KR20110001482A - Polyester film and manufacturing method of the same - Google Patents

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KR20110001482A KR1020090059031A KR20090059031A KR20110001482A KR 20110001482 A KR20110001482 A KR 20110001482A KR 1020090059031 A KR1020090059031 A KR 1020090059031A KR 20090059031 A KR20090059031 A KR 20090059031A KR 20110001482 A KR20110001482 A KR 20110001482A
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Abstract

PURPOSE: A polyester film and a manufacturing method thereof are provided to display uniform brightness by indicating a haze value uniform over the entire surface of a film when adopting an optical film. CONSTITUTION: A polyester film includes: on one surface thereof a film which enables optical diffusion; and on the other surface thereof a polyester polymer base material film which has slip property and/or antistatic property. The polyester polymer base material film except the film which enables optical diffusion has a matrix shaped polyester resin having a melting point of Tm1. The film which enables optical diffusion includes optical diffusing particle having particles of 5 ~ 25μm, and a transparent resin matrix comprises a homopolyester resin of 30-50weight% and a copolymer resin of 50-60weight%.

Description

폴리에스테르 필름 및 그의 제조방법{POLYESTER FILM AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME}Polyester film and manufacturing method thereof {POLYESTER FILM AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME}

발명은 폴리에스테르 필름에 관한 것으로, 특히 각종 디스플레이용으로 사용될 수 있는 폴리에스테르 필름에 관한 것이다.  The present invention relates to polyester films, and more particularly to polyester films that can be used for various displays.

이축 연신 폴리에스테르 필름은 다른 플라스틱 필름에 비하여 우수한 투명성, 치수안정성 및 내화학성 등의 특성 때문에 광학용 필름의 기재필름으로 널리 사용되고 있다. Biaxially stretched polyester films have been widely used as base films for optical films because of their excellent transparency, dimensional stability, and chemical resistance, compared to other plastic films.

광확산 필름은 광원의 빛을 효과적으로 이용하기 위하여 투명한 기재 필름에 기능층으로서 광확산 층을 코팅하여 사용하는데, 이 경우 별도의 코팅 공정을 거쳐야 할 뿐만 아니라, 소정의 광학 특성을 유지하기 위하여 고가의 유기입자를 다량 사용해야 하기 때문에 제조비용이 매우 높다.The light diffusing film is used by coating the light diffusing layer as a functional layer on a transparent base film in order to effectively use the light of the light source, in this case, not only has to go through a separate coating process, but also to maintain expensive optical properties The manufacturing cost is very high because a large amount of organic particles must be used.

또한, 코팅 시 건조 공정에 있어서, 변형이 발생하기 쉽고, 코팅 층에 의해 컬이 발생하기 쉬워 필름의 평활도가 불량해지는 문제를 안고 있으며, 제품 용도상 쉬트 성형 등 일련의 후 가공 공정을 거치는데, 이 경우 코팅층이 약하여 손상이 되기 쉽다.In addition, in the drying process during coating, there is a problem that deformation is easily generated, curls are easily generated by the coating layer, and film smoothness is poor, and a series of post-processing processes such as sheet forming are used for product use. In this case, the coating layer is weak and easily damaged.

이러한 점에서, 이축 연신 폴리에스테르 필름 자체에 광확산성을 갖게 하는 시도가 제안되어 있다. 지금까지 제안되어 온 이축연신 폴리에스테르 필름 자체에 광확산성을 갖게 하는 시도는 이축연신 폴리에스테르 필름의 본래 가지고 있는 특징 중 어느 하나를 손실하는 것이거나, 광선투과율과 광확산성이라는 광확산성 필름이 구비해야 할 특성을 손실하는 것으로 실용화에는 이르지 못하고 있다.In view of this, attempts have been made to provide light diffusivity to the biaxially stretched polyester film itself. Attempts to provide light diffusivity to the biaxially stretched polyester film itself, which have been proposed so far, have lost one of the inherent characteristics of the biaxially stretched polyester film, or a light diffusing film such as light transmittance and light diffusivity. The loss of the characteristic to be provided has not been brought to practical use.

예를 들면 일본국 공개특허 공개 제2001-272508호에는 기재 필름이 폴리에틸렌테레프탈레이트로 되고, 광확산층을 구성하는 수지로서 융점이 200℃ 이하인 저융점 폴리에스테르 수지를 사용한 다층 타입의 이축연신 폴리에스테르 필름이 개시되어 있다. 여기에 개시된 방법에 있어서는, 광확산제의 주위에 발현하고 투명성을 저해하는 보이드의 억제가 배려되어 있다. 이에 따라 광선 투과율과 광확산성의 균형은 이축연신 폴리에스테르 필름 표면에, 미립자를 함유하는 투명수지로 되는 광확산층을 코팅하여 얻어지는 종래 광확산성 필름의 그것과 필적한다. 그러나 여기에 기재된 방법으로 얻어지는 광확산성 필름은 기재층을 구성하는 폴리에스테르 수지와 광확산층을 구성하는 폴리에스테르 수지 사이에 큰 융점차가 있다. 그 결과 얻어진 이축연신 필름은 광확산층과 기재 필름간의 선팽창계수가 상이하므로 이축연신 필름 자체가 열처리시에 컬이 발생되기 쉬워진다. 이로 인해 후가공 공정에서의 열처리에 의해 컬이 발생하거나, 액정 디스플레이의 사용환경(온도)에 따라 컬이 발생하는 경우가 있어 백라이트 유닛에 있어서 광출사면의 휘도가 불균일해질 가능성이 있다. For example, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2001-272508 discloses a multilayer biaxially stretched polyester film using a low melting point polyester resin having a melting point of 200 ° C. or less as a base film of polyethylene terephthalate and constituting a light diffusion layer. Is disclosed. In the method disclosed here, the suppression of the void which expresses around a light-diffusion agent and inhibits transparency is considered. Accordingly, the balance between light transmittance and light diffusivity is comparable to that of the conventional light diffusing film obtained by coating a light diffusing layer of transparent resin containing fine particles on the surface of a biaxially stretched polyester film. However, the light-diffusion film obtained by the method described here has a large melting point difference between the polyester resin which comprises a base material layer, and the polyester resin which comprises a light-diffusion layer. The resulting biaxially stretched film has a different coefficient of linear expansion between the light diffusing layer and the base film, so that curling tends to occur when the biaxially stretched film itself is heat treated. For this reason, curl may generate | occur | produce by heat processing in a post-processing process, or curl may generate | occur | produce according to the use environment (temperature) of a liquid crystal display, and there exists a possibility that the brightness of a light emission surface may become uneven in a backlight unit.

본 발명의 일 구현예에서는 필름 전면에 걸쳐 균일한 헤이즈값을 가지며, 필름 자체에 광확산성 및 슬립성 내지 대전방지성을 갖도록 한 이축연신 폴리에스테르 필름을 제공하고자 한다. In one embodiment of the present invention to provide a biaxially stretched polyester film having a uniform haze value over the entire surface of the film, and has a light diffusing property and slip to antistatic properties in the film itself.

본 발명의 일 구현예에서는 일 표면 상에 광확산 가능한 층이 있고 다른 일 표면 상에 슬립성 및/또는 대전방지성을 갖는 층이 있는, 폴리에스테르 중합체 기재층을 포함하고, In one embodiment of the present invention includes a polyester polymer base layer having a light diffusing layer on one surface and a layer having slip and / or antistatic properties on the other surface,

(A) 광확산 가능한 층을 제외한, 슬립성 및/또는 대전방지성을 갖는 층 및 폴리에스테르 중합체 기재층은 융점이 Tm1인 폴리에스테르 수지를 매트릭스로 하고;(A) A layer having slip and / or antistatic property and a polyester polymer base layer, except for a light diffusable layer, has a polyester resin having a melting point of Tm 1 as a matrix;

(B) 광확산 가능한 층은, (a) 투명한 수지 매트릭스에 분산된 평균입경 5 내지 25㎛인 광확산성 입자를 포함하고, (b) 투명한 수지 매트릭스는 융점이 Tm1인 호모 폴리에스테르 수지 30 내지 50중량%와 융점(Tm2)이 Tm1 - 60℃ < Tm2 < Tm1 - 10℃을 만족하는 공중합체 수지 50 내지 70중량%로 되며, (c) SEM에 의해 종단면을 관찰하였을 때 상, 하면 모두가 입자에 의해 형성되는 돌출 형상을 가지며; (B) The light diffusable layer comprises (a) light diffusing particles having an average particle diameter of 5 to 25 μm dispersed in a transparent resin matrix, and (b) the transparent resin matrix is a homopolyester resin having a melting point of Tm 1 30 to 50% by weight and a melting point (Tm 2) the Tm 1 - 60 ℃ <Tm 2 <Tm 1 - is a copolymer of 50 to 70% by weight satisfying the 10 ℃, (c) when observing the longitudinal section by the SEM Both the upper and lower surfaces have a protruding shape formed by particles;

(C) 슬립성 및/또는 대전방지성을 갖는 층은 평균입경 0.5 내지 5㎛인 입자를 포함하고, (C) the layer having slip and / or antistatic property comprises particles having an average particle diameter of 0.5 to 5 탆,

(D) SEM에 의해 종단면을 관찰하였을 때 광확산 가능한 층 및 슬립성 및/또는 대전방지성을 갖는 층과 접촉하는 기재층 면에 실질적으로 직선상으로 연장되는 계면이 존재하지 않는 폴리에스테르 필름을 제공한다.(D) a polyester film having no interface extending substantially linearly on the surface of the substrate layer in contact with the light diffusable layer and the layer having slip and / or antistatic properties when the longitudinal section was observed by SEM; to provide.

본 발명의 일 구현예에 의하면, 투명한 수지 매트릭스는 폴리에틸렌테레프탈레이트와; 폴리에스테르 공중합체, 폴리카보네이트 공중합체 및 폴리설폰 공중합체 중에서 선택되는 1종 이상의 공중합체로 되는 것일 수 있다.According to one embodiment of the invention, the transparent resin matrix is polyethylene terephthalate; It may be composed of one or more copolymers selected from polyester copolymers, polycarbonate copolymers and polysulfone copolymers.

본 발명의 일 구현예에 의하면, 광확산성을 갖는 층에 있어서 광확산성 입자는 전체 필름 중량 중 20,000 내지 70,000ppm으로 포함되고, 슬립성 및/또는 대전방지성을 갖는 층에 있어서 입자는 전체 필름 중량 중 200 내지 700ppm으로 포함되는 것일 수 있고, 이때 광확산성 입자 또는 입자는 바람직하기로는 실리콘 비드 또는 폴리메틸메타크릴레이트 중에서 선택되는 것일 수 있다. According to one embodiment of the present invention, in the light diffusing layer, the light diffusing particles are included in the total film weight of 20,000 to 70,000 ppm, and in the layer having slip property and / or antistatic property, the particles are all It may be included in the film weight of 200 to 700ppm, wherein the light diffusing particles or particles may be preferably selected from silicon beads or polymethyl methacrylate.

본 발명의 일 구현예에 의하면, 슬립성 및/또는 대전방지성을 갖는 층은 그 두께가 전체 필름 두께에 대해 1 내지 5%이고, 광확산성을 갖는 층은 그 두께가 전체 필름 두께에 대해 1 내지 30%인 수 있다. According to one embodiment of the invention, the slip and / or antistatic layer has a thickness of 1 to 5% of the total film thickness, and the layer having light diffusivity has a thickness of the entire film thickness. It may be 1 to 30%.

본 발명의 다른 일 구현예에 의하면, 폴리에스테르 필름의 적어도 일면에 아크릴계 수지 또는 우레탄계 수지 바인더에 분산된 평균입경 10 내지 500nm인 입자를 포함하는 코팅층을 포함할 수 있다. 이때 코팅층은 두께가 10 내지 1000nm일 수 있다. According to another embodiment of the present invention, at least one surface of the polyester film may include a coating layer containing particles having an average particle diameter of 10 to 500nm dispersed in an acrylic resin or a urethane resin binder. In this case, the coating layer may have a thickness of 10 to 1000 nm.

광학적 용도를 고려할 때 바람직하기로는 본 발명의 일 구현예에 의한 폴리에스테르 필름은 헤이즈가 70% 이상이고 전광선 투과율이 80% 이상일 수 있다. Considering the optical use, preferably, the polyester film according to one embodiment of the present invention may have a haze of 70% or more and a total light transmittance of 80% or more.

본 발명의 일 구현예에서는 In one embodiment of the present invention

a) 융점이 Tm1인 폴리에스테르 수지를 제조하는 단계; b) 융점이 Tm1인 폴리에스테르 수지와 평균입경이 0.5 내지 5㎛인 입자를 컴파운딩하여 제1 마스터배치를 제조하는 단계; c) 융점이 Tm1인 호모 폴리에스테르 수지 30 내지 50중량% 및 융점(Tm2)이 Tm1-60℃ < Tm2 < Tm1-10℃을 만족하는 공중합체 수지 50 내지 70중량%로 되는 투명한 수지와; 평균입경이 5 내지 25㎛인 광확산성 입자를 컴파운딩하여 제2 마스터배치를 제조하는 단계; d) 마스터 배치 1, 폴리에스테르 수지 및 마스터배치 2를 폴리에스테르 수지 양면에 각각 마스터배치 1 및 마스터배치 2로부터 형성되는 층이 오도록 공압출하여 미연신 시트를 제조하는 단계; e) 미연신 시트를 기계방향으로 연신하는 단계; f) 기계방향으로 연신된 필름을 폭방향으로 연신하는 단계; 및 g) 열고정하는 단계를 포함하는 폴리에스테르 필름의 제조방법을 제공한다. a) preparing a polyester resin having a melting point of Tm 1 ; b) compounding a polyester resin having a melting point of Tm 1 and particles having an average particle diameter of 0.5 to 5 μm to prepare a first masterbatch; c) 30 to 50% by weight of the homopolyester resin having a melting point of Tm 1 and 50 to 70% by weight of the copolymer resin satisfying a melting point (Tm 2 ) of Tm 1 -60 ° C <Tm 2 <Tm 1 -10 ° C. Transparent resin; Compounding light diffusing particles having an average particle diameter of 5 to 25 μm to prepare a second masterbatch; d) coextruding the master batch 1, the polyester resin and the masterbatch 2 so that the layers formed from the masterbatch 1 and the masterbatch 2 are respectively placed on both sides of the polyester resin to prepare an unstretched sheet; e) stretching the unstretched sheet in the machine direction; f) stretching the film stretched in the machine direction in the width direction; And g) provides a method for producing a polyester film comprising the step of heat setting.

본 발명의 일 구현예에 의한 제조방법에 있어서, 단계 c)에서 투명한 수지로 폴리에틸렌테레프탈레이트와 폴리에스테르 공중합체, 폴리카보네이트 공중합체 및 폴리설폰 공중합체 중에서 선택되는 1종 이상의 공중합체와의 블렌드물을 사용하는 할 수 있다. In the production method according to an embodiment of the present invention, a blend of polyethylene terephthalate and at least one copolymer selected from a polyester copolymer, a polycarbonate copolymer and a polysulfone copolymer as a transparent resin in step c) Can be used.

본 발명의 바람직한 일 구현예에 의한 제조방법에 있어서, 단계 c)에서 공중합체 수지는 테레프탈산을 포함하는 디카르복시산과, 네오펜틸글리콜 및 에틸렌글리콜을 포함하는 글리콜로부터 얻어지는 코폴리에스테르를 포함하는 것일 수 있다. In the production method according to a preferred embodiment of the present invention, the copolymer resin in step c) may include a dicarboxylic acid containing terephthalic acid and a copolyester obtained from a glycol containing neopentyl glycol and ethylene glycol. have.

본 발명의 일 구현예에 의한 제조방법에 있어서, 기계방향 연신은 90 내지 110℃ 온도 하에서 연신비 3.0 내지 3.5배 되도록 연신하는 방법으로 수행될 수 있다. 또한 폭방향 연신은 120 내지 130℃의 온도에서 연신비 3.5 내지 4.0배 되도록 연신하는 방법으로 수행될 수 있다. In the manufacturing method according to an embodiment of the present invention, the stretching in the machine direction may be carried out by the stretching method to 3.0 to 3.5 times the draw ratio under the temperature of 90 to 110 ℃. In addition, the stretching in the width direction may be carried out by a method of stretching to a draw ratio of 3.5 to 4.0 times at a temperature of 120 to 130 ℃.

본 발명의 일 구현예에 의한 제조방법에 있어서, 열고정은 Tm2 보다는 높고 Tm1 보다 낮은 온도에서 열처리하는 방법으로 수행될 수 있다. In the manufacturing method according to an embodiment of the present invention, heat setting may be performed by heat treatment at a temperature higher than Tm 2 and lower than Tm 1 .

본 발명의 다른 일 구현예에 의한 제조방법에서는, 기계방향으로 연신된 필름을 폭방향으로 연신하는 단계 이전에, 기계방향으로 연신된 공압출 시트의 적어도 일면에 평균입경이 10 내지 500nm인 입자를 포함하는 아크릴계 수지 또는 우레탄 수지 코팅액을 인라인 코팅하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이때 인라인 코팅하는 단계는 건조 후 코팅층 두께가 10 내지 1000nm 되도록 수행할 수 있다. In the manufacturing method according to another embodiment of the present invention, before the stretching of the film stretched in the machine direction in the width direction, particles having an average particle diameter of 10 to 500nm on at least one surface of the co-extruded sheet stretched in the machine direction It may further comprise the step of in-line coating the acrylic resin or urethane resin coating solution comprising. In this case, the in-line coating may be performed so that the coating layer thickness is 10 to 1000 nm after drying.

본 발명의 일 구현예에 의한 폴리에스테르 필름은 일 표면 상에 광확산 가능한 층이 있고 다른 일 표면 상에 슬립성 및/또는 대전방지성을 갖는 층이 있는 폴리에스테르 중합체 기재층을 포함하는 것으로, 여기서 “표면 상에 광확산 가능한 층이 있는 폴리에스테르 중합체 기재층”의 의미는 폴리에스테르 중합체 기재층과, 폴리에스테르 중합체 기재층 상에 형성되는 별도의 접착층, 라미네이션층 또는 코팅층 형태의 광확산 가능한 층을 포함한다는 것이 아니라, 폴리에스테르 중합체 기재층 자체가 광확산성을 갖도록 표면 상에 광확산 가능한 층이 형성된 것으로 이해될 것이다. 마찬가지로 “표면 상에 슬립성 및/또는 대전방지성을 갖는 층이 있는 폴리에스테르 중합체 기재층”의 의미 또한 폴리에스테르 중합체 기재층과, 기재층 상에 형성되는 별도의 접착층, 라미네이션층 또는 코팅층 형태의 슬립성 및/또는 대전방지성을 갖는 층을 포함한다는 것이 아니라, 폴리에스테르 중합체 기재층 자체가 슬립성을 갖도록 표면 상에 광확산 가능한 층이 형성된 것으로 이해될 것이다. The polyester film according to one embodiment of the present invention includes a polyester polymer base layer having a light diffusable layer on one surface and a layer having slip and / or antistatic property on the other surface. The term “polyester polymer substrate layer having a light diffusable layer on the surface” herein means a polyester polymer substrate layer and a light diffusable layer in the form of a separate adhesive layer, lamination layer or coating layer formed on the polyester polymer substrate layer. It will be understood that the light-diffusing layer is formed on the surface such that the polyester polymer base layer itself has light diffusivity. Likewise, the meaning of “polyester polymer substrate layer having a slip and / or antistatic property on the surface” also means that the polyester polymer substrate layer is in the form of a separate adhesive layer, lamination layer or coating layer formed on the substrate layer. It will be understood that a light diffusable layer is formed on the surface so that the polyester polymer base layer itself is slippery, rather than including a layer having slipability and / or antistatic property.

본 발명의 일 구현예에 의하면 광확산 가능한 층을 제외한, 폴리에스테르 중합체 기재층(이하, ‘기재층’이라 약칭한다.) 및 슬립성 및/또는 대전방지성을 갖는 층(이하, ‘슬립층’이라 약칭한다.)은 융점이 Tm1인 폴리에스테르 수지를 매트릭스로 한다. 보다 구체적으로는 이들 층은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 수지를 매트릭스로 한다. 폴리에스테르 수지 매트릭스는 융점(Tm1)이 230 ~ 280℃인 것이 기계적 물성과 열적 형태안정성 측면에서 바람직할 수 있다. According to one embodiment of the present invention, except for the light diffusable layer, a polyester polymer base layer (hereinafter, abbreviated as a 'substrate layer') and a layer having slip property and / or antistatic property (hereinafter, 'slip layer') is abbreviated as') is a polyester resin having a melting point Tm 1 of the matrix. More specifically, these layers are made of polyethylene terephthalate (PET) resin as a matrix. It is preferable that the polyester resin matrix has a melting point (Tm 1 ) of 230 to 280 ° C in view of mechanical properties and thermal form stability.

본 발명의 일 구현예에 의한 폴리에스테르 필름은 기재층의 일 표면상은 슬립층을 포함하는데, 슬립층은 기재층과 동일한 융점 범위를 갖는 폴리에스테르 수지 매트릭스에 분산된 평균입경이 0.5 내지 5㎛인 입자를 포함하여 슬립성 내지는 대전방지성을 부여할 수 있도록 한다. Polyester film according to an embodiment of the present invention includes a slip layer on one surface of the base layer, the slip layer has an average particle diameter of 0.5 to 5㎛ dispersed in a polyester resin matrix having the same melting point range as the base layer The particles can be provided to impart slip or antistatic properties.

이때 입자의 종류는 제한되지 않으며, 유기계 또는 무기계 입자를 사용할 수 있다. 또한, 입자의 형태도 제한되지 않으나, 구형의 입자를 사용하는 것이 광학 특성상 바람직할 수 있다. 또한, 입자는 단독 또는 1종 이상을 혼용하여 사용하는 것도 가능하다. 입자의 제한되지 않는 일예로는, 경질 탄산칼슘(CaO), 실리카졸, 황산바륨(BaSO4), 산화나트륨(NaO2), 황산나트륨(Na2SO4), 고령토, 카오린, 탈크 등의 안티블로킹 무기입자, 실리콘 수지, 가교디비닐벤젠폴리메타아크릴레이트, 가교폴리메타아크릴레이트 등의 가교 아크릴 수지 및 가교폴리스타이렌수지, 벤조구아나민-포름알데히드수지, 벤조구아나민-멜라민-포름알데히드수지, 멜라민-포름알데히드 수지 등의 유기입자를 들 수 있다. At this time, the type of particles is not limited, and organic or inorganic particles may be used. In addition, although the shape of the particles is not limited, it may be preferable to use spherical particles in view of optical properties. In addition, particle | grains can also be used individually or in mixture of 1 or more types. Non-limiting examples of particles include antiblocking such as hard calcium carbonate (CaO), silica sol, barium sulfate (BaSO 4 ), sodium oxide (NaO 2 ), sodium sulfate (Na 2 SO 4 ), kaolin, kaolin, talc, etc. Crosslinked acrylic resins such as inorganic particles, silicone resins, crosslinked divinylbenzene polymethacrylates and crosslinked polymethacrylates, and crosslinked polystyrene resins, benzoguanamine-formaldehyde resins, benzoguanamine-melamine-formaldehyde resins and melamine- Organic particles, such as formaldehyde resin, are mentioned.

바람직하게는 실리콘 비드 또는 폴리메틸메타크릴레이트 비드 등을 입자로 포함하는 것일 수 있다. Preferably, the particles may include silicon beads or polymethyl methacrylate beads.

슬립층 중 포함되는 입자의 함량은 전체 필름 중량 중 200 내지 700ppm 정도이면 슬립성 및 대전방지성을 향상시키는 측면에서 유리하다. The content of particles included in the slip layer is advantageous in terms of improving slipability and antistatic property in the range of about 200 to 700 ppm of the total film weight.

슬립층의 두께는 전체 필름 두께에 대해 1 내지 5% 정도인 것이 광학 특성을 발현함에 있어서 바람직할 수 있다. The thickness of the slip layer may be preferably about 1 to 5% of the total film thickness in expressing optical properties.

한편 기재층의 다른 일 표면을 형성하는 광확산 가능한 층은, (a) 투명한 수지 매트릭스에 분산된 평균입경이 5 내지 25㎛인 광확산성 입자를 포함하고, (b) 투명한 수지 매트릭스는 융점이 Tm1인 호모 폴리에스테르 수지 30 내지 50중량%와 융점(Tm2)이 Tm1 - 60℃ < Tm2 < Tm1 - 10℃을 만족하는 공중합체 수지 50 내지 70중량%로 되며, (c) SEM에 의해 종단면을 관찰하였을 때 상, 하면 모두가 입자에 의해 형성되는 돌출 형상을 가지는 것이다. On the other hand, the light diffusable layer forming the other surface of the substrate layer includes (a) light diffusing particles having an average particle diameter of 5 to 25 μm dispersed in a transparent resin matrix, and (b) the transparent resin matrix has a melting point. Tm 1 of homo-polyester resin 30 to 50% by weight and a melting point (Tm 2) the Tm 1 - 60 ℃ <Tm 2 <Tm 1 - is a copolymer of 50 to 70% by weight satisfying the 10 ℃, (c) When the longitudinal section is observed by SEM, both the upper and lower surfaces have a protruding shape formed by particles.

광확산 가능한 층을 구성하는 투명한 수지 매트릭스에 포함되는 융점(Tm2)이 Tm1 - 60℃ < Tm2 < Tm1 - 10℃을 만족하는 공중합체 수지는 기재층 표면 상에 광확산 가능한 층을 형성함에 있어서 광확산성 입자의 돌출을 유도하기 위한 것으로, 만일 융점(Tm2)이 Tm1 - 60℃ 미만인 경우는 폭방향(TD) 연신 및 열처리시 열에 의해 변형이 일어나 입자가 필름의 변부로 뭉치게 되어 광학산 가능한 층의 표면이 불균일해져 광학용으로 사용할 수 없으며, 융점(Tm2)이 Tm1 - 10℃ 초과인 경우는 열처리 구간에서 입자돌출을 위해 고온으로 열처리를 행하여야 하며, 표면으로의 입자돌출이 낮아 광학적 특성이 떨어질 뿐만 아니라 필름의 물성저하가 심하여 기계적 강도가 낮아 필름으로 사용이 곤란하다.Light diffusing melting point contained in the transparent resin matrix constituting a possible layer (Tm 2) the Tm 1 - 60 ℃ <Tm 2 <Tm 1 - copolymer resin that satisfies the 10 ℃ is a light diffusion possible layer on the base layer surface that, for deriving the projection of the light-diffusing particles in forming, if the melting point (Tm 2) the Tm 1 - less than 60 ℃ the width direction (TD) stretching and up the deformation by the heat during the heat treatment portion side of the particles are loaded with If the melting point (Tm 2 ) is higher than Tm 1-10 ℃, the heat treatment should be performed at high temperature for particle extrusion in the heat treatment section. It is difficult to use it as a low mechanical strength due to the low mechanical properties and low mechanical properties due to low particle protruding into the film.

그러나 이와 같이 융점이 Tm2인 공중합체 수지로만 광확산 가능한 층의 매트릭스를 형성하는 경우 융점이 Tm1인 폴리에스테르 수지 매트릭스로 되는 기재층과의 융점 차이로 인하여 열처리시에 광확산 가능한 층의 매트릭스가 녹아 균일한 층의 형성이 어려우며, 이로 인해 결과적으로 얻어지는 폴리에스테르 필름은 전면에 걸쳐 헤이즈값의 불균일이 발생할 수 있다. 이러한 필름 전면에 대한 헤이즈값의 불균일은 궁극적으로 광학용도로 적용시 휘도의 불균일을 초래할 수 있다. However, in the case of forming a matrix of the light diffusing layer only with the copolymer resin having a melting point of Tm 2 , the matrix of the light diffusing layer during heat treatment due to the difference in melting point with the base layer which is a polyester resin matrix having a melting point of Tm 1 It is difficult to form a homogeneous layer due to melting, which may result in nonuniformity of haze value over the entire surface of the resulting polyester film. This non-uniformity of haze value for the entire surface of the film may ultimately lead to non-uniformity of brightness when applied for optical use.

이러한 점에서 본 발명의 일 구현예에 의한 폴리에스테르 필름은 광확산 가능한 층의 투명한 수지 매트릭스는 상기한 융점이 Tm2인 공중합체 수지 및 융점이 Tm1인 호모 폴리에스테르 수지로 되는 것이 바람직하다.In this regard, the polyester film according to the embodiment of the present invention is preferably a transparent resin matrix of the light diffusable layer is a copolymer resin having a melting point of Tm 2 and a homo polyester resin having a melting point of Tm 1 .

구체적으로 융점이 Tm1인 호모 폴리에스테르 수지 30 내지 50중량%와 융점(Tm2)이 Tm1 - 60℃ < Tm2 < Tm1 - 10℃을 만족하는 공중합체 수지 50 내지 70중량%로 되는 투명한 수지 매트릭스인 것이 바람직하다. Specifically, a melting point Tm 1 of homo-polyester resin 30 to 50% by weight and a melting point (Tm 2) the Tm 1 - 60 ℃ <Tm 2 <Tm 1 - copolymer resin that satisfies the 10 ℃ comes to 50 to 70% by weight It is preferable that it is a transparent resin matrix.

만일, 융점이 Tm1인 호모 폴리에스테르 수지가 광확산 가능한 층을 구성하는 수지 매트릭스 중 30중량% 미만이면 필름 전면에 걸친 헤이즈 편차를 줄이기에 미흡하고, 50중량% 초과면 광확산성 입자의 돌출이 적어져 휘도가 떨어질 수 있다. If the homo-polyester resin having a melting point of Tm 1 is less than 30% by weight in the resin matrix constituting the light diffusable layer, it is insufficient to reduce haze variation across the entire film, and if it is more than 50% by weight, protrusion of the light-diffusing particles May decrease so that the brightness may drop.

한편 융점이 Tm2인 공중합체 수지의 일예로는 폴리에스테르 공중합체, 폴리카보네이트 공중합체 및 폴리설폰 공중합체에서 선택되는 공중합체를 들 수 있으나, 이 중 융점이 180 ~ 225℃인 폴리에스테르 공중합체를 사용하는 것이 연신 후, 열처리 시에 공중합 폴리머가 용융되어 코팅(Coating)공정과 동일한 입자돌출 효과를 표층에 형성할 수 있기 때문에 바람직하다. 좀 더 구체적으로 폴리에스테르 공중합체는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리트리메틸렌테레프탈레이트에서 선택되는 폴리에스테르계 공중합체를 사용할 수 있으며, 첨가제를 더 포함하는 것도 가능하다. Meanwhile, examples of the copolymer resin having a melting point of Tm 2 include a copolymer selected from a polyester copolymer, a polycarbonate copolymer, and a polysulfone copolymer. Among these, a polyester copolymer having a melting point of 180 to 225 ° C The use of is preferable since, after stretching, the copolymer polymer can be melted during heat treatment to form the same particle protruding effect as the coating process on the surface layer. More specifically, the polyester copolymer may use a polyester copolymer selected from polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate and polytrimethylene terephthalate, and may further include an additive.

폴리에스테르 공중합체는 디카르복실산을 주성분으로 하는 산성분과 알킬글리콜을 주성분으로 하는 글리콜 성분을 축중합하여 얻어진다. 디카르복실산의 주성분으로는 테레프탈산 또는 그의 알킬에스테르나 페닐에스테르 등을 주로 사용하지 만, 그의 일부를 예컨대 이소프탈산, 옥시에톡시 안식향산, 아디핀산, 세바신산, 5-나트륨설포이소프탈산 등의 이관능성 카르본산 또는 그의 에스테르형성 유도체로 대체하여 사용할 수 있다. The polyester copolymer is obtained by condensation polymerization of an acid component containing dicarboxylic acid as a main component and a glycol component containing alkyl glycol as a main component. Terephthalic acid or its alkyl ester or phenyl ester is mainly used as the main component of the dicarboxylic acid, but some of them are, for example, isophthalic acid, oxyethoxy benzoic acid, adipic acid, sebacic acid, and 5-sodium sulfoisophthalic acid. It may be used in place of a bifunctional carboxylic acid or an ester forming derivative thereof.

또한, 글리콜성분으로는 에틸렌글리콜을 주된 대상으로 하지만, 그 일부를 예컨대 프로필렌 글리콜, 트리메틸렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 1,4-사이클로헥산디올, 1,4-사이클로헥산디메탄올, 1,4-비스옥시에톡시벤젠, 비스페놀, 폴리옥시에틸렌글리콜로 대체하여 사용한다.As the glycol component, ethylene glycol is the main object, but a part thereof is propylene glycol, trimethylene glycol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,4- It is used in place of bisoxyethoxybenzene, bisphenol and polyoxyethylene glycol.

한편 광확산 가능한 층에는 광확산성 입자를 포함하는바, 이는 상술한 슬립층에 포함되는 입자와 같거나 다른 것일 수 있다. 다만 광확산성 입자는 평균입경이 슬립층에 포함되는 입자에 비하여 큰, 5 내지 25㎛ 범위인 것이 바람직할 수 있고, 그 함량은 전체 필름 중량에 대해 20,000 내지 70,000인 것이 헤이즈와 휘도 향상 및 광확산 기능 측면에서 유리할 수 있다. Meanwhile, the light diffusing layer includes light diffusing particles, which may be the same as or different from the particles included in the slip layer described above. However, the light diffusing particles may be preferably in the range of 5 to 25㎛, the average particle diameter is larger than the particles included in the slip layer, the content is 20,000 to 70,000 relative to the total film weight haze and brightness enhancement and light It may be advantageous in terms of diffusion function.

광확산 가능한 층의 두께는 전체 필름 두께에 대해 1 ~ 30%인 것이 입자의 돌출에 의한 광투과 측면 및 필름의 열적형태안정성 측면에서 바람직할 수 있다.The thickness of the light diffusable layer may be preferably 1 to 30% of the total film thickness in terms of light transmission side due to the protrusion of particles and thermal morphological stability of the film.

폴리에스테르 필름 전체 두께는 한정이 있는 것은 아니나, 용도에 따라서 작업성 및 휘도 발현의 측면을 고려할 때 188 내지 220㎛일 수 있다.The total thickness of the polyester film is not limited, but may be 188 to 220 μm in view of workability and luminance expression depending on the use.

본 발명의 일 구현예에 의해 얻어지는 광확산 가능한 층은 SEM에 의해 종단면을 관찰하였을 때 상, 하면 모두가 입자에 의해 형성되는 돌출 형상을 가지도록 기재층 표면 상에 형성되는 것으로, 이러한 표면 형상은 기재층을 이루는 수지 매트릭스로부터 필름을 제조함에 있어서 광확산 가능한 층을 이루는 투명한 수지 매트릭스와 광확산성 입자를 포함하는 수지 조성을 공압출하여 함께 연신 과정을 거치는 방법을 통해, 또한 광확산 가능한 층을 이루는 투명한 수지 매트릭스 중에 융점이 Tm2인 공중합체 수지를 포함하여 열처리 공정을 거침으로써 달성될 수 있다. 구체적인 공정은 후술한다. The light-diffusing layer obtained by one embodiment of the present invention is formed on the surface of the base layer so that both the upper and lower surfaces have a protruding shape formed by particles when the longitudinal section is observed by SEM. In manufacturing the film from the resin matrix constituting the substrate layer, the transparent resin matrix constituting the light diffusable layer and the resin composition including the light diffusing particles are coextruded and stretched together to form a light diffusable layer. It can be achieved by including a copolymer resin having a melting point of Tm 2 in the transparent resin matrix and undergoing a heat treatment process. The specific process is mentioned later.

또한 본 발명의 폴리에스테르 필름은 필요에 따라 적어도 일면에 코팅층을 더 포함할 수 있는데, 이와 같이 별도의 코팅층을 더 포함하는 것은 광특성을 저해하지 않으면서 안티블록킹 효과를 발현할 수 있는 측면에서 유리할 수 있는데, 구체적으로 코팅층은 평균입경이 10 ~ 500nm인 입자를 포함하는 아크릴 또는 우레탄 코팅층일 수 있다. 또한 코팅층은 두께가 10 ~ 1000nm인 것이 바람직할 수 있다. In addition, the polyester film of the present invention may further include a coating layer on at least one surface as necessary, it may be advantageous to further include a separate coating layer in terms of expressing the anti-blocking effect without inhibiting the optical properties. Specifically, the coating layer may be an acrylic or urethane coating layer containing particles having an average particle diameter of 10 ~ 500nm. In addition, the coating layer may be preferably a thickness of 10 ~ 1000nm.

코팅층 중 포함되는 입자의 평균입경이 상기 범위 이내인 것이 광투과 특성 및 안티블록킹 효과 측면에서 유리할 수 있고, 또한 코팅층 두께가 상기 범위 이내인 것이 광투과 특성 및 안티블록킹 효과 측면에서 유리할 수 있다. The average particle diameter of the particles included in the coating layer may be advantageous in terms of light transmittance and antiblocking effect, and the coating layer thickness may be advantageous in light transmittance and antiblocking effect.

이러한 코팅층을 형성하는 방법은 각별한 한정이 있는 것은 아니나, 인라인 코팅(ILC)을 통하여 필름 표면에 코팅층을 형성하는 경우 광투과도를 더욱 향상시 킬 수 있다. 일예로, 인라인 코팅을 하는 경우 인라인 코팅하지 않는 경우에 비하여 광투과도를 약 5% 정도까지 상승시킬 수 있다. 인라인 코팅에 사용되는 코팅액은 굴절율이 1.50 ~ 1.55인 폴리우레탄 수지층을 형성하기 위한 코팅액 또는 굴절율이 1.40 ~ 1.48인 아크릴수지층을 형성하기 위한 코팅액이라면 제한되지 않고 사용할 수 있다.The method of forming the coating layer is not particularly limited, but when the coating layer is formed on the surface of the film through inline coating (ILC), the light transmittance may be further improved. For example, in-line coating may increase the light transmittance by about 5% compared to the case without in-line coating. The coating liquid used for the inline coating can be used without limitation as long as it is a coating liquid for forming a polyurethane resin layer having a refractive index of 1.50 to 1.55 or a coating liquid for forming an acrylic resin layer having a refractive index of 1.40 to 1.48.

이러한 폴리우레탄수지층을 형성하기 위한 조성으로 통상적으로 폴리올로서 에스테르나 카보네이트 타입을 사용하고, 이소시아네이트로서는 지방족 이소시아네이트를 사용하며, 사슬연장제로서 디올이나 디아민계를 함유하는 조성물을 코팅액으로 사용할 수 있다. 또한 아크릴수지층을 형성하기 위한 조성으로 통상적으로 메틸테트라아크릴레이트, 메타아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 아크릴산 등의 혼합물을 함유하는 코팅액을 사용할 수 있다. 상기 코팅액에 사용되는 바인더 성분은 Tg가 20℃ ~ 100℃인 것이 바람직하고, 코팅액은 고형분이 코팅액의 중량에 대하여 2 ~ 10중량% 이고, 코팅액의 점도가 20cps(25℃)이하인 것이 좋다. 고형분의 농도가 2중량% 미만이면 원하는 코팅층의 두께를 얻기 위하여 웨트 도포량을 증가하여야 하며, 이를 건조하기 위해서 많은 에너지가 필요하여 베이스필름의 제조단가 상승이 발생할 수 있고, 고형분의 농도가 10중량%를 초과하는 경우 점도가 20cps이상으로 높아져 코팅성의 저하를 발생 시킬 수 있다. As a composition for forming such a polyurethane resin layer, an ester or a carbonate type is usually used as a polyol, an aliphatic isocyanate is used as an isocyanate, and a composition containing a diol or a diamine system as a chain extender can be used as a coating liquid. In addition, a coating liquid containing a mixture of methyl tetraacrylate, methacrylate, butyl acrylate, acrylic acid, etc. may be used as a composition for forming the acrylic resin layer. The binder component used in the coating solution preferably has a T g of 20 ° C. to 100 ° C., and the coating liquid has a solid content of 2 to 10 wt% with respect to the weight of the coating liquid, and a viscosity of the coating solution of 20 cps (25 ° C.) or less. If the concentration of the solid content is less than 2% by weight, the amount of wet coating should be increased to obtain the desired thickness of the coating layer. In order to dry it, a large amount of energy is required, resulting in an increase in the manufacturing cost of the base film. If it exceeds the viscosity is higher than 20cps may cause a decrease in coating properties.

본 발명에 따른 폴리에스테르 필름은 광학적 용도를 고려할 때 헤이즈(Haze) 가 70% 이상, 보다 구체적으로는 70 ~ 99%, 전광선 투과율(Total Transmittance) 이 80% 이상, 보다 구체적으로는 80 ~ 99%인 것일 수 있다. The polyester film according to the present invention has a haze of 70% or more, more specifically 70 to 99%, total light transmittance of 80% or more, more specifically 80 to 99% in consideration of optical use. It may be

헤이즈(Haze)가 70% 미만이면 도광판 광원의 패턴(Pattern)이 그대로 나타나 선광을 면광으로 바꾸는 효율이 떨어지고, 전광선 투과율(Total Transmittance)이 80% 미만이면 휘도(Brightness)가 떨어질 수 있다. If the haze is less than 70%, the pattern of the light guide plate light source is intact, and the efficiency of converting the linear light into surface light is inferior. If the total light transmittance is less than 80%, the brightness may be reduced.

또한, 본 발명에 따른 광학용 폴리에스테르 필름을 사용한 프리즘 필름도 본 발명의 범위에 포함된다. 이때 프리즘 필름을 형성하기 위한 방법은 공지의 것으로, 통상적으로 해당 분야에서 사용되는 코팅방법을 사용하여 본 발명의 광학용 폴리에스테르 필름의 일면 또는 양면에 프리즘을 코팅할 수 있다.In addition, the prism film using the optical polyester film which concerns on this invention is also included in the scope of the present invention. In this case, a method for forming a prism film is known, and a prism may be coated on one or both surfaces of the optical polyester film of the present invention by using a coating method that is commonly used in the art.

상술한 폴리에스테르 필름을 제조하는 방법의 일예는, An example of the method of manufacturing the polyester film mentioned above,

a) 융점이 Tm1인 폴리에스테르 수지를 제조하는 단계; b) 융점이 Tm1인 폴리에스테르 수지와 평균입경 0.5 내지 5㎛인 입자를 컴파운딩하여 제1 마스터배치를 제조하는 단계; c) 융점이 Tm1인 호모 폴리에스테르 수지 30 내지 50중량% 및 융점(Tm2)이 Tm1-60℃ < Tm2 < Tm1-10℃을 만족하는 공중합체 수지 50 내지 70중량%로 되는 투명한 수지와, 평균입경이 5 내지 25㎛인 광확산성 입자를 컴파운딩하여 제2 마스터배치를 제조하는 단계; d) 제1 마스터배치, 폴리에스테르 수지 및 제2 마스터배치로부터, 폴리에스테르 수지층의 양면에 각각 제1 마스터배치 및 제2 마스터배치로 되는 층이 오도록 공압출하여 미연신 시트를 제조하는 단계; e) 미연신 시 트를 기계방향으로 연신하는 단계; f) 기계방향으로 연신된 필름을 폭방향으로 연신하는 단계; 및 g) 열고정하는 단계를 포함한다. a) preparing a polyester resin having a melting point of Tm 1 ; b) compounding a polyester resin having a melting point of Tm 1 and particles having an average particle diameter of 0.5 to 5 μm to prepare a first masterbatch; c) 30 to 50% by weight of the homopolyester resin having a melting point of Tm 1 and 50 to 70% by weight of the copolymer resin satisfying a melting point (Tm 2 ) of Tm 1 -60 ° C <Tm 2 <Tm 1 -10 ° C. Compounding a transparent resin and light diffusing particles having an average particle diameter of 5 to 25 μm to prepare a second masterbatch; d) coextruding from the first masterbatch, the polyester resin and the second masterbatch so that the layers of the first masterbatch and the second masterbatch are respectively provided on both sides of the polyester resin layer; e) stretching the unstretched sheet in the machine direction; f) stretching the film stretched in the machine direction in the width direction; And g) heat setting.

상기 열고정 단계 후 기계방향(MD)및 폭방향(TD)으로 완화(relax)하는 단계를 더 추가할 수 있다. 제한되는 것은 아니나 완화는 필름의 길이에 대해 1 내지 5% 되도록 수행할 수 있다. After the heat setting step, it may be further added to relax in the machine direction (MD) and the width direction (TD). Although not limited, relaxation can be performed to be 1-5% of the length of the film.

이러한 공정을 통해 얻어지는 본 발명의 폴리에스테르 필름은 SEM에 의해 종단면을 관찰하였을 때 광확산 가능한 층 및 슬립층과 접촉하는 기재층 면에 실질적으로 직선상으로 연장되는 계면이 존재하지 않는다. The polyester film of the present invention obtained through this process does not have an interface extending substantially linearly on the surface of the substrate layer in contact with the light diffusable layer and the slip layer when the longitudinal section is observed by SEM.

또한 상기 e)단계 후, 평균입경이 10 ~ 500nm인 입자를 포함하는 아크릴 혹은 우레탄 코팅액을 인라인코팅(in-line coating, ILC)하는 단계를 더 추가할 수 있다. 인라인 코팅을 통하여 필름 표면에 코팅층을 형성하는 것과 관련하여서는 상술한 것과 같다. In addition, after the step e), an additional step of in-line coating (in-line coating, ILC) of the acrylic or urethane coating liquid containing particles having an average particle diameter of 10 ~ 500nm may be further added. Regarding forming the coating layer on the film surface through inline coating, it is as described above.

단계 e)에서 기계방향(MD) 연신은 90 ~ 110℃의 온도하에서 연신비 3.0 ~ 3.5배 되도록 연신하고, 단계 f)에서 폭방향(TD) 연신은 120 ~ 130℃의 온도에서 연신비 3.5 ~ 4.0배 되도록 연신하는 것이 바람직하다.In step e), the machine direction (MD) stretching is performed at a temperature of 90 to 110 ° C. to a draw ratio of 3.0 to 3.5 times, and in step f) the width direction (TD) stretching is at a temperature of 120 to 130 ° C. It is preferable to extend as possible.

상기 연신 온도 및 연신 밴율로 연신을 하는 것이 광확산 가능한 층면으로의 입자 돌출이 유리할 수 있다. Stretching at the stretching temperature and the stretching ban rate may be advantageous to project the particles to the light diffusable layered surface.

또한 열고정은 Tm2 보다는 높고, Tm1 보다는 낮은 온도에서 열처리하는 것이 폴리에스테르 필름의 일 표면, 즉 광확산 가능한 층면에 요철을 형성할 수 있는 점에서 유리할 수 있다. 이렇게 형성된 요철은 광확산성 및 휘도를 향상시킬 수 있다. In addition, heat setting may be advantageous in that heat treatment at a temperature higher than Tm 2 and lower than Tm 1 may form irregularities on one surface of the polyester film, that is, the light diffusable layer surface. The unevenness thus formed can improve light diffusivity and brightness.

이하는 본 발명의 구체적인 설명을 위하여 일예를 들어 설명하는 바, 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

1) 열수축율 1) Heat Shrinkage

필름을 20cm × 20cm의 정방향으로 재단하여 필름의 기계방향(MD) 및 폭방향(TD)의 길이를 측정한 후, 이를 150℃의 오븐(Oven)중에 무하중 상태에서 30분간 열수축 시킨 후, 열수축된 필름의 기계방향(MD) 및 폭방향(TD)의 길이를 측정하여 기계방향(MD) 및 폭방향(TD)의 열수축율을 하기 식 1에 따라 구하였다.After cutting the film in the forward direction of 20 cm × 20 cm, the lengths of the machine direction (MD) and the width direction (TD) of the film were measured, and then thermally contracted for 30 minutes in an unloaded state at 150 ° C. in an oven. The length of the machine direction (MD) and the width direction (TD) of the obtained film was measured, and the thermal contraction rate of the machine direction (MD) and the width direction (TD) was calculated | required according to following formula (1).

<식 1><Equation 1>

(수축 전 길이 - 수축 후 길이)                 (Length before contraction-length after contraction)

열수축율 (%) = -------------------------------- × 100Heat Shrinkage (%) = -------------------------------- × 100

수축 전 길이                        Length before shrink

2) 강신도 2) strength

필름을 폭 15mm로 하고, 시료장 (Gauge Length)을 50mm하고, 인장속도(Cross head-up speed)를 500mm/min로 하여 만능인장 시험기(Instron社 Tensile Test Machine)을 이용하여 필름의 기계방향(MD) 및 폭방향(TD)에 대한 인장 특성을 측정 하였다. The film is 15mm wide, the Gauge Length is 50mm, the cross head-up speed is 500mm / min, and the machine direction of the film is obtained by using a universal tensile test machine (Instron Tensile Test Machine). MD) and tensile properties in the width direction (TD) were measured.

3) 광학적 특성 평가 (헤이즈, 헤이즈 편차 및 광투과도 측정)3) Optical property evaluation (measuring haze, haze deviation and light transmittance)

측정방법은 ASTM D-1003 을 기준으로 측정하였으며, 폴리에스테르 필름을 변부 2개소, 중심부 1개소에서 무작위로 7 개 부분을 추출한 후 각 5cm× 5cm 크기로 절편하여 헤이즈 측정기(니혼덴쇼쿠 NDH 300A)에 넣고 555nm 파장의 빛을 투과시켜 헤이즈(Haze; %) 및 전체광선 투과율(Total Transmittance; %)을 측정하여 최대값 및 최소값을 제외한 5개 값에 대한 평균치를 구하여 헤이즈 및 전체광선투과율을 산출하였다.The measurement method was measured based on ASTM D-1003, and the polyester film was randomly extracted from 7 parts at 2 sides and 1 center, and then sliced into 5cm × 5cm sized haze measuring instruments (Nihonden Shoku NDH 300A). Haze (%) and Total Transmittance (%) were measured by transmitting light at a wavelength of 555 nm, and the average value of five values except the maximum and minimum values was obtained to calculate haze and total light transmittance. .

3) 광학적 특성 평가 (헤이즈, 헤이즈 편차 및 광투과도 측정)3) Optical property evaluation (measuring haze, haze deviation and light transmittance)

측정방법은 ASTM D-1003을 기준으로 측정하였으며, 구체적으로 A4크기의 필름에 대해 변부 2개소, 중심부 1개소에서 무작위로 7개 부분을 5cm× 5cm 크기로 절편하여 헤이즈 측정기(니혼덴쇼쿠 NDH 300A)에 넣고 555nm 파장의 빛을 투과시켜 헤이즈(Haze; %) 및 전광선 투과율(Total Transmittance; %)을 측정하여 최대값 및 최소값을 제외한 5개 값에 대한 평균치를 구하여 헤이즈 및 전광선 투과율을 산출하였다.The measuring method was measured based on ASTM D-1003. Specifically, 7 parts of the A4 size film were randomly cut into 5cm × 5cm size at 2 sides and 1 center, and the haze meter (Nihonden Shoku NDH 300A). Haze (%) and total transmittance (%) were measured by transmitting light having a wavelength of 555 nm, and the average value of five values except the maximum and minimum values was obtained to calculate haze and total light transmittance.

한편, 헤이즈 편차는 필름 롤을 기계방향(MD)으로 풀면서 각 100m 되는 지점에서 폭방향(TD)으로 연속하여 A4크기의 시편을 취하고, 각각의 시편에 대하여 상기한 방법으로 헤이즈값을 구하여 평균값 대비 편차(%)로 계산하였다.On the other hand, the haze deviation is obtained by taking the A4 size specimens continuously in the width direction (TD) at each 100 m while unwinding the film roll in the machine direction (MD), and obtaining the haze value by the method described above for each specimen. Calculated as Contrast Deviation (%).

4) Melting Point (Tm) 측정 및 정의 4) Measurement and Definition of Melting Point (Tm)

폴리머를 액체질소에 30초 동안 넣었다가 꺼낸 후에 분쇄기(Hico-10-6-388)Capillary Tube에는 표시선이 되어 있으며, 표시선 이상의 높이(통상 전체 Tube길이의 2/3이상의 높이)로 분말상태의 폴리머로 채워 넣은 후, Melting Point측정기(Thomas Hoover Capillary Melting Point Apparatus)에 넣고, 30℃/min의 속도로 승온시키면서 Capillary tube내 폴리머가 녹는 지점의 온도를 온도계로부터 확인하여, 이를 Melting Point(Tm)로 정의한다. The polymer is placed in liquid nitrogen for 30 seconds and then taken out, and then is marked on the pulverizer (Hico-10-6-388) capillary tube. The polymer is powdered at a height above the marking line (usually 2/3 or more of the total tube length). After filling it into the Melting Point measuring instrument (Thomas Hoover Capillary Melting Point Apparatus), while checking the temperature of the melting point of the polymer in the capillary tube from the thermometer while raising the temperature at a rate of 30 ℃ / min, it was converted into Melting Point (Tm) define.

5) SEM에 의한 단면 평가5) Cross section evaluation by SEM

실시예를 따라 얻어진 Pilot-Scale 필름에 대해 SEM에 의해 단면을 관찰하였으며, 단면 사진을 분석하여 광확산층 두께 비율을 다음 식 2에 의해 산출하였다. The cross-section was observed by SEM for the Pilot-Scale film obtained according to the example, the light diffusion layer thickness ratio was calculated by the following equation 2 by analyzing the cross-sectional photograph.

<식 2><Equation 2>

(전체 필름 두께 - 기재층 및 슬립층 두께)                         (Total Film Thickness-Base Layer and Slip Layer Thickness)

확산층 두께 비율 (%) = ---------------------------------------------- × 100Diffusion layer thickness ratio (%) = ------------------------------------------- --- × 100

전체 필름 두께                             Full film thickness

[참고예 1]Reference Example 1

테레프탈산 100몰%, 글리콜 성분으로 에틸렌글리콜 124몰%를 사용하고 촉매 로 3산화안티몬 0.05몰(산성분에 대하여)를 사용하여 직접에스테르화법에 의하여 축중합한 고유 점도 0.64dl/g, 융점이 256℃인 호모폴리에스테르를 제조하였다.1004% terephthalic acid, 124 mol% ethylene glycol as the glycol component, 0.05 mol of antimony trioxide as the catalyst (for acid components), polycondensation by direct esterification, 0.64 dl / g, 256 melting point A homopolyester was prepared.

또한, 테레프탈산 100몰%, 글리콜 성분으로 에틸렌글리콜 124몰%를 사용하고 촉매로 3산화안티몬 0.05몰(산성분에 대하여)를 사용하여 직접에스테르화법에 의하여 축중합한 고유 점도 0.64dl/g, 융점이 256℃인 호모폴리에스테르에 평균입경 2㎛의 실리콘 비드(bead)를 전체 필름에 대해 500ppm 첨가한 후 컴파운딩하여 제1 마스터배치를 제조하였다.In addition, 1004% of terephthalic acid, 124 mol% of ethylene glycol as the glycol component, and 0.05 mol of antimony trioxide as the catalyst (relative to the acid component) were inherently viscosity 0.64 dl / g by direct esterification and melting point. The first masterbatch was prepared by adding 500 ppm of silicon beads having an average particle diameter of 2 µm to the homopolyester at 256 ° C. with respect to the entire film, and then compounding the same.

또한, 테레프탈산 100몰%, 글리콜 성분으로 에틸렌글리콜 100몰%와 네오펜틸 글리콜 24몰%를 사용하고 촉매로 3산화안티몬 0.05몰(산성분에 대하여)를 사용하여 직접에스테르화법에 의하여 축중합한 고유 점도 0.67이/g, 유리전이온도 76℃, 융점이 203℃인 코폴리에스테르를 컴파운딩하여 평균입경 25㎛의 실리콘 비드(bead)를 전체 필름에 대해 50,000ppm 첨가하여 제2 마스터배치를 제조하였다.In addition, 100 mol% of terephthalic acid, 100 mol% of ethylene glycol and 24 mol% of neopentyl glycol were used as glycol components, and 0.05 mol of antimony trioxide (relative to acid components) was used as a catalyst. A second masterbatch was prepared by compounding a copolyester having a viscosity of 0.67 / g, a glass transition temperature of 76 ° C., and a melting point of 203 ° C. by adding 50,000 ppm of silicon beads having an average particle diameter of 25 μm to the entire film. .

기재층에 사용되는 호모폴리에스테르를 275℃로 압출하였으며, 입자가 포함된 제1 마스터배치 및 제2 마스터배치를 270℃에서 압출하고 피드블록(Feed block)을 사용하여 마스터배치2/호모폴리에스테르/마스터배치1의 두께비가 15/80/5인 시트를 제조하였다. 이때 층간의 두께비는 토출량으로 제어하였다. 토출된 시트(Sheet)를 30℃의 캐스팅 롤러(Casting Roller)를 거치면서 냉각을 행하여 미연신 필름을 제조하였다. 상기 미연신 필름을 연속적으로 기계적 방향으로 이송되는 롤러군(MDO : Machine Direction Organization)에서 115℃의 온도에서 3.5배 연신을 하였다. 기계방향으로의 연신을 거친 후, 연속하여 95℃의 예열구간을 거쳐 135 ℃에서 폭에 대하여 3.5배 연신시킨 후, 210℃에서 열처리를 행하고, 180℃에서 3.5%의 완화(Relax)를 적용하여, 일 표면상에 슬립층이 있고 다른 일 표면 상에 광확산층이 있는 두께 188㎛인 폴리에스테르 필름을 제조하였다. The homopolyester used for the substrate layer was extruded at 275 ° C., the first masterbatch and the second masterbatch containing particles were extruded at 270 ° C., and the masterbatch 2 / homopolyester was used using a feed block. A sheet having a thickness ratio of 15/80/5 / master batch 1 was prepared. At this time, the thickness ratio between the layers was controlled by the discharge amount. The discharged sheet was cooled while passing through a casting roller at 30 ° C., thereby producing an unstretched film. The unstretched film was stretched 3.5 times at a temperature of 115 ° C. in a roller group (MDO: Machine Direction Organization) continuously conveyed in a mechanical direction. After stretching in the machine direction, it was continuously stretched 3.5 times with respect to the width at 135 ° C through a preheating section at 95 ° C, heat-treated at 210 ° C, and 3.5% relaxation at 180 ° C. A polyester film having a thickness of 188 μm having a slip layer on one surface and a light diffusion layer on the other surface was prepared.

[참고예 2 ~ 10][Reference Examples 2 to 10]

하기 표 1에 나타낸 바와 같이 수지 융점 및 입자의 평균입경을 다르게 한 것을 제외하고는 참고예 1과 동일한 방법으로 두께 188㎛인 필름을 제조하였다.As shown in Table 1, a film having a thickness of 188 μm was manufactured in the same manner as in Reference Example 1, except that the resin melting point and the average particle diameter of the particles were changed.

[실시예 1]Example 1

상기 참고예 1과 같은 방법으로 미연신 필름을 제조함에 있어, 광확산층을 형성하는 제2 마스터배치의 폴리머를 컴파운딩된 코폴리에스테르와 호모폴리에스테를 중량비로 7 : 3로 블렌딩하여 사용하였다. 또한, 상기 참고예1에서의 열처리 온도를 230℃로 변경한 것을 제외하고는 연신온도 및 연신배율은 동일하게 하여 두께 188㎛인 필름을 제조하였다. In preparing the unstretched film in the same manner as in Reference Example 1, the polymer of the second master batch forming the light diffusion layer was used by blending compounded copolyester and homopolyester in a weight ratio of 7: 3. In addition, except that the heat treatment temperature in Reference Example 1 was changed to 230 ° C., the stretching temperature and the draw ratio were the same to prepare a film having a thickness of 188 μm.

이와 같이 얻어진 표면 상에 광확산층이 형성된 폴리에스테르 필름에 대하여 상술한 방법에 의해 측정된 SEM 사진을 도 1 내지 2로 나타내었다. SEM photographs measured by the method described above with respect to the polyester film in which the light diffusion layer was formed on the surface thus obtained are shown in Figs.

도 1로부터, 필름은 일 표면 상에 광확산층을 갖고, 다른 일 표면 상에 슬립층을 가지며, 광확산층은 SEM에 의해 종단면을 관찰하였을 때 상, 하면 모두가 입자에 의해 형성되는 돌출 형상을 가지며; 필름 전체의 경우 종단면을 관찰하였을 때 광확산 가능한 층과 접촉하는 기재층 면에 실질적으로 직선상으로 연장되는 계 면이 존재하지 않는 형상을 나타냄을 알 수 있다.From FIG. 1, the film has a light diffusing layer on one surface, a slip layer on the other surface, and the light diffusing layer has a protruding shape formed by particles on both the upper and lower surfaces when the longitudinal section is observed by SEM. ; In the case of the entire film, when the longitudinal cross section is observed, it can be seen that the surface extending substantially linearly does not exist on the surface of the substrate layer in contact with the light diffusing layer.

도 1과 도 2는 동일 필름 시편을 관찰한 것이며, 다만 각 층의 특성을 고려하여 두 개의 사진을 별도로 도시한 것이다.1 and 2 are observed from the same film specimen, but two pictures are separately shown in consideration of the characteristics of each layer.

또한 사진상으로 하면이 밝게 보이는 것은 SEM 사진 측정시 조명의 반사에 의한 것이기 때문이며, 계면을 의미하는 것은 아니다.In addition, the lower surface looks bright in the photograph because it is reflected by the illumination at the time of SEM photograph measurement, and does not mean the interface.

[실시예 2][Example 2]

상기 참고예 1과 같은 방법으로 미연신 필름을 제조함에 있어, 광확산층을 형성하는 제2 마스터배치의 폴리머를 컴파운딩된 코폴리에스테르와 호모폴리에스테를 중량비로 6 : 4로 블렌딩하여 사용하였다. 또한, 상기 참고예1에서의 열처리 온도를 230℃로 변경한 것을 제외하고는 연신온도 및 연신배율은 동일하게 하여 두께 188㎛인 필름을 제조하였다. In preparing the unstretched film in the same manner as in Reference Example 1, the polymer of the second master batch forming the light diffusing layer was used by blending the compounded copolyester and homopolyester in a weight ratio of 6: 4. In addition, except that the heat treatment temperature in Reference Example 1 was changed to 230 ° C., the stretching temperature and the draw ratio were the same to prepare a film having a thickness of 188 μm.

[실시예 3]Example 3

상기 참고예 1과 같은 방법으로 미연신 필름을 제조함에 있어, 광확산층을 형성하는 제2 마스터배치의 폴리머를 컴파운딩된 코폴리에스테르와 호모폴리에스테를 중량비로 5 : 5로 블렌딩하여 사용하였다. 또한, 상기 참고예1에서의 열처리 온도를 230℃로 변경한 것을 제외하고는 연신온도 및 연신배율은 동일하게 하여 두께 188㎛인 필름을 제조하였다. In preparing the unstretched film in the same manner as in Reference Example 1, the polymer of the second master batch forming the light diffusion layer was used by blending compounded copolyester and homopolyester in a weight ratio of 5: 5. In addition, except that the heat treatment temperature in Reference Example 1 was changed to 230 ° C., the stretching temperature and the draw ratio were the same to prepare a film having a thickness of 188 μm.

[실시예 4-6]Example 4-6

상기 실시예 1 내지 3에 있어서, 광확산층을 형성하는 제2 마스터배치 중 포함되는 입자의 크기를 5㎛로 변경하였으며, 그 외의 모든 공정은 같다. In Examples 1 to 3, the size of the particles contained in the second masterbatch forming the light diffusion layer was changed to 5㎛, all other processes are the same.

[실시예 7-9]Example 7-9

상기 실시예 1 내지 3에 있어서, 광확산층을 형성하는 제2 마스터배치 중 포함되는 입자의 크기를 20㎛로 변경하였으며, 그 외의 모든 공정은 같다. In Examples 1 to 3, the size of the particles included in the second masterbatch forming the light diffusion layer was changed to 20㎛, all other processes are the same.

[실시예 10-12]Example 10-12

상기 실시예 1 내지 3에 있어서, 슬립층을 형성하는 제1 마스터배치 중 포함되는 입자의 크기를 0.5㎛로 변경하였으며, 그 외의 모든 공정은 같다. In Examples 1 to 3, the size of the particles contained in the first masterbatch forming the slip layer was changed to 0.5㎛, all other processes are the same.

[실시예 13-15]Example 13-15

상기 실시예 1 내지 3에 있어서, 미연신 필름을 제조한 후, 제조된 미연신 필름을 연속적으로 기계적 방향으로 이송되는 롤러군(MDO : Machine Direction Organization)에서 115℃의 온도에서 3.5배 연신을 하였다. 기계방향으로의 연신을 거친 후, 상온으로 냉각하여 다음과 같은 코팅액을 바코팅(bar coating)방법으로 기계방향으로 연신된 필름의 양면에 코팅하였으며, 코팅 후 코팅층의 두께가 80nm가 되도록 메이어바(mayer-bar)의 와이어 굵기를 조정하여 코팅하였다. 연속하여 95℃의 예열구간을 거쳐 135℃에서 폭에 대하여 3.5배 연신시킨 후, 210℃에서 열처리를 행하고, 180℃에서 3.5% 완화(Relax)시켜 두께 188㎛인 필름을 제조하였다; 아크릴계 코팅액은 굴절율이 1.44인 아크릴계 바인더 4g, 실리콘계 웨팅제(TEGO社 폴리에스테르 실록산 공중합체)를 0.1g, 200nm 콜로이드 실리카 입자를 0.1g, 멜라민(Melamine)계 경화제(DIC社) 0.15g을 용매인 물에 첨가한 후 3시간 교반하여 고형분의 농도가 4.35%, 점도 12cps의 코팅액을 준비하였다.In Examples 1 to 3, after the unstretched film was prepared, the stretched film was stretched 3.5 times at a temperature of 115 ° C. in a roller group (MDO: Machine Direction Organization) continuously fed in a mechanical direction. . After stretching in the machine direction, the mixture was cooled to room temperature, and the following coating solution was coated on both sides of the film stretched in the machine direction by the bar coating method. mayer-bar) was coated by adjusting the wire thickness. Continuously stretched 3.5 times the width at 135 ° C. through a preheating section at 95 ° C., followed by heat treatment at 210 ° C., and 3.5% relaxation at 180 ° C. to prepare a film having a thickness of 188 μm; The acrylic coating solution contains 4 g of an acrylic binder having a refractive index of 1.44, 0.1 g of a silicone wetting agent (polyester siloxane copolymer from TEGO), 0.1 g of 200 nm colloidal silica particles, and 0.15 g of a melamine curing agent (DIC) as a solvent. After adding to water, the mixture was stirred for 3 hours to prepare a coating solution having a solid content of 4.35% and a viscosity of 12 cps.

[참고예 11] Reference Example 11

상기 참고예 1에 있어서, 미연신 필름을 제조한 후, 제조된 미연신 필름을 연속적으로 기계적 방향으로 이송되는 롤러군(MDO : Machine Direction Organization)에서 115℃의 온도에서 3.5배 연신을 하였다. 기계방향으로의 연신을 거친 후, 상온으로 냉각하여 다음과 같은 코팅액을 바코팅(bar coating)방법으로 기계방향으로 연신된 필름의 양면에 코팅하였으며, 코팅 후 코팅층의 두께가 80nm가 되도록 메이어바(mayer-bar)의 와이어 굵기를 조정하여 코팅하였다. 연속하여 95℃의 예열구간을 거쳐 135℃에서 폭에 대하여 3.5배 연신시킨 후, 210℃에서 열처리를 행하고, 180℃에서 3.5% 완화(Relax)시켜 두께 188㎛인 필름을 제조하였다; 아크릴계 코팅액은 굴절율이 1.44인 아크릴계 바인더 4g, 실리콘계 웨팅제(TEGO社 폴리에스테르 실록산 공중합체)를 0.1g, 200nm 콜로이드 실리카 입자를 0.1g, 멜라민(Melamine)계 경화제(DIC社) 0.15g을 용매인 물에 첨가한 후 3시간 교반하여 고형분의 농도가 4.35%, 점도 12cps의 코팅액을 준비하였다.In Reference Example 1, after the unstretched film was prepared, the stretched stretched film was stretched 3.5 times at a temperature of 115 ° C. in a roller group (MDO: Machine Direction Organization) continuously transported in the mechanical direction. After stretching in the machine direction, the mixture was cooled to room temperature, and the following coating solution was coated on both sides of the film stretched in the machine direction by the bar coating method. mayer-bar) was coated by adjusting the wire thickness. Continuously stretched 3.5 times the width at 135 ° C. through a preheating section at 95 ° C., followed by heat treatment at 210 ° C., and 3.5% relaxation at 180 ° C. to prepare a film having a thickness of 188 μm; The acrylic coating solution contains 4 g of an acrylic binder having a refractive index of 1.44, 0.1 g of a silicone wetting agent (polyester siloxane copolymer from TEGO), 0.1 g of 200 nm colloidal silica particles, and 0.15 g of a melamine curing agent (DIC) as a solvent. After adding to water, the mixture was stirred for 3 hours to prepare a coating solution having a solid content of 4.35% and a viscosity of 12 cps.

[참고예 12]Reference Example 12

상기 실시예 1과 같은 방법으로 미연신 필름을 제조함에 있어 제 2스킨층에 사용되는 마스터배치 2의 제조 시, 평균입경 30㎛의 실리콘 비드(bead)를 전체 필름에 대해 50,000ppm 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 다층필름의 층 구조 및 토출온도 연신온도 및 연신배율은 동일하게 하여 두께 188㎛인 필름을 제조하였다. In preparing the unstretched film in the same manner as in Example 1, when manufacturing the master batch 2 used for the second skin layer, except that 50,000 ppm of silicon beads having an average particle diameter of 30 μm were added to the entire film. Then, the layer structure, the discharge temperature, the stretching temperature and the draw ratio of Example 1 and the multilayer film were the same to prepare a film having a thickness of 188 μm.

[참고예 13 내지 17][Reference Examples 13 to 17]

하기 표 1에 나타낸 바와 같이 수지의 융점과, 입자의 평균입경을 다르게 한 것을 제외하고는 참고예 12와 동일한 방법으로 두께 188㎛인 필름을 제조하였다. As shown in Table 1, a film having a thickness of 188 μm was manufactured in the same manner as in Reference Example 12, except that the melting point of the resin and the average particle diameter of the particles were changed.

[참고예 18]Reference Example 18

상기 참고예 1과 같은 방법으로 미연신 필름을 제조함에 있어, 광확산층을 형성하는 제2 마스터배치의 폴리머를 컴파운딩된 코폴리에스테르와 호모폴리에스테를 중량비로 4:6 블렌딩하여 사용하였다. 또한, 상기 참고예1에서의 열처리 온도를 230℃로 변경한 것을 제외하고는 연신온도 및 연신배율은 동일하게 하여 두께 188㎛인 필름을 제조하였다. In preparing the unstretched film in the same manner as in Reference Example 1, the polymer of the second master batch forming the light diffusion layer was used by blending the compounded polyester and homopolyester in a weight ratio of 4: 6. In addition, except that the heat treatment temperature in Reference Example 1 was changed to 230 ° C., the stretching temperature and the draw ratio were the same to prepare a film having a thickness of 188 μm.

하기 표 1 내지 2에 상기 실시예 및 참고예를 요약 정리하였다. Tables 1-2 below summarize the above examples and reference examples.

슬립층Slip layer 기재층(수지종류, 융점℃)Base layer (resin type, melting point ℃) 광확산층Light diffusion layer 인라인코팅층
유무
In-line coating layer
The presence or absence
수지
(융점, ℃)
Suzy
(Melting point, ℃)
입자
(평균입경, ㎛)
particle
(Average particle diameter, μm)
수지
(융점, ℃)
Suzy
(Melting point, ℃)
입자
(평균입경, ㎛)
particle
(Average particle diameter, μm)















room
city
Yes
1One







HOMO-PET
(256)








HOMO-PET
(256)
실리콘 비드(2)Silicon Beads (2)







HOMO-
PET(256)








HOMO-
PET (256)
CO-PET(203):HOMO-PET(256)=7:3중량비CO-PET (203): HOMO-PET (256) = 7: 3 weight ratio 실리콘 비드(25)Silicon Beads (25) radish
22 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(220):HOMO-PET(256)=5:5중량비CO-PET (220): HOMO-PET (256) = 5: 5 weight ratio 실리콘 비드(25)Silicon Beads (25) radish 33 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(197):HOMO-PET(256)=6:4중량비CO-PET (197): HOMO-PET (256) = 6: 4 weight ratio 실리콘 비드(25)Silicon Beads (25) radish 44 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(203):HOMO-PET(256)=7:3중량비CO-PET (203): HOMO-PET (256) = 7: 3 weight ratio 실리콘 비드(5)Silicon Beads (5) radish 55 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(220):HOMO-PET(256)=5:5중량비CO-PET (220): HOMO-PET (256) = 5: 5 weight ratio 실리콘 비드(5)Silicon Beads (5) radish 66 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(197):HOMO-PET(256)=6:4중량비CO-PET (197): HOMO-PET (256) = 6: 4 weight ratio 실리콘 비드(5)Silicon Beads (5) radish 77 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(203):HOMO-PET(256)=7:3중량비CO-PET (203): HOMO-PET (256) = 7: 3 weight ratio 실리콘 비드(20)Silicon Beads (20) radish 88 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(220):HOMO-PET(256)=5:5중량비CO-PET (220): HOMO-PET (256) = 5: 5 weight ratio 실리콘 비드(20)Silicon Beads (20) radish 99 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(197):HOMO-PET(256)=6:4중량비CO-PET (197): HOMO-PET (256) = 6: 4 weight ratio 실리콘 비드(20)Silicon Beads (20) radish 1010 실리콘 비드(0.5)Silicon Beads (0.5) CO-PET(203):HOMO-PET(256)=7:3중량비CO-PET (203): HOMO-PET (256) = 7: 3 weight ratio 실리콘 비드(25)Silicon Beads (25) radish 1111 실리콘 비드(0.5)Silicon Beads (0.5) CO-PET(220):HOMO-PET(256)=5:5중량비CO-PET (220): HOMO-PET (256) = 5: 5 weight ratio 실리콘 비드(25)Silicon Beads (25) radish 1212 실리콘 비드(0.5)Silicon Beads (0.5) CO-PET(197):HOMO-PET(256)=6:4중량비CO-PET (197): HOMO-PET (256) = 6: 4 weight ratio 실리콘 비드(25)Silicon Beads (25) radish 1313 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(203):HOMO-PET(256)=7:3중량비CO-PET (203): HOMO-PET (256) = 7: 3 weight ratio 실리콘 비드(25)Silicon Beads (25) U 1414 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(220):HOMO-PET(256)=5:5중량비CO-PET (220): HOMO-PET (256) = 5: 5 weight ratio 실리콘 비드(25)Silicon Beads (25) U 1515 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(197):HOMO-PET(256)=6:4중량비CO-PET (197): HOMO-PET (256) = 6: 4 weight ratio 실리콘 비드(25)Silicon Beads (25) U

슬립층Slip layer 기재층
(수지종류, 융점℃)
Substrate layer
(Resin type, melting point ℃)
광확산층Light diffusion layer 인라인코팅층
유무
In-line coating layer
The presence or absence
수지
(융점, ℃)
Suzy
(Melting point, ℃)
입자
(평균입경, ㎛)
particle
(Average particle diameter, μm)
수지
(융점, ℃)
Suzy
(Melting point, ℃)
입자
(평균입경, ㎛)
particle
(Average particle diameter, μm)






참고







Reference
Yes
1One








HOMO-PET
(256)









HOMO-PET
(256)
실리콘 비드(2)Silicon Beads (2)








HOMO-
PET(256)









HOMO-
PET (256)
CO-PET(203)CO-PET (203) 실리콘 비드(25)Silicon Beads (25) radish
22 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(197)CO-PET (197) 실리콘 비드(25)Silicon Beads (25) radish 33 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(226)CO-PET (226) 실리콘 비드(25)Silicon Beads (25) radish 44 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(247)CO-PET (247) 실리콘 비드(25)Silicon Beads (25) radish 55 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(203)CO-PET (203) 실리콘 비드(5)Silicon Beads (5) radish 66 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(203)CO-PET (203) 실리콘 비드(10)Silicon Beads (10) radish 77 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(203)CO-PET (203) 실리콘 비드(15)Silicon Beads (15) radish 88 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(203)CO-PET (203) 실리콘 비드(20)Silicon Beads (20) radish 99 실리콘 비드(0.5)Silicon Beads (0.5) CO-PET(203)CO-PET (203) 실리콘 비드(25)Silicon Beads (25) radish 1010 실리콘 비드(5)Silicon Beads (5) CO-PET(203)CO-PET (203) 실리콘 비드(25)Silicon Beads (25) radish 1111 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(203)CO-PET (203) 실리콘 비드(25)Silicon Beads (25) U 1212 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(203)CO-PET (203) 실리콘 비드(30)Silicon Beads (30) radish 1313 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(203)CO-PET (203) 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) radish 1414 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(150)CO-PET (150) 실리콘 비드(25)Silicon Beads (25) radish 1515 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) HOMO-PET
(256)
HOMO-PET
(256)
실리콘 비드(25)Silicon Beads (25) radish
1616 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(203):HOMO-PET(256)=7:3 중량비CO-PET (203): HOMO-PET (256) = 7: 3 weight ratio 실리콘 비드(30)Silicon Beads (30) radish 1717 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(203):HOMO-PET(256)=7:3 중량비CO-PET (203): HOMO-PET (256) = 7: 3 weight ratio 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) radish 1818 실리콘 비드(2)Silicon Beads (2) CO-PET(203):HOMO-PET(256)=4:6 중량비CO-PET (203): HOMO-PET (256) = 4: 6 weight ratio 실리콘 비드(25)Silicon Beads (25) radish

* Homo-PET : 호모폴리에스테르, Co-PET : 폴리에스테르 공중합체* Homo-PET: Homopolyester, Co-PET: Polyester copolymer

상기 실시예, 참고예 및 비교예에 의해 제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 3 내지 표 4에 나타내었다.The physical properties of the films prepared by the above Examples, Reference Examples and Comparative Examples were measured and shown in Tables 3 to 4.

강도(kg/㎟)Strength (kg / ㎡) 신도(%)Shinto (%) 열수축율(%)Heat Shrinkage (%) 헤이즈(%)Haze (%) 헤이즈 편차(%)Haze deviation (%) 전광선 투과율(%)Total light transmittance (%) MDMD TDTD MDMD TDTD MDMD TDTD









room
city
Yes
1One 17.317.3 15.415.4 199.8199.8 137.2137.2 1.41.4 0.90.9 8888 ± 2± 2 8989
22 17.217.2 16.116.1 195.7195.7 140.7140.7 1.31.3 0.80.8 8686 ± 1± 1 8787 33 17.317.3 15.815.8 197.2197.2 138.5138.5 1.31.3 0.80.8 8686 ± 2± 2 8686 44 16.916.9 16.216.2 199.2199.2 138.1138.1 1.31.3 0.90.9 8787 ± 2± 2 8787 55 17.217.2 15.515.5 199.0199.0 138.7138.7 1.21.2 0.80.8 8787 ± 1± 1 8585 66 18.018.0 15.215.2 197.8197.8 138.5138.5 1.31.3 0.70.7 8888 ± 3± 3 8787 77 17.517.5 16.316.3 198.2198.2 138.2138.2 1.31.3 0.80.8 8686 ± 2± 2 8888 88 17.717.7 15.815.8 195.3195.3 137.3137.3 1.21.2 0.70.7 8585 ± 3± 3 8585 99 17.317.3 15.315.3 197.6197.6 138.3138.3 1.31.3 0.80.8 8787 ± 1± 1 8888 1010 17.517.5 16.216.2 199.5199.5 139.3139.3 1.31.3 0.80.8 8686 ± 2± 2 8686 1111 17.317.3 15.415.4 199.2199.2 137.3137.3 1.21.2 0.70.7 8888 ± 2± 2 8686 1212 17.317.3 15.315.3 198.2198.2 137.5137.5 1.41.4 0.90.9 8787 ± 1± 1 8888 1313 17.217.2 16.016.0 197.3197.3 136.5136.5 1.31.3 0.80.8 8787 ± 3± 3 8686 1414 17.217.2 15.315.3 198.8198.8 136.2136.2 1.41.4 0.80.8 8888 ± 2± 2 8989 1515 17.117.1 15.515.5 198.9198.9 137.0137.0 1.41.4 0.80.8 8787 ± 2± 2 8787

강도(kg/㎟)Strength (kg / ㎡) 신도(%)Shinto (%) 열수축율(%)Heat Shrinkage (%) 헤이즈(%)Haze (%) 헤이즈 편차(%)Haze deviation (%) 전광선 투과율(%)Total light transmittance (%) MDMD TDTD MDMD TDTD MDMD TDTD




참고예





Reference Example
1One 16.016.0 16.916.9 200.3200.3 142.5142.5 1.11.1 0.80.8 8282 ± 2± 2 8989
22 14.314.3 14.814.8 172.1172.1 112.3112.3 0.50.5 0.20.2 8787 ± 5± 5 9191 33 15.715.7 16.116.1 198.7198.7 139.6139.6 2.02.0 1.31.3 8585 ± 4± 4 8686 44 16.616.6 17.517.5 200.1200.1 137.3137.3 1.01.0 0.70.7 8181 ± 5± 5 8282 55 15.415.4 15.915.9 190.2190.2 133.1133.1 1.51.5 0.90.9 8989 ± 7± 7 8383 66 15.915.9 16.716.7 199.8199.8 140.3140.3 1.01.0 0.70.7 8686 ± 7± 7 8787 77 17.517.5 18.418.4 201.5201.5 143.7143.7 0.80.8 0.40.4 8080 ± 5± 5 8888 88 16.216.2 17.117.1 200.7200.7 143.6143.6 1.11.1 0.70.7 7878 ± 3± 3 8888 99 15.315.3 16.216.2 200.4200.4 145.2145.2 1.01.0 0.80.8 8383 ± 8± 8 8989 1010 15.215.2 16.816.8 195.5195.5 138.1138.1 1.21.2 0.80.8 8282 ± 5± 5 8888 1111 14.814.8 15.715.7 194.2194.2 141.8141.8 1.11.1 1.01.0 8787 ± 5± 5 9292 1212 15.515.5 18.018.0 197.6197.6 143.3143.3 1.01.0 1.01.0 6464 ± 4± 4 9191 1313 17.917.9 17.717.7 200.4200.4 135.7135.7 1.31.3 0.60.6 8686 ± 7± 7 7676 1414 -- -- -- -- -- -- -- -- -- 1515 16.216.2 14.914.9 191.3191.3 140.8140.8 1.21.2 0.90.9 6262 ± 6± 6 9696 1616 15.815.8 17.317.3 192.8192.8 142.7142.7 1.41.4 0.60.6 5555 ± 3± 3 9292 1717 17.317.3 16.316.3 197.7197.7 148.2148.2 1.61.6 0.80.8 8989 ± 8± 8 6767 1818 16.216.2 18.218.2 198.8198.8 147.2147.2 1.31.3 1.11.1 8888 ± 7± 7 7676

상기 표 3 내지 표 4의 결과로부터, From the results of Tables 3 to 4 above,

본 발명 실시예들에 의한 필름은 헤이즈 및 투과도가 동시에 우수하여 광학필름으로 사용하기에 적합하며, 또한 헤이즈 편차가 적음을 알 수 있다. 또한, 인라인코팅층이 더 추가되는 경우 헤이즈 및 전체광선투과율이 더욱 향상되는 것을 알 수 있었다.Film according to the embodiments of the present invention is excellent in the haze and transmittance at the same time is suitable for use as an optical film, it can be seen that the haze deviation is small. In addition, it can be seen that the haze and the total light transmittance are further improved when the inline coating layer is further added.

참고예들의 경우, 슬립층 내지 광확산층을 구성하는 입자 크기가 본 발명의 범위를 초과하는 경우에는 헤이즈가 낮은 것을 알 수 있었으며, 반면에 슬립층 내지 광확산층을 구성하는 입자 크기가 본 발명의 범위 미만인 경우는 전체광선투과율이 너무 낮은 것을 알 수 있었다.In the case of the reference examples, it was found that the haze is low when the particle size constituting the slip layer or the light diffusion layer exceeds the range of the present invention, whereas the particle size constituting the slip layer or the light diffusion layer is the scope of the present invention. If less than, it was found that the total light transmittance was too low.

또한, 광확산층 중 포함되는 저융점 수지의 융점이 본 발명의 범위 미만인 경우에는 제조된 필름이 수축에 의해서 입자가 밖으로 밀리면서 가운데부가 투명해지므로 확산필름으로 사용이 불가능하며, 헤이즈 및 전체광선투과율 측정의 의미가 없었다. 베이스층과 동일한 융점을 갖는 수지를 광확산층 형성에 사용하는 경우에는 열처리 단계의 열처리에 의해서도 스킨층의 입자들이 밖으로 들어나지 않았으며, 따라서 헤이즈가 낮은 것을 알 수 있었다.In addition, when the melting point of the low melting point resin included in the light diffusion layer is less than the range of the present invention, since the film is pushed out by the shrinkage of the particles, the center part becomes transparent, and thus it is impossible to use as a diffusion film, haze and total light transmittance. There was no meaning of the measurement. When the resin having the same melting point as the base layer was used for forming the light diffusion layer, the particles of the skin layer did not come out even by the heat treatment in the heat treatment step, and thus, the haze was low.

특히 참고예들의 결과에 비추어 광확산층의 수지 매트릭스로 저융점의 Co-PET과 Homo-PET을 혼용하는 것이 헤이즈 편차를 줄이고 강도, 신도 및 열수축율 등의 기계적 특성 측면에서 유리하며, 특히 그 혼합비가 일정 범위 이내인 경우가 바람직함을 알 수 있다.In particular, the use of low melting point Co-PET and Homo-PET as a resin matrix of the light diffusing layer is advantageous in view of mechanical properties such as strength, elongation and heat shrinkage, in particular in view of the results of the reference examples. It can be seen that the case is within a certain range.

도 1 내지 도 2는 실시예 1에 의해 얻어진 폴리에스테르 필름의 SEM 사진.1 to 2 are SEM images of the polyester film obtained in Example 1. FIG.

Claims (16)

일 표면 상에 광확산 가능한 층이 있고 다른 일 표면 상에 슬립성 및/또는 대전방지성을 갖는 층이 있는, 폴리에스테르 중합체 기재층을 포함하고, A polyester polymer base layer having a light diffusable layer on one surface and a layer having slip and / or antistatic properties on the other surface, (A) 광확산 가능한 층을 제외한, 슬립성 및/또는 대전방지성을 갖는 층 및 폴리에스테르 중합체 기재층은 융점이 Tm1인 폴리에스테르 수지를 매트릭스로 하고;(A) A layer having slip and / or antistatic property and a polyester polymer base layer, except for a light diffusable layer, has a polyester resin having a melting point of Tm 1 as a matrix; (B) 광확산 가능한 층은, (a) 투명한 수지 매트릭스에 분산된 평균입경 5 내지 25㎛인 광확산성 입자를 포함하고, (b) 투명한 수지 매트릭스는 융점이 Tm1인 호모 폴리에스테르 수지 30 내지 50중량%와 융점(Tm2)이 Tm1 - 60℃ < Tm2 < Tm1 - 10℃을 만족하는 공중합체 수지 50 내지 70중량%로 되며, (c) SEM에 의해 종단면을 관찰하였을 때 상, 하면 모두가 입자에 의해 형성되는 돌출 형상을 가지며; (B) The light diffusable layer comprises (a) light diffusing particles having an average particle diameter of 5 to 25 μm dispersed in a transparent resin matrix, and (b) the transparent resin matrix is a homopolyester resin having a melting point of Tm 1 30 to 50% by weight and a melting point (Tm 2) the Tm 1 - 60 ℃ <Tm 2 <Tm 1 - is a copolymer of 50 to 70% by weight satisfying the 10 ℃, (c) when observing the longitudinal section by the SEM Both the upper and lower surfaces have a protruding shape formed by the particles; (C) 슬립성 및/또는 대전방지성을 갖는 층은 평균입경 0.5 내지 5㎛인 입자를 포함하고, (C) the layer having slip and / or antistatic property comprises particles having an average particle diameter of 0.5 to 5 탆, (D) SEM에 의해 종단면을 관찰하였을 때 광확산 가능한 층 및 슬립성 및/또는 대전방지성을 갖는 층과 접촉하는 기재층 면에 실질적으로 직선상으로 연장되는 계면이 존재하지 않는 폴리에스테르 필름.(D) A polyester film having no interface extending substantially linearly on the surface of the substrate layer in contact with the light diffusable layer and the layer having slip and / or antistatic properties when the longitudinal section is observed by SEM. 제 1 항에 있어서, 투명한 수지 매트릭스는 폴리에틸렌테레프탈레이트와; 폴리에스테르 공중합체, 폴리카보네이트 공중합체 및 폴리설폰 공중합체 중에서 선택 되는 1종 이상의 공중합체로 되는 것인 폴리에스테르 필름.The method of claim 1, wherein the transparent resin matrix is polyethylene terephthalate; A polyester film comprising at least one copolymer selected from polyester copolymers, polycarbonate copolymers and polysulfone copolymers. 제 1 항에 있어서, 광확산성을 갖는 층에 있어서 광확산성 입자는 전체 필름 중량 중 20,000 내지 70,000ppm으로 포함되고, 슬립성 및/또는 대전방지성을 갖는 층에 있어서 입자는 전체 필름 중량 중 200 내지 700ppm으로 포함되는 것인 폴리에스테르 필름.The method of claim 1, wherein the light diffusing particles in the light diffusing layer comprises 20,000 to 70,000 ppm of the total film weight, the particles in the slip and / or antistatic properties the particles in the total film weight Polyester film is included in 200 to 700ppm. 제 3 항에 있어서, 광확산성 입자 또는 입자는 실리콘 비드 또는 폴리메틸메타크릴레이트 중에서 선택되는 것인 폴리에스테르 필름. 4. The polyester film of claim 3, wherein the light diffusing particles or particles are selected from silicon beads or polymethylmethacrylate. 제 1 항에 있어서, 슬립성 및/또는 대전방지성을 갖는 층은 그 두께가 전체 필름 두께에 대해 1 내지 5%이고, 광확산성을 갖는 층은 그 두께가 전체 필름 두께에 대해 1 내지 30%인 것인 폴리에스테르 필름.The layer of claim 1 wherein the slip and / or antistatic layer has a thickness of 1 to 5% of the total film thickness, and the layer having light diffusivity has a thickness of 1 to 30 relative to the total film thickness. It is% polyester film. 제 1 항에 있어서, 적어도 일면에 아크릴계 수지 또는 우레탄계 수지 바인더에 분산된 평균입경 10 내지 500nm인 입자를 포함하는 코팅층을 포함하는 폴리에스테르 필름. The polyester film of claim 1, further comprising a coating layer including particles having at least one particle having an average particle diameter of 10 to 500 nm dispersed in an acrylic resin or a urethane resin binder. 제 6 항에 있어서, 코팅층은 두께가 10 내지 1000nm인 것인 폴리에스테르 필름. The polyester film of claim 6, wherein the coating layer has a thickness of 10 to 1000 nm. 제 1 항에 있어서, 헤이즈가 70% 이상이고 전광선 투과율이 80% 이상인 폴리에스테르 필름. The polyester film according to claim 1, wherein the polyester film has a haze of 70% or more and a total light transmittance of 80% or more. a) 융점이 Tm1인 폴리에스테르 수지를 제조하는 단계;a) preparing a polyester resin having a melting point of Tm 1 ; b) 융점이 Tm1인 폴리에스테르 수지와 평균입경이 0.5 내지 5㎛인 입자를 컴파운딩하여 제1 마스터배치를 제조하는 단계;b) compounding a polyester resin having a melting point of Tm 1 and particles having an average particle diameter of 0.5 to 5 μm to prepare a first masterbatch; c) 융점이 Tm1인 호모 폴리에스테르 수지 30 내지 50중량% 및 융점(Tm2)이 Tm1-60℃ < Tm2 < Tm1-10℃을 만족하는 공중합체 수지 50 내지 70중량%로 되는 투명한 수지와; 평균입경이 5 내지 25㎛인 광확산성 입자를 컴파운딩하여 제2 마스터배치를 제조하는 단계;c) 30 to 50% by weight of the homopolyester resin having a melting point of Tm 1 and 50 to 70% by weight of the copolymer resin satisfying a melting point (Tm 2 ) of Tm 1 -60 ° C <Tm 2 <Tm 1 -10 ° C. Transparent resin; Compounding light diffusing particles having an average particle diameter of 5 to 25 μm to prepare a second masterbatch; d) 마스터 배치 1, 폴리에스테르 수지 및 마스터배치 2를 폴리에스테르 수지 양면에 각각 마스터배치 1 및 마스터배치 2로부터 형성되는 층이 오도록 공압출하여 미연신 시트를 제조하는 단계;d) coextruding the master batch 1, the polyester resin and the masterbatch 2 so that the layers formed from the masterbatch 1 and the masterbatch 2 are respectively placed on both sides of the polyester resin to produce an unstretched sheet; e) 미연신 시트를 기계방향으로 연신하는 단계;e) stretching the unstretched sheet in the machine direction; f) 기계방향으로 연신된 필름을 폭방향으로 연신하는 단계; 및 f) stretching the film stretched in the machine direction in the width direction; And g) 열고정하는 단계를 포함하는 폴리에스테르 필름의 제조방법. g) a method of producing a polyester film comprising the step of heat setting. 제 9 항에 있어서, 단계 c)에서 투명한 수지로 폴리에틸렌테레프탈레이트와 폴리에스테르 공중합체, 폴리카보네이트 공중합체 및 폴리설폰 공중합체 중에서 선택되는 1종 이상의 공중합체와의 블렌드물을 사용하는 것인 폴리에스테르 필름의 제조방법. 10. The polyester of claim 9, wherein a blend of polyethylene terephthalate and at least one copolymer selected from polyester copolymers, polycarbonate copolymers and polysulfone copolymers is used as the transparent resin in step c). Method for producing a film. 제 9 항에 있어서, 단계 c)에서 공중합체 수지는 테레프탈산을 포함하는 디카르복시산과, 네오펜틸글리콜 및 에틸렌글리콜을 포함하는 글리콜로부터 얻어지는 코폴리에스테르를 포함하는 것인 폴리에스테르 필름의 제조방법. 10. The method of claim 9, wherein the copolymer resin in step c) comprises a dicarboxylic acid comprising terephthalic acid and a copolyester obtained from a glycol comprising neopentyl glycol and ethylene glycol. 제 9 항에 있어서, 기계방향 연신은 90 내지 110℃ 온도 하에서 연신비 3.0 내지 3.5배 되도록 연신하는 방법으로 수행되는 폴리에스테르 필름의 제조방법. The method of claim 9, wherein the stretching in the machine direction is carried out by a method of stretching to a draw ratio of 3.0 to 3.5 times at a temperature of 90 to 110 ℃. 제 9 항에 있어서, 폭방향 연신은 120 내지 130℃의 온도에서 연신비 3.5 내지 4.0배 되도록 연신하는 방법으로 수행되는 폴리에스테르 필름의 제조방법. 10. The method of claim 9, wherein the stretching in the width direction is carried out by a stretching method such that the stretching ratio is 3.5 to 4.0 times at a temperature of 120 to 130 ° C. 제 9 항에 있어서, 열고정은 Tm2 보다는 높고 Tm1 보다 낮은 온도에서 열처리하는 방법으로 수행되는 것인 폴리에스테르 필름의 제조방법. 10. The method according to claim 9, wherein the heat setting is carried out by heat treatment at a temperature higher than Tm 2 and lower than Tm 1 . 제 9 항에 있어서, 기계방향으로 연신된 필름을 폭방향으로 연신하는 단계 이전에, 기계방향으로 연신된 공압출 시트의 적어도 일면에 평균입경이 10 내지 500nm인 입자를 포함하는 아크릴계 수지 또는 우레탄 수지 코팅액을 인라인 코팅하는 단계를 포함하는 폴리에스테르 필름의 제조방법.10. The acrylic resin or urethane resin according to claim 9, further comprising particles having an average particle diameter of 10 to 500 nm on at least one surface of the co-extruded sheet stretched in the machine direction before the stretching of the film stretched in the machine direction in the width direction. Method for producing a polyester film comprising the step of coating the coating solution in-line. 제 15 항에 있어서, 인라인 코팅하는 단계는 건조 후 코팅층 두께가 10 내지 1000nm 되도록 수행하는 것인 폴리에스테르 필름의 제조방법.The method of claim 15, wherein the in-line coating is carried out so that the coating layer thickness is 10 to 1000 nm after drying.
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