KR20110012902A - Method of preparing rbsc assembly and rbsc assembly prepared thereby - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A method for preparing a silicon carbide sintered body assembly is provided to enable defect processing per one piece and to perform silicon impregnation, thereby improving productivity. CONSTITUTION: A method for preparing a silicon carbide sintered body assembly comprises the steps of: manufacturing a pre-sintered body for a reactive sintering process; impregnating the pre-sintered body in molten silicon; processing a silicon carbide sintered body which is impregnated in silicon; and adding an Six-Ge(1-x) (0.65<x<0.95) solid solution from a bonding agent to the processed silicon carbide sintered body, and heating it at 1300-1400°C to complete the assembly.

Description

탄화규소 소결체 접합체의 제조방법 및 이에 의해 제조되는 탄화규소 소결체 접합체 {METHOD OF PREPARING RBSC ASSEMBLY AND RBSC ASSEMBLY PREPARED THEREBY}Method for manufacturing silicon carbide sintered body bonded body and silicon carbide sintered body body manufactured thereby {METHOD OF PREPARING RBSC ASSEMBLY AND RBSC ASSEMBLY PREPARED THEREBY}

본 발명은 탄화규소 소결체 접합체의 제조방법 및 이에 의해 제조되는 탄화규소 소결체 접합체에 관한 것으로 보다 상세하게는 접합체, 예를 들면 지그, 전체를 결합한 이후에 실리콘 함침을 진행하는 것이 아니라 단품들을 모아 실리콘 함침을 진행할 수 있으므로 동일한 함침조에 더 많은 물품의 함침이 가능하여 생산성을 높일 수 있고, 함침 이후에 가공공정에서 불량이 발생하는 경우에 단품 단위로 불량처리를 할 수 있어서 제품 제조 생산성을 높일 수 있는 탄화규소 소결체 접합체의 제조방법 및 이에 의해 제조되는 탄화규소 소결체 접합체에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a silicon carbide sintered body assembly and a silicon carbide sintered body manufactured thereby. More specifically, a silicon body is not impregnated after bonding the body, for example, a jig and the whole, but the silicon impregnated by collecting the individual parts. Since it is possible to impregnate more items in the same impregnation tank, it is possible to increase the productivity, and if the defect occurs in the processing process after impregnation, it is possible to process the defects in single unit, so that the product manufacturing productivity can be improved. A method for producing a silicon sintered compact and a silicon carbide sintered compact manufactured thereby.

탄화규소(실리콘 카바이드, SiC)는 LP-CVD 공정에 이용되는 기존의 실리콘이나 석영소재에 비해 열전도성과 내식성, 내화학성이 좋고 열팽창률이 낮아, 장기간 사용 시에도 파손의 우려가 적어 고온 영역에서 사용되는 재료로 주목받고 있다.Silicon carbide (silicon carbide, SiC) has good thermal conductivity, corrosion resistance, chemical resistance and low thermal expansion rate compared to conventional silicon or quartz materials used in LP-CVD process. It is attracting attention as a material to become.

특히, 고순도 탄화규소 접합체(특히, 지그류)는 1,200℃이상의 고온조건에서도 안정하기 때문에 반도체 확산 공정 및 상압 CVD, LP-CVD공정에서 품질 및 효율향상 등에 크게 기여하고 있다. 이에 대한 구체적인 예로는 반도체 공정용 웨이퍼 보트, 특히 확산공정용 보트를 들 수 있다.In particular, high-purity silicon carbide conjugates (particularly jigs) are stable even at high temperatures of more than 1,200 ° C, which greatly contributes to quality and efficiency improvement in semiconductor diffusion processes, atmospheric CVD, and LP-CVD processes. Specific examples thereof include wafer boats for semiconductor processes, and in particular, diffusion boats.

이와 같은 탄화규소 접합체 제조는 통상 반응 소결법에 의하여 제조되고 있으며, 이에 의하여 제조된 탄화규소 소결체를 RBSC(Reaction bonded silicon carbide)라고 한다. 통상적인 RBSC 제조를 위한 반응 소결법에 따른 탄화규소 소결체의 제조방법은 대한민국 공개특허 제10-2004-111393호에 게시된 바와 같으며, 이와 같이 제조된 탄화규소 소결체는 미탄화된 잔류 Si을 항상 일정정도는 가지게 되므로 Si-SiC로 표기되기도 한다.The manufacture of such silicon carbide conjugates is usually made by a reaction sintering method, and the silicon carbide sintered body thus prepared is called a reaction bonded silicon carbide (RBSC). A method for producing a silicon carbide sintered body according to a reaction sintering method for manufacturing a conventional RBSC is as disclosed in Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2004-111393, and the silicon carbide sintered body thus prepared always maintains uncarburized residual Si. It is sometimes referred to as Si-SiC because it has a degree.

그런데 이와 같은 탄화규소 소결체 접합체의 제조방법으로 대한민국 공개특허 제10-2004-111393호의 도면에 도시된 바와 같은 접합체(웨이퍼 보트)를 제작하는 경우에는 통상, 전체 접합체(지그)를 이루는 단품(부품)들을 각각 1500 ~ 2000 ℃에서 가소결하여 단품 가소결체를 만들고, 이를 필요한 형상으로 가공하고, 가공된 단품을 전체 접합체(지그)의 형상에 따라 접합한 후 1500 ~ 2000 ℃에서 다시 가소결하여 조립 가소결체를 만들고, 이를 1450 ~ 1700 ℃의 용융실리콘에 침지하여, 용융실리콘이 가소결체의 기공으로 침투한 후 가소결체 내의 유리탄소와 반응하여 탄화규소를 형성함으로써 기공을 탄화규소와 미반응 실리콘으로 충진(함침공정)하고, 소결체의 표면에 SiC 농후층을 형성하기 위하여 표면에 Si을 코팅하고 이를 다시 1450 ~ 1700 ℃로 가열하는 과정을 거치게 된다.By the way, when manufacturing a bonded body (wafer boat) as shown in the drawing of the Republic of Korea Patent Application Publication No. 10-2004-111393 by the method of manufacturing a silicon carbide sintered body assembly, a single part (parts) constituting the entire bonded body (jig) These products were calcined at 1500 to 2000 ° C., respectively, to form a single-piece plasticized body, and then processed into the required shape. It forms a binder and immerses it in molten silicon at 1450 ~ 1700 ℃, the molten silicon penetrates into the pores of the plasticized body, and then reacts with the free carbon in the plasticized body to form silicon carbide to fill the pores with silicon carbide and unreacted silicon (Impregnation process), and in order to form a SiC rich layer on the surface of the sintered body is coated with Si and heated to 1450 ~ 1700 ℃ again Going through.

그러나 실제 제작에 있어서, 상기 과정으로 웨이퍼 보트를 제작하는 경우에 용융실리콘에 침지한 이후에 접합체(지그)의 정밀도가 떨어지므로 상기 함침 공정 이후에 별도의 가공공정이 더 필요로 하고, 이와 같은 함침공정 이후의 가공은 소 결체의 강도가 높아 가공과정에서 파손이나 훼손의 많은 문제점이 있고, 이와 같은 불량이 발생한 경우에 접합체(지그) 전체를 버려야 하는 문제점이 있고, 조립 가소결체를 함침함에 따라 침지를 위한 함침조의 크기가 커야하고, 함침조의 사용효율이 떨어지는 문제점이 있고, SiC 농후층 형성을 위한 가열공정에서 가열온도가 높아 소결체 내의 Si이 용출되는 문제점이 있다.In actual production, however, when the wafer boat is manufactured in the above-described process, the precision of the bonded body (jig) decreases after being immersed in the molten silicon, and thus a separate processing step is further required after the impregnation process. Processing after the process has a lot of problems of damage or damage during processing due to the high strength of the sintered body, there is a problem that the entire assembly (jig) should be discarded in the case of such defects, immersed by impregnating the assembly plasticity There is a problem that the size of the impregnating tank must be large, the use efficiency of the impregnating tank falls, and there is a problem that Si is eluted in the heating process due to the high heating temperature in the heating process for forming the SiC rich layer.

따라서 이러한 문제를 해결하여 복잡한 형상의 접합체(지그)를 높은 생산성으로 불량을 줄이면서도, Si 용출 등의 문제가 발생하지 않게 제작할 수 있는 제조방법의 개발이 절실한 실정이다.Therefore, there is an urgent need to develop a manufacturing method that can solve such a problem and reduce the defects of a complicated shape joined body (jig) with high productivity without causing problems such as Si elution.

상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하고자, 본 발명은 접합체 전체를 결합한 이후에 실리콘 함침을 진행하는 것이 아니라 단품들을 모아 실리콘 함침을 진행할 수 있으므로 동일한 함침조에 더 많은 물품의 함침이 가능하여 생산성을 높일 수 있고, 함침 이후에 가공공정에서 불량이 발생하는 경우에 단품 단위로 불량처리를 할 수 있어서 제품 제조 생산성을 높일 수 있는 탄화규소 소결체 접합체의 제조방법 및 이에 의해 제조되는 탄화규소 소결체 접합체를 제공하는 것을 목적으로 한다.In order to solve the problems of the prior art as described above, the present invention is not to proceed with silicon impregnation after joining the entire assembly, but can be impregnated with a single product so that the impregnation of more articles in the same impregnation tank to increase the productivity It is possible to provide a method for producing a silicon carbide sintered body assembly and a silicon carbide sintered body manufactured thereby, which can be treated in a single unit when a defect occurs in the processing process after the impregnation, thereby increasing the product manufacturing productivity. For the purpose of

또한 본 발명은 상기와 같은 목적을 달성하면서도 Si 용출 및 접합제 용출의 문제를 해결할 수 있는 탄화규소 소결체 접합체의 제조방법 및 이에 의해 제조되는 탄화규소 소결체 접합체를 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a method for producing a silicon carbide sintered compact and a silicon carbide sintered compact manufactured thereby, which can solve the problems of Si dissolution and binder dissolution while achieving the above object.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 In order to achieve the above object, the present invention

RBSC(Reaction bonded silicon carbide) 접합체의 제조방법에 있어서, In the method of manufacturing a RBSC (Reaction bonded silicon carbide) conjugate,

접합체를 구성하는 각 부품을 반응 소결법을 위한 단품 탄화규소 가소결체로 제작하는 단계; Manufacturing each component constituting the joined body into a single silicon carbide calcined body for reaction sintering;

상기 얻어진 단품 가소결체를 용융 실리콘에 함침시키는 단계; Impregnating the obtained single-piece plastic sintered body into molten silicon;

실리콘 함침이 이루어진 상기 단품 탄화규소 소결체를 가공하는 단계; 및, Processing the single silicon carbide sintered body made of silicon impregnation; And,

가공이 이루어진 상기 단품 탄화규소 소결체를 Six-Ge(1-x) (0.65<x<0.95) 고용체를 접합제로 부가하고 1300 내지 1400℃에서 열처리하여 접합체조립을 완료하는 조립단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 탄화규소 소결체 접합체의 제조방법을 제공한다.And a step of adding the single-component silicon carbide sintered body to which Si x -Ge (1-x) (0.65 <x <0.95) solid solution is processed as a binder and heat-processing at 1300 to 1400 ° C. to complete the assembly of the assembly. Provided is a method for producing a silicon carbide sintered body joined body.

또한 본 발명은 Also,

상기 탄화규소 소결체 접합체의 제조방법에 의하여 제조되어, It is produced by the method for producing the silicon carbide sintered compact,

상기 접합체를 이루는 각 단품 및, 상기 각 단품 사이의 결합면에 접합부를 가지는 접합체인 것을 특징으로 하는 탄화규소 소결체 접합체를 제공한다.A silicon carbide sintered body joined body is provided, wherein each of the parts forming the joined body and the joined body having a joining portion at a bonding surface between the single parts are provided.

본 발명의 탄화규소 소결체 접합체의 제조방법 및 이에 의해 제조되는 탄화규소 소결체 접합체에 따르면 접합체 전체를 결합한 이후에 실리콘 함침을 진행하는 것이 아니라 단품들을 모아 실리콘 함침을 진행할 수 있으므로 동일한 함침조에 더 많은 물품의 함침이 가능하여 생산성을 높일 수 있고, 함침 이후에 가공공정에서 불량이 발생하는 경우에 단품 단위로 불량처리를 할 수 있어서 제품 제조 생산성을 높일 수 있는 효과를 얻을 수 있다.According to the manufacturing method of the silicon carbide sintered body assembly of the present invention and the silicon carbide sintered body manufactured thereby, the silicon impregnation is carried out after the bonding of the whole body rather than the silicon impregnation, so that the silicon impregnation can proceed to the same impregnation tank. Impregnation can be performed to increase productivity, and when impairment occurs in the processing process after impregnation, defects can be treated in a single unit, thereby increasing the product manufacturing productivity.

또한 본 발명은 상기와 같은 효과를 얻음과 동시에 Si 용출 및 접합제 용출의 문제를 발생시키지 않아 강도가 우수하고, 안정한 접합체를 제작할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.In addition, the present invention obtains the effects described above, and does not cause problems of Si elution and binder elution, so that the effect of excellent strength and a stable bonded body can be obtained.

이하 본 발명에 대하여 도면을 참고하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명은 탄화규소 소결체 접합체의 제조방법에 관한 것으로 RBSC(Reaction bonded silicon carbide) 접합체의 제조방법에 있어서, 접합체를 구성하는 각 부품을 반응 소결법을 위한 단품 탄화규소 가소결체로 제작하는 단계; 상기 얻어진 단품 가소결체를 용융 실리콘에 함침시키는 단계; 실리콘 함침이 이루어진 상기 단품 탄화규소 소결체를 가공하는 단계; 및, 가공이 이루어진 상기 단품 탄화규소 소결체를 Six-Ge(1-x) (0.65<x<0.95) 고용체를 접합제로 부가하고 1300 내지 1400℃에서 열처리하여 접합체 조립을 완료하는 조립단계를 포함하여 구성된다.The present invention relates to a method for producing a silicon carbide sintered body assembly, the method of manufacturing a reaction bonded silicon carbide (RBSC) assembly, comprising: manufacturing each component constituting the body into a single silicon carbide plastic body for reaction sintering; Impregnating the obtained single-piece plastic sintered body into molten silicon; Processing the single silicon carbide sintered body made of silicon impregnation; And an assembling step of adding the single silicon carbide sintered body processed to Si x -Ge (1-x) (0.65 <x <0.95) solid solution as a binder and performing heat treatment at 1300 to 1400 ° C. to complete assembly of the bonded body. It is composed.

즉, 통상적인 반응 소결법에 대한 예는 대한민국 공개특허 제10-2004-111393호에 도시한 바와 같으며, 본 발명의 각각의 개별 공정은 상기 반응 소결법과 그 원리를 같이한다. 그러나 본 발명은 복잡한 구조를 가지는 접합체(예를 들면, 지그)의 경우에 상기 기술한 종래 제조공정의 문제점을 개선하기 위하여, 종래의 제조공정에서 조립체를 먼저 조립한 후 이를 함침하는 것을, 단품단위로 함침을 먼저 진행하고 난 이후에 조립을 진행할 수 있는 공정을 개발한 것이다.That is, an example of a conventional reaction sintering method is as shown in the Republic of Korea Patent Publication No. 10-2004-111393, each individual process of the present invention shares the same principle as the reaction sintering method. However, in the present invention, in order to improve the problems of the conventional manufacturing process described above in the case of a bonded body (for example, a jig) having a complicated structure, to assemble the assembly first in the conventional manufacturing process and then impregnated it, After the impregnation, the process of assembly was developed.

그런데 상기 기술한 바와 같이 단순히 공정순서만을 바꾸게 되면, 조립단계에서 종래에 쓰던 접합슬러리로 조립을 하게 되고, 이러한 접합슬러리의 소결을 위해서는 소결공정이 필요한데, 통상의 접합슬러리의 소결을 위한 온도는 1500 내지 2000 ℃로 실리콘 용융온도(약 1410 ℃)보다 높아 접합을 위한 열처리 시에 소결체로부터 Si 용출이 일어나, 소결체의 강도감소, 형상변형 등이 발생하므로 공정을 진행할 수 없어 본 발명의 공정을 개발한 것이다.However, as described above, if only the process sequence is changed, the assembly step is performed by the bonding slurry conventionally used in the assembling step, and the sintering process is required for the sintering of the bonded slurry, and the temperature for sintering the normal bonding slurry is 1500. Si-eluting from the sintered body during heat treatment for bonding due to higher than the silicon melting temperature (about 1410 ℃) to 2000 ℃ to occur, the strength of the sintered body, deformation of the shape occurs, the process can not be carried out to develop the process of the present invention will be.

이를 위하여 본 발명은, RBSC(Reaction bonded silicon carbide) 접합체의 제조방법에 있어서, 접합체를 구성하는 각 부품을 반응 소결법을 위한 단품 탄화규소 가소결체로 제작하는 단계를 먼저 수행한다. 이는 통상의 반응 소결법에서 가소결체를 제작하는 단계와 동일한 것으로 이에는 통상의 탄화규소 분말에 탄소원(carbon source)으로서의 유기물질, 바람직하게는 용매(예를 들면 페놀, PVA, PVB 등)를 혼합하고 건조한 후 소결하는 과정 및 추가적인 탄소 공급을 위한 탄소원으로서의 유기용매 또는 수지에 대한 침지 등의 모든 과정을 포함할 수 있다. 여기서 상기 가소결체는 전제 접합체를 이루는 접합체의 각 단품으로 제작된다. 바람직하게는 상기 단품 탄화규소 가소결체의 제작은 탄화규소 분말과 탄소원을 혼합한 후, 성형하여 1500 내지 2000 ℃에서 가소결하여 이를 제작할 수 있다.To this end, the present invention, in the manufacturing method of the reaction bonded silicon carbide (RBSC) bonded body, the step of manufacturing each component constituting the bonded body as a single piece silicon carbide plastic sinter for the reaction sintering method is first performed. This is the same as the step of preparing the plasticized body in a conventional reaction sintering method, in which an organic material as a carbon source, preferably a solvent (for example, phenol, PVA, PVB, etc.) is mixed with a conventional silicon carbide powder. It may include all processes such as sintering after drying and immersion in an organic solvent or resin as a carbon source for additional carbon supply. Here, the plasticized body is produced in each unit of the bonded body forming the whole bonded body. Preferably, the one-piece silicon carbide sintered body may be manufactured by mixing and molding the silicon carbide powder and the carbon source, followed by molding and plasticizing at 1500 to 2000 ° C.

다음으로 상기 얻어진 단품 가소결체를 용융 실리콘에 함침시키는 단계를 수행한다. 종래에는 조립체에 대하여 이를 수행하므로, 용융실리콘이 담긴 동일한 함침조에 하나의 조립체 밖에 침지할 수 없었다면, 단품으로 침지를 수행하는 경우에는 더 많은 조립체를 제작할 수 있는 단품들을 한번에 상기 함침조에 침지할 수 있어서 함침조의 활용도를 높이고, 공정의 생산성을 높일 수 있다. 상기 함침과정도 통상의 반응 소결법에서 함침 단계와 동일한 것이다.Next, the step of impregnating the obtained single-piece plastic sintered body into the molten silicon is carried out. Conventionally, this is done for the assembly, so if only one assembly could be immersed in the same impregnating bath containing molten silicon, when immersing in a single piece, the single parts can be immersed in the impregnation tank at a time to produce more assemblies. It can increase the utilization of the impregnation tank and increase the productivity of the process. The impregnation process is the same as the impregnation step in a conventional reaction sintering method.

다음으로 상기 함침 과정을 진행한 시편에 대하여 접합체의 제작을 위하여 필요한 형상으로 가공하는 단계를 수행하게 된다. 즉, 실리콘 함침이 이루어진 상기 단품 탄화규소 소결체를 가공하는 단계를 수행한다. 예를 들어 웨이퍼 보트의 경우에는 웨이퍼 장착을 위한 슬롯의 가공이 이에 해당할 수 있다. 따라서 이 과정에서 가공이 잘못되거나 파손된 단품은 단품으로서 폐기처리하면 되므로, 종래의 조립체를 폐기하는 경우에 비하여 수율을 높일 수 있다.Next, the step of processing to the required shape for the manufacture of the bonded body to the specimen subjected to the impregnation process is performed. That is, the step of processing the single silicon carbide sintered body made of silicon impregnation is performed. For example, in the case of a wafer boat, this may be the machining of a slot for wafer mounting. Therefore, in this process, the faulty or damaged unit may be disposed of as a unit, so that the yield can be improved as compared with the case of discarding a conventional assembly.

마지막으로 이와 같이 가공이 이루어진 상기 단품 탄화규소 소결체를 Six-Ge(1-x) (0.65<x<0.95) 고용체를 접합제로 부가하고 1300 내지 1400℃에서 열처리하여 접합체 조립을 완료하는 조립단계를 수행한다. 즉 종래의 접합슬러리가 SiC와 탄소원의 유기용매로 이루어진 슬러리이므로, 이러한 접합 슬러리가 부품간의 접합을 이루기 위해서는 접합슬러리를 인가한 후에 1500 ℃이상의 열처리가 필요하여 Si-함침이후에 이를 적용하면 소결체로부터 Si용출이 발생하므로, Si용출을 막기 위해 Si의 녹는점보다 낮은 온도에서 부품간의 접합을 이룰 수 있으면서도 접합제 자체의 녹는점이 높아 고온공정에 적용(선택적 최종 제작공정인 SiC 열CVD증착 공정(대략 1200 ℃)을 포함하여)이 가능하게 하고, 응고 후에 열팽창 계수에 문제점이 적으며, 소결체에 함침이 용이하고, 반도체 제조공정에 영향을 주지 않는 접합제를 개발하여 적용한 것이다. 즉, 도 1 에 Ge-Si 상태도를 도시한 바와 같이, Six-Ge(1-x) (0.65<x<0.95, x:atomic percent of silicon) 범위의 농도를 가지는 Si-Ge 고용체는 Si의 녹는점보다 낮으면서도 상대적으로 높은 녹는점(1200 ℃이상)을 가져 이후에 설명할 후공정으로서의 코팅공정에서는 녹지 않아 후공정이 가능하게 하고, 반도체 고온공정에 적용이 가능하게 하는 특성을 가진다.Finally, the assembly step of adding the single silicon carbide sintered compact thus processed to Si x -Ge (1-x) (0.65 <x <0.95) solid solution is added as a binder and heat-treated at 1300 to 1400 ° C. to complete the assembly of the assembly. Perform. That is, since the conventional bonding slurry is a slurry composed of an organic solvent of SiC and a carbon source, in order to form the bonding between the components, the bonding slurry needs to be subjected to a heat treatment of at least 1500 ° C. after applying the bonding slurry, and then applied after the Si-impregnation. Since Si elution occurs, it is possible to bond parts at a temperature lower than the melting point of Si to prevent Si elution, but also has a high melting point of the adhesive itself. 1200 ° C.) is developed, and there is little problem in the coefficient of thermal expansion after solidification, the sintered body is easily impregnated, and a binder which does not affect the semiconductor manufacturing process is developed and applied. That is, as shown in the Ge-Si state diagram in FIG. 1, the Si-Ge solid solution having a concentration in the range of Si x -Ge (1-x) (0.65 <x <0.95, x: atomic percent of silicon) is Si It has a higher melting point (more than 1200 ° C.) but lower than the melting point, and thus does not melt in the coating process as a later process, which will be described later.

바람직하게는 상기 x는 0.75 내지 0.85인 것이 고온안정성 및 Si용출을 줄일 수 있어서 좋고, 상기 열처리 시간은 접합면 및 접합체(지그)의 크기에 따라 달라질 수 있으며, 접합제의 충분한 용융 및 접합이 이루어질 수 있는 시간인 것이 바람직하고, 예를 들면, 30분 내지 2시간 동안 진행하는 것이 좋다.Preferably x is from 0.75 to 0.85 may reduce the high temperature stability and Si dissolution, the heat treatment time may vary depending on the size of the bonding surface and the bonding (jig), and sufficient melting and bonding of the bonding agent is made It is preferable that it is a time which can be used, for example, it is good to proceed for 30 minutes-2 hours.

상기 접합제의 제조방법에 대한 일 실시예는 도 2에 도시한 바와 같으며, 이에 따르면, Si와 Ge 분말을 상기 범위로 혼합하여 가압성형한 후, 이를 1000 내지 1200 ℃에서 3시간가량 소결하여 소결체를 얻어 이를 원하는 형태로 분쇄하여 접합제로 사용하게 된다. 따라서 상기 접합제는 벌크 또는 파우더 또는 상기 파우더와 용매(바람직하게는 탄소원으로서 작용할 수 있는 유기용매)를 혼합한 슬러리 형태로 이를 제작할 수 있다.One embodiment of the manufacturing method of the binder is as shown in Figure 2, according to this, by mixing the Si and Ge powder in the above range by pressing and then sintered for about 3 hours at 1000 to 1200 ℃ The sintered compact is obtained and pulverized into a desired form to be used as a binder. Thus, the binder may be prepared in the form of a slurry in which the binder is bulk or powder or a mixture of the powder and the solvent (preferably an organic solvent that can act as a carbon source).

도 1에 도시한 바와 같이 Ge-Si은 전 혼합비율 영역에서 완전 고용체이므로, 상기 소결체는 Si-Ge고용체이다.As shown in FIG. 1, since Ge-Si is a completely solid solution in the entire mixing ratio region, the sintered compact is a Si-Ge solid solution.

또한 바람직하게는 도 3에 그 구체적인 예를 도시한 바와 같이, 상기 조립단계에서, 가공이 이루어진 상기 단품 탄화규소 소결체를 접합슬러리로 접합(예를 들면, 도포후 결합하여 오븐건조)하고, 상기 접합슬러리로 접합된 접합면 또는 상기 접합면 위에 카본파이버나 카본파이버 부직포가 부착된 접합면 위에 상기 Six-Ge(1-x) (0.65<x<0.95) 고용체를 접합제로 부가하여 접합과정을 수행하는 것이 접합제의 접합면으로의 투입이 용이하므로 좋다.Further preferably, as shown in the specific example of Figure 3, in the assembling step, the processed single silicon carbide sintered body is bonded (for example, oven dried by bonding after bonding) to the bonding slurry, the bonding The bonding process is performed by adding the Si x -Ge (1-x) (0.65 <x <0.95) solid solution as a bonding agent on the bonding surface bonded by slurry or on the bonding surface on which the carbon fiber or the carbon fiber nonwoven fabric is attached. Since it is easy to inject | pour into a bonding surface of a binder, it is good.

여기서 상기 접합슬러리는 통상의 RBSC접합에 사용되는 접합슬러리로서, 탄화규소분말에 용매를 혼합한 혼합물 또는 상기 혼합물에서, 탄소원으로서, 카본블 랙을 포함하는 탄소원 물질이 더 함유된 혼합물(예를 들면, SiC : 카본블랙 : 페놀 = 100 : 1 내지 10 : 1 내지 30(중량비))(도 3의 경우, i) #1000메쉬 크기의 SiC분말 + 카본블랙 + 페놀의 혼합물(100 : 1 내지 10 : 1 내지 30(중량비)의 접합슬러리를 적용하고 여기에 접합제를 부착한 후, 열처리하여 접합제를 함침시킨 후, 연마하여 접합을 완료한 경우이다.)이 적용될 수 있다.Here, the bonding slurry is a bonding slurry used for ordinary RBSC bonding, a mixture of a solvent mixed with a silicon carbide powder or a mixture further containing a carbon source material containing a carbon block as a carbon source (for example, , SiC: carbon black: phenol = 100: 1 to 10: 1 to 30 (weight ratio)) (in the case of Fig. 3) i) a mixture of SiC powder + carbon black + phenol having a size of # 1000 mesh (100: 1 to 10: 1 to 30 (weight ratio) bonding slurry is applied and the bonding agent is attached thereto, followed by heat treatment to impregnate the bonding agent, followed by polishing to complete the bonding.

또한 여기서, 상기 접합 슬러리는 접합과정에서의 온도가 낮아 소결이 일어나지 않고, 부분적으로 용융이 일어난 접합제가 탄화규소분말 사이로 함침되고, 실리콘 용융체는 탄소원과 반응하여 SiC로 변환되어 접합면을 접합하게 된다.In this case, the bonding slurry has a low temperature during the bonding process so that no sintering occurs, a partially melted binder is impregnated between the silicon carbide powder, and the silicon melt reacts with the carbon source to be converted into SiC to bond the bonding surface. .

이를 위하여 도 3에 도시한 바와 같이, 상기 접합슬러리로 접합된 접합면에 상기 접합슬러리에 의하여 고정되도록 상기 접합슬러리 위에 벌크 또는 분말의 접합제를 부착하거나, 상기 접합면을 이루는 접합슬러리 위에 카본파이버나 카본파이버 부직포를 부착하고, 이 위에 벌크 또는 분말의 접합제를 부착하여 접합제의 용융체가 카본 파이버를 따라 접합면으로 유도되어 흘러들어갈 수 있도록 할 수 있다.To this end, as shown in FIG. 3, a bulk or powder binder is attached onto the bonding slurry to be fixed to the bonding surface bonded by the bonding slurry, or the carbon fiber is formed on the bonding slurry forming the bonding surface. B, a carbon fiber nonwoven fabric may be attached, and a bulk or powder binder may be attached thereon to allow the melt of the binder to be guided and flow along the carbon fiber to the bonding surface.

이외에 상기 접합제가 슬러리 타입으로 구성되는 경우에는 상기 조립단계에서, 가공이 이루어진 상기 단품 탄화규소 소결체를 상기 Six-Ge(1-x) (0.65<x<0.95) 고용체 파우더를 포함하는 슬러리 형태의 혼합체(예를 들면, 고용체 파우더 : 페놀 = 30 내지 80 : 1 내지 30(중량비))로 접합하여 상기 Six-Ge(1-x) (0.65<x<0.95) 고용체를 접합제로 부가하는 방식을 취할 수도 있다. 이 경우에는 고용체 파우더를 포 함하는 슬러리 형태의 혼합체에는 탄화규소 분말, 탄소원 물질 등을 더 포함할 수 있다.(예를 들면, 고용체 파우더 : SiC 파우더 : 카본블랙 : 페놀 = 30 내지 80 : 100 : 1 내지 10 : 1 내지 30(중량비))In addition, when the binder is composed of a slurry type, in the granulation step, the processed single silicon carbide sintered body in the form of a slurry containing the Si x -Ge (1-x) (0.65 <x <0.95) solid solution powder A method of adding the Si x -Ge (1-x) (0.65 <x <0.95) solid solution as a binder by bonding to a mixture (for example, solid solution powder: phenol = 30 to 80: 1 to 30 (weight ratio)) You can also take In this case, the slurry mixture containing the solid solution powder may further include silicon carbide powder, a carbon source material, and the like (for example, solid solution powder: SiC powder: carbon black: phenol = 30 to 80: 100:). 1 to 10: 1 to 30 (weight ratio))

상기 접합 단계를 통하여 RBSC단품은 조립체로 구성되어질 수 있고, 이에 대한 구체적인 예로, 도 3에 도시한 방법으로 접합 과정을 진행함에 있어서, 접합슬러리를 #1000메쉬 크기의 SiC분말 + 카본블랙 + 페놀의 혼합물로 적용한 경우의 접합 후, 미세사진은 도 4와 같다. 즉, 이를 통하여 연속된 미세구조를 가지는 결합면이 형성됨을 확인할 수 있었다. 또한 이에 대하여 3점-굽힘강도 시험을 시행한 결과, 도 4의 경우 250 MPa정도의 강도를 얻어 우수한 접착력을 확인할 수 있었다.Through the bonding step, the RBSC unit may be composed of an assembly. As a specific example of this, in the bonding process by the method shown in FIG. 3, the bonding slurry is made of SiC powder of +1000 mesh size + carbon black + phenol. After bonding in the case of application in a mixture, the microphotograph is shown in FIG. That is, it was confirmed that the bonding surface having a continuous microstructure was formed through this. In addition, as a result of performing a three-point bending strength test, in the case of Figure 4 was obtained a strength of about 250 MPa was able to confirm the excellent adhesion.

또한 이와 같은 조립과정 이후에, 필요에 따라 접합부위에 대한 추가가공이나 표면처리 공정을 더 포함할 수 있다. 즉, 상기 조립단계 이후에, 조립된 접합체의 표면에 탄화규소 농후층을 형성하는 표면처리단계를 더 포함하도록 할 수 있으며, 이를 통하여 안정성 및 강도를 확보할 수 있다. 바람직하게는 상기 표면처리단계는 1200 내지 1300 ℃에서 이루어지는 탄화규소의 화학기상증착(CVD)으로 이를 처리할 수 있고, 이 과정에서 접합제의 용출이나 소결체에서의 용출은 발생하지 않게 된다. 상기 CVD과정은 통상의 표면처리 과정이므로 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.In addition, after such assembling process, it may further include a further processing or surface treatment process for the joint as necessary. That is, after the assembling step, the surface treatment step of forming a silicon carbide rich layer on the surface of the assembled assembly can be further included, thereby ensuring stability and strength. Preferably, the surface treatment step may be treated by chemical vapor deposition (CVD) of silicon carbide at 1200 to 1300 ℃, in this process, the elution of the binder or the elution in the sintered body does not occur. Since the CVD process is a conventional surface treatment process, a detailed description thereof will be omitted.

또한 본 발명은 상기 제조방법에 의하여 제조된 탄화규소 소결체 접합체를 제공하는 바, 이는 상기 기술한 탄화규소 소결체 접합체의 제조방법에 의하여 제조되어, 상기 접합체를 이루는 각 단품 및, 상기 각 단품 사이의 결합면에 접합부를 가지는 접합체로 이루어지고, 이에 대한 구체적인 예로는 반도체 공정 등에서 열처리 지그 등으로 사용되는 다양한 지그류를 들 수 있고, 이에 대한 예로는 반도체 공정용 웨이퍼 보트를 들 수 있다.In another aspect, the present invention provides a silicon carbide sintered body assembly manufactured by the above-described manufacturing method, which is manufactured by the above-described method of manufacturing a silicon carbide sintered body assembly, each of the components forming the assembly and the coupling between the individual components It is made of a bonded body having a junction on the surface, and specific examples thereof may include various jigs used as heat treatment jigs in a semiconductor process and the like, and examples thereof may include wafer boats for semiconductor processes.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의하여 한정되는 것은 아니고, 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 해당 기술분야의 당업자가 다양하게 수정 및 변경시킨 것 또한 본 발명의 범위 내에 포함됨은 물론이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiment and the accompanying drawings, and various modifications and changes made by those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the present invention described in the claims below. Changes are also included within the scope of the invention.

도 1은 Ge-Si의 2성분계 상태도를 도시한다.1 shows a two-component state diagram of Ge-Si.

도 2는 본 발명의 탄화규소 소결체 접합체의 제조방법에 적용되는 접합제의 제조방법에 대한 일 실시예를 개략적으로 도시한 도면들이다.2 is a view schematically showing an embodiment of a manufacturing method of a bonding agent applied to the manufacturing method of the silicon carbide sintered compact of the present invention.

도 3은 본 발명의 탄화규소 소결체 접합체의 제조방법에 적용되는 접합과정을 개략적으로 단계별 도시한 도면들이다.Figure 3 is a schematic step-by-step view of the bonding process applied to the method for producing a silicon carbide sintered compact of the present invention.

도 4는 본 발명의 탄화규소 소결체 접합체의 제조방법에 의하여 제조된 접합체의 접합부에 대한 미세구조를 촬영한 현미경 사진이다.4 is a photomicrograph of the microstructure of the junction of the bonded body produced by the method for producing a silicon carbide sintered body bonded body of the present invention.

Claims (10)

RBSC(Reaction bonded silicon carbide) 접합체의 제조방법에 있어서, In the method of manufacturing a RBSC (Reaction bonded silicon carbide) conjugate, 접합체를 구성하는 각 부품을 반응 소결법을 위한 단품 탄화규소 가소결체로 제작하는 단계; Manufacturing each component constituting the joined body into a single silicon carbide calcined body for reaction sintering; 상기 얻어진 단품 가소결체를 용융 실리콘에 함침시키는 단계; Impregnating the obtained single-piece plastic sintered body into molten silicon; 실리콘 함침이 이루어진 상기 단품 탄화규소 소결체를 가공하는 단계; 및, Processing the single silicon carbide sintered body made of silicon impregnation; And, 가공이 이루어진 상기 단품 탄화규소 소결체를 Six-Ge(1-x) (0.65<x<0.95) 고용체를 접합제로 부가하고 1300 내지 1400℃에서 열처리하여 접합체 조립을 완료하는 조립단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 탄화규소 소결체 접합체의 제조방법.And the assembling step of adding the Si x -Ge (1-x) (0.65 <x <0.95) solid solution to the processed silicon carbide sintered body as a binder and performing heat treatment at 1300 to 1400 ° C. to complete the assembly of the joined body. The manufacturing method of the silicon carbide sintered compact joined. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 단품 탄화규소 가소결체의 제작은 탄화규소 분말과 탄소원을 혼합한 후, 성형하여 1500 내지 2000 ℃에서 가소결하는 것을 특징으로 하는 탄화규소 소결체 접합체의 제조방법.In the production of the single-piece silicon carbide sintered body, the silicon carbide powder and the carbon source are mixed and then molded and plasticized at 1500 to 2000 ° C. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 조립단계에서, 가공이 이루어진 상기 단품 탄화규소 소결체를 접합슬러리로 접합하고, 상기 접합슬러리로 접합된 접합면 또는 상기 접합면 위에 카본파이 버나 카본파이버 부직포가 부착된 접합면 위에 상기 Six-Ge(1-x) (0.65<x<0.95) 고용체를 접합제로 부가하는 것을 특징으로 하는 탄화규소 소결체 접합체의 제조방법.In the assembling step, the processed single silicon carbide sintered body is bonded with a bonding slurry, and the Si x -Ge is bonded on the bonding surface bonded to the bonding slurry or on a bonding surface where a carbon fiber or a carbon fiber nonwoven fabric is attached to the bonding surface. (1-x) A method for producing a silicon carbide sintered compact, comprising adding a solid solution (0.65 <x <0.95) as a binder. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 조립단계에서, 가공이 이루어진 상기 단품 탄화규소 소결체를 상기 Six-Ge(1-x) (0.65<x<0.95) 고용체 파우더를 포함하는 슬러리 형태의 혼합체로 접합하여 상기 Six-Ge(1-x) (0.65<x<0.95) 고용체를 접합제로 부가하는 것을 특징으로 하는 탄화규소 소결체 접합체의 제조방법.In the assembling step, the processed single silicon carbide sintered body is bonded to a mixture in the form of a slurry containing the Si x -Ge (1-x) (0.65 <x <0.95) solid solution powder to form the Si x -Ge (1 -x) A method for producing a silicon carbide sintered compact, characterized by adding a (0.65 <x <0.95) solid solution as a binder. 제1항 또는 제3항에 있어서, The method according to claim 1 or 3, 상기 접합제는 벌크 또는 파우더 또는 상기 파우더와 용매를 혼합한 슬러리 형태인 것을 특징으로 하는 탄화규소 소결체 접합체의 제조방법.The binder is a bulk or powder or a method of producing a silicon carbide sintered compact, characterized in that the slurry is a mixture of the powder and the solvent. 제3항에 있어서, The method of claim 3, 상기 접합슬러리는 탄화규소분말에 용매를 혼합한 혼합물 또는 상기 혼합물에서 카본블랙을 포함하는 탄소원 물질이 더 함유된 혼합물인 것을 특징으로 하는 탄화규소 소결체 접합체의 제조방법.Said bonding slurry is a mixture of a silicon carbide powder mixed with a solvent or a mixture containing a carbon source material containing carbon black in the mixture further comprising a silicon carbide sintered body manufacturing method. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 조립단계 이후에 After the assembling step 조립된 접합체의 표면에 탄화규소 농후층을 형성하는 표면처리단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 탄화규소 소결체 접합체의 제조방법.Method for producing a silicon carbide sintered body assembly further comprising a surface treatment step of forming a silicon carbide rich layer on the surface of the assembled assembly. 제7항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 표면처리단계는 1200 내지 1300 ℃에서 이루어지는 탄화규소의 화학기상증착인 것을 특징으로 하는 탄화규소 소결체 접합체의 제조방법.The surface treatment step is a method of producing a silicon carbide sintered compact, characterized in that the chemical vapor deposition of silicon carbide made at 1200 to 1300 ℃. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 탄화규소 소결체 접합체의 제조방법에 의하여 제조되어, It is manufactured by the manufacturing method of the silicon carbide sintered compact of any one of Claims 1-8, 상기 접합체를 이루는 각 단품 및, 상기 각 단품 사이의 결합면에 접합부를 가지는 접합체인 것을 특징으로 하는 탄화규소 소결체 접합체.A silicon carbide sintered body joined body, comprising: a single body comprising each joined part that forms the joined body, and a joined part that has a joining surface at a bonding surface between the single parts. 제9항에 있어서, 10. The method of claim 9, 상기 접합체는 반도체 공정용 웨이퍼 보트인 것을 특징으로 하는 탄화규소 소결체 접합체.And the bonded body is a wafer boat for a semiconductor process.
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