KR20090104652A - Light source for illumination and pattern inspection apparatus using the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A light source for illumination and a pattern inspection apparatus using the same are provided to determine whether is good or bad according to the difference of brightness using a light source as a dark field illuminating unit of the pattern inspection apparatus. CONSTITUTION: A light source for illumination comprises the followings. A surface light source irradiating light parallel to an irradiated area is arranged on the same plane in a plurality of ring shapes. The size of each surface light source is the size in which a light irradiating area from each surface light source irradiated on the irradiated area includes the whole irradiated area.

Description

조명용 광원 및 그를 이용한 패턴 검사 장치 {LIGHT SOURCE FOR ILLUMINATION AND PATTERN INSPECTION APPARATUS USING THE SAME}Lighting source and pattern inspection device using the same {LIGHT SOURCE FOR ILLUMINATION AND PATTERN INSPECTION APPARATUS USING THE SAME}

본 발명은 대상물의 표면 상태의 검사를 행하기 위해, 이 표면에 대해 비스듬히 조명광을 조사하는 조명용의 광원 및 기판에 형성되어 있는 패턴에 조명광을 조사하여, 조명된 패턴 화상을 취득하여 자동으로 검사를 행하는 패턴 검사 장치에 관한 것이다.In order to inspect the surface state of an object, this invention irradiates an illumination light to the light source for illumination and the pattern formed in the board | substrate which irradiate illumination light obliquely to this surface, acquires an illuminated pattern image, and performs inspection automatically. The pattern inspection apparatus to perform.

광투과성의 기판상에 형성된 패턴에 조명광을 조사하여 촬상한 화상에 의거해 패턴의 양부(良否)를 판정하는 패턴 검사 장치가 알려져 있다.Background Art A pattern inspection apparatus is known that determines the quality of a pattern on the basis of an image obtained by irradiating illumination pattern onto a pattern formed on a light transmissive substrate.

이러한 패턴 검사 장치에서는, 기판의 패턴이 형성되어 있는 측으로부터 반사 조명 수단에 의해, 검사 영역에 대해 비스듬히 입사하도록 조명하고, 촬상 수단에 의해, 기판의 패턴을 촬상하고, 촬상되는 화상의 휘도 분포 패턴으로부터, 패턴상의 피트(오목부나 결락)의 유무를 검출할 수 있다. 패턴상에 피트가 있으면 단선이 일어날 경우가 있으므로, 불량품으로서 검출해야 한다.In such a pattern inspection apparatus, illumination is made so as to obliquely enter the inspection region by the reflective illumination means from the side on which the pattern of the substrate is formed, and the image pickup means images the pattern of the substrate, and the luminance distribution pattern of the image to be photographed. From this, it is possible to detect the presence or absence of a pit (concave or missing) on the pattern. If there is a pit on the pattern, disconnection may occur, so it should be detected as a defective product.

상기의 조명 수단처럼, 검사 대상에 대해 모든 방향으로부터 비스듬히 조명광을 조사하기 위한 조명 수단으로서, 링 조명 수단이 잘 사용된다. 링 조명 수단 을 이용한 검사 수단으로서 예를 들면 특허 문헌 1이 있다.Like the above lighting means, as the lighting means for irradiating the illumination light obliquely from all directions to the inspection object, the ring lighting means is well used. For example, Patent Document 1 discloses an inspection means using a ring illumination means.

상기 공보에 의하면, 종래의 링 조명은, 도 14(a)에 나타낸 바와 같이, 얇은 원통 도넛 형상의 본체 용기(102) 내에 다수의 LED(103)를 동심원상으로 배열한 것이다.According to the above publication, the conventional ring illumination is arranged concentrically with a large number of LEDs 103 in a thin cylindrical donut-shaped body container 102, as shown in Fig. 14A.

또, 각 LED(103)는, 동 도(a)의 나 화살표도인 동 도(b), 및 로 화살표도인 동 도(c)에 나타낸 바와같이, 원의 중심 O방향으로 각도를 가지고 배치되어 있고, 검사를 행하는 워크에 대해, 비스듬히 조명광을 조사할 수 있도록 되어 있다.Moreover, each LED 103 is arrange | positioned with the angle in the center O direction of a circle, as shown to FIG. (B) which is the arrow figure of (a), and (c) which is the low arrow figure. The illuminating light can be irradiated obliquely to the workpiece | work which examines.

[특허 문헌 1: 일본국 특허 공개 2002-328094호 공보][Patent Document 1: Japanese Unexamined Patent Publication No. 2002-328094]

상기 패턴 검사 장치에서 반사 조명광은, 워크의 검사를 행하는 영역의 임의의 점에서 모든 방향(360°방향)으로부터 동일한 입사 각도의 광이 입사하고, 각 방향으로부터 입사하는 광의 강도는 같아야 한다.In the pattern inspection apparatus, the light of the same incidence angle is incident from all directions (360 ° direction) at any point of the region where the workpiece is inspected, and the intensity of light incident from each direction should be the same.

또한, 검사 영역의 어느 점에서도, 이 조건(모든 방향으로부터 동일한 입사 각도의 광이 입사하고, 각 방향으로부터 입사하는 광의 강도가 같을 것)은 같아야 한다. 이하에 그 이유를 설명한다.In addition, at any point in the inspection area, this condition (the light of the same incident angle from all directions is incident and the intensity of light incident from each direction should be the same) must be the same. The reason is explained below.

(1) 상기의 패턴 검사 장치에서는, 패턴 상에 피트가 존재하면, 밝은(휘도가 높은) 부분으로서 촬상된다. 밝음(휘도)이 크면 피트의 크기는 크고, 밝음(휘도)이 작으면 피트는 작다.(1) In said pattern inspection apparatus, when a pit exists on a pattern, it will image as a bright (high brightness) part. If the brightness (luminance) is large, the size of the pit is large. If the brightness (luminance) is small, the pit is small.

작은 피트라면, 불량으로 하지 않아도 될 경우도 있고, 그 경우, 피트의 밝음(휘도)의 크기에 의해 양부를 판정한다.If it is a small pit, it may not be necessary to make it defect, and in that case, quality is judged by the magnitude | size of the brightness (luminance) of a pit.

(2) 검사 영역의 어떤 점에서, 그 점으로 입사하는 조명광의 강도가 방향에 따라 상이하면 피트(결락)의 크기가 같아도, 결락이 생긴 방향에 의해, 밝음(휘도)이 바뀐다.(2) At some point in the inspection area, if the intensity of the illumination light incident on the point differs in the direction, the brightness (luminance) changes depending on the direction in which the fall occurs, even if the size of the pit (dropout) is the same.

예를 들면, 도 15에 나타낸 바와 같이, 조명광이, 우측으로부터는 강한 강도로, 좌측으로부터는 약한 강도로 조사되고 있는 것으로 한다. 패턴(P)의 우측에 있는 피트는, 강도가 강한 조명광을 반사하므로 밝아지고, 반대로 패턴(P)이 좌측에 있는 피트는, 강도가 약한 조명광을 반사하므로 어두워진다.For example, as shown in FIG. 15, it is assumed that illumination light is irradiated with strong intensity from the right side and weak intensity from the left side. The pit on the right side of the pattern P is brightened because it reflects strong illumination light, and on the contrary, the pit on the left side of the pattern P darkens because it reflects light intensity weaker.

즉, 결락(피트)의 크기가 같아도, 밝음(휘도)이 다르게 되어 올바른 검사(양부 판정)를 할 수 없다. 따라서, 조명광은, 검사 영역의 임의의 점에서, 모든 방향(360°방향)으로부터 같은 강도로 조명되어야 한다.In other words, even if the size of the missing (feet) is the same, the brightness (luminance) is different and correct inspection (failure determination) cannot be performed. Thus, the illumination light should be illuminated at the same intensity from any direction (360 ° direction) at any point in the inspection area.

또, 패턴의 표면에는 돌기가 생길 경우가 있다. 돌기는, 단선을 일으킬 가능성이 낮기 때문에 불량으로 검출할 필요가 없다. 패턴 표면에 생긴 피트와 돌기를 구별해 검출하기 위해서는, 반사 조명광을 조명하지만 각도에 따라서는, 피트와 돌기를 구별하여 검출하는 것이 어렵다. 패턴 표면의 피트를 돌기와 구별하여 검출하기 위해서는, 조명광을 최적 각도 범위에서 조사할 필요가 있다. 상기와 같이, 결락이 생긴 방향에 의해 피트와 돌기를 구별할 수 없게 되는 것은 안 된다. 따라서, 검사 영역의 어떤 점에서, 모든 방향(360°방향)으로부터 동일한 입사 각도의 광이 입사해야 한다.Moreover, a processus | protrusion may arise in the surface of a pattern. The projections do not need to be detected as defective because they are unlikely to cause disconnection. In order to detect and detect the pits and protrusions formed on the pattern surface, the illumination illumination light is illuminated, but it is difficult to detect the pits and the protrusions according to the angle. In order to detect the pits of the pattern surface separately from the projections, it is necessary to irradiate the illumination light in the optimum angle range. As described above, the pits and the projections cannot be distinguished by the direction in which the missing occurs. Thus, at some point in the inspection area, light of the same angle of incidence must be incident from all directions (360 ° direction).

그리고, 검사 영역 전체에서, 각 방향으로부터의 조명광의 강도나 입사 각도에 흐트러짐이 있으면, 같은 크기의 피트라도 장소에 따라 밝음(휘도)의 크기가 바뀌거나, 돌기와 구별할 수 없게 되므로, 올바른 검사(양부 판정)를 할 수 없다. 따라서, 검사 영역의 어느 장소(점)에서도, 모든 방향 (360°방향)으로부터 동일한 입사 각도의 광이 입사하고, 각 방향으로부터 입사하는 광의 강도도 같아야 한다.And if the intensity and incidence angle of illumination light from each direction are disturbed in the whole inspection area | region, even if it is the same size pit, the magnitude | size of the brightness (luminance) will change or cannot be distinguished from projection, and it is correct | Acceptance judgment) cannot be made. Therefore, at any place (point) of the inspection area, light of the same incidence angle is incident from all directions (360 ° direction), and the intensity of light incident from each direction must also be the same.

상기 패턴 검사 장치에서는, CCD 라인 센서인 촬상 수단을, 라인 센서가 신장하는 방향과 직교하는 방향으로 주사(스캔)하고, 검사 영역 전체를 촬상한다.In the said pattern inspection apparatus, the imaging means which is a CCD line sensor is scanned (scanned) in the direction orthogonal to the direction which a line sensor extends, and the whole inspection area is imaged.

도 16은, CCD 라인 센서(도시하지 않음)가 한번으로 촬상하는 가는 영역의 평면도이다. 촬상 영역의 크기는, 예를 들면 길이 18㎜이고 폭은 2㎛이다.FIG. 16 is a plan view of a thin region captured by a CCD line sensor (not shown) at one time. The size of the imaging area is, for example, 18 mm long and 2 μm wide.

동 도에 모식적으로 나타내지만, 상기에서 설명한 바와 같이, 예를 들면, 촬상 영역의 중심부 A에서도, 또 좌단부 B나 우단부 C에서도, 입사하는 조명광은, 모든 방향(360°방향)으로부터 동일한 입사 각도이고, 각 방향으로부터 입사하는 광의 강도는 같아야 한다.Although schematically shown in the drawing, as described above, for example, the incident illumination light is also the same from all directions (360 ° direction) in the central portion A of the imaging area, and also in the left end portion B and the right end portion C. The angle of incidence and the intensity of light incident from each direction should be the same.

그러나, 도 14에서 나타낸 종래의 링 조명에서는, 각 LED(103)는, 원의 중심 O방향으로 각도를 가지고 배치되어 있다. 그 때문에, 도 17에 나타낸 바와 같이, 각 LED로부터의 광은 평광(平光)이 아니고 조명광은 촬상 영역의 중심부 A를 향한다.However, in the conventional ring illumination shown in FIG. 14, each LED 103 is disposed at an angle in the center O direction of the circle. Therefore, as shown in FIG. 17, the light from each LED is not flat light, and the illumination light is directed toward the center portion A of the imaging area.

따라서, 검사 영역이 도 16처럼 어떤 크기를 가질 경우, 중심부 A에서는, 모든 방향으로부터 균일한 강도와 각도의 광이 조사되지만, 그 이외의 점, 예를 들면 양단부 B나 C에서는 입사하는 광의 강도가 방향에 따라 다르다Therefore, when the inspection region has a certain size as shown in Fig. 16, the central portion A is irradiated with light of uniform intensity and angle from all directions, but at other points, for example, both ends B and C, Depends on direction

도 17에서 촬상 영역의 B, C에서는, 예를 들면 CCD 라인 센서가 신장하는 방향에 대해 직교하는 방향으로부터 입사하는 조명광(가, 나)(도중 점선으로 나타냄)은 없다. 이 때문에 B, C의 위치에, 결락이 (가)나 (나)의 방향을 향한 피트가 있다고 해도, 그 방향으로부터 조명광이 입사하지 않기 때문에, 피트를 검출할 수가 없다.In B and C of the imaging area in FIG. 17, for example, there is no illumination light (a, b) (indicated by dotted lines in the figure) incident from a direction orthogonal to the direction in which the CCD line sensor extends. For this reason, even if there is a pit in the direction of B and C in the direction of (a) or (b), the illumination light does not enter from the direction, so the pit cannot be detected.

즉, 상기 패턴 검사 장치에서는, 반사 조명 수단으로서 종래의 링 조명을 그대로 사용할 수는 없다.That is, in the said pattern inspection apparatus, conventional ring illumination cannot be used as it is as a reflective illumination means.

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 본 발명의 목적은, 촬상하는 영역의 임의의 점에서, 모든 방향(360°방향)으로부터 동일한 입사 각도의 광이 입사하고, 각 방향으로부터 입사하는 광의 강도는 같고, 또한, 촬상 영역의 어느 점에서도, 그 조건이 같은 반사 조명 수단을 얻는 것과 더불어, 이 반사 조명 수단을 이용한, 피트의 올바른 검사(양부 판정)를 행할 수 있는 패턴 검사 장치를 제공하는 것이다.This invention is made | formed in view of the said situation, The objective of this invention is the intensity | strength of the light which light of the same incidence angle injects from all directions (360 degree direction) in an arbitrary point of the area | region which image | photographs, and enters from each direction. In addition, in addition to obtaining the reflective illuminating means having the same conditions at any point in the imaging area, it is to provide a pattern inspecting apparatus capable of performing the correct inspection (confirmation of good or bad) of the pits using the reflective illuminating means. .

발명자들은, 예의 검토의 결과, 촬상하는 영역의 임의의 점에서, 모든 방향(360°방향)으로부터 동일한 입사 각도의 광이 입사하고, 각 방향으로부터 입사하는 광의 강도는 같고, 또한, 검사 영역의 어느 점에서도, 그 조건(모든 방향으로부터 동일한 입사 각도의 광이 입사하고, 각 방향으로부터 입사하는 광의 강도가 같을 것)이 같기 위해, 촬상하는 영역의 가로 세로의 크기에 대해, 그와 같거나 그보다 크고 또한 평행한 광을 출사하는 면광원을 하나의 단위로 하고, 이 면광원을, 촬상 영역의 상부의 동일 평면 상에, 복수 환 형상으로, 촬상 영역을 둘러싸도록 배치하면 되는 것을 발견했다.As a result of earnestly examining, the inventors found that light at the same incident angle is incident from all directions (360 ° direction) at any point in the region to be imaged, and the intensity of light incident from each direction is the same, and any of the inspection regions is the same. In terms of points, the conditions (the light of the same incident angle from all directions are incident and the intensity of light incident from each direction are the same) are the same as or larger than that of the size of the area to be imaged. Moreover, it was discovered that what is necessary is just to arrange the surface light source which emits parallel light as one unit, and to arrange this surface light source so that it may enclose an imaging area in plural rings on the same plane of the upper part of an imaging area.

도 1을 이용하여 해결 수단의 원리를 설명한다.The principle of the solution means will be described with reference to FIG.

도 1(a)은, 선 형상의 촬상 영역(R)을 위로부터 본 평면도이고, 촬상 영역(R)과 같은 길이와 폭의 6개의 선 형상의 광원(가, 나, 다, 라, 마, 바)을 준비하고, 촬상 영역(R)의 위쪽의 동일 평면 상에 촬상 영역(R)을 둘러싸도록 배치한 상태를 나타낸 것이다. 또, 도 1(b)은, 도 1(a)을 옆으로부터 본 측면도이다.FIG. 1 (a) is a plan view of the linear imaging area R viewed from above, and six linear light sources having the same length and width as the imaging area R (a, b, d, d, d) Bar) is prepared and the state arrange | positioned so that the imaging area | region R may be enclosed on the same plane above the imaging area | region R is shown. Moreover, FIG.1 (b) is a side view which looked at FIG.1 (a) from the side.

도 1에 나타낸 바와 같이 선 형상의 광원(가~바)으로부터는 조명광이 평행한 상태로 출사하고, 촬상 영역(R)의 각 점(BAC)에 소정의 입사 각도로 입사한다. 즉, 각 광원의 중앙부 A'로부터 출사한 광은 촬상 영역(R)의 중앙부 A로 입사한다. 또 각 광원의 좌단부 B'로부터 출사한 광은 촬상 영역(R)의 좌단부 B로 입사한다. 또한 각 광원의 우단부 C'로부터 출사한 광은 촬상 영역(R)의 오른쪽 단부 C로 입사한다.As shown in FIG. 1, illumination light is radiate | emitted in parallel state from a linear light source (a-bar), and it injects into each point BAC of the imaging area R at predetermined incidence angle. That is, the light emitted from the center part A 'of each light source enters the center part A of the imaging area R. As shown in FIG. In addition, light emitted from the left end B 'of each light source enters the left end B of the imaging area R. FIG. In addition, light emitted from the right end C 'of each light source enters the right end C of the imaging area R. As shown in FIG.

도 1에 나타낸 바와 같이, 조명광의 광로인 A-A'와 B-B'와 C-C'는 서로 평행하고, 각각의 길이(광원으로부터 촬상 영역까지의 거리)도 동일하기 때문에, 촬상 영역(R)의 A, B, C의 각 점에서, 각 방향(도 1의 경우 6방향)으로부터 동일한 입사 각도의 광이 입사하고, 각 방향으로부터 입사하는 광의 강도는 같다. 또, 촬상 영역(R)의 어느 점에서도, 모든 방향으로부터 동일한 입사 각도의 광이 입사하고 각 방향으로부터 입사하는 광의 강도는 같다.As shown in Fig. 1, A-A ', B-B', and C-C ', which are optical paths of illumination light, are parallel to each other, and their respective lengths (distance from the light source to the imaging area) are also the same. At each point of A, B, and C in R), light of the same incidence angle is incident from each direction (6 directions in FIG. 1), and the intensity of light incident from each direction is the same. In addition, at any point of the imaging area R, the light of the same incident angle from all directions enters, and the intensity of light incident from each direction is the same.

도 1에서는, 도면이 번잡하지 않도록, 촬상 영역(R)의 주위에 배치하는 광원의 수를 6개로 했지만, 그 수는 많을수록 모든 방향으로부터 균일한 강도와 각도의 조명광이 입사한다.In FIG. 1, although the number of the light sources arrange | positioned around the imaging area | region R was made into six so that a figure may not become complicated, the illumination light of uniform intensity | strength and an angle injects from all directions so that the number is large.

도 2는, 촬상 영역이 사각형 형상인 경우의 예이다.2 is an example in the case where the imaging area is rectangular in shape.

도 2(a, b)는 도 1(a)과 같이, 장방형 형상의 촬상 영역(R)을 위로부터 본 평면도이고, 촬상 영역(R)과 같은 크기의 8개의 장방형 형상의 면광원(가~아)을 준비하고 촬상 영역(R)의 위쪽의 동일 평면 상에 촬상 영역(R)을 둘러싸도록 배치한 상태를 나타낸 것이다. 또, 도 3은, 도 2(a)를 옆으로부터 본 측면도이다.2 (a, b) is a plan view of the rectangular imaging area R as seen from above, as shown in FIG. 1 (a), and eight rectangular shape surface light sources having the same size as the imaging area R. A) is shown and the state arrange | positioned so that the imaging area | region R may be enclosed on the same plane above the imaging area | region R is shown. 3 is a side view which looked at FIG.2 (a) from the side.

면광원(가~아)의 A' B' C' D'로부터는 조명광이 평행한 상태로 출사하고, 촬상 영역(R)의 ABCD 각 점에 소정 입사 각도로 입사한다. 예를 들면, 도 2(a)에 나 타낸 바와 같이, 촬상 영역(R)의 도면 중 좌하(左下)D에는 각 면광원의 좌하 D'로부터의 광(도면 중 점선으로 나타냄)이 입사한다. 또, 도 2(b)에 나타낸 바와 같이, 촬상 영역(R)의 우상(右上) B에는, 각 면광원의 우상 B'로부터의 광(도면 중 일점 쇄선으로 나타냄)가 입사한다.Illumination light exits in parallel state from A 'B' C 'D' of a surface light source (A-A), and it injects into each ABCD point of the imaging area R at predetermined incidence angle. For example, as shown in Fig. 2A, light from the lower left D 'of each surface light source (indicated by a dotted line in the figure) is incident on the lower left D in the drawing of the imaging area R. As shown in Figs. As shown in Fig. 2B, light from the upper right B 'of each surface light source (indicated by a dashed-dotted line in the drawing) is incident on the upper right B of the imaging area R. As shown in Figs.

마찬가지로 촬상 영역(R)의 우하(右下) C에는 면광원의 우하 C'로부터의 조명광이, 촬상 영역(R)의 좌상(左上) A에는 면광원 좌상 A'로부터의 조명광이 각각 입사한다.Similarly, the illumination light from the lower right C 'of the surface light source is incident on the lower right C of the imaging area R, and the illumination light from the upper left A' of the surface light source is incident on the upper left A of the imaging area R, respectively.

도 3은, 면광원(가)와 면광원(라)의 D'로부터는 촬상 영역(R)의 D로, C'로부터는 촬상 영역(R)의 C로, 각각 조명광이 입사하는 상태를 나타낸다.FIG. 3 shows a state in which illumination light is incident from D 'of the surface light source (a) and the surface light source (d) to D of the imaging area R, and from C' to C of the imaging area R. FIG. .

조명광의 광로인 A-A'와 B-B'와 C-C'와 D-D'는 서로 평행하고, 각각의 길이(광원으로부터 촬상 영역까지의 거리)도 같기 때문에, 촬상 영역(R)의 A, B, C, D의 각 점에서, 각 방향(도 2의 경우 8방향)으로부터 동일한 입사 각도의 광이 입사하고, 각 방향으로부터 입사하는 광의 강도는 같다. 또, 촬상 영역(R)의 어느 점에서도, 모든 방향으로부터 동일한 입사 각도의 광이 입사하고, 각 방향으로부터 입사하는 광의 강도는 같다.Since A-A ', B-B', C-C ', and D-D', which are optical paths of illumination light, are parallel to each other and their lengths (distance from the light source to the imaging area) are also the same, At each point of A, B, C, and D, light of the same incidence angle enters from each direction (8 directions in FIG. 2), and the intensity of light incident from each direction is the same. Further, at any point in the imaging area R, light at the same incident angle enters from all directions, and the intensity of light incident from each direction is the same.

촬상 영역(R)의 주위에 배치하는 면광원의 수는, 많을수록 모든 방향으로부터 균일한 강도와 각도의 조명광이 입사하게 된다. 그러나, 후술한 바와 같이, 면광원의 수를 늘리면 그 만큼 조명 수단의 직경(크기)이 커지게 되고, 장치가 대형화한다.As the number of surface light sources arranged around the imaging area R increases, illumination light of uniform intensity and angle is incident from all directions. However, as will be described later, increasing the number of surface light sources increases the diameter (size) of the lighting means by that amount, thereby increasing the size of the apparatus.

이상에 의거하여, 본 발명에서는, 상기 과제를 다음과 같이 해결한다.Based on the above, this invention solves the said subject as follows.

(1) 조명용 광원에서, 피조사 영역에 평행한 광을 조사하는 면광원을, 동일 평면 상에 복수의 환 형상으로 배치하고, 각 면광원의 크기를, 피조명 영역 상에 조사되는 각 면광원으로부터의 광의 조사 영역이, 피조명 영역 전체를 포함하는 크기로 한다.(1) In the illuminating light source, the surface light source irradiating light parallel to the irradiated area is arranged in a plurality of annular shapes on the same plane, and the size of each surface light source is irradiated onto the illuminated area. The irradiation area of the light from this is made into the size containing the whole to-be-lighted area | region.

(2) 상기(1)에서, 상기 복수의 면광원을, 복수의 LED를 동일 평면 상에 복수 나열한 것으로 구성한다. 그리고, 각 면광원 내의 LED를, 각 면광원으로부터의 평행한 광이, 피조명 영역에 조명되도록, 각 면광원이 배치된 환 형상의 내측을 향해 기울여 나열한다.(2) In the above (1), the plurality of surface light sources are configured by arranging a plurality of LEDs on the same plane. Then, the LEDs in the surface light sources are arranged inclined toward the inside of the annular shape in which the surface light sources are arranged so that parallel light from each surface light source is illuminated to the illuminated area.

(3) 상기(1)에서, 상기 복수의 면광원을, 복수의 LED의 광출사측에 복수의 LED로부터 출사한 광을 평행한 광으로서 출사하는 프리즘 시트를 복수 환상으로 배치한 것으로 구성하고, 각 면광원을 구성하는 프리즘 시트는, 각 프리즘 시트로부터의 평행광이 피조명 영역에 조명되도록, 각 LED로부터 출사한 광을, 각 면광원이 배치된 환상의 내측에 굴절시킨다.(3) In the above (1), the plurality of surface light sources are configured by arranging a plurality of prism sheets that emit light emitted from the plurality of LEDs as parallel light on the light output side of the plurality of LEDs in parallel, The prism sheet which comprises each surface light source refracts the light radiate | emitted from each LED so that the parallel light from each prism sheet may be illuminated to a to-be-lighted area inside the annular | arrangement in which each surface light source is arrange | positioned.

(4) 패턴이 형성된 워크에 대해 비스듬히 반사 조명광을 조사하는 암시야 조명 수단과, 상기 암시야 조명 수단에 의해 조명된 상기 패턴을 촬상하는 촬상 수단과, 워크를 유지하는 워크 유지 수단과, 상기 촬상 수단에 의해 촬상된 패턴 상(像)에 의거하여 패턴의 양부를 판정하는 제어부를 구비한 패턴 검사 장치에 있어서, 상기 암시야 조명 수단으로서, 상기 (1)~(3)의 조명용 광원을 이용한다.(4) Dark-field illumination means which irradiates the reflected illumination light obliquely to the workpiece | work in which the pattern was formed, Imaging means which image | photographs the said pattern illuminated by the said dark field illumination means, Work holding means which hold | maintains a workpiece, The said imaging In the pattern inspection apparatus provided with the control part which determines the quality of a pattern based on the pattern image image picked up by a means, The light source for illumination of said (1)-(3) is used as said dark field illumination means.

본 발명에서는, 이하의 효과를 얻을 수 있다.In the present invention, the following effects can be obtained.

(1) 촬상하는 영역의 임의의 점에서, 모든 방향(360°방향)으로부터 동일한 입사 각도의 광이 입사하고, 각 방향으로부터 입사하는 광의 강도는 같고, 또한, 검사 영역의 어느 점에서도, 그 조건이 같도록 즉, 모든 방향으로부터 동일한 입사 각도의 광이 입사하고, 각 방향으로부터 입사하는 광의 강도가 같도록 조명할 수 있다.(1) Light at the same incidence angle enters from any direction (360 ° direction) at any point in the region to be imaged, and the intensity of light incident from each direction is the same, and at any point in the inspection region, In other words, light of the same incidence angle is incident from all directions and the intensity of light incident from each direction can be illuminated.

이 때문에 촬상하는 영역 내의 밝음(휘도)이 장소에 따라 바뀌어 버리는 일이 없고, 검사 영역의 어느 점에서도, 동일한 조건으로 촬상할 수 있다.For this reason, the brightness (luminance) in the area | region to image does not change with a place, and imaging can be imaged on the same conditions also in any point of an inspection area.

(2) 본 발명의 조명광원을 패턴 검사 장치의 암시야 조명 수단으로 이용함으로써 검사를 행하는 모든 영역에서, 촬상한 화상으로부터, 피트와 돌기를 구별하고, 피트의 밝음(휘도)의 차이에 의해 양부를 판정할 수 있다.(2) By using the illumination light source of the present invention as the dark field illumination means of the pattern inspection apparatus, the pit and the projection are distinguished from the image picked up in all the regions to be inspected, and the difference is caused by the difference in the brightness (luminance) of the pit. Can be determined.

이하 본 발명의 실시 형태인 조명 수단의 광원부의 구체적인 구성예에 대해 설명한다. 도 4는 본 발명의 제1 실시예의 조명 수단을 구성하는 면광원의 구성을 나타내는 도면이고, 복수의 LED의 방향이 평행해지도록 기울여 나열하고, 조명광이 평행한 상태로 출사하고, 촬상 영역에 소정의 입사 각도로 입사하는 면광원의 실시예를 나타낸다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the specific structural example of the light source part of the illuminating means which is embodiment of this invention is demonstrated. Fig. 4 is a view showing the configuration of the surface light source constituting the lighting means of the first embodiment of the present invention, which is arranged in such a manner that the directions of the plurality of LEDs are parallel to each other, and are emitted in a state where the illumination light is in parallel, and predetermined in the imaging area. An embodiment of a surface light source incident at an incident angle of is shown.

도 4(a)는, 조명용의 면광원을 하측(촬상 영역측)으로부터 본 평면도, 도 4(b)는, 도 4(a)의 광원을 A방향으로부터 본 측면도, 도 4(c)는, 도 4(a)의 광원을 B방향으로부터 본 정면도이다. 또한, 이들 도면은, 알기 쉽게 설명하기 위한 모식도이고, 실제 LED는 다수 간격을 채워 나열되어 있다.4A is a plan view of the surface light source for illumination viewed from below (the imaging region side), FIG. 4B is a side view of the light source of FIG. 4A seen from the A direction, and FIG. 4C is It is a front view which looked at the light source of FIG. 4A from the B direction. In addition, these figures are schematic diagrams for easy description, and actual LEDs are listed by filling a several space | interval.

본 실시예에서는, 동 도에 나타낸 바와 같이 각 LED(2)로부터의 조명광의 주광선이 평행한 상태로 출사하고, 촬상 영역(R)에 소정의 입사 각도(θ)로 입사하도록 면광원(1)을 구성한다. 또한, LED(2)와 촬상 영역(R) 사이에, 동 도의 점선으로 나타내는 바와 같이 확산판(4)을 설치해도 된다.In the present embodiment, as shown in the figure, the surface light source 1 is emitted so that the main light rays of the illumination light from the respective LEDs 2 are in parallel, and are incident on the imaging area R at a predetermined incidence angle θ. Configure In addition, the diffusion plate 4 may be provided between the LED 2 and the imaging region R as shown by the dotted line in the figure.

도 4(a)에 나타낸 바와 같이, 다수의 LED(2)를 각 LED(2)로부터 출사하는 광중에, 가장 강한 광의 성분(주광선)이 서로 평행해지도록 LED 지지 부재(3) 상에 나열한다. 또한, 촬상 영역(R)에는, 이 면광원(1)으로부터 평행광이 입사해야 하기 때문에, LED(2)를 나열하는 영역의 크기는, 촬상 영역(R)의 크기보다 크게 한다.As shown in Fig. 4A, a plurality of LEDs 2 are arranged on the LED support member 3 so that, among the light emitted from each LED 2, the components of the strongest light (primary rays) are parallel to each other. . In addition, since parallel light must enter the imaging area R from this surface light source 1, the size of the area | region which arranges LED2 is made larger than the size of the imaging area R. As shown in FIG.

이와 같이 구성한 면광원(1)을, 복수, 블록적으로 촬상 영역 상의 평면 내에, 촬상 영역을 둘러싸도록 환 형상으로 배치한다. 이 때문에, 지지 부재(3)는 부채형으로 형성하면 편리하다.The surface light source 1 comprised in this way is arrange | positioned in annular shape so that the imaging area may be enclosed in the plane on the imaging area in plurality and block. For this reason, it is convenient if the support member 3 is formed in fan shape.

도 4(b)에 나타낸 바와 같이, LED(2)는, 조명광의 촬상 영역(R)으로의 입사 각도가 원하는 각도(θ)가 되도록, 촬상 영역(R)을 향해 기울여 배치한다.As shown in FIG.4 (b), LED2 is arrange | positioned inclined toward the imaging area | region R so that the incident angle of illumination light into the imaging area | region R may become desired angle (theta).

LED(2)로부터 출사하는 광은 지향성이 높기 때문에, 각 LED(2)로부터의 광은 거의 평행한 상태로 촬상 영역(R)으로 입사한다.Since the light emitted from the LED 2 has high directivity, the light from each LED 2 enters the imaging area R in a substantially parallel state.

이와 같이 하여 구성한 면광원(1)을, 복수, 촬상 영역(R) 상의 동일 평면 내에 촬상 영역(R)을 둘러싸도록 환 형상으로 배치한다.The surface light source 1 comprised in this way is arrange | positioned in annular shape so that the imaging area | region R may be enclosed in several in the same plane on the imaging area | region R. FIG.

도 5, 도 6은, 도 4의 면광원을 8개, 45°로 균등하게 배치한 상태를 모식적으로 나타낸 도면이다. 도 5(a)와 도 6은 평면도이고, 도 5(b)는 측면도이다. 또한, LED(2)와 촬상 영역(R) 사이에, 도 4와 마찬가지로, 동 도의 점선으로 나타낸 바와 같이 확산판(4)을 설치해도 좋다.5 and 6 are diagrams schematically showing a state in which the eight surface light sources of FIG. 4 are evenly arranged at 45 °. 5A and 6 are plan views, and FIG. 5B is a side view. In addition, a diffusion plate 4 may be provided between the LED 2 and the imaging region R as shown in the dotted line of the same figure as in FIG. 4.

도 5는, 선 형상의 촬상 영역(R)에 대해, 8개의 각 면광원(1-가~1-아)으로부터 조명광이 조사되고 있는 상태를 나타낸다. 도 1~도 3에서는, 촬상 영역(R)과 면광원(1)의 크기를 같은 것으로 설명했지만 본 도면에서는, 촬상 영역(R)의 면적보다 면광원(1)의 면적이 크다.FIG. 5 shows a state in which illumination light is irradiated from each of the eight surface light sources 1-1 to 1-a to the linear imaging area R. As shown in FIG. 1 to 3, the size of the imaging area R and the surface light source 1 are described as the same, but in this drawing, the area of the surface light source 1 is larger than the area of the imaging area R.

실제로는, 촬상 영역(R)의 크기와 면광원(1)의 크기를 일치시키는 것은 어렵고, 촬상 영역(R) 전체에 평행한 광을 균일한 조도로 입사시키기 위해서는, 면광원(1)의 면적을 촬상 영역의 면적보다 약간 크게 하는 것이 유리하기 때문이다.In practice, it is difficult to match the size of the imaging area R with the size of the surface light source 1, and in order to inject light parallel to the entire imaging area R with uniform illuminance, the area of the surface light source 1 This is because it is advantageous to make the size slightly larger than the area of the imaging area.

도 5에서 8개의 면광원으로부터는 조명광이 평행한 상태에서 출사하고 촬상 영역(R)의 전체에 소정의 각도(θ)로 입사한다. 따라서, 촬상 영역(R)의 BAC 상의 임의의 점에서, 모든 방향(360°방향)으로부터 같은 각도의 조명광이 같은 조사 강도로 입사하고, 촬상 영역의 어느 점에서도, 그 조건(모든 방향 (360°방향)으로부터 같은 각도의 조명광이 같은 조사 강도로 입사할 것)이 같게 된다.In FIG. 5, the eight light sources emit light in parallel with each other, and are incident on the entire imaging area R at a predetermined angle θ. Therefore, at any point on the BAC of the imaging area R, illumination light of the same angle is incident at the same irradiation intensity from all directions (360 ° direction), and the conditions (all directions (360 °) at any point of the imaging area. Direction), the illumination light of the same angle is incident at the same irradiation intensity).

도 6은, 사각형 형상의 촬상 영역(R)에 대해, 8개의 각 면광원(가~아)로부터 조명광이 조사되고 있는 상태를 나타낸다. 도 5의 경우와 같이, 8개의 면광원으로부터는, 조명광이 평행한 상태로 출사하고, 촬상 영역(R)의 전체에 소정의 각도(θ)로 입사한다.FIG. 6 shows a state in which illumination light is irradiated from each of the eight surface light sources A to A on the rectangular imaging region R. As shown in FIG. As in the case of FIG. 5, from eight surface light sources, illumination light exits in a parallel state and enters the whole imaging area R at predetermined angle (theta).

따라서, 촬상 영역(R)의 ABCD로 둘러싸이는 영역의 임의의 점에서, 모든 방향(360°방향)으로부터 같은 각도의 조명광이 같은 조사 강도로 입사하고, 촬상 영역(R)의 어느 점에서도, 그 조건과 같게 된다. 즉, 모든 방향(360°방향)으로부터 같은 각도의 조명광이 같은 조사 강도로 입사한다.Therefore, at any point in the area surrounded by ABCD of the imaging area R, illumination light at the same angle is incident at the same irradiation intensity from all directions (360 ° direction), and at any point of the imaging area R It is the same as condition. That is, illumination light of the same angle is incident at the same irradiation intensity from all directions (360 ° directions).

다음으로 본 발명의 제2 실시예의 조명 수단에 대해 설명한다.Next, the lighting means of the second embodiment of the present invention will be described.

본 실시예에서는, LED와 프리즘 시트를 조합하여 사용한다.In this embodiment, a combination of an LED and a prism sheet is used.

제1 실시예와 마찬가지로 다수의 LED를 평면의 지지 부재 상에서 환 형상으로 나열하고 촬상 영역 상에 배치한다. 그러나 LED는 각도를 주지 않고 각각 바로 밑을 향하도록 배치한다. 따라서, 각 LED로부터 출사하는 광 중에, 가장 강한 광의 성분(주광선)은, 서로 평행하게 된다.Like the first embodiment, a plurality of LEDs are arranged in an annular shape on a flat support member and placed on the imaging area. However, the LEDs should be placed directly below each without giving an angle. Therefore, among the light emitted from each LED, the components (main chief ray) of the strongest light become mutually parallel.

도 7(a)은 이와 같이 배치한 광원을 아래로부터 본 평면도이고, 도 7(b)은 도 7의 A-A측 단면도이다. 또한, 동 도는, 알기 쉽게 설명하기 위한 모식도이고, 실제로는, LED는 다수 간격을 채워 나열되어 있다.Fig. 7A is a plan view of the light source arranged in this way as seen from below, and Fig. 7B is a cross-sectional view at the A-A side of Fig. 7. In addition, the figure is a schematic diagram for demonstrating easily, and actually, LED is lined up by filling a plurality of space | intervals.

도 7(b)에 나타낸 바와 같이 본 실시예에서는, LED(2)는 지지 부재(3)에 대해, LED(2)로부터 출사하는 광의 주광선이 촬상 영역이 포함되는 평면에 대해 직교하도록 설치된다.As shown in FIG. 7B, in the present embodiment, the LED 2 is provided with respect to the support member 3 such that the chief ray of light emitted from the LED 2 is orthogonal to the plane including the imaging area.

이 광원의 광출사측에 프리즘 시트를 분할하여 설치한다. 후술한 바와 같이, 분할하는 프리즘 시트는, 촬상 영역보다 크고, 광출사부를 균등한 각도로 분할하는 형상으로 한다.The prism sheet is divided and provided on the light output side of this light source. As will be described later, the prism sheet to be divided is larger than the imaging area, and the light emitting portion is divided into equal angles.

프리즘 시트란, 투명한 시트의 한쪽에, 단면이 삼각형의 프리즘을 다수의 장축(長軸) 방향이 평행해지도록 배열한 것으로서, 이른바 산과 골짜기가 직선 형상으로 연속적으로 형성된 것이다. 프리즘 시트는, 예를 들면, 액정 표시 화면에서, 액정 패널의 밝음을 균일하게 하기 위해 백라이트와 액정 파넬 사이에 설치된다.A prism sheet is one in which a prism having a triangular cross section is arranged so as to be parallel to a plurality of long axis directions on one side of a transparent sheet, so-called mountains and valleys are continuously formed in a straight line shape. The prism sheet is provided between the backlight and the liquid crystal panel to make the brightness of the liquid crystal panel uniform, for example in a liquid crystal display screen.

이러한 프리즘 시트를, 도 8에 나타낸 바와 같이, 형성하고자 하는 면광원의 크기로 잘라내어 이를 복수 준비한다. 프리즘 시트는, 도 8에 나타낸 바와 같이, 프리즘 시트(5)로 형성된 프리즘의 장축 방향이 부채형의 면광원의 중심축 r-r과 대략 직교하는 방향으로 잘라내어진다.As shown in FIG. 8, such a prism sheet is cut out to the magnitude | size of the surface light source to form, and a plurality is prepared. As shown in FIG. 8, the prism sheet is cut | disconnected in the direction which the long-axis direction of the prism formed from the prism sheet 5 is substantially orthogonal to the central axis r-r of the fan-shaped surface light source.

즉, 프리즘 시트를 상기 광원에 설치했을 때, 프리즘 시트로부터 출사하는 평행광이, 촬상 영역(R)에 대략 같은 입사 각도로 입사하도록 잘라내어진다.That is, when the prism sheet is installed in the light source, parallel light emitted from the prism sheet is cut out so as to enter the imaging area R at approximately the same incidence angle.

그리고, 도 9에 나타낸 바와 같이, 도 7에 나타낸 광원의 광출사측에 설치된다. 도 9에서는, 8장의 프리즘 시트(5)가 설치되고 조명 수단은 제1 실시예와 마찬가지로, 8개의 면광원을 45°로 균등하게 배치한 상태가 된다.9, it is provided in the light output side of the light source shown in FIG. In Fig. 9, eight prism sheets 5 are provided, and the illumination means is in a state where eight surface light sources are equally arranged at 45 degrees, similarly to the first embodiment.

도 10은, 광원의, 1장의 프리즘 시트가 장착된 부분을 확대하여 나타낸 도면이다. 도 10(a)은, 조명 광원을 하측으로부터 본 평면도이고, 도 10(b)은, 도 10(a)의 광원을 A방향으로부터 본 측면도이고, 도 10(c)은, 도 10(a)의 광원을 B방향으로부터 본 정면도이다.FIG. 10 is an enlarged view of a portion of a light source on which one prism sheet is mounted. Fig. 10A is a plan view of the illumination light source seen from below, Fig. 10B is a side view of the light source of Fig. 10A seen from the A direction, and Fig. 10C is Fig. 10A. It is the front view which looked at the light source of from the B direction.

도 10(b, c)에 나타낸 바와 같이, 프리즘 시트(5)는 LED 지지 부재(3)에 대해 지주(6)를 통해 설치된다. 또한, 동 도의 점선에 나타낸 바와 같이 프리즘 시트(5)와 LED(2) 사이에 확산판(4)을 설치해도 된다.As shown in Fig. 10 (b, c), the prism sheet 5 is provided through the support 6 with respect to the LED support member 3. Further, as shown in the dotted line in the figure, a diffusion plate 4 may be provided between the prism sheet 5 and the LED 2.

도 10(b)에 나타낸 바와 같이, 각 LED(2)로부터 출사한 주광선이 평행한 조명광은, 프리즘 시트(5)의 프리즘의 사면(斜面)에 입사하여 굴절하고, 평행한 상태를 유지한 채로 2방향으로 분기한다. 분기한 한쪽 광의 성분이, 촬상 영역(R)을 입사 각도(θ)로 조명한다. 분기한 다른쪽 광의 성분은 사용되지 않는다. 프리즘 시 트(5)의 프리즘의 각도는, 입사 각도(θ)가 원하는 값이 되도록 설계한다.As shown in FIG. 10 (b), the illumination light in which the chief rays emitted from the respective LEDs 2 are parallel is incident on the slopes of the prism of the prism sheet 5 and refracted, while maintaining the parallel state. Branch in two directions. The component of one branched light illuminates the imaging area R at the incident angle [theta]. The component of the other branched light is not used. The angle of the prism of the prism sheet 5 is designed so that the incident angle θ becomes a desired value.

도 11은 도 10에서 이용한 프리즘 시트의 변형예이다. 도 10일 경우, 프리즘 시트(5)에 입사한 광은 2방향으로 나누어지므로, LED(2)로부터 출사하는 광 중에 반은 사용하지 않는다. 그 때문에 광의 이용 효율이 나쁘다.FIG. 11 is a modification of the prism sheet used in FIG. 10. In the case of FIG. 10, since light incident on the prism sheet 5 is divided into two directions, half of the light emitted from the LED 2 is not used. Therefore, the utilization efficiency of light is bad.

이 문제를 해결하기 위해, 프리즘 시트(5)의 프리즘의 단면 형상을 직각 삼각형으로 한다. 이에 의해, 프리즘에 입사한 광은 한 방향으로만 굴절하고, LED(2)로부터 출사하는 모든 광을 이용할 수 있다.In order to solve this problem, the cross-sectional shape of the prism of the prism sheet 5 is made into a right triangle. As a result, the light incident on the prism is refracted only in one direction, and all the light emitted from the LED 2 can be used.

도 12에, 도 10에 나타낸 제2 실시예의 조명 수단을 이용하여, 패턴상에 생긴 피트를 관찰한 실험 결과를 나타낸다. 또한, 본 실험예에서는, 도 12(c)에 나타낸 바와 같이 프리즘 시트(5)를 이용해 분할한 조명 광원의 수는 12개이고, 즉, 12개의 면광원을 30° 균등하게 배치한 상태이다.In FIG. 12, the experiment result which observed the pit which arose on the pattern using the illumination means of 2nd Example shown in FIG. 10 is shown. In addition, in this experimental example, as shown in FIG.12 (c), the number of illumination light sources divided | segmented using the prism sheet 5 is 12, ie, 12 surface light sources are equally arrange | positioned 30 degrees.

도 12(a)는 어느 패턴에서 생긴 피트(관찰물)를, 촬상 수단(CCD 라인 센서)의 시야의 왼쪽(상기 촬상 영역(R)의 B의 위치에 상당), 시야의 중앙(촬상 영역(R)의 A의 위치에 상당), 시야의 오른쪽(촬상 영역(R)의 C의 위치에 상당)의, 각각 위치에서 360° 회전시켰을 때, 촬상 수단이 수상(受像)하는 피트의 휘도의 변화를 나타낸 그래프이다.Fig. 12A shows the pit (observation object) generated in a pattern on the left side (corresponding to the position of B in the imaging region R) of the imaging unit (CCD line sensor), and the center of the visual field (the imaging region ( Change in the luminance of the pit received by the image pickup means when rotated 360 degrees from each position on the right side of the field of view (equivalent to the position of C in the imaging region R). Is a graph.

동 도에서, 세로축은 휘도(상대값)이고, 횡축은 피트(관찰물)의 회전 각도이다.In the figure, the vertical axis is luminance (relative value) and the horizontal axis is rotation angle of pit (observation object).

촬상 영역(R)의 임의의 점에서, 모든 방향(360°방향)으로부터 동일한 입사 각도의 광이 입사하고, 각 방향으로부터 입사하는 광의 강도가 같으면, 회전시켜 도, 피트의 휘도는 변화하지 않을 것이다.At any point in the imaging area R, if light of the same incidence angle is incident from all directions (360 ° direction), and the intensity of light incident from each direction is the same, the brightness of the pit will not change even if rotated. .

도 14에 나타낸 종래예의 조명 수단에 의해 조명했을 경우, 시야의 중앙(A)에서 피트를 회전시키면, 휘도의 변화는 대략 ±8%였다. 이에 대해, 본 발명에서는, 도 12(a)에 나타낸 바와 같이, 피트를 회전시켜도, 시야 왼쪽(B), 시야 중앙(A), 시야 오른쪽(C)의 어느 장소에서도, 휘도의 변화가 적다. 휘도의 변화는 어느 위치에서도 대략 ±3%이고 종래예에 비해 반 이하로 저감되어 있다.When illuminated by the illumination means of the conventional example shown in FIG. 14, when the pit was rotated at the center A of the field of view, the change in luminance was approximately ± 8%. In contrast, in the present invention, as shown in Fig. 12 (a), even when the pit is rotated, the luminance change is small in any place on the left side of the visual field B, the center of the visual field A, and the right side of the visual field C. The change in luminance is approximately ± 3% at any position and is reduced to less than half as compared with the conventional example.

도 12(b)는, 어느 패턴에 생긴 피트(관찰물)를, 촬상 수단의 시야 왼쪽(B), 시야 중앙(A), 시야 오른쪽(C)으로 옮겨 바꾸었을 때의 휘도의 변화를 나타낸 그래프이다. 동 도에서 세로축은 휘도(상대값)이고, 가로축은 촬상 수단에서의 위치를 나타낸다. 플롯한 점의 왼쪽으로부터, 시야 왼쪽(B), 시야 중앙(A), 시야 오른쪽(C)이다. 즉, 같은 피트를, 시야 왼쪽(B)에서 보았을 때와, 시야 중앙(A)에서 보았을 때와, 시야 오른쪽(C)에서 보았을 때의 휘도의 차이이다.FIG. 12 (b) is a graph showing a change in luminance when the pit (observation) formed in a pattern is replaced with the left side of the field of view (B), the center of view of the field of view, and the right side of the field of view (C) of the imaging unit. to be. In the figure, the vertical axis represents luminance (relative value), and the horizontal axis represents position in the image pickup means. From the left side of the plotted point, it is the visual field left side (B), the visual field center (A), and the visual field right side (C). That is, it is the difference of the brightness | luminance when it sees the same pit from the visual field left side B, the visual field center A, and the visual field right side C.

검사 영역 전체가 같은 조건으로 조명되고 있으면, 피트(관찰물)를 놓는 위치를 바꾸어도 (촬상 수단의 시야의 어느 위치에서도), 보고 있는 것은 같은 피트이므로 그 휘도는 변함없을 것이다.If the entire inspection area is illuminated under the same conditions, even if the position of placing the pit (observation object) is changed (at any position in the field of view of the imaging means), the brightness will remain the same because the same pit is viewed.

또한, 동 도 중에 일점 쇄선으로 나타낸 「(구(

Figure 112009010350114-PAT00001
))의 그래프는, 도 14에 나타낸 종래예의 조명 수단에 의해. 조명한 경우의 실험 결과이다.In addition, the dashed dashed line shown in the figure indicates the "
Figure 112009010350114-PAT00001
The graph of)) is made by the lighting means of the conventional example shown in FIG. Experimental results in the case of illumination.

도 12(b)에 나타낸 바와 같이, 종래예일 경우, 피트의 위치를 이동시키면, 휘도가 크게 변화한다. 특히, 시야 중앙(A)에서는 휘도가 상승하고, 시야 왼쪽(B), 시야 오른쪽(C)과 같이 시야(촬상 영역)의 가장자리가 되면 휘도가 저하한다. 휘도 의 변화는 대략 ±8%이다.As shown in Fig. 12B, in the conventional example, when the position of the pit is moved, the luminance greatly changes. In particular, the luminance increases in the center of view A, and the luminance decreases when the edge of the field of view (the imaging area) is obtained, such as the left side of the field of view B and the right side of the field of view. The change in brightness is approximately ± 8%.

이에 대해, 본 발명에 있어서는, 시야 중앙(A)에서는 휘도가 상승하고 시야왼쪽(B), 시야 오른쪽(C)에서는 저하하는 경향이 있지만, 그 변화는 대략 ±4.5%이고, 종래예에 비해 반 정도로까지 저감되어 있다.In contrast, in the present invention, although the luminance increases in the visual field center A and tends to decrease in the visual field left B and the visual field right C, the change is approximately ± 4.5%, which is half that of the conventional example. It is reduced to an extent.

또한, 조명광원을 프리즘 시트로 분할하는 수 즉, 면광원의 수는, 많으면 많을수록, 촬상 영역에 대해, 모든 방향으로부터 균일한 조명광을 조사할 수 있다.In addition, as the number of dividing the illumination light source into the prism sheet, that is, the number of the surface light sources, the more, the uniform illumination light can be irradiated to the imaging area from all directions.

그러나, 상기한 바와 같이, 촬상 영역 전체에 평행한 광을 조사해야 하기 때문에, 면광원의 크기는, 촬상 영역의 크기와 같거나 그보다 크지 않으면 안 된다.However, as described above, since light parallel to the entire imaging area must be irradiated, the size of the surface light source must be equal to or larger than the size of the imaging area.

따라서, 면광원의 수를 증가시키면, 그 만큼 조명 수단의 직경(크기)이 커지게 되고, 장치가 대형화한다. 따라서, 조명 수단을 분할하는 수(면광원의 수)에는, 장치의 대형화를 막는다는 관점에서 한계가 있고, 상기 실험예에서 나타낸 12분할(12개의 면광원)이 적절하다고 생각된다.Therefore, when the number of surface light sources is increased, the diameter (size) of the illumination means becomes large by that amount, and the apparatus becomes large. Therefore, the number of dividing the lighting means (the number of surface light sources) has a limitation in terms of preventing the enlargement of the apparatus, and it is considered that the 12 divisions (12 surface light sources) shown in the above experimental example are appropriate.

본 발명의 조명광원은, 대상물의 표면 상태를 검사하기 위한 검사 장치에 적용할 수 있고, 이하, 본 발명의 조명용 광원을 패턴 검사 장치에 적용한 경우에 대해 설명한다.The illumination light source of this invention can be applied to the inspection apparatus for inspecting the surface state of an object, and demonstrates the case where the illumination light source of this invention is applied to the pattern inspection apparatus below.

도 13은 본 발명의 조명 수단을 패턴 검사 장치에 적용했을 경우의 실시예를 나타내는 도면이고, 동 도는 본 실시예의 검사 장치를 측면으로부터 본 도면이다.It is a figure which shows the Example at the time of applying the illumination means of this invention to the pattern inspection apparatus, and FIG. Is the figure which looked at the inspection apparatus of this embodiment from the side.

도 13에서, 반사 조명광을 조사하는 암시야 조명 수단(반사 조명 수단)(10)은, 상기 제1 혹은 제2 실시예에 나타낸 조명광원으로서 촬상 유닛(11)의 주위에 링 형상으로 설치되어 촬상 유닛의 360°모든 방위로부터 워크(W)를 조명한다.In FIG. 13, the dark field illumination means (reflective illumination means) 10 which irradiates reflected illumination light is provided in the ring shape around the imaging unit 11 as an illumination light source shown in the said 1st or 2nd Example, and is imaged. Illuminate the workpiece W from all 360 ° orientations of the unit.

촬상 유닛(11)은 촬상 소자인 CCD 라인 센서(11a)와, 이 CCD 라인 센서(11a) 상에 워크(W) 상의 패턴을 결상(結像)시키는 광학 소자를 갖는 렌즈 유닛(11b)으로 구성되어 있다.The imaging unit 11 is comprised from the lens line 11b which has the CCD line sensor 11a which is an imaging element, and the optical element which forms the pattern on the workpiece | work W on this CCD line sensor 11a. It is.

촬상 유닛(11)에는, 촬상 유닛 구동 기구(12)가 설치되어 있고, 주사 수단(13)에 의해 촬상 유닛 구동 기구(12)를 구동함으로써, 촬상 유닛(11)은 동 도 화살표 방향으로 주사(스캔)된다.The imaging unit 11 is provided with the imaging unit drive mechanism 12, and the imaging unit 11 scans in the direction of an arrow by driving the imaging unit drive mechanism 12 by the scanning means 13 ( Scan).

검사 대상인 배선 등의 패턴이 설치된 워크(W)는, 워크 유지 수단(워크 스테이지)(14) 상에 얹어놓게 되고, 촬상 유닛(11)이 워크(W) 상에 주사됨으로써, 워크(W) 상에 형성되어 있는 배선 등의 패턴이 촬상된다.The workpiece | work W in which the patterns, such as wiring to be tested, was provided is mounted on the workpiece | work holding means (work stage) 14, and the imaging unit 11 scans on the workpiece | work W, and thus the image of the workpiece | work W is carried out. A pattern such as a wiring formed in the image is captured.

상기 주사 수단(13), 촬상 유닛(11), 암시야 조명 수단(10) 등은 제어부(15)에 의해, 제어된다.The scanning means 13, the imaging unit 11, the dark field illumination means 10, and the like are controlled by the controller 15.

도 13에서, 워크(W)가 워크 유지 수단(워크 스테이지)(14) 상에 얹어 놓게 되면, 암시야 조명 수단(반사 조명 수단)(10)이 점등한다.In FIG. 13, when the work W is placed on the work holding means (work stage) 14, the dark field illuminating means (reflecting illuminating means) 10 lights up.

이어서, 촬상 유닛(11)이, 주사 수단(13)에 의해, 워크(W)의 폭방향으로, 한쪽에서 다른쪽으로(동 도 오른쪽에서 왼쪽으로) 주사된다. 암시야 조명 수단(10)에 의해 조명된 워크(W) 상의 배선 패턴상이, 촬상 유닛(11)의 CCD 라인 센서(11a)에 수상되어 제어부(15)에서 기억된다.Next, the imaging unit 11 is scanned by the scanning means 13 in the width direction of the workpiece | work W from one side to the other (FIG. Right to left). The wiring pattern image on the workpiece W illuminated by the dark field illumination means 10 is received by the CCD line sensor 11a of the imaging unit 11 and stored in the control unit 15.

배선 패턴의 촬상이 끝나면, 암시야 조명 수단(10)이 소등한다.After the imaging of the wiring pattern is completed, the dark field illumination means 10 is turned off.

제어부(15)는, 촬상 유닛(11)에 의해 촬상된 화상 패턴을 화상 처리하고, 패턴 상의 결함의 유무를 검출한다. 그리고, 이상이 있으면 알람 등을 출력한다.The control part 15 performs an image process on the image pattern picked up by the imaging unit 11, and detects the presence or absence of the defect on a pattern. If there is an error, an alarm or the like is output.

그 패턴의 검사가 끝나면, 다음에 검사를 행하는 워크(W)가 워크 유지 수단(14) 상에 얹어 놓게 되고 이하, 상술한 동작이 반복된다.After the inspection of the pattern is finished, the workpiece W to be inspected next is placed on the workpiece holding means 14, and the above-described operation is repeated.

또한, 상기에서는, 기판의 패턴 검사에 대해 설명했지만, 필름 형상 워크의 패턴 검사일 경우에도, 필름 형상 워크의 이송 기구가 설치되는 점에서 다르지만, 같은 장치로 실현할 수 있다.In addition, although the pattern inspection of the board | substrate was demonstrated above, even in the case of the pattern inspection of a film-form workpiece, although the transfer mechanism of a film-form workpiece differs in the point provided, it can implement | achieve with the same apparatus.

도 1은 본 발명의 원리를 설명하는 도면(촬상 영역이 선 형상일 경우)이다.1 is a view for explaining the principle of the present invention (when the imaging area is linear).

도 2는 본 발명의 원리를 설명하는 도면(촬상 영역이 사각형 형상일 경우)이다.2 is a view for explaining the principle of the present invention (when the imaging area is a rectangular shape).

도 3은 도 2(a)의 측면도이다.3 is a side view of FIG. 2A.

도 4는 본 발명의 제1 실시예의 조명 수단을 구성하는 면광원의 구성을 나타내는 도면이다.4 is a diagram showing the configuration of a surface light source constituting the lighting means of the first embodiment of the present invention.

도 5는 도 4의 면광원을 8개로 균등하게 배치했을 경우를 나타내는 도면이다.FIG. 5 is a diagram illustrating a case where eight surface light sources of FIG. 4 are evenly arranged.

도 6은 사각형 형상의 촬상 영역(R)에 대해, 8개의 각 면광원으로부터 조명광을 조사하는 경우를 설명하는 도면이다.FIG. 6: is a figure explaining the case where illumination light is irradiated from eight surface light sources with respect to the rectangular imaging area | region R. FIG.

도 7은 본 발명의 제2 실시예인 조명 수단을 구성하는 광원의 구성을 설명하는 도면이다7 is a view for explaining the configuration of a light source constituting the lighting means which is the second embodiment of the present invention.

도 8은 프리즘 시트를 잘라내는 것을 설명하는 도면이다.It is a figure explaining cutting out a prism sheet.

도 9는 도 7에 나타낸 광원으로의 프리즘 시트의 설치를 설명하는 도면이다.It is a figure explaining installation of the prism sheet to the light source shown in FIG.

도 10은 제2 실시예의 조명 수단을 구성하는 면광원을 확대하여 나타낸 도면이다.10 is an enlarged view of the surface light source constituting the lighting means of the second embodiment.

도 11은 도 10에서 이용한 프리즘 시트의 변형예를 나타내는 도면이다.It is a figure which shows the modification of the prism sheet used in FIG.

도 12는 제2 실시예의 조명 수단을 이용하여 피트를 관찰한 실험 결과를 나타내는 도면이다.FIG. 12 is a view showing experimental results of observing pits using the lighting means of the second embodiment. FIG.

도 13은 본 발명의 조명 수단을 패턴 검사 장치에 적용했을 경우의 실시예를 나타내는 도면이다.It is a figure which shows the Example at the time of applying the lighting means of this invention to the pattern inspection apparatus.

도 14는 종래의 링 조명 수단을 설명하는 도면이다.It is a figure explaining the conventional ring illumination means.

도 15는 피트(결락)의 크기가 같아도, 결락이 생긴 방향에 의해 밝음(휘도)이 바뀔 경우를 설명하는 도면이다.FIG. 15 is a view for explaining the case where the brightness (luminance) changes depending on the direction in which the deletion occurs, even if the size of the pits (dropout) is the same.

도 16은 CCD 라인 센서가 한 번에 촬상하는 가는 영역의 평면도이다.Fig. 16 is a plan view of a thin area captured by a CCD line sensor at one time.

도 17은 종래의 링 조명 수단에 대해 조명광이 촬상 영역의 중심부를 향하는 것을 설명하는 도면이다.It is a figure explaining that illumination light is directed toward the center part of an imaging area with respect to the conventional ring illumination means.

[도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명][Description of Symbols for Main Parts of Drawing]

1 면광원 2 LED1 surface light source 2 LED

3 지지 부재 4 확산판3 support member 4 diffuser plate

5 프리즘 시트 6 지주5 prism sheets 6 holding

10 암시야 조명 수단(반사 조명 수단) 11 촬상 유닛10 Dark field lighting means (reflective lighting means) 11 imaging unit

11a CCD 라인 센서 11b 렌즈 유닛11a CCD line sensor 11b lens unit

12 촬상 유닛 구동 기구 13 주사 수단12 imaging unit drive mechanism 13 scanning means

14 워크 유지 수단(워크 스테이지) 15 제어부14 Work holding means (work stage) 15 control unit

R 촬상 영역 W 워크R Imaging Area W Work

가~아 면광원A ~ A surface light source

Claims (4)

피조사 영역에 평행한 광을 조사하는 면광원이, 동일 평면 상에 복수 환 형상으로 배치되고,The surface light source which irradiates the light parallel to a to-be-irradiated area is arrange | positioned in multiple annular shape on the same plane, 각 면광원의 크기는, 피조명 영역면 상에 조사되는 각 면광원으로부터의 광의 조사 영역이, 피조명 영역 전체를 포함하는 크기인 것을 특징으로 하는 조명용 광원.The size of each surface light source is an illumination light source characterized in that the irradiation area of light from each surface light source irradiated on the surface of the area to be illuminated includes the entire area to be illuminated. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 복수의 면광원은, 복수의 LED를 동일 평면 상에 복수 나열한 것으로 구성되고,The plurality of surface light sources are configured by arranging a plurality of LEDs on the same plane. 각 면광원 내의 LED는, 각 면광원으로부터의 평행한 광이, 피조명 영역에 조명되도록, 각 면광원이 배치된 환 형상의 내측을 향해 기울여 나열되어 있는 것을 특징으로 하는 조명용 광원.The LED in each surface light source is arranged inclined toward the inside of the annular shape in which each surface light source is arrange | positioned so that parallel light from each surface light source may be illuminated to a to-be-lighted area | region. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 복수의 면광원은, 복수의 LED의 광출사측에, 상기 복수의 LED로부터 출사한 광을 평행한 광으로서 출사하는 프리즘 시트를 복수 환 형상으로 배치한 것으로 구성되고,The plurality of surface light sources are configured by arranging a prism sheet for emitting light emitted from the plurality of LEDs as parallel light on the light output side of the plurality of LEDs in a plurality of annular shapes, 각 면광원을 구성하는 프리즘 시트는, 각 프리즘 시트로부터의 평행광이 피 조명 영역에 조명되도록, 각 LED로부터 출사한 광을, 각 면광원이 배치된 환 형상의 내측으로 굴절시키는 것인 것을 특징으로 하는 조명용 광원.The prism sheet constituting each surface light source refracts the light emitted from each LED to the inside of the annular shape in which the surface light source is arranged so that parallel light from each prism sheet is illuminated to the illuminated area. Illumination light source. 패턴이 형성된 워크에 대해 비스듬히 반사 조명광을 조사하는 암시야 조명 수단과, 상기 암시야 조명 수단에 의해 조명된 상기 패턴을 촬상하는 촬상 수단과,Darkfield illumination means for irradiating the reflected illumination light at an angle to the workpiece on which the pattern is formed, imaging means for imaging the pattern illuminated by the darkfield illumination means, 워크를 유지하는 워크 유지 수단과,Work holding means for holding the work, 상기 촬상 수단에 의해 촬상된 패턴 상(像)에 의거하여 패턴의 양부를 판정하는 제어부를 구비한 패턴 검사 장치에 있어서,In the pattern inspection apparatus provided with the control part which determines the quality of a pattern based on the pattern image image | photographed by the said imaging means, 암시야 조명 수단은, 청구항 1, 2 또는 3에 기재된 조명용 광원인 것을 특징으로 하는 패턴 검사 장치.The dark field illumination means is a light source for illumination of Claim 1, 2 or 3, The pattern inspection apparatus characterized by the above-mentioned.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190078227A (en) * 2017-12-26 2019-07-04 주식회사 포스코 Inspection apparatus for strip surface
JP2021085815A (en) * 2019-11-29 2021-06-03 シーシーエス株式会社 Light irradiation device, inspection system, and light irradiation method

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101438340B1 (en) * 2013-12-30 2014-09-04 주식회사 엠비젼 Machine vision system

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5690417A (en) 1996-05-13 1997-11-25 Optical Gaging Products, Inc. Surface illuminator with means for adjusting orientation and inclination of incident illumination
JP2006514266A (en) 2002-07-12 2006-04-27 エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド Uniform light source method and apparatus
AU2004227886A1 (en) 2003-04-04 2004-10-21 Lumidigm, Inc. Multispectral biometric sensor
JP4670375B2 (en) 2005-02-03 2011-04-13 パナソニック株式会社 Imaging device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190078227A (en) * 2017-12-26 2019-07-04 주식회사 포스코 Inspection apparatus for strip surface
JP2021085815A (en) * 2019-11-29 2021-06-03 シーシーエス株式会社 Light irradiation device, inspection system, and light irradiation method

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