KR20100032190A - Nonvolatile memory device and memory system including the same - Google Patents

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KR20100032190A
KR20100032190A KR1020080091230A KR20080091230A KR20100032190A KR 20100032190 A KR20100032190 A KR 20100032190A KR 1020080091230 A KR1020080091230 A KR 1020080091230A KR 20080091230 A KR20080091230 A KR 20080091230A KR 20100032190 A KR20100032190 A KR 20100032190A
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cell
memory device
nonvolatile memory
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이세훈
최병용
성석강
최정달
이충호
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삼성전자주식회사
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Abstract

PURPOSE: A non-volatile memory device and a memory system thereof are provided to reduce the influence of coupling by reducing the number of cell strings influencing the coupling. CONSTITUTION: A memory cell array(210) comprises a first or a sixth cell strings(CS1~CS6), a switching circuit(211) and ground selection transistor(GST). Each cell string comprises a plurality of memory cells which are serially connected. Memory cells are connected to word lines. The switching circuit selectively electrically connects a first and a second cell strings to a first bit line(BL1). The third and the fourth cell strings are selectively electrically connected to a second bit line(BL2). The fifth and the sixth cell strings are selectively electrically connected to a third bit line(BL3). The switching circuit operates according to signals delivered through a first and a second control lines(CL1,CL2).

Description

불휘발성 메모리 장치 및 그것을 포함하는 메모리 시스템{NONVOLATILE MEMORY DEVICE AND MEMORY SYSTEM INCLUDING THE SAME}A nonvolatile memory device and a memory system including the same {NONVOLATILE MEMORY DEVICE AND MEMORY SYSTEM INCLUDING THE SAME}

본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 불휘발성 메모리 장치 및 그것을 포함하는 메모리 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a nonvolatile memory device and a memory system including the same.

반도체 메모리 장치(semiconductor memory device)는 데이터를 저장해 두고 필요할 때 꺼내어 읽어볼 수 있는 기억장치이다. 반도체 메모리 장치는 크게 휘발성 메모리 장치(Volatile memory device)와 불휘발성 메모리 장치(Nonvolatile mmory device)로 구분된다.A semiconductor memory device is a memory device that stores data and can be read out when needed. Semiconductor memory devices are largely classified into volatile memory devices and nonvolatile memory devices.

휘발성 메모리 장치는 전원 공급이 차단되면 저장하고 있던 데이터가 소멸되는 메모리 장치이다. 휘발성 메모리 장치에는 SRAM, DRAM, SDRAM 등이 있다. 불휘발성 메모리 장치는 전원 공급이 차단되어도 저장하고 있던 데이터가 소멸하지 않는 메모리 장치이다. 불휘발성 메모리 장치에는 ROM, PROM, EPROM, EEPROM, 플래시 메모리 장치, PRAM, MRAM, RRAM, FRAM 등이 있다. 플래시 메모리 장치는 크게 노어 타입과 낸드 타입으로 구분된다.Volatile memory devices lose their stored data when their power supplies are interrupted. Volatile memory devices include SRAM, DRAM, SDRAM, and the like. Nonvolatile memory devices are memory devices that do not lose their stored data even when their power supplies are interrupted. Nonvolatile memory devices include ROM, PROM, EPROM, EEPROM, flash memory devices, PRAM, MRAM, RRAM, FRAM, and the like. Flash memory devices are roughly divided into NOR type and NAND type.

본 발명의 목적은 커플링의 영향을 감소시키는 불휘발성 메모리 장치 및 그것을 포함하는 메모리 시스템을 제공하는 데에 있다.It is an object of the present invention to provide a nonvolatile memory device which reduces the influence of the coupling and a memory system comprising the same.

본 발명의 실시 예에 따른 불휘발성 메모리 장치는 행 방향을 따라 순차적으로 배치되는 제 1 내지 제 4 셀 스트링들; 그리고 상기 제 1 내지 제 4 셀 스트링들을 제 1 및 제 2 비트 라인들에 선택적으로 전기적으로 연결하는 스위치 회로를 포함하고, 상기 스위치 회로는 제 1 동작 모드 시에 상기 제 1 및 제 4 셀 스트링들을 상기 제 1 및 제 2 비트 라인들에 각각 전기적으로 연결하고, 제 2 동작 모드 시에 상기 제 2 및 제 3 셀 스트링들을 상기 제 1 및 제 2 비트 라인들에 각각 전기적으로 연결한다.In an embodiment, a nonvolatile memory device may include first to fourth cell strings sequentially arranged in a row direction; And a switch circuit for selectively electrically coupling the first to fourth cell strings to first and second bit lines, the switch circuit configured to connect the first and fourth cell strings in a first mode of operation. And electrically connect the first and second bit lines, respectively, and electrically connect the second and third cell strings to the first and second bit lines, respectively, in a second mode of operation.

실시 예로서, 상기 스위치 회로는 상기 제 1 셀 스트링 및 상기 제 1 비트 라인 사이에 연결되며, 제 1 제어 라인에 의해 제어되는 트랜지스터; 그리고 상기 제 2 셀 스트링 및 상기 제 1 비트 라인 사이에 연결되며, 제 2 제어 라인에 의해 제어되는 트랜지스터를 포함한다. 상기 스위치 회로는 상기 제 3 셀 스트링 및 상기 제 2 비트 라인 사이에 연결되며, 상기 제 2 제어 라인에 의해 제어되는 트랜지스터; 그리고 상기 제 4 셀 스트링 및 상기 제 2 비트 라인 사이에 연결되며, 상기 제 1 제어 라인에 의해 제어되는 트랜지스터를 더 포함한다.In example embodiments, the switch circuit may include a transistor connected between the first cell string and the first bit line and controlled by a first control line; And a transistor connected between the second cell string and the first bit line and controlled by a second control line. The switch circuit is coupled between the third cell string and the second bit line, the transistor being controlled by the second control line; And a transistor connected between the fourth cell string and the second bit line and controlled by the first control line.

실시 예로서, 읽기 동작 시에, 상기 제 1 및 제 2 비트 라인들에 읽기 동작을 위한 바이어스 전압이 교대로 인가된다.In an embodiment, during a read operation, a bias voltage for a read operation is alternately applied to the first and second bit lines.

실시 예로서, 읽기 동작 시에, 상기 제 1 및 제 2 비트 라인들에 읽기 동작을 위한 바이어스 전압이 동시에 인가된다.In an embodiment, in a read operation, a bias voltage for a read operation is simultaneously applied to the first and second bit lines.

본 발명의 실시 예에 따른 행 방향을 따라 순차적으로 배열되는 제 1 내지 제 4 셀 스트링들을 포함하는 불휘발성 메모리 장치의 동작 방법은 프로그램 동작 시에, 상기 제 1 및 제 4 셀 스트링들과 상기 제 2 및 제 3 셀 스트링들에 대해 교대로 프로그램 동작을 수행한다.According to at least one example embodiment of the inventive concepts, a method of operating a nonvolatile memory device including first to fourth cell strings sequentially arranged in a row direction may include the first and fourth cell strings and the first cell string when a program operation is performed. Alternately performing program operations on the second and third cell strings.

실시 예로서, 상기 제 1 및 제 2 셀 스트링들은 제 1 비트 라인에 선택적으로 전기적으로 연결되고, 상기 제 3 및 제 4 셀 스트링들은 제 2 비트 라인에 선택적으로 전기적으로 연결되다. 읽기 동작 시에, 상기 제 1 및 제 2 비트 라인들에 읽기 동작을 위한 바이어스 전압을 동시에 인가한다. 읽기 동작 시에, 상기 제 1 및 제 2 비트 라인들에 읽기 동작을 위한 바이어스 전압을 교대로 인가한다.In an embodiment, the first and second cell strings are selectively electrically connected to a first bit line, and the third and fourth cell strings are selectively electrically connected to a second bit line. In a read operation, a bias voltage for a read operation is simultaneously applied to the first and second bit lines. In a read operation, a bias voltage for a read operation is alternately applied to the first and second bit lines.

본 발명의 실시 예에 따른 메모리 시스템은 불휘발성 메모리 장치; 그리고 상기 불휘발성 메모리 장치를 제어하는 컨트롤러를 포함하고, 상기 불휘발성 메모리 장치는 행 방향을 따라 순차적으로 배치되는 제 1 내지 제 4 셀 스트링들; 그리고 상기 제 1 내지 제 4 셀 스트링들을 제 1 및 제 2 비트 라인들에 선택적으로 전기적으로 연결하는 스위치 회로를 포함하고, 상기 스위치 회로는 제 1 동작 모드 시에 상기 제 1 및 제 4 셀 스트링들을 각각 제 1 및 제 2 비트 라인들에 전기적으로 연결하고, 제 2 동작 모드 시에 상기 제 2 및 제 3 셀 스트링들을 각각 상기 제 1 및 제 2 비트 라인들에 전기적으로 연결한다.In an embodiment, a memory system may include a nonvolatile memory device; And a controller for controlling the nonvolatile memory device, wherein the nonvolatile memory device comprises: first to fourth cell strings sequentially arranged along a row direction; And a switch circuit for selectively electrically coupling the first to fourth cell strings to first and second bit lines, the switch circuit configured to connect the first and fourth cell strings in a first mode of operation. Electrically connect first and second bit lines, respectively, and electrically connect the second and third cell strings to the first and second bit lines, respectively, in a second mode of operation.

실시 예로서, 상기 불휘발성 메모리 장치 및 상기 컨트롤러는 하나의 반도체 장치로 집적된다.In an embodiment, the nonvolatile memory device and the controller are integrated into one semiconductor device.

실시 예로서, 상기 불휘발성 메모리 장치 및 상기 컨트롤러는 메모리 카드를 형성한다.In an embodiment, the nonvolatile memory device and the controller form a memory card.

실시 예로서, 상기 불휘발성 메모리 장치 및 상기 컨트롤러는 반도체 디스크 장치를 형성한다.In an embodiment, the nonvolatile memory device and the controller form a semiconductor disk device.

실시 예로서, 상기 컨트롤러는 외부의 호스트와 통신한다.In an embodiment, the controller communicates with an external host.

본 발명에 따르면, 인접한 셀 스트링들 하나의 셀 스트링만 프로그램된다. 즉, 커플링의 영향을 주는 셀 스트링들의 수가 감소되므로, 커플링의 영향이 감소된다.According to the present invention, only one cell string of adjacent cell strings is programmed. That is, since the number of cell strings affecting the coupling is reduced, the influence of the coupling is reduced.

본 발명의 실시 예에 따른 불휘발성 메모리 장치는 행 방향을 따라 순차적으로 배치되는 제 1 내지 제 4 셀 스트링들, 제 1 내지 제 4 셀 스트링들을 제 1 및 제 2 비트 라인들에 선택적으로 전기적으로 연결하는 제 1 스위치 회로를 포함하고, 제 1 스위치 회로는 제 1 동작 모드 시에 제 1 및 제 4 셀 스트링들을 각각 제 1 및 제 2 비트 라인들에 전기적으로 연결하고, 제 2 동작 모드 시에 제 2 및 제 3 셀 스트링들을 각각 제 1 및 제 2 비트 라인들에 전기적으로 연결한다. 이하에서, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다.The nonvolatile memory device according to an embodiment of the present invention selectively electrically connects the first to fourth cell strings and the first to fourth cell strings to the first and second bit lines sequentially arranged along the row direction. A first switch circuit for connecting, the first switch circuit electrically connecting the first and fourth cell strings to the first and second bit lines, respectively, in the first mode of operation, and in the second mode of operation. The second and third cell strings are electrically connected to the first and second bit lines, respectively. DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the technical idea of the present invention. .

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 메모리 시스템(10)을 보여주는 블록도이다. 도 1을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 메모리 시스템(10)은 불휘발성 메모리 장치(200) 및 컨트롤러(100)를 포함한다.1 is a block diagram illustrating a memory system 10 according to an exemplary embodiment of the inventive concept. Referring to FIG. 1, a memory system 10 according to an embodiment of the present invention includes a nonvolatile memory device 200 and a controller 100.

컨트롤러(100)는 호스트(Host) 및 불휘발성 메모리 장치(200)에 연결된다. 컨트롤러(100)는 불휘발성 메모리 장치(200)로부터 읽은 데이터를 호스트(Host)에 전달하고, 호스트(Host)로부터 전달되는 데이터를 불휘발성 메모리 장치(200)에 저장한다.The controller 100 is connected to a host and the nonvolatile memory device 200. The controller 100 transfers data read from the nonvolatile memory device 200 to the host, and stores data transferred from the host in the nonvolatile memory device 200.

컨트롤러(100)는 램, 프로세싱 유닛, 호스트 인터페이스, 그리고 메모리 인터페이스와 같은 잘 알려진 구성 요소들을 포함할 것이다. 램은 프로세싱 유닛의 동작 메모리로서 이용될 것이다. 프로세싱 유닛은 컨트롤러(100)의 제반 동작을 제어할 것이다. 호스트 인터페이스는 호스트(Host) 및 컨트롤러(100) 사이의 데이터 교환을 수행하기 위한 프로토콜을 포함할 것이다. 예시적으로, 컨트롤러(100)는 USB, MMC, PCI-E, ATA(Advanced Technology Attachment), Serial-ATA, Parallel-ATA, SCSI, ESDI, 그리고 IDE(Integrated Drive Electronics) 등과 같은 다양한 인터페이스 프로토콜들 중 하나를 통해 외부(호스트)와 통신하도록 구성될 것이다. 메모리 인터페이스는 불휘발성 메모리 장치(200)와 인터페이싱할 것이다. 컨트롤러(100)는 오류 정정 블록을 추가적으로 포함할 수 있다. 오류 정정 블록은 불휘발성 메모리 장치(200)로부터 읽어진 데이터의 오류를 검출하고, 정정할 것이다.Controller 100 will include well known components such as RAM, processing unit, host interface, and memory interface. The RAM will be used as the operating memory of the processing unit. The processing unit will control the overall operation of the controller 100. The host interface will include a protocol for performing data exchange between the host and the controller 100. In exemplary embodiments, the controller 100 may include one of various interface protocols such as USB, MMC, PCI-E, Advanced Technology Attachment (ATA), Serial-ATA, Parallel-ATA, SCSI, ESDI, and Integrated Drive Electronics (IDE). It will be configured to communicate with the outside (host) through one. The memory interface will interface with the nonvolatile memory device 200. The controller 100 may further include an error correction block. The error correction block detects and corrects an error of data read from the nonvolatile memory device 200.

불휘발성 메모리 장치(200)는 데이터를 저장하기 위한 메모리 셀 어레이, 메모리 셀 어레이에 데이터를 기입 및 독출하기 위한 읽기/쓰기 회로, 외부로부터 전 달되는 어드레스를 디코딩하여 읽기/쓰기 회로에 전달하는 어드레스 디코더, 불휘발성 메모리 장치(200)의 제반 동작을 제어하기 위한 제어 로직 등을 포함할 것이다. 불휘발성 메모리 장치(200)는 도 2 및 3을 참조하여 더 상세하게 설명된다.The nonvolatile memory device 200 may include a memory cell array for storing data, a read / write circuit for writing and reading data to the memory cell array, and an address for decoding an address transmitted from an external source and transmitting the decoded address to a read / write circuit. It may include a decoder, control logic for controlling general operations of the nonvolatile memory device 200, and the like. The nonvolatile memory device 200 is described in more detail with reference to FIGS. 2 and 3.

컨트롤러(100) 및 불휘발성 메모리 장치(200)는 하나의 반도체 장치로 집적될 수 있다. 예시적으로, 컨트롤러(100) 및 불휘발성 메모리 장치(200)는 하나의 반도체 장치로 집적되어, 메모리 카드를 구성할 것이다. 예를 들면, 컨트롤러(100) 및 불휘발성 메모리 장치(200)는 하나의 반도체 장치로 집적되어 PC 카드(PCMCIA), 컴팩트 플래시 카드(CF), 스마트 미디어 카드(SM/SMC), 메모리 스틱, 멀티미디어 카드(MMC, RS-MMC, MMCmicro), SD 카드(SD, miniSD, microSD), 유니버설 플래시 기억장치(UFS) 등을 구성할 것이다.The controller 100 and the nonvolatile memory device 200 may be integrated into one semiconductor device. In exemplary embodiments, the controller 100 and the nonvolatile memory device 200 may be integrated into one semiconductor device to constitute a memory card. For example, the controller 100 and the nonvolatile memory device 200 may be integrated into one semiconductor device such that a PC card (PCMCIA), a compact flash card (CF), a smart media card (SM / SMC), a memory stick, and a multimedia device are provided. Cards (MMC, RS-MMC, MMCmicro), SD cards (SD, miniSD, microSD), universal flash storage (UFS) and the like.

다른 예로서, 컨트롤러(100) 및 불휘발성 메모리 장치(200)는 하나의 반도체 장치로 집적되어 반도체 디스크/드라이브(SSD, Solid State Disk/Drive)를 구성할 것이다. 메모리 시스템(10)이 반도체 디스크(SSD)로 이용되는 경우, 메모리 시스템(10)에 연결된 호스트(Host)의 동작 속도는 획기적으로 개선될 것이다.As another example, the controller 100 and the nonvolatile memory device 200 may be integrated into one semiconductor device to form a solid state disk / drive (SSD). When the memory system 10 is used as the semiconductor disk SSD, the operating speed of the host connected to the memory system 10 may be improved.

다른 예로서, 메모리 시스템(10)은 PDA, 포터블(portable) 컴퓨터, 웹 타블렛(web tablet), 무선 전화기(wireless phone), 모바일 폰(mobile phone), 디지털 뮤직 플레이어(digital music player), 또는 정보를 무선 환경에서 송수신할 수 있는 장치들에 적용될 것이다.As another example, memory system 10 may be a PDA, portable computer, web tablet, wireless phone, mobile phone, digital music player, or information. It will be applied to devices that can transmit and receive in a wireless environment.

다른 예로서, 불휘발성 메모리 장치(200) 또는 메모리 시스템(10)은 다양한 형태들의 패키지로 실장 될 수 있다. 예를 들면, 불휘발성 메모리 장치(200) 또는 메모리 시스템(10)은 PoP(Package on Package), Ball grid arrays(BGAs), Chip scale packages(CSPs), Plastic Leaded Chip Carrier(PLCC), Plastic Dual In-Line Package(PDIP), Die in Waffle Pack, Die in Wafer Form, Chip On Board(COB), Ceramic Dual In-Line Package(CERDIP), Plastic Metric Quad Flat Pack(MQFP), Thin Quad Flatpack(TQFP), Small Outline(SOIC), Shrink Small Outline Package(SSOP), Thin Small Outline(TSOP), Thin Quad Flatpack(TQFP), System In Package(SIP), Multi Chip Package(MCP), Wafer-level Fabricated Package(WFP), Wafer-Level Processed Stack Package(WSP) 등과 같은 방식으로 패키지화되어 실장될 것이다.As another example, the nonvolatile memory device 200 or the memory system 10 may be mounted in various types of packages. For example, the nonvolatile memory device 200 or the memory system 10 may be a package on package (PoP), ball grid arrays (BGAs), chip scale packages (CSPs), plastic leaded chip carrier (PLCC), plastic dual in Line Package (PDIP), Die in Waffle Pack, Die in Wafer Form, Chip On Board (COB), Ceramic Dual In-Line Package (CERDIP), Plastic Metric Quad Flat Pack (MQFP), Thin Quad Flatpack (TQFP), Small Outline (SOIC), Shrink Small Outline Package (SSOP), Thin Small Outline (TSOP), Thin Quad Flatpack (TQFP), System In Package (SIP), Multi Chip Package (MCP), Wafer-level Fabricated Package (WFP) It will be packaged and implemented in the same way as a Wafer-Level Processed Stack Package (WSP).

도 2는 도 1의 불휘발성 메모리 장치(200)를 보여주는 블록도이다. 도 2를 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 불휘발성 메모리 장치(200)는 메모리 셀 어레이(210), 읽기/쓰기 회로(220), 어드레스 디코더(230), 그리고 제어 로직(240)을 포함한다.FIG. 2 is a block diagram illustrating the nonvolatile memory device 200 of FIG. 1. 2, a nonvolatile memory device 200 according to an embodiment of the present invention includes a memory cell array 210, a read / write circuit 220, an address decoder 230, and a control logic 240. do.

메모리 셀 어레이(210)는 비트 라인들(BL)을 통해 읽기/쓰기 회로(220)에 연결되고, 워드 라인들(WL)을 통해 어드레스 디코더(230)에 연결된다. 메모리 셀 어레이(210)는 읽기/쓰기 회로(220)로부터 전달되는 데이터를 저장하기 위한 복수의 메모리 셀들을 포함한다. 예시적으로, 메모리 셀들은 매트릭스 형태로 배열되며, 메모리 셀들은 워드 라인들(WL) 및 비트 라인들(BL)에 연결될 것이다.The memory cell array 210 is connected to the read / write circuit 220 through the bit lines BL and to the address decoder 230 through the word lines WL. The memory cell array 210 includes a plurality of memory cells for storing data transferred from the read / write circuit 220. In exemplary embodiments, the memory cells may be arranged in a matrix, and the memory cells may be connected to the word lines WL and the bit lines BL.

읽기/쓰기 회로(220)는 비트 라인들(BL)을 통해 메모리 셀 어레이(210)에 연결된다. 읽기/쓰기 회로(220)는 제어 로직(240)의 제어에 응답하여 동작한다. 읽기 /쓰기 회로(220)는 외부로부터 데이터(DATA)를 전달받아 메모리 셀 어레이(210)에 저장할 것이다. 읽기/쓰기 회로(DATA)는 메모리 셀 어레이(210)로부터 데이터(DATA)를 읽어 외부에 전달할 것이다. 예시적으로, 읽기/쓰기 회로(220)는 도 1의 컨트롤러(100)와 데이터(DATA)를 교환할 것이다.The read / write circuit 220 is connected to the memory cell array 210 through the bit lines BL. The read / write circuit 220 operates under the control of the control logic 240. The read / write circuit 220 receives data DATA from the outside and stores the data DATA in the memory cell array 210. The read / write circuit DATA reads data DATA from the memory cell array 210 and transfers the data DATA to the outside. In exemplary embodiments, the read / write circuit 220 may exchange data DATA with the controller 100 of FIG. 1.

예시적으로, 읽기/쓰기 회로(220)는 열 선택 게이트, 페이지 버퍼, 데이터 버퍼 등과 같은 잘 알려진 구성 요소들을 포함할 것이다. 다른 예로써, 읽기/쓰기 회로(220)는 열 선택 게이트, 쓰기 드라이버, 감지 증폭기, 데이터 버퍼 등과 같은 잘 알려진 구성 요소들을 포함할 것이다.In exemplary embodiments, the read / write circuit 220 may include well-known components, such as a column select gate, a page buffer, a data buffer, and the like. As another example, read / write circuit 220 may include well-known components, such as column select gates, write drivers, sense amplifiers, data buffers, and the like.

어드레스 디코더(230)는 워드 라인들(WL)을 통해 메모리 셀 어레이(210)에 연결된다. 어드레스 디코더(230)는 제어 로직(240)의 제어에 응답하여 동작한다. 어드레스 디코더(230)는 외부로부터 어드레스(ADDR)를 전달받아 디코딩한다. 어드레스 디코더(230)는 행 어드레스를 디코딩하여 워드 라인들(WL)을 선택한다. 어드레스 디코더(230)는 열 어드레스를 디코딩하여 읽기/쓰기 회로(220)에 전달하고, 읽기/쓰기 회로(220)는 디코딩된 열 어드레스에 응답하여 비트 라인들(BL)을 선택한다. 예시적으로, 어드레스 디코더(230)는 도 1의 컨트롤러(100)로부터 어드레스(ADDR)를 전달받을 것이다. 예시적으로, 어드레스 디코더(230)는 행 디코더, 열 디코더, 어드레스 버퍼 등과 같은 잘 알려진 구성 요소들을 포함할 것이다.The address decoder 230 is connected to the memory cell array 210 through word lines WL. The address decoder 230 operates under the control of the control logic 240. The address decoder 230 receives and decodes an address ADDR from the outside. The address decoder 230 selects word lines WL by decoding the row address. The address decoder 230 decodes the column addresses and transfers them to the read / write circuit 220, and the read / write circuit 220 selects the bit lines BL in response to the decoded column address. In exemplary embodiments, the address decoder 230 may receive an address ADDR from the controller 100 of FIG. 1. As an example, the address decoder 230 may include well known components such as a row decoder, column decoder, address buffer, and the like.

제어 로직(240)은 읽기/쓰기 회로(220) 및 어드레스 디코더(230)에 연결된다. 제어 로직(240)은 제어 신호(CTRL)에 응답하여 불휘발성 메모리 장치(200)의 제반 동작을 제어한다. 예시적으로, 제어 신호(CTRL)는 도 1의 컨트롤러(100)로부 터 제공될 것이다.The control logic 240 is connected to the read / write circuit 220 and the address decoder 230. The control logic 240 controls overall operations of the nonvolatile memory device 200 in response to the control signal CTRL. In exemplary embodiments, the control signal CTRL may be provided from the controller 100 of FIG. 1.

이하에서, 플래시 메모리 장치의 예를 참조하여, 본 발명의 기술적 사상이 더 상세하게 설명될 것이다. 그러나, 본 발명의 기술적 사상은 플래시 메모리 장치에 한정되지 않음이 이해될 것이다. 예시적으로, 본 발명의 기술적 사상은 ROM, PROM, EPROM, EEPROM, 플래시 메모리 장치, PRAM, MRAM, RRAM, FRAM 등과 같은 불휘발성 메모리 장치들, 그리고 SRAM, DRAM, SDRAM 등과 같은 휘발성 메모리 장치들에도 적용될 수 있음이 이해될 것이다.Hereinafter, with reference to an example of a flash memory device, the technical spirit of the present invention will be described in more detail. However, it will be understood that the technical idea of the present invention is not limited to the flash memory device. For example, the technical spirit of the present invention may be applied to nonvolatile memory devices such as ROM, PROM, EPROM, EEPROM, flash memory devices, PRAM, MRAM, RRAM, FRAM, and the like, and volatile memory devices such as SRAM, DRAM, SDRAM, and the like. It will be appreciated that it can be applied.

도 3은 도 2의 메모리 셀 어레이(210)를 더 상세하게 보여주는 회로도이다. 도 3을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 메모리 셀 어레이(210)는 셀 스트링들(CS1~CS6), 셀 스트링들(CS1~CS6) 및 비트 라인들(BL1~BL3) 사이에 연결되는 스위치 회로(211), 셀 스트링들(CS1~CS6) 및 공통 소스 라인(CSL) 사이에 연결되는 접지 선택 트랜지스터들(GST)을 포함한다.3 is a circuit diagram illustrating the memory cell array 210 of FIG. 2 in more detail. Referring to FIG. 3, a memory cell array 210 according to an embodiment of the present invention is connected between cell strings CS1 to CS6, cell strings CS1 to CS6, and bit lines BL1 to BL3. Ground switch transistors GST are connected between the switch circuit 211, the cell strings CS1 to CS6, and the common source line CSL.

각각의 셀 스트링은 직렬 연결된 복수의 메모리 셀들을 포함한다. 메모리 셀들은 워드 라인들(WL1~WLn)에 연결된다. 도 3에서, 메모리 셀 어레이(210)는 6개의 셀 스트링들(CS1~CS6)을 포함하는 것으로 도시되어 있다. 그러나, 셀 스트링들(CS1~CS6)의 수는 한정되지 않음이 이해될 것이다.Each cell string includes a plurality of memory cells connected in series. The memory cells are connected to the word lines WL1 to WLn. In FIG. 3, the memory cell array 210 is illustrated as including six cell strings CS1 to CS6. However, it will be understood that the number of cell strings CS1 to CS6 is not limited.

스위치 회로(211)는 셀 스트링들(CS1, CS2)을 비트 라인(BL1)에 선택적으로 전기적으로 연결하고, 셀 스트링들(CS3, CS4)을 비트 라인(BL2)에 선택적으로 전기적으로 연결하고, 셀 스트링들(CS5, CS6)을 비트 라인(BL3)에 선택적으로 전기적으로 연결한다. 스위치 회로(211)는 제어 라인들(CL1, CL2)을 통해 전달되는 신호들 에 응답하여 동작한다.The switch circuit 211 selectively electrically connects the cell strings CS1 and CS2 to the bit line BL1, selectively electrically connects the cell strings CS3 and CS4 to the bit line BL2, The cell strings CS5 and CS6 are selectively electrically connected to the bit line BL3. The switch circuit 211 operates in response to signals transmitted through the control lines CL1 and CL2.

스위치 회로(211)는 셀 스트링들(CS1, CS2)에 각각 전기적으로 연결되는 트랜지스터(T2)를 포함한다. 트랜지스터들(T2)의 게이트는 각각 제어 라인들(CL1, CL2)에 연결된다. 스위치 회로(211)는 셀 스트링들(CS1, CS2)에 각각 전기적으로 연결되는 공핍형 트랜지스터들(T1)을 더 포함한다. 공핍형 트랜지스터(T1)는 접지 전압보다 낮은 문턱 전압을 갖는다. 즉, 공핍형 트랜지스터(T1)는 온 상태를 유지할 것이다. 따라서, 제어 라인(CL1)에 활성화된 신호가 전달되면 셀 스트링(CS1)이 비트 라인(BL1)에 전기적으로 연결되고, 제어 라인(CL2)에 활성화된 신호가 전달되면 셀 스트링(CS2)이 비트 라인(BL1)에 연결될 것이다.The switch circuit 211 includes a transistor T2 electrically connected to the cell strings CS1 and CS2, respectively. Gates of the transistors T2 are connected to the control lines CL1 and CL2, respectively. The switch circuit 211 further includes depletion transistors T1 electrically connected to the cell strings CS1 and CS2, respectively. The depletion transistor T1 has a threshold voltage lower than the ground voltage. That is, the depletion transistor T1 will remain on. Therefore, when the activated signal is transmitted to the control line CL1, the cell string CS1 is electrically connected to the bit line BL1, and when the activated signal is transmitted to the control line CL2, the cell string CS2 is bitwise transmitted. Will be connected to line BL1.

스위치 회로(211)는 셀 스트링들(CS3, CS4)에 각각 전기적으로 연결되는 트랜지스터(T2)를 포함한다. 트랜지스터들(T2)의 게이트는 각각 제어 라인들(CL1, CL2)에 연결된다. 스위치 회로(211)는 셀 스트링들(CS3, CS4)에 각각 전기적으로 연결되는 공핍형 트랜지스터들(T1)을 더 포함한다. 공핍형 트랜지스터(T1)는 접지 전압보다 낮은 문턱 전압을 갖는다. 즉, 공핍형 트랜지스터(T1)는 온 상태를 유지할 것이다. 따라서, 제어 라인(CL1)에 활성화된 신호가 전달되면 셀 스트링(CS4)이 비트 라인(BL2)에 전기적으로 연결되고, 제어 라인(CL2)에 활성화된 신호가 전달되면 셀 스트링(CS3)이 비트 라인(BL2)에 연결될 것이다.The switch circuit 211 includes a transistor T2 electrically connected to the cell strings CS3 and CS4, respectively. Gates of the transistors T2 are connected to the control lines CL1 and CL2, respectively. The switch circuit 211 further includes depletion transistors T1 electrically connected to the cell strings CS3 and CS4, respectively. The depletion transistor T1 has a threshold voltage lower than the ground voltage. That is, the depletion transistor T1 will remain on. Accordingly, the cell string CS4 is electrically connected to the bit line BL2 when the activated signal is transmitted to the control line CL1, and the cell string CS3 is bitified when the activated signal is transmitted to the control line CL2. Will be connected to line BL2.

스위치 회로(211)는 셀 스트링들(CS5, CS6)에 각각 전기적으로 연결되는 트랜지스터(T2)를 포함한다. 트랜지스터들(T2)의 게이트는 각각 제어 라인들(CL1, CL2)에 연결된다. 스위치 회로(211)는 셀 스트링들(CS5, CS6)에 각각 전기적으로 연결되는 공핍형 트랜지스터들(T1)을 더 포함한다. 공핍형 트랜지스터(T1)는 접지 전압보다 낮은 문턱 전압을 갖는다. 즉, 공핍형 트랜지스터(T1)는 온 상태를 유지할 것이다. 따라서, 제어 라인(CL1)에 활성화된 신호가 전달되면 셀 스트링(CS5)이 비트 라인(BL3)에 전기적으로 연결되고, 제어 라인(CL2)에 활성화된 신호가 전달되면 셀 스트링(CS6)이 비트 라인(BL3)에 연결될 것이다.The switch circuit 211 includes a transistor T2 electrically connected to the cell strings CS5 and CS6, respectively. Gates of the transistors T2 are connected to the control lines CL1 and CL2, respectively. The switch circuit 211 further includes depletion transistors T1 electrically connected to the cell strings CS5 and CS6, respectively. The depletion transistor T1 has a threshold voltage lower than the ground voltage. That is, the depletion transistor T1 will remain on. Accordingly, the cell string CS5 is electrically connected to the bit line BL3 when the activated signal is transmitted to the control line CL1, and the cell string CS6 is bited when the activated signal is transmitted to the control line CL2. Will be connected to line BL3.

불휘발성 메모리 장치(200, 도 1 및 2 참조)의 메모리 셀 어레이(210)에 대한 액세스 동작 시에, 하나의 비트 라인(예를 들면, BL2)에 연결되어 있는 두 개의 셀 스트링들(예를 들면, CS3, CS4)에 대해 교대로 액세스가 수행될 것이다. 예시적으로, 셀 스트링(CS3)에 대해 프로그램/읽기/쓰기 동작이 수행되고, 이후에 셀 스트링(CS4)에 대해 프로그램/읽기/쓰기 동작이 수행될 것이다. 다른 예로써, 셀 스트링(CS3)에 대해 프로그램/읽기/쓰기 동작이 수행되고, 이후에 셀 스트링(CS4)에 대해 프로그램/읽기/쓰기 동작이 수행될 것이다.In an access operation of the memory cell array 210 of the nonvolatile memory device 200 (see FIGS. 1 and 2), two cell strings (for example, BL2) connected to one bit line (eg, BL2) may be used. For example, access will be performed alternately for CS3, CS4). For example, a program / read / write operation may be performed on the cell string CS3, and a program / read / write operation may be performed on the cell string CS4. As another example, a program / read / write operation may be performed on the cell string CS3, and a program / read / write operation may be performed on the cell string CS4.

예시적으로, 하나의 비트 라인(예를 들면, BL2)에 연결되어 있는 두 개의 셀 스트링들(예를 들면, CS3, CS4)은 짝수 셀 스트링(예를 들면, CS3) 및 홀수 셀 스트링(예를 들면, CS4)으로 이해될 수 있다.For example, two cell strings (eg, CS3 and CS4) connected to one bit line (eg, BL2) may be an even cell string (eg, CS3) and an odd cell string (eg, a cell line). For example, it may be understood as CS4).

도 4는 프로그램 동작 시에 도 3의 메모리 셀 어레이(210)에 인가되는 바이어스 전압들을 보여주는 타이밍도이다. 도 3 및 4를 참조하면, 시간(t4)에 비트 라인들(BL1~BL3), 제어 라인들(CL1, CL2), 접지 선택 라인(GSL), 그리고 공통 소스 라인(CSL)에 전압(Vcc)이 인가된다. 즉, 셀 스트링들(CS1~CS6)에 비트 라인들(BL1~BL2)을 통해 전압(Vcc)이 공급되고 공통 소스 라인(CSL)을 통해 전압(Vcc) 이 공급되므로, 셀 스트링들(CS1~CS6)의 채널 전압이 미리 설정된 전압(예를 들면, 전압(Vcc)과 트랜지스터들(T2, GST)의 문턱 전압의 차이)으로 프리차지될 것이다.4 is a timing diagram illustrating bias voltages applied to the memory cell array 210 of FIG. 3 during a program operation. 3 and 4, the voltage Vcc at the bit lines BL1 to BL3, the control lines CL1 and CL2, the ground select line GSL, and the common source line CSL at a time t4. Is applied. That is, since the voltage Vcc is supplied to the cell strings CS1 to CS6 through the bit lines BL1 to BL2 and the voltage Vcc is supplied through the common source line CSL, the cell strings CS1 to CS6. The channel voltage of CS6 will be precharged to a preset voltage (for example, the difference between the voltage Vcc and the threshold voltages of the transistors T2 and GST).

시간(t2)에, 선택 워드 라인(예를 들면, WL1)에 패스 전압(Vpass)이 인가되고, 비선택 워드 라인(예를 들면, WL2~WLn)에 패스 전압(Vpass)이 인가된다. 이때, 프리차지되어 있는 셀 스트링들(CS1~CS6)의 채널 전압이 전압(Vboost)으로 부스팅될 것이다.At time t2, the pass voltage Vpass is applied to the selected word line (eg, WL1), and the pass voltage Vpass is applied to the unselected word lines (eg, WL2 to WLn). At this time, the channel voltages of the precharged cell strings CS1 to CS6 will be boosted to the voltage Vboost.

시간(t3)에, 제어 라인들(CL1, CL2) 및 접지 선택 라인(GSL)에 접지 전압(Vss)이 제공된다. 즉, 트랜지스터들(T2) 및 접지 선택 트랜지스터들(GST)이 턴 오프 되므로, 셀 스트링들(CS1~CS6)의 채널 전압은 전압(Vboost)을 유지할 것이다.At time t3, the ground voltage Vss is provided to the control lines CL1 and CL2 and the ground select line GSL. That is, since the transistors T2 and the ground select transistors GST are turned off, the channel voltages of the cell strings CS1 to CS6 will maintain the voltage Vboost.

시간(t4)에, 비트 라인들(BL1~BL3) 및 공통 소스 라인(CSL)에 접지 전압(Vss)이 인가된다. 트랜지스터들(T2) 및 접지 선택 트랜지스터(GST)가 턴 오프 되어 있으므로, 셀 스트링들(CS1~CS6)의 채널 전압은 전압(Vboost)을 유지할 것이다.At time t4, the ground voltage Vss is applied to the bit lines BL1 to BL3 and the common source line CSL. Since the transistors T2 and the ground select transistor GST are turned off, the channel voltages of the cell strings CS1 to CS6 will maintain the voltage Vboost.

시간(t5)에, 제어 라인(CL2)에 전압(Vcc)이 인가된다. 즉, 셀 스트링들(CS2, CS3, CS6)이 각각 비트 라인들(BL1~BL3)에 전기적으로 연결된다. 비트 라인들(BL1~BL3)에 접지 전압(Vss)이 인가되어 있으므로, 셀 스트링들(CS2, CS3, CS6)의 채널 전압은 접지 전압(Vss)으로 설정된다.At time t5, voltage Vcc is applied to control line CL2. That is, the cell strings CS2, CS3, and CS6 are electrically connected to the bit lines BL1 to BL3, respectively. Since the ground voltage Vss is applied to the bit lines BL1 to BL3, the channel voltages of the cell strings CS2, CS3, and CS6 are set to the ground voltage Vss.

이때, 셀 스트링들(CS2, CS3, CS6)의 채널 전압은 접지 전압(Vss)이고, 셀 스트링들(CS1, CS4, CS5)의 채널 전압은 전압(Vboost)을 유지하고 있다. 즉, 셀 스트링들(CS1, CS4, CS5)은 프로그램 금지되고, 셀 스트링들(CS2, CS3, CS6)은 프로 그램 가능한 상태이다. 즉, 짝수 셀 스트링들(예를 들면, CS2, CS3, CS6)은 프로그램되고, 홀수 셀 스트링들(예를 들면, CS1, CS4, CS5)은 프로그램 금지된다.In this case, the channel voltages of the cell strings CS2, CS3, and CS6 are ground voltages Vss, and the channel voltages of the cell strings CS1, CS4, and CS5 maintain voltages Vboost. That is, the cell strings CS1, CS4, and CS5 are program inhibited, and the cell strings CS2, CS3, and CS6 are programmable. That is, even cell strings (eg, CS2, CS3, CS6) are programmed, and odd cell strings (eg, CS1, CS4, CS5) are program inhibited.

다른 예로써, 시간(t5)에, 제어 라인(CL2)에 접지 전압(Vss)이 인가되고, 제어 라인(CL1)에 전압(Vcc)이 인가되면, 짝수 셀 스트링들(예를 들면, CS2, CS3, CS6)의 채널 전압은 전압(Vboost)을 유지하므로 프로그램 금지될 것이다. 홀수 셀 스트링들(예를 들면, CS1, CS4, CS5)의 채널 전압은 접지 전압(Vss)이므로 프로그램될 것이다.As another example, when time t5, the ground voltage Vss is applied to the control line CL2, and the voltage Vcc is applied to the control line CL1, the even cell strings (eg, CS2, The channel voltages of CS3 and CS6 will be program inhibited because they maintain the voltage Vboost. The channel voltage of the odd cell strings (e.g., CS1, CS4, CS5) will be programmed since it is the ground voltage Vss.

즉, 셀 스트링들(CS1~CS6) 중 프로그램을 위해 짝수 셀 스트링들(예를 들면, CS2, CS3, CS6)이 선택되는 경우, 시간(t5)에 제어 라인(CL1)에 전압(Vcc)이 인가될 것이다. 셀 스트링들(CS1~CS6) 중 프로그램을 위해 홀수 셀 스트링들(예를 들면, CS1, CS4, CS5)이 선택되는 경우, 시간(t5)에 제어 라인(CL2)에 전압(Vcc)이 인가될 것이다.That is, when even cell strings (eg, CS2, CS3, CS6) are selected for the program among the cell strings CS1 to CS6, the voltage Vcc is applied to the control line CL1 at a time t5. Will be authorized. When odd cell strings (eg, CS1, CS4, CS5) are selected for a program among the cell strings CS1 to CS6, a voltage Vcc is applied to the control line CL2 at a time t5. will be.

예시적으로, 짝수 셀 스트링들(예를 들면, CS2, CS3, CS6)이 프로그램되기 위해 선택된 경우, 짝수 셀 스트링들(예를 들면, CS2, CS3, CS6) 중 프로그램 금지인 셀 스트링이 존재하면, 대응하는 비트 라인은 시간(t4) 이후에도 전압(Vcc)을 유지할 것이다. 예를 들면, 셀 스트링(CS2)이 프로그램 금지인 경우, 비트 라인(BL1) 전압은 시간(t4) 이후에도 전압(Vcc)을 유지할 것이다. 이때, 셀 스트링(CS2)에 연결되어 있는 트랜지스터(T2)의 게이트에 전압(Vcc)이 인가되고, 트랜지스터(T2)의 소스 및 드레인 영역에 전압(Vcc) 및 전압(Vboost)이 인가되며, 전압(Vboost)은 전압(Vcc)보다 높은 레벨의 전압이다. 따라서, 트랜지스터(T2)는 턴 오프 상태를 유지하므로, 셀 스트링(CS2)의 채널 전압은 전압(Vboost)을 유지할 것이다. 즉, 셀 스트링(CS2)은 프로그램 금지될 것이다.For example, if even cell strings (eg, CS2, CS3, CS6) are selected to be programmed, a cell string that is prohibition of program among the even cell strings (eg, CS2, CS3, CS6) exists. The corresponding bit line will maintain voltage Vcc even after time t4. For example, when the cell string CS2 is program inhibited, the bit line BL1 voltage will maintain the voltage Vcc even after the time t4. At this time, the voltage Vcc is applied to the gate of the transistor T2 connected to the cell string CS2, and the voltage Vcc and the voltage Vboost are applied to the source and drain regions of the transistor T2. Vboost is a voltage at a level higher than the voltage Vcc. Therefore, since the transistor T2 maintains the turn-off state, the channel voltage of the cell string CS2 will maintain the voltage Vboost. That is, the cell string CS2 will be program inhibited.

마찬가지로, 셀 스트링(CS3)이 프로그램 금지되는 경우, 비트 라인(BL2) 전압은 시간(t4) 이후에도 전압(Vcc)을 유지할 것이다. 그리고, 셀 스트링(CS4)이 프로그램 금지되는 경우, 비트 라인(BL3) 전압은 시간(t4) 이후에도 전압(Vcc)을 유지할 것이다. 홀수 셀 스트링들(예를 들면, CS1, CS4, CS5)이 프로그램되기 위해 선택되고 홀수 셀 스트링들(예를 들면, CS1, CS4, CS5) 중 일부가 프로그램 금지인 경우, 홀수 셀 스트링들(예를 들면, CS1, CS4, CS5) 중 프로그램 금지된 셀 스트링들에 대응하는 비트 라인 전압은 시간(t4) 이후에도 전압(Vcc)을 유지함이 이해될 것이다.Similarly, when the cell string CS3 is program inhibited, the bit line BL2 voltage will maintain the voltage Vcc even after the time t4. When the cell string CS4 is program inhibited, the bit line BL3 voltage may maintain the voltage Vcc even after the time t4. If odd cell strings (e.g., CS1, CS4, CS5) are selected to be programmed and some of the odd cell strings (e.g., CS1, CS4, CS5) are program inhibited, odd cell strings (e.g., For example, it will be appreciated that the bit line voltage corresponding to the program inhibited cell strings among CS1, CS4, CS5 maintains the voltage Vcc even after the time t4.

시간(t6)에서, 선택 워드 라인(예를 들면, WL1)에 프로그램 전압(Vpgm)이 인가된다. 이때, 셀 스트링들(CS1~CS6) 중 채널 전압이 전압(Vboost)인 셀 스트링들은 프로그램되지 않고, 채널 전압이 접지 전압(Vss)인 셀 스트링들은 프로그램될 것이다. 그리고, 시간(t7)에서 모든 바이어스 전압들이 접지 전압(Vss)으로 설정된다.At time t6, the program voltage Vpgm is applied to the select word line (eg, WL1). At this time, the cell strings whose channel voltage is the voltage Vboost among the cell strings CS1 to CS6 are not programmed, and the cell strings whose channel voltage is the ground voltage Vss will be programmed. Then, at time t7 all bias voltages are set to ground voltage Vss.

시간(t5)에서, 홀수 셀 스트링들(예를 들면, CS1, CS4, CS5) 및 짝수 셀 스트링들(예를 들면, CS2, CS3, CS6) 중 선택된 셀 스트링들(예를 들면, 짝수 셀 스트링들(CS2, CS3, CS6))에는 비트 라인들(BL1~BL3)을 통해 접지 전압이 제공된다. 그리고, 비선택된 셀 스트링들(예를 들면, 홀수 셀 스트링들(CS1, CS4, CS5))의 채널 전압은 전압(Vboost)을 유지한다. 선택된 셀 스트링들(CS2, CS3, CS6)에 접지 전압(Vss)이 인가되면, 채널 사이의 커플링(channel to channel coupling)으로 인해 비선택된 셀 스트링들(CS1, CS4, CS5)의 채널 전압이 전압(Vboost)으로부터 감소될 것이다. 즉, 프로그램 금지를 위한 부스팅의 효율이 저하되므로, 프로그램 교란이 발생될 것이다.At time t5, selected cell strings (eg, even cell strings) of odd cell strings (eg, CS1, CS4, CS5) and even cell strings (eg, CS2, CS3, CS6) (CS2, CS3, CS6) is provided with a ground voltage through the bit lines (BL1 ~ BL3). In addition, the channel voltage of the unselected cell strings (eg, odd cell strings CS1, CS4, and CS5) maintains a voltage Vboost. When the ground voltage Vss is applied to the selected cell strings CS2, CS3, and CS6, the channel voltages of the unselected cell strings CS1, CS4, and CS5 are changed due to channel to channel coupling. Will be reduced from the voltage Vboost. That is, since the efficiency of boosting for program prohibition is lowered, program disturb will occur.

종래의 경우, 메모리 셀 어레이의 행 방향을 따라 짝수 셀 스트링 및 홀수 셀 스트링이 교대로 배치된다. 다시 말하면, 행 방향을 따라 n (n은 양의 정수) 번째 셀 스트링이 짝수 셀 스트링이면, 행 방향을 따라 n+1 및 n-1 번째 셀 스트링은 홀수 셀 스트링이다. 즉, 두 개의 짝수 셀 스트링들의 사이에 홀수 셀 스트링이 배치되고, 두 개의 홀수 셀 스트링들의 사이에 짝수 셀 스트링이 배치된다. 따라서, 시간(t5)에 짝수 셀 스트링들에 접지 전압(Vss)이 제공되면, 홀수 셀 스트링은 인접한 두 개의 짝수 셀 스트링들로부터 커플링의 영향을 받는다. 마찬가지로, 시간(t5)에 홀수 셀 스트링들에 접지 전압(Vss)이 제공되면, 짝수 셀 스트링은 인접한 두 개의 홀수 셀 스트링들로부터 커플링의 영향을 받는다.In the conventional case, even cell strings and odd cell strings are alternately arranged along the row direction of the memory cell array. In other words, if the n (n is positive integer) th cell string along the row direction is an even cell string, the n + 1 and n-1 th cell strings along the row direction are odd cell strings. That is, an odd cell string is disposed between two even cell strings, and an even cell string is disposed between two odd cell strings. Therefore, if the ground voltage Vss is provided to the even cell strings at time t5, the odd cell string is affected by the coupling from two adjacent even cell strings. Similarly, if the ground voltage Vss is provided to the odd cell strings at time t5, the even cell string is affected by coupling from two adjacent odd cell strings.

상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 실시 예에 따르면, 행 방향을 따라 순차적으로 배열되는 제 1 내지 제 4 셀 스트링들에 대한 프로그램 동작 시에, 제 1 및 제 4 셀 스트링들과 제 2 및 제 3 셀 스트링들에 대해 교대로 프로그램 동작을 수행한다. 즉, 짝수 셀 스트링들(CS2, CS3, CS6)에 대해 프로그램 동작이 수행되는 경우, 홀수 셀 스트링들(CS1, CS4, CS5)은 프로그램 금지로 설정된다.According to an embodiment of the present invention for solving the above-described problems, the first and fourth cell strings and the first and fourth cell strings may be used during a program operation on the first to fourth cell strings sequentially arranged along the row direction. Alternately performing program operations on the second and third cell strings. That is, when the program operation is performed on the even cell strings CS2, CS3, and CS6, the odd cell strings CS1, CS4, and CS5 are set to prohibit program.

이때, 홀수 셀 스트링(CS1)은 인접한 짝수 셀 스트링(CS2)으로부터 커플링의 영향을 받는다. 홀수 셀 스트링(CS4)은 인접한 짝수 셀 스트링(CS3)으로부터 커플링의 영향을 받는다. 홀수 셀 스트링(CS5)은 인접한 짝수 셀 스트링(CS6)으로부터 커플링의 영향을 받는다. 즉, 본 발명의 실시 예에 따른 불휘발성 메모리 장치(200, 도 2 참조)의 프로그램 동작 시에, 짝수 및 홀수 셀 스트링들 중 비선택된 셀 스트링들은 인접한 하나의 선택된 셀 스트링으로부터 커플링의 영향을 받는다. 커플링의 영향을 주는 셀 스트링들의 수가 감소되므로, 커플링의 영향이 감소되며 프로그램 교란이 감소/방지된다.At this time, the odd cell string CS1 is affected by the coupling from the adjacent even cell string CS2. The odd cell string CS4 is affected by the coupling from the adjacent even cell string CS3. The odd cell string CS5 is affected by the coupling from the adjacent even cell string CS6. That is, in the program operation of the nonvolatile memory device 200 (refer to FIG. 2) according to an exemplary embodiment of the present disclosure, non-selected cell strings among even and odd cell strings may be affected by coupling from one adjacent selected cell string. Receive. Since the number of cell strings affecting coupling is reduced, the influence of coupling is reduced and program disturb is reduced / prevented.

마찬가지로, 홀수 셀 스트링들(CS1, CS4, CS5)에 대해 프로그램 동작이 수행되는 경우, 짝수 셀 스트링들(CS2, CS3, CS6)은 프로그램 금지로 설정된다. 이때, 짝수 셀 스트링(CS2)은 인접한 홀수 셀 스트링(CS1)으로부터 커플링의 영향을 받는다. 짝수 셀 스트링(CS3)은 인접한 홀수 셀 스트링(CS4)으로부터 커플링의 영향을 받는다. 짝수 셀 스트링(CS6)은 인접한 홀수 셀 스트링(CS5)으로부터 커플링의 영향을 받는다. 즉, 커플링의 영향을 주는 셀 스트링들의 수가 감소되므로, 커플링의 영향이 감소되며 프로그램 교란이 감소/방지된다.Similarly, when a program operation is performed on the odd cell strings CS1, CS4, CS5, the even cell strings CS2, CS3, CS6 are set to prohibit program. At this time, the even cell string CS2 is affected by the coupling from the adjacent odd cell string CS1. The even cell string CS3 is affected by the coupling from the adjacent odd cell string CS4. The even cell string CS6 is affected by the coupling from the adjacent odd cell string CS5. That is, since the number of cell strings affecting the coupling is reduced, the influence of the coupling is reduced and program disturb is reduced / prevented.

읽기 동작 또한 짝수 셀 스트링들(예를 들면, CS2, CS3, CS6) 및 홀수 셀 스트링들(CS1, CS4, CS5)에 대해 교대로 수행된다. 제어 라인(CL1)에 활성돠된 신호가 인가되면, 홀수 셀 스트링들(예를 들면, CS1, CS4, CS5)이 읽기 동작을 위해 선택될 것이다. 그리고 읽기/쓰기 회로(220, 도 2 참조)는 비트 라인들(BL1~BL3)을 전압(Vbl)으로 셋업할 것이다. 전압(Vbl)은 스위치 회로(211)를 통해 홀수 셀 스트링들(예를 들면, CS1, CS4, CS5)에 제공될 것이다.Read operations are also performed alternately on even cell strings (eg, CS2, CS3, CS6) and odd cell strings (CS1, CS4, CS5). When an active signal is applied to the control line CL1, odd cell strings (eg, CS1, CS4, CS5) will be selected for the read operation. The read / write circuit 220 (see FIG. 2) will set up the bit lines BL1 to BL3 to the voltage Vbl. The voltage Vbl may be provided to odd cell strings (eg, CS1, CS4, CS5) through the switch circuit 211.

제어 라인(CL2)에 활성돠된 신호가 인가되면, 짝수 셀 스트링들(예를 들면, CS2, CS3, CS6)이 읽기 동작을 위해 선택될 것이다. 그리고 읽기/쓰기 회로(220, 도 2 참조)는 비트 라인들(BL1~BL3)을 전압(Vbl)으로 셋업할 것이다. 전압(Vbl)은 스위치 회로(211)를 통해 짝수 셀 스트링들(예를 들면,CS2, CS3, CS6)에 제공될 것이다.When an active signal is applied to the control line CL2, even cell strings (eg, CS2, CS3, CS6) will be selected for the read operation. The read / write circuit 220 (see FIG. 2) will set up the bit lines BL1 to BL3 to the voltage Vbl. The voltage Vbl may be provided to even cell strings (eg, CS2, CS3, CS6) through the switch circuit 211.

읽기 동작을 위해 선택된 메모리 셀이 프로그램되지 않은 메모리 셀인 경우, 대응하는 셀 스트링의 채널 전압은 전압(Vbl)으로부터 접지 전압(Vss)으로 낮아질 것이다. 읽기 동작을 위해 선택된 메모리 셀이 프로그램된 메모리 셀인 경우, 대응하는 셀 스트링의 채널 전압은 전압(Vbl)을 유지할 것이다. 채널 전압이 접지 전압(Vss)으로 낮아지는 셀 스트링과 채널 전압이 전압(Vbl)을 유지하는 셀 스트링이 인접하여 배치되어 있는 경우, 두 개의 셀 스트링들 사이에서 커플링이 발생될 것이다.If the memory cell selected for the read operation is a non-programmed memory cell, the channel voltage of the corresponding cell string will be lowered from voltage Vbl to ground voltage Vss. If the memory cell selected for the read operation is a programmed memory cell, the channel voltage of the corresponding cell string will maintain the voltage Vbl. If a cell string in which the channel voltage is lowered to the ground voltage Vss and a cell string in which the channel voltage maintains the voltage Vbl are disposed adjacent to each other, coupling will occur between the two cell strings.

예시적으로, 짝수 셀 스트링들(예를 들면, CS2, CS3, CS6)이 읽기 동작을 위해 선택된 것으로 가정하자. 그리고, 읽기 동작을 위해 선택된 메모리 셀들 중 셀 스트링들(CS2, CS3)에 대응하는 메모리 셀들은 각각 논리 상태 '0' 및 '1'인 것으로 가정하자.By way of example, assume that even cell strings (eg, CS2, CS3, CS6) are selected for a read operation. Further, it is assumed that memory cells corresponding to the cell strings CS2 and CS3 among the memory cells selected for the read operation are logic states '0' and '1', respectively.

이 경우에, 읽기 동작을 위해 선택된 셀 스트링(CS2)의 메모리 셀은 프로그램된 메모리 셀이므로, 셀 스트링(CS2)의 채널 전압은 전압(Vbl)을 유지할 것이다. 읽기 동작을 위해 선택된 셀 스트링(CS3)의 메모리 셀은 프로그램되지 않은 메모리 셀이므로, 셀 스트링(CS3)의 채널 전압은 전압(Vbl)으로부터 접지 전압(Vss)으로 낮아질 것이다.In this case, since the memory cell of the cell string CS2 selected for the read operation is a programmed memory cell, the channel voltage of the cell string CS2 will maintain the voltage Vbl. Since the memory cell of the cell string CS3 selected for the read operation is an unprogrammed memory cell, the channel voltage of the cell string CS3 will be lowered from the voltage Vbl to the ground voltage Vss.

그런데, 셀 스트링들(CS2, CS3)은 서로 인접하게 배치되어 있다. 즉, 셀 스트링들은 상호간에 커플링의 영향을 받을 것이다. 따라서, 셀 스트링(CS2)의 채널 전압은 커플링의 영향으로 인해 전압(Vbl)보다 낮아질 것이다. 그리고, 셀 스트링(CS3)의 채널 전압은 커플링의 영향으로 인해 접지 전압(Vss)보다 높아질 것이다. 즉, 셀 스트링들(CS2, CS3)에서 읽기 교란이 발생될 수 있음이 이해될 것이다.However, the cell strings CS2 and CS3 are disposed adjacent to each other. That is, the cell strings will be affected by the coupling between each other. Therefore, the channel voltage of the cell string CS2 will be lower than the voltage Vbl due to the influence of the coupling. In addition, the channel voltage of the cell string CS3 may be higher than the ground voltage Vss due to the influence of the coupling. That is, it will be understood that read disturb may occur in the cell strings CS2 and CS3.

상술한 바와 같은 문제점을 방지하기 위하여, 본 발명의 실시 예에 따른 불휘발성 메모리 장치(200, 도 2 참조)는 비트 라인들을 행방향을 따라 교대로 전압(Vbl)으로 셋업할 것이다. 예를 들면, 비트 라인들(BL1, BL3)이 전압(Vbl)으로 설정되고, 비트 라인(BL2)은 접지 전압(Vss)으로 설정될 것이다. 그리고, 비트 라인들(BL1, BL3)에 연결되어 있는 셀 스트링들(CS1/CS2, CS5/CS6)에 대해 읽기 동작이 수행될 것이다. 이후에, 비트 라인들(BL1, BL3)이 접지 전압(Vss)으로 설정되고, 비트 라인(Bl2)이 전압(Vbl)으로 설정될 것이다. 그리고, 비트 라인(BL2)에 연결되어 있는 셀 스트링(CS3/CS4)에 대해 읽기 동작이 수행될 것이다.In order to prevent the above-described problem, the nonvolatile memory device 200 (see FIG. 2) according to an embodiment of the present invention will set up the bit lines to the voltage Vbl alternately along the row direction. For example, the bit lines BL1 and BL3 may be set to the voltage Vbl, and the bit line BL2 may be set to the ground voltage Vss. A read operation may be performed on the cell strings CS1 / CS2 and CS5 / CS6 connected to the bit lines BL1 and BL3. Thereafter, the bit lines BL1 and BL3 will be set to the ground voltage Vss and the bit line B2 will be set to the voltage Vbl. A read operation may be performed on the cell strings CS3 / CS4 connected to the bit line BL2.

예시적으로, 본 발명의 실시 예에 따른 불휘발성 메모리 장치(200, 도 2 참조)는 비트 라인들(BL1~BL3)을 짝수 비트 라인(예를 들면, BL2) 및 홀수 비트 라인들(BL1, BL3)로 구분하고, 짝수 및 홀수 비트 라인들에 대해 교대로 읽기 동작을 수행하는 것으로 이해될 수 있을 것이다.For example, the nonvolatile memory device 200 (refer to FIG. 2) according to an embodiment of the inventive concept may include the bit lines BL1 to BL3 as even bit lines (for example, BL2) and odd bit lines BL1. It may be understood that the operation is divided into BL3), and alternate read operations are performed on even and odd bit lines.

도 2 내지 4, 그리고 플래시 메모리 장치의 예를 참조하여 본 발명의 실시 예가 설명되었다. 그러나, 본 발명의 기술적 사상은 플래시 메모리 장치로 한정되 지 않음이 이해될 것이다. 예시적으로, 본 발명의 기술적 사상은 SRAM, DRAM, SDRAM 등과 같은 휘발성 메모리 장치, 그리고 ROM, PROM, EPROM, EEPROM, 플래시 메모리 장치, PRAM, MRAM, RRAM, FRAM 등과 같은 불휘발성 메모리 장치를 포함하는 다양한 저장 장치들에 적용될 수 있음이 이해될 것이다.An embodiment of the present invention has been described with reference to FIGS. 2 to 4 and an example of a flash memory device. However, it will be understood that the technical idea of the present invention is not limited to the flash memory device. For example, the technical idea of the present invention includes a volatile memory device such as SRAM, DRAM, SDRAM, and the like, and a nonvolatile memory device such as a ROM, PROM, EPROM, EEPROM, flash memory device, PRAM, MRAM, RRAM, FRAM, or the like. It will be appreciated that it can be applied to various storage devices.

도 4에서, 시간들(t1~t4) 사이에서, 공통 소스 라인(CSL)에 전원(Vcc)이 인가되는 것으로 설명되었다. 그러나, 공통 소스 라인(CSL)에 전원(Vcc) 대신에 접지 전압(Vss) 또는 다른 레벨을 갖는 전압이 인가될 수 있음이 이해될 것이다.In FIG. 4, it is described that the power source Vcc is applied to the common source line CSL between the times t1 to t4. However, it will be understood that a voltage having a ground voltage Vss or other level may be applied to the common source line CSL instead of the power supply Vcc.

도 5는 도 1의 메모리 시스템(10)을 포함하는 컴퓨팅 시스템(300)의 실시 예를 보여주는 블록도이다. 도 5를 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 컴퓨팅 시스템(300)은 중앙 처리 장치(310), 램(320, RAM, Random Access Memory), 사용자 인터페이스(330), 전원(340), 그리고 메모리 시스템(10)을 포함한다.FIG. 5 is a block diagram illustrating an embodiment of a computing system 300 including the memory system 10 of FIG. 1. Referring to FIG. 5, a computing system 300 according to an embodiment of the present invention may include a central processing unit 310, a random access memory (RAM) 320, a user interface 330, a power source 340, and a memory. System 10.

메모리 시스템(10)은 시스템 버스(350)를 통해, 중앙처리장치(310), 램(320), 사용자 인터페이스(330), 그리고 전원(340)에 전기적으로 연결된다. 사용자 인터페이스(330)를 통해 제공되거나, 중앙 처리 장치(310)에 의해서 처리된 데이터는 메모리 시스템(10)에 저장된다. 메모리 시스템(10)은 컨트롤러(100) 및 플래시 메모리 장치(100)를 포함한다.The memory system 10 is electrically connected to the CPU 310, the RAM 320, the user interface 330, and the power source 340 through the system bus 350. Data provided through the user interface 330 or processed by the central processing unit 310 is stored in the memory system 10. The memory system 10 includes a controller 100 and a flash memory device 100.

메모리 시스템(10)이 반도체 디스크 장치(SSD)로 장착되는 경우, 컴퓨팅 시스템(300)의 부팅 속도가 획기적으로 빨라질 수 있다. 도면에 도시되지 않았지만, 본 발명에 따른 시스템은 응용 칩셋(Application Chipset), 카메라 이미지 프로세서(Camera Image Processor) 등을 더 포함할 수 있음은 이 분야의 통상적인 지식을 습득한 자들에게 이해될 것이다.When the memory system 10 is mounted as a semiconductor disk device (SSD), the booting speed of the computing system 300 may be dramatically increased. Although not shown in the drawings, it will be understood by those skilled in the art that the system according to the present invention may further include an application chipset, a camera image processor, and the like.

본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시 예에 관하여 설명하였으나, 본 발명의 범위와 기술적 사상에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 자명하다. 그러므로 본 발명의 범위는 상술한 실시 예에 국한되어 정해져서는 안되며 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 발명의 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.In the detailed description of the present invention, specific embodiments have been described, but it is obvious that various modifications can be made without departing from the scope and spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the above-described embodiments, but should be determined by the claims equivalent to the claims of the present invention as well as the claims of the following.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 메모리 시스템을 보여주는 블록도이다.1 is a block diagram illustrating a memory system according to an example embodiment of the disclosure.

도 2는 도 1의 불휘발성 메모리 장치를 보여주는 블록도이다.FIG. 2 is a block diagram illustrating a nonvolatile memory device of FIG. 1.

도 3은 도 2의 메모리 셀 어레이를 더 상세하게 보여주는 회로도이다.3 is a circuit diagram illustrating the memory cell array of FIG. 2 in more detail.

도 4는 프로그램 동작 시에 도 3의 메모리 셀 어레이에 인가되는 바이어스 전압들을 보여주는 타이밍도이다.4 is a timing diagram illustrating bias voltages applied to the memory cell array of FIG. 3 during a program operation.

Claims (14)

행 방향을 따라 순차적으로 배치되는 제 1 내지 제 4 셀 스트링들; 그리고First to fourth cell strings sequentially arranged along the row direction; And 상기 제 1 내지 제 4 셀 스트링들을 제 1 및 제 2 비트 라인들에 선택적으로 전기적으로 연결하는 스위치 회로를 포함하고,A switch circuit for selectively electrically connecting the first to fourth cell strings to first and second bit lines; 상기 스위치 회로는 제 1 동작 모드 시에 상기 제 1 및 제 4 셀 스트링들을 상기 제 1 및 제 2 비트 라인들에 각각 전기적으로 연결하고, 제 2 동작 모드 시에 상기 제 2 및 제 3 셀 스트링들을 상기 제 1 및 제 2 비트 라인들에 각각 전기적으로 연결하는 불휘발성 메모리 장치.The switch circuit electrically connects the first and fourth cell strings to the first and second bit lines, respectively, in a first mode of operation and connects the second and third cell strings in a second mode of operation. And a nonvolatile memory device electrically connected to the first and second bit lines, respectively. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 스위치 회로는The switch circuit 상기 제 1 셀 스트링 및 상기 제 1 비트 라인 사이에 연결되며, 제 1 제어 라인에 의해 제어되는 트랜지스터; 그리고A transistor connected between the first cell string and the first bit line and controlled by a first control line; And 상기 제 2 셀 스트링 및 상기 제 1 비트 라인 사이에 연결되며, 제 2 제어 라인에 의해 제어되는 트랜지스터를 포함하는 불휘발성 메모리 장치.And a transistor coupled between the second cell string and the first bit line, the transistor being controlled by a second control line. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 스위치 회로는The switch circuit 상기 제 3 셀 스트링 및 상기 제 2 비트 라인 사이에 연결되며, 상기 제 2 제어 라인에 의해 제어되는 트랜지스터; 그리고A transistor connected between the third cell string and the second bit line and controlled by the second control line; And 상기 제 4 셀 스트링 및 상기 제 2 비트 라인 사이에 연결되며, 상기 제 1 제어 라인에 의해 제어되는 트랜지스터를 더 포함하는 불휘발성 메모리 장치.And a transistor coupled between the fourth cell string and the second bit line and controlled by the first control line. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 읽기 동작 시에, 상기 제 1 및 제 2 비트 라인들에 읽기 동작을 위한 바이어스 전압이 교대로 인가되는 불휘발성 메모리 장치.The nonvolatile memory device of claim 1, wherein a bias voltage for a read operation is alternately applied to the first and second bit lines. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 읽기 동작 시에, 상기 제 1 및 제 2 비트 라인들에 읽기 동작을 위한 바이어스 전압이 동시에 인가되는 불휘발성 메모리 장치.The nonvolatile memory device of claim 1, wherein a bias voltage for a read operation is simultaneously applied to the first and second bit lines. 행 방향을 따라 순차적으로 배열되는 제 1 내지 제 4 셀 스트링들을 포함하는 불휘발성 메모리 장치의 동작 방법에 있어서:A method of operating a nonvolatile memory device including first to fourth cell strings sequentially arranged along a row direction: 프로그램 동작 시에, 상기 제 1 및 제 4 셀 스트링들과 상기 제 2 및 제 3 셀 스트링들에 대해 교대로 프로그램 동작을 수행하는 동작 방법.And performing a program operation on the first and fourth cell strings and the second and third cell strings alternately during a program operation. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 제 1 및 제 2 셀 스트링들은 제 1 비트 라인에 선택적으로 전기적으로 연결되고, 상기 제 3 및 제 4 셀 스트링들은 제 2 비트 라인에 선택적으로 전기적 으로 연결되는 동작 방법.And the first and second cell strings are selectively electrically connected to a first bit line, and the third and fourth cell strings are selectively electrically connected to a second bit line. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 읽기 동작 시에, 상기 제 1 및 제 2 비트 라인들에 읽기 동작을 위한 바이어스 전압을 동시에 인가하는 동작 방법.And applying a bias voltage for a read operation to the first and second bit lines simultaneously in a read operation. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 읽기 동작 시에, 상기 제 1 및 제 2 비트 라인들에 읽기 동작을 위한 바이어스 전압을 교대로 인가하는 동작 방법.And applying a bias voltage for a read operation to the first and second bit lines in a read operation. 불휘발성 메모리 장치; 그리고Nonvolatile memory devices; And 상기 불휘발성 메모리 장치를 제어하는 컨트롤러를 포함하고,A controller for controlling the nonvolatile memory device, 상기 불휘발성 메모리 장치는The nonvolatile memory device 행 방향을 따라 순차적으로 배치되는 제 1 내지 제 4 셀 스트링들;First to fourth cell strings sequentially arranged along the row direction; 상기 제 1 내지 제 4 셀 스트링들을 제 1 및 제 2 비트 라인들에 선택적으로 전기적으로 연결하는 스위치 회로를 포함하고,A switch circuit for selectively electrically connecting the first to fourth cell strings to first and second bit lines; 상기 스위치 회로는 제 1 동작 모드 시에 상기 제 1 및 제 4 셀 스트링들을 각각 제 1 및 제 2 비트 라인들에 전기적으로 연결하고, 제 2 동작 모드 시에 상기 제 2 및 제 3 셀 스트링들을 각각 상기 제 1 및 제 2 비트 라인들에 전기적으로 연결하는 메모리 시스템.The switch circuit electrically connects the first and fourth cell strings to first and second bit lines, respectively, in a first mode of operation and respectively connects the second and third cell strings in a second mode of operation. And a memory system electrically connected to the first and second bit lines. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 불휘발성 메모리 장치 및 상기 컨트롤러는 하나의 반도체 장치로 집적되는 메모리 시스템.And the nonvolatile memory device and the controller are integrated into one semiconductor device. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 불휘발성 메모리 장치 및 상기 컨트롤러는 메모리 카드를 형성하는 메모리 시스템.And the nonvolatile memory device and the controller form a memory card. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 불휘발성 메모리 장치 및 상기 컨트롤러는 반도체 디스크 장치를 형성하는 메모리 시스템.And the nonvolatile memory device and the controller form a semiconductor disk device. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 컨트롤러는 외부의 호스트와 통신하는 메모리 시스템.The controller is in communication with an external host.
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