KR20100098249A - Paint for measuring deformation of structure, tape comprising the same and deformation measuring method of structure using the same - Google Patents

Paint for measuring deformation of structure, tape comprising the same and deformation measuring method of structure using the same Download PDF

Info

Publication number
KR20100098249A
KR20100098249A KR1020090017315A KR20090017315A KR20100098249A KR 20100098249 A KR20100098249 A KR 20100098249A KR 1020090017315 A KR1020090017315 A KR 1020090017315A KR 20090017315 A KR20090017315 A KR 20090017315A KR 20100098249 A KR20100098249 A KR 20100098249A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
methacrylate
dielectric
deformation
polystyrene
measuring
Prior art date
Application number
KR1020090017315A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101217617B1 (en
Inventor
함승주
임윤묵
임윤철
박요셉
Original Assignee
연세대학교 산학협력단
(주)기술과가치
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 연세대학교 산학협력단, (주)기술과가치 filed Critical 연세대학교 산학협력단
Priority to KR1020090017315A priority Critical patent/KR101217617B1/en
Priority to PCT/KR2010/001299 priority patent/WO2010098647A2/en
Priority to JP2011551993A priority patent/JP5468091B2/en
Priority to US13/203,217 priority patent/US8671769B2/en
Publication of KR20100098249A publication Critical patent/KR20100098249A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101217617B1 publication Critical patent/KR101217617B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F1/00Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
    • H01F1/0036Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties showing low dimensional magnetism, i.e. spin rearrangements due to a restriction of dimensions, e.g. showing giant magnetoresistivity
    • H01F1/0045Zero dimensional, e.g. nanoparticles, soft nanoparticles for medical/biological use
    • H01F1/0063Zero dimensional, e.g. nanoparticles, soft nanoparticles for medical/biological use in a non-magnetic matrix, e.g. granular solids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38Pressure-sensitive adhesives [PSA]
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/16Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring the deformation in a solid, e.g. optical strain gauge
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B21/00Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant
    • G01B21/32Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant for measuring the deformation in a solid

Abstract

PURPOSE: Paint for measuring the deformation of a structure, tape comprising the same and a deformation measuring method of a structure using the same are provided to enable to be visually recognized the deformation of various industrial structures without a complex electric device simply. CONSTITUTION: Paint for measuring the deformation of a structure comprises optical crystal. The optical crystal is made through the arrangement of a first dielectric unit and a second dielectric unit according to a grid pattern. The second dielectric unit has a relative permittivity different from that of the first dielectric unit. The average particle diameter of the first dielectric unit is 80-200 nm. The first dielectric unit is polymer or polysiloxane induced to one or more monomers selected from a group consisting of styrene, (meta) esther acrylate and (meta) acrylamide. The first dielectric unit is amphipathic polystyrene/methacrylate block copolymer.

Description

구조물 변형 측정용 도료, 이를 포함하는 테이프 및 이를 이용한 구조물의 변형 측정방법{Paint for measuring deformation of structure, tape comprising the same and deformation measuring method of structure using the same}Paint for measuring the deformation of a structure, a tape comprising the same and a method for measuring the deformation of the structure using the same {Paint for measuring deformation of structure, tape comprising the same and deformation measuring method of structure using the same}

본 발명은 구조물 변형 측정용 도료, 이를 포함하는 테이프 및 이를 이용한 구조물의 변형 측정방법에 관한 것이다.The present invention relates to a paint for structural deformation measurement, a tape comprising the same and a method for measuring deformation of a structure using the same.

구조물은 공용 중에 사용하중에 의하여 변형이 발생한다. 이러한 변형은 여러 가지 하중과 하중 간의 조합에 의하여 나타나는데, 구조물이 기존에 받고 있던 하중에 의한 변형을 측정하는 것은 구조물의 상태를 판단하는데 있어서 매우 중요한 근거가 된다.The structure is deformed due to the working load during use. These deformations are caused by various loads and combinations of loads. Measuring the deformation caused by the loads that the structure is currently receiving is a very important basis in determining the state of the structure.

최근에 이르기까지 이와 같은 구조물의 변형을 측정하는 방법에 대한 개발이 지속적으로 연구되어 왔으나, 종래 이와 같은 구조물의 변형을 측정하는 방법은 전기적인 장치를 이용하여 측정하는 것으로서, 여러 가지 복잡한 전기장치를 도입하여 구조물의 변형을 측정하여야 했기 때문에 구조물의 변형에 즉각적으로 대응하기 어렵고, 번거롭다는 문제점이 있었다.Until recently, the development of a method for measuring the deformation of such a structure has been continuously studied, but conventionally, the method of measuring the deformation of such a structure is measured by using an electrical device. Since the deformation of the structure had to be measured by introduction, it was difficult to deal with the deformation of the structure immediately and was troublesome.

즉, 종래에는 주로 전기저항의 변화를 이용한 포일 형식의 변형 측정장치를 이용하여 구조물의 변형을 측정하였기 때문에 변형이 일어났을 때 즉각적으로 이를 식별할 수가 없었고, 복잡한 전기장치를 이용하여 주기적으로 측정함으로써 변형 여부를 확인하였기 때문에, 구조물의 변형에 따른 안전사고의 예방에 미흡한 측면이 있었다.That is, conventionally, since the deformation of the structure was measured using a foil-type deformation measuring device mainly using a change in electrical resistance, it was not immediately possible to identify the deformation, and by periodically measuring by using a complicated electric device. Since the deformation was confirmed, there was an inadequate aspect in preventing safety accidents caused by the deformation of the structure.

따라서, 복잡한 전기장치를 사용하지 않고, 보다 쉽고 용이하게 구조물의 변형 여부를 측정할 수 있는 기술의 개발이 요구되고 있는 실정이다.Therefore, there is a demand for the development of a technology capable of easily and easily measuring the deformation of a structure without using a complicated electric device.

본 발명은 상술한 기술개발의 필요성을 충족시키고자 창출된 것으로서, 구조물의 변형이 일어나는 경우에 이에 반응하여 외부에서 시각적으로 변형 여부를 확인할 수 있게 해주는 구조물 변형 측정용 도료를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention was created to meet the necessity of the above-described technology development, and the object of the present invention is to provide a structural deformation measurement paint that can visually determine whether the deformation from the outside in response to the deformation of the structure occurs. .

또한, 본 발명의 다른 목적은 상기와 같은 도료를 포함하고, 변형을 측정하고자 하는 구조물의 표면에 부착됨으로써 쉽게 구조물의 변형 여부를 측정할 수 있도록 해주는 테이프를 제공하는 것이다.In addition, another object of the present invention is to provide a tape including the paint as described above, by being attached to the surface of the structure to measure the deformation to easily determine whether or not the deformation of the structure.

또한, 본 발명의 또 다른 목적은 상기와 같은 도료를 이용하여 구조물의 변형 여부를 측정하는 구조물의 변형 측정방법을 제공하는 것이다.In addition, another object of the present invention is to provide a method for measuring deformation of a structure for measuring whether the structure is deformed using the paint as described above.

본 발명은 상술한 과제를 해결하기 위한 수단으로서, 제1유전체 및 상기 제1유전체와 상이한 비유전율을 갖는 제2유전체가 격자 패턴에 따라 일정하게 배열된 광결정을 포함하는 구조물 변형 측정용 도료를 제공한다.The present invention provides a paint for structural deformation measurement comprising a photonic crystal in which a first dielectric and a second dielectric having a different dielectric constant different from that of the first dielectric are regularly arranged according to a lattice pattern. do.

또한, 본 발명은 상기 과제를 해결하기 위한 다른 수단으로서, 기재; 및 상기 기재의 표면에 형성되고, 본 발명의 도료를 함유하는 코팅층을 포함하는 구조물 변형 측정용 테이프를 제공한다.In addition, the present invention is another means for solving the above problems, the base material; And a coating layer formed on the surface of the substrate and including a coating layer containing the paint of the present invention.

뿐만 아니라, 본 발명은 상기 과제를 해결하기 위한 또 다른 수단으로서, 본 발명에 따른 도료를 기재의 표면에 형성하는 제 1 단계; 상기 도료가 형성된 기재 를 변형 측정대상 구조물 표면 상에 배치하는 제 2 단계; 및 상기 도료의 구조색 변화 여부를 측정하는 제 3 단계를 포함하는 구조물의 변형 측정방법을 제공한다.In addition, the present invention is another means for solving the above problems, the first step of forming a paint according to the invention on the surface of the substrate; A second step of disposing the substrate on which the paint is formed on the surface of the deformation measurement structure; And a third step of measuring whether the structural color of the paint changes.

본 발명에 의하면, 복잡한 전기장치를 사용하지 않아도 다양한 산업 구조물의 변형을 보다 쉽고 간편하게 시각적으로 확인할 수 있을 뿐 아니라, 구조물의 변형으로 인한 안전사고를 미연에 방지할 수 있어 구조물 등의 시설 관리에 용이하게 적용할 수 있다.According to the present invention, it is not only possible to visually check the deformation of various industrial structures more easily and conveniently without using complicated electric devices, but also to prevent safety accidents due to the deformation of the structure in advance. Can be applied.

이하 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Prior to this, terms or words used in the specification and claims should not be construed as having a conventional or dictionary meaning, and the inventors should properly explain the concept of terms in order to best explain their own invention. Based on the principle that can be defined, it should be interpreted as meaning and concept corresponding to the technical idea of the present invention.

따라서 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, the embodiments described in the specification and the drawings shown in the drawings are only the most preferred embodiments of the present invention and do not represent all of the technical idea of the present invention, various equivalents that may be substituted for them at the time of the present application It should be understood that there may be water and variations.

이하, 도 1 내지 도 2를 참고하여 본 발명의 일 실시예에 따른 구조물 변형 측정용 도료 및 이를 이용한 구조물의 변형 측정방법을 설명하도록 한다.Hereinafter, the paint for structural deformation measurement and the method for measuring deformation of a structure using the same according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 2.

본 발명에 따른 구조물 변형 측정용 도료는 전술한 바와 같이, 제1유전체 및 상기 제1유전체와 상이한 비유전율을 갖는 제2유전체가 격자 패턴에 따라 일정하게 배열된 광결정을 포함한다.As described above, the paint for structural deformation measurement includes a photonic crystal in which a first dielectric and a second dielectric having a different dielectric constant different from that of the first dielectric are constantly arranged according to a lattice pattern.

여기서, 상기 광결정(photonic crystal)이란, 물질의 광학적인 성질을 이용할 수 있는 구조를 갖고 있거나 구조를 갖도록 만들어낸 물질을 말한다. 즉, 광결정은 빛의 반파장 정도의 주기성을 가지고 공간적으로 반복되는 2가지 이상의 유전체로 구성된 격자구조를 형성한다.Here, the photonic crystal refers to a material having a structure that can utilize the optical properties of the material or made to have a structure. That is, the photonic crystal forms a lattice structure composed of two or more dielectrics that are spatially repeated with a periodicity of about half the wavelength of light.

이하, 본 발명에 따른 광결정에 대해서 보다 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the photonic crystal according to the present invention will be described in more detail.

일반적으로 물체의 색은 그 물체에 도달하는 가시광선 중에서 반사되는 빛의 파장의 색깔이라고 할 수 있다. 모든 파장의 빛이 함께 있을 때에 가시광선은 밝고 투명한 색인데, 이와 같이 간섭을 일으키는 이유는 빛이 입자이면서 동시에 파동의 성질을 가지기 때문이다.In general, the color of an object can be said to be the color of the wavelength of light reflected from visible light reaching the object. Visible light is a bright and transparent index when light of all wavelengths is present. The reason for this interference is that light is a particle and at the same time a wave.

이 때, 상쇄간섭을 일으키는 파장의 빛은 소멸되고 보강간섭을 일으키는 파장의 빛은 반사되는데, 반사되는 빛이 파란색이면 파란색이 존재하지 않는다 하더라도 파란색으로 보인다.At this time, the light of the wavelength causing the offset interference is extinguished and the light of the wavelength causing the constructive interference is reflected. If the reflected light is blue, it appears blue even though blue does not exist.

이와 같이 빛의 회절, 간섭, 산란 현상과 같은 물리적인 현상에 의해 색깔을 띄는 것을 구조색이라고 하는데, 이러한 구조색은 실제 색소에 의한 것은 아니고 비누방울의 얇은 막 반사에 따른 간섭으로 인하여 색상이 나타날 수 있다.The structural color that is colored by physical phenomena such as diffraction, interference, and scattering of light is called a structural color. The color of the structural color is not caused by a real pigment but appears due to interference due to reflection of a thin film of soap bubbles. Can be.

구조색을 띄는 물질 중 전자현미경으로 확대하여 봤을 때 규칙적인 배열이 나타나는 경우가 있는데 이 물질에 빛을 비추면 특정파장의 빛만 반사되고 나머지는 통과한다. 이러한 기하학적인 구조를 광구조(photonic structure)라 하며, 상기 광구조가 규칙적인 배열을 가지고 3차원으로 펼쳐진 모습을 광결정이라 한다.Among the materials with a structural color, there is a case where a regular array appears when magnified with an electron microscope. When light is emitted to the material, only light of a specific wavelength is reflected and the rest passes. Such a geometrical structure is called a photonic structure, and a state in which the optical structure is unfolded in three dimensions with a regular arrangement is called a photonic crystal.

본 발명에서 광결정은 제1유전체 및 상기 제1유전체와 상이한 비유전율을 갖는 제2유전체가 격자 패턴에 따라 일정하게 배열된다.In the present invention, in the photonic crystal, a first dielectric and a second dielectric having a different dielectric constant different from that of the first dielectric are constantly arranged according to the lattice pattern.

여기서, 제1유전체 및 제2유전체가 격자 패턴에 따라 일정하게 배열된 형태에 대해서 도 1을 참고하여 설명하면, 도 1의 (a)에 나타난 바와 같이, 제1유전체 및 제2유전체가 D1의 간격으로 일정하게 배열된 구조를 의미한다.Herein, a form in which the first dielectric and the second dielectric are uniformly arranged according to the lattice pattern will be described with reference to FIG. 1. As shown in FIG. 1A, the first dielectric and the second dielectric are formed of D1. It means a structure arranged at regular intervals.

즉, 도료에 포함된 제1유전체가 일정한 간격으로 배열되고, 상기 제1유전체의 공극에 제2유전체가 배열되어 격자 패턴으로 배열된 형태를 의미하며, 이와 같이 유전체가 상호 교대로 격자 패턴을 형성하며, 일정하게 배열된 광결정은 일정한 주기성에 따라 굴절율이 변하므로 특정한 파장의 빛을 반사함으로써 구조색을 나타낸다.That is, the first dielectrics included in the paint are arranged at regular intervals, and the second dielectrics are arranged in a lattice pattern in the gaps of the first dielectrics. Thus, the dielectrics alternately form lattice patterns. In addition, since the refractive index varies according to a certain periodicity, the regularly arranged photonic crystal exhibits a structure color by reflecting light of a specific wavelength.

따라서, 도 1의 (b)에서와 같이 상기 도료의 특정부위에서 변형이 일어나 제1유전체와 제2유전체간의 입자 간격이 D2로 변하게 되는 경우, 일정하게 배열된 광결정 구조가 변형되게 되므로 종전 특정한 파장의 빛을 반사하지 못하고, 광결정 구조의 변형이 일어난 부분의 반사광이 영향을 받게 된다.Therefore, as shown in (b) of FIG. 1, when a deformation occurs at a specific portion of the paint to change the particle spacing between the first dielectric and the second dielectric to D2, the photonic crystal structure is constantly arranged so that the specific wavelength is changed. Can not reflect the light, the reflected light of the portion where the deformation of the photonic crystal structure is affected.

따라서 광결정 구조의 배열 간격이 바뀌고, 이에 따라 광결정 구조를 구성하던 제1유전체 및 제2유전체 간의 간극도 변하게 되므로 광학적인 변화가 일어나게 되며, 이에 따라 변형이 일어나기 전에 보강간섭을 일으키던 특정한 파장의 반사광 과 다른 파장의 빛을 반사하게 된다.Therefore, the arrangement interval of the photonic crystal structure is changed, and thus the gap between the first dielectric material and the second dielectric material constituting the photonic crystal structure is also changed, resulting in an optical change. As a result, reflected light of a specific wavelength that causes reinforcement interference before deformation occurs. It reflects light of different wavelengths.

따라서, 상기 변형이 발생된 부분에서는 광결정의 특성에 따라 다른 파장의 빛을 반사하게 되며, 이에 따라 종전 구조색과 다른 색을 나타내게 된다.Therefore, in the portion where the deformation occurs, the light of different wavelengths is reflected according to the characteristics of the photonic crystal, and thus the color is different from the previous structure color.

본 발명에 따른 구조물 변형 측정용 도료는 이러한 광결정의 특성을 이용한 것으로서, 상기 광결정의 원리를 보다 구체적으로 설명하면, 전자기파(또는 빛)는 자유공간에서 각속도 (angular frequency, ω = 2πf )와 파수(wave number, k=2πλ0) 사이에 하기 수학식 1과 같은 관계를 가질 수 있고, 본 발명에서는 이를 『광 분산관계(photon dispersion relation)』라 한다.The paint for structural deformation measurement according to the present invention uses the characteristics of the photonic crystal, and when the principle of the photonic crystal is explained in more detail, electromagnetic waves (or light) are angular frequency (ω = 2π f ) and wave number in free space. (wave number, k = 2πλ 0 ) may have a relationship as shown in Equation 1 below, which is referred to as " photon dispersion relation " in the present invention.

[수학식 1][Equation 1]

ω = ckω = ck

여기서, c는 빛의 속도이다.Where c is the speed of light.

도 2를 참고하면, 굴절률이 n인 물질(A)에서는 상기 수학식 1의 빛의 속도 c 대신에 (c/n)을 사용하므로 빛의 파장에 대해 진동수(f)는 항상 선형의 함수관계를 가지게 된다.Referring to FIG. 2, in the material A having a refractive index n, (c / n) is used instead of the speed c of Equation 1, the frequency f always has a linear function relationship with respect to the wavelength of light. To have.

그러나 간극의 변형에 따라 굴절률이 균일하지 않은 물질(B)에서는 선형 함수관계가 깨어지게 되는데, 도 2에 나타난 바와 같이 물질의 유전상수 또는 굴절률이 주기적으로 변하는 경우 두 물리량의 관계가 더 이상 선형을 유지하지 못하고 비선형 함수 관계로 변하게 된다.However, the linear functional relationship is broken in the material (B) having a non-uniform refractive index according to the deformation of the gap. When the dielectric constant or refractive index of the material is periodically changed as shown in FIG. 2, the relationship between two physical quantities is no longer linear. It can't be maintained and will be converted into a nonlinear function relationship.

여기서, 특정 각속도 영역(G)은 파수와 일대일 대응을 못하게 되어 불연속 함수가 되는데, 이와 같은 불연속의 진동수 영역에 있는 빛은 해당 구조의 물질에서는 x축의 어떤 파수와도 함수관계에 있지 못하게 된다.Here, the specific angular velocity region G does not have a one-to-one correspondence with the wave number, and thus becomes a discontinuous function. The light in the discontinuous frequency region does not have a functional relationship with any wave number on the x-axis in the material of the structure.

따라서 불연속 영역에 해당하는 주파수를 갖는 빛이 일정한 굴절률을 갖는 판에 수직 방향으로 입사할 경우, 어떠한 파수도 존재할 수 없으므로 내부로 들어가지 못하고 완전히 반사된다. 이 각속도 (또는 진동수) 영역을 광 밴드갭(photonic band gap, 광자띠 간격)이라 부르는데, 광결정은 이와 같이 광 밴드갭을 가진 물질이다. Therefore, when light having a frequency corresponding to the discontinuous region is incident on the plate having a constant refractive index in the vertical direction, no wave can exist and thus cannot be penetrated into the inside and is completely reflected. This angular velocity (or frequency) region is called the photonic band gap, and the photonic crystal is a material having such an optical band gap.

상기 광밴드갭의 위치는 굴절률의 차이 또는 광결정의 주기에 따라 변하게 된다.The position of the optical band gap is changed depending on the difference in refractive index or the period of the photonic crystal.

즉, 복잡한 구조의 물질에 대한 광밴드갭 또는 광분산관계를 찾는 경우에도 이와 같은 광결정의 주기가 반복된다면, 해당 구조에 대하여 전자기파의 거시 거동을 설명하는 맥스웰(Maxwell) 방정식의 해를 구하고, 이를 통하여 얻어지는 고유모드의 주파수를 전파 방향의 파수 벡터 함수로 계산함으로써 주어진 물질의 광 분산관계를 얻을 수 있다.In other words, if the cycle of the photonic crystal is repeated even in the case of finding the optical bandgap or optical dispersion relationship for a material having a complicated structure, the Maxwell equation for explaining the macroscopic behavior of electromagnetic waves is solved. By calculating the frequency of the eigen mode obtained through the wave vector function in the propagation direction, the light dispersion relation of a given material can be obtained.

따라서, 본 발명의 구조물 변형 측정용 도료는 특정한 파장의 빛을 반사하도록 일정한 주기에 따라 격자 패턴으로 배열된 제1유전체 및 제2유전체를 갖는 광결정을 포함하므로 구조물의 표면에 균일하게 도포된 상태에서 상기 구조물의 일부에 변형이 발생하는 경우, 광결정의 특성에 의해 구조색이 다르게 나타나기 때문에 육안으로도 즉각적으로 구조물의 변형여부를 확인할 수 있다.Therefore, the structural deformation measurement paint of the present invention includes a photonic crystal having a first dielectric and a second dielectric arranged in a lattice pattern at regular intervals to reflect light of a specific wavelength, so that the coating material is uniformly applied to the surface of the structure. When deformation occurs in a part of the structure, since the structure color is different depending on the characteristics of the photonic crystal, it is possible to immediately check whether the structure is deformed.

상기 제1유전체의 크기는 특별히 제한되는 것은 아니고, 사용 용도에 따라 이 분야에서 광결정을 형성하기 위하여 통상적으로 적용될 수 있는 입자 크기가 적용될 수 있으며, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면, 평균 입경이 80 내지 200 nm인 것일 수 있다.The size of the first dielectric is not particularly limited, and particle sizes that may be commonly applied to form photonic crystals in this field may be applied depending on the intended use, and are not particularly limited. It may be 80 to 200 nm.

여기서, 상기 제1유전체로 사용되는 물질의 종류도 상기와 같은 광결정을 형성할 수 있는 물질을 모두 포함할 수 있으며, 그 종류가 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면, 스티렌, (메타)아크릴산 에스테르 및 (메타)아크릴아마이드로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 단량체로 유도된 폴리머 또는 폴리실록산을 사용할 수 있다.Here, the kind of the material used as the first dielectric may include all of the materials capable of forming the photonic crystal as described above, but the kind thereof is not particularly limited, but for example, styrene or (meth) acrylic acid ester And (meth) acrylamide may be used a polymer or polysiloxane derived from one or more monomers selected from the group consisting of.

보다 구체적인 예를 들면, 상기 제1유전체는 폴리스티렌, 폴리알파메틸스티렌, 폴리아크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리벤질메타크릴레이트, 폴리페닐메타크릴레이트, 폴리-1-메타시클로헥실메타크릴레이트, 폴리시클로헥실메타크릴레이트, 폴리클로로벤질메타크릴레이트, 폴리-1-페닐에틸메타크릴레이트, 폴리-1,2-디페닐에틸메타크릴레이트, 폴리디페닐메틸메타크릴레이트, 폴리퍼퓨릴메타크릴레이트, 폴리-1-페닐시클로헥실메타크릴레이트, 폴리펜타클로로페닐메타크릴레이트, 폴리펜타브로모페닐메타크릴레이트, 폴리디메틸실록산 및 폴리-N-이소프로필아크릴아미드로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있고, 바람직하게는 폴리스티렌일 수 있다.For example, the first dielectric may be polystyrene, polyalphamethylstyrene, polyacrylate, polymethylmethacrylate, polybenzyl methacrylate, polyphenylmethacrylate, poly-1-methacyclohexyl methacrylate. , Polycyclohexyl methacrylate, polychlorobenzyl methacrylate, poly-1-phenylethyl methacrylate, poly-1,2-diphenylethyl methacrylate, polydiphenylmethyl methacrylate, polyperfuryl methacrylate At least one selected from the group consisting of acrylate, poly-1-phenylcyclohexyl methacrylate, polypentachlorophenyl methacrylate, polypentabromophenyl methacrylate, polydimethylsiloxane and poly-N-isopropylacrylamide And preferably polystyrene.

폴리스티렌은 고분자의 물성이 변하는 유리전이온도가 95℃이므로 주변 온도변화에 영향을 받지 않고, 범용적으로 사용할 수 있으며, 320 내지 330℃ 이상에서 분해능을 가지므로 내구성도 우수하다는 장점이 있어 구조물의 변형을 측정하기 위 해 코팅되는 도료에 함유되는 물질로서 바람직하게 사용될 수 있다.Polystyrene has a glass transition temperature that changes the physical properties of the polymer is 95 ℃, so it is not affected by changes in ambient temperature and can be used universally. It can be preferably used as a material contained in the coating to be coated to measure the.

나아가, 보다 바람직하게는 상기 제1유전체는 양친매성의 폴리스티렌/메틸아크릴레이트 블록공중합체일 수 있다.Furthermore, more preferably, the first dielectric may be an amphiphilic polystyrene / methylacrylate block copolymer.

폴리스티렌과 메틸아크릴레이트를 반응시켜 합성한 폴리스티렌/메틸아크릴레이트 블록공중합체는 강도가 우수하며, 구조물의 표면에 도료 또는 접착제 등의 형태로 도포되는 경우, 보다 우수한 내구성을 제공할 수 있으며, 상기 원자이동라디칼 중합에 의해 합성된 폴리스티렌/메틸아크릴레이트 블록공중합체를 가수분해 반응시킴으로써 양친매성의 폴리스티렌/메틸아크릴레이트 블록공중합체를 얻을 수 있다.The polystyrene / methylacrylate block copolymer synthesized by reacting polystyrene with methyl acrylate is excellent in strength and, when applied to the surface of the structure in the form of a paint or an adhesive, can provide more durability. Amphiphilic polystyrene / methylacrylate block copolymer can be obtained by hydrolyzing the polystyrene / methylacrylate block copolymer synthesized by mobile radical polymerization.

상기 양친매성의 폴리스티렌/메틸아크릴레이트 블록공중합체는 폴리스티렌 100 중량부에 대하여, 메틸 아크릴레이트 5 중량부 내지 50 중량부를 함유할 수 있고, 바람직하게는 폴리스티렌 100 중량부에 대하여, 메틸 아크릴레이트 10 중량부 내지 12 중량부를 함유할 수 있다.The amphipathic polystyrene / methyl acrylate block copolymer may contain 5 parts by weight to 50 parts by weight of methyl acrylate based on 100 parts by weight of polystyrene, preferably 10 parts by weight of methyl acrylate based on 100 parts by weight of polystyrene. It may contain 12 to 12 parts by weight.

상기 메틸아크릴레이트가 상기 폴리스티렌 100 중량부에 대하여, 5 중량부 미만으로 함유되는 경우 음전하로 하전된 입자 표면의 척력이 감소함으로써 광결정 형태로 배열이 어려워질 수 있고, 50 중량부를 초과하여 함유되는 경우, 체인이 너무 길어지기 때문에 엉김 현상이 나타날 우려가 있다.When the methyl acrylate is contained less than 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polystyrene, the repulsive force of the negatively charged particle surface may be reduced, making it difficult to arrange in the form of photonic crystals, when contained in more than 50 parts by weight If the chain is too long, there is a risk of entanglement.

한편, 상기 폴리스티렌/메틸아크릴레이트 블록공중합체의 분자량은 특별히 제한되는 것은 아니지만, 20,000 내지 30,000인 것이 바람직하다.On the other hand, the molecular weight of the polystyrene / methyl acrylate block copolymer is not particularly limited, but is preferably 20,000 to 30,000.

상기 분자량이 20,000 미만인 경우에는 직경이 80 nm 이상인 나노 입자를 만 들기가 어려워 그 효용성이 떨어질 수 있고, 30,000을 초과하는 경우, 직경 300 nm 이상의 나노 입자가 제조되므로 마찬가지로 효용성 면에서 적합하지 않을 수 있다.When the molecular weight is less than 20,000, it is difficult to make nanoparticles having a diameter of 80 nm or more, and thus the utility thereof may be degraded. When the molecular weight exceeds 30,000, nanoparticles having a diameter of 300 nm or more may be prepared, and thus may not be suitable in terms of their effectiveness. .

한편, 상기 제2유전체는 상기 제1유전체와 상이한 비유전율을 가지는 물질로서, 상술한 제1유전체와 같이, 광결정 구조를 형성할 수 있는 모든 입자를 포함할 수 있으며, 그 종류가 특별히 제한되는 것은 아니다.On the other hand, the second dielectric is a material having a relative dielectric constant different from that of the first dielectric, and may include all particles capable of forming a photonic crystal structure, like the first dielectric described above, and the kind thereof is particularly limited. no.

또한, 제2유전체로 사용되는 물질의 함량, 분자량 및 평균 입경도 상기 제1유전체에 대해서 예시한 것들을 적절하게 선택하여 채용할 수 있으며, 특별히 제한되는 것은 아니다.In addition, the content, molecular weight, and average particle diameter of the material used as the second dielectric may be appropriately selected and employed as those exemplified for the first dielectric, and are not particularly limited.

또한, 본 발명은 기재; 및 상기 기재의 표면에 형성되고, 본 발명의 도료를 함유하는 코팅층을 포함하는 구조물 변형 측정용 테이프에 관한 것이다.In addition, the present invention; And a coating layer formed on the surface of the substrate and comprising a coating layer containing the coating material of the present invention.

상기 테이프는 구조물 측정에 사용할 수 있는 통상적인 테이프가 모두 포함할 수 있으며, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 바람직하게는 응력에 민감한(stress-sensitive) 테이프를 사용할 수 있다.The tape may include all conventional tapes that can be used for structure measurement, and is not particularly limited, but may preferably be a stress-sensitive tape.

즉, 상기 테이프는 일면에 상기 도료가 균일하게 도포되고, 타면이 구조물의 표면에 부착되므로 구조물에 변형이 생기는 경우, 이에 민감하게 반응하여 구조물과 함께 변형됨으로써 상기 도료에 포함된 제1유전체와 제2유전체의 입자 간 간격변화를 일으키며, 이에 따라 변형이 일어난 부분의 구조색이 변하게 되는 테이프를 사용하는 것이 바람직하다.That is, the tape is uniformly coated on one surface, and the other surface is attached to the surface of the structure, so that when the deformation occurs in the structure, the tape is sensitively deformed and deformed together with the structure so that the first dielectric and the agent contained in the paint It is preferable to use a tape which causes a change in the spacing between the particles of the dielectric material, whereby the structural color of the portion where the deformation is changed is changed.

이와 같은 구조물 변형 측정용 테이프를 다양한 산업분야의 구조물에 부착하 여 구조물의 변형 측정에 이용하는 경우, 보다 쉽고 용이하게 구조물의 변형여부를 측정할 수 있다.When the structure deformation measuring tape is attached to structures of various industries and used to measure the deformation of the structure, it is easier and easier to measure the deformation of the structure.

여기서, 상기 기재 표면에 형성되는 코팅층의 두께는 특별히 제한되는 것은 아니고, 구조색의 확인이 가능한 범위 내에서 다양한 두께로 형성될 수 있으나, 바람직하게는 5 내지 10 ㎛의 두께로 형성될 수 있다.Here, the thickness of the coating layer formed on the surface of the substrate is not particularly limited, and may be formed in various thicknesses within a range capable of identifying the structural color, but may be preferably formed in a thickness of 5 to 10 μm.

상기 코팅층의 두께가 5 ㎛ 미만인 경우 광결정의 특성을 나타낼 수 있을 만큼의 세기가 관찰되지 않을 수 있으며, 10 ㎛를 초과하는 경우, 광결정의 민감도에 영향을 미쳐 광결정의 특성을 발휘하지 못할 우려가 있다.If the thickness of the coating layer is less than 5 ㎛ may not be observed as strong enough to exhibit the characteristics of the photonic crystal, if it exceeds 10 ㎛ may affect the sensitivity of the photonic crystal may not exhibit the characteristics of the photonic crystal. .

뿐만 아니라 본 발명은 또한, 본 발명에 따른 도료를 기재의 표면에 형성하는 제 1 단계; 상기 도료가 형성된 기재를 변형 측정대상 구조물 표면 상에 배치하는 제 2 단계; 및 상기 도료의 구조색 변화 여부를 측정하는 제 3 단계를 포함하는 구조물의 변형 측정방법에 관한 것이다.In addition, the present invention also comprises a first step of forming a coating according to the invention on the surface of the substrate; A second step of disposing the substrate on which the paint is formed on the surface of the deformation measurement structure; And a third step of measuring whether or not the structural color of the paint changes.

본 발명의 일 실시예에 따른 구조물의 변형 측정방법에 의하면, 우선, 상술한 바와 같은 광결정을 포함하는 도료를 준비하고, 상기 도료를 기재의 표면에 형성한다.According to the deformation measurement method of a structure according to an embodiment of the present invention, first, a paint including the photonic crystal as described above is prepared, and the paint is formed on the surface of the substrate.

상기 광결정은 이 분야에서 공지된 방법을 통하여 이를 구성하는 입자를 일정한 간격으로 배열함으로써 제조할 수 있으며, 상기 광결정의 제조방법이 특별히 제한되는 것은 아니다.The photonic crystal may be prepared by arranging particles constituting the same at regular intervals through a method known in the art, and the manufacturing method of the photonic crystal is not particularly limited.

예를 들면, 1차원 광결정 구조의 경우, 상이한 비유전율을 가지는 제1유전체 와 제2유전체를 격자 패턴으로 층층이 쌓음으로써 간단하게 형성할 수 있고, 기타 2차원 및 3차원 광결정 구조를 형성하는 방법도 이 분야에서 공지된 방법을 적절하게 채용하여 구현할 수 있다. 특히, 3차원 광결정 구조를 제작하는 방법의 예로써 실리카 스피어(silica sphere) 방법이 이용될 수 있다.For example, in the case of the one-dimensional photonic crystal structure, the first dielectric material and the second dielectric material having different relative dielectric constants can be easily formed by stacking layers in a lattice pattern, and other methods of forming two-dimensional and three-dimensional photonic crystal structures are also available. Methods known in the art can be appropriately employed and implemented. In particular, a silica sphere method may be used as an example of a method of manufacturing a three-dimensional photonic crystal structure.

한편, 상기 기재의 종류는 특별히 제한되는 것은 아니며, 테이프 등과 같이 구조물에 부착하여 사용할 수 있는 다양한 소재일 수 있다. 따라서, 본 발명의 제 1 단계에서는 상기 도료를 기재 상에 균일하게 도포할 수 있다.On the other hand, the type of the substrate is not particularly limited, and may be a variety of materials that can be used to attach to the structure, such as tape. Therefore, in the first step of the present invention, the paint can be uniformly applied onto the substrate.

이어서, 제 2 단계는 상기 기재를 변형 측정대상 구조물의 표면에 부착할 수 있다.Subsequently, the second step may attach the substrate to the surface of the deformation measurement structure.

여기서, 변형 측정대상 구조물이란, 변형 여부를 측정하고자 하는 대상 구조물을 의미한다.Here, the deformation measurement target structure means a target structure to measure the deformation.

이와 같이, 구조물의 표면에 기재를 부착하면, 상기 구조물의 변형에 따라 변화되는 상기 도료의 구조색의 변화를 측정하여 상기 구조물의 변형여부를 측정할 수 있다.As such, when the substrate is attached to the surface of the structure, it is possible to determine whether the structure is deformed by measuring a change in the color of the structure of the paint, which changes according to the deformation of the structure.

이하, 하기 제조예를 참고하여 본 발명의 일 실시예에 따른 구조물 변형 측정용 도료에 포함되는 광결정을 구성하는 제1유전체의 제조방법을 자세하게 설명하도록 한다.Hereinafter, a method of manufacturing the first dielectric constituting the photonic crystal included in the coating for structural deformation measurement according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the following preparation example.

제조예 1 제1유전체의 제조Preparation Example 1 Preparation of First Dielectric

20 ml의 테트라 하이드로 퓨란(THF) 용매에 폴리스티렌 10.46 ml와 메틸아크 릴레이트 0.07 ml를 질소가스가 환류되는 반응기 내에서 온도를 85℃로 유지하고, 자석 교반기로 6시간 동안 교반함으로써 반응시켰다. 이어서, 얻어진 고분자를 과량의 메탄올에 침전하고, 여과한 후 건조시켜 폴리스티렌/메틸아크릴레이트 블록공중합체를 합성하였다.In 20 ml of tetrahydrofuran (THF) solvent, 10.46 ml of polystyrene and 0.07 ml of methyl arcrate were reacted by maintaining the temperature at 85 ° C. in a reactor where nitrogen gas was refluxed and stirring for 6 hours with a magnetic stirrer. Subsequently, the obtained polymer was precipitated in excess methanol, filtered and dried to synthesize a polystyrene / methylacrylate block copolymer.

상기 합성된 폴리스티렌/메틸아크릴레이트 블록공중합체를 취득하여 염화메틸렌(methylene chloride) 20 ml에서 녹인 후, 0℃를 유지한 상태에서 트리플루오르아세트산(TFA) 10 ml을 첨가하여 24시간 동안 반응시켰다.The synthesized polystyrene / methylacrylate block copolymer was obtained and dissolved in 20 ml of methylene chloride, and 10 ml of trifluoroacetic acid (TFA) was added thereto while maintaining the reaction at 0 ° C. for 24 hours.

이 후, 얻어진 블록공중합체를 노말헥산(n-Hexane) 500 ml에서 강한 교반을 통하여 침전시킴으로써 양친매성의 폴리스티렌/메틸아크릴레이트 블록공중합체를 합성하였다.Then, the amphiphilic polystyrene / methylacrylate block copolymer was synthesized by precipitating the obtained block copolymer in 500 ml of normal hexane (n-Hexane) through vigorous stirring.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 구조물 변형 측정용 도료가 도포된 테이프에 변형이 일어남에 따라 입자 간의 간격이 변하는 상태를 나타낸 개략도이고,1 is a schematic diagram showing a state in which the spacing between particles changes as deformation occurs in the tape to which the coating material for structural deformation measurement according to an embodiment of the present invention is applied,

도 2는 각각 굴절률이 균일한 물질(A) 및 광결정 물질(B)의 광 분산관계를 나타낸 그래프이다.2 is a graph showing the light dispersion relation between the material A and the photonic crystal material B having uniform refractive indices, respectively.

Claims (16)

제1유전체; 및 상기 제1유전체와 상이한 비유전율을 갖는 제2유전체가 격자 패턴에 따라 일정하게 배열된 광결정을 포함하는 구조물 변형 측정용 도료.A first dielectric; And a photonic crystal in which a second dielectric having a relative dielectric constant different from that of the first dielectric is uniformly arranged according to a lattice pattern. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 제1유전체는 평균 입경이 80 내지 200 nm인 것을 특징으로 하는 구조물 변형 측정용 도료.The first dielectric material has a structure having a mean particle size of 80 to 200 nm, the deformation coating material. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 제1유전체는 스티렌, (메타)아크릴산 에스테르 및 (메타)아크릴아마이드로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 단량체로 유도된 폴리머 또는 폴리실록산인 것을 특징으로 하는 구조물 변형 측정용 도료.The first dielectric material is a structural deformation measurement paint, characterized in that the polymer or polysiloxane derived from at least one monomer selected from the group consisting of styrene, (meth) acrylic acid ester and (meth) acrylamide. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 제1유전체는 폴리스티렌, 폴리알파메틸스티렌, 폴리아크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리벤질메타크릴레이트, 폴리페닐메타크릴레이트, 폴리-1-메타시클로헥실메타크릴레이트, 폴리시클로헥실메타크릴레이트, 폴리클로로벤질메타크릴레이트, 폴리-1-페닐에틸메타크릴레이트, 폴리-1,2-디페닐에틸메타크릴레이트, 폴리디페닐메틸메타크릴레이트, 폴리퍼퓨릴메타크릴레이트, 폴리-1-페닐시클로헥실메 타크릴레이트, 폴리펜타클로로페닐메타크릴레이트, 폴리펜타브로모페닐메타크릴레이트, 폴리디메틸실록산 및 폴리-N-이소프로필아크릴아미드로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 구조물 변형 측정용 도료.The first dielectric material is polystyrene, polyalphamethylstyrene, polyacrylate, polymethyl methacrylate, polybenzyl methacrylate, polyphenyl methacrylate, poly-1-methacyclohexyl methacrylate, polycyclohexyl methacrylate , Polychlorobenzyl methacrylate, poly-1-phenylethyl methacrylate, poly-1,2-diphenylethyl methacrylate, polydiphenylmethyl methacrylate, polyperfuryl methacrylate, poly-1- Structural modifications characterized in that it is at least one selected from the group consisting of phenylcyclohexyl methacrylate, polypentachlorophenylmethacrylate, polypentabromophenylmethacrylate, polydimethylsiloxane and poly-N-isopropylacrylamide Measuring paints. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 제1유전체는 양친매성의 폴리스티렌/메타아크릴레이트 블록공중합체인 것을 특징으로 하는 구조물 변형 측정용 도료.The first dielectric is an amphipathic polystyrene / methacrylate block copolymer, characterized in that the coating material for structural deformation measurement. 제 5항에 있어서,The method of claim 5, 양친매성의 폴리스티렌/메타아크릴레이트 블록공중합체는 폴리스티렌 100 중량부에 대하여, 메틸 아크릴레이트 5 중량부 내지 50 중량부를 함유하는 것을 특징으로 하는 구조물 변형 측정용 도료.The amphiphilic polystyrene / methacrylate block copolymer contains 5 to 50 parts by weight of methyl acrylate based on 100 parts by weight of polystyrene. 제 5항에 있어서,The method of claim 5, 양친매성의 폴리스티렌/메틸아크릴레이트 블록공중합체는 분자량이 20,000 내지 30,000인 것을 특징으로 하는 구조물 변형 측정용 도료.Amphiphilic polystyrene / methylacrylate block copolymer is a structural deformation measurement paint, characterized in that the molecular weight of 20,000 to 30,000. 기재; 및materials; And 상기 기재의 표면에 형성되고, 제1유전체; 및 상기 제1유전체와 상이한 비유전율을 갖는 제2유전체가 격자 패턴에 따라 일정하게 배열된 광결정을 포함하는 도 료를 함유하는 코팅층을 포함하는 구조물 변형 측정용 테이프.A first dielectric formed on the surface of the substrate; And a coating layer containing a paint including a photonic crystal in which a second dielectric having a relative dielectric constant different from that of the first dielectric is uniformly arranged according to a lattice pattern. 제 8항에 있어서,The method of claim 8, 제1유전체는 평균 입경이 80 내지 200 nm인 것을 특징으로 하는 구조물 변형 측정용 테이프.The first dielectric has an average particle diameter of 80 to 200 nm, the structure deformation measuring tape. 제 8항에 있어서,The method of claim 8, 제1유전체는 스티렌, (메타)아크릴산 에스테르 및 (메타)아크릴아마이드로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 단량체로 유도된 폴리머 또는 폴리실록산인 것을 특징으로 하는 구조물 변형 측정용 테이프.The first dielectric is a tape for structural deformation measurement, characterized in that the polymer or polysiloxane derived from at least one monomer selected from the group consisting of styrene, (meth) acrylic acid ester and (meth) acrylamide. 제 8항에 있어서, The method of claim 8, 제1유전체는 폴리스티렌, 폴리알파메틸스티렌, 폴리아크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리벤질메타크릴레이트, 폴리페닐메타크릴레이트, 폴리-1-메타시클로헥실메타크릴레이트, 폴리시클로헥실메타크릴레이트, 폴리클로로벤질메타크릴레이트, 폴리-1-페닐에틸메타크릴레이트, 폴리-1,2-디페닐에틸메타크릴레이트, 폴리디페닐메틸메타크릴레이트, 폴리퍼퓨릴메타크릴레이트, 폴리-1-페닐시클로헥실메타크릴레이트, 폴리펜타클로로페닐메타크릴레이트, 폴리펜타브로모페닐메타크릴레이트, 폴리디메틸실록산 및 폴리-N-이소프로필아크릴아미드로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 구조물 변형 측정용 테이프.The first dielectric material is polystyrene, polyalphamethylstyrene, polyacrylate, polymethyl methacrylate, polybenzyl methacrylate, polyphenyl methacrylate, poly-1-methacyclohexyl methacrylate, polycyclohexyl methacrylate , Polychlorobenzyl methacrylate, poly-1-phenylethyl methacrylate, poly-1,2-diphenylethyl methacrylate, polydiphenylmethyl methacrylate, polyperfuryl methacrylate, poly-1- Determination of structural deformation, characterized in that at least one selected from the group consisting of phenylcyclohexyl methacrylate, polypentachlorophenyl methacrylate, polypentabromophenyl methacrylate, polydimethylsiloxane and poly-N-isopropylacrylamide Tape. 제 8항에 있어서,The method of claim 8, 제1유전체는 양친매성의 폴리스티렌/메타아크릴레이트 블록공중합체인 것을 특징으로 하는 구조물 변형 측정용 테이프.The first dielectric is an amphipathic polystyrene / methacrylate block copolymer, characterized in that the tape for measuring the deformation of the structure. 제 12항에 있어서,The method of claim 12, 양친매성의 폴리스티렌/메타아크릴레이트 블록공중합체는 폴리스티렌 100 중량부에 대하여, 메틸 아크릴레이트 5 중량부 내지 50 중량부를 함유하는 것을 특징으로 하는 구조물 변형 측정용 테이프.The amphipathic polystyrene / methacrylate block copolymer contains 5 parts by weight to 50 parts by weight of methyl acrylate based on 100 parts by weight of polystyrene. 제 12항에 있어서,The method of claim 12, 양친매성의 폴리스티렌/메틸아크릴레이트 블록공중합체는 분자량이 20,000 내지 30,000인 것을 특징으로 하는 구조물 변형 측정용 테이프.Amphipathic polystyrene / methylacrylate block copolymer has a molecular weight of 20,000 to 30,000 tape for structural deformation measurement. 제 8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 코팅층은 두께가 5 내지 10 ㎛인 것을 특징으로 하는 구조물 변형 측정용 테이프.The coating layer is a tape for measuring the structure deformation, characterized in that the thickness of 5 to 10 ㎛. 제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 따른 도료를 기재의 표면에 형성하는 제 1 단계;A first step of forming a coating according to any one of claims 1 to 7 on the surface of the substrate; 상기 도료가 형성된 기재를 변형 측정대상 구조물 표면 상에 배치하는 제 2 단계; 및A second step of disposing the substrate on which the paint is formed on the surface of the deformation measurement structure; And 상기 도료의 구조색 변화 여부를 측정하는 제 3 단계를 포함하는 구조물의 변형 측정방법.Deformation measuring method of a structure comprising a third step of measuring whether the structural color change of the paint.
KR1020090017315A 2009-02-27 2009-02-27 Paint for measuring deformation of structure, tape comprising the same and deformation measuring method of structure using the same KR101217617B1 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090017315A KR101217617B1 (en) 2009-02-27 2009-02-27 Paint for measuring deformation of structure, tape comprising the same and deformation measuring method of structure using the same
PCT/KR2010/001299 WO2010098647A2 (en) 2009-02-27 2010-03-02 Device for measuring deformation of structures and a deformation-measuring method for structures employing the same
JP2011551993A JP5468091B2 (en) 2009-02-27 2010-03-02 Device for measuring deformation of structure and method for measuring deformation of structure using the same
US13/203,217 US8671769B2 (en) 2009-02-27 2010-03-02 Device for measuring deformation of a structure and a method for measuring deformation of a structure using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090017315A KR101217617B1 (en) 2009-02-27 2009-02-27 Paint for measuring deformation of structure, tape comprising the same and deformation measuring method of structure using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100098249A true KR20100098249A (en) 2010-09-06
KR101217617B1 KR101217617B1 (en) 2013-01-02

Family

ID=43005257

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090017315A KR101217617B1 (en) 2009-02-27 2009-02-27 Paint for measuring deformation of structure, tape comprising the same and deformation measuring method of structure using the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101217617B1 (en)

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7723120B2 (en) * 2005-10-26 2010-05-25 General Electric Company Optical sensor array system and method for parallel processing of chemical and biochemical information

Also Published As

Publication number Publication date
KR101217617B1 (en) 2013-01-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Takeoka et al. Tuning structural color changes of porous thermosensitive gels through quantitative adjustment of the cross-linker in pre-gel solutions
Foulger et al. Mechanochromic response of poly (ethylene glycol) methacrylate hydrogel encapsulated crystalline colloidal arrays
CN101809110B (en) Antistatic article, method of making the same, and display device having the same
Meng et al. Multiple colors output on voile through 3D colloidal crystals with robust mechanical properties
Miyake et al. Synthesis of isocyanate-based brush block copolymers and their rapid self-assembly to infrared-reflecting photonic crystals
Chan et al. Mechanochromic photonic gels
Jochum et al. Temperature-and light-responsive polyacrylamides prepared by a double polymer analogous reaction of activated ester polymers
Schäfer et al. Fully reversible shape transition of soft spheres in elastomeric polymer opal films
JP6768804B2 (en) Color conversion photonic crystal structure and color conversion photonic crystal sensor using it
Lin et al. Bio‐inspired wrinkled photonic elastomer with superior controllable and mechanically stable structure for multi‐mode color display
Qi et al. Rotational periodicity display of the tunable wettability pattern in a photoswitch based on a response bilayer photonic crystal
JP2009139799A (en) Indication member
Ma et al. Bioinspired structural color patterns derived from 1D photonic crystals with high saturation and brightness for double anti-counterfeiting decoration
CN102483468B (en) Optical device with antistatic coating
Tikhonov et al. Reflectivity enhanced two-dimensional dielectric particle array monolayer diffraction
Liu et al. Dually responsive one dimensional photonic crystals with reversible color changes
Wang et al. High structural stability of photonic crystals on textile substrates, prepared via a surface-supported curing strategy
Wang et al. Polystyrene@ poly (methyl methacrylate-butyl acrylate) core–shell nanoparticles for fabricating multifunctional photonic crystal films as mechanochromic and solvatochromic sensors
CN102778712A (en) Optical diffusion barrier
Motokawa et al. Photonic crystals fabricated by block copolymerization-induced microphase separation
Li et al. An optical fiber relative humidity sensor based on hollow-core fiber and hydroxypropyl methylcellulose hydrogel film
Zeng et al. Programmable color in a free-standing photonic microgel film with ultra-fast response
Xia et al. Near-infrared light induced dynamic structural color change of amorphous photonic hydrogel
Cong et al. Thin film interference of colloidal thin films
He et al. Scalable and sensitive humidity-responsive polymer photonic crystal films for anticounterfeiting application

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151106

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161226

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180122

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181226

Year of fee payment: 7