KR20110058999A - Unit for purifying polluted water or liquid or gas using ultraviolet and device for purifying polluted water or liquid having the same - Google Patents

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KR20110058999A
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Abstract

PURPOSE: An ultraviolet ray-based treating unit and a water treating apparatus including the same are provided to effectively treat contaminants and pathogenic microorganism in contaminated raw water and gas by maximizing the generation of hydroxyl radial. CONSTITUTION: An ultraviolet ray-based treating unit(50) includes an ultraviolet ray-based treating tank. A hollow sleeve(521) is installed in the ultraviolet ray-based treating tank. An ultraviolet ray lamp(52) is installed in the sleeve and radiates ultraviolet ray. An oxygen gas supplying unit supplies oxygen gas into a space between the sleeve and the ultraviolet ray lamp. An ozone gas supplying unit moves between the sleeve and the ultraviolet ray lamp and supplies ozone gas generated from the ultraviolet ray into the ultraviolet ray treating tank.

Description

자외선처리유닛 및 이를 포함한 수처리장치{Unit for purifying polluted water or liquid or gas using ultraviolet and device for purifying polluted water or liquid having the same}Unit for purifying polluted water or liquid or gas using ultraviolet and device for purifying polluted water or liquid having the same}

본 발명은 자외선처리유닛 및 이를 포함한 수처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 자외선을 이용하여 처리대상인 오염된 원수나 가스를 정화하는 자외선처리유닛 및 이를 포함한 수처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to an ultraviolet treatment unit and a water treatment apparatus including the same, and more particularly, to an ultraviolet treatment unit for purifying contaminated raw water or gas by using ultraviolet rays and a water treatment apparatus including the same.

각종 산업체로부터 배출된 유기독성 화합물, 농약 등으로 인한 상수원 및 하천의 오염은 전세계적으로 커다란 문제점으로 대두되고 있으며, 이에 따라 수처리장치 및 수처리방법에 대한 관심이 나날이 증가하는 추세에 있다. 특히, 수중 미생물의 살균 처리에 대한 관심이 계속해서 증가하고 있다. Pollution of water sources and rivers due to organic toxic compounds, pesticides, etc. discharged from various industries has emerged as a major problem around the world, and accordingly, interest in water treatment devices and water treatment methods is increasing day by day. In particular, there is an increasing interest in the sterilization treatment of aquatic microorganisms.

종래의 수처리장치는 염소 소독의 부산물인 트리할로메탄(trihalomethane;THM) 생성 억제의 대안으로서 오존이 널리 사용되었고, 이러한 오존 기반의 고도산화공정을 이용한 수처리장치는 대한민국 특허 제320,604호 및 454,260호 등에 다양한 형태로 고안되었다. In the conventional water treatment apparatus, ozone is widely used as an alternative to suppression of trihalomethane (THM) generation, a by-product of chlorine disinfection, and the water treatment apparatus using the ozone-based advanced oxidation process is disclosed in Korean Patent Nos. 320,604 and 454,260. It is designed in various forms on the back.

그러나, 오존 기반의 고도산화공정을 이용한 수처리장치는 오존의 반응성을 충분히 확보하기 위해 상당히 큰 반응조가 필요하며 특히 반응시간을 충분히 확보해야 하는 한계가 있었다. 결국, 종래 오존을 이용한 고도산화공정 수처리장치에 있어서는 장치 설치 면적이 크게 필요하였으며 장치 가동에 비용이 많이 소요되는 문제점이 있었다. However, a water treatment apparatus using an ozone-based advanced oxidation process requires a fairly large reactor to sufficiently secure the reactivity of ozone, and in particular, there is a limit to secure a sufficient reaction time. As a result, in the conventional water treatment apparatus for the advanced oxidation process using ozone, a large device installation area is required, and there is a problem in that the operation of the device is expensive.

한편, 오존은 대다수 유기물(Geosmin, MIB 및 THM과 같은 포화탄화수소, 농약 등)과 느리게 반응하거나 반응을 전혀하지 않는 등 유기물과 매우 선택적으로 반응하며, pH, 온도 및 수중 무기염류 등 과 같은 처리공정 인자들로 인해 그 산화능력에 큰 영향을 받는 등 큰 결점을 가지는 것으로 알려져 있다. 이러한 오존의 결점을 극복하기 위한 노력으로서, 자외선을 기반으로하는 고도산화공정 수처리장치가 개발되었다. 이러한 자외선을 이용한 수처리장치는 대한민국 특허 제419,828호에 개시되어 있다. On the other hand, ozone reacts very selectively with organic materials, such as slow reactions with most organic materials (saturated hydrocarbons such as Geosmin, MIB and THM, pesticides, etc.) or no reaction at all, and processes such as pH, temperature and inorganic salts in water. Factors are known to have great drawbacks, such as being greatly affected by their oxidative capacity. In an effort to overcome the drawbacks of ozone, an ultraviolet-based advanced oxidation process water treatment apparatus has been developed. A water treatment apparatus using such ultraviolet rays is disclosed in Korean Patent No. 419,828.

그런데, 대한민국 특허 제419,828호에 개시된 수처리장치에 있어서는 다음과 같은 문제점이 있다. However, the water treatment apparatus disclosed in Korean Patent No. 419,828 has the following problems.

첫째, 수중의 무기성분 및 유기성분이 수처리 관로 내벽에 달라 붙게 되어 자외선 투과를 방해하게 된다. 그리고 이후에는 점차적으로 각종 미생물이 침착하면서, 미생물 유기체 및 분비물에 의해 수처리 관로의 내벽에 일정한 두께의 생물막(biofilm)이 형성되어 자외선에 의해 처리효과를 얻기가 어려운 문제점이 있다.First, the inorganic and organic components in the water cling to the inner wall of the water treatment pipe line, thereby obstructing ultraviolet transmission. Then, after gradually depositing various microorganisms, a biofilm having a predetermined thickness is formed on the inner wall of the water treatment pipeline by microbial organisms and secretions, making it difficult to obtain a treatment effect by ultraviolet rays.

둘째, 공기 중의 산소가 자외선에 의해 오존이 형성되며, 형성된 오존은 아무런 여과 과정없이 대기중으로 배출되어 인체에 악영향을 미치는 원인이 된다. 잘 알려진 바와 같이 대기 중에 0.1ppm 이상의 오존이 존재하는 경우에도 장기간 오존에 노출되면 천식 등 각종 호흡기 질병 등이 유발된다.Second, ozone is formed by ultraviolet rays of oxygen in the air, and the ozone formed is discharged into the atmosphere without any filtration process, which causes adverse effects on the human body. As is well known, even when ozone of 0.1 ppm or more is present in the atmosphere, prolonged exposure to ozone causes various respiratory diseases such as asthma.

셋째, 공기 중의 질소 기체는 자외선에 의해 질소산화물이 된다. 질소산화물은 잘 알려져 있는 바와 같이 그 자체로 인체에 유해한 물질이며 나아가 수분과 만나면 질산으로 전환되어 산성비를 형성한다. Third, nitrogen gas in the air becomes nitrogen oxides by ultraviolet rays. Nitrogen oxides, as is well known, are harmful to the human body, and when they encounter moisture, they are converted to nitric acid and form acid rain.

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위해서 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은, 높은 에너지를 가지는 자외선을 조사하여 산화력이 강한 하이드록실 라디칼(Hydroxyl Radical, OHㆍ)의 생성을 극대화함으로써 오염된 원수나 가스에 포함된 오염물 및 병원성 미생물을 보다 효과적으로 처리할 수 있을 뿐만 아니라 별도의 오존 기체 공급원 없이도 자외선 및 산소 기체의 반응을 통해서 오존 기체를 형성하고 형성된 오존 기체를 이용하여 오염물 및 병원성 미생물을 처리할 수 있으며, 나아가 자외선 조사에 의한 오존 기체의 형성시 질소산화물 등 별도의 오염물질이 발생하지 않도록 구조가 개선된 자외선처리유닛 및 이를 포함한 수처리장치를 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention is to contaminated raw water by maximizing the generation of oxidative hydroxyl radical (Hydroxyl Radical, OH. In addition to treating pollutants and pathogenic microorganisms contained in the gas more effectively, ozone gas can be formed through the reaction of ultraviolet rays and oxygen gas without using a separate ozone gas source, and the ozone gas formed can be used to treat contaminants and pathogenic microorganisms. In addition, to provide an ultraviolet treatment unit and a water treatment apparatus including the same, the structure is improved to prevent the generation of additional pollutants such as nitrogen oxides when forming ozone gas by ultraviolet irradiation.

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 자외선처리유닛은 자외선 처리탱크; 상기 자외선 처리탱크 내부에 설치되는 중공형상의 슬리브; 상기 슬리브 내부에 배치되며 자외선을 조사하는 자외선 램프; 상기 슬리브 및 자외선 램프 사이에 산소 기체를 공급하는 산소 기체 공급수단; 및 상기 슬리브 및 자외선 램프 사이에 유동하며 상기 자외선에 의해 형성되는 오존 기체를 포함하는 기체가 상기 자외선 처리탱크 내부에 공급되도록 상기 오존 기체를 공급하는 오존 기체 공급수단;을 구비하는 것을 특징으로 한다. In order to achieve the above object, the ultraviolet treatment unit according to the present invention is a ultraviolet treatment tank; A hollow sleeve installed inside the ultraviolet treatment tank; An ultraviolet lamp disposed inside the sleeve to irradiate ultraviolet rays; Oxygen gas supply means for supplying oxygen gas between the sleeve and the ultraviolet lamp; And ozone gas supply means for supplying the ozone gas to flow between the sleeve and the ultraviolet lamp and to supply a gas containing ozone gas formed by the ultraviolet light into the ultraviolet treatment tank.

또한, 본 발명에 따른 수처리장치는 처리대상인 원수를 압송하는 펌프; 상기 압송된 원수가 유입되며, 상기 유입된 원수에 자외선을 조사하여 상기 원수를 처리하는 자외선처리유닛; 상기 자외선처리유닛으로 유입되는 원수의 유속 및 유량 중 적어도 하나를 조절하는 원수 유출 조절모듈; 및 상기 원수 유출 조절모듈의 작동을 제어하는 제어기;를 구비하며, 상기 자외선처리유닛은, 자외선 처리탱크; 상기 자외선 처리탱크 내부에 설치되는 중공형상의 슬리브; 상기 슬리브 내부에 배치되며 자외선을 조사하는 자외선 램프; 상기 슬리브 및 자외선 램프 사이에 산소 기체를 공급하는 산소 기체 공급수단; 및 상기 슬리브 및 자외선 램프 사이에 유동하며 상기 자외선에 의해 형성되는 오존 기체를 포함하는 기체가 상기 자외선 처리탱크 내부에 공급되도록 상기 오존 기체를 공급하는 오존 기체 공급수단;을 구비하는 것을 특징으로 한다. In addition, the water treatment apparatus according to the present invention includes a pump for pumping raw water to be treated; An ultraviolet treatment unit for introducing the transported raw water and treating the raw water by irradiating the introduced raw water with ultraviolet rays; Raw water outflow control module for adjusting at least one of the flow rate and the flow rate of the raw water flowing into the ultraviolet treatment unit; And a controller for controlling the operation of the raw water discharge control module, wherein the ultraviolet treatment unit comprises: an ultraviolet treatment tank; A hollow sleeve installed inside the ultraviolet treatment tank; An ultraviolet lamp disposed inside the sleeve to irradiate ultraviolet rays; Oxygen gas supply means for supplying oxygen gas between the sleeve and the ultraviolet lamp; And ozone gas supply means for supplying the ozone gas to flow between the sleeve and the ultraviolet lamp and to supply a gas containing ozone gas formed by the ultraviolet light into the ultraviolet treatment tank.

본 발명에 따르면, 자외선에 의해 산화력이 강한 하이드록실 라디칼(Hydroxyl Radical, OHㆍ)뿐만 아니라 산화력이 강한 오존 기체를 다량 형성할 수 있으며, 형성된 하이드록실 라디칼 및 오존 기체를 이용하여 오염된 원수이나 가스에 포함된 오염물 및 병원성 미생물을 효과적으로 처리할 수 있게 된다. According to the present invention, it is possible to form a large amount of oxidizing ozone gas as well as oxidizing hydroxyl radical (OH ·) by ultraviolet light, and the raw water or gas contaminated using the formed hydroxyl radical and ozone gas Effectively treat contaminants and pathogenic microorganisms contained in.

또한, 자외선이 산소 기체에만 조사되므로, 질소산화물 등과 같은 추가적인 오염물질이 발생하지 않게 된다. In addition, since ultraviolet rays are irradiated only to oxygen gas, no additional contaminants such as nitrogen oxides are generated.

그리고, 슬리브의 외주면에 이물질이나 각종 오염물질이 부착되더라도 이를 효과적으로 클리닝할 수 있으므로, 자외선이 슬리브 및 자외선 램프 사이 또는 자외선 처리탱크 내부로 효과적으로 조사되도록 할 수 있다. In addition, even if foreign matters or various contaminants are attached to the outer circumferential surface of the sleeve, it can be effectively cleaned, so that the ultraviolet rays can be effectively irradiated between the sleeve and the ultraviolet lamp or inside the ultraviolet treatment tank.

또한, 사용자는 자외선 처리탱크 내부로 유입된 물의 pH를 조절할 수 있으므로, 하이드록실 라디칼이 보다 효과적으로 형성하여 오염된 물이나 기체를 보다 효과적으로 정화할 수 있게 된다. In addition, since the user can adjust the pH of the water introduced into the ultraviolet treatment tank, hydroxyl radicals can be formed more effectively to more effectively purify contaminated water or gas.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 수처리장치의 개략적인 구성도이고, 도 2는 도 1에 도시된 수처리장치의 제어과정을 설명하기 위한 개략적인 블록도이며, 도 3은 도 1에 도시된 자외선처리유닛의 상세도이다. 1 is a schematic configuration diagram of a water treatment apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a schematic block diagram illustrating a control process of the water treatment apparatus shown in Figure 1, Figure 3 is shown in Figure 1 Is a detailed view of the ultraviolet treatment unit.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 실시예의 수처리장치(100)는 펌프(10)와, 여과탱크(20)와, 버퍼탱크(30)와, 원수 유출 조절모듈(40)과, 자외선처리유닛(50)과, 수소이온농도 조절유닛(60)과, 처리원수 저장탱크(70)와, 밸브(80)와, 제어기(90)를 구비한다. 1 to 3, the water treatment apparatus 100 of the present embodiment includes a pump 10, a filtration tank 20, a buffer tank 30, a raw water discharge control module 40, and an ultraviolet treatment unit. 50, a hydrogen ion concentration adjusting unit 60, a raw water storage tank 70, a valve 80, and a controller 90 are provided.

펌프(10)는 처리대상, 예를 들어 오염된 물이나 폐수인 원수를 압송한다. 펌프(10)는 여과탱크(20)의 전단에 설치되며 원수가 여과탱크(20)로 유입되도록 작동한다. The pump 10 pumps raw water, which is to be treated, for example, contaminated water or wastewater. The pump 10 is installed at the front end of the filtration tank 20 and operates so that raw water flows into the filtration tank 20.

여과탱크(20)는 펌프(10)에 의해 압송된 원수가 유입되며, 유입된 원수는 여과탱크(20)에서 여과된 후에 여과탱크로부터 유출된다. 여과탱크(20)의 내부에는 원수를 여과할 수 있는 필터(미도시)가 설치되어 있다. 필터로는, 원수에 존재하는 거대 부유물질이나 미생물을 1차적으로 여과하는 거대필터 그리고 조대 부유물질이나 미생물을 2차적으로 여과하는 조대필터가 구비되는 것이 바람직하다. 그리고, 필터에 따라 여과 성능이 조절되며, 필터의 막힘을 사전에 방지하기 위해서는 필터를 주기적으로 교환하거나 필터를 주기적으로 세척하는 것이 바람직하다. 특히, 필터의 세척을 위해서는 별도의 필터 세척기(미도시)가 구비되어야 한다. The filtration tank 20 is fed with the raw water conveyed by the pump 10, the introduced raw water is filtered out of the filtration tank 20 and then flows out of the filtration tank. Inside the filtration tank 20, a filter (not shown) capable of filtering raw water is provided. The filter is preferably provided with a giant filter for primarily filtering the giant suspended substances or microorganisms present in the raw water and a coarse filter for secondaryly filtering the giant suspended substances or microorganisms. The filtration performance is adjusted according to the filter, and in order to prevent clogging of the filter in advance, it is preferable to periodically replace the filter or periodically wash the filter. In particular, a separate filter cleaner (not shown) should be provided to clean the filter.

버퍼탱크(30)는 연결라인(1)을 통해서 여과탱크(20)와 연결된다. 버퍼탱크(30)에는 여과탱크(20)에서 여과된 원수가 유입되어 저장되며, 저장된 원수는 버퍼탱크(30)로부터 유출된다. 원수의 유출은 별도로 설치된 펌프(미도시)의 작동에 의해 이루어질 수 있다. 또한, 버퍼탱크(30)내의 원수가 일정 수위 이상 저장되면, 저장된 원수가 자연스럽게 유출될 수 있도록 버퍼탱크(30)에 유출구(미도시)를 일정 수위 높이에 형성할 수도 있다. 한편, 버퍼탱크(30)는 필요에 따라서는 구비되지 않을 수도 있으며, 버퍼탱크(30)가 구비되는 경우 버퍼탱크(30)는 일정 수위 이상의 원수를 유지하여 원수가 일정한 유량으로 배출될 수 있도록 하는 버퍼로서 기능 한다. The buffer tank 30 is connected to the filtration tank 20 through the connection line (1). The raw water filtered by the filtration tank 20 flows into the buffer tank 30, and the stored raw water flows out of the buffer tank 30. Outflow of raw water may be achieved by the operation of a pump (not shown) installed separately. In addition, when the raw water in the buffer tank 30 is stored above a certain level, an outlet (not shown) may be formed in the buffer tank 30 at a predetermined level so that the stored raw water may flow out naturally. On the other hand, the buffer tank 30 may not be provided if necessary, when the buffer tank 30 is provided, the buffer tank 30 is to maintain the raw water above a certain level so that the raw water can be discharged at a constant flow rate Function as a buffer.

원수 유출 조절모듈(40)은 버퍼탱크(30)로부터 유출되는 원수의 유속 및 유량 중 적어도 하나를 조절한다. 원수 유출 조절모듈(40)은 대한민국 공개특허 제2008-81464호에 개시되어 있는 질량유량제어기(Mass Flow Controller) 또는 유량 조절이 전자적으로 가능한 전자밸브 등으로 구성될 수 있으며, 이와 같이 질량유량제어기나 전자밸브로 구성되면, 유출되는 원수의 유속 및 유량을 모두 제어할 수 있게 된다. 원수 유출 조절모듈(40)은 버퍼탱크(30)에 직접적으로 결합될 수도 있으며, 후술하는 버퍼탱크(30) 및 자외선 처리탱크(51)를 연결하는 연결라인(2)에 결합될 수도 있다. 한편, 경우에 따라서는 버퍼탱크(30)가 구비되지 않을 수도 있으며, 이러한 경우에는 원수 유출 조절모듈(40)은 여과탱크(20) 및 자외선 처리탱 크(51)를 연결하는 배관에 결합된다.Raw water outflow control module 40 adjusts at least one of the flow rate and flow rate of the raw water flowing out from the buffer tank (30). Raw water outflow control module 40 may be composed of a mass flow controller (Mass Flow Controller) disclosed in the Republic of Korea Patent Publication No. 2008-81464 or an electronic valve capable of electronically controlling the flow, such as the mass flow controller If the solenoid valve is configured, it is possible to control both the flow rate and the flow rate of the outflowing raw water. The raw water outflow control module 40 may be directly coupled to the buffer tank 30, or may be coupled to a connection line 2 connecting the buffer tank 30 and the ultraviolet treatment tank 51 to be described later. Meanwhile, in some cases, the buffer tank 30 may not be provided. In this case, the raw water outflow control module 40 is coupled to the pipe connecting the filtration tank 20 and the ultraviolet treatment tank 51.

원수 유출 조절모듈(40)은 연결라인(2)의 내주면이나 후술하는 자외선 처리탱크(51), 특히 내부탱크의 내측면이 여과탱크(20)로부터 유입되는 격렬한 원수에 의해 부식되거나 후술하는 슬리브(521)가 파손되는 것을 방지한다. 또한, 원수 유출 조절모듈(40)은 원수가 균일하게 유출되도록 하여 자외선 처리탱크(51)로 균일한 원수가 유입되도록 하는 역할도 한다. Raw water outflow control module 40 is the inner circumferential surface of the connection line (2) or the ultraviolet treatment tank 51 to be described later, in particular the inner surface of the inner tank is corroded by the intense raw water flowing from the filtration tank 20 or the sleeve (described later) 521 is prevented from being broken. In addition, the raw water outflow control module 40 serves to allow the raw water to flow out evenly to the UV treatment tank 51.

자외선처리유닛(50)은 원수에 자외선을 조사하여 원수를 처리하기 위한 것이다. 자외선처리유닛(50)은 자외선 처리탱크(51)와, 자외선 램프(52)와, 산소 기체 공급수단과, 오존 기체 공급수단과, 클리닝부재(55)와, 구동수단(미도시)을 포함한다.The ultraviolet treatment unit 50 is for treating the raw water by irradiating the ultraviolet light to the raw water. The ultraviolet treatment unit 50 includes an ultraviolet treatment tank 51, an ultraviolet lamp 52, an oxygen gas supply means, an ozone gas supply means, a cleaning member 55, and a driving means (not shown). .

자외선 처리탱크(51)에는 원수 유출 조절모듈(40)로부터 유속 및 유량이 제어된 원수가 유입되며, 자외선 처리탱크(51)에서는 자외선이 조사되어 원수가 정화되어 처리된다. 자외선 처리탱크(51)는 2중 구조로 구성되는데, 특히 외부탱크(511) 및 외부탱크 내부에 배치되는 내부탱크(512)로 구성된다. 외부탱크(511)는 금속 또는 강화 플라스틱 소재로 이루어진다. 내부탱크(512)에는 원수가 유입되는 유입포트(512a) 및 원수가 유출되는 유출포트(512b)가 형성된다. 유입포트(512a) 및 유출포트(512b)는 외부탱크(511) 외부에 돌출되게 형성된다. 그리고, 버퍼탱크(30)와 자외선 처리탱크(51)를 연결하는 연결라인(2)은 유입포트(512a)에 결합되며, 이에 따라 유속 및 유량이 제어된 원수는 내부탱크(512)로 유입된다. 또한, 유출포트(512b)에도 연결라인(3)이 결합되어 있으며, 이에 따라 저장된 원수 는 자외선 처리 후에 유출된다. 내부탱크(512)는 금속 소재, 특히 자외선이 잘 반사될 수 있도록 하는 금속 소재, 예를 들어 알루미늄 또는 스테인리스 스틸 또는 이산화티타늄로 이루어지거나 이들 중 어느 하나를 포함하는 금속 소재로 이루어지는 것이 바람직하다.The raw water in which the flow rate and flow rate are controlled is introduced from the raw water discharge control module 40 into the ultraviolet ray treatment tank 51, and the ultraviolet ray is irradiated from the ultraviolet ray treatment tank 51 to purify the raw water. The ultraviolet treatment tank 51 is composed of a double structure, in particular the outer tank 511 and the inner tank 512 disposed inside the outer tank. The outer tank 511 is made of metal or reinforced plastic material. The inner tank 512 has an inlet port 512a through which raw water flows in and an outlet port 512b through which raw water flows out. The inlet port 512a and the outlet port 512b are formed to protrude outside the outer tank 511. And, the connection line 2 for connecting the buffer tank 30 and the ultraviolet treatment tank 51 is coupled to the inlet port (512a), and thus the raw water controlled flow rate and flow rate is introduced into the inner tank (512). . In addition, the connection line 3 is also coupled to the outflow port 512b, and thus the stored raw water is discharged after the ultraviolet treatment. The inner tank 512 is preferably made of a metal material, in particular a metal material such that ultraviolet rays can be reflected well, for example, made of aluminum or stainless steel or titanium dioxide, or a metal material including any one of them.

자외선 램프(52)는 자외선 처리탱크(51)의 내부에 설치된다. 특히, 자외선 램프(52)의 대부분은 내부탱크(512)의 내부에 배치되며, 자외선 램프(52)의 단부는 내부탱크(512)로부터 돌출되어 외부탱크(511) 및 내부탱크(512) 사이에 배치된다. 자외선 램프(52)의 단부에는 전원을 인가하기 위한 단자가 형성되며, 단자는 원수가 저장되는 내부탱크(512)의 외부에 배치되는 것이 바람직한데, 이는 원수 자체 또는 원수와 자외선의 반응시에 합선이나 작동 불량 등의 문제를 원천적으로 차단하기 위함이다. The ultraviolet lamp 52 is installed inside the ultraviolet treatment tank 51. In particular, most of the ultraviolet lamp 52 is disposed inside the inner tank 512, the end of the ultraviolet lamp 52 protrudes from the inner tank 512 between the outer tank 511 and the inner tank 512. Is placed. At the end of the ultraviolet lamp 52, a terminal for applying power is formed, and the terminal is preferably disposed outside the inner tank 512 in which raw water is stored, which is short-circuit when the raw water itself or the reaction between the raw water and the ultraviolet ray occurs. This is to prevent problems such as failure or malfunction.

자외선 램프(52)는 일방향으로 길게 형성되며, 자외선을 조사한다. 특히, 자외선 램프(52)는 진공자외선을 조사하는 진공자외선 램프로 구성되는 것이 바람직하다. 자외선은 일반적으로 파장별로 UV-A, UV-B 및 UV-c로 구별되며 각각 파장이 320 ~ 400nm, 280 ~ 320nm 및 254~ 280nm이며, 진공자외선은 일반 자외선과 달리 파장이 더 작아 155 ~ 260nm이 된다. 그런데, 물 분자가 분해되는 파장은 190nm에 해당 한다. 따라서, 물 분자를 보다 효과적으로 분해하기 위해서는 190nm 정도의 파장인 자외선, 즉 진공자외선을 조사되는 것이 바람직하다. 진공자외선은 원수에 잔존하는 미생물 등 유기체 및 유해 화합물 등의 유기물을 동시에 처리한다. The ultraviolet lamp 52 is formed long in one direction and irradiates ultraviolet rays. In particular, it is preferable that the ultraviolet lamp 52 is comprised with the vacuum ultraviolet ray lamp which irradiates a vacuum ultraviolet ray. Ultraviolet rays are generally classified into UV-A, UV-B, and UV-c by wavelength, and have wavelengths of 320 to 400 nm, 280 to 320 nm, and 254 to 280 nm, respectively, and vacuum ultraviolet rays have smaller wavelengths than general ultraviolet rays, 155 to 260 nm. Becomes However, the wavelength at which water molecules are decomposed corresponds to 190 nm. Therefore, in order to decompose water molecules more effectively, it is preferable to irradiate ultraviolet rays, that is, vacuum ultraviolet rays, having a wavelength of about 190 nm. Vacuum ultraviolet rays simultaneously treat organic substances such as microorganisms remaining in raw water and organic substances such as harmful compounds.

진공자외선 램프(52)는 일반적으로 파장 범위가 150nm 내지 260nm에 이르는 영역으로 되어 있으며, 에너지 세기가 가장 높은 최고 파장은 약 172 ~ 185 nm 및 254nm 라고 할 수 있다. 특히, 172nm ~ 185 nm의 파장대는 물 분자가 가장 효과적으로 흡수하는 파장대로써, 이러한 파장대의 진공자외선은 물을 효과적으로 분해할 수 있으며, 이에 따라 물이 분해되어 반응성이 강한 라디칼 화학종이 생성된다. 따라서, 자외선의 강력한 조사와 더불어 이들 라디칼 화학종은 원수 중의 미생물 등 유기체를 살균 또는 소독하거나 원수 내에 포함된 유기성 오염물을 파괴하거나 제거 하는데 있어 강력한 상승 효과를 발휘하게 된다. 이는 수용액 상에서 물 분자가 갖는 물리 화학적 특성에 기인하는 것으로서, 이하에서 설명되는 진공자외선 빛 에너지에 의한 물 분자의 반응 기작에서 비롯된다. 진공자외선 영역인 파장 190nm 이하에서는 물 분자가 분해되어 아래 <반응식 1> 내지 <반응식 3>과 같이 변화된다. The vacuum ultraviolet ray lamp 52 generally has a wavelength range of 150 nm to 260 nm, and the highest wavelengths having the highest energy intensity may be about 172 to 185 nm and 254 nm. In particular, the wavelength band of 172nm to 185nm is the wavelength band that the water molecules absorb most effectively, and the vacuum ultraviolet rays of such wavelength band can effectively decompose the water, thereby decomposing the water to generate radical species with high reactivity. Therefore, in addition to the strong irradiation of ultraviolet rays, these radical species have a strong synergistic effect in sterilizing or disinfecting organisms such as microorganisms in raw water or destroying or removing organic contaminants contained in raw water. This is due to the physical and chemical properties of the water molecules in the aqueous solution, and originates from the reaction mechanism of the water molecules by the vacuum ultraviolet light energy described below. Water molecules are decomposed at wavelengths of 190 nm or less, which are vacuum ultraviolet rays, and are changed as shown in <Scheme 1> to <Scheme 3>.

H2O + VUV → ㆍOH + HㆍH 2 O + VUV → OH + H

Hㆍ + O2 → HO2H + O 2 → HO 2

HO2ㆍ ↔ O2 -ㆍ + H+ HO 2 and ↔ O 2 - and H + +

또한, 이 파장대 영역에서는 산소 기체에 의한 반응도 동반되어 또 다른 상 승효과도 기대할 수 있다. 즉, 산소 기체가 진공자외선 영역의 빛 에너지를 흡수하여 반응에 참여함으로써 삼중항(triplet, O(3P))와 산소원자 단일항(singlet, O(1D))산소원자로 분해되며, 생성된 이들 산소원자들이 다시 산소 기체와 반응하여 아래 <반응식 4> 내지 <반응식 5>과 같이 변화되어 오존 기체를 생성하게 된다. 여기서, 산소 기체는 원수에 녹아 있을 수도 있으며 후술하는 산소 기체 공급수단에 의해 자외선 램프(52) 및 슬리브(521)에 공급된 것일 수 있다. In addition, in this wavelength range, reaction with oxygen gas is accompanied, and further synergistic effect can be expected. That is, the oxygen gas is decomposed triplet (triplet, O (3 P) ) with the oxygen atoms singlet (singlet, O (1 D) ) of oxygen atoms by participating in the reaction by absorbing light energy of the vacuum ultraviolet region, and the resulting These oxygen atoms are again reacted with oxygen gas to change as shown in <Scheme 4> to <Scheme 5> to generate ozone gas. Here, the oxygen gas may be dissolved in raw water and may be supplied to the ultraviolet lamp 52 and the sleeve 521 by the oxygen gas supply means described later.

O2 + VUV → O(3P) + O(1D)O 2 + VUV → O ( 3 P) + O ( 1 D)

O2 + O(3P) → O3 O 2 + O ( 3 P) → O 3

이와 같이 <반응식 1> 내지 <반응식 5>에 따른 반응과정에서는, 반응성이 매우 뛰어난 다양한 라디칼 화학종들이 생성된다. 즉 수산화 라디칼 (hydroxyl radical, ㆍOH), 하이드로페록시 라디칼(hydroperoxyl radical, HO2ㆍ), 슈퍼옥사이드 음이온 라디칼 (superoxide anion radical, O2 -ㆍ), 단일항 산소원자나 삼중항 산소원자, 오존이 생성된다. 그리고, 이들 라디칼 화학종들은 진공자외선 빛 에너지와 더불어 원수 중의 미생물 유기체 등을 살균 내지 파괴함과 동시에 유기성 오염물도 효과적으로 분해한다. As described above, in the reaction process according to <Scheme 1> to <Scheme 5>, various radical species having excellent reactivity are produced. Namely hydroxyl radical (hydroxyl radical, and OH), hydro-peroxy radical (hydroperoxyl radical, HO 2 and), superoxide anion radical (superoxide anion radical, O 2 - and), singlet oxygen atoms and triplet oxygen, ozone Is generated. These radical species, together with the vacuum ultraviolet light energy, sterilize or destroy microorganisms in raw water, and at the same time, effectively decompose organic contaminants.

또한, 상기와 같은 뛰어난 효과와 더불어 오존 기체도 생성되며, 생성된 오존 기체는 상기의 라디칼 화학종과 더불어 상당한 상승효과를 발휘한다. 이는 수용액상에서 오존이 갖는 물리 화학적 특성에 기인하는 것으로서, 이하에서 설명되는 오존의 수중에서의 반응 기작에서 비롯된다. 오존은 수중에서 아래 <반응식 6> 내지 <반응식 9>과 같이 변화된다. In addition, ozone gas is generated in addition to the above excellent effects, and the generated ozone gas exhibits a significant synergistic effect with the radical species. This is attributable to the physicochemical properties of ozone in aqueous solution, which originates from the reaction mechanism of ozone in water described below. Ozone is changed in water as in <Scheme 6> to <Scheme 9> below.

O3 + OH- → O2 -ㆍ + O2 + H+ O 3 + OH - → O 2 - and O 2 + H + +

O3 + O2 -ㆍ→ O3 -ㆍ + O2 O 3 + O 2 - and → O 3 - + O 2 and

O3 -ㆍ → O-ㆍ + O2 O 3 - and O → - + O 2 and

O-ㆍ + H+ ↔ ㆍOH O - and H + + OH ↔ and

이때 <반응식 6>의 2차 반응속도 상수값으로 약 70 M-1 s-1 정도이며, 이러한 2차 반응속도 상수값은 <반응식 6>의 반응이 개시 반응으로써 매우 느리다는 것을 의미한다. 그리고, <반응식 6>에서 생성된 슈퍼옥사이드 음이온 라디칼 (superoxide anion radical, O2 -ㆍ)은 <반응식 7>에서와 같이 오존과 반응하게 되는데, 이때의 2차 반응속도 상수값은 1.52 × 109 M-1s-1이며, 이는 <반응식 7>의 반응이 매우 짧은 시간 내에 일어나게 되는 것을 의미한다. 그리고, <반응식 7>의 반응에 있어서, 슈퍼옥사이드 음이온 라디칼의 존재 형태나 그 운명은 <반응식 3>에서와 같이 수중의 pH 값에 따른 평형관계(pKHO2 = 4.8)에 있다. 즉, <반응식 3>의 반응은 pH에 따른 산-염기 평형에 따라 정반응 및 역반응의 우세 정도가 다르다. 예를 들어, pH 4.8 이하에서는 정반응이 우세하여 주로 하이드로페록시 라디칼(hydroperoxyl radical, HO2ㆍ)이 존재하나, pH 4.8 이상에서는 역반응이 우세하여 주로 슈터옥사이드 음이온 라디칼이 존재한다. 결국, pH가 4.8 이상이 되면, 슈퍼옥사이드 음이온 라디칼이 다량 존재하게 되며, 슈퍼옥사이드 음이온 라디칼은 앞선 반응식들에서 기술된 반응을 통해서 강산화제인 수산화라디칼로 변화하게 되므로, 결국 원수를 효과적으로 처리시킬 수 있게 된다. At this time, the second reaction rate constant of <Scheme 6> is about 70 M −1 s −1 , which means that the reaction of <Equation 6> is very slow as an initial reaction. In addition, the superoxide anion radical (O 2 ·) generated in <Scheme 6> reacts with ozone as in <Scheme 7>, wherein the second rate constant constant is 1.52 × 10 9 M −1 s −1 , which means that the reaction of Scheme 7 occurs within a very short time. In addition, in the reaction of <Scheme 7>, the presence form and the fate of the superoxide anion radical are in equilibrium relation (pK HO2 = 4.8) according to the pH value in water as in <Scheme 3>. In other words, the reaction of <Equation 3> is different in the degree of predominant reaction and reverse reaction depending on the acid-base equilibrium according to the pH. For example, pH 4.8 or less in the forward reaction is dominant mainly in the hydro-peroxy radical (hydroperoxyl radical, and HO 2) are present one, pH 4.8 over the reverse reaction is dominant mainly exists shooter oxide anion radicals. Eventually, when the pH is 4.8 or more, a large amount of superoxide anion radicals are present, and the superoxide anion radicals are converted into a strong oxidizing radical, which is a strong oxidant, through the reactions described in the previous schemes, thereby effectively treating raw water. Will be.

<반응식 6> 내지 <반응식 9>는 오존과 슈퍼옥사이드 음이온 라디칼간의 신속한 반응에 의해 강력한 산화제인 수산화라디칼(hydroxyl radical, ㆍOH)이 생성되는 반응을 나타낸다. <Scheme 6> to <Scheme 9> show a reaction in which a strong oxidizing radical (hydroxyl radical, OH) is produced by rapid reaction between ozone and superoxide anion radical.

또한, <반응식 2>과 <반응식 3>에서와 같이 형성된 하이드로페록시라디칼과 슈퍼옥사이드 음이온 라디칼간의 불균등화 반응(disproportionation)에 따라 HO2ㆍ 대 HO2ㆍ 및 HO2ㆍ 대 O2 -ㆍ 간의 반응들은 상대적으로 빠르게 일어나게 되면, 아래 <반응식 10> 및 <반응식 11>과 같은 반응이 발생하게 되어 과산화수소(hydrogen peroxide, H2O2)가 생성된다. 반면에 O2 -ㆍ 대 O2 -ㆍ 간의 반응은 거의 무시할 정도 매우 느리게 진행된다. In addition, <Reaction formula 2> and <Scheme 3> is formed as in the hydro-peroxy radical and superoxide according to the disproportionation reaction (disproportionation) between the anion radical HO 2 and about HO 2 and and HO 2 and for O 2 - between and When the reactions occur relatively quickly, reactions such as <Reaction Scheme 10> and <Reaction Scheme 11> occur to generate hydrogen peroxide (H 2 O 2 ). On the other hand, O 2 - and for O 2 - and is very slow reaction between almost negligible.

HO2ㆍ + HO2ㆍ → H2O2 + O2 HO 2 ㆍ + HO 2 ㆍ → H 2 O 2 + O 2

HO2ㆍ+O2 -ㆍ+ H+ → H2O2 +O2 And HO 2 + O 2 - and + H + → H 2 O 2 + O 2

상기와 같은 반응들을 통하여 과산화수소는 매우 중요한 역할을 수행하게 된다. <반응식 12>에서와 같이 생성된 과산화수소는 조사되는 자외선 파장에 의해 분해되며 1 몰의 과산화수소 분해시 2 몰의 수산화라디칼을 생성하게 된다. 앞서 언급한 바와 같이, 생성된 수산화라디칼은 조사되는 자외선 에너지, 특히 진공자외선 파장의 자외선 에너지와 더불어 원수에 포함된 미생물 등의 유기체와 유기성 오염물의 처리에 적용된다. Through such reactions, hydrogen peroxide plays a very important role. Hydrogen peroxide produced as in <Reaction Scheme 12> is decomposed by the ultraviolet wavelength irradiated and generates 2 moles of radicals when 1 mole of hydrogen peroxide is decomposed. As mentioned above, the generated radicals are applied to the treatment of organic contaminants and organic contaminants, such as microorganisms contained in raw water, together with the ultraviolet energy to be irradiated, in particular the ultraviolet energy of vacuum ultraviolet wavelength.

H2O2 + 자외선 → 2ㆍOHH 2 O 2 + UV → 2, OH

한편, 과산화수소는 <반응식 10> 및 <반응식 11>로부터 자연스럽게 생성되는 것으로서 별도의 과산화수소 공급원 없이도 자외선 처리탱크의 내부탱크(511)에 공급된다. 또한, 오존 기체는 <반응식 5>로부터 자연스럽게 생성되는 것으로서 별도의 오존 공급원 없이도 자외선 처리탱크의 내부탱크(511)에 공급된다. On the other hand, hydrogen peroxide is naturally generated from <Reaction Scheme 10> and <Reaction Scheme 11> is supplied to the inner tank 511 of the ultraviolet treatment tank without a separate hydrogen peroxide source. In addition, ozone gas is naturally generated from <Scheme 5> and is supplied to the inner tank 511 of the ultraviolet treatment tank without a separate ozone source.

반면에, <반응식 4>와 <반응식 5>에서와 같이, 진공자외선 램프 가동시 산소 기체로부터 오존 기체가 생성된다. 이때 생성되는 오존 기체는 두 가지 형태가 있다. 즉, 한 종류의 오존 기체는 원수내 존재하는 용존 내지 기포 형태로 존재하는 산소분자에 의해 생성된다. 나머지 다른 종류의 오존 기체는 자외선 램프(52) 및 슬리브(521) 사이의 공간으로 공급되는 산소 기체가 자외선으로부터 에너지를 받아 생성된다. 그리고, 자외선 램프(52) 및 슬리브(521) 사이에서 형성되는 오존 기체는 원수의 정화에 사용된다. On the other hand, as in <Reaction Scheme 4> and <Reaction Scheme 5>, ozone gas is generated from oxygen gas when the vacuum ultraviolet lamp is operated. The ozone gas produced at this time is of two types. That is, one type of ozone gas is produced by oxygen molecules present in the form of dissolved to bubbles present in raw water. The other kind of ozone gas is generated by the oxygen gas supplied to the space between the ultraviolet lamp 52 and the sleeve 521 by receiving energy from the ultraviolet light. And ozone gas formed between the ultraviolet lamp 52 and the sleeve 521 is used for the purification of raw water.

그리고, 앞서 설명한 바와 같이 내부탱크(512)가 이산화티타늄으로 형성되는 경우에는, 자외선 조사시 이산화티타늄에 의해서 <반응식 13> 내지 <반응식 17>의 반응이 추가적으로 이루어지게 되어 수산화 라디칼이 생성되며, 생성된 수산화 라디칼은 원수의 처리에 기여하게 된다. And, as described above, when the inner tank 512 is formed of titanium dioxide, the reaction of <Reaction Scheme 13> to <Reaction Scheme 17> is additionally made by titanium dioxide during ultraviolet irradiation to generate hydroxide radicals. Hydrogen radicals contribute to the treatment of raw water.

TiO2 + 자외선 → h+ + e- TiO 2 + UV → h + + e -

e- + O2 → O2 - e - + O 2 → O 2 - and

h+ + H2O → ㆍOH h + + H 2 O → ㆍ OH

h+ + OH- → ㆍOH h + + OH - → OH and

H2O2 + e- → ㆍOH + OH- H 2 O 2 + e - → OH + and OH -

이와 같이 이산화티타늄이 이용되면, 진공자외선 빛 에너지에 추가하여 더 많은 수산화 라디칼 내지 다양한 라디칼 화학종이 생성되어, 원수의 물리화학적 처리가 보다 효과적으로 이루어지게 된다. As such, when titanium dioxide is used, more hydroxyl radicals and various radical species are generated in addition to vacuum ultraviolet light energy, thereby making the physicochemical treatment of raw water more effective.

그리고, 자외선 램프(52)는 일방향으로 길게 형성된 원형의 슬리브(sleeve)(521)의 내부에 배치되는 것이 바람직하다. 슬리브(521)는 자외선 램프(52)가 원수와 직접적으로 접촉하는 것을 방지하여 자외선 램프(52)를 보호하기 위한 것으로서, 중공의 실린더 형상으로 이루어진다. 슬리브(521)는 자외선 램프(52)로부터 조사되는 자외선을 투과할 수 있는 소재, 예를 들어 석영 등으로 이루어지는 것이 바람직하다. 그리고, 슬리브(521)는 자외선 램프(52)가 유입되는 원수의 압력에 의해 파손되는 것을 방지하며 또한 사용과정에서 발생되는 자외선 램프의 파손시 원수가 자외선 램프를 구성하는 각종 구성요소에 의해 오염되는 것을 방지한다. 또한, 자외선 램프(52)는 복수 구비되는 것이 바람직하며, 자외선 램프(52)는 수평방향과 평행하게 배치되나, 경우에 따라서는 수직방향과 평행하거나 수직방향과 경사지게 배치될 수도 있다. 슬리브(521)는 자외선 램프(52)의 크기에 대응되게 형성될 수도 있으며, 내부탱크(512)의 내부에만 배치되도록 구성될 수도 있으나, 본 실시예에서는 단부가 개방되어 내부탱크(512)의 외부로 돌출되도록 구성되어 있으므로, 슬리브(521) 및 자외선 램프(52)의 일단부는 각각 외부탱크(511) 및 내부탱크(512) 사이에 배치된다. 따라서, 슬리브(521) 및 자외선 램프(52) 사이의 공간은 외부탱크(511) 및 내부탱크(512) 사이의 공간과 서로 연결된다. In addition, the ultraviolet lamp 52 is preferably disposed inside the circular sleeve 521 formed long in one direction. The sleeve 521 is for protecting the ultraviolet lamp 52 by preventing the ultraviolet lamp 52 from coming into direct contact with raw water, and has a hollow cylindrical shape. The sleeve 521 is preferably made of a material capable of transmitting ultraviolet light emitted from the ultraviolet lamp 52, for example, quartz. In addition, the sleeve 521 prevents the ultraviolet lamp 52 from being damaged by the pressure of the raw water introduced thereto, and when the ultraviolet lamp is broken during use, the raw water is contaminated by various components constituting the ultraviolet lamp. To prevent them. In addition, it is preferable that a plurality of ultraviolet lamps 52 are provided, and the ultraviolet lamps 52 are disposed in parallel with the horizontal direction, but in some cases, may be disposed parallel to the vertical direction or inclined with the vertical direction. The sleeve 521 may be formed to correspond to the size of the ultraviolet lamp 52, and may be configured to be disposed only inside the inner tank 512, but in this embodiment, the end is open to the outside of the inner tank 512. Since one end of the sleeve 521 and the ultraviolet lamp 52 is disposed between the outer tank 511 and the inner tank 512, respectively. Therefore, the space between the sleeve 521 and the ultraviolet lamp 52 is connected to each other with the space between the outer tank 511 and the inner tank 512.

또한, 자외선 램프(52)에 전원을 공급하는 전원공급기(522)가 설치된다. 전원공급기(522)는 일정한 전압 및 전류의 전원을 지속적으로 공급하여 일정한 자외선 빛 에너지가 발생되도록 하기 위한 안정기(ballast)를 포함하며, 또한 누전에 대한 대비가 가능한 자동 누전 차단기도 구비한다. 전원공급기(522)는 팬(542)에도 전원을 공급한다. In addition, a power supply 522 for supplying power to the ultraviolet lamp 52 is provided. The power supply 522 includes a ballast for continuously supplying a constant voltage and current to generate a constant ultraviolet light energy, and also includes an automatic leakage breaker capable of preparing for a short circuit. The power supply 522 also supplies power to the fan 542.

산소 기체 공급수단은 슬리브(521)와 자외선 램프(52) 사이에 산소 기체만을 공급한다. 산소 기체 공급수단은 산소탱크(531)와, 연결라인(532)과, 밸브(533)를 포함한다. The oxygen gas supply means supplies only oxygen gas between the sleeve 521 and the ultraviolet lamp 52. The oxygen gas supply means includes an oxygen tank 531, a connection line 532, and a valve 533.

산소탱크(531)에는 산소 기체만이 저장되어 있다. 산소탱크(531)는 일반적으로 판매되고 있어 쉽게 얻을 수 있다. Only oxygen gas is stored in the oxygen tank 531. The oxygen tank 531 is generally sold and can be easily obtained.

연결라인(532)은 슬리브(521) 및 자외선 램프(52) 사이 공간 및 산소탱크(531)를 상호 연결한다. 산소탱크(531)에 저장된 산소는 연결라인(532)을 통해 슬리브(521) 및 자외선 램프(52) 사이로 공급된다. The connection line 532 interconnects the space between the sleeve 521 and the ultraviolet lamp 52 and the oxygen tank 531. Oxygen stored in the oxygen tank 531 is supplied between the sleeve 521 and the ultraviolet lamp 52 through the connection line 532.

밸브(533)는 연결라인(532)에 별도로 결합되거나 산소탱크(531)와 한 몸체를 이루도록 결합된다. 밸브(533)는 산소탱크(531)로부터 공급되는 산소 기체의 부피 및 속도를 조절한다. 밸브(533)는 전자밸브나 기계식 밸브 등 다양한 형태로 구성될 수 있다. The valve 533 is coupled to the connection line 532 separately or to form a body with the oxygen tank 531. The valve 533 regulates the volume and velocity of the oxygen gas supplied from the oxygen tank 531. The valve 533 may be configured in various forms such as a solenoid valve or a mechanical valve.

그리고, 자외선 램프(52) 및 슬리브(521) 사이에는 공기가 존재하지 않아야 하며, 공기가 존재하는 경우에는 공기를 별도의 펌프를 이용하여 제거하거나 자외선을 조사하기 전이나 원수를 자외선 처리탱크(51)에 공급하기 전에 미리 산소 기체를 공급하여 자외선 램프(52) 및 슬리브(521) 사이에 산소 기체만이 존재하도록 하는 것이 바람직하다. 또한, 내부탱크(512) 및 외부탱크(511) 사이의 공간에도 공기가 있지 않아야 하며 공기를 별도의 펌프를 이용하여 제거하거나 내부탱크(512) 및 외부탱크(511) 사이의 공간에 산소 기체를 미리 채우는 것이 바람직하다. 그리고, 내부탱크(512)의 내부 공간은 내부탱크(512) 및 외부탱크(511) 사이 공간과 완전히 격리되는 것이 바람직하며, 내부탱크(512)의 내부 공간이 내부탱크(512) 및 외부탱크(511) 사이 공간과 연결되는 경우에는 내부탱크(512)의 내부 공간의 공기를 별도의 펌프를 이용하여 제거하거나 내부탱크(512) 내부 공간에 산소 기체를 미리 채우는 것이 바람직하다. In addition, air should not be present between the ultraviolet lamp 52 and the sleeve 521. If air is present, the air may be removed by using a separate pump or before the raw water is irradiated with ultraviolet rays or the ultraviolet treatment tank 51 It is preferable to supply oxygen gas in advance so that only oxygen gas exists between the ultraviolet ray lamp 52 and the sleeve 521 before supplying it. In addition, there should be no air in the space between the inner tank 512 and the outer tank 511 and the air may be removed using a separate pump or oxygen gas may be added to the space between the inner tank 512 and the outer tank 511. It is preferable to prefill. And, the inner space of the inner tank 512 is preferably completely isolated from the space between the inner tank 512 and the outer tank 511, the inner space of the inner tank 512 is the inner tank 512 and the outer tank ( When connected to the space between the 511, it is preferable to remove the air in the inner space of the inner tank 512 using a separate pump or to pre-fill the oxygen gas in the inner tank 512 inner space.

물론, 산소가 내부탱크(512)로 직접 공급되도록 구성할 수도 있으나, 산소 기체가 자외선 램프(52) 및 슬리브(521) 사이 공간을 유동한 후에 흡입되면, 산소 기체의 유동 경로가 길어지며, 그 만큼 자외선에 노출되는 시간이 길어져서 오존 기체가 보다 효과적으로 형성된다. Of course, the oxygen may be configured to be supplied directly to the inner tank 512, but if oxygen gas is sucked after flowing through the space between the ultraviolet lamp 52 and the sleeve 521, the flow path of oxygen gas is long, The longer the exposure to ultraviolet light, the more ozone gas is formed.

오존 기체 공급수단은 자외선 조사시 산소 기체로부터 형성되는 오존 기체를 자외선 처리탱크(51) 내부, 특히 내부탱크의 내부로 공급하기 위한 것이다. 오존 기체 공급수단은 연결라인(541) 및 팬(542)을 포함한다.The ozone gas supply means is for supplying ozone gas formed from oxygen gas when irradiated with ultraviolet rays into the ultraviolet treatment tank 51, in particular, the inner tank. The ozone gas supply means includes a connection line 541 and a fan 542.

연결라인(541)은 슬리브(521) 및 자외선 램프(52) 사이의 공간 및 자외선 처리탱크의 내부탱크(512) 내부를 상호 연결하는 것으로서, 본 실시예에서는 연결라인(541)의 일단부는 외부탱크(511)의 내부와 연결되도록 외부탱크(511)에 결합되며, 연결라인(541)의 타단부는 연결라인(2)의 내부와 연결되도록 연결라인(2)에 결합된다. 이와 같이 연결라인(541)이 설치되면, 자외선 조사시 형성된 오존 기체는 자외선 램프(52) 및 슬리브(521) 사이 공간, 외부탱크(511) 및 내부탱크(512) 사이의 공간, 연결라인(541) 내부 및 연결라인(2) 내부를 통해 자외선 처리탱크의 내부탱크(512)로 유입될 원수로 공급되어 원수와 혼합되고, 그 후에 원수의 유동경로를 따라서 내부탱크(512) 내부로 유입된다. 한편, 연결라인(541)은 자외선 처리탱크의 내부탱크(512)에 직접 결합되어 내부탱크(512)에 유입된 원수에 오존 기체가 직접적으로 공급되도록 구성할 수도 있으며, 또한 연결라인(541)은 자외선 램프(52) 및 슬리브(521) 사이 공간과 직접적으로 밀폐되도록 연결되어 오존 기체가 외부탱크(511) 및 내부탱크(512) 사이로 유동하지 않고 바로 연결라인(541)의 내부로 유동한 후에 원수로 공급되도록 구성할 수도 있다. 또한, 원수가 내부탱크(512)로만 유입되고 연결라인(541) 내부로 역류하는 것을 방지하기 위해서는, 연결라인(541)에 체크밸브(미도시)를 설치하되 되도록이면 연결라인(2)에 근접하게 설치하는 것 이 바람직하다.The connection line 541 interconnects the space between the sleeve 521 and the ultraviolet lamp 52 and the inside of the inner tank 512 of the ultraviolet treatment tank. In this embodiment, one end of the connecting line 541 is an outer tank. It is coupled to the outer tank 511 to be connected to the inside of the 511, the other end of the connection line 541 is coupled to the connection line 2 to be connected to the interior of the connection line (2). As such, when the connection line 541 is installed, the ozone gas formed during ultraviolet irradiation is spaced between the ultraviolet lamp 52 and the sleeve 521, the space between the outer tank 511 and the inner tank 512, and the connection line 541. ) Is supplied to the raw water to be introduced into the inner tank 512 of the ultraviolet treatment tank through the inside and the connecting line 2 and mixed with the raw water, and then introduced into the inner tank 512 along the flow path of the raw water. On the other hand, the connection line 541 may be configured to be directly coupled to the inner tank 512 of the ultraviolet treatment tank so that ozone gas is directly supplied to the raw water introduced into the inner tank 512, the connection line 541 is Directly connected to the space between the ultraviolet lamp 52 and the sleeve 521 so that the ozone gas flows directly into the connecting line 541 without flowing between the outer tank 511 and the inner tank 512, the raw water It can also be configured to be supplied to. In addition, in order to prevent raw water from flowing into the inner tank 512 and flowing back into the connection line 541, a check valve (not shown) is installed in the connection line 541, so as to be close to the connection line 2. It is desirable to install it properly.

팬(542)은 연결라인(541) 상에 결합된다. 팬(542)은 자외선 램프(52) 및 슬리브(521) 사이에 형성된 오존 기체를 흡입하여 원수로 공급하는 기능을 수행한다. 물론, 산소 기체가 모두 오존 기체로 변하지 않는 경우에는 오존 기체 뿐만 아니라 산소 기체도 원수에 공급된다.The fan 542 is coupled on the connection line 541. The fan 542 functions to suck ozone gas formed between the ultraviolet lamp 52 and the sleeve 521 and to supply the raw water. Of course, when neither oxygen gas turns into ozone gas, oxygen gas as well as ozone gas is supplied to raw water.

클리닝부재(55)는 환형을 이루며, 슬리브(521)에 끼워져서 슬리브(521)의 외주면에 접촉하게 배치된다. 클리닝부재(55)는 슬리브(521)의 길이방향을 따라 직선 이동 가능하다. 클리닝부재(55)는 전체적으로 고무로 이루어지거나, 금속 또는 플라스틱 재질의 환형 본체 및 환형 본체의 내주면에 직물이나 고무 등이 부착되어 직물이나 고무가 클리닝부재의 외주면과 접촉하도록 구성할 수도 있다. 클리닝부재(55)가 슬리브(521)의 길이방향을 따라 직선 이동하면서 슬리브(521)의 외주면을 문지르면, 슬리브(521)의 외주면에 이물질(특히 원수에 장시간 노출된 경우에 주로 발생함)이 클리닝되며, 이에 따라 자외선 램프(52)의 자외선이 내부탱크(512)의 원수로 보다 효과적으로 조사된다. The cleaning member 55 has an annular shape and is fitted to the sleeve 521 to be in contact with the outer circumferential surface of the sleeve 521. The cleaning member 55 is linearly movable along the longitudinal direction of the sleeve 521. The cleaning member 55 may be made of rubber as a whole, or a fabric or rubber may be attached to the inner circumferential surface of the annular body and the annular body made of metal or plastic so that the fabric or rubber contacts the outer circumferential surface of the cleaning member. When the cleaning member 55 rubs the outer circumferential surface of the sleeve 521 while linearly moving along the longitudinal direction of the sleeve 521, foreign matter (especially occurring when exposed to raw water for a long time) is cleaned on the outer circumferential surface of the sleeve 521. Accordingly, the ultraviolet rays of the ultraviolet lamp 52 are more effectively irradiated into the raw water of the inner tank 512.

구동수단은 클리닝부재(55)를 구동한다. 구동수단은 유압액츄에이터(미도시)로 구성될 수 있다. 유압액츄에이터로 구성되는 경우에는, 유압액츄에이터의 본체는 내부탱크(512)의 외부에 배치되며, 유압액츄에이터의 피스톤은 클리닝부재(55)에 고정되어 내부탱크(512)의 내부에 배치된다. 또한, 구동수단은 내부탱크의 외부에 배치된 코일(미도시) 및 클리닝부재에 고정된 자석(미도시)을 포함하도록 구성되어, 코일에 인가되는 전류의 세기나 방향을 변경함으로써 자석에 고정된 클리닝부재가 직선 이동하도록 구성할 수도 있다. 이러한 코일 및 자석을 이용하는 구조는 플런저 펌프 등에 이미 공지된 구성이므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다. The drive means drives the cleaning member 55. The drive means may be composed of a hydraulic actuator (not shown). When the hydraulic actuator is configured, the main body of the hydraulic actuator is disposed outside the inner tank 512, and the piston of the hydraulic actuator is fixed to the cleaning member 55 and disposed inside the inner tank 512. In addition, the driving means is configured to include a coil (not shown) disposed outside the inner tank and a magnet (not shown) fixed to the cleaning member, and fixed to the magnet by changing the strength or direction of the current applied to the coil. The cleaning member may be configured to move linearly. Since a structure using such a coil and a magnet is already known in a plunger pump or the like, a detailed description thereof will be omitted.

수소 이온농도 조절유닛(60)은 내부탱크(512)의 수소 이온농도, 즉 pH를 조절하기 위한 것이다. 수소 이온농도 조절유닛(60)은 pH조절물질 저장탱크(61)와, pH조절모듈(62)을 포함한다. The hydrogen ion concentration adjusting unit 60 is for adjusting the hydrogen ion concentration, that is, pH of the inner tank 512. The hydrogen ion concentration adjusting unit 60 includes a pH adjusting material storage tank 61 and a pH adjusting module 62.

pH조절물질 저장탱크(61)는 pH를 조절하기 위한 물질이 저장된다. 예를 들어 pH조절물질 저장탱크(61)에는 H+ 이온이 많이 포함된 산성 용액이 저장된 산성 pH조절물질 저장탱크 또는 OH- 이온이 많이 저장된 염기성 용액이 저장된 염기성 pH조절물질 저장탱크로 구성될 수 있으며, 산성 pH조절물질 저장탱크 및 염기성 pH조절물질 저장탱크 한 쌍이 구비될 수도 있다. pH조절물질 저장탱크(61)는 내부탱크(512)와 연결라인(4)을 통해 상호 연결된다.pH control material storage tank 61 is stored a material for adjusting the pH. For example, the pH adjusting material storage tank 61 may be configured as an acidic pH adjusting material storage tank storing an acid solution containing a lot of H + ions or a basic pH adjusting material storage tank storing a basic solution containing a lot of OH ions. In addition, a pair of acidic pH regulator storage tank and basic pH regulator storage tank may be provided. The pH adjusting material storage tank 61 is interconnected through the inner tank 512 and the connection line (4).

pH조절모듈(62)은 연결라인(4)에 설치된다. pH조절모듈(62)은 pH조절물질 저장탱크(61)에 저장된 산성 용액이나 염기성 용액의 유출량을 조절한다. 따라서, 내부탱크(512)로 유입되는 산성 용액이나 염기성 용액의 양을 제어할 수 있다. pH조절모듈(62)은 원수 유출 조절모듈(40)과 마찬가지로 질량유량제어기(Mass Flow Controller) 또는 유량 조절이 전자적으로 가능한 전자밸브 등으로 구성된다. pH adjustment module 62 is installed in the connection line (4). The pH adjusting module 62 adjusts the outflow amount of the acidic solution or the basic solution stored in the pH adjusting material storage tank 61. Therefore, the amount of acidic solution or basic solution flowing into the inner tank 512 can be controlled. The pH control module 62, like the raw water outflow control module 40, is composed of a mass flow controller (Mass Flow Controller) or an electronic valve capable of electronically controlling the flow rate.

한편, pH조절물질 저장탱크(61)에 용액이 아닌 고체 물질이 저장될 수도 있으며, 고체 물질이 내부탱크(512)로 공급되어 원수에 용해됨으로써 원수의 pH가 조 절되도록 구성할 수도 있다. pH조절물질 저장탱크에 고체물질이 저장되는 경우에는, 고체물질의 이송에 적합하도록 pH조절모듈이 변경된다.Meanwhile, a solid material other than a solution may be stored in the pH adjusting material storage tank 61, and the pH of the raw water may be adjusted by supplying the solid material to the inner tank 512 and dissolving it in the raw water. When the solid material is stored in the pH control material storage tank, the pH control module is changed to be suitable for the transport of the solid material.

처리원수 저장탱크(70)에는 여과 및 자외선에 의한 처리가 모두 완료된 원수가 저장된다. 처리원수 저장탱크(70)는 자외선 처리탱크의 내부탱크(512)와 연결되며, 내부탱크(512)에서 자외선 처리된 원수는 연결라인(3)을 통해 처리원수 저장탱크(70)에 저장된다.In the raw water storage tank 70, raw water in which both filtration and ultraviolet light treatment are completed is stored. The raw water storage tank 70 is connected to the inner tank 512 of the ultraviolet light treatment tank, and the raw water treated by the ultraviolet light in the inner tank 512 is stored in the raw water storage tank 70 through the connection line 3.

밸브(80)는 처리원수 저장탱크(70)로부터 유출되는 처리 원수의 유동 경로를 변경한다. 밸브(80)는 배출라인(6) 및 바이패스라인(7)의 교차점에 설치되어 있다. 본 실시예에서, 밸브(80)는 3웨이 전자밸브로 구성되어 있으므로, 밸브의 작동에 따라서 처리 원수는 바이패스라인(7)으로 유동하거나 배출라인(6)으로 유동한다. 물론, 배출라인(6) 및 바이패스라인(7)에 각각 2웨이 밸브를 설치하여 3웨이 밸브를 대체할 수도 있다. 여기서, 배출라인(6)은 처리된 원수가 처리원수 저장탱크(70)로부터 배출되는 배관을 말하며, 바이패스라인(7)은 처리원수 저장탱크(70) 및 여과탱크(20)를 연결하는 배관을 말한다. 그리고, 본 실시예에서는 각종 연결라인(1,2,3,4,532,541), 배출라인(6) 및 바이패스라인(7)을 포함하는 배관계가 개시되어 있으나, 배관계는 통상의 창작능력에 의해 다양한 변형 설계가 가능함은 자명하다. The valve 80 changes the flow path of the treated raw water flowing out of the treated raw water storage tank 70. The valve 80 is provided at the intersection of the discharge line 6 and the bypass line 7. In the present embodiment, the valve 80 is composed of a three-way solenoid valve, so that the raw water flows to the bypass line 7 or to the discharge line 6 depending on the operation of the valve. Of course, two-way valves may be installed in the discharge line 6 and the bypass line 7 to replace the three-way valves. Here, the discharge line 6 refers to the pipe discharged from the treated raw water storage tank 70, the bypass line 7 is a pipe connecting the treated raw water storage tank 70 and the filtration tank 20. Say In addition, in the present embodiment, a piping system including various connection lines 1, 2, 3, 4, 532, 541, a discharge line 6, and a bypass line 7 is disclosed. It is obvious that design is possible.

제어기(90)는 원수 유출 조절모듈(40), pH조절모듈(62) 및 밸브(80)의 작동을 제어한다. The controller 90 controls the operation of the raw water outflow control module 40, the pH control module 62 and the valve 80.

제어기(90)는 처리원수 저장탱크(70)에 저장된 처리원수의 수질을 기초로 밸 브(80)의 작동을 제어한다. 여기서, 처리원수의 수질은 다양한 수치, 예를 들어 pH, 수온, 염도, 탁도, 용존 산소량, 총 부유물질, 생물학적 산소 요구량 및 화학적 산소 요구량 등을 종합하여 산정되며, 이러한 다양한 수치는 처리원수 저장탱크(70)에 별도의 수질측정센서(71)를 설치하여 측정된다. 그리고, 처리원수의 수질은 처리 원수의 영상을 통해 분석된 미생물의 개체수 및 크기에 의해서도 판단될 수 있으며, 처리원수의 영상은 처리원수 저장탱크(70)에 설치된 카메라(72)에 의해 이루어진다. 수질측정센서(71)에 의해 측정된 수치 그리고 카메라(72)에 의해 촬영된 영상을 기초로 하여 처리원수의 수질이 미리 설정된 수질 기준을 만족하는 경우에는, 제어기(90)는 처리원수가 배출라인(6)을 통해 유출될 수 있도록 밸브를 작동시킨다. 한편, 처리원수의 수질이 미리 설정된 수질 기준에 미달하는 경우에는, 제어기(90)는 처리원수가 바이패스라인(7)으로 유동하여 여과 및 자외선 처리가 다시 이루어질 수 있도록 밸브(80)를 작동시킨다. The controller 90 controls the operation of the valve 80 based on the quality of the raw water stored in the raw water storage tank 70. Here, the water quality of the treated raw water is calculated by integrating various values such as pH, water temperature, salinity, turbidity, dissolved oxygen amount, total suspended solids, biological oxygen demand, and chemical oxygen demand, and these various values are treated as raw water storage tanks. It is measured by installing a separate water quality sensor (71) in the (70). In addition, the quality of the raw water may be determined by the number and size of the microorganisms analyzed through the image of the raw water, and the image of the raw water is made by the camera 72 installed in the raw water storage tank 70. Based on the numerical value measured by the water quality measuring sensor 71 and the image taken by the camera 72, when the water quality of the raw water meets a preset water quality standard, the controller 90 causes the raw water to be discharged. Operate the valve so that it can flow through (6). On the other hand, when the water quality of the raw water does not meet the predetermined water quality standard, the controller 90 operates the valve 80 so that the raw water flows into the bypass line 7 so that the filtration and ultraviolet treatment can be performed again. .

또한, 제어기(90)는 내부탱크(512)에 저장된 원수의 pH를 기초로 pH조절모듈(62)을 제어한다. 내부탱크(512)에는 pH를 측정하는 pH측정센서(513)가 설치된다. pH측정센서(513)에 의해 측정된 원수의 pH가 4.8 내지 9의 범위에 있지 않을 경우에는, 제어기(90)는 pH조절모듈(62)을 조절하여 산성 용액 또는 염기성 용액이 내부탱크로 유입되도록 하며 또한 유입되는 용액의 양도 제어한다. 이와 같이 산성 용액이나 염기성 용액이 유입되면 내부탱크(512)의 pH를 조절할 수 있으며, 또한 용액의 양을 제어하면 원하는 pH를 얻는데 걸리는 시간도 제어할 수 있게 된다. In addition, the controller 90 controls the pH adjusting module 62 based on the pH of the raw water stored in the inner tank 512. The inner tank 512 is provided with a pH measuring sensor 513 to measure the pH. When the pH of the raw water measured by the pH measuring sensor 513 is not in the range of 4.8 to 9, the controller 90 adjusts the pH adjusting module 62 so that an acidic solution or a basic solution flows into the inner tank. It also controls the amount of incoming solution. As such, when the acidic solution or the basic solution is introduced, the pH of the inner tank 512 can be adjusted, and if the amount of the solution is controlled, the time taken to obtain the desired pH can be controlled.

그리고, 제어기(90)는 원수 유출 조절모듈(40)을 제어한다. 앞서 설명한 바 와 같이 내부탱크(512)로 유입되는 원수의 유속이나 유량은 장치의 전반적인 내구성이나 원수 처리의 안정성에 영향을 주므로, 내부탱크(512)로 유입되는 원수의 제어는 필수적이다. 버퍼탱크(30) 및 내부탱크(512)를 연결하는 연결라인(2)에 유속을 측정하는 유속측정센서(31)를 배치하고, 유속측정센서(31)로부터 측정된 유속을 기초로 하여 원수 유출 조절모듈(40)을 제어한다. 그리고, 배출 유량은 유속측정센서(31)로부터 측정된 유속 및 연결라인(2)의 직경을 기초로 연산된다.And, the controller 90 controls the raw water outflow control module 40. As described above, since the flow rate or flow rate of the raw water flowing into the inner tank 512 affects the overall durability of the apparatus or the stability of the raw water treatment, the control of the raw water flowing into the inner tank 512 is essential. The flow rate measuring sensor 31 for measuring the flow rate is disposed in the connection line 2 connecting the buffer tank 30 and the inner tank 512, and the raw water flows out based on the flow rate measured from the flow rate measuring sensor 31. The control module 40 is controlled. Then, the discharge flow rate is calculated based on the flow rate measured from the flow rate measuring sensor 31 and the diameter of the connection line (2).

물론, 제어기(90)는 자외선 램프(52)의 작동도 제어하며, 펌프(10)에 의해 압송되는 원수의 유량도 입력받는다. 그 밖에도, 제어기(90)는 전체적인 수처리장치(100)의 작동을 감시하고 모니터링하는 제어동작을 수행하며, 이러한 점은 이미 널리 알려져 있으므로, 이에 대한 상세한 설명을 생략하기로 한다.Of course, the controller 90 also controls the operation of the ultraviolet lamp 52, and receives the flow rate of the raw water that is pumped by the pump (10). In addition, the controller 90 performs a control operation that monitors and monitors the operation of the entire water treatment apparatus 100. Since this is already well known, a detailed description thereof will be omitted.

그리고, 자외선 램프(52) 및 슬리브(521) 사이 또는 내부탱크 및 외부탱크 사이의 공간에는 오존을 감지할 수 있는 오존 센서(미도시)를 설치할 수 있다. 오존 센서는 오존의 부피 내지 오존의 농도를 측정한다. An ozone sensor (not shown) capable of detecting ozone may be installed in the space between the ultraviolet lamp 52 and the sleeve 521 or between the inner tank and the outer tank. The ozone sensor measures the volume of ozone to the concentration of ozone.

상술한 바와 같이 구성된 수처리장치(100)에 있어서는, 원수가 여과탱크(20)에서 1차적으로 여과된 후에 자외선처리유닛(50)에서 자외선에 의해 2차적으로 처리되므로, 원수를 보다 효과적으로 처리할 수 있다. In the water treatment apparatus 100 configured as described above, since the raw water is first filtered in the filtration tank 20 and then secondarily treated by ultraviolet light in the ultraviolet treatment unit 50, the raw water can be treated more effectively. have.

특히, 물 분해에 가장 효과적인 진공자외선 램프(52)가 사용되며 이에 따라 다양한 종류의 라디칼이 생성되므로, 원수를 보다 효과적으로 분해할 수 있게 된다. In particular, since the most effective vacuum ultraviolet lamp 52 for water decomposition is used and various kinds of radicals are generated accordingly, raw water can be more effectively decomposed.

더구나, 자외선 램프(52) 및 슬리브(521) 사이로 공급되는 산소 기체가 자외 선에 의해 오존 기체로 변환되며 오존 기체는 다시 처리대상인 원수로 공급되어 원수의 정화에 사용되므로, 강력한 산화제인 오존 기체를 별도의 오존 기체 공급원 없이도 다량 공급하여 사용할 수 있다는 장점이 있다. 특히, 종래와 달리 오존 기체의 생성시에 공기가 사용되지 않으므로, 공기 중의 다량의 질소 기체에 의한 질소산화물이 발생하지 않는다. 이는 원수의 정화에 필요한 오존 기체만이 형성될 뿐, 오염물질이 질소산화물이 형성되지 않는 것을 의미한다. 따라서, 종래와 달리 오염물질인 질소산화물이 형성되어 공기중에 배출되거나 처리된 원수에 질소산화물이 다량 함유되어 원수의 처리효과가 현저히 저감되는 문제가 발생하지 않는다.In addition, since the oxygen gas supplied between the ultraviolet lamp 52 and the sleeve 521 is converted into ozone gas by ultraviolet rays, and the ozone gas is supplied to the raw water to be treated again and used for purification of raw water, ozone gas, a powerful oxidant, is used. There is an advantage that can be supplied in large quantities without a separate ozone gas source. In particular, since air is not used in the generation of ozone gas unlike in the prior art, nitrogen oxides are not generated by a large amount of nitrogen gas in the air. This means that only ozone gas necessary for purification of raw water is formed, and pollutants do not form nitrogen oxides. Therefore, unlike the related art, nitrogen oxides, which are pollutants, are formed, and thus, a large amount of nitrogen oxides are contained in the raw water discharged or treated in the air, thereby not significantly reducing the treatment effect of the raw water.

그리고, 처리된 원수는 그 원수의 수질이 미리 설정된 수질 기준을 만족하는 경우에만 배출되므로, 수질 기준에 부합하는 원수만이 배출된다. The treated raw water is discharged only when the water quality of the raw water satisfies a predetermined water quality standard, so that only the raw water that meets the water quality standard is discharged.

그리고, 슬리브(521)의 외주면이 클리닝부재(55)에 의해 청소될 수 있다. 따라서, 사용과정에서 슬리브(521)의 표면에 이물질이 부착되더라도 이물질을 쉽게 제거할 수 있으므로, 자외선을 원수 및 산소 기체로 효과적으로 조사할 수 있게 된다. The outer circumferential surface of the sleeve 521 may be cleaned by the cleaning member 55. Therefore, even if foreign matter is attached to the surface of the sleeve 521 in use, it is possible to easily remove the foreign matter, it is possible to effectively irradiate ultraviolet light with raw water and oxygen gas.

또한, 원수 유출 조절모듈(40)을 제어하면, 자외선 처리탱크의 내부탱크(512)로 유입되는 원수의 유속 및 유량을 조절할 수 있으므로, 슬리브(521)의 파손을 방지할 수 있으며, 나아가 원수를 일정하게 유입시켜 공정의 안정화를 도모할 수 있게 된다. In addition, by controlling the raw water outflow control module 40, it is possible to adjust the flow rate and flow rate of the raw water flowing into the inner tank 512 of the ultraviolet treatment tank, it is possible to prevent the breakage of the sleeve 521, furthermore the raw water It can be made constant and stabilizes a process.

그리고, 내부탱크(512)가 이산화티타늄을 포함하는 금속 소재로 이루어지며, 각종 라디칼들의 반응이 보다 활발하게 이루어져 강력한 수산화 라디칼이 다량 생 성되므로, 원수에 존재하는 용존 유기물을 보다 효과적으로 산화시킬 수 있게 된다. In addition, the inner tank 512 is made of a metal material containing titanium dioxide, and the reaction of various radicals is more active to generate a large amount of strong hydroxide radicals, so that the dissolved organic matter present in the raw water can be more effectively oxidized. do.

이상, 본 발명을 바람직한 실시예들을 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 많은 변형이 가능함은 명백하다. As mentioned above, the present invention has been described in detail with reference to preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications may be made by those skilled in the art within the technical idea of the present invention. It is obvious.

예를 들어, 본 실시예에서는 자외선 처리탱크가 하나 구비되도록 구성되어 있으나, 필요에 따라 자외선 처리탱크 복수 개가 직렬 또는 병렬적인 형태로 연결함으로써 앞서 설명된 물리화학적 반응이 다단계에 걸쳐 발생하도록 구성할 수 있다. For example, the present embodiment is configured to include one ultraviolet treatment tank, but as necessary, the plurality of ultraviolet treatment tanks may be connected in series or in parallel to configure the above-described physicochemical reaction in multiple stages. have.

또한, 본 실시예에서는 자외선 처리탱크가 내부탱크 및 외부탱크를 포함하도록 구성되어 있으나, 자외선 처리탱크가 하나의 탱크만으로 구성할 수도 있다.In addition, in the present embodiment, the ultraviolet treatment tank is configured to include an inner tank and an outer tank, but the ultraviolet treatment tank may be composed of only one tank.

본 실시예에서는 산소 기체 공급수단이 산소탱크, 연결라인 및 밸브를 포함하도록 구성되어 있으나, 산소 기체 공급수단이 대기로부터 산소 기체만을 추출하여 공급하거나 물의 전기분해를 통해 얻어지는 산소 기체를 공급할 수 있도록 구성할 수도 있다. 이와 같이 대기로부터 산소 기체를 추출하거나 물의 전기분해를 통해 산소 기체를 생성하는 장치는 이미 상용화되어 있으므로 이에 대한 구체적인 설명은 생략하기로 한다. In the present embodiment, the oxygen gas supply means is configured to include an oxygen tank, a connection line and a valve, but the oxygen gas supply means is configured to supply oxygen gas obtained by extracting only oxygen gas from the atmosphere or by electrolysis of water. You may. As such, a device for extracting oxygen gas from the atmosphere or generating oxygen gas through electrolysis of water is already commercialized, and thus a detailed description thereof will be omitted.

또한, 본 실시예에서는 처리대상물로서 원수가 처리되는 과정을 설명하였으나, 본 실시예의 자외선처리유닛 및 수처리장치는 각각 오염된 가스를 정화할 수도 있다. 이와 같이 처리대상물이 오염된 가스이면, 수소이온농도 조절유닛, pH측정 센서, 수질측정센서 등이 구비될 필요는 없다. In addition, in this embodiment, the process of processing the raw water as the object to be treated, but the ultraviolet treatment unit and the water treatment apparatus of the present embodiment may each purify the contaminated gas. In this way, if the object to be treated is contaminated gas, it is not necessary to provide a hydrogen ion concentration control unit, a pH measuring sensor, a water quality measuring sensor, and the like.

그리고, 본 실시예의 자외선처리유닛 및 수처리장치는 밸러스트수를 처리하는데 사용될 수도 있다. 여기서, 밸러스트수는 화물이 적재된 선박의 균형을 유지하기 위하여 선박의 하부에 저장되는 해수로서 특히 출발지의 해수를 말하며, 밸러스트수는 선박이 목적지에 도착한 후에는 일정 부분 배출된다. In addition, the ultraviolet treatment unit and the water treatment apparatus of this embodiment may be used to treat ballast water. Here, the ballast water is seawater stored in the lower part of the ship in order to maintain the balance of the ship loaded with cargo, in particular refers to the seawater of the starting point, the ballast water is discharged to some extent after the ship arrives at the destination.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 수처리장치의 개략적인 구성도이다. 1 is a schematic diagram of a water treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1에 도시된 수처리장치의 제어과정을 설명하기 위한 개략적인 블록도이다. FIG. 2 is a schematic block diagram illustrating a control process of the water treatment apparatus shown in FIG. 1.

도 3은 도 1에 도시된 자외선처리유닛의 상세도이다. 3 is a detailed view of the ultraviolet treatment unit shown in FIG.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명> <Description of the symbols for the main parts of the drawings>

1,2,3,4,532,541...연결라인 6...배출배관1,2,3,4,532,541 Connection line 6 Exhaust piping

7...바이패스배관 10...펌프 7.Bypass piping 10 ... Pump

20...여과탱크 30...버퍼탱크20 ... filtration tank 30 ... buffer tank

31...유속측정센서 40...원수 유출 조절모듈31.Flow sensor 40 ... Water flow control module

50...자외선처리유닛 51...자외선 처리탱크50 ... UV treatment unit 51 ... UV treatment tank

52...자외선 램프 55...클리닝부재52 UV lamp 55 Cleaning member

60...수소이온농도 조절유닛 61...pH조절물질 저장탱크60 ... Hydrogen concentration control unit 61 ... pH regulator storage tank

62...pH조절모듈 70...처리원수 저장탱크62 ... pH control module 70 ... treated water storage tank

71...수질측정센서 72...카메라71 Water quality sensor 72 Camera

80,533...밸브 90...제어기80,533 ... Valve 90 ... Controller

100...수처리장치 513...pH측정센서Water treatment unit 513 pH measuring sensor

521...슬리브 522...전원공급기521 ... sleeve 522 ... power supply

531...산소탱크 542...팬531 Oxygen Tank 542 Fan

Claims (11)

자외선 처리탱크;Ultraviolet treatment tank; 상기 자외선 처리탱크 내부에 설치되는 중공형상의 슬리브;A hollow sleeve installed inside the ultraviolet treatment tank; 상기 슬리브 내부에 배치되며 자외선을 조사하는 자외선 램프;An ultraviolet lamp disposed inside the sleeve to irradiate ultraviolet rays; 상기 슬리브 및 자외선 램프 사이에 산소 기체를 공급하는 산소 기체 공급수단; 및 Oxygen gas supply means for supplying oxygen gas between the sleeve and the ultraviolet lamp; And 상기 슬리브 및 자외선 램프 사이에 유동하며 상기 자외선에 의해 형성되는 오존 기체를 포함하는 기체가 상기 자외선 처리탱크 내부에 공급되도록 상기 오존 기체를 공급하는 오존 기체 공급수단;을 구비하는 하는 것을 특징으로 하는 자외선처리유닛. And ozone gas supply means for supplying the ozone gas to flow between the sleeve and the ultraviolet lamp and to supply a gas containing ozone gas formed by the ultraviolet light into the ultraviolet treatment tank. Processing unit. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 산소 기체 공급수단은,The oxygen gas supply means, 상기 산소 기체가 저장된 산소탱크; An oxygen tank in which the oxygen gas is stored; 상기 슬리브 및 자외선 램프 사이와 상기 산소탱크 사이를 연결하는 연결라인; 및A connection line connecting between the sleeve and the ultraviolet lamp and the oxygen tank; And 상기 산소 기체의 공급량을 조절하는 밸브;을 구비하는 것을 특징으로 하는 자외선처리유닛. And a valve for controlling the supply amount of the oxygen gas. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 오존 기체 공급수단은, The ozone gas supply means, 상기 슬리브 및 자외선 램프 사이 및 상기 자외선 처리탱크의 내부와 상호 연결되는 연결라인; 및 A connection line interconnected between the sleeve and the ultraviolet lamp and inside the ultraviolet treatment tank; And 상기 오존 기체가 상기 연결라인 내부를 따라 유동하도록 상기 오존 기체를 흡입하는 팬;을 구비하는 것을 특징으로 하는 자외선처리유닛. And a fan that sucks the ozone gas so that the ozone gas flows along the inside of the connection line. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 슬리브는 일방향으로 길게 형성되며, The sleeve is formed long in one direction, 상기 슬리브의 외측면에 접촉하며, 상기 슬리브의 길이방향을 따라 직선 이동 가능하도록 상기 슬리브에 결합되며, 상기 직선 이동시 상기 슬리브의 외측면을 문질러서 클리닝하는 클리닝부재; 및 A cleaning member which is in contact with an outer surface of the sleeve and is coupled to the sleeve so as to be linearly movable along the longitudinal direction of the sleeve, and which rubs and cleans the outer surface of the sleeve during the linear movement; And 상기 클리닝부재를 구동하는 구동수단;을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 자외선처리유닛.And a driving means for driving the cleaning member. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 자외선 처리탱크에는, 처리대상물로서 원수가 유입되어 자외선 및 오존 기체에 의해 처리된 후에 유출되며, In the ultraviolet treatment tank, raw water flows in as the object to be treated and is discharged after being treated with ultraviolet and ozone gas, pH를 조절하기 위한 물질이 저장된 pH조절물질 저장탱크;a pH adjusting material storage tank in which a material for adjusting pH is stored; 상기 pH조절물질 저장탱크와 자외선 처리탱크 사이에 배치되며, 상기 pH조절 물질 저장탱크에 저장된 물질이 상기 자외선 처리탱크로 유출되는 양을 조절하는 pH조절모듈; 및 A pH control module disposed between the pH control material storage tank and the ultraviolet light treatment tank and configured to adjust an amount of the material stored in the pH control material storage tank to flow out to the UV light treatment tank; And 상기 자외선 처리탱크에 저장된 원수의 pH를 기초로 상기 원수의 pH가 4.8 내지 9의 범위에 있도록 상기 pH조절모듈의 작동을 제어하는 제어기;를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 자외선처리유닛.And a controller for controlling the operation of the pH adjusting module so that the pH of the raw water is in the range of 4.8 to 9 based on the pH of the raw water stored in the ultraviolet light treatment tank. 제 3항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 자외선 처리탱크는, 외부탱크 및 상기 외부탱크 내부에 배치되는 내부탱크를 포함하며, The ultraviolet treatment tank includes an outer tank and an inner tank disposed inside the outer tank, 상기 슬리브의 일부분은 상기 외부탱크 및 내부탱크 사이에 배치되며, A portion of the sleeve is disposed between the outer tank and the inner tank, 상기 슬리브 및 자외선 램프 사이는 상기 외부탱크 및 내부탱크 사이와 연결되며, Between the sleeve and the ultraviolet lamp is connected between the outer tank and the inner tank, 상기 팬은 상기 외부탱크 및 내부탱크 사이의 기체를 흡입하는 것을 특징으로 하는 자외선처리유닛.The fan is a UV treatment unit, characterized in that for sucking the gas between the outer tank and the inner tank. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 탱크는 알루미늄, 스테인리스 스틸 및 이산화티타늄 중 어느 하나를 포함하는 금속 소재로 이루어지는 것을 특징으로 하는 자외선처리유닛.The tank is an ultraviolet treatment unit, characterized in that made of a metal material containing any one of aluminum, stainless steel and titanium dioxide. 제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 1 to 7, 상기 자외선 램프는 진공자외선을 조사하는 진공자외선 램프인 것을 특징으로 하는 자외선처리유닛.The ultraviolet lamp is a UV treatment unit, characterized in that the vacuum ultraviolet lamp for irradiating vacuum ultraviolet rays. 처리대상인 원수를 압송하는 펌프;A pump for pumping raw water to be treated; 상기 압송된 원수가 유입되며, 상기 유입된 원수에 자외선을 조사하여 상기 원수를 처리하는 자외선처리유닛;An ultraviolet treatment unit for introducing the transported raw water and treating the raw water by irradiating the introduced raw water with ultraviolet rays; 상기 자외선처리유닛으로 유입되는 원수의 유속 및 유량 중 적어도 하나를 조절하는 원수 유출 조절모듈; 및 Raw water outflow control module for adjusting at least one of the flow rate and the flow rate of the raw water flowing into the ultraviolet treatment unit; And 상기 원수 유출 조절모듈의 작동을 제어하는 제어기;를 구비하며, And a controller for controlling the operation of the raw water discharge control module. 상기 자외선처리유닛은, The ultraviolet treatment unit, 자외선 처리탱크;Ultraviolet treatment tank; 상기 자외선 처리탱크 내부에 설치되는 중공형상의 슬리브;A hollow sleeve installed inside the ultraviolet treatment tank; 상기 슬리브 내부에 배치되며 자외선을 조사하는 자외선 램프;An ultraviolet lamp disposed inside the sleeve to irradiate ultraviolet rays; 상기 슬리브 및 자외선 램프 사이에 산소 기체를 공급하는 산소 기체 공급수단; 및 Oxygen gas supply means for supplying oxygen gas between the sleeve and the ultraviolet lamp; And 상기 슬리브 및 자외선 램프 사이에 유동하며 상기 자외선에 의해 형성되는 오존 기체를 포함하는 기체가 상기 자외선 처리탱크 내부에 공급되도록 상기 오존 기체를 공급하는 오존 기체 공급수단;을 구비하는 것을 특징으로 하는 수처리장치.And ozone gas supply means for supplying the ozone gas to flow between the sleeve and the ultraviolet lamp and to supply a gas containing ozone gas formed by the ultraviolet light into the ultraviolet treatment tank. . 제 9항에 있어서, The method of claim 9, 상기 원수 유출 조절모듈은 질량유량제어기(Mass Flow Controller)인 것을 특징으로 하는 수처리장치.The raw water discharge control module is characterized in that the mass flow controller (Mass Flow Controller). 제 9항에 있어서, The method of claim 9, 상기 펌프와 자외선 처리탱크 사이에 배치되며, 상기 펌프에 의해 압송된 원수가 유입 및 유출되며, 상기 원수가 여과되는 여과탱크;A filtration tank disposed between the pump and the ultraviolet treatment tank, wherein the raw water fed by the pump flows in and out, and the raw water is filtered; 상기 자외선처리유닛에 의해 처리된 원수가 저장되는 처리원수 저장탱크;A raw water storage tank in which raw water processed by the ultraviolet treatment unit is stored; 상기 처리원수 저장탱크에 연결되는 배출배관 및 상기 배출배관 및 여과탱크를 상호 연결하는 바이패스배관을 포함하는 배관계; 및 A piping system including a discharge pipe connected to the raw water storage tank and a bypass pipe interconnecting the discharge pipe and the filtration tank; And 상기 배관계에 설치되며, 상기 처리 원수가 상기 배출배관을 통해서 배출되거나 상기 여과탱크로 유동하도록 상기 처리 원수의 유동 경로를 변경하는 밸브;를 더 구비하며, A valve which is installed in the piping system and changes the flow path of the raw water to be discharged through the discharge pipe or flows to the filtration tank; 상기 제어기는, The controller comprising: 상기 처리원수 저장탱크에 저장된 처리 원수의 수질을 기초로 상기 밸브의 작동을 제어하는 것을 특징으로 하는 수처리장치.And an operation of the valve based on the quality of the raw water stored in the raw water storage tank.
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