KR20100024213A - Method for making nanostructured metal carbides and a metal carbides made there by - Google Patents

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우기도
김병량
문민석
박정환
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전북대학교산학협력단
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Abstract

PURPOSE: A manufacturing method of a nano structure metal carbide and the and nano structure metal carbide manufactured from thereof are provided to perform a pressing molding and a sintering operation at high temperature in several minutes by heating nano powder with a heat generated from an inducing current or an impulse current. CONSTITUTION: A manufacturing method of a nano structure metal carbide comprises the following steps: nano pulverizing the metal carbide powder to make a nano particle size by ball milling; pressing molding and sintering the powder from the nano pulverizing step while heating the powder with a heat generated from an electric current; and cooling the pressing molded and sintered nano structure at room temperature when the contraction length does not change by blocking the electric current. The metal carbide powder is selected from the group consisting of titanium carbide, tungsten carbide, silicon carbide, tantalium carbide, vanadium carbide, and niobium carbide.

Description

나노구조 금속탄화물 제조방법 및 이로부터 제조되는 나노구조 금속 탄화물{METHOD FOR MAKING NANOSTRUCTURED METAL CARBIDES AND A METAL CARBIDES MADE THERE BY}METHOD FOR MAKING NANOSTRUCTURED METAL CARBIDES AND A METAL CARBIDES MADE THERE BY

본 발명은 금속 탄화물 제조 방법에 관한 것이며, 더욱 상세히는 나노구조 금속 탄화물 제조 방법 및 이로부터 제조되는 나노구조 금속탄화물에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing metal carbide, and more particularly to a method for producing a nanostructure metal carbide and a nanostructure metal carbide produced therefrom.

금속 탄화물은 금속 탄화물 분말을 가압성형 및 소결한 고경도 재료로 초경재료이라고도 하며, 열간 압축(Hot Pressing) 성형기, 열간 정수압(HIP; Hot isostatic pressing) 성형기 등을 이용하여 제조한다.Metal carbide is a high hardness material obtained by press molding and sintering metal carbide powder, also called a cemented carbide material, and manufactured using a hot pressing molding machine, a hot isostatic pressing molding machine, or the like.

예컨대, 기존의 금속 탄화물은 입자 크기에 따라서 차이가 있기는 하지만, 통상적으로 상기 분말을 열간 압축 성형기나 열간 정수압 성형기에 투입한 후, 대략 1700℃ 이상의 고온에서 1시간 이상을 가열해서 가압성형 및 소결하여 제조한다.For example, conventional metal carbides are different depending on the particle size, but typically, the powder is introduced into a hot compression molding machine or a hot hydrostatic pressure molding machine, and then press-molded and sintered by heating at least 1 hour at a high temperature of about 1700 ° C or higher. To prepare.

실제로, 실리콘 카바이드는 실리콘카바이드 분말을 열간 정수압 성형기에서 2000℃ 이상에서 100㎫ 압력하에서 1시간을 가열하여 가압성형 및 소결하여 제조한다.In practice, silicon carbide is produced by press forming and sintering silicon carbide powder by heating at a hydrostatic pressure molding machine for 1 hour at 2000 MPa or more under 100 MPa pressure.

그러나 상기와 같은 방법은 고온 및 장시간에 걸쳐 제조하는 방법으로 경제적이지 못한 단점이 있고, 상기한 바와 같이 금속탄화물 분말을 고온에서 장시간 가열해서 가압성형 및 소결하면 제조되는 금속 탄화물의 결정립이 성장하므로 금속 탄화물의 입자 크기가 커져서 기계적 성질이 나뿐 단점이 있다. 또한 초경합금이나 초경합금 소결체에 대하여는 주로 수용성 염을 사용(대한민국 특허 제 374705 호)하거나 결정의 특정면을 우선 성장시키는 방법(대한민국 공개특허 제 1999-69647 호)등을 사용하여 그 제조방법이 간단하지 않았다.However, the above-described method has a disadvantage in that it is not economical as a method of manufacturing at a high temperature and a long time, and as described above, when the metal carbide powder is heated at a high temperature for a long time under pressure molding and sintering, crystal grains of the metal carbide produced are grown. The grain size of the carbides is large and mechanical properties are disadvantageous as well. In addition, for the cemented carbide or cemented carbide sintered body, the manufacturing method was not simple using a water-soluble salt (Korean Patent No. 374705) or a method of first growing a specific surface of a crystal (Korean Patent Publication No. 1999-69647). .

본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 특정 금속탄화물 분말의 입자 크기가 나노구조를 가지도록 볼밀링법으로 나노분말화한 후, 상기 나노구조 분말에 유도전류나 펄스 전류에 의해 발생하는 열을 가하면서 상기 나노구조 분말의 수축길이 변화가 없을 때까지 상기 나노구조 분말을 가압성형 및 소결하여서, 단시간에 고온의 가압성형 및 소결잡업을 마칠 수 있고 이에 따라 결정립 성장은 더 제한하고 기계적 성질은 상대적으로 우수한 나노구조를 가지는 금속 탄화물을 제조하는 나노구조 금속 탄화물의 제조 방법을 제공함에 있다. 본 발명은 또한 상기한 방법으로 제조되는 나노구조 금속탄화물을 제공하는데 또 다른 목적이 있다.The present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, an object of the present invention after the nano-powder milling by a ball milling method so that the particle size of a specific metal carbide powder has a nanostructure, the induction current or Pressing and sintering the nanostructured powder until the shrinkage length of the nanostructured powder does not change while applying the heat generated by the pulse current, thereby completing high temperature pressing and sintering operations in a short time and thus grain growth The more restrictive and mechanical properties are to provide a method for producing nanostructured metal carbides for producing metal carbides having relatively good nanostructures. Another object of the present invention is to provide a nanostructured metal carbide produced by the above method.

상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 ;The present invention to achieve the object of the present invention as described above;

금속탄화물 분말을 볼 밀링하여 입자크기가 나노구조를 가지도록 나노 분말화하는 단계(S1) ;Ball milling the metal carbide powder to nano-powder the particle size to have a nanostructure (S1);

상기 단계(S1)에서의 나노분말에 전류에 의해 발생하는 열을 가하면서 가압성형 및 소결하는 단계(S2) ; 그리고 상기 나노 분말의 수축 길이 변화가 없으면 전류를 차단하고 상기 전류차단 직전까지 가압성형 및 소결 된 나노구조물을 상온으로 냉각하는 단계(S3)를 포함하는 나노구조 금속탄화물 제조방법을 제공한다.Press molding and sintering while applying heat generated by current to the nanopowder in the step (S1) (S2); And if there is no change in the shrinkage length of the nano-powder provides a method for producing a nanostructure metal carbide comprising the step (S3) of blocking the current and cooling the pressurized and sintered nanostructure to room temperature just before the current blocking.

상기에서, 상기 단계(S1)에서의 금속탄화물은 티타늄 카바이드(TiC), 텅스텐 카바이드(WC), 실리콘 카바이드(SiC), 탄탈륨 카바이드(TaC), 바나듐 카바이드(VC), 니오비움 카바이드(NbC)로 구성되는 그룹에서 선택되는 1종 이상이 바람직하고, 상기 단계(S1)에서의 금속탄화물의 나노 분말화는 입자크기가 100㎚ 이하가 되도록 함이 바람직하다.In the above, the metal carbide in the step (S1) is titanium carbide (TiC), tungsten carbide (WC), silicon carbide (SiC), tantalum carbide (TaC), vanadium carbide (VC), niobium carbide (NbC) At least one selected from the group consisting of is preferable, and nano-powdering of the metal carbide in the step (S1) is preferably such that the particle size is 100nm or less.

또한, 상기 단계(S2)에서의 가압성형 및 소결은 2~5분간 행함이 바람직하다.In addition, the press molding and sintering in the step (S2) is preferably performed for 2 to 5 minutes.

또한, 상기단계(S2)에서의 전류에 의해 발생하는 열은 유도 전류에 의한 열로, 상기 유도 전류는 1㎑~100㎑의 주파수를 갖는 유도 전류를 사용함이 바람직하다.In addition, the heat generated by the current in the step (S2) is a heat generated by the induction current, the induction current is preferably used induction current having a frequency of 1 kHz ~ 100 kHz.

본 발명에서는 또한, 상기단계(S2)에서의 전류에 의해 발생하는 열은 펄스전류에 의한 열을 사용할 수도 있는데, 이때의 펄스전류는 주기가 1㎲~1㎳인 펄스전류를 사용함이 바람직하고, 상기 열의 가열속도는 100~5000℃/분으로 행하고, 상기단계(S2)에서의 가압성형은 10~1000㎫의 압력을 가하면서 행함이 바람직하고, 상기 가압성형 및 소결은 0.01~1토르의 진공상태에서 행할 수도 있다.In the present invention, the heat generated by the current in the step (S2) may also use heat by the pulse current, the pulse current at this time, it is preferable to use a pulse current of 1 ㎲ ~ 1 주기 period, The heating rate of the heat is carried out at 100 ~ 5000 ℃ / min, the press molding in the step (S2) is preferably carried out while applying a pressure of 10 ~ 1000 MPa, the press molding and sintering is in the vacuum state of 0.01 ~ 1 Torr You can also do

또한, 상기단계(S3)에서의 나노분말의 수축길이 변화관찰은 성형 변위 차동변압기(LVDT)로 행할 수 있다.In addition, the observation of the change in the shrinkage length of the nanopowder in the step S3 can be performed by a molding displacement differential transformer (LVDT).

상기에서 본 발명의 방법을 실행할 때의 금속탄화물 양은 약 10~20g이다.In the above, the amount of metal carbide when carrying out the method of the present invention is about 10-20 g.

본 발명은 또한, 상기한 방법으로 제조되는 나노구조 금속탄화물로서, 상기 금속탄화물은 티타늄 카바이드(TiC), 텅스텐 카바이드(WC), 실리콘 카바이드(SiC), 탄탈륨 카바이드(TaC), 바나듐 카바이드(VC), 니오비움 카바이드(NbC)로 구성되는 그룹에서 선택되는 1종 이상인 나노구조 금속탄화물을 제공한다.The present invention is also a nanostructure metal carbide prepared by the above method, the metal carbide is titanium carbide (TiC), tungsten carbide (WC), silicon carbide (SiC), tantalum carbide (TaC), vanadium carbide (VC) It provides, at least one nanostructure metal carbide selected from the group consisting of niobium carbide (NbC).

상기한 바와 같은 본 발명에 따른 나노구조 금속 탄화물 제조 방법에 의하면 입자 크기가 나노구조를 가지도록 볼밀링법으로 나노분말화한 분말에 유도전류나 펄스 전류에 의해 발생하는 열을 가하므로, 수분, 예를 들어, 2~5분 이내로 고온의 가압성형 및 소결 작업을 수행할 수 있으며, 그 결과 종래에 비해 금속 탄화물의 결정립 성장은 더 제한하고 기계적 성질이 우수한 나노구조 금속 탄화물을 제조할 수 있게 된다.According to the method of manufacturing a nanostructure metal carbide according to the present invention as described above, since the powder generated by the ball milling method so that the particle size has a nanostructure, the heat generated by the induced current or the pulse current is applied, so that the moisture, For example, high temperature press forming and sintering operations can be performed within 2 to 5 minutes, and as a result, it is possible to produce nanostructure metal carbides having more limited grain growth and excellent mechanical properties than conventional ones. .

이하에서는 본 발명을 첨부한 도면을 참조하여 바람직한 실시예를 통하여 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, the present invention will be described in more detail through preferred embodiments.

본 발명에 따른 나노구조 금속 탄화물 제조 방법은 다음과 같이 수행된다.Nanostructured metal carbide production method according to the invention is carried out as follows.

먼저, 특정 금속탄화물 분말을 입자 크기가 나노구조를 가지도록 볼밀링법으로 나노분말화 한다.First, the specific metal carbide powder is nanopowdered by ball milling so that the particle size has a nanostructure.

상기 금속탄화물은 티타늄 카바이드(TiC), 텅스텐 카바이드 (WC), 실리콘 카바이드 (SiC), 탄탈륨 카바이드 (TaC), 바나듐 카바이드 (VC), 니오비움 카바이드 (NbC) 등에서 선택하여 사용할 수 있다. The metal carbide may be selected from titanium carbide (TiC), tungsten carbide (WC), silicon carbide (SiC), tantalum carbide (TaC), vanadium carbide (VC), niobium carbide (NbC), and the like.

상기와 같은 금속탄화물 분말은 나노구조 금속 카바이드 제조와 소결 속도를 빠르게 하기 위해서, 입자 크기가 100㎚ 이하가 되도록 나노 분말화하는 것이 바람직하다. 본 발명에서는 이들 분말을 나노분말화 할 수 있는 방법이면 그 어떤 방법이라도 적용할 수 있으나, 볼밀링법으로 이들 혼합물을 나노 분말화하는 것이 가장 바람직한데, 상기 볼밀링법은 여타의 다른 분쇄법과는 달리 분말 제조시 가해지는 에너지가 충분히 커 분말을 나노화하는데 적합하기 때문이다.The metal carbide powder as described above is preferably nano-powdered so as to have a particle size of 100 nm or less in order to speed up the production and sintering rate of the nanostructure metal carbide. In the present invention, any method may be applied as long as it is a method capable of nanopowdering these powders, but it is most preferable to nanopowder these mixtures by a ball milling method, which is different from other grinding methods. Otherwise, the energy applied during powder preparation is large enough to be suitable for nanoning the powder.

상기와 같이 나노분말화된 탄화물에는 이후 외부전류에 의해 발생하는 열, 예를 들어 유도전류나 펄스 전류에 의해 발생하는 열과 압력이 가해지며, 이로써 상기 나노구조 탄화물이 가압성형 및 소결되어 나노구조 금속 탄화물이 제조된다. 이때, 상기 나노구조 금속 탄화물 제조는 대기상태나 진공상태에서 이루어지는 것이 좋으며, 상기 진공상태에서 행할 때는 재료에 따라 달리 설정할 수 있으나 0.01~1torr로 유지하는 것이 좋은데, 진공도를 좋게 하면 산화억제로 양호한 소결 재료를 얻을 수 있지만 제조 시간이 많이 걸리고 장치 비용이 많이 들기 때문에 재료에 따라 진공도를 달리하여야 하고 그 범위는 상기 범위가 좋고 가장 바람직하게는 금속의 산화를 억제시키기 위해서 0.04torr를 유지하는 것이 좋다.The nano-powdered carbide as described above is then subjected to heat generated by an external current, for example, heat and pressure generated by an induced current or a pulsed current, whereby the nanostructured carbide is pressed and sintered to form a nanostructured metal. Carbide is produced. In this case, the nanostructure metal carbide production is preferably made in the atmospheric state or vacuum state, when performing in the vacuum state can be set differently depending on the material, but it is good to maintain at 0.01 ~ 1torr, if the vacuum degree is good, good sintering by oxidation inhibition Since the material can be obtained, but the manufacturing time is high and the apparatus cost is high, the degree of vacuum must be varied according to the material, and the range is good in the above range, and most preferably, 0.04 torr is maintained to suppress the oxidation of the metal.

또한 가압성형시 상기 압력은 10~1000㎫로 부가되는 것이 바람직하나 상압에서도 가능하다. 상기 압력 범위가 10㎫ 미만일 경우에는 시편을 충분히 치밀화 할 수 없다는 문제점이 있으며, 1000㎫를 초과할 경우에는 나노구조 금속 탄화물 제조용 장치제작 비용이 많이 소요되는 문제점이 있다.In addition, in the press molding, the pressure is preferably added at 10 to 1000 MPa, but it is possible at normal pressure. If the pressure range is less than 10 MPa, there is a problem that the specimen can not be sufficiently densified, and if the pressure range exceeds 1000 MPa, there is a problem in that the manufacturing cost of manufacturing a device for manufacturing nanostructure metal carbide is high.

또한, 상기와 같은 압력이 부가되는 상태에서 상기 나노구조 탄화물에 유도전류나 펄스 전류에 의해 발생하는 열을 가하여 가압성형 및 소결하게 되는데, 구체적으로 상기 나노구조 탄화물의 외부에 접하지 않으면서 그 주위를 둘러싸고 있는 외부 코일, 예를 들어, 구리 코일과 같은 도전성 금속 코일에 고주파 유도전류를 인가하고, 이 유도전류에 의해 발생하는 주울 열에 의해 나노구조 혼합물을 간접적으로 가열하여 가압성형 및 소결하거나, 혹은 나노구조 탄화물이 수용된 다이 부재에 인가되는 펄스 전류에 의해 발생하는 주울 열에 의해 나노구조 탄화물을 가열하여 가압성형 및 소결할 수도 있다.In addition, in the state in which the pressure is added, the nanostructure carbide is press-molded and sintered by applying heat generated by an induced current or a pulse current, and specifically, the nanostructure carbide is not in contact with the outside of the nanostructure carbide. Applying a high frequency induction current to a conductive metal coil such as, for example, a copper coil surrounding the copper coil, and indirectly heating and pressurizing and sintering the nanostructure mixture by Joule heat generated by the induced current, or The nanostructure carbide may be heated, press-molded and sintered by Joule heat generated by pulse current applied to the die member in which the nanostructure carbide is accommodated.

여기서, 상기 고주파 유도전류를 사용할 때의 외부 코일에 인가되는 고주파 유도전류의 주파수는 1㎑~100㎑인 것이 바람직한데, 이는 소결 시편의 크기에 따라 변할 수 있는 것이며 시편 크기가 크면 유도전류의 침투 깊이를 크게 해야 하므로 주파수를 낮추어 주어야 한다. 또한 펄스전류를 사용할 때의 펄스 전류의 주기는 1㎲~1㎳인 것이 바람직한데, 실험결과 펄스주기가 짧으면 갇혀진 가스방출이 용이하고 소결이 잘 되기 때문이다. 이때, 유도전류의 주파수 범위는 고주파 전류의 침투 깊이는 주파수에 의존하기 때문에 시편의 크기에 따라 적당하게 조정해야 한다. 또한, 상기 고주파 유도전류에 의해 간접적으로 발생하는 열이나 펄스전류에 의해 발생하는 열에 의한 가열속도는 100~5000℃/min로 설정하는 것이 바람직한데, 상기 가열속도가 100℃/min 미만일 경우에는 소결하는 시간이 많이 걸려서 결정립이 성 장하는 문제점이 발생할 수 있고, 5000℃/min을 초과할 경우에는 가열속도가 너무 빨라서 시편에 열 응력이 발생하는 문제점이 있기 때문이다.Here, the frequency of the high frequency induction current applied to the external coil when using the high frequency induction current is preferably 1 kHz to 100 kHz, which may vary depending on the size of the sintered specimen, and the larger the specimen, the penetration of the induced current. The depth must be large, so the frequency must be lowered. In addition, the period of the pulse current when using the pulse current is preferably 1 ㎲ ~ 1, because, as a result of the experiment, the short pulse period is easy to trap the trapped gas and sintered well. At this time, the frequency range of the induced current should be properly adjusted according to the size of the specimen because the penetration depth of the high frequency current depends on the frequency. In addition, the heating rate by heat generated indirectly by the high frequency induction current or heat generated by pulse current is preferably set to 100 to 5000 ° C./min, and when the heating rate is less than 100 ° C./min, sintering is performed. It takes a long time to cause a problem that the grain grows, and if it exceeds 5000 ℃ / min because the heating rate is too fast there is a problem that the thermal stress occurs in the specimen.

상기와 같은 유도전류 가열/가압 소결법 혹은 펄스 전류 가열/가압 소결법으로 상기 나노구조 혼합물을 가열하면서 가압성형 및 소결할 때, 상기 나노구조 탄화물은 계속적으로 가해지는 압력에 의해 치밀화되면서 수축길이가 줄어들게 되고, 이러한 치밀화가 완료되어 더 이상이 수축길이 변화가 없게 되면, 이 시점에서 상기 유도전류나 펄스 전류를 차단하고 압력을 제거한다. When press-molding and sintering the nanostructure mixture while heating the induction current heating / pressurizing sintering method or the pulse current heating / pressurizing sintering method as described above, the nanostructured carbide is densified by the continuously applied pressure and the shrinkage length is reduced. When the densification is completed and there is no longer a change in contraction length, at this point, the induced current or pulse current is blocked and the pressure is removed.

상기와 같이 나노구조 혼합물에 압력 및 유도전류나 펄스 전류를 가하는 순간부터 나노구조 혼합물이 고상 치환 반응하고 완전히 치밀화되어 수축길이 변화가 더 이상 없는 시점에 압력 및 유도전류나 펄스전류가 제거되는 순간까지는 대략 2~5분의 시간이 소요되는데, 시간이 2분 이하면 시편에 열응력이 일어나 나노구조를 얻기 힘들기 때문인데, 이에 따라 본 발명에 따르면 탄화물 내에 기공 형성이 없이 치밀한 나노구조 금속 탄화물을 단시간에 제조할 수 있다.From the moment of applying pressure, induction current or pulse current to the nanostructure mixture as described above, from the moment when the nanostructure mixture reacts to solid phase and is fully densified, the moment when the pressure, induction current or pulse current is removed is no longer changed. It takes about 2 to 5 minutes, because if less than 2 minutes the thermal stress on the specimen is difficult to obtain the nanostructure, according to the present invention, the dense nanostructure metal carbide without pore formation in the carbide according to the present invention It can be produced in a short time.

그 다음, 상기 나노구조 탄화물을 상온으로 냉각하는 단계로, 상기 냉각은 통상의 방법에 따라 실시할 수 있다.Thereafter, the nanostructure carbide is cooled to room temperature, and the cooling may be performed according to a conventional method.

또한 상기와 같은 과정을 거치면 나노구조 금속 탄화물의 제조 후 후처리 공정이 필요치 않아 단일 공정만으로 단시간에 나노구조 금속 탄화물을 제조할 수 있다.In addition, since the post-treatment process is not required after the preparation of the nanostructure metal carbide, the nanostructure metal carbide can be manufactured in a short time using a single process.

상기와 같은 본 발명의 나노구조 금속 탄화물은 유도전류 가열/가압 소결기, 또는 펄스전류 가열/가압 소결기를 사용하여 제조할 수 있다. 이를 도면을 참조하 여 설명하면, 도 1은 본 발명에 따른 나노구조 금속 탄화물 제조 방법을 구현하기 위해 사용되는 유도전류 가열/가압 소결기이다.Nanostructure metal carbide of the present invention as described above can be produced using an induction current heating / pressure sintering machine, or a pulse current heating / pressure sintering machine. Referring to this with reference to the drawings, Figure 1 is an induction current heating / pressure sintering machine used to implement the nanostructure metal carbide manufacturing method according to the present invention.

도 1을 참조하면, 유도전류 가열/가압 소결기(100)는 다이 부재(110)와, 가압 부재(120), 및 유도 전류 발생 부재(130)로 구성된다.Referring to FIG. 1, the induction current heating / pressurizing sinterer 100 includes a die member 110, a pressing member 120, and an induction current generating member 130.

상기 다이 부재(110)는 나노분말화된 금속탄화물을 수납하기 위한 것으로, 흑연 다이인 것이 바람직하며, 내부에 관통공이 형성되어 있고, 상기 관통공 내부에는 나노구조 탄화물이 중앙부위에 수납되어지는 형태로 형성시킨다. 또한, 상기 다이 부재(110)에 나노구조 탄화물이 충전된 관통공 내부의 진공도는 0.01~1torr가 되도록 유지하는 것이 좋다.The die member 110 is for accommodating nano-powdered metal carbide, preferably a graphite die, a through hole is formed therein, the nano-structure carbide is stored in the central portion in the through hole To form. In addition, it is preferable to maintain the vacuum degree inside the through hole filled with the nanostructure carbide in the die member 110 to be 0.01 to 1 torr.

상기 가압 부재(120)는 외부 압력 발생 장치로부터 전달된 압력을 상기 관통공 내부의 나노구조 탄화물에 가하기 위한 것으로, 관통공의 상,하부에 삽입 형성되어 상기 나노구조 탄화물에 일축 압력을 가하게 된다. 즉, 상기 가압 부재(120)에 의해 가해진 압력으로 인해 상기 나노구조 탄화물이 치밀화되고, 이러한 치밀화의 완료 정도인 상기 나노구조 탄화물의 수축길이 변화를 측정하기 위하여 관통공과 가압 부재(120)가 이어지는 가동부분에 선형변위 차동변압기(LVDT; Linear Variable Differential Transformer)가 부착될 수 있다. 상기 가압 부재(120)를 통한 압력은 10~1000㎫로 부가되는 것이 바람직하다.The pressing member 120 is to apply the pressure transmitted from the external pressure generating device to the nanostructure carbide inside the through hole. The pressing member 120 is inserted into upper and lower portions of the through hole to apply uniaxial pressure to the nanostructure carbide. That is, the nanostructure carbide is densified by the pressure exerted by the pressing member 120, and the through hole and the pressing member 120 are operated in order to measure the change in shrinkage length of the nanostructure carbide, which is the degree of completion of the densification. A linear variable differential transformer (LVDT) may be attached to the portion. The pressure through the pressing member 120 is preferably added to 10 ~ 1000MPa.

상기 유도 전류 발생 부재(130)는 다이 부재(110)의 주변에 이격 배치되어 형성되며, 유도 전류를 발생시키는 작용을 한다. 상기 유도 전류 발생 부재(130)는 고주파 전류 코일로 이루어지며, 이들에게 가해진 전류에 의해 발생한 유도 전류에 의하여 다이 부재(110) 및 상기 나노구조 탄화물에 간접적으로 열이 가해져 나노구조 혼합물의 가열 성형 및 소결이 이루어진다.The induction current generating member 130 is formed to be spaced apart from the periphery of the die member 110, and serves to generate an induction current. The induction current generating member 130 is made of a high frequency current coil, indirect heat is applied to the die member 110 and the nanostructure carbide by the induction current generated by the current applied to them, thereby forming a heat-forming and Sintering takes place.

이때, 상기 유도 전류 주파수는 1㎑~100㎑로 유도 코일에 흘려주는 것이 좋고, 이렇게 발생한 유도전류에 의한 가열속도는 100~5000 ℃/min인 것이 좋다.At this time, the induction current frequency is preferably 1 to 100 kHz to flow to the induction coil, the heating rate by the induced current generated in this way is preferably 100 ~ 5000 ℃ / min.

도 2는 본 발명에 따른 나노구조 금속 탄화물 제조 방법을 구현하기 위해 사용되는 펄스전류 가열/가압 소결기의 다이 어셈블리이다.2 is a die assembly of a pulsed current heating / pressurizing sintering machine used to implement the method for producing nanostructured metal carbide according to the present invention.

통상의 펄스전류 가열/가압 소결기는 수냉 진공챔버, 다이 어셈블리, 펄스전류 공급장치, 가압장치, 진공장치, 냉각장치, 각종 제어 및 측정장치로 구성된다. 상기 수냉 진공챔버는 가열/가압성형 및 소결시 분위기 조절을 위한 용기로서, 스테인리스 재질로, 내부감시를 위한 투시창과 다이 어셈블리의 장착을 위한 도어를 구비하는 이중용기로 되어있으며, 그 내부로 냉각수가 흐른다.Conventional pulse current heating / pressure sintering machine is composed of a water-cooled vacuum chamber, a die assembly, a pulse current supply device, a pressurization device, a vacuum device, a cooling device, and various control and measuring devices. The water-cooled vacuum chamber is a container for controlling the atmosphere during heating / pressing molding and sintering. The water-cooled vacuum chamber is made of stainless steel, and has a double container having a viewing window for internal monitoring and a door for mounting the die assembly. Flow.

도 2를 참조하면, 이러한 펄스전류 가열/가압 소결기의 다이 어셈블리(200)는 고순도 흑연제의 상ㅇ하 펀치(210), 원통 다이(220) 및 알루미나와 같은 절연재질의 상ㅇ하 가압블록(230)으로 구성되며, 분말은 상하의 펀치(210)와 원통 다이(220)로 생기는 내부공간에 충전되고 공정 인자인 진공도는 약 0.01~1torr가 바람직하며, 재료에 따라서는 대기에서도 가능하다. 펄스전류 공급장치(300)는 컨트롤 스위치(310) 조작에 의해 시편에 펄스전류를 공급하며, 가압장치는 가압블록(230)을 통해 다이 어셈블리(200)의 펀치(210)에 일축 압력을 가하는데, 그 유압실린더의 가동부분에는 시편의 길이 변화를 측정하는 선형변위 차동변압기(LVDT)가 부착된다. 상기 펀치(210)를 통한 압력은 시편을 충분히 치밀화시킬 수 있을 정도 로 실험적으로 결정되며, 10~1000㎫로 부가되는 것이 바람직하다. 펄스전류는 가열/가압성형 후 소결이 진행되는 동안 분말의 치밀화가 일어날 때까지 인가되며, 주기는 1㎲~1㎳인 것이 좋고, 펄스전류에 의한 가열속도는 100~5000℃/min로 함이 바람직하다. 진공장치와 냉각장치는 각각 통상적인 로터리펌프, 냉각수펌프 등이 이용될 수 있으며, 제어 및 측정 장치는 압력, 전류 등의 공정 인자를 제어하고, 공정 진행상의 각종 데이터를 측정한다.Referring to FIG. 2, the die assembly 200 of the pulse current heating / pressurizing sintering machine is a top and bottom press block made of high purity graphite, a cylindrical die 220, and an insulating material such as alumina. It is composed of 230, the powder is filled in the inner space generated by the upper and lower punch 210 and the cylindrical die 220, the vacuum degree of the process factor is preferably about 0.01 ~ 1torr, depending on the material is possible in the atmosphere. The pulse current supply device 300 supplies a pulse current to the specimen by the operation of the control switch 310, the pressurization device applies a uniaxial pressure to the punch 210 of the die assembly 200 through the pressure block 230, On the moving part of the hydraulic cylinder is fitted a linear displacement differential transformer (LVDT) which measures the change in length of the specimen. The pressure through the punch 210 is determined experimentally to the extent that the specimen can be sufficiently densified, and is preferably added at 10 to 1000 MPa. The pulse current is applied until the densification of powder occurs during sintering after heating / pressing molding, and the period is preferably 1㎲ ~ 1㎳, and the heating rate by pulse current is 100 ~ 5000 ℃ / min. desirable. Conventional rotary pumps and cooling water pumps may be used as the vacuum device and the cooling device, respectively. The control and measurement device controls process factors such as pressure and current, and measures various data in process progress.

이하의 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 것이지 하기의 실시예로 본 발명을 한정하고자 하는 것은 아니다..The following examples are provided to aid the understanding of the present invention and are not intended to limit the present invention to the following examples.

[실시예 1]Example 1

입자크기가 1.3㎛인 텅스텐 카바이드 원료분말 15g을 볼밀링을 이용하여 약 45㎚ 크기를 갖는 나노 분말로 제조하였다. 이 나노 분말을 도 1의 다이 부재(110)의 흑연 다이에 충전한 후, 80㎫의 기계적 압력을 가해주고 0.04torr의 진공분위기를 만들어주었다.15 g of tungsten carbide raw powder having a particle size of 1.3 μm was prepared as a nano powder having a size of about 45 nm by ball milling. After the nanopowder was filled into the graphite die of the die member 110 of FIG. 1, a mechanical pressure of 80 MPa was applied and a vacuum atmosphere of 0.04 torr was made.

계속적으로 80㎫의 압력이 가해지는 상태에서 외부 코일, 즉 도 1의 유도 전류 발생 부재(130)에 14.4㎾의 전류를 인가하여 고주파 유도전류 가열/가압 소결을 시작하였다. 이때, 유도전류 가열에 의해 발생한 주울 열에 의한 가열속도는 500℃/min이 되도록 하였다.A high frequency induction current heating / pressurization sintering was started by applying a current of 14.4 mA to the external coil, that is, the induction current generating member 130 of FIG. At this time, the heating rate by Joule heat generated by the induction current heating was to be 500 ℃ / min.

가열/가압성형 시작 후 소결이 진행되는 동안 시편의 수축길이 변화를 선형변위 차동변압기(LVDT)로 관찰하여 길이 변화가 없이 안정화되는 시점에서 유도전 류와 압력을 제거하고, 상온으로 냉각하여 최종적으로 텅스텐카바이드 결정립 크기가 87㎚인 세라믹을 수득하였다.After the heating / pressing start, the shrinkage length change of the specimen during the sintering was observed with a linear displacement differential transformer (LVDT) to remove the induced current and pressure at the point of stabilization without changing the length, and then cooled to room temperature A ceramic having a tungsten carbide grain size of 87 nm was obtained.

상기 실시예1에서 텅스텐 카바이드 원료분말을 볼밀링한 후, 고주파 유도전류 가열/가압 소결 전, 및 고주파 유도전류 가열/가압 소결 후의 온도변화와 수축길이 변화, SEM(Scanning Electron Microscope) 사진, 및 XRD(X-ray diffraction) 패턴을 각각 도 3 내지 도 5에 나타내었다.After the ball milling of the tungsten carbide raw powder in Example 1, before the high frequency induction current heating / pressure sintering, and after the high frequency induction current heating / pressure sintering changes in temperature and shrinkage length, SEM (Scanning Electron Microscope) photos, and XRD (X-ray diffraction) patterns are shown in FIGS. 3 to 5, respectively.

도 3은 고주파 유도전류 가열/가압 소결에 의한 가열시간에 따른 온도변화(■)와 수축변위(□◇△○)를 나타낸 것으로, 볼밀링 시간이 길어짐에 따라 소결이 낮은 온도에서 일어남을 알수 있다. 이와 같은 결과는, 도 3으로부터 알 수 있듯이 본 발명에 따라 고주파 유도전류 가열/가압 소결법을 이용하여 3분 이내의 짧은 시간에 비교적 낮은 온도인 1250도에서 기공이 거의 없는 치밀한 나노구조의 금속 탄화물을 제조하였음을 나타내는 것이다.Figure 3 shows the temperature change (■) and shrinkage displacement (□ ◇ △ ○) according to the heating time by high-frequency induction current heating / pressure sintering, it can be seen that sintering occurs at a low temperature as the ball milling time is longer. . As can be seen from Figure 3, according to the present invention using a high-frequency induction current heating / pressure sintering method in a short time within 3 minutes in a compact nanostructure metal carbide of a dense nano structure with almost no pores at 1250 degrees It indicates that the preparation.

도 4(a)는 볼밀링 후의 약 45㎚의 원료분말을 나타낸 SEM 사진이고, 도 4(b)는 가열/가압 소결 후의 SEM 사진이다. 도 4(a)에서는 볼밀링 후 기공이 많은 미세한 텅스텐 카바이드가 분산되었으나, 가열/가압 소결 후에는 도 4(b)에 나타낸 바와 같이 치밀한 텅스텐 카바이드 상이 얻어졌으며, 이로부터 수축길이 변화가 거의 없는 가열 온도에서 가열/가압 소결이 완료되었음을 알 수 있다.Fig. 4 (a) is an SEM photograph showing a raw material powder of about 45 nm after ball milling, and Fig. 4 (b) is an SEM photograph after heating / pressurizing sintering. In FIG. 4 (a), fine tungsten carbide having many pores was dispersed after ball milling, but after heating / pressurizing sintered, a dense tungsten carbide phase was obtained as shown in FIG. 4 (b), from which heating with little change in shrinkage length was obtained. It can be seen that the heating / pressurization sintering is completed at the temperature.

도 5는 XRD 패턴을 나타낸 사진으로, X-선 회절 피크의 반가폭으로부터 결정립의 크기가 약 87nm로, 가열/가압 소결에 의해 원하는 나노구조의 텅스텐카바이드가 얻어졌음을 확인할 수 있었다. 이 소결재료의 경도와 파괴인성은 각각 3020㎏/ ㎜2과 8.1 ㎫.m1/2 이었다.Figure 5 is a photograph showing the XRD pattern, the crystal grain size of about 87nm from the half width of the X-ray diffraction peak, it was confirmed that the tungsten carbide of the desired nanostructure was obtained by heating / pressure sintering. The hardness and fracture toughness of this sintered material were 3020 kg / mm <2> and 8.1 Mpa.m 1/2 , respectively.

[실시예 2]Example 2

상기 펄스전류 가열/가압 소결기를 이용한 나노구조 금속 카바이드 제조 방법은 5단계로 이루어지며, 각 단계는 다음과 같다.Nanostructure metal carbide manufacturing method using the pulse current heating / pressure sintering machine is made of five steps, each step is as follows.

1 단계: 분말을 볼밀링으로 30㎚이하의 크기로 만든다.Step 1: The powder is ball milled to a size of 30 nm or less.

2 단계: 볼밀링한 나노 분말을 흑연 다이, 즉 도 2의 원통 다이(220)에 충전하여 장착하고, 약 0.4torr의 진공상태로 만든다.Step 2: The ball milled nanopowder is filled and mounted in a graphite die, ie, the cylindrical die 220 of FIG. 2, and brought to a vacuum of about 0.4 torr.

3 단계: 나노 분말에 80㎫의 압력을 부가해서 성형체를 만든다.Step 3: Applying a pressure of 80 MPa to the nano powder to form a molded body.

4 단계: 성형체에 계속적으로 80㎫의 압력이 부가되는 상태에서, 일정한 펄스전류를 상기 흑연 다이와 시편에 인가해 주울 열에 의해 1000℃/min의 가열속도로 시편을 가열하고, 이때 가열/가압성형 시작 후 소결이 진행되는 동안 시편의 수축길이 변화를 선형변위 차동변압기(LVDT)로 관찰하여 길이 변화가 없이 안정화되는 시점에서 펄스전류와 압력을 제거한다.Step 4: Applying a constant pulse current to the graphite die and the specimen by continuously applying a pressure of 80 MPa to the molded body, heating the specimen at a heating rate of 1000 ° C./min by Joule heat, and at this time, heating / press molding starts. After sintering, the shrinkage length change of the specimen was observed with a linear displacement differential transformer (LVDT) to remove the pulse current and pressure at the point of stabilization without changing the length.

5 단계: 시편을 상온까지 냉각한다.Step 5: Cool the specimen to room temperature.

이상에서 설명한 본 발명에 따른 나노구조 금속탄화물 제조방법은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양하게 변경하여 실시할 수 있는 범위까지 포함함을 알 수 있을 것이다.The method for producing a nanostructure metal carbide according to the present invention described above is not limited to the above embodiments, and has a general knowledge in the field of the present invention without departing from the gist of the present invention as claimed in the following claims. Anyone who grows up will see that it includes a range of changes that can be made.

도 1은 본 발명에 따른 나노구조 금속 카바이드 제조 방법을 구현하기 위해 사용되는 유도전류 가열/가압 소결기.1 is an induction current heating / pressure sintering machine used to implement the method for producing nanostructured metal carbide according to the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 나노구조 금속카바이드 제조 방법을 구현하기 위해 사용되는 펄스전류 가열/가압 소결기의 다이 어셈블리.2 is a die assembly of a pulsed current heating / pressurizing sintering machine used to implement the method for producing nanostructured metal carbide according to the present invention.

도 3은 유도전류에 의한 가열시간에 따른 온도변화(■)와 수축변위(□◇△○)를 나타낸 그래프.Figure 3 is a graph showing the temperature change (■) and shrinkage displacement (□ ◇ △ ○) according to the heating time by the induced current.

도 4는 볼밀링법으로 나노분말화 한 분말(a)의 SEM(Scanning Electron Microscope) 사진과 유도전류에 의한 가열/가압 소결 후 제조된 나노구조 텅스텐카바이드(b)의 SEM 사진.4 is a SEM (Scanning Electron Microscope) photograph of the powder (a) nano-powdered by the ball milling method and a SEM photograph of the nanostructured tungsten carbide (b) prepared after heating / pressurizing sintering by induction current.

도 5는 볼밀링법으로 나노분말화 한 분말(a)과 유도전류에 의한 가열/가압 소결 후 제조된 나노구조 텅스텐 카바이드(b)의 XRD(X-ray diffraction) 패턴.5 is an X-ray diffraction (XRD) pattern of nanostructured tungsten carbide (b) prepared after heating / pressurizing sintering by powder (a) nanopowdered by ball milling method and induced current.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

100: 유도전류 가열/가압 소결기 110: 다이 부재100: induction current heating / pressure sintering machine 110: die member

120: 가압 부재 130: 유도 전류 발생 부재120: pressing member 130: induction current generating member

200: 다이 어셈블리 210: 펀치200: die assembly 210: punch

220: 원통 다이 230: 가압블록220: cylindrical die 230: pressure block

300: 펄스전류 공급장치 310: 컨트롤 스위치300: pulse current supply device 310: control switch

Claims (13)

금속탄화물 분말을 볼 밀링하여 입자크기가 나노구조를 가지도록 나노 분말화하는 단계(S1) ;Ball milling the metal carbide powder to nano-powder the particle size to have a nanostructure (S1); 상기 단계(S1)에서의 나노분말에 전류에 의해 발생하는 열을 가하면서 가압성형 및 소결하는 단계(S2) ; 그리고 Press molding and sintering while applying heat generated by current to the nanopowder in the step (S1) (S2); And 상기 나노 분말의 수축 길이 변화가 없으면 전류를 차단하고 상기 전류차단 직전까지 가압성형 및 소결 된 나노구조물을 상온으로 냉각하는 단계(S3)를 포함함을 특징으로 하는 나노구조 금속탄화물 제조방법.Blocking the current if there is no change in the shrinkage length of the nano-powder and cooling the press-formed and sintered nanostructures to room temperature until just before the current blocking (S3), characterized in that it comprises a nanostructure metal carbide manufacturing method. 제 1항에 있어서, 상기 단계(S1)에서의 금속탄화물은 티타늄 카바이드(TiC), 텅스텐 카바이드(WC), 실리콘 카바이드(SiC), 탄탈륨 카바이드(TaC), 바나듐 카바이드(VC), 니오비움 카바이드(NbC)로 구성되는 그룹에서 선택되는 1종 이상임을 특징으로 하는 나노구조 금속탄화물 제조방법.The method of claim 1, wherein the metal carbide in the step (S1) is titanium carbide (TiC), tungsten carbide (WC), silicon carbide (SiC), tantalum carbide (TaC), vanadium carbide (VC), niobium carbide ( NbC) nanostructure metal carbide manufacturing method characterized in that at least one member selected from the group consisting of. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 단계(S1)에서의 금속탄화물의 나노 분말화는 입자크기가 100㎚ 이하가 되도록 하는 것임을 특징으로 하는 나노구조 금속탄화물 제조방법.The method of claim 1 or 2, wherein the nano-powder of the metal carbide in the step (S1) is characterized in that the particle size is 100nm or less. 제 1항에 있어서, 상기 단계(S2)에서의 가압성형 및 소결은 2~5분간 행함을 특징으로 하는 나노구조 금속탄화물 제조방법.The method of claim 1, wherein the pressing and sintering in the step (S2) is a nanostructure metal carbide manufacturing method, characterized in that performed for 2 to 5 minutes. 제 1항에 있어서, 상기 단계(S2)에서의 전류에 의해 발생하는 열은 유도 전류에 의한 열임을 특징으로 하는 나노구조 금속탄화물 제조방법.The method of claim 1, wherein the heat generated by the current in the step (S2) is a nanostructure metal carbide manufacturing method, characterized in that the heat by the induced current. 제 5항에 있어서, 상기 유도 전류는 1㎑~100㎑의 주파수를 갖는 유도 전류임을 특징으로 하는 나노구조 금속탄화물 제조방법.The method of claim 5, wherein the induced current is a nanostructure metal carbide manufacturing method, characterized in that the induced current having a frequency of 1kHz ~ 100kHz. 제 1항에 있어서, 상기 단계(S2)에서의 전류에 의해 발생하는 열은 펄스전류에 의한 열임을 특징으로 하는 나노구조 금속탄화물 제조방법.The method of claim 1, wherein the heat generated by the current in the step (S2) is a nanostructure metal carbide manufacturing method, characterized in that the heat by the pulse current. 제 7항에 있어서, 상기 펄스전류는 주기가 1㎲~1㎳인 펄스전류임을 특징으로 하는 나노구조 금속탄화물 제조방법.The method of claim 7, wherein the pulse current is a nanostructure metal carbide manufacturing method, characterized in that the period of the pulse current of 1㎲ ~ 1㎳. 제 1항, 제 5항 제 6항, 제 7항 또는 제 8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 열의 가열속도는 100~5000℃/분 임을 특징으로 하는 나노구조 금속탄화물 제조방법.9. The method of claim 1, wherein the heating rate of the heat is 100 to 5000 ° C./min. 제 1항에 있어서, 상기 단계(S2)에서의 가압성형은 10~1000㎫의 압력을 가하면서 행하는 것임을 특징으로 하는 나노구조 금속탄화물 제조방법.The method of claim 1, wherein the pressing in the step (S2) is a nanostructure metal carbide manufacturing method, characterized in that is carried out while applying a pressure of 10 ~ 1000MPa. 제 1항에 있어서, 상기 단계(S2)에서의 가압성형 및 소결은 0.01~1토르의 진공상태에서 행함을 특징으로 하는 나노구조 금속탄화물 제조방법.The method of claim 1, wherein the pressing and sintering in the step (S2) is a nanostructure metal carbide manufacturing method, characterized in that carried out in a vacuum of 0.01 to 1 Torr. 제 1항에 있어서, 상기 단계(S3)에서의 나노분말의 수축길이 변화관찰은 선형 변위 차동변압기(LVDT)로 행하는 것임을 특징으로 하는 나노구조 금속탄화물 제조방법.The method of claim 1, wherein the observation of the change in shrinkage length of the nanopowder in step S3 is performed by a linear displacement differential transformer (LVDT). 제 1항, 2항, 4항, 5항, 6항, 7항, 8항, 10항, 11항, 12항 중 어느 한 항의 방법으로 제조되는 나노구조 금속탄화물로서, 상기 금속탄화물은 티타늄 카바이드(TiC), 텅스텐 카바이드(WC), 실리콘 카바이드(SiC), 탄탈륨 카바이드(TaC), 바나듐 카바이드(VC), 니오비움 카바이드(NbC)로 구성되는 그룹에서 선택되는 1종 이상임을 특징으로 하는 나노구조 금속탄화물.Claims 1, 2, 4, 5, 6, 7, 8, 10, 11, 12 prepared by the method of any one of the nanostructured metal carbide, the metal carbide is titanium carbide (TiC), tungsten carbide (WC), silicon carbide (SiC), tantalum carbide (TaC), vanadium carbide (VC), niobium carbide (NbC) nanostructure characterized in that at least one selected from the group consisting of Metal carbide.
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