KR20090120686A - Voltage supply for read reference voltage of non volatile memory device - Google Patents
Voltage supply for read reference voltage of non volatile memory device Download PDFInfo
- Publication number
- KR20090120686A KR20090120686A KR1020080046616A KR20080046616A KR20090120686A KR 20090120686 A KR20090120686 A KR 20090120686A KR 1020080046616 A KR1020080046616 A KR 1020080046616A KR 20080046616 A KR20080046616 A KR 20080046616A KR 20090120686 A KR20090120686 A KR 20090120686A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- voltage
- temperature
- reference voltage
- read
- amplifier
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/26—Sensing or reading circuits; Data output circuits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/34—Determination of programming status, e.g. threshold voltage, overprogramming or underprogramming, retention
- G11C16/3436—Arrangements for verifying correct programming or erasure
- G11C16/3454—Arrangements for verifying correct programming or for detecting overprogrammed cells
- G11C16/3459—Circuits or methods to verify correct programming of nonvolatile memory cells
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/04—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store with means for avoiding disturbances due to temperature effects
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/56—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency
- G11C11/5621—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency using charge storage in a floating gate
- G11C11/5628—Programming or writing circuits; Data input circuits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/56—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency
- G11C11/5621—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency using charge storage in a floating gate
- G11C11/5642—Sensing or reading circuits; Data output circuits
Abstract
Description
본 발명은 불휘발성메모리 장치의 독출/검증 기준전압 공급부에 관한 것이다.The present invention relates to a read / verify reference voltage supply unit of a nonvolatile memory device.
최근 들어 전기적으로 프로그램(program)과 소거(erase)가 가능하고, 일정 주기로 데이터를 재작성해야하는 리프레시(refresh) 기능이 필요 없는 불휘발성 메모리 소자에 대한 수요가 증가하고 있다.Recently, there is an increasing demand for a nonvolatile memory device that can be electrically programmed and erased and that does not require a refresh function to rewrite data at regular intervals.
상기 불휘발성 메모리 소자는 전기적인 프로그램/소거 동작이 가능한 소자로서 얇은 산화막에 인가되는 강한 전기장에 의해 전자가 이동하면서 셀 소자의 문턱전압을 변화시켜 프로그램 및 소거 동작을 수행한다.The nonvolatile memory device is an electric program / eraseable device that performs program and erase operations by changing a threshold voltage of a cell device while electrons are moved by a strong electric field applied to a thin oxide film.
상기 불휘발성 메모리 장치는 통상적으로 데이터가 저장되는 셀들이 매트릭스 형태로 구성된 메모리 셀 어레이, 상기 메모리 셀 어레이의 특정 셀들에 대하여 데이터를 기입하거나 특정 셀에 저장되었던 데이터를 독출하는 페이지 버퍼를 포함한다. 상기 페이지 버퍼는 메모리 셀 어레이에 기록할 데이터를 임시저장하거나, 메모리 셀 어레이로부터 특정 셀의 데이터를 독출하여 임시 저장하는 레지스터, 특 정 비트라인 또는 특정 레지스터의 전압 레벨을 감지하는 감지노드, 상기 특정 비트라인과 감지노드의 접속여부를 제어하는 비트라인 선택부를 포함한다.The nonvolatile memory device typically includes a memory cell array having cells in which data is stored in a matrix form, and a page buffer for writing data to or reading data from specific cells of the memory cell array. . The page buffer may be configured to temporarily store data to be written to a memory cell array or to detect a voltage level of a register, a specific bit line, or a specific register that reads and temporarily stores data of a specific cell from the memory cell array. And a bit line selector for controlling whether the bit line and the sensing node are connected.
이러한 불휘발성 메모리 셀의 프로그램 검증동작 또는 독출동작 동안 비트라인이 하이레벨로 프리차지되고, 특정 메모리 셀의 프로그램 상태에 따라 상기 프리차지된 전압레벨이 변화하는지를 판독하는 동작이 수행된다. 즉, 메모리셀의 문턱전압(Vth)에 기초하여 프로그램 검증 또는 독출동작이 수행된다. During the program verify operation or the read operation of the nonvolatile memory cell, the bit line is precharged to a high level, and an operation of reading whether the precharged voltage level changes according to a program state of a specific memory cell is performed. That is, the program verify or read operation is performed based on the threshold voltage Vth of the memory cell.
한편, 외부 온도 변화에 따른 검증 또는 독출 동작시에 각 셀의 상태가 실제 상태와 다르게 검증 또는 독출 되는 문제점이 알려져 있다. 즉, 상온에서 검증 또는 독출하는 것을 기준으로 할때, 저온에서 검증 또는 독출한 경우의 문턱전압이 더 낮아지고, 고온에서 검증 또는 독출한 한 경우의 문턱전압이 높아지는 것이다. 따라서 온도 변화에 따른 검증 또는 독출/검증 기준 전압을 변화시켜 인가할 필요성이 있다.On the other hand, there is a known problem that the state of each cell is verified or read differently from the actual state at the time of verifying or reading operation according to an external temperature change. That is, based on the verification or reading at room temperature, the threshold voltage when verifying or reading at low temperature is lower, and the threshold voltage when verifying or reading at high temperature is higher. Therefore, there is a need to change and apply the verification or read / verify reference voltage according to the temperature change.
특히, 멀티 레벨셀 프로그램 방식의 경우 문턱 전압의 분포 개수가 많고, 각 분포들 간의 문턱전압의 차이도 아주 작다. 그러므로 온도 변화 등에 의해 멀티 레벨 셀의 문턱전압이 변화되면 프로그램 검증 또는 독출 동작시 에러를 유발할 확률이 더욱 커지는 문제점이 있다. In particular, in the multi-level cell program method, the number of distribution of threshold voltages is large, and the difference in threshold voltages between the distributions is very small. Therefore, if the threshold voltage of the multi-level cell is changed due to temperature change, there is a problem that the probability of causing an error during program verification or read operation becomes larger.
전술한 필요성에 따라 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 온도변화에 반비례하여 변화하는 독출/검증 기준전압을 공급하는 독출/검증 기준전압 공급부를 제공하는 것이다. The problem to be solved by the present invention in accordance with the above-mentioned necessity is to provide a read / verify reference voltage supply for supplying a read / verify reference voltage changes in inverse proportion to the temperature change.
전술한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 불휘발성 메모리장치의 독출/검증 기준전압 공급부는 밴드갭 기준전압회로에서 전달받은 온도전압의 레벨을 변환시켜 제1 변환 온도 전압을 생성하는 제1 레벨 변환부와, 상기 제1 변환 온도전압의 레벨을 변환하여 제2 변환 온도 전압을 생성하는 제2 레벨 변환부와, 상기 제2 변환 온도 전압을 버퍼링하여 출력하는 버퍼부를 포함하는 것을 특징으로 한다.A read / verify reference voltage supply unit of a nonvolatile memory device of the present invention for solving the above-described problems converts a level of a temperature voltage received from a bandgap reference voltage circuit to generate a first converted temperature voltage. And a second level converter configured to convert the level of the first converted temperature voltage to generate a second converted temperature voltage, and a buffer configured to buffer and output the second converted temperature voltage.
온도를 센싱할수 있는 밴드갭 기준전압회로의 BJT 트랜지스터를 사용하여 안정적인 온도변화에 따른 독출/검증 기준전압 레벨을 발생시킬 수 있을 뿐만 아니라 ,공정변화가 적은 BJT 트랜지스터와 증폭기를 사용하여 공정변화에도 강한 독출/검증 기준전압 레벨을 발생시키고, 면적이 커지는 단점을 보완할 수 있다.By using BJT transistor of bandgap reference voltage circuit that can sense temperature, it can not only generate read / verify reference voltage level according to stable temperature change, but also resist process change by using BJT transistor and amplifier with less process change. It can generate a read / verify reference voltage level and compensate for the disadvantage of larger area.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본원 발명의 바람직한 실시 예를 상세히 살펴보기로 한다. 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완 전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various different forms, only the present embodiments are intended to complete the disclosure of the present invention, the scope of the invention to those skilled in the art It is provided to inform you. Like numbers refer to like elements in the figures.
도 1은 통상적으로 사용되는 온도 보상효과를 갖는 독출/검증 기준전압 공급부를 도시한 회로도이다.1 is a circuit diagram illustrating a read / verify reference voltage supply unit having a temperature compensation effect that is commonly used.
상기 독출/검증 기준전압 공급부(100)는 온도변화와 무관하게 일정한 값을 유지하는 밴드갭 전압에 따라 제1 기준 전압(Vref)을 생성하는 제1 기준전압생성부(110), 상기 밴드갭 전압에 따라 제2 기준전압(V2)을 생성하는 제2 기준전압생성부(120), 상기 제1 기준전압(Vref)을 전달받아 온도 변화에 따라 그 레벨이 변하는 온도전압(V1-Vth)을 생성하는 온도전압 생성부(130), 상기 온도 전압을 전달받아 레벨을 변환 시켜 변환전압(V3)을 생성하는 레벨 변환부(140), 상기 변환 전압(V3)을 전달받아 출력을 보완하는 버퍼부(150), 상기 버퍼부의 출력전압과 상기 제2 기준 전압(V2)을 증폭시켜 독출/검증 기준전압(VREAD or Vver)을 생성하는 증폭부(160)를 포함한다.The read / verify reference
상기 제1 기준전압 생성부(110)는 온도 변화와 무관하게 일정한 값을 유지하는 밴드갭 전압(VBG)을 전달받아 상기 제1 기준전압(V1)을 생성한다. 이를 위해, 상기 밴드갭 전압(VBG)을 비반전 단자(+)로 입력받는 OP 앰프(112), 상기 OP 앰프(112)의 출력단과 접지단 사이에 직렬 접속된 제1 및 제2 가변저항(Ra1, Ra2),제1 저항(R1)을 포함한다. 이때, 상기 제2 가변저항(Ra2)과 제1 저항(R1)의 접속노 드(N1)는 상기 OP 앰프(112)의 반전단자(-)에 접속되고, 상기 제1 가변저항(Ra1) 및 제2 가변저항(Ra2)의 접속노드에서 상기 제1 기준전압(V1)이 출력된다.The first
이때, 상기 제1 기준전압(V1)은 수학식 1 에 의해 결정된다.In this case, the first reference voltage V1 is determined by Equation 1.
상기 제2 기준전압 생성부(120)는 온도 변화와 무관하게 일정한 값을 유지하는 밴드갭 전압(VBG)을 전달받아 상기 제2 기준전압(V2)을 생성한다. 이를 위해, 상기 밴드갭 전압(VBG)을 비반전 단자(+)로 입력받는 OP 앰프(122), 상기 OP 앰프(122)의 출력단과 접지단 사이에 직렬 접속된 제2 저항(R2), 제1 및 제2 가변저항(Rb1, Rb2)을 포함한다. 이때, 상기 제1 가변저항(Rb1)과 제2 저항(R2)의 접속노드(N2)는 상기 OP 앰프(122)의 반전단자(-)에 접속되고, 상기 제1 가변저항(Rb1) 및 제2 가변저항(Rb2)의 접속노드에서 상기 제2 기준전압(V2)이 출력된다.The second
이때, 상기 제2 기준전압(V2)은 수학식 2 에 의해 결정된다.In this case, the second reference voltage V2 is determined by Equation 2.
한편, 상기 가변저항들의 조절에 따라 제1 기준전압(V1)과 제2 기준전압(V2)은 밴드갭 전압과 동일한 값을 가질 수도 있다.Meanwhile, the first reference voltage V1 and the second reference voltage V2 may have the same value as the band gap voltage according to the adjustment of the variable resistors.
상기 온도 전압 생성부(130)는 상기 제1 기준전압(V1)을 온도 변화에 따라 변하는 문턱전압(Vth) 성분이 포함되도록 변환시킨다. 이를 위해 상기 제1 기준전압(V1)을 게이트로 받고 소스와 전원전압(Vcc)단자가 접속된 PMOS트랜지스터(P130), 상기 PMOS트랜지스터(P130)의 드레인단과 접지단자(GND) 사이에 접속된 제3 저항(R3)을 포함한다. 상기 제1 기준전압(V1)이 PMOS 트랜지스터(P130)의 게이트에 인가됨에 따라 기준전압에서 문턱전압(Vth) 만큼 감소된 전압(V1-Vth)이 상기 PMOS 트랜지스터(P130)와 제3 저항(R3)의 접속노드(N3)에서 출력된다. 상기 PMOS트랜지스터(P130)의 문턱전압(Vth)은 온도 증가에 반비례하여 변한다. 따라서 상기 접속노드(N3)에서 출력되는 온도 전압(V1-Vth)은 온도 증가에 비례하여 변하게 된다.The
즉, 온도가 증가하면 상기 온도 전압(V1-Vth)은 증가하고, 온도가 감소하면 상기 온도 전압(V1-Vth)은 감소한다.That is, as the temperature increases, the temperature voltage V1-Vth increases, and when the temperature decreases, the temperature voltage V1-Vth decreases.
상기 레벨변환부(140)는 상기 온도전압(V1-Vth)을 전달받아 그 레벨을 변환시켜 변환 전압(V3)을 생성한다. 상기 레벨 변환부(140)는 상기 온도전압(V1-Vth)을 비반전 단자로 입력받는 OP 앰프(142), 상기 OP 앰프(142)의 출력단과 접지단 사이에 직렬 접속된 제4 저항(R4), 제1 및 제2 가변저항(Rc1, Rc2)을 포함한다. 상기 제4 저항(R6)과 제1 가변저항(Rc1)의 접속노드(N4)는 상기 OP 앰프(142)의 반전단자(-)에 접속된다. 상기 제1 가변저항(Rc1)과 제2 가변저항(Rc2)의 접속노드에서 변환전압(V3)이 출력되고, 상기 변환전압(V3)은 수학식 3에 의해 결정된다. The
상기 버퍼부(150)는 상기 변환전압(V3)을 전달받아 버퍼링한다. 상기 버퍼부(150)는 상기 변환전압(V3)을 비반전 단자(+)로 입력받는 OP 앰프(152)를 포함하고, 상기 OP 앰프(152)의 출력단은 상기 OP 앰프(152)의 반전단자(-)에 접속된다.The
상기 증폭부(160)는 상기 버퍼부의 출력전압(V3)과 상기 제2 기준전압(V2)을 조합하여 독출/검증 기준전압(Vread or Vver)을 출력한다. 상기 제2 기준전압(V2)을 비반전 단자(+)로 입력받고, 상기 출력전압(V3)을 제5 저항(R5)을 통해 반전단자(-)로 입력받는 OP 앰프(162)를 포함한다. 또한 상기 OP 앰프(162)의 출력단과 상기 반전단자(-)를 접속시키는 피드백 저항(R6)을 포함한다.The
상기 증폭부(160)의 구성에 따라 상기 독출/검증 기준전압(Vread or Vver)의 값은 수학식 4 에 의해 결정된다.According to the configuration of the
상기 제1 기준전압(V1)과 제2 기준전압(V2) 성분은 온도변화와 무관하게 일 정한 값을 유지하지만, 상기 문턱전압(Vth) 성분은 온도 증가에 반비례하여 증가하는바, 상기 독출/검증 기준전압(Vread or Vver)은 온도 증가시에 감소하고, 온도 감소시에 증가하게 된다. The first reference voltage (V1) and the second reference voltage (V2) components maintain a constant value regardless of temperature change, but the threshold voltage (Vth) component increases in inverse proportion to the increase in temperature, the read / The verification reference voltage (Vread or Vver) decreases with increasing temperature and increases with decreasing temperature.
이처럼 상기 독출/검증 기준전압 공급부(100)는 문턱전압(Vth)의 온도변화를 이용하여 온도 보상 효과를 갖게 된다. 다만, 종래의 독출/검증 기준전압 공급부(100)는 온도전압 생성을 위하여 MOS 트랜지스터를 사용하고 있으나, MOS 트랜지스터의 문턱전압의 경우 공정의 변화에 따른 변화정도가 커서 안정적인 독출/검증 기준전압(Vread or Vver)을 공급하는데 문제가 된다.As such, the read / verify reference
도 2는 본원 발명의 일 실시예에 따른 온도 보상효과를 갖는 독출/검증 기준전압 공급부를 나타낸 회로도이다.2 is a circuit diagram illustrating a read / verify reference voltage supply unit having a temperature compensation effect according to an embodiment of the present invention.
상기 독출/검증 기준 전압 공급부(200)는 밴드갭 레퍼런스 회로에서 전달받은 온도전압(Vtemp)의 레벨을 변환시키는 제1 레벨 변환부(210), 상기 제1 레벨 변환부의 출력 전압의 레벨을 변환시키는 제2 레벨 변환부(220), 상기 제2 레벨 변환부(220)의 출력을 버퍼링하여 독출/검증 기준전압(Vread or Vver)을 생성하는 버퍼부(230)를 포함한다. The read / verify reference
상기 제1 레벨 변환부(210)는 상기 밴드갭 레퍼런스 회로에서 전달받은 온도전압(Vtemp)의 레벨을 변환시킨다. 상기 온도 전압의 특성에 대해서는 추후 살펴보기로 하고, 상기 제1 레벨 변환부(210)의 상세 구성을 먼저 살펴보기로 한다.The
상기 제1 레벨 변환부(210)는 상기 온도전압(Vtemp)을 비반전단자(+)로 입력 받는 OP 앰프(212), 상기 OP 앰프(212)의 출력단과 접지단 사이에 직렬 접속된 제1 및 제2 가변저항(Ra1, Ra2)과 제1 저항(R1)을 포함한다. 이때, 상기 제2 가변저항(Ra2)과 제1 저항(R1)의 접속노드(N1)는 상기 OP 앰프(212)의 반전단자(-)에 접속된다. 또한, 상기 제1 가변저항(Ra1)과 제2 가변저항(Ra2)의 접속노드에서 레벨 변환된 온도전압(Vtemp)이 출력된다. 이를 제1 변환 온도전압(V1)이라 한다.The
상기 제1 변환 온도 전압(V1)은 다음 수학식에 의하여 결정된다.The first conversion temperature voltage V1 is determined by the following equation.
이제 상기 온도 전압(Vtemp)에 대하여 살펴보기로 한다.Now, the temperature voltage Vtemp will be described.
도 3은 본원 발명에 적용되는 밴드갭 레퍼런스회로를 도시한 회로도이다.3 is a circuit diagram illustrating a bandgap reference circuit applied to the present invention.
상기 밴드갭 레퍼런스회로(300)는 베이스와 컬렉터가 다이오드 접속되고 에미터가 접지된 제1 BJT 트랜지스터(Q1), 마찬가지로 베이스와 컬렉터가 다이오드 접속되고 에미터가 접지된 제2 BJT 트랜지스터(Q2), 출력단(VBG)과 상기 제1 BJT 트랜지스터(Q1)의 컬렉터 사이에 접속된 제1 저항(R1), 출력단(VBG)과 상기 제2 BJT 트랜지스터(Q2)의 컬렉터 사이에 직렬 접속된 제2 및 제3 저항(R2, R3), 제1 BJT 트랜지스터(Q1)와 제1 저항(R1)의 접속노드(N1)에 인가되는 제1 전압(Va)을 비 반전단자(+)로 입력받고, 상기 제2 저항(R2)과 제3 저항(R3)의 접속노드(N2)에 인가되는 제2 전압(Vb)을 반전단자(-)로 입력받아 출력전압(VBG)을 출력하는 OP 앰프(310)를 포함한다.The
상기 출력전압(VBG)은 절대 온도의 변화에 비례하는 성분(PTAT, propotional to absolute temperature)과 절대 온도의 변화에 반비례하는 성분(CTAT, complementary to absolute temperature)을 모두 포함함으로써 온도 변화에 민감하지 않은 전압이 된다.The output voltage VBG is not sensitive to temperature changes by including both a component proportional to the change in absolute temperature (PTAT) and a component inversely proportional to the change in absolute temperature (CTAT). It becomes a voltage.
상기 출력전압(Vout)의 값은 수학식 6과 같다.The value of the output voltage Vout is expressed by Equation 6.
상기 수학식 6에서, VBE1은 상기 제1 BJT 트랜지스터(Q1)에서 강하되는 전압이고, VBE2는 상기 제2 BJT 트랜지스터(Q2)에서 강하되는 전압이다. 또한, 상기 VBE2는 본원 발명에 적용되는 온도 전압(Vtemp)이기도 하다.In Equation 6, V BE1 is a voltage dropped in the first BJT transistor Q1, and V BE2 is a voltage dropped in the second BJT transistor Q2. In addition, V BE2 is also a temperature voltage (Vtemp) applied to the present invention.
이때, 상기 제2 및 제3 저항을 흘러가는 제2 전류(I2)의 값은 수학식 7과 같다.In this case, the value of the second current I2 flowing through the second and third resistors is expressed by Equation 7 below.
한편, 상기 ΔVBE는 수학식 8과 같다.Meanwhile, ΔVBE is expressed by Equation 8.
이때 상기 VT는 온도 전압(thermal voltage), K는 볼츠만 상수(Boltzmann's constant), T는 절대 온도, q는 전하량을 나타낸다. 또, N은 상기 제1 BJT 트랜지스터(Q1)와, 제2 BJT 트랜지스터(Q2)의 면적비를 나타낸다.In this case, V T denotes a thermal voltage, K denotes Boltzmann's constant, T denotes an absolute temperature, and q denotes an amount of charge. N represents an area ratio of the first BJT transistor Q1 and the second BJT transistor Q2.
상기 수학식 6 내지 8에 따라 상기 수학식 6은 수학식 9로 정리된다.According to Equations 6 to 8, Equation 6 is summarized as Equation 9.
이때, 상기 VT가 포함된 항은 절대 온도의 변화에 비례하는 성분(PTAT)에 해당하며, VBE1이 포함된 항은 절대 온도의 변화에 반비례하는 성분(CTAT)에 해당하는바, 상기 출력 전압(Vout)은 온도 변화에 민감하지 않은 전압이 된다.In this case, the term containing V T corresponds to a component (PTAT) proportional to the change in absolute temperature, and the term including V BE1 corresponds to a component (CTAT) inversely proportional to the change in absolute temperature. The voltage Vout becomes a voltage that is not sensitive to temperature changes.
이와 같이 밴드갭 레퍼런스 회로는 온도 변화에 민감하지 않은 전압을 출력한다. 다만, 본원 발명에서는 밴드갭 레퍼런스 회로의 특정 노드에 인가되는 온도전압을 이용하고자 한다. 즉, 상기 제3 저항(R3)과 제2 BJT 트랜지스터(Q2)의 접속노드사이에서 출력되는 온도전압을 이용하고자 한다. 이는 BJT 트랜지스터(Q2)의 문턱전압과 같다고 할 수 있다. 이와 같이 BJT 트랜지스터의 문턱전압을 온도전압으로 사용하므로, MOS 트랜지스터와 비교하여 훨씬 안정된 문턱전압을 공급할 수 있다. 한편, 상기 온도전압(Vtemp)는 BJT 트랜지스터의 문턱전압과 같으므로, 온도 증가시에 감소하고, 온도 감소시에 증가하는 반비례 관계를 갖는다.As such, the bandgap reference circuit outputs a voltage that is not sensitive to temperature changes. However, the present invention intends to use the temperature voltage applied to a specific node of the bandgap reference circuit. That is, the temperature voltage output between the third resistor R3 and the connection node of the second BJT transistor Q2 is used. This can be said to be equal to the threshold voltage of the BJT transistor Q2. As such, since the threshold voltage of the BJT transistor is used as the temperature voltage, a much more stable threshold voltage can be supplied compared with the MOS transistor. On the other hand, since the temperature voltage Vtemp is the same as the threshold voltage of the BJT transistor, the temperature voltage Vtemp decreases when the temperature increases and has an inverse relationship that increases when the temperature decreases.
다시 도 2를 참조하면, 상기 제1 레벨 변환부(210)는 밴드갭 레퍼런스회로(300)에서 전달받은 온도전압의 레벨을 변환시켜 제1 변환 온도전압(V1)을 출력한다.Referring back to FIG. 2, the
상기 제2 레벨변환부(220)는 제1 변환 온도전압(V1)을 비반전단자(+)로 입력받는 OP 앰프(222), 상기 OP 앰프(222)의 출력단과 접지단 사이에 직렬 접속된 제2 저항(R2), 제3 및 제4 가변저항(Rb1, Rb2)을 포함한다. 이때, 상기 제2 저항(R2)과 제3 가변저항(Rb1)의 접속노드(N2)는 상기 OP 앰프(222)의 반전단자(-)에 접속된 다. 또한, 상기 제3 가변저항(Rb1)과 제4 가변저항(Rb2)의 접속노드에서 레벨 변환된 전압(V2)이 출력된다. 이를 제2 변환 온도전압(V2)이라 한다.The second
상기 제2 변환 온도 전압(V2)은 다음 수학식에 의하여 결정된다.The second conversion temperature voltage V2 is determined by the following equation.
상기 버퍼부(230)는 상기 제2 변환 온도 전압(V2)을 전달받아 버퍼링한다. 상기 버퍼부(230)는 상기 제2 변환 온도 전압(V2)을 비반전 단자(+)로 입력받는 OP 앰프(232)를 포함하고, 상기 OP 앰프(232)의 출력단은 상기 OP 앰프(232)의 반전단자(-)에 접속된다. 상기 버퍼부(230)의 출력전압이 상기 독출/검증 기준 전압(VREAD) 또는 검증 기준 전압(Vver)으로 사용된다. 불휘발성 메모리 장치에 있어서, 독출 동작과 검증 동작은 거의 동일한 원리에 따라 수행되므로, 상기 독출/검증 기준 전압 공급부(200)의 출력전압이 검증 동작에 충분히 사용될 수 있다.The
온도 변화에 따른 독출/검증 기준전압의 변화에 대하여 더 자세히 설명하면, 저온에서는 실제로 인가되는 독출/검증 기준전압보다 낮은 독출/검증 기준전압이 인가된 것과 같은 현상이 나타난다. 그러나 상기 독출/검증 기준전압 공급부는 온도증가에 반비례하여 변하는 독출/검증 기준전압이 인가되는바, 저온에서 실제 인가되는 독출/검증 기준전압보다 높은 독출/검증 기준전압을 인가하여, 상온에서의 독출/검증 기준전압보다 낮은 독출/검증 기준전압이 인가된 것과 같은 현상을 방지할 수 있다.The change in the read / verify reference voltage according to the temperature change will be described in more detail. At low temperatures, the same phenomenon occurs as the read / verify reference voltage lower than the actually applied read / verify reference voltage. However, since the read / verify reference voltage supply unit is applied with a read / verify reference voltage that is changed in inverse proportion to an increase in temperature, the read / verify reference voltage is applied at a low temperature, thereby applying a read / verify reference voltage that is higher than the actual read / verify reference voltage. It is possible to prevent such a phenomenon that a read / verify reference voltage lower than the / verification reference voltage is applied.
한편, 고온에서는 실제로 인가되는 독출/검증 기준전압보다 높은 독출/검증 기준전압이 인가된 것과 같은 현상이 나타난다. 그러나 상기 독출/검증 기준전압 공급부는 온도증가에 반비례하여 변하는 독출/검증 기준전압이 인가되는바, 고온에서 실제 인가되는 독출/검증 기준전압보다 낮은 독출/검증 기준전압을 인가하여, 상온에서의 독출/검증 기준전압보다 높은 독출/검증 기준전압이 인가된 것과 같은 현상을 방지할 수 있다. On the other hand, at a high temperature, a phenomenon in which a read / verify reference voltage higher than a read / verify reference voltage actually applied is applied. However, since the read / verify reference voltage supply unit is applied with a read / verify reference voltage which is changed in inverse proportion to the temperature increase, the read / verify reference voltage is applied at a lower temperature than the read / verify reference voltage that is actually applied at a high temperature. It is possible to prevent such a phenomenon that a read / verification reference voltage higher than the verification / verification reference voltage is applied.
한편, 상기 버퍼부(230)에 출력되는 전압은 실질적으로 상기 수학식 10의 값을 갖게 된다. 따라서 저온에서는 실제 인가되는 독출/검증 기준전압보다 높은 독출/검증 기준전압을 인가하여, 상온에서의 독출/검증 기준전압보다 낮은 독출/검증 기준전압이 인가된 것과 같은 현상을 방지할 수 있다. 또한 고온에서는 실제 인가되는 독출/검증 기준전압보다 낮은 독출/검증 기준전압을 인가하여, 상온에서의 독출/검증 기준전압보다 높은 독출/검증 기준전압이 인가된 것과 같은 현상을 방지할 수 있다. On the other hand, the voltage output to the
이처럼 상기 독출/검증 기준전압 공급부(200)는 온도센서 역할을 하는 BJT 트랜지스터의 문턱전압을 전달받아 온도보상효과를 갖게 된다. 따라서 독출 동작시 외부온도의 변화에 따른 상태 변화를 최소화할 수 있고, 면적이 커지는 단점을 보 완하며, 문턱전압에 의해 발생 되는 오류를 개선할 수 있다.As such, the read / verify reference
도 1은 통상적으로 사용되는 온도 보상효과를 갖는 독출/검증 기준전압 공급부를 도시한 회로도이다.1 is a circuit diagram illustrating a read / verify reference voltage supply unit having a temperature compensation effect that is commonly used.
도 2는 본원 발명의 일 실시예에 따른 온도 보상효과를 갖는 독출/검증 기준전압 공급부를 나타낸 회로도이다.2 is a circuit diagram illustrating a read / verify reference voltage supply unit having a temperature compensation effect according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본원 발명에 적용되는 밴드갭 레퍼런스회로를 도시한 회로도이다.3 is a circuit diagram illustrating a bandgap reference circuit applied to the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 설명>Description of the main parts of the drawing
200: 독출/검증 기준전압공급부200: read / verification reference voltage supply unit
210: 제1 레벨 변환부 210: first level converter
220: 제2 레벨 변환부220: second level converter
230: 버퍼부230: buffer portion
Claims (11)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080046616A KR20090120686A (en) | 2008-05-20 | 2008-05-20 | Voltage supply for read reference voltage of non volatile memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080046616A KR20090120686A (en) | 2008-05-20 | 2008-05-20 | Voltage supply for read reference voltage of non volatile memory device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090120686A true KR20090120686A (en) | 2009-11-25 |
Family
ID=41603888
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080046616A KR20090120686A (en) | 2008-05-20 | 2008-05-20 | Voltage supply for read reference voltage of non volatile memory device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20090120686A (en) |
-
2008
- 2008-05-20 KR KR1020080046616A patent/KR20090120686A/en not_active Application Discontinuation
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100927782B1 (en) | Voltage supply for reading/verifying reference voltage of non volatile memory device | |
JP3648304B2 (en) | Nonvolatile semiconductor memory device | |
US7978556B2 (en) | On-chip temperature sensor | |
US7269092B1 (en) | Circuitry and device for generating and adjusting selected word line voltage | |
US6396739B2 (en) | Reference voltage generator using flash memory cells | |
TWI532047B (en) | Bias generator for flash memory and control method thereof | |
JP3688899B2 (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
US6026023A (en) | Non-volatile semiconductor memory | |
US7236409B2 (en) | Semiconductor memory device provided with constant-current circuit having current trimming function | |
KR100816214B1 (en) | Voltage generator of a flash memory device | |
ITRM20060652A1 (en) | TEMPERATURE COMPENSATION OF MEMORY SIGNALS USING DIGITAL SIGNALS | |
KR101604865B1 (en) | Semiconductor memory device | |
KR101256911B1 (en) | Voltage generation circuit | |
JP4493169B2 (en) | Nonvolatile semiconductor memory device | |
JP5882397B2 (en) | Negative reference voltage generation circuit and negative reference voltage generation system | |
CN109785875B (en) | Flash memory reading circuit with temperature compensation | |
US7518930B2 (en) | Method for generating and adjusting selected word line voltage | |
CN112596596A (en) | Integrated circuit, memory device and method for managing bit line voltage generating circuit | |
KR101053700B1 (en) | Voltage generation circuit and nonvolatile memory device having same | |
US20230268011A1 (en) | Piecewise linear and trimmable temperature sensor | |
CN104934068A (en) | Word line voltage generating circuit for reading operation of NAND type flash memory | |
US6795343B2 (en) | Band-gap voltage reference | |
KR20090120686A (en) | Voltage supply for read reference voltage of non volatile memory device | |
CN109841256B (en) | Flash memory reference circuit | |
JP2001109530A (en) | Constant-voltage generating circuit, nonvolatile memory, and semiconductor integrated circuit |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Withdrawal due to no request for examination |