1-oxo-pentyl] caprolactam, O- ( Vinyloxyethyl) -N- (triethoxysilylpropyl) urethane, gamma-undecalactone, epsilon-caprolactone, gamma-decaractone, alpha-dodecaractone, gamma-nonalactone, gamma-nonanolactone, Gamma- valerolactone, alpha-ballet At least one selected from the group consisting of lolactone, beta, butyrolactone, gamma-butyrolactone, beta-propiolactone, alpha-hexanolactone and 7-butyl-2-oxepanone.

본 발명은 또한, 부분적으로 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 변성 에폭시 수지 100 중량부, 하기 화학식(1)로 표시되는 모노머 5 내지 30 중량부, 열경화제 1 내지 10 중량부 및 광중합 개시제 1 내지 5 중량부를 포함하는 액정 표시 소자용 실란트 조성물을 제공한다.The present invention also, in part, 100 parts by weight of the modified epoxy resin containing a (meth) acrylate group, 5 to 30 parts by weight of the monomer represented by the following formula (1), 1 to 10 parts by weight of the thermosetting agent and 1 to 5 photopolymerization initiator It provides the sealant composition for liquid crystal display elements containing a weight part.

Figure 112009073894116-PAT00004
Figure 112009073894116-PAT00004

(1)(One)

(상기 화학식(1)에서, X는 O, S 또는 NH이고, R1은 H 또는 CH3이며, R2는 C1-30의 알킬기 또는 C3-30의 아릴기이다.)(In the formula (1), X is O, S or NH, R 1 is H or CH 3 , R 2 is an alkyl group of C 1-30 or an aryl group of C 3-30 .)

상기 액정 표시 소자용 실란트 조성물은 상기 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 변성 에폭시 수지 및 화학식(1)로 표시되는 모노머에 의해 액정 적하 공법에 사용시 우수한 분산 안정성을 나타내며, 경화 시간이 매우 짧고, 접착성이 우수한 특징이 있다. 또한, 액정의 기판상에 도포시 직선성이 우수하여 액정에 대한 오염성을 최소화 할 수 있는 장점이 있다.The sealant composition for a liquid crystal display device exhibits excellent dispersion stability when used in the liquid crystal dropping method by the modified epoxy resin containing the (meth) acrylate group and the monomer represented by the formula (1), the curing time is very short, and the adhesiveness This is an excellent feature. In addition, when the coating on the substrate of the liquid crystal is excellent in the linearity there is an advantage that can minimize the contamination to the liquid crystal.

상기 R2는 에틸렌 글리콜, 글리세린, 소르비톨, 트리 메틸올 프로판, (폴리)프로필 렌글리콜, 1,3-프로판 디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 폴리에틸렌 글리콜, 모노(메타)아크릴레이트, 트리 메틸올에탄, 트리 메틸올프로판, 디이소시아네이트, 톨릴렌 디이소시아네이트, 크실렌 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트, 톨리딘, 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 트리메틸헥사 메틸렌 디이소시아테이트, 카프로락톤 에틸에스터, N-3-아크릴옥시-2-하이드록시프로필)-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-[5-(트리메톡시 실릴)-2-1-옥소-펜틸]카프로락탐, O-(비닐옥시에틸)-N-(트리에톡시실릴프로필)우레탄, 감마-운데카락톤, 엡실론-카프로락톤, 감마-데카락톤, 알파-도데카락톤, 감마-노나락톤, 감마-노나노락톤, 감마-발레로락톤, 알파-발레로락톤, 베타, 부티로락톤, 감마-부티로락톤, 베타-프로피오락톤, 알파-헥사노락톤 및 7-부틸-2-옥세파논으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나이다.R 2 is ethylene glycol, glycerin, sorbitol, trimethylol propane, (poly) propylene glycol, 1,3-propane diol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, polyethylene glycol, mono (meth) acrylic Rate, trimethylolethane, trimethylolpropane, diisocyanate, tolylene diisocyanate, xylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, tolidine, diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocytate, caprolactone ethyl Ester, N-3-acryloxy-2-hydroxypropyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, N- [5- (trimethoxy silyl) -2-1-oxo-pentyl] caprolactam, O- (Vinyloxyethyl) -N- (triethoxysilylpropyl) urethane, gamma-undecalactone, epsilon-caprolactone, gamma-decaractone, alpha-dodecaractone, gamma-nonalactone, gamma-nonanolactone , Gamma-valerolactone, alpha-ballet At least one selected from the group consisting of lolactone, beta, butyrolactone, gamma-butyrolactone, beta-propiolactone, alpha-hexanolactone and 7-butyl-2-oxepanone.

상기 부분적으로 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 변성 에폭시 수지 및 하기 화학식(1)로 표시되는 모노머를 포함하는 액정 표시 소자용 실란트 조성물은 액정 적하 공법용 경화성 수지 조성물로서, 바람직하게는 1500mJ/cm2 이상에서 UV 경화하는 광경화 단계 및 70℃ 이상의 온도에서 열경화 하는 열경화 단계를 각각 거침으로써 경화되는 것을 사용할 수 있다.The sealant composition for a liquid crystal display device comprising the modified epoxy resin partially containing the (meth) acrylate group and the monomer represented by the following general formula (1) is a curable resin composition for a liquid crystal dropping method, and preferably 1500mJ / cm 2 What is hardened | cured by passing through the photocuring step of UV hardening above and the thermosetting step thermosetting at the temperature of 70 degreeC or more can be used.

이하, 실시예를 참조하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하지만, 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐, 본 발명의 보호범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the following Examples are only for illustrating the present invention, and the protection scope of the present invention is not limited to the following Examples.

실시예Example

실시예 1Example 1

부분 (메타)아크릴레이트 에폭시 수지 65g, 하이드록시 에스터 (메타)아크릴레이트 모노머 6g, 광중합 개시제 2g, 무기충진제 20g, 실란 커플링제 3g, 열경화제로서 MDH(Malonic acid dihydrazide, 알드리치사 제품) 2g와 Amicure UR(에어 프러덕트사 제품) 2g을 배합하고, 3-롤 밀로 충분히 밀링한 후, 필터를 하여 이물을 제거한 조성물을 자전 공전 탈포기(진공 탈포 교반 믹서, UFO-S5, 제조사 EME, 일본)로, 자전 750rpm, 공전 500rpm으로 30분 동안 진공 탈포 처리하여 실란트 조성물을 수득하였다.65 g of partial (meth) acrylate epoxy resin, 6 g of hydroxy ester (meth) acrylate monomer, 2 g of photopolymerization initiator, 20 g of inorganic filler, 3 g of silane coupling agent, 2 g of MDH (Malonic acid dihydrazide, product of Aldrich) and Amicure as a thermosetting agent After mixing 2 g of UR (air product manufactured), milling sufficiently with a three-roll mill, filtering the composition to remove the foreign substance by rotating a degassing agitator (vacuum defoaming stirring mixer, UFO-S5, manufacturer EME, Japan) After vacuum degassing at 750 rpm for rotation and 500 rpm for 30 minutes, a sealant composition was obtained.

비교예Comparative example

비교예 1Comparative Example 1

부분 (메타)아크릴레이트 에폭시 수지 65g, 하이드록시 에스터 (메타)아크릴레이트 모노머 6g, 광중합 개시제 2g, 무기충진제 20g, 실란 커플링제 3g, 열경화제로서 MDH(Malonic acid dihydrazide, 알드리치사 제품) 2g와 Amicure UR(에어 프러덕트사 제품) 2g을 배합하고, 3-롤 밀로 충분히 밀링한 후, 필터를 하여 이물을 제거한 조성물을 자전 공전 탈포기(진공 탈포 교반 믹서, UFO-S5, 제조사 EME, 일본)로, 자전 450rpm, 공전 100rpm으로 30분 동안 진공 탈포 처리하여 실란트 조성물을 수득하였다.65 g of partial (meth) acrylate epoxy resin, 6 g of hydroxy ester (meth) acrylate monomer, 2 g of photopolymerization initiator, 20 g of inorganic filler, 3 g of silane coupling agent, 2 g of MDH (Malonic acid dihydrazide, product of Aldrich) and Amicure as a thermosetting agent After mixing 2 g of UR (air product manufactured), milling sufficiently with a three-roll mill, filtering the composition to remove the foreign substance by rotating a degassing agitator (vacuum defoaming stirring mixer, UFO-S5, manufacturer EME, Japan) After vacuum degassing for 30 minutes at a rotation of 450rpm and a revolution of 100rpm to obtain a sealant composition.

비교예 2Comparative Example 2

부분 (메타)아크릴레이트 에폭시 수지 65g, 하이드록시 에스터 (메타)아크릴레이트 모노머 6g, 광중합 개시제 2g, 무기충진제 20g, 실란 커플링제 3g, 열경화제로서 MDH(Malonic acid dihydrazide, 알드리치사 제품) 2g와 Amicure UR (에어 프러덕트사 제품) 2g을 배합하고, 3-롤 밀로 충분히 밀링한 후, 필터를 하여 이물을 제거한 실란트 조성물을 수득하였다.65 g of partial (meth) acrylate epoxy resin, 6 g of hydroxy ester (meth) acrylate monomer, 2 g of photopolymerization initiator, 20 g of inorganic filler, 3 g of silane coupling agent, 2 g of MDH (Malonic acid dihydrazide, product of Aldrich) and Amicure as a thermosetting agent 2 g of UR (from Air Products) was blended, milled sufficiently with a 3-roll mill, and filtered to obtain a sealant composition from which foreign materials were removed.

비교예 3Comparative Example 3

부분 (메타)아크릴레이트 에폭시 수지 65g, 하이드록시 에스터 (메타)아크릴레이트 모노머 6g, 광중합 개시제 2g, 무기충진제 20g, 실란 커플링제 3g, 열경화제로서 MDH(Malonic acid dihydrazide, 알드리치사 제품) 2g와 Amicure UR(에어 프러덕트사 제품) 2g, 소포제(BYK 141, BYK사 제품) 0.1g를 배합한 후 3-롤 밀로 충분히 밀링한 후, 필터를 하여 이물을 제거한 실란트 조성물을 수득하였다.65 g of partial (meth) acrylate epoxy resin, 6 g of hydroxy ester (meth) acrylate monomer, 2 g of photopolymerization initiator, 20 g of inorganic filler, 3 g of silane coupling agent, 2 g of MDH (Malonic acid dihydrazide, product of Aldrich) and Amicure as a thermosetting agent After mixing 2 g of UR (from Air Products) and 0.1 g of antifoaming agent (BYK 141, manufactured by BYK), the mixture was sufficiently milled with a three-roll mill, and then filtered to obtain a sealant composition from which foreign substances were removed.

비교예 4Comparative Example 4

부분 (메타)아크릴레이트 에폭시 수지 65g, 하이드록시 에스터 (메타)아크릴레이트 모노머 6g, 광중합 개시제 2g, 무기충진제 20g, 실란 커플링제 3g, 열경화제로서 MDH(Malonic acid dihydrazide, 알드리치사 제품) 2g와 Amicure UR(에어 프러덕트사 제품) 2g, 소포제(BYK 141, BYK사 제품) 0.05g를 배합한 후 3-롤 밀로 충분히 밀링한 후, 필터를 하여 이물을 제거한 실란트 조성물을 수득하였다65 g of partial (meth) acrylate epoxy resin, 6 g of hydroxy ester (meth) acrylate monomer, 2 g of photopolymerization initiator, 20 g of inorganic filler, 3 g of silane coupling agent, 2 g of MDH (Malonic acid dihydrazide, product of Aldrich) and Amicure as a thermosetting agent 2 g of UR (air product manufactured) and 0.05 g of antifoaming agent (BYK 141, manufactured by BYK) were blended and sufficiently milled with a 3-roll mill, followed by a filter to obtain a sealant composition from which foreign materials were removed.

실시예 1 및 비교예 1 내지 4에서 실란트 조성물을 수득하기 위하여 배합한 조성을 하기 표 1에 나타내었다.The compositions formulated to obtain the sealant compositions in Example 1 and Comparative Examples 1-4 are shown in Table 1 below.

[표 1]TABLE 1

레진Resin 필러filler PIPI 커플링제Coupling agent 경화제Hardener 소포제Antifoam 탈포Defoaming RA R A RB R B RC R C FA F A FB F B 광개시제Photoinitiator 실란화합물Silane compound CA C A CB C B 자전rotating 공전revolution 시간time 실시예1Example 1 32.532.5 32.532.5 66 1010 1010 22 33 22 22 750750 500500 30분30 minutes 비교예1Comparative Example 1 32.532.5 32.532.5 66 1010 1010 22 33 22 22 450450 100100 30분30 minutes 비교예2Comparative Example 2 32.532.5 32.532.5 66 1010 1010 22 33 22 22 비교예3Comparative Example 3 32.532.5 32.532.5 66 1010 1010 22 33 22 22 0.10.1 비교예4Comparative Example 4 32.532.5 32.532.5 66 1010 1010 22 33 22 22 0.050.05

상기 표 1에서, 모든 단위는 g이다. 레진(resin, 수지)으로는 RA, RB, RC를 혼합하여 사용하였는데, RA는 비스페놀 A-디글리시딜(diglycidyl) 화합물로 (메타)아크릴레이트기와 에폭시기의 몰비가 1:1인 부분 (메타)아크릴레이트 화합물이고, RB는 비스페놀 A-디글리시딜 화합물로 에폭시기 없이 (메타)아크릴레이트기만을 갖는 화합물이며, RC는 하이드록시 에스터 (메타)아크릴레이트 모노머이다. 필러(filler, 무기충진제)로는 FA 및 FB를 혼합하여 사용하였는데, FA는 SP-15(Osaka kasel사 제품)이고, FB는 Aerosil 200(데구사 제품)이다. PI(photo initiator, 광중합개시제)로는 TPO(Iracure TPO, Ciba사 제품)을 사용하였다. 커플링제로 사용된 실란 화합물은 Z-6040(다우코닝사 제품)이다. 열경화제로는 CA 및 CB를 혼합하여 사용하였는데, CA 는 MDH(Malonic acid dihydrazide, 알드리치사 제품)이고, CB는 Amicure UR(에어 프러덕트사 제품)이다.In Table 1 above, all units are g. Resin (resin) was used as a mixture of R A , R B , R C , R A is a bisphenol A- diglycidyl (diglycidyl) compound with a molar ratio of (meth) acrylate group and epoxy group of 1: 1 a partial (meth) acrylate compounds, R B is a compound having an epoxy (meth) acrylate deception without a bisphenol A- diglycidyl compound, R C is hydroxy ester (meth) acrylate monomer. As a filler (inorganic filler), F A and F B were mixed and used, F A is SP-15 (manufactured by Osaka kasel), and F B is Aerosil 200 (manufactured by Degus). As a PI (photo initiator, photopolymerization initiator), TPO (Iracure TPO, manufactured by Ciba) was used. The silane compound used as the coupling agent is Z-6040 (manufactured by Dow Corning). As a thermosetting agent, C A and C B were mixed and used, C A is MDH (Malonic acid dihydrazide, manufactured by Aldrich), and C B is Amicure UR (Air Products).

실란트 조성물의 특성 평가Characterization of Sealant Compositions

직선성 평가Linearity evaluation

상기 실시예 1 및 비교예 1 내지 4에서 수득한 실란트 조성물을 각각 세정한 ITO 유리기판(삼성코닝정밀유리 제품)의 테두리에 디스펜서(Shot master 300S, Musashi Engineering사 제품)중앙부에 도포하고, 동일한 유리기판을 그 위에 겹쳐 놓았다. UV경화(2000mJ/cm2)한 후에 열경화(120℃, 30min)하여 현미경으로 실테두리를 관찰하였다. 각각의 시편에 대하여 현미경을 사용하여 직선성을 평가하여, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.The sealant composition obtained in Example 1 and Comparative Examples 1 to 4 was applied to the center of the dispenser (Shot master 300S, manufactured by Musashi Engineering) on the edge of the cleaned ITO glass substrate (manufactured by Samsung Corning Precision Glass), and the same glass The substrate was superimposed on it. UV curing (2000mJ / cm 2 ) and then heat curing (120 ℃, 30min) to observe the frame border under a microscope. For each specimen, the linearity was evaluated using a microscope, and the results are shown in Table 2 below.

◎: 직선성 양호◎ good linearity

X : 직선성 불량X: Poor linearity

접착력 평가Adhesion Evaluation

상기 실시예 1 및 비교예 1 내지 4에서 수득한 실란트 조성물을 각각 세정한 ITO 유리기판(삼성코닝정밀유리 제품)의 중앙부에 도포하고, 동일한 유리기판을 그 위에 겹쳐 놓았다. UV경화(2000mJ/cm2)한 후에 열경화(120℃, 30min)하여 접착강도 측정용 시편을 제작하였다. 각각의 시편에 대하여 인장강도계(HK5T, Tinius Olsen사 제품)를 사용하여 접착력을 평가하여, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.The sealant compositions obtained in Example 1 and Comparative Examples 1 to 4 were respectively applied to the central portion of the cleaned ITO glass substrate (Samsung Corning Precision Glass), and the same glass substrate was superimposed thereon. After UV curing (2000mJ / cm 2 ) was thermally cured (120 ℃, 30min) to prepare a specimen for measuring the adhesive strength. Each specimen was evaluated for adhesive strength using a tensile strength meter (HK5T, manufactured by Tinius Olsen), and the results are shown in Table 2 below.

PCT(Pressure Cooker Test)Pressure Cooker Test (PCT)

상기 접착력 평가를 위하여 제작한 접착강도 측정용 시편을 121℃, 100%R.H., 2atm의 조건에서 6 시간 동안 보관한 후, 각각의 시편에 대하여 인장강도계를 사용하여 접착력을 평가하여, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.After the adhesive strength measurement specimens prepared for the evaluation of adhesion strength were stored for 6 hours at 121 ° C., 100% RH, and 2 atm, each specimen was evaluated for tensile strength using a tensile strength meter. It is shown in Table 2 below.

액정오염성(TLiquid crystal contamination (T N-1N-1 ))

상기 실시예 1 및 비교예 1 내지 4에서 수득한 실란트 조성물 각 1g을 취하여 앰플 병에 넣고, 이어서 액정 1g을 상기 앰플 병에 넣은 후 1 시간 동안 방치하였다. UV경화(2000mJ/cm2)한 후에 열경화(120℃, 30min)하고, DSC측정장치를 사용하여 승온 속도 5℃/min으로 각각의 샘플에 대한 TN-1값 및 블랭크 액정의 TN-1값을 측정하였다. 각 샘플의 TN-1값이 블랭크 액정의 TN-1값에 가까울수록 액정에 대한 오염이 적은 것이므로, 0.5℃ 이상의 값의 변화가 있는 경우에 불량으로 평가하였고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.1 g of each of the sealant compositions obtained in Example 1 and Comparative Examples 1 to 4 was taken into an ampoule bottle, and then 1 g of liquid crystal was placed in the ampoule bottle and left for 1 hour. UV curing (2000mJ / cm 2) after a thermal curing (120 ℃, 30min), and using a DSC measurement apparatus of T N-1 values and the blank liquid crystal for each sample at a heating rate of 5 ℃ / min T N- 1 value was measured. The closer the T N-1 value of each sample to the T N-1 value of the blank liquid crystal is, the less contamination is caused by the liquid crystal. Thus, when there is a change in the value of 0.5 ° C. or more, it was evaluated as a defect. Indicated.

저장안정성Storage stability

상기 실시예 1 및 비교예 1 내지 4에서 수득한 실란트 조성물을 실온에서 2 주 동안 보관한 후, 스핀들 점도계로 점도를 측정하였다. 2 주 후의 점도를 초기 점도와 비교하였을 때, 변화율이 100% 이내인 경우 양호, 100% 초과인 경우 불량으로 평가하였으며, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.After the sealant compositions obtained in Examples 1 and Comparative Examples 1 to 4 were stored at room temperature for 2 weeks, the viscosity was measured by a spindle viscometer. When the viscosity after two weeks compared with the initial viscosity, it was evaluated as good when the change rate is within 100%, poor when more than 100%, the results are shown in Table 2 below.

[표 2]TABLE 2

직선성Linearity 접착력Adhesion PCTPCT TNITNI 저장안정성Storage stability 기포bubble 들뜸Uplifting 직선성Linearity 1One 22 33 44 55 1One 22 33 44 55 실시예1Example 1 없음none 없음none 1.81.8 1.71.7 1.71.7 1.61.6 1.71.7 1.81.8 1.71.7 1.71.7 1.71.7 1.81.8 양호Good 양호Good 비교예1Comparative Example 1 있음has exist 있음has exist XX 1.71.7 1.81.8 1.41.4 1.21.2 1.01.0 1.61.6 1.81.8 0.90.9 1.01.0 1.01.0 양호Good 양호Good 비교예2Comparative Example 2 있음has exist 있음has exist XX 1.01.0 1.81.8 1.71.7 1.01.0 1.81.8 1.81.8 1.01.0 0.90.9 1.71.7 1.91.9 양호Good 양호Good 비교예3Comparative Example 3 있음has exist 있음has exist XX 1.01.0 1.41.4 1.21.2 1.01.0 0.90.9 1.01.0 1.11.1 1.01.0 0.90.9 0.80.8 불량Bad 불량Bad 비교예4Comparative Example 4 있음has exist 있음has exist XX 1.01.0 1.21.2 1.11.1 1.01.0 1.01.0 1.01.0 0.90.9 1.01.0 1.01.0 1.11.1 불량Bad 불량Bad

표 2를 참조하면, 본 발명의 실시예를 통하여 제조된 실란트 조성물이 비교예를 통하여 제조한 실란트 조성물과 비교하여 전반적으로 균일한 접착성능을 확보하고 있고, PCT조건 후의 접착력도 우수한 것으로 확인할 수 있다. Referring to Table 2, the sealant composition prepared through the Examples of the present invention as compared to the sealant composition prepared through the Comparative Example assures an overall uniform adhesive performance, it can be confirmed that the excellent adhesion after the PCT conditions. .

Claims (15)

액정 적하 공법에 사용되는 경화성 수지 조성물의 제조 방법으로서,As a manufacturing method of curable resin composition used for a liquid crystal dropping method, 상기 경화성 수지 조성물의 각 성분들을 혼합한 후에 필터를 통해 이물질을 제거한 후 탈포기를 이용하여 기포를 제거하는 공정을 포함하는 액정 적하 공법용 경화성 수지 조성물의 제조 방법.A method for producing a curable resin composition for a liquid crystal dropping method comprising the step of removing foreign matter through a filter after mixing the respective components of the curable resin composition, and then removing bubbles using a deaerator. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 탈포기를 이용하여 기포를 제거하는 공정은 상기 경화성 수지 조성물의 각 성분들의 혼합물을 탈포기에서 자전 및 공전시켜 탈포처리 하는 공정인 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물의 제조방법.The process of removing bubbles using the degassing machine is a process for degassing the mixture of the components of the curable resin composition by rotating and revolving in a degassing machine. 제2항에 있어서, The method of claim 2, 상기 자전은 500rpm 이상, 상기 공전은 200rpm 이상의 회전수(rpm)로 회전시키는 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물의 제조방법.The rotation is 500rpm or more, the revolving method of producing a curable resin composition, characterized in that for rotating at a rotational speed (rpm) of 200rpm or more. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 경화성 수지 조성물은 하기 화학식(1)로 표시되는 모노머를 포함하는 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물의 제조방법.The curable resin composition comprises a monomer represented by the following general formula (1). [화학식 1][Formula 1]
Figure 112009073894116-PAT00005
(1)
Figure 112009073894116-PAT00005
(One)
(상기 화학식(1)에서, X는 O, S 또는 NH이고, R1은 H 또는 CH3이며, R2는 C1-30의 알킬 또는 아릴기이다.)(In the formula (1), X is O, S or NH, R 1 is H or CH 3 , R 2 is an alkyl or aryl group of C 1-30 .)
제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 경화성 수지 조성물은 부분적으로 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 변성 에폭시 수지 100 중량부;The curable resin composition is 100 parts by weight of a modified epoxy resin partially containing (meth) acrylate group; 하기 화학식(1)으로 표시되는 모노머 5 내지 30 중량부;5 to 30 parts by weight of monomer represented by the following formula (1); 열경화제 1 내지 10 중량부; 및1 to 10 parts by weight of a thermosetting agent; And 광중합 개시제 1 내지 5 중량부를 포함하는 액정 적하 공법용 경화성 수지 조성물.Curable resin composition for liquid crystal dropping methods containing 1-5 weight part of photoinitiators. [화학식 1][Formula 1]
Figure 112009073894116-PAT00006
(1)
Figure 112009073894116-PAT00006
(One)
(상기 화학식 (1)에서, X는 O, S 또는 NH이고, R1은 H 또는 CH3이며, R2는 C1-30의 알킬 또는 아릴기이다.)(In the formula (1), X is O, S or NH, R 1 is H or CH 3 , R 2 is an alkyl or aryl group of C 1-30 .)
제4항 또는 제5항에 있어서, The method according to claim 4 or 5, 상기 R2는 에틸렌 글리콜, 글리세린, 소르비톨, 트리 메틸올 프로판, (폴리)프로필렌글리콜, 1,3-프로판 디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 폴리에틸렌 글리콜, 모노(메타)아크릴레이트, 트리 메틸올에탄, 트리 메틸올프로판, 디이소시아네이트, 톨릴렌 디이소시아네이트, 크실렌 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트, 톨리딘, 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 트리메틸헥사 메틸렌 디이소시아테이트, 카프로락톤 에틸에스터, N-3-아크릴옥시-2-하이드록시프로필)-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-[5-(트리메톡시 실릴)-2-1-옥소-펜틸]카프로락탐, O-(비닐옥시에틸)-N-(트리에톡시실릴프로필)우레탄, 감마-운데카락톤, 엡실론-카프로락톤, 감마-데카락톤, 알파-도데카락톤, 감마-노나락톤, 감마-노나노락톤, 감마-발레로락톤, 알파-발레로락톤, 베타, 부티로락톤, 감마-부티로락톤, 베타-프로피오락톤, 알파-헥사노락톤 및 7-부틸-2-옥세파논으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물의 제조방법.R 2 is ethylene glycol, glycerin, sorbitol, trimethylol propane, (poly) propylene glycol, 1,3-propane diol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, polyethylene glycol, mono (meth) acrylate , Trimethylolethane, trimethylolpropane, diisocyanate, tolylene diisocyanate, xylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, tolidine, diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, caprolactone ethyl ester , N-3-acryloxy-2-hydroxypropyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, N- [5- (trimethoxy silyl) -2-1-oxo-pentyl] caprolactam, O- ( Vinyloxyethyl) -N- (triethoxysilylpropyl) urethane, gamma-undecalactone, epsilon-caprolactone, gamma-decaractone, alpha-dodecaractone, gamma-nonalactone, gamma-nonanolactone, Gamma-Valerolactone, Alpha-Ballet Curable resin composition, characterized in that at least one selected from the group consisting of lactone, beta, butyrolactone, gamma-butyrolactone, beta-propiolactone, alpha-hexanolactone and 7-butyl-2-oxepanone Manufacturing method. 제4항 또는 제5항에 있어서, The method according to claim 4 or 5, 상기 경화성 수지 조성물은 무기 충진제, 요변성 조절제 및 실란 커플링제로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 첨가제를 10 내지 40 중량부로 더 포함하는 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물의 제조방법.The curable resin composition further comprises 10 to 40 parts by weight of at least one additive selected from the group consisting of an inorganic filler, a thixotropic regulator and a silane coupling agent. 제5항에 있어서, The method of claim 5, 상기 변성 에폭시 수지의 점도는 1000 내지 15000cps인 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물의 제조방법.The viscosity of the modified epoxy resin is a method for producing a curable resin composition, characterized in that 1000 to 15000cps. 제5항에 있어서, The method of claim 5, 상기 변성 에폭시 수지는 노블락형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 트리스 페놀 메탄형 에폭시 수지 및 비스페놀형 에폭시 수지로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상인 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물의 제조방법.The modified epoxy resin is a method for producing a curable resin composition, characterized in that at least one selected from the group consisting of a noblock type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, tris phenol methane type epoxy resin and bisphenol type epoxy resin. . 제5항에 있어서, The method of claim 5, 상기 열경화제로는 이미다졸 계열, 디히드라지드 계열 및 아민 계열로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물의 제조방법.The thermosetting agent is a method for producing a curable resin composition, characterized in that at least one member selected from the group consisting of imidazole series, dihydrazide series and amine series. 제5항에 있어서, The method of claim 5, 상기 광중합 개시제는 벤조인계 화합물, 아세토페논류, 벤조페논류, 티옥산톤류, 안트라퀴논류, α-아실옥심에스테르류, 페닐글리옥시레이트류, 벤질류, 아조계 화합물, 티페닐술피드계 화합물, 아실포스핀옥시계 화합물, 유기 색소계 화합물 및 철-프탈로시아닌계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물의 제조방법.The photopolymerization initiator is a benzoin compound, acetophenones, benzophenones, thioxanthones, anthraquinones, α-acyl oxime esters, phenylglyoxylates, benzyls, azo compounds, thiphenyl sulfide compounds And at least one selected from the group consisting of acylphosphineoxy compounds, organic dye compounds, and iron-phthalocyanine compounds. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 요변성 조절제는 메틸 셀룰로오스, 메틸에틸 케톤 퍼옥사이드, 산화폴리에틸렌 왁스, 변성 폴리프로필렌 에멀젼, 폴리아마이드 왁스, 유기(Organo) 클레이, 알킬 설페이트, 하이드록실 에틸셀룰로오스, 하이드록실 산 에스테르류, 폴리비닐 알코올, 폴리디메틸 실록산, 불포화 카르복실산 모노머류, 수산화 카르복실산 아마이드류, 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 알칼리 토금속 수산화물류 및 알칼리 토금속 탄산염류로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물의 제조방법.The thixotropic modifier is methyl cellulose, methyl ethyl ketone peroxide, polyethylene oxide wax, modified polypropylene emulsion, polyamide wax, organo clay, alkyl sulfate, hydroxyl ethyl cellulose, hydroxyl acid esters, polyvinyl alcohol , Polydimethyl siloxane, unsaturated carboxylic acid monomers, hydroxide carboxylic acid amides, ethylene glycol, diethylene glycol, alkaline earth metal hydroxides and alkaline earth metal carbonates. Manufacturing method. 제1항의 제조 방법으로 제조되고, 하기 화학식(1)로 표시되는 모노머를 포함하는 액정 적하 공법용 경화성 수지 조성물. Curable resin composition for liquid crystal dropping methods manufactured by the manufacturing method of Claim 1, and containing the monomer represented by following General formula (1). [화학식 1][Formula 1]
Figure 112009073894116-PAT00007
(1)
Figure 112009073894116-PAT00007
(One)
(상기 화학식(1)에서, X는 O, S 또는 NH이고, R1은 H 또는 CH3이며, R2는 C1-30의 알킬기 또는 C3-30의 아릴기이다.)(In the formula (1), X is O, S or NH, R 1 is H or CH 3 , R 2 is an alkyl group of C 1-30 or an aryl group of C 3-30 .)
부분적으로 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 변성 에폭시 수지 100 중량부, 하기 화학식(1)로 표시되는 모노머 5 내지 30 중량부, 열경화제 1 내지 10 중량부 및 광중합 개시제 1 내지 5 중량부를 포함하는 액정 표시 소자용 실란트 조성물.100 parts by weight of a modified epoxy resin containing a (meth) acrylate group, a liquid crystal comprising 5 to 30 parts by weight of a monomer represented by the following formula (1), 1 to 10 parts by weight of a thermosetting agent and 1 to 5 parts by weight of a photopolymerization initiator Sealant composition for display element. [화학식 1][Formula 1]
Figure 112009073894116-PAT00008
(1)
Figure 112009073894116-PAT00008
(One)
(상기 화학식(1)에서, X는 O, S 또는 NH이고, R1은 H 또는 CH3이며, R2는 C1-30의 알킬기 또는 C3-30의 아릴기이다.)(In the formula (1), X is O, S or NH, R 1 is H or CH 3 , R 2 is an alkyl group of C 1-30 or an aryl group of C 3-30 .)
제14항에 있어서, The method of claim 14, 상기 액정 표시 소자용 실란트 조성물은 1500mJ/cm2 이상에서 UV 경화하는 광경화 단계 및 70℃ 이상의 온도에서 열경화 하는 열경화 단계를 통하여 경화되는 것을 특징으로 하는 특징으로 하는 액정 표시 소자용 실란트 조성물.The sealant composition for a liquid crystal display device is a sealant composition for a liquid crystal display device, characterized in that it is cured through a photocuring step of UV curing at 1500mJ / cm 2 or more and a thermosetting step of thermosetting at a temperature of 70 ℃ or more.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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