KR20100099806A - Holographic exposure apparatus - Google Patents

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박상욱
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Abstract

PURPOSE: A holographic exposure apparatus is provided to measure the gap between a holographic mask and a substrate by sequential driving of an optical switch which corresponds to a probe and a multiple probes installed on multiple positions. CONSTITUTION: A mask(70) is installed to a prism(10). A substrate(80) is installed to oppose the mask. A space measurement module comprises a plurality of probes and a plurality of switches. The space measurement module measures interval between the substrate and the mask in the plural locations.

Description

홀로그래픽 노광 장치{Holographic exposure apparatus}Holographic exposure apparatus

본 발명은 홀로그래픽 노광 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 마스크와 기판 사이의 간격을 측정하는 홀로그래픽 노광 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a holographic exposure apparatus, and more particularly to a holographic exposure apparatus for measuring the distance between the mask and the substrate.

반도체 장치, 디스플레이 장치, S/M(Shadow Mask), PCB, C/F(Color Filter)의 패터닝 프로세스에서, TIR(Total International Reflection: 전체 내부 반사)형 홀로그래픽 노광 기술을 이용한 노광 장치가 주목을 받고 있다. 이 노광 장치는 홀로그래픽 마스크에 대하여 원하는 패턴을 기록하는 기록 공정과, 이 홀로그래픽 마스크에 재생광을 조사하여 반도체 패턴용의 포토레지스트를 감광하는 노광 공정을 수행한다.In the patterning process of semiconductor devices, display devices, shadow masks (S / M), PCBs, and color filters (C / F), exposure apparatuses using TIR (Total Internal Reflection) type holographic exposure technology attract attention. I am getting it. The exposure apparatus performs a recording step of recording a desired pattern with respect to the holographic mask, and an exposure step of irradiating the holographic mask with the reproduction light to reduce the photoresist for the semiconductor pattern.

여기서 기록 공정은, 반도체 장치의 패턴에 대응한 마스크 패턴(원레티클, original reticle)에 기록광을 조사하여 회절광을 발생시키고, 홀로그래픽 마스크의 기록면에 사출하며, 홀로그래픽 마스크의 기록면에 대하여 일정한 각도로 홀로그래픽 마스크의 뒤쪽으로부터 참조광을 조사하고, 원레티클로부터의 회절광과 간섭시킨다. 이로 인해, 홀로그래픽 마스크의 기록면에 간섭 패턴이 발생되고, 이때 발생된 간섭 패턴은 홀로그래픽 마스크의 기록면에 기록된다.Here, the recording process irradiates recording light onto a mask pattern (original reticle) corresponding to the pattern of the semiconductor device, generates diffracted light, emits the light onto the recording surface of the holographic mask, and is fixed to the recording surface of the holographic mask. The reference light is irradiated from the back of the holographic mask at an angle and interferes with the diffracted light from the one reticle. As a result, an interference pattern is generated on the recording surface of the holographic mask, and the generated interference pattern is recorded on the recording surface of the holographic mask.

노광 공정은, 원레티클과 동일한 위치에 홀로그래픽 마스크를 두고, 기록 시와 반대방향에서 재생광인 노광광을 조사하여 기판에 마련된 포토레지스트 위에 원래의 패턴을 재현한 회절광을 결상시킴으로써 포토레지스트를 노광한다. The exposure step exposes the photoresist by placing a holographic mask at the same position as the one reticle, irradiating exposure light which is reproduction light in a direction opposite to that of recording, and forming diffraction light that reproduces the original pattern on the photoresist provided on the substrate. do.

이때, 노광 공정에 영향을 크게 미치는 변수 중에서 하나가 홀로그래픽 마스크와 피노광 기재인 기판 사이의 간격으로, 홀로그래픽 마스크와 피노광 기재인 기판 사이의 간격(홀로그램 마스크의 Focal Length로, 50μm에서 300μm)을 초점거리(Depth of Focus: DOF, DOF는 ±2μm)에 맞게 유지해야 한다. 이를 위해 홀로그래픽 마스크와 기판 사이의 간격을 0.1μm 단위로 측정하는 기술이 필요하다.At this time, one of the variables that greatly affect the exposure process is the distance between the holographic mask and the substrate to be exposed, and the distance between the holographic mask and the substrate to be exposed (the Focal Length of the hologram mask, 300 μm to 50 μm). ) Should be kept within the Depth of Focus (DOF, DOF is ± 2μm). This requires a technique to measure the distance between the holographic mask and the substrate in 0.1 μm increments.

종래의 노광 장치는 직각프리즘의 직각면에 광을 입사시키면 이 광이 프리즘의 경사면에서 전반사되어 프리즘의 직각면에 도달하게 되는데, 이때 도달되는 광은 프리즘에 장착된 마스크의 아래 면과 기판의 윗 면에서 광이 반사되어 돌아오는 광으로 센서를 통해 이 광을 감지하고, 감지된 두 광에 의해 생긴 광의 간섭 현상을 이용하여 마스크와 기판 사이의 간격을 측정한다. 이러한 방법을 통해 센서를 프리즘의 직각면의 다른 위치로 이동시키면서 직각면을 따라 스캐닝(Scanning)하여 마스크와 기판 사이의 간격을 전 영역에 걸쳐 측정한다.In a conventional exposure apparatus, when light is incident on a right angled surface of a right prism, the light is totally reflected at an inclined surface of the prism to reach a right angled surface of the prism. The light is reflected back from the surface and sensed by the sensor, and the gap between the mask and the substrate is measured by using the interference of light generated by the two detected lights. In this way, the sensor is scanned along the rectangular plane while moving the sensor to another position on the rectangular plane of the prism to measure the distance between the mask and the substrate over the entire area.

이러한 경우 직각프리즘의 직각면을 따라 스캐닝하는 시간이 많이 소요되고 직각 프리즘을 이용 시에서만 가능한 방법으로 프리즘의 형상에 제약이 있다. 즉 간격측정을 위한 광을 홀로그래픽 마스크의 면과 기판의 면에 수직으로 입사시켜야 하므로 다양한 프리즘 형상에서 사용하기 어렵다. In this case, the scanning of the rectangular prism takes a long time and the shape of the prism is limited in a way that is possible only when the rectangular prism is used. That is, since light for spacing needs to be incident perpendicularly to the surface of the holographic mask and the surface of the substrate, it is difficult to use in various prism shapes.

일 측면에 따르면 홀로그래픽 노광 장치는 프리즘; 프리즘에 장착되는 마스크; 마스크에 대향하여 설치되는 기판; 복수 개의 프로브와 복수 개의 프로브에 대응하는 복수 개의 스위치를 구비하여 마스크와 기판 사이의 간격을 복수 위치에서 측정하는 간격측정모듈을 포함한다. According to one aspect the holographic exposure apparatus comprises a prism; A mask mounted to the prism; A substrate provided opposite the mask; And a plurality of probes and a plurality of switches corresponding to the plurality of probes to measure a distance between the mask and the substrate at a plurality of positions.

간격측정모듈은, 복수 개의 스위치의 구동을 통해 복수 개의 프로브를 선택적으로 구동시켜 마스크와 기판 사이의 간격을 측정한다.The gap measurement module measures a gap between the mask and the substrate by selectively driving the plurality of probes through the driving of the switches.

복수 개의 프로브는 고정 설치된다. A plurality of probes are fixedly installed.

프리즘으로 광을 출력하는 광원;을 더 포함하고, 마스크와 기판은 프리즘을 통해 광이 입사되면 입사된 광을 반사시킨다.And a light source for outputting light to the prism, wherein the mask and the substrate reflect the incident light when the light is incident through the prism.

간격측정모듈은, 마스크와 기판에서 반사된 광이 입사되면 입사된 광의 간섭을 이용하여 마스크와 기판 사이의 간격을 복수 위치에서 측정한다.When the light reflected from the mask and the substrate is incident, the gap measurement module measures the distance between the mask and the substrate at a plurality of positions by using interference of the incident light.

프리즘은, 광이 수직으로 입사되는 복수 개의 입사부를 가진다.The prism has a plurality of incidence portions through which light is incident vertically.

복수 개의 입사부는, 복수 개의 프로브와 대응하여 설치된다.A plurality of incidence portions are provided corresponding to the plurality of probes.

마스크를 이동시키는 스테이지; 복수 위치에서 측정된 마스크와 기판 사이의 간격에 따라 스테이지의 구동을 제어하여 마스크와 기판 사이의 간격을 조절하는 제어부를 더 포함한다.A stage for moving the mask; The apparatus may further include a controller configured to control the driving of the stage according to the distance between the mask and the substrate measured at a plurality of positions to adjust the distance between the mask and the substrate.

복수 개의 스위치는, 옵티컬 스위치이다.The plurality of switches are optical switches.

이하에서는 첨부도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 홀로그래픽 노광 장치의 구성도로서, 노광 장치는 프리즘(10)과, 스테이지(20), 간격측정모듈(30), 제어부(40), 스테이지 구동부(50) 및 노광 광원부(60)을 포함하고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 홀로그래픽 노광 장치에 포함된 프리즘(10)의 사시도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 홀로그래픽 노광 장치의 사시도이며, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 홀로그래픽 노광 장치에서 간격 측정 위치의 예시도이다. 1 is a block diagram of a holographic exposure apparatus according to an embodiment of the present invention, the exposure apparatus is a prism 10, the stage 20, the gap measurement module 30, the control unit 40, the stage driver 50 And an exposure light source unit 60, FIG. 2 is a perspective view of a prism 10 included in a holographic exposure apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a holographic view according to an embodiment of the present invention. 4 is a perspective view of an exposure apparatus, and FIG. 4 is an exemplary view of a gap measurement position in a holographic exposure apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention.

프리즘(10)은 광의 분산이나 굴절 등을 일으키기 위해 유리나 수정으로 만들어진 기둥 모양의 광학 장치로, 프리즘(10)은 간격 측정 광원부(31)에서 출력되는 간격 측정용 광이 수직방향으로 홀로그램 마스크(70)에 입사되도록 하고 노광 광원부(60)에서 출력되는 노광광(즉, 재생광)이 그 방향을 변경하지 않으면서 홀로그램 마스크(70)에 투과되도록 한다. The prism 10 is a columnar optical device made of glass or crystal to cause dispersion or refraction of light, and the prism 10 includes a hologram mask 70 in which the gap measurement light output from the gap measurement light source unit 31 is vertically directed. ) And the exposure light (that is, the reproduction light) output from the exposure light source unit 60 is transmitted to the hologram mask 70 without changing its direction.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 실시예에서의 프리즘(10)은 밑면(10a), 제1경사면(10b), 제2경사면(10c), 윗면(10d), 제1, 2측면으로 이루어진 사각 기둥의 형상이다. 아울러, 홀로그래픽 마스크(20)와 기판(30) 사이의 간격을 측정하는 위치에 따라 밑면, 제1경사면, 제2경사면, 제1, 2측면으로 이루어진 삼각 기둥을 이용하는 것도 가능하다.As shown in Fig. 2, the prism 10 in this embodiment is a quadrangle consisting of a bottom surface 10a, a first sloped surface 10b, a second sloped surface 10c, a top surface 10d, and first and second side surfaces. The shape of the pillar. In addition, it is also possible to use a triangular pillar consisting of a bottom surface, a first sloped surface, a second sloped surface, and first and second sides according to a position for measuring the distance between the holographic mask 20 and the substrate 30.

프리즘(10)의 밑면(10a)에는 홀로그래픽 마스크(70)가 부착되고, 제 1, 2 경사면(10b, 10c)에는 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격(gap)을 측정하기 위한 간격측정용 광(Lg)이 수직으로 입사되는 입사면을 갖는 광 입사부(15)가 복수 개 마련되어 있다. 이에 따라, 프리즘(10)의 제 1, 2 경사면(10b, 10c)에 복수 개의 광 입사부(15)가 마련되어 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격을 복수 위치에서 측정함으로써, 전 영역에 걸쳐 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격을 일정하게 유지하는 것이 가능하다.The holographic mask 70 is attached to the bottom surface 10a of the prism 10, and the gap between the holographic mask 70 and the substrate 80 is measured on the first and second inclined surfaces 10b and 10c. A plurality of light incidence portions 15 having an incidence surface into which the interval measurement light Lg is incident vertically are provided. Accordingly, a plurality of light incident portions 15 are provided on the first and second inclined surfaces 10b and 10c of the prism 10 to measure the distance between the holographic mask 70 and the substrate 80 at a plurality of positions. It is possible to keep the gap between the holographic mask 70 and the substrate 80 constant over the entire area.

그리고 프리즘(10)의 제 1, 2 경사면(10b, 10c) 중 어느 하나의 경사면에는 노광광(Le)이 입사되는 노광광 입사영역(A)을 가지고 있고, 이 경사면을 통하여 입사되는 노광광(Le)과 간격 측정용 광 입사부(15)를 통하여 입사되는 간격 측정용 광(Lg) 사이의 간섭이 방지되도록, 간격측정용 광 입사부(15)는 노광광(Le)이 입사되는 노광광 입사영역(A)의 외측에 마련된다.One of the first and second inclined surfaces 10b and 10c of the prism 10 has an exposure light incident region A through which the exposure light Le is incident, and the exposure light incident through the inclined surface ( In order to prevent interference between Le) and the gap measuring light Lg incident through the gap measuring light incident part 15, the gap measuring light incident part 15 is exposed to which the exposure light Le is incident. It is provided outside the incident area A.

스테이지(20)는 스테이지 구동부(50)에 의해서 상하방향으로 이동 가능하게 설치된다. 이러한 스테이지(20)는 홀로그램 마스크(70)를 지지하고 있는 상태에서 홀로그램 마스크(70)를 상하방향으로 이동시킴으로써 홀로그램 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격이 조절되도록 한다. 이때 홀로그램 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격은 초점거리(Depth of Focus) 이내로 유지되도록 한다.The stage 20 is installed to be movable in the vertical direction by the stage driver 50. The stage 20 moves the hologram mask 70 in the vertical direction while supporting the hologram mask 70 so that the gap between the hologram mask 70 and the substrate 80 is adjusted. At this time, the distance between the hologram mask 70 and the substrate 80 is maintained within the depth of focus.

그리고 노광 공정 시 홀로그램 패턴을 홀로그래픽 마스크(70)로부터 기판(80)에 정확하게 전사시키기 위해서는 노광 공정 시 홀로그램 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격을 기록 공정 시 홀로그램 마스크(70)와 마스크패턴(또는 원레티클: 미도시) 사이의 간격과 같도록 해야 한다. In order to accurately transfer the hologram pattern from the holographic mask 70 to the substrate 80 during the exposure process, the distance between the hologram mask 70 and the substrate 80 during the exposure process is defined by the hologram mask 70 and the mask during the recording process. It should be equal to the spacing between patterns (or one reticle: not shown).

간격측정모듈(30)은 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격(gap)을 측정하기 위한 것으로서, 간격 측정 광원부(31), 스위치부(32), 프로브부(33), 측 정부(34)를 가진다.The gap measurement module 30 is for measuring a gap between the holographic mask 70 and the substrate 80. The gap measurement light source unit 31, the switch unit 32, the probe unit 33, and the side are measured. Has a government 34.

간격측정 광원부(31)는 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격(gap)을 측정하기 위한 광(Lg)을 제어부(40)의 지시에 따라 발생시킨다. 이때 간격측정 광원부(31)에서 출력된 광은 스위치부(32)와 프로브부(33)를 통해 프리즘(10)에 입사된다.The gap measurement light source unit 31 generates light Lg for measuring a gap between the holographic mask 70 and the substrate 80 according to the instruction of the controller 40. At this time, the light output from the gap measurement light source unit 31 is incident on the prism 10 through the switch unit 32 and the probe unit 33.

스위치부(32)는 복수 개의 광(Optical) 스위치로 이루어져 있고, 복수 개의 광 스위치는 간격측정 광원부(31)와 프로브부(33) 사이에 각각 연결되고 프로브부(33)와 측정부(34) 사이에 연결되어 제어부(40)의 지시에 따라 순차적으로 온(On) 구동된다. The switch unit 32 is composed of a plurality of optical switches, and the plurality of optical switches are connected between the gap measurement light source unit 31 and the probe unit 33, respectively, and the probe unit 33 and the measurement unit 34. It is connected between the sequentially driven (On) according to the instructions of the control unit 40.

이와 같이 스위치부(32)의 복수 개의 광 스위치 중 온 구동된 광 스위치는 간격측정 광원부(31)에서 출력된 광을 프로브부(33)로 전달하고, 또한 프로브부(33)에서 감지된 간섭광(즉, 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80)에서 반사된 광)을 측정부(34)로 전달한다.As described above, the optical switch driven among the plurality of optical switches of the switch unit 32 transmits the light output from the gap measurement light source unit 31 to the probe unit 33, and also detects the interference light detected by the probe unit 33. (Ie, the light reflected from the holographic mask 70 and the substrate 80) is transmitted to the measuring unit 34.

도 3에 도시된 바와 같이 프로브부(33)는 복수 개의 프로브로 이루어져 있고, 복수 개의 프로브는 'Y'형의 광 케이블로 이루어지며 'Y'형의 광 케이블 중 일측 두 단은 복수 개의 광 스위치가 각각 설치된다. 이에 따라 복수 개의 프로브는 복수 개의 광 스위치의 순차적인 온 구동에 대응하여 구동한다.As shown in FIG. 3, the probe unit 33 is composed of a plurality of probes, and the plurality of probes is formed of an optical cable of a 'Y' type, and two ends of one side of the 'Y' type optical cable are a plurality of optical switches. Are respectively installed. Accordingly, the plurality of probes are driven corresponding to the sequential on driving of the plurality of optical switches.

그리고 도 3에 도시된 바와 같이 복수 개의 프로브는 'Y'형의 광 케이블 중 두 단이 합쳐진 타측이 프리즘(10)의 광 입사부(15)에 각각 대응하여 고정 설치된다. 이에 따라 도 4에 도시된 바와 같이 복수 개의 프로브는 각각 대응하는 광 입 사부(15)로 광을 출력하여 홀로그래픽 마스크(70)와 수직 방향의 광이 프리즘(10)에 입사되도록 하고 또한 복수 개의 프로브는 각각 대응하는 광 입사부(15)를 통해 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80)에서 반사된 광이 입사된다.As shown in FIG. 3, a plurality of probes are fixedly installed on the other side of two 'Y' type optical cables in correspondence with the light incident portions 15 of the prism 10. Accordingly, as shown in FIG. 4, the plurality of probes output light to the corresponding light incidence unit 15 so that the light in the vertical direction with the holographic mask 70 is incident on the prism 10. Each of the probes receives light reflected from the holographic mask 70 and the substrate 80 through a corresponding light incident portion 15.

아울러, 복수 개의 프로브 중 일부를 선택하여 해당 위치에서 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격을 측정하는 것도 가능하다.In addition, it is also possible to select a portion of the plurality of probes to measure the distance between the holographic mask 70 and the substrate 80 at the corresponding position.

그리고 측정부(34)는 순차적으로 구동되는 광 스위치를 통해 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80)의 복수 위치에서 반사된 간섭광이 전달되고, 전달된 간섭광에 기초하여 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80)의 복수 위치에서 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격을 측정하고, 복수 위치에 해당하는 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격을 제어부(40)로 전송한다.In addition, the measurement unit 34 transmits the interference light reflected from the holographic mask 70 and the plurality of positions of the substrate 80 through the optical switches sequentially driven, and based on the transmitted interference light, the holographic mask 70 ) And the distance between the holographic mask 70 and the substrate 80 at a plurality of positions of the substrate 80, and controls the distance between the holographic mask 70 and the substrate 80 corresponding to the plurality of positions. 40).

제어부(40)는 기록 공정이 완료되고 노광 공정이 시작되면 간격측정모듈(30)의 스위치부(32)를 제어하여 광 스위치가 순차적으로 온 구동되도록 하고, 간격 측정 광원부(31)의 구동을 제어하여 간격 측정용 광(Lg)이 출력되도록 하며, 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격이 측정부(34)를 통해 순차적으로 전달되면 순차적으로 전달된 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격에 기초하여 스테이지 구동부(50)의 구동을 제어한다.When the recording process is completed and the exposure process is started, the control unit 40 controls the switch unit 32 of the gap measurement module 30 to sequentially drive the optical switch, and controls the driving of the gap measurement light source unit 31. The distance measuring light Lg is outputted, and when the distance between the holographic mask 70 and the substrate 80 is sequentially transmitted through the measuring unit 34, the holographic mask 70 sequentially transmitted. The driving of the stage driver 50 is controlled based on the distance between the substrates 80.

이때 제어부(40)는 현재 측정된 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격과 기록 공정 시 홀로그램 마스크(70)와 마스크패턴(또는 원레티클: 미도시) 사이의 간격을 비교하고, 비교된 두 간격이 미리 설정된 초점거리(Depth of Focus: DOF)의 범위를 벗어나는지 판단하며, 두 간격이 초점거리의 범위를 벗어나면 비교 된 두 간격에 기초하여 스테이지(20)의 이동 거리를 산출하고 산출된 이동 거리 만큼 스테이지(20)가 이동하도록 스테이지 구동부(50)의 구동을 제어한다. At this time, the controller 40 compares the distance between the currently measured holographic mask 70 and the substrate 80 and the distance between the hologram mask 70 and the mask pattern (or one reticle: not shown) during the recording process, It is determined whether the two compared intervals are out of a range of a preset depth of focus (DOF), and when the two intervals are out of the range of the focal lengths, the moving distance of the stage 20 is calculated based on the compared two intervals. Then, the driving of the stage driver 50 is controlled so that the stage 20 moves by the calculated moving distance.

아울러, 제어부(40)는 현재 측정된 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격과 미리 설정된 기준 간격을 비교하여 스테이지 구동부(50)의 구동을 제어하는 것도 가능하다. 이때 200[㎛] ± 1[㎛]로 유지되도록 스테이지(20)를 제어한다.In addition, the controller 40 may control the driving of the stage driver 50 by comparing the currently measured interval between the holographic mask 70 and the substrate 80 with a preset reference interval. At this time, the stage 20 is controlled to be maintained at 200 [μm] ± 1 [μm].

그리고 제어부(40)는 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격 조절이 완료되면 노광 광원부(60)의 구동을 제어하여 노광광이 출력되도록 한다. The controller 40 controls the driving of the exposure light source unit 60 to output the exposure light when the gap adjustment between the holographic mask 70 and the substrate 80 is completed.

스테이지 구동부(50)는 제어부(40)의 지시에 따라 스테이지(20)를 이동시켜 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격이 정밀하게 조절되도록 한다. The stage driver 50 moves the stage 20 according to the instructions of the controller 40 to precisely adjust the gap between the holographic mask 70 and the substrate 80.

아울러, 홀로그램 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격을 조절하기 위해 홀로그램 마스크를 지지하는 스테이지를 이동시키는 것 이외에도 기판을 지지하는 스테이지를 이동시키는 것도 가능하다. 여기서 기판 스테이지는 진공척(vacuum chuck) 등에 의해서 기판(80)을 기판 스테이지 상에 유지시키고, 기판 스테이지를 수평방향, 상하방향으로 이동시킴으로써 홀로그램 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격을 조절한다. In addition, in order to adjust the distance between the hologram mask 70 and the substrate 80, it is also possible to move the stage for supporting the substrate in addition to the stage for supporting the hologram mask. The substrate stage adjusts the distance between the hologram mask 70 and the substrate 80 by holding the substrate 80 on the substrate stage by a vacuum chuck or the like, and moving the substrate stage in the horizontal and vertical directions. do.

노광 광원부(60)는 슬릿 광원으로서, 홀로그래픽 마스크(50)에 조사되는 노광광(Le)을 생성하고 프리즘(10)의 제2경사면(10c)을 따라 슬라이딩하면서 생성된 노광광(Le)을 출력한다. 이때 노광 광원부(60)으로부터 출력된 노광광(Le)은 프리즘(10)의 제2경사면(10c)을 통해 입사된다.The exposure light source unit 60 is a slit light source and generates exposure light Le irradiated to the holographic mask 50 and slides the exposure light Le generated while sliding along the second inclined plane 10c of the prism 10. Output At this time, the exposure light Le output from the exposure light source unit 60 is incident through the second inclined plane 10c of the prism 10.

홀로그램 마스크(70)는 마스크 패턴(또는 원레티클)의 회절광과 참조광의 간섭에 의한 간섭패턴이 기록되어 있다. 보다 정확하게 설명하면, 홀로그램 마스크(70)는 감광성물질(예를 들면 포토폴리머: photopolymer)로 이루어진 레코딩 막을 포함하는데, 회절광과 참조광의 간섭무늬가 감광성물질에 기록되어 홀로그램 패턴(즉 간섭패턴)을 형성한다.The hologram mask 70 records an interference pattern caused by interference of diffracted light and reference light of a mask pattern (or one reticle). More precisely, the hologram mask 70 includes a recording film made of a photosensitive material (for example, a photopolymer), in which an interference pattern of diffracted light and a reference light is recorded on the photosensitive material to form a hologram pattern (ie, an interference pattern). Form.

그리고 홀로그래픽 마스크(70)는 굴절률 정합액(refractive index matching fluid)에 의해 프리즘(10)의 밑면(10a)에 부착된다. 이때 굴절률 정합액의 굴절률은 프리즘의 굴절률과 동일하다. 이에 따라 홀로그래픽 마스크(70)와 프리즘(10) 사이의 간격이 변화해도 프리즘의 굴절률과 동일한 굴절률 정합액으로 인해 프리즘(10)에 입사된 광이 홀로그램 패턴이 형성된 홀로그래픽 마스크(70)의 하면까지 굴절없이 도달할 수 있다.The holographic mask 70 is attached to the bottom surface 10a of the prism 10 by a refractive index matching fluid. At this time, the refractive index of the refractive index matching liquid is the same as the refractive index of the prism. Accordingly, even if the distance between the holographic mask 70 and the prism 10 changes, the light incident on the prism 10 due to the refractive index matching liquid equal to the refractive index of the prism 10 is formed on the bottom surface of the holographic mask 70 on which the hologram pattern is formed. Can be reached without refraction.

기판(80)은 감광성물질(즉, 포토레지스트; photoresist)로 이루어진 감광성 막이 도포된다. 그리고 노광광이 조사되면 포토레지스트 위에 원래의 패턴을 재현한 회절광을 결상시켜 포토레지스트를 노광한다. 이에 따라 기판(80)에는 홀로그램 패턴이 형성된다.The substrate 80 is coated with a photosensitive film made of a photosensitive material (ie, photoresist). When the exposure light is irradiated, diffraction light that reproduces the original pattern is imaged on the photoresist to expose the photoresist. As a result, a hologram pattern is formed on the substrate 80.

이러한 구조의 본 실시예에 따른 노광 장치의 동작을 설명하면 아래와 같다.The operation of the exposure apparatus according to the present embodiment of such a structure will be described below.

홀로그래픽 마스크(70)에 홀로그램 패턴을 형성시키는 기록 공정이 완료되면, 프리즘(10)의 밑면(10a)에 홀로그램 패턴이 형성된 홀로그래픽 마스크(70)를 부착시키고, 감광성 막이 도포된 기판(80)을 기판 스테이지(미도시)에 장착한다.When the recording process of forming the hologram pattern on the holographic mask 70 is completed, the holographic mask 70 having the hologram pattern is attached to the bottom surface 10a of the prism 10, and the substrate 80 to which the photosensitive film is applied. Is mounted on a substrate stage (not shown).

여기서 홀로그래픽 마스크(70)는 프리즘(10)의 굴절률과 동일한 굴절률 정합 액(refractive index matching fluid)에 의해 프리즘(10)의 밑면(10a)에 부착된다. The holographic mask 70 is attached to the bottom surface 10a of the prism 10 by a refractive index matching fluid equal to the refractive index of the prism 10.

다음, 간격측정모듈(30)의 스위치부(31)에 마련된 복수 개의 광 스위치를 순차적으로 구동시키면서 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격을 측정한다. 이를 좀 더 구체적으로 설명하면, 복수 개의 광 스위치 중 현재 순서인 어느 하나의 광 스위치를 온 구동시키고 간격측정모듈(30)의 간격 측정 광원부(31)로부터 생성된 간격측정용 광(Lg)을 출력한다. 이때 출력된 간격측정용 광(Lg)은 복수 개의 광 스위치 중 온 구동된 광 스위치를 따라 해당 프로브로 전달되고, 도 4에 도시된 바와 같이 해당 프로브에 전달된 간격측정용 광(Lg)은 해당 프로브에 대응하여 설치된 프리즘(10)의 광 입사부(15)로 출력된다. Next, the distance between the holographic mask 70 and the substrate 80 is measured while sequentially driving the plurality of optical switches provided in the switch unit 31 of the gap measurement module 30. In more detail, one of the optical switches in the current order among the plurality of optical switches is turned on and outputs the distance measuring light Lg generated from the gap measuring light source unit 31 of the gap measuring module 30. do. At this time, the output light for measuring spacing (Lg) is transmitted to the probe along the on-drive light switch of the plurality of optical switches, as shown in Figure 4 the light for measuring spacing (Lg) transmitted to the probe It is output to the light incident part 15 of the prism 10 provided corresponding to the probe.

다음 프리즘(10)의 광 입사부(15)에 입사된 간격측정용 광(Lg)은 프리즘(10)의 밑면(10a)에 대해 수직방향으로 투과한 후 홀로그래픽 마스크(70)의 하면과 기판(80)의 상면으로 입사된다. 이때 홀로그래픽 마스크(70)의 하면과 기판(80)의 상면에 입사된 광은 프리즘(10)의 광 입사부(15)의 위치와 대응하는 위치에 입사된다.Next, the distance measuring light Lg incident to the light incident part 15 of the prism 10 is transmitted in a direction perpendicular to the bottom surface 10a of the prism 10, and then the bottom surface of the holographic mask 70 and the substrate. Incident on the upper surface of 80. At this time, the light incident on the lower surface of the holographic mask 70 and the upper surface of the substrate 80 is incident at a position corresponding to the position of the light incident part 15 of the prism 10.

다음 홀로그래픽 마스크(70)의 하면에서 반사되는 광과 기판(80)의 상면에서 반사되는 광이 해당 광 입사부(15)에 입사되고, 해당 광 입사부(15)는 입사된 광을 자신과 대응한 프로브로 출력하고, 해당 프로브는 온 구동된 광 스위치를 통해 간격측정모듈(30)의 측정부(34)로 전달된다.Next, the light reflected from the lower surface of the holographic mask 70 and the light reflected from the upper surface of the substrate 80 are incident on the light incident part 15, and the light incident part 15 transmits the incident light to itself. The probe is output to the corresponding probe, and the probe is transmitted to the measuring unit 34 of the gap measurement module 30 through the optical switch driven on.

다음 측정부(34)는 홀로그래픽 마스크(70)의 하면에서 반사되는 광과 기판(80)의 상면에서 반사되는 광의 간섭을 이용하여 홀로그래픽 마스크(70)와 기 재(80) 사이의 간격(gap)을 측정하고, 측정된 홀로그래픽 마스크(70)와 기재(80) 사이의 간격(gap)을 제어부(40)로 전달한다.Next, the measurement unit 34 uses the interference between the light reflected from the lower surface of the holographic mask 70 and the light reflected from the upper surface of the substrate 80 to determine the distance between the holographic mask 70 and the substrate 80. gap) and a gap between the measured holographic mask 70 and the substrate 80 is transmitted to the controller 40.

이때 제어부(40)는 순차적인 광 스위치의 온 구동에 대응하는 홀로그래픽 마스크(70)와 기재(80) 사이의 간격(gap)이 전달되는데, 여기서 복수 개의 광 스위치는 간격을 측정하고자 하는 홀로그래픽 마스크(70)와 기재(80)의 위치를 나타낸다.At this time, the control unit 40 transmits a gap between the holographic mask 70 and the substrate 80 corresponding to the on-drive of the sequential optical switches, wherein the plurality of optical switches are holographic to measure the distance. The position of the mask 70 and the base material 80 is shown.

즉, 제어부(40)는 복수 위치에서의 홀로그래픽 마스크(70)와 기재(80) 사이의 간격(gap)이 전달되고, 각 위치에서의 간격과 기록 공정 시 홀로그램 마스크(70)와 마스크패턴(또는 원레티클: 미도시) 사이의 간격(또는 미리 설정된 기준 간격)을 비교하고, 비교된 두 간격이 미리 설정된 초점거리(Depth of Focus: DOF)의 범위를 벗어나는지 판단하며, 두 간격이 초점거리의 범위를 벗어나면 비교된 두 간격에 기초하여 스테이지(20)의 이동 거리를 산출하고 산출된 이동 거리에 기초하여 스테이지 구동부(50)의 구동을 제어함으로써 스테이지(20)를 이동시켜 홀로그래픽 마스크(70)와 기재(80) 사이의 간격(gap)을 조절한다. 여기서 홀로그래픽 마스크(70)와 기재(80) 사이의 간격(gap)은 200[㎛]로 조절되고, 초점거리의 범위는 ± 1[㎛]이다.That is, the controller 40 transmits a gap between the holographic mask 70 and the substrate 80 at a plurality of positions, and spaces at each position and the hologram mask 70 and the mask pattern during the recording process. Or compares the interval (or preset reference interval) between one reticle (not shown), and determines whether the two compared intervals are out of a range of preset depth of focus (DOF), and the two intervals are the focal lengths. If it is out of the range of, the moving distance of the stage 20 is calculated based on the compared two intervals, and the stage 20 is moved by controlling the driving of the stage driving unit 50 based on the calculated moving distance to move the holographic mask ( 70) to adjust the gap between the substrate (80). Here, the gap between the holographic mask 70 and the substrate 80 is adjusted to 200 [µm], and the focal length range is ± 1 [µm].

그리고 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격 조절이 완료되면 노광 광원부(60)은 노광광(Le)을 생성하고 생선된 노광광(Le)을 프리즘(10)의 노광광 입사영역(A)으로 출력하고, 이때 프리즘(10)의 노광광 입사영역(A)에 입사된 노광광(Le)은 홀로그래픽 마스크(70)에 조사되고, 기판(80)에 도포된 포토레지스트 위에 원래의 패턴을 재현한 회절광을 결상시킴으로써 포토레지스트를 노광하고, 포토 레지스트의 노광에 의해 기판(80)에는 홀로그램 패턴이 형성된다. When the distance adjustment between the holographic mask 70 and the substrate 80 is completed, the exposure light source unit 60 generates exposure light Le and emits the exposed exposure light Le to the exposure light incident region of the prism 10. Output to (A), wherein the exposure light (Le) incident on the exposure light incident region (A) of the prism 10 is irradiated to the holographic mask 70, the original on the photoresist applied to the substrate 80 The photoresist is exposed by forming diffraction light that reproduces the pattern of, and a hologram pattern is formed on the substrate 80 by exposure of the photoresist.

이와 같이, 본 실시예에 따른 노광 장치용 프리즘(10)에서는, 간격측정용 광(Lg)이 간격측정용 광 입사부(15)를 통해 수직으로 입사되므로, 홀로그래픽 마스크(70)의 하면과 기판(80)의 상면에 간격측정용 광(Lg)이 수직으로 도달되는 바, 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격(gap) 측정의 정확성이 보장된다. 다시 말해, 본 실시예의 프리즘과 같이, 프리즘의 상측면이 홀로그래픽 마스크와 소정 각도의 경사를 이루더라도, 간격측정용 광(Lg)은 간격측정용 광 입사부(15)를 통해 홀로그래픽 마스크(70) 및 기판(80)에 수직으로 조사될 수 있다.As described above, in the exposure apparatus prism 10 according to the present embodiment, since the light for measuring gap Lg is incident vertically through the light incident part 15 for measuring the gap, the lower surface of the holographic mask 70 Since the distance measuring light Lg reaches the upper surface of the substrate 80 vertically, the accuracy of the gap measurement between the holographic mask 70 and the substrate 80 is ensured. In other words, as with the prism of this embodiment, even if the upper surface of the prism is inclined at a predetermined angle with the holographic mask, the gap measuring light Lg passes through the holographic mask (eg, through the gap measuring light incident part 15). 70) and the substrate 80 can be irradiated perpendicularly.

또한 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격(gap)을 측정하기 위한 프로브를 이동시키지 않고, 복수 위치에 설치된 프로브 및 복수 프로브에 대응하는 광 스위치의 순차적인 구동을 통해 전 영역에서 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격(gap)을 측정할 수 있어 프로브의 이동에 따른 시간을 절약할 수 있고 프로브를 다른 위치로 이동시키기 위한 구동부(미도시)의 구동에 따른 진동, 프로브의 자세 변화, 발열 등 불안정한 요소들의 발생을 줄일 수 있어 안정적이다.In addition, without moving the probe for measuring the gap between the holographic mask 70 and the substrate 80, the sequential driving of the probes installed in a plurality of positions and the optical switch corresponding to the plurality of probes in all areas The gap between the holographic mask 70 and the substrate 80 can be measured to save time according to the movement of the probe, and according to the driving of a driving unit (not shown) for moving the probe to another position. It is stable because it can reduce the occurrence of unstable elements such as vibration, probe position change, and heat generation.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 홀로그래픽 노광 장치에 포함된 간격측정모듈(30)의 구성도로서, 간격 측정 광원부(31), 스위치부(32), 프로브부(33), 측정부(34)를 가진다.5 is a configuration diagram of the gap measurement module 30 included in the holographic exposure apparatus according to another embodiment of the present invention, wherein the gap measurement light source unit 31, the switch unit 32, the probe unit 33, and the measurement unit Has 34.

간격측정 광원부(31)는 복수 개의 광원, 즉 제1광원(31a), 제2광원(31b), 제3광원(31c), 제4광원(31d) 및 제n광원(31n)으로 이루어지고, 복수 개의 광원(31a 내지 31n)은 'Y'형의 광 케이블(즉, 광섬유)을 통해 프로브부(33)의 프로브(33a 내 지 33n)에 각각 연결된다. 즉, 간격측정 광원부(31)는 'Y'형의 광 케이블의 일측 일단에 연결된다. 그리고 간격측정 광원부(31)는 제어부(40)의 지시에 따라 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격(gap)을 측정하기 위한 광(Lg)을 발생시켜 출력한다. 이때 간격측정 광원부(31)에서 출력된 복수 광은 프로브부(33)를 통해 프리즘(10)의 광 입사부(15)에 입사된다.The interval measuring light source unit 31 is composed of a plurality of light sources, that is, a first light source 31a, a second light source 31b, a third light source 31c, a fourth light source 31d, and an nth light source 31n. The plurality of light sources 31a to 31n are respectively connected to the probes 33a to 33n of the probe unit 33 through an 'Y' type optical cable (that is, an optical fiber). That is, the gap measurement light source unit 31 is connected to one end of one side of the 'Y' type optical cable. The gap measurement light source unit 31 generates and outputs light Lg for measuring a gap between the holographic mask 70 and the substrate 80 according to the instructions of the controller 40. In this case, the plurality of lights output from the gap measurement light source part 31 are incident on the light incident part 15 of the prism 10 through the probe part 33.

스위치부(32)는 복수 개의 광(Optical) 스위치로 이루어져 있고, 복수 개의 광 스위치(32a 내지 32n)는 'Y'형의 광 케이블(즉, 광섬유)을 통해 프로브부(33)의 프로브(33a 내지 33n)에 각각 연결된다. 즉 스위치부(32)의 복수 개의 광 스위치(32a 내지 32n)는 'Y'형의 광 케이블의 일측 타단에 연결된다. 그리고 위치부(32)의 복수 개의 광 스위치(32a 내지 32n)는 제어부(40)의 지시에 따라 순차적으로 온(On) 구동된다. 이와 같이 스위치부(32)의 복수 개의 광 스위치 중 온 구동된 광 스위치는 프로브부(33)에서 감지된 간섭광(즉, 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80)에서 반사된 광)을 측정부(34)로 전달한다.The switch unit 32 is composed of a plurality of optical switches, and the plurality of optical switches 32a to 32n are probes 33a of the probe unit 33 through an 'Y' type optical cable (that is, an optical fiber). To 33n). That is, the plurality of optical switches 32a to 32n of the switch unit 32 are connected to one end of the optical cable of the 'Y' type. The plurality of optical switches 32a to 32n of the position unit 32 are sequentially driven on in accordance with the instruction of the controller 40. As described above, the optical switch driven among the plurality of optical switches of the switch unit 32 measures the interference light detected by the probe unit 33 (that is, the light reflected from the holographic mask 70 and the substrate 80). Transfer to section 34.

프로브부(33)는 복수 개의 프로브(33a 내지 33n)로 이루어져 있고, 복수 개의 프로브(33a 내지 33n)는 간격측정 광원부(21)의 복수 광원과 각각 대응되어 설치되고 또한 스위치부(32)의 복수 광 스위치와 각각 대응되어 설치되어 복수 개의 광 스위치의 순차적인 온 구동에 대응하여 구동한다. The probe unit 33 is composed of a plurality of probes 33a to 33n, and the plurality of probes 33a to 33n are provided to correspond to the plurality of light sources of the distance measuring light source unit 21, respectively, and the plurality of switch units 32 Each of the optical switches is provided in correspondence with the optical switch and drives in response to the sequential on driving of the plurality of optical switches.

이러한 복수 개의 프로브(33a 내지 33n)는 'Y'형의 광 케이블을 가진다. 즉, 광 케이블의 일측 일단은 간격측정 광원부(31)의 광원이 연결되고, 일측 타단은 스위치부(32)의 광 스위치가 연결되며, 타측은 일측의 두 가닥의 광 케이블이 합쳐져 간격 측정용 광을 출력하고 또한 간섭광이 입사되어 진다. The plurality of probes 33a to 33n have 'Y' type optical cables. That is, one end of the optical cable is connected to the light source of the gap measurement light source unit 31, the other end is connected to the optical switch of the switch unit 32, the other side is combined with the two strands of the optical cable on the other side of the optical fiber for gap measurement And interference light is incident.

그리고 프로브부(33)의 복수 개의 프로브(33a 내지 33n)는 프리즘(10)에 마련된 복수 개의 광 입사부(15)에 각각 대응하여 고정 설치되어 있다. 이에 따라 복수 개의 프로브(33a 내지 33n)는 각각 대응하는 광 입사부(15)로 간격측정용 광을 출력하여 홀로그래픽 마스크(70)와 수직 방향의 광이 프리즘(10)에 입사되도록 하고 또한 복수 개의 프로브(33a 내지 33n)는 각각 대응하는 광 입사부(15)를 통해 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80)에서 반사된 광이 입사되어진다.The plurality of probes 33a to 33n of the probe unit 33 are fixedly installed corresponding to the plurality of light incident units 15 provided in the prism 10, respectively. Accordingly, the plurality of probes 33a to 33n respectively output the light for interval measurement to the corresponding light incident part 15 so that the holographic mask 70 and the light in the vertical direction are incident on the prism 10. Each of the three probes 33a to 33n receives light reflected from the holographic mask 70 and the substrate 80 through corresponding light incident portions 15.

아울러, 복수 개의 프로브(33a 내지 33n) 중 일부를 선택하여 해당 위치에서 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격을 측정하는 것도 가능하다.In addition, it is also possible to select some of the plurality of probes 33a to 33n to measure the distance between the holographic mask 70 and the substrate 80 at the corresponding position.

그리고 측정부(34)는 순차적으로 구동되는 광 스위치를 통해 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80)의 복수 위치에서 반사된 간섭광이 전달되고, 전달된 간섭광에 기초하여 복수 위치에서 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격을 측정하며, 복수 위치에 해당하는 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 측정된 간격을 제어부(40)로 전송한다.In addition, the measurement unit 34 transmits the interference light reflected at the plurality of positions of the holographic mask 70 and the substrate 80 through the optical switches that are sequentially driven, and the holographic at the plurality of positions based on the transmitted interference light. The distance between the mask 70 and the substrate 80 is measured, and the measured distance between the holographic mask 70 and the substrate 80 corresponding to a plurality of positions is transmitted to the controller 40.

아울러 제어부(40)는 기록 공정이 완료되고 노광 공정이 시작되면 간격측정모듈(30)의 간격측정광원부(31)의 복수 광원(31a 내지 31n)을 순차적으로 제어하여 복수 개의 광원이 순차적으로 광을 출력하도록 하고, 스위치부(32)의 복수 광 스위치(32a 내지 32n)를 순차적으로 구동시켜 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격이 측정부(34)를 통해 순차적으로 전달되면 순차적으로 전달된 홀로그래픽 마스크(70)와 기판(80) 사이의 간격에 기초하여 스테이지 구동부(50)의 구동을 제 어한다.In addition, when the recording process is completed and the exposure process is started, the controller 40 sequentially controls the plurality of light sources 31a to 31n of the gap measurement light source unit 31 of the gap measurement module 30 to sequentially light the plurality of light sources. Outputs, and sequentially drives the plurality of optical switches 32a to 32n of the switch unit 32 so that an interval between the holographic mask 70 and the substrate 80 is sequentially transmitted through the measuring unit 34. The driving of the stage driver 50 is controlled based on the distance between the holographic mask 70 and the substrate 80 transferred to the substrate.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 홀로그래픽 노광 장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a holographic exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 홀로그래픽 노광 장치에 포함된 프리즘의 사시도이다.2 is a perspective view of a prism included in a holographic exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 홀로그래픽 노광 장치의 사시도이다.3 is a perspective view of a holographic exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 홀로그래픽 노광 장치에서 간격 측정 위치의 예시도이다. 4 is an exemplary view of a spacing measurement position in a holographic exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 홀로그래픽 노광 장치에 포함된 간격측정모듈의 구성도이다.5 is a block diagram of a gap measurement module included in a holographic exposure apparatus according to another embodiment of the present invention.

*도면의 주요부분에 대한 부호 설명*Description of the Related Art [0002]

10: 프리즘 20: 스테이지10: prism 20: stage

30: 간격측정모듈 40: 제어부30: gap measurement module 40: control unit

50: 스테이지 구동부 60: 노광 광원부50: stage driver 60: exposure light source

70: 홀로그래픽 마스크 80: 기판70: holographic mask 80: substrate

Claims (9)

프리즘;prism; 상기 프리즘에 장착되는 마스크;A mask mounted to the prism; 상기 마스크에 대향하여 설치되는 기판;A substrate provided to face the mask; 복수 개의 프로브와 상기 복수 개의 프로브에 대응하는 복수 개의 스위치를 구비하여 상기 마스크와 기판 사이의 간격을 복수 위치에서 측정하는 간격측정모듈을 포함하는 홀로그래픽 노광 장치.And a spacing measuring module having a plurality of probes and a plurality of switches corresponding to the plurality of probes to measure a distance between the mask and the substrate at a plurality of positions. 제1항에 있어서, 상기 간격측정모듈은,The method of claim 1, wherein the gap measurement module, 상기 복수 개의 스위치의 구동을 통해 상기 복수 개의 프로브를 선택적으로 구동시켜 상기 마스크와 기판 사이의 간격을 측정하는 홀로그래픽 노광 장치. And driving the plurality of probes selectively by driving the plurality of switches to measure a distance between the mask and the substrate. 제1항에 있어서, 상기 복수 개의 프로브는,The method of claim 1, wherein the plurality of probes, 고정 설치된 홀로그래픽 노광 장치. Fixed holographic exposure device. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 프리즘으로 광을 출력하는 광원부를 더 포함하고,Further comprising a light source unit for outputting light to the prism, 상기 마스크와 기판은 상기 프리즘을 통해 상기 광이 입사되면 입사된 광을 반사시키는 홀로그래픽 노광 장치. And the mask and the substrate reflect the incident light when the light is incident through the prism. 제4항에 있어서, 상기 간격측정모듈은The method of claim 4, wherein the gap measuring module 상기 마스크와 기판에서 반사된 광이 입사되면 입사된 광의 간섭을 이용하여 상기 마스크와 기판 사이의 간격을 복수 위치에서 측정하는 홀로그래픽 노광 장치.When the light reflected from the mask and the substrate is incident, the holographic exposure apparatus for measuring the distance between the mask and the substrate at a plurality of locations using the interference of the incident light. 제4항에 있어서, 상기 프리즘은,The method of claim 4, wherein the prism, 상기 광이 수직으로 입사되는 복수 개의 광 입사부를 가지는 홀로그래픽 노광 장치. And a plurality of light incidence portions in which the light is incident vertically. 제6항에 있어서, 상기 복수 개의 광 입사부는,The method of claim 6, wherein the plurality of light incident portion, 상기 복수 개의 프로브와 대응하여 설치된 홀로그래픽 노광 장치. And a holographic exposure apparatus installed corresponding to the plurality of probes. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 마스크를 이동시키는 스테이지;A stage for moving the mask; 상기 복수 위치에서 측정된 상기 마스크와 기판 사이의 간격에 따라 상기 스테이지의 구동을 제어하여 상기 마스크와 기판 사이의 간격을 조절하는 제어부를 더 포함하는 홀로그래픽 노광 장치.And a controller for controlling the distance between the mask and the substrate by controlling the driving of the stage according to the distance between the mask and the substrate measured at the plurality of positions. 제 1 항에 있어서, 상기 복수 개의 스위치는,The method of claim 1, wherein the plurality of switches, 옵티컬 스위치인 홀로그래픽 노광 장치.Holographic exposure device that is an optical switch.
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