KR20110047501A - Layout pattern of sense amplifier - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A layout pattern of a sense amplifier is provided to reduce the width of a sense amp by arranging two transistors in each row. CONSTITUTION: In a layout pattern of a sense amplifier, two transistors are arranged in each row. One transistor is arranged in the last row. The transistor includes a PMOS transistor and an NMOS transistor which are symmetrically arranged.

Description

센스앰프 레이아웃 구조{LAYOUT PATTERN OF SENSE AMPLIFIER}Sense amplifier layout structure {LAYOUT PATTERN OF SENSE AMPLIFIER}

본 발명은 반도체 제조 기술에 관한 것으로, 특히 센스앰프 레이아웃 구조에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to semiconductor manufacturing techniques, and more particularly to a sense amplifier layout structure.

반도체 메모리 장치의 고성능화 및 저전력화의 또 다른 방향은, 휘발성인 DRAM과 같은 반도체 메모리 장치와 달리 리프레쉬 동작이 필요 없는 차세대 메모리 장치의 개발이다. 이러한 차세대 메모리 장치의 한 예로 상변화(phase change)물질을 이용한 PCRAM(Phase change Random Access Memory)이 있다.Another direction of high performance and low power consumption of semiconductor memory devices is development of next-generation memory devices that do not require a refresh operation, unlike semiconductor memory devices such as volatile DRAMs. One example of such a next generation memory device is a phase change random access memory (PCRAM) using a phase change material.

상변화 물질이란, 온도 변화에 따라 상(phase)이 변화됨으로 인하여 저항이 변화하는 캘코제나이드(chalcogenide)와 같은 물질을 말하며, 일반적으로 게르마늄(Ge;germanium), 안티모니(Sb;antimony) 및 텔루리움(Te;tellurium)의 합금인 GexSbyTez(이하'GST')와 같은 물질이 이용된다.Phase change material refers to a material such as chalcogenide, whose resistance changes due to a change in phase with a temperature change. Generally, germanium (Ge), antimony (Sb) and antimony and Materials such as Ge x Sb y Te z (hereinafter 'GST'), an alloy of tellurium (Te) are used.

상변화 물질은 상(phase)이 온도에 따라 비정질화(amorphous) 상태 또는 결 정화(crystalline) 상태의 두 가지 상태로 빠르게 변화될 수 있는 성질 때문에 반도체 메모리 장치에 유용하게 이용될 수 있다.Phase change materials can be usefully used in semiconductor memory devices because of the property that a phase can quickly change into two states, an amorphous state or a crystalline state, depending on temperature.

또한, 상변화 물질은 비정질 상태에서는 고 저항 상태가 되고 결정화 상태에서는 저 저항 상태가 되기 때문에, 비정질 상태인 경우를'리셋(RESET)' 또는 논리 '1'이라고 정의하고 상기 상 변환물질이 결정화 상태인 경우를 '셋(SET)' 또는 논리 '0'으로 정의하거나, 이와 반대로 정의함에 의해 반도체 메모리 장치에 응용될 수 있는 것이다.In addition, since the phase change material becomes a high resistance state in the amorphous state and a low resistance state in the crystallization state, the case of the amorphous state is defined as 'RESET' or logic '1', and the phase conversion material is in a crystallization state. Is defined as 'SET' or logic '0', or vice versa, which can be applied to a semiconductor memory device.

한편, PCRAM과 같은 비휘발성 메모리의 경우, 셀(Cell)의 특성에 따른 전류(Current) 변화를 증폭하여 데이타(Data)로 내보내게 된다. 이에 따라, DRAM에 비해 상대적으로 적은 셀 피치(Cell Pitch)에서 보다 많은 수의 센스 앰프(Sense Amplifier)를 필요로 하게 된다.On the other hand, in the case of a nonvolatile memory such as a PCRAM, the current change according to the characteristics of the cell is amplified and exported as data. Accordingly, a larger number of sense amplifiers are required at a smaller cell pitch compared to DRAM.

도 1은 종래 기술에 따른 센스앰프(Sense Amplifier)의 레이아웃 구조를 설명하기 위한 레이아웃 도이다.1 is a layout diagram illustrating a layout structure of a sense amplifier according to the prior art.

도 1에 도시된 바와 같이, 센스앰프의 레이아웃 구조를 살펴보면, 좌측에서 우측으로 나란하게 배치(m0, m1,...)되어있고, 하부층(Under layer) 즉, 게이트로 연결상태가 불가능한 부분은 서로 간의 연결부분을 해결하기 위해 B,C 영역에서 금속배선(Metal Layer)을 사용하였다. 또한, 서로 간의 미스매치(Mismatch)를 줄이기 위해 대칭형태의 레이아웃 구조로 배치하였다. As shown in FIG. 1, the layout structure of the sense amplifier is arranged side by side (m0, m1, ...) from left to right, and an under layer, that is, a part which cannot be connected to the gate, is In order to solve the connection between each other, metal layers were used in the B and C regions. In addition, in order to reduce mismatch between each other, they are arranged in a symmetrical layout structure.

그러나, 종래 기술은 레이아웃 구조가 나란하게 구성되어 있어 셀 피치(Cell Pitch)인 'A'의 길이가 반도체 소자의 축소화(shrink)로 인해서 줄어들 경우, 원하 는 코어 유닛 셀 피치(Core Unit Cell Pitch)에 센스앰프를 배치할 수 없는 문제점이 있다. 또한, 서로의 연결을 위해 금속배선(Metal Layer)을 사용함으로써 블록(block)의 배선 효율도 떨어지는 문제점이 있다.However, in the related art, when the length of the cell pitch 'A' is reduced due to shrinking of the semiconductor device, the desired core unit cell pitch is formed. There is a problem in that a sense amplifier cannot be arranged in the. In addition, there is a problem in that the wiring efficiency of the block is also reduced by using a metal layer for the connection with each other.

본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 코어 유닛 셀 피치(Core Unit Cell Pitch) 감소에 따른 센스앰프의 폭 문제를 해결할 수 있는 센스앰프 레이아웃 구조를 제공하는데 그 목적이 있다. The present invention has been proposed to solve the above-described problems of the prior art, and an object thereof is to provide a sense amplifier layout structure capable of solving the width problem of the sense amplifier caused by the reduction of the core unit cell pitch. .

또 다른 목적으로, 블록의 배선효율을 확보할 수 있는 센스앰프 레이아웃 구조를 제공하는데 그 목적이 있다.Another object is to provide a sense amplifier layout structure that can ensure the wiring efficiency of the block.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 센스앰프 레이아웃 구조는 회로 내에 일정개의 트랜지스터를 포함하는 센스앰프에 있어서, 한 열당 2개의 트랜지스터를 배치하고, 마지막 열에 하나의 트랜지스터를 배치하는 것을 특징으로 한다.The sense amplifier layout structure of the present invention for achieving the above object is characterized in that in the sense amplifier including a certain transistor in the circuit, two transistors per column and one transistor in the last column.

특히, 상기 트랜지스터는 PMOS와 NMOS의 트랜지스터들을 포함하되, PMOS와 NMOS의 트랜지스터들은 대칭으로 배치되는 것을 특징으로 한다.In particular, the transistor includes transistors of PMOS and NMOS, and the transistors of PMOS and NMOS are arranged symmetrically.

또한, 상기 센스앰프는 비휘발성 메모리에 적용되며, 특히 상변화 메모리에 적용되는 것을 특징으로 한다.In addition, the sense amplifier is applied to the non-volatile memory, in particular characterized in that applied to the phase change memory.

또한, 상기 센스앰프는 어래이로 반복 배치되는 것을 포함하며, 상기 어래이로 반복 배치된 센스앰프에서, 인접하는 센스앰프는 공용신호를 공유하는 것을 특징으로 한다.In addition, the sense amplifier may include repeatedly arranged in an array, and in the sense amplifier repeatedly arranged in the array, adjacent sense amplifiers may be configured to share a common signal.

또한, 상기 트랜지스터 간의 연결 및 상기 트랜지스터와 상기 공용신호의 연 결은 게이트를 이용하는 것을 특징으로 한다.In addition, the connection between the transistors and the connection between the transistor and the common signal may be characterized by using a gate.

상술한 본 발명의 실시예에 따른 센스앰프 레이아웃 구조는 트랜지스터를 각 열에 2개씩 배치함으로써 센스앰프의 폭을 감소시키는 효과가 있다.The sense amplifier layout structure according to the embodiment of the present invention described above has the effect of reducing the width of the sense amplifier by arranging two transistors in each column.

또한, 각 트랜지스터들의 연결 및 신호와의 연결을 하부층인 게이트를 이용함으로써 금속배선의 활용을 최소화시켜 블록 배선 효율을 극대화하는 효과가 있다.In addition, by using a gate, which is a lower layer, for connecting the transistors and connecting the signals, the utilization of metal wiring is minimized, thereby maximizing block wiring efficiency.

이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 실시예를 첨부 도면을 참조하여 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, so that those skilled in the art can easily carry out the technical idea of the present invention.

반도체 메모리는 크게 뱅크(Bank)로 이루어지며, 뱅크(Bank) 내에 블록 어드레스(Block Address)로 구분되는 셀 어래이(Cell Array)와 일정한 셀 어래이 단위의 데이타(Data)를 선택하여 증폭하는 센스앰프 어래이(Sense Amplifier array)가 존배하고, 센스앰프가 데이타를 증폭하여 래치(Latch)하는 역할을 한다. 본 발명은 DRAM 및 비휘발성 메모리에 적용될 수 있으며, 특히 상변화에 의한 저항 변화를 이용(셀의 저항 특성의 차이를 이용하여 전류 변화를 감지하여 그 차이를 센싱)하는 PCRAM(Phase Change RAM)에서 센스앰프 레이아웃 구조 및 센스앰프 어래이의 레이 아웃 구조에 대해 설명하기로 한다.A semiconductor memory is largely composed of a bank, and a cell array divided by a block address in a bank and a sense amplifier array for selecting and amplifying data in a unit cell array unit. A sense amplifier array exists, and a sense amplifier amplifies and latches data. The present invention can be applied to DRAM and non-volatile memory, especially in PCRAM (Phase Change RAM) that uses the resistance change by the phase change (a current change is sensed by sensing the difference in the resistance characteristics of the cell). The sense amplifier layout structure and the layout structure of the sense amplifier array will be described.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 센스앰프 레이아웃 구조를 설명하기 위한 레이아웃 도이다. 2 is a layout diagram illustrating a sense amplifier layout structure according to an embodiment of the present invention.

도 2에 도시된 바와 같이, 센스앰프는 프리차징 동작을 위한 트랜지스터(m0, m3), 감지 증폭동작을 위한 트랜지스터(m1, m2, m4, m5), 기준전압을 받는 트랜지스터(m6), 입력신호를 받는 트랜지스터(m7) 및 인에이블 동작을 위한 트랜지스터(m8)로 구성된다. 이때, m0 내지 m3은 PMOS 트랜지스터들이며, m4 내지 m8은 NMOS 트랜지스터들이다.As shown in FIG. 2, the sense amplifier includes transistors m0 and m3 for precharging operation, transistors m1, m2, m4 and m5 for sensing amplification operation, transistors m6 receiving a reference voltage, and an input signal. And a transistor m7 for enabling operation. At this time, m0 to m3 are PMOS transistors, and m4 to m8 are NMOS transistors.

먼저, 프리차징 동작을 위한 트랜지스터인 m0과 m3을 가장 윗 부분에 배치하고, 감지 증폭동작을 위한 트랜지스터인 m1과 m2를 그 하부에 배치한다. 따라서, PMOS 트랜지스터는 4개의 트랜지스터가 나란하게 배치되지 않고, 2개씩 2열로 배치된다. First, m0 and m3, which are transistors for precharging operation, are disposed at the top, and m1 and m2, which are transistors for the sense amplification operation, are disposed below. Therefore, in the PMOS transistors, four transistors are not arranged side by side, but two transistors are arranged in two.

그리고, 감지 증폭동작을 위한 트랜지스터인 m4와 m5를 상부에 배치하고, 기준전압을 받는 트랜지스터인 m6과 입력신호를 받는 트랜지스터인 m7을 그 하부에 배치한다. 따라서, NMOS 트랜지스터 역시 4개의 트랜지스터가 나란하게 배치되지 않고, 2개씩 2열로 배치된다. Then, the transistors m4 and m5 for the sense amplification operation are disposed on the upper side, and the transistor m6 that receives the reference voltage and the transistor m7 that receives the input signal are disposed below. Therefore, NMOS transistors are also arranged in two rows of two transistors instead of four transistors.

마지막으로, 인에이블 동작을 위한 트랜지스터인 m8은 최하단부에 배치된다.Finally, m8, a transistor for enable operation, is disposed at the bottom end.

위와 같이, 트랜지스터를 각 열에 2개씩 배치함으로써 셀 피치(Cell Pitch)인 'A'를 도 1보다 절반의 폭으로 줄일 수 있다.As described above, by arranging two transistors in each column, the cell pitch 'A' may be reduced to half the width of FIG. 1.

한편, PMOS 트랜지스터들과 NMOS 트랜지스터들은 트랜지스터 동작시 미스매 치(Mismatch)를 최소화하기 위해 대칭적으로 배치된다. 이에 따라, PMOS 및 NMOS의 감지 증폭동작을 위한 트랜지스터들(m1, m2와 m4, m5)은 회로 특성상의 대칭성을 고려해서 대칭적으로 게이트 연결을 하며, 각 트랜지스터 간의 연결은 하부층인 게이트로 연결한다. On the other hand, PMOS transistors and NMOS transistors are arranged symmetrically to minimize mismatch during transistor operation. Accordingly, the transistors m1, m2, m4, and m5 for the sense amplification operation of the PMOS and NMOS are symmetrically connected in consideration of the symmetry of the circuit characteristics, and the connection between each transistor is connected to the gate, which is a lower layer. .

또한, 프리차징 동작을 위한 트랜지스터인 m0, m3와 인에이블 동작을 위한 트랜지스터인 m8은 하부층 즉, 게이트를 통해 SEN2에 연결되며, 기준전압을 받는 트랜지스터인 m6은 게이트를 통해 VSREF에 연결된다.In addition, m0 and m3, which are transistors for precharging operation, and m8, which is a transistor for enable operation, are connected to SEN2 through a lower layer, that is, a gate, and m6, which is a reference voltage, is connected to VSREF through a gate.

위와 같이, 트랜지스터들을 대칭적으로 연결하여 미스매치를 최소화함으로써 센스앰프의 성능을 최대화할 수 있으며, 트랜지스터들의 연결 및 트랜지스터와 신호와의 연결을 하부층인 게이트로 연결함으로써, 금속배선의 활용을 최소화시킬 수 있으며, 따라서 블록 배선 효율을 극대화 하며, 차후 금속배선을 파워(Power)로 대체할 수 있는 장점이 있다.As described above, the performance of the sense amplifier can be maximized by symmetrically connecting the transistors to minimize mismatch, and minimizing the use of metal wiring by connecting the transistors and the connection between the transistors and the signal to the lower layer of the gate. Therefore, the block wiring efficiency can be maximized, and metal wiring can be replaced with power in the future.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 센스앰프의 어래이 패턴(Array Pattern)을 설명하기 위한 레이아웃 도이다.3 is a layout diagram illustrating an array pattern of a sense amplifier according to an embodiment of the present invention.

도 3에 도시된 바와 같이, 인접한 센스앰프끼리 공용신호를 서로 공유하도록 배치함으로써, 2개의 센스앰프를 1쌍(Pair)로 하여 피치드 레이아웃(Pitched Layout) 구조가 되도록 한다. As shown in FIG. 3, adjacent sense amplifiers are arranged to share a common signal with each other, so that two sense amplifiers are paired to form a pitched layout structure.

특히, 센스앰프의 반복 배치시 공용신호(Common Signal)인 VSREF와 SEN2 신호를 각 센스앰프에 하나씩 배치하지 않고, 인접한 센스앰프와 서로 공유하도록 배 치함으로써 면적을 최소화시킬 수 있다. 따라서, 매트(MAT) 당 센스앰프 개수를 최대화할 수 있다. 또한, 이를 통해 배선 패터닝(Layer Patterning)시 공정상의 오차를 최소화할 수 있다.In particular, in the repeated arrangement of the sense amplifiers, the common signals (Common Signal) VSREF and SEN2 signals are not disposed one by one in each sense amplifier, it is possible to minimize the area by arranging to share with each other adjacent sense amplifiers. Therefore, the number of sense amplifiers per MAT can be maximized. In addition, this can minimize process errors during layer patterning.

본 발명의 실시예는 4개의 센스앰프가 어래이로 배치된 모습을 도시하고 있으나, 이는 설명의 편의를 위한 것이며 이에 한정되지 않고 반복 배치될 수 있다. Although the embodiment of the present invention shows the four sense amplifiers are arranged in an array, this is for convenience of description and is not limited thereto and may be repeatedly arranged.

이렇듯, 본 발명의 기술 사상은 상기 실시예에 따라 구체적으로 기술되었으나, 상기한 실시예는 그 설명을 위한 것이며 그 제한을 위한 것이 아님을 주의하여야 한다. 또한, 본 발명의 기술 분야의 통상의 전문가라면 본 발명의 기술 사상의 범위 내에서 다양한 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.As such, although the technical idea of the present invention has been described in detail according to the above embodiments, it should be noted that the above embodiments are for the purpose of description and not of limitation. In addition, those skilled in the art will understand that various embodiments are possible within the scope of the technical idea of the present invention.

도 1은 종래 기술에 따른 센스앰프(Sense Amplayer)의 레이아웃 구조를 설명하기 위한 레이아웃 도,1 is a layout diagram illustrating a layout structure of a sense amp player according to the prior art;

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 센스앰프 레이아웃 구조를 설명하기 위한 레이아웃 도,2 is a layout for explaining a sense amplifier layout structure according to an embodiment of the present invention;

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 센스앰프의 어래이 패턴(Array Pattern)을 설명하기 위한 레이아웃 도.3 is a layout diagram illustrating an array pattern of a sense amplifier according to an embodiment of the present invention.

Claims (8)

회로 내에 일정개의 트랜지스터를 포함하는 센스앰프에 있어서,In a sense amplifier comprising a certain transistor in the circuit, 한 열당 2개의 트랜지스터를 배치하고, 마지막 열에 하나의 트랜지스터를 배치하는 센스앰프 레이아웃 구조.A sense amplifier layout structure in which two transistors are arranged in one column, and one transistor is arranged in the last column. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 트랜지스터는 PMOS와 NMOS의 트랜지스터들을 포함하는 센스앰프 레이아웃 구조.Wherein said transistor comprises transistors of PMOS and NMOS. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 PMOS와 NMOS의 트랜지스터들은 대칭으로 배치되는 센스앰프 레이아웃 구조.A sense amplifier layout structure wherein transistors of the PMOS and NMOS are arranged symmetrically. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 센스앰프는 비휘발성 메모리에 적용되는 센스앰프 레이아웃 구조.And the sense amplifier is applied to a nonvolatile memory. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 센스앰프는 상변화 메모리에 적용되는 센스앰프 레이아웃 구조.And a sense amplifier layout structure applied to a phase change memory. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 센스앰프는 어래이로 반복 배치되는 것을 포함하는 센스앰프 레이아웃 구조.And the sense amplifier is repeatedly arranged in an array. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 어래이로 반복 배치된 센스앰프에서,In the sense amplifier repeatedly arranged in the array, 인접하는 센스앰프는 공용신호를 공유하는 센스앰프 레이아웃 구조.A sense amplifier layout structure in which adjacent sense amplifiers share a common signal. 제1항 또는 제7항에 있어서,The method according to claim 1 or 7, 상기 트랜지스터 간의 연결 및 상기 트랜지스터와 상기 공용신호의 연결은 게이트를 이용하는 센스앰프 레이아웃 구조.A sense amplifier layout structure wherein a connection between the transistors and a connection between the transistor and the common signal use a gate.
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