KR20090100677A - Nonvolatile memory device selecting dummy word lines and method for operating the same - Google Patents

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KR20090100677A
KR20090100677A KR1020080025995A KR20080025995A KR20090100677A KR 20090100677 A KR20090100677 A KR 20090100677A KR 1020080025995 A KR1020080025995 A KR 1020080025995A KR 20080025995 A KR20080025995 A KR 20080025995A KR 20090100677 A KR20090100677 A KR 20090100677A
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강명곤
박기태
김현경
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삼성전자주식회사
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Abstract

PURPOSE: A nonvolatile memory device selecting dummy word lines is provided to improve an operation performance and/or yield by reducing the difference between the threshold voltage of memory cells adjacent to selection lines and the threshold voltage of the memory cells which are not adjacent to the selection lines. CONSTITUTION: A nonvolatile memory device(200) selecting dummy word lines includes a memory cell array, a plurality of word lines, and a dummy word line selecting circuit. The plurality of word lines are connected to the memory cell array. The dummy word line selecting circuit is connected to the memory cell array through the plurality of word lines. The dummy word line selecting circuit selects one of the plurality of word lines or more as the dummy word lines.

Description

더미 워드 라인들을 선택하는 불휘발성 메모리 장치 및 그것의 동작 방법{NONVOLATILE MEMORY DEVICE SELECTING DUMMY WORD LINES AND METHOD FOR OPERATING THE SAME}A nonvolatile memory device for selecting dummy word lines and a method of operating the same.

본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 더미 워드 라인들을 선택하는 불휘발성 메모리 장치 및 그것의 동작 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a nonvolatile memory device for selecting dummy word lines and a method of operating the same.

반도체 메모리 장치(semiconductor memory device)는 데이터를 저장해 두고 필요할 때 꺼내어 읽어볼 수 있는 기억장치이다. 반도체 메모리 장치는 크게 램(Random Access Memory; RAM)과 롬(Read Only Memory; ROM)으로 나눌 수 있다. 램(RAM)은 전원이 끊어지면 저장된 데이터가 소멸하는 휘발성 메모리 장치(volatile memory device)이다. 롬(ROM)은 전원이 끊어지더라도 저장된 데이터가 소멸하지 않는 플래시 메모리(nonvolatile memory device)이다. 램(RAM)은 DRAM(Dynamic RAM), SRAM(Static RAM) 등을 포함한다. 롬(ROM)은 PROM(Programmable ROM), EPROM(Erasable PROM), EEPROM(Electrically EPROM), 플래시 메모리 장치(flash memory device) 등을 포함한다. 플래시 메모리 장치는 크게 노어(NOR) 타입과 낸드(NAND) 타입으로 구분된다. 낸드 플래시 메모리 장치는 노아 플래시 메모리 장치에 비해 집적도가 매우 높다.A semiconductor memory device is a memory device that stores data and can be read out when needed. The semiconductor memory device may be largely divided into a random access memory (RAM) and a read only memory (ROM). RAM is a volatile memory device in which stored data is lost when power is lost. ROM is a nonvolatile memory device that does not destroy stored data even when its power supply is cut off. RAM includes Dynamic RAM (DRAM), Static RAM (SRAM), and the like. The ROM includes a programmable ROM (PROM), an erasable PROM (EPROM), an electrically EPROM (EEPROM), a flash memory device, and the like. Flash memory devices are classified into NOR type and NAND type. NAND flash memory devices have a higher density than Noah flash memory devices.

제조 공정 시의 오류로 인해, 스트링 선택 라인 및 접지 선택 라인에 인접한 메모리 셀들의 문턱 전압 산포는 선택 라인들에 인접하지 않은 메모리 셀들의 문턱 전압 산포와 상이하게 나타날 수 있다. 선택 라인들에 인접한 메모리 셀들의 문턱 전압 및 선택 라인들에 인접하지 않은 메모리 셀들의 문턱 전압의 차이는 메모리 장치의 동작 성능 그리고/또는 수율을 저하시키는 원인 중의 하나이다.Due to an error in the manufacturing process, the threshold voltage distributions of the memory cells adjacent to the string selection line and the ground selection line may appear differently than the threshold voltage distributions of the memory cells not adjacent to the selection lines. The difference between the threshold voltages of the memory cells adjacent to the selection lines and the threshold voltages of the memory cells not adjacent to the selection lines is one of the causes of deterioration in the operating performance and / or yield of the memory device.

본 발명의 목적은, 선택 라인들에 인접한 메모리 셀들의 문턱 전압 및 선택 라인들에 인접하지 않은 메모리 셀들의 문턱 전압의 차이를 감소시킴으로써, 동작 성능 그리고/또는 수율이 향상된 불휘발성 메모리 장치를 제공하는 데에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a nonvolatile memory device having improved operating performance and / or yield by reducing a difference between threshold voltages of memory cells adjacent to select lines and threshold voltages of memory cells not adjacent to select lines. There is.

본 발명에 따른 불휘발성 메모리 장치는 메모리 셀 어레이; 상기 메모리 셀 어레이에 연결되는 복수의 워드 라인들; 및 상기 복수의 워드 라인들을 통해 상기 메모리 셀 어레이에 연결되는 더미 워드 라인 선택 회로를 포함하고, 상기 더미 워드 라인 선택 회로는 상기 복수의 워드 라인들 중 하나 또는 그 이상을 더미 워드 라인들로 선택하는 것을 특징으로 한다.A nonvolatile memory device according to the present invention includes a memory cell array; A plurality of word lines connected to the memory cell array; And a dummy word line selection circuit connected to the memory cell array through the plurality of word lines, wherein the dummy word line selection circuit selects one or more of the plurality of word lines as dummy word lines. It is characterized by.

실시 예로서, 상기 메모리 셀 어레이는 각각이 상기 복수의 워드 라인들에 각각 연결된 복수의 메모리 셀들을 갖는 셀 스트링들; 스트링 선택 라인에 연결되며, 상기 셀 스트링들 및 비트 라인들 사이에 각각 연결된 스트링 선택 트랜지스터 들; 및 접지 선택 라인에 연결되며, 상기 셀 스트링들 및 공통 소스 라인 사이에 각각 연결된 접지 선택 트랜지스터들을 포함하는 것을 특징으로 한다. 상기 더미 워드 라인 선택 회로는 상기 복수의 워드 라인들 중 상기 접지 선택 라인 또는 상기 스트링 선택 라인에 인접한 워드 라인을 더미 워드 라인으로 선택한다. 상기 더미 워드 라인 선택 회로는 상기 스트링 선택 라인 및 상기 접지 선택 라인에 인접한 메모리 셀들 중 상기 선택 라인들에 인접하지 않은 메모리 셀들의 문턱 전압 산포와 상대적으로 큰 차이를 나타내는 문턱 전압 산포를 갖는 메모리 셀들에 연결된 워드 라인을 상기 더미 워드 라인으로 선택한다.In example embodiments, the memory cell array may include cell strings having a plurality of memory cells each connected to the plurality of word lines; String select transistors connected to a string select line and respectively connected between the cell strings and the bit lines; And ground select transistors connected to the ground select line and connected between the cell strings and the common source line, respectively. The dummy word line selection circuit selects a word line adjacent to the ground selection line or the string selection line among the plurality of word lines as a dummy word line. The dummy word line selection circuit may include memory cells having a threshold voltage distribution indicating a relatively large difference from a threshold voltage distribution of memory cells not adjacent to the selection lines among memory cells adjacent to the string selection line and the ground selection line. The connected word line is selected as the dummy word line.

실시 예로서, 상기 더미 워드 라인 선택 회로는 상기 스트링 선택 라인에 인접한 하나 또는 그 이상의 워드 라인들 및 상기 접지 선택 라인에 인접한 하나 또는 그 이상의 워드 라인들을 상기 더미 워드 라인들로 선택한다. 상기 스트링 선택 라인에 인접한 더미 워드 라인들의 수와 상기 접지 선택 라인에 인접한 더미 워드 라인들의 수는 상이하다.In an embodiment, the dummy word line selection circuit selects one or more word lines adjacent to the string select line and one or more word lines adjacent to the ground select line as the dummy word lines. The number of dummy word lines adjacent to the string select line and the number of dummy word lines adjacent to the ground select line are different.

본 발명에 따른 불휘발성 메모리 장치는 복수의 메모리 블록들로 구성되는 메모리 셀 어레이; 상기 복수의 메모리 블록들 각각에 연결되는 복수의 워드 라인들; 및 상기 복수의 워드 라인들을 통해 상기 복수의 메모리 블록들 각각에 연결되는 더미 워드 라인 선택 회로를 포함하고, 상기 더미 워드 라인 선택 회로는 상기 복수의 메모리 블록들 각각의 상기 복수의 워드 라인들 중 하나 또는 그 이상을 더미 워드 라인들로 선택하되, 상기 복수의 메모리 블록들 각각의 상기 더미 워드 라인들을 선택하는 동작은 독립적으로 수행되는 것을 특징으로 한다.A nonvolatile memory device according to the present invention includes a memory cell array consisting of a plurality of memory blocks; A plurality of word lines connected to each of the plurality of memory blocks; And a dummy word line selection circuit connected to each of the plurality of memory blocks through the plurality of word lines, wherein the dummy word line selection circuit is one of the plurality of word lines of each of the plurality of memory blocks. Alternatively, more than the dummy word lines are selected, and the selection of the dummy word lines of each of the plurality of memory blocks is independently performed.

실시 예로서, 상기 더미 워드 라인 선택 회로는 상기 메모리 블록들 각각에 연결되며, 상기 메모리 블록들 각각의 상기 복수의 워드 라인들 중 상기 하나 또는 그 이상을 더미 워드 라인들로 선택하도록 구성되는 복수의 더미 워드 라인 선택기들을 포함한다. 상기 복수의 메모리 블록들 각각의 상기 복수의 워드 라인들 중 상기 하나 또는 그 이상을 더미 워드 라인들로 선택하기 위한 더미 선택 정보를 저장하도록 구성되는 저장 회로를 더 포함한다. 상기 저장 회로는 상기 복수의 메모리 블록들에 각각 대응하는 복수의 퓨즈들을 포함하고, 상기 더미 선택 정보는 상기 복수의 퓨즈들의 커팅을 통해 상기 저장 회로에 저장된다. 상기 더미 워드 라인 선택 회로는 어드레스 비교 회로를 더 포함하고, 상기 어드레스 비교 회로는 외부로부터 블록 어드레스를 전달받고, 상기 더미 선택 정보 중 상기 전달된 블록 어드레스에 대응하는 퓨즈의 커팅 여부를 나타내는 정보를 상기 복수의 더미 워드 라인 선택기들 중 상기 전달된 블록 어드레스에 대응하는 더미 워드 라인 선택기에 전달한다.In example embodiments, the dummy word line selection circuit may be connected to each of the memory blocks, and configured to select the one or more of the plurality of word lines of each of the memory blocks as dummy word lines. Dummy word line selectors. And a storage circuit configured to store dummy selection information for selecting the one or more of the plurality of word lines of each of the plurality of memory blocks as dummy word lines. The storage circuit includes a plurality of fuses respectively corresponding to the plurality of memory blocks, and the dummy selection information is stored in the storage circuit through cutting of the plurality of fuses. The dummy word line selection circuit further includes an address comparison circuit, wherein the address comparison circuit receives a block address from an external device, and receives information indicating whether a fuse corresponding to the transferred block address is cut out of the dummy selection information. The dummy word line selector is transferred to a dummy word line selector corresponding to the transferred block address.

실시 예로서, 상기 더미 선택 정보는 상기 메모리 셀 어레이에 저장되고, 상기 복수의 더미 워드 라인 선택기들 각각은 래치를 포함하고, 상기 불휘발성 메모리 장치의 파워 온 시에, 상기 더미 선택 정보는 상기 복수의 더미 워드 라인 선택기들 중 대응하는 더미 워드 라인 선택기의 래치에 각각 저장된다.In example embodiments, the dummy selection information may be stored in the memory cell array, and each of the plurality of dummy word line selectors may include a latch. When the nonvolatile memory device is powered on, the dummy selection information may include the plurality of dummy selection information. Are stored in latches of corresponding dummy word line selectors, respectively.

복수의 워드 라인들을 포함하는 복수의 메모리 블록들로 구성된 불휘발성 메모리 장치의 본 발명에 따른 동작 방법은 읽기 그리고/또는 쓰기 동작을 위한 블록 어드레스를 전달받는 단계; 및 상기 복수의 메모리 블록들 중 상기 블록 어드레스 에 대응하는 메모리 블록의 상기 복수의 워드 라인들 중 하나 또는 그 이상을 더미 워드 라인들로 선택하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.A method of operating a nonvolatile memory device including a plurality of memory blocks including a plurality of word lines includes receiving a block address for a read and / or write operation; And selecting one or more of the plurality of word lines of the memory block corresponding to the block address among the plurality of memory blocks as dummy word lines.

본 발명에 따른 메모리 시스템은 불휘발성 메모리 장치; 그리고 상기 불휘발성 메모리 장치의 동작을 제어하도록 구성된 메모리 컨트롤러를 포함하고, 상기 불휘발성 메모리 장치는 메모리 셀 어레이; 상기 메모리 셀 어레이에 연결되는 복수의 워드 라인들; 및 상기 복수의 워드 라인들을 통해 상기 메모리 셀 어레이에 연결되는 더미 워드 라인 선택 회로를 포함하고, 상기 더미 워드 라인 선택 회로는 상기 복수의 워드 라인들 중 하나 또는 그 이상을 더미 워드 라인들로 선택하는 것을 특징으로 한다.A memory system according to the present invention includes a nonvolatile memory device; And a memory controller configured to control an operation of the nonvolatile memory device, wherein the nonvolatile memory device comprises: a memory cell array; A plurality of word lines connected to the memory cell array; And a dummy word line selection circuit connected to the memory cell array through the plurality of word lines, wherein the dummy word line selection circuit selects one or more of the plurality of word lines as dummy word lines. It is characterized by.

본 발명에 따르면, 복수의 워드 라인들 중 하나 또는 그 이상이 더미 워드 라인들로 선택된다. 선택 라인들에 인접한 메모리 셀들 중 선택 라인들에 인접하지 않은 메모리 셀들의 문턱 전압 산포와 비교하여 상대적으로 큰 차이를 나타내는 문턱 전압을 갖는 메모리 셀들에 연결된 워드 라인들이 더미 워드 라인들로 선택된다. 따라서, 불휘발성 메모리 장치의 문턱 전압 산포가 개선되고, 수율이 향상된다.According to the present invention, one or more of the plurality of word lines are selected as dummy word lines. Among the memory cells adjacent to the selection lines, word lines connected to memory cells having threshold voltages representing a relatively large difference compared to threshold voltage distributions of memory cells not adjacent to the selection lines are selected as dummy word lines. Thus, the threshold voltage distribution of the nonvolatile memory device is improved, and the yield is improved.

본 발명에 따른 불휘발성 메모리 장치는 복수의 워드 라인들 중 하나 또는 그 이상을 더미 워드 라인들로 선택한다. 선택 라인들에 인접한 메모리 셀들 중 선택 라인들에 인접하지 않은 메모리 셀들의 문턱 전압 산포와 비교하여 상대적으로 큰 차이를 나타내는 문턱 전압을 갖는 메모리 셀들에 연결된 워드 라인들이 더미 워드 라인들로 선택된다. 따라서, 불휘발성 메모리 장치의 문턱 전압 산포가 개선되고, 수율이 향상된다.The nonvolatile memory device according to the present invention selects one or more of the plurality of word lines as dummy word lines. Among the memory cells adjacent to the selection lines, word lines connected to memory cells having threshold voltages representing a relatively large difference compared to threshold voltage distributions of memory cells not adjacent to the selection lines are selected as dummy word lines. Thus, the threshold voltage distribution of the nonvolatile memory device is improved, and the yield is improved.

이하에서, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다. 설명의 편의를 위하여, 낸드 플래시 메모리 장치를 참조하여, 본 발명이 상세하게 설명된다. 그러나, 본 발명에 따른 불휘발성 메모리 및 그것의 동작 방법은 낸드 플래시 메모리 장치에 한정되지 않음이 이해될 것이다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the technical idea of the present invention. . For convenience of description, the present invention will be described in detail with reference to the NAND flash memory device. However, it will be understood that the nonvolatile memory and its operation method according to the present invention are not limited to the NAND flash memory device.

도 1은 플래시 메모리 장치(400)를 보여주는 블록도이다. 도 1을 참조하면, 플래시 메모리 장치(400)는 메모리 셀 어레이(410), 읽기/쓰기 회로(420), 행 디코더(430), 그리고 제어 로직(440)을 포함한다.1 is a block diagram illustrating a flash memory device 400. Referring to FIG. 1, a flash memory device 400 includes a memory cell array 410, a read / write circuit 420, a row decoder 430, and a control logic 440.

메모리 셀 어레이(410)는 비트 라인들(BL)을 통해 읽기/쓰기 회로(420)에 연결되고, 워드 라인들(WL)을 통해 행 디코더(430)에 연결된다. 메모리 셀 어레이(410)는 복수의 메모리 셀들(MC)의 스트링들을 포함한다. 메모리 셀들(MC)의 스트링들 및 비트 라인들 사이에 스트링 선택 트랜지스터들(SST)이 각각 제공된다. 메모리 셀들(MC)의 스트링들 및 공통 소스 라인(CSL) 사이에 접지 선택 트랜지스터들(GST)이 각각 제공된다. 메모리 셀들(MC)은 대응하는 워드 라인들(WL1~WLm)에 연결되고, 스트링 선택 트랜지스터들(SST)은 스트링 선택 라인(SSL)에 연결되고, 접지 선택 트랜지스터들(GST)은 접지 선택 라인(GSL)에 연결된다.The memory cell array 410 is connected to the read / write circuit 420 through bit lines BL and to the row decoder 430 through word lines WL. The memory cell array 410 includes strings of a plurality of memory cells MC. String select transistors SST are respectively provided between the strings and the bit lines of the memory cells MC. Ground select transistors GST are respectively provided between the strings of the memory cells MC and the common source line CSL. The memory cells MC are connected to the corresponding word lines WL1 ˜WLm, the string select transistors SST are connected to the string select line SSL, and the ground select transistors GST are connected to the ground select line ( GSL).

읽기/쓰기 회로(420)는 메모리 셀 어레이(410) 및 제어 로직(440)에 연결된다. 읽기/쓰기 회로(420)는 제어 로직(440)의 제어에 응답하여 동작한다. 읽기/쓰기 회로(420)는 외부와 데이터(DATA)를 교환한다. 읽기 쓰기 회로(420)는 비트 라인들(BL)을 통해 메모리 셀들(MC)에 데이터를 쓰거나 메모리 셀들(MC)로부터 데이터를 읽는다.The read / write circuit 420 is connected to the memory cell array 410 and the control logic 440. The read / write circuit 420 operates under the control of the control logic 440. The read / write circuit 420 exchanges data DATA with an external device. The read / write circuit 420 writes data to or reads data from the memory cells MC through the bit lines BL.

행 디코더(430)는 메모리 셀 어레이(430) 및 제어 로직(440)에 연결된다. 행 디코더(430)는 제어 로직(440)의 제어에 응답하여 동작한다. 행 디코더(430)는 외부로부터 어드레스(ADDR)를 전달받고, 어드레스(ADDR)에 응답하여 메모리 셀 어레이(410)의 워드 라인들(WL)을 선택한다.The row decoder 430 is connected to the memory cell array 430 and the control logic 440. The row decoder 430 operates under the control of the control logic 440. The row decoder 430 receives the address ADDR from the outside, and selects word lines WL of the memory cell array 410 in response to the address ADDR.

제어 로직(440)은 플래시 메모리 장치(400)의 제반 동작을 제어한다. 제어 로직(440)은 외부로부터 전달되는 제어 신호(CTRL)에 응답하여 동작할 것이다. 예시적으로, 제어 신호(CTRL)는 메모리 컨트롤러(미도시)로부터 제공될 것이다.The control logic 440 controls the overall operation of the flash memory device 400. The control logic 440 may operate in response to a control signal CTRL transmitted from the outside. In exemplary embodiments, the control signal CTRL may be provided from a memory controller (not shown).

도 2는 도 1의 플래시 메모리 장치(400)의 메모리 셀들(MC)의 문턱 전압 산포를 보여주는 다이어그램이다. 도 2 에서, 가로 축은 전압을 나타내며, 세로 축은 메모리 셀들의 개수를 나타낸다.2 is a diagram illustrating a threshold voltage distribution of memory cells MC of the flash memory device 400 of FIG. 1. In FIG. 2, the horizontal axis represents voltage and the vertical axis represents the number of memory cells.

도 1 및 2를 참조하면, 곡선(A)은 선택 라인들(SSL, GSL)에 인접하지 않은 메모리 셀들의 문턱 전압 산포를 나타낼 것이다. 곡선(B)은 스트링 선택 라인(SSL)에 인접한 워드 라인(WLm)에 연결된 메모리 셀들의 문턱 전압 산포를 나타낼 것이다. 곡선(C)은 접지 선택 라인(GSL)에 인접한 워드 라인(WL1)에 연결된 메모리 셀들의 문턱 전압 산포를 나타낼 것이다.Referring to FIGS. 1 and 2, curve A may represent a threshold voltage distribution of memory cells that are not adjacent to the selection lines SSL and GSL. Curve B may represent a threshold voltage distribution of memory cells connected to the word line WLm adjacent to the string select line SSL. Curve C will represent a threshold voltage distribution of memory cells connected to word line WL1 adjacent to ground select line GSL.

도 2에 도시된 바와 같이, 공정 상의 오류로 인해, 선택 라인들(SSL, GSL)에 인접한 메모리 셀들의 문턱 전압 산포는 선택 라인들(SSL, GSL)에 인접하지 않은 메모리 셀들의 문턱 전압 산포와 상이하게 나타날 것이다. 따라서, 선택 라인들(SSL, GSL)에 인접한 메모리 셀들에 연결된 워드 라인들(WL1, WLm)이 더미 워드 라인들로 선택되면, 플래시 메모리 장치(400)의 문턱 전압 산포가 개선될 것이다.As shown in FIG. 2, due to a process error, the threshold voltage distributions of the memory cells adjacent to the selection lines SSL and GSL may be different from those of the memory cells not adjacent to the selection lines SSL and GSL. Will appear differently. Therefore, when the word lines WL1 and WLm connected to the memory cells adjacent to the selection lines SSL and GSL are selected as dummy word lines, the threshold voltage distribution of the flash memory device 400 may be improved.

도 2에서, 선택 라인들(SSL, GSL)에 인접하지 않은 메모리 셀들의 문턱 전압 산포(A)와 비교하여, 접지 선택 라인(GSL)에 인접한 메모리 셀들의 문턱 전압 산포(C)는 스트링 선택 라인(SSL)에 인접한 메모리 셀들의 문턱 전압 산포(B)보다 상대적으로 큰 차이를 나타낼 것이다. 즉, 복수의 워드 라인들(WL1~WLm) 중 하나의 워드 라인이 더미 워드 라인으로 선택되는 경우, 접지 선택 라인(GSL)에 인접한 메모리 셀들에 연결된 워드 라인(WL1)이 더미 워드 라인으로 선택되면, 스트링 선택 라인에(SSL) 인접한 메모리 셀들에 연결된 워드 라인(WLm)이 더미 워드 라인들로 선택되는 때 보다 문턱 전압 산포가 개선될 것이다.In FIG. 2, the threshold voltage distribution C of the memory cells adjacent to the ground selection line GSL is compared to the threshold voltage distribution A of the memory cells not adjacent to the selection lines SSL and GSL. The difference will be greater than the threshold voltage distribution B of the memory cells adjacent to SSL. That is, when one word line of the plurality of word lines WL1 to WLm is selected as the dummy word line, the word line WL1 connected to the memory cells adjacent to the ground select line GSL is selected as the dummy word line. The threshold voltage distribution will be improved than when the word line WLm connected to the memory cells adjacent to the string select line SSL is selected as the dummy word lines.

플래시 메모리 장치(400)의 메모리 셀 어레이(410)는 복수의 메모리 블록들로 구성된다. 도 1에서, 복수의 메모리 블록들 중 하나의 메모리 블록이 도시되어 있다. 복수의 메모리 블록들 각각의 문턱 전압 산포는 상이하게 나타날 것이다. 예를 들면, 도 2에 도시된 바와 같이, 선택 라인들(SSL, GSL)에 인접하지 않은 메모리 셀들과 비교하여, 접지 선택 라인(GSL)에 인접한 메모리 셀들의 문턱 전압 산포가 스트링 선택 라인(SSL)에 인접한 메모리 셀들의 문턱 전압 산포보다 상대적으로 큰 차이를 나타내는 메모리 블록이 존재할 것이다. 반대로, 선택 라인들(SSL, GSL) 에 인접하지 않은 메모리 셀들의 문턱 전압 산포와 비교하여, 스트링 선택 라인(SSL)에 인접한 메모리 셀들의 문턱 전압 산포가 접지 선택 라인(GSL)에 인접한 메모리 셀들의 문턱 전압 산포보다 상대적으로 큰 차이를 나타내는 메모리 블록이 존재할 것이다.The memory cell array 410 of the flash memory device 400 is composed of a plurality of memory blocks. In FIG. 1, one memory block of the plurality of memory blocks is shown. Threshold voltage distributions of each of the plurality of memory blocks will appear differently. For example, as shown in FIG. 2, compared to memory cells not adjacent to the selection lines SSL and GSL, the threshold voltage distribution of the memory cells adjacent to the ground selection line GSL is equal to the string selection line SSL. There will be a memory block that exhibits a difference that is relatively greater than the threshold voltage distribution of the adjacent memory cells. On the contrary, in comparison with the threshold voltage distributions of the memory cells not adjacent to the selection lines SSL and GSL, the threshold voltage distributions of the memory cells adjacent to the string selection line SSL are compared to those of the memory cells adjacent to the ground selection line GSL. There will be memory blocks that exhibit a difference that is relatively larger than the threshold voltage distribution.

메모리 블록들 각각의 테스트를 통해 선택 라인들(SSL, GSL)에 인접하지 않은 메모리 셀들의 문턱 전압 산포, 스트링 선택 라인(SSL)에 인접한 메모리 셀들의 문턱 전압 산포, 그리고 접지 선택 라인(GSL)에 인접한 메모리 셀들의 문턱 전압 산포가 비교될 것이다. 각각의 메모리 블록에서, 선택 라인들(SSL, GSL)에 인접하지 않은 메모리 셀들의 문턱 전압 산포와 비교하여, 선택 라인들(SSL, GLS)에 인접한 메모리 셀들 중 상대적으로 큰 차이를 나타내는 문턱 전압을 갖는 메모리 셀들에 연결된 워드 라인이 더미 워드 라인으로 선택될 것이다. 더미 워드 라인을 선택하는 동작은 복수의 메모리 블록들 각각에 대해 독립적으로 수행될 것이다. 따라서, 플래시 메모리 장치(400)의 문턱 전압 산포가 개선될 것이다.Testing of each of the memory blocks results in threshold voltage distribution of memory cells not adjacent to the selection lines SSL and GSL, threshold voltage distribution of memory cells adjacent to the string selection line SSL, and ground selection line GSL. Threshold voltage distributions of adjacent memory cells will be compared. In each memory block, a threshold voltage indicating a relatively large difference among memory cells adjacent to the selection lines SSL and GLS is compared with a threshold voltage distribution of memory cells not adjacent to the selection lines SSL and GSL. The word line connected to the memory cells having the same will be selected as the dummy word line. The operation of selecting the dummy word line may be performed independently for each of the plurality of memory blocks. Thus, the threshold voltage distribution of the flash memory device 400 will be improved.

도 3은 본 발명에 따른 메모리 시스템(10)을 보여주는 블록도이다. 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 메모리 시스템(10)은 메모리 컨트롤러(100) 및 플래시 메모리 장치(200)를 포함한다.3 is a block diagram illustrating a memory system 10 according to the present invention. Referring to FIG. 3, the memory system 10 according to the present invention includes a memory controller 100 and a flash memory device 200.

메모리 컨트롤러(100)는 호스트(Host) 및 플래시 메모리 장치(200)에 연결된다. 메모리 컨트롤러(100)는 플래시 메모리 장치(200)로부터 읽은 데이터를 호스트(Host)에 전달하거나, 호스트(Host)로부터 전달되는 데이터를 플래시 메모리 장치(200)에 저장한다. 플래시 메모리 장치(200)는 도 4를 참조하여 더 상세하게 설 명된다.The memory controller 100 is connected to a host and a flash memory device 200. The memory controller 100 transfers data read from the flash memory device 200 to the host or stores data transferred from the host in the flash memory device 200. The flash memory device 200 will be described in more detail with reference to FIG. 4.

메모리 컨트롤러(100)는 램(110), 프로세싱 유닛(120), 호스트 인터페이스(130), 오류 정정 블록(140), 그리고 메모리 인터페이스(150)를 포함한다. 램(110)은 프로세싱 유닛(120)의 동작 메모리로서 이용될 것이다. 프로세싱 유닛(120)은 메모리 컨트롤러(100)의 제반 동작을 제어할 것이다. 호스트 인터페이스(130)는 호스트(Host) 및 메모리 컨트롤러(100) 사이의 데이터 교환을 수행하기 위한 프로토콜을 포함할 것이다.The memory controller 100 includes a RAM 110, a processing unit 120, a host interface 130, an error correction block 140, and a memory interface 150. RAM 110 will be used as the operating memory of processing unit 120. The processing unit 120 will control the overall operation of the memory controller 100. The host interface 130 may include a protocol for performing data exchange between the host and the memory controller 100.

오류 정정 블록(140)은 플래시 메모리 장치(200)로부터 읽어진 데이터의 오류를 검출하고, 정정할 것이다. 메모리 인터페이스(150)는 플래시 메모리 장치(200)와 인터페이싱할 것이다. 메모리 컨트롤러(100)의 각 구성요소들은 이 분야에 통상적인 기술을 가진 자들에게 잘 알려져 있으므로, 더 이상의 상세한 설명은 생략된다.The error correction block 140 may detect and correct an error of data read from the flash memory device 200. The memory interface 150 will interface with the flash memory device 200. Each component of the memory controller 100 is well known to those having ordinary skill in the art, and thus, further description thereof is omitted.

도 4는 도 3의 플래시 메모리 장치(200)를 보여주는 블록도이다. 도 4를 참조하면, 본 발명에 따른 플래시 메모리 장치(200)는 메모리 셀 어레이(210), 읽기/쓰기 회로(220), 행 디코더(230), 그리고 제어 로직(240)을 포함한다.4 is a block diagram illustrating the flash memory device 200 of FIG. 3. Referring to FIG. 4, a flash memory device 200 according to the present invention includes a memory cell array 210, a read / write circuit 220, a row decoder 230, and a control logic 240.

메모리 셀 어레이(210)는 비트 라인들(BL)을 통해 읽기/쓰기 회로(220)에 연결되고, 워드 라인들(WL)을 통해 행 디코더(230)에 연결된다. 메모리 셀 어레이(210)는 복수의 메모리 블록들(BLK)로 구성된다. 각각의 메모리 블록(BLK)은 복수의 메모리 셀들(MC)의 스트링들을 포함한다. 메모리 셀들(MC)의 스트링들 및 비트 라인들 사이에 스트링 선택 트랜지스터들(SST)이 각각 제공된다. 메모리 셀 들(MC)의 스트링들 및 공통 소스 라인(CSL) 사이에 접지 선택 트랜지스터들(GST)이 각각 제공된다. 메모리 셀들(MC)은 워드 라인들(WL1~WLm)에 연결되고, 스트링 선택 트랜지스터들(SST)은 스트링 선택 라인(SSL)에 연결되고, 접지 선택 트랜지스터들(GST)은 접지 선택 라인(GSL)에 연결된다. 본 발명에 따른 메모리 셀 어레이(210)의 메모리 블록들(BLK) 각각의 복수의 워드 라인들(WL) 중 하나 또는 그 이상은 더미 워드 라인들로 선택될 것이다. 메모리 블록들(BLK) 각각의 워드 라인들(WL) 중 하나 또는 그 이상을 더미 워드 라인들로 선택하는 동작은 복수의 메모리 블록들(BLK) 각각에 대해 독립적으로 수행될 것이다.The memory cell array 210 is connected to the read / write circuit 220 through the bit lines BL and to the row decoder 230 through the word lines WL. The memory cell array 210 is composed of a plurality of memory blocks BLK. Each memory block BLK includes strings of a plurality of memory cells MC. String select transistors SST are respectively provided between the strings and the bit lines of the memory cells MC. Ground select transistors GST are respectively provided between the strings of the memory cells MC and the common source line CSL. The memory cells MC are connected to the word lines WL1 ˜WLm, the string select transistors SST are connected to the string select line SSL, and the ground select transistors GST are connected to the ground select line GSL. Is connected to. One or more of the plurality of word lines WL of each of the memory blocks BLK of the memory cell array 210 according to the present invention may be selected as dummy word lines. Selecting one or more of the word lines WL of each of the memory blocks BLK as dummy word lines may be performed independently for each of the plurality of memory blocks BLK.

읽기/쓰기 회로(220)는 메모리 셀 어레이(210) 및 제어 로직(240)에 연결된다. 읽기/쓰기 회로(220)는 제어 로직(240)의 제어에 응답하여 동작한다. 읽기/쓰기 회로(220)는 외부와 데이터(DATA)를 교환한다. 읽기 쓰기 회로(220)는 비트 라인들(BL)을 통해 메모리 셀들(MC)에 데이터를 쓰거나 메모리 셀들(MC)로부터 데이터를 읽는다.The read / write circuit 220 is connected to the memory cell array 210 and the control logic 240. The read / write circuit 220 operates under the control of the control logic 240. The read / write circuit 220 exchanges data DATA with an external device. The read / write circuit 220 writes data to or reads data from the memory cells MC through the bit lines BL.

행 디코더(230)는 메모리 셀 어레이(230) 및 제어 로직(240)에 연결된다. 행 디코더(230)는 제어 로직(240)의 제어에 응답하여 동작한다. 행 디코더(230)는 외부로부터 어드레스(ADDR)를 전달받고, 어드레스(ADDR)에 응답하여 메모리 셀 어레이(210)의 워드 라인들(WL)을 선택한다. 본 발명에 따른 행 디코더(230)는 더미 워드 라인 선택 회로(250)를 포함할 것이다. 더미 워드 라인 선택 회로(250)는 메모리 셀 어레이(210)의 복수의 워드 라인들 중 하나 또는 그 이상을 더미 워드 라인들로 선택할 것이다.The row decoder 230 is connected to the memory cell array 230 and the control logic 240. The row decoder 230 operates under the control of the control logic 240. The row decoder 230 receives the address ADDR from the outside and selects the word lines WL of the memory cell array 210 in response to the address ADDR. The row decoder 230 according to the present invention will include a dummy word line selection circuit 250. The dummy word line selection circuit 250 may select one or more of the plurality of word lines of the memory cell array 210 as dummy word lines.

제어 로직(240)은 플래시 메모리 장치(200)의 제반 동작을 제어한다. 제어 로직(240)은 외부로부터 전달되는 제어 신호(CTRL)에 응답하여 동작할 것이다. 예시적으로, 제어 신호(CTRL)는 메모리 컨트롤러(100, 도 3 참조)로부터 제공될 것이다.The control logic 240 controls overall operations of the flash memory device 200. The control logic 240 may operate in response to the control signal CTRL transmitted from the outside. In exemplary embodiments, the control signal CTRL may be provided from the memory controller 100 (see FIG. 3).

도 5는 도 4의 메모리 셀 어레이(210) 및 더미 워드 라인 선택 회로(250)를 보여주는 블록도이다. 도 5에서, 메모리 셀 어레이(210)의 하나의 메모리 블록(BLK) 및 하나의 메모리 블록(BLK)에 대응하는 더미 워드 라인 선택 회로(250)의 구성 요소들이 도시되어 있다. 하나의 메모리 블록(BLK)에 대응하는 더미 워드 라인 선택 회로(250)는 더미 워드 라인 제어기(252) 및 더미 워드 라인 선택기(254)를 포함한다.5 is a block diagram illustrating the memory cell array 210 and the dummy word line selection circuit 250 of FIG. 4. In FIG. 5, components of the dummy word line selection circuit 250 corresponding to one memory block BLK and one memory block BLK of the memory cell array 210 are illustrated. The dummy word line selection circuit 250 corresponding to one memory block BLK includes a dummy word line controller 252 and a dummy word line selector 254.

더미 워드 라인 제어기(252)는 외부로부터 블록 선택 신호(BS)를 제공받을 것이다. 블록 선택 신호(BS)는 읽기, 쓰기, 그리고/또는 소거 동작이 수행될 메모리 블록(BLK)을 선택하기 위한 신호일 것이다. 더미 워드 라인 제어기(252)는 외부로부터 더미 선택 정보(DSI)를 제공받을 것이다. 더미 선택 정보(DSI)는 제공된 블록 어드레스에 대응하는 메모리 블록(BLK)의 워드 라인들 중 하나 또는 그 이상을 더미 워드 라인들로 선택하기 위한 정보일 것이다. 외부로부터 블록 선택 신호(BS)가 전달되면, 더미 워드 라인 제어기(252)는 더미 선택 정보(DSI)를 이용하여 제어 신호(S)를 생성할 것이다. 제어 신호(S)는 더미 워드 라인 선택기(254)에 제공될 것이다.The dummy word line controller 252 may receive a block select signal BS from the outside. The block select signal BS may be a signal for selecting a memory block BLK to perform a read, write, and / or erase operation. The dummy word line controller 252 may be provided with dummy selection information (DSI) from the outside. The dummy selection information DSI may be information for selecting one or more of the word lines of the memory block BLK corresponding to the provided block address as dummy word lines. When the block select signal BS is transmitted from the outside, the dummy word line controller 252 generates the control signal S using the dummy select information DSI. The control signal S will be provided to the dummy word line selector 254.

더미 워드 라인 선택기(254)는 더미 워드 라인 제어기(252)로부터 제어 신 호(S)를 제공받을 것이다. 더미 워드 라인 선택기(254)는 제어 신호(S)에 응답하여, 대응하는 메모리 블록(BLK)의 복수의 워드 라인들 중 하나 또는 그 이상을 더미 워드 라인들로 선택할 것이다.The dummy word line selector 254 may receive a control signal S from the dummy word line controller 252. The dummy word line selector 254 may select one or more of the plurality of word lines of the corresponding memory block BLK as dummy word lines in response to the control signal S. FIG.

도 6은 도 5에 도시된 메모리 셀 어레이(210)의 메모리 블록(BLK) 및 메모리 블록(BLK)에 대응하는 더미 워드 라인 선택 회로(250)의 구성 요소들을 상세하게 보여주는 회로도이다.6 is a circuit diagram illustrating in detail the components of the memory block BLK and the dummy word line selection circuit 250 corresponding to the memory block BLK of the memory cell array 210 illustrated in FIG. 5.

도 6을 참조하면, 메모리 블록(BLK)은 복수의 메모리 셀들(MC)로 구성된 셀 스트링들을 포함한다. 비트 라인들(BL) 및 셀 스트링들 사이에 스트링 선택 트랜지스터들(SST)이 각각 제공된다. 셀 스트링들 및 공통 소스 라인(CSL) 사이에 접지 선택 트랜지스터들(GST)이 각각 제공된다. 메모리 셀들(MC)은 워드 라인들(L1~Lk)에 연결된다. 스트링 선택 트랜지스터들(SST)은 스트링 선택 라인(SSL)에 연결된다. 접지 선택 트랜지스터들(GST)은 접지 선택 라인(GSL)에 연결된다.Referring to FIG. 6, the memory block BLK includes cell strings composed of a plurality of memory cells MC. String select transistors SST are respectively provided between the bit lines BL and the cell strings. Ground select transistors GST are respectively provided between the cell strings and the common source line CSL. The memory cells MC are connected to the word lines L1 to Lk. The string select transistors SST are connected to the string select line SSL. Ground select transistors GST are connected to a ground select line GSL.

본 발명에 따른 메모리 셀 어레이(210)의 메모리 블록(BLK)의 복수의 워드 라인들(L1~Lk) 중 하나 또는 그 이상은 더미 워드 라인들로 선택될 것이다. 예시적으로, 읽기, 쓰기, 그리고/또는 소거 동작을 위한 노멀 워드 라인들(NA1~NAm)의 수가 32개 이고, 더미 워드 라인들(DA1, DA2)로 선택되는 워드 라인들의 수가 1개인 경우, 메모리 블록(BLK)의 워드 라인들(L1~Lk)의 수는 33개 일 것이다. 다른 예로써, 읽기, 쓰기, 그리고/또는 소거 동작을 위한 노멀 워드 라인들(NA1~NAm)의 수가 32개 이고, 더미 워드 라인들(DA1, DA2)로 선택되는 워드 라인들의 수가 3개인 경우, 메모리 블록(BLK)의 워드 라인들(L1~Lk)의 수는 35개 일 것이다. 실시 예로서, 도 6에서, 더미 워드 라인들(DA1, DA2)로 선택되는 워드 라인들(L1~Lk)의 수는 1 개인 것으로 도시되어 있다.One or more of the plurality of word lines L1 to Lk of the memory block BLK of the memory cell array 210 according to the present invention may be selected as dummy word lines. For example, when the number of normal word lines NA1 to NAm for read, write, and / or erase operations is 32, and the number of word lines selected as dummy word lines DA1 and DA2 is 1, The number of word lines L1 to Lk of the memory block BLK may be 33. As another example, when the number of normal word lines NA1 to NAm for read, write, and / or erase operations is 32, and the number of word lines selected as dummy word lines DA1 and DA2 is three, The number of word lines L1 to Lk of the memory block BLK may be 35. 6, the number of word lines L1 to Lk selected as dummy word lines DA1 and DA2 is illustrated as one.

워드 라인 선택기(254)는 워드 라인들(L1~Lk)에 연결된다. 워드 라인 선택기(254)는, 제어 신호(S)에 응답하여, 워드 라인들(L1~Lk)을 노멀 워드 라인들(NA1~NAm) 또는 더미 워드 라인들(DA1~DA2)에 연결할 것이다. 더미 워드 라인 선택기(254)는 복수의 NMOS 트랜지스터들 및 복수의 PMOS 트랜지스터들을 포함할 것이다.The word line selector 254 is connected to the word lines L1 to Lk. In response to the control signal S, the word line selector 254 may connect the word lines L1 to Lk to the normal word lines NA1 to NAm or the dummy word lines DA1 to DA2. The dummy word line selector 254 will include a plurality of NMOS transistors and a plurality of PMOS transistors.

도 6에 도시된 바와 같이, 워드 라인들(L1~Lk)은 NMOS 트랜지스터 및 PMOS 트랜지스터에 각각 연결될 것이다. 워드 라인들(L1~Lk) 각각은 NMOS 트랜지스터 및 PMOS 트랜지스터를 통해 노멀 워드 라인들(NA1~NAm) 및 더미 워드 라인들(DA1, DA2) 중 인접한 두 개의 라인들에 연결될 것이다.As shown in FIG. 6, the word lines L1 to Lk may be connected to the NMOS transistor and the PMOS transistor, respectively. Each of the word lines L1 to Lk may be connected to two adjacent ones of the normal word lines NA1 to NAm and the dummy word lines DA1 and DA2 through an NMOS transistor and a PMOS transistor.

제어 신호(S)가 로직 하이인 경우, 더미 워드 라인 선택기(254)의 NMOS 트랜지스터들은 턴 온 되고, PMOS 트랜지스터들은 턴 오프 될 것이다. 이때, 워드 라인(L1)은 더미 워드 라인(DA1)으로 선택될 것이다. 워드 라인들(L2~Lk)은 노멀 워드 라인들(NA1~NAm)로 선택될 것이다. 제어 신호(S)가 로직 로우인 경우, 더미 워드 라인 선택기(254)의 NMOS 트랜지스터들은 턴 오프 되고, PMOS 트랜지스터들은 턴 온 될 것이다. 이때, 워드 라인(Lk)은 더미 워드 라인(DA2)으로 선택될 것이다. 워드 라인들(L1~Lk-1)은 노멀 워드 라인들(NA1~NAm)로 선택될 것이다. 즉, 제어 신호(S)의 상태에 따라, 스트링 선택 라인(SSL)에 인접한 워드 라인(Lk) 또는 접지 선택 라인(GSL)에 인접한 워드 라인(L1)이 더미 워드 라인으로 선택될 것이다.When the control signal S is logic high, the NMOS transistors of the dummy word line selector 254 will be turned on and the PMOS transistors will be turned off. In this case, the word line L1 may be selected as the dummy word line DA1. The word lines L2 to Lk may be selected as normal word lines NA1 to NAm. When the control signal S is logic low, the NMOS transistors of the dummy word line selector 254 will be turned off and the PMOS transistors will be turned on. In this case, the word line Lk may be selected as the dummy word line DA2. The word lines L1 to Lk-1 may be selected as normal word lines NA1 to NAm. That is, according to the state of the control signal S, the word line Lk adjacent to the string select line SSL or the word line L1 adjacent to the ground select line GSL will be selected as the dummy word line.

더미 워드 라인 선택기(254)의 트랜지스터들을 통해 메모리 셀들(MC)에 프로그램 동작을 위한 고전압이 제공되는 경우, 더미 워드 라인 선택기(254)의 트랜지스터들은 고전압 트랜지스터들로 형성될 것이다.When a high voltage for the program operation is provided to the memory cells MC through the transistors of the dummy word line selector 254, the transistors of the dummy word line selector 254 may be formed as high voltage transistors.

선택 라인들(SSL, GSL)에 인접하지 않은 워드 라인들(L2~Lk-1)에 연결된 메모리 셀들의 문턱 전압 산포와 비교하여, 스트링 선택 라인(SSL)에 인접한 워드 라인(Lk)에 연결된 메모리 셀들의 문턱 전압 산포가 접지 선택 라인(GSL)에 인접한 워드 라인(L1)에 연결된 메모리 셀들의 문턱 전압 산포보다 상대적으로 큰 차이를 나타내는 경우, 제어 신호(S)는 로직 로우로 설정될 것이다. 즉, 스트링 선택 라인(SSL)에 인접한 워드 라인(Lk)이 더미 워드 라인으로 설정되고, 쓰기, 읽기, 그리고/또는 소거 동작을 위해 이용되지 않을 것이다. 따라서, 메모리 셀 어레이(210)의 메모리 셀들(MC)의 문턱 전압 산포가 개선될 것이다. 반대의 경우, 제어 신호(S)를 로직 하이로 설정함으로써 메모리 셀들(MC)의 문턱 전압 산포가 개선될 수 있음이 이해될 것이다.Memory connected to the word line Lk adjacent to the string select line SSL as compared to the threshold voltage distribution of memory cells connected to the word lines L2 to Lk-1 not adjacent to the select lines SSL and GSL. When the threshold voltage distribution of the cells shows a relatively larger difference than the threshold voltage distribution of the memory cells connected to the word line L1 adjacent to the ground select line GSL, the control signal S will be set to logic low. That is, the word line Lk adjacent to the string select line SSL is set as a dummy word line and will not be used for write, read, and / or erase operations. Therefore, the threshold voltage distribution of the memory cells MC of the memory cell array 210 may be improved. In the opposite case, it will be appreciated that the threshold voltage distribution of the memory cells MC can be improved by setting the control signal S to logic high.

더미 워드 라인들(DA1, DA2)은 접지 전압(Vss)에 연결될 것이다. 워드 라인들(L1~Lk) 중 더미 워드 라인 선택기(254)에 의해 더미 워드 라인으로 설정된 워드 라인에 연결된 메모리 셀들은 소거된 상태를 유지할 것이다. 더미 워드 라인이 접지 전압(Vss)에 연결되어 있고, 메모리 셀들은 소거되어 있으므로, 더미 워드 라인에 연결된 메모리 셀들은 항상 턴 온 된 될 것이다. 따라서, 더미 워드 라인에 관계 없이, 메모리 장치는 정상적으로 동작할 것이다.The dummy word lines DA1 and DA2 may be connected to the ground voltage Vss. The memory cells connected to the word line set as the dummy word line by the dummy word line selector 254 among the word lines L1 to Lk will remain erased. Since the dummy word line is connected to the ground voltage Vss and the memory cells are erased, the memory cells connected to the dummy word line will always be turned on. Thus, regardless of the dummy word line, the memory device will operate normally.

도 6에 도시된 더미 워드 라인 제어기(252) 및 더미 워드 라인 선택기(254) 는 메모리 셀 어레이(210)의 복수의 메모리 블록들 각각에 제공될 것이다. 이때, 더미 선택 정보(DSI)에 응답하여, 복수의 메모리 블록들 각각의 더미 워드 라인들이 독립적으로 선택될 것이다. 즉, 선택 라인들(SSL, GSL)에 인접한 워드 라인들에 연결된 메모리 셀들의 문턱 전압 산포가 각각의 메모리 블록에서 상이하게 나타나는 경우에도, 메모리 셀 어레이(210)의 메모리 셀들(MC)의 문턱 전압 산포가 개선될 것이다.The dummy word line controller 252 and the dummy word line selector 254 shown in FIG. 6 will be provided to each of the plurality of memory blocks of the memory cell array 210. In this case, in response to the dummy selection information DSI, dummy word lines of each of the plurality of memory blocks may be independently selected. That is, even when threshold voltage distributions of memory cells connected to word lines adjacent to the selection lines SSL and GSL are different in each memory block, the threshold voltages of the memory cells MC of the memory cell array 210 may be different. Dispersion will improve.

더미 워드 라인 제어기(252)는 저장 회로(미도시)로부터 더미 선택 정보(DSI)를 제공받을 것이다. 예시적으로, 저장 회로는 퓨즈 박스일 것이다. 블록 선택 신호(BS)가 전달되면, 더미 워드 라인 제어기(252)는 선택된 메모리 블록에 대응하는 퓨즈가 커팅되어 있는지의 여부를 판별할 것이다. 예시적으로, 대응하는 퓨즈를 통해 전원 전압(Vcc)이 전달되면, 대응하는 퓨즈는 연결되어 있는 것으로 판별될 것이다. 이때, 더미 워드 라인 선택 회로(252)는 제어 신호(S)로서 로직 하이를 출력할 것이다. 대응하는 퓨즈를 통해 전원 전압(Vcc)이 전달되지 않으면, 대응하는 퓨즈는 커팅되어 있는 것으로 판별될 것이다. 이때, 더미 워드 라인 선택 회로(252)는 제어 신호(S)로서 로직 로우를 출력할 것이다.The dummy word line controller 252 may receive dummy selection information DSI from a storage circuit (not shown). By way of example, the storage circuit would be a fuse box. When the block select signal BS is transmitted, the dummy word line controller 252 may determine whether a fuse corresponding to the selected memory block is cut. By way of example, if a power supply voltage Vcc is delivered through a corresponding fuse, it will be determined that the corresponding fuse is connected. In this case, the dummy word line selection circuit 252 may output a logic high as the control signal S. FIG. If the power supply voltage Vcc is not delivered through the corresponding fuse, it will be determined that the corresponding fuse has been cut. At this time, the dummy word line selection circuit 252 will output a logic low as the control signal (S).

다른 예로써, 더미 선택 정보(DSI)는 메모리 셀 어레이(210)에 저장될 것이다. 이때, 더미 워드 라인 제어기(252)는 래치를 포함할 것이다. 플래시 메모리 장치(200)에 전원이 공급되면, 파워 온 리셋 동작(power on reset) 및 파워 온 리드(power on read) 동작이 수행될 것이다. 파워 온 리드 동작 시에, 메모리 셀 어레이(210)에 저장된 더미 선택 정보(DSI)가 읽어질 것이다. 더미 선택 정보는 대응 하는 메모리 블록(BKL)의 더미 워드 라인 제어기(252)의 래치에 저장될 것이다. 블록 선택 신호(BS)가 전달되면, 더미 워드 라인 제어기(252)는 래치에 저장되어 있는 더미 선택 정보(DSI)를 제어 신호(S)로서 출력할 것이다.As another example, the dummy selection information DSI may be stored in the memory cell array 210. In this case, the dummy word line controller 252 may include a latch. When power is supplied to the flash memory device 200, a power on reset operation and a power on read operation may be performed. In the power on read operation, the dummy selection information DSI stored in the memory cell array 210 may be read. The dummy selection information may be stored in the latch of the dummy word line controller 252 of the corresponding memory block BKL. When the block select signal BS is transferred, the dummy word line controller 252 may output the dummy select information DSI stored in the latch as the control signal S. FIG.

더미 선택 정보(DSI)는 플래시 메모리 장치(200)의 테스트를 통해 결정될 것이다. 플래시 메모리 장치(200)의 테스트 동작 시에, 복수의 메모리 블록들 각각의 워드 라인들(L1~Lk)에 연결된 메모리 셀들의 문턱 전압 산포가 측정될 것이다. 테스트 결과를 이용하여, 퓨즈 박스 또는 메모리 셀 어레이(210)에 더미 선택 정보(DSI)가 저장될 것이다.The dummy selection information DSI may be determined through a test of the flash memory device 200. In a test operation of the flash memory device 200, threshold voltage distributions of memory cells connected to word lines L1 to Lk of each of the plurality of memory blocks may be measured. Using the test result, dummy selection information DSI may be stored in the fuse box or the memory cell array 210.

예시적으로, 선택 라인들(SSL, GSL)에 인접하지 않은 메모리 셀들의 문턱 전압 산포와 비교하여, 스트링 선택 라인(SSL)에 인접한 메모리 셀들의 문턱 전압 산포가 접지 선택 라인(GSL)에 인접한 메모리 셀들의 문턱 전압 산포보다 상대적으로 큰 차이를 나타내는 메모리 블록에 대응하는 더미 선택 정보(DSI)는 로직 로우로 설정될 것이다. 반대의 경우, 더미 선택 정보(DSI)는 로직 하이로 설정될 것이다.In exemplary embodiments, the threshold voltage distribution of the memory cells adjacent to the string selection line SSL may be compared to the ground selection line GSL in comparison with the threshold voltage distribution of the memory cells not adjacent to the selection lines SSL and GSL. The dummy selection information DSI corresponding to the memory block representing a difference that is relatively larger than the threshold voltage distribution of the cells may be set to a logic low. In the opposite case, the dummy selection information DSI will be set to logic high.

도 7은 도 6에 도시된 메모리 셀 어레이(210)의 메모리 블록(BLK) 및 메모리 블록(BLK)에 대응하는 더미 워드 라인 선택 회로(250)의 구성 요소들의 다른 실시 예를 보여주는 회로도이다. 도 7에서, 더미 워드 라인 선택기(254')는 워드 라인들(L1~Lk)을 노멀 워드 라인들(NA1~NAm) 또는 더미 워드 라인들(DA1~DA4)로 선택할 것이다. 워드 라인들(L1~Lk) 중 더미 워드 라인들(DA1~DA4)로 선택되는 워드 라인들의 수는 3 개일 것이다.FIG. 7 is a circuit diagram illustrating another example of components of the memory block BLK and the dummy word line selection circuit 250 corresponding to the memory block BLK of the memory cell array 210 illustrated in FIG. 6. In FIG. 7, the dummy word line selector 254 ′ selects the word lines L1 to Lk as normal word lines NA1 to NAm or dummy word lines DA1 to DA4. The number of word lines selected as dummy word lines DA1 to DA4 among the word lines L1 to Lk may be three.

제어 신호(S)가 로직 하이이면, 워드 라인들(L0, L1, Lk)은 더미 워드 라인 들(DA1, DA2, DA3)로 선택될 것이다. 제어 신호(S)가 로직 로우이면, 워드 라인들(L0, Lk-1, Lk)은 더미 워드 라인들(DA2, DA3, DA4)로 선택될 것이다. 선택 라인(SSL, GSL)에 인접한 메모리 셀들 중 선택 라인들(SSL, GSL)에 인접하지 않은 메모리 셀들의 문턱 전압 산포와 비교하여 더 큰 차이를 나타내는 문턱 전압을 갖는 메모리 셀들 쪽에서 더 많은 수의 더미 워드 라인들이 선택될 것이다.When the control signal S is logic high, the word lines L0, L1, and Lk may be selected as dummy word lines DA1, DA2, and DA3. If the control signal S is logic low, the word lines L0, Lk-1, and Lk will be selected as dummy word lines DA2, DA3, and DA4. Larger number of dummy on the side of memory cells with threshold voltages showing a greater difference compared to the threshold voltage distribution of memory cells adjacent to select lines SSL and GSL that are not adjacent to select lines SSL and GSL. Word lines will be selected.

예시적으로, 선택 라인들(SSL, GSL)에 인접하지 않은 메모리 셀들의 문턱 전압 산포와 비교하여, 스트링 선택 라인(SSL)에 인접한 메모리 셀들의 문턱 전압 산포가 접지 선택 라인(GSL)에 인접한 메모리 셀들의 문턱 전압 산포보다 더 큰 차이를 나타내는 경우, 스트링 선택 라인(SSL)에 인접한 두 개의 워드 라인들(Lk-1, Lk)이 더미 워드 라인들로 선택되고, 접지 선택 라인(GSL)에 인접한 하나의 워드 라인(L1)이 더미 워드 라인으로 선택될 것이다. 반대의 경우, 스트링 선택 라인(SSL)에 인접한 하나의 워드 라인(Lk)이 더미 워드 라인으로 선택되고, 접지 선택 라인(GSL)에 인접한 두 개의 워드 라인들(L1, L2)이 더미 워드 라인들로 선택될 것이다.In exemplary embodiments, the threshold voltage distribution of the memory cells adjacent to the string selection line SSL may be compared to the ground selection line GSL in comparison with the threshold voltage distribution of the memory cells not adjacent to the selection lines SSL and GSL. If the difference is greater than the threshold voltage distribution of the cells, two word lines Lk-1, Lk adjacent to the string select line SSL are selected as dummy word lines, and adjacent to the ground select line GSL. One word line L1 will be selected as a dummy word line. In the opposite case, one word line Lk adjacent to the string select line SSL is selected as a dummy word line, and two word lines L1 and L2 adjacent to the ground select line GSL are dummy word lines. Will be selected.

도 6을 참조하여 상술한 바와 같이, 더미 워드 라인들(DA1~DA4)은 접지 전압에 연결되고, 워드 라인들(L1~Lk) 중 더미 워드 라인들로 선택된 워드 라인들에 연결된 메모리 셀들은 소거된 상태를 유지할 것이다. 메모리 블록(BLK)의 복수의 워드 라인들(L1~Lk) 중 더미 워드 라인들을 선택하는 동작은 복수의 메모리 블록들 각각에 대해 독립적으로 수행될 것이다. 제어 신호(S)를 생성하기 위한 더미 선택 정보(DSI)는 퓨즈 박스와 같은 저장 회로 또는 메모리 셀 어레이에 저장될 것이다. 또한, 더미 선택 정보(DSI)는 플래시 메모리 장치(200)의 테스트를 통해 결정될 것이다. 예시적으로, 메모리 셀 어레이(210')의 복수의 메모리 블록들 각각의 복수의 워드 라인들(L1~Lk)에 연결된 메모리 셀들의 문턱 전압 산포를 측정함으로써 결정될 것이다.As described above with reference to FIG. 6, the dummy word lines DA1 to DA4 are connected to the ground voltage, and the memory cells connected to the word lines selected as the dummy word lines among the word lines L1 to Lk are erased. Will remain. The operation of selecting dummy word lines among the plurality of word lines L1 to Lk of the memory block BLK may be independently performed for each of the plurality of memory blocks. The dummy selection information DSI for generating the control signal S may be stored in a storage circuit such as a fuse box or a memory cell array. In addition, the dummy selection information DSI may be determined through a test of the flash memory device 200. In exemplary embodiments, the threshold voltage distribution of the memory cells connected to the plurality of word lines L1 to Lk of each of the plurality of memory blocks of the memory cell array 210 ′ may be determined.

본 발명에 따르면, 더미 선택 정보(DSI)에 따라 복수의 워드 라인들 중 더미 워드 라인들이 선택된다. 선택 라인들에 인접한 메모리 셀들 중 선택 라인들에 인접하지 않은 메모리 셀들의 문턱 전압 산포와 비교하여 상대적으로 큰 차이를 나타내는 문턱 전압을 갖는 메모리 셀들에 연결된 워드 라인들이 더미 워드 라인들로 선택된다. 따라서, 불휘발성 메모리 장치의 문턱 전압 산포가 개선되고, 수율이 향상된다.According to the present invention, dummy word lines are selected among the plurality of word lines according to the dummy selection information DSI. Among the memory cells adjacent to the selection lines, word lines connected to memory cells having threshold voltages representing a relatively large difference compared to threshold voltage distributions of memory cells not adjacent to the selection lines are selected as dummy word lines. Thus, the threshold voltage distribution of the nonvolatile memory device is improved, and the yield is improved.

도 8은 본 발명에 따른 본 발명에 따른 플래시 메모리 장치(200)를 포함하는 컴퓨팅 시스템(300)을 보여주는 블록도이다. 도 8을 참조하면, 본 발명에 따른 컴퓨팅 시스템(300)은 중앙 처리 장치(310), 램(320), 사용자 인터페이스(330), 전원(340), 그리고 메모리 시스템(10)을 포함한다.8 is a block diagram illustrating a computing system 300 including a flash memory device 200 according to the present invention. Referring to FIG. 8, the computing system 300 according to the present invention includes a central processing unit 310, a RAM 320, a user interface 330, a power source 340, and a memory system 10.

메모리 시스템(10)은 본 발명에 따른 메모리 컨트롤러(100) 및 플래시 메모리 장치(200)를 포함한다. 메모리 시스템(10)은 시스템 버스(350)를 통해, 전원(340), 중앙처리장치(310), 램(320), 그리고 사용자 인터페이스(330)에 전기적으로 연결된다. 사용자 인터페이스(330)를 통해 제공되거나, 중앙 처리 장치(310)에 의해서 처리된 데이터는 메모리 컨트롤러(100)를 통해 플래시 메모리 장치(200)에 저장된다. The memory system 10 includes a memory controller 100 and a flash memory device 200 according to the present invention. The memory system 10 is electrically connected to the power source 340, the central processing unit 310, the RAM 320, and the user interface 330 through the system bus 350. Data provided through the user interface 330 or processed by the CPU 310 is stored in the flash memory device 200 through the memory controller 100.

메모리 시스템(10)이 반도체 디스크 장치(SSD)로 장착되는 경우, 컴퓨팅 시스템(300)의 부팅 속도가 획기적으로 빨라질 수 있다. 도면에 도시되지 않았지만, 본 발명에 따른 시스템은 응용 칩셋(Application Chipset), 카메라 이미지 프로세서(Camera Image Processor) 등을 더 포함할 수 있음은 이 분야의 통상적인 지식을 습득한 자들에게 이해될 것이다.When the memory system 10 is mounted as a semiconductor disk device (SSD), the booting speed of the computing system 300 may be dramatically increased. Although not shown in the drawings, it will be understood by those skilled in the art that the system according to the present invention may further include an application chipset, a camera image processor, and the like.

상술한 실시 예에서, 본 발명에 따른 플래시 메모리 장치는 복수의 워드 라인들 중 하나 또는 세 개를 더미 워드 라인으로 선택한다. 그러나, 본 발명에 따른 더미 워드 라인들의 수는 하나 또는 세 개로 한정되지 않음이 이해될 것이다. 상술한 실시 예에서, 본 발명에 따른 더미 워드 라인 선택기는 복수의 NMOS 트랜지스터들 및 복수의 PMOS 트랜지스터들로 구성되는 것으로 설명되었다. 그러나, 본 발명에 따라 더미 워드 라인들을 선택하는 더미 워드 라인 선택기는 복수의 NMOS 트랜지스터들 및 복수의 PMOS 트랜지스터들로 구성되는 것으로 한정되지 않는다. 상술한 실시 예에서, 본 발명에 따른 더미 선택 정보는 퓨즈 박스 또는 메모리 셀 어레이에 저장되는 것으로 설명되었다. 그러나, 본 발명에 따른 더미 선택 정보는 퓨즈 박스 또는 메모리 셀 어레이에 저장되는 것으로 한정되지 않는다. 본 발명의 기술적 범위 내에서, 본 발명은 다양하게 변형 또는 응용될 수 있음이 이해될 것이다.In the above-described embodiment, the flash memory device according to the present invention selects one or three of the plurality of word lines as dummy word lines. However, it will be appreciated that the number of dummy word lines in accordance with the present invention is not limited to one or three. In the above-described embodiment, the dummy word line selector according to the present invention has been described as being composed of a plurality of NMOS transistors and a plurality of PMOS transistors. However, the dummy word line selector for selecting dummy word lines according to the present invention is not limited to being composed of a plurality of NMOS transistors and a plurality of PMOS transistors. In the above-described embodiment, it is described that the dummy selection information according to the present invention is stored in a fuse box or a memory cell array. However, the dummy selection information according to the present invention is not limited to being stored in a fuse box or a memory cell array. It is to be understood that the present invention may be variously modified or applied within the technical scope of the present invention.

본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시 예에 관하여 설명하였으나, 본 발명의 범위와 기술적 사상에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 자명하다. 그러므로 본 발명의 범위는 상술한 실시 예에 국한되어 정해져서는 안되며 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 발명의 특허청구범위와 균등한 것들 에 의해 정해져야 한다.In the detailed description of the present invention, specific embodiments have been described, but it is obvious that various modifications can be made without departing from the scope and spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the above-described embodiments, but should be defined by the equivalents of the claims of the present invention as well as the following claims.

도 1은 플래시 메모리 장치를 보여주는 블록도이다.1 is a block diagram illustrating a flash memory device.

도 2는 도 1의 플래시 메모리 장치의 메모리 셀들의 문턱 전압 산포를 보여주는 다이어그램이다.FIG. 2 is a diagram illustrating a threshold voltage distribution of memory cells of the flash memory device of FIG. 1.

도 3은 본 발명에 따른 메모리 시스템을 보여주는 블록도이다.3 is a block diagram illustrating a memory system according to the present invention.

도 5는 도 4의 메모리 셀 어레이 및 더미 워드 라인 선택 회로를 보여주는 블록도이다.FIG. 5 is a block diagram illustrating a memory cell array and a dummy word line selection circuit of FIG. 4.

도 6은 도 5에 도시된 메모리 셀 어레이의 메모리 블록 및 메모리 블록에 대응하는 더미 워드 라인 선택 회로의 구성 요소들을 상세하게 보여주는 회로도이다.FIG. 6 is a circuit diagram illustrating in detail the components of the memory block and the dummy word line selection circuit corresponding to the memory block of the memory cell array shown in FIG. 5.

도 7은 도 6에 도시된 메모리 셀 어레이의 메모리 블록 및 메모리 블록에 대응하는 더미 워드 라인 선택 회로의 구성 요소들의 다른 실시 예를 보여주는 회로도이다.FIG. 7 is a circuit diagram illustrating another example of components of a memory block of the memory cell array illustrated in FIG. 6 and a dummy word line selection circuit corresponding to the memory block.

Claims (14)

메모리 셀 어레이;Memory cell arrays; 상기 메모리 셀 어레이에 연결되는 복수의 워드 라인들; 및A plurality of word lines connected to the memory cell array; And 상기 복수의 워드 라인들을 통해 상기 메모리 셀 어레이에 연결되는 더미 워드 라인 선택 회로를 포함하고,A dummy word line selection circuit connected to the memory cell array through the plurality of word lines, 상기 더미 워드 라인 선택 회로는 상기 복수의 워드 라인들 중 하나 또는 그 이상을 더미 워드 라인들로 선택하는 불휘발성 메모리 장치.The dummy word line selection circuit selects one or more of the plurality of word lines as dummy word lines. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 메모리 셀 어레이는The memory cell array 각각이 상기 복수의 워드 라인들에 각각 연결된 복수의 메모리 셀들을 갖는 셀 스트링들;Cell strings each having a plurality of memory cells each connected to the plurality of word lines; 스트링 선택 라인에 연결되며, 상기 셀 스트링들 및 비트 라인들 사이에 각각 연결된 스트링 선택 트랜지스터들; 및String select transistors connected to a string select line and respectively connected between the cell strings and the bit lines; And 접지 선택 라인에 연결되며, 상기 셀 스트링들 및 공통 소스 라인 사이에 각각 연결된 접지 선택 트랜지스터들을 포함하는 불휘발성 메모리 장치.And a ground select transistor connected to a ground select line and connected between the cell strings and the common source line, respectively. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 더미 워드 라인 선택 회로는 상기 복수의 워드 라인들 중 상기 접지 선 택 라인 또는 상기 스트링 선택 라인에 인접한 워드 라인을 더미 워드 라인으로 선택하는 불휘발성 메모리 장치.The dummy word line selection circuit selects a word line adjacent to the ground selection line or the string selection line among the plurality of word lines as a dummy word line. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 더미 워드 라인 선택 회로는The dummy word line selection circuit is 상기 스트링 선택 라인 및 상기 접지 선택 라인에 인접한 메모리 셀들 중 상기 선택 라인들에 인접하지 않은 메모리 셀들의 문턱 전압 산포와 상대적으로 큰 차이를 나타내는 문턱 전압 산포를 갖는 메모리 셀들에 연결된 워드 라인을 상기 더미 워드 라인으로 선택하는 불휘발성 메모리 장치.The dummy word includes a word line connected to memory cells having a threshold voltage distribution indicating a relatively large difference from a threshold voltage distribution of memory cells not adjacent to the selection lines among the memory cells adjacent to the string selection line and the ground selection line. Nonvolatile memory device selected by line. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 더미 워드 라인 선택 회로는The dummy word line selection circuit is 상기 스트링 선택 라인에 인접한 하나 또는 그 이상의 워드 라인들 및 상기 접지 선택 라인에 인접한 하나 또는 그 이상의 워드 라인들을 상기 더미 워드 라인들로 선택하는 불휘발성 메모리 장치.And one or more word lines adjacent to the string select line and one or more word lines adjacent to the ground select line as the dummy word lines. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, wherein 상기 스트링 선택 라인에 인접한 더미 워드 라인들의 수와 상기 접지 선택 라인에 인접한 더미 워드 라인들의 수는 상이한 불휘발성 메모리 장치.And a number of dummy word lines adjacent to the string select line and a number of dummy word lines adjacent to the ground select line are different. 복수의 메모리 블록들로 구성되는 메모리 셀 어레이;A memory cell array consisting of a plurality of memory blocks; 상기 복수의 메모리 블록들 각각에 연결되는 복수의 워드 라인들; 및A plurality of word lines connected to each of the plurality of memory blocks; And 상기 복수의 워드 라인들을 통해 상기 복수의 메모리 블록들 각각에 연결되는 더미 워드 라인 선택 회로를 포함하고,A dummy word line selection circuit connected to each of the plurality of memory blocks through the plurality of word lines, 상기 더미 워드 라인 선택 회로는 상기 복수의 메모리 블록들 각각의 상기 복수의 워드 라인들 중 하나 또는 그 이상을 더미 워드 라인들로 선택하되,The dummy word line selection circuit selects one or more of the plurality of word lines of each of the plurality of memory blocks as dummy word lines, 상기 복수의 메모리 블록들 각각의 상기 더미 워드 라인들을 선택하는 동작은 독립적으로 수행되는 불휘발성 메모리 장치.And selecting the dummy word lines of each of the plurality of memory blocks is independently performed. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 더미 워드 라인 선택 회로는 상기 메모리 블록들 각각에 연결되며, 상기 메모리 블록들 각각의 상기 복수의 워드 라인들 중 상기 하나 또는 그 이상을 더미 워드 라인들로 선택하도록 구성되는 복수의 더미 워드 라인 선택기들을 포함하는 불휘발성 메모리 장치.The dummy word line selection circuit is connected to each of the memory blocks, the plurality of dummy word line selectors configured to select the one or more of the plurality of word lines of each of the memory blocks as dummy word lines Nonvolatile memory device comprising a. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 복수의 메모리 블록들 각각의 상기 복수의 워드 라인들 중 상기 하나 또는 그 이상을 더미 워드 라인들로 선택하기 위한 더미 선택 정보를 저장하도록 구성되는 저장 회로를 더 포함하는 불휘발성 메모리 장치.And a storage circuit configured to store dummy selection information for selecting the one or more of the plurality of word lines of each of the plurality of memory blocks as dummy word lines. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 저장 회로는 상기 복수의 메모리 블록들에 각각 대응하는 복수의 퓨즈들을 포함하고,The storage circuit includes a plurality of fuses respectively corresponding to the plurality of memory blocks, 상기 더미 선택 정보는 상기 복수의 퓨즈들의 커팅을 통해 상기 저장 회로에 저장되는 불휘발성 메모리 장치.The dummy selection information is stored in the storage circuit through the cutting of the plurality of fuses. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 더미 워드 라인 선택 회로는 어드레스 비교 회로를 더 포함하고,The dummy word line selection circuit further comprises an address comparison circuit, 상기 어드레스 비교 회로는 외부로부터 블록 어드레스를 전달받고, 상기 더미 선택 정보 중 상기 전달된 블록 어드레스에 대응하는 퓨즈의 커팅 여부를 나타내는 정보를 상기 복수의 더미 워드 라인 선택기들 중 상기 전달된 블록 어드레스에 대응하는 더미 워드 라인 선택기에 전달하는 불휘발성 메모리 장치.The address comparison circuit receives a block address from an external source and corresponds to the transferred block address among the dummy word line selectors with information indicating whether a fuse corresponding to the transferred block address is cut among the dummy selection information. A nonvolatile memory device for transferring a dummy word line selector. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 더미 선택 정보는 상기 메모리 셀 어레이에 저장되고,The dummy selection information is stored in the memory cell array, 상기 복수의 더미 워드 라인 선택기들 각각은 래치를 포함하고,Each of the plurality of dummy word line selectors includes a latch, 상기 불휘발성 메모리 장치의 파워 온 시에, 상기 더미 선택 정보는 상기 복수의 더미 워드 라인 선택기들 중 대응하는 더미 워드 라인 선택기의 래치에 각각 저장되는 불휘발성 메모리 장치.And, upon powering on the nonvolatile memory device, the dummy selection information is stored in a latch of a corresponding dummy word line selector of the plurality of dummy word line selectors, respectively. 복수의 워드 라인들을 포함하는 복수의 메모리 블록들로 구성된 불휘발성 메모리 장치의 동작 방법에 있어서:A method of operating a nonvolatile memory device including a plurality of memory blocks including a plurality of word lines, the method comprising: 읽기 그리고/또는 쓰기 동작을 위한 블록 어드레스를 전달받는 단계; 및Receiving a block address for a read and / or write operation; And 상기 복수의 메모리 블록들 중 상기 블록 어드레스에 대응하는 메모리 블록의 상기 복수의 워드 라인들 중 하나 또는 그 이상을 더미 워드 라인들로 선택하는 단계를 포함하는 동작 방법.Selecting one or more of the plurality of word lines of the memory block corresponding to the block address of the plurality of memory blocks as dummy word lines. 불휘발성 메모리 장치; 그리고Nonvolatile memory devices; And 상기 불휘발성 메모리 장치의 동작을 제어하도록 구성된 메모리 컨트롤러를 포함하고,A memory controller configured to control an operation of the nonvolatile memory device; 상기 불휘발성 메모리 장치는The nonvolatile memory device 메모리 셀 어레이;Memory cell arrays; 상기 메모리 셀 어레이에 연결되는 복수의 워드 라인들; 및A plurality of word lines connected to the memory cell array; And 상기 복수의 워드 라인들을 통해 상기 메모리 셀 어레이에 연결되는 더미 워드 라인 선택 회로를 포함하고,A dummy word line selection circuit connected to the memory cell array through the plurality of word lines, 상기 더미 워드 라인 선택 회로는 상기 복수의 워드 라인들 중 하나 또는 그 이상을 더미 워드 라인들로 선택하는 메모리 시스템.And the dummy word line selection circuit selects one or more of the plurality of word lines as dummy word lines.
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