KR20090062456A - Dielectric ceramics for ion producing cluster and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 이온발생클러스터용 유전체 세라믹스 및 그 제조방법에 관한 것으로, 특히 이온발생장치의 이온발생클러스터로 제조될 수 있는 저온소결과 공기 분위기 소결이 가능한 이온발생클러스터용 유전체 세라믹스에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
일반적으로 이온발생장치는 밀폐된 실내에 구비되며 이온 클러스터를 실내로 배출시키거나 공기 청정기 등에 일체로 구비되어 이로부터 배출되는 공기에 이온 클러스터를 함유시키는 장치이다.In general, the ion generating device is provided in an enclosed room and discharges the ion cluster into the room or is integrally provided with an air purifier and the like to contain the ion cluster in the air discharged therefrom.
즉, 통상적인 이온발생장치는 공기 중에 양이온 및 음이온을 방출하며, 이때 복수개의 물분자가 수소이온(H+) 또는 산소이온(O2 -) 주위에 부착되어 양이온은 H+(H2O)m의 형태로, 음이온은 O2 -(H2O)n의 형태로 되는 소위 이온 클러스터(ion cluster)로 된다. 이러한 이온 클러스터는 공기 중에 부유하는 입자 주위에 접합되어 화학반응을 일으켜 활성종으로서의 수소 과산화물(H2O2) 또는 수산기 라디컬(OH) 을 형성하고 부유입자로부터 수소를 제거하는 산화반응을 수행하며, 부유입자를 비활성화하여 부유하는 곰팡이 균, 바이러스, 박테리아 등을 살균하게 된다.That is, conventional ion generating apparatus emitting positive ions and negative ions in the air, and wherein a plurality of water molecules, the hydrogen ion (H +) or oxygen ions (O 2 -) is attached around the cations are H + (H 2 O) In the form of m , the anion becomes a so-called ion cluster in the form of O 2 − (H 2 O) n . These ion clusters are bonded around the particles suspended in the air, causing chemical reactions to form hydrogen peroxides (H 2 O 2 ) or hydroxyl radicals (OH) as active species, and perform oxidation reactions to remove hydrogen from the suspended particles. Inactivates suspended particles to sterilize suspended fungi, viruses and bacteria.
이러한 이온발생장치는 직류 고전압 방식을 주로 사용하며, 특히 코로나 방전 방식은 이온발생전극들인 방전전극과 접지전극 사이에 고전압을 인가하여 코로나 방전을 발생시킴으로써 상기 두 전극 간의 산소와 같은 공기분자를 음이온화하여 공기 중으로 방출한다. 이에 관련되는 종래 기술들은 일본특허공개 평4-90428호(1992. 3. 24 공개), 일본특허공개 평8-217412호(1996. 8. 27 공개), 일본특허공개 평3-230499호(1991. 10. 14 공개), 일본특허공개 평9-610호(1997. 1. 7 공개) 등에 상세히 개시되어 있다.The ion generating device mainly uses a DC high voltage method, and in particular, the corona discharge method anionizes an air molecule such as oxygen between the two electrodes by generating a corona discharge by applying a high voltage between the discharge electrode and the ground electrode, which are ion generating electrodes. Release into the air. Prior arts related to this are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 4-90428 (published on March 24, 1992), Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 8-217412 (released on August 27, 1996), and Japanese Patent Publication No. Hei 3-230499 (1991). 10. 14 publication), Japanese Patent Laid-Open No. 9-610 (published on Jan. 7, 1997) and the like.
상술한 바와 같이 방전현상을 이용하는 이온발생전극은 일반적으로 두 종류로 대별된다. As described above, ion generating electrodes using the discharge phenomenon are generally classified into two types.
그 하나는 속선이나 예각부를 갖는 금속판이나 바늘 등으로 되는 전극과 대지(大地)나 대지(對地) 전위의 금속판 또는 그리드로 되는 대향전극을 포함하는 구조를 갖는다. 그러나, 이 경우 상기 두 전극 간의 공기가 절연체 기능을 하므로, 상기 두 전극 간의 거리를 넓게 설계해야 할 필요가 있고 또한 이에 따라 방전에 요구되는 전압이 높아진다는 문제를 갖는다.One of them has a structure including an electrode made of a metal plate, a needle, or the like having a wire or an acute portion, and an opposite electrode made of a metal plate or a grid having an earth or earth potential. However, in this case, since the air between the two electrodes functions as an insulator, it is necessary to design a wide distance between the two electrodes, and accordingly, there is a problem that the voltage required for discharge becomes high.
다른 하나는 고체 유전체 세라믹을 사이에 두고 방전전극과 유도전극을 형성하는 구조를 갖는다. 이 경우 높은 절연저항과 높은 유전율을 갖는 유전체가 상기 두 전극 간에 삽입되므로, 상기 전극들 간의 거리를 짧게 설계하는 것이 가능해지며, 이로써 방전을 위한 인가전압이 낮아진다는 장점이 있다. The other has a structure in which a discharge electrode and an induction electrode are formed with a solid dielectric ceramic interposed therebetween. In this case, since a dielectric having high insulation resistance and high dielectric constant is inserted between the two electrodes, it is possible to design a short distance between the electrodes, thereby lowering the applied voltage for discharging.
특히, 후자의 유전체 세라믹을 사용하는 통상적인 이온발생장치에 있어서, 이온발생전극은 유전체 세라믹의 외부에 배설되는 방전전극과 그 내부에 배설되는 유도전극을 포함하며, 이들 전극에 교류 임펄스 전압을 2.0~3.0kV 인가하여 이온을 발생시키게 된다. 그러나, 이러한 이온발생전극에 사용되는 상기 전극들은 텅스텐 재질로 되고, 상기 유전체 세라믹의 제조시 1550℃ 이상의 높은 소결온도와 환원분위기상의 조건으로 인하여 제조공정이 어렵고 제조경비가 증가한다는 문제점을 갖는다. 더구나, 상기 인가전압이 고전압이므로, 상기 유전체 세라믹의 수명단축을 야기하고 전력소비가 크다는 문제점도 갖는다.In particular, in the conventional ion generating apparatus using the latter dielectric ceramic, the ion generating electrode includes a discharge electrode disposed outside of the dielectric ceramic and an induction electrode disposed inside thereof, and an AC impulse voltage is applied to these electrodes. ~ 3.0kV is applied to generate ions. However, the electrodes used in the ion generating electrode are made of tungsten material, and the manufacturing process is difficult and manufacturing cost is increased due to the high sintering temperature and reducing atmosphere conditions of 1550 ° C. or more when the dielectric ceramic is manufactured. Moreover, since the applied voltage is a high voltage, there is also a problem that shortens the lifetime of the dielectric ceramic and increases the power consumption.
이에, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 창안된 것으로, 본 발명의 목적은 이온발생장치에 있어서 저온 및 공기분위기에서 소결이 가능하며 작동전압이 낮아져 전력소비를 절감할 수 있는 이온발생클러스터용 유전체 세라믹스 및 그 제조방법을 제공하는 데 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, the object of the present invention is the ion generating cluster which can be sintered at low temperature and air atmosphere in the ion generating device and the operating voltage is lowered to reduce the power consumption The present invention provides a dielectric ceramics and a method of manufacturing the same.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 관점에 의한 유전체 세라믹스 조성물은 조성식 xMgO-SiO2 + αvol%(cB2O3-dZnO-eNa2O-fSiO2-gAl2O3) (이때, 1≤x≤2몰이고, 30wt%≤c≤50wt%, 25wt%≤d≤32wt%, 10wt%≤e≤20wt%, 5wt%≤f≤15wt%, 0≤g≤5이며, 10≤α≤30이다)을 갖는다.In order to achieve the above object, the dielectric ceramic composition according to one aspect of the present invention may have a composition formula xMgO-SiO 2 + αvol% (cB 2 O 3 -dZnO-eNa 2 O-fSiO 2 -gAl 2 O 3 ), wherein 1 ≦ x≤2 mol, 30wt% ≤c≤50wt%, 25wt% ≤d≤32wt%, 10wt% ≤e≤20wt%, 5wt% ≤f≤15wt%, 0≤g≤5, 10≤α≤30 Has
또한, 본 발명의 다른 일 관점에 의한 유전체 세라믹스 조성물의 제조방법은 MgO 및 SiO2 시료를 조성식 xMgO-SiO2 (이때, 1≤x≤2몰)의 몰분율에 따라 혼합 및 분쇄하고 이를 하소하여 Mg2SiO4 분말을 제조하는 단계와, B2O3, ZnO, Na2O, SiO2, Al2O3 시료를 조성식 cB2O3-dZnO-eNa2O-fSiO2-gAl2O3 (이때, 30wt%≤c≤50wt%, 25wt%≤d≤32wt%, 10wt%≤e≤20wt%, 5wt%≤f≤15wt%, 0≤g≤5)의 몰분율에 따라 혼합 및 분쇄하여 글라스 프릿을 제조하는 단계와, 상기 글라스 프릿을 상기 Mg2SiO4 분말에 10 내지 30vol% 첨가하여 혼합 및 분쇄하고 이의 그린시트를 제조하는 단계와, 상기 그린시트 상에 전극 패턴을 형성하고 이를 가압하여 소결하는 단계로 구성될 수 있다. 이때, 상기 소결온도는 1000℃ 내지 1100℃로 되며, 상기 전극은 Ag-Pd 재질로 될 수 있다.In addition, according to another aspect of the present invention, there is provided a method for preparing a dielectric ceramic composition comprising MgO and SiO 2 samples in a composition formula xMgO-SiO 2. At this time, it is mixed and pulverized according to the mole fraction of 1 ≦ x ≦ 2 mol) and calcined to Mg 2 SiO 4 A powder is prepared, and the B 2 O 3 , ZnO, Na 2 O, SiO 2 , and Al 2 O 3 samples are prepared using the formula cB 2 O 3 -dZnO-eNa 2 O-fSiO 2 -gAl 2 O 3 (At this time, 30wt% ≤c≤50wt%, 25wt% ≤d≤32wt%, 10wt% ≤e≤20wt%, 5wt% ≤f≤15wt%, 0≤g≤5) by mixing and grinding the glass Preparing a frit, and forming the glass frit into the Mg 2 SiO 4 10 to 30 vol% of the powder may be mixed and pulverized to prepare a green sheet thereof, and an electrode pattern may be formed on the green sheet and pressurized to sinter it. At this time, the sintering temperature is 1000 ℃ to 1100 ℃, the electrode may be made of Ag-Pd material.
이상 상술한 바와 같이, 본 발명에 의하면 이온발생장치에서의 이온발생클러스터 조성을 포스테라이트(forsterite) 결정질 조성에 글라스 프릿(glass frit)이 첨가된 조성으로 하여 제조함으로써, 저온소결과 공기 분위기 소결이 가능해져 제조공정 및 제조경비가 크게 절감될 수 있으며, 또한 전력소비가 크게 절감되어, 매우 유망하다.As described above, according to the present invention, the ion generating cluster composition in the ion generating device is prepared by adding glass frit to the forsterite crystalline composition, thereby reducing the low temperature sintering and air atmosphere sintering. It is possible to greatly reduce the manufacturing process and manufacturing cost, and also greatly reduce the power consumption, which is very promising.
이하, 본 발명을 각 도면을 참조하며 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 발명은 해당 분야에서 공지된 이온발생장치라면 모두 적용될 수 있으며, 특히 코로나 방전방식의 이온발생장치에 적용됨이 바람직하다. 도 1에서는 본 발명의 바람직한 일 구현예에 의한 상기 코로나 방전방식 이온발생장치의 개략 구조도를 도시한다.The present invention can be applied to any of the ion generating devices known in the art, in particular, preferably applied to the ion generator of the corona discharge method. Figure 1 shows a schematic structural diagram of the corona discharge type ion generating device according to a preferred embodiment of the present invention.
먼저, 본 발명의 바람직한 일 구현예에 의한 이온발생장치(1)는 기판(3) 상에 형성된 유도전극(8)과, 유전체 세라믹으로 되는 절연층(2)에 형성되어 상기 유도전극(8)을 대향하는 방전전극(7)을 구비한다. 또한, 방전전극(7)을 보호하기 위하여 유전체 세라믹으로 되는 보호층(4)이 방전전극(7) 상에 형성된다. First, the
기판(3)은 해당 분야에 공지된 통상적으로 높은 절연성을 갖는 세라믹 소결체라면 모두 될 수 있으며, 예를 들어 알루미나, 실리콘 등으로 될 수 있다. The
또한, 절연층(2)은 포스테라이트(forsterite) 결정질 조성에 글라스 프릿(glass frit)이 첨가된 조성으로 될 수 있다. 이의 조성식은 아래 식 1과 같다:In addition, the
xMgO-SiO2 + αvol%(cB2O3-dZnO-eNa2O-fSiO2-gAl2O3) (식 1) xMgO-SiO2 + Alpha vol% (cB2O3-dZnO-eNa2O-fSiO2-gAl2O3) (Equation 1)
이때, 1≤x≤2몰이고, 30wt%≤c≤50wt%, 25wt%≤d≤32wt%, 10wt%≤e≤20wt%, 5wt%≤f≤15wt%, 0≤g≤5이며, 10≤α≤30이다.At this time, 1≤x≤2mol, 30wt% ≤c≤50wt%, 25wt% ≤d≤32wt%, 10wt% ≤e≤20wt%, 5wt% ≤f≤15wt%, 0≤g≤5, 10 ≤ α ≤ 30.
상기 첨가되는 글라스 프릿 조성인 B2O3-ZnO-Na2O-SiO2-Al2O3계는 유리전이온도(Tg)가 대략 460℃이다. 따라서, 이러한 낮은 유리전이온도를 갖는 상기 글라스 프릿을 MgO-SiO2계에 첨가함으로써 상기 MgO-SiO2계의 유리전이온도가 크게 저하되어, 이로써 1000~1100℃ 범위의 저온소성이 가능해진다. The glass frit composition of the added B 2 O 3 —ZnO—Na 2 O—SiO 2 —Al 2 O 3 system has a glass transition temperature (Tg) of about 460 ° C. Thus, by the addition of the glass frit having such a low glass transition temperature in the system MgO-SiO 2 it is a glass transition temperature of the system MgO-SiO 2 significantly decreased, and thus it is possible to low-temperature co-fired in the range of 1000 ~ 1100 ℃.
이에 따라, 본 발명의 일 실시예에 있어서 유도전극(8) 및 방전전극(7)의 재 질을 종래의 고온소성을 통해서만 가능했던 텅스텐 재질은 저온소성이 가능한 Ag-Pd 재질로 대체되며, 이로써 상기 절연층(2)과 저온 동시소성이 가능해진다.Accordingly, in one embodiment of the present invention, the material of the
또한, 본 발명의 다른 일 실시예에 있어서, 상기 기판(3), 절연층(2) 및 보호층(4)은 모두 동일하게 상기 식 1에 의한 조성물로 제조될 수 있다.In addition, in another embodiment of the present invention, the
이하, 본 발명의 바람직한 실시예들을 첨부한 도면을 참조하며 상세히 설명한다. 다만, 본 발명이 하술하는 실시예들은 본 발명의 전반적인 이해를 돕기 위하여 제공되는 것이며, 본 발명은 하기 실시예로만 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. However, the embodiments described below are provided to help the overall understanding of the present invention, and the present invention is not limited only to the following examples.
실시예Example 1-21 1-21
본 실시예들에서는 포스테라이트 결정질 조성에 글라스 프릿이 첨가된 조성인 식 1에 따라 이온발생전극을 제조하여 제반 특성을 측정 및 비교하였다.In the present embodiments, the ion generating electrode was manufactured according to
먼저, 순도 99.9% 이상의 MgO 및 SiO2를 식 1에 따른 조성비로 칭량하여 폴리에틸렌 용기에서 혼합 및 분쇄하였다. 그리고, 혼합이 완료된 분말을 100℃에서 24시간 건조한 후, 1300℃에서 2시간 하소하여 Mg2SiO4를 제조하였다. First, MgO and SiO 2 with a purity of 99.9% or more were weighed at a composition ratio according to
또한, 순도 99.9% 이상의 시약을 사용하여 B2O3, ZnO, Na2O, SiO2, Al2O3를 식 1에 따른 조성비로 칭량하여 폴리에틸렌 용기에서 혼합하였으며, 상기 각 조성비는 아래 표 1에 나타낸다. 상기 혼합된 파우더는 백금 도가니에 넣어 1300℃에서 1시간 유지하여 용융시킨 후, 이를 금속 롤러 사이에 부어서 얇은 시트(sheet) 형태의 리본 커렛(cullet)을 만들고 이를 분쇄하였다. 이렇게 제조된 글라스를 디스크밀을 통해서 1차 분쇄한 후, 다시 알루미나 용기에 지르코니아 볼을 이용하여 에탄올을 용매로 24시간 동안 볼 밀링하여 최종의 글라스 프릿을 제조하였다. In addition, B 2 O 3 , ZnO, Na 2 O, SiO 2 , Al 2 O 3 were weighed in a composition ratio according to the
또한, 상기 제조된 글라스 프릿을 Mg2SiO4에 각각 10, 20, 30 vol%의 조성비로 첨가하고 이를 에탄올을 용매로 24시간 습식 혼합한 후 건조하였다. 이때, 사용된 결합제와 가소제, 분산제로는 각각 PVB, DBP, SN을 사용하여 슬러리를 제조하였다. 사용된 용매는 공비 조건의 톨루엔과 에탄올의 혼합 용액이었으며, 지르코니아 볼을 이용하여 유리 분말 또는 세라믹 분말과 분산제 및 용매를 첨가하여 24시간 동안 1차 분산하였다. 분산된 슬러리는 결합제와 가소제를 넣고 24시간 동안 2차 밀링하여 최종 슬러리를 제조하였다. 이와 같이 제조된 슬러리를 닥터 블레이드(doctor blade)를 이용하여 두께가 약 95~100㎛의 균일한 그린시트(green sheet)를 제조하였다. 또한, 그린시트 상에 Ag-Pd 전극을 이용하여 패턴을 형성하였다. 그리고, 순차적으로 그린시트를 적층하여 250bar로 등압성형을 가한 후, 일정한 크기로 절단하였다. 또한, 상기 제조된 시트는 적층체 내에 존재하는 유기물을 제거하기 위하여 600℃까지 승온한 후 1시간 동안 유지하여 탈바인더 하였다. 유기물이 제거된 시료는 공기 중에서 1000~1100℃로 1시간 소결하였다. In addition, the prepared glass frit was added to Mg 2 SiO 4 in a composition ratio of 10, 20, and 30 vol%, respectively, and the mixture was wet mixed with ethanol for 24 hours and then dried. In this case, as the binder, plasticizer, and dispersant used, a slurry was prepared using PVB, DBP, and SN, respectively. The solvent used was a mixed solution of toluene and ethanol under azeotropic conditions. The glass powder or ceramic powder, a dispersant, and a solvent were added and dispersed firstly for 24 hours using zirconia balls. The dispersed slurry was secondary milled for 24 hours with a binder and a plasticizer to prepare a final slurry. The slurry thus prepared was prepared using a doctor blade to prepare a uniform green sheet having a thickness of about 95 to 100 μm. In addition, a pattern was formed on the green sheet using an Ag-Pd electrode. Then, the green sheets were sequentially laminated and subjected to isostatic molding at 250 bar, and then cut to a constant size. In addition, the prepared sheet was debindered by maintaining the temperature for 1 hour after heating up to 600 ℃ to remove the organic matter present in the laminate. The sample from which the organic substance was removed was sintered at 1000-1100 degreeC in air for 1 hour.
상술한 실시예들의 각 조성은 아래 표 1과 같이 요약되며, 특히 1050℃에서 소결했을 때의 해당 밀도와 유전율을 나타낸다.Each composition of the above-described embodiments are summarized as shown in Table 1 below, and particularly show the corresponding density and dielectric constant when sintered at 1050 ° C.
또한, 상기 실시예들 중의 실시예 5 조성에 의해 제조된 이온발생클러스터에 대해 음이온 발생 특성을 측정하였다. 이는 소결된 클러스터 시편을 인가 전원에 연결하고 이온 측정기(FIC2000, Fisa, Japan)를 이용하여 측정하고자 하는 시편과 음이온 측정기의 거리가 1cm일 때 공기흡입식 측정방법으로 음이온 발생량을 각각 1시간 동안 측정하여 수행되었다. 특히, 도 1을 참조하여 설명하면, 방전전극(7) 상에 형성된 보호층(7)의 두께("a"로 표시)와, 절연층(2) 내에 형성된 유도전극(8)과 방전전극(7) 간의 거리("b"로 표시)를 각각 변화시키면서 그에 따른 이온 발생량을 측정하였다. 이의 결과를 각각 도 2와 도 3에 나타낸다.In addition, anion generation characteristics of the ion generating clusters prepared by the composition of Example 5 in the above examples were measured. This is done by connecting the sintered cluster specimens to an applied power source and measuring the amount of negative ions generated for 1 hour using the air suction method when the distance between the sample and the negative ion meter to be measured using an ion meter (FIC2000, Fisa, Japan) is 1 cm. Was performed. In particular, referring to FIG. 1, the thickness of the
또한, 도 4a는 실시예 5, 도 4b는 실시예 16, 도 4c는 실시예 18의 조성들에 의해 제조된 이온발생클러스터들의 전자현미경 사진을 나타낸다. 또한, 도 5는 실시예 5의 소결온도를 1050℃에서 1150℃ 범위로 변화시킬 때의 내전압 특성을 나타내며, 도 6은 실시예 5의 소결온도를 1050℃에서 1150℃ 범위로 변화시킬 때의 3중 곡강도 특성을 나타낸다.In addition, Figure 4a, Example 5, Figure 4b is Example 16, Figure 4c shows an electron micrograph of the ion generating clusters prepared by the compositions of Example 18. 5 shows the breakdown voltage characteristics when the sintering temperature of Example 5 is changed from 1050 ° C. to 1150 ° C., and FIG. 6 is 3 when the sintering temperature of Example 5 is changed from 1050 ° C. to 1150 ° C. Medium bending strength characteristics.
특히, 도 2 및 도 3을 참조하면, 인가전압 1.0kV에서 유도전극(8)과 방전전극(7) 간의 거리(b)가 대략 750㎛일 때까지 최상의 특성이 나오는 것을 알 수 있으며, 특히 바람직하기로는 300~500㎛이다. 종래의 경우, 인가전압이 최대 3.0kV에 달하였으나, 본 발명에 의하면 1.0kV로서 종래보다 훨씬 낮아져 전력소비가 절감된다.In particular, referring to Figures 2 and 3, it can be seen that the best properties come out until the distance (b) between the
따라서, 본 발명에 의한 조성으로 이온발생클러스터를 제조할 경우, 저온소결과 공기 분위기 소결이 가능해져 제조공정 및 제조경비가 절감될 수 있으며, 또한 전력소비가 크게 절감된다.Therefore, when the ion generating cluster is manufactured by the composition according to the present invention, low temperature sintering and sintering of the air atmosphere are possible, and thus the manufacturing process and manufacturing cost can be reduced, and power consumption is greatly reduced.
한편, 상술한 본 발명의 실시예들에 있어서 시료분말들의 평균입도, 분포 및 비표면적과 같은 분말특성과, 원료의 순도, 불순물 첨가량과, 소결 및 분위기 조건에 따라 통상적인 오차범위 내에서 다소 변동이 있을 수 있음은 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게는 지극히 당연한 것이다.Meanwhile, in the above-described embodiments of the present invention, the powder characteristics such as the average particle size, distribution, and specific surface area of the sample powder, the purity of the raw material, the amount of impurity added, and the sintering and atmosphere conditions vary slightly within the usual error range. It can be quite natural for one with ordinary knowledge in the field.
또한, 본 발명의 바람직한 실시예들은 예시의 목적을 위해 개시된 것이며, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구나 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가 등이 가능할 것이고, 이러한 수정, 변경, 부가 등은 특허청구 범위에 속하는 것으로 보아야 한다.In addition, preferred embodiments of the present invention are disclosed for the purpose of illustration, anyone of ordinary skill in the art will be possible to various modifications, changes, additions, etc. within the spirit and scope of the present invention, such modifications, changes And additions should be regarded as within the scope of the claims.
도 1은 본 발명의 바람직한 일 구현예에 의한 상기 코로나 방전방식 이온발생장치의 개략 구조도.1 is a schematic structural diagram of the corona discharge ion generating device according to a preferred embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 실시예들에 있어서, 방전전극 상에 형성된 보호층의 두께("a"로 표시)의 변화에 따른 이온발생 특성을 나타내는 그래프.2 is a graph showing ion generation characteristics according to a change in a thickness (denoted by "a") of a protective layer formed on a discharge electrode in embodiments of the present invention.
도 3은 본 발명의 실시예들에 있어서, 절연층 내에 형성된 유도전극과 방전전극 간의 거리("b"로 표시)의 변화에 따른 이온발생 특성을 나타내는 그래프.3 is a graph showing ion generation characteristics according to a change in the distance between the induction electrode and the discharge electrode (indicated by "b") formed in the insulating layer in the embodiments of the present invention.
도 4a 내지 도 4c는 본 발명의 실시예들에서의 전자현미경 사진들로서, 각각 도 4a는 실시예 5, 도 4b는 실시예 16, 도 4c는 실시예 18의 조성들에 의해 제조된 이온발생클러스터들의 전자현미경 사진.4A to 4C are electron micrographs in the embodiments of the present invention, and FIG. 4A is an ion generating cluster prepared by the compositions of Example 5, FIG. 4B is Example 16, and FIG. 4C is Example 18, respectively. Electron micrograph of a child.
도 5는 본 발명의 실시예 5의 소결온도를 1050℃에서 1150℃ 범위로 변화시킬 때의 내전압 특성을 나타내는 그래프.5 is a graph showing the breakdown voltage characteristics when the sintering temperature of the fifth embodiment of the present invention is changed from 1050 ° C to 1150 ° C.
도 6은 본 발명의 실시예 5의 소결온도를 1050℃에서 1150℃ 범위로 변화시킬 때의 3중 곡강도 특성을 나타내는 그래프.6 is a graph showing the triple bending strength characteristics when the sintering temperature of Example 5 of the present invention is changed from 1050 ° C to 1150 ° C.
Claims (5)
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