KR20090090107A - Mems switch - Google Patents

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KR20090090107A
KR20090090107A KR1020080015382A KR20080015382A KR20090090107A KR 20090090107 A KR20090090107 A KR 20090090107A KR 1020080015382 A KR1020080015382 A KR 1020080015382A KR 20080015382 A KR20080015382 A KR 20080015382A KR 20090090107 A KR20090090107 A KR 20090090107A
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Abstract

An MEMS(Micro Electro Mechanical System) switch is provided to compensate for the deformation of a cantilever unit due to the change of the ambient temperature by forming a compensation layer in a lower part of the cantilever unit. A cantilever unit(110) is supported by a support unit(100). A piezoelectric capacitor(120) is formed in an upper part of a cantilever unit. A contact electrode(130) is formed in the upper part of the cantilever unit. A compensation layer(150) is formed in the lower part of the cantilever unit to compensate for the deformation of the cantilever unit due to the change of the ambient temperature. The compensation layer is made of the material with a thermal expansion coefficient. Signal lines(200) is conducted by the contact of the contact electrode.

Description

멤즈 스위치 { MEMS switch }MEMS switch {MEMS switch}

본 발명은 온도 변화에 따른 변형을 보정할 수 있는 멤즈 스위치에 관한 것이다.The present invention relates to a MEMS switch capable of correcting deformation due to temperature change.

최근 IT 분야의 급속한 발달로, 정보 통신 전자 시스템의 소형화, 경량화, 고성능화가 요구됨에 따라 이 조건을 만족시키기 위한 부품소자들의 개발이 필요하게 되었다.Recently, due to the rapid development of the IT field, miniaturization, light weight, and high performance of information and communication electronic systems are required, and development of component devices to satisfy this condition is required.

현재, 정보 통신 시스템의 스위치로는 반도체 스위치가 널리 사용되고 있다. Currently, a semiconductor switch is widely used as a switch of an information communication system.

하지만, 반도체 스위치는 구동시 높은 전력손실, 왜곡현상, 비선형성, 높은 삽입손실 그리고 낮은 격리도 등의 많은 단점을 가지고 있다.However, semiconductor switches have many disadvantages such as high power loss, distortion, nonlinearity, high insertion loss and low isolation.

최근, 이러한 문제점을 해결하기 위해 미세 가공기술을 적용한 멤즈(Micro elctro mechanical systems, MEMS) 스위치에 대한 관심이 높아지고 있다.Recently, in order to solve this problem, interest in MEMs (Micro elctro mechanical systems) switches to which micromachining technology is applied is increasing.

멤즈 스위치는 반도체 스위치보다 저항 손실이 적고, 낮은 전력을 사용하며, 신호의 왜곡이 적고 격리도가 커서 디지털 제어형 안테나, 인공위성 시스템, 각종 이동 통신의 송수신 스위치 등 다양한 응용분야에 적용될 수 있다.MEMS switches have a lower resistance loss, lower power, and less signal distortion and higher isolation than semiconductor switches, and can be applied to various applications such as digitally controlled antennas, satellite systems, and transmission / reception switches for various mobile communications.

기계적 작동을 통하여 RF 전송선에서 회로를 단락(Short) 또는 오픈(Open)시키는 부품소자이다.It is a component device that short-circuits or opens a circuit in an RF transmission line through mechanical operation.

멤즈 스위치는 구동 방식에 따라 정전기력 스위치와 압전 스위치 등으로 나뉘어진다.MEMs switch is divided into electrostatic force switch and piezoelectric switch according to the driving method.

도 1은 종래 기술에 따른 멤즈 스위치의 개략적인 구성을 도시한 사시도로서, 종래 기술의 멤즈 스위치는 지지부(10)에 일측이 고정된 캔틸레버(11)와, 상기 캔틸레버(11)에 힌지(12)를 통하여 연결된 접촉전극(13)과, 상기 접촉전극(13)의 접촉으로 도통되는 신호 전송선들(21,22)로 구성된다.1 is a perspective view showing a schematic configuration of a MEMS switch according to the prior art, the prior art MEMS switch is a cantilever 11 fixed to one side to the support 10, the hinge 12 to the cantilever 11 The contact electrode 13 is connected to each other and the signal transmission lines 21 and 22 are connected to each other by the contact of the contact electrode 13.

이때, 상기 캔틸레버(11)가 구동부의 구동력에 의해 휘어지면, 상기 접촉전극은 캔틸레버(11)의 힘을 상기 힌지(12)로부터 전달받아 상기 신호 전송선들(21,22)에 접촉되게 된다.In this case, when the cantilever 11 is bent by the driving force of the driving unit, the contact electrode receives the force of the cantilever 11 from the hinge 12 to be in contact with the signal transmission lines 21 and 22.

그러므로, 멤즈 스위치는 끊어져 있던 신호 전송선들(21,22)이 연결되게 된다.Therefore, the MEMS switch is connected to the disconnected signal transmission lines (21, 22).

상기 멤즈 스위치의 구동부는 정전기력, 전자기력, 열 및 압전력에 의해 동작된다.The driving unit of the MEMS switch is operated by the electrostatic force, electromagnetic force, heat and piezoelectric force.

그리고, 구동부가 동작하지 않을 경우, 상기 신호전송선들(21,22)은 오픈 상태가 된다.When the driver does not operate, the signal transmission lines 21 and 22 are in an open state.

도 2는 종래 기술에 따른 멤즈 스위치에서 온도 변화에 따라 캔틸레버의 변형이 발생되는 것을 설명하기 위한 개략적인 단면도로서, 압전 구동형 멤즈 스위치는 지지부(50)와; 상기 지지부(50)에 지지된 캔틸레버부(51)와; 상기 캔틸레버부(51) 상부에 형성된 압전 캐패시터(52)와; 상기 캔틸레버부(51) 선단 상부에 형성된 접촉 전극(53)과; 상기 접촉 전극(53)의 접촉으로 도통되는 신호선들(55)로 구성된다.Figure 2 is a schematic cross-sectional view for explaining that the deformation of the cantilever occurs in accordance with the temperature change in the MEMS switch according to the prior art, the piezoelectric drive type MEMS switch has a support (50); A cantilever portion 51 supported by the support portion 50; A piezoelectric capacitor 52 formed on the cantilever portion 51; A contact electrode 53 formed on an upper end of the cantilever portion 51; The signal lines 55 are connected to each other by the contact electrode 53.

여기서, 상기 신호선들(55)은 한 쌍으로 구성되어 있다.Here, the signal lines 55 are composed of a pair.

이러한, 압전 구동형 멤즈 스위치는 여러 재료들이 층을 이루고 있으므로, 환경 온도 변화에 따라 각 층 재료의 열팽창 계수 차이에 의해 변형(Deflection)이 발생하게 된다.Since the piezoelectric driven MEMS switch is formed of various materials, deformation occurs due to a difference in thermal expansion coefficient of each layer material according to a change in environmental temperature.

그러므로, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 압전 캐패시터(52)를 구동시키지 않았음에도 불구하고, 상기 캔틸레버부(51)는 휘어져서 상기 접촉 전극(53)과 상기 신호선들(55) 사이의 간격이 'G1'에서 'G2'로 변화된다.Therefore, as shown in FIG. 2, even though the piezoelectric capacitor 52 is not driven, the cantilever part 51 is bent so that the gap between the contact electrode 53 and the signal lines 55 is maintained. It changes from 'G1' to 'G2'.

이로 인해 신호선들과 스위치 접촉 전극간에 원치 않는 컨택(Contact)이 발생되거나 또는 컨택에 실패하게 된다.As a result, an unwanted contact is generated between the signal lines and the switch contact electrode or the contact fails.

그리고, 신호선들과 스위치 접점간에 컨택이 이루어지더라도 접촉력이 약해지는 문제점이 발생한다.In addition, even if a contact is made between the signal lines and the switch contact, a problem occurs that the contact force is weakened.

본 발명은 멤즈 스위치를 구성하는 재료들의 열팽창 계수 차이에 의해 발생되는 변형으로 신뢰성을 저하시키는 문제를 해결하는 것이다.The present invention is to solve the problem of lowering the reliability by the deformation caused by the difference in the coefficient of thermal expansion of the materials constituting the MEMS switch.

본 발명의 바람직한 양태(樣態)는, According to a preferred aspect of the present invention,

지지부와; A support;

상기 지지부에 지지된 캔틸레버부와; A cantilever portion supported by the support portion;

상기 캔틸레버부 상부에 형성된 압전 캐패시터와; A piezoelectric capacitor formed on the cantilever portion;

상기 캔틸레버부 상부에 형성된 접촉 전극과; A contact electrode formed on the cantilever portion;

주위 온도 변화에 의해 상기 캔틸레버부의 휘어지는 변형을 보상하도록 상기 캔틸레버부 하부에 형성된 보상층과; A compensation layer formed below the cantilever portion to compensate for the bending deformation of the cantilever portion by the ambient temperature change;

상기 접촉 전극의 접촉으로 도통되는 신호선들을 포함하여 구성된 멤즈 스위치가 제공된다.There is provided a MEMS switch including signal lines which are conducted by the contact of the contact electrode.

본 발명의 바람직한 다른 양태(樣態)는, Another preferable aspect of this invention is that

제 1 지지부와, 상기 제 1 지지부에 지지된 제 1 캔틸레버부와, 상기 제 1 캔틸레버부 상부에 형성된 제 1 압전 캐패시터와, 상기 제 1 캔틸레버부 상부에 형성된 접촉 전극으로 구성된 제 1 캔틸레버 구조물과; A first cantilever structure including a first support portion, a first cantilever portion supported on the first support portion, a first piezoelectric capacitor formed on the first cantilever portion, and a contact electrode formed on the first cantilever portion;

제 2 지지부와, 상기 제 2 지지부에 지지된 제 2 캔틸레버부와, 상기 제 2 캔틸레버부 상부에 형성된 제 2 압전 캐패시터와, 상기 제 2 캔틸레버부 하부에 형 성되어, 상기 접촉 전극의 접촉으로 도통되는 신호선들로 구성된 제 2 캔틸레버 구조물로 이루어진 멤즈 스위치가 제공된다.A second support portion, a second cantilever portion supported by the second support portion, a second piezoelectric capacitor formed on the second cantilever portion, and a lower portion of the second cantilever portion, and are electrically conductive by contact with the contact electrode. There is provided a MEMS switch comprising a second cantilever structure composed of signal lines.

본 발명의 바람직한 또 다른 양태(樣態)는, Another preferred embodiment of the present invention,

제 1 지지부와, 상기 제 1 지지부에 지지된 제 1 캔틸레버부와, 상기 제 1 캔틸레버부 상부에 형성된 제 1 압전 캐패시터로 구성된 제 1 캔틸레버 구조물과;A first cantilever structure composed of a first support portion, a first cantilever portion supported on the first support portion, and a first piezoelectric capacitor formed on the first cantilever portion;

제 2 지지부와, 상기 제 2 지지부에 지지된 제 2 캔틸레버부와, 상기 제 1 캔틸레버부 하부에 형성된 신호선들과, 상기 제 1 캔틸레버부 상부에 형성된 접촉 전극으로 구성된 제 2 캔틸레버 구조물로 이루어진 멤즈 스위치가 제공된다.MEMS switch comprising a second support portion, a second cantilever portion supported by the second support portion, signal lines formed under the first cantilever portion, and a second cantilever structure including a contact electrode formed on the first cantilever portion. Is provided.

본 발명은 접촉 전극이 형성되어 있는 캔틸레버부 하부에 보상층을 형성하여, 주위 온도 변화에 의해 캔틸레버부의 휘어지는 변형을 보상할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, a compensation layer is formed under the cantilever portion in which the contact electrode is formed, and thus the bending deformation of the cantilever portion can be compensated for by the ambient temperature change.

또한, 본 발명은 접촉 전극이 형성된 제 1 캔틸레버 구조물과 신호선들이 형성된 제 2 캔틸레버 구조물로 멤즈 스위치를 구성하여, 주위의 온도가 변화되더라도 접촉 전극과 신호선들 사이의 간격이 선형적으로 일정하게 변화되어, 원활하게 컨택시킬 수 있으므로, 소자의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention constitutes a MEMS switch with the first cantilever structure in which the contact electrode is formed and the second cantilever structure in which the signal lines are formed, so that the distance between the contact electrode and the signal lines is changed linearly even when the ambient temperature is changed. Since it can contact smoothly, there exists an effect which can improve the reliability of an element.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 멤즈 스위치를 설명하기 위한 개략적인 단면도로서, 지지부(100)와; 상기 지지부(100)에 지지된 캔틸레버부(110)와; 상기 캔틸레버부(110) 상부에 형성된 압전 캐패시터(120)와; 상기 캔틸레버부(110) 상부에 형성된 접촉 전극(130)과; 주위 온도 변화에 의해 상기 캔틸레버부(110)의 휘어지는 변형을 보상하도록 상기 캔틸레버부(110) 하부에 형성된 보상층(150)과; 상기 접촉 전극(130)의 접촉으로 도통되는 신호선들(200)을 포함하여 구성된다.3 is a schematic cross-sectional view for explaining a MEMs switch according to a first embodiment of the present invention, including a support part 100; A cantilever part 110 supported by the support part 100; A piezoelectric capacitor 120 formed on the cantilever unit 110; A contact electrode 130 formed on the cantilever unit 110; A compensation layer (150) formed under the cantilever portion (110) to compensate for the bending deformation of the cantilever portion (110) by the ambient temperature change; The signal lines 200 are connected to each other by the contact electrode 130.

여기서, 멤즈 스위치는 하부로 부상되어 있는 캔틸레버부(110)에 의해, 상기 캔틸레버부(110) 및 상기 캔틸레버부(110) 상부에 있는 압전 캐패시터(120) 및 접촉 전극(130)의 재료들의 열팽창 계수가 다르기 때문에, 멤즈 스위치의 부상 영역은 주위 온도 변화에 의해 휘어짐이 발생한다.Here, the MEMS switch is a thermal expansion coefficient of the materials of the piezoelectric capacitor 120 and the contact electrode 130 on the cantilever portion 110 and the cantilever portion 110 by the cantilever portion 110 floating below. Since is different, the floating region of the MEMS switch is bent due to the change in the ambient temperature.

그러므로, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 멤즈 스위치는 상기 캔틸레버부(110) 하부에 보상층(150)을 형성하여, 주위 온도 변화에 의해 상기 캔틸레버부(110)의 휘어지는 변형을 보상할 수 있는 장점이 있다.Therefore, the MEMS switch according to the first embodiment of the present invention forms a compensation layer 150 under the cantilever portion 110, and can compensate for the bending deformation of the cantilever portion 110 due to a change in ambient temperature. There is an advantage.

상기 보상층(150)은 열팽창 계수를 갖는 물질로 이루어지고, 온도 변화에 따라 상기 캔틸레버부(110)의 변형을 줄일 수 있는 물질로 형성한다.The compensation layer 150 is made of a material having a coefficient of thermal expansion, and is formed of a material capable of reducing deformation of the cantilever part 110 according to a temperature change.

즉, 하기의 표 1과 같이, 주위의 1℃의 온도 변화에 의해, 보상층이 없는 캔틸레버는 1㎚의 휘어지는 변형이 발생하였으면, 본 발명의 제 1 실시예에 적용된 보상층이 있는 캔틸레버는 휘어지는 변형이 0가 된다.That is, as shown in Table 1 below, when the cantilever without the compensation layer caused a deformation of 1 nm due to a temperature change of 1 ° C., the cantilever with the compensation layer applied to the first embodiment of the present invention was bent. The deformation is zero.

온도 변화Temperature change 변형transform 보상층이 없는 캔틸레버Cantilever without compensation layer 1℃1 ℃ 1㎚1 nm 보상층이 있는 캔틸레버Cantilever with Compensation Layer 1℃1 ℃ 00

결국, 본 발명의 제 1 실시예의 멤즈 스위치는 주위의 온도 변화에 의해 부상되어 있는 영역의 변형이 0에 근접되도록 보상할 수 있는 층을 상기 캔틸레버부(110)의 하부에 형성하는 것이다.As a result, the MEMS switch according to the first embodiment of the present invention forms a layer under the cantilever portion 110 that can compensate for the deformation of the floating region due to the change in ambient temperature to approach zero.

한편, 상기 보상층(150)의 재질은 금속인 것이 바람직하다.Meanwhile, the material of the compensation layer 150 is preferably metal.

또한, 상기 압전 캐패시터(120)는 하부전극, 압전막, 상부전극으로 구성된다.In addition, the piezoelectric capacitor 120 includes a lower electrode, a piezoelectric film, and an upper electrode.

도 4는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 멤즈 스위치를 설명하기 위한 개략적인 평면도로서, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 멤즈 스위치는 제 1 지지부(210)와, 상기 제 1 지지부(210)에 지지된 제 1 캔틸레버부(220)와, 상기 제 1 캔틸레버부(220) 상부에 형성된 제 1 압전 캐패시터와, 상기 제 1 캔틸레버부(220) 상부에 형성된 접촉 전극으로 구성된 제 1 캔틸레버 구조물(200)과; 제 2 지지부(310)와, 상기 제 2 지지부(310)에 지지된 제 2 캔틸레버부(320)와, 상기 제 2 캔틸레버부(320) 상부에 형성된 제 2 압전 캐패시터와, 상기 제 2 캔틸레버부(320) 하부에 형성되어, 상기 접촉 전극의 접촉으로 도통되는 신호선들로 구성된 제 2 캔틸레버 구조물(300)로 구성된다.4 is a schematic plan view for explaining a MEMs switch according to a second embodiment of the present invention. The MEMS switch according to the second embodiment of the present invention includes a first support unit 210 and the first support unit 210. The first cantilever structure 200 includes a first cantilever portion 220 supported by the first cantilever 220, a first piezoelectric capacitor formed on the first cantilever portion 220, and a contact electrode formed on the first cantilever portion 220. )and; A second support part 310, a second cantilever part 320 supported by the second support part 310, a second piezoelectric capacitor formed on the second cantilever part 320, and the second cantilever part ( A second cantilever structure 300 is formed below the second cantilever structure 300 and includes signal lines that are connected to the contact electrode.

그러므로, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 멤즈 스위치는 접촉 전극이 형성된 제 1 캔틸레버 구조물과 신호선들이 형성된 제 2 캔틸레버 구조물이 주위의 온도 변화에 따라 동일한 변형을 갖도록 설계하여, 접촉 전극과 신호선들 사이의 간격이 온도 변화에 따라 선형적으로 일정하게 변화되도록 하는 것이다.Therefore, the MEMS switch according to the second embodiment of the present invention is designed such that the first cantilever structure in which the contact electrode is formed and the second cantilever structure in which the signal lines are formed have the same deformation according to the change of ambient temperature. The interval of is to change linearly and consistently with temperature change.

예컨대, 멤즈 스위치의 1℃의 온도 변화에, 제 1 캔틸레버 구조물과 제 2 캔틸레버 구조물이 1㎚의 변형이 이루어지도록 설계하는 것이다.For example, the first cantilever structure and the second cantilever structure are designed so that 1 nm of deformation occurs at a temperature change of 1 ° C. of the MEMs switch.

이렇게, 접촉 전극이 형성된 제 1 캔틸레버 구조물과 신호선들이 형성된 제 2 캔틸레버 구조물로 멤즈 스위치를 구성하여, 주위의 온도가 변화되더라도 접촉 전극과 신호선들 사이의 간격이 선형적으로 일정하게 변화되어, 원활하게 컨택시킬 수 있으므로, 소자의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.In this way, the MEMS switch is composed of the first cantilever structure in which the contact electrode is formed and the second cantilever structure in which the signal lines are formed. Since it is possible to contact, there is an advantage that can improve the reliability of the device.

도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 멤즈 스위치의 다른 구조를 설명하기 위한 개략적인 단면도로서, 도 5의 멤즈 스위치는 제 1 캔틸레버 구조물(200)과 제 2 캔틸레버 구조물(300)을 거의 동일하게 구성하는 것이다.FIG. 5 is a schematic cross-sectional view illustrating another structure of the MEMs switch according to the second exemplary embodiment of the present invention, wherein the MEMS switch of FIG. 5 is substantially the same as the first cantilever structure 200 and the second cantilever structure 300. To configure.

이렇게, 상기 제 1과 2 캔틸레버 구조물(200,300)이 거의 동일하게 구성되면, 주위의 온도 변화에 따라 동일한 변형을 갖게 되어, 주위의 온도가 변화되더라도 접촉 전극과 신호선들은 원활하게 컨택된다.As such, when the first and second cantilever structures 200 and 300 are configured in almost the same manner, the first and second cantilever structures 200 and 300 may have the same deformation according to a change in ambient temperature, so that the contact electrode and the signal lines are smoothly contacted even when the ambient temperature changes.

즉, 상기 제 1 캔틸레버 구조물(200)의 제 1 캔틸레버부(200) 하부에는 상기 제 2 캔틸레버 구조물(300)의 신호선들(350)과 동일한 제 1 물질층들(250)이 형성되어 있다. That is, first material layers 250 that are the same as the signal lines 350 of the second cantilever structure 300 are formed below the first cantilever structure 200 of the first cantilever structure 200.

그리고, 상기 제 2 캔틸레버 구조물의 제 2 캔틸레버부(300) 상부에는 상기 제 1 캔틸레버 구조물(200)의 접촉 전극(240)과 동일한 제 2 물질층(340)이 형성되어 있다. A second material layer 340 is formed on the second cantilever part 300 of the second cantilever structure 300, the same as the contact electrode 240 of the first cantilever structure 200.

여기서, 상기 접촉 전극 및 신호선들은 금속으로 이루어지고, 상기 제 1과 2 물질층들(250,340)은 금속으로 이루어진 것이 바람직하다.The contact electrode and the signal lines may be made of metal, and the first and second material layers 250 and 340 may be made of metal.

이로써, 상기 제 1과 2 캔틸레버 구조물(200,300)이 거의 동일하게 구성되는 것이다.As a result, the first and second cantilever structures 200 and 300 are configured in almost the same manner.

참고로, 도 5의 '230'은 제 1 압전 캐패시터이고, '330'은 제 2 압전 캐패시터이다.For reference, '230' of FIG. 5 is a first piezoelectric capacitor, and '330' is a second piezoelectric capacitor.

도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 멤즈 스위치가 온도변화에 따라 변형이 발생된 상태를 도시한 도면으로서, 전술된 바와 같이, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 멤즈 스위치는 주위의 온도 변화에 따라 동일한 변형을 갖도록, 접촉 전극을 제 1 캔틸레버 구조물(200)에 형성하고, 신호선들을 제 2 캔틸레버 구조물(300)에 형성하는 것이다.FIG. 6 is a view illustrating a state where deformation occurs in accordance with a temperature change of a MEMs switch according to a second embodiment of the present invention. As described above, the MEMs switch according to the second embodiment of the present invention has an ambient temperature. The contact electrode is formed on the first cantilever structure 200 and the signal lines are formed on the second cantilever structure 300 so as to have the same deformation according to the change.

그러므로, 멤즈 스위치의 주위 온도가 변화량에 대하여, 제 1 캔틸레버 구조물(200)의 제 1 캔틸레버부(220)의 변형(D1)과 제 2 캔틸레버 구조물(300)의 제 2 캔틸레버부(320)의 변형(D1)은 거의 동일하게 된다.Therefore, the deformation D1 of the first cantilever part 220 of the first cantilever structure 200 and the deformation of the second cantilever part 320 of the second cantilever structure 300 with respect to the change amount of the ambient temperature of the MEMs switch. (D1) becomes substantially the same.

따라서, 접촉 전극(240)과 신호선들(350) 사이의 간격(G)은 온도 변화에 따라 선형적으로 일정하게 변화하게 된다.Therefore, the gap G between the contact electrode 240 and the signal lines 350 is changed to be linear and constant according to the temperature change.

이때, 상기 접촉 전극(240)과 신호선들(350)을 도통시키기 위해서는 상기 제 1 캔틸레버 구조물(200)의 제 1 압전 캐패시터(230) 및 상기 제 2 캔틸레버 구조물(300)의 제 2 압전 캐패시터(330)를 구동시켜, 상기 제 1 캔틸레버 구조물(200)의 제 1 캔틸레버부(220)와 상기 제 2 캔틸레버 구조물(300)의 제 1 캔틸레버부(320)를 휘어지게 하여, 상기 접촉 전극(240)과 신호선들(350)을 접촉시키는 것이다.In this case, the first piezoelectric capacitor 230 of the first cantilever structure 200 and the second piezoelectric capacitor 330 of the second cantilever structure 300 may be used to conduct the contact electrode 240 and the signal lines 350. ) To bend the first cantilever part 220 of the first cantilever structure 200 and the first cantilever part 320 of the second cantilever structure 300 to bend the contact electrode 240. The signal lines 350 are in contact with each other.

참고로, 도 6의 점선은 변형되기 전(前)의 제 1과 2 캔틸레버부들(220,320)의 하단면에서 연장된 선상이다.For reference, the dotted line in FIG. 6 is a line extending from the bottom surface of the first and second cantilever portions 220 and 320 before deformation.

도 7은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 멤즈 스위치를 설명하기 위한 개략적인 단면도로서, 본 발명의 제 3 실시예에 따른 멤즈 스위치는 접촉 전극과 신호선들 사이의 간격이 온도 변화에 따라 선형적으로 일정하게 변화되도록 접촉 전극이 형성된 제 1 캔틸레버 구조물과 신호선들이 형성된 제 2 캔틸레버 구조물로 구성하는 것이다.FIG. 7 is a schematic cross-sectional view for describing a MEMs switch according to a third embodiment of the present invention. In the MEMs switch according to the third embodiment of the present invention, the distance between the contact electrode and the signal lines is linear with a change in temperature. The first cantilever structure in which the contact electrode is formed so as to be constantly changed, and the second cantilever structure in which the signal lines are formed.

이때, 상기 제 2 캔틸레버 구조물에는 본 발명의 제 2 실시예의 멤즈 스위치와는 달리 압전 캐패시터가 구비되어 있지 않다.In this case, unlike the MEMS switch of the second embodiment of the present invention, the second cantilever structure is not provided with a piezoelectric capacitor.

즉, 도 7에 도시된 바와 같이, 멤즈 스위치의 제 1 캔틸레버 구조물(500)은 제 1 지지부(510)와, 상기 제 1 지지부(510)에 지지된 제 1 캔틸레버부(520)와, 상기 제 1 캔틸레버부(520) 상부에 형성된 제 1 압전 캐패시터(530)와, 상기 제 1 캔틸레버부(530) 상부에 형성된 접촉 전극(540)로 구성된다.That is, as shown in FIG. 7, the first cantilever structure 500 of the MEMS switch includes a first support part 510, a first cantilever part 520 supported by the first support part 510, and the first cantilever structure 500. The first piezoelectric capacitor 530 is formed on the first cantilever 520 and the contact electrode 540 is formed on the first cantilever 530.

그리고, 제 2 캔틸레버 구조물(600)은 제 2 지지부(610)와, 상기 제 2 지지부(620)에 지지된 제 2 캔틸레버부(620)와, 상기 제 1 캔틸레버부(520) 하부에 형성된 신호선들(650)로 구성된다.In addition, the second cantilever structure 600 may include a second support part 610, a second cantilever part 620 supported by the second support part 620, and signal lines formed under the first cantilever part 520. It consists of 650.

이때, 상기 제 2 캔틸레버부(620)는 적어도 하나 이상의 박막으로 구성하는 것이 바람직하다.In this case, the second cantilever part 620 may be configured of at least one thin film.

결국, 본 발명의 제 3 실시예에 따른 멤즈 스위치는 제 2 캔틸레버 구조물(600)이 상기 제 1 캔틸레버 구조물(500)과 주위의 온도 변화에 따라 동일한 변형을 갖도록, 상기 제 2 캔틸레버부(620)를 구성하는 박막 및 신호선들(650)을 적절하게 설계하여 구성하는 것이다.As a result, in the MEMS switch according to the third exemplary embodiment of the present invention, the second cantilever structure 600 may have the same deformation as the second cantilever structure 600 according to the temperature change of the first cantilever structure 500. Thin film and signal lines 650 constituting the appropriately designed and configured.

도 8a와 8b는 본 발명에 따른 멤즈 스위치의 캔틸레버 구조물을 설명하기 위한 개략적인 단면도로서, 먼저, 도 6에서는 제 1 캔틸레버 구조물(200)의 부상 영역에 있는 제 1 캔틸레버부(220)의 하부 일부에 금속층들(250)이 형성되어 있지만, 도 8a에 도시된 바와 같이, 제 1 캔틸레버부(720) 하부 전면 대부분에 금속층들을 형성할 수 있다.8A and 8B are schematic cross-sectional views for explaining the cantilever structure of the MEMS switch according to the present invention. First, in FIG. 6, a lower part of the first cantilever part 220 in the floating region of the first cantilever structure 200 is illustrated. Although metal layers 250 are formed on the metal layers 250, the metal layers may be formed on most of the lower front surface of the first cantilever portion 720 as illustrated in FIG. 8A.

참고로, 도 8a의 '730'은 압전 캐패시터이고, '740'은 접촉 전극이다.For reference, '730' of FIG. 8A is a piezoelectric capacitor, and '740' is a contact electrode.

그리고, 도 7에서는 제 1 캔틸레버 구조물(600)의 부상 영역에 있는 제 2 캔틸레버부(620)의 하부 일부에 신호선들(250)이 형성되어 있지만, 도 8b와 같이, 제 2 캔틸레버부(620) 하부 전면 대부분에 신호선들(250)을 형성할 수 있다.In FIG. 7, signal lines 250 are formed at a lower portion of the second cantilever portion 620 in the floating region of the first cantilever structure 600, but as shown in FIG. 8B, the second cantilever portion 620 is formed. Signal lines 250 may be formed on most of the lower front surface.

이와 같이, 본 발명은 주위의 온도 변화에 따라 멤즈 스위치의 변형을 보상하기 위하여 상술된 바와 같이 최적의 구조로 멤즈 스위치를 구성할 수도 있지만, 본 발명의 사상에 준하여 설계 변경하는 것도 권리범위에 귀속된다 할 것이다.As described above, the present invention may configure the MEMS switch with the optimum structure as described above in order to compensate for the deformation of the MEMS switch according to the change of ambient temperature, but the design change according to the spirit of the present invention belongs to the right scope. Will be done.

본 발명은 구체적인 예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although the invention has been described in detail only with respect to specific examples, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the spirit of the invention, and such modifications and variations belong to the appended claims.

도 1은 종래 기술에 따른 멤즈 스위치의 개략적인 구성을 도시한 사시도1 is a perspective view showing a schematic configuration of a MEMS switch according to the prior art

도 2는 종래 기술에 따른 멤즈 스위치에서 온도 변화에 따라 캔틸레버의 변형이 발생되는 것을 설명하기 위한 개략적인 단면도Figure 2 is a schematic cross-sectional view for explaining that the deformation of the cantilever occurs in accordance with the temperature change in the MEMS switch according to the prior art

도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 멤즈 스위치를 설명하기 위한 개략적인 단면도3 is a schematic cross-sectional view for explaining a MEMs switch according to a first embodiment of the present invention;

도 4는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 멤즈 스위치를 설명하기 위한 개략적인 평면도4 is a schematic plan view for explaining a MEMs switch according to a second embodiment of the present invention;

도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 멤즈 스위치의 다른 구조를 설명하기 위한 개략적인 단면도5 is a schematic cross-sectional view for explaining another structure of the MEMs switch according to the second embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 멤즈 스위치가 온도변화에 따라 변형이 발생된 상태를 도시한 도면6 is a view illustrating a state in which deformation occurs in accordance with a temperature change of a MEMS switch according to a second embodiment of the present invention;

도 7은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 멤즈 스위치를 설명하기 위한 개략적인 단면도7 is a schematic cross-sectional view for explaining a MEMs switch according to a third embodiment of the present invention.

도 8a와 8b는 본 발명에 따른 멤즈 스위치의 캔틸레버 구조물을 설명하기 위한 개략적인 단면도8A and 8B are schematic cross-sectional views for explaining the cantilever structure of a MEMS switch according to the present invention.

Claims (7)

지지부와; A support; 상기 지지부에 지지된 캔틸레버부와; A cantilever portion supported by the support portion; 상기 캔틸레버부 상부에 형성된 압전 캐패시터와; A piezoelectric capacitor formed on the cantilever portion; 상기 캔틸레버부 상부에 형성된 접촉 전극과; A contact electrode formed on the cantilever portion; 주위 온도 변화에 의해 상기 캔틸레버부의 휘어지는 변형을 보상하도록 상기 캔틸레버부 하부에 형성된 보상층과; A compensation layer formed below the cantilever portion to compensate for the bending deformation of the cantilever portion by the ambient temperature change; 상기 접촉 전극의 접촉으로 도통되는 신호선들을 포함하여 구성된 멤즈 스위치.MEMS switch comprising a signal line is conducted in contact with the contact electrode. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1, 상기 보상층의 재질은 금속인 것을 특징으로 하는 멤즈 스위치.MEMS switch, characterized in that the material of the compensation layer is a metal. 제 1 지지부와, 상기 제 1 지지부에 지지된 제 1 캔틸레버부와, 상기 제 1 캔틸레버부 상부에 형성된 제 1 압전 캐패시터와, 상기 제 1 캔틸레버부 상부에 형성된 접촉 전극으로 구성된 제 1 캔틸레버 구조물과; A first cantilever structure including a first support portion, a first cantilever portion supported on the first support portion, a first piezoelectric capacitor formed on the first cantilever portion, and a contact electrode formed on the first cantilever portion; 제 2 지지부와, 상기 제 2 지지부에 지지된 제 2 캔틸레버부와, 상기 제 2 캔틸레버부 상부에 형성된 제 2 압전 캐패시터와, 상기 제 2 캔틸레버부 하부에 형성되어, 상기 접촉 전극의 접촉으로 도통되는 신호선들로 구성된 제 2 캔틸레버 구조물로 이루어진 멤즈 스위치.A second support portion, a second cantilever portion supported by the second support portion, a second piezoelectric capacitor formed on the second cantilever portion, and a lower portion of the second cantilever portion, and formed to be in contact with the contact electrode. MEMS switch comprising a second cantilever structure consisting of signal lines. 청구항 3에 있어서, The method according to claim 3, 상기 제 1 캔틸레버 구조물의 제 1 캔틸레버부 하부에는 상기 제 2 캔틸레버 구조물의 신호선들과 동일한 제 1 물질층들이 형성되어 있고; First material layers identical to signal lines of the second cantilever structure are formed under the first cantilever part of the first cantilever structure; 상기 제 2 캔틸레버 구조물의 제 2 캔틸레버부 상부에는 상기 제 1 캔틸레버 구조물의 접촉 전극과 동일한 제 2 물질층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 멤즈 스위치.MEMS switch, wherein a second layer of material is formed on the second cantilever portion of the second cantilever structure, the same as the contact electrode of the first cantilever structure. 청구항 4에 있어서, The method according to claim 4, 상기 접촉 전극, 신호선들, 제 1과 2 물질층들은 금속으로 이루어진 것을 특징으로 하는 멤즈 스위치.And the contact electrode, the signal lines, and the first and second material layers are made of metal. 제 1 지지부와, 상기 제 1 지지부에 지지된 제 1 캔틸레버부와, 상기 제 1 캔틸레버부 상부에 형성된 제 1 압전 캐패시터로 구성된 제 1 캔틸레버 구조물과;A first cantilever structure composed of a first support portion, a first cantilever portion supported on the first support portion, and a first piezoelectric capacitor formed on the first cantilever portion; 제 2 지지부와, 상기 제 2 지지부에 지지된 제 2 캔틸레버부와, 상기 제 1 캔틸레버부 하부에 형성된 신호선들과, 상기 제 1 캔틸레버부 상부에 형성된 접촉 전극으로 구성된 제 2 캔틸레버 구조물로 이루어진 멤즈 스위치.MEMS switch comprising a second support portion, a second cantilever portion supported by the second support portion, signal lines formed under the first cantilever portion, and a second cantilever structure including a contact electrode formed on the first cantilever portion. . 청구항 6에 있어서, The method according to claim 6, 상기 제 2 캔틸레버부는,The second cantilever portion, 적어도 하나 이상의 박막으로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 멤즈 스위치.MEMS switch comprising at least one thin film.
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