KR20100019709A - Method of manufacturing glass for display device - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A method for manufacturing glass for a display device is provided to reduce fabrication process and fabrication cost and to facilitate adhesion and exfoliation of the film by adhering a film on the upper and lower sides of a glass for the display device. CONSTITUTION: A method for manufacturing glass for a display device comprises the steps of: (i) adhering a film on the glass for a display device; (ii) forming patterns for etching on the glass to which film is adhered; (iii) removing film of the etched surface of the glass on which pattern is formed; (iv) etching the etched surface of the glass from which a film is removed; (v) separating the rest film of the etched glass; and (vi) washing the glass from which a film is removed.

Description

표시장치용 글래스의 제조방법{Method of manufacturing glass for display device}Method of manufacturing glass for display device

본 발명은 표시장치용 글래스의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 외부의 충격이나 유해성분 등으로부터 표시장치를 보호할 수 있는 표시장치용 글래스의 제조방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing glass for display devices, and more particularly, to a method for manufacturing glass for display devices that can protect a display device from external impact, harmful components, and the like.

표시장치로는 TFT-LCD(Thin film Transistor Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), OLED(Organic Light Emitting Diode) 등과 같이 다양한 표시장치가 사용되고 있다.Various display devices, such as thin film transistor liquid crystal display (TFT-LCD), plasma display panel (PDP), organic light emitting diode (OLED), and the like, are used as the display device.

이러한 표시장치는 외부의 충격이나 유해성분 등으로부터 용이하게 손상되므로 이러한 위험으로부터 표시장치를 보호하기 위해 글래스, 수지 등으로 이루어진 커버와 글래스 기판을 사용하게 된다.Since the display device is easily damaged from external impact or harmful components, a cover and a glass substrate made of glass, resin, or the like are used to protect the display device from such danger.

특히 유기 물질의 전계 발광 현상(electroluminescence)을 이용하는 유기 전계 발광 소자(OLED; Organic Light Emitting Diode)를 모바일용 디스플레이 패널로 사용할 수 있으려면 디스플레이 패널이 외부로부터의 충격에 견딜 수 있어야 한다.In particular, in order to be able to use an organic light emitting diode (OLED) that uses electroluminescence of an organic material as a display panel for mobile, the display panel must be able to withstand the impact from the outside.

또한, 유기 전계 발광 소자는 유기 물질로 구성되는 특성상 산소, 습기 및 기타 유해 가스 성분 등에 의하여 쉽게 열화되므로 디스플레이 소자는 직접 외부에 노출되지 않아야 한다.In addition, since the organic EL device is easily deteriorated by oxygen, moisture, and other harmful gas components due to the nature of the organic material, the display device should not be directly exposed to the outside.

이와 같이 외부 충격이나 산소, 습기 및 기타 유해 가스 성분 등으로부터 유기 전계 발광 소자를 보호하기 위하여 유기 전계 발광 소자에 밀봉용 캡을 씌우는데, 종래 상기 유기 전계 발광 소자의 밀봉용 캡으로서 스테인레스 스틸 등의 금속 재질이나 유리, 세라믹과 같은 무기물 재질이 사용되었다.In order to protect the organic EL device from external impact, oxygen, moisture, and other harmful gas components, a sealing cap is placed on the organic EL device. As a cap for sealing the organic EL device, stainless steel or the like is conventionally used. Inorganic materials such as metal, glass and ceramics were used.

특히, OLED용 커버 글래스는 글래스 기판에 형성된 소자를 보호하기 위해 가장자리 부분은 글래스 기판과 접합되고 나머지 부분에는 소자를 보호하기 위한 공간부가 형성된다.In particular, the cover glass for OLED is bonded to the glass substrate to the edge portion to protect the device formed on the glass substrate, and the remaining portion is formed with a space for protecting the device.

종래의 OLED용 커버 글래스의 제조방법으로는 등록특허공보 제568955호(2006년 4월 10일자) 및 동 공보 제729653호(2007년 6월 19일자)에는 외부로부터의 충격이나 산소, 습기 및 기타 유해 가스 성분 등으로부터 유기 전계 발광 소자를 보호할 수 있는 유기 전계 발광 소자 밀봉용 커버 글라스의 제조방법 및 장치에 대해 개시되어 있다. Conventional methods for manufacturing the cover glass for OLED include Patent Publication No. 568955 (April 10, 2006) and Publication No. 729653 (Jun. 19, 2007) from external shock, oxygen, moisture and other A method and apparatus for manufacturing a cover glass for sealing an organic electroluminescent element capable of protecting the organic electroluminescent element from harmful gas components and the like are disclosed.

이러한 종래의 커버 글래스는 글래스 면에 수지를 도포한 후 패턴을 형성하여 에칭하고 에칭후에 수지를 박리하므로, 수지의 도포 및 박리에 과다한 제조시간 및 제조비용이 소요되고 커버 글래스의 생산성도 낮다는 문제점이 있다.Since the conventional cover glass is coated with resin on the glass surface, a pattern is formed and then etched, and the resin is peeled off after etching, excessive manufacturing time and manufacturing cost are required for the application and peeling of the resin, and the productivity of the cover glass is low. There is this.

또한, 글래스에 수지를 도포하므로, 글래스의 상면 및 하면을 외기로부터 완벽하게 차단이 어렵고, 에칭용 패턴형상의 형성이 어려울 뿐 아니라 패턴형성시 도막이 파손되고, 에칭용 패턴형상의 정밀도가 낮다는 문제점이 있다.In addition, since the resin is applied to the glass, it is difficult to completely block the upper and lower surfaces of the glass from the outside air, it is difficult to form the pattern for etching, and the coating film is broken during pattern formation, and the accuracy of the pattern for etching is low. There is this.

본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해소하기 위해 안출한 것으로서, 표시장치용 글래스의 손상을 방지할 수 있고, 표시장치용 글래스의 제조공정수를 줄이면서 제조단가를 낮출 수 있고, 에칭용 패턴을 고정밀도로 형성할 수 있고 패턴의 위치 정밀도를 향상시킬 수 있는 표시장치용 글래스의 제조방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다. The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, it is possible to prevent damage to the display device glass, to reduce the manufacturing cost while reducing the number of manufacturing process of the display device glass, etching pattern It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a glass for display device which can be formed with high accuracy and can improve the positional accuracy of a pattern.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 표시장치용 글래스에 필름을 점착하는 필름점착단계; 상기 필름이 점착된 글래스에 에칭용 패턴을 형성하는 패턴형성단계; 상기 패턴이 형성된 글래스의 에칭면의 필름을 제거하는 필름제거단계; 상기 필름제거된 글래스의 에칭면을 에칭하는 에칭단계; 상기 에칭된 글래스의 나머지 필름을 박리하는 필름박리단계; 및 상기 필름이 박리된 글래스를 세정하는 세정단계;를 포함한다.The present invention for achieving the above object, the film adhesion step of adhering a film on the display device glass; A pattern forming step of forming an etching pattern on the glass to which the film is attached; A film removing step of removing the film of the etching surface of the glass on which the pattern is formed; An etching step of etching the etching surface of the film removed glass; A film peeling step of peeling the remaining film of the etched glass; And a cleaning step of cleaning the glass from which the film has been peeled off.

본 발명의 필름점착단계 전에 상기 에칭용 패턴의 기준점을 상기 글래스에 레이저 또는 드릴로 마킹하는 마킹단계를 더 포함한다. 본 발명의 필름점착단계는 상기 글래스의 하면에 백 필름을 접촉시키고 상기 글래스의 상면에 마스크 필름을 점착하여, 상기 글래스를 필름으로 밀봉한다.Before the film adhesion step of the present invention further comprises a marking step of marking the reference point of the etching pattern on the glass with a laser or drill. In the film adhesive step of the present invention, the back film is brought into contact with the bottom surface of the glass, and the mask film is adhered to the top surface of the glass to seal the glass with the film.

본 발명의 마스크 필름 및 상기 백 필름은 PVC, PO, PE 및 PET 중 어느 하나로 이루어진다. 본 발명의 마스크 필름 및 상기 백 필름의 두께는 0.01∼0.3㎜이 다. 본 발명의 에칭단계는 상기 글래스를 에칭 처리조에 침지하고 상기 글래스의 에칭면을 에칭한다. The mask film and the back film of the present invention is made of any one of PVC, PO, PE and PET. The thickness of the mask film and the said back film of this invention is 0.01-0.3 mm. In the etching step of the present invention, the glass is immersed in an etching bath and the etching surface of the glass is etched.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 표시장치용 글래스의 상면 및 하면에 필름을 점착하여 에칭용 패턴을 형성함으로써, 필름의 점착 및 박리가 용이하여 표시장치용 글래스의 손상을 방지할 수 있고, 표시장치용 글래스의 제조공정수를 줄이면서 제조단가를 낮출 수 있는 효과를 제공한다.As described above, the present invention forms a pattern for etching by adhering the film on the upper and lower surfaces of the glass for display, thereby easily adhering and peeling the film, thereby preventing damage to the display glass. It provides the effect of lowering the manufacturing cost while reducing the number of manufacturing process of the glass for the device.

또한, 레이저 또는 드릴을 이용하여 글래스에 기준점을 마킹하여 패턴을 형성함므로써, 에칭용 패턴을 고정밀도로 형성할 수 있고 패턴의 위치 정밀도를 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.In addition, by forming a pattern by marking a reference point on the glass using a laser or a drill, it is possible to form a pattern for etching with high accuracy and provides an effect of improving the position accuracy of the pattern.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예를 더욱 상세히 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 표시장치용 글래스의 제조방법을 나타내는 흐름도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 표시장치용 글래스의 제조방법의 필름점착단계를 나타내는 구성도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 표시장치용 글래스의 제조방법에 의해 필름이 점착된 글래스를 나타내는 단면도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 표시장치용 글래스의 제조방법에 의해 필름이 제거된 글래스를 나타내는 단면도이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 의한 표시장치용 글래스의 마킹단계를 나타내는 구성도이고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 의 한 표시장치용 글래스의 제조방법에 의해 마킹된 글래스를 나타내는 평면도이고, 도 7은 본 발명의 일 실시예에 의한 표시장치용 글래스의 제조방법에 의해 마킹된 기준점을 기준으로 패턴이 형성된 글래스를 나타내는 평면도이다.1 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a glass for a display device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a block diagram illustrating a film adhesion step of the method of manufacturing a glass for a display device according to an embodiment of the present invention. 3 is a cross-sectional view illustrating a glass to which a film is adhered by a method of manufacturing glass for a display device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a method of manufacturing glass for a display device according to an embodiment of the present invention. 5 is a cross-sectional view showing a glass from which a film is removed, and FIG. 5 is a block diagram showing a marking step of a glass for a display device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6 is for a display device according to an embodiment of the present invention. 7 is a plan view illustrating a glass marked by a method of manufacturing glass, and FIG. 7 is based on a reference point marked by a method of manufacturing a glass for a display device according to an exemplary embodiment of the present invention. It is a top view which shows the glass in which the pattern was formed.

도 1에 나타낸 바와 같이, 본 실시예의 표시장치용 글래스의 제조방법은 필름점착단계(S30), 패턴형성단계(S40), 필름제거단계(S50), 에칭단계(S60), 필름박리단계(S70), 세정단계(S80)를 포함하여 이루어져, 표시장치용 글래스를 제조하게 된다.As shown in FIG. 1, the method of manufacturing the glass for the display device according to the present embodiment includes a film adhesion step S30, a pattern forming step S40, a film removing step S50, an etching step S60, and a film peeling step S70. ), Including the cleaning step (S80), to manufacture the glass for the display device.

본 실시예의 글래스가 적용되는 표시장치로는 TFT-LCD(Thin film Transistor Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), OLED(Organic Light Emitting Diode) 등과 같이 다양한 표시장치가 사용될 수 있으며, 본 실시예에서는 OLED에 적용되는 커버 글래스의 제조방법에 대해서 설명한다.As the display device to which the glass of the present embodiment is applied, various display devices such as a thin film transistor liquid crystal display (TFT-LCD), a plasma display panel (PDP), an organic light emitting diode (OLED), and the like may be used. The manufacturing method of the cover glass applied to OLED is demonstrated.

필름점착단계(S30)는 표시장치용 글래스(10)의 양면에 필름을 점착하는 제조공정으로서, 글래스(10)의 하면에 백 필름(12; back film)을 점착 상태 또는 무점착 상태로 접촉시키고 글래스(10)의 상면에 마스크 필름(11; mask film)을 점착하여, 글래스(10)를 필름으로 밀봉하게 된다.Film adhesion step (S30) is a manufacturing process for adhering the film on both sides of the glass 10 for the display device, the back film 12 (back film) in contact with the lower surface of the glass 10 in an adhesive state or non-adhesive state The mask film 11 is attached to the upper surface of the glass 10 to seal the glass 10 with a film.

글래스(10)에 필름을 점착하기 전에, 글래스(10)의 이상유무를 검사하고, 글래스(10)에 부착된 이물질을 제거하기 위해 탈이온수(DIW; deionized water)를 분사하여 글래스(10)를 세척하는 세척단계(S10)를 실시하는 것이 바람직하다.Before adhering the film to the glass 10, the glass 10 is inspected for abnormality, and deionized water (DIW) is sprayed to remove the foreign matter attached to the glass 10. It is preferable to perform the washing step (S10) to wash.

탈이온수는 용해되어 있는 이온을 모두 제거한 물로서, 보통 이온교환수지가 사용되며, 공업용수나 음료수 등으로 이용할 목적으로 수중의 무기염류를 제거한 순수한 물에 가까운 고품위의 물이다. Deionized water is water which removes all dissolved ions. Usually, ion exchange resin is used, and high-quality water close to pure water from which inorganic salts are removed from water for the purpose of using industrial water or drinking water.

특히, 마스크 필름(11) 및 백 필름(12)은 PVC(polyvinyl chloride), PO(polyolefine), PE(polyethylene) 및 PET(polyethylen terephthalate) 중 어느 하나의 소재로 이루어진 필름을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 이러한 필름으로는 에칭후 필름의 박리성을 고려하여 박리성이 우수한 PVC계열 소재의 필름을 사용하는 것이 더욱 바람직하다. In particular, the mask film 11 and the back film 12 preferably use a film made of any one of polyvinyl chloride (PVC), polyolefine (PO), polyethylene (PE), and polyethylene terephthalate (PET). In addition, as such a film, it is more preferable to use a film of a PVC-based material excellent in peelability in consideration of the peelability of the film after etching.

마스크 필름(11) 및 백 필름(12)의 두께는 0.01㎜ 보다 얇으면 필름의 점착시 및 박리시 파손될 수 있고, 0.3㎜ 보다 두꺼우면 패턴의 형성이 어렵고 필름의 제거 및 박리가 용이하지 않으므로, 0.01∼0.3㎜로 적용하는 것이 바람직하다. When the thickness of the mask film 11 and the back film 12 is thinner than 0.01 mm, the film may be damaged during adhesion and peeling, and when thicker than 0.3 mm, the formation of the pattern is difficult and the removal and peeling of the film are not easy. It is preferable to apply in 0.01-0.3 mm.

특히, 필름의 점착성 및 박리성을 고려하여 마스크 필름(11)과 점착제층을 포함한 전체 두께는 0.04∼0.1㎜로 적용하고, 백 필름(12)의 두께는 0.2∼0.3㎜로 적용하는 것이 더욱 바람직하다. In particular, in consideration of the adhesiveness and peeling property of the film, the total thickness including the mask film 11 and the pressure-sensitive adhesive layer is applied to 0.04 ~ 0.1mm, the thickness of the back film 12 is more preferably applied to 0.2 ~ 0.3mm. Do.

점착제(PSA; Pressure Sensitive Adhsive)로는 아크릴 계열의 소재로 이루어진 재부착성 점착제(Removable Adhesive)를 사용하는 것이 바람직하다.As a pressure sensitive adhesive (PSA), it is preferable to use a removable adhesive made of an acrylic material.

또한, 마스크 필름(11)은 필름의 제거 및 박리가 용이하도록 30∼900 ㎏f/㎠의 소정강도를 가지는 것이 바람직하며, 최적의 제거성과 박리성을 유지하도록 60∼300 ㎏f/㎠의 강도를 가지는 것이 더욱 바람직하다.In addition, the mask film 11 preferably has a predetermined strength of 30 to 900 kgf / cm 2 to facilitate the removal and peeling of the film, and a strength of 60 to 300 kgf / cm 2 to maintain optimum removability and peelability. It is more preferable to have.

도 2에 나타낸 바와 같이, 본 실시예의 필름점착단계(S30)는 라미네이팅 장치에 의해 글래스(10)의 상면 및 하면에 필름을 점착하게 되며, 라미네이팅(Laminating)시 마스크 필름(11; Mask Film)이 감겨져 있는 제 1 롤(20)과, 백 필름(12)이 감겨져 있는 제 2 롤(30)에서 마스크 필름(11)과 백 필름(12)이 풀리게 된다. As shown in FIG. 2, in the film adhesion step S30 of the present embodiment, the film is adhered to the upper and lower surfaces of the glass 10 by a laminating apparatus, and when the laminating, the mask film 11 is formed. The mask film 11 and the back film 12 are unwound by the 1st roll 20 wound up and the 2nd roll 30 by which the back film 12 is wound.

이러한 상태에서 제 1 롤(20)과 제 2 롤(30) 사이의 공간으로 글래스(10)가 통과하게 되면, 필름이 당접하는 안내롤(22, 32)을 통과해서 상부롤러(21) 및 하부롤러(31)에 의해서 글래스(10)의 상면 및 하면에 필름이 부착된다.In this state, when the glass 10 passes through the space between the first roll 20 and the second roll 30, the upper roller 21 and the lower portion pass through the guide rolls 22 and 32 to which the film abuts. The film is attached to the upper and lower surfaces of the glass 10 by the roller 31.

따라서, 도 3에 나타낸 바와 같이, 글래스(10)의 상면 및 하면에 필름이 부착되면, 글래스(10)는 상면 및 하면이 필름으로 폐쇄되고, 글래스(10)의 둘레에는 마스크 필름(11)과 백 필름(12)이 서로 부착되므로, 글래스(10)가 필름에 의해서 밀봉된다.Therefore, as shown in FIG. 3, when the film is attached to the upper and lower surfaces of the glass 10, the upper and lower surfaces of the glass 10 are closed by the film, and the mask film 11 and the circumference of the glass 10 are surrounded by the film. Since the back films 12 are attached to each other, the glass 10 is sealed by the film.

패턴형성단계(S40)는 글래스(10)의 상면에 점착된 마스크 필름(11)에 칼날을 장착한 기계장치로 소정형상의 에칭용 패턴을 형성하여, 마스크 필름(11)에 에칭용 패턴 형상의 절취선을 형성하게 된다. 이러한 기계장치로는 플로터 등과 같은 다양한 장치를 사용하는 것이 가능함은 물론이다.Pattern forming step (S40) is a mechanical device equipped with a blade on the mask film 11 adhered to the upper surface of the glass 10 to form a pattern for etching of a predetermined shape, the pattern of the etching pattern on the mask film 11 A cut line is formed. It is, of course, possible to use a variety of devices, such as a plotter as the mechanical device.

또한, 마스크 필름(11)에 형성된 에칭용 패턴형상이 소정의 표시장치의 형상과 일치여부를 판단하기 위해 패턴 형상의 치수를 측정기로 검사하는 것이 바람직하다.In addition, in order to determine whether the pattern for etching formed on the mask film 11 coincides with the shape of a predetermined display device, it is preferable to check the dimension of the pattern shape with a measuring instrument.

도 4에 나타낸 바와 같이, 필름제거단계(S50)는 상기와 같이 에칭용 패턴이 형성된 글래스(10)의 에칭면(10a)의 마스크 필름(11)을 제거하여, 글래스(10)의 에칭면(10a)을 외부로 노출시키게 된다.As shown in FIG. 4, in the film removing step S50, the mask film 11 of the etching surface 10a of the glass 10 on which the etching pattern is formed is removed, and the etching surface of the glass 10 ( 10a) will be exposed to the outside.

즉, 글래스(10)의 에칭면(10a)이 외부에 노출되고, 글래스(10)의 나머지 부 분에는 필름이 부착되어 외부와의 접촉이 차단되므로, 글래스(10)의 에칭면(10a)에만 에칭액이 접촉하게 된다.That is, since the etching surface 10a of the glass 10 is exposed to the outside, and the film is attached to the rest of the glass 10 to prevent contact with the outside, only the etching surface 10a of the glass 10 is exposed. The etchant comes into contact.

또한, 마스크 필름(11)이 제거된 에칭용 패턴형상이 소정의 표시장치의 형상과 일치여부를 판단하기 위해 패턴형상을 다시 별도의 패턴 검사기에 의해서 검사하는 것이 바람직하다.In addition, in order to determine whether the etching pattern shape from which the mask film 11 is removed coincides with the shape of a predetermined display device, it is preferable to inspect the pattern shape again by a separate pattern inspector.

에칭단계(S60)는 이와 같이 마스크 필름(11)이 제거된 글래스(10)의 에칭면(10a)을 에칭액으로 에칭하게 된다. 즉, 에칭면(10a)의 필름이 제거된 글래스(10)를 지그에 고정하여 에칭 처리조에 침지한 상태에서 에칭액이 에칭면(10a)과 접촉하여, 글래스(10)의 에칭면(10a)을 에칭하게 된다. In the etching step S60, the etching surface 10a of the glass 10 from which the mask film 11 is removed is etched with an etching solution. That is, the etching liquid contacts the etching surface 10a in the state in which the glass 10 from which the film of the etching surface 10a was removed was fixed to a jig and immersed in the etching process tank, and the etching surface 10a of the glass 10 was removed. Etched.

에칭 후에는 글래스(10)의 에칭면(10a)에 대해 기준값의 범위내로 에칭이 실시된 것을 판단하기 위해 에칭량을 측정기로 측정하고, 정상으로 판정된 경우에는 지그에서 글래스(10)를 탈거하게 된다.After etching, the etching amount is measured by a measuring instrument to determine that etching is performed within the range of the reference value on the etching surface 10a of the glass 10, and when determined to be normal, the glass 10 is removed from the jig. do.

필름박리단계(S70)는 이와 같이 에칭된 글래스(10)의 나머지 필름을 박리하기 위해 불림조와 박리조에 글래스(10)를 순차적으로 침지하여 필름을 박리하게 된다. In the film peeling step (S70), the film 10 is peeled off by sequentially immersing the glass 10 in a soaking bath and a peeling bath to peel off the remaining film of the glass 10 etched in this way.

세정단계(S80)는 필름이 박리된 글래스(10)에 탈이온수(DIW; deionized water)를 분사하여 글래스(10)를 세정하게 된다.In the cleaning step S80, deionized water (DIW) is sprayed onto the glass 10 from which the film is peeled off to clean the glass 10.

또한, 본 실시예는 도 5 내지 도 7에 나타낸 바와 같이, 필름점착단계(P30) 전에 에칭용 패턴의 기준점(P1, P2)을 글래스(10)에 레이저 또는 드릴로 마킹하는 마킹단계(S20)를 더 포함하는 것이 바람직하다.5 to 7, the marking step S20 of marking the reference points P1 and P2 of the etching pattern on the glass 10 by laser or drill, as shown in FIG. 5 to FIG. 7. It is preferable to further include.

마킹단계(S20)에서는 글래스(10)의 장축과 단축의 변을 2개 이상의 지점을 인식하여 가상의 x축과 y축을 형성하고 자동으로 축을 보정한 후, x축과 y축이 교차하는 원점으로부터 좌표값 만큼 떨어진 곳에 얼라인 키(Align Key)로서 2개의 기준점(P1, P2) 또는 2개 이상의 기준점을 레이저로 마킹하게 된다. In the marking step S20, two or more points are recognized on the sides of the long axis and the short axis of the glass 10 to form a virtual x-axis and a y-axis, and automatically correct the axis. Two reference points P1 and P2 or two or more reference points are laser-marked as alignment keys at a distance apart from the coordinate value.

이러한 레이저로는 500㎚ 이하의 파장을 갖는 UV(ultraviolet)를 이용하여 글래스의 중간층 부위에 마킹하는 것이 바람직하다.As such a laser, it is preferable to mark the region of the middle layer of the glass by using ultraviolet (ultraviolet) having a wavelength of 500 nm or less.

따라서 글래스(10)의 직각도가 정확히 90도가 되지 않을 경우에, 글래스(10)의 일단면을 기준으로 에칭용 패턴형상을 형성하게 되어 에칭용 패턴형상이 변형되는 문제를 해결할 수 있게 된다.Therefore, when the right angle of the glass 10 is not exactly 90 degrees, the etching pattern shape is formed based on one end surface of the glass 10, thereby solving the problem of deformation of the etching pattern shape.

또한, 이후의 패턴형성단계(S40)에서는 플로터(Plotter)의 비젼 카메라(Vision Camera)에서 글래스(10)에 마킹된 얼라인 키(Align Key)의 중심값을 정확히 인식한 후, 도 6 및 도 7 에 나타낸 바와 같이 얼라인 키(Align Key)의 중심 좌표값을 매칭시켜 글래스(10)의 상면에 에칭용 패턴을 형성하게 된다.In addition, in the subsequent pattern forming step (S40) after accurately recognizing the center value of the alignment key (Align Key) marked on the glass 10 in the vision camera of the plotter (Plotter), Figure 6 and Figure As shown in FIG. 7, the etching pattern is formed on the upper surface of the glass 10 by matching the center coordinate values of the align key.

이상 설명한 본 발명은 그 기술적 사상 또는 주요한 특징으로부터 벗어남이 없이 다른 여러 가지 형태로 실시될 수 있다. 따라서 상기 실시예는 모든 점에서 단순한 예시에 지나지 않으며 한정적으로 해석되어서는 안 된다. The present invention described above can be embodied in many other forms without departing from the spirit or main features thereof. Therefore, the above embodiments are merely examples in all respects and should not be interpreted limitedly.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 표시장치용 글래스의 제조방법을 나타내는 흐름도.1 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a glass for a display device according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 표시장치용 글래스의 제조방법의 필름점착단계를 나타내는 구성도.Figure 2 is a block diagram showing a film adhesion step of the manufacturing method of the glass for a display device according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 표시장치용 글래스의 제조방법에 의해 필름이 점착된 글래스를 나타내는 단면도.3 is a cross-sectional view of a glass to which a film is adhered by a method of manufacturing a glass for a display device according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 표시장치용 글래스의 제조방법에 의해 필름이 제거된 글래스를 나타내는 단면도.4 is a cross-sectional view of a glass from which a film is removed by a method of manufacturing a glass for a display device according to an embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 의한 표시장치용 글래스의 마킹단계를 나타내는 구성도.5 is a block diagram showing a marking step of the glass for a display device according to an embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 의한 표시장치용 글래스의 제조방법에 의해 마킹된 글래스를 나타내는 평면도.6 is a plan view showing a glass marked by the method for manufacturing a glass for a display device according to an embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 의한 표시장치용 글래스의 제조방법에 의해 마킹된 기준점을 기준으로 패턴이 형성된 글래스를 나타내는 평면도.FIG. 7 is a plan view illustrating a glass on which a pattern is formed based on a reference point marked by a method of manufacturing glass for a display device according to an embodiment of the present disclosure; FIG.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

10: 글래스 11: 마스크 필름10: glass 11: mask film

12: 백 필름 20: 제 1 롤12: back film 20: first roll

30: 제 2 롤30: second roll

Claims (6)

표시장치용 글래스에 필름을 점착하는 필름점착단계; A film adhesion step of adhering the film on the glass for the display device; 상기 필름이 점착된 글래스에 에칭용 패턴을 형성하는 패턴형성단계; A pattern forming step of forming an etching pattern on the glass to which the film is attached; 상기 패턴이 형성된 글래스의 에칭면의 필름을 제거하는 필름제거단계; A film removing step of removing the film of the etching surface of the glass on which the pattern is formed; 상기 필름이 제거된 글래스의 에칭면을 에칭하는 에칭단계; An etching step of etching the etching surface of the glass from which the film is removed; 상기 에칭된 글래스의 나머지 필름을 박리하는 필름박리단계; 및 A film peeling step of peeling the remaining film of the etched glass; And 상기 필름이 박리된 글래스를 세정하는 세정단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치용 글래스의 제조방법.And a cleaning step of cleaning the glass from which the film has been peeled off. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 필름점착단계 전에 상기 에칭용 패턴의 기준점을 상기 글래스에 레이저 또는 드릴로 마킹하는 마킹단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치용 글래스의 제조방법.And a marking step of marking the reference point of the etching pattern on the glass with a laser or a drill before the film adhesion step. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 필름점착단계는 상기 글래스의 하면에 백 필름을 접촉시키고 상기 글래스의 상면에 마스크 필름을 점착하여, 상기 글래스를 필름으로 밀봉하는 것을 특징으로 하는 표시장치용 글래스의 제조방법.The film adhesion step of manufacturing a glass for a display device, characterized in that the back film is in contact with the lower surface of the glass and the mask film is adhered to the upper surface of the glass, the glass is sealed with a film. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 마스크 필름 및 상기 백 필름은 PVC, PO, PE 및 PET 중 어느 하나로 이루어진 것을 특징으로 표시장치용 글래스의 제조방법.The mask film and the back film is made of any one of PVC, PO, PE and PET. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 마스크 필름 및 상기 백 필름의 두께는 0.01∼0.3㎜ 인 것을 특징으로 표시장치용 글래스의 제조방법.The thickness of the said mask film and said back film is 0.01-0.3 mm, The manufacturing method of the glass for display devices. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 에칭단계는 상기 글래스를 에칭 처리조에 침지하여 상기 글래스의 에칭면을 에칭하는 것을 특징으로 하는 표시장치용 글래스의 제조방법.And the etching step comprises etching the etching surface of the glass by immersing the glass in an etching bath.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102651324A (en) * 2011-02-28 2012-08-29 诺发光电股份有限公司 Manufacturing system of package substrate
US9081236B2 (en) 2011-03-04 2015-07-14 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display
KR20210145661A (en) * 2020-05-25 2021-12-02 (주) 피엔피 Soaking bath of stacked block with ultra thin glass
KR20210145659A (en) * 2020-05-25 2021-12-02 (주) 피엔피 Flaking method of stacked block with ultra thin glass using soaking
KR20210145660A (en) * 2020-05-25 2021-12-02 (주) 피엔피 Soaking method of stacked block with ultra thin glass

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100342193B1 (en) 2000-09-20 2002-07-02 김순택 The process of an encapsulation glass for an organic electroluminescent display
JP2006111463A (en) 2004-10-12 2006-04-27 Nippon Electric Glass Co Ltd Plasma display panel sealing powder and plasma display panel sealing paste using the same
KR100568955B1 (en) 2005-07-20 2006-04-10 (주)나노닉스 Method and apparatus for preparing cover glass for encapsulating organic electroluminescent diode
KR100729653B1 (en) 2006-03-03 2007-06-19 (주)나노닉스 Method for preparing cover glass for encapsulating organic electroluminescent diode

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102651324A (en) * 2011-02-28 2012-08-29 诺发光电股份有限公司 Manufacturing system of package substrate
US9081236B2 (en) 2011-03-04 2015-07-14 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display
US9341897B2 (en) 2011-03-04 2016-05-17 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display
US9798196B2 (en) 2011-03-04 2017-10-24 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display
US10359671B2 (en) 2011-03-04 2019-07-23 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display
US11086171B2 (en) 2011-03-04 2021-08-10 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display
KR20210145661A (en) * 2020-05-25 2021-12-02 (주) 피엔피 Soaking bath of stacked block with ultra thin glass
KR20210145659A (en) * 2020-05-25 2021-12-02 (주) 피엔피 Flaking method of stacked block with ultra thin glass using soaking
KR20210145660A (en) * 2020-05-25 2021-12-02 (주) 피엔피 Soaking method of stacked block with ultra thin glass

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