KR20100130786A - Depositing apparatus and manufacturing method of organic light emitting diode thereused - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A deposition apparatus and a manufacturing method of an organic light emitting diode using the same are provided to facilitate the deposition on a large substrate and enable simultaneous deposition of different materials. CONSTITUTION: A deposition apparatus comprises a deposition source unit including a first deposition source(11) and a second deposition source(12). The first deposition source has a first and a second side(13,14) which meet at the right angle, wherein the first side is shorter than the second side. The second deposition source has a third and a fourth side(15,16) which meet at the right angle, wherein the third side is shorter than the fourth side. The third side is arranged adjacent to the first side.

Description

증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 소자의 제조방법 {Depositing apparatus and manufacturing method of organic light emitting diode thereused} Production method of a deposition apparatus, and an organic light emitting device using the same {Depositing apparatus and manufacturing method of organic light emitting diode thereused}

본 발명은 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 소자의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 대면적 기판에 대한 증착이 가능한 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 소자의 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a production method of a deposition apparatus, and an organic light emitting device using the same, and more particularly, to a method of producing the deposition apparatus and the organic light emitting device using the same capable of deposition on a large area substrate.

일반적으로 유기 발광 소자는 기판 상부에 양극층이 형성되어 있고, 이 양극층 상부로 발광층을 포함하는 유기막이 형성되며, 이 유기막의 상부에 상기 양극층에 대응하는 음극층이 형성되어 있는 구조를 갖는다. In general, an organic light emitting device has an anode layer is formed on top of the substrate, the formed organic layer including a light-emitting layer to the anode layer thereon, and has in the upper organic layer the structure in which the cathode layer is formed corresponding to the positive electrode layer .

이러한 구성을 가지는 유기 발광 소자에 있어서, 유기박막을 형성시키는 기술로 진공증착법이 널리 알려져 있다. In the organic light-emitting device having such a configuration, a vacuum deposition method is widely known as a technique for forming an organic thin film. 이 진공 증착법은 내부 압력이 10 -6 내지 10 -7 torr로 조절되는 진공챔버 내부에 기판을 장착하고 이 기판에 유기물이 담긴 증착 소스로부터 유기물질을 증발 또는 승화시켜 증착시키는 방법으로 행해진다. The vacuum deposition method is performed by a method of mounting a substrate in a vacuum chamber in which the pressure is controlled to 10 -6 to 10 -7 torr, and depositing evaporated or sublimated organic material from the deposition sources of organic matter contained in the substrate.

한편, 최근 유기 발광 소자를 대면적 디스플레이 장치에 적용하고자 하는 시도가 활발하다. On the other hand, is active the last attempt to apply the organic light emitting element in a large area display device.

이러한 대면적 디스플레이 장치에의 적용을 위해 마더 기판의 너비 혹은 길이에 대응되는 길이의 선형 증착소스를 이용해 증착하는 방법이 사용되고 있다. For the application of such a large area display device with a linear deposition source of the length corresponding to the width or length of the mother board it has been used a method of depositing.

그러나, 이러한 선형 증착 소스는 막 균일도를 보장한다는 장점이 있으나, 증착 장치별로 증착 소스의 설계 길이가 정해져 있기 때문에 타 증착 장치에서의 적용이 쉽지 않다. However, such a linear deposition source is not easy to apply in another deposition device, but the advantage of ensuring the uniformity of the film, since the design length of the evaporation source determined by the deposition apparatus. 또한 증착이 이뤄질 마더 기판의 크기가 변경될 경우 새로운 증착 소스를 도입해야 하는 문제가 있다. In addition, if the size of the mother board achieved the deposition changes, there is a problem that must be introduced into the new deposition sources.

본 발명은 상기한 바와 같은 문제점들을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 대면적 기판의 증착에 대해 유동적으로 대처할 수 있는 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 소자의 제조방법을 제공하는 데 그 목적이 있다. The present invention been made in view of solving the problems as described above, it is an object to provide a method for preparing the deposition apparatus and the organic light emitting device using the same that can flexibly cope with the deposition of large area substrates.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 챔버와, 챔버 내에 이송되는 피증착체에 증착재를 증착시키는 증착 소스 유닛을 포함하는 증착장치로서, 상기 증착 소스 유닛은, 서로 직교하는 제1변과 제2변을 갖고 상기 제1변이 제2변보다 짧은 제1증착 소스; In order to achieve the above object, the present invention, the chamber and, as a deposition apparatus including a deposition source units to deposit the evaporation material on the vapor-deposited material is conveyed into the chamber, the deposition source unit includes: a first orthogonal It has a side and a second side shorter than the first deposition source of the first variation the second side; 및 서로 직교하는 제3변과 제4변을 갖고 상기 제3변이 제4변보다 짧으며, 상기 제3변은 상기 제1변과 인접하도록 배치되는 제2증착 소스;를 포함하는 증착 장치를 제공한다. And it has a third side and a fourth side perpendicular to each other, shorter than said third transition fourth sides, said third side is the second deposition source disposed to be adjacent to the first sides; providing a deposition apparatus comprising a do.

상기 제2변과 제4변은 서로 평행하도록 배치될 수 있다. The second side and the fourth side may be placed parallel to each other.

상기 제1증착소스는, 상기 증착재가 수용되는 도가니; Crucible of the first evaporation source, the evaporation material is accommodated; 상기 도가니 외측의 가열 히터; The heater of the furnace outer side; 및 상기 가열 히터 외측의 냉각 블록;을 포함할 수 있다. And the cooling block of the outside of the heater; may contain.

본 발명은 또한, 기판 상에 제1전극층, 유기 발광층, 및 제2전극층이 순차로 형성된 유기 발광 소자를 제조하는 방법에 있어서, 상기 유기 발광층 및 제2전극층 중 적어도 하나의 형성은 전술한 증착 장치 내에서 상기 기판에 상기 유기 발광층 형성 물질 및 제2전극층 형성 물질 어느 하나를 증착하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자의 제조방법을 제공한다. The invention also provides a process for producing a first electrode layer, organic light-emitting layer, and the organic light-emitting device the second electrode layer are formed in this order on a substrate, at least one form of the organic light-emitting layer and the second electrode layer is the above-described vapor deposition apparatus to the substrate in the deposition of any one of the organic light-emitting layer forming material and the second electrode layer forming material to provide a method of manufacturing an organic light emitting device which comprises.

상술한 바와 같은 본 발명에 따르면 다음과 같은 효과를 얻을 수 있다. According to the invention as described above, the following effects can be obtained.

첫째, 제1증착 소스 및 제2증착 소스를 연이어 배치시킴으로써 보다 긴 형태의 선형 증착 소스 유닛을 구현할 수 있고, 이에 따라 대면적 기판에의 증착이 용이해질 수 있다. First, the implement may form a longer linear deposition source units disposed one after another by the first deposition source and the second deposition source, thereby the deposition of the large area substrate can be facilitated.

둘째, 제1증착 소스 및 제2증착 소스 각각에 다른 물질을 넣어 동시에 증착시킬 수 있다. Second, it is possible to put the other materials on the first deposition source and the second deposition source, respectively deposited at the same time.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. Reference to the accompanying drawings, will be described a preferred embodiment of the present invention;

도 1은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 증착 소스 유닛(10)이 장착된 증착 장치의 개략도이다. 1 is a schematic diagram of the deposition apparatus is mounted deposition source unit 10 according to an embodiment of the present invention.

도면을 참조하면, 본 발명에 따른 증착 소스 유닛(10)은 진공 챔버(20)내에 설치된다. Referring to the drawings, the deposition source unit 10 according to the invention is placed in a vacuum chamber 20.

이러한 챔버(20)에는 배기 및 이송을 위한 도어(21)가 설치되어 있고, 챔버(20) 내부에는 피증착체인 기판(30)이 배설되어 있다. The chamber 20 had a door 21 for the exhaust and transfer is provided, the chamber 20 inside, there is disposed a vapor-deposited substrate chain 30.

기판(30)에 대향되는 위치에는 증착 소스 유닛(10)이 배설된다. Position opposed to the substrate 30 is disposed a deposition source unit (10).

상기 증착 소스 유닛(10)은 제1증착 소스(11) 및 제2증착 소스(12)를 포함한다. The deposition source unit 10 includes a first deposition source 11 and the second deposition source 12.

도 2는 상기 증착 소스 유닛(10)을 개략적으로 도시한 것이고, 도 3은 제1증 착 소스(11)를 보다 구체적으로 도시한 단면도이다. Figure 2 is an exemplary diagram of the deposition source unit 10 in the schematic, Figure 3 is a cross-sectional view showing in more detail a first deposition source 11.

도 2를 참조할 때, 제1증착 소스(11)는 서로 수직한 제1변(13)과 제2변(14)을 갖는다. When 2, the first deposition source 11 has a normal to the first side 13 and second side 14 each other. 이 제1변(13)과 제2변(14)은 모두 동일 평면상에 위치한 변들로, 지면에 평행한 변들일 수 있다. The first side 13 and second side 14 are located in both sides on the same plane, it may be a parallel to the ground side. 그리고 제2증착 소스(12)도 서로 수직한 제3변(15)과 제4변(16)을 갖는다. And the second deposition source 12 also has a vertical third side 15 and fourth side 16, with each other. 이 제3변(15)과 제4변(16) 역시 모두 동일 평면상에 위치한 변들로, 지면에 평행한 변들일 수 있다. The first to third side 15 and fourth side 16, also in both sides on the same plane, may be a parallel to the ground side. 따라서, 제1증착 소스(11)와 제2증착소스(12)는 모두 평면이 애스펙트 레이쇼(aspect ratio)가 1보다 큰 직사각형이 되도록 한다. Thus, such that a larger rectangle than the first deposition source 11 and the second deposition source 12 is a plan this aspect Ratio both (aspect ratio) 1.

상기 제1변(13)과 제3변(15)은 서로 인접하게 대향되어 있고, 바람직하게는 서로 밀착되게 배치될 수 있다. The first side 13 and the third side (15) which are opposed and adjacent to each other, and preferably may be disposed to have close contact with each other. 그리고, 제2변(14)과 제4변(16)은 서로 평행하게 배치된다. Then, the second side 14 and fourth side 16 are arranged in parallel with one another.

따라서 상기 제1증착 소스(11)와 제2증착 소스(12)는 서로 연이어 배치됨으로 인해 단일의 증착 소스보다 긴 길이의 증착 소스 유닛(10)을 형성할 수 있게 된다. Therefore, the first deposition source 11 and the second deposition source 12 can be formed of a length greater than a single deposition source of the vapor deposition source unit (10) arranged one after another due to each other.

제1증착 소스(11)는 증착재가 수납되는 도가니(111)와, 이 도가니(111) 외측의 발열부(112)와, 발열부(112) 외측의 냉각 블록(113)을 포함한다. The first deposition source 11 comprises an evaporation material, and is housed a crucible 111, a crucible 111, heating portion 112, heating portion 112, the cooling block of the outside of the outer side (113).

도가니(111)는 용기 형상으로 형성되어, 내부에 증착재(P)가 수용되는 데, 도 3에는 도가니(111)가 개방된 형태가 되시되어 있지만, 이와는 달리 노즐을 갖춘 별도의 덮개가 구비되어 도가니(111)의 상부 개구를 덮도록 할 수도 있다. Crucible 111 is formed in a container shape, to which the receiving evaporation material (P) therein, but is also 3 has become an form of a crucible (111) open, contrast, is provided with a separate lid with a nozzle unlike It may be so as to cover the upper opening of the crucible (111).

상기 도가니(111) 외측에는 발열부(112)가 구비된다. The crucible 111 outside is provided with a heating unit 112. The 발열부(112)에는 히터 가 갖춰져 있어 도가니(11) 내의 증착재(P)를 가열한다. Heating unit 112 to heat the evaporation material (P) in the crucible (11) it is equipped with a heater.

냉각블록(113)은 발열부(112) 외측에 구비되어 발열부(112)의 열이 챔버(20) 내부의 온도를 지나치게 상승시키지 않도록 한다. The cooling block 113 so as not to excessively increase the heat chamber 20, the temperature of the interior of the heating portion 112 is provided in the outer heating portion 112. The 이 냉각 블록(113)은 단열재로 형성되며, 경우에 따라서는 내부를 냉각수가 흐르도록 할 수 있다. The cooling block 113 is made of a heat insulating material, as the case may be internal to the cooling water to flow.

이상은 제1증착 소스(11)를 설명한 것이나, 제2증착 소스(12)도 동일한 형태로 구성될 수 있다. Above may be configured in the same manner described would also claim the first deposition source 11, a second evaporation source 12.

본 발명은 이처럼 제1증착 소스(11) 및 제2증착 소스(12)를 연이어 배치함으로써 긴 형태의 선형 소스를 구현할 수 있다. The invention thus arranged one after another by the first deposition source 11 and the second deposition source 12 may implement a linear source of a long form. 따라서 기판(30)의 면적이 큰 경우에도 유연하게 적용할 수 있다. Therefore, it is possible to flexibly apply even if the area of ​​the substrate 30 is large.

뿐만 아니라, 만일 기판(30)의 면적이 더욱 큰 경우에는 상기와 같은 증착 소스를 복수개 더 연이어 배치함으로써 더욱 긴 형태의 선형 소스를 구현할 수 있다. In addition, to implement the linear source of the longer form is by a plurality of successively disposed further the evaporation source as described above, if a larger area of ​​emergency substrate 30.

도 4는 본 발명의 증착 장치를 이용하여 제조된 액티브 매트릭스형 유기 발광 표시장치의 단면을 도시한 것이다. Figure 4 illustrates a cross-section of the active matrix type organic light emitting display device manufactured by using the deposition device of the present invention.

도 4를 참조하면, 상기 액티브 매트리스형의 유기 발광 표시 장치는 기판(30) 상에 형성된다. 4, the organic light emitting display apparatus of the active-type mattress is formed on the substrate 30. 상기 기판(30)은 투명한 소재, 예컨대 글래스재, 플라스틱재, 또는 금속재로 형성될 수 있다. The substrate 30 may be formed of a transparent material such as glass material, plastic material, or metal material. 상기 기판(30)상에는 전체적으로 버퍼층과 같은 절연막(31)이 형성되어 있다. The substrate has an insulating film 31 is formed as a buffer layer formed on the whole (30).

상기 절연막(31) 상에는 도 4에서 볼 수 있는 바와 같은 TFT(40)와, 커패시터(50)와, 유기 발광 소자(60)가 형성된다. The TFT (40), a capacitor 50 and the organic light emitting element 60 such as that formed on the insulating film 31 shown in Figure 4 is formed.

상기 절연막(31)의 윗면에는 소정 패턴으로 배열된 반도체 활성층(41)이 형성되어 있다. The upper surface of the insulating film 31 has a semiconductor active layer (41) arranged in a predetermined pattern is formed. 상기 반도체 활성층(41)은 게이트 절연막(32)에 의하여 매립되어 있다. The semiconductor active layer 41 is buried by the gate insulating film 32. 상기 활성층(41)은 p형 또는 n형의 반도체로 구비될 수 있다. The active layer 41 may be formed of a semiconductor of p-type or n-type.

상기 게이트 절연막(32)의 윗면에는 상기 활성층(41)과 대응되는 곳에 TFT(40)의 게이트 전극(42)이 형성된다. The upper surface of the gate insulating film 32, the gate electrode 42 of the TFT (40) where corresponding to the active layer 41 is formed. 그리고, 상기 게이트 전극(42)을 덮도록 층간 절연막(33)이 형성된다. Then, the interlayer insulating film 33 to cover the gate electrode 42 is formed. 상기 층간 절연막(33)이 형성된 다음에는 드라이 에칭등의 식각 공정에 의하여 상기 게이트 절연막(32)과 층간 절연막(33)을 식각하여 콘택 홀을 형성시켜서, 상기 활성층(41)의 일부를 드러나게 한다. After the interlayer insulating film 33 is formed is by forming a contact hole by etching the gate insulating film 32 and the interlayer insulating film 33 by the etching process such as dry etching, to expose a portion of the active layer 41.

그 다음으로, 상기 층간 절연막(33) 상에 소스/드레인 전극(43)이 형성되는 데, 콘택 홀을 통해 노출된 활성층(41)에 접촉되도록 형성된다. Next, to become the interlayer insulating film 33, source / drain electrodes 43 on the formation, it is formed so as to be in contact with the active layer 41 exposed through the contact hole. 상기 소스/드레인 전극(43)을 덮도록 보호막(34)이 형성되고, 식각 공정을 통하여 상기 드레인 전극(43)의 일부가 드러나도록 한다. So as to cover the source / drain electrode 43. The protective film 34 is formed, and so that a portion of the drain electrode 43 exposed through the etching process. 상기 보호막(34) 위로는 보호막(34)의 평탄화를 위해 별도의 절연막을 더 형성할 수도 있다. The protective film 34 to the top may be further formed to separate the insulating film for planarization of the protective film 34.

한편, 상기 유기 발광 소자(60)는 전류의 흐름에 따라 적,녹,청색의 빛을 발광하여 소정의 화상 정보를 표시하기 위한 것으로서, 상기 보호막(34)상에 제 1 전극(61)을 형성한다. On the other hand, the organic light emitting element 60 is formed a first electrode 61 on the protection film 34 serves to emit light of red, green, and blue light according to a flow of current displays predetermined image information do. 상기 제 1 전극(61)은 TFT(40)의 드레인 전극(43)과 전기적으로 연결된다. The first electrode 61 is electrically connected to drain electrode 43 of the TFT (40) and.

그리고, 상기 제 1 전극(61)을 덮도록 화소정의막(35)이 형성된다. And, the pixel defining layer 35 to cover the first electrode 61 is formed. 이 화소정의막(35)에 소정의 개구(64)를 형성한 후, 이 개구(64)로 한정된 영역 내에 유기 발광막(63)을 형성한다. After forming a predetermined opening 64 in the pixel defining layer 35 to form the organic light emitting film 63 in the area defined by the opening 64. 유기 발광막(63) 위로는 제 2 전극(62)을 형성한다. The organic light emitting film 63 is formed over the second electrode (62).

상기 화소정의막(35)은 각 화소를 구획하는 것으로, 유기물로 형성되어, 제 1 전극(61)이 형성되어 있는 기판의 표면, 특히, 보호층(34)의 표면을 평탄화한다. The pixel defining layer 35 to planarize the surface of that partition the respective pixels, is formed of an organic substance, a first electrode 61, the surface of the substrate which is formed, in particular, the protective layer 34.

상기 제 1 전극(61)과 제 2 전극(62)은 서로 절연되어 있으며, 유기 발광막(63)에 서로 다른 극성의 전압을 가해 발광이 이뤄지도록 한다. And wherein the first electrode 61 and second electrode 62 are insulated from each other, applying a voltage of different polarities to the organic light emitting film 63 to emit light so that the yirwoji.

상기 유기 발광막(63)은 저분자 또는 고분자 유기물이 사용될 수 있는 데, 저분자 유기물을 사용할 경우 홀 주입층(HIL: Hole Injection Layer), 홀 수송층(HTL: Hole Transport Layer), 발광층(EML: Emission Layer), 전자 수송층(ETL: Electron Transport Layer), 전자 주입층(EIL: Electron Injection Layer) 등이 단일 혹은 복합의 구조로 적층되어 형성될 수 있으며, 사용 가능한 유기 재료도 구리 프탈로시아닌(CuPc: copper phthalocyanine), N,N-디(나프탈렌-1-일)-N,N'-디페닐-벤지딘 (N,N'-Di(naphthalene-1-yl)-N,N'-diphenyl-benzidine: NPB) , 트리스-8-하이드록시퀴놀린 알루미늄(tris-8-hydroxyquinoline aluminum)(Alq3) 등을 비롯해 다양하게 적용 가능하다. The organic light emitting film 63 when it is used with, a low-molecular organic material having that can be used are low-molecular or polymer organic material hole injection layer (HIL: Hole Injection Layer), a hole transport layer (HTL: Hole Transport Layer), emitting layer (EML: Emission Layer ), an electron transport layer (ETL: electron transport layer), an electron injection layer (EIL: electron injection layer), etc. can be formed are laminated in the structure of the single or multiple, of available organic materials are copper phthalocyanine (CuPc: copper phthalocyanine) , N, N- di (naphthalene-1-yl) -N, N'- diphenyl-benzidine (N, N'-di (naphthalene-1-yl) -N, N'-diphenyl-benzidine: NPB), and the like as well as tris-8-hydroxyquinoline aluminum (tris-8-hydroxyquinoline aluminum) (Alq3) may be variously applied. 이들 저분자 유기물은 도 1 내지 도 3에서 볼 수 있는 증착 장치 및 증착 소스 유닛(10)을 이용하여 진공증착의 방법으로 형성될 수 있다. These low-molecular organic materials may be used to Figures 1 to a deposition apparatus and a deposition source unit 10 can be seen in Figure 3 formed by the method of vacuum vapor deposition.

먼저, 화소정의막(35)에 개구(64)를 형성한 후, 이 기판(30)을 도 1과 같이 챔버(20)내로 이송한다. First, after forming the opening 64 on the pixel defining layer 35, it is transferred into the chamber 20 as the substrate 30 and Fig. 그리고, 제1증착 소스(11)와 제2증착 소스(12)에 목표 유기물을 수납한 후, 증착한다. And, after the storage of the target organisms in the first deposition source 11 and the second deposition source 12 it is deposited. 이 때, 호스트와 도펀트를 동시에 증착시킬 경우에는 제1증착 소스(11)와 제2증착 소스(12)에 각각 호스트 물질과 도펀트 물질을 수납하여 증착토록 한다. At this time, when the host and the dopant to deposit simultaneously, and ever deposited in each housing the host material and the dopant material in the first deposition source 11 and the second deposition source 12.

이러한 유기 발광막을 형성한 후에는 제2전극(62)을 역시 동일한 증착 공정 으로 형성할 수 있다. After forming such an organic light emitting film may be formed by the same deposition process, the second electrode 62, too.

한편, 상기 제 1 전극(61)은 애노우드 전극의 기능을 하고, 상기 제 2 전극(62)은 캐소오드 전극의 기능을 할 수 있는 데, 물론, 이들 제 1 전극(61)과 제 2 전극(62)의 극성은 반대로 되어도 무방하다. On the other hand, the first electrode 61 is a function of the anode electrode and the second electrode 62 is used to the function of the cathode electrode, of course, these first electrodes 61 and the second electrode the polarity of 62 but may be reversed. 그리고, 제 1 전극(61)은 각 화소의 영역에 대응되도록 패터닝될 수 있고, 제 2 전극(62)은 모든 화소를 덮도록 형성될 수 있다. The first electrode 61 may be patterned to correspond to areas of each pixel, the second electrode 62 may be formed to cover all pixels.

상기 제 1 전극(61)은 투명 전극 또는 반사형 전극으로 구비될 수 있는 데, 투명전극으로 사용될 때에는 ITO, IZO, ZnO, 또는 In2O3로 구비될 수 있고, 반사형 전극으로 사용될 때에는 Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, 및 이들의 화합물 등으로 반사층을 형성한 후, 그 위에 ITO, IZO, ZnO, 또는 In2O3로 투명전극층을 형성할 수 있다. The first electrode 61 may be formed of ITO, IZO, ZnO, or In2O3, when used as a transparent electrode to which may be provided with a transparent electrode or a reflective electrode, when used as a reflective electrode Ag, Mg, Al, after forming the reflection layer as Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, and combinations thereof, etc., that can be formed over the transparent electrode layer with ITO, IZO, ZnO, or In2O3. 이러한 제1전극(61)은 스퍼터링 방법 등에 의해 성막된 후, 포토 리소그래피법 등에 의해 패터닝된다. The first electrode 61 is patterned after the film formation or the like by a sputtering method, a photolithography method.

한편, 상기 제 2 전극(62)도 투명 전극 또는 반사형 전극으로 구비될 수 있는 데, 투명전극으로 사용될 때에는 이 제 2 전극(62)이 캐소오드 전극으로 사용되므로, 일함수가 작은 금속 즉, Li, Ca, LiF/Ca, LiF/Al, Al, Ag, Mg, 및 이들의 화합물이 유기 발광막(63)의 방향을 향하도록 증착한 후, 그 위에 ITO, IZO, ZnO, 또는 In2O3 등으로 보조 전극층이나 버스 전극 라인을 형성할 수 있다. On the other hand, the second electrode 62 that is also a transparent electrode, or so having to be provided with a reflective electrode, a second electrode 62, when used as a transparent electrode is used as a cathode electrode, a metal function is small, as Li, Ca, LiF / Ca, LiF / Al, Al, Ag, Mg, and combinations after the compound is deposited to face the direction of the organic light emitting film 63, the above ITO, IZO, ZnO, or In2O3, etc. It can form an auxiliary electrode layer or a bus electrode line. 그리고, 반사형 전극으로 사용될 때에는 위 Li, Ca, LiF/Ca, LiF/Al, Al, Ag, Mg, 및 이들의 화합물을 전면 증착하여 형성한다. And, when used as a reflective electrode to form the above Li, Ca, LiF / Ca, LiF / Al, Al, Ag, Mg, and combinations thereof to the front deposit. 이 때, 증착은 전술한 유기 발광막(63)의 경우와 마찬가지의 방법으로 행할 수 있다. At this time, the deposition can be carried out in a manner similar to the case of the above-described organic light-emitting film 63.

본 발명은 이 외에도, 유기 TFT의 유기막 또는 무기막 등의 증착에도 사용할 수 있으며, 기타, 다양한 소재의 성막 공정에 적용 가능하다. The present invention In addition to this, and can also be used for deposition of the organic TFT, such as an organic film or an inorganic film, and is applicable to other film formation process of the various materials.

본 발명은 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. The present invention has been described the embodiment illustrated in the accompanying drawings, an example with reference to which to understand that it is only, and those skilled in the art from which the various modifications and equivalent other embodiments can be as illustrative It will be. 따라서 본 발명의 진정한 보호 범위는 첨부된 청구 범위에 의해서만 정해져야 할 것이다. Therefore, the true scope of the present invention as defined only by the appended claims.

도 1은 본 발명에 따른 증착 소스 유닛이 장착된 증착 장치의 개략적인 단면도, 1 is a schematic cross-sectional view of the deposition apparatus depositing the source unit is mounted in accordance with the invention,

도 2는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 증착 소스 유닛의 개략적인 사시도, Figure 2 is a schematic perspective view of the deposition source unit according to an embodiment of the present invention,

도 3은 제1증착 소스의 단면도, Figure 3 is a cross-sectional view of the first deposition source,

도 4는 도 1 내지 도 3의 증착 장치 및 증착 소스 유닛에 의해 제조된 유기 발광 표시장치의 단면도. 4 is a sectional view of an organic light emitting display device manufactured by the deposition apparatus and a deposition source unit of FIG. 1 to FIG.

Claims (4)

  1. 챔버와, 챔버 내에 이송되는 피증착체에 증착재를 증착시키는 증착 소스 유닛을 포함하는 증착장치로서, 상기 증착 소스 유닛은, A deposition apparatus including a deposition source unit, the deposition source units to deposit the evaporation material on the vapor-deposited material is conveyed into the chamber, and a chamber,
    서로 직교하는 제1변과 제2변을 갖고 상기 제1변이 제2변보다 짧은 제1증착 소스; It has a first side and a second side orthogonal to each other short first deposition source than the first variation the second side; And
    서로 직교하는 제3변과 제4변을 갖고 상기 제3변이 제4변보다 짧으며, 상기 제3변은 상기 제1변과 인접하도록 배치되는 제2증착 소스;를 포함하는 증착 장치. Was has a third side and a fourth side perpendicular to each other and the third variation is shorter than the fourth side, the third side of the second deposition source disposed to be adjacent to the first side; deposition apparatus comprising a.
  2. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 제2변과 제4변은 서로 평행하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 증착 장치. Vapor deposition apparatus is arranged above the second side and the fourth side is parallel to each other.
  3. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 제1증착소스는, The first deposition source,
    상기 증착재가 수용되는 도가니; The evaporation material, the crucible is accommodated;
    상기 도가니 외측의 가열 히터; The heater of the furnace outer side; And
    상기 가열 히터 외측의 냉각 블록;을 포함하는 것을 특징으로 하는 증착 장치. Deposition apparatus comprising a; cooling block of said outer heater.
  4. 기판 상에 제1전극층, 유기 발광층, 및 제2전극층이 순차로 형성된 유기 발광 소자를 제조하는 방법에 있어서, 상기 유기 발광층 및 제2전극층 중 적어도 하나의 형성은 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 따른 증착 장치 내에서 상기 기판에 상기 유기 발광층 형성 물질 및 제2전극층 형성 물질 어느 하나를 증착하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자의 제조방법. A method of manufacturing a first electrode, an organic emission layer, and the organic light-emitting device the second electrode layer are formed in this order on a substrate, at least one form of the organic light-emitting layer and the second electrode layer is any one of claim 1 to claim 3, wherein within a deposition apparatus according to one of the preceding method of manufacturing an organic light emitting device, characterized in that formed by depositing any one of the organic light-emitting layer forming material and the second electrode forming material on the substrate.
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