KR20110017654A - Gas sampling purge apparatus - Google Patents

Gas sampling purge apparatus Download PDF

Info

Publication number
KR20110017654A
KR20110017654A KR1020090075234A KR20090075234A KR20110017654A KR 20110017654 A KR20110017654 A KR 20110017654A KR 1020090075234 A KR1020090075234 A KR 1020090075234A KR 20090075234 A KR20090075234 A KR 20090075234A KR 20110017654 A KR20110017654 A KR 20110017654A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
sampling
control valve
cleaning
line
Prior art date
Application number
KR1020090075234A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101064274B1 (en
Inventor
황건호
고종훈
Original Assignee
현대로템 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 현대로템 주식회사 filed Critical 현대로템 주식회사
Priority to KR1020090075234A priority Critical patent/KR101064274B1/en
Publication of KR20110017654A publication Critical patent/KR20110017654A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101064274B1 publication Critical patent/KR101064274B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
    • G01N1/28—Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
    • G01N1/34—Purifying; Cleaning
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
    • G01N1/02—Devices for withdrawing samples
    • G01N1/22—Devices for withdrawing samples in the gaseous state
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
    • G01N2001/002—Devices for supplying or distributing samples to an analysing apparatus

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)

Abstract

PURPOSE: A gas sampling and cleaning device is provided to simultaneously perform a sampling process using a sampling line and a washing process using another sampling line. CONSTITUTION: A gas sampling and cleaning device comprises a first sampling line(10), a second sampling line(20), a purge gas supply line(30), and a controller(40). The first sampling line offers the route of supplying the sampling gas from a first gas sampling probe(11) to a gas analysis device. The first sampling line is installed between the first gas sampling probe and the gas analysis device and operated relative to the opening and shutting of a first control valve.

Description

가스 샘플링 및 세정장치{GAS SAMPLING PURGE APPARATUS}GAS SAMPLING PURGE APPARATUS}

본 발명은 가스 샘플링 및 세정장치에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 상호 영향을 주지 않으면서도 샘플링 공정과 세정 공정을 동시에 수행할 수 있는 가스 샘플링 및 세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a gas sampling and cleaning apparatus. More specifically, the present invention relates to a gas sampling and cleaning apparatus capable of simultaneously performing a sampling process and a cleaning process without mutual influence.

가스분석장치는 대기환경보호, 가스의 재활용, 연료의 최적 연소제어를 목적으로 산업현장에서 널리 사용되고 있다.Gas analyzers are widely used in industrial fields for the purpose of protecting the atmosphere, recycling gases, and controlling optimum combustion of fuels.

정밀한 가스분석을 위해서는 가스를 정밀하게 추출하기 위한 가스 샘플링 프로브가 이용된다.For accurate gas analysis, gas sampling probes for precise gas extraction are used.

하지만 가스 샘플링 프로브는 분진, 수분 등이 다량 발생하는 장소나 고온 지역에 설치되어야 하는 이유로 여러 가지 문제점이 발생한다.However, gas sampling probes have various problems because they need to be installed in a place where a lot of dust, moisture, etc. are generated or a high temperature area.

보다 구체적으로, 가스 샘플링 프로브가 고온 지역에 설치되는 경우, 설비 스택(stack) 내외부의 온도차이로 인하여 발생하는 수분에 의한 영향으로 가스 샘플링 프로브가 샘플링하는 샘플링 가스에는 수분이 다량 함유되게 된다. 이 다량의 수분을 함유하고 있는 샘플링 가스가 가스분석장치로 공급됨으로 인하여, 가스분석 장치가 고장나는 문제점이 발생한다.More specifically, when the gas sampling probe is installed in a high temperature region, a large amount of moisture is contained in the sampling gas sampled by the gas sampling probe due to the influence of moisture generated by the temperature difference between the inside and the outside of the equipment stack. Since the sampling gas containing a large amount of water is supplied to the gas analyzer, the gas analyzer fails.

또한, 가스 샘플링 프로브가 고밀도 분진 지역에 설치되는 경우, 고밀도 분진에 의하여 가스 샘플링 프로브와 샘플링라인이 막히게 되어, 가스분석이 불가능해지는 문제점이 발생한다.In addition, when the gas sampling probe is installed in the high-density dust area, the gas sampling probe and the sampling line are blocked by the high-density dust, which causes a problem that gas analysis becomes impossible.

또한, 가스 샘플링 프로브가 설비 스택 등의 유독가스 지역에 설치되는 경우, 작업자에 의한 정비 작업 시 가스중독사고가 발생할 수 있는 문제점이 있다.In addition, when the gas sampling probe is installed in a toxic gas area such as an equipment stack, there is a problem that a gas poisoning accident may occur during maintenance work by an operator.

이러한 문제점들을 해결하기 위하여, 자동으로 연속적인 가스 샘플링 프로브와 샘플링라인에 대한 세정작업을 수행하여야 한다.To solve these problems, it is necessary to automatically clean the continuous gas sampling probe and sampling line.

도 1은 이러한 종래의 가스 샘플링 및 세정 방식을 설명하기 위한 도면이다.1 is a view for explaining the conventional gas sampling and cleaning method.

도 1을 참조하면, 먼저, 샘플링가스가 도시하지 않은 제1 가스 샘플링 프로브로부터 제6 밸브(MV6) - 제3 밸브(MV3) - 제8 밸브(MV8)를 거쳐 가스분석장치로 공급된다.Referring to FIG. 1, first, a sampling gas is supplied to a gas analyzer from a first gas sampling probe (not shown) via a sixth valve MV6-third valve MV3-eighth valve MV8.

다음으로, 샘플링가스가 도시하지 않은 제2 가스 샘플링 프로브로부터 제7 밸브(MV7) - 제3 밸브(MV3) - 제8 밸브(MV8)를 거쳐 가스분석장치로 공급된다.Next, the sampling gas is supplied to the gas analyzer from the second gas sampling probe (not shown) via the seventh valve MV7-the third valve MV3-the eighth valve MV8.

다음으로, 제1 밸브(MV1) - 제2 밸브(MV2) - 제6 밸브(MV6)를 거쳐 제1 가스 샘플링 프로브로 세정가스가 공급된다.Next, the cleaning gas is supplied to the first gas sampling probe via the first valve MV1-second valve MV2-sixth valve MV6.

다음으로, 제1 밸브(MV1) - 제2 밸브(MV2) - 제7 밸브(MV7)를 거쳐 제2 가스 샘플링 프로브로 세정가스가 공급된다.Next, the cleaning gas is supplied to the second gas sampling probe via the first valve MV1-second valve MV2-seventh valve MV7.

이러한 사이클을 통하여, 가스 샘플링 및 가스 샘플링 프로브와 샘플링라인 에 대한 세정작업이 수행된다.Through this cycle, gas sampling and cleaning of gas sampling probes and sampling lines are performed.

그러나 종래의 이러한 방식에 따르면, 가스의 샘플링이 수행되는 경로와 세정의 경로가 도면부호 A 지점에서 중첩되게 되어, 가스의 샘플링과 세정을 동시에 수행할 수 없다는 문제점이 있다. 이에 따라, 공정 시간이 늘어나게 되어 시간적 측면에서의 공정 효율성이 저하되는 문제점이 발생한다.However, according to this conventional method, there is a problem that the path for sampling gas and the path for cleaning are overlapped at a point A, and thus the gas sampling and cleaning cannot be performed at the same time. As a result, the process time is increased, resulting in a decrease in process efficiency in terms of time.

또한, 세정 공정이 수행되는 시간동안 가스 샘플링 공정이 중단됨으로써, 시간적 측면에서의 가스분석의 정밀도가 떨어지는 문제점이 발생한다.In addition, the gas sampling process is interrupted during the time that the cleaning process is performed, so that the accuracy of gas analysis in terms of time is deteriorated.

또한, 연속적인 측정이 필요한 공정에는 사용이 불가능하다.In addition, it cannot be used in processes that require continuous measurement.

또한, 종래의 방식에 따르면, 샘플링라인 내부의 압력을 측정하는 장비나 표시하는 장비가 없어서, 작업자가 유량계의 유량을 육안으로 직접 확인하여야 하는 등으로 인하여 작업의 효율성이 크게 저하되고, 안전사고 발생의 위험이 상존하게 되는 문제점이 있다.In addition, according to the conventional method, since there is no equipment for measuring the pressure inside the sampling line or the display equipment, the operation efficiency is greatly reduced due to the operator having to check the flow rate of the flow meter with the naked eye, and a safety accident occurs. There is a problem that the risk of being present.

본 발명은 상호 영향을 주지 않으면서도 연속적인 샘플링 공정과 세정 공정을 동시에 수행할 수 있는 가스 샘플링 및 세정장치를 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.The present invention provides a gas sampling and cleaning apparatus capable of simultaneously performing a continuous sampling process and a cleaning process without affecting each other.

또한 본 발명은 가스 샘플링 공정 및 세정 공정을 원격에서 설정 조건에 따라 자동으로 수행할 수 있는 자동화된 가스 샘플링 및 세정장치를 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.It is another object of the present invention to provide an automated gas sampling and cleaning apparatus that can automatically perform a gas sampling process and a cleaning process according to a set condition remotely.

이러한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따른 가스 샘플링 및 세정장치는 제1 가스샘플링프로브와 가스분석장치 사이에 설치된 제1 제어밸브의 개폐에 따라 샘플링가스를 상기 제1 가스샘플링프로브로부터 상기 가스분석장치로 공급하기 위한 경로를 제공하는 제1 샘플링라인, 제2 가스샘플링프로브와 상기 가스분석장치 사이에 설치된 제2 제어밸브의 개폐에 따라 상기 샘플링가스를 상기 제2 가스샘플링프로브로부터 상기 가스분석장치로 공급하기 위한 경로를 제공하는 제2 샘플링라인, 상기 제1 샘플링라인과 상기 제2 샘플링라인을 세정하기 위한 세정가스가 공급되는 세정가스 공급단에 연결된 제3 제어밸브 및 상기 제3 제어밸브와 상기 제1 샘플링라인 사이에 설치된 제4 제어밸브의 개방에 따라 상기 세정가스를 상기 제1 샘플링라인에 공급하고, 상기 제3 제어밸브 및 상기 제3 제어밸브와 상기 제2 샘플링라인 사이에 설치된 제5 제어밸브의 개방에 따라 상기 세정가스를 상기 제2 샘플링라인으로 공급하기 위한 경로를 제공하는 세정가스 공급라인 및 상기 제1 샘플링라인과 제2 샘플링라인중 하나에 상기 샘플링가스가 공급되는 동안 다른 하나에 상기 세정가스가 공급되도록 상기 제1 제어밸브 내지 상기 제5 제어밸브의 개폐를 제어하는 제어부를 포함하여 구성된다.Gas sampling and cleaning device according to an aspect of the present invention for achieving the above technical problem is the sampling gas from the first gas sampling probe in accordance with the opening and closing of the first control valve installed between the first gas sampling probe and the gas analysis device The sampling gas is discharged from the second gas sampling probe according to opening and closing of a first sampling line, a second gas sampling probe, and a second control valve provided between the gas analyzer and the gas sampling device. A second sampling line providing a path for supply to a gas analyzer, a third control valve connected to a cleaning gas supply stage supplied with a cleaning gas for cleaning the first sampling line and the second sampling line, and the third The cleaning gas is supplied to the first sample according to the opening of the fourth control valve disposed between the control valve and the first sampling line. And a path for supplying the cleaning gas to the second sampling line according to the opening of the third control valve and the fifth control valve installed between the third control valve and the second sampling line. Controls opening and closing of the first control valve and the fifth control valve such that the cleaning gas is supplied to the other while the cleaning gas supply line and the sampling gas are supplied to one of the first sampling line and the second sampling line. It is configured to include a control unit.

상기 제어부는 상기 제1 제어밸브를 개방하여 상기 샘플링가스가 상기 제1 샘플링라인을 통하여 상기 가스분석장치로 공급되도록 제어하고, 상기 제2 제어밸브의 개방을 개시하여 상기 샘플링가스를 상기 제1 샘플링라인과 상기 제2 샘플링라인을 통하여 일정시간 동시에 샘플링하고, 상기 제1 제어밸브를 폐쇄하여 상기 샘플링가스가 상기 제2 샘플링라인을 통하여 상기 가스분석장치로 공급되도록 제어하고, 상기 제3 제어밸브와 상기 제4 제어밸브를 개방하여 상기 세정가스를 상기 세정가스 공급단으로부터 상기 제1 가스샘플링프로브로 공급함으로써 상기 제1 샘플링라인이 세정되도록 제어하고, 세정의 종료 후 상기 제1 제어밸브의 개방을 개시하여 상기 샘플링가스를 제1 샘플링라인과 상기 제2 샘플링라인을 통하여 일정시간 동시에 샘플링하고, 상기 제2 제어밸브를 폐쇄하여 상기 샘플링가스가 상기 제1 샘플링라인을 통하여 상기 가스분석장치로 공급되도록 제어하고, 상기 제3 제어밸브와 상기 제5 제어밸브를 개방하여 상기 세정가스를 상기 세정가스 공급단으로부터 상기 제2 가스샘플링프로브로 공급함으로써 상기 제2 샘플링라인이 세정되도록 제어하는 것을 특징으로 한다.The control unit opens the first control valve to control the sampling gas to be supplied to the gas analyzer through the first sampling line, and starts to open the second control valve to sample the sampling gas into the first sampling valve. Sampling at the same time through the line and the second sampling line at the same time, closing the first control valve to control the sampling gas to be supplied to the gas analyzing apparatus through the second sampling line, and The fourth control valve is opened to control the first sampling line to be cleaned by supplying the cleaning gas from the cleaning gas supply stage to the first gas sampling probe. After the cleaning is finished, opening of the first control valve is performed. Starting and simultaneously sampling the sampling gas through the first sampling line and the second sampling line for a predetermined time; The second control valve is closed to control the sampling gas to be supplied to the gas analyzer through the first sampling line, and the third control valve and the fifth control valve are opened to clean the cleaning gas. The second sampling line is controlled to be cleaned by supplying the second gas sampling probe from a supply stage.

이때 상기 제3 제어밸브는 세정가스이 주 공급 밸브로 상기 제4 제어밸브와 상기 제5 제어밸브의 오동작 또는 누설(leak)발생시 세정가스 유입을 1차적으로 차단하는 역할을 한다.In this case, the third control valve serves to block the inflow of the cleaning gas when the cleaning gas is a main supply valve when a malfunction or leakage occurs between the fourth control valve and the fifth control valve.

상기 세정가스가 배출되는 제1 출구인 상기 제1 가스샘플링프로브에 설치되어 상기 배출되는 세정가스의 압력을 측정하고 표시하기 위한 제1 압력게이지 및 상기 세정가스가 배출되는 제2 출구인 상기 제2 가스샘플링프로브에 설치되어 상기 배출되는 세정가스의 압력을 측정하고 표시하기 위한 제2 압력게이지를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.A first pressure gauge installed in the first gas sampling probe that is a first outlet through which the cleaning gas is discharged, and a second pressure gauge by which the cleaning gas is discharged and a first pressure gauge for measuring and displaying a pressure of the cleaning gas discharged; And a second pressure gauge installed in the gas sampling probe to measure and display the pressure of the discharged cleaning gas.

상기 제1 압력게이지와 일체화되도록 설치되어 상기 제1 압력게이지에서 측정된 압력이 기 설정된 압력보다 높은 경우 제1 경보신호를 상기 제어부로 전송하기 위한 제1 절환 스위치 및 상기 제2 압력게이지와 일체화되도록 설치되어 상기 제2 압력게이지에서 측정된 압력이 기 설정된 압력보다 높은 경우 제2 경보신호를 상기 제어부로 전송하기 위한 제2 절환 스위치를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.Installed to be integrated with the first pressure gauge to be integrated with the first switching switch and the second pressure gauge for transmitting a first alarm signal to the control unit when the pressure measured in the first pressure gauge is higher than a predetermined pressure. And a second switching switch for transmitting a second alarm signal to the controller when the pressure measured by the second pressure gauge is higher than a preset pressure.

상기 제어부는 프로그래머블 논리 제어기(Programmable Logic Controller)인 것을 특징으로 한다.The control unit is characterized in that the programmable logic controller (Programmable Logic Controller).

본 발명에 따르면, 샘플링가스의 분석을 위한 샘플링라인을 이중으로 구성함으로써 하나의 샘플링라인을 통하여 샘플링 공정이 수행되는 동안 다른 샘플링라인에 대한 세정 공정을 수행할 수 있다. 이에 따라, 상호 영향을 주지 않으면서도 연속적인 샘플링 공정과 세정 공정을 수행할 수 있게 되어, 공정의 안정성과 효율성 이 증대되는 효과가 있다.According to the present invention, since the sampling line for analyzing the sampling gas is configured in duplicate, the cleaning process for the other sampling lines can be performed while the sampling process is performed through one sampling line. Accordingly, it is possible to perform a continuous sampling process and a cleaning process without affecting each other, thereby increasing the stability and efficiency of the process.

또한 본 발명에 따르면, 가스 샘플링 공정 및 세정 공정을 원격에서 설정 조건에 따라 자동으로 수행할 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, there is an effect that the gas sampling process and the cleaning process can be automatically performed according to the set conditions from a remote.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예들을 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 가스 샘플링 및 세정장치를 나타낸 도면이고, 도 3은 도 2에 도시된 본 발명의 제1 실시 예의 작동 흐름을 나타낸 도면이고, 도 4는 도 2에 도시된 본 발명의 제1 실시 예에서의 밸브들의 개폐 타이밍을 나타낸 도면이다.2 is a view showing a gas sampling and cleaning apparatus according to a first embodiment of the present invention, Figure 3 is a view showing the operating flow of the first embodiment of the present invention shown in Figure 2, Figure 4 is a A diagram illustrating opening and closing timing of valves in the first exemplary embodiment of the present invention.

도 2 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 제1 실시 예에 따른 가스 샘플링 및 세정장치는 제1 샘플링라인(10), 제2 샘플링라인(20), 세정가스 공급라인(30) 및 제어부(40)를 포함하여 구성된다.2 to 4, the gas sampling and cleaning apparatus according to the first embodiment of the present invention includes a first sampling line 10, a second sampling line 20, a cleaning gas supply line 30, and a controller ( 40).

제1 샘플링라인(10)은 제1 가스샘플링프로브(11)와 가스분석장치(50) 사이에 설치된 제1 제어밸브(1)의 개폐에 따라 샘플링가스를 제1 가스샘플링프로브(11)로부터 가스분석장치(50)로 공급하기 위한 경로를 제공한다. 예를 들어, 샘플링가스는 철광석을 환원시켜 선철을 제조하는 제선공정에서 요구되는 각종 가스들일 수 있다. 이 샘플링가스는 제1 제어밸브(1)가 개방되었을 때 제1 가스샘플링프로 브(11)로부터 가스분석장치(50)로 공급되어 샘플링된다. 가스분석장치(50)는 샘플링된 샘플링가스의 조성비 등을 분석하기 위한 수단이다.The first sampling line 10 receives the sampling gas from the first gas sampling probe 11 according to the opening and closing of the first control valve 1 installed between the first gas sampling probe 11 and the gas analyzer 50. It provides a path for supply to the analysis device (50). For example, the sampling gas may be various gases required in the iron making process for reducing pig iron ore to produce pig iron. This sampling gas is supplied to the gas analyzer 50 from the first gas sampling probe 11 and sampled when the first control valve 1 is opened. The gas analyzer 50 is a means for analyzing the composition ratio of the sampled sampling gas.

제2 샘플링라인(20)은 제2 가스샘플링프로브(21)와 가스분석장치(50) 사이에 설치된 제2 제어밸브(2)의 개폐에 따라 샘플링가스를 제2 가스샘플링프로브(21)로부터 가스분석장치(50)로 공급하기 위한 경로를 제공한다. 이러한 제2 샘플링라인(20)은 후술하는 바와 같이 제1 샘플링라인(10)에 대한 세정작업이 진행 중일 때에도 샘플링가스분석을 위한 샘플링가스 샘플링 경로를 제공하기 위한 수단이다. 보다 구체적으로, 제1 제어밸브(1)와 제2 제어밸브(2)는 개방시점과 폐쇄시점이 상이하다. 이러한 제1 제어밸브(1)와 제2 제어밸브(2)의 개폐시점의 차이로 인하여 샘플링가스가 제1 샘플링라인(10)을 통하여 가스분석장치(50)로 공급되는 동안 제2 샘플링라인(20)으로의 샘플링가스의 유입이 차단되고, 샘플링가스가 제2 샘플링라인(20)을 통하여 가스분석장치(50)로 공급되는 동안 제1 샘플링라인(10)으로의 샘플링가스의 유입이 차단된다.The second sampling line 20 collects the sampling gas from the second gas sampling probe 21 according to the opening and closing of the second control valve 2 provided between the second gas sampling probe 21 and the gas analyzer 50. It provides a path for supply to the analysis device (50). As described later, the second sampling line 20 is a means for providing a sampling gas sampling path for sampling gas analysis even when a cleaning operation is performed on the first sampling line 10. More specifically, the first control valve 1 and the second control valve 2 have different opening and closing times. Due to the difference between the opening and closing times of the first control valve 1 and the second control valve 2, the second sampling line (while the sampling gas is supplied to the gas analyzer 50 through the first sampling line 10) The inflow of the sampling gas into 20 is blocked, and the inflow of the sampling gas into the first sampling line 10 is blocked while the sampling gas is supplied to the gas analyzer 50 through the second sampling line 20. .

세정가스 공급라인(30)은 세정가스공급단, 세정가스공급단에 연결된 제3 제어밸브(3), 제3 제어밸브(3)와 제1 샘플링라인(10)의 제1 가스샘플링프로브(11) 사이에 설치된 제4 제어밸브(4), 제3 제어밸브(3)와 제2 샘플링라인(20)의 제2 가스샘플링프로브(21) 사이에 설치된 제4 제어밸브(4)로 구성된다.The cleaning gas supply line 30 includes a cleaning gas supply stage, a third control valve 3 connected to the cleaning gas supply stage, a third control valve 3, and a first gas sampling probe 11 of the first sampling line 10. And a fourth control valve 4 disposed between the fourth control valve 4, the third control valve 3, and the second gas sampling probe 21 of the second sampling line 20.

이러한 세정가스 공급라인(30)은 제2 샘플링라인(20)을 통하여 샘플링가스가 샘플링되고 있는 경우 제1 샘플링라인(10)의 제1 가스샘플링프로브(11)로 세정가스를 공급하고, 제1 샘플링라인(10)을 통하여 샘플링가스가 샘플링되고 있는 경우 제 2 샘플링라인(20)의 제2 가스샘플링프로브(21)로 세정가스를 공급하기 위한 경로를 제공한다.The cleaning gas supply line 30 supplies the cleaning gas to the first gas sampling probe 11 of the first sampling line 10 when the sampling gas is being sampled through the second sampling line 20. When the sampling gas is being sampled through the sampling line 10, a path for supplying the cleaning gas to the second gas sampling probe 21 of the second sampling line 20 is provided.

보다 구체적으로, 1) 제1 제어밸브(1)가 폐쇄되고 제2 제어밸브(2)가 개방되어 제2 샘플링라인(20)을 통하여 샘플링가스가 샘플링되고 있는 경우, 세정가스 공급단(31)에 연결된 제3 제어밸브(3) 및 제3 제어밸브(3)와 제1 샘플링라인(10) 사이에 설치된 제4 제어밸브(4)의 개방에 따라 세정가스가 세정가스 공급단(31)으로부터 제1 샘플링라인(10)의 제1 가스샘플링프로브(11)로 공급된다. 예를 들어, 세정가스는 질소가스일 수 있으며, 공급되는 세정가스의 압력은 5 ~ 10 Kgf/cm2 정도로 설정할 수 있다. 세정가스의 압력조건을 이와 같이 설정함으로써, 제1 샘플링라인(10) 및 제1 가스샘플링프로브(11) 측의 오염물질들을 제거할 수 있다. 2) 제2 제어밸브(2)가 폐쇄되고 제1 제어밸브(1)가 개방되어 제1 샘플링라인(10)을 통하여 샘플링가스가 샘플링되고 있는 경우, 제3 제어밸브(3) 및 제3 제어밸브(3)와 제2 샘플링라인(20) 사이에 설치된 제5 제어밸브(5)의 개방에 따라 세정가스가 세정가스 공급단(31)으로부터 제2 샘플링라인(20)의 제1 가스샘플링프로브(11)로 공급된다. 이에 따라 제2 샘플링라인(20) 및 제2 가스샘플링프로브(21) 측의 오염물질들을 제거할 수 있다.More specifically, 1) when the first control valve 1 is closed and the second control valve 2 is opened and the sampling gas is being sampled through the second sampling line 20, the cleaning gas supply stage 31 is provided. The cleaning gas is supplied from the cleaning gas supply stage 31 according to the opening of the third control valve 3 and the fourth control valve 4 installed between the third control valve 3 and the first sampling line 10. The first gas sampling probe 11 of the first sampling line 10 is supplied. For example, the cleaning gas may be nitrogen gas, and the pressure of the cleaning gas supplied may be set to about 5 to 10 Kgf / cm 2 . By setting the pressure conditions of the cleaning gas in this way, contaminants on the side of the first sampling line 10 and the first gas sampling probe 11 can be removed. 2) When the second control valve 2 is closed and the first control valve 1 is opened and the sampling gas is being sampled through the first sampling line 10, the third control valve 3 and the third control. In response to the opening of the fifth control valve 5 provided between the valve 3 and the second sampling line 20, the cleaning gas is supplied from the cleaning gas supply stage 31 to the first gas sampling probe of the second sampling line 20. Supplied to (11). Accordingly, contaminants on the second sampling line 20 and the second gas sampling probe 21 may be removed.

제어부(40)는 제1 샘플링라인(10)과 제2 샘플링라인(20)중 하나에 샘플링가스가 공급되는 동안 다른 하나에 세정가스가 공급되도록 제1 제어밸브 내지 제5 제어밸브의 개폐를 제어하기 위한 수단이다.The controller 40 controls opening and closing of the first to fifth control valves such that the cleaning gas is supplied to the other while the sampling gas is supplied to one of the first sampling line 10 and the second sampling line 20. It is a means for.

제어부(40)의 동작을 도 3과 도 4를 참조하여 보다 구체적으로 설명한다.The operation of the controller 40 will be described in more detail with reference to FIGS. 3 and 4.

도 3과 도 4를 참조하면, 1) 먼저, 제어부(40)는 제1 제어밸브(1)를 개방함으로써 샘플링가스가 제1 가스샘플링프로브(11)로부터 제1 샘플링라인(10)을 통하여 가스분석장치(50)로 공급되도록 제어한다. 이에 따라, 제1 샘플링패스가 형성된다.Referring to FIGS. 3 and 4, first, first, the control unit 40 opens the first control valve 1 so that sampling gas flows from the first gas sampling probe 11 through the first sampling line 10. Control to be supplied to the analysis device (50). As a result, a first sampling path is formed.

2) 다음으로, 제어부(40)는 제2 제어밸브(2)의 개방을 개시하여 샘플링가스가 제1 샘플링라인(10)과 제2 샘플링라인(20)을 통하여 일정시간 동시에 샘플링되도록 제어한다. 이는 두 샘플링라인의 샘플링가스가 동일하도록 만들어 주어 샘플링가스의 오차를 줄여주는 역할을 한다.2) Next, the controller 40 starts to open the second control valve 2 to control the sampling gas to be simultaneously sampled through the first sampling line 10 and the second sampling line 20 for a predetermined time. This makes the sampling gas of the two sampling lines the same, thereby reducing the error of the sampling gas.

3) 다음으로, 제어부(40)는 제1 제어밸브(1)를 폐쇄하여 샘플링가스가 제2 가스샘플링프로브(21)로부터 제2 샘플링라인(20)을 통하여 가스분석장치(50)로 공급되도록 제어한다. 이에 따라, 제1 샘플링패스는 폐쇄되고 제2 샘플링패스만이 형성된 상태가 된다.3) Next, the controller 40 closes the first control valve 1 so that the sampling gas is supplied from the second gas sampling probe 21 to the gas analyzer 50 through the second sampling line 20. To control. As a result, the first sampling path is closed and only the second sampling path is formed.

4) 다음으로, 제어부(40)는 제3 제어밸브(3)와 제4 제어밸브(4)를 개방하여 세정가스를 세정가스 공급단(31)으로부터 제1 샘플링라인(10)의 제1 가스샘플링프로브(11)로 공급함으로써 제1 샘플링라인(10)의 제1 가스샘플링프로브(11) 측이 세정되도록 제어한다. 도면부호 purge 2는 이때 형성되는 세정 패스를 나타낸다.4) Next, the control unit 40 opens the third control valve 3 and the fourth control valve 4 to supply the cleaning gas from the cleaning gas supply stage 31 to the first gas of the first sampling line 10. By supplying to the sampling probe 11, the first gas sampling probe 11 side of the first sampling line 10 is controlled to be cleaned. Reference numeral purge 2 denotes a cleaning pass formed at this time.

5) 다음으로, 제어부(40)는 제1 제어밸브(1)의 개방을 개시하여 샘플링가스가 제1 샘플링라인(10)과 제2 샘플링라인(20)을 통하여 일정시간 동시에 샘플링되도록 제어한다.5) Next, the controller 40 starts to open the first control valve 1 to control the sampling gas to be simultaneously sampled through the first sampling line 10 and the second sampling line 20 for a predetermined time.

6) 다음으로, 제어부(40)는 제2 제어밸브(2)를 폐쇄하여 샘플링가스가 제1 가스샘플링프로브(11)로부터 제1 샘플링라인(10)을 통하여 가스분석장치(50)로 공급되도록 제어한다. 이에 따라, 제2 샘플링패스는 폐쇄되고 제1 샘플링패스만이 형성된 상태가 된다.6) Next, the controller 40 closes the second control valve 2 so that the sampling gas is supplied from the first gas sampling probe 11 to the gas analyzer 50 through the first sampling line 10. To control. Accordingly, the second sampling path is closed and only the first sampling path is formed.

7) 다음으로, 제어부(40)는 제3 제어밸브(3)와 제5 제어밸브(5)를 개방하여 세정가스를 세정가스 공급단(31)으로부터 제2 샘플링라인(20)의 제2 가스샘플링프로브(21)로 공급함으로써 제2 샘플링라인(20)의 제2 가스샘플링프로브(21) 측이 세정되도록 제어한다. 도면부호 purge 1은 이때 형성되는 세정 패스를 나타낸다. 7) Next, the controller 40 opens the third control valve 3 and the fifth control valve 5 to supply the cleaning gas from the cleaning gas supply stage 31 to the second gas of the second sampling line 20. By supplying to the sampling probe 21, the second gas sampling probe 21 side of the second sampling line 20 is controlled to be cleaned. Reference numeral purge 1 denotes a cleaning pass formed at this time.

도면부호 C1 내지 C5는 제1 내지 제5 제어밸브의 개폐동작을 제어하기 위한 제어신호들이다.Reference numerals C1 to C5 denote control signals for controlling the opening and closing operations of the first to fifth control valves.

이러한 제어부(40)는 프로그래머블 논리 제어기(Programmable Logic Controller)를 사용하여 구현할 수 있다.The controller 40 may be implemented using a programmable logic controller.

한편 본 발명의 제1 실시 예는 세정가스가 배출되는 제1 출구인 제1 가스샘플링프로브(11)에 설치되어 배출되는 세정가스의 압력을 측정하고 표시하기 위한 제1 압력게이지(12), 제1 압력게이지(12)와 일체화되도록 설치되어 제1 압력게이지(12)에서 측정된 압력이 기 설정된 압력보다 높은 경우 제1 경보신호를 제어부(40)로 전송하기 위한 제1 절환 스위치(13), 세정가스가 배출되는 제2 출구인 제2 가스샘플링프로브(21)에 설치되어 배출되는 세정가스의 압력을 측정하고 표시하기 위한 제2 압력게이지(22) 및 제2 압력게이지(22)와 일체화되도록 설치되어 제2 압력게이지(22)에서 측정된 압력이 기 설정된 압력보다 높은 경우 제2 경보신호를 제어부(40)로 전송하기 위한 제2 절환 스위치(23)를 더 포함하여 구성될 수 있다.On the other hand, the first embodiment of the present invention is the first pressure gauge 12, which is installed in the first gas sampling probe 11, which is the first outlet through which the cleaning gas is discharged, for measuring and displaying the pressure of the cleaning gas discharged, A first switching switch 13 for transmitting the first alarm signal to the control unit 40 when the pressure measured by the first pressure gauge 12 is higher than a preset pressure, the pressure switch 12 being integrated with the first pressure gauge 12; Integrate with the second pressure gauge 22 and the second pressure gauge 22 to measure and display the pressure of the cleaning gas discharged by being installed at the second gas sampling probe 21 which is the second outlet through which the cleaning gas is discharged. When installed and the pressure measured by the second pressure gauge 22 is higher than the predetermined pressure may be configured to further include a second switching switch 23 for transmitting the second alarm signal to the control unit 40.

이에 따라, 작업자는 압력게이지들에 표시되는 압력 수치를 작업 수행에 활용할 수 있게 되어, 작업의 효율성이 향상된다.Accordingly, the operator can utilize the pressure value displayed on the pressure gauges to perform the work, thereby improving the work efficiency.

또한, 경보신호가 절환 스위치들로부터 제어부(40)로 전송되기 때문에, 공정의 자동화를 이룰 수 있다.In addition, since the alarm signal is transmitted from the switching switches to the control unit 40, the process can be automated.

예를 들어, 세정가스공급단으로 공급되는 세정가스의 압력이 7 Kgf/cm2이고 제1 가스샘플링프로브(11) 측에 설치된 제1 절환 스위치(13)에 기 설정되어 있는 압력이 5 Kgf/cm2이고 제1 압력게이지(12)에서 측정된 압력이 6 Kgf/cm2인 경우, 제1 절환 스위치(13)는 제1 가스샘플링프로브(11) 측의 내부 배관이 오염물질에 의하여 막혀 있음을 의미하는 제1 경보신호를 출력한다. 이에 따라, 공정 작업자의 대응조치가 신속하고 효율적으로 이루어질 수 있게 된다.For example, the pressure of the cleaning gas supplied to the cleaning gas supply stage is 7 Kgf / cm 2 , and the pressure preset in the first switching switch 13 installed at the first gas sampling probe 11 is 5 Kgf /. cm 2 and the pressure measured at the first pressure gauge 12 is 6 Kgf / cm 2 , the first switching switch 13 is blocked by contaminants in the inner pipe of the first gas sampling probe 11 side. Output a first alarm signal that means. Accordingly, the countermeasures of the process workers can be made quickly and efficiently.

도 5는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 가스 샘플링 및 세정장치를 나타낸 도면이고, 도 6은 도 5에 도시된 본 발명의 제2 실시 예의 작동 흐름을 나타낸 도면이고, 도 7은 도 5에 도시된 본 발명의 제2 실시 예에서의 밸브들의 개폐 타이밍을 나타낸 도면이다.5 is a view showing a gas sampling and cleaning apparatus according to a second embodiment of the present invention, Figure 6 is a view showing the operating flow of the second embodiment of the present invention shown in Figure 5, Figure 7 is a 2 is a diagram illustrating opening and closing timing of valves in the second exemplary embodiment of the present invention.

도 5 내지 도 7을 참조하면, 본 발명의 제2 실시 예는 앞서 상세히 설명한 본 발명의 제1 실시 예와 비교하여 세정가스가 공급되는 배관라인이 추가되는 점에 특징이 있다.5 to 7, the second embodiment of the present invention is characterized in that a pipe line through which cleaning gas is supplied is added as compared with the first embodiment of the present invention described above in detail.

이하에서는 본 발명의 제1 실시 예와 비교한 제2 실시 예의 특징을 위주로 설명한다.Hereinafter, the features of the second embodiment compared with the first embodiment of the present invention will be mainly described.

제1 샘플링라인(10)의 샘플링가스공급단 측에 오염물질을 필터링하기 위한 필터를 추가로 설치하고, 세정가스가 배출되는 배출구를 별도로 구성할 경우, 필터가 설치된 배관라인 및 배출구 측의 배관라인에 대한 세정작업도 요구된다. 이를 위하여, 필터가 설치된 배관라인에 대한 세정가스의 공급을 제어하기 위한 제6 제어밸브(6)와 세정가스 배출구 측의 배관라인에 대한 세정가스의 공급을 제어하기 위한 제7 제어밸브(7)가 추가되어 있다. 제2 샘플링라인(20)의 샘플링가스공급단 측의 구성도 제1 샘플링라인(10)의 샘플링가스공급단 측의 구성과 동일하다.In the case of additionally installing a filter for filtering contaminants on the sampling gas supply end side of the first sampling line 10 and separately configuring an outlet through which the cleaning gas is discharged, a pipe line in which the filter is installed and a pipe line on the outlet side Cleaning is also required. To this end, the sixth control valve 6 for controlling the supply of the cleaning gas to the pipe line with the filter and the seventh control valve 7 for controlling the supply of the cleaning gas to the piping line on the cleaning gas outlet side. Is added. The configuration of the sampling gas supply end side of the second sampling line 20 is also the same as the configuration of the sampling gas supply end side of the first sampling line 10.

제2 실시 예에서의 제어부(40)의 동작을 도 6과 도 7을 참조하여 구체적으로 설명한다.The operation of the controller 40 in the second embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 6 and 7.

도 6과 도 7을 참조하면, 1) 먼저, 제어부(40)는 제1 제어밸브(1)를 개방함으로써 샘플링가스가 제1 가스샘플링프로브(11)로부터 제1 샘플링라인(10)을 통하여 가스분석장치(50)로 공급되도록 제어한다. 이에 따라, 제1 샘플링패스가 형성된다.6 and 7, 1) First, the controller 40 opens the first control valve 1 so that the sampling gas flows from the first gas sampling probe 11 through the first sampling line 10. Control to be supplied to the analysis device (50). As a result, a first sampling path is formed.

2) 다음으로, 제어부(40)는 제2 제어밸브(2)의 개방을 개시하여 샘플링가스가 제1 샘플링라인(10)과 제2 샘플링라인(20)을 통하여 일정시간 동시에 샘플링되도록 제어한다.2) Next, the controller 40 starts to open the second control valve 2 to control the sampling gas to be simultaneously sampled through the first sampling line 10 and the second sampling line 20 for a predetermined time.

3) 다음으로, 제어부(40)는 제1 제어밸브(1)를 폐쇄하여 샘플링가스가 제2 가스샘플링프로브(21)로부터 제2 샘플링라인(20)을 통하여 가스분석장치(50)로 공급되도록 제어한다. 이에 따라, 제1 샘플링패스는 폐쇄되고 제2 샘플링패스만이 형성된 상태가 된다.3) Next, the controller 40 closes the first control valve 1 so that the sampling gas is supplied from the second gas sampling probe 21 to the gas analyzer 50 through the second sampling line 20. To control. As a result, the first sampling path is closed and only the second sampling path is formed.

4) 다음으로, 제어부(40)는 제3 제어밸브(3)와 제4 제어밸브(4)를 개방하여 세정가스를 세정가스 공급단(31)으로부터 제1 샘플링라인(10)의 제1 가스샘플링프로브(11)로 공급함으로써 제1 샘플링라인(10)의 제1 가스샘플링프로브(11) 측이 세정되도록 제어한다. 도면부호 purge 2-1은 이때 형성되는 세정 패스를 나타낸다.4) Next, the control unit 40 opens the third control valve 3 and the fourth control valve 4 to supply the cleaning gas from the cleaning gas supply stage 31 to the first gas of the first sampling line 10. By supplying to the sampling probe 11, the first gas sampling probe 11 side of the first sampling line 10 is controlled to be cleaned. Reference numeral purge 2-1 denotes a cleaning pass formed at this time.

5) 다음으로, 제어부(40)는 제3 제어밸브(3)의 개방을 유지하면서 제4 제어밸브(4)를 폐쇄하고 제6 제어밸브(6)를 개방하여 세정가스를 세정가스 공급단(31)으로부터 제1 가스샘플링프로브(11) 측의 필터가 설치된 배관라인으로 공급함으로써 필터가 설치된 배관라인이 세정되도록 제어한다. 도면부호 purge 2-2는 이때 형성되는 세정 패스를 나타낸다.5) Next, the controller 40 closes the fourth control valve 4 and opens the sixth control valve 6 while maintaining the opening of the third control valve 3 to supply the cleaning gas to the cleaning gas supply stage ( 31 is supplied to the pipe line in which the filter on the side of the first gas sampling probe 11 is installed so as to clean the pipe line in which the filter is installed. Reference numeral purge 2-2 denotes a cleaning pass formed at this time.

6) 다음으로, 제어부(40)는 제3 제어밸브(3)의 개방을 유지하면서 제6 제어밸브(6)를 폐쇄하고 제7 제어밸브(7)를 개방하여 세정가스를 세정가스 공급단(31)으로부터 세정가스 배출구 측의 배관라인으로 공급함으로써 세정가스 배출구 측의 배관라인이 세정되도록 제어한다. 도면부호 purge 2-3은 이때 형성되는 세정 패스를 나타낸다.6) Next, the control unit 40 closes the sixth control valve 6 and opens the seventh control valve 7 while maintaining the opening of the third control valve 3 to supply the cleaning gas to the cleaning gas supply stage ( 31) it is controlled to clean the piping line on the cleaning gas outlet side by supplying to the piping line on the cleaning gas outlet side. Reference numeral purge 2-3 denotes a cleaning pass formed at this time.

7) 다음으로, 제어부(40)는 제1 제어밸브(1)의 개방을 개시하여 샘플링가스가 제1 샘플링라인(10)과 제2 샘플링라인(20)을 통하여 일정시간 동시에 샘플링되도록 제어한다.7) Next, the controller 40 starts to open the first control valve 1 to control the sampling gas to be simultaneously sampled through the first sampling line 10 and the second sampling line 20 for a predetermined time.

8) 다음으로, 제어부(40)는 제2 제어밸브(2)를 폐쇄하여 샘플링가스가 제1 가스샘플링프로브(11)로부터 제1 샘플링라인(10)을 통하여 가스분석장치(50)로 공급되도록 제어한다. 이에 따라, 제2 샘플링패스는 폐쇄되고 제1 샘플링패스만이 형성된 상태가 된다.8) Next, the control unit 40 closes the second control valve 2 so that the sampling gas is supplied from the first gas sampling probe 11 to the gas analyzer 50 through the first sampling line 10. To control. Accordingly, the second sampling path is closed and only the first sampling path is formed.

9) 다음으로, 제어부(40)는 제3 제어밸브(3)와 제5 제어밸브(5)를 개방하여 세정가스를 세정가스 공급단(31)으로부터 제2 샘플링라인(20)의 제2 가스샘플링프로브(21)로 공급함으로써 제2 샘플링라인(20)의 제2 가스샘플링프로브(21) 측이 세정되도록 제어한다. 도면부호 purge 1-1은 이때 형성되는 세정 패스를 나타낸다.9) Next, the controller 40 opens the third control valve 3 and the fifth control valve 5 to supply the cleaning gas to the second gas of the second sampling line 20 from the cleaning gas supply stage 31. By supplying to the sampling probe 21, the second gas sampling probe 21 side of the second sampling line 20 is controlled to be cleaned. Reference numeral purge 1-1 denotes a cleaning pass formed at this time.

5) 다음으로, 제어부(40)는 제3 제어밸브(3)의 개방을 유지하면서 제5 제어밸브(5)를 폐쇄하고 제8 제어밸브(8)를 개방하여 세정가스를 세정가스 공급단(31)으로부터 제2 가스샘플링프로브(21) 측의 필터가 설치된 배관라인으로 공급함으로써 필터가 설치된 배관라인이 세정되도록 제어한다. 도면부호 purge 1-2는 이때 형성되는 세정 패스를 나타낸다.5) Next, the controller 40 closes the fifth control valve 5 and opens the eighth control valve 8 while maintaining the opening of the third control valve 3 to supply the cleaning gas to the cleaning gas supply stage ( 31 is supplied to the pipe line in which the filter on the side of the second gas sampling probe 21 is installed, so that the pipe line in which the filter is installed is cleaned. Reference numeral purge 1-2 denotes a cleaning pass formed at this time.

6) 다음으로, 제어부(40)는 제3 제어밸브(3)의 개방을 유지하면서 제8 제어밸브(8)를 폐쇄하고 제9 제어밸브(9)를 개방하여 세정가스를 세정가스 공급단(31)으로부터 세정가스 배출구 측의 배관라인으로 공급함으로써 세정가스 배출구 측의 배관라인이 세정되도록 제어한다. 도면부호 purge 1-3은 이때 형성되는 세정 패스를 나타낸다.6) Next, the controller 40 closes the eighth control valve 8 and opens the ninth control valve 9 while maintaining the opening of the third control valve 3 to supply the cleaning gas to the cleaning gas supply stage ( 31) it is controlled to clean the piping line on the cleaning gas outlet side by supplying to the piping line on the cleaning gas outlet side. Reference numeral purge 1-3 denotes a cleaning pass formed at this time.

도면부호 C1 내지 C9는 제1 내지 제9 제어밸브의 개폐동작을 제어하기 위한 제어신호들이다.Reference numerals C1 to C9 denote control signals for controlling opening and closing operations of the first to ninth control valves.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명에 따르면, 샘플링가스의 분석을 위한 샘플링라인을 이중으로 구성함으로써 하나의 샘플링라인을 통하여 샘플링 공정이 수행되는 동안 다른 샘플링라인에 대한 세정 공정을 수행할 수 있다. 이에 따라, 상호 영향을 주지 않으면서도 연속적인 샘플링 공정과 세정 공정을 수행할 수 있게 되어, 공정의 안정성과 효율성이 증대되는 효과가 있다.As described in detail above, according to the present invention, the sampling line for analyzing the sampling gas may be dually configured to perform the cleaning process for the other sampling lines while the sampling process is performed through one sampling line. Accordingly, it is possible to perform the continuous sampling process and the cleaning process without mutual influence, thereby increasing the stability and efficiency of the process.

또한 본 발명에 따르면, 가스 샘플링 공정 및 세정 공정을 원격에서 설정 조건에 따라 자동으로 수행할 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, there is an effect that the gas sampling process and the cleaning process can be automatically performed according to the set conditions from a remote.

이상에서 본 발명에 대한 기술사상을 첨부도면과 함께 서술하였지만 이는 본 발명의 바람직한 실시 예를 예시적으로 설명한 것이지 본 발명을 한정하는 것은 아니다. 또한, 이 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 누구나 본 발명의 기술사상의 범주를 이탈하지 않는 범위 내에서 다양한 변형 및 모방이 가능함은 명백한 사실이다.Although the technical spirit of the present invention has been described above with reference to the accompanying drawings, this is intended to describe exemplary embodiments of the present invention by way of example and not to limit the present invention. In addition, it is obvious that any person skilled in the art can make various modifications and imitations without departing from the scope of the technical idea of the present invention.

도 1은 종래의 가스 샘플링 및 세정방식을 나타낸 도면이다.1 is a view showing a conventional gas sampling and cleaning method.

도 2는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 가스 샘플링 및 세정장치를 나타낸 도면이다.2 is a view showing a gas sampling and cleaning apparatus according to a first embodiment of the present invention.

도 3은 도 2에 도시된 본 발명의 제1 실시 예의 작동 흐름을 나타낸 도면이다.FIG. 3 is a view showing the operational flow of the first embodiment of the present invention shown in FIG. 2.

도 4는 도 2에 도시된 본 발명의 제1 실시 예에서의 밸브들의 개폐 타이밍을 나타낸 도면이다.4 is a view illustrating opening and closing timing of valves in the first exemplary embodiment of the present invention shown in FIG. 2.

도 5는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 가스 샘플링 및 세정장치를 나타낸 도면이다.5 is a view showing a gas sampling and cleaning apparatus according to a second embodiment of the present invention.

도 6은 도 5에 도시된 본 발명의 제2 실시 예의 작동 흐름을 나타낸 도면이다.FIG. 6 is a view showing the operational flow of the second embodiment of the present invention shown in FIG.

도 7은 도 5에 도시된 본 발명의 제2 실시 예에서의 밸브들의 개폐 타이밍을 나타낸 도면이다.FIG. 7 is a view illustrating opening and closing timing of valves in the second exemplary embodiment of the present invention illustrated in FIG. 5.

***** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ********** Explanation of symbols for the main parts of the drawing *****

1: 제1 제어밸브 2: 제2 제어밸브1: first control valve 2: second control valve

3: 제3 제어밸브 4: 제4 제어밸브3: third control valve 4: fourth control valve

5: 제5 제어밸브 6: 제6 제어밸브5: fifth control valve 6: sixth control valve

7: 제7 제어밸브 8: 제8 제어밸브7: 7th control valve 8: 8th control valve

9: 제9 제어밸브 10: 제1 샘플링라인9: ninth control valve 10: first sampling line

11: 제1 가스샘플링프로브 12: 제1 압력게이지11: first gas sampling probe 12: first pressure gauge

13: 제1 절환 스위치 14: 제4 압력게이지13: 1st selector switch 14: 4th pressure gauge

15: 제4 절환 스위치 16: 제5 압력게이지15: fourth switching switch 16: fifth pressure gauge

17: 제5 절환 스위치 20: 제2 샘플링라인17: fifth switching switch 20: second sampling line

21: 제2 가스샘플링프로브 22: 제2 압력게이지21: second gas sampling probe 22: second pressure gauge

23: 제2 절환 스위치 24: 제6 압력게이지23: second switching switch 24: sixth pressure gauge

25: 제6 절환 스위치 26: 제7 압력게이지25: sixth selector switch 26: seventh pressure gauge

27: 제7 절환 스위치 30: 세정가스 공급라인27: seventh switch 30: cleaning gas supply line

31: 세정가스 공급단 40: 제어부31: cleaning gas supply stage 40: control unit

50: 가스분석장치50: gas analyzer

Claims (5)

제1 가스샘플링프로브와 가스분석장치 사이에 설치된 제1 제어밸브의 개폐에 따라 샘플링가스를 상기 제1 가스샘플링프로브로부터 상기 가스분석장치로 공급하기 위한 경로를 제공하는 제1 샘플링라인;A first sampling line providing a path for supplying sampling gas from the first gas sampling probe to the gas analyzer according to opening and closing of a first control valve installed between the first gas sampling probe and the gas analyzer; 제2 가스샘플링프로브와 상기 가스분석장치 사이에 설치된 제2 제어밸브의 개폐에 따라 상기 샘플링가스를 상기 제2 가스샘플링프로브로부터 상기 가스분석장치로 공급하기 위한 경로를 제공하는 제2 샘플링라인;A second sampling line providing a path for supplying the sampling gas from the second gas sampling probe to the gas analyzer according to opening and closing of a second control valve installed between the second gas sampling probe and the gas analyzer; 상기 제1 샘플링라인과 상기 제2 샘플링라인을 세정하기 위한 세정가스가 공급되는 세정가스 공급단에 연결된 제3 제어밸브 및 상기 제3 제어밸브와 상기 제1 샘플링라인 사이에 설치된 제4 제어밸브의 개방에 따라 상기 세정가스를 상기 제1 샘플링라인에 공급하고, 상기 제3 제어밸브 및 상기 제3 제어밸브와 상기 제2 샘플링라인 사이에 설치된 제5 제어밸브의 개방에 따라 상기 세정가스를 상기 제2 샘플링라인으로 공급하기 위한 경로를 제공하는 세정가스 공급라인; 및A third control valve connected to a cleaning gas supply stage to which cleaning gas for cleaning the first sampling line and the second sampling line is supplied; and a fourth control valve installed between the third control valve and the first sampling line. The cleaning gas is supplied to the first sampling line according to the opening, and the cleaning gas is supplied to the first sampling line according to the opening of the third control valve and the fifth control valve provided between the third control valve and the second sampling line. A cleaning gas supply line providing a path for supplying to the two sampling lines; And 상기 제1 샘플링라인과 제2 샘플링라인중 하나에 상기 샘플링가스가 공급되는 동안 다른 하나에 상기 세정가스가 공급되도록 상기 제1 제어밸브 내지 상기 제5 제어밸브의 개폐를 제어하는 제어부를 포함하는, 가스 샘플링 및 세정장치.And a controller configured to control opening and closing of the first to fifth control valves such that the cleaning gas is supplied to the other while the sampling gas is supplied to one of the first sampling line and the second sampling line. Gas sampling and cleaning device. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 제어부는The control unit 상기 제1 제어밸브를 개방하여 상기 샘플링가스가 상기 제1 샘플링라인을 통하여 상기 가스분석장치로 공급되도록 제어하고,Opening the first control valve to control the sampling gas to be supplied to the gas analyzer through the first sampling line; 상기 제2 제어밸브의 개방을 개시하여 상기 샘플링가스를 상기 제1 샘플링라인과 상기 제2 샘플링라인을 통하여 일정시간 동시에 샘플링하고,Starting the opening of the second control valve and simultaneously sampling the sampling gas through the first sampling line and the second sampling line for a predetermined time; 상기 제1 제어밸브를 폐쇄하여 상기 샘플링가스가 상기 제2 샘플링라인을 통하여 상기 가스분석장치로 공급되도록 제어하고,Closing the first control valve to control the sampling gas to be supplied to the gas analyzer through the second sampling line; 상기 제3 제어밸브와 상기 제4 제어밸브를 개방하여 상기 세정가스를 상기 세정가스 공급단으로부터 상기 제1 가스샘플링프로브로 공급함으로써 상기 제1 샘플링라인이 세정되도록 제어하고,Open the third control valve and the fourth control valve to control the first sampling line to be cleaned by supplying the cleaning gas from the cleaning gas supply end to the first gas sampling probe, 상기 제1 제어밸브의 개방을 개시하여 상기 샘플링가스를 제1 샘플링라인과 상기 제2 샘플링라인을 통하여 일정시간 동시에 샘플링하고, Starting the opening of the first control valve and simultaneously sampling the sampling gas through the first sampling line and the second sampling line for a predetermined time; 상기 제2 제어밸브를 폐쇄하여 상기 샘플링가스가 상기 제1 샘플링라인을 통하여 상기 가스분석장치로 공급되도록 제어하고,Closing the second control valve to control the sampling gas to be supplied to the gas analyzer through the first sampling line, 상기 제3 제어밸브와 상기 제5 제어밸브를 개방하여 상기 세정가스를 상기 세정가스 공급단으로부터 상기 제2 가스샘플링프로브로 공급함으로써 상기 제2 샘플링라인이 세정되도록 제어하는 것을 특징으로 하는, 가스 샘플링 및 세정장치.Opening the third control valve and the fifth control valve to control the second sampling line to be cleaned by supplying the cleaning gas from the cleaning gas supply end to the second gas sampling probe; And washing apparatus. 제1 항 또는 제2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 세정가스가 배출되는 제1 출구인 상기 제1 가스샘플링프로브에 설치되어 상기 배출되는 세정가스의 압력을 측정하고 표시하기 위한 제1 압력게이지; 및A first pressure gauge installed in the first gas sampling probe, which is a first outlet through which the cleaning gas is discharged, for measuring and displaying a pressure of the cleaning gas discharged; And 상기 세정가스가 배출되는 제2 출구인 상기 제2 가스샘플링프로브에 설치되어 상기 배출되는 세정가스의 압력을 측정하고 표시하기 위한 제2 압력게이지를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 가스 샘플링 및 세정장치.And a second pressure gauge installed at the second gas sampling probe, which is a second outlet through which the cleaning gas is discharged, to measure and display the pressure of the discharged cleaning gas. . 제3 항에 있어서,The method of claim 3, 상기 제1 압력게이지와 일체화되도록 설치되어 상기 제1 압력게이지에서 측정된 압력이 기 설정된 압력보다 높은 경우 제1 경보신호를 상기 제어부로 전송하기 위한 제1 절환 스위치; 및A first switching switch installed to be integrated with the first pressure gauge and configured to transmit a first alarm signal to the controller when the pressure measured by the first pressure gauge is higher than a preset pressure; And 상기 제2 압력게이지와 일체화되도록 설치되어 상기 제2 압력게이지에서 측정된 압력이 기 설정된 압력보다 높은 경우 제2 경보신호를 상기 제어부로 전송하기 위한 제2 절환 스위치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 가스 샘플링 및 세정장치.And a second switching switch configured to be integrated with the second pressure gauge and to transmit a second alarm signal to the controller when the pressure measured by the second pressure gauge is higher than a preset pressure. Gas sampling and cleaning device. 제1 항 또는 제2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 제어부는 프로그래머블 논리 제어기(Programmable Logic Controller)인 것을 특징으로 하는, 가스 샘플링 및 세정장치.And the control unit is a programmable logic controller.
KR1020090075234A 2009-08-14 2009-08-14 Gas sampling purge apparatus KR101064274B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090075234A KR101064274B1 (en) 2009-08-14 2009-08-14 Gas sampling purge apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090075234A KR101064274B1 (en) 2009-08-14 2009-08-14 Gas sampling purge apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110017654A true KR20110017654A (en) 2011-02-22
KR101064274B1 KR101064274B1 (en) 2011-09-14

Family

ID=43775612

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090075234A KR101064274B1 (en) 2009-08-14 2009-08-14 Gas sampling purge apparatus

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101064274B1 (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103900859A (en) * 2012-12-26 2014-07-02 上海巴斯夫聚氨酯有限公司 Device and method for sampling toxic gas during isocyanate production process
KR101589136B1 (en) 2015-09-09 2016-01-27 주식회사 주원 Dynamic calibration and sampling system
US9638609B2 (en) 2013-01-18 2017-05-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus for providing sample gas and related methods
CN107702952A (en) * 2017-11-28 2018-02-16 倪月舟 A kind of dusty gas continuous sampling device
KR20200056222A (en) * 2018-11-14 2020-05-22 숭실대학교산학협력단 Apparatus to measure gas and method to clean thereof

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01233342A (en) * 1988-03-15 1989-09-19 Unyusho Kowan Gijutsu Kenkyusho Method and apparatus for multipointed sampling of reagent solution
JP3422577B2 (en) * 1994-10-22 2003-06-30 株式会社堀場製作所 Multi-point sample measuring device
KR100230886B1 (en) * 1997-04-15 1999-11-15 이우복 Duct cleaning apparatus
JP3617622B2 (en) * 2000-11-02 2005-02-09 株式会社タクマ Gas analyzer

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103900859A (en) * 2012-12-26 2014-07-02 上海巴斯夫聚氨酯有限公司 Device and method for sampling toxic gas during isocyanate production process
CN103900859B (en) * 2012-12-26 2016-03-16 上海巴斯夫聚氨酯有限公司 A kind of isocyanates produce in the sampler of toxic gas and method
US9638609B2 (en) 2013-01-18 2017-05-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus for providing sample gas and related methods
KR101589136B1 (en) 2015-09-09 2016-01-27 주식회사 주원 Dynamic calibration and sampling system
CN107702952A (en) * 2017-11-28 2018-02-16 倪月舟 A kind of dusty gas continuous sampling device
KR20200056222A (en) * 2018-11-14 2020-05-22 숭실대학교산학협력단 Apparatus to measure gas and method to clean thereof

Also Published As

Publication number Publication date
KR101064274B1 (en) 2011-09-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10386861B2 (en) Pressure type flow control system with flow monitoring, and method for detecting anomaly in fluid supply system and handling method at abnormal monitoring flow rate using the same
KR102093571B1 (en) Leak test device and method
KR101064274B1 (en) Gas sampling purge apparatus
KR101658507B1 (en) Gas Sampler and Gas leakage Detection Device having the Same
CN108519461B (en) Exhaust gas analysis device and exhaust gas analysis method
KR101793550B1 (en) Gas analyzing system
CN103175589A (en) Measuring meter calibration device and method
CN105973954A (en) Oxygen content calibration gas sampling device and online oxygen content calibration method
KR101580129B1 (en) System for performance test of safety valve
CN106442890A (en) Multichannel rapid air changing double-pump type gas detecting device
KR200397044Y1 (en) Apparatus for testing of gas leaking
CN202814667U (en) Photoelectric instrument gas-tightness detector
CN102829933A (en) Air tightness detector for photoelectric instrument
CN209247724U (en) Automatically mechanism of qi structure, gas-detecting device and SF are taken6Gas on-line detecting system
KR101951946B1 (en) Cleaning system for orifice of by-product gas providing pipe
CN109283297B (en) Independent calibration sampling system for hydrogen online analysis
WO2007133091A1 (en) An apparatus for automatic detection of measurement of gas leakage in a welding system
JP4510800B2 (en) Valve shaft clogging inspection method
CN110005959A (en) A kind of gas pipeline makings analysis integration detection device
KR20060135319A (en) Step valve testing device and it's processing
JP4789666B2 (en) Gas pipeline monitoring equipment
CN218211388U (en) Pressure calibration device for sub-cylinder
CN110007049A (en) A kind of gas pipeline hydrogen sulfide real-time analyzer and real-time analysis method
CN215493442U (en) Automatic toxic gas concentration detection device for safety evaluation
CN108008085A (en) The poison gas concentration monitoring device of diverse location in a kind of tail gas treatment device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140826

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160823

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170829

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180828

Year of fee payment: 8