KR20090130931A - Mode selecting circuit for use in semiconductor memory device - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 특히 본딩 옵션에 의해 동작 모드를 선택할 수 있는 회로를 가지는 반도체 메모리 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a semiconductor memory device having a circuit capable of selecting an operation mode by a bonding option.
통상적으로, 다이나믹 랜덤 억세스 메모리와 같은 반도체 메모리 장치는 사용자들의 요구에 따라 나날이 고속 및 고집적화 되는 추세이다. 하나의 억세스 트랜지스터와 하나의 스토리지 캐패시터를 단위 메모리 셀로서 갖는 다이나믹 랜덤 억세스 메모리 장치는 전자적 시스템의 주기억 장치로서 흔히 채용되고 있다.In general, semiconductor memory devices, such as dynamic random access memory, tend to be increasingly high-speed and high-density day by day according to the needs of users. Dynamic random access memory devices having one access transistor and one storage capacitor as unit memory cells are commonly employed as main memory devices of electronic systems.
그러한, 다이나믹 랜덤 억세스 메모리 장치(이하, 디램 ;DRAM)의 경우에는 메모리의 사용 용도를 고려하여 장치로부터 출력되는 데이터가 동일 사이클 내에서 몇 비트씩 출력되느 냐에 따라 X4, X8, X16, 및 X32 모드와 같은 형태로 나뉘어져 있다. 특히, 디램중에서 X16 모드의 DDR(Double Data Rate) SDRAM은 초고속 메모리용으로 사용되고, X8 모드는 메모리 모듈로 조립되어 메인 메모리로 많이 사용되어 진다.In the case of such a dynamic random access memory device (hereinafter, referred to as DRAM), the X4, X8, X16, and X32 modes depend on how many bits are output from the device in the same cycle in consideration of the use purpose of the memory. It is divided into such forms. In particular, DDR (Double Data Rate) SDRAM of X16 mode is used for high speed memory, and X8 mode is often used as main memory by being assembled into memory modules.
상기한 바와 같은 모드 형태의 구분은 어드레스의 사용과 관련하여 실직적으로는 컬럼 어드레스의 사용이 달라짐에 의해 구분이 이루어지는데, 구조적으로는 본딩 패드를 이용하여 X16, X8 및 X4 모드를 결정하여 패키징하는 방식을 사용하고 있다.As described above, the classification of the mode types is performed by actually changing the use of the column address in relation to the use of the address. In terms of structure, the X16, X8, and X4 modes are determined using a bonding pad. I'm using the way.
본딩 옵션 패드는 본딩 단계에서 반도체 장치의 기능을 선택하는 데 사용하기 위한 것이다. 그러한 본딩 옵션 패드가 필요한 이유는 반도체 장치의 기능이 반도체 장치가 장착되는 기구의 기능 또는 그 필요에 따라 수정되어야하기 때문이다. 예컨대 반도체 장치는 본딩 옵션 패드를 전원측 도선(고전위 측 도선)과 접지 도선(저전위 측 도선)상의 도선 중 하나에 접속함으로써 단일 비트(×비트)구성의 다이내믹 램으로서 사용될 수 있다. 다른 한편 반도체 장치는 본딩 옵션 패드를 다른 도선에 접속함으로써 N비트(×4 비트) 구성의 다이내믹 램으로서 사용될 수 있다.The bonding option pad is for use in selecting a function of the semiconductor device in the bonding step. The reason for such a bonding option pad is that the function of the semiconductor device must be modified according to the function of the mechanism on which the semiconductor device is mounted or its needs. For example, the semiconductor device can be used as a dynamic RAM in a single bit (x bit) configuration by connecting a bonding option pad to one of a power supply side lead (high potential side lead) and a ground lead (low potential side lead). On the other hand, the semiconductor device can be used as a dynamic RAM in an N bit (x 4 bit) configuration by connecting a bonding option pad to another conductor.
이와 같이, 본딩 옵션 패드와 고전위 또는 저전위 측 도선 사이의 선택적 접속으로 다양한 기능을 갖는 반도체 장치를 제공될 수 있다.As such, a semiconductor device having various functions can be provided by selective connection between the bonding option pad and the high potential or low potential side lead.
이러한 유형의 반도체 장치는 고전위와 그에 인접한 저전위측 도선들 사이에 위치한 본딩 옵션 패드로써 소정의 방향으로 확장된 고전위 및 저전위측 도선을 포함한다. 본딩 옵션 패드는 고전위측 도선 또는 저전위측 도선 중 어느 하나에 접속된다. 이러한 반도체 장치에서 본딩 옵션 패드상의 전위는 고전위 또는 저전위측 도선에 인가된 것과 동일하다. 이러한 구성으로 본딩 옵션 패드에 접속된 선택적 신호 발생 회로의 입력에서의 레벨 변동을 피할 수 있다. Semiconductor devices of this type include high potential and low potential side conductors extending in a predetermined direction with bonding option pads located between the high potential and adjacent low potential side conductors. The bonding option pad is connected to either the high potential side lead or the low potential side lead. In such a semiconductor device, the potential on the bonding option pad is the same as that applied to the high potential or low potential side lead. This configuration avoids level fluctuations at the input of the selective signal generation circuit connected to the bonding option pads.
도 1을 참조하면, 통상적인 반도체 메모리 장치에서의 동작모드 선택 회로를 도시한다.Referring to Fig. 1, an operation mode selection circuit in a conventional semiconductor memory device is shown.
도 1에서, 동작모드 선택회로는, X4 본딩패드(100) 및 X8 본딩패드(110)에 각각 연결되어 정전기를 포함한 외부의 전기적 영향으로부터 내부회로를 보호하기 위한 제 1 및 제 2 정전기 방지부(101,111), 상기 제 1 정전기 방지부(101)의 출력노드와 연결되어 X4 동작모드 신호를 출력하는 제 1 버퍼(120), 제 2 정전기 방지부(111)의 출력노드와 연결되어 X8 동작모드 신호를 출력하는 제2 버퍼(130)를 구비한다. In FIG. 1, the operation mode selection circuit may be connected to the
상기한 바와 같은 구성을 갖는, 동작모드 선택회로는, 패키지 제작시 X4 본딩패드(100) 및 X8 본딩패드(110)에 본딩와이어의 연결 상태 즉, 내부전압(VDD) 또는 접지(VSS)와의 연결상태에 따라, 특정 동작모드가 결정된다. 또한, 하나의 메모리는 두 가지 이상의 동작 모드를 지원함에 따라 X16 모드로 결정된 메모리의 동작이 X4 및 X8 동작모드에 특정 영향을 미치는지에 대한 검증이 필요하다. The operation mode selection circuit having the configuration as described above is connected to the
또한, 본딩 패드가 접지에 연결되는 경우에 버퍼의 전원전압단에서 접지로의 전류패쓰가 발생되어 누설전류가 항상 존재한다. In addition, when the bonding pad is connected to ground, a current path is generated from the power supply voltage terminal of the buffer to the ground, so that a leakage current always exists.
따라서, 본딩 패드 옵션 시에 전류패쓰를 적절히 차단할 수 있는 개선된 기술이 요구된다. Thus, there is a need for an improved technique that can adequately block current paths for bonding pad options.
따라서, 본 발명의 목적은 상기한 종래의 문제를 해결할 수 있는 반도체 메모리 장치에서의 동작모드 선택회로를 제공함에 있다. Accordingly, it is an object of the present invention to provide an operation mode selection circuit in a semiconductor memory device which can solve the above-mentioned conventional problems.
본 발명의 다른 목적은 본딩 옵션시 선택신호 출력라인에 전류 패쓰가 생성되는 것을 방지할 수 있는 반도체 메모리 장치에서의 동작모드 선택회로를 제공함에 있다.Another object of the present invention is to provide an operation mode selection circuit in a semiconductor memory device which can prevent generation of a current path in a selection signal output line in a bonding option.
본 발명의 또 다른 목적은 옵션 패드의 접지 본딩 시 전원전압단에서 접지로 생성가능한 전류 패쓰를 차단하여 전류소모를 저감할 수 있는 반도체 메모리 장치에서의 동작모드 선택회로를 제공함에 있다. It is still another object of the present invention to provide an operation mode selection circuit in a semiconductor memory device capable of reducing current consumption by cutting off a current path that can be generated to ground at a power supply voltage terminal during ground bonding of an option pad.
상기한 본 발명의 목적들을 달성하기 위하여 본 발명의 일실시 예적 양상(an aspect)에 따라, 반도체 메모리 장치에서의 동작모드 선택회로는: According to an aspect of the present invention for achieving the above object of the present invention, the operation mode selection circuit in the semiconductor memory device is:
플로팅 또는 본딩되어지는 본딩 패드와;Bonding pads to be floated or bonded;
상기 본딩 패드에 연결되어 제1 동작모드 신호를 출력하는 버퍼와;A buffer connected to the bonding pad to output a first operation mode signal;
상기 버퍼의 입력단에 연결되어 상기 제1 동작 모드의 활성화 유무에 따라 턴온되는 스위칭부와;A switching unit connected to an input of the buffer and turned on according to whether the first operation mode is activated;
상기 스위칭부와 연결되어 상기 스위칭부의 턴 오프시 전원전압과 접지로의 직류 패쓰를 차단하기 위한 전류 패쓰 차단부를 구비한다. And a current path blocking unit connected to the switching unit to block a DC path to a power supply voltage and a ground when the switching unit is turned off.
본 발명의 실시 예에서, 상기 본딩 패드는 x4 또는 x8 동작 모드를 결정하기 위한 패드이다. 상기 제1 동작모드 신호는 x4 동작 모드를 행하기 위한 신호임이 바람직하다. In an embodiment of the present invention, the bonding pad is a pad for determining an x4 or x8 operation mode. Preferably, the first operation mode signal is a signal for performing an x4 operation mode.
본 발명의 실시 예에서, 상기 버퍼는 CMOS 인버터일 수 있으며, 상기 스위칭부는 게이트가 접지에 연결되고 드레인이 상기 버퍼의 입력단에 연결된 피형 모오스 트랜지스터일 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the buffer may be a CMOS inverter, and the switching unit may be a type MOS transistor having a gate connected to ground and a drain connected to an input terminal of the buffer.
바람직하기로, 상기 전류 패쓰 차단부는,Preferably, the current path blocking unit,
일측 노드가 접지에 연결된 커패시터와, 상기 커패시터의 타측 노드에 게이트가 연결되고 소오스가 전원전압 공급단에 연결되며 드레인이 상기 피형 모오스 트랜지스터의 소오스에 연결된 피형 모오스 트랜지스터를 포함하여 구성될 수 있다. A capacitor having one node connected to ground and a gate connected to the other node of the capacitor, a source connected to a power supply voltage supply terminal, and a drain connected to a source of the source MOS transistor may be configured.
본 발명의 실시 예에 적용되는 반도체 메모리 장치는 DDR2 타입, DDR3 타입의 메모리 어레이 구조를 가질 수 있으며, 그러한 반도체 메모리 장치를 탑재한 데이터 처리 시스템은 퍼스널 컴퓨터, 노트북 컴퓨터, HHP나 PMP 등의 휴대용 전자기기 등이 될 수 있다. A semiconductor memory device applied to an embodiment of the present invention may have a DDR2 type and a DDR3 type memory array structure, and the data processing system equipped with such a semiconductor memory device is a portable electronic device such as a personal computer, a notebook computer, an HHP or a PMP. Device and the like.
상기한 바와 같은 본 발명의 실시 예적 구성에 따르면, 패드 본딩 후에 발생되던 전류 패쓰가 차단되어 전류 패쓰를 통한 전류소모가 방지 또는 최소화되는 효과가 있다. According to the exemplary embodiment of the present invention as described above, the current path generated after the pad bonding is blocked, thereby preventing or minimizing the current consumption through the current path.
이하에서는 본 발명에 따라, 패드 본딩 후에 발생되는 전류 패쓰를 차단할 수 있는 반도체 메모리 장치에서의 동작모드 선택회로에 관한 바람직한 실시 예가 첨부된 도면들을 참조로 설명될 것이다. Hereinafter, according to the present invention, a preferred embodiment of an operation mode selection circuit in a semiconductor memory device capable of blocking a current path generated after pad bonding will be described with reference to the accompanying drawings.
이하의 실시예에서 많은 특정 상세들이 도면을 따라 예를 들어 설명되고 있지만, 이는 본 분야의 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 보다 철저한 이해를 돕기 위한 의도 이외에는 다른 의도 없이 설명되었음을 주목(note)하여야 한다. 그렇지만, 본 발명이 이들 특정한 상세들 없이도 실시될 수 있을 것임은 본 분야의 숙련된 자들에 의해 이해될 수 있을 것이다. 공지의 디램 구조, 데이터 리드 동작 및 라이트 동작, 그리고 패드 옵션에 따른 동작과 관련된 기능적 회로들은 본 발명의 요지를 흐리지 않도록 하기 위해 상세히 설명되지 않는다.Although many specific details are set forth in the following examples by way of example and in the accompanying drawings, it is noted that this has been described without the intent to assist those of ordinary skill in the art to provide a more thorough understanding of the present invention. shall. However, it will be understood by those skilled in the art that the present invention may be practiced without these specific details. Functional circuits associated with known DRAM structures, data read and write operations, and pad optional operations have not been described in detail in order not to obscure the subject matter of the present invention.
후술되는 본 발명의 실시 예에 대한 기능 및 동작을 보다 철저히 이해되도록 하기 위해, 도 2 내지 도 6을 참조하여, 본딩 옵션 패드 및 본딩 옵션 후에 발생되는 전류 패쓰의 생성이 우선적으로 설명될 것이다. To better understand the functions and operations of the embodiments of the present invention described below, the generation of the bonding option pads and the current paths generated after the bonding options will first be described with reference to FIGS.
도 2는 도 1의 장치에서 배치된 본딩 옵션 패드들의 본딩 옵션을 설명하기 위해 제시된 도면이다. FIG. 2 is a diagram provided to explain bonding options of bonding option pads disposed in the apparatus of FIG. 1.
도 2를 참조하면, 후술되는 본 발명을 쉽게 이해할 수 있도록 종래 반도체 장치의 예시를 도시하였다. 둘 이상의 본딩 옵션 패드들은 반도체 칩(10)상에 소정의 방향으로 정렬된다. 본딩 옵션 패드중 하나는 BO로 표시되며 이는 고전위측 도선(VDD) 또는 저전위 측 도선(VSS)에 접속된다. 나머지 본딩 옵션 패드중 하나는 PO로 표시되며 그것은 신호 도선 SL에 접속된다. 고전위 및 저전위측 도선(VDD 및 VSS)는 각각 반도체 칩(10)상의 버스와 같이 형성되도록 서로 평행하게 배열된다. 다시 말하면, 고전위 및 저전위측 도선(VDD 및 VSS)들은 각각 본딩 옵션 패드의 정렬과 동일한 방향으로 확장한다. 반도체 칩(10)은 도 2에 일부만 도시되며 도시된 신호 도선은 다수의 신호 도선들중 일부일 뿐이다.Referring to FIG. 2, an example of a conventional semiconductor device is illustrated to easily understand the present invention described below. Two or more bonding option pads are aligned in a predetermined direction on the
본딩 옵션 패드가 각각의 고전위 및 저전위 측 도선에 평행하게 배열될 때, 짧은 본딩 와이어(11)는 본딩 옵션 패드(BO)와 고전위 측 도선간의 접속을 위해 필요하며, 본딩 와이어(12)는 또 다른 본딩 옵션 패드와 저전위 측 도선간의 접속을 위해 필요하다. 상기 본딩 와이어들은 도선 사이의 전기 접촉을 피하기 위해 본딩 와이어의 절연을 고려하는 것이 필요하다. 이 때문에 본딩 와이어(12)는 충분한 거리로 저전위 측 도선(Vss)으로부터 떨어져 있어야 한다. When the bonding option pads are arranged parallel to each of the high potential and low potential side conductors, a
도 2에서와 같이, 본딩 패드(BO)를 고전위 측 도선 또는 저전원 측 도선에 선택적으로 연결하는 경우에 제1 본딩 옵션(OP1)과 제2 본딩 옵션(OP2)중 하나가 선택되어, 예컨대 데이터 출력 동작모드가 X4, 또는 X8로서 설정될 수 있다. As shown in FIG. 2, one of the first bonding option OP1 and the second bonding option OP2 is selected when the bonding pad BO is selectively connected to the high potential side lead or the low power side lead, for example. The data output operation mode can be set as X4 or X8.
도 3 및 도 4는 통상적인 스택 패키지들의 패드배열 형태를 보인 도면들이다. 도 3의 경우에는 패드 배열이 반도체 집적회로의 중앙에 위치한 LOC 형태의 스택 패키지에 있어서 FF(fact to face) 형태의 스택 패키지를 도시한 도면이다. 여기서, 도면 중 참조부호 20은 패드이고, 22는 반도체 집적회로 칩이다. 여기서는 패드 배열이 서로 대면하는 형태로 이루어짐을 알 수 있다. 3 and 4 illustrate a pad arrangement form of typical stack packages. 3 illustrates a stack package in the form of a face to face (FF) type in a LOC type stack package in which a pad array is located at the center of a semiconductor integrated circuit. Here,
도 4의 경우에는 반도체 집적회로의 스택 패키지에 있어서 미러 형태(mirror type)의 스택 패키지를 도시한 도면이다. 여기서, 도면 중 참조부호 26은 패드이 고, 27은 부가회로, 28은 반도체 집적회로 칩, 32는 리드이다. 여기서는 패드 배열이 서로 거울을 보는 듯한 형태로 배치된다. 4 illustrates a mirror type stack package in a stack package of a semiconductor integrated circuit. Here,
이제부터는 상기한 바와 같이 선택적으로 본딩되고 반도체 칩 상에 배치되는 패드를 통해 동작모드 선택신호를 발생하는 회로가 설명될 것이다. Hereinafter, a circuit for generating an operation mode selection signal through a pad selectively bonded as described above and disposed on the semiconductor chip will be described.
도 5 및 도 6은 컨벤셔날 기술에서의 전류 패쓰 발생을 갖는 동작모드 선택회로도들이다. 5 and 6 are operating mode selection circuit diagrams with current path generation in conventional technology.
도 5 및 도 6은 본딩 옵션을 이용한 반도체 집적회로의 스택 패키지 집적회로에서의 옵션 회로로서, 이 옵션 회로는 출력 모드중 하나를 선택적으로 동작시키게 된다. 그리고, 옵션 회로는 기준 칩과 미러 칩내에 각각 설치되게 된다. 여기서, 도면 중 참조부호 50은 PMOS 트랜지스터, 80는 인버터, 100,110은 옵션 패드이다.5 and 6 are option circuits in a stack package integrated circuit of a semiconductor integrated circuit using a bonding option, which option circuit selectively operates one of the output modes. The option circuit is installed in the reference chip and the mirror chip, respectively. In the drawing,
본딩되지 않은 기준 칩에 있어서는 플로팅(floating) 상태를 방지하기 위해 대기전류(standby current)에 영향을 주지 않는 소자, 예를 들면 작은 크기의 풀업 트랜지스터(pull-up transistor)가 사용되고 있다. 상기 풀업 트랜지스터의 드레인은 제 1 전원 패드(VDD)와 같은 전원 패드(VDD)에 연결되고, 그 게이트는 제 1 접지 전원패드(VSS)와 같은 접지 전원(VDD)에 연결되며, 그 소스는 옵션 패드(100)와 인버터(80)의 입력단에 연결된다.In an unbonded reference chip, an element that does not affect the standby current, for example, a small pull-up transistor is used to prevent a floating state. The drain of the pull-up transistor is connected to a power pad VDD, such as a first power pad VDD, and its gate is connected to a ground power supply VDD, such as a first ground power pad VSS, and the source thereof is an option. It is connected to the input terminal of the
따라서, 상기 본딩 패드(100)가 본딩되지 않고 플로팅 상태로 되면 풀업 트랜지스터(50)는 턴오프 상태로 된다. Therefore, when the
도 6에서, 상기 본딩 패드(110)가 접지 패드(VSS)와 본딩되면, 풀업 트랜지 스터(50)의 드레인으로부터 "로우레벨"의 접지전압이 인가된다. 따라서, 풀업 트랜지스터(50)가 온상태로 되어 "하이레벨"의 전원 전압(VDD)이 풀업 트랜지스터(50)의 소오스 및 드레인과 옵션 패드(110)를 통해 접지 전원으로 인가됨으로써 트랜지스터(50)의 드레인은 "로우레벨"인 접지 전원(VDD)의 상태를 유지하게 된다.In FIG. 6, when the
이후, 인버터(80)의 입력단으로는 "로우레벨"의 전압(VSS)이 인가되어 인버터(80)의 출력단으로부터는 "하이레벨"의 옵션 출력신호(X4OUT)가 출력되게 된다. Thereafter, the voltage VSS of the "low level" is applied to the input terminal of the
이와 같이, 본딩 패드(110)가 접지전압으로 본딩되는 경우에 스위칭 소자인 피형 모오스 트랜지스터(50)의 소오스에서 드레인으로 전류패쓰가 형성된다. 상기 전류패쓰를 통해 미소 직류전류가 흐르게 되면, 전류소모가 불필요하게 일어난다. 컨벤셔날 기술에서는 피형 모오스 트랜지스터의 사이즈를 조절하여 전류가 수 마이크로 암페어 정도로 흐르도록 하여 전류의 소모를 줄여왔다. As described above, when the
따라서, 바람직하기로 본딩 옵션 시에 전류 패쓰의 발생 문제를 근본적으로 해결할 수 있는 개선된 기술이 요망되는 것이다. Therefore, there is a need for an improved technique that can fundamentally solve the problem of current path generation in the bonding option.
이하에서는 상기한 도 6에서와 같이 누설전류가 생성되는 문제를 해결하는 것에 대한 설명이 도 7 및 도 8을 통하여 설명될 것이다. Hereinafter, a description of solving the problem in which the leakage current is generated as in FIG. 6 will be described with reference to FIGS. 7 and 8.
도 7 및 도 8은 본 발명의 실시예에 따라 전류 패쓰 차단기능을 갖는 동작모드 선택회로도들이다. 7 and 8 are operation mode selection circuit diagrams having a current path blocking function according to an embodiment of the present invention.
먼저, 도 7은 도 5에 대조되고, 도 8은 도 6에 대조됨을 이해하여야 한다. First, it should be understood that FIG. 7 contrasts with FIG. 5 and FIG. 8 contrasts with FIG. 6.
본 발명의 실시 예에서는 도 7 또는 도 8 어느 것이나 전류패쓰가 형성되지 않으므로, 불필요한 전류의 소모가 감소 또는 방지된다. In the embodiment of the present invention, since neither current path is formed in FIG. 7 or 8, unnecessary current consumption is reduced or prevented.
이제 도 7을 참조한다. 먼저, 반도체 메모리 장치에서의 동작모드 선택회로는, 플로팅 또는 본딩되어지는 본딩 패드(100)와, 상기 본딩 패드(100)에 연결되어 제1 동작모드 신호(X4OUT)를 출력하는 버퍼(80)를 기본적으로 구비한다. 또한, 상기 동작모드 선택회로는 상기 버퍼(80)의 입력단에 연결되어 상기 제1 동작 모드의 활성화 유무에 따라 턴온되는 스위칭부(50)를 구비하며, 상기 스위칭부(50)와 연결되어 상기 스위칭부(50)의 턴 오프시 전원전압과 접지로의 직류 패쓰를 차단하기 위한 전류 패쓰 차단부(P1,CAP1)를 구비한다. Reference is now made to FIG. 7. First, the operation mode selection circuit in the semiconductor memory device may include a
도 7에서, 상기 본딩 패드는 x4 또는 x8 동작 모드를 결정하기 위한 패드(100)이며, 상기 제1 동작모드 신호는 x4 동작 모드를 행하기 위한 신호일 수 있다. In FIG. 7, the bonding pad is a
상기 버퍼(80)는 CMOS 인버터로 구성될 수 있으며, 상기 스위칭부(50)는 게이트가 접지에 연결되고 드레인이 상기 버퍼의 입력단에 연결된 피형 모오스 트랜지스터(50)로 구현될 수 있다. 또한, 상기 전류 패쓰 차단부는, 일측 노드가 접지에 연결된 커패시터(CAP1)와, 상기 커패시터의 타측 노드에 게이트가 연결되고 소오스가 전원전압 공급단에 연결되며 드레인이 상기 피형 모오스 트랜지스터의 소오스에 연결된 피형 모오스 트랜지스터(90)를 포함하여 구성될 수 있다. The
도 8을 참조하면, 본딩으로써 접지전압(VSS)과 연결되는 본딩 패드(110)을 제외하면, 전술한 도 7의 구성과 동일하다. 왜냐하면, 본딩을 할 것인지의 선택 유무에 따라 발생되는 신호의 레벨이 동일하여야 하기 때문이다. Referring to FIG. 8, except for the
도 7에서와 같이 본딩 패드(100)가 플로팅되는 x8 동작의 경우에는 상기 커 패시터(70)가 피형 모오스 트랜지스터(90)의 게이트 단을 로우 레벨(LOW)로서 유지시키고 있으므로, 피형 모오스 트랜지스터(90)가 턴온된다. 이에 따라, 버퍼(80)의 출력은 로우레벨이 되어, 제1 동작모드 신호(X4OUT)가 로우레벨로써 출력된다. In the case of the x8 operation in which the
한편, 도 8에서와 같이 본딩 패드(110)가 접지전압과 연결되는 x4 동작의 경우에는 상기 커패시터(70)가 피형 모오스 트랜지스터(90)의 게이트 단을 하이 레벨(HIGH)로서 유지시키고 있으므로, 피형 모오스 트랜지스터(90)가 턴오프된다. 이에 따라, 스위칭 트랜지스터(50)가 턴오프되고, 버퍼(80)의 출력은 하우레벨이 되어, 제1 동작모드 신호(X4OUT)가 하이레벨로써 출력된다. On the other hand, in the case of the x4 operation in which the
여기서, 상기 전류 패쓰 차단부(90)의 차단역할에 의해, 도 6에서와 같이 생성되던 전류 패쓰가 원천적으로 봉쇄되어 전류 소모가 존재하지 않음을 알 수 있다. Here, by the blocking role of the current
도 8이 적용되는 DRAM은, 리프레쉬 제어부, 어드레스 버퍼, 뱅크 셀렉터, 메모리 뱅크들, 로우 디코더들, 및 컬럼 디코더들을 포함하는 통상적 메모리 장치의 회로이다. 8 is a circuit of a conventional memory device including a refresh controller, an address buffer, a bank selector, memory banks, row decoders, and column decoders.
상술한 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따르면, 패드 본딩 후에 발생되던 전류 패쓰가 차단되어 전류 패쓰를 통한 전류소모가 방지 또는 최소화된다. As described above, according to the exemplary embodiment of the present invention, the current path generated after the pad bonding is blocked to prevent or minimize current consumption through the current path.
상기한 설명에서는 본 발명의 실시 예를 위주로 도면을 따라 예를 들어 설명하였지만, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 본 발명을 다양하게 변형 또는 변경할 수 있음은 본 발명이 속하는 분야의 당업자에게는 명백한 것이다. 예를 들어, 사안이 다른 경우에 본 발명의 기술적 사상을 벗어남이 없이 전류 패쓰 차단부의 구성 소자를 모오스 트랜지스터 이외에도 타의 스위칭 소자로서 구현할 수 있을 것이다. In the above description, the embodiments of the present invention have been described with reference to the drawings, for example. However, it will be apparent to those skilled in the art that the present invention may be variously modified or changed within the scope of the technical idea of the present invention. . For example, in other cases, a component of the current path blocking unit may be implemented as another switching element in addition to the MOS transistor without departing from the technical spirit of the present invention.
또한, 본 발명의 실시 예에 적용되는 반도체 메모리 장치는 DDR2 타입, DDR3 타입의 메모리 어레이 구조를 가질 수 있으며, 상기 반도체 메모리 장치를 탑재한 데이터 처리 시스템은 퍼스널 컴퓨터, 노트북 컴퓨터, HHP나 PMP 등의 휴대용 전자기기 등이 될 수 있다 In addition, the semiconductor memory device applied to the embodiment of the present invention may have a DDR2 type, DDR3 type memory array structure, the data processing system equipped with the semiconductor memory device, such as a personal computer, notebook computer, HHP or PMP It can be a portable electronic device, etc.
도 1은 통상적인 반도체 메모리 장치에서의 동작모드 선택 회로1 illustrates an operation mode selection circuit in a conventional semiconductor memory device.
도 2는 도 1의 장치에서 배치된 본딩 옵션 패드들의 본딩 옵션을 설명하기 위해 제시된 도면 FIG. 2 is a diagram provided to explain bonding options of bonding option pads disposed in the apparatus of FIG.
도 3 및 도 4는 통상적인 스택 패키지들의 패드배열 형태를 보인 도면들3 and 4 illustrate a pad arrangement form of a typical stack package.
도 5 및 도 6은 컨벤셔날 기술에서의 전류 패쓰 발생을 갖는 동작모드 선택회로도들5 and 6 are operating mode selection circuit diagrams with current path generation in conventional technology.
도 7 및 도 8은 본 발명의 실시예에 따라 전류 패쓰 차단기능을 갖는 동작모드 선택회로도들7 and 8 are operation mode selection circuit diagrams having a current path blocking function according to an embodiment of the present invention
Claims (6)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020080056652A KR20090130931A (en) | 2008-06-17 | 2008-06-17 | Mode selecting circuit for use in semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020080056652A KR20090130931A (en) | 2008-06-17 | 2008-06-17 | Mode selecting circuit for use in semiconductor memory device |
Publications (1)
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Family
ID=41690251
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1020080056652A KR20090130931A (en) | 2008-06-17 | 2008-06-17 | Mode selecting circuit for use in semiconductor memory device |
Country Status (1)
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2008
- 2008-06-17 KR KR1020080056652A patent/KR20090130931A/en not_active Application Discontinuation
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