KR20090097450A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체 집적 회로에 관한 것으로, 구체적으로는 센스 앰프의 면적을 감소 및 공정 마진을 개선시킬 수 있는 반도체 집적 회로에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly, to a semiconductor integrated circuit capable of reducing the area of a sense amplifier and improving process margins.
도 1은 종래 기술에 따른 센스 앰프를 포함하는 반도체 집적 회로의 회로도이다.1 is a circuit diagram of a semiconductor integrated circuit including a sense amplifier according to the prior art.
도 1에 도시된 반도체 집적 회로는 복수의 셀 어레이(10) 및 센스 앰프(40)를 포함한다. The semiconductor integrated circuit shown in FIG. 1 includes a plurality of
상기 센스 앰프(40)는 제1 전극(RTO)의 레벨 및 상기 제2 전극(SB)의 레벨에 따라 비트라인(BL) 및 비트 바 라인(/BL)에 실린 데이터를 센싱 및 증폭한다. 상기 센스 앰프(40)는 제4 및 제5 엔모스 트랜지스터(N4,N5), 제1 및 제2 피모스 트랜지스터(P1,P2)를 포함한다. 상기 센스 앰프(40)는 상기 센스 앰프(40)의 양쪽의 셀 어레이(10)에 의해 공유(shared)되는 센스 앰프이다.The sense amplifier 40 senses and amplifies data carried on the bit line BL and the bit bar line / BL according to the level of the first electrode RTO and the level of the second electrode SB. The
도시하지 않았지만, 종래 기술에 따른 반도체 집적 회로는 이퀄라이징부, 비트라인 아이솔레이션부 및 칼럼 선택 트랜지스터부를 포함한다.Although not shown, the semiconductor integrated circuit according to the related art includes an equalizing unit, a bit line isolation unit, and a column select transistor unit.
상기 이퀄라이징부는 비트라인 이퀄라이징 신호(BLEQ)에 따라 상기 비트라 인(BL) 및 상기 비트 바 라인(/BL)을 이퀄라이징(equalizing)한다.The equalizing unit equalizes the bit line BL and the bit bar line / BL according to a bit line equalizing signal BLEQ.
상기 비트라인 아이솔레이션부는 비트라인 아이솔레이션 신호(BISH,BISL)에 따라 상기 비트라인쌍(BL,/BL)을 분기시킨다.The bit line isolation unit branches the bit line pairs BL and / BL according to bit line isolation signals BISH and BISL.
상기 칼럼 선택 트랜지스터부는 칼럼 선택 신호(Yi)에 따라 상기 비트라인(BL) 및 상기 비트 바 라인(/BL)에 실린 데이터를 세그먼트 입출력 라인쌍(SIO,/SIO)에 전송한다.The column select transistor unit transfers data carried on the bit line BL and the bit bar line / BL to segment input / output line pairs SIO and / SIO according to a column select signal Yi.
종래 기술에 따른 반도체 집적 회로는 상기 센스 앰프(40)를 구현하기 위해 엔모스 트랜지스터와 피모스 트랜지스터를 인접하게 배치한다. 상기 엔모스 트랜지스터 및 상기 피모스 트랜지스터는 쇼트 채널 효과(short channel effect)를 방지하기 위해 이온(ion) 임플란트(implant)로서 틸트 임플란트(tilt implant)를 수행하는 경우가 있다. 각 트랜지스터는 틸트 임플란트를 수행시 게이트 및 하드 마스크 등에 의한 수직 방향으로 증착된 물질의 높이 때문에 인접 트랜지스터끼리 일정 간격의 스페이스가 요구된다. 더구나, 각각의 트랜지스터의 웰(well) 타입이 다른 경우, 요구되는 스페이스는 더 증가되고, 공정 마진이 더 요구된다. In the semiconductor integrated circuit according to the related art, the NMOS transistor and the PMOS transistor are disposed adjacent to each other to implement the
상기 센스 앰프를 구성하는 상기 엔모스 트랜지스터 및 상기 피모스 트랜지스터는 서로 다른 타입의 웰에서 형성되므로 요구되는 스페이스는 더 증가된다. 이와 같이, 한정된 공간에서 상기 센스 앰프를 구현하기 위해 틸트 임플란트를 수행하게 되면 상부에 증착된 물질에 의해 임플란트 영역을 가리는 그림자 효과(shadowing effect)가 나타나는 문제점이 있다. Since the NMOS transistor and the PMOS transistor constituting the sense amplifier are formed in different types of wells, the required space is further increased. As such, when the tilt implant is performed to implement the sense amplifier in a limited space, there is a problem in that a shadowing effect that covers the implant region is formed by a material deposited thereon.
또한, 집적도가 높아질수록 반도체 집적 회로의 면적 감소의 필요성이 커지 므로 센스 앰프의 면적 감소의 필요성이 더 요구된다.In addition, the higher the degree of integration, the greater the necessity of reducing the area of the semiconductor integrated circuit, and therefore, the necessity of reducing the area of the sense amplifier is required.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 그림자 효과를 방지하고 공정 마진을 증가시키고 센스 앰프의 면적을 감소시킬 수 있는 반도체 집적 회로를 제공하는데 목적이 있다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object thereof is to provide a semiconductor integrated circuit capable of preventing shadow effects, increasing process margins, and reducing the area of a sense amplifier.
상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 반도체 집적 회로는 셀 어레이; 비트라인쌍을 통해 상기 셀 어레이의 일측에 연결되고 동일 타입의 제1 전송 소자로 구성된 제1 래치부; 및 상기 비트라인쌍을 통해 상기 셀 어레이의 타측에 연결되고 상기 제1 래치부와 상이한 타입의 제2 전송 소자로 구성된 제2 래치부를 포함하고, 상기 제1 래치부 및 상기 제2 래치부에 의해 상기 비트라인쌍에 실린 데이터를 센싱 및 증폭하는 것을 특징으로 한다.The semiconductor integrated circuit of the present invention for achieving the above technical problem is a cell array; A first latch unit connected to one side of the cell array through a bit line pair and configured of a first transmission element of the same type; And a second latch portion connected to the other side of the cell array through the bit line pair and configured of a second transmission element of a type different from the first latch portion, wherein the first latch portion and the second latch portion And sensing and amplifying data carried on the pair of bit lines.
또한, 본 발명에 따른 반도체 집적 회로의 다른 실시예는 복수개의 셀 어레이; 동일 타입의 제1 전송 소자로 구성된 복수개의 제1 래치부; 및 상기 제1 래치부와 상이한 타입의 제2 전송 소자로 구성된 복수개의 제2 래치부를 포함하고, 상기 복수개의 셀 어레이 사이마다 상기 제1 래치부와 상기 제2 래치부가 번갈아가며 연결되고, 각 셀 어레이는 양쪽에 배치된 상기 제1 래치부와 상기 제2 래치부에 의해 상기 복수개의 셀 어레이의 데이터를 증폭하는 것을 특징으로 한다.In addition, another embodiment of a semiconductor integrated circuit according to the present invention includes a plurality of cell arrays; A plurality of first latch units composed of the same type of first transmission element; And a plurality of second latch portions formed of a second transmission element of a different type from the first latch portion, wherein the first latch portion and the second latch portion are alternately connected between each of the plurality of cell arrays, and each cell The array may amplify data of the plurality of cell arrays by the first latch unit and the second latch unit disposed at both sides.
본 발명에 따른 반도체 집적 회로는 센스 앰프가 차지하는 면적이 감소된다.In the semiconductor integrated circuit according to the present invention, the area occupied by the sense amplifier is reduced.
또한, 본 발명에 따른 반도체 집적 회로는 서로 다른 타입의 트랜지스터가 인접 배치되지 않으므로 공정 마진이 개선되고, 그림자 효과(shadowing effect)를 방지할 수 있으며, 추가의 면적 감소의 효과가 있다.In addition, in the semiconductor integrated circuit according to the present invention, since different types of transistors are not disposed adjacent to each other, process margins can be improved, shadowing effects can be prevented, and further area reduction effects can be obtained.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명에 따른 반도체 집적 회로의 블록도이다.2 is a block diagram of a semiconductor integrated circuit in accordance with the present invention.
도 2에 도시된 반도체 집적 회로는 복수의 셀 어레이(100), 제1 래치부(110) 및 제2 래치부(120)를 포함한다.The semiconductor integrated circuit illustrated in FIG. 2 includes a plurality of
상기 셀 어레이(100)는 비트라인쌍(상기 비트라인쌍은 비트라인(BL) 및 비트 바 라인(/BL)을 포함한다)에 연결된다.The
상기 제1 래치부(110)는 상기 비트라인쌍(BL,/BL)을 통해 상기 셀 어레이(100)의 일측에 연결된다. 상기 제1 래치부(110)는 도 1의 센스 앰프를 구성하는 트랜지스터 중 엔모스 트랜지스터에 해당하는 구성이다.The
상기 제2 래치부(120)는 상기 비트라인쌍(BL,/BL)을 통해 상기 셀 어레이(100)의 타측에 연결된다. 상기 제2 래치부(120)는 도 1의 센스 앰프를 구성하는 트랜지스터 중 피모스 트랜지스터에 해당하는 구성이다.The
본 발명에 따른 반도체 집적 회로는 상기 제1 래치부(110) 및 상기 제2 래치부(120)에 의해 상기 비트라인쌍(BL,/BL)에 실린 데이터를 센싱 및 증폭한다.The semiconductor integrated circuit according to the present invention senses and amplifies data carried on the bit line pair BL / BL by the
상기 제1 래치부(110)는 제4 엔모스 트랜지스터(N4) 및 제5 엔모스 트랜지스 터(N5)를 포함한다.The
상기 제4 엔모스 트랜지스터(N4)는 게이트에 상기 비트 바 라인(/BL)이 연결되고 드레인이 제2 전극(SB)에 연결되고 소스가 상기 비트라인(BL)에 연결된다.The fourth NMOS transistor N4 has a gate connected to the bit bar line / BL, a drain connected to the second electrode SB, and a source connected to the bit line BL.
상기 제5 엔모스 트랜지스터(N5)는 게이트에 상기 비트라인(BL)이 연결되고 드레인이 상기 제2 전극(SB)에 연결되고 소스가 상기 비트 바 라인(/BL)에 연결된다.The fifth NMOS transistor N5 has a gate connected to the bit line BL, a drain connected to the second electrode SB, and a source connected to the bit bar line / BL.
상기 제2 래치부(120)는 제1 피모스 트랜지스터(P1) 및 제2 피모스 트랜지스터(P2)를 포함한다.The
상기 제1 피모스 트랜지스터(P1)는 소스에 제1 전극(RTO)이 연결되고 드레인에 상기 비트라인(BL)이 연결되고 게이트에 상기 비트 바 라인(/BL)이 연결된다.In the first PMOS transistor P1, a first electrode RTO is connected to a source, the bit line BL is connected to a drain, and the bit bar line / BL is connected to a gate.
상기 제2 피모스 트랜지스터(P2)는 소스에 상기 제1 전극(RTO)이 연결되고 드레인에 상기 비트 바 라인(/BL)이 연결되고 게이트에 상기 비트라인(BL)이 연결된다.In the second PMOS transistor P2, the first electrode RTO is connected to a source, the bit bar line / BL is connected to a drain, and the bit line BL is connected to a gate.
본 발명에 따른 반도체 집적 회로는 도 2에 도시하지 않았지만 프리차징부, 이퀄라이징부 및 칼럼 선택 트랜지스터부를 추가로 포함할 수 있다.Although not illustrated in FIG. 2, the semiconductor integrated circuit according to the present invention may further include a precharging unit, an equalizing unit, and a column select transistor unit.
상기 이퀄라이징부는 상기 비트라인쌍(BL,/BL)을 비트라인 이퀄라이징 신호(BLEQ)에 따라 이퀄라이징한다. The equalizing unit equalizes the bit line pair BL // BL according to a bit line equalizing signal BLEQ.
상기 프리차징부는 상기 비트라인쌍(BL,/BL)을 상기 비트라인 이퀄라이징 신호(BLEQ)에 따라 비트라인 프리차징 전압(VBLP)으로 프리차징한다. The precharging unit precharges the bit line pair BL // BL to a bit line precharging voltage VBLP according to the bit line equalizing signal BLEQ.
상기 칼럼 선택 트랜지스터부는 칼럼 선택 신호(Yi)에 따라 상기 비트 라인 쌍(BL,/BL)에 실린 데이터를 세그먼트 입출력 라인쌍(SIO,/SIO)에 전송한다.The column select transistor unit transfers the data loaded on the bit line pair BL, / BL to the segment input / output line pair SIO, / SIO according to the column select signal Yi.
도 2에 도시된 반도체 집적 회로의 동작을 설명하면 다음과 같다. The operation of the semiconductor integrated circuit illustrated in FIG. 2 will be described below.
먼저, 도시된 셀 어레이들(100) 중 가운데 도시된 셀 어레이(100)에 실린 데이터를 증폭하는 경우를 가정한다. 액티브 동작 모드에서, 워드라인이 활성화됨에 따라 상기 셀 어레이(100) 내의 셀에 실린 데이터가 상기 비트라인쌍(BL,/BL)으로 전송된다. 그리고, 상기 제1 전극(RTO)은 코어 전압을 입력받고 상기 제2 전극(SB)은 접지 전압을 입력받는다. 상기 제1 전극(RTO) 및 상기 제2 전극(SB)의 전압차가 발생하고, 상기 제4,제5 엔모스 트랜지스터(N4,N5) 및 상기 제1,제2 피모스 트랜지스터(P1,P2)가 활성화된다. 따라서, 상기 제1 래치부(110) 및 상기 제2 래치부(120)는 상기 비트라인쌍(BL,/BL)에 실린 데이터를 센싱 및 증폭한다.First, it is assumed that a case of amplifying data carried in the illustrated
또한, 프리차징 동작 모드에서, 상기 프리차징부는 상기 비트라인 이퀄라이징 신호(BLEQ)가 활성화됨에 따라 상기 비트라인쌍(BL,/BL)의 전압 레벨을 프리차징시킨다.In addition, in the precharging mode, the precharging unit precharges the voltage level of the pair of bit lines BL and / BL as the bit line equalizing signal BLEQ is activated.
리드 또는 라이트 동작 모드에서, 상기 칼럼 선택 신호(Yi)가 인에이블되면, 상기 칼럼 선택 트랜지스터부는 상기 비트라인쌍(BL,/BL)과 상기 세그먼트 입출력 라인쌍(SIO,/SIO)을 연결한다. In the read or write operation mode, when the column select signal Yi is enabled, the column select transistor unit connects the bit line pair BL, / BL and the segment input / output line pair SIO, / SIO.
종래 기술에서 센스 앰프가 셀 어레이를 기준으로 양방향에 하나씩 구비된다면 본 발명은 상기 셀 어레이(100)를 기준으로 한쪽은 종래의 센스 앰프의 절반에 해당하는 상기 제1 래치부(110)가 구비되고, 다른 한쪽은 종래의 센스 앰프의 나머지 절반에 해당하는 상기 제2 래치부(120)가 구비된다.In the prior art, if a sense amplifier is provided in one direction in both directions with respect to a cell array, the present invention is provided with the
본 발명에 따른 반도체 집적 회로는 셀 어레이(100), 제1 래치부(110), 셀 어레이(100), 제2 래치부(120), 셀 어레이(100),,,와 같은 순서로 반복시켜 구현할 수 있다. In the semiconductor integrated circuit according to the present invention, the
따라서, 본 발명에 따른 반도체 집적 회로는 종래 기술 대비 센스 앰프가 차지하는 면적을 약 2분의 1정도 감소시킬 수 있다. 또한, 본 발명은 종래와 같은 센스 앰프의 증폭 동작을 수행하면서도, 같은 타입의 트랜지스터끼리 배치함으로써 서로 다른 타입의 웰(well)을 형성하지 않아도 되기 때문에 공정 마진이 개선되고 추가의 면적 감소 효과가 있다. 또한, 본 발명은 틸트 임플란트시 스페이스가 확보되어 그림자 효과(shadowing effect)를 방지할 수 있다.Therefore, the semiconductor integrated circuit according to the present invention can reduce the area occupied by the sense amplifier by about one-half compared to the prior art. In addition, the present invention improves the process margin and further reduces the area since it is not necessary to form different types of wells by arranging transistors of the same type while performing the amplification operation of the conventional sense amplifier. . In addition, the present invention can secure the space during the tilt implant can prevent the shadowing effect (shadowing effect).
이와 같이, 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. As such, those skilled in the art will appreciate that the present invention can be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features thereof.
그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.Therefore, the above-described embodiments are to be understood as illustrative in all respects and not as restrictive. The scope of the present invention is shown by the following claims rather than the detailed description, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included in the scope of the present invention. do.
도 1은 종래 기술에 따른 반도체 집적 회로의 회로도, 1 is a circuit diagram of a semiconductor integrated circuit according to the prior art;
도 2 본 발명에 따른 반도체 집적 회로의 회로도이다.2 is a circuit diagram of a semiconductor integrated circuit according to the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호 설명><Description of Signs for Main Parts of Drawings>
10: 셀 어레이 40: 센스 앰프10: cell array 40: sense amplifier
100 : 셀 어레이 110 : 제1 래치부100: cell array 110: first latch portion
120 : 제2 래치부120: second latch portion
Claims (6)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080022589A KR20090097450A (en) | 2008-03-11 | 2008-03-11 | Semiconductor integrated circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020080022589A KR20090097450A (en) | 2008-03-11 | 2008-03-11 | Semiconductor integrated circuit |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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KR20090097450A true KR20090097450A (en) | 2009-09-16 |
Family
ID=41356814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080022589A KR20090097450A (en) | 2008-03-11 | 2008-03-11 | Semiconductor integrated circuit |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR20090097450A (en) |
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2008
- 2008-03-11 KR KR1020080022589A patent/KR20090097450A/en not_active Application Discontinuation
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