KR20090031515A - Generic electromagnetically-countered systems and methods - Google Patents

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KR20090031515A
KR20090031515A KR1020087031137A KR20087031137A KR20090031515A KR 20090031515 A KR20090031515 A KR 20090031515A KR 1020087031137 A KR1020087031137 A KR 1020087031137A KR 20087031137 A KR20087031137 A KR 20087031137A KR 20090031515 A KR20090031515 A KR 20090031515A
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Abstract

A generic electromagnetically-counted system and a method thereof are provided to minimize irradiation of harmful waves by using an electric shield and a magnetic shield. A generic electromagnetically-counted system includes a wave source(10) and a counter unit(40). The wave source includes a basic unit(10B). The basic unit irradiates a harmful electromagnetic wave in case a current flows into the basic unit or a voltage is supplied to both ends of the basic unit. The counter unit receives at least one among the current and the voltage in order to emit a counter electromagnetic wave. The counter electromagnetic wave defines a phase angle of the harmful electromagnetic wave and a reverse phase angle. The counter unit matches property of the harmful electromagnetic wave and property of the counter electromagnetic wave, and counts the harmful electromagnetic wave due to the property in a target space and the phase angle.

Description

범용 전자기적으로-카운터링된 시스템 및 방법{GENERIC ELECTROMAGNETICALLY-COUNTERED SYSTEMS AND METHODS}General purpose electromagnetically-counted systems and methods {GENERIC ELECTROMAGNETICALLY-COUNTERED SYSTEMS AND METHODS}

배경background

기술분야Field of technology

본 발명은, 유해한 전자기파를 조사하는 적어도 하나의 파원 (wave source) 및 카운터 전자기파에 의해 그 유해한 파를 카운터링하기 위해 그 카운터 전자기파를 방출하는 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함하는 전자기적으로-카운터링된 시스템에 관한 것이다. 더 상세하게, 본 발명은, 전자기적으로-카운터링된 시스템의 범용 카운터 유닛, 및 그 카운터 유닛에 의해, 예를 들어, 그 카운터 유닛의 구성과 파원의 구성을 매칭, 유해한 파의 형상과 그러한 카운터 파의 형상을 매칭 등을 행함으로써, 그 유해한 파를 카운터링하는 다양한 메커니즘에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 그러한 소스 매칭 또는 파 매칭에 의해 카운터 파로 유해한 파를 카운터링하는 다양한 방법, 및 카운터 유닛 뿐만 아니라 카운터 파를 제공하는 다양한 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 그러한 시스템, 그 시스템의 그러한 카운터 유닛 등을 제공하는 다양한 프로세스에 관한 것이다. 본 발명은, 단독으로 사용되거나 그러한 카운터 유닛들과 함께 사용되어 그 시스템으로부터의 유해한 파들의 조사를 최소화할 수도 있는 다양한 전기적 및/또는 자기적 쉴드에 관한 것이다.The present invention is directed to an electromagnetic-counter comprising at least one wave source for irradiating harmful electromagnetic waves and at least one counter unit for emitting the counter electromagnetic waves for countering the harmful waves by counter electromagnetic waves. It is about an integrated system. More specifically, the present invention relates to a general purpose counter unit of an electromagnetically-counted system, and the counter unit, for example, matching the configuration of the counter unit and the configuration of the wave source, such that the shape of the harmful wave and The present invention relates to various mechanisms for countering harmful waves by matching shapes of counter waves. The present invention also relates to various methods of countering harmful waves with counter waves by such source matching or wave matching, and various methods of providing counter waves as well as counter units. The invention also relates to various processes for providing such a system, such a counter unit of the system, and the like. The present invention relates to various electrical and / or magnetic shields that may be used alone or in combination with such counter units to minimize the irradiation of harmful waves from the system.

배경기술Background

현재, 다양한 디바이스에 의해 조사된 가변 주파수들을 갖는 전자기파가 인간의 건강에 해롭다는 것은 과학계에서 잘 입증되어 있다. 일부 경우, 메가-헤르츠 및 기가-헤르츠 범위의 그러한 전자기파가 주요한 원인 (culprit) 일 수도 있지만, 다른 경우, 60-헤르츠의 전자기파가 건강의 주요한 관심사일 수도 있다. 수 천 킬로미터인 파장을 갖는 60-헤르츠 전자기파의 자기파로부터 차폐하는 것이 어렵고, 그러한 60-헤르츠 자기파가 현재의 문명의 임의의 코너에서 어디에서든 존재한다는 것은 아무리 강조해도 지나치지 않는다.Currently, it is well documented in the scientific community that electromagnetic waves with variable frequencies irradiated by various devices are harmful to human health. In some cases, such electromagnetic waves in the mega-hertz and giga-hertz ranges may be a major cause, while in other cases, 60-hertz electromagnetic waves may be a major concern of health. It is difficult to shield from the magnetic waves of 60-hertz electromagnetic waves with wavelengths of several thousand kilometers, and it cannot be overemphasized that such 60-hertz magnetic waves exist anywhere at any corner of the present civilization.

그러나, 통상적으로, 그러한 전자기파의 강도는 그러한 파의 소스로부터 타겟까지의 거리의 제곱에 반비례하여 감소한다. 따라서, 그러한 전자기파로부터의 잠재적인 악영향은 그러한 소스로부터 안전한 거리를 유지함으로써 최소화될 수도 있다. 그러나, 일부 전기 디바이스는 사용자에 매우 근접하여 사용되도록 의도되며, 그러한 디바이스의 통상적인 예는, 헤어 드라이어, 헤어 컬러 (curler), 전기 매트릭스 또는 담요, 가열 패드 (heating pad), 이어폰, 헤드폰, 이동 전화기, 전기 면도기, 전기 칫솔 등이다. 그러나, 모든 종래 기술의 디바이스들은 그러한 잠재적인 위험에 대한 개선책을 제공하는 것을 실패하였다.Typically, however, the intensity of such electromagnetic waves decreases in inverse proportion to the square of the distance from the source of such waves to the target. Thus, potential adverse effects from such electromagnetic waves may be minimized by maintaining a safe distance from such sources. However, some electrical devices are intended to be used in close proximity to the user, and typical examples of such devices include hair dryers, hair curlers, electrical matrices or blankets, heating pads, earphones, headphones, mobiles. Phone, electric shaver, electric toothbrush and so on. However, all prior art devices have failed to provide improvement over such potential risks.

발명의 개시Disclosure of the Invention

기술적인 문제Technical problems

다양한 종래의 디바이스에 포함될 수 있고, 그러한 디바이스로부터의 유해한 전자기파의 조사를 최소화하기 위해 그러한 디바이스를 전자기적으로-카운터링된 시스템으로 변환할 수 있는 범용 카운터 유닛에 대한 긴급한 필요성이 존재한다. 또한, 상이한 형상 및/또는 사이즈의 다양한 파원에 의해 조사된 유해한 파를 카운터링하기 위해 가능한 솔루션을 제공할 필요성이 존재한다. 또한, 그러한 유해한 파를 카운터링하기 위해, 파면의 다양한 특성들을 정의하는 또 다른 가능한 솔루션을 제공할 필요성이 존재한다.There is an urgent need for a general purpose counter unit that can be included in a variety of conventional devices and that can convert such devices into electromagnetically-counted systems to minimize the irradiation of harmful electromagnetic waves from such devices. There is also a need to provide a possible solution for countering harmful waves irradiated by various sources of different shapes and / or sizes. In addition, to counter such harmful waves, there is a need to provide another possible solution for defining various properties of the wavefront.

기술적인 솔루션Technical solution

본 발명은, 유해한 전자기파를 조사하는 적어도 하나의 파원, 및 예를 들어, 카운터 전자기파에 의해 유해한 파의 적어도 일부를 소거하고, 그 유해한 전자기파가 타겟 공간으로 전파하는 것을 억제하는 것 등에 의하여, 카운터 전자기파에 의해 그 유해한 파를 카운터링하기 위해 카운터 파를 방출하는 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함하는 전자기적으로-카운터링된 시스템에 관한 것이다. 더 상세하게, 본 발명은, 그 전자기적으로-카운터링된 시스템의 범용 카운터 유닛, 및 그 파원의 다양한 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 파를 카운터 유닛에 의해 카운터링하는 다양한 메커니즘에 관한 것이다. 따라서, 그 카운터 유닛은 그 파원의 기본 유닛의 구성과 그 카운터 유닛의 구성을 매칭시키도록 형성, 사이징 (size) 및/또는 배열될 수도 있으며, 그에 의해, 그러한 유해한 파의 특성에 자동적으로 매칭하는 그러한 카운터 파를 방출한다. 다른 방법으로, 카운터 유닛은, 유해한 파의 하나 이상의 파면에 따라 정의된 배열로 형성, 사이징 및/또는 배치될 수도 있으며, 그에 의해, 그 유해한 파의 특성에 자동적으로 매칭하는 카운터 파를 방출한다. 또한, 본 발명은, 파원의 기본 유닛의 유사물 (analog) 로서 제공되는 다 양한 카운터 유닛에 관한 것이며, 그 유사물은 그러한 카운터 유닛보다 더 복잡한 기본 유닛에 근사할 수도 있고, 또한, 3-차원 또는 2-차원 기본 유닛은 2-차원 또는 1-차원 유사물 등으로서 근사될 수도 있다. 또한, 본 발명은, 기본 유닛보다 더 간단하지만, 그 기본 유닛의 그러한 형상 및/또는 배열에 근사하는 배열에 배치된 다수의 간단한 카운터 유닛에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 기본 유닛의 구성 및 배치에 따라 형성 및/또는 사이징될 수도 있는 카운터 유닛에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 다양한 카운터링 모드에 관한 것이며, 그 카운터링 모드에서, 단일 카운터 유닛은, 단일 기본 유닛, 다수의 기본 유닛들 중 모든 기본 유닛이 아닌 적어도 2개의 기본 유닛, 또는 모든 다수의 기본 유닛들을 카운터링할 수도 있고, 다수의 카운터 유닛은, 단일 기본 유닛, 더 많은 기본 유닛 또는 더 적은 다수의 유닛들 등을 카운터링할 수도 있다. 그러므로, 본 발명은, 시스템으로부터의 유해한 파의 조사를 최소화하기 위해, 단독으로 또는 카운터 유닛과 함께 사용될 수도 있는 다양한 전기적 및/또는 자기적 쉴드에 관한 것이다.The present invention is directed to counter electromagnetic waves by at least one wave source for irradiating harmful electromagnetic waves, and for example, eliminating at least a part of the harmful waves by counter electromagnetic waves, suppressing propagation of the harmful electromagnetic waves into a target space, and the like. An electromagnetically-counted system comprising at least one counter unit that emits a counter wave for countering that harmful wave. More specifically, the present invention relates to a general purpose counter unit of its electromagnetically-counted system, and to various mechanisms for countering harmful waves radiated from various basic units of its source by the counter unit. Thus, the counter unit may be formed, sized, and / or arranged to match the configuration of the counter unit's configuration with that of the counter unit, thereby automatically matching the characteristics of such harmful waves. It emits such a counter wave. Alternatively, the counter unit may be formed, sized, and / or arranged in an array defined according to one or more wavefronts of the harmful waves, thereby emitting counter waves that automatically match the properties of the harmful waves. The invention also relates to a variety of counter units which are provided as analogues of the base unit of the wave source, which analogues may approximate a more complex base unit than such a counter unit and may also be three-dimensional. Or the two-dimensional basic unit may be approximated as a two-dimensional or one-dimensional analogue or the like. The invention also relates to a number of simple counter units which are simpler than the base unit, but arranged in an arrangement that approximates such a shape and / or arrangement of the base unit. The invention also relates to a counter unit that may be formed and / or sized according to the configuration and arrangement of the base unit. The invention also relates to various countering modes, in which a single counter unit is a single base unit, at least two base units, not all base units of a plurality of base units, or all multiple base units. Units may be countered, and multiple counter units may counter a single base unit, more base units, fewer multiple units, or the like. Therefore, the present invention relates to various electrical and / or magnetic shields that may be used alone or in combination with a counter unit to minimize irradiation of harmful waves from the system.

또한, 본 발명은, 그러한 소스 매칭 또는 파 매칭에 의하여, 카운터 파에 의해 유해한 파를 카운터링하는 다양한 방법에 관한 것이다. 더 상세하게, 본 발명은, 기본 유닛의 유사물로서 카운터 유닛을 형성하고, 그 후, 그러한 유해한 파에 매칭하는 카운터 파를 방출하는 다양한 방법, 카운터링을 위하여 더 간단한 카운터 유닛에 의해 기본 유닛에 근사하는 다양한 방법, 및 다수의 더 간단한 카운터 유닛에 의해 기본 유닛에 근사하는 다양한 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 유해한 파의 파면을 따라 카운터 유닛을 배치시키고, 그 후, 그 유해한 파의 그러한 파면에 자동적으로 매칭하기 위해 카운터 파를 방출하는 다양한 방법, 그 유해한 파의 파면을 따라 다수의 카운터 유닛을 배치시키고, 그 후, 그러한 파면에 자동적으로 매칭하기 위하여 카운터 유닛에 의해 카운터 파를 방출하는 다양한 방법 등에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 기본 유닛에 관해 타겟 공간에 더 근접하게 및/또는 그 타겟 공간으로부터 이격하여 카운터 유닛을 배치함으로써 카운터 파의 파면을 조작하는 다양한 방법, 동일한 또는 반대의 위상각의 카운터 파를 방출하는 하나 또는 다수의 카운터 유닛을 포함함으로써 그러한 카운터 파의 파면의 곡률의 반경을 제어하는 다양한 방법, 기본 유닛의 형상과 동일한 또는 상이한 형상을 정의하는 하나 또는 다수의 카운터 유닛을 배치함으로써 카운터 파의 파면을 조정하는 다양한 방법 등에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 단일 또는 다수의 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파로 하나 또는 다수의 기본 유닛으로부터의 유해한 파를 카운터링하는 다양한 방법에 관한 것이다. 따라서, 본 발명은, 하나 이상의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파에 대하여 단일 카운터 유닛으로부터 그러한 카운터 파를 방출하는 다양한 방법, 단일 또는 다수의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파에 대하여 2개 이상의 카운터 유닛에 의해 그러한 카운터 파를 방출하는 다양한 방법 등에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 그러한 전기적 쉴드를 포함하고, 자기적 쉴드를 포함하고, 상기 카운터 유닛과 함께 그러한 쉴드들 중 하나 또는 양자를 포함하는 것 등에 의해 그러한 유해한 파의 조사를 최소화하는 다양한 방법에 관한 것이다.The present invention also relates to various methods of countering harmful waves by counter waves by such source matching or wave matching. More specifically, the present invention provides a method of forming a counter unit as an analogue of the base unit, and then releasing a counter wave that matches that harmful wave, to the base unit by a simpler counter unit for countering. Various methods of approximation, and various methods of approximating the base unit by a number of simpler counter units. In addition, the present invention provides a variety of methods for locating a counter unit along the wavefront of a harmful wave, and then releasing the counter wave to automatically match that wavefront of the harmful wave, along with the wavefront of the harmful wave. And a variety of methods for locating the counter unit, and then releasing the counter wave by the counter unit to automatically match that wavefront. The invention also relates to various methods of manipulating the wavefront of the counter wave by placing the counter unit closer to the target space and / or away from the target space with respect to the base unit, counter waves of the same or opposite phase angle. Various methods of controlling the radius of curvature of the wavefront of such a counter wave by including one or more counter units emitting, or by arranging one or more counter units defining the same or different shape as that of the base unit. And various methods for adjusting the wavefront. The present invention also relates to various methods of countering harmful waves from one or multiple base units with counter waves emitted by single or multiple counter units. Accordingly, the present invention provides a variety of methods for releasing such counter waves from a single counter unit for harmful waves irradiated by one or more base units, two or more counter units for harmful waves irradiated by a single or multiple base units. And various methods for emitting such counter waves. The invention also relates to various methods of minimizing the irradiation of such harmful waves by including such electrical shields, including magnetic shields, including one or both of these shields with the counter unit, and the like. will be.

또한, 본 발명은 다양한 카운터 유닛, 및 그 내에 하나 또는 다수의 카운터 유닛을 포함하는 다양한 시스템을 제공하는 다양한 프로세스에 관한 것이다. 더 상세하게, 본 발명은, 카운터 유닛의 그러한 형상과 유사한 (또는 상이한) 파면을 갖는 카운터 파를 방출하기 위해 카운터 유닛을 형성하는 다양한 프로세스, 기본 유닛의 상기 유사물로서 카운터 유닛을 형성하는 다양한 프로세스, 유사한 또는 반대의 위상각을 정의하는 그러한 카운터 파를 방출하는 카운터 유닛을 제공하는 다양한 프로세스, 유해한 파와 유사하게 형성된 파면을 그러한 카운터 유닛에 제공하는 다양한 프로세스, 미리 설정된 배열에 카운터 유닛을 배치하고, 그러한 배열과 유사한 파면을 갖는 카운터 파를 그 카운터 유닛으로부터 방출하는 다양한 프로세스 등에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 로컬 카운터링을 위하여 단일 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파를 카운터링하도록 또는 글로벌 (global) 카운터링을 위해 다수의 기본 유닛으로부터의 그러한 유해한 파를 카운터링하도록 단일 카운터 유닛을 할당하는 다양한 프로세스, 및 글로벌 카운터링을 위하여 단일 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파를 카운터링하도록 또는 카운터 유닛 및 기본 유닛의 수에 의존하여 로컬 또는 글로벌 카운터링을 위해 다수의 기본 유닛으로부터의 유해한 파를 카운터링하도록 다수의 카운터 유닛을 할당하는 다양한 프로세스에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 전기적 및/또는 자기적 쉴드를 포함하여 그러한 유해한 파의 조사를 최소화하는 다양한 프로세스, 및 그러한 쉴드들 뿐만 아니라 상기 카운터 유닛을 이용함으로써 그러한 유해한 파의 조사를 최소화하는 다양한 프로세스에 관한 것이다.The present invention also relates to various processes for providing various counter units and various systems including one or more counter units therein. More specifically, the present invention relates to various processes of forming a counter unit for emitting a counter wave having a wavefront similar (or different) to that shape of the counter unit, and various processes of forming a counter unit as said analogue of the base unit. , Various processes for providing a counter unit that emits such counter waves that define similar or opposite phase angles, various processes for providing such counter units with wavefronts shaped similarly to harmful waves, placing the counter units in preset arrangements, And various processes for emitting counter waves having a wavefront similar to that arrangement from the counter unit. The invention also provides a single counter unit to counter harmful waves irradiated by a single base unit for local countering or to counter such harmful waves from multiple base units for global countering. Harmful waves from various base units for assigning and countering harmful waves investigated by a single base unit for global countering or for local or global countering depending on the number of counter units and base units And various processes for assigning multiple counter units to counter. In addition, the present invention is directed to various processes for minimizing the irradiation of such harmful waves, including electrical and / or magnetic shields, and to various processes for minimizing the irradiation of such harmful waves by using such counters as well as the counter unit. It is about.

따라서, 본 발명의 주요한 목적은, 그러한 카운터 파로 유해한 파를 카운터 링함으로써 적어도 하나의 파원의 적어도 하나의 기본 유닛으로부터의 유해한 파의 조사를 최소화할 수 있는 (이하, 'EMC' 로 약칭될) 전자기적으로-카운터링된 (이하, 'EMC' 시스템 또는 간단히 '시스템' 으로 약칭될) 시스템을 제공하는 것이다. 따라서, 본 발명의 관련 목적은, 카운터 파에 의해 유해한 파의 적어도 일부를 소거함으로써 및/또는 카운터 파에 의해 미리 설정된 방향으로 유해한 파가 전파하는 것을 억제함으로써 그 유해한 파를 카운터링할 수 있는 EMC 시스템을 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, EMC 시스템의 기본 유닛의 주변 모두가 아닌 시스템의 일 측면상에서만 정의된 타겟 공간 (또는 영역) 에서만 그러한 카운터 파에 의해 유해한 파를 카운터링하는 것이다. 일반적으로, 그러한 타겟 공간은 시스템의 사용자 또는 사용자의 특정 신체 부위와 기본 유닛 사이에 정의된다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 타겟 공간으로 전파될 때 카운터 파가 유해한 파를 소거 및/또는 억제하기 위해, 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하도록 그 카운터 파를 배열하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 기본 유닛의 반대측으로부터 그러한 타겟 공간으로 전파될 때 카운터 파가 유해한 파를 소거 및/또는 억제하기 위해, 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 유사한 위상각을 정의하도록 그러한 카운터 파를 배열하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 상이한 카운터 유닛으로부터의 카운터 파가 타겟 공간에서 유해한 파를 카운터링하도록 카운터 파의 위상각을 조작하면서, 타겟 공간에 관하여 기본 유닛의 동일측 또는 반대측으로부터 카운터 파를 방출하는 것이다.Thus, a primary object of the present invention is to provide an electron (hereinafter abbreviated as 'EMC') which can minimize the irradiation of harmful waves from at least one base unit of at least one wave source by countering harmful waves with such counter waves. It is to provide a miraculously-counted system (hereinafter abbreviated as 'EMC' system or simply 'system'). Accordingly, a related object of the present invention is an EMC capable of countering harmful waves by eliminating at least some of the harmful waves by the counter waves and / or by suppressing the propagation of the harmful waves in a predetermined direction by the counter waves. To provide a system. Another related object of the present invention is to counter harmful waves by such counter waves only in a target space (or region) defined only on one side of the system, not all around the base unit of the EMC system. In general, such target space is defined between the base unit and the user or specific body parts of the user. Another related object of the present invention is to arrange the counter wave to define a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave in order to cancel and / or suppress the harmful wave when propagated into the target space. It is. Another related object of the present invention is to define a phase angle that is at least partially similar to the phase angle of the harmful wave in order to counteract and / or suppress the harmful wave when propagated to the target space from the opposite side of the base unit. It is to arrange such counter waves. Another related object of the present invention is to counter the counter wave from the same side or the opposite side of the base unit with respect to the target space, while manipulating the phase angle of the counter wave so that counter waves from different counter units counter harmful waves in the target space. To emit.

본 발명의 또 다른 목적은, 그러한 카운터 파를 방출할 수 있는 적어도 하나의 카운터 유닛을 그러한 EMC 시스템에 제공하는 것이다. 따라서, 본 발명의 관련 목적은, 카운터 유닛으로부터 방출된 카운터 파가 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 파에 매칭하도록, 카운터 유닛의 적어도 하나의 특성 또는 구성 (예를 들어, 형상, 사이즈, 배열 등을 각각 의미함) 을 기본 유닛의 특성 또는 구성과 매칭시키는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파가 기본 유닛에 의한 유해한 파에 매칭하도록, 단일 기본 유닛의 형상을 정의하는 단일 카운터 유닛의 형상에 매칭하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 카운터 유닛으로부터 방출된 카운터 파가 다수의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파들의 합산에 매칭하도록, 다수의 기본 유닛의 배열과 단일 카운터 유닛의 형상을 매칭하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 다수의 카운터 유닛으로부터 방출된 그러한 카운터 파의 합산이 기본 유닛에 의한 유해한 파에 매칭하도록 단일 기본 유닛의 형상에 매칭하는 배열로 다수의 카운터 유닛을 배치시키는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 다수의 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파의 합산이 다수의 기본 유닛에 의한 유해한 파의 또 다른 합산에 매칭하도록 다수의 기본 유닛의 또 다른 배열에 매칭하는 배열로 다수의 카운터 유닛을 배열시키는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 전기적으로 도전성 재료, 반도전성 재료, 및/또는 절연 재료의 최소량을 사용하고, 카운터 유닛의 총 부피 또는 사이즈를 최소화하고, 그러한 카운터 유닛의 총 질량을 최소화하는 것 등을 행하면서, 그러한 카운터 유닛을 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관 련 목적은, 최소의 전기 에너지를 사용하고, 기본 유닛 또는 EMC 시스템의 다른 부분으로부터 최소량의 전류 또는 전압을 인출하는 것 등을 행하면서, 카운터 유닛에 의해 카운터 파를 방출하는 것이다.It is another object of the present invention to provide such an EMC system with at least one counter unit capable of emitting such counter waves. Thus, a related object of the present invention is to provide at least one characteristic or configuration (e.g., shape, size, arrangement, etc.) of the counter unit so that the counter wave emitted from the counter unit matches the harmful wave irradiated from the base unit. ) Means to match the characteristics or configuration of the base unit. Another related object of the present invention is to match the shape of a single counter unit that defines the shape of a single base unit such that the counter wave emitted by the counter unit matches the harmful wave by the base unit. Another related object of the present invention is to match the shape of a single counter unit with the arrangement of the plurality of base units such that the counter waves emitted from the counter unit match the sum of the harmful waves irradiated by the plurality of base units. Another related object of the present invention is to arrange the plurality of counter units in an arrangement that matches the shape of a single base unit such that the summation of such counter waves emitted from the plurality of counter units matches harmful waves by the base unit. Another related object of the present invention is to provide an arrangement that matches another arrangement of the plurality of base units such that the sum of counter waves emitted by the plurality of counter units matches another sum of harmful waves by the plurality of base units. It is to arrange a plurality of counter units. Another related object of the present invention is to use a minimum amount of electrically conductive material, semiconductive material, and / or insulating material, minimize the total volume or size of the counter unit, and minimize the total mass of such counter unit. Etc., such a counter unit is provided. Another related object of the present invention is to emit a counter wave by the counter unit while using a minimum amount of electrical energy and drawing a minimum amount of current or voltage from the base unit or other part of the EMC system. will be.

본 발명의 또 다른 목적은, 적어도 하나의 기본 유닛의 형상에 매칭하는 적어도 하나의 카운터 유닛을 그 내에 포함하는 EMC 시스템을 제공하는 것이다. 따라서, 본 발명의 관련 목적은, 3-차원 기본 유닛의 1-차원, 2-차원, 또는 3-차원 유사물로서 카운터 유닛을 형성하고, 단일 또는 다수의 유사물에 의해 단일 또는 다수의 기본 유닛을 카운터링하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 3-차원 기본 유닛의 1-차원 또는 2-차원 유사물로서 카운터 유닛을 제공하고, 단일 또는 다수의 유사물에 의해 단일 또는 다수의 기본 유닛을 카운터링하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 2-차원 기본 유닛의 1-차원 또는 2-차원 유사물로서 카운터 유닛을 제공하고, 그 후, 단일 또는 다수의 유사물로 단일 또는 다수의 기본 유닛을 카운터링하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 2-차원 기본 유닛의 1-차원 유사물로서 카운터 유닛을 형성하고, 단일 또는 다수의 유사물에 의해 단일 또는 다수의 기본 유닛을 카운터링하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 1-차원 기본 유닛의 1-차원 유사물로서 카운터 유닛을 제공하고, 단일 또는 다수의 유사물을 사용하여 단일 또는 다수의 기본 유닛을 카운터링하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 1-차원, 2-차원 및/또는 3-차원 기본 유닛의 1-차원, 2-차원 및/또는 3-차원 유사물로서 그러한 카운터 유닛을 제공하고, 그 후, 혼합된 차원의 카운터 유닛에 의해 혼합된 차원의 기본 유닛을 카운터 링하는 것이다. 이러한 목적들에서, 그러한 카운터 유닛은, 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파에 매칭할 수 있는 카운터 파를 방출한다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파와 그러한 유해한 파를 매칭시키기 위해, 기본 유닛의 형상에 일치한 그 카운터 유닛을 형성하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 기본 유닛의 형상에 일치하지 않지만, 카운터 유닛에 의해 방출된 그러한 카운터 파에 의하여 유해한 파에 매칭하기 위한 배열로 배치되는 그 카운터 유닛을 형성하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 기본 유닛의 형상에 매칭시키고 유해한 파에 매칭하는 카운터 파를 방출시키기 위해, 하나 또는 다수의 와이어, 스트립, 시트, 튜브, 코일, 나선, 메시 (mesh), 그들의 혼합물, 그들의 결합물, 및/또는 그들의 어레이의 형상으로 카운터 유닛을 형성하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 상기 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파의 적어도 일부의 파면을 유해한 파의 적어도 일부의 파면에 매칭시키기 위해, 기본 유닛으로부터의 미리 설정된 거리내에 상기 카운터 유닛 중 임의의 유닛을 배치시키는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 카운터 파의 적어도 일부의 파면을 유해한 파의 적어도 일부와 매칭시키기 위해, 기본 유닛에 관해 미리 설정된 배열로 상기 카운터 유닛 중 임의의 유닛을 배치시키는 것이다.It is a further object of the present invention to provide an EMC system comprising therein at least one counter unit that matches the shape of at least one base unit. Thus, a related object of the present invention is to form a counter unit as a one-dimensional, two-dimensional, or three-dimensional analogue of a three-dimensional basic unit, and by a single or multiple analogs to a single or multiple basic units To counter. Another related object of the present invention is to provide a counter unit as a one-dimensional or two-dimensional analogue of a three-dimensional basic unit, and to counter a single or multiple basic units by a single or multiple analogues. . Another related object of the present invention is to provide a counter unit as a one-dimensional or two-dimensional analogue of a two-dimensional basic unit, and then counter a single or multiple basic units with a single or multiple analogues. It is. Another related object of the present invention is to form a counter unit as a one-dimensional analogue of a two-dimensional basic unit and to counter a single or multiple basic units by a single or multiple analogs. Another related object of the present invention is to provide a counter unit as a one-dimensional analogue of a one-dimensional basic unit, and to counter a single or multiple basic units using a single or multiple analogues. Another related object of the present invention is to provide such counter units as one-dimensional, two-dimensional and / or three-dimensional analogues of one-dimensional, two-dimensional and / or three-dimensional basic units, and then In this case, the counter unit of the mixed dimension is countered by the mixed unit counter. For these purposes, such a counter unit emits a counter wave that can match the harmful wave irradiated by the base unit. Another related object of the present invention is to form a counter unit that matches the shape of the base unit in order to match the counter wave emitted by the counter unit with such a harmful wave. Another related object of the present invention is to form the counter unit, which does not match the shape of the base unit, but which is arranged in an arrangement for matching harmful waves by such counter waves emitted by the counter unit. Another related object of the present invention is to provide one or more wires, strips, sheets, tubes, coils, spirals, meshes, their in order to emit counter waves matching the shape of the base unit and matching harmful waves. To form counter units in the shape of mixtures, combinations thereof, and / or arrays thereof. Another related object of the invention is that any of the counter units within a predetermined distance from the base unit, in order to match the wavefront of at least some of the counter waves emitted by the counter unit to the wavefronts of at least some of the harmful waves. To deploy units. Another related object of the present invention is to arrange any of the counter units in a predetermined arrangement with respect to the base unit in order to match the wavefront of at least some of the counter waves with at least some of the harmful waves.

본 발명의 또 다른 목적은, 적어도 하나의 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파와 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파를 매칭시키기 위해, 기본 유닛의 사이즈에 동작적으로 매칭하는 사이즈를 갖는 적어도 하나의 카운터 유닛을 그 내에 포함한 EMC 시스템을 제공하는 것이다. 따라서, 본 발명의 관련 목적은 기본 유닛보다 더 크고, 더 넓고 및/또는 더 긴 카운터 유닛을 제공하는 것이며, 여기서, 그러한 카운터 유닛은 그러한 매칭을 위해 타겟 공간과 그 기본 유닛 사이에 배치되는 것이 바람직하다 (이하, '전면 배열' 로 지칭됨). 본 발명의 또 다른 관련 목적은 기본 유닛의 사이즈, 폭, 및/또는 길이와 유사한 (또는 동일한) 사이즈, 폭, 및/또는 길이를 정의하는 카운터 유닛을 형성하는 것이며, 여기서, 그 카운터 유닛은 매칭을 위해 타겟 공간에 관하여 기본 유닛에 대해 측면으로 또는 나란히 배치되는 것이 바람직하다 (이하, '측면 배열' 로 지칭됨). 본 발명의 또 다른 관련 목적은 기본 유닛보다 더 작고, 더 협소하고 및/또는 더 짧은 카운터 유닛을 형성하는 것이며, 여기서, 그 카운터 유닛은 매칭을 위해 기본 유닛에 관하여 타겟 공간의 반대측상에 배치되는 것이 바람직하다 (이하, '후면 배열' 로 지칭됨). 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 그러한 매칭을 위해, 기본 유닛에 의해 카운터 유닛의 적어도 일부를 둘러싸거나, 다른 방법으로, 카운터 유닛에 의해 기본 유닛의 적어도 일부를 둘러싸는 것이다 (이하, '동심 배열 (concentric arrangement)' 로 지칭됨). 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 그러한 매칭을 위하여 단일 기본 유닛에 관해 그러한 전면, 측면, 후면 또는 동심 배열로 다수의 카운터 유닛을 배치시키는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 그러한 매칭을 위하여 다수의 기본 유닛에 관해 전면, 측면, 후면 또는 동심 배열로 배치된 단일 또는 다수의 카운터 유닛을 형성하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은 다수의 카운터 유닛을 정의하는 것이며, 그러한 매칭을 위하여, 그 다수의 카운터 유닛 모두는 모든 다수의 기본 유닛에 관해 그러한 전면, 측면, 후면 및 동심 배열들 중 하나의 배열만으로 배치되거나, 그러한 다수의 카운터 유닛 중 적어도 2개의 카운터 유닛은 다수의 기본 유닛 중 적어도 2개의 기본 유닛에 관해 상이한 (또는 혼합된) 배열로 배치된다.Another object of the present invention is to provide at least one counter unit having a size operatively matching the size of the base unit to match the counter wave emitted by the at least one counter unit with the harmful wave irradiated by the base unit. It is to provide EMC system including in it. Accordingly, a related object of the present invention is to provide a counter unit that is larger, wider and / or longer than the base unit, where such counter unit is preferably arranged between the target space and the base unit for such matching. (Hereinafter referred to as 'front array'). Another related object of the present invention is to form a counter unit that defines a size, width, and / or length that is similar (or identical) to the size, width, and / or length of the base unit, where the counter unit is a match. It is preferred for them to be arranged laterally or side by side with respect to the base unit with respect to the target space (hereinafter referred to as 'side arrangement'). Another related object of the invention is to form a counter unit which is smaller, narrower and / or shorter than the base unit, where the counter unit is arranged on the opposite side of the target space with respect to the base unit for matching. It is preferred (hereinafter referred to as 'rear arrangement'). Another related object of the present invention is to enclose at least a part of the counter unit by the base unit for such a match, or alternatively enclose at least a part of the base unit by the counter unit (hereinafter referred to as' concentric arrangement (concentric arrangement) '. Another related object of the present invention is to arrange multiple counter units in such a front, side, rear or concentric arrangement with respect to a single base unit for such a match. Another related object of the present invention is to form a single or multiple counter units arranged in front, side, rear or concentric arrangement with respect to multiple base units for such matching. Another related object of the present invention is to define a plurality of counter units, for which matching all of the plurality of counter units are arranged in one of such front, side, rear and concentric arrangements with respect to all of the plurality of basic units. Or at least two of the plurality of counter units are arranged in a different (or mixed) arrangement with respect to at least two of the plurality of base units.

본 발명의 또 다른 목적은, 기본 유닛의 배치에 매칭하는 배치 (예를 들어, 배향, 정렬, 및 거리) 에서 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함하는 EMC 시스템을 제공하는 것이다. 따라서, 본 발명의 관련 목적은, 그러한 매칭을 위하여, 유해한 파의 전파 방향, 전류가 기본 유닛에 흐르는 또 다른 방향, 전압이 기본 유닛에 걸쳐 인가된 또 다른 방향, 기본 유닛의 종축 방향, 및/또는 기본 유닛의 단축 방향으로 카운터 유닛을 배향시키는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은 다수의 카운터 유닛을 형성하는 것이며, 그러한 매칭을 위하여, 그 다수의 카운터 유닛 모두는 동일한 방향들 또는 축들 중 하나의 방향 또는 축으로 배향되고, 그 다수의 카운터 유닛 중 적어도 2개의 카운터 유닛은 상이한 방향들 및/또는 축들을 따라 배향되며, 그 다수의 카운터 유닛 모두는 상이한 방향들 또는 축들로 배향된다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 매칭을 위하여, 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파가 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파와 축 방향으로 정렬하도록, 기본 유닛에 관해 카운터 유닛을 축 방향으로 정렬시키는 것이다 (이하, '축 정렬' 로 지칭됨). 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 그러한 매칭을 위해, 기본 유닛과 함께 카운터 유닛을 축 방향으로 오정렬시키지만 (이하, '오프-축 정렬 (off-axis alignment)' 로 지칭됨), 미리 설정된 배열로 카운터 유닛을 배치시키는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 그러한 매칭을 위하여 단일 기본 유닛에 관해 축 정렬 또는 오프-축 정렬로 배치된 다수의 카운터 유닛을 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 그러한 매칭을 위하여 다수의 기본 유닛에 관해 축 정렬 또는 오프-축 정렬로 배치된 단일 또는 다수의 카운터 유닛을 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은 다수의 카운터 유닛을 정의하는 것이며, 매칭을 위하여, 그러한 다수의 카운터 유닛 모두는 모든 다수의 기본 유닛에 관해 축 정렬 또는 오프-축 정렬로 배치되거나, 그러한 다수의 카운터 유닛 중 적어도 2개의 카운터 유닛은 다수의 기본 유닛 중 적어도 2개의 기본 유닛에 관해 상이한 (또는 혼합된) 정렬로 배치된다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 매칭을 위하여, 카운터 유닛으로부터의 카운터 파의 적어도 일부의 파면이 기본 유닛으로부터의 유해한 파의 적어도 일부의 파면에 매칭하도록, 기본 유닛으로부터의 미리 설정된 거리에 카운터 유닛을 배치시키는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 그러한 매칭을 위해 다수의 기본 유닛의 각각 (또는 적어도 2개) 로부터의 미리 설정된 거리에 단일 카운터 유닛을 배치시키는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 매칭을 위하여, 단일 기본 유닛으로부터의 미리 설정된 거리에, 또는 다른 방법으로, 다수의 기본 유닛의 각각 (또는 적어도 2개) 로부터의 미리 설정된 거리에 다수의 카운터 유닛을 배치시키는 것이다.It is a further object of the present invention to provide an EMC system comprising at least one counter unit in an arrangement (eg, orientation, alignment, and distance) that matches an arrangement of the base unit. Thus, a related object of the present invention is that, for such matching, the propagation direction of a harmful wave, another direction in which current flows through the base unit, another direction in which voltage is applied across the base unit, the longitudinal axis direction of the base unit, and / Orient the counter unit in the minor axis direction of the base unit. Another related object of the present invention is to form a plurality of counter units, and for such matching, all of the plurality of counter units are oriented in the direction or axis of one of the same directions or axes, and among the plurality of counter units. At least two counter units are oriented along different directions and / or axes, and all of the plurality of counter units are oriented in different directions or axes. Another related object of the present invention is to align the counter unit in the axial direction with respect to the base unit such that, for matching, the counter wave emitted by the counter unit axially aligns with the harmful wave irradiated by the base unit ( Hereinafter referred to as 'axis alignment'). Another related object of the present invention is to align the counter unit with the base unit in the axial direction for such matching (hereinafter referred to as 'off-axis alignment'), but in a preset arrangement. The counter unit is placed. Another related object of the present invention is to provide a plurality of counter units arranged in axial alignment or off-axis alignment with respect to a single base unit for such matching. Another related object of the present invention is to provide a single or multiple counter units arranged in axial alignment or off-axis alignment with respect to multiple base units for such matching. Another related object of the present invention is to define multiple counter units, and for matching, all such multiple counter units are arranged in axial alignment or off-axis alignment with respect to all multiple base units, or such multiple counters At least two counter units of the units are arranged in different (or mixed) alignments with respect to at least two of the plurality of base units. Another related object of the present invention is a counter unit at a predetermined distance from the base unit such that, for matching, at least some wavefront of the counter wave from the counter unit matches at least some wavefront of the harmful wave from the base unit. To place it. Another related object of the present invention is to place a single counter unit at a predetermined distance from each (or at least two) of the plurality of base units for such matching. Another related object of the present invention is a plurality of counter units at a predetermined distance from a single base unit or, alternatively, at a predetermined distance from each (or at least two) of the plurality of base units for matching. To place it.

본 발명의 또 다른 목적은, 유해한 파의 진폭에 매칭하는 진폭을 갖는 카운터 파를 방출하는 적어도 하나의 카운터 유닛을 그 내에 포함하는 EMC 시스템을 제공하는 것이다. 따라서, 본 발명의 관련 목적은 유해한 파의 진폭보다 더 큰 진폭을 갖는 카운터 파를 방출하는 카운터 유닛을 제공하는 것이며, 여기서, 이러 한 카운터 유닛은 그러한 매칭을 위해 기본 유닛과 비교하여 타겟 공간으로부터 이격하여, 또는 후면 배열로 배치되는 것이 바람직하다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은 유해한 파의 진폭과 유사한 (또는 동일한) 진폭을 갖는 카운터 파를 방출하는 카운터 유닛을 형성하는 것이며, 여기서, 그러한 카운터 유닛은 매칭을 위하여 타겟 공간에 관해 기본 유닛과 함께 나란히 또는 측면 배열로 배치되는 것이 바람직하다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은 유해한 파의 진폭보다 작은 진폭을 갖는 카운터 파를 방출하는 카운터 유닛을 형성하는 것이며, 여기서, 이러한 카운터 유닛은 매칭을 위하여 기본 유닛보다 타겟 공간에 더 근접하게 또는 전면 배열로 배치되는 것이 바람직하다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은 카운터 파를 방출하는 다수의 카운터 유닛을 제공하는 것이며, 그 카운터 파의 합산은, 단일 기본 유닛의 진폭, 다수의 기본 유닛 모두의 진폭, 다수의 카운터 유닛 모두는 아니지만 적어도 2개의 카운터 유닛의 진폭 등보다 더 크거나, 유사하거나 더 작은 진폭을 정의할 수도 있다.It is a further object of the present invention to provide an EMC system comprising therein at least one counter unit that emits a counter wave having an amplitude that matches the amplitude of the harmful wave. Accordingly, a related object of the present invention is to provide a counter unit that emits a counter wave having an amplitude greater than that of the harmful wave, where such counter unit is spaced from the target space compared to the base unit for such matching. Or arranged in a rear array. Another related object of the present invention is to form a counter unit that emits a counter wave having an amplitude similar (or the same) to that of the harmful wave, where such counter unit is combined with the base unit with respect to the target space for matching. It is preferred to be arranged side by side or in a side arrangement. Another related object of the present invention is to form a counter unit that emits a counter wave having an amplitude smaller than that of the harmful wave, where the counter unit is arranged closer to the target space or closer to the target space than the base unit for matching. It is preferable to arrange as. It is yet another related object of the present invention to provide a plurality of counter units that emit counter waves, the sum of the counter waves being not the amplitude of a single base unit, the amplitude of all of the plurality of base units, but not all of the plurality of counter units. It is also possible to define an amplitude that is greater, similar or smaller than the amplitudes of at least two counter units and the like.

본 발명의 또 다른 목적은, 유해한 파의 적어도 일부에 매칭하는 카운터 파를 방출하고, 그에 따라 그 유해한 파를 카운터링할 수 있는 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함하는 그러한 EMC 시스템을 제공하는 것이다. 따라서, 본 발명의 관련 목적은, 타겟 공간에서 유해한 파의 파면 중 적어도 하나의 파면에 매칭하는 다수의 파면을 정의하는 그러한 카운터 파를 방출하는 카운터 유닛을 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 유해한 파의 파면 중 적어도 하나의 파면의 적어도 일부를 따라 카운터 유닛을 배치시키고, 그 유해한 파의 파면의 그러한 일부에 매칭하는 카운터 파를 방출하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 유해한 파의 파면 중 적어도 하나의 파면의 적어도 일부를 따라 다수의 카운터 유닛을 배치시키고, 카운터 파를 방출하는 것이며, 그 카운터 파의 합산은 그 유해한 파의 파면의 그러한 일부에 매칭한다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 유해한 파의 그러한 파면 중 적어도 2개에 걸쳐 카운터 유닛을 배치시키지만, 그 유해한 파의 파면 중 적어도 하나의 파면의 적어도 일부에 매칭할 수 있는 카운터 파를 방출하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 적어도 2개의 카운터 유닛이 유해한 파의 파면 중 적어도 2개의 파면에 걸쳐 배치되는 다수의 카운터 유닛을 제공하지만, 그 유해한 파의 파면의 일부에 매칭할 수 있는 카운터 파를 방출하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 유해한 파의 적어도 일부의 곡률 반경에 매칭하는 곡률 반경을 갖는 카운터 파를 방출하기 위해, 그러한 카운터 유닛을 형성 및 사이징하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파가, 유해한 파의 적어도 일부의 곡률 반경에 매칭하는 곡률 반경을 정의하는 기본 유닛으로부터의 미리 설정된 거리 또는 미리 설정된 위치에 카운터 유닛을 배치시키는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 카운터 파의 합산이 단일 기본 유닛 또는 다수의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파에 매칭하는 곡률 반경을 정의하는 그러한 카운터 파를 방출하는 다수의 카운터 유닛을 형성 및 사이징하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 하나 또는 다수의 와이어, 스트립, 시트, 튜브, 코일, 나선, 메시, 그들의 혼합물, 그들의 결합물, 및/또는 그들의 어레이의 형상으로 카운터 유닛을 제공하고, 기본 유닛으로부 터의 유해한 파의 적어도 하나의 파면의 적어도 일부에 매칭할 수 있는 카운터 파를 방출하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 매칭을 위하여 카운터 유닛에 걸쳐 임의의 개구부 또는 홀 (hole) 을 형성하지 않고, 입체적 형상 (solid shape) 으로 그 카운터 유닛을 제조하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 그러한 매칭을 위하여 카운터 유닛에 걸쳐 다수의 홀 또는 개구부를 정의하는 어레이로서 그 카운터 유닛을 제조하는 것이다.It is a further object of the present invention to provide such an EMC system comprising at least one counter unit capable of emitting a counter wave matching at least a portion of the harmful wave and thus countering the harmful wave. It is therefore a related object of the present invention to provide a counter unit that emits such counter waves that define a plurality of wavefronts that match at least one of the wavefronts of the harmful wave in the target space. Another related object of the present invention is to place a counter unit along at least a portion of at least one wavefront of the harmful wave and emit a counter wave that matches that portion of the wavefront of the harmful wave. Another related object of the present invention is to arrange a plurality of counter units along at least a portion of at least one wavefront of a harmful wave and to emit a counter wave, the sum of the counter waves being based on the wavefront of the harmful wave. Matches that part. Another related object of the present invention is to emit a counter wave that arranges a counter unit over at least two of such wavefronts of the harmful wave, but which can match at least a portion of at least one wavefront of the harmful wave. . Another related object of the present invention is to provide a plurality of counter units in which at least two counter units are disposed over at least two wavefronts of the harmful wave, but which can match a portion of the wavefront of the harmful wave. To emit. Another related object of the present invention is to form and size such a counter unit to emit a counter wave having a radius of curvature that matches the radius of curvature of at least a portion of the harmful wave. Another related object of the present invention is to provide a counter unit at a preset distance or at a predetermined position from a base unit that defines a radius of curvature where the counter wave emitted by the counter unit matches the radius of curvature of at least a portion of the harmful wave. To deploy. Another related object of the present invention is to form and size multiple counter units that emit such counter waves, the sum of the counter waves defining a radius of curvature that matches the harmful waves irradiated by a single base unit or multiple base units. It is. Another related object of the present invention is to provide a counter unit in the form of one or more wires, strips, sheets, tubes, coils, spirals, meshes, mixtures thereof, combinations thereof, and / or arrays thereof, and a basic unit It is to emit a counter wave that can match at least a portion of at least one wavefront of the harmful wave from. Another related object of the present invention is to manufacture the counter unit in a solid shape without forming any openings or holes over the counter unit for matching. Another related object of the present invention is to manufacture the counter unit as an array defining a plurality of holes or openings over the counter unit for such matching.

본 발명의 또 다른 목적은, 카운터 파를 방출하여, 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 파를 로컬적으로 카운터링하는 적어도 하나의 카운터 유닛을 그 내에 포함하는 EMC 시스템을 제공하는 것이다. 따라서, 본 발명의 관련 목적은, 단일 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파에 의하여 단일 기본 유닛으로부터의 유해한 파를 로컬적으로 카운터링하는 그 단일 카운터 유닛을 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은 다수의 카운터 유닛을 제공하는 것이며, 그 다수의 카운터 유닛 각각은, 다수의 카운터 유닛 각각으로부터 방출된 카운터 파로 동일 수 (또는 더 적은 수) 의 기본 유닛 중 하나의 기본 유닛으로부터만의 유해한 파를 로컬적으로 카운터링한다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 그러한 로컬 카운터링을 위하여 단일 기본 유닛 (또는 다수의 기본 유닛) 의 특성과 유사한 (또는 동일한) 특성 (또는 구성) 을 정의하는 단일 카운터 유닛 (또는 다수의 카운터 유닛) 을 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 그러한 로컬 카운터링을 위하여, 단일 기본 유닛 (또는 다수의 기본 유닛) 으로부터 조사된 유해한 파의 파면 중 적어도 하나의 파면에 매칭한 파면을 정의하는 카운터 파를 방출하는 단일 카운터 유닛 (또는 다수의 카운터 유닛) 을 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은 다수의 카운터 유닛을 제공하는 것이며, 그 다수의 카운터 유닛 중 적어도 하나의 카운터 유닛은 기본 유닛의 특성과 유사한 (또는 동일한) 특성 (또는 구성) 을 정의하고, 그 다수의 카운터 유닛 중 적어도 또 다른 카운터 유닛은 그러한 로컬 카운터링을 위하여 기본 유닛으로부터의 유해한 파의 파면 중 적어도 하나에 매칭한 파면을 정의한다.It is a further object of the present invention to provide an EMC system comprising at least one counter unit therein which emits a counter wave and locally counters the harmful waves emitted from the base unit. Accordingly, a related object of the present invention is to provide a single counter unit which locally counters harmful waves from a single base unit by a counter wave emitted by the single counter unit. Another related object of the present invention is to provide a plurality of counter units, each of which comprises a base of one of the same number (or fewer) of base units with a counter wave emitted from each of the plurality of counter units. Locally counter harmful waves only from the unit. Another related object of the present invention is a single counter unit (or multiple counter units) which defines for such local countering a characteristic (or configuration) that is similar (or identical) to that of a single base unit (or multiple base units). ) Is provided. Another related object of the present invention is to emit a counter wave for such local countering that defines a wavefront that matches at least one wavefront of the harmful wave irradiated from a single base unit (or multiple base units). It is to provide a single counter unit (or multiple counter units). Another related object of the present invention is to provide a plurality of counter units, at least one of the plurality of counter units defining a characteristic (or configuration) that is similar (or identical) to that of the base unit, At least another one of the counter units of defines a wavefront that matches at least one of the wavefronts of the harmful wave from the base unit for such local countering.

본 발명의 또 다른 목적은, 카운터를 방출하여, 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 파를 글로벌적으로 카운터링하는 적어도 하나의 카운터 유닛을 그 내에 포함하는 EMC 시스템을 제공하는 것이다. 따라서, 본 발명의 관련 목적은, 각각이 하나 또는 더 적은 수의 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 파를 글로벌적으로 매칭하기 위해 카운터 파를 방출하는 하나 또는 다수의 카운터 유닛을 형성하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 단일 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파에 의하여, 다수의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파의 합산을 글로벌적으로 카운터링하는 그 단일 카운터 유닛을 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은 다수의 카운터 유닛을 형성하는 것이며, 그 다수의 카운터 유닛 각각은, 다수의 카운터 유닛 각각에 의해 방출된 카운터 파에 의하여 적어도 2개의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파를 글로벌적으로 카운터링한다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 글로벌 카운터링을 위하여, 적어도 2개의 (또는 더 큰 수의) 기본 유닛의 특성과 유사한 (또는 동일한) 특성 (또는 구성) 을 정의하는 단일 카운터 유닛 (또는 다수의 카운터 유닛) 을 정의하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 글로벌 카운터링을 위하여, 적어도 2개의 (또는 더 큰 수의) 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 파의 파면 중 적어도 하나의 파면에 매칭하는 파면을 정의한 카운터 파를 방출하는 단일 카운터 유닛 (또는 다수의 카운터 유닛) 을 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은 다수의 카운터 유닛을 제공하는 것이며, 그러한 로컬 카운터링을 위하여, 그 다수의 카운터 유닛 중 적어도 하나의 카운터 유닛은 적어도 2개의 기본 유닛의 특성과 유사한 (또는 동일한) 특성 (또는 구성) 을 정의하고, 그 다수의 카운터 유닛 중 적어도 또 다른 카운터 유닛은 적어도 2개의 다른 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파의 적어도 하나의 파면에 매칭하는 파면을 정의한다.It is a further object of the present invention to provide an EMC system comprising at least one counter unit therein which emits a counter and globally counters harmful waves emitted from the base unit. Thus, a related object of the present invention is to form one or multiple counter units, each emitting counter waves to globally match harmful waves emitted from one or fewer base units. Another related object of the present invention is to provide a single counter unit which globally counters the sum of harmful waves irradiated by a plurality of base units by a counter wave emitted by a single counter unit. Another related object of the present invention is to form a plurality of counter units, each of which counters harmful waves irradiated by at least two basic units by counter waves emitted by each of the plurality of counter units. Counter globally. Another related object of the present invention is a single counter unit (or multiple) that defines, for global countering, a characteristic (or configuration) that is similar (or identical) to that of at least two (or larger number) base units. Counter unit). Another related object of the present invention is to emit a counter wave that defines a wavefront that matches the wavefront of at least one of the harmful waves irradiated from the at least two (or larger number) base units for global countering. It is to provide a single counter unit (or multiple counter units). Another related object of the present invention is to provide a plurality of counter units, and for such local countering, at least one counter unit of the plurality of counter units has characteristics similar (or identical) to those of at least two basic units. (Or configuration) and at least another counter unit of the plurality of counter units defines a wavefront that matches at least one wavefront of the harmful wave irradiated by at least two other base units.

본 발명의 또 다른 목적은, 기본 유닛 및/또는 타겟 공간에 관해 정의된 미리 설정된 위치 또는 장소에 배치된 적어도 하나의 카운터 유닛을 그 내에 포함하는 EMC 시스템을 제공하는 것이다. 따라서, 본 발명의 관련 목적은, 기본 유닛의 외부 표면 상에 (또는 위에) 카운터 유닛을 배치시키고, 기본 유닛의 내부 표면상에 (또는 아래) 카운터 유닛을 배치시키며, 기본 유닛 내에 카운터 유닛의 적어도 일부를 삽입하는 것 등이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 케이스 부재 (case member) 를 그 시스템에 제공하고, 그 케이스 부재의 외부 표면상에 (또는 위에) 카운터 유닛을 배치시키고, 그 케이스 부재의 내부 표면상에 (또는 아래에) 그러한 카운터 유닛을 배치키시고, 그 케이스 부재 내에 카운터 유닛의 적어도 일부를 삽입하며, 그 케이스 부재와 기본 유닛 사이에 카운터 유닛을 배치시키는 것 등이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 예를 들어, 케이스 부재를 통해 카운 터 유닛의 적어도 일부 (또는 전부) 를 노출시키는 것, 케이스 부재내에 카운터 유닛의 전체 부분을 둘러싸는 것 등과 같이 케이스 부재와 미리 설정된 관계로 카운터 유닛을 배치시키는 것이다.It is a further object of the present invention to provide an EMC system comprising therein at least one counter unit arranged at a preset location or location defined with respect to the base unit and / or the target space. Accordingly, a related object of the present invention is to place a counter unit on (or over) an outer surface of a base unit, to place a counter unit on (or below) an inner surface of a base unit, and to at least have a counter unit within the base unit. Insert some. Another related object of the present invention is to provide a case member to the system, to arrange a counter unit on (or over) an outer surface of the case member, and to (or on) an inner surface of the case member. Such counter unit), at least a part of the counter unit is inserted into the case member, and the counter unit is disposed between the case member and the base unit. Another related object of the present invention is to predetermine with the case member, for example by exposing at least a portion (or all) of the counter unit through the case member, enclosing the entire part of the counter unit in the case member, or the like. The counter unit is arranged in a set relationship.

본 발명의 또 다른 목적은, 미리 설정된 방향을 따라 전파하는 카운터 파를 방출하는 적어도 하나의 카운터 유닛을 그 내에 포함한 EMC 시스템을 제공하는 것이다. 따라서, 본 발명의 관련 목적은, 예를 들어, 유해한 파에 관한 미리 설정된 각에서, 유해한 파와 평행, 유해한 파와 수직 등과 같이 그 유해한 파의 전파 방향과 미리 설정된 관계에 기초하여 정의된 방향을 따라 카운터 파가 전파하기 위해, 기본 유닛에 관해 고정된 방향으로 카운터 파를 항상 방출하도록 카운터 유닛을 배열시키는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 유해한 파의 전파 방향에 관해 가변 방향으로 카운터 파를 방출하도록 카운터 유닛을 배열시키는 것이며, 여기서, 그러한 카운터 유닛은, 그러한 카운터 파의 방향을 변경시키기 위해 가변 방향을 따라 그 카운터 유닛의 배열 및/또는 배향을 변경시키고, 및/또는 전류 및/또는 전압을 수신하도록 배열된다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 유해한 파의 가변 전파 방향에 의해 적응적으로 결정되는 방향으로 카운터 파를 방출하도록 카운터 유닛을 배열시키는 것이며, 여기서, 그러한 카운터 유닛은, 상술된 바와 같이 카운터 파의 방향을 변경시킬 수도 있다. 따라서, 그러한 카운터 유닛은 그의 배열 및/또는 배향에 기초하여 카운터링의 범위를 변경시킬 수도 있다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 상술되었던 미리 설정된 관계에 기초하여 그러한 유해한 파의 전파 방향과 카운터 파의 전파 방향을 동기화시키는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 카운터 파의 방향을 조작하는 메커니즘과 유사한 다양한 메커니즘으로 그 카운터 파의 진폭을 조작하도록 카운터 유닛을 배열시키는 것이다.Another object of the present invention is to provide an EMC system including therein at least one counter unit that emits a counter wave propagating along a predetermined direction. Accordingly, a related object of the present invention is a counter along a defined direction based on a preset relationship with the propagation direction of the harmful wave, such as, for example, at a preset angle with respect to the harmful wave, parallel to the harmful wave, perpendicular to the harmful wave, and the like. In order for the wave to propagate, the counter unit is arranged to always emit a counter wave in a fixed direction with respect to the base unit. Another related object of the present invention is to arrange a counter unit to emit a counter wave in a variable direction with respect to the propagation direction of a harmful wave, wherein such counter unit is arranged in a variable direction to change the direction of such a counter wave. Accordingly changing the arrangement and / or orientation of the counter unit and / or receiving current and / or voltage. Another related object of the present invention is to arrange a counter unit to emit a counter wave in a direction adaptively determined by the variable propagation direction of the harmful wave, wherein such a counter unit is configured as described above. You can also change the direction. Thus, such counter units may change the range of countering based on their arrangement and / or orientation. Another related object of the present invention is to synchronize the propagation direction of the counter wave with the propagation direction of such a harmful wave based on the above-described preset relationship. Another related object of the present invention is to arrange the counter unit to manipulate the amplitude of the counter wave in various mechanisms similar to the mechanism for manipulating the direction of the counter wave.

본 발명의 또 다른 목적은, 상기 카운터 유닛 중 적어도 하나의 카운터 유닛을 EMC 시스템에 제공하고, 그 카운터 유닛에 의해 방출된 그러한 카운터 파에 의하여 그러한 유해한 파를 카운터링하기 위해, 그 카운터 유닛에 전류 또는 전압을 공급하는 것이다. 따라서, 본 발명의 관련 목적은, 상기 기본 유닛 또는 다수의 기본 유닛 중 적어도 하나의 기본 유닛에 공급되는 전류 또는 전압을 카운터 유닛에 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 그러한 기본 유닛 또는 다수의 기본 유닛 중 적어도 하나의 기본 유닛에 공급되는 전류 또는 전압의 전체 부분이 아니라 적어도 일부를 카운터 유닛에 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 카운터 유닛에 공급되기 전에 진폭 및/또는 방향이 변경되는 전류 또는 전압의 그러한 일부를 카운터 유닛에 제공하는 것이다. 이러한 모든 예에서, 카운터 유닛에 공급된 전류 또는 전압은, 기본 유닛 또는 다수의 기본 유닛 중 적어도 하나에 공급된 그러한 전류 또는 전압과 자동적으로 동기화된다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 기본 유닛 또는 다수의 기본 유닛 중 적어도 하나의 기본 유닛에 공급되는 전류 또는 전압이 아니라 그러한 기본 유닛에 공급된 전류 또는 전압과 적어도 부분적으로 동기화되는 전류 또는 전압을 카운터 유닛에 공급하는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 카운터 유닛의 구성 및/또는 배치에 의존하여 전류 또는 전압의 진폭 또는 방향을 조작하는 것이다. 본 발 명의 또 다른 관련 목적은, 병렬로, 직렬로 또는 하이브리드 모드로 기본 유닛과 카운터 유닛을 전기적으로 커플링시키는 것이다. 본 발명의 또 다른 관련 목적은, 예를 들어, 먼저 기본 유닛 그 후 카운터 유닛, 먼저 카운터 유닛 그 후 카운터 유닛, 먼저 다수의 카운터 유닛 중 하나의 카운터 유닛 그 후 나머지 카운터 유닛 또는 기본 유닛, 먼저 다수의 기본 유닛 중 하나의 기본 유닛 그 후 나머지 기본 유닛 또는 카운터 유닛, 동시에 카운터 유닛 및 기본 유닛 등과 같은 다양한 시퀀스에 기초하여, 그러한 전류 또는 전압을 공급하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a counter unit with at least one of the counter units to an EMC system, and to counter such harmful waves by such counter waves emitted by the counter unit. Or to supply voltage. Accordingly, a related object of the present invention is to provide a counter unit with a current or voltage supplied to at least one of the base unit or a plurality of base units. Another related object of the present invention is to provide the counter unit with at least a part but not all of the current or voltage supplied to at least one of such a base unit or a plurality of base units. Another related object of the present invention is to provide the counter unit with such a portion of the current or voltage whose amplitude and / or direction is changed before being supplied to the counter unit. In all these examples, the current or voltage supplied to the counter unit is automatically synchronized with such current or voltage supplied to at least one of the base unit or a plurality of base units. Another related object of the present invention is to counter a current or voltage that is at least partially synchronized with the current or voltage supplied to such a base unit, not the current or voltage supplied to the base unit or to at least one of the plurality of base units. To the unit. Another related object of the present invention is to manipulate the amplitude or direction of the current or voltage depending on the configuration and / or arrangement of the counter units. Another related object of the present invention is to electrically couple the base unit and the counter unit in parallel, in series or in hybrid mode. Another related object of the invention is, for example, first a base unit, then a counter unit, first a counter unit, then a counter unit, first one counter unit of the plurality of counter units, then the remaining counter unit or base unit, first multiple One of the base units of the base unit is then to supply such current or voltage, based on various sequences such as the remaining base unit or counter unit, at the same time the counter unit and the base unit.

카운터 유닛이 시스템의 다른 의도된 동작에 악영향을 주지 않도록 배열되는 것이 바람직하다는 것은 이러한 모든 목적에서 이해될 것이다. 예를 들어, EMC 스피커 시스템의 카운터 유닛은 그 시스템의 사운드 생성 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파를 효과적으로 카운터링할 수도 있지만, 그 유닛에 의해 생성된 어쿠스틱 사운드의 품질에 악영향을 주지 않을 수도 있다. 또 다른 예에서, EMC 액추에이터 시스템의 카운터 유닛은 그 시스템의 전동 기본 유닛에 의해 조사된 그러한 유해한 파를 효과적으로 카운터링할 수도 있지만, 그 유닛에 의해 생성된 기전력의 진폭에 악영향을 주지 않을 수도 있다. 또 다른 예에서, EMC 가열 시스템의 카운터 유닛은 또한 그 시스템의 가열 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파를 효과적으로 카운터링할 수도 있지만, 그 유닛에 의해 생성된 열 에너지의 양에 악영향을 주지 않을 수도 있다. 또 다른 예에서, EMC 트랜스포머 시스템의 카운터 유닛은 그 시스템의 변압 코일에 의해 조사된 유해한 파를 효과적으로 카운터링할 수도 있지만, 그 코일에 의해 획득된 전압 레벨에 악영향을 주지 않을 수도 있다. 또한, 카운터 유닛이 그러한 카운터링을 위해 유해한 파의 위상각에 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하는 카운터 파를 방출하도록 배열되는 것이 바람직하지만, 타겟 공간에 관해 기본 유닛의 반대측상에 배치되거나 시스템이 다수의 카운터 유닛을 포함할 경우, 카운터 유닛이 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 유사한 위상각을 정의하는 카운터 파를 또한 방출할 수도 방출할 수도 있다는 것을 인식할 것이며, 그 카운터 파의 파면의 곡률 반경을 변경시키는 것이 바람직하다. 또한, 유해한 파를 최대로 카운터링하기 위해 공동-계류중인 출원에 개시된 전기적 및/또는 자기적 쉴드가 단독으로 또는 상기 카운터 유닛과 결합하여 상기 EMC 시스템들 중 임의의 시스템에 포함될 수도 있다는 것을 인식할 것이다.It will be understood for all these purposes that the counter unit is preferably arranged so as not to adversely affect other intended operations of the system. For example, a counter unit of an EMC speaker system may effectively counter harmful waves emitted by the sound generating base unit of the system, but may not adversely affect the quality of the acoustic sound produced by the unit. In another example, the counter unit of the EMC actuator system may effectively counter such harmful waves irradiated by the motorized base unit of the system, but may not adversely affect the amplitude of the electromotive force generated by the unit. In another example, the counter unit of an EMC heating system may also effectively counter harmful waves radiated by the heating base unit of the system, but may not adversely affect the amount of thermal energy generated by the unit. . In another example, a counter unit of an EMC transformer system may effectively counter harmful waves radiated by the transformer coil of the system, but may not adversely affect the voltage level obtained by the coil. It is also preferable that the counter unit is arranged to emit a counter wave that defines a phase angle that is at least partially opposite to the phase angle of the harmful wave for such countering, but is arranged on the opposite side of the base unit with respect to the target space or the system. It will be appreciated that when including multiple counter units, the counter unit may also emit or emit a counter wave that defines a phase angle that is at least partially similar to the phase angle of the harmful wave, the curvature of the wavefront of the counter wave. It is desirable to change the radius. It will also be appreciated that the electrical and / or magnetic shield disclosed in the co-pending application may be included in any of the EMC systems, alone or in combination with the counter unit, to maximize countering of harmful waves. will be.

본 발명의 범용 전자기적으로-카운터링된 시스템의 카운터 유닛의 기본 원리는, 유해한 파의 파면과 유사한 (또는 동일한) 파면을 형성하지만 그러한 유해한 파의 위상각과는 부분적으로 반대인 위상각을 정의하는 카운터 파를 방출하는 것이다. 따라서, 타겟 공간으로 그러한 카운터 파를 전파함으로써, 카운터 파는, 예를 들어, 타겟 공간으로의 그러한 유해한 파의 적어도 일부를 소거함으로써 및/또는 그 유해한 파가 타겟 공간으로 전파하는 것을 억제함으로써 그 타겟 공간에서 유해한 파를 효과적으로 카운터링할 수 있다. 이러한 목적을 위해, 카운터 유닛은, 다양한 메커니즘에 의해 유해한 파의 파면에 매칭하는 파면을 정의한 카운터 파를 방출하도록 배열된다. 일 예에서, 그러한 카운터 유닛은 파원의 기본 유닛과 유사하게 (또는 동일하게) 형성되거나, 그러한 기본 유닛에 유사하게 (또는 동일하게) 배열되므로, 타겟 공간에서 유해한 파를 카운터링할 수 있는 카운터 파 를 방출한다. 또 다른 예에서, 그러한 카운터 유닛은 유해한 파의 파면 중 하나 이상의 파면을 따라 배치되고 그 유해한 파와 유사한 (또는 동일한) 카운터 파를 방출하므로, 타겟 공간에서 유해한 파를 카운터링한다. 이러한 2개의 예에서, 카운터 유닛은 그러한 카운터 유닛 자체의 형상과 유사한 (또는 동일한) 파면을 갖는 카운터 파를 방출할 것이며, 그러한 카운터 파는 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의할 것이다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은 기본 유닛과는 상이하게 형성되지만, 대신, 그 카운터 유닛으로부터 방출된 카운터 파가 타겟 공간에서 그러한 유해한 파에 매칭할 수도 있는 배열로 배치된다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은 유해한 파의 상이한 파면에 걸쳐 배치되지만, 그 유해한 파와 유사한 (또는 동일한) 카운터 파를 방출하므로, 타겟 공간에서 그 유해한 파를 카운터링한다. 마지막의 2개의 예에서, 카운터 파가 유해한 파의 위상각과는 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하면서, 카운터 유닛은 그 카운터 유닛 자체의 형상과 유사 (또는 동일) 할 수도 있거나 유사 (또는 동일) 하지 않을 수도 있는 파면을 갖는 그 카운터 파를 방출하도록 배열될 수도 있다.The basic principle of the counter unit of the general purpose electromagnetically-counted system of the present invention defines a phase angle which forms a wavefront similar (or identical) to that of a harmful wave but is partially opposite to that of the harmful wave. Is to emit a counter wave. Thus, by propagating such a counter wave into the target space, the counter wave can, for example, eliminate at least some of such harmful waves into the target space and / or inhibit the harmful waves from propagating into the target space. Can effectively counter harmful waves. For this purpose, the counter unit is arranged to emit a counter wave defining a wavefront that matches the wavefront of the harmful wave by various mechanisms. In one example, such counter units are formed similarly (or identically) to, or similarly (or identically) to, the base unit of the source, so that counter waves can counter harmful waves in the target space. Emits. In another example, such a counter unit is disposed along one or more of the wavefronts of the harmful wave and emits a counter wave similar (or identical) to the harmful wave, thus countering the harmful wave in the target space. In these two examples, the counter unit will emit a counter wave having a wavefront similar (or identical) to the shape of such counter unit itself, and such counter wave will define a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave. . In another example, the counter units are formed differently from the base unit, but instead are arranged in an arrangement in which the counter waves emitted from the counter units may match such harmful waves in the target space. In another example, the counter unit is disposed over different wavefronts of the harmful wave, but emits a counter wave that is similar (or identical) to the harmful wave, so that it counters the harmful wave in the target space. In the last two examples, the counter unit may be similar (or identical) or similar (or identical) to the shape of the counter unit itself, while the counter wave defines a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave. It may be arranged to emit the counter wave with a wavefront that may not.

본 발명의 범용 전자기적으로-카운터링된 시스템의 카운터 유닛의 기본 원리는, 다양한 종래 기술의 디바이스로부터의 유해한 파의 조사를 최소화하기 위해 그 다양한 종래 기술의 디바이스에 구현될 수도 있다. 예를 들어, 카운터 파에 의해 그러한 유해한 파를 카운터링함으로써, 예를 들어, 타겟 공간에서 유해한 파의 적어도 일부를 소거함으로써 및/또는 그 유해한 파가 타겟 공간을 향해 전파하는 것을 억제함으로써 그 유해한 파의 조사를 최소화하기 위하여, 카운터 유닛은 전기 적으로 도전성 와이어, 코일, 및/또는 시트 중 임의의 기본 유닛에, 또는 다른 방법으로, 임의의 전기적으로 반도전성 및/또는 절연성 와이어, 코일, 및/또는 시트에 구현될 수도 있으며, 여기서, 그 카운터 유닛은 적어도 하나의 전기적으로 도전성, 절연성 또는 반도전성 재료로 구성될 수도 있고 및/또는 그 재료를 포함할 수도 있다. 카운터 유닛은, 하나 또는 다수의 와이어, 코일 및/또는 시트를 포함함으로써 및 하나 또는 다수의 와이어, 코일, 및/또는 시트의 형상을 변형시킴으로써 형성될 수도 있는 형상을 정의하는 그러한 기본 유닛 중 임의의 유닛에 구현될 수도 있으며, 여기서, 변형된 형상의 몇몇 예는, 각각 그러한 코일의 형상을 변형시킴으로써 형성되는 솔레노이드 및 토로이드 (toroid) 를 포함할 수도 있다. 따라서 및 일 예에서, 그러한 카운터 유닛은, 유해한 파의 조사를 최소화하기 위해, 콘-드라이브 (cone-drive) 스피커, 정전형 스피커, 및 압전 스피커와 같은 다양한 스피커에 구현될 수도 있다. 따라서, 이어폰, 헤드폰, 유선 전화기, 이동 전화기, 및 시청각 디바이스와 같은 전자기적으로-카운터링된 스피커를 포함한 임의의 종래 기술의 디바이스는 전자기적으로 카운터링된 시스템으로 변환될 수도 있다. 유사하게, 카운터 유닛은, 그러한 스피커의 인버스 예인 다양한 마이크로폰, 및 유선 전화기, 이동 전화기, 오디오 및/또는 시청각 사운드 시스템과 같은 그러한 전자기적으로-카운터링된 마이크로폰을 포함한 임의의 종래 기술의 디바이스에 구현될 수도 있으며, 이어폰 및 마이크로폰의 어셈블리는 전자기적으로 카운터링된 시스템으로 변환될 수도 있다. 또 다른 예에서, 그러한 카운터 유닛은, 그러한 유해한 파의 조사를 최소화하기 위해, DC 모터, 유니버셜 모터, AC 동기형 모터, AC 유도형 모터, 선형 모터 등과 같은 다양한 모터에 구현될 수도 있다. 따라서, 주방 기기 (예를 들어, 푸드 프로세서, 믹서기, 쥬서 (juicer), 분쇄기, 혼합기, 압착기, 캔 오프너, 식기 세척기, 냉장고, 냉동기, 쿨러 등), 조리 기기 (예를 들어, 전기 그릴, 전기 오븐, 전기 스토브, 전기 레인지, 전기 토스터, 그들을 위한 전기 팬 등), 가전 기기 (예를 들어, 세탁기, 건조기, 에어콘, 차고 오프너, 건식 또는 습식 진공 청소기 등), 도구 (예를 들어, 전기 드릴, 전기 톱, 전기 스크루 드라이버, 전기 못 또는 스테이플 건, 전기 샌더 (sander) 등), 및 개인용 위생 디바이스 (예를 들어, 전기 면도기, 전기 칫솔, 전기 헤어 드라이어 등) 와 같은 전자기적으로-카운터링된 모터를 포함하는 임의의 종래 기술의 액추에이터 디바이스는 전자기적으로 카운터링된 시스템으로 변환될 수도 있다. 유사하게, 카운터 유닛은 다양한 발전기에 또한 구현될 수도 있으며, AC 발전기, DC 발전기, 및 (자동차의) 교류발전기 (alternator) 와 같은 전자기적으로-카운터링된 발전기를 갖는 임의의 종래 기술의 발생 디바이스는 또한 전자기적으로 카운터링된 시스템으로 변환될 수도 있다. 또 다른 예에서, 그러한 카운터 유닛은 적어도 2개의 코일을 그 내에 포함하는 다양한 트랜스포머에 구현될 수도 있으며, 스텝-업 트랜스포머, 스텝-다운 트랜스포머 및 다양한 전기 디바이스의 AC/DC 어댑터와 같은 전자기적으로-카운터링된 트랜스포머를 포함한 임의의 종래 기술의 디바이스는 전자기적으로 카운터링된 시스템으로 변환될 수도 있다. 또 다른 예에서, 그러한 카운터 유닛은, 가열 동안 유해한 파의 조사를 최소하기 위해, 적어도 하나의 저항성 가열 와이어, 가열 스트립, 가열 시트, 및/또는 가열 코일을 포함하는 다양한 가열 유닛에 구현될 수도 있다. 따라서, 개인용 가열 기기 (예를 들어, 전기 매트리스 또는 매트, 전기 담요, 전기 가열 패드 등), 조리 기기 (예를 들어, 전기 그릴, 전기 오븐, 전기 스토브, 전기 레인지, 전기 토스터, 전기 토스트 오븐 등), 및/또는 미용-관련 기기 (예를 들어, 헤어 드라이어, 헤어 셋팅기, 헤어 컬러, 헤어 스팀기 등) 와 같은 임의의 종래 기술의 가열 디바이스는 전자기적으로 카운터링된 시스템으로 변환될 수도 있다. 또 다른 예에서, 그러한 카운터 유닛은 조명 동안 그러한 유해한 파의 조사를 최소화하기 위해 다양한 발광 유닛에 구현될 수도 있다. 따라서, 음극선 튜브, 발광 디바이스, 유기 발광 디바이스, 무기 발광 디바이스, 및 플라즈마 디스플레이 패널과 같은 임의의 종래 기술의 디스플레이 디바이스는 전자기적으로-카운터링된 시스템으로 변환될 수도 있다.The basic principle of the counter unit of the general purpose electromagnetically-counted system of the present invention may be implemented in various prior art devices in order to minimize the irradiation of harmful waves from the various prior art devices. For example, by countering such harmful waves with a counter wave, for example by erasing at least some of the harmful waves in the target space and / or by inhibiting the harmful waves from propagating toward the target space, the harmful waves. To minimize irradiation of the counter unit, the counter unit may be connected to any base unit of electrically conductive wires, coils, and / or sheets, or in other ways, any electrically semiconductive and / or insulating wires, coils, and / Or may be embodied in a sheet, wherein the counter unit may consist of and / or comprise at least one electrically conductive, insulating or semiconductive material. The counter unit may be any of those base units defining a shape that may be formed by including one or multiple wires, coils and / or sheets and by modifying the shape of the one or multiple wires, coils, and / or sheets. It may be implemented in a unit, where some examples of modified shapes may include solenoids and toroids, each formed by modifying the shape of such a coil. Thus and in one example, such counter units may be implemented in various speakers, such as cone-drive speakers, capacitive speakers, and piezoelectric speakers, to minimize irradiation of harmful waves. Thus, any prior art device, including electromagnetically-counted speakers, such as earphones, headphones, landline phones, mobile phones, and audiovisual devices, may be converted to an electromagnetically countered system. Similarly, the counter unit is implemented in any prior art device, including various microphones that are inverse examples of such speakers, and such electromagnetically-counted microphones such as landline phones, mobile phones, audio and / or audiovisual sound systems. The assembly of earphones and microphones may be converted to an electromagnetically countered system. In another example, such counter units may be implemented in various motors, such as DC motors, universal motors, AC synchronous motors, AC induction motors, linear motors, and the like, to minimize irradiation of such harmful waves. Thus, kitchen appliances (e.g., food processors, blenders, juicers, grinders, mixers, presses, can openers, dishwashers, refrigerators, freezers, coolers, etc.), cooking appliances (e.g., electric grills, electric Ovens, electric stoves, electric ranges, electric toasters, electric fans for them, etc., home appliances (e.g. washing machines, dryers, air conditioners, garage openers, dry or wet vacuum cleaners, etc.), tools (e.g., electric drills) , Electromagnetically-counting devices such as chainsaws, electric screwdrivers, electric nail or staple guns, electric sanders, etc., and personal hygiene devices (e.g. electric shavers, electric toothbrushes, electric hair dryers, etc.) Any prior art actuator device comprising a motor may be converted to an electromagnetically countered system. Similarly, the counter unit may also be implemented in various generators, and any prior art generating device having an electromagnetically-counted generator, such as an AC generator, a DC generator, and an alternator (of a motor vehicle). May also be converted to an electromagnetically countered system. In another example, such a counter unit may be implemented in a variety of transformers including at least two coils therein, and electromagnetically- such as step-up transformers, step-down transformers and AC / DC adapters of various electrical devices. Any prior art device, including countered transformers, may be converted to an electromagnetically countered system. In yet another example, such counter units may be implemented in various heating units including at least one resistive heating wire, heating strip, heating sheet, and / or heating coil to minimize irradiation of harmful waves during heating. . Thus, personal heating appliances (e.g. electric mattresses or mats, electric blankets, electric heating pads, etc.), cooking appliances (e.g. electric grills, electric ovens, electric stoves, electric ranges, electric toasters, electric toast ovens, etc.) ), And / or any prior art heating device such as a beauty-related device (eg, hair dryer, hair setter, hair curler, hair steamer, etc.) may be converted to an electromagnetically countered system. In another example, such counter units may be implemented in various light emitting units to minimize irradiation of such harmful waves during illumination. Thus, any prior art display device such as cathode ray tube, light emitting device, organic light emitting device, inorganic light emitting device, and plasma display panel may be converted to an electromagnetically-counted system.

각각이 적어도 하나의 기본 유닛을 포함할 수도 있고, 따라서, 약 50Hz 내지 60Hz의 주파수를 갖는 전기파 (이하, 'EW' 로 약칭됨) 및 전자파 (이하, 'MW' 로 약칭됨) 및/또는 더 높은 주파수의 EW 및 MW를 포함하는 유해한 파를 조사할 수도 있는 임의의 전기 및/또는 전자 디바이스들에 본 발명의 범용 EMC 시스템의 다양한 카운터 유닛이 포함될 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 또한, 이전에 제공되었고 이후에 제공될 적어도 하나의 기본 유닛의 상세한 예를 포함하는 임의의 휴대용 또는 고정 전기 및/또는 전자 디바이스에 본 발명의 범용 EMC 시스템이 또한 포함될 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 또한, 그러한 카운터 유닛이 미크론-스케일로 제공되고 LSI 및 VLSI 디바이스와 같은 반도체 칩 및 회로에 포함될 수도 있으며, 그러한 카운터 유닛이 나노-스케일로 제공되고, 이 경우, 단일 분자 또는 화합물일 수도 있거나 다수의 분자들 또는 화합물들의 클러스터일 수도 있는 적어도 하나의 기본 유닛을 포함하는 다양한 나노 디바이스에 포함될 수도 있다는 것을 인식할 것이다.Each may include at least one base unit, and thus, electric waves having a frequency of about 50 Hz to 60 Hz (hereinafter abbreviated as 'EW') and electromagnetic waves (hereinafter abbreviated as 'MW') and / or more It will be appreciated that any electrical and / or electronic devices that may investigate harmful waves including high frequency EW and MW may include various counter units of the general purpose EMC system of the present invention. In addition, it will be appreciated that any portable or stationary electrical and / or electronic device may also include a general purpose EMC system of the present invention, including detailed examples of at least one base unit provided previously and later. In addition, such counter units may be provided in micron-scale and included in semiconductor chips and circuits such as LSI and VLSI devices, such counter units may be provided in nano-scale, where a single molecule or compound may be or It will be appreciated that it may be included in various nanodevices that include at least one base unit, which may be a cluster of molecules or compounds.

다음으로, 범용 전자기적으로-카운터링된 시스템의 다양한 시스템, 방법, 및/또는 프로세스 양태 및 그 양태들의 다양한 실시형태가 열거된다. 그러나, 본 발명의 다음의 시스템, 방법, 및/또는 프로세스 양태가 많은 다른 상이한 형태로 구현될 수도 있고, 따라서, 여기에 개시될 그러한 양태들 및/또는 실시형태에 제한되지 않아야 한다는 것을 이해할 것이다. 대신, 후술될 다양한 예시적인 양태들 및 실시형태는, 이러한 개시가 철저하고 완전하며, 본 발명의 범위를 당업자에게 충분히 전달할 수 있도록 제공된다.Next, various system, method, and / or process aspects of general purpose electromagnetically-counted systems and various embodiments of the aspects are listed. However, it will be understood that the following system, method, and / or process aspects of the invention may be embodied in many other different forms and, therefore, should not be limited to those aspects and / or embodiments disclosed herein. Instead, various illustrative aspects and embodiments to be described below are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art.

본 발명의 일 양태에서, 예시적인 시스템은, 타겟 공간에서 유해한 파를 소거하고 및/또는 그 유해한 파가 타겟 공간을 향해 전파하는 것을 억제함으로써 적어도 하나의 파원의 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 전자기파를 카운터링하기 위해 제공될 수도 있으며, 여기서, 그러한 기본 유닛은, 그 유해한 파를 조사하고 그것을 통한 유해한 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 파원의 일부만을 포함하고, 그 타겟 공간은 그 시스템과 사용자 사이에서 정의된다.In one aspect of the invention, an exemplary system counters harmful electromagnetic waves irradiated from a base unit of at least one wave source by eliminating harmful waves in the target space and / or inhibiting the harmful waves from propagating toward the target space. May be provided for ringing, where such base unit contains only a portion of the source that causes the investigation of the harmful wave and affect the path of the harmful wave therethrough, the target space being the system and the user. Is defined between.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 기본 유닛과 동일한 (또는 유사한) 형상을 정의하고, 그 후, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 여기서, 그러한 카운터 파는 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 형상으 로 인해 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 정의하며, 따라서, 타겟 공간에서 반대의 위상각으로 인해 그러한 유해한 파를 카운터링하도록 배열된다. 그러한 카운터 파는, 이하 '제 1 타입의 카운터 파' 또는 '제 1 카운터 파' 로 지칭된다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may include at least one counter unit arranged to define the same (or similar) shape as the base unit, and then emit counter electromagnetic waves, Here, such a counter wave defines a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave and, due to its shape, defines a wave characteristic that is at least partially similar to the wave characteristic of the harmful wave, and thus the opposite phase in the target space. The angles are arranged to counter such harmful waves. Such counter waves are hereinafter referred to as 'first type counter waves' or 'first counter waves'.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 기본 유닛의 1-차원 (또는 1-D), 2-차원 (또는 2-D), 또는 3-차원 (또는 3-D) 유사물의 형상을 갖고 제 1 카운터 전자기파를 방출하도록 배열된 단일 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 다른 방법으로, 그러한 단일 카운터 유닛은, 다수의 기본 유닛 중 적어도 2개의 기본 유닛의 1-D (또는 2-D, 3-D) 유사물의 형상을 정의하고, 제 1 카운터 전자기파를 방출하도록 배열될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system is a one-dimensional (or 1-D), two-dimensional (or 2-D), or three-dimensional (or 3-D) of the base unit. It may comprise a single counter unit having the shape of an analog and arranged to emit a first counter electromagnetic wave. Alternatively, such a single counter unit may be arranged to define the shape of 1-D (or 2-D, 3-D) analogs of at least two base units of the plurality of base units and to emit a first counter electromagnetic wave. It may be.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은 다수의 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 그 다수의 카운터 유닛 중 적어도 2개의 카운터 유닛은, 기본 유닛의 1-D (또는 2-D, 3-D) 유사물의 형상을 정의하고 카운터 전자기파를 방출하도록 배열되며, 그 카운터 전자기파는, 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 형상으로 인해 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 정의하며, 따라서, 타겟 공간에서 그러한 반대의 위상각으로 인해 그 유해한 파를 카운터링하도록 배열된다. 다른 방법으로, 그러한 다수의 유닛 중 적어도 2개의 유닛은, 다수의 기본 유닛 중 적어도 2개의 기본 유닛의 1-D (또는 2-D, 3-D) 의 형상을 정의하고, 이러한 파라그래프에서 상술된 카운터 전자기파를 방출하도록 대신 배열될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may include a plurality of counter units, at least two of which are unit 1-D (or 2-D) of the base unit. , 3-D) arranged to define the shape of the analogue and to emit counter electromagnetic waves, the counter electromagnetic waves defining a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave, It defines at least partially similar wave characteristics and is therefore arranged to counter its harmful waves due to such opposite phase angles in the target space. Alternatively, at least two of such a plurality of units define the shape of 1-D (or 2-D, 3-D) of at least two of the plurality of basic units and are detailed in this paragraph. It may instead be arranged to emit a counter electromagnetic wave.

본 발명의 또 다른 양태에서, 예시적인 시스템은, 기본 유닛의 형상 및/또는 배열을 그 시스템의 적어도 하나의 부분의 또 다른 형상 및/또는 배열과 매칭함으로써, 및 타겟 공간에서 유해한 전자기파를 소거하고 및/또는 그 파가 타겟 공간으로 전파하는 것을 억제함으로써 적어도 하나의 파원의 기본 유닛으로부터 조사된 그 파를 카운터링하도록 제공될 수도 있으며, 여기서, 그 기본 유닛은, 그러한 유해한 파를 조사하고 그것을 통한 그 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 파원의 일부만을 포함하도록 배열되고, 그 타겟 공간은 그 시스템과 사용자 사이에서 정의된다.In another aspect of the present invention, an exemplary system eliminates harmful electromagnetic waves in a target space and by matching the shape and / or arrangement of the base unit with another shape and / or arrangement of at least one portion of the system. And / or to counter the wave irradiated from the base unit of at least one wave source by inhibiting the wave from propagating into the target space, where the base unit investigates and passes through such harmful wave. It is arranged to include only a portion of the source that is responsible for affecting the path of the wave, and the target space is defined between the system and the user.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 기본 유닛의 형상과 유사한 (또는 동일한) (또는 그 형상에 일치하는) 형상을 갖고 제 1 카운터 전자기파를 방출하도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system has at least one counter having a shape similar to (or identical to) (or coinciding with) the shape of the base unit and arranged to emit a first counter electromagnetic wave. It may also include units.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 그러한 기본 유닛의 형상과는 상이한 (또는 그 형상에 일치하지 않는) 형상을 갖고, 그 기본 유닛에 관해 미리 설정된 배열에 존재하며, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 그 카운터 전자기파는, 그러한 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 배열로 인해 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 가지며, 따라서, 그 반대의 위상각으로 인해 타겟 공간에서 그러한 유해한 파를 카운터링하도록 배열된다. 그러한 카운터 파는, 이하, '제 2 타입의 카운터 파' 또는 '제 2 카운터 파' 로서 지칭된다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system has a shape that is different from (or does not coincide with) the shape of such a base unit, is present in a preset arrangement with respect to the base unit, It may comprise at least one counter unit arranged to emit counter electromagnetic waves, the counter electromagnetic waves defining a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of such harmful waves, and due to the arrangement It has at least partly similar wave characteristics and is therefore arranged to counter such harmful waves in the target space due to the opposite phase angle. Such counter waves are hereinafter referred to as 'second type counter waves' or 'second counter waves'.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 다양한 배열로 제공되지만 상기 제 1 카운터 파를 방출하는 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 일 예에서, 카운터 유닛은 1-D, 2-D 또는 3-D 기본 유닛의 1-D 유사물의 형상을 정의하고 제 1 카운터 파를 방출하도록 배열된다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은 다수의 1-D, 2-D 또는 3-D 기본 유닛의 적어도 하나의 1-D 유사물의 형상을 정의하고 그러한 제 1 카운터 파를 방출하도록 배열된다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은 1-D, 2-D 또는 3-D 기본 유닛의 2-D 유사물의 형상을 정의하고 상기 제 1 카운터 파를 방출하도록 배열된다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은 다수의 1-D, 2-D 또는 3-D 기본 유닛의 적어도 하나의 2-D 유사물의 형상을 갖고 제 1 카운터 파를 방출하도록 배열된다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은 1-D, 2-D 또는 3-D 기본 유닛의 3-D 유사물의 형상을 정의하고 제 1 카운터 파를 방출하도록 배열된다. 또 다른 예에서, 그러한 카운터 유닛은 다수의 1-D, 2-D 또는 3-D 기본 유닛의 적어도 하나의 3-D 유사물의 형상을 갖고 제 1 카운터 파를 방출하도록 배열된다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may include at least one counter unit provided in various arrangements but emitting the first counter wave. In one example, the counter unit is arranged to define the shape of the 1-D analog of the 1-D, 2-D or 3-D base unit and to emit a first counter wave. In another example, the counter unit is arranged to define the shape of at least one 1-D analog of the plurality of 1-D, 2-D or 3-D base units and to emit such a first counter wave. In another example, the counter unit is arranged to define the shape of the 2-D analog of the 1-D, 2-D or 3-D base unit and to emit the first counter wave. In another example, the counter unit has the shape of at least one 2-D analog of a plurality of 1-D, 2-D or 3-D base units and is arranged to emit a first counter wave. In another example, the counter unit is arranged to define the shape of the 3-D analog of the 1-D, 2-D or 3-D base unit and emit the first counter wave. In another example, such counter units have the shape of at least one 3-D analog of a plurality of 1-D, 2-D or 3-D base units and are arranged to emit a first counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은 다양한 배열로 제공될 수도 있다. 일 예에서, 그러한 시스템은, 기본 유닛의 형상에 매칭하는 형상을 정의하고 제 1 카운터 파를 또한 방출하도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 시스템은, 다수의 기본 유닛의 형상에 매칭하는 형상을 정의하고, 그 후, 제 1 카운터 파를 방출하도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 시스템 은, 기본 유닛의 형상에 매칭하는 전체 형상을 형성하고 제 1 카운터 파를 방출하도록 배열된 다수의 카운터 유닛을 또한 가질 수도 있다. 또 다른 예에서, 시스템은, 다수의 기본 유닛의 또 다른 전체 형상에 매칭하는 전체 형상을 형성하고 제 1 카운터 파를 방출하도록 배열된 다수의 카운터 유닛을 가질 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may be provided in various arrangements. In one example, such a system may include at least one counter unit arranged to define a shape that matches the shape of the base unit and also emit a first counter wave. In another example, the system may include at least one counter unit arranged to define a shape that matches the shape of the plurality of base units, and then emit a first counter wave. In another example, the system may also have multiple counter units arranged to emit a first counter wave and form an overall shape that matches the shape of the base unit. In another example, the system may have a plurality of counter units arranged to form an overall shape that matches another overall shape of the plurality of base units and to emit a first counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은 다양한 배열로 제공될 수도 있다. 일 예에서, 그러한 시스템은, 기본 유닛과 타겟 공간 사이에 배치되고, 기본 유닛의 폭보다 더 긴 폭을 가지며, 그 후, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 그 카운터 전자기파는, 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 폭으로 인해 그 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 가지며, 따라서, 그 반대의 위상각으로 인해 타겟 공간에서 그 유해한 파를 카운터링하도록 배열된다. 또 다른 예에서, 시스템은, 타겟 공간과 다수의 기본 유닛 사이에 포함되고, 기본 유닛의 폭에 의해 형성된 윤곽선 (contour) 보다 더 긴 폭을 가지며, 그 후, 이 파라그래프에서 상술된 카운터 파를 방출하도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 가질 수도 있다. 또 다른 예에서, 시스템은, 기본 유닛과 타겟 공간 사이에 배치되고, 기본 유닛의 폭보다 더 큰 폭을 따라 정의된 배열로 배치되며, 이 파라그래프에서 상술된 그러한 카운터 파를 방출하도록 또한 배열된 다수의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 시스템은, 타겟 공간과 다수의 기본 유닛 사이에 배치되고, 모든 기본 유닛에 의해 정의된 윤곽선보다 더 긴 폭을 따라 정의된 배열로 배치되며, 이 파라그래프에서 상술된 카운터 파를 방출하도록 배열된 다수의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 시스템은, 기본 유닛에 관해 타겟 공간의 반대측상에 배치되고, 기본 유닛의 폭보다 더 짧은 폭을 정의하며, 이 파라그래프에서 상술된 카운터 파를 방출하도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 시스템은, 다수의 기본 유닛에 관해 타겟 공간의 반대측상에 배치되고, 기본 유닛에 의해 형성된 윤곽선보다 더 짧은 폭을 가지며, 이 파라그래프에서 상술된 카운터 파를 방출하도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 또 다른 시스템은, 기본 유닛에 관해 타겟 공간의 반대측상에 배치되고, 기본 유닛의 폭보다 더 짧은 폭을 따라 정의된 배열로 배치되며, 이 파라그래프에서 상술된 카운터 파를 방출하도록 배열된 다수의 카운터 유닛을 가질 수도 있다. 또 다른 예에서, 그러한 시스템은, 기본 유닛에 관해 타겟 공간의 반대측상에 배치되고, 모든 기본 유닛에 의해 형성된 윤곽선보다 더 짧은 폭을 따라 배열에 배치되며, 이 파라그래프에서 상술된 카운터 파를 방출하도록 배열된 다수의 카운터 유닛을 대신 가질 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may be provided in various arrangements. In one example, such a system may include at least one counter unit disposed between the base unit and the target space, having a width longer than the width of the base unit, and then arranged to emit counter electromagnetic waves, The counter electromagnetic wave defines a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave and, due to its width, has a wave characteristic that is at least partially similar to the wave characteristic of the harmful wave, and therefore due to the opposite phase angle It is arranged to counter the harmful waves in the target space. In another example, the system is included between the target space and the plurality of base units and has a width longer than the contour formed by the width of the base unit, and then the counter wave described above in this paragraph. It may have at least one counter unit arranged to emit. In another example, the system is disposed between the base unit and the target space, arranged in an array defined along a width greater than the width of the base unit, and also arranged to emit such counter waves as described above in this paragraph. It may also include multiple counter units. In another example, the system is disposed between the target space and the plurality of base units, arranged in an array defined along a width longer than the contour defined by all the base units, and using the counter wave described above in this paragraph. It may also comprise a plurality of counter units arranged to emit. In another example, the system comprises at least one counter disposed on the opposite side of the target space with respect to the base unit and defining a width shorter than the width of the base unit and arranged to emit the counter wave described above in this paragraph. It may also include units. In another example, the system is at least arranged on the opposite side of the target space with respect to the plurality of base units, having a width shorter than the contour formed by the base unit, and arranged to emit the counter wave described above in this paragraph. It may also include one counter unit. In another example, another system is disposed on the opposite side of the target space with respect to the base unit, arranged in an array defined along a width shorter than the width of the base unit, and emitting the counter wave described above in this paragraph. It may have multiple counter units arranged to do so. In another example, such a system is disposed on the opposite side of the target space with respect to the base unit, arranged in an array along a width shorter than the contour formed by all the base units, and emitting the counter wave described above in this paragraph. It may instead have multiple counter units arranged to do so.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 기본 유닛의 형상에 적어도 하나의 카운터 유닛의 형상을 일치시키면서, 와이어, 스트립, 시트, 튜브, 코일, 나선, 메시, 그들의 혼합물, 그들의 결합물, 및/또는 그들의 어레이의 형상을 정의하고, 제 1 카운터 파를 방출하도록 배열된 그 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 다른 방법으로, 그러한 카운터 유닛은, 다수의 기본 유닛의 전체 형상에 그 카운터 유닛의 형상을 일치시키면서, 와이어, 스트립, 시트, 튜브, 코일, 나선, 메시, 그들의 혼합물, 그들의 결합물, 및/또는 그들의 어레이 중 적어도 하나의 형상을 정의하고, 제 1 카운터 파를 방출하도록 배열될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system is adapted to match the shape of the at least one counter unit with the shape of the base unit, while the wires, strips, sheets, tubes, coils, spirals, meshes, mixtures thereof, And at least one counter unit arranged to define their combination, and / or the shape of their array, and emit a first counter wave. Alternatively, such counter units may be wires, strips, sheets, tubes, coils, spirals, meshes, mixtures thereof, combinations thereof, and / or while matching the shape of the counter unit to the overall shape of the plurality of base units. It may be arranged to define the shape of at least one of their arrays and emit a first counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 기본 유닛의 형상과 유사한 (또는 동일한) 배열로 배치되고 제 2 카운터 파를 방출하도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may comprise at least one counter unit arranged in a similar (or identical) arrangement to the shape of the base unit and arranged to emit a second counter wave. .

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 그러한 기본 유닛의 형상과는 상이한 배열로 배치되고 제 2 카운터 파를 방출하도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may include at least one counter unit arranged in an arrangement different from the shape of such a base unit and arranged to emit a second counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 그러한 기본 유닛의 사이즈보다 더 큰 사이즈를 정의하고, 그 기본 유닛과 타겟 공간 사이에 배치되며, 그 후, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 그 카운터 전자기파는, 그러한 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 사이즈에 기초하여 그 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 가지며, 따라서, 반대인 위상각으로 인해 타겟 공간에서 그 유해한 파를 카운터링하도록 배열된다. 다른 방법으로, 그러한 카운터 유닛은, 기본 유닛의 사이즈보다 더 큰 사이즈를 정의하고, 그 기본 유닛에 관해 타겟 공간의 반대측상에 배치되며, 이 파라그래프에서 상술된 카운터 파를 방출하도록 배열될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system defines a size larger than the size of such a base unit, is disposed between the base unit and the target space, and then arranged to emit counter electromagnetic waves. At least one counter unit, wherein the counter electromagnetic wave defines a phase angle that is at least partially opposite to that of the harmful wave, and based on its size, is at least partially similar to the wave characteristic of the harmful wave. Has a wave characteristic and is therefore arranged to counter its harmful waves in the target space due to the opposite phase angle. Alternatively, such a counter unit may be arranged to define a size larger than the size of the base unit, to be disposed on the opposite side of the target space with respect to the base unit, and to emit the counter wave described above in this paragraph. .

본 발명의 또 다른 양태에서, 예시적인 시스템은, 그 시스템의 적어도 하나 의 부분의 배치와 기본 유닛의 배치를 매칭함으로써, 및 타겟 공간에서 유해한 파를 소거하고 및/또는 그 유해한 파가 그 타겟 공간을 향하는 것을 억제함으로써, 적어도 하나의 파원의 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 전자기파를 카운터링하기 위해 제공될 수도 있으며, 여기서, 그 기본 유닛은, 그 유해한 파를 조사하고 그것을 통한 유해한 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 그 파원의 일부만을 포함하고, 그 타겟 공간은 그 시스템과 사용자 사이에 정의된다.In another aspect of the present invention, an exemplary system may be configured to match a placement of at least one portion of the system with a placement of a base unit, and to eliminate harmful waves in the target space and / or to remove the harmful waves from the target space. By suppressing directing, it may be provided to counter harmful electromagnetic waves irradiated from the base unit of at least one wave source, where the base unit irradiates the harmful wave and affects the path of the harmful wave therethrough. It contains only a portion of the source that causes the giving, and the target space is defined between the system and the user.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 그러한 유해한 파의 전파 방향에 매칭하고, 기본 유닛에 흐르는 전류 방향에 매칭하고, 기본 유닛에 인가된 전압 방향에 매칭하고, 기본 유닛의 종축을 따른 방향에 매칭하며, 및/또는 그 종축과 수직인 그러한 기본 유닛의 단축 방향에 매칭하는 정렬로 배치되고, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 여기서, 카운터 파는, 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 정렬로 인해 그러한 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 가지며, 따라서, 그 반대인 위상각으로 인해 타겟 공간에서 유해한 파를 카운터링하도록 배열된다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system matches the propagation direction of such harmful waves, matches the current direction flowing through the base unit, matches the voltage direction applied to the base unit, And at least one counter unit arranged in an alignment matching the direction along the longitudinal axis and / or matching the minor axis direction of such a base unit perpendicular to the longitudinal axis and arranged to emit counter electromagnetic waves, wherein The counter wave defines a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave and, due to its alignment, has a wave characteristic that is at least partially similar to that of the harmful wave, and therefore the target angle due to the opposite phase angle. It is arranged to counter harmful waves in space.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 타겟 공간과 기본 유닛 사이의 위치에 배치되고, 유해한 파의 진폭보다 작은 진폭을 정의하는 카운터 전자기 파를 방출하도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은, 기본 유닛에 관해 타겟 공간의 반대측상의 위치에 배치되고, 유해한 파의 진폭보다 큰 진폭을 정의하는 카운터 전 자기 파를 방출하도록 배열될 수도 있다. 어느 예에서든, 카운터 유닛은, 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 위치로 인해 그러한 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 가지며, 따라서, 그 반대인 위상각으로 인해 타겟 공간에서 유해한 파를 카운터링하도록 또한 배열된다.In yet another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system is arranged at a location between the target space and the base unit and at least one arranged to emit a counter electromagnetic wave that defines an amplitude less than that of the harmful wave. It may also include a counter unit. In another example, the counter unit may be arranged at a position on the opposite side of the target space with respect to the base unit and arranged to emit a counter electromagnetic wave that defines an amplitude greater than that of the harmful wave. In either example, the counter unit defines a phase angle that is at least partially opposite to the phase angle of the harmful wave and, due to its position, has a wave characteristic that is at least partially similar to that of the harmful wave, and thus the opposite phase. It is also arranged to counter harmful waves in the target space due to the angle.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 기본 유닛의 적어도 일부 (또는 전체) 를 그 내에 둘러싸는 배치에 존재하고, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은, 기본 유닛의 적어도 일부 (또는 전부) 에 의해 둘러싸인 배치에 존재하고, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열될 수도 있다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은, 기본 유닛에 관해 측면으로 (또는 나란히) 배치되고, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열될 수도 있다. 이러한 예들의 각각에서, 카운터 전자기파는, 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 배치로 인해 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 가지며, 따라서, 그 반대인 위상각으로 인해 타겟 공간에서 유해한 파를 카운터링하도록 배열된다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system comprises at least one counter unit present in an arrangement surrounding at least part (or all) of the base unit and arranged to emit counter electromagnetic waves. You may. In another example, the counter unit is in an arrangement surrounded by at least some (or all) of the base unit and may be arranged to emit counter electromagnetic waves. In another example, the counter unit may be arranged laterally (or side by side) with respect to the base unit and arranged to emit counter electromagnetic waves. In each of these examples, the counter electromagnetic wave defines a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave, and due to its placement has a wave characteristic that is at least partially similar to the wave characteristic of the harmful wave, and therefore The phase angle is arranged to counter harmful waves in the target space.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 기본 유닛의 적어도 일부에 관해 대칭인 (또는 비대칭인) 배치에 존재하고, 그 후, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 그 카운터 전자기파는, 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상 각을 갖고, 그 배치로 인해 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 가지며, 따라서, 그 반대인 위상각으로 인해 타겟 공간에서 유해한 파를 카운터링하도록 배열된다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system is in a symmetrical (or asymmetrical) arrangement with respect to at least a portion of the base unit, and then at least one counter arranged to emit counter electromagnetic waves The counter electromagnetic wave has a phase angle that is at least partially opposite to the phase angle of the harmful wave, and due to the arrangement has a wave characteristic that is at least partially similar to the wave characteristic of the harmful wave, and vice versa. The phosphorus phase angle is arranged to counter harmful waves in the target space.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 기본 유닛과 관한 고정 배치에 존재하고, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 그 카운터 전자기파는, 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 고정 배치로 인해 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 가지며, 따라서, 그 반대인 위상각으로 인해 타겟 공간에서 유해한 파를 카운터링하도록 배열된다.In yet another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may comprise at least one counter unit present in a fixed arrangement with respect to the base unit and arranged to emit counter electromagnetic waves, the counter electromagnetic waves, Define a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave, and its fixed placement results in wave characteristics that are at least partially similar to the wave characteristics of the harmful wave, and thus the opposite phase angle is harmful to the target space Is arranged to counter.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 기본 유닛에 관한 이동 배치에 존재하고, 그 후, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 그 카운터 전자기파는, 유해한 파와 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 가지며, 따라서, 그러한 유닛 공간에 관해 이동하는 동안 그 반대인 위상각으로 인해 타겟 공간에서 유해한 파를 카운터링하도록 배열된다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may comprise at least one counter unit which is in a mobile arrangement with respect to the base unit and is then arranged to emit counter electromagnetic waves, the counter Electromagnetic waves define a phase angle that is at least partially opposite to a harmful wave, and has a wave characteristic that is at least partially similar to that of a harmful wave, and therefore, due to the opposite phase angle during movement relative to such unit space, Are arranged to counter harmful waves.

본 발명의 또 다른 양태에서, 예시적인 시스템은, 카운터 전자기파의 파면을 따라 그러한 카운터 파와 유해한 파를 매칭시킴으로써, 및 타겟 공간에서 유해한 파를 소거시키고 및/또는 그 유해한 파가 타겟 공간을 향해 전파하는 것을 억제함으로써 적어도 하나의 파원의 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 전자기파를 그 카 운터 전자기파로 카운터링하기 위해 제공될 수도 있으며, 여기서, 그 기본 유닛은, 그 유해한 파를 조사하고 그것을 통해 그 유해한 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 파원의 일부만을 포함하도록 배열되지만, 그 타겟 공간은 그 시스템과 사용자 사이에 형성된다.In another aspect of the present invention, an exemplary system is provided by matching such counter waves and harmful waves along the wavefront of the counter electromagnetic waves, and eliminating harmful waves in the target space and / or propagating the harmful waves toward the target space. By suppressing the harmful electromagnetic wave irradiated from the base unit of at least one wave source to the counter electromagnetic wave, wherein the base unit irradiates the harmful wave and passes the harmful wave path therethrough. It is arranged to include only a portion of the wave source causing the influence on the target space, but the target space is formed between the system and the user.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 상기 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 (또는 그 파면에 관해) 미리 설정된 배열에 기초하여 배치되고, 카운터 파를 방출하도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 그 카운터 파는, 그러한 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖고, 타겟 공간에서 그러한 배열로 인해 유해한 파의 파면에 적어도 부분적으로 매칭하며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그러한 유해한 파를 카운터링하도록 배열된다. 그러한 카운터 파는, 이하, '제 3 타입 카운터 파' 또는 간단히 '제 3 카운터 파' 로 지칭된다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system is arranged based on a predetermined arrangement along (or with respect to) the wavefront of at least one of the wavefronts and arranged to emit a counter wave A counter unit, the counter wave having a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of such harmful waves, at least partially matching the wavefront of the harmful waves due to such an arrangement in the target space, and thus the target It is arranged to counter such harmful waves due to the opposite phase angle in space. Such counter waves are hereinafter referred to as 'third type counter waves' or simply 'third counter waves'.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은 다양한 배열로 제공될 수도 있다. 일 예에서, 시스템은, 그러한 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 정의된 전면 배열로 배치되고, 그 후, 유해한 파의 진폭보다 작은 진폭을 정의하는 카운터 파를 방출하도록 배열된 단일 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 여기서, 그 카운터 유닛은 기본 유닛과 타겟 공간 사이에서 그 배열로 배치된다. 또 다른 예에서, 그러한 시스템은, 각각 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 그러한 전면 배열로 배치되고, 유해한 파의 진폭보다 작은 진폭을 정의하는 카운터 파를 방출하도록 배열된 다수의 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 여 기서, 그 카운터 유닛은 기본 유닛과 타겟 공간 사이에서 그 배열로 배치된다. 양자의 예에서, 그 카운터 유닛은 제 3 카운터 파를 방출하도록 배열된다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may be provided in various arrangements. In one example, the system may include a single counter unit disposed in a front array defined along the wavefront of at least one of those wavefronts and thereafter arranged to emit a counter wave that defines an amplitude less than that of the harmful wave. It is also possible here that the counter units are arranged in an arrangement between the base unit and the target space. In another example, such a system may include a plurality of counter units each disposed in such a frontal arrangement along at least one of the wavefronts and arranged to emit a counter wave that defines an amplitude less than that of the harmful wave. Where the counter units are arranged in an arrangement between the base unit and the target space. In both examples, the counter unit is arranged to emit a third counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은 다양한 배열로 제공될 수도 있다. 일 예에서, 시스템은, 후면 배열로 배치되고, 유해한 파의 진폭보다 큰 진폭을 정의하는 카운터 파를 방출하도록 배열된 단일 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 여기서, 그러한 카운터 유닛은 기본 유닛에 관해 타겟 공간의 반대측상에 그 배열로 배치된다. 또 다른 예에서, 시스템은, 각각이 후면 배열로 배치되고, 유해한 파의 진폭보다 큰 진폭을 정의하는 카운터 파를 방출하도록 배열된 다수의 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 여기서, 그 카운터 유닛은 기본 유닛에 관해 타겟 공간의 반대측상에 그 배열로 배치될 수도 있다. 양자의 예에서, 그 카운터 유닛은 제 3 카운터 파를 방출하도록 배열된다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may be provided in various arrangements. In one example, the system may include a single counter unit, arranged in a rear array, arranged to emit a counter wave that defines an amplitude greater than the amplitude of the harmful wave, where such counter unit is targeted relative to the base unit. Arranged in the arrangement on the opposite side of the space. In another example, the system may include a plurality of counter units, each arranged in a rear array, arranged to emit a counter wave that defines an amplitude greater than the amplitude of the harmful wave, wherein the counter unit is a base It may be arranged in that arrangement on the opposite side of the target space with respect to the unit. In both examples, the counter unit is arranged to emit a third counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은 다양한 배열로 제공될 수도 있다. 일 예에서, 시스템은, 그러한 파면 중 하나의 파면을 따라 전면 배열로 배치되고, 유해한 파의 진폭보다 작은 진폭을 정의하는 카운터 파를 방출하도록 배열된 단일 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 여기서, 그 파면은 다수의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파에 의하여 정의되고, 그 카운터 유닛은 기본 유닛과 타겟 공간 사이에서 그러한 배열로 배치된다. 또 다른 예에서, 시스템은, 각각이 상기 파면 중 하나의 파면을 따라 전면 배열로 배치되고, 유해한 파의 진폭보다 작은 진폭을 정의하는 카운터 파를 방출하도록 배열된 다수의 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 여기서, 그 파면은 다수의 기본 유닛에 의 해 조사된 유해한 파에 의하여 정의되고, 모든 카운터 유닛은 기본 유닛과 타겟 공간 사이에서 그러한 배열로 배치된다. 양자의 예에서, 그 카운터 유닛은 제 3 카운터 파를 방출하도록 배열된다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may be provided in various arrangements. In one example, the system may include a single counter unit disposed in a front array along one of the wavefronts and arranged to emit a counter wave that defines an amplitude less than the amplitude of the harmful wave, wherein The wavefront is defined by harmful waves irradiated by a number of base units, the counter units being placed in such an arrangement between the base unit and the target space. In another example, the system may include a plurality of counter units, each arranged in a front array along one of the wavefronts and arranged to emit a counter wave that defines an amplitude less than that of the harmful wave; Where the wavefront is defined by a harmful wave irradiated by a number of base units, and all counter units are arranged in such an arrangement between the base unit and the target space. In both examples, the counter unit is arranged to emit a third counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은 다양한 배열로 제공될 수도 있다. 일 예에서, 시스템은, 후면 배열로 배치되고, 그 후, 유해한 파의 진폭보다 큰 진폭을 갖는 카운터 파를 방출하도록 배열된 단일 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 여기서, 그러한 파면은 다수의 기본 유닛에 의해 조사된 그러한 유해한 파에 의해 정의되고, 그러한 카운터 유닛은 기본 유닛에 관해 타겟 공간의 반대측상에 그러한 배열로 배치된다. 또 다른 예에서, 시스템은, 후면 배열로 배치되고, 유해한 파의 진폭보다 큰 진폭을 정의하는 카운터 파를 방출하도록 배열된 다수의 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 여기서, 파면은 다수의 기본 유닛에 의해 조사된 그러한 유해한 파에 의하여 형성되고, 그 카운터 유닛은 기본 유닛에 관해 타겟 공간의 반대측상에 그 배열로 배치된다. 양자의 예에서, 그 카운터 유닛은 제 3 카운터 파를 방출하도록 배열된다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may be provided in various arrangements. In one example, the system may include a single counter unit, arranged in a rear array, and then arranged to emit a counter wave having an amplitude greater than that of the harmful wave, wherein the wavefront is a plurality of base units. Defined by such harmful waves investigated by such counter units are arranged in such an arrangement on the opposite side of the target space with respect to the base unit. In another example, the system may include a plurality of counter units disposed in the rear array and arranged to emit counter waves that define an amplitude greater than the amplitude of the harmful waves, wherein the wavefronts may be included in the plurality of base units. Formed by such harmful waves irradiated by the counter units, the counter units are arranged in that arrangement on the opposite side of the target space with respect to the base unit. In both examples, the counter unit is arranged to emit a third counter wave.

본 발명의 또 다른 양태에서, 예시적인 시스템은, 카운터 전자기파에 의해 유해한 파의 파면을 따라 그 유해한 파에 매칭함으로써, 및 그 카운터 파에 의해 타겟 공간에서 유해한 파를 소거하고 및/또는 유해한 파가 타겟 공간으로 전파하는 것을 그 카운터 파로 억제함으로써, 적어도 하나의 파원의 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 전자기 파를 그 카운터 전자기파로 카운터링하기 위해 제공될 수도 있으며, 여기서, 그 기본 유닛은 그 유해한 파를 조사하고 그것을 통해 그 유해한 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 파원의 일부만을 포함하도록 배열되지만, 그 타겟 공간은 그 시스템과 사용자 사이에서 정의된다.In yet another aspect of the present invention, an exemplary system is provided by matching counteracting harmful waves along the wavefront of a harmful wave by counter electromagnetic waves, and eliminating the harmful wave in the target space by the counter wave and / or removing the harmful wave. By suppressing propagation into the target space with the counter wave, a counter electromagnetic wave irradiated from the base unit of at least one wave source may be provided for countering the counter electromagnetic wave, wherein the base unit irradiates the harmful wave. And only a portion of the wave source causing it to affect the path of the harmful wave through it, but the target space is defined between the system and the user.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 그러한 시스템은 다양한 배열로 제공될 수도 있다. 일 예에서, 그러한 시스템은, 카운터 파를 방출하고, 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 정의되는 미리 설정된 배열로 포함되도록 배열된 단일 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 시스템은, 카운터 파를 방출하고, 다수의 파원의 다수의 기본 유닛에 의해 형성된 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 정의되는 미리 설정된 배열에 포함되도록 배열된 단일 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 시스템은, 카운터 파를 방출하고, 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 정의되는 미리 설정된 배열로 배치되도록 배열된 다수의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 시스템은, 카운터 파를 방출하고, 다수의 파원의 다수의 기본 유닛에 의해 정의된 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 정의되는 미리 설정된 배열로 배치되도록 배열된 다수의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 이러한 모든 예에서, 그 카운터 유닛은 제 3 카운터 파를 방출하도록 배열된다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, such a system may be provided in various arrangements. In one example, such a system may include a single counter unit arranged to emit a counter wave and to be included in a predetermined arrangement defined along at least one of the wavefronts. In another example, the system may include a single counter unit arranged to emit a counter wave and to be included in a predetermined arrangement defined along at least one of the wavefronts formed by the plurality of base units of the plurality of wave sources. have. In another example, the system may include a plurality of counter units arranged to emit counter waves and to be arranged in a predetermined arrangement defined along at least one of the wavefronts. In another example, the system includes a plurality of counter units arranged to emit counter waves and to be arranged in a predetermined arrangement defined along at least one of the wavefronts defined by the plurality of base units of the plurality of wave sources. You may. In all these examples, the counter unit is arranged to emit a third counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은 다양한 배열로 제공될 수도 있다. 일 예에서, 시스템은, 카운터 파를 방출하고, 배열에 기초하여 타겟 공간과 기본 유닛 사이에서 배치되도록 배열된 단일 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 차례로, 그 배열은, 그러한 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 정의되고 그 기본 유닛보다 더 넓도록 배열된다. 또 다른 예에서, 그러한 시스템은, 각각이 카운터 파를 방출하고, 기본 유닛과 타겟 공간 사이에서 배열로 배치되도록 배열된 다수의 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 차례로, 그 배열은, 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 형성되고 그 기본 유닛보다 더 넓도록 배열된다. 양자의 예에서, 그러한 카운터 유닛은 제 3 카운터 파를 방출하도록 배열된다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may be provided in various arrangements. In one example, the system may include a single counter unit that emits a counter wave and is arranged to be disposed between the target space and the base unit based on the arrangement, in which arrangement the wavefront is at least one of those wavefronts. It is defined along and arranged to be wider than its base unit. In another example, such a system may include a plurality of counter units each arranged to emit a counter wave and to be arranged in an arrangement between the base unit and the target space, in turn, the arrangement comprising at least one of the wavefronts. It is formed along the wavefront of and arranged to be wider than its base unit. In both examples, such counter units are arranged to emit a third counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은 다양한 배열로 제공될 수도 있다. 일 예에서, 시스템은, 카운터 파를 방출하고, 배열에 기초하여 타겟 공간과 기본 유닛 사이에 배치되도록 배열된 단일 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 차례로, 그 배열은, 그러한 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 정의되고 그 기본 유닛보다 더 협소하도록 배열된다. 또 다른 예에서, 시스템은, 각각이 그러한 카운터 파를 방출하고, 기본 유닛과 타겟 공간 사이에서 배열로 배치되도록 배열된 다수의 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 차례로, 그 배열은, 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 정의되도록 배열되고, 또한, 그 기본 유닛보다 더 협소하도록 배열된다. 양자의 예에서, 그러한 카운터 유닛은 제 3 카운터 파를 방출하도록 배열된다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may be provided in various arrangements. In one example, the system may include a single counter unit arranged to emit a counter wave and to be disposed between the target space and the base unit based on the arrangement, in which arrangement the wavefront is at least one of those wavefronts. It is defined along and arranged to be narrower than its base unit. In another example, the system may include a plurality of counter units, each arranged to emit such a counter wave and to be arranged in an array between the base unit and the target space, in turn the arrangement being at least one of the wavefronts. It is arranged to be defined along the wavefront of, and also arranged to be narrower than its base unit. In both examples, such counter units are arranged to emit a third counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은 다양한 배열로 제공될 수도 있다. 일 예에서, 시스템은, 카운터 파를 방출하고, 배열에 기초하여 기본 유닛과 타겟 공간 사이에 배치되도록 배열된 단일 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 차례로, 그 배열은, 파면 중 적어도 하나의 파면의 배열과 유사 (또는 동일, 일치) 하도록 배열된다. 또 다른 예에서, 시스템은, 그러한 카 운터 파를 방출하고, 기본 유닛에 관해 타겟 공간의 반대측상에 배열로 배치되도록 배열된 단일 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 그 배열은 파면 중 적어도 하나의 배열과 유사 (또는 동일, 일치) 하도록 배열된다. 또 다른 예에서, 시스템은, 각각이 그러한 카운터 파를 방출하고, 기본 유닛과 타겟 공간 사이에서 배열로 배치되도록 배열된 다수의 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 그 배열은 파면 중 적어도 하나의 파면과 유사 (또는 동일, 일치) 하도록 배열된다. 또 다른 예에서, 시스템은, 각각이 카운터 파를 방출하고, 기본 유닛에 관해 타겟 공간의 반대측상에 배열로 배치되도록 배열된 다수의 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 그 배열은 파면 중 적어도 하나의 파면과 유사 (또는 동일, 일치) 하도록 배열된다. 이러한 모든 예에서, 그러한 카운터 유닛은 제 3 카운터 파를 방출하도록 배열된다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may be provided in various arrangements. In one example, the system may include a single counter unit that emits a counter wave and is arranged to be disposed between the base unit and the target space based on the arrangement, in which the arrangement comprises a wavefront of at least one of the wavefronts. Arranged to be similar (or identical, identical) to the array. In another example, the system may include a single counter unit arranged to emit such counter waves and to be arranged in an arrangement on the opposite side of the target space with respect to the base unit, wherein the arrangement is an arrangement of at least one of the wavefronts. Are arranged to be similar (or identical, identical) to In another example, the system may include a plurality of counter units each arranged to emit such counter waves and to be arranged in an array between the base unit and the target space, the arrangement comprising at least one wavefront of the wavefront. They are arranged to be similar (or identical, identical). In another example, the system may include a plurality of counter units each arranged to emit a counter wave and to be arranged in an arrangement on the opposite side of the target space with respect to the base unit, wherein the arrangement comprises at least one of the wavefronts. Arranged to be similar (or identical, coincident) to the wavefront. In all such examples, such counter units are arranged to emit a third counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은 다양한 배열로 제공될 수도 있다. 일 예에서, 그러한 시스템은, 카운터 파를 방출하고, 파면 중 적어도 하나의 파면의 형상과 유사 (또는 동일, 일치) 하지 않는 형상을 정의하며, 그 파면 중 적어도 하나의 파면의 배열과 유사 (또는 동일, 일치) 하지 않도록 배열된 배열에 기초하여 기본 유닛과 타겟 공간 사이에 배치되도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 시스템은, 그러한 카운터 파를 방출하고, 파면 중 적어도 하나의 파면의 형상과 유사 (또는 동일, 일치) 하지 않은 형상을 정의하며, 그 파면 중 적어도 하나의 파면의 배열과 유사 (또는 동일, 일치) 하지 않도록 배열된 배열로 기본 유닛에 관해 타겟 공간의 반대측상에 배치되도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 양자의 예에서, 그러한 카운터 파는, 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖고, 타겟 공간에서 그 형상으로 인해 그러한 유해한 파의 파면에 적어도 부분적으로 매칭하며, 따라서, 타겟 공간에서 반대인 위상각으로 인해 유해한 파를 카운터링하도록 배열된다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may be provided in various arrangements. In one example, such a system emits a counter wave, defines a shape that does not resemble (or is identical to, or coincides with) the shape of at least one of the wavefronts, and is similar to (or similar to) the arrangement of the wavefronts of at least one of the wavefronts. And at least one counter unit arranged to be disposed between the base unit and the target space based on the arrangement arranged not to be identical. In another example, the system emits such a counter wave and defines a shape that is not similar (or identical, coincident) to the shape of at least one of the wavefronts, and that is similar to the arrangement of wavefronts of at least one of the wavefronts ( Or at least one counter unit arranged to be disposed on the opposite side of the target space with respect to the base unit in an arrangement arranged so as not to be identical. In both examples, such counter waves have a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave, and at least partially matches the wavefront of such harmful wave due to its shape in the target space, and thus is opposite in the target space. The phase angle is arranged to counter harmful waves.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은 다양한 배열로 제공될 수도 있다. 일 예에서, 그러한 시스템은, 카운터 파를 방출하고, 그러한 파면의 적어도 일부 (또는 전체 부분) 를 그 내에서 둘러싼 배열로 배치되도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 시스템은, 카운터 파를 방출하고, 파면의 적어도 일부 (또는 전체 부분) 에 의해 둘러싸인 배열로 배치되도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 시스템은, 카운터 파를 방출하고, 파면의 적어도 일부 (또는 전체 부분) 에 관해 측면 (또는 나란한) 배열로 배치되도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 이러한 모든 예에서, 그 카운터 유닛은 제 3 카운터 파를 방출하도록 배열된다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may be provided in various arrangements. In one example, such a system may include at least one counter unit arranged to emit a counter wave and to place at least a portion (or the entire portion) of such a wavefront in an arrangement surrounding therein. In another example, the system may include at least one counter unit arranged to emit a counter wave and to be arranged in an arrangement surrounded by at least a portion (or a whole portion) of the wavefront. In another example, the system may include at least one counter unit arranged to emit a counter wave and to be disposed in a side (or side by side) arrangement with respect to at least a portion (or the entire portion) of the wavefront. In all these examples, the counter unit is arranged to emit a third counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은 다양한 배열로 제공될 수도 있다. 일 예에서, 그러한 시스템은, 와이어, 스트립, 시트, 튜브, 코일, 나선, 메시, 이들의 혼합물, 이들의 결합물, 및/또는 이들의 어레이를 정의하는 배열로 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 배치되고 기본 유닛과 타겟 공간 사이에 배치되는 동안, 카운터 파를 방출하도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 시스템은, 와이어, 스트립, 시트, 튜브, 코일, 나선, 메시, 이들의 혼합물, 이들의 결합물, 및/또는 이들의 어레이의 배열로 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 배치되고 기본 유닛에 관해 타겟 공간의 반대측상에 배치되는 동안, 카운터 파를 방출하도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 양자의 예에서, 카운터 유닛은 제 3 카운터 파를 방출하도록 배열된다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may be provided in various arrangements. In one example, such a system is along a wavefront of at least one of the wavefronts in an array defining wires, strips, sheets, tubes, coils, spirals, meshes, mixtures thereof, combinations thereof, and / or arrays thereof. It may comprise at least one counter unit arranged to emit a counter wave while being arranged and disposed between the base unit and the target space. In another example, the system is disposed along the wavefront of at least one of the wavefronts in an array of wires, strips, sheets, tubes, coils, spirals, meshes, mixtures thereof, combinations thereof, and / or arrays thereof. While disposed on the opposite side of the target space with respect to the base unit, it may include at least one counter unit arranged to emit a counter wave. In both examples, the counter unit is arranged to emit a third counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 각각이 기본 유닛에 관해 타겟 공간의 원단측 (far side) 상에 정의된 배열로 배치되고, 카운터 유닛에 의해 개별적으로 방출된 카운터 파의 합산이 개별적인 카운터 파의 파면보다 더 큰 곡률 반경을 갖는 파면을 정의하기 위해 카운터 파를 방출하도록 배열된 적어도 2개의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 그 후, 그러한 카운터 유닛의 적어도 하나 또는 양자는 제 3 카운터 파를 방출하도록 배열될 수도 있다.In yet another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system is arranged in an array, each defined on the far side of the target space with respect to the base unit, and separately released by the counter unit. The summation of the waves may include at least two counter units arranged to emit counter waves to define wavefronts having a radius of curvature greater than that of the individual counter waves. Thereafter, at least one or both of such counter units may be arranged to emit a third counter wave.

본 발명의 또 다른 양태에서, 예시적인 시스템은, 카운터 파에 의해 유해한 파의 파면을 따라 그 유해한 파에 매칭함으로써, 및 카운터 파에 의해 타겟 공간에서 유해한 파를 소거하고 및/또는 그 유해한 파가 타겟 공간으로 전파하는 것을 카운터 파로 억제함으로써, 적어도 하나의 파원의 기본 유닛으로부터 방출된 유해한 전자기파를 카운터 전자기파로 카운터링하도록 제공될 수도 있으며, 여기서, 그 기본 유닛은, 그 유해한 파를 방출하고 그것을 통해 유해한 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 파원의 일부만을 포함하도록 배열되지만, 그 타겟 공간은 그 시스템과 사용자 사이에 정의된다.In still another aspect of the present invention, an exemplary system is provided by matching a harmful wave along the wavefront of the harmful wave by the counter wave and eliminating the harmful wave in the target space by the counter wave and / or removing the harmful wave. By suppressing propagation into a target space with a counter wave, it may be provided to counter harmful electromagnetic waves emitted from the base unit of at least one wave source to the counter electromagnetic waves, where the base unit emits the harmful wave and through it. The target space is defined between the system and the user, although it is arranged to include only a portion of the source that is responsible for affecting the path of the harmful wave.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 그러한 시스템은 다양한 배열로 제공될 수도 있다. 일 예에서, 그러한 시스템은, 단일 기본 유닛의 형상에 매칭하는 형상을 정의하고 그러한 카운터 파를 방출하도록 배열될 수도 있는 단일 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 시스템은, 단일 기본 유닛의 전체 형상에 매칭하는 전체 형상을 정의하고 카운터 파를 방출하도록 배열된 다수의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 양자의 예에서, 그 카운터 파는, 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 타겟 공간에서 그 형상으로 인해 유해한 파의 파면에 적어도 부분적으로 매칭하며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 유해한 파를 카운터링하도록 배열된다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, such a system may be provided in various arrangements. In one example, such a system may include a single counter unit that may be arranged to define a shape that matches the shape of a single base unit and emit such a counter wave. In another example, the system may include a plurality of counter units arranged to emit a counter wave and define an overall shape that matches the overall shape of a single base unit. In both examples, the counter wave defines a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave and at least partially matches the wavefront of the harmful wave due to its shape in the target space, and thus vice versa in the target space. It is arranged to counter harmful waves due to the phosphorus phase angle.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은 다양한 배열로 제공될 수도 있다. 일 예에서, 시스템은, 모든 다수의 기본 유닛이 아닌 그 기본 유닛 중 적어도 하나의 기본 유닛의 전체 형상 및/또는 배열에 매칭하는 형상을 정의하고 카운터 파를 방출하도록 배열된 단일 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 시스템은, 모든 다수의 기본 유닛의 전체 형상 및/또는 전체 배열에 매칭하는 형상을 정의하도록 배열된 단일 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 시스템은, 모든 다수의 기본 유닛이 아닌 그 기본 유닛 중 적어도 하나의 기본 유닛의 전체 형상 및/또는 전체 배열에 매칭하는 전체 형상을 정의하고 카운터 파를 방출하도록 배열된 다수의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 시스템은, 모든 다수의 기본 유닛의 전체 형상 및/ 또는 배열에 매칭하는 전체 형상을 정의하고 카운터 파를 방출하도록 배열된 다수의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 이러한 모든 예에서, 그 카운터 파는, 또한, 그러한 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖고, 타겟 공간에서 그러한 형상 및/또는 배열로 인해 그러한 유해한 파의 파면에 적어도 부분적으로 매칭하며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 유해한 파를 카운터링하도록 배열된다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may be provided in various arrangements. In one example, the system may include a single counter unit arranged to emit a counter wave and define a shape that matches the overall shape and / or arrangement of at least one of the base units rather than all of the plurality of base units. It may be. In another example, the system may include a single counter unit arranged to define a shape that matches the overall shape and / or the overall arrangement of all the plurality of base units. In another example, the system includes a plurality of counters arranged to emit a counter wave and define an overall shape that matches the entire configuration and / or the entire arrangement of at least one of the base units, rather than all the plurality of base units. It may also include units. In another example, the system may include a plurality of counter units arranged to emit a counter wave and define an overall shape that matches the overall shape and / or arrangement of all the plurality of base units. In all these examples, the counter wave also has a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of such harmful waves, and at least partially matches the wavefront of such harmful waves due to such shape and / or arrangement in target space, Thus, it is arranged to counter harmful waves due to the opposite phase angle in the target space.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은 다양한 배열로 제공될 수도 있다. 일 예에서, 시스템은, 미리 설정된 형상을 정의하고, 미리 설정된 배열에 기초하여 단일 기본 유닛에 관해 배치되며, 카운터 파를 방출하도록 배열된 단일 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 여기서, 그 후, 그러한 형상 및/또는 배열은 그러한 파면 중 적어도 하나의 파면에 매칭하도록 배열될 수도 있다. 또 다른 예에서, 시스템은, 미리 설정된 전체 형상을 정의하고, 미리 설정된 배열로 다수의 기본 유닛에 관해 배치되며, 그러한 카운터 파를 방출하도록 배열된 다수의 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 여기서, 그 형상 및/또는 그 배열은 파면 중 적어도 하나의 파면에 매칭하도록 배열될 수도 있다. 양자의 예에서, 카운터 파는, 그러한 형상 및/또는 배열과 유사한 (또는 동일한) 파면을 갖고, 타겟 공간에서 유해한 파의 파면과 카운터 파의 파면을 매칭시키는 동안 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 가지며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 유해한 파를 카운터링하도록 배열된다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may be provided in various arrangements. In one example, the system may include a single counter unit defining a preset shape, disposed about a single base unit based on the preset arrangement, and arranged to emit a counter wave, where such The shape and / or arrangement may be arranged to match at least one of those wavefronts. In another example, the system may include a plurality of counter units defining a predetermined overall shape, arranged with respect to the plurality of base units in a preset arrangement, and arranged to emit such counter waves. The shape and / or its arrangement may be arranged to match at least one of the wavefronts. In both examples, the counter wave has a wavefront similar (or identical) to that shape and / or arrangement, and at least partially opposite the phase angle of the harmful wave while matching the wavefront of the counterwave with the counterwave in the target space. Has a phase angle, and is thus arranged to counter harmful waves due to the opposite phase angle in the target space.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은 다양한 배열로 제공될 수도 있다. 일 예에서, 시스템은, 단일 기본 유닛으로부터의 유해한 파의 그러한 파면 중 적어도 하나의 파면에 매칭하는 카운터 파를 방출하도록 형성, 사이징, 및/또는 배치된 단일 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 그러한 시스템은, 그러한 카운터 파를 방출하도록 형성, 사이징 및 배치된 다수의 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 그 카운터 파의 합산은, 단일 기본 유닛에 의해 방출된 유해한 파의 파면 중 적어도 하나의 파면에 매칭하도록 배열된다. 또 다른 예에서, 시스템은, 다수의 소스의 다수의 기본 유닛에 의해 방출된 유해한 파의 합산의 그러한 파면 중 적어도 하나의 파면에 매칭하는 카운터 파를 방출하도록, 또한, 형성, 사이징 및 배치된 단일 카운터 유닛을 가질 수도 있다. 또 다른 예에서, 시스템은, 다수의 소스의 다수의 기본 유닛으로부터 방출된 유해한 파의 합산의 그러한 파면 중 적어도 하나의 파면에 매칭하는 카운터 파를 방출하도록 형성, 사이징, 및 배치된 다수의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 모든 예에서, 그 카운터 파는, 그 카운터 유닛의 그러한 형상, 사이즈 및/또는 배치와 유사한 (또는 동일한) 파면을 형성하고, 타겟 공간에서 그 파면에 매칭하는 동안 유해한 파의 합산의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 가지며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 유해한 파를 카운터링하도록 배열된다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may be provided in various arrangements. In one example, the system may include a single counter unit configured, sized, and / or arranged to emit a counter wave that matches at least one of those wavefronts of a harmful wave from a single base unit. In another example, such a system may include a number of counter units formed, sized, and arranged to emit such counter waves, the sum of the counter waves being a wavefront of the harmful waves emitted by a single base unit. Arranged to match at least one wavefront. In another example, the system is further configured to emit a counter wave that matches at least one of those wavefronts of the summation of the harmful waves emitted by the multiple base units of the multiple sources, and is further formed, sized, and arranged It may have a counter unit. In another example, the system includes a plurality of counter units configured, sized, and arranged to emit counter waves that match at least one of those wavefronts of the sum of the harmful waves emitted from the plurality of base units of the plurality of sources. It may also include. In all examples, the counter wave forms a wavefront similar (or identical) to that shape, size, and / or placement of the counter unit, and at least partially with the phase angle of the sum of the harmful waves while matching that wavefront in the target space. It has an opposite phase angle and is thus arranged to counter harmful waves due to the opposite phase angle in the target space.

본 발명의 또 다른 양태에서, 예시적인 시스템은, 그 시스템의 또 다른 부분에 의해 방출된 카운터 전자기파로, 및 타겟 공간에서 유해한 파를 소거하고 및/또는 유해한 파가 타겟 공간으로 전파하는 것을 억제함으로써, 적어도 하나의 파원의 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 전자기파를 그 카운터 파에 의해 카운터링하도록 제공될 수도 있으며, 여기서, 그 기본 유닛은, 그 유해한 파를 조사하고 그것을 통해 유해한 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 파원의 일부만을 포함하도록 배열되고, 그 유해한 파는 다수의 파면을 정의하는 동안 전파하도록 배열되며, 그 타겟 공간은 그 시스템과 사용자 사이에 형성된다.In another aspect of the present invention, an exemplary system is provided by counter electromagnetic waves emitted by another portion of the system, and by eliminating harmful waves in the target space and / or inhibiting harmful waves from propagating into the target space. It may also be provided to counter harmful electromagnetic waves irradiated from the base unit of at least one wave source by the counter wave, wherein the base unit irradiates the harmful wave and affects the path of the harmful wave through it. The harmful waves are arranged to propagate during the definition of a plurality of wavefronts, the target space being formed between the system and the user.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 미리 설정된 형상 및/또는 사이즈를 정의하고, 파면 중 적어도 하나의 파면의 적어도 일부를 따라 정의된 배열로 배치되며, 그 후, 타겟 공간에서 그 파면을 따라 전파하는 카운터 파를 방출하도록 배열된 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있으며, 그 카운터 파는, 유해한 파의 파면 중 적어도 하나의 파면에 매칭하는 동안 그러한 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그 유해한 파를 카운터링하도록 배열될 수도 있다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system defines a predetermined shape and / or size, is disposed in a defined arrangement along at least a portion of at least one of the wavefronts, and then the target space And at least one counter unit arranged to emit a counter wave propagating along the wavefront, wherein the counter wave is at least partially at least in phase with the phase angle of the harmful wave while matching the wavefront of at least one of the wavefronts of the harmful wave. It may be arranged to define the opposite phase angle and thus counter the harmful waves due to the opposite phase angle in the target space.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은 다양한 배열로 제공될 수도 있다. 일 예에서, 시스템은, 각각이 미리 설정된 형상 및 사이즈를 정의하도록 배열되고, 파면 중 적어도 하나의 파면의 적어도 일부를 따라 정의된 배열로 배치되고, 그 후, 타겟 공간에서 그 파면을 따라 전파하는 카운터 파를 방출하도록 배열된 다수의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 그러한 시스템은, 각각이 미리 설정된 형상 및/또는 사이즈를 정의하도록 배열되고, 그러한 파면 중 임의의 파면에 일치하지 않는 배열로 배치되지만 타겟 공 간에서 그 파면을 따라 전파하는 카운터 파를 방출하도록 배열된 다수의 카운터 유닛을 가질 수도 있다. 양자의 예에서, 그 카운터 유닛 중 적어도 2개의 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파의 합산은, 유해한 파의 파면에 매칭하는 동안 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖고, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그 유해한 파를 카운터링하도록 배열될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may be provided in various arrangements. In one example, the system is arranged to define a predetermined shape and size, each arranged in an array defined along at least a portion of at least one of the wavefronts, and then propagating along the wavefront in target space. It may comprise a plurality of counter units arranged to emit a counter wave. In another example, such a system is a counter wave, each arranged to define a predetermined shape and / or size, arranged in an arrangement that does not match any of those wavefronts, but propagating along the wavefront in the target space. It may also have a plurality of counter units arranged to emit. In both examples, the sum of the counter waves emitted by at least two of the counter units has a phase angle that is at least partially opposite to the phase angle of the harmful wave while matching the wavefront of the harmful wave, and thus It may be arranged to counter the harmful waves due to the opposite phase angle in the target space.

본 발명의 또 다른 양태에서, 예시적인 스피커 시스템은, 전류가 그 내로 흐를 경우 유해한 전자기파를 방출하는 다수의 기본 유닛을 갖는 적어도 하나의 스피커를 포함하고, 타겟 공간에서 그러한 유해한 파를 소거하고 및/또는 그 유해한 파가 타겟 공간을 향해 전파하는 것을 억제함으로써 그 유해한 파를 카운터링할 수 있도록 제공될 수도 있으며, 여기서, 그 기본 유닛은, 그 유해한 파를 방출하고 그것을 통해 그 유해한 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 스피커의 일부만을 포함하도록 배열되고, 그 타겟 공간은 사용자와 그 시스템 사이에 정의된다.In another aspect of the invention, an exemplary speaker system includes at least one speaker having a plurality of base units that emit harmful electromagnetic waves when current flows therein, canceling such harmful waves in the target space and / or Or counteracting the harmful waves by inhibiting their propagation towards the target space, wherein the base unit emits the harmful waves and affects the path of the harmful waves through them. It is arranged to include only a portion of the loudspeaker that is responsible for giving the signal, and the target space is defined between the user and the system.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 적어도 하나의 콘, 적어도 하나의 음성 코일, 적어도 하나의 영구 자석, 및 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 그 콘은 적어도 2개의 말단을 정의하도록 배열되지만, 그 보이스 코일은, 그 콘 말단 중 하나의 말단 주변에 형성된 적어도 하나의 전자석을 형성 또는 포함하고, 그 내에 소스 신호를 흐르게 하고, 그러한 기본 유닛 중 하나의 기본 유닛으로서 기능하며, 그 보이스 코일 주변에 동적 자기장을 정의하고 그 신호 소스에 응답하여 기본 유닛 중 하나의 기본 유닛으로서 기능하는 동안 그러한 유해한 파를 방출하도록 배열된다. 그 영구 자석은, 그 주변에 정적 동적 필드를 형성하고, 그 음성 코일에 자기적으로 커플링하며, 그 음성 코일을 통해 유해한 파를 송신하는 그러한 기본 유닛 중 또 다른 기본 유닛으로서 기능하도록 배열된다. 그 후, 그러한 정적 자기장과 동적 자기장 사이의 상호작용은, 그 콘을 진동시키고, 그 소스 신호에 응답하여 가청음 (audible sound) 을 생성하도록 배열된다. 일 예에서, 카운터 유닛은, 그 음성 코일 및/또는 자석과 동일한 (또는 유사한) 형상을 정의하고, 그 후, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열되며, 그 카운터 전자기파는, 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 형상으로 인해 그 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 정의하며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각에 기초하여 그 유해한 파를 카운터링한다. 또 다른 예에서, 그 카운터 유닛은, 그 음성 코일 및 영구 자석에 의해 형성된 유해한 파의 다수의 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 정의된 배열로 배치되고, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열되며, 그 카운터 전자기파는, 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 또한 그 배열로 인해 그 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 정의하며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그 유해한 파를 카운터링한다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may include at least one cone, at least one voice coil, at least one permanent magnet, and at least one counter unit. The cone is arranged to define at least two ends, but the voice coil forms or includes at least one electromagnet formed around one end of the cone end, flows a source signal therein, and among the base units It acts as one base unit and is arranged to define a dynamic magnetic field around its voice coil and emit such harmful waves while acting as one base unit of the base unit in response to its signal source. The permanent magnet is arranged to function as another base unit among those base units that form a static dynamic field around it, magnetically couple to the voice coil, and transmit harmful waves through the voice coil. The interaction between such a static and dynamic magnetic field is then arranged to vibrate the cone and generate an audible sound in response to the source signal. In one example, the counter unit defines the same (or similar) shape as its voice coil and / or magnet, and is then arranged to emit counter electromagnetic waves, the counter electromagnetic waves at least partially with the phase angle of the harmful wave. The opposite phase angle is defined, and its shape defines wave characteristics that are at least partially similar to that of the harmful wave, thus countering the harmful wave based on the opposite phase angle in the target space. In another example, the counter unit is arranged in a defined arrangement along at least one wavefront of the multiple wavefronts of the harmful waves formed by the voice coil and the permanent magnet, and arranged to emit counter electromagnetic waves, the counter electromagnetic waves Defines a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave, and also defines a wave characteristic that is at least partially similar to the wave characteristic of the harmful wave due to its arrangement, and thus the opposite phase in the target space. Each counts its harmful waves.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 적어도 하나의 진동판 (diaphragm), 적어도 2개의 그리드, 및 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 그러한 진동판은, 전기적으로 대전되고, 진동할 때 그러 한 기본 유닛 중 하나의 기본 유닛으로 기능하는 동안 그 진동판 주변에서 정적 전기장을 정의하도록 배열된다. 그러한 그리드는, 그 진동판의 반대측상에 배치되고, 소스 신호를 그 내에 흐르게 하는 동안 그 소스 신호에 응답하여 동적 전기장을 그들 사이에 형성하고, 그 진동판을 진동시키는 동안 그 정적 전기장과 그 동적 전기장 사이의 상호작용으로 인해 가청음을 생성하며, 그 기본 유닛의 또 다른 기본 유닛으로서 기능하는 동안 그 소스 신호에 응답하여 유해한 파를 방출하도록 배열된다. 일 예에서, 그러한 카운터 유닛은, 그 진동판 및/또는 그리드와 동일한 (또는 유사한) 형상을 정의하고 카운터 전자기파를 방출하도록 배열되며, 그 카운터 전자기파는, 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖고, 그 형상으로 인해 그 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 가지며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각에 기초하여 그 유해한 파를 카운터링한다. 또 다른 예에서, 그 카운터 유닛은, 그 진동판 및/또는 그리드에 의해 정의된 유해한 파의 다수의 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 정의된 배열로 배치되고, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열되며, 그 카운터 전자기파는, 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖고, 그러한 배열에 기초하여 그 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 정의하며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그 유해한 파를 카운터링한다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may include at least one diaphragm, at least two grids, and at least one counter unit. Such diaphragms are arranged to define a static electric field around the diaphragm while being electrically charged and functioning as the base unit of one of those base units when vibrating. Such a grid is disposed on the opposite side of the diaphragm and forms a dynamic electric field between them in response to the source signal while flowing the source signal therein, and between the static electric field and the dynamic electric field while vibrating the diaphragm. The audible sound is generated due to the interaction of and is arranged to emit harmful waves in response to its source signal while functioning as another base unit of the base unit. In one example, such counter units are arranged to define the same (or similar) shape as the diaphragm and / or grid and to emit counter electromagnetic waves, the counter electromagnetic waves being at least partially opposite the phase angle of the harmful wave. It has an angle, and because of its shape, has a wave characteristic that is at least partially similar to that of the harmful wave, and therefore counters the harmful wave based on the opposite phase angle in the target space. In another example, the counter unit is arranged in an array defined along at least one wavefront of the plurality of wavefronts of harmful waves defined by the diaphragm and / or grid, and arranged to emit counter electromagnetic waves, the counter The electromagnetic wave has a phase angle that is at least partially opposite to that of the harmful wave and, based on such an arrangement, defines a wave characteristic that is at least partially similar to the wave characteristic of the harmful wave, and thus the opposite phase in the target space. Each counts its harmful waves.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 적어도 하나의 압전판, 적어도 2개의 전극, 적어도 하나의 카운터 유닛 등을 포함할 수도 있다. 그 압전판은, 진동할 때 기본 유닛 중 하나의 기본 유닛으로 기능하는 동안 그 압전판의 진동으로 소스 전압을 변환하도록 배열되지만, 그 전극은, 그 압전판의 반대측에 전기적으로 커플링되고, 그러한 판에 그러한 소스 전압을 인가하며, 그 후, 기본 유닛의 또 다른 기본 유닛으로 기능할 때 소스 신호에 대한 응답으로서 그러한 유해한 파를 방출하는 동안 그 소스 전압에 응답하여 그 판을 따라 진동하도록 배열된다. 일 예에서, 그 카운터 유닛은, 그 진동판 및/또는 전극과 동일한 (또는 유사한) 형상을 정의하고, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열될 수도 있으며, 그 카운터 전자기파는, 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 형상으로 인해 그 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 정의하며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그 유해한 파를 카운터링한다. 또 다른 예에서, 그 카운터 유닛은, 그 압전판 및 전극 중 적어도 하나에 의해 정의된 유해한 파의 다수의 파면 중 적어도 하나의 파면을 따른 배열로 배치되고, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열되며, 그 카운터 전자기파는, 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖고, 그 배열로 인해 그 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 정의하며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그 유해한 파를 카운터링한다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may include at least one piezoelectric plate, at least two electrodes, at least one counter unit, and the like. The piezoelectric plate is arranged to convert the source voltage into vibrations of the piezoelectric plate while functioning as one of the base units when vibrating, but the electrode is electrically coupled to the opposite side of the piezoelectric plate and such It is arranged to apply such a source voltage to the plate and then vibrate along the plate in response to the source voltage while emitting such a harmful wave as a response to the source signal when functioning as another base unit of the base unit. . In one example, the counter unit may be arranged to define the same (or similar) shape as the diaphragm and / or the electrode, and to emit counter electromagnetic waves, the counter electromagnetic waves at least partially with the phase angle of the harmful wave. Define the opposite phase angle and define wave characteristics that are at least partially similar to the wave characteristics of that harmful wave due to its shape, and thus counter the harmful wave due to the opposite phase angle in target space. In another example, the counter unit is arranged in an arrangement along the wavefront of at least one of the multiple wavefronts of the harmful wave defined by at least one of the piezoelectric plate and the electrode, and is arranged to emit counter electromagnetic waves, the counter An electromagnetic wave has a phase angle that is at least partially opposite to that of the harmful wave and, due to its arrangement, defines a wave characteristic that is at least partially similar to the wave characteristic of the harmful wave, and thus the opposite phase angle in the target space. Due to countering those harmful waves.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 적어도 하나의 보디부 (body), 스피커, 및 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 그러한 보디부는 사용자의 귀 상에 및/또는 사용자의 귀관 (ear canal) 내 에 배치되지만, 그 스피커는 그 보디부에 의해 지지되고, 유해한 파를 방출하기 위해 기본 유닛을 포함하도록 배열된다. 일 예에서, 그 카운터 유닛은, 그 스피커의 기본 유닛 중 적어도 하나의 기본 유닛과 동일한 (또는 유사한) 형상을 정의하고, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열되며, 그 카운터 전자기파는, 그러한 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 형상으로 인해 그 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 가지며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그러한 유해한 파를 카운터링한다. 또 다른 예에서, 그 카운터 유닛은, 대신, 기본 유닛에 의해 형성된 유해한 파의 다수의 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 정의된 배열로 배치되고, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열되며, 그 카운터 전자기파는, 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 배열로 인해 그 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 정의하며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그 유해한 파를 카운터링한다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may include at least one body, a speaker, and at least one counter unit. Such body portion is disposed on the user's ear and / or within the user's ear canal, but the speaker is supported by the body portion and arranged to include a base unit for emitting harmful waves. In one example, the counter unit defines the same (or similar) shape as the base unit of at least one of the base units of the speaker, and is arranged to emit counter electromagnetic waves, the counter electromagnetic waves being equal to the phase angle of such harmful waves. Define a phase angle that is at least partially opposite and has a wave characteristic that is at least partially similar to that of the harmful wave due to its shape, and therefore counter such harmful waves due to the opposite phase angle in the target space . In another example, the counter units are instead arranged in an array defined along at least one wavefront of the plurality of wavefronts of the harmful waves formed by the base unit and arranged to emit counter electromagnetic waves, the counter electromagnetic waves, Define a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave, and due to the arrangement, define a wave characteristic that is at least partially similar to the wave characteristic of the harmful wave, and therefore due to the opposite phase angle in the target space Counter those harmful waves.

본 발명의 또 다른 양태에서, 통신 시스템은, 유해한 전자기파를 방출하는 다수의 기본 유닛을 포함하고, 또한, 타겟 공간에서 그 파를 소거하고 및/또는 그 유해한 파가 그 타겟 공간으로 향하는 것을 억제함으로써 그 유해한 파를 카운터링할 수 있도록 제공될 수도 있으며, 여기서, 그러한 기본 유닛은, 그 유해한 파를 방출하고, 그것을 통해 그러한 유해한 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 시스템의 일부만을 포함하도록 배열되고, 그 타겟 공간은 사용자와 시스템 사이에 정의된다.In another aspect of the present invention, a communication system includes a plurality of basic units emitting harmful electromagnetic waves, and also by canceling the waves in the target space and / or suppressing the harmful waves from being directed to the target space. It may be provided to counter the harmful waves, where such base unit is arranged to contain only a portion of the system that emits the harmful waves and thereby affects the path of those harmful waves. The target space is defined between the user and the system.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 그러한 시스템은, 메인 보디부, 핸드셋, 적어도 하나의 입력 모듈, 적어도 하나의 출력 모듈, 및 적어도 하나의 카운터 유닛을 가질 수도 있다. 그 핸드셋은 와이어에 의해 그 메인 보디부에 전기적으로 접속되도록 배열되지만, 그 입력 모듈은 그 핸드셋에 배치되고, 기본 유닛 중 하나의 기본 유닛으로서 기능하는 적어도 하나의 마이크로폰을 가지며, 그 후, 사용자의 가청음을 출력 신호로 변환하도록 배열된다. 그러한 출력 모듈은, 그 핸드셋에 배치되고, 기본 유닛 중 또 다른 기본 유닛으로 기능하는 적어도 하나의 스피커를 가지며, 그 기본 유닛으로부터 유해한 파를 방출하는 동안 외부 소스 신호를 가청음으로 변환하도록 배열된다. 일 예에서, 그 카운터 유닛은, 그 핸드셋 내에 배치되고, 입력 및/또는 출력 모듈의 기본 유닛 중 적어도 하나의 기본 유닛과 동일한 (또는 유사한) 형상을 정의하며, 그 후, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열되며, 그 카운터 전자기파는, 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 형상으로 인해 그 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 포함하며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그 카운터 파를 카운터링한다. 또 다른 예에서, 그 카운터 유닛은, 그 출력 모듈의 기본 유닛에 의해 형성된 유해한 파의 다수의 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 형성된 배열로 배치되고, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열되며, 그 카운터 전자기파는, 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 배열로 인해 그 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 정의하며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그 유해한 파를 카운터링한다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, such a system may have a main body portion, a handset, at least one input module, at least one output module, and at least one counter unit. The handset is arranged to be electrically connected to its main body portion by a wire, but the input module has at least one microphone disposed in the handset and functioning as a base unit of one of the base units, and then of the user Arranged to convert an audible sound into an output signal. Such an output module has at least one speaker disposed in the handset and functioning as another one of the base units and is arranged to convert an external source signal into an audible sound while emitting harmful waves from the base unit. In one example, the counter unit is disposed within the handset and defines the same (or similar) shape as the base unit of at least one of the base units of the input and / or output module, and then arranged to emit counter electromagnetic waves. Wherein the counter electromagnetic wave defines a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave and, due to its shape, includes a wave characteristic that is at least partially similar to the wave characteristic of the harmful wave, and thus in a target space The counter angle is countered by the opposite phase angle. In another example, the counter units are arranged in an arrangement formed along at least one wavefront of the plurality of wavefronts of the harmful waves formed by the base unit of the output module and are arranged to emit counter electromagnetic waves, the counter electromagnetic waves being Define a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave and, due to its arrangement, define a wave characteristic that is at least partially similar to the wave characteristic of the harmful wave, and thus to the opposite phase angle in the target space. Due to its harmful wave counters.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 시스템은, 핸드셋, 적어도 하나의 입력 모듈, 적어도 하나의 송신 모듈, 적어도 하나의 수신 모듈, 적어도 하나의 출력 모듈, 및 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 그 입력 모듈은, 그 핸드셋에 배치되고, 그러한 기본 유닛 중 하나의 기본 유닛으로서 기능하는 적어도 하나의 마이크로폰을 포함하며, 사용자의 가청음을 출력 신호로 변환하도록 배열되지만, 그 송신 모듈은 그 출력 신호를 무선으로 송신하도록 배열된다. 그러한 수신 모듈은, 소스 신호를 무선으로 수신하도록 배열되고, 그 출력 모듈은, 그 핸드셋에 배치되고, 기본 유닛 중 또 다른 기본 유닛으로서 기능하는 적어도 하나의 스피커를 가지며, 그 후, 그 기본 유닛으로부터 유해한 파를 방출하는 동안 소스 신호를 가청음으로 변환하도록 배열된다. 일 예에서, 그 카운터 유닛은, 그 핸드셋에 배치되고, 또한 입력 및/또는 출력 모듈의 기본 유닛 중 적어도 하나의 기본 유닛과 동일한 (또는 유사한) 형상을 정의하고, 그 후, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열되며, 그 카운터 전자기파는, 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 형상으로 인해 그 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 정의하며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그 유해한 파를 카운터링한다. 또 다른 예에서, 그 카운터 유닛은, 그 출력 모듈의 기본 유닛에 의해 형성된 그러한 유해한 파의 다수의 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 정의된 배열로 배치되고, 그 후, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열되며, 그 카운터 전자기파는, 그 유해한 파 의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 배열로 인해 그러한 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 또한 가지며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그 유해한 파를 카운터링한다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, such a system comprises a handset, at least one input module, at least one transmit module, at least one receive module, at least one output module, and at least one counter unit. It may also include. The input module includes at least one microphone disposed in the handset and functioning as a base unit of one of the base units, and arranged to convert the user's audible sound into an output signal, while the transmitting module is configured to convert the output signal. Arranged to transmit wirelessly. Such a receiving module is arranged to receive the source signal wirelessly, the output module having at least one speaker disposed in the handset and functioning as another base unit of the base unit, and then from that base unit. It is arranged to convert the source signal into an audible sound while emitting harmful waves. In one example, the counter unit is arranged in the handset and also defines the same (or similar) shape as the base unit of at least one of the base units of the input and / or output module, and then emits counter electromagnetic waves. And the counter electromagnetic waves define a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave and, due to its shape, define a wave characteristic that is at least partially similar to the wave characteristic of the harmful wave, and thus in the target space The opposite phase angle counters the harmful waves. In another example, the counter unit is arranged in a defined arrangement along at least one wavefront of the multiple wavefronts of such harmful waves formed by the base unit of the output module, and then arranged to emit counter electromagnetic waves. The counter electromagnetic wave defines a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave and, due to its arrangement, also has a wave characteristic that is at least partially similar to that of the harmful wave, Counter the harmful waves due to the opposite phase angle.

본 발명의 또 다른 양태에서, 예시적인 시스템은, 유해한 전자기파를 방출하는 다수의 기본 유닛을 포함한 적어도 하나의 모터를 포함하고, 그 유해한 파가 타겟 공간을 향해 전파하는 것을 억제하고 및/또는 그 타겟 공간에서 그 유해한 파를 소거함으로써 그 유해한 파를 또한 카운터링하도록 제공될 수도 있으며, 여기서, 그러한 기본 유닛은, 그 유해한 파를 방출하고 그것을 통해 그 유해한 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 모터의 일부만을 포함하고, 그 타겟 공간은 사용자와 시스템 사이에 정의된다.In another aspect of the invention, an exemplary system includes at least one motor comprising a plurality of base units emitting harmful electromagnetic waves, inhibiting the harmful waves from propagating toward the target space and / or the targets. It may also be provided to counter the harmful waves by eliminating the harmful waves in space, where such a base unit is a motor that emits the harmful waves and causes the harmful waves to influence their path. It includes only a portion of the target space is defined between the user and the system.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 적어도 하나의 보디부, 적어도 하나의 고정자, 적어도 하나의 회전자, 및 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 그 고정자는, 그 보디부에 고정적으로 커플링되고, 그 고정자 주변에 정적 자기장을 생성하며, 상기 기본 유닛을 통해 유해한 파를 송신하는 동안 그 기본 유닛 중 하나의 기본 유닛으로서 기능하도록 배열된 적어도 하나의 영구 자석을 포함한다. 그 회전자는, 그 고정자에 이동가능하게 배치되고, 전류가 그 내에 흐를 때 그 회전자 주변에 동적 자기장을 정의하며, 유해한 파를 방출하고 그러한 기본 유닛 중 또 다른 기본 유닛으로서 기능하는 동안 그 내에 전류가 흐를 때 그러한 정적 자기장과 동적 자기장 사이의 상호작용으로 인해 회전하도록 배열된 적어도 하나의 전자석을 갖는다. 일 예에서, 그 카운 터 유닛은, 그 고정자 및/또는 회전자와 동일한 (또는 유사한) 형상을 정의하고, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열되며, 그 카운터 전자기파는, 그러한 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 형상으로 인해 그 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 또한 가지며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그 유해한 파를 카운터링한다. 이러한 카운터 유닛은, 이하, '제 1 타입의 카운터 유닛' 또는 '제 1 카운터 유닛' 으로 지칭될 것이다. 또 다른 예에서, 그 카운터 유닛은, 그 회전자 및/또는 고정자에 의해 형성된 유해한 파의 다수의 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 형성된 배열로 배치되고, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열되며, 그 카운터 전자기파는, 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 배열로 인해 그 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 정의하며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그 유해한 파를 카운터링한다. 그러한 카운터 유닛은, 이하, '제 2 타입의 카운터 유닛' 또는 '제 2 카운터 유닛' 으로 지칭될 것이다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may include at least one body portion, at least one stator, at least one rotor, and at least one counter unit. The stator is at least one that is fixedly coupled to the body portion and generates a static magnetic field around the stator and arranged to function as a base unit of one of the base units while transmitting harmful waves through the base unit. It includes a permanent magnet. The rotor is disposed movably in the stator and defines a dynamic magnetic field around the rotor as the current flows therein, while releasing harmful waves and acting as another of those base units Has at least one electromagnet arranged to rotate due to the interaction between such a static and dynamic magnetic field. In one example, the counter unit defines the same (or similar) shape as the stator and / or the rotor and is arranged to emit counter electromagnetic waves, the counter electromagnetic waves at least partially with the phase angle of such harmful waves. It defines an opposite phase angle and also has a wave characteristic that is at least partially similar to that of the harmful wave due to its shape, thus countering the harmful wave due to the opposite phase angle in the target space. Such a counter unit will hereinafter be referred to as a 'first type counter unit' or 'first counter unit'. In another example, the counter unit is arranged in an arrangement formed along at least one wavefront of the plurality of wavefronts of the harmful waves formed by the rotor and / or stator, arranged to emit counter electromagnetic waves, the counter electromagnetic waves Defines a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave and, due to its arrangement, defines a wave characteristic that is at least partially similar to the wave characteristic of the harmful wave, and thus, the phase angle that is opposite in the target space. Due to countering those harmful waves. Such a counter unit will hereinafter be referred to as a 'second type counter unit' or 'second counter unit'.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 적어도 하나의 보디부, 적어도 하나의 고정자, 적어도 하나의 회전자, 및 적어도 하나의 제 1 카운터 유닛 또는 적어도 하나의 제 2 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 그 고정자는, 그 보디부에 고정적으로 커플링하고, 전류가 그 내에 흐를 때 그 고정자 주변에 제 1 동적 자기장을 생성하고, 유해한 파를 송신하는 동안 상기 기본 유닛 중 하나의 기본 유닛으로서 기능하도록 배열된 적어도 하나의 제 1 전자석을 포함한다. 그 회전자는, 그 고정자에 이동가능하게 배치되고, 전류가 그 내에 흐를 때 그 회전자 주변에 제 2 동적 자기장을 정의하며, 유해한 파를 방출하고 기본 유닛 중 또 다른 기본 유닛으로서 기능하는 동안 그 내에 전류가 흐를 때 그러한 제 1 동적 자기장과 제 2 동적 자기장 사이의 상호작용으로 인해 회전하도록 배열된 적어도 하나의 제 2 전자석을 포함한다. 따라서, 그러한 제 1 또는 제 2 카운터 유닛은 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링할 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system comprises at least one body portion, at least one stator, at least one rotor, and at least one first counter unit or at least one second counter unit. It may also include. The stator is fixedly coupled to the body part and arranged to generate a first dynamic magnetic field around the stator when current flows therein and to function as a base unit of one of the base units while transmitting harmful waves. At least one first electromagnet. The rotor is disposed movably in the stator and defines a second dynamic magnetic field around the rotor when current flows therein, while releasing harmful waves and acting as another of the base units therein. And at least one second electromagnet arranged to rotate due to the interaction between such a first dynamic magnetic field and a second dynamic magnetic field when current flows. Thus, such a first or second counter unit may counter the harmful wave by the counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 적어도 하나의 보디부, 적어도 하나의 고정자, 적어도 하나의 회전자, 및 적어도 하나의 제 1 카운터 유닛 또는 적어도 하나의 제 2 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 그러한 고정자는, 그 보디부에 고정적으로 커플링하고, 전류가 그 내에 흐를 때 그 고정자 주변에 동적 자기장을 생성하며, 유해한 파를 송신하는 동안 기본 유닛 중 하나의 기본 유닛으로서 기능하도록 배열된 적어도 하나의 전자석을 형성 또는 포함한다. 그 회전자는, 그 고정자에 이동가능하게 커플링하고, 그 회전자 주변에 동적 자기장을 정의하며, 그것을 통해 그러한 유해한 파를 송신하고 기본 유닛 중 또 다른 기본 유닛으로서 기능하는 동안 전류가 그 고정자에 흐를 때 그 정적 자기장과 동적 자기장 사이의 상호작용으로 인해 회전하도록 배열된 적어도 하나의 영구 자석을 포함한다. 따라서, 그러한 제 1 또는 제 2 카운터 유닛은 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링할 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system comprises at least one body portion, at least one stator, at least one rotor, and at least one first counter unit or at least one second counter unit. It may also include. Such a stator is at least one arranged to be fixedly coupled to its body part, to generate a dynamic magnetic field around the stator when current flows therein, and to function as a base unit of one of the base units while transmitting harmful waves Form or include an electromagnet. The rotor movably couples to the stator, defines a dynamic magnetic field around the rotor, through which current flows through the stator while transmitting such harmful waves and functioning as another base unit of the base unit. And at least one permanent magnet arranged to rotate due to the interaction between the static and dynamic magnetic fields. Thus, such a first or second counter unit may counter the harmful wave by the counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 적어도 하나의 보디부, 적어도 하나의 고정자, 적어도 하나의 회전자, 및 적어도 하나의 제 1 카운터 유닛 또는 적어도 하나의 제 2 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 그 고정자는, 그 보디부에 고정적으로 커플링하고, 전류가 그 내에 흐를 때 그 고정자 주변에 동적 자기장을 생성하며, 그러한 유해한 파를 송신하는 동안 기본 유닛 중 하나의 기본 유닛으로서 기능하도록 배열된 적어도 하나의 전자석을 갖는다. 그 회전자는, 그러한 고정자에 이동가능하게 커플링하고, 그 동적 자기장에 응답하여 전류를 유도하며, 그것을 통해 유해한 파를 송신하고 기본 유닛 중 또 다른 기본 유닛으로서 기능하는 동안 유도 전류에 의해 정의된 상쇄 (counterbalancing) 자기장과 그러한 동적 자기장 사이의 상호작용으로 인해 회전하도록 배열된 적어도 하나의 전기 도체를 포함한다. 따라서, 그러한 제 1 또는 제 2 카운터 유닛은 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링할 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system comprises at least one body portion, at least one stator, at least one rotor, and at least one first counter unit or at least one second counter unit. It may also include. The stator is at least arranged to be fixedly coupled to the body portion, to generate a dynamic magnetic field around the stator when current flows therein, and to function as a base unit of one of the base units while transmitting such a harmful wave. Has one electromagnet. The rotor couples movably to such a stator, induces a current in response to its dynamic magnetic field, transmits harmful waves through it, and cancels defined by the induced current while acting as another base unit of the base unit. (counterbalancing) at least one electrical conductor arranged to rotate due to the interaction between the magnetic field and such a dynamic magnetic field. Thus, such a first or second counter unit may counter the harmful wave by the counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 적어도 하나의 보디부, 적어도 하나의 고정자, 적어도 하나의 회전자, 및 적어도 하나의 제 1 카운터 유닛 또는 적어도 하나의 제 2 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 그 고정자는, 그 보디부에 고정적으로 커플링되고, 전류가 그 내에 흐를 때 그 고정자 주변에 동적 자기장을 생성하며, 유해한 파를 송신하는 동안 기본 유닛 중 하나의 기본 유닛으로서 기능하도록 배열된 적어도 하나의 전자석을 포함 또는 형성한다. 그 회전자는, 그 고정자에 이동가능하게 커플링하고, 그 회전자 주변에 정적 자기장을 형성하며, 그 후, 그것을 통해 그러한 유해한 파를 송신하고 기본 유닛 중 또 다른 기본 유닛으로서 기능하는 동안 그 고장자에서 전류가 흐를 때 정적 자기장과 동적 자기장 사이의 상호작용으로 인해 선형적으로 병진 운동 (translate) 하도록 배열된 적어도 하나의 영구 자석을 갖는다. 따라서, 그러한 제 1 또는 제 2 카운터 유닛은 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링할 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system comprises at least one body portion, at least one stator, at least one rotor, and at least one first counter unit or at least one second counter unit. It may also include. The stator is at least one coupled fixedly to the body portion, generating a dynamic magnetic field around the stator when current flows therein, and arranged to function as the base unit of one of the base units while transmitting harmful waves Contains or forms an electromagnet. The rotor is movably coupled to the stator, forms a static magnetic field around the rotor, and thereafter transmits such harmful waves through it and functions as another of the base units. Has at least one permanent magnet arranged to translate linearly due to the interaction between the static and dynamic magnetic fields as the current flows in. Thus, such a first or second counter unit may counter the harmful wave by the counter wave.

본 발명의 또 다른 양태에서, 시스템은, 유해한 전자기파를 방출하는 다수의 기본 유닛을 포함하고, 그 유해한 파가 타겟 공간으로 전파하는 것을 억제하고 및/또는 그 타겟 공간에서 그 유해한 파를 소거함으로써 그러한 기본 유닛으로부터 조사된 그 유해한 파를 카운터링하도록 제조될 수도 있으며, 여기서, 그 기본 유닛은, 그 유해한 파를 방출하고 그것을 통해 그러한 유해한 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 시스템의 일부만을 포함하도록 배열되고, 또한, 그 타겟 공간은 시스템과 사용자 사이에 정의된다.In another aspect of the present invention, a system includes a plurality of basic units that emit harmful electromagnetic waves, and by suppressing the harmful waves from propagating to the target space and / or eliminating the harmful waves in the target space. It may also be manufactured to counter the harmful waves irradiated from the base unit, where the base unit contains only a portion of the system that emits the harmful waves and thereby affects the path of those harmful waves. And the target space is defined between the system and the user.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 그러한 시스템은, 메인 보디부, 적어도 하나의 전기 모터, 적어도 하나의 샤프트, 및 적어도 하나의 제 1 카운터 유닛 또는 적어도 하나의 제 2 카운터 유닛을 갖는다. 그러한 전기 모터는, 그 보디부에 의해 지지되고, 양자가 기본 유닛으로서 기능하는 적어도 하나의 회전자 및 적어도 하나의 고정자를 포함하며, 전류가 그 내에 흐를 때 그 회전자를 회전 (또는 병진 운동) 시키도록 배열된다. 그 샤프트는, 그 보디부에 의해 이동가능하게 유지되고, 그 고정자와 이동가능하게 커플링하며, 기전력을 생성하는 동안 그러한 회전자를 따라 회전하도록 배열된다. 따라서, 그러한 제 1 또는 제 2 카운터 유닛은 카운터 파에 의해 유해한 파를 카운터링할 수도 있다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, such a system has a main body portion, at least one electric motor, at least one shaft, and at least one first counter unit or at least one second counter unit. . Such an electric motor includes at least one rotor and at least one stator supported by the body portion, both of which function as a base unit, and rotate the rotor (or translational movement) as current flows therein. Is arranged to. The shaft is movably held by the body portion, movably coupled with the stator, and arranged to rotate along such a rotor while generating an electromotive force. Thus, such a first or second counter unit may counter harmful waves by counter waves.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 시스템은, 적어도 하나의 메시, 적어도 하나의 블레이드 (blade), 적어도 하나의 전기 모터, 및 적어도 하나의 제 1 카운터 유닛 또는 적어도 하나의 제 2 카운터 유닛을 구비한 메인 보디부를 가질 수도 있다. 그 블레이드는, 그 메시 아래에 이동가능하게 배치되고, 그 메시를 통해 돌출된 헤어 (hair) 를 절단시키도록 배열되지만, 그 전기 모터는, 그 보디부에 의해 지지되고, 양자가 그러한 기본 유닛으로서 기능하는 적어도 하나의 회전자 및 적어도 하나의 고정자를 포함하고, 그 블레이드에 기계적으로 커플링되며, 그 내에 전류가 흐를 때 그 블레이드를 회전 (또는 병진 운동) 시켜 그 헤어를 절단시키도록 배열된다. 따라서, 그러한 제 1 또는 제 2 카운터 유닛은 카운터 파에 의해 유해한 파를 카운터링할 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, such a system comprises at least one mesh, at least one blade, at least one electric motor, and at least one first counter unit or at least one agent. It may also have a main body with two counter units. The blade is arranged to be moveable under the mesh and is arranged to cut the hair protruding through the mesh, but the electric motor is supported by the body portion, both as such a basic unit. At least one rotor and at least one stator that function, and are mechanically coupled to the blade and are arranged to rotate (or translate) the blade to cut its hair when current flows therein. Thus, such a first or second counter unit may counter harmful waves by counter waves.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 핸들, 브러쉬, 적어도 하나의 전기 모터, 및 적어도 하나의 제 1 (또는 제 2) 카운터 유닛을 가질 수도 있다. 그 브러쉬는, 그 핸들의 일 말단상에 이동가능하게 배치되도록 배열되지만, 그 전기 모터는, 그 보디부에 의해 지지되고, 양자가 기본 유닛으로서 기능하는 적어도 하나의 회전자 및 적어도 하나의 고정자를 포함하고, 그 브러쉬에 기계적으로 커플링하며, 전류가 그 내에 흐를 때 그 브러쉬를 회전 (또는 병진 운동) 시키도록 배열된다. 따라서, 그러한 제 1 또는 제 2 카운터 유닛은 카운터 파에 의해 유해한 파를 카운터링할 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may have a handle, a brush, at least one electric motor, and at least one first (or second) counter unit. The brush is arranged to be movably disposed on one end of the handle, but the electric motor is supported by the body portion and at least one rotor and at least one stator, both of which function as a basic unit. And mechanically couple to the brush and to rotate (or translate) the brush as a current flows therein. Thus, such a first or second counter unit may counter harmful waves by counter waves.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 메인 보디부, 적어도 하나의 팬, 적어도 하나의 전기 모터, 적어도 하나의 가열 유닛, 및 적어도 하나의 카운터 유닛 또는 적어도 하나의 제 2 카운터 유닛을 포함할 수 도 있다. 그 메인 보디부는, 적어도 하나의 공기 입구 및 적어도 하나의 공기 배출구를 갖는 공기 통로를 포함하지만, 그 팬은 그 공기 통로를 따라 배치된다. 그 전기 모터는, 그러한 보디부에 의해 지지되고, 양자가 기본 유닛으로서 기능하는 적어도 하나의 회전부 및 적어도 하나의 고정부를 포함하고, 그 판과 기계적으로 커플링하고, 그 팬을 회전 (또는 병진 운동) 시키도록 배열되며, 그 팬은, 공기 입구를 통해 공기를 내부로 유입시키고, 그 공기 통로를 통해 그 공기를 이동시키며, 그 후, 전류가 그 내에 흐를 때 그 공기 배출구를 통해 그러한 공기를 배출한다. 그 가열 유닛은, 그 공기 통로를 따라 배치되고, 그 공기 통로를 통해 흐르는 공기를 가열시켜, 그 공기 배출구로부터 사용자의 헤어 및 보디부에 저장된 의류 중 하나로 가열된 공기를 배출하도록 배열된다. 따라서, 그러한 제 1 또는 제 2 카운터 유닛은 카운터 파에 의해 유해한 파를 카운터링할 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system comprises a main body portion, at least one fan, at least one electric motor, at least one heating unit, and at least one counter unit or at least one second It may also include a counter unit. The main body portion includes an air passage having at least one air inlet and at least one air outlet, but the fan is disposed along the air passage. The electric motor includes at least one rotating part and at least one fixing part supported by such a body part, both functioning as a basic unit, mechanically coupling with the plate, and rotating (or translating) the fan. The fan enters the air inwards through the air inlet, moves the air through the air passages, and then directs such air through the air outlets as current flows in it. Discharge. The heating unit is arranged along the air passage and is arranged to heat the air flowing through the air passage and to discharge the heated air from the air outlet to one of the clothes stored in the user's hair and body part. Thus, such a first or second counter unit may counter harmful waves by counter waves.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 메인 보디부, 챔버, 적어도 하나의 팬, 적어도 하나의 전기 모터, 및 적어도 하나의 제 1 카운터 유닛 또는 적어도 하나의 제 2 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 그 메인 보디부는 적어도 하나의 공기 입구 및 적어도 하나의 공기 배출구를 갖는 공기 통로를 포함하고, 그 챔버는 그 통로를 따라 배치되도록 배열되며, 그 팬은 그 공기 통로를 따라 배치된다. 그 전기 모터는, 그 보디부에 의해 지지되고, 양자가 기본 유닛으로서 기능하는 적어도 하나의 회전자 및 적어도 하나의 고정자를 갖고, 그 팬에 기계적으로 커플링되고, 그 팬을 회전시키고, 그 챔버에 원하지 않는 입자를 수집하도록 배열되며, 그 팬은, 그 공기 입구를 통해 공기를 내부로 유 입시키고, 그 챔버 내에 진공 생성하면서 그 공기 통로를 통해 그러한 공기를 이동시키고, 전류가 그 내에 흐를 때 그 공기 배출구를 통해 그 공기를 배출한다. 따라서, 그러한 제 1 또는 제 2 카운터 유닛은 카운터 파에 의해 유해한 파를 카운터링할 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system comprises a main body portion, a chamber, at least one fan, at least one electric motor, and at least one first counter unit or at least one second counter unit. It may also include. The main body portion includes an air passage having at least one air inlet and at least one air outlet, the chamber is arranged to be disposed along the passage, and the fan is disposed along the air passage. The electric motor has at least one rotor and at least one stator supported by the body portion, both of which function as a basic unit, mechanically coupled to the fan, rotating the fan, and the chamber The fan is arranged to collect unwanted particles, and the fan draws air inwards through its air inlet, moves such air through the air passages while creating a vacuum in the chamber, and when current flows therein. The air is exhausted through the air outlet. Thus, such a first or second counter unit may counter harmful waves by counter waves.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 메인 보디부, 적어도 하나의 애플리케이터, 적어도 하나의 전기 모터, 및 적어도 하나의 제 1 카운터 유닛 또는 적어도 하나의 제 2 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 그 애플리케이터는 그 보디부와 이동가능하게 커플링되도록 배열되지만, 그 전기 모터는, 그 보디부에 의해 지지되고, 양자가 기본 유닛으로서 기능하는 적어도 하나의 회전자 및 적어도 하나의 고정자를 그 내에 갖고, 그 애플리케이터에 기계적으로 커플링되며, 전류가 그 내에 흐를 때 그 애플리케이터를 회전 (또는 병진 운동) 시키도록 배열된다. 따라서, 그러한 제 1 또는 제 2 카운터 유닛은 카운터 파에 의해 유해한 파를 카운터링할 수도 있다. 그러한 시스템은, 그 애플리케이터가 캔을 확보 및 회전시키도록 배열되는 전기 캔 오프너, 그 애플리케이터가 샤프트를 각 방향으로 회전시키도록 배열된 그 샤프트를 포함한 전기 드릴, 그 애플리케이터가 샤프트를 회전시키도록 배열된 그 샤프트를 갖는 전기 스크루 드라이버, 그 애플리케이터가 그 샤프트를 이동 (또는 병진 운동) 시키도록 배열된 그 샤프트를 갖는 샌더, 그 모터가 그 보디부내의 일 위치로부터 또 다른 위치로 물을 전송하도록 배열되고 그 애플리케이터가 그 보디부에서 그 물을 분출 (또는 스프레이) 하도록 배열된 식기 세척기, 그 애플리케이터가 샤프트 중 적어도 하나의 샤프 트 및 그 보디부의 적어도 일부를 회전시키도록 배열된 세탁기 등으로서 사용되도록 배열된다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system comprises a main body portion, at least one applicator, at least one electric motor, and at least one first counter unit or at least one second counter unit. You may. The applicator is arranged to be movably coupled with the body portion, but the electric motor has therein at least one rotor and at least one stator supported by the body portion, both of which function as a basic unit. And mechanically coupled to the applicator and arranged to rotate (or translate) the applicator as current flows therein. Thus, such a first or second counter unit may counter harmful waves by counter waves. Such a system includes an electric can opener in which the applicator is arranged to secure and rotate the can, an electric drill including the shaft in which the applicator is arranged to rotate the shaft in each direction, the applicator being arranged to rotate the shaft. An electric screwdriver having the shaft, a sander having the shaft arranged such that the applicator is arranged to move (or translate) the shaft, the motor being arranged to transfer water from one position in the body portion to another; The applicator is arranged for use as a dishwasher arranged to eject (or spray) the water from the body part, the applicator is used for a shaft of at least one of the shafts and a washing machine arranged to rotate at least part of the body part, and the like. .

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 메인 보디부, 적어도 하나의 전기 모터, 적어도 하나의 압축기, 및 적어도 하나의 제 1 카운터 유닛 또는 적어도 하나의 제 2 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 그 메인 보디부는 적어도 하나의 챔버를 포함하고, 그 전기 모터는, 그 보디부에 의해 지지되고, 양자가 기본 유닛으로서 기능하는 적어도 하나의 회전자 및 적어도 하나의 고정자를 갖고, 애플리케이터에 기계적으로 커플링되며, 전류가 그 내에 흐를 때 그러한 애플리케이터를 회전 (또는 병진 운동) 시키도록 배열된다. 그 압축기는, 차가운 공기를 생성하고 그 챔버내로 또는 그 챔버로부터 그 차가운 공기를 공급하는 동안 적어도 하나의 가스를 압축한 후 팽창시키도록 배열된다. 따라서, 그러한 제 1 또는 제 2 카운터 유닛은 카운터 파에 의해 유해한 파를 카운터링할 수도 있다. 그러한 시스템은, 각각이 그 차가운 공기를 생성할 수 있는 냉장고, 쿨러, 냉동기, 및/또는 에어콘으로서 사용되도록 배열된다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system comprises a main body portion, at least one electric motor, at least one compressor, and at least one first counter unit or at least one second counter unit. You may. The main body part comprises at least one chamber, the electric motor having at least one rotor and at least one stator supported by the body part, both of which function as a basic unit, and mechanically coupled to the applicator Ring and arranged to rotate (or translate) such applicator as current flows therein. The compressor is arranged to compress and then expand at least one gas while producing cold air and feeding the cold air into or out of the chamber. Thus, such a first or second counter unit may counter harmful waves by counter waves. Such systems are arranged for use as refrigerators, coolers, freezers, and / or air conditioners, each of which can produce its cold air.

본 발명의 또 다른 양태에서, 예시적인 발생 시스템은, AC 및/또는 DC 전기를 생성하는 동안 유해한 전자기파를 방출하는 다수의 기본 유닛을 포함하고, 타겟 공간에서 유해한 파를 소거하고 및/또는 그 유해한 파가 타겟 공간으로 전파하는 것을 억제함으로써 그 기본 유닛에 의해 조사된 그 유해한 파를 또한 카운터링하도록 제조될 수도 있으며, 여기서, 그 기본 유닛은, 그 유해한 파를 조사하고 그것을 통해 그 유해한 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 시스템의 일부만을 포 함하도록 배열되고, 그 타겟 공간은 시스템과 사용자 사이에 정의된다.In another aspect of the invention, an exemplary generation system includes a number of base units that emit harmful electromagnetic waves during generation of AC and / or DC electricity, and eliminate and / or delete harmful waves in the target space. It can also be manufactured to counter the harmful waves irradiated by the base unit by suppressing the propagation of the waves into the target space, where the base unit examines the harmful waves and passes through them. It is arranged to contain only the part of the system that is responsible for affecting the system, and its target space is defined between the system and the user.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 그러한 시스템은, 적어도 하나의 보디부, 적어도 하나의 고정자, 적어도 하나의 회전자, 및 적어도 하나의 제 1 카운터 유닛 또는 적어도 하나의 제 2 카운터 유닛을 가질 수도 있다. 그러한 고정자는 그 보디부와 커플링하고 그 고정자 주변에 제 1 자기장을 생성하도록 배열되지만, 그 회전자는, 그 보디부에 이동가능하게 커플링되고, 그 회전자 주변에 제 2 자기장을 생성하고, 외력에 응답하여 회전하며, 그 제 1 자기장과 그 제 2 자기장 사이의 상호작용으로 인한 힘에 응답하여 그러한 전기를 생성하도록 배열된다. 따라서, 그러한 제 1 또는 제 2 카운터 유닛은 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링할 수도 있다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, such a system comprises at least one body portion, at least one stator, at least one rotor, and at least one first counter unit or at least one second counter unit. May have Such a stator is arranged to couple with the body portion and to generate a first magnetic field around the stator, but the rotor is movably coupled to the body portion and generates a second magnetic field around the rotor, It rotates in response to an external force and is arranged to generate such electricity in response to a force resulting from the interaction between the first magnetic field and the second magnetic field. Thus, such a first or second counter unit may counter the harmful wave by the counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 자동차 또는 비행기의 적어도 하나의 보디부, 적어도 하나의 고정자, 적어도 하나의 회전자, 및 적어도 하나의 제 1 카운터 유닛 또는 적어도 하나의 제 2 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 그 고정자는, 그러한 자동차 또는 비행기내에 배치되고 그 고정자 주변에 제 1 자기장을 생성하도록 배열되지만, 그 회전자는, 그 고정자와 이동가능하게 커플링하고, 그 회전자 주변에 제 2 자기장을 생성하고, 외력에 응답하여 회전하며, 그 제 1 자기장과 그 제 2 자기장 사이의 상호작용으로 인한 그러한 힘에 응답하여 전기를 생성하도록 배열된다. 따라서, 그러한 제 1 또는 제 2 카운터 유닛은 카운터 파에 의해 유해한 파를 카운터링할 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system comprises at least one body portion, at least one stator, at least one rotor, and at least one first counter unit or at least one of a motor vehicle or an airplane. It may also include a second counter unit. The stator is arranged in such a car or airplane and is arranged to generate a first magnetic field around the stator, but the rotor is movably coupled with the stator and generates a second magnetic field around the rotor, It rotates in response to an external force and is arranged to generate electricity in response to such a force due to the interaction between its first and second magnetic fields. Thus, such a first or second counter unit may counter harmful waves by counter waves.

본 발명의 또 다른 양태에서, 예시적인 시스템은, 그 내에 전류가 흐를 때 유해한 전자기파를 조사하는 도전 와이어의 적어도 하나의 코일을 포함하고, 그러한 유해한 파가 타겟 공간으로 전파하는 것을 억제하고 및/또는 타겟 공간에서 그 유해한 파를 소거함으로써 그 코일로부터 조사된 유해한 파를 카운터링하도록 제공될 수도 있으며, 여기서, 기본 유닛은, 그러한 유해한 파를 조사하고 그것을 통해 그 유해한 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 시스템의 일부만을 포함하도록 배열되고, 그 타겟 공간은 사용자와 시스템 사이에 정의된다.In another aspect of the present invention, an exemplary system includes at least one coil of conductive wire that irradiates harmful electromagnetic waves when current flows therein, and inhibits the propagation of such harmful waves into a target space and / or It may be provided to counter the harmful waves irradiated from the coil by eliminating the harmful waves in the target space, where the base unit is responsible for irradiating such harmful waves and affecting the path of the harmful waves through them. It is arranged to include only a portion of the system, the target space is defined between the user and the system.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 적어도 하나의 삽입부, 코일, 및 적어도 하나의 제 1 카운터 유닛 또는 적어도 하나의 제 2 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 그 삽입부는, 그 내에 적어도 하나의 강자성 재료, 상자성 재료, 및/또는 페리자성 재료를 포함하도록 배열되지만, 그 코일은 턴 (turn) 의 미리 설정된 방향 및 미리 설정된 수로 그 삽입부의 미리 설정된 부분을 따라 감겨지고, 그 내에 전류가 흐를 때 유해한 파를 방출하도록 배열된다. 일 예에서, 그러한 카운터 유닛은, 그 코일과 동일한 (또는 유사한) 형상을 정의하고 카운터 전자기파를 방출하도록 배열되며, 그 카운터 전자기파는, 그러한 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 또한, 그 형상으로 인해 그 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 가지며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그 유해한 파를 카운터링한다. 또 다른 예에서, 그 카운터 유닛은, 대신, 그 코일에 의해 형성된 그 유해한 파의 다수의 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 형성되는 배열로 배치되고 카운터 전자기파를 방출하도록 배열되며, 그 카운터 전자기파는, 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 배열로 인해 그 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 가지며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그 유해한 파를 카운터링한다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may include at least one insert, a coil, and at least one first counter unit or at least one second counter unit. The insert is arranged to include at least one ferromagnetic material, paramagnetic material, and / or ferromagnetic material therein, but the coil is along a preset portion of the insert in a preset direction and a predetermined number of turns. It is wound up and arranged to emit harmful waves when an electric current flows therein. In one example, such a counter unit is arranged to define the same (or similar) shape as the coil and emit counter electromagnetic waves, the counter electromagnetic waves defining a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of such harmful waves and In addition, the shape has a wave characteristic that is at least partially similar to that of the harmful wave, and therefore counters the harmful wave due to the opposite phase angle in the target space. In another example, the counter units are instead arranged in an arrangement formed along at least one of the plurality of wavefronts of the harmful wave formed by the coil and arranged to emit counter electromagnetic waves, wherein the counter electromagnetic waves are: Define a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave, and because of its arrangement has a wave characteristic that is at least partially similar to the wave characteristic of the harmful wave, and therefore, due to the opposite phase angle in the target space Counter harmful waves.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 적어도 하나의 삽입부, 적어도 2개의 코일, 및 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 그 삽입부는, 그 내에 적어도 하나의 강자성 재료, 상자성 재료, 및/또는 페리자성 재료를 포함하고, 그 상에 적어도 2개의 측면을 정의하도록 배열된다. 그 코일 중 하나의 코일은 턴의 미리 설정된 방향 및 미리 설정된 수로 그 삽입부의 제 1 측면 주변에 감기도록 배열되고, 그 코일 중 또 다른 코일은 턴의 또 다른 미리 설정된 방향 및 또 다른 미리 설정된 수로 그 삽입부의 제 2 측면 주변에 감기도록 배열되며, 그러한 코일 양자는 서로 이격되고, 전류가 그 내에 흐를 때 유해한 파를 방출하도록 배열된다. 일 예에서, 그 카운터 유닛은 그 코일 중 적어도 하나의 코일과 동일한 (또는 유사한) 형상을 정의하고 카운터 파를 방출하도록 배열되며, 그 카운터 전자기파는, 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖고, 그 형상으로 인해 그 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 포함하며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그러한 유해한 파를 카운터링한다. 이하, 이러한 카운터 유닛은 '제 3 타입의 카운터 유닛' 또는 '제 3 카운터 유닛' 으로 지칭될 것이다. 또 다른 예에서, 그 카운터 유닛은, 또한, 그 코일에 의해 형성된 그러한 유해한 파의 다수의 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 형성되는 배열로 배치되고 카운터 전자기파 를 방출하도록 배열되며, 그 카운터 전자기파는, 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 배열로 인해 그 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 가지며, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그 유해한 파를 카운터링한다. 이하, 그러한 카운터 유닛은 '제 4 타입의 카운터 유닛' 또는 '제 4 카운터 유닛' 으로 지칭될 것이다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may include at least one insert, at least two coils, and at least one counter unit. The insert includes at least one ferromagnetic material, paramagnetic material, and / or ferrimagnetic material therein and is arranged to define at least two sides thereon. One coil of the coils is arranged to wind around the first side of the insert in a preset direction and a predetermined number of turns, and another coil of the coils is wound in another preset direction and another preset number of turns. It is arranged to wind around the second side of the insert, and both such coils are spaced apart from each other and are arranged to emit harmful waves when current flows therein. In one example, the counter unit is arranged to define the same (or similar) shape as the at least one coil of the coil and to emit a counter wave, the counter electromagnetic wave being at least partially opposite the phase angle of the harmful wave. And have a wave characteristic that is at least partially similar to that of the harmful wave due to its shape, and therefore counters such harmful wave due to the opposite phase angle in the target space. This counter unit will hereinafter be referred to as a 'third type counter unit' or 'third counter unit'. In another example, the counter units are also arranged to emit counter electromagnetic waves and are arranged in an arrangement formed along at least one of the multiple wavefronts of such harmful waves formed by the coils, the counter electromagnetic waves, Define a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave, and due to the arrangement, has a wave characteristic that is at least partially similar to the wave characteristic of the harmful wave, and that harmful wave due to the opposite phase angle in the target space Counter Such counter units will hereinafter be referred to as 'fourth type counter units' or 'fourth counter units'.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 보디부, 적어도 하나의 삽입부, 적어도 2개의 코일, 및 적어도 하나의 제 3 카운터 유닛 또는 적어도 하나의 제 4 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 그 보디부는, 하나가 전기 소스와 커플링하고 또 다른 하나가 전기 디바이스와 커플링하는 적어도 2개의 전기 커플러 (coupler) 에서 종료하도록 배열된다. 그 삽입부는, 그 보디부에 배치되고, 적어도 하나의 강자성 재료, 상자성 재료, 및/또는 페리자성 재료를 포함하며, 그 삽입부 상에 적어도 2개의 측면을 정의하도록 배열된다. 그 코일 중 하나의 코일은, 턴의 미리 설정된 방향 및 미리 설정된 수로 그 삽입부의 제 1 측면 주변에 감기도록 배열되고, 그 후, 그 코일 중 또 다른 코일은, 턴의 또 다른 미리 설정된 방향뿐만 아니라 또 다른 미리 설정된 수를 따라 그 삽입부의 제 2 측면 주변에 감기도록 배열되며, 그러한 코일 양자는, 서로 이격되고, 전류가 그 내에 흐를 때 유해한 파를 방출하도록 배열된다. 따라서, 그러한 제 3 또는 제 4 카운터 유닛은 카운터 파에 의해 유해한 파를 카운터링할 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may comprise a body portion, at least one insert, at least two coils, and at least one third counter unit or at least one fourth counter unit. It may be. The body portion is arranged to terminate in at least two electrical couplers, one coupling with the electrical source and the other coupling with the electrical device. The insert is disposed in the body portion and includes at least one ferromagnetic material, paramagnetic material, and / or ferrimagnetic material and is arranged to define at least two sides on the insert. One of the coils is arranged to be wound around the first side of the insert in a preset direction and a predetermined number of turns, and then another coil of the coils, as well as another preset direction of the turn, It is arranged to wind around the second side of the insert along another preset number, and both such coils are spaced apart from each other and arranged to emit harmful waves when current flows therein. Thus, such third or fourth counter units may counter harmful waves by counter waves.

본 발명의 또 다른 양태에서, 파 방출 시스템은, 유해한 전자기파를 조사하는 적어도 하나의 기본 유닛을 포함하고, 그 유해한 파가 타겟 공간을 향해 전파하 는 것을 억제하고 및/또는 타겟 공간에서 그 유해한 파를 소거함으로써 그 유해한 파를 카운터링하도록 제공될 수도 있으며, 여기서, 그러한 기본 유닛은, 그 유해한 파를 조사하고, 그것을 통해 그 유해한 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 시스템의 일부만을 포함하도록 배열되고, 그 타겟 공간은 사용자와 시스템 사이에 정의된다.In another aspect of the invention, the wave emission system comprises at least one basic unit for irradiating harmful electromagnetic waves, inhibiting the harmful waves from propagating toward the target space and / or the harmful waves in the target space. It may be provided to counter the harmful waves by eliminating them, where such base unit includes only those parts of the system that are responsible for investigating the harmful waves and affecting the route of the harmful waves. The target space is arranged between the user and the system.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 메인 보디부, 적어도 하나의 발광 유닛, 및 적어도 하나의 카운터 유닛을 가질 수도 있다. 그 발광 유닛은, 그러한 보디부에 또는 내부에 유지되며, 전류가 그 내에 흐를 때 유해한 파를 조사하는 기본 유닛으로서 기능하는 동안 가시광선 파를 방출하도록 배열되며, 여기서, 그러한 발광 유닛의 적어도 일부는 그러한 가시광선 파를 그 보디부의 외부로 전파하기 위해 그 보디부를 통하여 노출되도록 배열된다. 일 예에서, 카운터 유닛은, 그 발광 유닛과 동일한 (또는 유사한) 형상을 정의하고, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열되며, 그 카운터 전자기파는, 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 형상으로 인해 그러한 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 정의하며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그러한 유해한 파를 카운터링한다. 이하, 이러한 카운터 유닛은 '제 5 타입의 카운터 유닛' 또는 '제 5 카운터 유닛으로서 지칭될 것이다. 또 다른 예에서, 그 카운터 유닛은, 그 발광 유닛에 의해 형성된 유해한 파의 다수의 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 정의되는 배열로 배치되고 카운터 전자기파를 방출하도록 배열되며, 그 카운터 전자기파는, 그 유해 한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖고, 그 배열로 인해 그러한 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 정의하며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그러한 유해한 파를 카운터링한다. 이하, 이러한 카운터 유닛은 '제 6 타입의 카운터 유닛' 또는 '제 6 카운터 유닛' 으로 지칭될 것이다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may have a main body portion, at least one light emitting unit, and at least one counter unit. The light emitting unit is arranged to emit visible light waves while being retained in or inside such a body and serving as a basic unit for irradiating harmful waves when current flows therein, wherein at least some of such light emitting units are Such visible light waves are arranged to be exposed through the body portion to propagate out of the body portion. In one example, the counter unit defines the same (or similar) shape as the light emitting unit and is arranged to emit counter electromagnetic waves, the counter electromagnetic waves defining a phase angle that is at least partially opposite to the phase angle of the harmful wave. And define wave characteristics that are at least partially similar to those of the harmful waves due to their shape, and therefore counter those harmful waves due to the opposite phase angle in the target space. This counter unit will hereinafter be referred to as a 'fifth type counter unit' or 'fifth counter unit. In another example, the counter unit is arranged in an arrangement defined along at least one wavefront of the plurality of wavefronts of the harmful waves formed by the light emitting unit and arranged to emit counter electromagnetic waves, the counter electromagnetic waves being harmful Having a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of one wave, and the arrangement defines wave characteristics that are at least partially similar to the wave characteristics of such harmful waves, and therefore such harmful due to the opposite phase angle in target space Counter the wave. This counter unit will hereinafter be referred to as a 'sixth type counter unit' or 'sixth counter unit'.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 메인 보디부, 적어도 하나의 발광 유닛, 및 적어도 하나의 제 5 (또는 제 6) 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 그러한 발광 유닛은, 음극선 튜브, 발광 다이오드, 유기 발광 다이오드, 및/또는 플라즈마 디스플레이 패널에 대응할 수도 있으며, 그 보디부에 의해 지지되고, 그 내에 전류가 흐를 때 그러한 유해한 파를 조사하는 기본 유닛으로서 기능하는 동안 가시광선 파를 방출하도록 배열될 수도 있다. 또한, 그 발광 유닛의 적어도 일부는 그 가시광선 파를 그 보디부의 외부로 전파하기 위해 그 보디부를 통하여 노출되도록 배열된다. 따라서, 그러한 제 5 또는 제 6 카운터 유닛은 카운터 파에 의해 유해한 파를 카운터링할 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may include a main body portion, at least one light emitting unit, and at least one fifth (or sixth) counter unit. Such a light emitting unit may correspond to a cathode ray tube, a light emitting diode, an organic light emitting diode, and / or a plasma display panel, and is supported by its body portion and functions as a basic unit for irradiating such harmful waves when a current flows therein. May be arranged to emit visible light waves. Further, at least part of the light emitting unit is arranged to be exposed through the body portion to propagate the visible light wave outside of the body portion. Thus, such a fifth or sixth counter unit may counter harmful waves by the counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 메인 보디부, 적어도 하나의 발광 유닛, 및 적어도 하나의 제 5 (또는 제 6) 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 그 발광 유닛은, 적어도 하나의 마그네트론 및 적어도 하나의 도파로를 포함한다. 그 마그네트론은 그 내에서 마이크로파를 생성하도록 배열되지만, 그 도파로는 그것을 통해 그 마이크로파를 안내하도록 배열되며, 여기서, 그러한 마그네트론 및/또는 도파로는 유해한 파를 조사하는 기본 유닛으로 서 기능하도록 배열될 수도 있다. 따라서, 그러한 제 5 또는 제 6 카운터 유닛은 카운터 파에 의해 유해한 파를 카운터링할 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may include a main body portion, at least one light emitting unit, and at least one fifth (or sixth) counter unit. The light emitting unit includes at least one magnetron and at least one waveguide. The magnetron is arranged to produce a microwave therein, but the waveguide is arranged to guide the microwave through it, where such magnetron and / or waveguide may be arranged to function as a basic unit for irradiating harmful waves. . Thus, such a fifth or sixth counter unit may counter harmful waves by the counter wave.

본 발명의 또 다른 양태에서, 예시적인 가열 시스템은, 유해한 전자기파를 조사하는 적어도 하나의 기본 유닛을 포함하고, 타겟 공간에서 유해한 파를 소거하고 및/또는 그 유해한 파가 타겟 공간을 향해 전파하는 것을 억제함으로써 그러한 유해한 파를 카운터링하도록 제조될 수도 있으며, 여기서, 그 기본 유닛은, 그 유해한 파를 조사하고 그것을 통해 그 유해한 파의 경로에 또한 영향을 주는 것의 원인이 되는 그러한 시스템의 일부만을 포함하도록 배열되고, 그 타겟 공간은 사용자와 시스템 사이에 정의된다.In another aspect of the invention, an exemplary heating system includes at least one base unit for irradiating harmful electromagnetic waves, canceling harmful waves in the target space and / or propagating the harmful waves toward the target space. By restraining such harmful waves, wherein the base unit includes only those parts of the system that are responsible for investigating the harmful waves and also affecting the route of the harmful waves. The target space is arranged between the user and the system.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 메인 보디부, 적어도 하나의 가열 유닛, 및 적어도 하나의 카운터 유닛을 가질 수도 있다. 그 가열 유닛은, 그 보디부에 의해 지지되며, 전류가 그 내에 흐를 때 유해한 파를 조사하는 기본 유닛으로서 기능하는 동안 열파 (또는 적외선 파) 를 조사하도록 배열된다. 그러한 가열 유닛은 적어도 하나의 직선형 저항성 와이어 및/또는 코일형 저항성 와이어를 포함하도록 배열되고, 그러한 가열 유닛의 적어도 일부는 그 열파를 그 보디부의 외부로 전파하기 위해 그 보디부를 통하여 노출되도록 배열된다. 일 예에서, 그 카운터 유닛은, 그 가열 유닛과 동일한 (또는 유사한) 형상을 정의하고, 그 후, 카운터 전자기파를 방출하도록 배열되며, 그 카운터 전자기파는, 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 형상으로 인해 그 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 가 지며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그러한 유해한 파를 카운터링한다. 따라서, 카운터 유닛은, 이하, '제 7 타입의 카운터 유닛' 또는 '제 7 카운터 유닛' 으로 지칭될 것이다. 또 다른 예에서, 그러한 카운터 유닛은, 그 가열 유닛에 의해 형성된 그러한 유해한 파의 다수의 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 정의되는 배열로 배치되고 카운터 전자기파를 방출하도록 배열되며, 그 카운터 전자기파는, 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하고, 그 배열로 인해 그 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 가지며, 따라서, 그러한 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그 유해한 파를 카운터링한다. 그러한 카운터 유닛은, 이하, '제 8 타입의 카운터 유닛' 또는 '제 8 카운터 유닛' 으로 지칭될 것이다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may have a main body portion, at least one heating unit, and at least one counter unit. The heating unit is supported by the body portion and arranged to irradiate heat waves (or infrared waves) while functioning as a basic unit which irradiates harmful waves when current flows therein. Such heating units are arranged to include at least one straight resistive wire and / or coiled resistive wire, and at least some of such heating units are arranged to be exposed through the body part to propagate its heat waves out of the body part. In one example, the counter unit is defined to define the same (or similar) shape as the heating unit, and then arranged to emit counter electromagnetic waves, the counter electromagnetic waves being at least partially opposite the phase angle of the harmful wave. It defines a phase angle and has a wave characteristic that is at least partially similar to that of the harmful wave due to its shape, and therefore counters such harmful wave due to the opposite phase angle in the target space. Thus, the counter unit will hereinafter be referred to as a 'seventh type counter unit' or 'seventh counter unit'. In another example, such counter units are arranged in an arrangement defined along at least one of the plurality of wavefronts of such harmful waves formed by the heating unit and are arranged to emit counter electromagnetic waves, the counter electromagnetic waves being Define a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave and, due to its arrangement, have a wave characteristic that is at least partially similar to the wave characteristic of the harmful wave and, therefore, due to the opposite phase angle in such target space Counter harmful waves. Such a counter unit will hereinafter be referred to as an 'eighth type counter unit' or 'eighth counter unit'.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 메인 보디부, 적어도 하나의 가열 유닛, 및 적어도 하나의 제 7 (또는 제 8) 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 그 메인 보디부는, 전기 담요, 전기 매트 (또는 매트리스), 전기 가열 패드, 헤어 셋팅기 또는 헤어 컬러로서 형성되며, 사용 동안 사용자의 적어도 일부를 물리적으로 접촉하도록 배열된다. 그러한 가열 유닛은, 전류가 그 내에 흐를 때 그러한 유해한 파를 조사하는 기본 유닛으로서 기능하는 동안, 그 보디부에서 유지되고, 열을 생성하며, 열의 전도에 의해 그 열을 사용자에게 전달하도록 배열되며, 그 가열 유닛은 적어도 하나의 직선형 저항성 와이어 및/또는 적어도 하나의 코일형 저항성 와이어를 갖도록 배열된다. 따라서, 그러한 제 7 또는 제 8 카운터 유닛은 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링할 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may include a main body portion, at least one heating unit, and at least one seventh (or eighth) counter unit. The main body portion is formed as an electric blanket, an electric mat (or mattress), an electric heating pad, a hair setter or a hair color and is arranged to physically contact at least a part of the user during use. Such a heating unit is arranged to be retained in its body portion, to generate heat, and to transfer that heat to the user by conduction of heat, while functioning as a basic unit for irradiating such harmful waves when current flows therein, The heating unit is arranged to have at least one straight resistive wire and / or at least one coiled resistive wire. Thus, such a seventh or eighth counter unit may counter the harmful wave by the counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 메인 보디부, 적어도 하나의 가열 유닛, 적어도 하나의 액추에이터, 및 적어도 하나의 제 7 (또는 제 8) 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 그 메인 보디부는, 헤어 드라이어 또는 대류 가열기 (convection heater) 로서 형성되고, 적어도 하나의 공기 입구 및 적어도 하나의 공기 배출구를 갖는 적어도 하나의 공기 통로를 포함하도록 배열된다. 그러한 가열 유닛은 그 공기 통로를 따라 배치되며, 전류가 그내에 흐를 때 그러한 유해한 파를 조사하는 기본 유닛으로서 기능하는 동안 그 공기 통로에서 공기를 가열시키도록 배열된다. 그 액추에이터는 그 통로와 유동적으로 커플링하고, 그 공기 배출구를 통해 가열된 공기를 배출하도록 배열된다. 따라서, 그러한 제 7 또는 제 8 카운터 유닛은 카운터 파에 의해 유해한 파를 카운터링할 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may include a main body portion, at least one heating unit, at least one actuator, and at least one seventh (or eighth) counter unit. . The main body portion is formed as a hair dryer or convection heater and is arranged to include at least one air passage having at least one air inlet and at least one air outlet. Such heating units are disposed along the air passages and are arranged to heat air in the air passages while functioning as a basic unit for irradiating such harmful waves as current flows therein. The actuator is arranged to fluidly couple with the passageway and to exhaust heated air through the air outlet. Thus, such a seventh or eighth counter unit may counter harmful waves by the counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 메인 보디부, 적어도 하나의 가열 유닛, 및 적어도 하나의 제 7 (또는 제 8) 카운터 유닛을 포함할 수도 있다. 그 메인 보디부는, 식품이 조리를 위해 배치되는 영역 (또는 챔버) 을 형성하도록 배열된다. 그 가열 유닛은, 그 보디부 상에 또는 그 보디부에 의해 기계적으로 지지되고, 그 영역의 적어도 일부를 통해 노출되고 (또는 그 챔버의 적어도 일부에 열적으로 커플링되고), 그 내에 전류가 흐를 때 기본 유닛으로 기능하고 그러한 유해한 파를 방출하면서 열을 발생시키며, 그 열을 그 식품에 전달하기 위해, 적어도 하나의 직선형 저항성 와이어 및/또는 코일형 저 항성 와이어를 포함하도록 배열된다. 따라서, 제 7 또는 제 8 카운터 유닛은 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링할 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system may include a main body portion, at least one heating unit, and at least one seventh (or eighth) counter unit. The main body portion is arranged to form an area (or chamber) in which food is placed for cooking. The heating unit is mechanically supported on or by the body portion, exposed through at least a portion of (or thermally coupled to at least a portion of) the chamber, and a current therein. When it functions as a base unit and generates heat while releasing such harmful waves, it is arranged to include at least one straight resistive wire and / or coiled resistive wire to transfer the heat to the food. Thus, the seventh or eighth counter unit may counter the harmful wave by the counter wave.

본 발명의 그러한 시스템 양태의 실시형태는 하나 이상의 다음의 특성들을 포함할 수도 있으며, 또한, 상기 시스템들의 구성 및/또는 동작 변화 및/또는 변형은 본 발명의 범위내에 있다.Embodiments of such system aspects of the present invention may include one or more of the following features, and configuration and / or operational changes and / or variations of such systems are within the scope of the present invention.

그러한 기본 유닛의 적어도 일부 (또는 전체 부분) 는 파원을 통해 노출될 수도 있거나, 그 기본 유닛은 그 파원내에 배치될 수도 있으며, 여기서, 그 기본 유닛은 도전성 와이어, 시트, 및/또는 시스템의 플레이트를 포함할 수도 있다. 그러한 시스템은 전기 도전체의 적어도 하나의 코일을 포함하는 임의의 전기 디바이스일 수도 있으며, 여기서, 그 코일을 포함하는 디바이스는, 전자석, 솔레노이드, 토로이드, 스피커, 모터, 발전기, 트렌스포머 등일 수도 있다. 그러한 디바이스의 기본 유닛은, 코일, 적어도 하나의 페리자성 재료로 구성된 삽입부, 불안정한 전류가 흐르는 디바이스의 임의의 부분, 불안정한 전류가 인가된 디바이스의 임의의 부분 등을 포함할 수도 있다.At least a portion (or the entire portion) of such a base unit may be exposed through the wave source, or the base unit may be disposed within the wave source, where the base unit is a conductive wire, sheet, and / or plate of the system. It may also include. Such a system may be any electrical device comprising at least one coil of an electrical conductor, wherein the device comprising the coil may be an electromagnet, a solenoid, a toroid, a speaker, a motor, a generator, a transformer, or the like. . The base unit of such a device may include a coil, an insert made up of at least one ferrimagnetic material, any portion of the device through which the unstable current flows, any portion of the device to which the unstable current is applied, and the like.

시스템은, 어쿠스틱 사운드를 전기 및/또는 광 신호로 변환할 수 있는 적어도 하나의 스피커를 포함하는 임의의 전기 디바이스일 수도 있으며, 여기서, 그러한 디바이스의 예는, 이어폰, 헤드폰, 전화기의 메인 보디부 또는 핸드셋, 이동 전화기 등을 포함할 수도 있지만 이에 제한되지는 않는다. 그러한 스피커는, 콘-드라이브 스피커, 정전형 스피커, 및 압전 스피커 등을 포함할 수도 있고, 그 스피커의 기본 유닛은, 코일, 영구 자석, 압전 유닛, 전극, 불안정한 전류가 흐르는 디 바이스의 임의의 부분, 불안정한 전압이 인가되는 디바이스의 임의의 부분 등을 포함할 수도 있다. 스피커를 구비한 디바이스는, 단일 케이스 부재내에 둘러싸인 적어도 2개의 동일한 (또는 유사한, 상이한) 스피커, 상이한 부재내에서 별개로 둘러싸인 적어도 2개의 동일한 (또는 유사한, 상이한) 스피커, 이어폰 쌍, 헤드폰 쌍, 적어도 하나의 스피커 및 적어도 하나의 마이크로폰의 어셈블리 등을 포함할 수도 있다. 그러한 신호는, 전기 신호, 광 신호, 자기 신호 등일 수도 있다.The system may be any electrical device that includes at least one speaker capable of converting acoustic sound into electrical and / or optical signals, wherein examples of such devices include earphones, headphones, the main body portion of a telephone, or But may also include, but are not limited to, handsets, mobile phones, and the like. Such speakers may include cone-drive speakers, capacitive speakers, piezoelectric speakers, and the like, and the base unit of the speakers may include coils, permanent magnets, piezoelectric units, electrodes, any portion of an unstable current flowing device. , Any portion of the device to which an unstable voltage is applied, and the like. A device with speakers includes at least two identical (or similar, different) speakers surrounded in a single case member, at least two identical (or similar, different) speakers, earphone pairs, headphone pairs, at least separately surrounded in different members It may also include an assembly of one speaker and at least one microphone. Such a signal may be an electrical signal, an optical signal, a magnetic signal, or the like.

시스템은, 전기 및/또는 광 신호를 어쿠스틱 사운드로 변환할 수도 있는 적어도 하나의 메커니즘을 포함한 임의의 전기 디바이스일 수도 있으며, 여기서, 그러한 디바이스의 예는 마이크로폰을 포함할 수도 있지만 이에 제한되지는 않으며, 그러한 신호는, 전기 신호, 광 신호, 자기 신호 등일 수도 있다. 시스템은, 전기 에너지로부터 기계적 에너지를 발생시키는 적어도 하나의 모터를 그 내에 포함할 수도 있는 임의의 전기 디바이스일 수도 있다. 그러한 모터는, 영구 자석으로 구성된 고정자 및 전자석을 포함한 회전자를 포함하는 DC 모터, 전자석으로 구성된 고정자 및 전자석으로 구성된 회전자를 포함한 유니버셜 모터, 전자석으로 구성된 고정자 및 영구 자석으로 구성된 회전자를 포함한 동기형 AC 모터, 전자석으로 구성된 고정자 및 전기 도체로 구성된 회전자를 포함한 유도형 AC 모터, 전자석으로 구성된 고정자 및 영구 자석으로 구성된 회전자를 포함한 선형 모터를 포함할 수도 있다. 그러한 기본 유닛은, 회전자, 고정자, 영구 자석, 불안정한 전류가 흐르는 디바이스의 임의의 부분, 불안정한 전압이 인가되는 디바이스의 임의의 부분 등을 포함할 수도 있다. 그 모터를 갖는 그러한 디바이스는 임의의 주방 기 기를 포함할 수도 있으며, 그 주방 기기의 예는, 푸드 프로세서, 믹서기, 캔 오프너, 팬을 갖는 전기 그릴 (또는 오븐, 레인지), 식기 세척기, 냉장고, 냉동기, 쿨러 등을 포함할 수도 있지만 이에 제한되지는 않는다. 그 모터를 갖는 디바이스는, 가전 기기일 수도 있으며, 그 가전 기기의 예는, 세탁기, 건조기, 에어콘, 건식 (또는 습식) 진공 청소기 등을 포함할 수도 있지만 이에 제한되지는 않는다. 그 모터를 갖는 디바이스는, 전기 드릴, 스크루 드라이버, 네일 건, 스테이플러, 샌더 등을 포함한 도구일 수도 있다. 그러한 모터를 포함한 디바이스는, 면도기, 전기 칫솔, 헤어 드라이어 등을 포함한 개인용 위생 기기일 수도 있다. 시스템은, 기계적 에너지로부터 전기적 에너지를 발생시킬 수 있는 적어도 하나의 발전기를 포함한 임의의 전기 디바이스일 수도 있다. 그 발전기를 갖는 디바이스는, AC 발전기, DC 발전기, 자동차의 교류발전기 등을 포함할 수도 있다. 그 디바이스의 기본 유닛은, 전자석, 영구 자석, 불안정한 전류가 흐르는 디바이스의 임의의 부분, 불안정한 전압이 인가된 디바이스의 임의의 부분 등일 수도 있다.The system may be any electrical device including at least one mechanism that may convert electrical and / or optical signals into acoustic sound, where examples of such devices may include, but are not limited to, microphones, Such a signal may be an electrical signal, an optical signal, a magnetic signal, or the like. The system may be any electrical device that may include therein at least one motor that generates mechanical energy from electrical energy. Such motors include a DC motor comprising a stator composed of permanent magnets and a rotor comprising an electromagnet, a universal motor comprising a stator composed of electromagnets and a rotor composed of electromagnets, a synchronous comprising a stator composed of electromagnets and a rotor composed of permanent magnets. It may also include an induction AC motor, a stator composed of an electromagnet and a rotor composed of an electric conductor, a linear motor including a stator composed of an electromagnet and a rotor composed of a permanent magnet. Such a base unit may include a rotor, a stator, a permanent magnet, any part of a device through which an unstable current flows, any part of a device to which an unstable voltage is applied, and the like. Such a device with the motor may comprise any kitchen appliance, examples of which include a food processor, blender, can opener, electric grill (or oven, range) with a pan, dishwasher, refrigerator, freezer May include, but is not limited to, a cooler, and the like. The device having the motor may be a household appliance, and examples of the household appliance may include, but are not limited to, a washing machine, a dryer, an air conditioner, a dry (or wet) vacuum cleaner, and the like. The device with the motor may be a tool including an electric drill, a screwdriver, a nail gun, a stapler, a sander, and the like. The device including such a motor may be a personal hygiene device including a razor, an electric toothbrush, a hair dryer and the like. The system may be any electrical device including at least one generator capable of generating electrical energy from mechanical energy. The device having the generator may include an AC generator, a DC generator, an alternator of an automobile, and the like. The basic unit of the device may be an electromagnet, a permanent magnet, any part of the device through which an unstable current flows, any part of a device to which an unstable voltage is applied, and the like.

시스템은, 소스로부터의 전압을 증가 또는 감소시킬 수 있는 적어도 하나의 트랜스포머를 포함할 수도 있는 임의의 전기 디바이스일 수도 있다. 그 트랜스포머를 갖는 디바이스는, 스텝-업 트랜스포머, 스텝-다운 트랜스포머, 전기 디바이스를 위해 전압을 변경하기 위한 어댑터 등일 수도 있다. 그러한 디바이스의 기본 유닛은, 또한, 코일, 적어도 하나의 페리자성 재료로 구성된 삽입부, 불안정한 전류가 흐르는 디바이스의 임의의 부분, 불안정한 전압이 인가되는 디바이스의 임의의 부분 등을 포함할 수도 있다.The system may be any electrical device that may include at least one transformer that can increase or decrease the voltage from the source. The device with the transformer may be a step-up transformer, a step-down transformer, an adapter for changing the voltage for the electrical device, or the like. The base unit of such a device may also include a coil, an insert made up of at least one ferrimagnetic material, any portion of the device through which an unstable current flows, any portion of the device to which an unstable voltage is applied, and the like.

시스템은, 전기 에너지로부터 열 에너지를 발생시킬 수 있는 적어도 하나의 가열 유닛을 포함할 수도 있는 임의의 전기 디바이스일 수도 있다. 그 가열 유닛은 직선형 가열 와이어, 코일형 가열 와이어, 솔레노이드 형상의 코일형 와이어, 토로이드 형상의 코일형 와이어 등을 포함할 수도 있다. 그러한 디바이스의 기본 유닛은, 코일, 적어도 하나의 페리자성 재료를 포함하는 지지부, 불안정한 전류가 흐르는 디바이스의 임의의 부분, 불안정한 전압이 인가되는 디바이스의 임의의 부분 등일 수도 있다. 그 가열 유닛을 갖는 디바이스는, 전기 가열 매트리스, 전기 가열 담요, 전기 가열 패드 등을 포함한 임의의 개인용 가열 기기일 수도 있다. 그 가열 유닛을 갖는 디바이스는, 전기 그릴 (또는 오븐, 레인지), 토스터 오븐 등과 같은 조리 기기일 수도 있다. 그 가열 유닛을 갖는 디바이스는, 헤어 드라이어, 헤어 셋팅기, 헤어 컬러, 헤어 스팀기 등을 포함한 헤어 처리 기기일 수도 있다.The system may be any electrical device that may include at least one heating unit capable of generating thermal energy from electrical energy. The heating unit may include a straight heating wire, a coiled heating wire, a solenoid coiled wire, a toroidal coiled wire, or the like. The base unit of such a device may be a coil, a support comprising at least one ferrimagnetic material, any portion of the device through which an unstable current flows, any portion of the device to which an unstable voltage is applied, and the like. The device having the heating unit may be any personal heating device including an electric heating mattress, an electric heating blanket, an electric heating pad, or the like. The device having the heating unit may be a cooking appliance such as an electric grill (or an oven, a range), a toaster oven, or the like. The device having the heating unit may be a hair treatment device including a hair dryer, a hair setter, a hair curler, a hair steamer and the like.

그러한 시스템은 적어도 하나의 발광 유닛을 포함한 임의의 전기 디바이스일 수도 있다. 그 발광 유닛을 갖는 디바이스는 CRT, LED, OLED, PDP 등을 포함할 수도 있다. 시스템은 적어도 하나의 파 방출 유닛을 포함한 임의의 전기 디바이스일 수도 있다. 그 파 방출 유닛을 갖는 디바이스는 마이크로파 오븐, 레이더 등을 포함할 수도 있다.Such a system may be any electrical device including at least one light emitting unit. Devices having the light emitting unit may include CRTs, LEDs, OLEDs, PDPs, and the like. The system may be any electrical device including at least one wave emitting unit. Devices having the wave emitting unit may include a microwave oven, radar, and the like.

유해한 파는, 약 50Hz 내지 60Hz 보다 작은 주파수를 갖는 캐리어-주파수 파, 300Hz 미만의 주파수의 극저주파 등을 포함할 수도 있으며, 카운터 파는 유사한 주파수를 가질 수도 있다. 다른 방법으로, 유해한 파는 3kHz 미만의 주파수 를 정의하는 울트라 저주파, 30kHz 미만의 주파수를 갖는 초저주파, 300kHz 미만의 주파수를 갖는 저주파 등을 포함할 수도 있으며, 카운터 파는 유사한 주파수를 가질 수도 있다. 타겟 공간은, 카운터 및 기본 유닛의 일 측면상, 카운터 유닛에 관한 미리 설정된 각도에 관해, 카운터 유닛과 기본 유닛 사이에 등에서 형성될 수도 있다. 바람직한 경우, 유해한 파는, 300kHz, 1MHz, 10MHz, 100MHz, 1GHz, 10GHz, 100GHz, 1THz 등보다 큰 주파수를 정의할 수도 있다.Harmful waves may include carrier-frequency waves having frequencies less than about 50 Hz to 60 Hz, very low frequencies of less than 300 Hz, and the like, and counter waves may have similar frequencies. Alternatively, harmful waves may include ultra low frequencies defining frequencies below 3 kHz, ultra low frequencies with frequencies below 30 kHz, low frequencies with frequencies below 300 kHz, and the like, and counter waves may have similar frequencies. The target space may be formed between the counter unit and the base unit or the like with respect to a preset angle with respect to the counter unit, on one side of the counter and the base unit. If desired, harmful waves may define frequencies greater than 300 kHz, 1 MHz, 10 MHz, 100 MHz, 1 GHz, 10 GHz, 100 GHz, 1 THz, and the like.

카운터링은 상기 소거 및/또는 억제를 포함할 수도 있다. 그러한 카운터 유닛은, 전류가 흐를 수도 있는 전기 도체, 전압이 인가될 수도 있는 전기 도체 및/또는 절연체 등을 포함할 수도 있다. 카운터 유닛은, 기본 유닛과 (또는 관해) 나란히 배치될 수도 있고, 기본 유닛의 미리 설정된 부분에 관해 감겨질 수도 있고, 대신, 기본 유닛에 관해 동심 배열로 배치될 수도 있고, 기본 유닛에 관해 축 방향 등으로 배치될 수도 있다. 그러한 카운터 유닛은 적어도 하나의 지지부에 의해 유지될 수도 있고, 카운터 파를 방출하는 동안, 그 카운터 유닛의 형상을 유지하거나 그 카운터 유닛의 형상을 변경할 수도 있다. 카운터 유닛은 그것을 통해 배치된 적어도 하나의 페리자성 삽입부를 포함할 수도 있다.Countering may include such erasure and / or suppression. Such counter units may include electrical conductors through which current may flow, electrical conductors via which a voltage may be applied and / or insulators, and the like. The counter units may be arranged side by side with (or in relation to) the base unit, wound about a preset portion of the base unit, instead may be arranged in a concentric arrangement with respect to the base unit, and axially with respect to the base unit. Or the like. Such a counter unit may be held by at least one support, and may maintain the shape of the counter unit or change the shape of the counter unit while emitting a counter wave. The counter unit may comprise at least one ferromagnetic insert disposed therethrough.

카운터 유닛의 형상은, 그 카운터 유닛이 기본 유닛의 형상에 매칭하거나 유해한 파 (의 형상) 에 매칭하도록 배열될 수도 있는지의 여부에 기초하여 결정될 수도 있다. 카운터 유닛의 형상은, 기본 유닛 및/또는 소스의 형상과 동일, 유사, 또는 상이할 수도 있다. 그러한 카운터 유닛은, 와이어, 스트립, 시트, 튜브, 코일, 나선, 메시의 형상, 그 형상 중 적어도 하나의 형상의 혼합물, 이들의 결합물, 이들의 어레이 등을 정의할 수도 있다. 그 어레이는, 번들, 편조 (braid), 코일, 메시 등의 형상을 가질 수도 있다. 카운터 유닛의 형상은 기본 유닛 및/또는 소스의 형상과 일치 (또는 불일치) 할 수도 있다. 카운터 유닛은 기본 유닛 및/또는 소스의 1-D, 2-D 및/또는 3-D 유사물을 형성할 수도 있고, 기본 유닛 및/또는 소스의 그러한 유사물 중 하나만을 정의할 수도 있고, 기본 유닛 및/또는 소스의 유사물 중 적어도 2개를 정의할 수도 있고, 기본 유닛 및/또는 소스의 유사물 중 하나만을 정의할 수도 있고, 기본 유닛 및/또는 소스의 유사물 중 적어도 2개 등을 대신 형성할 수도 있다. 그 유사물은 그러한 기본 유닛 및/또는 소스와의 유사성을 유지하도록 배열될 수도 있다. 그 유사물은 그러한 기본 유닛 및/또는 소스와의 유사성을 유지하도록 배열될 수도 있다. 카운터 유닛의 적어도 2개의 부분 및/또는 적어도 2개의 카운터 유닛은, 상이한 사이즈의 동일한 형상, 유사 또는 상이한 사이즈의 상이한 형상 등을 정의할 수도 있다. 카운터 유닛은 그것의 종축을 따라서 그것의 적어도 실질적인 부분을 따라 적어도 실질적으로 균일한 형상 및/또는 사이즈를 가질 수도 있고, 그 부분 및/또는 축 등을 따라 변하는 형상 및/또는 사이즈를 가질 수도 있다.The shape of the counter unit may be determined based on whether the counter unit may be arranged to match the shape of the base unit or to match the harmful wave (shape). The shape of the counter unit may be the same, similar or different from the shape of the base unit and / or the source. Such counter units may define wires, strips, sheets, tubes, coils, spirals, shapes of meshes, mixtures of at least one of the shapes, combinations thereof, arrays thereof, and the like. The array may have the shape of a bundle, braid, coil, mesh, or the like. The shape of the counter unit may coincide (or mismatch) with the shape of the base unit and / or the source. The counter unit may form 1-D, 2-D and / or 3-D analogs of the base unit and / or source, may define only one of those analogs of the base unit and / or source, and Define at least two of the analogs of the unit and / or source, define only one of the analogs of the base unit and / or source, define at least two of the analogs of the base unit and / or source, and the like It may be formed instead. The analogs may be arranged to maintain similarity with such base units and / or sources. The analogs may be arranged to maintain similarity with such base units and / or sources. At least two portions of the counter unit and / or at least two counter units may define the same shape of different sizes, different shapes of similar or different sizes, and the like. The counter unit may have a shape and / or size that is at least substantially uniform along its at least a substantial portion along its longitudinal axis, and may vary with that portion and / or axis, and the like.

카운터 유닛의 사이즈는 기본 유닛 및/또는 소스의 사이즈에 일치할 수도 있다 (또는 일치하지 않을 수도 있다). 그러한 카운터 유닛은 그러한 기본 유닛 및/또는 소스의 배열과 동일, 유사 또는 상이한 배열로 배치될 수도 있다. 카운터 유닛은 기본 유닛 및/또는 소스의 배열에 일치하는 (또는 일치하지 않는) 배열로 배치될 수도 있다. 또한, 카운터 유닛은 서로에 관해 또는 기본 유닛 및/ 또는 소스에 관해 대칭 (또는 비대칭) 배열로 배치될 수도 있다. 카운터 유닛은, 유해한 파의 전파 방향, 전류 및/또는 전압의 방향, 기본 유닛 또는 소스의 종축, 기본 유닛 또는 소스의 단축 등으로 정렬될 수도 있다 (또는 오정렬될 수도 있다). 카운터 유닛의 모두, 단지 일부, 하나는 방향 및/또는 축 중 적어도 하나로 정렬될 수도 있거나 (또는 오정렬될 수도 있거나), 어느 카운터 유닛도 그 방향 및/또는 축 중 적어도 하나로 정렬되지 않을 수도 있다 (또는 오정렬되지 않을 수도 있다). 또한, 카운터 유닛 및 기본 유닛은 타겟 공간으로부터 동일한 (또는 유사한) 거리에 배치될 수도 있다. 카운터 유닛 및/또는 기본 유닛의 적어도 일부는 그 유닛들의 또 다른 부분에 배치될 수도 있거나, 다른 방법으로, 카운터 유닛 및 기본 유닛은 그 유닛들의 단일 공통 축 등을 따라 축 방향으로 배치될 수도 있다. 그러한 카운터 유닛은 기본 유닛 또는 소스의 종축 주변에서 각 방향으로 배치될 수도 있다. 카운터 유닛은 기본 유닛 (또는 소스) 보다 그러한 타겟 공간에 더 근접하여 (또는 이격하여) 이동가능하게 또는 고정적으로 배치될 수도 있다. 카운터 유닛 또는 기본 유닛은 타겟 공간의 동일한 측상에 배치될 수도 있거나, 다른 방법으로, 그러한 카운터 유닛 및 기본 유닛은 타겟 공간의 반대측상에 배치될 수도 있다. 카운터 유닛은 기본 유닛 (또는 유닛들) 에 일치할 수도 있거나, 다른 방법으로, 그러한 카운터 유닛들은 기본 유닛 (또는 유닛들) 에 일치할 수도 있다.The size of the counter unit may (or may not) match the size of the base unit and / or the source. Such counter units may be arranged in the same, similar or different arrangements as the arrangement of such base units and / or sources. The counter units may be arranged in an arrangement that matches (or does not match) the arrangement of the base unit and / or the source. The counter units may also be arranged in a symmetrical (or asymmetrical) arrangement with respect to each other or with respect to the base unit and / or the source. The counter units may be aligned (or may be misaligned) with the propagation direction of harmful waves, the direction of current and / or voltage, the longitudinal axis of the base unit or source, the shortening of the base unit or source, and the like. All, only some, one of the counter units may be aligned (or misaligned) with at least one of the directions and / or axes, or none of the counter units may be aligned with at least one of the directions and / or axes (or May not be misaligned). In addition, the counter unit and the base unit may be arranged at the same (or similar) distance from the target space. At least some of the counter unit and / or the base unit may be arranged in another part of the units, or in another way, the counter unit and the base unit may be arranged in the axial direction along a single common axis or the like of the units. Such counter units may be arranged in each direction around the longitudinal axis of the base unit or source. The counter unit may be arranged to be movable or fixed closer to (or spaced apart) such target space than the base unit (or source). The counter unit or base unit may be disposed on the same side of the target space, or in other ways, such counter unit and base unit may be disposed on the opposite side of the target space. The counter unit may correspond to the base unit (or units), or in other ways, such counter units may match the base unit (or units).

카운터 유닛은 외부상에 배치되거나, 내부상에 배치되거나 및/또는 기본 유닛 및/또는 소스에서 구현될 수도 있다. 카운터 유닛은 시스템의 케이스 부재 상에, 그 부재에 또는 그 부재 내에 배치될 수도 있다. 그러한 카운터 유닛 및 기본 유닛은 적어도 하나의 공통 재료로 구성되고 및/또는 그 재료를 포함할 수도 있고, 동일한 재료로 구성되고 및/또는 그 재료를 포함할 수도 있거나, 임의의 공통 재료를 포함하지 않을 수도 있다. 카운터 유닛 및 기본 유닛은 미리 설정된 거리 만큼 서로 분리될 수도 있거나, 서로 기계적으로 커플링될 수도 있거나, 임의의 물품 등을 형성할 수도 있다. 카운터 유닛은 케이스 부재, 기본 유닛, 및/또는 시스템의 다른 부분에 직접적으로 커플링될 수도 있거나, 적어도 하나의 커플러를 통해 그들에 간접적으로 커플링될 수도 있으며, 카운터 유닛은 기타 다른 것들에 직간접적으로 커플링될 수도 있다. 카운터 유닛은, 최소량의 전류 및/또는 전압을 소비하면서, 최소량의 재료로 카운터 파를 방출하도록 배열될 수도 있으며, 그외 다른 양으로 카운터 파를 방출하도록 배열될 수도 있다.The counter unit may be disposed on the outside, disposed on the inside and / or implemented in the base unit and / or the source. The counter unit may be disposed on, in or within the case member of the system. Such counter units and base units may consist of and / or comprise at least one common material, consist of the same material and / or comprise the material, or may not comprise any common material. It may be. The counter unit and the base unit may be separated from each other by a predetermined distance, may be mechanically coupled to each other, or may form any article or the like. The counter unit may be coupled directly to the case member, base unit, and / or other part of the system, or indirectly coupled to them via at least one coupler, the counter unit being directly or indirectly to the others. May be coupled. The counter unit may be arranged to emit a counter wave with a minimum amount of material while consuming a minimum amount of current and / or voltage, or may be arranged to emit a counter wave in any other amount.

기본 유닛은 소스 전류 및/또는 전압을 공급받을 수도 있으며, 여기서, 그 소스 전류 또는 전압은 카운터 전류 또는 전압으로서 카운터 유닛에 공급될 수도 있고, 소스 전류 또는 전압의 일부만이 카운터 전류 또는 전압으로서 카운터 유닛에 공급될 수도 있고, 소스 전류 또는 전압의 적어도 일부의 진폭 및/또는 방향이 변경되어 카운터 전류 또는 전압으로서 카운터 유닛에 공급될 수도 있고, 외부 전류 또는 전압이 형성되고, 소스 전류 또는 전압과 동기화되어 카운터 전류 또는 전압으로서 카운터 유닛에 공급될 수도 있으며, 기타 다른 전류 또는 전압이 카운터 유닛에 공급될 수도 있다. 카운터 유닛은, 동일한 카운터 전류 또는 전압, 상이한 카운터 전류 또는 전압 등을 공급받을 수도 있다. 또한, 카운터 유닛 및 기본 유닛은, 직렬 모드, 병렬 모드 또는 하이브리드 모드에서 서로 전기적으로 커플링될 수도 있거나, 다른 방법으로, 서로 직접적으로 커플링되지 않을 수도 있다. 카운터 유닛은, 직렬 모드, 병렬 모드 또는 하이브리드 모드에서 서로 전기적으로 커플링될 수도 있거나, 다른 방법으로, 서로 직접적으로 커플링되지 않을 수도 있다. 카운터 유닛 모두 (또는 그 카운터 유닛의 일부만) 는 동일한 모드로 기본 유닛과 전기적으로 커플링할 수도 있거나, 다른 방법으로, 어느 카운터 유닛도 동일한 모드로 기본 유닛에 전기적으로 커플링되지 않을 수도 있다. 카운터 파는, 기본 유닛에 관한 카운터 유닛의 배치에 의존하여, 유해한 파의 진폭보다 크거나, 그 진폭과 유사하거나, 그 진폭보다 작은 진폭을 정의할 수도 있다. 또한, 카운터 유닛 및 기본 유닛은 실질적으로 동일, 유사, 또는 상이한 공진 주파수를 정의할 수도 있거나, 다른 방법으로, 동일, 유사, 또는 상이한 공진 주파수를 정의할 수도 있다. 카운터 유닛의 적어도 일부 및/또는 카운터 유닛 중 적어도 하나의 카운터 유닛은 나머지 것들의 공진 주파수와 상이한 공진 주파수를 가질 수도 있다.The base unit may be supplied with a source current and / or voltage, where the source current or voltage may be supplied to the counter unit as a counter current or voltage, and only a portion of the source current or voltage may be provided as a counter current or voltage. The amplitude and / or direction of at least a portion of the source current or voltage may be changed and supplied to the counter unit as a counter current or voltage, and an external current or voltage is formed and synchronized with the source current or voltage. The counter unit may be supplied as a counter current or voltage, and other currents or voltages may be supplied to the counter unit. The counter unit may be supplied with the same counter current or voltage, different counter current or voltage, and the like. In addition, the counter unit and the base unit may be electrically coupled to each other in series mode, parallel mode or hybrid mode, or alternatively, may not be directly coupled to each other. The counter units may be electrically coupled to each other in series mode, parallel mode or hybrid mode, or in other ways may not be directly coupled to each other. All of the counter units (or only a portion of the counter units) may be electrically coupled with the base unit in the same mode, or alternatively, no counter units may be electrically coupled with the base unit in the same mode. The counter wave may define an amplitude that is greater than, similar to, or less than the amplitude of the harmful wave, depending on the placement of the counter unit relative to the base unit. In addition, the counter unit and the base unit may define substantially the same, similar, or different resonant frequencies, or alternatively, define the same, similar, or different resonant frequencies. At least some of the counter units and / or at least one of the counter units may have a resonant frequency that is different from the resonant frequencies of the others.

또한, 그러한 시스템은, 위에서 또는 공동-계류중인 출원에서 설명된 자기적 쉴드 중 적어도 하나의 쉴드를 포함할 수도 있다. 그러한 자기적 쉴드는 카운터 유닛 및/또는 기본 유닛의 적어도 하나에, 그 상에, 그 위에, 그 주변에, 그 내부에 또는 그를 통해 배치될 수도 있다. 자기적 쉴드는 카운터 유닛 및/또는 기본 유닛의 형상에 적어도 부분적으로 일치할 수도 있는 형상을 정의할 수도 있거나, 다른 방법으로, 카운터 유닛 및/또는 기본 유닛의 형상과 적어도 부분적으로 상이할 수도 있는 형상을 정의할 수도 있다. 자기적 쉴드는, 1,000, 10,000, 100,000, 1,000,000 등보다 더 큰 상대적인 자기 투자율을 갖는 적어도 하나의 경로 부재를 가질 수도 있다. 그러한 자기적 쉴드는 적어도 하나의 S극을 정의하는 적어도 하나의 자기 부재를 포함할 수도 있다. 자기적 쉴드는 그 자기 부재에 직접적으로 또는 간접적으로 커플링될 수도 있는 적어도 하나의 분로 부재 (shunt member) 를 포함할 수도 있다. 그러한 분로 부재는, 1,000, 10,000, 100,000, 1,000,000 등 보다 더 클 수도 있는 상대적인 자기 투자율을 가질 수도 있다. 상술되거나 공동-계류중인 출원에서 설명된 자기적 쉴드는 상술된 디바이스들 중 임의의 디바이스에 포함될 수도 있다.Such a system may also include a shield of at least one of the magnetic shields described above or in a co-pending application. Such a magnetic shield may be disposed on, on, on, around, inside or through at least one of the counter unit and / or the base unit. The magnetic shield may define a shape that may at least partially match the shape of the counter unit and / or the base unit, or in another way, a shape that may be at least partially different from the shape of the counter unit and / or the base unit. You can also define The magnetic shield may have at least one path member having a relative magnetic permeability greater than 1,000, 10,000, 100,000, 1,000,000, and the like. Such magnetic shield may include at least one magnetic member that defines at least one S pole. The magnetic shield may include at least one shunt member that may be coupled directly or indirectly to the magnetic member. Such a shunt member may have a relative magnetic permeability that may be greater than 1,000, 10,000, 100,000, 1,000,000, and the like. The magnetic shield described in the above or co-pending application may be included in any of the devices described above.

시스템은 위에서 또는 공동-계류중인 출원에서 설명된 전기적 쉴드 중 적어도 하나의 쉴드를 포함할 수도 있다. 상술된 및/또는 공동-계류중인 출원에서 설명된 그러한 전기적 쉴드는 상술된 디바이스들 중 임의의 디바이스에 포함될 수도 있다. 그러한 자기적 및/또는 전기적 쉴드는 카운터 유닛 또는 기본 유닛의 종축을 따라 균일하게 유지될 수도 있거나 변할 수도 있는 형상 및/또는 사이즈를 형성할 수도 있다. 자기적 및/또는 전기적 쉴드의 형상 및/또는 사이즈는 그러한 카운터 유닛 및/또는 기본 유닛의 형상 및/또는 사이즈와 동일, 유사, 또는 상이할 수도 있다. 시스템은 다수의 자기적 및/또는 전기적 쉴드를 포함할 수도 있다. 자기적 및/또는 전기적 쉴드 중 적어도 2개의 쉴드는, 동일한 또는 상이한 범위에서 상이한 또는 상이한 주파수를 갖는 유해한 파의 자기파 및/또는 전기파에 대해 보호할 수도 있다. 자기적 및/또는 전기적 쉴드는 카운터 유닛 및/ 또는 기본 유닛의 적어도 일부 (또는 전체 부분) 에 걸쳐 배치될 수도 있다.The system may include at least one of the electrical shields described above or in the co-pending application. Such electrical shields described in the above-mentioned and / or co-pending applications may be included in any of the above-described devices. Such magnetic and / or electrical shields may form shapes and / or sizes that may remain uniform or vary along the longitudinal axis of the counter unit or base unit. The shape and / or size of the magnetic and / or electrical shield may be the same, similar, or different from the shape and / or size of such counter unit and / or base unit. The system may include a number of magnetic and / or electrical shields. At least two of the magnetic and / or electrical shields may protect against harmful and magnetic waves of harmful waves having different or different frequencies in the same or different ranges. The magnetic and / or electrical shield may be disposed over at least a portion (or all portions) of the counter unit and / or base unit.

본 발명의 또 다른 양태에서, 카운터 전자기파를 방출함으로써, 그 카운터 파의 형상을 조정함으로써, 및 유해한 파가 타겟 공간으로 전파하는 것을 억제하고 그 타겟 공간에서 그 유해한 파를 소거함으로써, 적어도 하나의 파원의 적어도 하나의 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 전자기파를 카운터링하는 방법이 제공될 수도 있으며, 여기서, 그러한 기본 유닛은, 그 유해한 파를 조사하고 그것을 통해 그 유해한 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 파원의 일부만을 포함하도록 구성되고, 그 타겟 공간은 그 소스와 사용자 사이에 정의된다.In another aspect of the present invention, at least one wave source is provided by emitting a counter electromagnetic wave, adjusting the shape of the counter wave, and suppressing the propagation of harmful waves into the target space and eliminating the harmful waves in the target space. A method of countering harmful electromagnetic waves irradiated from at least one base unit of may be provided, wherein such base unit is responsible for irradiating the harmful wave and affecting the path of the harmful wave through it. It is configured to include only a portion of the source, and the target space is defined between the source and the user.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 방법은, 적어도 하나의 카운터 유닛을 제공하는 단계 (이하, '제 1 제공 단계' 로서 지칭됨); 소스보다 더 넓도록 그 카운터 유닛을 확장시키는 단계; 유해한 파의 파면의 적어도 일부로 그 카운터 유닛의 폭을 정렬시키면서 그 소스와 사용자 사이에 그 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 그 후 그 유해한 파와 유사한 카운터 파를 그 카운터 유닛에 의해 방출하고, 따라서, 타겟 공간에서 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 포함할 수도 있다. 상기 확장 단계 및 배치 단계는, 그 파원보다 더 협소하도록 그 카운터 유닛을 확장시키는 단계; 및 그 유해한 파의 파면의 적어도 일부로 그 카운터 유닛의 폭을 정렬시키면서, 그 파원에 관해 그 타겟 공간의 반대측상에 그 카운터 유닛을 배치시키는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method comprises providing at least one counter unit (hereinafter referred to as 'first providing step'); Expanding the counter unit to be wider than the source; Placing the counter unit between the source and the user while aligning the width of the counter unit with at least a portion of the wavefront of the harmful wave; And then releasing, by the counter unit, a counter wave similar to the harmful wave, thus countering the harmful wave in the target space. The expanding and placing steps may include: expanding the counter unit to be narrower than its source; And disposing the counter unit on the opposite side of the target space with respect to the wave source, aligning the width of the counter unit with at least a portion of the wavefront of the harmful wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 단일 카운터 유닛을 제공하는 단계; 다수의 파면의 제 1 세트를 갖는 카운터 파를 그 카운터 유닛에 의해 방출하는 단계; 유해한 파의 다수의 파면의 제 2 세트를 식별하는 단계; 그러한 파면의 제 1 세트가 타겟 공간에서 그 파면의 제 2 세트에 매칭하는 파면의 제 2 세트를 따라 적어도 하나의 위치를 산정하는 단계; 및 그러한 위치에 그 카운터 유닛을 배치시키고, 그에 의해, 타겟 공간에서 그 카운터 파로 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 포함할 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, such a method comprises providing a single counter unit; Emitting by the counter unit a counter wave having a first set of multiple wavefronts; Identifying a second set of multiple wavefronts of harmful waves; Calculating at least one location along a second set of wavefronts where the first set of such wavefronts matches the second set of wavefronts in target space; And placing the counter unit at such a location, thereby countering the harmful wave with the counter wave in the target space.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 적어도 2개의 카운터 유닛을 제공하는 단계; 유사한 (또는 동일한) 위상각을 갖는 카운터 파를 그러한 카운터 유닛으로부터 방출하고, 각각이 그러한 적어도 2개의 카운터 유닛에 의해 생성된 적어도 2개의 파면의 합산인 다수의 파면의 제 1 세트를 형성하는 단계; 그 제 1 세트의 파면의 각각의 곡률 반경에서의 증가와, 그러한 카운터 유닛들 간의 거리 사이의 관계를 발견하는 단계; 유해한 파의 다수의 파면의 제 2 세트를 식별하는 단계; 그 파면의 제 1 세트가 그 파면의 제 2 세트에 매칭하는 그러한 카운터 유닛들 사이의 거리를 선택하는 단계; 그 파면의 제 1 세트가 그 파면의 제 2 세트에 매칭하는 그 파면의 제 2 세트에서 그러한 카운터 유닛에 대한 적어도 2개의 위치를 산정하는 단계; 및 그 거리에 위해 분리된 위치에서 그 카운터 유닛을 배치시키고, 그에 따라, 그 타겟 공간에서 카운터 파로 유해한 파를 카운터링하는 단계를 포함할 수도 있다. 상기 방출 단계 및 발견 단계는, 적어도 부분적으로 반대인 위상을 갖는 카운터 파를 그 카운터 유닛에 의해 방출하고, 각각이 그러한 적어도 2개의 카운터 유닛에 의해 생성된 적어도 2개의 파면의 합산을 나타내는 다수의 파면의 제 1 세트를 정의하는 단계; 및 그 제 1 세트의 파 면 각각의 곡률 반경에서의 감소와, 그 카운터 유닛들 간의 거리 사이의 관계를 발견하는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method includes providing at least two counter units; Emitting counter waves having similar (or identical) phase angles from such counter units, forming a first set of multiple wavefronts, each of which is a sum of at least two wavefronts produced by such at least two counter units; Finding a relationship between an increase in each radius of curvature of the first set of wavefronts and a distance between such counter units; Identifying a second set of multiple wavefronts of harmful waves; Selecting a distance between such counter units for which the first set of wavefronts matches the second set of wavefronts; Calculating at least two positions relative to such counter units in the second set of wavefronts where the first set of wavefronts matches the second set of wavefronts; And disposing the counter unit at a position separated for the distance, thereby countering the harmful wave with the counter wave in the target space. The emitting and discovering steps emit, by the counter unit, counter waves having at least partially opposite phases, each of which represents a sum of at least two wavefronts generated by such at least two counter units. Defining a first set of; And finding the relationship between the reduction in the radius of curvature of each of the first set of wavefronts and the distance between the counter units.

본 발명의 또 다른 양태에서, 기본 유닛의 적어도 하나의 특성을 매칭하고, 그 후, 유해한 파가 타겟 공간을 향해 전파하는 것을 억제하는 것 및 그 타겟 공간에서 그 유해한 파를 소거하는 것 중 적어도 하나에 의해 적어도 하나의 파원의 적어도 하나의 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 전자기파를 카운터링하는 방법이 제공될 수도 있다. 그 기본 유닛은, 그 유해한 파를 조사하고, 또한, 그것을 통해 그 유해한 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 파원의 일부만을 포함하도록 구성되고, 그 타겟 공간은 그 소스와 사용자 사이에 정의되며, 그 특성은, 형상, 사이즈, 및/또는 배열을 포함한다.In another aspect of the invention, at least one of matching at least one characteristic of the base unit, and then suppressing the propagation of harmful waves towards the target space and eliminating the harmful waves in the target space A method may be provided for countering harmful electromagnetic waves emitted from at least one base unit of at least one wave source. The base unit is configured to include only the portion of the source that is responsible for investigating the harmful wave and affecting the path of the harmful wave therethrough, the target space being defined between the source and the user. The characteristics include shape, size, and / or arrangement.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 방법은, 제 1 제공 단계; 기본 유닛의 특성에 매칭하도록 카운터 유닛을 구성하는 단계; 그 구성 단계로 인해 유해한 파와 유사한 카운터 전자기파를 그 카운터 유닛에 의해 방출하는 단계; 및 그 후, 타겟 공간에서 카운터 파에 의해 그 유해한 파에 매칭하기 위한 위치에 그 카운터 유닛을 배치시키는 단계를 포함할 수도 있다. 그 구성 단계는, 그 특성을 최소로 유지하면서 그 기본 유닛의 구성보다 더 간단한 구성을 정의하도록 그 카운터 유닛을 구성하는 단계; 그 특성을 적어도 최소로 유지하면서 그 기본 유닛의 구성보다 더 복잡한 구성을 정의하도록 그 카운터 유닛을 구성하는 단계; 그 특성을 적어도 최소로 유지하면서 그 기본 유닛보다 더 적은 수의 유닛 축에 의해 정의된 차원을 정의하도록 그 카운터 유닛을 구하는 단계; 및 그 특성을 최소로 유지하면서 기본 유닛의 차원보다 더 큰 수의 유닛 축에 의해 정의된 차원을 정의하도록 그 카운터 유닛을 구성하는 단계 중 하나의 단계에 의해 대체될 수도 있다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method comprises: a first providing step; Configuring a counter unit to match the characteristics of the base unit; Releasing by the counter unit counter electromagnetic waves similar to harmful waves due to the construction step; And then placing the counter unit at a position in the target space to match the harmful wave with the counter wave. The configuration step includes: configuring the counter unit to define a configuration that is simpler than the configuration of the base unit while keeping its characteristics at a minimum; Configuring the counter unit to define a configuration that is more complex than that of the base unit while maintaining its characteristics at least; Finding the counter unit to define a dimension defined by fewer unit axes than the base unit while maintaining its characteristics at least; And configuring the counter unit to define a dimension defined by a larger number of unit axes than the dimension of the base unit while keeping its characteristics at a minimum.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 단일 카운터 유닛을 제공하는 단계; 특성을 유지하면서 단일 기본 유닛의 구성보다 더 간단한 구성을 갖도록 그 카운터 유닛을 구성하는 단계; 그 구성 단계로 인해 유해한 파와 유사한 카운터 전자기파를 그러한 카운터 유닛에 의해 방출하는 단계; 및 타겟 공간에서 카운터 파에 의해 그러한 유해한 파에 매칭하기 위한 위치에 그 카운터 유닛을 배치시키고, 그에 의해, 그 타겟 공간에서 그 유해한 파를 그 카운터 파에 의해 카운터링하는 단계를 포함할 수도 있다. 상기 구성 단계는, 그 특성을 유지하면서 다수의 기본 유닛의 배열과 유사한 (또는 동일한) 구성을 정의하도록 그 카운터 유닛을 구성하는 단계; 그 특성을 유지하면서 다수의 기본 유닛의 배열보다 더 적은 상호 직교인 유닛 축에 의해 형성된 차원을 갖도록 그러한 카운터 유닛을 구성하는 단계; 및 그 특성을 유지하면서 다수의 기본 유닛의 차원보다 더 많은 상호 직교인 유닛 축에 의해 형성된 차원을 갖도록 그 카운터 유닛을 구성하는 단계를 포함할 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, such a method comprises providing a single counter unit; Configuring the counter unit to have a simpler configuration than the configuration of a single base unit while maintaining the characteristics; Emitting by the counter unit counter electromagnetic waves similar to harmful waves due to the construction step; And placing the counter unit at a position for matching such a harmful wave by a counter wave in the target space, thereby countering the harmful wave by the counter wave in the target space. The configuring step includes: configuring the counter unit to define a configuration that is similar (or identical) to the arrangement of the plurality of base units while retaining its characteristics; Configuring such a counter unit to have a dimension defined by a unit axis that is less orthogonal to the arrangement of the plurality of base units while retaining its characteristics; And configuring the counter unit to have a dimension formed by a unit axis that is more orthogonal to the dimensions of the plurality of base units while maintaining its characteristics.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 다수의 카운터 유닛을 제공하는 단계; 특성을 유지하면서 단일 기본 유닛의 구성보다 더 간단한 구성으로 상기 카운터 유닛 중 적어도 2개의 카운터 유닛을 배열하는 단계; 상기 구성으로 인해 유해한 파와 유사한 카운터 전자기파를 그 카운터 유닛에 의해 방출하는 단계; 및 타겟 공간에서 카운터 파에 의해 그 유해한 파에 매칭 하기 위한 위치에 그 카운터 유닛을 배치시키고, 그에 의해, 그 타겟 공간에서 카운터 파에 의해 유해한 파를 카운터링하는 단계를 포함할 수도 있다. 상기 배열 단계는, 그러한 특성을 유지하면서 다수의 기본 유닛의 배열과 유사 또는 동일한 구성으로 그 카운터 유닛 중 적어도 2개의 유닛을 배열하는 단계; 그러한 특성을 유지하면서 단일 기본 유닛의 또 다른 차원보다 더 적은 상호 직교인 유닛 축에 의해 형성된 차원을 정의하는 배열로 그러한 카운터 유닛을 배열하는 단계; 및 그 특성을 유지하면서 다수의 기본 유닛의 차원보다 더 많은 상호 직교인 유닛 축에 의해 형성된 차원을 갖는 배열로 그 카운터 유닛을 배열하는 단계 중 하나의 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method includes providing a plurality of counter units; Arranging at least two counter units of said counter units in a configuration that is simpler than that of a single base unit while maintaining characteristics; Emitting by the counter unit counter electromagnetic waves similar to harmful waves due to the above configuration; And placing the counter unit at a position for matching the harmful wave by the counter wave in the target space, thereby countering the harmful wave by the counter wave in the target space. The arranging may include arranging at least two units of the counter units in a configuration similar or identical to an arrangement of a plurality of base units while maintaining such characteristics; Arranging such counter units in an array defining dimensions formed by unit axes that are less orthogonal than another dimension of a single base unit while maintaining such characteristics; And arranging the counter units in an array having dimensions formed by more mutually orthogonal unit axes than the dimensions of the plurality of basic units, while maintaining their characteristics.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 더 큰 수의 기본 유닛에 대해 더 작은 수의 그러한 카운터 유닛을 제공하는 단계; 기본 유닛의 배열에 근사하고 특성을 유지하면서 그 카운터 유닛을 배열하는 단계; 그 배치로 인해 유해한 파와 유사한 카운터 전자기파를 그 카운터 유닛에 의해 방출하는 단계; 및 타겟 공간에서 카운터 파에 의해 유해한 파에 매칭하기 위한 위치에 그 카운터 유닛을 배치시키고, 그에 의해, 그 타겟 공간에서 그러한 카운터 파로 그러한 유해한 파를 카운터링하는 단계를 포함할 수도 있다. 그러한 제공 단계 및 배열 단계는, 더 적은 수의 기본 유닛에 대해 더 많은 수의 카운터 유닛을 제공하는 단계; 및 기본 유닛 중 적어도 하나의 기본 유닛 주변에 그 카운터 유닛 중 적어도 2개의 카운터 유닛을 배치시키고 그 특성을 유지하면서 그 카운터 유닛을 배열하는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method includes providing a smaller number of such counter units for a larger number of base units; Arranging the counter units close to the arrangement of the base units and maintaining the characteristics; Emitting by the counter unit counter electromagnetic waves similar to harmful waves due to the arrangement; And placing the counter unit at a location for matching the harmful wave by the counter wave in the target space, thereby countering such harmful wave with that counter wave in the target space. Such providing and arranging steps include: providing a greater number of counter units for fewer base units; And arranging at least two counter units of the counter units around the at least one base unit of the base units and arranging the counter units while maintaining their characteristics.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 그 제 1 제공 단계; 기본 유닛에 관해 이동하도록 카운터 유닛을 구성하는 단계; 카운터 전자기파를 그 카운터 유닛에 의해 방출하는 단계; 카운터 파와 유해한 파 사이의 매칭 범위 (또는 정도) 와, 그 카운터 유닛으로부터 그 기본 유닛까지의 거리 사이의 관계를 발견하는 단계; 그 카운터 파가 그 유해한 파에 최상으로 매칭하는 위치를 산정하는 단계; 및 타겟 공간에서 그 카운터 파에 의해 그 유해한 파에 최상으로 매칭하기 위한 위치로 그 카운터 유닛을 이동시키고, 그에 의해, 그 타겟 공간에서 그 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 가질 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method comprises: a first providing step; Configuring the counter unit to move relative to the base unit; Emitting counter electromagnetic waves by the counter unit; Finding a relationship between the matching range (or degree) between the counter wave and the harmful wave and the distance from the counter unit to the base unit; Calculating a position at which the counter wave best matches the harmful wave; And moving the counter unit to a position that best matches the harmful wave by the counter wave in the target space, thereby countering the harmful wave by the counter wave in the target space. have.

본 발명의 또 다른 양태에서, 유해한 파에 매칭함으로써 및 그 유해한 파가 타겟 공간으로 전파하는 것을 억제하는 것 및 그 타겟 공간에서 그 유해한 파를 소거하는 것 중 적어도 하나에 의해, 적어도 하나의 파원의 적어도 하나의 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 전자기파를 카운터링하는 방법이 제공될 수도 있다. 그러한 기본 유닛은, 그러한 유해한 파를 조사하고 그것을 통해 유해한 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 파원의 일부만을 포함하도록 구성되고, 그 타겟 공간은 그 소스와 사용자 사이에 정의된다.In another aspect of the present invention, at least one of the wave sources by matching harmful waves and suppressing propagation of the harmful waves into the target space and eliminating the harmful waves in the target space, A method of countering harmful electromagnetic waves emitted from at least one base unit may be provided. Such a base unit is configured to contain only a portion of the wave sources that cause such harmful waves to be investigated and affect the path of the harmful waves therethrough, the target space being defined between the source and the user.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 방법은, 유해한 파의 다수의 파면의 제 1 세트를 식별하는 단계; 그러한 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 적어도 하나의 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 그 배치 단계로 인해 타겟 공간에서 그 파면의 제 1 세트와 유사한 (또는 동일한) 다수의 파면의 제 2 세트를 형성하는 카운터 전자기 파를 카운터 유닛에 의해 방출하고, 그에 의해, 그 타겟 공간에서 그 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 포함할 수도 있다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method includes identifying a first set of multiple wavefronts of harmful waves; Placing at least one counter unit along at least one of the wavefronts; And the disposing step emits, by the counter unit, a counter electromagnetic wave that forms a second set of multiple wavefronts similar (or identical) to the first set of wavefronts in the target space, whereby Countering the harmful wave by the counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 유해한 파의 다수의 파면을 식별하는 단계; 카운터 유닛의 형상 및/또는 배열과 유사한 다수의 파면을 정의하는 카운터 전자기파를 방출하기 위해 적어도 하나의 카운터 유닛을 제공하는 단계; 그 유해한 파의 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 그 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 그 후, 그 제공 단계 및 그 배치 단계로 인해 타겟 공간에서 그 유해한 파의 파면으로 카운터 파의 파면을 정렬시키는 동안 그 카운터 파를 방출하고, 그에 의해, 그 타겟 공간에서 그 카운터 파로 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 가질 수도 있다. 또한, 상기 제공 단계 및 배치 단계는, 카운터 유닛의 형상 및/또는 배열과 상이한 다수의 파면을 정의하는 카운터 전자기파를 방출하기 위해 적어도 하나의 카운터 유닛을 제공하는 단계; 및 그 제공 단계에 기초하여 유해한 파의 파면 중 적어도 2개의 파면에 걸쳐 (또는 그 파면을 따라) 그 카운터 유닛을 배치시키는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method includes identifying a plurality of wavefronts of a harmful wave; Providing at least one counter unit to emit counter electromagnetic waves that define a plurality of wavefronts that are similar in shape and / or arrangement of the counter unit; Placing the counter unit along at least one of the harmful waves; And then releasing the counter wave while aligning the wavefront of the counter wave with the wavefront of the harmful wave in the target space due to the providing step and the disposing step, whereby the harmful wave with the counter wave in the target space. It may have a step of countering. The providing and disposing step may also include providing at least one counter unit for emitting counter electromagnetic waves defining a plurality of wavefronts that differ from the shape and / or arrangement of the counter unit; And disposing the counter unit over (or along) the wavefront of the harmful wave based on the providing step.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 유해한 파의 다수의 파면을 식별하는 단계; 그러한 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 정의된 배열로 다수의 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 그 카운터 유닛의 배열과 유사한 다수의 파면을 정의하는 카운터 전자기파를 방출하도록 그 카운터 유닛을 구성하는 단계; 및 그 구성 단계로 인해 타겟 공간에서 그러한 유해한 파의 파면으로 그 카운터 파의 파면을 정렬시키는 동안, 카운터 파를 방출하고, 그에 의해, 그 타겟 공간에서 그 카운터 파로 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 가질 수도 있다. 또한, 상기 배치 단계 및 구성 단계는, 파면 중 적어도 2개의 파면에 걸쳐 또는 그 파면을 따른 배열로 다수의 카운터 유닛을 배치시키는 단계, 및 그 카운터 유닛의 배열과 상이한 다수의 파면을 정의하는 카운터 전자기파를 방출하도록 그 카운터 유닛을 구성하는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method includes identifying a plurality of wavefronts of a harmful wave; Placing a plurality of counter units in an array defined along at least one of the wavefronts; Configuring the counter unit to emit a counter electromagnetic wave that defines a plurality of wavefronts similar to the arrangement of the counter unit; And releasing the counter wave during alignment of the wave front of the counter wave with the wave front of such a harmful wave in the target space, thereby countering the harmful wave with the counter wave in the target space. May have In addition, the disposing step and the constitution step include: arranging a plurality of counter units in an arrangement over or along at least two wavefronts of the wavefront, and a counter electromagnetic wave defining a plurality of wavefronts different from the arrangement of the counter units. It may be replaced by the step of configuring the counter unit to emit.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 방법은, 그 제 1 제공 단계; 유해한 파의 다수의 파면을 식별하는 단계; 다수의 파면을 갖는 전자기파를 그러한 카운터 유닛에 의해 방출하는 단계; 기본 유닛과 타겟 공간 사이에 그 카운터 유닛을 위치시키는 단계; 그 유해한 파의 더 긴 곡률 반경과 그러한 카운터 파의 파면의 더 짧은 곡률 반경을 비교하는 단계; 및 그러한 카운터 파 및 유해한 파의 곡률 반경이 타겟 공간에서 서로 최상으로 매칭되도록 구성되는 위치로 그 카운터 유닛을 배치시키고, 그에 의해, 그 타겟 공간에서 그 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 가질 수도 있다. 그러한 위치시키는 단계 및 비교 단계는, 기본 유닛에 관해 타겟 공간의 반대측상에 그 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 그 후, 카운터 파의 파면의 더 긴 곡률 반경을 유해한 파의 더 짧은 곡률 반경과 비교하는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method comprises: a first providing step; Identifying a plurality of wavefronts of harmful waves; Emitting by the counter unit electromagnetic waves having a plurality of wavefronts; Positioning the counter unit between the base unit and the target space; Comparing the longer radius of curvature of the harmful wave with the shorter radius of curvature of the wavefront of such counter wave; And placing the counter unit at a position where the radius of curvature of such counter waves and harmful waves is best matched with each other in the target space, thereby countering the harmful waves by the counter wave in the target space. May have Such positioning and comparing steps include placing the counter unit on the opposite side of the target space with respect to the base unit; And thereafter, comparing the longer radius of curvature of the wavefront of the counter wave with the shorter radius of curvature of the harmful wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 그 제 1 제공 단계; 기본 유닛에 관해 이동하도록 카운터 유닛을 구성하는 단계; 카운터 전자기파를 그 카운터 유닛에 의해 방출하는 단계; 카운터 파의 곡률 반경 과 유해한 파의 곡률 반경 사이의 매칭의 범위 (또는 정도) 와, 그 카운터 유닛으로부터 그 기본 유닛까지의 거리 사이의 관계를 발견하는 단계; 그 카운터 파가 그 유해한 파에 최상으로 매칭하는 위치를 산정하는 단계; 및 그러한 타겟 공간에서 그 카운터 파에 의해 그 유해한 파에 매칭하기 위한 위치로 그 카운터 유닛을 이동시키고, 그에 의해, 그 타겟 공간에서 그 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 가질 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method comprises: a first providing step; Configuring the counter unit to move relative to the base unit; Emitting counter electromagnetic waves by the counter unit; Finding a relationship between the range (or degree) of matching between the radius of curvature of the counter wave and the radius of curvature of the harmful wave and the distance from the counter unit to the base unit; Calculating a position at which the counter wave best matches the harmful wave; And moving the counter unit to a position in the target space for matching the harmful wave by the counter wave, thereby countering the harmful wave by the counter wave in the target space. .

본 발명의 또 다른 양태에서, 적어도 하나의 카운터 유닛에 의해 카운터 전자기 파를 방출함으로써 및 유해한 파를 향해 미리 설정된 방향으로 카운터 파를 전파함으로써, 적어도 하나의 파원의 적어도 하나의 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 전자기 파를 카운터링하는 방법이 제공될 수도 있다. 기본 유닛은, 그 유해한 파를 조사하고 그것을 통해 그 유해한 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 소스의 일부만을 포함하도록 구성되지만, 그 타겟 공간은 그 파원과 사용자 사이에 정의된다.In another aspect of the invention, the harmful radiation irradiated from at least one base unit of the at least one wave source by emitting the counter electromagnetic wave by the at least one counter unit and by propagating the counter wave in a preset direction towards the harmful wave A method of countering electromagnetic waves may be provided. The base unit is configured to contain only the portion of the source that is responsible for investigating the harmful wave and affecting the harmful wave path through it, but the target space is defined between the source and the user.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 방법은, 유해한 파의 형상과 유사한 형상 및 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하도록 카운터 파를 구성하는 단계 (이하, '제 1 구성 단계' 로서 지칭됨); 카운터 유닛에 의해 기본 유닛의 적어도 일부를 둘러싸는 단계; 및 그러한 타겟 공간에서 그 유해한 파를 둘러싸는 동안 카운터 파를 방출하고, 그에 의해, 그 타겟 공간에서 그 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 포함할 수도 있다. 상기 둘러싸는 단계는, 기본 유닛의 적어도 일부 주변에 다수의 카운터 유닛을 배치시키는 단 계에 의해 대체될 수도 있다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method comprises the steps of configuring the counter wave to define a shape similar to the shape of the harmful wave and a phase angle that is at least partially opposite (hereinafter as 'first construction step'). Referred to); Enclosing at least a portion of the base unit by the counter unit; And emitting a counter wave while surrounding the harmful wave in such target space, thereby countering the harmful wave by the counter wave in the target space. The enclosing step may be replaced by the step of placing a plurality of counter units around at least a portion of the base unit.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 제 1 구성 단계; 그 기본 유닛내에 카운터 유닛의 적어도 일부를 배치시키는 단계; 및 타겟 공간에서 유해한 파에 의해 둘러싸는 동안 카운터 파를 방출하고, 그에 의해, 그 타겟 공간에서 그 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 가질 수도 있다. 상기 배치 단계는, 다수의 기본 유닛에 의해 그 카운터 유닛의 적어도 일부를 둘러싸는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method comprises: a first construction step; Placing at least a portion of the counter unit in its base unit; And emitting a counter wave while surrounded by the harmful wave in the target space, thereby countering the harmful wave by the counter wave in the target space. The disposing step may be replaced by enclosing at least a portion of the counter unit by a plurality of base units.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 제 1 구성 단계; 기본 유닛에 대해 측면으로 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 그 후, 유해한 파와 함께 타겟 공간으로 카운터 파를 방출하고, 그 타겟 공간에서 그 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 가질 수도 있다. 상기 배치 단계는, 기본 유닛의 종축을 따라 및 그 기본 유닛에 이격하여 그 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 카운터 유닛 및 기본 유닛 중 하나의 유닛의 적어도 일부를 그 유닛들의 또 다른 유닛에 의해 둘러싸는 단계 중 하나의 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method comprises: a first construction step; Placing the counter unit laterally relative to the base unit; And then releasing a counter wave to the target space along with the harmful wave, and countering the harmful wave by the counter wave in the target space. The disposing step includes disposing the counter unit along a longitudinal axis of the base unit and spaced apart from the base unit; And surrounding at least a portion of one of the counter unit and the base unit by another unit of the units.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 그 제 1 구성 단계; 그러한 유해한 파의 전파 방향으로 카운터 유닛을 정렬시키는 단계; 및 그러한 유해한 파와 함께 타겟 공간을 향하여 카운터 파를 방출하고, 그에 의해, 그 타겟 공간에서 그 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 가질 수도 있다. 상기 정렬 단계는, 기본 유닛에 인가된 전류 및/또는 전 압의 방향으로 그 카운터 유닛을 정렬시키는 단계; 그 기본 유닛의 종축으로 그 카운터 유닛을 정렬시키는 단계; 그 기본 유닛의 단축으로 그 카운터 유닛을 정렬시키는 단계 등 중 하나의 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method comprises: a first constructing step; Aligning the counter unit in the direction of propagation of such harmful waves; And releasing a counter wave toward the target space with such harmful waves, thereby countering the harmful waves by the counter wave in the target space. The step of aligning may include aligning the counter unit in the direction of current and / or voltage applied to the base unit; Aligning the counter unit with the longitudinal axis of the base unit; It may be replaced by one of the steps such as aligning the counter unit with the shortening of the base unit.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 그 제 1 구성 단계; 기본 유닛과 타겟 공간 사이에 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 유해한 파의 진폭보다 작은 진폭을 갖는 카운터 파를 그 카운터 유닛에 의해 방출하는 단계; 및 그 유해한 파와 함께 타겟 공간을 향해 카운터 파를 전파하고, 그에 의해, 그 타겟 공간에서 그 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 포함할 수도 있다. 상기 배치 단계 및 방출 단계는, 기본 유닛에 관해 타겟 공간의 반대측상에 그 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 그 유해한 파의 진폭보다 더 큰 진폭을 정의하는 카운터 파를 그 카운터 유닛에 의해 방출하는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method comprises: a first constructing step; Disposing a counter unit between the base unit and the target space; Emitting by the counter unit a counter wave having an amplitude less than that of the harmful wave; And propagating the counter wave toward the target space along with the harmful wave, thereby countering the harmful wave by the counter wave in the target space. The disposing step and discharging step include disposing the counter unit on the opposite side of the target space with respect to the base unit; And releasing by the counter unit a counter wave that defines an amplitude greater than that of the harmful wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 그 제 1 구성 단계; 기본 유닛과 타겟 공간 사이에 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 그 기본 유닛의 폭보다 더 큰 폭을 갖도록 유해한 파의 전파 방향과 수직인 방향으로 그 카운터 유닛을 확장시키는 단계; 및 그 유해한 파와 함께 그 타겟 공간을 향해 그 카운터 파를 방출하고, 그에 의해, 그 타겟 공간에서 그 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 가질 수도 있다. 상기 배치 단계 및 확장 단계는, 그 기본 유닛에 관해 그 타겟 공간의 반대측상에 그 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 그 유해한 파의 전파 방향과 수직인 방향에서 그 기본 유닛의 폭보다 작은 폭으로 그 카운터 유닛을 확장시키는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method comprises: a first constructing step; Disposing a counter unit between the base unit and the target space; Extending the counter unit in a direction perpendicular to the direction of propagation of the harmful wave so as to have a width greater than the width of the base unit; And emitting the counter wave toward the target space along with the harmful wave, thereby countering the harmful wave by the counter wave in the target space. The placing and expanding steps include placing the counter unit on the opposite side of the target space with respect to the base unit; And extending the counter unit to a width smaller than the width of the base unit in a direction perpendicular to the propagation direction of the harmful wave.

본 발명의 또 다른 양태에서, 카운터 전자기파를 방출함으로써, 및 타겟 공간에서 그 카운터 파로 유해한 파를 소거하는 것 및 그 유해한 파가 그 타겟 공간으로 전파하는 것을 억제하는 것 중 적어도 하나에 의해 적어도 하나의 파원의 적어도 하나의 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 전자기파를 그 카운터 파에 의해 카운터링하는 방법이 제공될 수도 있다. 그 기본 유닛은, 그 유해한 파를 조사하고 또한 그것을 통해 그 유해한 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 소스의 일부만을 포함하도록 구성되지만, 그 타겟 공간은 그 파원과 사용자 사이에 정의된다.In still another aspect of the present invention, there is provided at least one of: by emitting counter electromagnetic waves and at least one of canceling harmful waves from the counter space in the target space and inhibiting propagation of the harmful waves into the target space. A method may be provided for countering harmful electromagnetic waves emitted from at least one base unit of a wave source by the counter wave. The base unit is configured to contain only the portion of the source that is responsible for investigating the harmful wave and affecting the harmful wave path therethrough, but the target space is defined between the source and the user.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 방법은, 카운터 파를 방출하는 단일 카운터 유닛을 제공하는 단계; 그 제 1 구성 단계; 및 단일 기본 유닛에 의해 조사된 그 유해한 파를 그 카운터 파에 의하여 카운터링하는 단계를 포함할 수도 있다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, a method includes providing a single counter unit for emitting a counter wave; Its first construction step; And countering by the counter wave the harmful wave irradiated by a single base unit.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 카운터 파를 방출하는 단일 카운터 유닛을 제공하는 단계; 그 제 1 구성 단계; 및 모든 다수의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파의 합산을 그 카운터 파로 카운터링하는 단계를 가질 수도 있다. 상기 카운터링 단계는, 다수의 기본 유닛 모두가 아닌 그 유닛 중 적어도 하나의 유닛에 의해 조사된 유해한 파를 그 카운터 파에 의해 카운터링하는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, there is provided a method comprising the steps of: providing a single counter unit for emitting such a counter wave; Its first construction step; And countering the sum of the harmful waves irradiated by all of the plurality of basic units with the counter wave. The countering step may be replaced by countering by the counter wave a harmful wave irradiated by at least one of the units but not all of the plurality of basic units.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 그러한 카운터 파를 방출하는 다수의 카운터 유닛을 제공하는 단계; 그 제 1 구성 단계; 및 그 후, 모든 카운터 유닛에 의해 방출된 모든 카운터 파의 합산에 의하여 단일 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 파를 카운터링하는 단계를 가질 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method includes providing a plurality of counter units emitting such counter waves; Its first construction step; And thereafter, countering harmful waves emitted from a single base unit by summing up all counter waves emitted by all counter units.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 그러한 카운터 파를 방출하는 다수의 카운터 유닛을 제공하는 단계; 그 제 1 구성 단계; 및 그 후, 그 카운터 유닛 중 적어도 2개의 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파의 또 다른 합산으로 다수의 기본 유닛 모두에 의해 조사된 유해한 파의 합산을 카운터링하는 단계를 가질 수도 있다. 상기 카운터링 단계는, 그 카운터 유닛 중 적어도 2개의 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파의 또 다른 합산에 의하여 다수의 기본 유닛 모두가 아닌 그 기본 유닛 중 적어도 하나의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파를 카운터링하는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method includes providing a plurality of counter units emitting such counter waves; Its first construction step; And then countering the sum of the harmful waves irradiated by all of the plurality of base units with another sum of the counter waves emitted by at least two counter units of the counter units. The countering step may include harmful waves irradiated by at least one base unit of the base unit but not all of the plurality of base units by another summation of counter waves emitted by at least two counter units of the counter unit. It may be replaced by a countering step.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 각각이 카운터 파의 세트를 방출하는 적어도 2개의 카운터 유닛을 제공하는 단계; 또 다른 기본 유닛에 관해 이동하도록 그 카운터 유닛 중 적어도 하나의 카운터 유닛을 구성하는 단계; 그 제 1 구성 단계; 및 그 후, 방출 시에 그러한 기본 유닛에 관해 그러한 카운터 유닛 중 적어도 하나의 카운터 유닛을 이동시키고, 그에 의해, 단일 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 파를 카운터 파의 상이한 수의 세트로 카운터링하는 단계를 가질 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method includes providing at least two counter units, each emitting a set of counter waves; Configuring at least one counter unit of the counter units to move relative to another base unit; Its first construction step; And then moving at least one counter unit of such counter units with respect to such base unit upon release, thereby countering harmful waves emitted from a single base unit to a different number of sets of counter waves. May have

본 발명의 또 다른 양태에서, 적어도 하나의 곡선형 와이어로서 형성된 적어도 하나의 파원으로부터 조사되는 유해한 전자기파를 카운터 전자기파를 방출함으 로써 카운터링하는 방법이 제공될 수도 있다.In another aspect of the present invention, a method may be provided for countering harmful electromagnetic waves emitted from at least one wave source formed as at least one curved wire by releasing counter electromagnetic waves.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 방법은, 그 제 1 제공 단계; 와이어, 스트립 및 시트 중 하나로서 그 카운터 유닛을 형성하는 단계; 그 와이어를 따라 및 그 와이어에 근접하여 그러한 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 카운터 파에 의해 유해한 파를 카운터링하기 위해 그 카운터 유닛으로부터 그러한 카운터 파를 방출하는 동안, 그 와이어의 파원 및 그 카운터 유닛에 전류를 반대 방향으로 공급하는 단계 (이하, '제 1 공급 단계' 로 지칭됨) 를 포함할 수도 있다. 상기 배치 단계는, 그 와이어 주변 및 그 와이어에 근접하여 그 카운터 유닛을 편조하는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method comprises: a first providing step; Forming the counter unit as one of a wire, strip and sheet; Placing such a counter unit along and in proximity to the wire; And supplying current in the opposite direction to the wave source of the wire and the counter unit while releasing such a counter wave from the counter unit for countering harmful waves by the counter wave (hereinafter, 'first supply step'). Referred to as). The disposing step may be replaced by braiding the counter unit around and close to the wire.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 각각이 와이어, 스트립, 및/또는 시트로서 형성된 다수의 카운터 유닛을 제공하는 단계; 그 와이어 주변 및 그 와이어에 근접하여 그 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 그 제 1 공급 단계를 가질 수도 있다. 그러한 배치 단계는, 그 와이어 주변 및 그 와이어에 근접하여 각각의 카운터 유닛을 동일한 또는 상이한 방향으로 편조하는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method includes providing a plurality of counter units, each formed as a wire, strip, and / or sheet; Placing the counter unit around the wire and proximate the wire; And its first supply step. Such placing step may be replaced by braiding each counter unit in the same or different direction around and near the wire.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 그 제 1 제공 단계; 적어도 하나의 코일 또는 나선으로 카운터 유닛을 형성하는 단계; 와이어 주변에 그 카운터 유닛을 감는 단계; 및 그 제 1 공급 단계를 가질 수도 있다. 상기 형성 단계 및 감는 단계는, 시트 또는 메시로서 그 카운터 유닛을 형성하는 단계; 및 그 와이어 주변에 그러한 카운터 유닛을 감는 단계에 의해 대체될 수도 있다. 또한, 상기 형성 단계 및 감는 단계는, 루멘 (lumen) 을 갖는 환상 튜브로 그 카운터 유닛을 형성하는 단계; 및 그 카운터 유닛의 루멘내에 그 와이어를 배치시키는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method comprises: a first providing step; Forming a counter unit with at least one coil or spiral; Winding the counter unit around the wire; And its first supply step. The forming step and the winding step may include forming the counter unit as a sheet or a mesh; And winding such a counter unit around the wire. The forming and winding steps may also include forming the counter unit with an annular tube having lumens; And disposing the wire in the lumen of the counter unit.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 와이어 주변에 형성된 유해한 파의 다수의 파면을 식별하는 단계; 상기 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 적어도 하나의 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 그 와이어의 파면과 유사한 (또는 동일한) 다수의 파면의 카운터 파를 그 카운터 유닛에 의해 방출하고, 그에 의해, 그 카운터 파로 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 가질 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method includes identifying a plurality of wavefronts of harmful waves formed around the wire; Placing at least one counter unit along at least one of the wavefronts; And releasing by the counter unit a counter wave of a plurality of wavefronts similar (or identical) to the wavefront of the wire, thereby countering the harmful wave with the counter wave.

본 발명의 또 다른 양태에서, 적어도 하나의 곡선형 스트립 (또는 시트) 로서 형성된 적어도 하나의 파원으로부터 조사된 유해한 전자기파를, 카운터 전자기파를 방출함으로써 카운터링하는 방법이 제공될 수도 있다.In another aspect of the invention, a method may be provided for countering harmful electromagnetic waves emitted from at least one wave source formed as at least one curved strip (or sheet) by emitting counter electromagnetic waves.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 방법은, 그 제 1 제공 단계; 와이어, 스트립, 또는 시트로서 카운터 유닛을 형성하는 단계; 그 스트립 (또는 시트) 을 따라 및 그 스트립에 근접하여 그 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 카운터 파에 의해 그러한 유해한 파를 카운터링하기 위해 그 카운터 유닛에 의하여 그 카운터 파를 방출하는 동안, 그 스트립 (또는 시트) 의 파원 및 그 카운터 유닛에 전류를 반대 방향으로 공급하는 단계 (이하, '제 2 공급 단계' 로서 지칭됨) 를 포함할 수도 있다. 또한, 그러한 배치 단계는, 그 스트립 (또는 시트) 주변 및 그 스트립에 근접하여 그 카운터 유닛을 편조하는 단계에 의해 대체될 수 도 있다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method comprises: a first providing step; Forming a counter unit as a wire, strip, or sheet; Placing the counter unit along and in proximity to the strip (or sheet); And supplying current in the opposite direction to the wave source of the strip (or sheet) and the counter unit while releasing the counter wave by the counter unit to counter such harmful waves by the counter wave (hereinafter, May be referred to as a 'second supply stage'. Also, such an arrangement step may be replaced by braiding the counter unit around and in proximity to the strip (or sheet).

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 각각이 와이어, 스트립 또는 시트로서 형성된 다수의 카운터 유닛을 제공하는 단계; 그 스트립 (또는 시트) 주변 및 그 스트립에 근접하여 그러한 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 그 제 2 공급 단계를 가질 수도 있다. 그러한 배치 단계는, 그 스트립 (또는 시트) 주변 및 그 스트립에 근접하여 각각의 카운터 유닛을 동일한 방향 및 상이한 방향 중 어느 한 방향으로 편조하는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method includes providing a plurality of counter units, each formed as a wire, strip or sheet; Placing such a counter unit around and in proximity to the strip (or sheet); And its second supply step. Such an arrangement step may be replaced by braiding each counter unit in either the same direction or the different direction around the strip (or sheet) and in proximity to the strip.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 그 제 1 제공 단계; 적어도 하나의 코일 및 적어도 하나의 나선 중 하나로서 카운터 유닛을 형성하는 단계; 스트립 (또는 시트) 주변에 그 카운터 유닛을 감는 단계; 및 그 후, 제 2 공급 단계를 가질 수도 있다. 그 형성 단계 및 감는 단계는, 시트 또는 메시로서 그 카운터 유닛을 형성하는 단계; 및 그 스트립 (또는 시트) 주변에 그 카운터 유닛을 감는 단계에 의해 대체될 수도 있다. 또한, 상기 형성 단계 및 감는 단계는, 스트립들 (또는 시트들) 의 쌍으로서 그 카운터 유닛을 형성하는 단계; 및 그 스트립들 (또는 시트들) 사이에 그 와이어를 배치시키는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method comprises: a first providing step; Forming a counter unit as one of at least one coil and at least one helix; Winding the counter unit around the strip (or sheet); And thereafter, a second feeding step. The forming and winding steps may include forming the counter unit as a sheet or mesh; And winding the counter unit around the strip (or sheet). The forming and winding steps may also include forming the counter unit as a pair of strips (or sheets); And disposing the wire between the strips (or sheets).

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 그 스트립 (또는 시트) 주변에 유해한 파의 다수의 파면을 식별하는 단계; 그 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 적어도 하나의 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 그 스트립 (또는 시트) 의 파면과 유사한 (또는 동일한) 다수의 파면과 함께 그러한 카운터 파를 그 카운터 유닛으로부터 방출하고, 그에 의해, 그 카운터 파로 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 가질 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method includes identifying a plurality of wavefronts of harmful waves around the strip (or sheet); Placing at least one counter unit along at least one of the wavefronts; And releasing such counter waves from the counter unit with a plurality of wavefronts similar (or identical) to those of the strip (or sheet), thereby countering the harmful waves with the counter wave.

본 발명의 또 다른 양태에서, 루멘을 갖는 적어도 하나의 환상 튜브로서 형성된 적어도 하나의 파원으로부터 조사되는 유해한 전자기파를 카운터 전자기파를 방출함으로써 카운터링하는 방법이 제공될 수도 있다.In another aspect of the invention, a method may be provided for countering harmful electromagnetic waves emitted from at least one wave source formed as at least one annular tube having lumens by emitting counter electromagnetic waves.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 방법은, 그 제 1 제공 단계; 와이어, 스트립 또는 시트로서 카운터 유닛을 형성하는 단계; 튜브를 따라 및 그 튜브에 근접하여 그 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 카운터 파에 의해 유해한 파를 카운터링하기 위해 그 카운터 유닛에 의하여 그 카운터 파를 방출하는 동안, 그 튜브의 파원 및 그 카운터 유닛에 전류를 반대 방향을 따라 공급하는 단계 (이하, '제 3 공급 단계' 로 지칭됨) 를 포함할 수도 있다. 그러한 배치 단계는, 그 튜브 주변 및 그 튜브에 근접하여 그 카운터 유닛을 편조하는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method comprises: a first providing step; Forming a counter unit as a wire, strip or sheet; Placing the counter unit along and in proximity to the tube; And supplying current in the opposite direction to the wave source of the tube and the counter unit while releasing the counter wave by the counter unit to counter the harmful wave by the counter wave (hereinafter referred to as 'third supply' May be referred to as 'step'. Such placement step may be replaced by braiding the counter unit around and close to the tube.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 각각이 와이어, 스트립 또는 시트로서 형성된 다수의 카운터 유닛을 제공하는 단계; 튜브 주변 및 그 튜브에 근접하여 그 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 그 제 3 공급 단계를 가질 수도 있다. 상기 배치 단계는, 그 튜브 주변 및 그 튜브에 근접하여 각각의 카운터 유닛을 동일한 또는 상이한 방향으로 편조하는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method includes providing a plurality of counter units, each formed as a wire, strip or sheet; Placing the counter unit around the tube and proximate the tube; And its third supply step. The placing step may be replaced by braiding each counter unit in the same or different direction around and close to the tube.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 방법은, 그 제 1 공급 단계; 적어도 하나의 와이어 또는 스트립으로서 카운터 유닛을 형성하는 단계; 튜브의 루멘내에 그 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 그 제 3 공급 단계를 가질 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method comprises: a first feeding step; Forming a counter unit as at least one wire or strip; Placing the counter unit in the lumen of the tube; And its third supply step.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 그 제 1 공급 단계; 적어도 하나의 코일 또는 나선으로서 카운터 유닛을 형성하는 단계; 튜브 주변에 그 카운터 유닛을 감는 단계; 및 그 제 3 공급 단계를 가질 수도 있다. 상기 형성 단계 및 감는 단계는, 시트 및 메시 중 하나로 카운터 유닛을 형성하고, 그 후, 그 튜브 주변에 그 카운터 유닛을 감는 단계; 루멘을 갖는 더 큰 튜브로 카운터 유닛을 형성하고, 그 후, 그 카운터 유닛의 루멘내에 그 튜브를 배치시키는 단계; 및 루멘을 갖는 더 작은 튜브로 카운터 유닛을 형성하고, 그 후, 그 튜브의 루멘내에 그 카운터 유닛을 배치시키는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method comprises: a first feeding step; Forming a counter unit as at least one coil or spiral; Winding the counter unit around the tube; And its third supply step. The forming and winding steps may include forming a counter unit with one of a sheet and a mesh, and then winding the counter unit around the tube; Forming a counter unit with a larger tube having lumens, and then placing the tube within the lumen of the counter unit; And forming a counter unit with a smaller tube having lumens, and then placing the counter unit within the lumen of the tube.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 튜브 주변에 형성된 유해한 파의 다수의 파면을 식별하는 단계; 그 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 적어도 하나의 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 그 후, 그 튜브의 파면과 유사한 (또는 동일한) 다수의 파면을 갖는 카운터 파를 그 카운터 유닛에 의해 방출하고, 그에 의해, 그 카운터 파로 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 가질 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method includes identifying a plurality of wavefronts of harmful waves formed around the tube; Placing at least one counter unit along at least one of the wavefronts; And thereafter, releasing by the counter unit a counter wave having a plurality of wavefronts similar (or identical) to that of the tube, thereby countering the harmful wave with the counter wave.

본 발명의 또 다른 양태에서, 카운터 전자기파를 방출하기 위해, 적어도 하 나의 곡선형 코일로 형성된 적어도 하나의 파원으로부터 조사되는 유해한 전자기파를 카운터링하는 방법이 제공될 수도 있다.In another aspect of the present invention, a method may be provided for countering harmful electromagnetic waves emitted from at least one wave source formed of at least one curved coil to emit counter electromagnetic waves.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 방법은, 그 제 1 제공 단계; 서로 인접한 그러한 코일의 반대 말단을 배치시킴으로써 토로이드로 카운터 유닛을 형성하는 단계; 그 코일에 전류를 공급하는 단계; 및 카운터 파에 의해 유해한 파를 카운터링하기 위해 그 카운터 유닛에 의하여 그 카운터 파를 방출하는 동안, 그 코일의 파원 및 그 카운터 유닛에 전류를 반대 방향을 공급하는 단계 (이하, '제 4 공급 단계' 로 지칭됨) 를 포함할 수도 있다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method comprises: a first providing step; Forming a counter unit with a toroid by placing opposite ends of such coils adjacent to each other; Supplying current to the coil; And supplying a current in the opposite direction to the wave source of the coil and the counter unit while releasing the counter wave by the counter unit for countering harmful waves by the counter wave (hereinafter, 'fourth supplying step'). Referred to as').

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 그 제 1 제공 단계; 기본 유닛의 코일보다 작은 와이어, 스트립 또는 나선으로서 카운터 유닛을 형성하는 단계; 그 카운터 유닛 주변에 그러한 기본 유닛의 코일을 감는 단계; 및 그 제 4 공급 단계를 가질 수도 있다. 상기 형성 단계 및 감는 단계는 그 기본 유닛의 코일보다 작은 또 다른 코일로서 그 카운터 유닛을 형성하는 단계; 및 그 카운터 유닛 주변에 그 기본 유닛의 코일을 감는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method comprises: a first providing step; Forming a counter unit as a wire, strip or helix that is smaller than the coil of the base unit; Winding coils of such base unit around the counter unit; And its fourth supply step. The forming and winding steps may include forming the counter unit as another coil smaller than the coil of the base unit; And winding the coil of the base unit around the counter unit.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 방법은, 그 제 1 제공 단계; 또 다른 코일로서 카운터 유닛을 형성하는 단계; 카운터 유닛 및 기본 유닛의 코일들을 서로 인접하게 배치시키는 단계; 및 그 제 4 공급 단계를 포함할 수도 있다. 그러한 배치 단계는, 카운터 유닛 및 기본 유닛의 코일들을 편조하는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method comprises: a first providing step; Forming a counter unit as another coil; Placing the coils of the counter unit and the base unit adjacent to each other; And a fourth supply step thereof. Such an arrangement step may be replaced by braiding the coils of the counter unit and the base unit.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 방법은, 그러한 코일 주변에 형성된 유해한 파의 다수의 파면을 식별하는 단계; 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 적어도 하나의 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 그 후, 튜브의 파면과 유사한 (또는 동일한) 다수의 파면을 갖는 그러한 카운터 파를 그 카운터 유닛에 의해 방출하고, 그에 의해, 그 카운터 파로 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 가질 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the method includes identifying a plurality of wavefronts of harmful waves formed around such coils; Placing at least one counter unit along at least one of the wavefronts; And then releasing, by the counter unit, such counter waves having multiple wavefronts similar (or identical) to the wavefront of the tube, thereby countering the harmful waves with the counter wave.

본 발명의 그러한 방법 양태들의 실시형태들은 다음의 특성들 중 하나 이상을 포함할 수도 있으며, 또한, 상기 방법들의 구성 및/또는 동작 변경 및/또는 변형은 본 발명의 범위내에 있다.Embodiments of such method aspects of the present invention may include one or more of the following features, and configuration and / or operational changes and / or variations of the methods are within the scope of the present invention.

그러한 카운터링 단계는 유해한 파를 카운터링하지만 가청파를 보호하는 단계를 포함할 수도 있다. 그 카운터링 단계는, 유해한 파의 적어도 일부가 타겟 공간을 향해 전달하는 것을 카운터 파에 의하여 억제하는 단계; 그 타겟 공간에서 그 카운터 파에 의해 그 유해한 파의 일부를 소거하는 단계, 등 중 적어도 하나의 단계를 포함할 수도 있다. 또한, 그 카운터링 단계는, 약 50Hz 내지 60Hz 미만인 주파수의 유해한 파를 카운터링하는 단계; 약 300Hz 미만인 주파수를 정의하는 유해한 파를 카운터링하는 단계; 및 약 1kHz 미만인 주파수의 유해한 파를 카운터링하는 단계 중 적어도 하나의 단계를 포함할 수도 있다. 또한, 카운터링 단계는, 약 10kHz 미만인 주파수를 갖는 그러한 유해한 파를 카운터링하는 단계; 약 100kHz 미만인 주파수의 유해한 파를 카운터링하는 단계; 약 1MHz, 10MHz, 100MHz, 1GHz, 10GHz, 100GHz, 1THz 등 미만인 주파수를 갖는 유해한 파를 카운터링하는 단 계 중 적어도 하나의 단계를 포함할 수도 있다. 그 카운터링 단계는, 미리 설정된 주파수 범위의 일부에서만 유해한 파를 카운터링하면서 그 주파수 범위의 나머지를 보호하는 단계; 유해한 파의 자기파를 카운터링하는 단계; 유해한 파의 전체 부분을 카운터링하는 단계 등 중 적어도 하나의 단계를 포함할 수도 있다.Such countering steps may include countering harmful waves but protecting the audible wave. The countering step includes: inhibiting, by the counter wave, at least a portion of the harmful wave propagating toward the target space; At least one of erasing a portion of the harmful wave by the counter wave in the target space, and the like. The countering step may also include countering harmful waves at frequencies that are less than about 50 Hz to less than 60 Hz; Countering harmful waves defining a frequency that is less than about 300 Hz; And countering harmful waves of frequencies below about 1 kHz. The countering step may also include countering such harmful waves having a frequency less than about 10 kHz; Countering harmful waves at frequencies below about 100 kHz; It may include at least one of the steps of countering harmful waves having frequencies less than about 1 MHz, 10 MHz, 100 MHz, 1 GHz, 10 GHz, 100 GHz, 1 THz, and the like. The countering step may include: protecting the remainder of the frequency range while countering harmful waves only in a portion of the preset frequency range; Countering the magnetic waves of harmful waves; And at least one of countering the entire portion of the harmful wave.

그 영향을 주는 단계는, 영구 자석을 포함하는 단계; 전압을 인가하는 단계; 전류를 흐르게 하는 단계 등 중 적어도 하나의 단계를 포함할 수도 있다. 그러한 확장 단계는, 카운터 유닛의 길이를 따라 그 카운터 유닛을 연장시키는 단계; 카운터 유닛의 폭을 따라 그 카운터 유닛을 넓히는 단계 등 중 적어도 하나의 단계를 포함할 수도 있다. 그 제공 단계는, 와이어, 스트립, 시트, 튜브, 코일, 나선 및 메시 중 적어도 하나의 형상으로 카운터 유닛을 형성하는 단계; 그 형상들의 혼합, 그 형상들의 결합, 및 그 형상들의 어레이로 그 카운터 유닛을 형성하는 단계 등 중 적어도 하나의 단계를 포함할 수도 있다. 그 형성 단계는, 카운터 유닛의 다수의 와이어의 어레이 (또는 번들) 에 의해 그러한 기본 유닛의 적어도 일부를 둘러싸는 단계; 카운터 유닛의 다수의 스트립의 어레이 (또는 번들) 에 의해 기본 유닛의 일부를 둘러싸는 단계; 카운터 유닛의 다수의 시트의 어레이 (또는 번들) 에 의해 기본 유닛의 일부를 둘러싸는 단계; 카운터 유닛의 다수의 튜브의 어레이 (또는 번들) 에 의해 기본 유닛의 일부를 둘러싸는 단계; 기본 유닛의 일부를 카운터 유닛의 적어도 하나의 코일로 감는 단계; 다수의 코일의 어레이 (또는 번들) 로 기본 유닛의 일부를 감는 단계; 및 카운터 유닛의 적어도 하나의 환상 메시로 기본 유닛의 일부를 둘러싸는 단계 중 적어도 하나의 단계를 포함할 수도 있다. 또한, 그러한 카운터 유닛 형성 단계는, 카운터 유닛의 적어도 일부에 대해 단일 와이어를 확장시키는 단계; 그 일부에 대해 다수의 와이어의 어레이 (또는 번들) 을 확장시키는 단계; 그 일부에 대해 단일 스트립을 확장시키는 단계; 그 일부에 대해 다수의 스트립의 어레이 (또는 번들) 를 확장시키는 단계; 그 일부에 대해 단일 시트를 확장시키는 단계; 그 일부에 대해 다수의 시트의 어레이 (또는 번들) 를 확장시키는 단계; 그 일부에 대해 단일 튜브를 확장시키는 단계; 그 일부에 대해 다수의 튜브의 번들 (또는 어레이) 을 확장시키는 단계; 그 일부에 대해 단일 코일을 감는 단계; 그 일부에 대해 다수의 코일의 번들 (또는 어레이) 을 감는 단계; 그 일부에 대해 단일 환상 메시를 확장시키는 단계; 및 그 일부에 대해 다수의 환상 메시의 어레이 (또는 번들) 를 확장시키는 단계 중 적어도 하나의 단계를 포함할 수도 있다.The affecting step includes the step of including a permanent magnet; Applying a voltage; It may also include at least one step of flowing a current. Such expanding may include extending the counter unit along the length of the counter unit; It may include at least one of the steps, such as widening the counter unit along the width of the counter unit. The providing step includes forming a counter unit in the shape of at least one of a wire, strip, sheet, tube, coil, spiral and mesh; At least one of mixing the shapes, combining the shapes, forming the counter unit with the array of shapes, and the like. The forming step includes surrounding at least a portion of such base unit by an array (or bundle) of a plurality of wires of the counter unit; Enclosing a portion of the base unit by an array (or bundle) of a plurality of strips of the counter unit; Enclosing a portion of the base unit by an array (or bundle) of a plurality of sheets of counter units; Enclosing a portion of the base unit by an array (or bundle) of a plurality of tubes of the counter unit; Winding a portion of the base unit into at least one coil of the counter unit; Winding a portion of the base unit into an array (or bundle) of a plurality of coils; And surrounding at least one portion of the base unit with at least one annular mesh of the counter unit. In addition, forming the counter unit includes: extending a single wire for at least a portion of the counter unit; Expanding the array (or bundle) of the plurality of wires over a portion thereof; Expanding a single strip over a portion thereof; Expanding the array (or bundle) of the plurality of strips over a portion thereof; Expanding a single sheet to a portion thereof; Expanding the array (or bundle) of the plurality of sheets over a portion thereof; Expanding a single tube to a portion thereof; Expanding the bundle (or array) of the plurality of tubes relative to the portion thereof; Winding a single coil over a portion thereof; Winding a bundle (or array) of a plurality of coils over a portion thereof; Expanding a single annular mesh over a portion thereof; And extending the array (or bundle) of the plurality of annular meshes for a portion thereof.

그 제공 단계는, 기본 유닛을 통해 카운터 유닛을 노출시키는 단계; 기본 유닛 아래 (또는 내에) 카운터 유닛을 은폐하는 단계 등 중 적어도 하나의 단계를 포함할 수도 있다. 그 제공 단계는, 카운터 유닛을 고정적으로 배치시키는 단계; 카운터 유닛을 이동가능하게 배치시키는 단계 등 중 적어도 하나의 단계를 포함할 수도 있다. 그 제공 단계는, 동일한 재료의 기본 및 카운터 유닛을 형성하는 단계; 상이한 재료의 기본 및 카운터 유닛을 형성하는 단계; 그 기본 및 카운터 유닛에서 모든 재료는 아니지만 그 재료 중 적어도 하나를 포함하는 단계 등 중 적어도 하나의 단계를 포함할 수도 있다. 그 제공 단계는, 유사한 (또는 동일한) 공진 주파수를 갖도록 기본 및 카운터 유닛을 배열하는 단계; 상이한 공진 주파수 를 정의하도록 기본 및 카운터 유닛을 배열하는 단계 등 중 적어도 하나의 단계를 포함할 수도 있다.The providing step includes exposing the counter unit through the base unit; And at least one of concealing the counter unit below (or within) the base unit. The providing step includes the step of fixedly placing the counter unit; It may also include at least one of the steps, such as arranging the counter unit to be movable. The providing step includes forming a base and a counter unit of the same material; Forming base and counter units of different materials; It may include at least one of the steps including at least one of the materials, but not all of the materials in the base and counter units. The providing step includes arranging the base and counter units to have similar (or same) resonant frequencies; It may include at least one of arranging the base and counter units to define different resonant frequencies.

그 배치 단계는, 기본 유닛에 관해 측면으로 (또는 나란히) 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 그 유닛들의 또 다른 유닛으로 카운터 유닛 및 기본 유닛 중 적어도 하나의 유닛을 둘러싸는 단계; 그 기본 유닛 및 카운터 유닛을 축 방향으로 정렬시키는 단계 등 중 적어도 하나의 단계를 포함할 수도 있다. 그러한 둘러싸는 단계는, 기본 유닛 (또는 소스) 위에 (또는 주변에) 간접적으로 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 기본 유닛 (또는 소스) 상에 (또는 주변에) 직접적으로 카운터 유닛을 배치시키는 단계 등 중 적어도 하나의 단계를 포함할 수도 있다. 또한, 그 둘러싸는 단계는, 카운터 유닛 중 적어도 2개의 유닛을 동심으로 배열하는 단계; 직렬 모드, 병렬 모드, 및 하이브리드 모드 중 어느 한 모드에서 카운터 유닛들을 전기적으로 커플링시키는 단계 등 중 적어도 하나의 단계를 포함할 수도 있다. 그 정렬 단계는, 기본 유닛의 종축으로 카운터 유닛을 정렬시키는 단계; 기본 유닛의 단축으로 카운터 유닛을 정렬시키는 단계; 기본 유닛에 흐르는 전류 (또는 그 기본 유닛에 인가된 전압) 의 방향으로 카운터 유닛을 정렬시키는 단계; 유해한 파의 전파 방향으로 카운터 유닛을 정렬시키는 단계 등 중 적어도 하나의 단계를 포함할 수도 있다.The disposing step includes disposing the counter unit laterally (or side by side) with respect to the base unit; Surrounding at least one of the counter unit and the base unit with another unit of the units; At least one of the step of aligning the base unit and the counter unit in the axial direction, and the like. Such enveloping may include placing the counter unit indirectly above (or around) the base unit (or source); The method may include at least one of disposing a counter unit directly on (or around) the base unit (or source). The enclosing step may also include: concentrically arranging at least two units of the counter units; And electrically coupling the counter units in any of the serial mode, parallel mode, and hybrid mode. The alignment step includes aligning the counter unit with the longitudinal axis of the base unit; Aligning the counter units with a shortening of the base unit; Aligning the counter unit in the direction of a current flowing in the base unit (or a voltage applied to the base unit); And at least one step of aligning the counter unit in the propagation direction of the harmful wave.

그 카운터 유닛을 구성하는 단계는, 카운터 유닛의 형상을 제어하는 단계; 카운터 유닛의 사이즈를 제어하는 단계; 카운터 유닛의 배열을 제어하는 단계 등 중 적어도 하나의 단계를 포함할 수도 있다. 그 배치 단계는, 기본 유닛 (또는 타겟 공간) 에 관해 그러한 카운터 유닛의 배향을 제어하는 단계; 그 기본 유닛에 관해 카운터 유닛의 정렬을 제어하는 단계; 카운터 유닛과 기본 유닛 (또는 타겟 공간) 사이의 제 1 거리를 제어하는 단계; 카운터 유닛들 사이의 제 2 거리를 제어하는 단계 중 적어도 하나의 단계를 포함할 수도 있다.Configuring the counter unit includes controlling the shape of the counter unit; Controlling the size of the counter unit; It may include at least one step of controlling the arrangement of the counter unit. The disposing step includes controlling the orientation of such counter unit with respect to the base unit (or target space); Controlling the alignment of the counter unit with respect to the base unit; Controlling a first distance between the counter unit and the base unit (or target space); It may comprise at least one of the step of controlling the second distance between the counter units.

그 방출 단계는, 카운터 파 및 유해한 파가 적어도 부분적으로 반대인 방향을 따라 전파할 때, 그 유해한 파의 위상각과 적어도 유사하도록 카운터 파의 위상각을 제어하는 단계; 카운터 파 및 유해한 파가 적어도 유사한 방향을 따라 전파할 때, 그 유해한 파의 위상각과 적어도 반대이도록 카운터 파의 위상각을 제어하는 단계; 및 카운터 파 및 유해한 파가 서로 횡단하는 방향으로 전파할 때, 그 유해한 파의 위상각에 횡단하도록 카운터 파의 위상각을 제어하는 단계 중 적어도 하나의 단계를 가질 수도 있다. 그러한 방출 단계는, 타겟 공간에서 측정될 때, 유해한 파의 진폭보다 크도록 (또는 작도록) 카운터 파의 진폭을 조작하는 단계; 기본 유닛에서 측정될 때, 유해한 파의 진폭과 유사 (또는 동일) 하도록 카운터 파의 진폭을 조작하는 단계 등 중 적어도 하나의 단계를 포함할 수도 있다. 그 방출 단계는, 유해한 파와 동일한 방향으로 카운터 파를 전파하는 단계; 그러한 기본 유닛 각각에 의해 조사된 유해한 파의 방향과 상이한 방향이지만, 그 기본 유닛으로부터의 유해한 파의 합산의 방향과는 동일한 방향으로 카운터 파를 전파하는 단계 중 하나의 단계를 포함할 수도 있다. 그 방출 단계는, 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 (또는 실질적으로) 반대이도록 카운터 파의 위상각을 조작하는 단계를 포함할 수도 있다.The emitting step includes controlling the phase angle of the counter wave to be at least similar to the phase angle of the harmful wave when the counter wave and the harmful wave propagate in at least partially opposite directions; When the counter wave and the harmful wave propagate in at least a similar direction, controlling the phase angle of the counter wave to be at least opposite to the phase angle of the harmful wave; And controlling the phase angle of the counter wave to cross the phase angle of the harmful wave when the counter wave and the harmful wave propagate in directions crossing each other. Such emission step may include manipulating the amplitude of the counter wave to be greater than (or less than) the harmful wave when measured in the target space; When measured in the base unit, it may include at least one of manipulating the amplitude of the counter wave to be similar (or identical) to the harmful wave amplitude. The emitting step includes propagating a counter wave in the same direction as the harmful wave; It may comprise one of the steps of propagating the counter wave in a direction different from the direction of the harmful wave irradiated by each such base unit, but in the same direction as the direction of the sum of the harmful waves from the base unit. The discharging step may include manipulating the phase angle of the counter wave to be at least partially (or substantially) opposite the phase angle of the harmful wave.

또한, 그 방법은, 기본 유닛의 전체 부분에 전류를 흐르게 하는 단계; 기본 유닛의 일부에만 전류를 흐르게 하는 단계; 기본 유닛의 전체 부분에 그러한 전압을 인가하는 단계; 기본 유닛의 일부에만 그러한 전압을 인가하는 단계 중 하나의 단계를 포함할 수도 있다. 그 방법은, 기본 (또는 카운터) 유닛을 통해 단일 방향으로 전류를 흐르게 하는 단계; 기본 (또는 카운터) 유닛의 상이한 부분에 상이한 방향을 따라 그러한 전류를 흐르게 하는 단계; 기본 (또는 카운터) 유닛을 통해 단일 방향으로 그러한 전압을 인가하는 단계; 기본 (또는 카운터) 유닛의 상이한 부분을 따라 상이한 방향으로 그러한 전압을 인가하는 단계 등 중 하나의 단계를 포함할 수도 있다. 그 방법은 유해한 파를 위해 다수의 기본 유닛을 제공하는 단계를 포함할 수도 있으며, 그 흐르게 하는 단계는, 동일한 방향을 따라 동일한 진폭을 갖는 전류를 모든 기본 (또는 카운터) 유닛에 흐르게 하는 단계; 기본 (또는 카운터) 유닛을 따라 상이한 방향으로 동일한 진폭의 전류를 흐르게 하는 단계; 동일한 방향으로 상이한 진폭의 전류를 모든 기본 (또는 카운터) 유닛에 흐르게 하는 단계; 상이한 방향으로 상이한 진폭의 전류를 기본 (또는 카운터) 유닛에 흐르게 하는 단계 등 중 하나의 단계를 포함할 수도 있다. 그 방법은 유해한 파를 위해 다수의 기본 유닛을 제공하는 단계를 포함할 수도 있으며, 그 인가 단계는, 동일한 방향을 따라 동일한 진폭을 갖는 전압을 모든 기본 (또는 카운터) 유닛에 인가하는 단계; 기본 (또는 카운터) 유닛을 따라 상이한 방향으로 동일한 진폭의 전압을 인가하는 단계; 동일한 방향으로 상이한 진폭의 전압을 모든 기본 (또는 카운터) 유닛에 인가하는 단계; 상이한 방향으로 상이한 진폭의 전압을 기본 (또는 카운터) 유닛에 인가하는 단계 등 중 하나의 단계를 포함할 수도 있다.The method also includes flowing a current through the entire portion of the base unit; Flowing current only in a portion of the base unit; Applying such voltage to the entire portion of the base unit; It may comprise one of the steps of applying such a voltage to only part of the base unit. The method includes flowing current in a single direction through the base (or counter) unit; Flowing such current along different directions to different portions of the base (or counter) unit; Applying such voltage in a single direction through a base (or counter) unit; And applying one of such voltages in different directions along different parts of the base (or counter) unit. The method may include providing a plurality of base units for harmful waves, the flowing step comprising: flowing a current having the same amplitude in all base (or counter) units along the same direction; Flowing a current of the same amplitude in different directions along the base (or counter) unit; Flowing currents of different amplitude in all base (or counter) units in the same direction; It may include one of the steps such as flowing a current of different amplitude to the base (or counter) unit in a different direction. The method may include providing a plurality of base units for harmful waves, the applying step comprising applying a voltage having the same amplitude to all the base (or counter) units along the same direction; Applying a voltage of equal amplitude in different directions along the base (or counter) unit; Applying voltages of different amplitude to all base (or counter) units in the same direction; One of the steps of applying a voltage of different amplitude to the base (or counter) unit in a different direction.

그러한 흐르게 하는 단계는, 동일한 (또는 상이한) 진폭의 전류를 카운터 유닛에 흐르게 하는 단계; 기본 유닛에 공급된 전류로부터 유도되지 않고 기본 유닛에 공급된 전류의 시간 패턴과 적어도 부분적으로 유사한 시간 패턴을 가질 수도 있는 또 다른 전류를 카운터 유닛에 흐르게 하는 단계; 기본 유닛으로의 전류로부터 유도되지 않고 기본 유닛으로의 전류의 시간 패턴과 상이한 시간 패턴을 가질 수도 있는 또 다른 전류를 카운터 유닛을 통해 흐르게 하는 단계 등 중 하나의 단계를 포함할 수도 있다. 그러한 전류를 흐르게 하는 단계는, 기본 유닛 그 후 카운터 유닛에 그러한 전류를 흐르게 하는 단계; 카운터 유닛 그 후 기본 유닛에 전류를 흐르게 하는 단계; 기본 및 카운터 유닛에 적어도 동시에 그러한 전류를 흐르게 하는 단계 등 중 하나의 단계를 포함할 수도 있다.Such flowing includes flowing a current of the same (or different) amplitude to the counter unit; Flowing another current to the counter unit that is not derived from the current supplied to the base unit and may have a time pattern that is at least partially similar to the time pattern of the current supplied to the base unit; It may include one of the steps of flowing through the counter unit another current which may not have been derived from the current into the base unit and may have a different time pattern than the time pattern of the current into the base unit. Flowing such current comprises: flowing such current to a base unit and then a counter unit; Flowing a current through the counter unit and then the base unit; It may comprise one of the steps such as flowing such current at least simultaneously to the base and counter units.

본 발명의 또 다른 양태에서, 카운터 전자기파를 방출함으로써, 그러한 카운터 유닛의 형상을 제어함으로써, 및 유해한 파가 타겟 공간을 향해 전파하는 것을 억제하는 것 및 그 타겟 공간에서 그 카운터 파에 의해 유해한 파를 소거하는 것 중 적어도 하나에 의하여, 적어도 하나의 파원의 적어도 하나의 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 전자기파를 카운터 파에 의해 카운터링하는 시스템이 제공될 수도 있으며, 여기서, 그러한 기본 유닛은, 그 유해한 파를 조사하고 그것을 통해 그 유해한 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 소스의 일부만을 포함하도록 구성되고, 그 타겟 공간은 그 시스템과 사용자 사이에 정의된다.In another aspect of the present invention, by emitting counter electromagnetic waves, controlling the shape of such counter units, and suppressing harmful waves from propagating toward the target space, and generating harmful waves by the counter waves in the target space. By at least one of canceling, a system may be provided for countering, by counter waves, harmful electromagnetic waves irradiated from at least one base unit of at least one wave source, wherein such base unit is capable of detecting the harmful waves. It is configured to contain only the portion of the source that is responsible for investigating and affecting the path of the harmful wave through it, the target space being defined between the system and the user.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 그러한 시스템은, 기본 유닛의 폭보다 더 긴 폭을 갖도록 적어도 하나의 카운터 유닛을 배열시키는 단계; 유해한 파의 파면의 적어도 일부로 카운터 유닛의 폭을 정렬시키는 동안 파원과 사용자 사이에 그 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 그 유해한 파와 유사한 파 특성을 정의하지만 그 유해한 파와 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖는 그러한 카운터 파를 방출하도록 그 카운터 유닛을 구성하는 단계; 및 그 타겟 공간에서 그 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링하기 위해 카운터 파를 타겟 공간을 향해 전파하도록 그 카운터 유닛을 정렬시키는 단계 (이하, '제 1 정렬 단계' 로 지칭됨) 를 포함하는 프로세스에 의해 제작될 수도 있다. 그러한 정렬 단계 및 배치 단계는, 기본 유닛보다 협소한 폭을 정의하도록 적어도 하나의 카운터 유닛을 배열시키는 단계; 및 유해한 파의 파면의 적어도 일부로 그 카운터 유닛의 폭을 정렬시키는 동안, 파원에 관해 타겟 공간의 반대측상에 그 카운터 유닛을 배치시키는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, such a system comprises: arranging at least one counter unit to have a width that is longer than the width of the base unit; Placing the counter unit between the wave source and the user while aligning the width of the counter unit with at least a portion of the wavefront of the harmful wave; Configuring the counter unit to emit a counter wave that defines a wave characteristic similar to the harmful wave but has a phase angle that is at least partially opposite to the harmful wave; And aligning the counter unit to propagate the counter wave toward the target space to counter the harmful wave by the counter wave in the target space (hereinafter referred to as 'first alignment step'). It may be produced by a process. Such alignment and placement steps include: arranging at least one counter unit to define a narrower width than the base unit; And disposing the counter unit on the opposite side of the target space with respect to the wave source, while aligning the width of the counter unit with at least a portion of the wavefront of the harmful wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 유해한 파의 다수의 파면을 식별하는 단계; 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상을 갖고, 또한, 기본 유닛으로부터의 미리 설정된 거리에 배치될 때 그 유해한 파의 파면에 매칭할 수 있는 다수의 파면을 정의하는 카운터 파를 방출하도록 단일 카운터 유닛을 구성하는 단계; 그 기본 유닛으로부터의 그 거리에 그 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 그 제 1 정렬 단계를 포함하는 프로세스에 의해 제작될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, a system includes: identifying a plurality of wavefronts of a harmful wave; To emit a counter wave that has a phase that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave and that defines a plurality of wavefronts that, when placed at a predetermined distance from the base unit, can match the wavefront of the harmful wave; Configuring a counter unit; Placing the counter unit at that distance from the base unit; And a first alignment step thereof.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 적어도 2개의 카운터 유닛을 제공하는 단계; 유사한 (또는 동일한) 위상각을 정의하고, 각각이 카운터 유닛에 의해 생성된 적어도 2개의 파면의 합산에 대응하는 다수의 파면의 제 1 세트를 갖는 카운터 파를 방출하도록 그러한 카운터 유닛을 구성하는 단계; 그 제 1 세트의 파면 각각의 곡률 반경에서의 증가와, 그러한 카운터 유닛들 간의 거리 사이의 관계를 발견하는 단계; 유해한 파의 다수의 파면의 제 2 세트를 식별하는 단계; 기본 유닛으로부터의 미리 설정된 거리에 배치될 때, 그 제 2 세트의 파면의 곡률 반경과 그 제 1 세트의 파면의 곡률 반경을 매칭하도록 카운터 유닛을 구성하는 단계; 그 거리에 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 그 후, 그 제 1 정렬 단계를 포함하는 프로세스에 의해 제작될 수도 있다. 또한, 상기 구성 단계 및 발견 단계는, 적어도 부분적으로 반대인 위상각, 및 각각이 카운터 유닛에 의해 생성된 적어도 2개의 파면의 합산에 대응하는 다수의 파면의 제 1 세트를 정의하는 카운터 파를 방출하도록 그 카운터 유닛을 구성하는 단계; 및 그 제 1 세트의 파면 각각의 곡률 반경에서의 감소와, 카운터 유닛들 간의 거리 사이의 관계를 발견하는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, a system comprises: providing at least two counter units; Configuring such counter units to define similar (or identical) phase angles and emit counter waves each having a first set of multiple wavefronts corresponding to the summation of at least two wavefronts generated by the counter unit; Finding a relationship between an increase in the radius of curvature of each of the first set of wavefronts and the distance between such counter units; Identifying a second set of multiple wavefronts of harmful waves; When arranged at a predetermined distance from the base unit, configuring the counter unit to match the radius of curvature of the second set of wavefronts with the radius of curvature of the first set of wavefronts; Placing a counter unit at that distance; And then thereafter, by a process comprising the first alignment step. In addition, the constructing and discovering steps emit counter waves that define at least partially opposite phase angles and a first set of multiple wavefronts, each corresponding to the sum of at least two wavefronts generated by the counter unit. Configuring the counter unit to perform; And finding the relationship between the reduction in the radius of curvature of each of the first set of wavefronts and the distance between the counter units.

본 발명의 또 다른 양태에서, 카운터 전자기파를 방출함으로써, 그 카운터 파에 의해 기본 유닛의 적어도 하나의 특성에 매칭함으로써, 및 타겟 공간에서 그 카운터 파로 유해한 파를 소거하는 것 및 그 유해한 파가 그 타겟 공간을 향해 전파하는 것을 억제하는 것 중 적어도 하나에 의하여, 적어도 하나의 파원의 적어도 하나의 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 전자기파를 그러한 카운터 파에 의해 카운터링하는 시스템이 제공될 수도 있으며, 여기서, 그러한 기본 유닛은 그 유해한 파를 조사하고 그것을 통해 그 유해한 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 소스의 일부만을 포함하도록 구성되지만, 그 타겟 경로는 그 시스템과 사용자 사이에 정의된다.In another aspect of the invention, by emitting a counter electromagnetic wave, by matching the at least one characteristic of the base unit by the counter wave, and eliminating the harmful wave with the counter wave in the target space and the harmful wave is the target By at least one of inhibiting propagation toward space, a system may be provided for countering harmful electromagnetic waves radiated from at least one base unit of at least one wave source by such counter waves, wherein such base waves are present. The unit is configured to include only the portion of the source that is responsible for investigating the harmful wave and affecting the harmful wave path through it, but the target path is defined between the system and the user.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 그러한 시스템은, 기본 유닛의 그러한 특성에 매칭하도록 적어도 하나의 카운터 유닛을 배열시키는 단계; 그 배열 단계로 인해 유해한 파와 유사 (또는 동일) 하지만 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖는 카운터 파를 방출하도록 그 카운터 유닛을 구성하는 단계 (이하, '제 2 카운터링 단계' 로 지칭됨); 및 그 제 1 정렬 단계를 포함하는 프로세스에 의해 제작될 수도 있다. 상기 배열 단계는, 그 특성을 적어도 최소로 유지하면서 기본 유닛의 구성보다 더 간단한 구성을 정의하도록 적어도 하나의 카운터 유닛을 배열시키는 단계; 그러한 특성을 적어도 최소로 유지하면서 기본 유닛의 구성보다 더 복잡한 구성을 정의하도록 적어도 하나의 카운터 유닛을 배열시키는 단계; 그 특성을 적어도 최소로 유지하면서 기본 유닛보다 더 적은 수의 유닛 축에 의해 정의된 차원을 갖도록 적어도 하나의 카운터 유닛을 배열시키는 단계; 및 그 특성을 적어도 최소로 유지하면서 기본 유닛의 차원보다 더 큰 수의 유닛 축에 의해 정의된 차원을 갖도록 적어도 하나의 카운터 유닛을 배열시키는 단계 중 하나의 단계에 의해 대체될 수도 있다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, such a system comprises: arranging at least one counter unit to match such a characteristic of a base unit; Configuring the counter unit to emit a counter wave having a phase angle that is similar (or identical) to the harmful wave but at least partially opposite the phase angle of the harmful wave (hereinafter, 'second countering step'). Referred to as; And a first alignment step thereof. The arranging step includes the steps of: arranging at least one counter unit to define a configuration that is simpler than that of the base unit while maintaining its characteristics at least; Arranging at least one counter unit to define a configuration that is more complex than the configuration of the base unit while at least maintaining such characteristics; Arranging the at least one counter unit to have a dimension defined by fewer unit axes than the base unit while keeping its characteristics at least minimal; And arranging at least one counter unit to have a dimension defined by a larger number of unit axes than the dimension of the base unit while keeping its characteristics at least minimal.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 그 특성을 유지하면서 단일 기본 유닛의 구성보다 더 간단한 구성을 정의하도록 단일 카운터 유닛을 배열시키는 단계; 그 제 2 카운터링 단계; 및 그 제 1 정렬 단계를 포 함하는 프로세스에 의해 제작될 수도 있다. 상기 배열 단계는, 그러한 특성을 유지하면서 다수의 기본 유닛의 배열과 유사한 (또는 동일한) 구성을 정의하도록 단일 카운터 유닛을 배열시키는 단계; 그 특성을 유지하면서 다수의 기본 유닛의 배열보다 더 적은 상호 직교인 유닛 축에 의해 형성된 차원을 정의하도록 단일 카운터 유닛을 배열시키는 단계; 및 그 특성을 유지하면서 다수의 기본 유닛의 차원보다 더 많은 상호 직교인 유닛 축에 의해 형성된 차원을 정의하도록 단일 카운터 유닛을 배열시키는 단계 중 하나의 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system comprises the steps of: arranging a single counter unit to define a configuration that is simpler than the configuration of a single base unit while maintaining its characteristics; Its second countering step; And a first alignment step thereof. The arranging step may comprise arranging a single counter unit to define a configuration similar (or identical) to an arrangement of multiple base units while maintaining such characteristics; Arranging a single counter unit to define a dimension formed by a unit axis that is less orthogonal to the arrangement of the plurality of base units while retaining its characteristics; And arranging a single counter unit to define a dimension formed by a unit axis that is more orthogonal than the dimensions of the plurality of base units while retaining its characteristics.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 다수의 카운터 유닛을 제공하는 단계; 특성을 유지하면서 단일 기본 유닛의 구성보다 더 간단한 구성으로 카운터 유닛 중 적어도 2개의 카운터 유닛을 배열시키는 단계; 그러한 배열 단계로 인해 유해한 파와 유사 (또는 동일) 하지만 그러한 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하는 카운터 파를 방출하도록 카운터 유닛을 구성하는 단계; 및 그 카운터 파를 타겟 공간으로 전파하도록 카운터 유닛을 정렬시키고, 그에 의해, 그 타겟 공간에서 그 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 포함하는 프로세스에 의해 제작될 수도 있다. 또한, 상기 배열 단계는, 그러한 특성을 유지하면서 다수의 기본 유닛의 배열과 유사한 (또는 동일한) 구성으로 그 카운터 유닛 중 적어도 2개의 카운터 유닛을 정렬시키는 단계; 그러한 특성을 유지하면서 단일 기본 유닛의 차원보다 더 적은 상호 직교인 유닛 축에 의해 형성된 차원을 정의하는 배열로 그 카운터 유닛을 배열시키는 단계; 및 그 특성을 유지하면서 다수의 기본 유닛의 차원보다 더 많은 상호 직교인 유닛 축에 의해 형성된 차원을 정의하는 배열로 그 카운터 유닛을 배열시키는 단계 중 하나의 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the present invention, a system comprises: providing a plurality of counter units; Arranging at least two counter units of the counter units in a simpler configuration than the configuration of a single base unit while maintaining the characteristics; Configuring the counter unit to emit a counter wave that defines a phase angle that is similar (or identical) to the harmful wave due to such an arrangement but at least partially opposite the phase angle of such harmful wave; And aligning the counter unit to propagate the counter wave into the target space, thereby countering the harmful wave by the counter wave in the target space. In addition, the arranging step includes the steps of: aligning at least two counter units of the counter units in a configuration similar to (or identical to) the arrangement of the plurality of base units while maintaining such characteristics; Arranging the counter units in an array defining dimensions formed by unit axes that are less orthogonal than the dimensions of a single base unit while maintaining such characteristics; And arranging the counter units in an array defining dimensions formed by more mutually orthogonal unit axes than the dimensions of the plurality of base units, while maintaining their characteristics.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 그러한 기본 유닛보다 더 적은 카운터 유닛을 제공하는 단계; 그러한 특성을 유지하면서 그 카운터 유닛에 의해 기본 유닛의 배열에 근사하는 단계; 그 근사 단계로 인해 그 유해한 파와 유사 (또는 동일) 하지만 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하는 카운터 파를 방출하도록 그러한 카운터 유닛을 구성하는 단계; 및 타겟 공간으로 그 카운터 파를 전파하도록 그 카운터 유닛을 정렬시키고, 그에 의해, 그 타겟 공간에서 그 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 포함하는 프로세스에 의해 제작될 수도 있다. 또한, 상기 제공 단계 및 근사 단계는, 더 적은 기본 유닛에 대해 더 많은 카운터 유닛을 제공하는 단계; 및 기본 유닛 중 적어도 하나의 기본 유닛 주변에 카운터 유닛 중 적어도 2개의 카운터 유닛을 배치시키고 그 특성을 유지하는 동안, 그 카운터 유닛에 의해 기본 유닛의 배열에 근사하는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system includes providing fewer counter units than such base units; Approximating the arrangement of base units by the counter unit while maintaining such characteristics; Configuring such a counter unit to emit a counter wave due to its approximate step that defines a phase angle that is similar (or identical) to the harmful wave but at least partially opposite the phase angle of the harmful wave; And aligning the counter unit to propagate the counter wave to the target space, thereby countering the harmful wave by the counter wave in the target space. In addition, the providing and approximating steps may include providing more counter units for fewer base units; And by arranging at least two counter units of the counter unit around the at least one base unit of the base unit and maintaining the characteristics thereof, by the counter unit approximating the arrangement of the base unit.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 기본 유닛에 관해 이동하도록 적어도 하나의 카운터 유닛을 배열시키는 단계; 유해한 파와 유사 (또는 동일) 하지만 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하는 카운터 파를 방출하도록 카운터 유닛을 구성하는 단계; 카운터 유닛으로부터 기본 유닛까지의 거리와, 그러한 카운터 파와 유해한 파 사이의 매칭 정도 사이의 관계를 발견하는 단계; 및 그 후, 그 범위가 최대인 위치로 그 카운터 유닛을 이동시키고, 그에 의해, 타겟 공간에서 그 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 포함하는 프로세스에 의해 제작될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system comprises: arranging at least one counter unit to move relative to the base unit; Configuring the counter unit to emit a counter wave that defines a phase angle that is similar (or identical) to the harmful wave but at least partially opposite the phase angle of the harmful wave; Finding a relationship between the distance from the counter unit to the base unit and the degree of matching between such counter and harmful waves; And thereafter, moving the counter unit to a position whose range is maximum, thereby countering the harmful wave by the counter wave in the target space.

본 발명의 또 다른 양태에서, 카운터 전자기파를 방출하고 그 후 그 카운터 파에 의해 유해한 파에 매칭함으로써, 및 타겟 공간에서 그 카운터 파로 유해한 파를 소거하는 것 및 그 유해한 파가 그 타겟 공간으로 전파하는 것을 억제하는 것 중 하나에 의해 적어도 하나의 파원의 적어도 하나의 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 전자기파를 그 카운터 파에 의해 카운터링하는 시스템을 제공할 수도 있다. 그러한 기본 유닛은, 그 유해한 파를 조사하고 그것을 통해 그 유해한 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 소스의 일부만을 포함하도록 구성되지만, 그 타겟 공간은 그 시스템과 그 시스템의 사용자 사이에 정의된다.In still another aspect of the present invention, by emitting a counter electromagnetic wave and then matching the harmful wave with the counter wave, and eliminating the harmful wave with the counter wave in the target space and the harmful wave propagating into the target space. It is also possible to provide a system for countering, by its counter wave, harmful electromagnetic waves irradiated from at least one base unit of at least one wave source by one of suppressing them. Such a base unit is configured to contain only the portion of the source that causes the investigation of the harmful wave and affect the path of the harmful wave therethrough, but the target space is defined between the system and the user of the system. .

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 그러한 시스템은, 그러한 유해한 파의 다수의 파면의 제 1 세트를 식별하는 단계; 그 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 적어도 하나의 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 그 배치 단계로 인해 타겟 공간에서 그 파면의 제 1 세트와 유사한 (또는 동일한) 다수의 파면의 제 2 세트를 형성하는 카운터 파를 방출하도록 카운터 유닛을 구성하는 단계; 및 그 제 1 정렬 단계를 포함하는 프로세스에 의해 제작될 수도 있다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, such a system comprises: identifying a first set of multiple wavefronts of such harmful waves; Placing at least one counter unit along at least one of the wavefronts; Configuring the counter unit to emit a counter wave due to the disposing step forming a second set of multiple wavefronts similar (or identical) to the first set of wavefronts in the target space; And a first alignment step thereof.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 그러한 유해한 파의 다수의 파면을 식별하는 단계; 카운터 유닛의 형상 및/또는 배열과 유사한 다수의 파면을 정의하는 카운터 파를 방출하도록 적어도 하나의 카운터 유닛을 구성하는 단계; 그 유해한 파의 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 그 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 그 구성 단계에 기초하여 그 카운터 파의 파면이 타겟 공간에서 유해한 파의 파면으로 정렬되는 그 카운터 파를 방출하도록 그 카운터 유닛을 배열시키고, 그에 의해, 그 타겟 공간에서 그 카운트 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 포함하는 프로세스에 의해 제작될 수도 있다. 상기 구성 단계 및 배치 단계는, 그 카운터 유닛의 형상 및 배열 중 적어도 하나와 상이한 다수의 파면을 갖는 카운터 파를 방출하도록 적어도 하나의 카운터 유닛을 구성하는 단계; 및 그 구성 단계에 기초하여, 그 유해한 파의 파면 중 적어도 2개의 파면에 걸쳐 (또는 그 파면을 따라) 그러한 카운터 유닛을 배치시키는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system includes the steps of identifying a plurality of wavefronts of such harmful waves; Configuring at least one counter unit to emit a counter wave defining a plurality of wavefronts similar in shape and / or arrangement of the counter unit; Placing the counter unit along at least one of the harmful waves; And based on the construction step, arrange the counter unit to emit the counter wave whose wavefront is aligned with the wavefront of the harmful wave in the target space, whereby the harmful wave is caused by the count wave in the target space. It may also be fabricated by a process that includes countering the waves. The constructing and arranging steps include: configuring at least one counter unit to emit a counter wave having a plurality of wavefronts different from at least one of the shape and arrangement of the counter unit; And based on the constructing step, disposing such counter units over (or along) the wavefront of the harmful wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 그러한 시스템은, 유해한 파의 다수의 파면을 식별하는 단계; 그 파면 중 적어도 하나의 파면을 따른 배열로 다수의 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 그 카운터 유닛의 배열과 유사한 다수의 파면을 갖는 그러한 카운터 파를 방출하도록 카운터 유닛을 구성하는 단계; 및 그 구성 단계에 기초하여 그러한 카운터 파의 파면이 타겟 공간에서 그 유해한 파의 파면으로 정렬되는 그 카운터 파를 방출하도록 그 카운터 유닛을 배열시키는 단계를 포함하는 프로세스에 의해 제작될 수도 있다. 상기 배치 단계 및 구성 단계는, 파면 중 적어도 2개의 파면에 걸친 (또는 그 파면을 따른) 배열로 다수의 카운터 유닛을 배치시키는 단계; 및 그 카운터 유닛의 배열과 상이한 다수의 파면을 갖는 카운터 파를 방출하도록 그 카운터 유닛을 구성하는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, such a system comprises: identifying a plurality of wavefronts of a harmful wave; Placing a plurality of counter units in an array along at least one of the wavefronts; Configuring the counter unit to emit such a counter wave having a plurality of wavefronts similar to the arrangement of the counter units; And arranging the counter unit to emit the counter wave whose wavefront is aligned with the wavefront of the harmful wave in the target space based on the construction step. The placing and constructing steps may comprise: placing a plurality of counter units in an array spanning (or along) the wavefront; And configuring the counter unit to emit a counter wave having a plurality of wavefronts different from the arrangement of the counter unit.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 그러한 유해한 파의 다수의 파면을 식별하는 단계; 각각이 곡률 반경을 정의하는 다수의 파면을 갖는 그러한 카운터 파를 방출하도록 적어도 하나의 카운터 유닛을 구성하는 단계; 기본 유닛과 타겟 공간 사이에 그 카운터 유닛을 위치시키는 단계; 그 유해한 파의 더 긴 곡률 반경과 그러한 카운터 파의 파면의 더 짧은 곡률 반경을 비교하는 단계; 및 그 카운터 파의 파면의 곡률 반경이 그 타겟 공간에서 그 유해한 파의 파면의 곡률 반경에 매칭하도록 구성되는 위치에 배치되도록 그 카운터 유닛을 구성하고, 그에 의해, 그 타겟 공간에서 그 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 포함하는 프로세스에 의해 제작될 수도 있다. 또한, 상기 위치시키는 단계 및 비교 단계는, 그 기본 유닛에 관해 그 타겟 공간의 반대측상에 그 카운터 유닛을 위치시키는 단계; 및 그 유해한 파의 더 짧은 곡률 반경과 그 카운터 파의 파면의 더 긴 곡률 반경을 비교하는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system includes the steps of identifying a plurality of wavefronts of such harmful waves; Configuring at least one counter unit to emit such counter waves each having a plurality of wavefronts defining a radius of curvature; Positioning the counter unit between the base unit and the target space; Comparing the longer radius of curvature of the harmful wave with the shorter radius of curvature of the wavefront of such counter wave; And configure the counter unit such that the radius of curvature of the wavefront of the counter wave is arranged at a position configured to match the radius of curvature of the harmful wave in the target space, whereby by the counter wave in the target space, It may be fabricated by a process that includes countering the harmful waves. The positioning and comparing step may also include positioning the counter unit on the opposite side of the target space with respect to the base unit; And comparing the shorter radius of curvature of the harmful wave to the longer radius of curvature of the wavefront of the counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 기본 유닛에 관해 이동하도록 적어도 하나의 카운터 유닛을 배열시키는 단계; 유해한 파와 유사 (또는 동일) 하지만 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖는 카운터 파를 방출하도록 그 카운터 유닛을 구성하는 단계; 그 카운터 유닛과 기본 유닛간의 거리와, 그 카운터 파의 곡률 반경과 그 유해한 파의 곡률 반경 사이의 관계를 발견하는 단계; 그 카운터 파 및 유해한 파의 파면이 서로 최상으로 매칭하는 위치를 산정하는 단계; 및 타겟 공간에서 그러한 카운터 파에 의해 그 유해한 파에 최상으로 매칭하기 위한 위치로 그 카운터 유닛을 이동시키 고, 그에 의해, 그 타겟 공간에서 그 카운터 파에 의해 그 유해한 파를 카운터링하는 단계를 포함하는 프로세스에 의해 제작될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system comprises: arranging at least one counter unit to move relative to the base unit; Configuring the counter unit to emit a counter wave having a phase angle that is similar (or identical) to the harmful wave but at least partially opposite the phase angle of the harmful wave; Finding a relationship between the distance between the counter unit and the base unit and the radius of curvature of the counter wave and the radius of curvature of the harmful wave; Calculating a position at which the wavefront of the counter wave and the harmful wave best match each other; And moving the counter unit to a position to best match the harmful wave by such counter wave in the target space, thereby countering the harmful wave by the counter wave in the target space. It may also be produced by a process.

본 발명의 또 다른 양태에서, 타겟 공간에서 유해한 파를 소거하는 것 및 그 유해한 파가 그 타겟 공간을 향해 전달하는 것을 억제하는 것 중 하나를 통하여 적어도 하나의 파원의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 전자기파를 카운터링하는 시스템이 제공될 수도 있으며, 여기서, 그러한 기본 유닛은, 그 유해한 파를 조사하고 그것을 통해 그 유해한 파의 경로에 영향을 주는 것의 원인이 되는 그 파원의 일부만을 포함하도록 구성되고, 그 타겟 공간은 그 시스템과 사용자 사이에 정의된다.In another aspect of the invention, harmful electromagnetic waves irradiated by the base unit of at least one wave source through one of eliminating harmful waves in the target space and inhibiting transmission of the harmful waves toward the target space. A system may also be provided wherein the base unit is configured to include only a portion of the source that causes the investigation of the harmful wave and affect the path of the harmful wave therethrough, and Target space is defined between the system and the user.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 그러한 시스템은, 기본 유닛과 동일한 (또는 유사한) 형상을 갖고 카운터 전자기파를 방출하도록 적어도 하나의 카운터 유닛을 배열시키는 단계; 및 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖고, 그 형상으로 인해 그 유해한 파의 파 특성과 적어도 부분적으로 유사한 파 특성을 정의하며, 따라서, 타겟 공간에서 그 반대인 위상각으로 인해 그 유해한 파를 카운터링하도록 그러한 카운터 파를 구성하는 단계 (이하, '제 3 구성 단계' 로 지칭됨) 를 포함하는 프로세스에 의해 제작될 수도 있다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, such a system comprises the steps of: arranging at least one counter unit to have the same (or similar) shape as the base unit and emit counter electromagnetic waves; And a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave, and because of its shape, defines a wave characteristic that is at least partially similar to the wave characteristic of the harmful wave and, therefore, due to the opposite phase angle in the target space It may be fabricated by a process comprising the step of configuring such a counter wave (hereinafter referred to as 'third configuration step') to counter harmful waves.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 기본 유닛의 1-D (또는 2-D, 3-D) 유사물의 형상을 정의하고 카운터 전자기파를 방출하도록 단일 카운터 유닛을 배열시키는 단계; 및 그 제 3 카운터링 단계를 포함하는 프로세스에 의해 제작될 수도 있다. 그러한 배열 단계는, 다수의 기본 유닛 중 적어도 2개의 기본 유닛의 1-D (또는 2-D, 3-D) 유사물의 형상을 정의하고 카운터 전자기파를 방출하도록 단일 카운터 유닛을 배열시키는 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the system defines a shape of the 1-D (or 2-D, 3-D) analogue of the base unit and arranges a single counter unit to emit counter electromagnetic waves. step; And a third countering step thereof. Such an arrangement step is replaced by the step of arranging a single counter unit to define the shape of 1-D (or 2-D, 3-D) analogs of at least two base units of the plurality of base units and emit counter electromagnetic waves. May be

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 시스템은, 다수의 카운터 유닛 중 적어도 2개의 카운터 유닛이 그러한 기본 유닛의 1-D (또는 2-D, 3-D) 유사물의 형상을 정의하고 카운터 전자기파를 방출하도록 구성된 그 다수의 카운터 유닛을 배열시키는 단계; 및 그 제 3 카운터링 단계를 포함하는 프로세스에 의해 제작될 수도 있다. 또한, 상기 배열 단계는, 다수의 카운터 유닛 중 적어도 2개의 카운터 유닛이, 모든 다수의 기본 유닛이 아니라 그 기본 유닛 중 적어도 2개의 기본 유닛의 1-D (또는 2-D, 3-D) 유사물의 형상을 정의하고, 그 후, 카운터 전자기파를 방출하도록 구성된 그 다수의 카운터 유닛을 배열시키는 단계; 및 다수의 카운터 유닛 중 적어도 2개의 카운터 유닛이 다수의 기본 유닛 각각의 1-D (또는 2-D, 3-D) 유사물의 형상을 정의하고 카운터 전자기파를 방출하도록 구성된 그 다수의 카운터 유닛을 배열시키는 단계 중 하나의 단계에 의해 대체될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the present invention, the system further comprises that at least two counter units of the plurality of counter units define the shape of 1-D (or 2-D, 3-D) analogs of such base units. Arranging the plurality of counter units configured to emit counter electromagnetic waves; And a third countering step thereof. In addition, the arranging step is such that at least two counter units of the plurality of counter units are similar to 1-D (or 2-D, 3-D) of at least two of the base units instead of all the plurality of base units. Defining a shape of the water and then arranging the plurality of counter units configured to emit counter electromagnetic waves; And arranging the plurality of counter units, wherein at least two of the plurality of counter units define the shape of the 1-D (or 2-D, 3-D) analogs of each of the plurality of base units and emit counter electromagnetic waves. It may be replaced by one of the steps.

더 많은 생산방법을 한정한 물건에 관한 청구항 (product-by-process) 은, 장치 및/또는 방법 청구항의 전술한 프리엠블을 변형함으로써, 및 장치 및/또는 방법 청구항의 그러한 보디부를 그 프리엠블에 부가함으로써 구성될 수도 있다. 또한, 그러한 프로세스 청구항은, 본 발명의 장치 및/또는 방법 청구항의 상기 특성 중 하나 이상의 특성을 포함할 수도 있다.The product-by-process of an article that defines more production methods may be modified by modifying the aforementioned preamble of the apparatus and / or method claim, and such body part of the apparatus and / or method claim on the preamble. It may be configured by addition. Such process claims may also include one or more of the above features of the apparatus and / or method claims of the present invention.

여기에서 사용된 바와 같이, '유닛' 이라는 용어는 본 발명의 전자기적으로- 카운터링된 시스템의 '기본 유닛' 및 '카운터 유닛' 양자를 일괄하여 지칭하며, 여기서, 그러한 시스템은, 이하, 'EMC 시스템' 또는 간단히 '시스템' 으로서 약칭된다. 그 '유닛들' 사이의 그러한 분류는, 그들의 의도된 기능에 주로 기초한다. 즉, '기본 유닛' 은, 예를 들어, 소스 신호로부터 가청음을 생성하거나 (스피커 및 그 스피커를 포함한 디바이스) 가청음으로부터 소스 신호를 생성하는 것 (마이크로폰 및 그 마이크로폰을 포함한 디바이스), 전기 에너지를 변환함으로써 기전력을 생성하거나 (전기 모터 및 그 전기 모터를 포함한 디바이스) 기전력을 변환함으로써 전기 에너지를 생성하는 것 (발전기), 소스 신호로부터 가시적인 이미지를 생성하는 것 (CRT, LED, OLED 및 PDP와 같은 디스플레이 엘리먼트 및 그 디스플레이 엘리먼트를 포함한 디바이스), 전기 에너지로부터 열을 발생시키는 것 (직선형 또는 코일형 가열 엘리먼트 및 그 가열 엘리먼트를 포함한 디바이스) 등과 같은 시스템의 의도된 기능을 수행하는 EMC 시스템의 다양한 부분을 나타낸다. 그러한 모든 '기본 유닛' 은 그들의 의도된 기능을 수행하는 동안 유해한 파를 조사하며, 이러한 '기본 유닛' 은 항상 상기 디바이스들에 포함된다. 이와 대조적으로, '카운터 유닛' 은, 예를 들어, 타겟 공간에서 유해한 파의 적어도 일부를 소거하고 및/또는 그러한 유해한 파의 일부가 그 타겟 공간을 향해 전파하는 것을 억제 또는 방지하는 것과 같은 카운터링 기능을 수행하는 EMC 시스템의 일부를 나타낸다. 바람직한 경우, '카운터 유닛' 은 '기본 유닛' 에 대해 의도된 기능을 수행하고, 따라서, 카운터링 기능을 또한 수행하는 여분의 '기본 유닛' 으로서 기능하도록 또한 배열될 수도 있다. 그러한, 이러한 유닛은, 달리 특정되지 않는다면, 본 발 명의 범위내의 '카운터 유닛' 으로서 간주될 것이다. 따라서, 본 발명의 범위내에서, '기본 유닛' 은 임의의 종래 기술의 디바이스 어디에서든 존재하지만, '카운터 유닛' 은 종래 기술의 디바이스에서 물리적으로나 기능적으로 존재하지 않는다.As used herein, the term 'unit' refers collectively to both the 'base unit' and the 'counter unit' of the electromagnetically-counted system of the present invention, where such a system is hereinafter referred to as' 'EMC system' or simply 'system'. Such classification between the 'units' is mainly based on their intended function. That is, the 'base unit' is for example to generate an audible sound from a source signal (a device including a speaker and its speaker) or to generate a source signal from an audible sound (a device including a microphone and its microphone), and to convert electrical energy. Generating electromotive force by generating electromotive force (electric motors and devices including the electric motor) or by converting electromotive force (generators), generating visible images from source signals (such as CRTs, LEDs, OLEDs and PDPs). Display elements and devices including the display elements), generating heat from electrical energy (linear or coiled heating elements and devices including the heating elements), and the like. Indicates. All such 'base units' investigate harmful waves while performing their intended function, and such 'base units' are always included in the devices. In contrast, a 'counter unit' may include countering, such as, for example, eliminating at least some of the harmful waves in a target space and / or inhibiting or preventing some of those harmful waves from propagating towards the target space. Represents a portion of an EMC system that performs a function. If desired, the 'counter unit' may also be arranged to perform the function intended for the 'base unit' and thus function as an extra 'base unit' which also performs the countering function. Such a unit would, unless otherwise specified, be considered as a 'counter unit' within the scope of the present invention. Thus, within the scope of the present invention, a 'base unit' exists anywhere in any prior art device, while a 'counter unit' does not exist physically or functionally in a prior art device.

'기본 유닛' 은 본 발명의 범위내에서 '파원' 와 구별된다. 더 상세하게, ' 파원' 는 그러한 유해한 파를 조사하는 EMC 시스템의 일부를 일괄하여 지칭하지만, '기본 유닛' 은 유해한 파를 조사하고 그러한 파의 전파 경로에 영향을 주는 것의 직접적인 원인이 되는 '파원' 의 일부만을 특히 지칭한다. 예를 들어, 이동 전화기의 스피커는 '파원' 이고, 그러한 전화기의 '기본 유닛' 은 음성 코일 및 영구 자석을 포함하며, 여기서, 그러한 코일 및 자석에 커플링한 콘 및 브라켓 (bracket) 은, 그 콘 및/또는 브라켓이 유해한 파를 발생시키지 않고 그 유해한 파의 전파 경로에 영향을 주지 않기 때문에, '파원' 의 일부이지만 '기본 유닛' 의 일부는 아니다. 유사하게, 작동 디바이스의 모터는 '파원' 이지만, 그 모터의 '기본 유닛' 은 그 모터의 회전자 및/또는 고정자에 포함된 영구 자석 및/또는 전자석이며, 여기서, 그 모터의 샤프트 및 케이스는, 그 샤프트 및/또는 케이스가 유해한 파를 발생시키지 않고 그 유해한 파의 전파 경로에 영향을 주지 않기 때문에, '파원' 의 일부이지만 '기본 유닛' 의 일부는 아니다. 유사하게, 가열 디바이스의 히터는 '파원' 이고 그 가열 디바이스의 '기본 유닛' 은 직선형 또는 코일형 가열 엘리먼트이며, 여기서, 절연성 지지부 및 외부 코팅은, 그 지지부 및/또는 코팅이 그러한 유해한 파를 발생시키지 않고 그 유해한 파의 전파 경로에 영향을 주 지 않기 때문에, '파원' 의 일부이지만 '기본 유닛' 의 일부는 아니다. 따라서, '파원' 의 형상은 '기본 유닛' 의 형상과는 일반적으로 상이하며, 여기서, 그 '기본 유닛' 은 그 '파원' 의 형상보다 더 간단하거나 더 복잡한 형상을 가질 수도 있다. 그러나, '기본 유닛' 은 '파원' 의 서브세트로서 간주될 수도 있으며, 따라서, 그러한 '기본 유닛' 은 '파원' 의 사이즈보다 작거나 동일한 사이즈를 거의 항상 정의한다.'Basic unit' is distinguished from 'wave source' within the scope of the present invention. More specifically, 'source' refers collectively to the part of the EMC system that investigates such harmful waves, while 'base unit' refers to the 'source' that directly causes the investigation of harmful waves and affects their propagation path. Refers to only part of '. For example, the speaker of a mobile phone is a 'wave source' and the 'base unit' of such a phone comprises a voice coil and a permanent magnet, where the cone and bracket coupled to the coil and the magnet are Since cones and / or brackets do not generate harmful waves and do not affect the propagation path of the harmful waves, they are part of the 'wave source' but not part of the 'base unit'. Similarly, the motor of the actuating device is a 'wave source', but the 'base unit' of the motor is a permanent magnet and / or an electromagnet contained in the rotor and / or stator of the motor, where the shaft and case of the motor are However, because the shaft and / or case do not generate harmful waves and do not affect the propagation path of the harmful waves, they are part of the 'wave source' but not part of the 'base unit'. Similarly, the heater of the heating device is a 'wave source' and the 'base unit' of the heating device is a straight or coiled heating element, wherein the insulating support and the outer coating cause the support and / or coating to generate such harmful waves. It is part of the 'source' but not part of the 'base unit', since it does not affect the propagation path of the harmful waves. Thus, the shape of the 'wave source' is generally different from the shape of the 'base unit', where the 'base unit' may have a shape that is simpler or more complex than the shape of the 'wave source'. However, the 'base unit' may be considered as a subset of the 'source', and thus such 'base unit' almost always defines a size that is less than or equal to the size of the 'source'.

여기에서 사용된 바와 같이, '구성' 이라는 용어는, 형상, 사이즈, 및/또는 배열을 일괄하여 지칭하지만, '배치' 라는 용어는, 배향, 정렬, 및/또는 거리를 일괄하여 포함한다. 따라서, (카운터 또는 기본) 유닛의 '구성' 은, 기본 및 카운터 유닛 중 다른 유닛에 관해 유닛의 형상, 유닛의 사이즈, 및/또는 유닛의 배열을 지칭할 수도 있다. 유사하게, 그 유닛의 '배치' 는, 기본 유닛 및 카운터 유닛 중 다른 유닛, 타겟 공간, 유해한 파 또는 카운터 파의 전파 방향, 그러한 유닛 또는 기본 유닛 및 카운터 유닛 중 다른 유닛에 흐르는 전류의 방향 또는 인가된 전압의 방향 등에 관해 그러한 유닛의 배향 및/또는 정렬을 지칭할 수도 있다. 또한, 그 유닛의 '배치' 는, 그 유닛으로부터 기본 유닛 및 카운터 유닛 중 다른 유닛까지의 거리, 타겟 공간 등을 지칭할 수도 있다. 시스템이 다수의 카운터 유닛을 포함할 경우, 그 유닛의 '배치' 는 그러한 카운터 유닛 중 적어도 2개의 카운터 유닛들 사이의 거리를 포함할 수도 있다.As used herein, the term 'configuration' refers collectively to shape, size, and / or arrangement, while the term 'positioning' includes the orientation, alignment, and / or distance collectively. Thus, the 'configuration' of a (counter or base) unit may refer to the shape of the unit, the size of the unit, and / or the arrangement of the units with respect to the other of the base and counter units. Similarly, the 'arrangement' of the unit is the propagation direction of another unit, a target space, a harmful wave or a counter wave of the base unit and the counter unit, and the direction or application of current flowing to the other unit of the unit or the base unit and the counter unit. It may also refer to the orientation and / or alignment of such a unit with respect to the direction of a given voltage or the like. In addition, the 'arrangement' of the unit may refer to the distance from the unit to another of the base unit and the counter unit, the target space, and the like. If the system includes multiple counter units, the 'placement' of those units may include the distance between at least two counter units of such counter units.

본 발명의 범위내에서, '와이어' 라는 용어는, 와이어, 섬유, 필라멘트, 로드 (rod), 및/또는 스트랜드 (strand) 의 형상을 갖는 물품, 및 각각이 직선 또는 곡선 (즉, 곡선형) 일 수도 있고, 각각이 루프, 코일, 롤, 나선, 메시 등으로 형성될 수도 있는 임의의 다른 유사하게 연장된 물품의 형상을 일괄하여 지칭한다. '스트립' 이라는 용어는, 스트립, 바, 패드, 및/또는 테이프의 형상, 및 각각이 직선 또는 곡선으로 배열될 수도 있고, 각각이 2-차원 또는 3-차원 구성으로 배열될 수도 있으며, 각각이 루프, 코일, 롤, 나선, 메시 등으로 배열될 수도 있는 큰 어스팩트 비 (즉, 폭 또는 높이에 대한 길이의 비) 를 갖는 임의의 다른 평면형 또는 곡선형 물품의 형상을 일괄하여 지칭한다. 또한, '시트' 라는 용어는, 시트, 슬라브, 포일, 막, 플레이트, 및/또는 레이어의 형상을 갖는 물품, 및 '스트립' 보다 더 넓고, 각각이 평면 (즉, 2-차원 또는 2-D) 또는 곡선 (즉, 3-차원 또는 3-D) 일 수도 있고, 각각이 세그먼트, 롤 등으로 형성될 수도 있는 임의의 다른 물품들의 형상을 일괄하여 지칭한다. '튜브' 라는 용어는, 상술된 또는 후술될 임의의 형상을 정의할 수도 있고 그 형상을 통해 적어도 하나의 루멘을 형성하는 물품을 일괄하여 지칭한다. 그러한 '튜브' 는, 직선 또는 곡선으로 배열될 수도 있고, 루프, 코일, 롤, 나선, 메시 등으로 배열될 수도 있다. '코일' 이라는 용어는, 나선형 및/또는 스프링 형상을 정의하는 물품, 및 오브젝트로부터의 일정한 거리에서 그러한 오브젝트의 종축 또는 단축을 따라 그 오브젝트 주변에 감기는 임의의 다른 물품의 형상 등을 일괄하여 지칭한다. 그 '코일' 은 직선 또는 곡선으로 배열될 수도 있고, 또한, (토로이드와 같은) 루프, 코일, 롤, 나선, 메시 등으로 배열될 수도 있다. '나선' 이라는 용어는, 오브젝트의 종축 또는 단축을 따라 확장 또는 줄어들 수도 있는 또 다른 나선형 및/또는 스프링 형상을 정의하는 물품, 및 가변 거리에서 그러한 오브젝트 주변에 감기는 임의의 다른 물품들의 형상 등을 일괄하여 지칭한다. 평면형 '나선' 이 오브젝트의 종축 또는 단축에 수직인 단일 곡선형 평면상에 형성될 수도 있다는 것을 인식할 것이다. '메시' 라는 용어는, 메시, 네트, 스크린, 퀼트, 직물, 및/또는 의류의 형상을 갖는 물품, 및 네트워킹 구조, 직조 구조, 교직 구조 등으로 형성될 수도 있는 임의의 다른 물품의 형상을 일괄하여 지칭한다. '번들' 이라는 용어는, '번들' 또는 '번들된 물품' 의 섹션 (section) 이 연장된 형상 중 적어도 2개의 형상을 포함할 수도 있는 방식으로 나란히 또는 측면으로 정렬되는 동일한 또는 상이한 연장된 형상 중 2개 이상의 형상을 정의한 물품을 일괄하여 지칭한다. '편조' 라는 용어는, '편조' 또는 '편조된 물품' 이 그 편조의 종축 및/또는 단축에 수직인 섹션에서 연장된 형상 중 적어도 2개의 형상으로 구성될 수도 있는 방식으로 편조된 동일한 또는 상이한 연장된 형상 중 2개 이상의 형상을 갖는 물품을 일괄하여 지칭하며, 여기서, 그러한 물품의 예는, 스레드, 실, 종래의 편조 기술에 의해 제작된 임의의 다른 물품 등을 포함할 수도 있지만, 이에 제한되지는 않는다. 이 파라그래프에서의 상기 용어에 따라 형성된 그러한 물품 각각의 적어도 일부가, 예를 들어, 거품, 스펀지 등과 같이 입체적, 중공 또는 다공성이도록 배열될 수도 있다는 것을 이해할 것이다. 또한, 이 파라그래프에서의 전술한 용어에 따라 형성된 그러한 물품 각각이 적어도 하나의 홀, 갭 또는 개구부를 포함 (또는 정의) 하도록 배열될 수도 있다는 것을 인식할 것이다.Within the scope of the present invention, the term 'wire' refers to articles having the shape of wires, fibers, filaments, rods, and / or strands, and each straight or curved (ie, curved). It may be referred to collectively as the shape of any other similarly extended article, each of which may be formed of a loop, coil, roll, spiral, mesh, or the like. The term 'strip' may mean the shape of strips, bars, pads, and / or tapes, and each may be arranged in a straight or curved line, each may be arranged in a two-dimensional or three-dimensional configuration, each of The shape of any other planar or curved article having a large aspect ratio (ie, ratio of length to width or height) that may be arranged in a loop, coil, roll, spiral, mesh, or the like is referred to collectively. The term 'sheet' is also broader than an article having the shape of a sheet, slab, foil, membrane, plate, and / or layer, and a 'strip', each plane (i.e., two-dimensional or 2-D). ) Or curves (ie, three-dimensional or 3-D), which collectively refer to the shape of any other articles, each of which may be formed of segments, rolls, and the like. The term 'tube' may collectively refer to an article that may define any shape described above or to be described below and forms at least one lumen through the shape. Such 'tubes' may be arranged in a straight or curved line, or may be arranged in a loop, coil, roll, spiral, mesh, or the like. The term 'coil' refers collectively to the article defining the spiral and / or spring shape, and the shape of any other article wound around the object along the longitudinal axis or short axis of such object at a constant distance from the object. do. The 'coils' may be arranged in straight or curved lines, or may also be arranged in loops (such as toroids), coils, rolls, spirals, meshes and the like. The term 'spiral' refers to an article defining another spiral and / or spring shape that may expand or contract along the longitudinal or short axis of the object, and the shape of any other item wound around the object at varying distances, and the like. Refer collectively. It will be appreciated that a planar 'helix' may be formed on a single curved plane perpendicular to the longitudinal or short axis of the object. The term 'mesh' collectively shapes the shape of a mesh, net, screen, quilt, fabric, and / or garment and any other article that may be formed into a networking structure, a woven structure, a teaching structure, or the like. Refer to. The term 'bundle' refers to any of the same or different extended shapes that are aligned side by side or side by side in such a way that a section of the 'bundle' or 'bundled article' may include at least two of the extended shapes. Articles that define two or more shapes are referred to collectively. The term 'braiding' refers to the same or different braided in such a way that 'braid' or 'braided article' may consist of at least two of the shapes extending in sections perpendicular to the longitudinal and / or short axis of the braid. Reference is made collectively to articles having two or more of the elongated shapes, where examples of such articles may include, but are not limited to, threads, threads, any other article made by conventional braiding techniques, and the like. It doesn't work. It will be appreciated that at least some of each such article formed according to the term in this paragraph may be arranged to be steric, hollow or porous, such as, for example, foam, sponge, or the like. It will also be appreciated that each of such articles formed in accordance with the aforementioned terms in this paragraph may be arranged to include (or define) at least one hole, gap or opening.

유사하게 및 여기에서 설명된 바와 같이, '혼합물' 이라는 용어는, 액체, 용 액, 졸, 젤, 에멀젼, 현탁액, 슬러리, 및/또는 파우더를 일괄하여 지칭하며, 그들 각각은 다수의 파티클, 미립자, 입자, 입상반, 파일링, 조각, 및/또는 펠렛 (pellet) 을 그들 내에 포함할 수도 있으며, 그들 각각은 구, 타원, 실린더, 플레이크, '와이어', '스트립' 등의 형상을 또한 가질 수도 있고 그들 각각은 밀리미터, 미크론 또는 나노미터의 범위에 존재할 수도 있다. 적합한 경우, 그러한 '혼합물' 은, 적어도 하나의 솔벤트, 기계적 강도 및/또는 무결성을 그 혼합물에 제공하기 위해, 적어도 하나의 화학적, 전기적, 및/또는 자기적으로 불활성인 충전재 등을 포함할 수도 있다.Similarly and as described herein, the term 'mixture' refers collectively to liquids, solutions, sols, gels, emulsions, suspensions, slurries, and / or powders, each of which contains a number of particles, particulates. , Particles, granular, filings, pieces, and / or pellets may be included within them, each of which may also have the shape of a sphere, ellipse, cylinder, flake, 'wire', 'strip', or the like. Each of them may be in the range of millimeters, microns or nanometers. Where appropriate, such 'mixtures' may include at least one chemical, electrical, and / or magnetically inert filler, etc., to provide the mixture with at least one solvent, mechanical strength and / or integrity. .

또한, '결합물' 이라는 용어는 상이한 형상들의 집합을 지칭하며, 그 형상들의 예는, 상기의 와이어, 스트립, 시트, 튜브, 코일, 나선, 메시, 그들의 편조, 및 그들의 번들을 포함할 수도 있지만 이에 제한되지는 않는다. 유사하게, '어레이' 라는 용어는 그러한 형상들의 집합을 지칭한다. 그러나, 그 '어레이' 는 그것을 통해 다수의 홀 또는 개구부를 또한 형성하는 '집합' 을 지칭한다.The term 'combination' also refers to a collection of different shapes, examples of which may include wires, strips, sheets, tubes, coils, spirals, meshes, braids thereof, and bundles thereof. It is not limited to this. Similarly, the term 'array' refers to a collection of such shapes. However, the 'array' refers to a 'set' which also forms a number of holes or openings therethrough.

여기에서 설명된 바와 같이, '축' '반경' 및 '각' 은 시스템의 중심축을 참조하여 사용될 것이다. 그에 기초하여, '축 방향' 은 시스템의 중심축을 따른 방향을 지칭하지만, '반경 방향' 은 그러한 '축 방향' 에 수직인 또 다른 방향을 의미하고, 따라서, 시스템의 중심으로부터 이격하여 및 바깥쪽으로 연장하는 방향을 나타낸다. 그러한 '반경 방향' 은 시스템의 중심으로부터 이격하여 및 바깥쪽으로 연장할 수도 있는 다른 방향일 수도 있으며, '축 방향' 과 반드시 수직하여 횡단될 필요는 없을 수도 있다는 것을 인식할 것이다. '각 방향' 이라는 용어 는, 시계 방향 또는 반시계 방향으로 '축 방향' 에 관해 회전하는 또 다른 방향을 지칭한다.As described herein, 'axis', 'radius' and 'angle' will be used with reference to the central axis of the system. Based on that, the 'axial direction' refers to the direction along the central axis of the system, but the 'radial direction' refers to another direction perpendicular to that 'axial direction' and, thus, away from the center of the system and outwards. The direction of extension is shown. It will be appreciated that such a 'radial direction' may be another direction, which may be spaced apart from the center of the system and extend outward, and may not necessarily be traversed perpendicularly to the 'axial direction'. The term 'angular direction' refers to another direction of rotation about the 'axial direction' clockwise or counterclockwise.

본 발명의 다양한 전기적 및 자기적 쉴드에 관한 정의는 상술된 공동 계류중인 출원에서 제공된 바와 같은 정의와 유사하다는 것을 인식할 것이다. 따라서, 그러한 정의는 예시의 간략화를 위해 여기서는 생략된다.It will be appreciated that the definitions for the various electrical and magnetic shields of the present invention are similar to the definitions provided in the co-pending application described above. Accordingly, such definitions are omitted herein for the sake of simplicity of illustration.

다음의 설명에서 따로 정의되지 않으면, 여기에서 사용된 모든 기술적 및 과학적 용어들은, 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자가 통상 이해하는 것과 동일한 의미를 갖는다. 여기에 설명된 방법 또는 재료와 동등 또는 유사한 방법 또는 재료가 본 발명의 실행 또는 테스트에 사용될 수 있지만, 적합한 방법 및 재료가 후술된다. 여기에 개시된 모든 공개물, 특허 출원, 특허, 및/또는 다른 참조문헌은 전부 참조로서 포함된다. 임의의 충돌의 경우, 정의를 포함하는 본 발명의 명세서는 제어될 것이다. 또한, 재료, 방법, 및 예는 제한하도록 의도되는 것이 아니라 단지 예시적일 뿐이다.Unless defined otherwise in the following description, all technical and scientific terms used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Although methods or materials equivalent or similar to the methods or materials described herein can be used in the practice or testing of the present invention, suitable methods and materials are described below. All publications, patent applications, patents, and / or other references disclosed herein are incorporated by reference in their entirety. In case of any conflict, the present specification, including definitions, will control. In addition, the materials, methods, and examples are not intended to be limiting but merely illustrative.

본 발명의 다른 특성 및/또는 이점은 다음의 상세한 설명, 및 청구항으로부터 명백할 것이다.Other features and / or advantages of the invention will be apparent from the following detailed description, and from the claims.

도면의 간단한 설명Brief description of the drawings

도 1a 내지 도 1f는 예시적인 전자기적 카운터링 메커니즘들의 개략적인 상면도이며, 그 메커니즘 각각에서, 단일 카운터 유닛은, 본 발명에 따라, 단일 파원의 단일 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파를 카운터링하기 위해 카운터 파를 방출한다.1A-1F are schematic top views of exemplary electromagnetic countering mechanisms, in which each single counter unit counters harmful waves irradiated by a single base unit of a single wave source, according to the present invention. To emit a counter wave.

도 2a 내지 도 2f는 예시적인 전자기적 카운터링 메커니즘들의 개략적인 상면도이며, 그 메커니즘 각각에서, 다수의 카운터 유닛은, 본 발명에 따라, 단일 파원의 단일 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파를 카운터링하기 위해 카운터 파를 방출한다.2A-2F are schematic top views of exemplary electromagnetic countering mechanisms, in each of which multiple counter units counter harmful waves irradiated by a single base unit of a single wave source, in accordance with the present invention. Emits a counter wave to ring.

도 3a 내지 도 3i는, 본 발명에 따른 다양한 기본 유닛을 포함하는 스피커에 포함된 예시적인 카운터 유닛의 개략적인 사시도이다.3A-3I are schematic perspective views of an exemplary counter unit included in a speaker comprising various basic units according to the invention.

도 4a 내지 도 4f는, 본 발명에 따른 다양한 기본 유닛을 포함하는 모터에 포함된 예시적인 카운터 유닛의 개략적인 사시도이다.4A-4F are schematic perspective views of exemplary counter units included in a motor including various basic units in accordance with the present invention.

도 5a 내지 도 5h는, 본 발명에 따른 다양한 기본 유닛을 포함하는 가열 유닛에 포함된 예시적인 카운터 유닛의 개략적인 사시도이다.5a to 5h are schematic perspective views of an exemplary counter unit included in a heating unit comprising various basic units according to the invention.

도 6a 내지 도 6h는, 본 발명에 따른 카운터 유닛 및 전자기적 (또는 자기적) 쉴드를 갖는 예시적인 스피커의 개략적인 사시도이다.6A-6H are schematic perspective views of an exemplary speaker having a counter unit and an electromagnetic (or magnetic) shield in accordance with the present invention.

발명에 대한 모드Mode for Invention

본 발명은, 유해한 전자기파를 조사하는 적어도 하나의 파원, 및 예를 들어, 카운터 전자기파에 의해 그 유해한 파의 적어도 일부를 소거함으로써, 그 유해한 파가 타겟 공간으로 전파하는 것을 억제함으로써 등에 의하여, 그 유해한 파를 그 카운터 파에 의해 카운터링하기 위해 그 카운터 파를 방출하는 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함하는 전자기적으로-카운터링된 시스템에 관한 것이다. 더 상세하게, 본 발명은, 그 전자기적으로-카운터링된 시스템의 범용 카운터 유닛, 및 파원의 다양한 기본 유닛으로부터 조사되는 유해한 파를 그 카운터 유닛에 의해 카운 터링하기 위한 다양한 메커니즘에 관한 것이다. 따라서, 그 카운터 유닛은, 파원의 기본 유닛의 구성과 그 카운터 유닛의 구성을 매칭시키도록 형성, 사이징, 및/또는 배열될 수도 있으며, 그에 의해, 그러한 유해한 파의 특성에 자동으로 매칭하는 그러한 카운터 파를 방출한다. 다른 방법으로, 그 카운터 유닛은, 그 유해한 파의 하나 이상의 파면을 따라 정의된 배열로 형성, 사이징, 및/또는 배치될 수도 있으며, 그에 의해, 그 유해한 파의 특성에 자동으로 매칭하는 카운터 파를 방출한다. 또한, 본 발명은 파원의 기본 유닛의 유사물로서 제공되는 다양한 카운터 유닛에 관한 것이며, 여기서, 그 유사물은 그러한 카운터 유닛보다 더 복잡한 기본 유닛에 근사할 수도 있고, 또한, 3-차원 또는 2-차원 기본 유닛은 2-차원 또는 1-차원 유사물 등으로서 근사될 수도 있다. 또한, 본 발명은, 기본 유닛보다 더 간단하지만 그 기본 유닛의 그러한 형상 및/또는 배열에 근사하는 배열로 배치되는 다수의 간단한 카운터 유닛에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 기본 유닛의 구성 및 배치에 따라 형성 및/또는 사이징될 수도 있는 카운터 유닛에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 단일 카운터 유닛이 단일 기본 유닛, 다수의 기본 유닛 중 모든 다수의 기본 유닛이 아닌 적어도 2개의 기본 유닛, 또는 모든 다수의 기본 유닛을 카운터링할 수도 있고, 다수의 카운터 유닛이 단일 기본 유닛, 더 많은 기본 유닛 또는 더 적은 다수의 유닛 등을 카운터링할 수도 있는 다양한 카운터링 모드에 관한 것이다. 본 발명은, 시스템으로부터의 유해한 파의 조사를 최소화하기 위해 단독으로 또는 카운터 유닛과 함께 사용될 수도 있는 다양한 전기적 및/또는 자기적 쉴드에 관한 것이다.According to the present invention, at least one wave source for irradiating harmful electromagnetic waves, and for example, by eliminating at least a part of the harmful waves by counter electromagnetic waves, by suppressing propagation of the harmful waves to the target space, etc. An electromagnetically-counted system comprising at least one counter unit that emits a counter wave for countering the wave by the counter wave. More specifically, the present invention relates to a general purpose counter unit of its electromagnetically-counted system, and to various mechanisms for counting by the counter unit harmful waves irradiated from the various basic units of the wave source. Thus, the counter unit may be formed, sized, and / or arranged to match the configuration of the base unit of the wave source with the configuration of the counter unit, whereby such a counter automatically matches the characteristics of such harmful waves. Emit waves. Alternatively, the counter unit may be formed, sized, and / or arranged in a defined array along one or more wavefronts of the harmful wave, whereby a counter wave is automatically matched to the characteristic of the harmful wave. Release. The invention also relates to various counter units which are provided as analogs of the base unit of the wave source, where the analogs may approximate a more complex base unit than such a counter unit and may also be three-dimensional or two. The dimensional base unit may be approximated as a two-dimensional or one-dimensional analog and the like. The invention also relates to a number of simple counter units which are simpler than the base unit but arranged in an arrangement that approximates such a shape and / or arrangement of the base unit. The invention also relates to a counter unit that may be formed and / or sized according to the configuration and arrangement of the base unit. Further, the present invention may allow a single counter unit to counter a single base unit, at least two base units other than all the plurality of base units, or all the plurality of base units, It is directed to various countering modes that may counter a single base unit, more base units, fewer multiple units, or the like. The present invention relates to various electrical and / or magnetic shields that may be used alone or in combination with a counter unit to minimize irradiation of harmful waves from the system.

또한, 본 발명은, 그러한 소스 매칭 또는 파 매칭에 의하여 유해한 파를 카운터 파에 의해 카운터링하는 다양한 방법에 관한 것이다. 더 상세하게, 본 발명은, 기본 유닛의 유사물로서 카운터 유닛을 형성하고, 그 후, 그러한 유해한 파에 매칭하는 카운터 파를 방출하는 다양한 방법, 카운터링을 위하여 더 간단한 카운터 유닛에 의해 기본 유닛에 근사하는 다양한 방법, 및 다수의 더 간단한 카운터 유닛에 의해 기본 유닛에 근사하는 다양한 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 유해한 파의 그러한 파면에 자동으로 매칭하기 위하여 그 유해한 파의 파면을 따라 카운터 유닛을 배치시키고, 그 후, 카운터 파를 방출하는 다양한 방법, 그러한 파면에 자동으로 매칭하기 위하여 그 유해한 파의 파면을 따라 다수의 카운터 유닛을 배치시키고, 그 후, 카운터 파를 방출하는 다양한 방법 등에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 기본 유닛에 관해 타겟 공간으로부터 더 근접하게 및/또는 이격하여 카운터 유닛을 배치시킴으로써 카운터 파의 파면을 조작하는 다양한 방법, 동일한 또는 반대인 위상각의 그러한 카운터 파를 방출하는 하나 또는 다수의 카운터 유닛을 포함함으로써 카운터 파의 파면의 곡률 반경을 제어하는 다양한 방법, 기본 유닛의 형상과 유사한 또는 상이한 형상을 정의하는 하나 또는 다수의 카운터 유닛을 배치시킴으로써 카운터 파의 파면을 조정하는 다양한 방법 등에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 단일 또는 다수의 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파로 하나 또는 다수의 기본 유닛으로부터의 유해한 파를 카운터링하는 다양한 방법에 관한 것이다. 따라서, 본 발명은, 하나 이상의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파에 대하여 단일 카운터 유닛으로부터 그러한 카운터 파를 방출하는 다양한 방법, 단일 또는 다수의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파에 대하여 2개 이상의 카운터 유닛에 의해 그러한 카운터 파를 방출하는 다양한 방법 등에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 그러한 전기적 쉴드를 포함함으로써, 자기적 쉴드를 포함함으로써, 상기 카운터 유닛과 함께 그러한 쉴드들 중 하나 또는 양 쉴드들을 포함함으로써 등에 의해 그러한 유해한 파의 조사를 최소화하는 다양한 방법에 관한 것이다.The present invention also relates to various methods of countering harmful waves by counter waves by such source matching or wave matching. More specifically, the present invention provides a method of forming a counter unit as an analogue of the base unit, and then releasing a counter wave that matches that harmful wave, to the base unit by a simpler counter unit for countering. Various methods of approximation, and various methods of approximating the base unit by a number of simpler counter units. In addition, the present invention provides a method of arranging a counter unit along the wavefront of the harmful wave to automatically match that wavefront of the harmful wave, and thereafter, various methods of emitting the counter wave, to automatically match that wavefront. The present invention relates to various methods of arranging a plurality of counter units along the wavefront of harmful waves, and then emitting counter waves. The invention also relates to various methods of manipulating the wavefront of the counter wave by placing the counter unit closer to and / or away from the target space with respect to the base unit, one that emits such counter wave of the same or opposite phase angle. Or various methods of controlling the radius of curvature of the wavefront of the counter wave by including a plurality of counter units, various methods of adjusting the wavefront of the counter wave by placing one or a plurality of counter units defining shapes similar or different from those of the base unit. Method and the like. The present invention also relates to various methods of countering harmful waves from one or multiple base units with counter waves emitted by single or multiple counter units. Accordingly, the present invention provides a variety of methods for releasing such counter waves from a single counter unit for harmful waves irradiated by one or more base units, two or more counter units for harmful waves irradiated by a single or multiple base units. And various methods for emitting such counter waves. The invention also relates to various methods of minimizing the irradiation of such harmful waves by including such electrical shields, by including magnetic shields, by including one or both of those shields with the counter unit, and the like. will be.

또한, 본 발명은, 다양한 카운터 유닛 및 하나 또는 다수의 카운터 유닛을 그 내에 포함하는 다양한 시스템을 제공하는 다양한 프로세스에 관한 것이다. 더 상세하게, 본 발명은, 카운터 유닛의 그러한 형상과 유사한 (또는 상이한) 파면을 갖는 카운터 파를 방출하도록 카운터 유닛을 형성하는 다양한 프로세스, 기본 유닛의 상기 유사물로서 그 카운터 유닛을 형성하는 다양한 프로세스, 유사한 또는 반대인 위상각을 정의하는 그러한 카운터 파를 방출하는 카운터 유닛을 제공하는 다양한 프로세스, 유해한 파와 유사하게 형성된 파면을 그러한 카운터 유닛에 제공하는 다양한 프로세스, 미리 설정된 배열로 그 카운터 유닛을 배치시키고 그러한 배열과 유사한 파면을 갖는 카운터 파를 그 카운터 유닛으로부터 방출하는 다양한 프로세스 등에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 로컬 카운터링을 위하여 단일 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파를 카운터링하도록 또는 글로벌 카운터링을 위하여 다수의 기본 유닛으로부터의 그러한 유해한 파를 카운터링하도록 단일 카운터 유닛을 할당하는 다양한 프로세스, 및 그 글로벌 카운터링을 위하여 단일 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파를 카운터링하도록, 및 카운터 유닛 및 기본 유닛의 수 에 의존하여 그 로컬 또는 글로벌 카운터링을 위해 다수의 기본 유닛으로부터의 유해한 파를 카운터링하도록 다수의 카운터 유닛을 할당하는 다양한 프로세스에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 그러한 유해한 파의 조사를 최소화하기 위해 전기적 및/또는 자기적 쉴드를 포함하는 다양한 프로세스, 및 그러한 쉴드들 뿐만 아니라 상기 카운터 유닛을 이용함으로써 그러한 유해한 파의 조사를 최소화하는 다양한 프로세스에 관한 것이다.The present invention also relates to various processes for providing various counter units and various systems including one or multiple counter units therein. More specifically, the present invention provides a variety of processes for forming a counter unit to emit a counter wave having a wavefront similar (or different) to that shape of the counter unit, various processes for forming the counter unit as said analogue of the base unit. Various processes for providing a counter unit that emits such counter waves that define similar or opposite phase angles, various processes for providing such counter units with wavefronts shaped similarly to harmful waves, placing the counter units in a predetermined arrangement, And various processes for emitting counter waves having a wavefront similar to that arrangement from the counter unit. In addition, the present invention provides a variety of methods for assigning a single counter unit to counter harmful waves investigated by a single base unit for local countering or to counter those harmful waves from multiple base units for global countering. Harmful waves from multiple base units for its local or global countering, depending on the number of counter units and base units, and for countering harmful waves emitted by a single base unit for the process and its global countering. And various processes for assigning multiple counter units to counter. In addition, the present invention provides a variety of processes that include electrical and / or magnetic shields to minimize the irradiation of such harmful waves, and various processes to minimize the irradiation of such harmful waves by using such counters as well as the counter unit. It is about.

본 발명의 범용 전자기적으로-카운터링된 시스템의 카운터 유닛의 기본 원리는, 유해한 파의 파면과 유사한 (또는 동일한) 파면을 형성하지만 그러한 유해한 파면의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하는 카운터 파를 방출하는 것이다. 따라서, 그러한 카운터 파를 타겟 공간으로 전파함으로써, 그 카운터 파는, 예를 들어, 타겟 공간에서 그러한 유해한 파의 적어도 일부를 소거하고 및/또는 그 유해한 파가 그 타겟 공간을 향해 전파하는 것을 억제함으로써 그 타겟 공간에서 그 유해한 파를 효과적으로 카운터링할 수 있다. 이러한 목적을 위해, 카운터 유닛은, 유해한 파의 파면에 매칭하는 파면을 정의하는 카운터 파를 다양한 메커니즘에 의해 방출하도록 배열된다. 일 예에서, 그러한 카운터 유닛은, 파원의 기본 유닛과 유사하게 (동일하게) 형성되거나, 그러한 기본 유닛과 유사하게 (동일하게) 배열되고, 따라서, 타겟 공간에서 유해한 파를 카운터링할 수 있는 카운터 파를 방출한다. 또 다른 예에서, 그러한 카운터 유닛은, 유해한 파의 파면 중 하나 이상의 파면을 따라 배치되고 그 유해한 파와 유사한 (또는 동일한) 카운터 파를 방출하며, 따라서, 타겟 공간에서 유해한 파를 카운터링한다. 이러한 2개의 예에서, 카운터 유닛은 그러한 카운터 유닛 자체의 형상과 유사한 (또는 동일한) 파면을 갖는 카운터 파를 방출할 것이고, 그러한 카운터 파는 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의할 것이다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은 기본 유닛과는 상이하게 형성되지만, 대신, 그 카운터 유닛으로부터 방출된 카운터 파가 타겟 공간에서 그러한 유해한 파에 매칭하는 배열로 배치된다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은 유해한 파의 상이한 파면에 걸쳐 배치되지만, 그 유해한 파와 유사한 (또는 동일한) 카운터 파를 방출할 것이며, 따라서, 타겟 공간에서 그 유해한 파를 카운터링한다. 마지막 2개의 예에서, 그 카운터 유닛은 그 카운터 유닛 자체의 형상과 유사 (또는 동일) 할 수도 있거나 유사 (또는 동일) 할 수 없을 수도 있는 파면을 갖는 카운터 파를 방출하도록 배열될 수도 있지만, 그 카운터 파는 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의할 것이다.The basic principle of the counter unit of the general purpose electromagnetically-counted system of the present invention defines a phase angle which forms a wavefront similar to (or the same) wavefront of a harmful wave but at least partially opposite the phase angle of such a harmful wavefront. Is to emit a counter wave. Thus, by propagating such a counter wave into a target space, the counter wave can, for example, eliminate at least a portion of such harmful waves in the target space and / or inhibit the harmful waves from propagating toward the target space. The harmful waves can be effectively countered in the target space. For this purpose, the counter unit is arranged to emit a counter wave by various mechanisms that define a wavefront that matches the wavefront of the harmful wave. In one example, such counter units are formed (same) as similar to the base unit of the wave source, or arranged similarly (same) to such base unit, and thus counters that can counter harmful waves in the target space. Emit waves. In another example, such a counter unit is disposed along one or more of the wavefronts of the harmful wave and emits a counter wave that is similar (or identical) to that harmful wave, and thus counteracts the harmful wave in the target space. In these two examples, the counter unit will emit a counter wave having a wavefront similar (or identical) to the shape of such counter unit itself, and such counter wave will define a phase angle that is at least partially opposite to that of the harmful wave. will be. In another example, the counter units are formed differently from the base unit, but instead the counter waves emitted from the counter units are arranged in an arrangement that matches those harmful waves in the target space. In another example, the counter unit is placed over different wavefronts of the harmful wave, but will emit a counter wave similar (or identical) to that harmful wave, and therefore counter that harmful wave in the target space. In the last two examples, the counter unit may be arranged to emit a counter wave with a wavefront that may or may not be similar (or identical) to the shape of the counter unit itself, but the counter A wave will define a phase angle that is at least partially opposite to that of the harmful wave.

본 발명의 범용 전자기적으로-카운터링된 시스템의 카운터 유닛의 기본 원리는, 그 시스템으로부터의 유해한 파의 조사를 최소화하기 위해 다양한 종래의 디바이스에 구현될 수도 있다. 예를 들어, 그 카운터 유닛은, 예를 들어, 타겟 공간에서 유해한 파의 적어도 일부를 소거하고 및/또는 그 유해한 파가 그 타겟 공간을 향해 전파하는 것을 억제하여, 그러한 유해한 파를 카운터 파에 의해 카운터링함으로써 그 유해한 파의 조사를 최소화하기 위해, 전기 도전성 와이어, 코일, 및/또는 시트의 임의의 기본 유닛, 다른 방법으로, 임의의 전기 반도전성 및/또는 절연 와이어, 코일, 및/또는 시트에 구현될 수도 있으며, 여기서, 그 카운터 유닛은 적어도 하나의 전기 도전성, 절연 또는 반도전성 재료로 구성될 수도 있고 및/또는 그 재료를 포함할 수도 있다. 그 카운터 유닛은, 하나 또는 다수의 와이어, 코일, 및/또는 시트를 포함함으로써, 및 하나 또는 다수의 와이어, 코일, 및/또는 시트의 형상을 변형시킴으로써 형성될 수도 있는 형상을 정의하는 그러한 기본 유닛 중 임의의 기본 유닛에 구현될 수도 있으며, 여기서, 그 변형된 형상의 몇몇 예는 솔레노이드 및 토로이드를 포함할 수도 있고, 그들 각각은 그러한 코일의 형상을 변형시킴으로써 형성된다. 따라서 및 일 예에서, 그러한 카운터 유닛은, 유해한 파의 조사를 최소화하기 위해, 콘-드라이브 스피커, 정전형 스피커, 및 압전 스피커와 같은 다양한 스피커에 구현될 수도 있다. 따라서, 이어폰, 헤드폰, 유선 전화기, 이동 전화기, 및 시청각 디바이스와 같은 전자기적으로-카운터링된 스피커를 포함하는 임의의 종래 기술의 디바이스는 전자기적으로 카운터링된 시스템으로 변환될 수도 있다. 유사하게, 카운터 유닛은, 그러한 스피커들의 인버스 예인 다양한 마이크로폰, 및 유선 전화기, 이동 전화기, 오디오 및/또는 시청각 사운드 시스템과 같은 그러한 전자기적으로-카운터링된 마이크로폰을 포함한 임의의 종래 기술의 디바이스에 구현될 수도 있으며, 이어폰 및 마이크로폰의 어셈블리는 전자기적으로-카운터링된 시스템으로 변환될 수도 있다. 또 다른 예에서, 그러한 카운터 유닛은, 그러한 유해한 파의 조사를 최소화하기 위해, DC 모터, 유니버셜 모터, AC 동기형 모터, AC 유도형 모터, 선형 모터 등과 같은 다양한 모터에 구현될 수도 있다. 따라서, 주방 기기 (예를 들어, 푸드 프로세서, 믹서기, 쥬서, 분쇄기, 혼합기, 압착기, 캔 오프너, 식기 세척기, 냉장고, 냉동기, 쿨러 등), 조리 기기 (예를 들어, 전기 그릴, 전기 오븐, 전기 스토브, 전기 레인지, 전기 토스터, 그들을 위한 전기 팬 등), 가전 기기 (예를 들어, 세탁기, 건조기, 에어콘, 차고 오프너, 건식 또는 습식 진공 청소기 등), 도구 (예를 들어, 전기 드릴, 전기 톱, 전기 스크루 드라이버, 전기 못 또는 스테이플 건, 전기 샌더 등), 및 개인용 위생 디바이스 (예를 들어, 전기 면도기, 전기 칫솔, 전기 헤어 드라이어 등) 와 같은 전자기적으로-카운터링된 모터를 포함하는 임의의 종래 기술의 액추에이터 디바이스는 전자기적으로 카운터링된 시스템으로 변환될 수도 있다. 유사하게, 카운터 유닛은 다양한 발전기에 또한 구현될 수도 있으며, AC 발전기, DC 발전기, 및 (자동차의) 교류발전기와 같은 전자기적으로-카운터링된 발전기를 갖는 임의의 종래 기술의 발생 디바이스는 또한 전자기적으로 카운터링된 시스템으로 변환될 수도 있다. 또 다른 예에서, 그러한 카운터 유닛은 적어도 2개의 코일을 그 내에 포함하는 다양한 트랜스포머에 구현될 수도 있으며, 스텝-업 트랜스포머, 스텝-다운 트랜스포머 및 다양한 전기 디바이스의 AC/DC 어댑터와 같은 전자기적으로-카운터링된 트랜스포머를 포함한 임의의 종래 기술의 디바이스는 전자기적으로 카운터링된 시스템으로 변환될 수도 있다. 또 다른 예에서, 그러한 카운터 유닛은, 가열 동안 유해한 파의 조사를 최소하기 위해, 적어도 하나의 저항성 가열 와이어, 가열 스트립, 가열 시트, 및/또는 가열 코일을 포함하는 다양한 가열 유닛에 구현될 수도 있다. 따라서, 개인용 가열 기기 (예를 들어, 전기 매트리스 또는 매트, 전기 담요, 전기 가열 패드 등), 조리 기기 (예를 들어, 전기 그릴, 전기 오븐, 전기 스토브, 전기 레인지, 전기 토스터, 전기 토스트 오븐 등), 및/또는 미용 -관련 기기 (예를 들어, 헤어 드라이어, 헤어 셋팅기, 헤어 컬러, 헤어 스팀기 등) 과 같은 임의의 종래 기술의 가열 디바이스는 전자기적으로 카운터링된 시스템으로 변환될 수도 있다. 또 다른 예에서, 그러한 카운터 유닛은 조명 동안 그러한 유해한 파의 조사를 최소화하기 위해 다양한 발광 유닛에 구현될 수도 있다. 따라서, 음극선 튜브, 발광 디바이스, 유기 발광 디바이스, 무기 발광 디바이스, 및 플라즈마 디스플레이 패널과 같은 임의의 종래 기술의 디스플레이 디바이스는 전자기적으로-카운터링된 시스템으로 변환될 수도 있다.The basic principle of the counter unit of the general purpose electromagnetically-counted system of the present invention may be implemented in various conventional devices to minimize irradiation of harmful waves from the system. For example, the counter unit may, for example, eliminate at least some of the harmful waves in the target space and / or inhibit the harmful waves from propagating towards the target space, thereby transmitting the harmful waves by the counter waves. Any base unit of electrically conductive wires, coils, and / or sheets, in other ways, any electrically semiconductive and / or insulated wires, coils, and / or sheets, in order to minimize irradiation of their harmful waves by countering And the counter unit may be composed of and / or comprise at least one electrically conductive, insulating or semiconductive material. The counter unit is such a basic unit that defines a shape that may be formed by including one or multiple wires, coils, and / or sheets, and by modifying the shape of one or multiple wires, coils, and / or sheets. May be implemented in any of the basic units, wherein some examples of the modified shape may include solenoids and toroids, each of which is formed by modifying the shape of such a coil. Thus and in one example, such counter units may be implemented in various speakers, such as cone-drive speakers, capacitive speakers, and piezoelectric speakers, to minimize irradiation of harmful waves. Thus, any prior art device including electromagnetically-counted speakers such as earphones, headphones, landline phones, mobile phones, and audiovisual devices may be converted to an electromagnetically countered system. Similarly, the counter unit is implemented in any prior art device, including various microphones that are inverse examples of such speakers, and such electromagnetically-counted microphones such as landline phones, mobile phones, audio and / or audiovisual sound systems. The assembly of earphones and microphone may be converted to an electromagnetically-counted system. In another example, such counter units may be implemented in various motors, such as DC motors, universal motors, AC synchronous motors, AC induction motors, linear motors, and the like, to minimize irradiation of such harmful waves. Thus, kitchen appliances (e.g., food processors, blenders, juicers, grinders, mixers, presses, can openers, dishwashers, refrigerators, freezers, coolers, etc.), cooking appliances (e.g. electric grills, electric ovens, electric Stoves, electric stoves, electric toasters, electric fans for them, etc.), household appliances (e.g. washing machines, dryers, air conditioners, garage openers, dry or wet vacuum cleaners, etc.), tools (e.g. electric drills, chainsaws) , Electromagnetically-counted motors, such as electric screwdrivers, electric nail or staple guns, electric sanders, etc., and personal hygiene devices (eg, electric shavers, electric toothbrushes, electric hair dryers, etc.). The prior art actuator device may be converted to an electromagnetically countered system. Similarly, the counter unit may also be implemented in various generators, and any prior art generating device having an electromagnetically-counted generator, such as an AC generator, a DC generator, and an alternator (of a motor vehicle) may also be used electronically. It may be converted to a system that is miraculously countered. In another example, such a counter unit may be implemented in a variety of transformers including at least two coils therein, and electromagnetically- such as step-up transformers, step-down transformers and AC / DC adapters of various electrical devices. Any prior art device, including countered transformers, may be converted to an electromagnetically countered system. In yet another example, such counter units may be implemented in various heating units including at least one resistive heating wire, heating strip, heating sheet, and / or heating coil to minimize irradiation of harmful waves during heating. . Thus, personal heating appliances (e.g. electric mattresses or mats, electric blankets, electric heating pads, etc.), cooking appliances (e.g. electric grills, electric ovens, electric stoves, electric ranges, electric toasters, electric toast ovens, etc.) ) And / or any prior art heating device such as a beauty-related device (eg, hair dryer, hair setter, hair curler, hair steamer, etc.) may be converted to an electromagnetically countered system. In another example, such counter units may be implemented in various light emitting units to minimize irradiation of such harmful waves during illumination. Thus, any prior art display device such as cathode ray tube, light emitting device, organic light emitting device, inorganic light emitting device, and plasma display panel may be converted to an electromagnetically-counted system.

각각이 적어도 하나의 기본 유닛을 포함할 수도 있고, 따라서, 약 50Hz 내지 60Hz의 주파수를 갖는 전기파 (이하, 'EW' 로 약칭됨) 및 전자파 (이하, 'MW' 로 약칭됨) 및/또는 더 높은 주파수의 EW 및 MW를 포함하는 유해한 파를 조사할 수도 있는 임의의 전기 및/또는 전자 디바이스들에 본 발명의 그러한 범용 전자기적으로-카운터링된 시스템 (이하, 'EMC 시스템' 또는 간단히 '시스템' 으로 약칭됨) 의 다양한 카운터 유닛이 포함될 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 또한, 이전에 제공되었고 이후에 제공될 적어도 하나의 기본 유닛의 상세한 예를 포함하는 임의의 휴대용 또는 고정 전기 및/또는 전자 디바이스에 본 발명의 범용 EMC 시스템이 또한 포함될 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 또한, 그러한 카운터 유닛이 미크론-스케일로 제공되고 LSI 및 VLSI 디바이스와 같은 반도체 칩 및 회로에 포함될 수도 있으며, 그러한 카운터 유닛이 나노-스케일로 제공되고, 이 경우, 단일 분자 또는 화합물일 수도 있거나 다수의 분자들 또는 화합물들의 클러스터일 수도 있는 적어도 하나의 기본 유닛을 포함하는 다양한 나노 디바이스에 포함될 수도 있다는 것을 인식할 것이다.Each may include at least one base unit, and thus, electric waves having a frequency of about 50 Hz to 60 Hz (hereinafter abbreviated as 'EW') and electromagnetic waves (hereinafter abbreviated as 'MW') and / or more Any general purpose electromagnetically-counted system of the present invention (hereinafter, 'EMC system' or simply 'system' may be applied to any electrical and / or electronic devices that may irradiate harmful waves including high frequency EW and MW. It will be appreciated that various counter units may be included. In addition, it will be appreciated that any portable or stationary electrical and / or electronic device may also include a general purpose EMC system of the present invention, including detailed examples of at least one base unit provided previously and later. In addition, such counter units may be provided in micron-scale and included in semiconductor chips and circuits such as LSI and VLSI devices, such counter units may be provided in nano-scale, where a single molecule or compound may be or It will be appreciated that it may be included in various nanodevices that include at least one base unit, which may be a cluster of molecules or compounds.

다음으로, 본 발명의 다양한 시스템, 방법, 및/또는 프로세스의 다양한 양태들 및/또는 실시형태들은 첨부한 도면 및 텍스트를 참조하여 더 상세하게 설명될 것이며, 여기서, 본 발명의 그러한 양태들 및/또는 실시형태들은 단지 상이한 형태를 나타낼 뿐이다. 그러나, 본 발명의 그러한 시스템, 방법, 및/또는 프로세스는 많은 다른 상이한 형태로 또한 구현될 수도 있으며, 따라서, 여기에서 전술한 그러한 양태들 및/또는 실시형태들에 제한되어야 하는 것은 아니다. 대신, 여기에 설명된 다양한 예시적인 양태들 및/또는 실시형태들은, 이러한 개시가 철저하고 완전하며 본 발명의 범위를 당업자에게 충분히 전달하도록 제공된다.Next, various aspects and / or embodiments of various systems, methods, and / or processes of the invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings and text, where such aspects and / or of the invention Or the embodiments merely represent different forms. However, such systems, methods, and / or processes of the present invention may also be embodied in many other different forms and, therefore, are not to be limited to the aspects and / or embodiments described above. Instead, the various illustrative aspects and / or embodiments described herein are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art.

달리 특정되지 않는다면, 통상적으로, 본 발명의 다양한 시스템의 다양한 부재들, 유닛들, 엘리먼트들, 및 부분들이 예시의 용이함을 위해 스케일 및/또는 비율로 도시되지 않음을 이해할 것이다. 또한, 동일한 참조부호에 의해 지정된 본 발명의 다양한 시스템의 그러한 부재들, 유닛들, 엘리먼트들, 및/또는 부분들이 각각, 그 시스템의 동일, 유사, 및/또는 기능적으로 동등한 부재들, 유닛들, 엘리먼트들, 및/또는 부분들을 나타낼 수도 있음을 이해할 것이다.Unless otherwise specified, it will typically be understood that various members, units, elements, and portions of the various systems of the present invention are not drawn to scale and / or ratio for ease of illustration. Further, such members, units, elements, and / or portions of the various systems of the present invention, designated by the same reference numerals, are the same, similar, and / or functionally equivalent members, units, of the system, respectively, It will be understood that the elements, and / or portions, may be represented.

본 발명의 일반적인 양태에서, EMC 시스템은, 적어도 하나의 파원 및 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함하고, 그 카운터 유닛으로부터 방출된 카운터 전자기파 (이하, '카운터 파' 로 약칭됨) 로 그 파원으로부터 조사된 유해한 전자기 파 (이하, '유해한 파' 로 약칭됨) 를 카운터링한다. 그 파원은, 즉, 유해한 파를 조사하는 것, 그 유해한 파의 진폭 및/또는 위상각을 유지 또는 변경하는 동안 그 유 해한 파의 전파 경로에 영향을 주는 것 등을 행하는, 그러한 유해한 파의 실제 소스인 적어도 하나의 기본 유닛을 항상 포함하며, 그러한 기본 유닛의 예는, 전류가 그 내에 흐를 때 그들 모두 그러한 유해한 파를 방출하는, 와이어, 스트립, 플레이트, 그 기본 유닛의 링, 그 기본 유닛의 코일, 그 기본 유닛의 나선, 및 그 기본 유닛의 메시와 같은 도전성 또는 반도전성 물품, 전압이 인가될 때 그들 모두 그러한 전류를 운송할 수는 없지만 유해한 파를 방출할 수는 있는, 와이어, 스트립, 플레이트, 그 기본 유닛의 링, 그 기본 유닛의 코일, 그 기본 유닛의 나선 및 그 기본 유닛의 메시와 같은 그 절연 물품, 그러한 유해한 파의 방향, 경로, 및/또는 진폭에 영향을 줄 수 있는 영구 자석 등을 포함할 수도 있지만, 이에 제한되지 않는다. 그 파원은, 유해한 파를 조사하거나 그 유해한 파의 전파 경로에 영향을 주지는 않지만 그러한 기본 유닛을 기계적으로 지지 또는 유지하는 적어도 하나의 옵션 부분을 더 포함하며, 그 옵션 부분의 예는, 그 기본 유닛을 둘러싼 케이스, 보호 커버, 커플러, 그러한 전류가 흐르지 않는 임의의 부분, 전압이 인가되지 않는 임의의 부분 등을 포함할 수도 있지만, 이에 제한되지는 않는다. 그 카운터 유닛은, 예를 들어, 그 유해한 파를 소거하고 및/또는 그 유해한 파가 특정 방향을 따라 전파하는 것을 억제함으로써 그 유해한 파를 카운터링할 수 있는 그러한 카운터 파를 방출하도록 배열된다. 그 카운터 유닛은, 파원의 기본 유닛으로부터의 모든 방향에서, 예를 들어, 그러한 기본 유닛의 위, 아래 및 주변에서 그 유해한 파를 카운터링하도록 배열될 수도 있다. 그러나, 그러한 실시형태는, 구현하기에 비용이 많이 들 수도 있고, 가능하지 않을 수도 있으며, 특히, 그러한 유해한 파로부터 보호될 사용자에 의해 EMC 시스템이 특정 배향에서 사용될 때 불필요할 수도 있다. 그러한 경우, 그 카운터 유닛은, 그 기본 유닛과 그 사용자 (또는 그 기본 유닛의 특정 보디부) 사이에 일반적으로 정의된 특정 타겟 공간 (또는 영역) 주변에서만 그 유해한 파를 카운터링하도록 배열된다.In a general aspect of the present invention, an EMC system includes at least one source and at least one counter unit and is irradiated from the source with counter electromagnetic waves (hereinafter, abbreviated as 'counter waves') emitted from the counter unit. Counter harmful electromagnetic waves (hereinafter, abbreviated as 'harmful waves'). The source of the wave, ie irradiating the harmful wave, affecting the path of propagation of the harmful wave while maintaining or changing the amplitude and / or phase angle of the harmful wave, etc. An example of such a base unit is a wire, strip, plate, ring of the base unit, its base unit, which always includes at least one base unit which is the actual source, all of which emit such harmful waves when current flows therein. Coils, spirals of the base unit, and conductive or semiconducting articles such as the mesh of the base unit, wires, strips, which, when voltage is applied, are not all capable of carrying such a current but may emit harmful waves , Plates, rings of the base unit, coils of the base unit, spirals of the base unit and its insulating articles, such as meshes of the base unit, directions, paths, and / or of such harmful waves May include, but is not limited to, a permanent magnet that may affect the amplitude. The source further comprises at least one optional part which mechanically supports or maintains such a base unit, although it does not examine the harmful wave or affect the propagation path of the harmful wave, an example of the optional part being the basic It may include, but is not limited to, a case surrounding the unit, a protective cover, a coupler, any portion of which no current flows, any portion of which no voltage is applied, and the like. The counter unit is arranged to emit such a counter wave that can counter the harmful wave, for example by eliminating the harmful wave and / or inhibiting the harmful wave from propagating along a particular direction. The counter unit may be arranged to counter the harmful wave in all directions from the base unit of the wave source, for example above, below and around the base unit. However, such an embodiment may be expensive or impossible to implement, and in particular may be unnecessary when the EMC system is used in a particular orientation by the user to be protected from such harmful waves. In that case, the counter unit is arranged to counter the harmful waves only around a particular target space (or area) defined generally between the base unit and the user (or a particular body portion of the base unit).

카운터 파가 그러한 유해한 파를 카운터링 (즉, 소거 및/또는 억제) 하기 위해, 그 카운터 파가 만족해야 하는 몇몇 전제 조건이 존재한다. 첫번째는 그 카운터 파의 위상각이다. 일반적으로, 그러한 카운터 파는, 기본 유닛과 동일한 측면으로부터 타겟 공간으로 전파할 때, 그러한 카운터 파가 유해한 파를 소거 및/또는 억제할 수도 있도록 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 또는 실질적으로 반대인 위상각을 정의하는 것이 바람직하다. 다른 방법으로, 그 카운터 파는, 기본 유닛의 반대측으로부터 타겟 공간으로 전파할 때, 그러한 카운터 파가 그 유해한 파를 소거 및/또는 억제하도록 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 유사한 (또는 동일한) 위상각을 가질 수도 있다. 시스템이 다수의 카운터 유닛을 포함할 경우, 각각의 카운터 유닛은 동일한, 유사한 또는 상이한 위상각을 갖는 카운터 파를 방출할 수도 있다. 그 다음은 카운터 파의 진폭이다. 그 위상각과는 대조적으로, 그러한 카운터 파는, 타겟 공간에서 그 유해한 파를 효과적으로 카운터링하는 다양한 진폭을 정의할 수도 있다. 기본 유닛보다 타겟 공간에 더 근접하게 배치되는 경우, 카운터 유닛은 단지 그 유해한 파의 진폭보다 작은 진폭을 갖는 카운터 파를 방출해야 한다. 마찬가지로, 타겟 공간에 관해 수평으로 배치되는 그 카운터 유닛이 그 유해한 파와 유사한 또는 동일한 진폭을 갖는 카운터 파를 방출해야 하는 동안, 기본 유닛으로부터 이격하여 배치된 그 카운터 유닛은 그 유해한 파의 진폭보다 더 큰 진폭을 갖는 카운터 파를 방출해야 한다. 시스템이 다수의 카운터 유닛을 포함하는 경우, 그러한 모든 카운터 유닛은 기본 유닛 및/또는 타겟 공간으로부터 유사한 거리에 배치될 수도 있거나, 다른 방법으로, 그 카운터 유닛 중 적어도 2개의 카운터 유닛은 기본 유닛 및/또는 타겟 공간으로부터 상이한 거리에 배치될 수도 있다. 그 카운터 유닛의 거리 및/또는 배치 이외에, 그 카운터 파가 타겟 공간의 전체 부분에 걸쳐 또는 그러한 타겟 공간내의 미리 설정된 위치에서만 유해한 파를 카운터링하는지 여부에 의존하여, 그러한 카운터 파는 다양한 강도를 가질 수도 있다. 예를 들어, 카운터 유닛은, 사용자가 타겟 공간에 걸쳐 임의의 곳에 위치될 때, 그 타겟 공간을 통해 그 유해한 파를 카운터링할 수 있는 카운터 파를 방출하는 것이 바람직하다. 그러나, 사용자가 타겟 공간의 미리 설정된 위치에만 위치되는 경우, 카운터 유닛은, 타겟 공간의 다른 부분에서 그러한 효율성을 갖지는 않지만 그러한 위치에서 그 유해한 파를 최상으로 카운터링하는 카운터 파를 방출하도록 형성, 사이징, 배열 및 그 후 배치될 수도 있다.In order for a counter wave to counter (ie, erase and / or suppress) such harmful waves, there are some preconditions that the counter wave must meet. The first is the phase angle of the counter wave. Generally, such a counter wave is at least partially or substantially opposite the phase angle of the harmful wave so that when propagating from the same side as the base unit into the target space, such counter wave may cancel and / or suppress the harmful wave. It is desirable to define the angle. Alternatively, the counter wave, when propagating from the opposite side of the base unit into the target space, is at least partially similar (or identical) to the phase angle of the harmful wave such that the counter wave cancels and / or suppresses the harmful wave. May have If the system includes multiple counter units, each counter unit may emit counter waves with the same, similar or different phase angles. Next is the amplitude of the counter wave. In contrast to its phase angle, such counter waves may define various amplitudes that effectively counter the harmful waves in target space. If placed closer to the target space than the base unit, the counter unit should only emit a counter wave with an amplitude less than that of the harmful wave. Similarly, while the counter units placed horizontally with respect to the target space must emit counter waves having an amplitude similar or equal to the harmful waves, the counter units placed away from the base unit are larger than the amplitude of the harmful waves. It should emit a counter wave with amplitude. If the system comprises a plurality of counter units, all such counter units may be arranged at a similar distance from the base unit and / or the target space, or alternatively, at least two of the counter units may be the base unit and / Or may be arranged at different distances from the target space. In addition to the distance and / or placement of the counter unit, such a counter wave may have various intensities, depending on whether the counter wave counters harmful waves over the entire portion of the target space or only at preset locations within such target space. have. For example, the counter unit preferably emits a counter wave that can counter the harmful wave through the target space when the user is positioned anywhere over the target space. However, if the user is located only at a preset location in the target space, the counter unit is configured to emit a counter wave that does not have such efficiency in other parts of the target space but best counters that harmful wave at that location, Sizing, arranging and then disposed of.

일단 카운터 유닛이 적절한 위상각 및 진폭을 정의하는 카운터 파를 방출하도록 배열되면, 그러한 카운터 유닛은, 상세한 카운터링 메커니즘에 의존하여 유해한 파를 카운터링하기 위해 형성, 사이징, 배열 및 배치될 수도 있다.Once the counter unit is arranged to emit a counter wave defining an appropriate phase angle and amplitude, such counter unit may be formed, sized, arranged and arranged to counter harmful waves depending on the detailed countering mechanism.

일 예에서, 카운터 유닛은 기본 유닛과 유사하게 (또는 동일하게) 형성, 사이징, 및/또는 배열될 수도 있으며, 이는, 이하, '소스 매칭' 으로 지칭될 것이다. 그 '소스 매칭' 의 기본 개념은, 그 카운터 유닛이 그 카운터 유닛의 구성 (즉, 형상, 사이즈, 및 배열) 과 유사한 파면을 정의하는 카운터 파를 방출하고, 그 카운터 파의 그러한 파면이 유해한 파의 파면에 자동으로 매칭하는 것이며, 그 카운터 파는 그 카운터 유닛과 그 기본 유닛 사이의 유사성으로 인해 그 유해한 파를 카운터링한다. 시스템이 다수의 기본 유닛을 포함하는 경우, 단일 카운터 유닛은, 그러한 기본 유닛 중 하나의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파를 카운터링하거나 그러한 기본 유닛 모두 또는 그러한 기본 유닛 중 적어도 2개의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파의 합산을 카운터링할 수 있는 유해한 파를 방출하도록 배열될 수도 있다. 시스템이 다수의 카운터 유닛을 포함하는 경우, 그러한 카운터 유닛은, 단일 기본 유닛 또는 다수의 기본 유닛에 의해 방출된 유해한 파를 카운터링할 수 있는 카운터 파를 방출할 수도 있다. 시스템이 다수의 카운터 유닛 및 기본 유닛을 포함하는 경우, 각각의 카운터 유닛으로부터의 그러한 카운터 파는 각각의 기본 유닛에 의한 유해한 파를 카운터링할 수도 있고, 적어도 2개의 카운터 유닛으로부터의 그러한 카운터 파의 합산은 기본 유닛 중 하나의 기본 유닛으로부터의 유해한 파를 카운터링할 수도 있고, 단일 카운터 유닛으로부터의 카운터 파는 적어도 2개의 기본 유닛으로부터의 유해한 파의 합산을 카운터링할 수도 있고, 그러한 모든 카운터 유닛으로부터의 카운터 파의 합산은 모든 기본 유닛으로부터의 유해한 파의 합산을 카운터링할 수도 있다. 이러한 '소스 매칭' 에서, 카운터 유닛이 그 카운터 유닛의 구성과 유사한 구성의 파면을 갖는 카운터 파를 방출하는 것이 바람직하다. 그러나, 카운터 파가 그러한 타겟 공간에서 유해한 파를 카 운터링할 수도 있는 한, 그러한 카운터 유닛이 그 카운터 유닛의 구성과 상이한 구성의 파면을 갖는 카운터 파를 방출하는 것이 가능하고, 다수의 카운터 유닛들에 의해 방출된 카운터 파의 합산의 파면이 각각의 카운터 유닛의 구성과 상이한 구성 또는 그 카운터 유닛의 배열을 가질 수도 있는 것 등이 가능하다.In one example, the counter unit may be formed, sized, and / or arranged similarly (or identically) to the base unit, which will hereinafter be referred to as 'source matching'. The basic concept of 'source matching' is that the counter unit emits a counter wave that defines a wavefront similar to the configuration (ie, shape, size, and arrangement) of the counter unit, and that wavefront of the counter wave is harmful. It automatically matches the wavefront of, and the counter wave counters the harmful wave due to the similarity between the counter unit and the base unit. If the system includes multiple base units, a single counter unit may counter harmful waves irradiated by one of those base units or by all or more of those base units or by at least two of those base units. It can also be arranged to emit harmful waves that can counter the sum of the harmful waves investigated. If the system includes multiple counter units, such counter units may emit counter waves that can counter harmful waves emitted by a single base unit or multiple base units. If the system includes multiple counter units and base units, such counter waves from each counter unit may counter harmful waves by each base unit, and sum up those counter waves from at least two counter units. May counter harmful waves from one of the base units, and a counter wave from a single counter unit may counter the sum of harmful waves from at least two base units, and from all such counter units The summation of counter waves may counter the summation of harmful waves from all base units. In this 'source matching', it is preferable that the counter unit emits a counter wave having a wavefront having a configuration similar to that of the counter unit. However, as long as the counter wave may count harmful waves in such target space, it is possible for such a counter unit to emit a counter wave having a wavefront of a configuration different from that of the counter unit, and a large number of counter units It is possible that the wavefront of the summation of the counter waves emitted by the waveguide may have a configuration different from that of each counter unit or an arrangement of the counter units.

또 다른 예에서, 카운터 유닛은, 카운터 파의 적어도 하나의 파면이 유해한 파의 적어도 하나의 파면에 매칭할 수도 있는 방식으로 배치 (즉, 배향, 정렬, 및/또는 위치) 될 수도 있으며, 여기서, 그러한 메커니즘은, 이하, '파 매칭' 으로 지칭될 것이다. 그 '파 매칭' 의 기본 개념은, 카운터 유닛의 구성이 그러한 '파 매칭' 을 충족하도록 적절히 조정될 수도 있는 한, 카운터 유닛이 유해한 파의 파면과 카운터 파의 파면을 매칭시키기 위한 그러한 위치로 배치되는 경우, 그 카운터 파가 그 유해한 파를 카운터링할 수도 있다는 것이다. 시스템이 다수의 기본 유닛을 포함하는 경우, 단일 카운터 유닛은, 그 기본 유닛 중 하나의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파에 매칭 또는 그 유해한 파를 카운터링할 수 있고, 다른 방법으로, 그 기본 유닛 중 적어도 2개의 기본 유닛 또는 그 모든 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파의 합산에 매칭 또는 그 합산을 카운터링할 수 있는 카운터 파를 방출하도록 배열될 수도 있다. 그러한 시스템이 다수의 카운터 유닛을 포함하는 경우, 그 카운터 유닛은, 단일 기본 유닛 또는 다수의 기본 유닛에 의해 방출된 유해한 파를 카운터링할 수 있는 카운터 파를 방출할 수도 있다. 시스템이 다수의 카운터 유닛 및 기본 유닛을 포함하는 경우, 카운터 파의 파면 중 적어도 하나의 파면이 타겟 공간에서 유해한 파의 파면 중 적어도 하나의 파면에 매칭할 수도 있는 한, 각각의 카운터 유닛으로부터의 그러한 카운터 파는 각각의 기본 유닛에 의한 유해한 파를 카운터링할 수도 있고, 적어도 2개의 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파의 합산은 기본 유닛 중 하나의 기본 유닛으로부터의 유해한 파를 카운터링할 수도 있고, 단일 카운터 유닛으로부터의 카운터 파는 적어도 2개의 기본 유닛으로부터의 유해한 파의 합산을 카운터링할 수도 있고, 그러한 모든 카운터 유닛으로부터의 카운터 파의 합산은 모든 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파의 합산을 카운터링할 수도 있다.In another example, the counter unit may be disposed (ie, oriented, aligned, and / or positioned) in such a way that at least one wavefront of the counter wave may match at least one wavefront of the harmful wave, where: Such a mechanism will hereinafter be referred to as 'wave matching'. The basic concept of 'wave matching' is that the counter unit is placed in such a position to match the wavefront of the harmful wave and the wavefront of the counter wave as long as the configuration of the counter unit may be properly adjusted to meet such 'wave matching'. In that case, the counter wave may counter the harmful wave. If the system includes multiple base units, a single counter unit can counter harmful waves that have been irradiated by one of the base units or counter those harmful waves, and in other ways, the base unit. May be arranged to emit a counter wave capable of matching or countering the sum of the harmful waves irradiated by at least two of the base units or all of the base units. If such a system includes multiple counter units, the counter unit may emit a counter wave that can counter harmful waves emitted by a single base unit or multiple base units. If the system includes multiple counter units and base units, such from each counter unit, as long as at least one of the wavefronts of the counter wave may match at least one of the harmful wavefronts in the target space. The counter wave may counter harmful waves by each base unit, and the sum of counter waves emitted by at least two counter units may counter harmful waves from one base unit of the base unit, The counter wave from the counter unit may counter the sum of harmful waves from at least two base units, and the sum of counter waves from all such counter units may counter the sum of harmful waves investigated by all base units. It may be.

소스 매칭 및/또는 파 매칭에 기초하여 구성된 다양한 카운터 유닛이 이하 개시될 것이다. 그 소스 매칭에서, 그러한 카운터 유닛의 구성과 그 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파의 구성 사이에 임의의 일-대-일 상관이 존재하지 않다는 것을 인식할 것이다. 즉, 일정한 구성 (또는 파 특성) 의 카운터 파는, 일정한 형상 및 사이즈를 정의하고 일정한 배열로 제공되는 단일 카운터 유닛, 유사한 형상 및 사이즈를 정의하지만 또 다른 배열로 제공되는 또 다른 카운터 유닛, 상이한 형상 및 사이즈를 갖지만 유사한 배열로 제공되는 또 다른 카운터 유닛, 미리 설정된 형상 및 사이즈를 갖고 미리 설정된 배열로 제공되는 적어도 2개의 카운터 유닛, 상이한 형상 및/또는 사이즈를 정의하거나 상이한 배열에서의 동일한 수의 카운터 유닛, 및 유사한 형상 및/또는 사이즈를 정의하거나 유사한 배열에서의 상이한 수의 카운터 유닛에 의해 획득될 수도 있다. 유사하게, 상기 파 매칭에서, 카운터 유닛의 배치와 그 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파의 파면 사이에 일-대-일 상관이 존재하지 않는다는 것을 인식할 것이다. 즉, 일정한 형상을 갖는 파면은, 일정한 구성을 정의하고 기본 유닛 및/또는 타겟 공간에 관해 일정한 위치에 배치되는 단일 카운터 유닛, 또 다른 구성을 형성하고 또 다른 위치에 배치되는 또 다른 단일 카운터 유닛, 미리 설정된 구성을 갖고 미리 설정된 위치에 배치되는 적어도 2개의 카운터 유닛, 상이한 구성을 정의하고 상이한 위치에 배치되는 동일한 수의 카운터 유닛, 상이한 구성을 정의하고 상이한 위치로 배치되는 상이한 수의 카운터 유닛 등에 의해 획득될 수도 있다. 따라서, 그러한 카운터 유닛은 많은 다른 상이한 형태로 구현될 수도 있으며, 여기에서 설명될 다음의 양태들 및/또는 그 양태들의 실시형태들에 제한되지 않아야 한다는 것을 인식할 것이다. 대신, 여기에 설명된 다양한 예시적인 양태들 및/또는 실시형태들은, 이러한 개시가 철저하고 완전하며, 본 발명의 범위를 당업자에게 충분히 전달할 수 있도록 제공된다.Various counter units configured based on source matching and / or wave matching will now be described. In its source matching, it will be appreciated that there is no one-to-one correlation between the configuration of such a counter unit and the configuration of the counter wave emitted by that counter unit. That is, a counter wave of constant configuration (or wave characteristics) is a single counter unit that defines a constant shape and size and is provided in a constant arrangement, another counter unit that defines a similar shape and size but is provided in another arrangement, a different shape and Another counter unit having a size but provided in a similar arrangement, at least two counter units having a preset shape and size and provided in a preset arrangement, the same number of counter units defining different shapes and / or sizes or in different arrangements , And similar shapes and / or sizes may be defined or obtained by different numbers of counter units in similar arrangements. Similarly, in the wave matching, it will be appreciated that there is no one-to-one correlation between the placement of the counter unit and the wavefront of the counter wave emitted by the counter unit. That is, the wavefront having a constant shape may be defined as a single counter unit defining a certain configuration and disposed at a predetermined position with respect to the base unit and / or the target space, another single counter unit forming another configuration and disposed at another position, By at least two counter units having a preset configuration and arranged at preset positions, the same number of counter units defining different configurations and placed at different positions, different numbers of counter units defining different configurations and placed at different positions, etc. May be obtained. Thus, it will be appreciated that such counter units may be implemented in many other different forms and should not be limited to the following aspects and / or embodiments of the aspects described herein. Instead, various illustrative aspects and / or embodiments described herein are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art.

본 발명의 또 다른 양태에서, 단일 범용 카운터 유닛은, 그 카운터 유닛으로부터의 카운터 파에 의해 단일 범용 기본 유닛으로부터의 유해한 파를 카운터링하기 위하여, 그 기본 유닛에 대해 제공될 수도 있다. 도 1a 내지 도 1f는 예시적인 전자기 카운터링 메커니즘의 개략적인 상면도를 도시하며, 그 메커니즘 각각에서, 단일 카운터 유닛은, 본 발명에 따라, 단일 파원의 단일 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 파를 카운터링할 수 있는 카운터 파를 방출하며, 여기서, 그 기본 유닛은 도 1a 내지 도 1c 및 도 1f에서 포인트 소스이지만, 그 기본 유닛은 도 1d 및 도 1e에서 연장된 소스이다. 그러나, 이러한 도면들이 또한 상이한 관점에서 해석될 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 예를 들어, 그러한 도면들은 상부 단면도로서 해석될 수도 있으며, 여기서, 도 1a 내지 도 1c 및 도 1f의 기본 유닛은 시트에 수직으로 연장한 와이어이고, 도 1d 및 도 1e의 기본 유닛은 그 시트에 수직으로 또한 연장한 스트립 또는 직사각형 로드이다. 또 다른 예에서, 그 도면들은 더 복잡한 물품의 단면도로서 해석될 수도 있으며, 여기서, 도 1a 내지 도 1c 및 도 1f의 기본 유닛은, 코일, 나선, 메시 등의 섹션에 대응하지만, 도 1d 및 도 1e의 기본 유닛은 곡선형 로드 또는 스트립의 단면에 유사하게 대응할 수도 있다. 또한, 이러한 도면들에서, 그러한 기본 유닛들은, 그러한 유해한 파를 조사하지 않는 그러한 시스템의 케이스 또는 다른 부분일 수도 있는 파원에서 둘러싸여 있다는 것을 인식할 것이다. 또한, 이러한 모든 도면들에서, 타겟 공간이 카운터 유닛 및 기본 유닛의 우측에 형성되는 방식으로 EMC 시스템이 배치된다는 것을 인식할 것이다.In another aspect of the invention, a single general purpose counter unit may be provided for the base unit in order to counter harmful waves from the single general purpose base unit by the counter wave from the counter unit. 1A-1F show schematic top views of an exemplary electromagnetic countering mechanism, in which a single counter unit counters harmful waves irradiated from a single base unit of a single wave source, in accordance with the present invention. Emit a counter wave, where the base unit is the point source in FIGS. 1A-1C and 1F, but the base unit is the extended source in FIGS. 1D and 1E. However, it will be appreciated that these figures may also be interpreted in different respects. For example, such figures may be interpreted as a top cross-sectional view, wherein the base units of FIGS. 1A-1C and 1F are wires extending perpendicular to the sheet, and the base units of FIGS. 1D and 1E are mounted on the sheet. It is also a strip or rectangular rod that extends vertically. In another example, the figures may be interpreted as cross-sectional views of more complex articles, where the basic units of FIGS. 1A-1C and 1F correspond to sections of coils, spirals, meshes, and the like, while FIGS. 1D and FIG. The base unit of 1e may similarly correspond to the cross section of the curved rod or strip. In addition, in these figures, it will be appreciated that such base units are surrounded by sources that may be cases or other parts of such systems that do not irradiate such harmful waves. Also, in all these figures, it will be appreciated that the EMC system is arranged in such a way that the target space is formed on the right side of the counter unit and the base unit.

본 발명의 그러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서 및 도 1a에 설명된 바와 같이, EMC 시스템 (5) 은 단일 직사각형 파원 (10) 및 단일 카운터 유닛 (40) 을 포함하며, 여기서, 그 소스 (10) 는 포인트 소스의 형상을 정의하는 단일 기본 유닛 (10B) 을 그 내에 포함한다. 그 카운터 유닛 (40) 은 또 다른 포인트 소스와 유사하게 형성되고, 그 기본 유닛 (10b) 의 우측에 배치된다. 이러한 배열에서, 카운터 유닛 (40) 은 카운터 파를 방출하며, 그 카운터 파의 파면은 기본 유닛 (10B) 에 의해 조사된 유해한 파의 파면과 동일하다. 카운터 유닛 (40) 이 그 도면의 우측면상에서 가설적인 타겟 공간에 근접하여 배치되기 때문에, 그러한 카운터 파면은 항상 유해한 파면의 곡률 반경보다 더 작은 곡률 반경을 정의한다. 따라서, 카운터 유닛 (40) 은, 그 카운터 유닛 (40) 과 기본 유닛 (10B) 을 접속시키는 라인만을 따라서 또는 그 주변에서 유해한 파를 카운터링 (즉, 소거 또는 억제) 할 수도 있다. 카운터 파 및 유해한 파의 파면의 곡률 반경에서의 불일치로 인해 비효율적이라고 판명되는 소스 매칭에 그러한 실시형태가 대응한다는 것을 인식할 것이다.In one exemplary embodiment of such an aspect of the invention and as described in FIG. 1A, the EMC system 5 includes a single rectangular wave source 10 and a single counter unit 40, where the source 10 Includes a single base unit 10B therein that defines the shape of the point source. The counter unit 40 is formed similar to another point source and is disposed on the right side of the base unit 10b. In this arrangement, the counter unit 40 emits a counter wave whose wavefront is equal to the wavefront of the harmful wave irradiated by the base unit 10B. Since the counter unit 40 is disposed close to the hypothetical target space on the right side of the figure, such counter wavefront always defines a radius of curvature that is smaller than the radius of curvature of the harmful wavefront. Accordingly, the counter unit 40 may counter (ie, erase or suppress) harmful waves along or around only the line connecting the counter unit 40 and the base unit 10B. It will be appreciated that such embodiments correspond to source matching which proves to be inefficient due to inconsistencies in the radius of curvature of the counter wave and the wavefront of the harmful wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서 및 도 1B에 도시된 바와 같이, EMC 시스템 (5) 은 단일 카운터 유닛 (40) 및 그 내에 배치된 단일 기본 유닛 (10B) 을 갖는 단일 파원 (10) 을 포함한다. 그 기본 유닛 (10B) 은 도 1A의 기본 유닛과 유사하지만, 카운터 유닛 (40) 은 그의 길이를 따라 수직으로 연장되고 배향되며 그 기본 유닛 (10B) 의 우측면상에 배치된다. 그의 연장된 형상으로 인해, 그 카운터 유닛 (40) 은 카운터 파를 방출하며, 그 카운터 파의 파면은 또한 수직으로 연장되고, 따라서, 도 1A의 곡률 반경보다 더 크고 유해한 파의 곡률 반경에 매칭하는 곡률 반경을 정의한다. 따라서, 그러한 카운터 유닛 (40) 은, 카운터 파가 미리 설정된 범위로 유해한 파를 카운터링하는 타겟 공간 (50) 을 정의한다. 그 카운터 유닛 (40) 이 유해한 파의 파면 중 하나의 파면과 유사하게 형성되는 파 매칭 메커니즘에 그러한 실시형태가 대응한다는 것을 이해할 것이다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention and as shown in FIG. 1B, the EMC system 5 has a single wave source (s) having a single counter unit 40 and a single base unit 10B disposed therein. 10) includes. The base unit 10B is similar to the base unit of FIG. 1A, but the counter unit 40 extends and is oriented vertically along its length and is disposed on the right side of the base unit 10B. Due to its elongated shape, the counter unit 40 emits a counter wave whose wavefront also extends vertically, thus matching the radius of curvature of the harmful wave which is larger than the radius of curvature of FIG. 1A. Define the radius of curvature. Accordingly, such counter unit 40 defines a target space 50 in which counter waves counter harmful waves in a preset range. It will be appreciated that such an embodiment corresponds to a wave matching mechanism whose counter unit 40 is formed similarly to one of the harmful wavefronts.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서 및 도 1C에 도시된 바와 같이, EMC 시스템 (5) 은 단일 카운터 유닛 (40) 및 그 내에 배치된 단일 기본 유닛 (10B) 을 갖는 단일 직사각형 파원 (10) 을 포함한다. 그 기본 유닛 (10B) 은 도 1A의 기본 유닛과 유사하지만, 그 카운터 유닛 (40) 은 그러한 유해한 파의 하나의 파면에 일치하도록 형성 및 사이징된다. 즉, 그 카운터 유닛 (40) 은 원호로서 형성되고, 그 도면의 우측면 또는 타겟 공간 (50) 에 오목한 배향으로 배치된다. 그의 활 모양의 형상때문에, 그러한 카운터 유닛 (40) 은 카운터 파를 방출하며, 그 카운터 파의 파면 또한 활 모양이고, 따라서, 유해한 파의 곡률 반경과 유사 또는 동일한 곡률 반경을 정의한다. 따라서, 카운터 유닛 (40) 은, 카운터 파가 미리 설정된 범위로 유해한 파를 카운터링하는 타겟 공간 (50) 을 정의한다. 그러한 실시형태가 또 다른 파 매칭 메커니즘에 매칭하며, 이러한 활 모양의 카운터 유닛 (40) 으로부터 방출된 카운터 파가 그러한 유해한 파면에 최상으로 매칭하고, 도 1A 및 도 1B의 기본 유닛보다 기본 유닛 (10B) 주변에서 더 넓은 각도로 연장하는 타겟 공간 (50) 을 정의한다는 것을 인식할 것이다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention and as shown in FIG. 1C, the EMC system 5 has a single rectangular wave source with a single counter unit 40 and a single base unit 10B disposed therein. And (10). The base unit 10B is similar to the base unit of FIG. 1A, but the counter unit 40 is formed and sized to match one wavefront of such harmful waves. That is, the counter unit 40 is formed as an arc, and is disposed in the concave orientation on the right side surface or the target space 50 of the figure. Because of its bow shape, such counter unit 40 emits a counter wave, and the wave front of the counter wave is also bow-shaped, thus defining a radius of curvature similar or equal to the radius of curvature of the harmful wave. Thus, the counter unit 40 defines the target space 50 in which the counter wave counters harmful waves in a preset range. Such an embodiment matches another wave matching mechanism, the counter wave emitted from this bow-shaped counter unit 40 best matches such a harmful wavefront, and the base unit 10B rather than the base unit of FIGS. 1A and 1B. It will be appreciated that it defines a target space 50 extending at a wider angle in the perimeter.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서 및 도 1D에 도시된 바와 같이, EMC 시스템 (5) 은, 단일 카운터 유닛 (40), 및 단일 기본 유닛 (10B) 을 갖는 단일 직사각형 파원 (10) 을 포함한다. 상기 기본 유닛들과는 대조적으로, 이러한 기본 유닛 (10B) 는 직사각형이고, 그 기본 유닛의 길이 또는 장축을 따라 수직으로 배향되고, 유해한 파를 방출하며, 그 유해한 파의 파면은 그 기본 유닛 (10B) 의 길이 또는 장축에 기여하는 수직이고 비교적 직선인 부분을 정의한다. 그 카운터 유닛 (40) 은 그 기본 유닛 (10B) 와 유사하게 또는 동일하게 형성 및 사이징되며, 기본 유닛 (10B) 과 동일한 배향으로 배치된다. 이러한 배향은, 그 유해한 파의 파면의 수직부를 따라 그 카운터 유닛 (40) 을 배치시키도 록 관측될 수도 있다. 또한, 그 카운터 유닛 (40) 은 카운터 파를 방출하며, 유사하게, 그 카운터 파의 길이 또는 장축으로 인해, 그 카운터 파의 파면은 수직이고 비교적 직선인 부분을 정의한다. 그 카운터 파면의 그러한 일부가 유해한 파면의 그 부분에 매칭하기 때문에, 카운터 유닛 (40) 은 타겟 공간 (40) 을 우측으로 형성한다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention and as shown in FIG. 1D, the EMC system 5 includes a single rectangular wave source 10 having a single counter unit 40, and a single base unit 10B. ) In contrast to the base units, this base unit 10B is rectangular, oriented vertically along the length or long axis of the base unit, and emits harmful waves, the wavefront of the harmful waves being of the base unit 10B. Define a vertical, relatively straight-line portion that contributes to length or long axis. The counter unit 40 is formed and sized similarly or identically to the base unit 10B and disposed in the same orientation as the base unit 10B. This orientation may be observed to place the counter unit 40 along the vertical portion of the wavefront of the harmful wave. In addition, the counter unit 40 emits a counter wave, and similarly, due to the length or long axis of the counter wave, the wave front of the counter wave defines a vertical and relatively straight portion. Since such a portion of the counter wavefront matches that portion of the harmful wavefront, the counter unit 40 forms the target space 40 to the right.

이러한 실시형태는 소스 매칭, 파 매칭, 또는 이들의 조합에 대응한다. 도 1a의 카운터 유닛이 기본 유닛으로서 형성 및 사이징되지만, 카운터 파의 파면과 소스 파의 파면 사이의 곡률 반경에서의 불일치로 인해 비효율적이다. 이러한 실시형태의 카운터 유닛 (40) 은 기본 유닛 (10B) 로서 유사하게 형성 및 사이징되지만, 타겟 공간 (50) 에서 그러한 유해한 파를 효율적으로 카운터링한다. 이러한 카운터링의 주요한 이유는, 유해한 파 및 카운터 파 양자가 그들의 곡률 반경에 일반적으로 의존하지 않는 수직부를 그 파들의 파면을 따라 정의한다는 사실이다. 그렇지 않으면, 기본 유닛 (10B) 과 유사한 카운터 유닛 (40) 을 구성하고 그 후 기본 유닛 (10B) 와 타겟 공간 사이에 그러한 카운터 유닛 (10) 을 배치시키는 것은, 일반적으로 효율적인 카운터링을 제공하지 않으며, 이러한 전면 배열의 추가적인 세부사항은 후술된다. 카운터 유닛 (40) 이 기본 유닛 (10B) 와 유사하게 (또는 동일하게) 형성, 사이징, 및/또는 배열되는 소스 매칭에 그러한 실시형태가 대응한다는 것을 인식할 것이다.This embodiment corresponds to source matching, wave matching, or a combination thereof. Although the counter unit of FIG. 1A is formed and sized as a base unit, it is inefficient due to a mismatch in the radius of curvature between the wavefront of the counter wave and the wavefront of the source wave. The counter unit 40 of this embodiment is similarly formed and sized as the base unit 10B, but efficiently counters such harmful waves in the target space 50. The main reason for this countering is the fact that both harmful waves and counter waves define a vertical portion along the wavefront of the waves that do not generally depend on their radius of curvature. Otherwise, constructing a counter unit 40 similar to the base unit 10B and then placing such a counter unit 10 between the base unit 10B and the target space generally does not provide efficient countering. Further details of this frontal arrangement are described below. It will be appreciated that such an embodiment corresponds to source matching in which counter unit 40 is formed, sized, and / or arranged similarly (or identically) to base unit 10B.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서 및 도 1e에 도시된 바와 같이, EMC 시스템 (5) 은, 단일 카운터 유닛 (40), 및 도 1d에 도시된 기본 유닛과 유사한 단일 기본 유닛 (10B) 를 갖는 단일 직사각형 파원 (10) 을 포함한다. 그러나, 카운터 유닛 (40) 은 그러한 유해한 파의 하나의 파면에 일치하도록 형성 및 사이징된다. 도 1c의 카운터 유닛과 유사하게, 카운터 유닛 (40) 은 원호로서 형성되고, 그 도면의 우측면 또는 타겟 공간 (50) 에 오목한 배향으로 배치된다. 그의 활 모양의 형상때문에, 그러한 카운터 유닛 (40) 은 그러한 카운터 파를 방출하며, 그 카운터 파의 파면 또한 활 모양이고, 따라서, 주로 카운터 유닛 (40) 의 활 모양의 형상으로 인해, 그 유해한 파의 파면의 수직부 및 곡선부를 따라, 유해한 파의 곡률 반경과 유사 또는 동일한 곡률 반경을 정의한다. 따라서, 그러한 카운터 유닛 (40) 은, 카운터 파가 그러한 유해한 파를 효율적으로 카운터링하는 넓은 각도에 걸쳐 또한 연장하는 타겟 공간 (50) 을 정의한다. 이러한 실시형태가 또 다른 파 매칭 메커니즘에 대응한다는 것을 이해할 것이다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention and as shown in FIG. 1E, the EMC system 5 includes a single counter unit 40 and a single base unit similar to the base unit shown in FIG. A single rectangular wave source 10 with 10B). However, the counter unit 40 is formed and sized to match one wavefront of such harmful waves. Similar to the counter unit of FIG. 1C, the counter unit 40 is formed as an arc and disposed in a concave orientation in the right side of the figure or the target space 50. Because of its bow-shaped shape, such counter unit 40 emits such counter waves, and the wavefront of the counter wave is also bow-shaped, and therefore, mainly due to the bow-shaped shape of the counter unit 40, the harmful waves. Along the vertical and curved portions of the wavefront of, define a radius of curvature similar or equal to the radius of curvature of the harmful wave. Thus, such counter unit 40 defines a target space 50 that also extends over a wide angle at which counter waves efficiently counter such harmful waves. It will be appreciated that this embodiment corresponds to another wave matching mechanism.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서 및 도 1f에 도시된 바와 같이, EMC 시스템 (5) 은, 단일 카운터 유닛 (40), 및 단일 기본 유닛 (10B) 을 그 내에 갖는 단일 직사각형 파원 (10) 을 포함한다. 카운터 유닛 (40) 및 기본 유닛 (10B) 양자는 도 1a의 유닛들과 동일하다. 그러나, 카운터 유닛 (40) 은 기본 유닛 (10B) 에 관해 타겟 공간 (50) 의 반대측상에 배치되고, 이전의 도면들에 관한 경우와 같이 기본 유닛 (10B) 로 정렬된다. 이러한 배열에서, 카운터 유닛 (40) 은 카운터 파를 방출하며, 그 카운터 파의 파면은 기본 유닛 (10B) 에 의해 조사된 유해한 파의 파면과 동일하다. 카운터 유닛 (40) 이 타겟 공간 (50) 으로부터 이격하여 배치되기 때문에, 기본 유닛 (10B) 로부터 적절한 거리에 배치될 때, 그 유해한 파면의 곡률 반경에 도달하고 그 후 그 곡률 반경에 매칭하는 곡률 반경을 그러한 카운터 파면은 정의한다. 따라서, 이러한 후면 배열로 배치된 카운터 유닛 (40) 은 유해한 파를 효과적으로 카운터링할 수도 있고, 기본 유닛 (10B) 주변에서 넓은 각도에 걸쳐 연장하는 타겟 공간 (50) 을 정의한다. 도 1a의 카운터 유닛과 도 1f의 카운터 유닛 사이의 유일한 차이는 그들의 배치이고, 즉, 하나의 카운터 유닛은 도 1a의 '전면 배열' 로 배치되고 또 다른 카운터 유닛은 도 1f의 '후면 배열' 로 배치된다. 또한, 그 후면 배열은 그 전면 배열보다 반드시 우수할 필요는 없으며, 적절한 배열을 선택하는 추가적인 세부사항은 아래에서 제공될 것이다. 또한, 카운터 파면과 유해한 파면을 매칭하기 위한 위치로 카운터 유닛 (40) 이 배치되는 파 매칭에 이러한 실시형태가 대응한다는 것을 인식할 것이다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention and as shown in FIG. 1F, the EMC system 5 has a single rectangular wave source having a single counter unit 40, and a single base unit 10B therein. And (10). Both counter unit 40 and base unit 10B are identical to the units of FIG. 1A. However, the counter unit 40 is disposed on the opposite side of the target space 50 with respect to the base unit 10B, and aligned with the base unit 10B as in the case with respect to the previous figures. In this arrangement, the counter unit 40 emits a counter wave whose wavefront is equal to the wavefront of the harmful wave irradiated by the base unit 10B. Since the counter unit 40 is disposed away from the target space 50, when placed at a suitable distance from the base unit 10B, the radius of curvature that reaches the radius of curvature of the harmful wavefront and then matches the radius of curvature Such a counter wavefront defines. Thus, the counter units 40 arranged in this rearward arrangement may effectively counter harmful waves and define a target space 50 extending over a wide angle around the base unit 10B. The only difference between the counter units of FIG. 1A and the counter units of FIG. 1F is their arrangement, ie one counter unit is arranged in the 'front arrangement' of FIG. 1A and another counter unit is the 'back arrangement' of FIG. 1F. Is placed. In addition, the rear arrangement need not necessarily be superior to the front arrangement, and additional details of selecting the appropriate arrangement will be provided below. It will also be appreciated that this embodiment corresponds to wave matching in which the counter unit 40 is placed in a position for matching the counter wavefront and the harmful wavefront.

도면에 포함되지는 않았지만, 단일 카운터 유닛은, 타겟 공간에 관해 기본 유닛에 수평, 유해한 파의 전파 방향에 수평, 전류가 기본 또는 카운터 유닛에 흐르는 또 다른 방향에 수평, 전압이 기본 또는 카운터 유닛에 인가되는 또 다른 방향에 수평 등의 배열로 배치될 수도 있다. 이러한 '측면 배열' 에서, 카운터 파면의 곡률 반경은 유해한 파면의 곡률 반경에 매칭하고, 따라서, 카운터 파는 타겟 공간에서 유해한 파에 효과적으로 매칭하고 그 후 그 유해한 파를 효과적으로 카운터링한다. 그러나, 이러한 배열에 대해, 파원은 카운터 유닛이 포함될 수도 있는 공간을 제공해야 한다. 따라서, 카운터 유닛은 그 파원의 내부 및 적용가능한 경우 그 파원의 기본 유닛에 근접하여 구현될 수도 있다. 그렇지 않 으면, 카운터 유닛은, 대신, 파원의 위에, 아래에 또는 곁에 및 가능하면 기본 유닛에 근접하여 배치될 수도 있다. 그러나, 기본 유닛 옆에 배치된 카운터 유닛이 카운터 파를 기본 유닛으로 전파시킬 수도 있고 기본 유닛의 통상적인 동작을 방해할 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 따라서, 측면 배열은, 그러한 배열이 기본 유닛, 그 기본 유닛을 포함한 파원 또는 그들을 포함한 EMC 시스템의 통상적인 동작을 방해하지 않을 수도 있을 때에만 선택되는 것이 바람직하다. 그 측면 배열이 기본 유닛의 동작에 영향을 주지는 않지만 카운터 유닛이 공간 제한으로 인해 그 기본 유닛에 근접하여 배치되지 않는 경우, 2개 이상의 카운터 유닛이 그러한 기본 유닛의 반대측 (예를 들어, 좌측 및 우측, 상부 및 저부, 전면 및 후면 등) 상에 및 가능하면 그 기본 유닛에 근접하여 배치될 수도 있다. 또한, 그러한 카운터 유닛은, 카운터 파를 방출하도록 배열될 수도 있으며, 그 카운터 파의 합산은, 유해한 파의 파 특성에 기초하여, 미리 설정된 방향에 관해 대칭 또는 비대칭일 수도 있다.Although not included in the figure, a single counter unit is horizontal to the base unit with respect to the target space, horizontal to the direction of propagation of harmful waves, horizontal to another direction in which current flows to the base or counter unit, and voltage to the base or counter unit. It may be arranged in an array such as horizontal in another direction to be applied. In this 'side arrangement', the radius of curvature of the counter wavefront matches the radius of curvature of the harmful wavefront, so that the counter wave effectively matches the harmful wave in the target space and then effectively counters the harmful wave. However, for this arrangement, the wave source must provide space where counter units may be included. Thus, the counter unit may be implemented within the source and in proximity to the base unit of the source, if applicable. Otherwise, the counter unit may instead be arranged above, below or beside the wave source and possibly as close to the base unit as possible. However, it will be appreciated that a counter unit arranged next to the base unit may propagate the counter wave to the base unit and may interfere with the normal operation of the base unit. Thus, the lateral arrangement is preferably selected only when such arrangement may not interfere with the normal operation of the base unit, the wave source containing the base unit or the EMC system comprising them. If the side arrangement does not affect the operation of the base unit but the counter units are not placed in close proximity to the base unit due to space limitations, two or more counter units may be placed on opposite sides of such a base unit (eg, left and Right, top and bottom, front and back, etc.) and possibly as close as possible to the base unit. In addition, such a counter unit may be arranged to emit a counter wave, and the sum of the counter waves may be symmetrical or asymmetric with respect to a preset direction based on the wave characteristics of the harmful wave.

본 발명의 또 다른 양태에서, 다수의 범용 카운터 유닛은, 그러한 모든 카운터 유닛에 의해 방출된 또는 그러한 모든 카운터 유닛이 아닌 그 카운터 유닛 중 적어도 2개의 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파로 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파를 카운터링하기 위해 단일 범용 기본 유닛에 대해 제공될 수도 있다. 도 2a 내지 도 2f는 예시적인 전자기 카운터링 메커니즘의 개략적인 상면도이며, 그 메커니즘 각각에서, 다수의 카운터 유닛은, 본 발명에 따라, 단일 파원의 단일 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 파를 카운터링하기 위해 카운터 파를 방출하고, 기본 유닛은 도 2a 내지 도 2e에서는 포인트 소스이지만, 기본 유닛은 도 2f에서는 연장된 소스이다. 그러나, 이러한 도면들이 상이한 관점에서 또한 해석될 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 예를 들어, 그러한 도면들은 상부 단면도로서 관측될 수도 있으며, 여기서, 도 2a 내지 도 2e의 기본 유닛은 시트에 수직하게 연장한 와이어이고, 도 2f의 기본 유닛은 그 시트에 수직으로 또한 연장한 스트립 또는 직사각형 로드이다. 또 다른 예에서, 그 도면들은 더 복잡한 물품의 단면도로서 해석될 수도 있으며, 여기서, 도 2a 내지 도 2e의 기본 유닛은, 코일, 나선, 메시 등의 섹션에 대응할 수도 있지만, 도 2f의 기본 유닛은 곡선형 로드 또는 스트립의 섹션에 유사하게 대응할 수도 있다. 또한, 이러한 도면들에서, 그러한 기본 유닛들은, 그러한 유해한 파를 조사하지 않는 그러한 시스템의 케이스 또는 다른 부분일 수도 있는 파원에서 둘러싸여 있다는 것을 인식할 것이다. 또한, 이러한 모든 도면들에서, 타겟 공간이 카운터 유닛 및 기본 유닛의 우측에 형성되는 방식으로 EMC 시스템이 배치된다는 것을 인식할 것이다.In another aspect of the invention, the plurality of general purpose counter units are irradiated by the counter waveguide base unit emitted by all such counter units or by at least two counter units of the counter units other than all such counter units. It may be provided for a single general purpose base unit to counter harmful waves. 2A-2F are schematic top views of an exemplary electromagnetic countering mechanism, in which, in each of the plurality of counter units, counter a harmful wave irradiated from a single base unit of a single wave source, according to the present invention. Releasing counter waves, the base unit being the point source in FIGS. 2A-2E, but the base unit being the extended source in FIG. 2F. However, it will be appreciated that these figures may also be interpreted in different respects. For example, such figures may be viewed as a top cross-sectional view, wherein the base unit of FIGS. 2A-2E is a wire extending perpendicular to the sheet, and the base unit of FIG. 2F is also a strip extending perpendicularly to the sheet. Or rectangular rod. In another example, the figures may be interpreted as cross-sectional views of more complex articles, where the base units of FIGS. 2A-2E may correspond to sections of coils, spirals, meshes, and the like, while the base units of FIG. 2F It may similarly correspond to a section of a curved rod or strip. In addition, in these figures, it will be appreciated that such base units are surrounded by sources that may be cases or other parts of such systems that do not irradiate such harmful waves. Also, in all these figures, it will be appreciated that the EMC system is arranged in such a way that the target space is formed on the right side of the counter unit and the base unit.

본 발명의 그러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서 및 도 2a에 도시된 바와 같이, EMC 시스템 (5) 은, 2개의 카운터 유닛 (40), 및 단일 기본 유닛 (10B) 을 포함한 단일 파원 (10) 을 포함한다. 그 기본 유닛 (10B) 은 도 1a 내지 도 1c의 기본 유닛과 유사하지만, 카운터 유닛 (40) 의 쌍은 기본 유닛 (10B) 과 타겟 공간 (50) 사이에 배치된다. 또한, 그러한 카운터 유닛 (40) 은 기본 유닛 (10B) 에 대칭이고 그 기본 유닛에 관해 서로 수평으로 배치된다, 즉, 카운터 유닛 (40) 은 기본 유닛 (10B) 및/또는 타겟 공간 (50) 으로부터 동일한 거리에 배치된 다. 그러한 카운터 유닛 (40) 은, 각각의 카운터 유닛 (40) 으로부터의 카운터 파의 파면이 그들의 진폭을 증가시키면서 서로 중첩하도록 동일한 위상각의 카운터 파를 방출하도록 배열된다. 카운터 파가 전파함에 따라, 각각의 카운터 유닛 (40) 으로부터의 파면의 각각의 세트의 합산에 대응하는 그 카운터 파의 파면은, 그 카운터 파가 도 1b 내지 도 1e의 연장된 카운터 유닛에 의해 방출되는 것처럼, 그 파면의 곡률 반경을 증가시킨다. 따라서, 카운터 파면은 유해한 파면에 매칭하고, 카운터 유닛 (40) 의 쌍은, 그 카운터 유닛 주변의 제한된 각에 걸쳐 연장하는 타겟 공간 (50) 을 정의하면서, 기본 유닛 (10B) 에 매칭 및 그 기본 유닛에 카운터링한다. 2개 이상의 카운터 유닛 (40) 을 배치시키는 것이 카운터 파의 파면을 평평하게 하고 카운터 파면의 중첩된 부분의 곡률 반경을 증가시키는 것을 초래한다는 것을 이해할 것이다. 또한, 다수의 카운터 유닛 (40) 이 유해한 파의 하나의 파면을 따라 배치되는 파 매칭에 이러한 배열이 대응한다는 것을 인식할 것이다.In one exemplary embodiment of such an aspect of the invention and as shown in FIG. 2A, the EMC system 5 includes a single wave source 10 comprising two counter units 40, and a single base unit 10B. It includes. The base unit 10B is similar to the base unit of FIGS. 1A-1C, but a pair of counter units 40 are disposed between the base unit 10B and the target space 50. Also, such counter unit 40 is symmetrical to base unit 10B and is arranged horizontally with respect to the base unit, that is, counter unit 40 is separated from base unit 10B and / or target space 50. Placed at the same distance. Such counter units 40 are arranged to emit counter waves of the same phase angle such that the wavefronts of the counter waves from each counter unit 40 overlap each other while increasing their amplitude. As the counter wave propagates, the wavefront of the counter wave corresponding to the summation of each set of wavefronts from each counter unit 40 is emitted by the extended counter unit of the counter wave of FIGS. 1B-1E. As is the case, the radius of curvature of the wavefront is increased. Thus, the counter wavefront matches the harmful wavefront, and the pair of counter units 40 match and base the base unit 10B, defining a target space 50 that extends over a limited angle around the counter unit. Counter to the unit. It will be appreciated that disposing two or more counter units 40 results in leveling the wavefront of the counter wave and increasing the radius of curvature of the overlapping portions of the counter wavefront. It will also be appreciated that this arrangement corresponds to wave matching in which multiple counter units 40 are disposed along one wavefront of the harmful wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서 및 도 2b에 도시된 바와 같이, EMC 시스템 (5) 은, 3개의 카운터 유닛 (40), 및 단일 기본 유닛 (10B) 을 그 내에 둘러싸는 단일 파원 (10) 을 포함한다. 기본 유닛 (10B) 은 도 1a 내지 도 1c의 기본 유닛과 유사하지만, 카운터 유닛 (40) 은, 모든 카운터 유닛 (40) 이 기본 유닛 (10B) 과 타겟 공간 (50) 사이에 및 그 기본 유닛 (10B) 에 수평으로 배치되므로, 도 2a의 카운터 유닛과 유사하다. 그러나, 시스템 (5) 은, 3개의 카운터 유닛 (40) 의 어레이가 도 2a의 유해한 파의 파면보다 더 양호한 그 러한 유해한 파의 파면에 근사한다. 따라서, 카운터 유닛 (40) 은, 기본 유닛 (10B) 을 더 양호하게 카운터링하고 그 기본 유닛 주변에서 도 2a의 각도보다 더 넓은 각도에 걸쳐 연장하는 타겟 공간 (50) 을 정의하는 카운터 파를 방출한다. 3개의 카운터 유닛 (40) 을 배치시키는 것이 그 카운터 파의 중첩된 파면을 추가적으로 평평하게 하고, 또한, 그 카운터 파의 파면의 그러한 부분의 곡률 반경을 증가시키는 것을 초래한다는 것을 인식할 것이다. 또한, 이러한 배열이, 3개의 카운터 유닛 (40) 모두가 유해한 파의 하나의 파면을 따라 배치되는 또 다른 파 매칭이라는 것을 인식할 것이다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention and as shown in FIG. 2B, the EMC system 5 includes three counter units 40 and a single enclosing therein a single base unit 10B. Wave source 10. The base unit 10B is similar to the base unit of FIGS. 1A-1C, but the counter unit 40 is configured such that all the counter units 40 are between the base unit 10B and the target space 50 and the base unit ( Since it is disposed horizontally in 10B), it is similar to the counter unit of FIG. 2A. However, the system 5 approximates the wave front of such a harmful wave in which the array of three counter units 40 is better than the wave front of the harmful wave in FIG. 2A. Thus, the counter unit 40 emits a counter wave that better defines the target space 50 that better counters the base unit 10B and extends over an angle wider than the angle of FIG. 2A around the base unit. do. It will be appreciated that placing three counter units 40 results in further flattening the overlapping wavefront of the counter wave and also increasing the radius of curvature of that portion of the wavefront of the counter wave. It will also be appreciated that this arrangement is another wave matching in which all three counter units 40 are disposed along one wavefront of the harmful wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 및 도 2c에 도시된 바와 같이, EMC 시스템 (5) 은, 2개의 카운터 유닛 (40), 및 도 1a 내지 도 1c의 기본 유닛과 유사한 단일 기본 유닛 (10B) 을 포함한 단일 파원 (10) 을 포함한다. 2개의 카운터 유닛 (40) 은 그 기본 유닛으로부터의 동일한 거리에서 그 기본 유닛 (10B) 의 반대측상에 및 또한 타겟 공간 (50) 에 관해 그 기본 유닛 (10B) 에 수평으로 배치된다. 이전의 실시형태의 모든 카운터 유닛과 유사하게, 그러한 카운터 유닛 (40) 은, 그러한 카운터 유닛 (40) 각각에 의해 방출된 카운터 파가, 카운터 파의 진폭을 증가시키기 위해 및 그 카운터 파의 파면의 곡률 반경을 증가시키면서 그 카운터 파의 파면의 중첩된 부분을 평평하게 하기 위해 서로 중첩되도록, 유사한 또는 동일한 위상각을 정의하는 카운터 파를 방출한다. 따라서, 카운터 유닛 (40) 은 유해한 파를 카운터링하고, 타겟 공간 주변에 다소 제한된 각도로 걸쳐진 타겟 공간 (50) 을 정의한다. 카운터 유닛 (40) 이 대칭 배열로 배치되고, 기본 유닛 (10B) 에 수평으로 배열되는 연장된 카운터 유닛에 영향을 준다는 점에서, 이러한 배열이 파 매칭보다는 소스 매칭이라는 것을 인식할 것이다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, and as shown in FIG. 2C, the EMC system 5 is a single counterpart similar to the two counter units 40 and the base unit of FIGS. 1A-1C. It includes a single wave source 10 including a base unit 10B. The two counter units 40 are arranged horizontally on the base unit 10B on the opposite side of the base unit 10B and also with respect to the target space 50 at the same distance from the base unit. Similar to all counter units of the previous embodiment, such counter unit 40 has a counter wave emitted by each of those counter units 40 to increase the amplitude of the counter wave and the wavefront of the counter wave. It emits counter waves that define similar or identical phase angles so as to increase the radius of curvature and overlap each other to flatten the overlapping portions of the wavefront of the counter wave. Thus, the counter unit 40 counters harmful waves and defines the target space 50 spanning at somewhat limited angles around the target space. It will be appreciated that this arrangement is source matching rather than wave matching in that counter units 40 are arranged in a symmetrical arrangement and affect an extended counter unit arranged horizontally in base unit 10B.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서 및 도 2d에 도시된 바와 같이, EMC 시스템 (5) 은, 3개의 카운터 유닛 (40), 및 도 1a 내지 도 1f의 기본 유닛과 유사한 단일 기본 유닛 (10B) 을 그 내에 둘러싸는 단일 파원 (10) 을 포함한다. 도 2b의 카운터 유닛과는 대조적으로, 3개의 카운터 유닛 (40) 은 기본 유닛 (10B) 에 관해 타겟 공간 (50) 의 반대측상에 배치된다. 카운터 유닛 (40) 은 기본 유닛 (10B) 및 타겟 공간 (50) 에 관해 서로 수평으로 배열되고, 또한, 서로 동일한 거리로 이격된다. 도 2a 내지 도 2c의 카운터 유닛과 유사하게, 바깥쪽의 카운터 유닛 (40A, 40C) 양자는, 카운터 파의 파면의 중첩된 부분이 그 부분의 곡률 반경을 증가시키면서 평평하게 되기 위해, 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하는 카운터 파를 방출하도록 배열된다. 이전의 도면들의 카운터 유닛과는 대조적으로, 중간의 카운터 유닛 (40B) 은, 그러한 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 유사하고 바깥쪽의 카운터 유닛 (40A, 40C) 에 의해 방출된 카운터 파의 위상각과는 반대인 위상각을 정의하는 카운터 파를 방출하도록 배열된다. 따라서, 중간의 카운터 유닛 (40B) 를 포함하는 총 효과는, 도 1f의 타겟 공간 (50) 과 도 2d의 타겟 공간 (50) 사이의 비교에 나타난 바와 같이, 카운터 파의 합산의 파면의 중첩된 부분의 곡률을 샤프하게 하고, 기본 유닛 (10B) 주변에서 더 협소한 각도로 연장하는 타겟 공간 (50) 을 정 의하는 것이다. 즉, 서로 반대인 위상각의 카운터 파를 방출하는 다수의 카운터 유닛들 (40A 내지 40C) 을 포함함으로써, 유해한 파의 파면에 최상으로 매칭하기 위해, 그러한 카운터 파의 합산의 파면 및 그 파면의 곡률 반경을 정확히 조작하는 것이 가능하다. 그러한 실시형태가 소스 매칭, 파 매칭 또는 이들의 조합에 대응할 수도 있다는 것을 인식할 것이다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention and as shown in FIG. 2D, the EMC system 5 includes three counter units 40 and a single base similar to the base unit of FIGS. 1A-1F. It includes a single wave source 10 surrounding unit 10B therein. In contrast to the counter unit of FIG. 2B, three counter units 40 are arranged on the opposite side of the target space 50 with respect to the base unit 10B. The counter units 40 are arranged horizontally with respect to the base unit 10B and the target space 50, and are also spaced apart from each other by the same distance. Similar to the counter units of FIGS. 2A-2C, both the outer counter units 40A, 40C may be used for harmful waves in order for the overlapped portions of the wavefront of the counter wave to flatten while increasing the radius of curvature of the portions. Arranged to emit a counter wave that defines a phase angle that is at least partially opposite to the phase angle. In contrast to the counter unit of the previous figures, the intermediate counter unit 40B is at least partially similar to the phase angle of such a harmful wave and with the phase angle of the counter wave emitted by the outer counter units 40A, 40C. Is arranged to emit a counter wave that defines the opposite phase angle. Thus, the total effect of including the intermediate counter unit 40B is superimposed on the wavefront of the summation of the counter waves, as shown in the comparison between the target space 50 of FIG. 1F and the target space 50 of FIG. 2D. Sharpening the curvature of the part and defining a target space 50 extending at a narrower angle around the base unit 10B. That is, by including a plurality of counter units 40A to 40C that emit counter waves of opposite phase angles to each other, the wavefront of the sum of such counter waves and the curvature of the wavefronts in order to best match the wavefront of the harmful wave. It is possible to manipulate the radius accurately. It will be appreciated that such embodiments may correspond to source matching, wave matching, or a combination thereof.

이러한 실시형태의 카운터 유닛들 (40A 내지 40C) 은 상이한 배열로 포함될 수도 있다. 예를 들어, 2개의 카운터 유닛만이 반대인 위상각을 갖는 카운터 파를 방출하도록 포함될 수도 있으며, 그 카운터 파의 합산의 결과적인 파면은 일 측면 또는 반대측에 대칭이 아니라 비대칭이다. 또한, 그 카운터 유닛들 사이의 거리는, 카운터 유닛들의 수에 관계없이, 카운터 파의 합산의 파면을 조정하도록 조작될 수도 있다. 또한, 유해한 파의 위상각과 유사한 위상각을 정의하는 카운터 파를 방출하는 카운터 유닛은, 카운터 파의 중첩된 부분을 추가적으로 샤프하게 하기 위해 바깥쪽 유닛으로서 이용될 수도 있다.Counter units 40A to 40C of this embodiment may be included in different arrangements. For example, only two counter units may be included to emit counter waves with opposite phase angles, and the resulting wavefront of the summation of the counter waves is asymmetric rather than symmetrical on one or the other. Also, the distance between the counter units may be manipulated to adjust the wavefront of the sum of the counter waves, regardless of the number of counter units. In addition, a counter unit that emits a counter wave that defines a phase angle similar to that of the harmful wave may be used as an outer unit to further sharpen the overlapped portion of the counter wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서 및 도 2e에 도시된 바와 같이, EMC 시스템 (5) 은, 3개의 카운터 유닛 (40), 및 도 1a 내지 도 1c의 기본 유닛과 유사한 단일 기본 유닛 (10B) 을 그 내에 둘러싸는 단일 파원 (10) 을 포함한다. 또한, 그러한 카운터 유닛 (40A 내지 40C) 모두가 기본 유닛 (10B) 과 타겟 공간 (50) 사이에 배치되고 서로 유사하며, 그 카운터 유닛 (40A 내지 40C) 이 동일한 또는 유사한 위상각의 카운터 파를 방출하므로, 그 카운터 유닛 (40A 내지 40C) 는 또한 도 2B의 카운터 유닛과 유사하다. 그러나, 각각의 카 운터 유닛 (40A 내지 40C) 은, 카운터 파의 파면의 일부에 매칭하기 위해 형성 및 사이징된 활 모양의 물품을 형성하도록 배열된다. 또한, 상부 카운터 유닛 (40A) 및 하부 카운터 유닛 (40C) 양자는 서로 이격되고, 또한, 유해한 파의 하나의 파면을 따라 배치되지만, 중간의 카운터 유닛 (40B) 은, 더 큰 곡률 반경을 정의하면서 카운터 파의 합산의 파면의 중첩된 일부가 평평하게 되고 유해한 파의 파면에 매칭하며, 그에 의해 기본 유닛 (10B) 주변에 넓은 각도로 연장하는 타겟 공간 (50) 을 형성하는 방식으로, 그 상부 카운터 유닛 (40A) 와 하부 카운터 유닛 (40C) 사이 및 그 유해한 파의 인접한 파면을 따라 배치된다. 이러한 배열은, 3개의 카운터 유닛 (40A 내지 40C) 모두가 유해한 파의 다수의 파면을 따라 배치되는 또 다른 파 매칭이라는 것을 이해할 것이다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention and as shown in FIG. 2E, the EMC system 5 includes three counter units 40 and a single base similar to the base unit of FIGS. 1A-1C. It includes a single wave source 10 surrounding unit 10B therein. In addition, all such counter units 40A to 40C are disposed between the base unit 10B and the target space 50 and are similar to each other, and the counter units 40A to 40C emit counter waves of the same or similar phase angles. Thus, the counter units 40A to 40C are also similar to the counter units of FIG. 2B. However, each counter unit 40A to 40C is arranged to form a bow-shaped article formed and sized to match a portion of the wavefront of the counter wave. Further, both the upper counter unit 40A and the lower counter unit 40C are spaced apart from each other and are also disposed along one wavefront of the harmful wave, while the intermediate counter unit 40B defines a larger radius of curvature. The superimposed part of the wavefront of the summation of the counter waves is flattened and matches the wavefront of the harmful wave, thereby forming a target space 50 extending at a wide angle around the base unit 10B, the upper counter thereof. It is disposed between the unit 40A and the lower counter unit 40C and along the adjacent wavefront of the harmful wave. It will be appreciated that this arrangement is another wave matching in which all three counter units 40A to 40C are disposed along multiple wavefronts of the harmful wave.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서 및 도 2f에 도시된 바와 같이, EMC 시스템 (5) 은, 3개의 카운터 유닛, 및 단일 기본 유닛 (10B) 을 그 내에 둘러싸는 단일 파원 (10) 을 포함한다. 기본 유닛 (10B) 은 도 1d 및 도 1e의 기본 유닛과 유사하지만, 카운터 유닛 (40) 은 도 2b의 카운터 유닛과 유사하고, 평평하게 된 카운터 유닛을 방출하고 그 파면을 따라 수직부를 정의한다. 따라서, 카운터 파는 유해한 파의 수직부에 매칭하고, 도 1d의 타겟 공간과 유사한 타겟 공간 (50) 을 정의한다. 이러한 실시형태는, 3개의 카운터 유닛 (40) 이 연장된 기본 유닛 (10B) 에 근사하는 또 다른 소스 매칭이라는 것을 인식할 것이다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention and as shown in FIG. 2F, the EMC system 5 includes three counter units and a single wave source 10 enclosing therein a single base unit 10B. ) The base unit 10B is similar to the base unit of FIGS. 1D and 1E, but the counter unit 40 is similar to the counter unit of FIG. 2B and emits a flattened counter unit and defines a vertical portion along its wavefront. Thus, the counter wave matches the vertical portion of the harmful wave and defines a target space 50 similar to the target space of FIG. 1D. This embodiment will recognize that the three counter units 40 are another source match that approximates the extended base unit 10B.

본 발명의 또 다른 양태에서, 또한, 단일 범용 카운터 유닛은, 그 카운터 유 닛으로부터의 카운터 파에 의해 다수의 범용 기본 유닛으로부터의 유해한 파를 카운터링하기 위해 그 기본 유닛에 대해 제공될 수도 있다. 일 예에서, 그러한 카운터 유닛은, 각각의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파의 합산을 카운터링하도록 배열될 수도 있으며, 여기서, 카운터 유닛의 세부적인 배치는, 기본 유닛의 구성 및/또는 배치, 그러한 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파의 진폭 및/또는 방향 등에 의존할 수도 있다. 그것들에 기초하여, 카운터 유닛은, 그 기본 유닛의 전부 또는 적어도 일부에 대칭적으로 배치될 수도 있고, 전면, 후면, 또는 측면 배열 등으로 포함될 수도 있으며, 일반적으로 그러한 배열은 이하 '글로벌 또는 전체 카운터링' 으로 지칭된다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은 다수의 기본 유닛 중 하나의 기본 유닛에 의해서만 조사된 유해한 파를 카운터링하도록 대신 배열되며, 일반적으로 그러한 배열은 이하 '로컬 또는 개별 카운터링' 으로 지칭된다. 이러한 로컬 카운터링은, 다른 카운터링되지 않은 기본 유닛이 무시할 수 있는 양의 그러한 유해한 파를 조사하는 경우, 다른 카운터링되지 않은 기본 유닛이 무시할 수 없는 양의 유해한 파를 타겟 공간과 다른 방향으로 조사하는 경우 등에만 효과적일 수도 있다. 그렇지 않으면, 카운터링되지 않은 기본 유닛의 유해한 파를 카운터하고, 그 유해한 파를 카운터링하도록 부가적인 카운터 유닛을 포함하는 등을 위해 카운터 유닛을 조작하는 것이 바람직하다.In another aspect of the present invention, a single universal counter unit may also be provided for the base unit for countering harmful waves from multiple universal base units by counter waves from the counter unit. In one example, such counter units may be arranged to counter the summing of harmful waves investigated by each base unit, where the detailed arrangement of the counter units is configured and / or arranged of the base unit, such as It may also depend on the amplitude and / or direction of the harmful waves irradiated by the base unit. Based on them, the counter units may be arranged symmetrically in all or at least some of their base units, and may be included in front, rear, or side arrangements, etc. In general, such arrangements are hereinafter referred to as 'global or full counters'. Ring '. In another example, the counter unit is instead arranged to counter harmful waves irradiated only by one of the plurality of base units, and such arrangement is generally referred to hereinafter as 'local or individual countering'. This local countering examines the amount of harmful waves in a direction different from the target space that other non-countered base units cannot ignore if they investigate an amount that can be ignored by other non-countered base units. May only be effective. Otherwise, it is desirable to operate the counter unit to counter harmful waves of the uncounted base unit, to include additional counter units to counter the harmful waves, and the like.

단일 기본 유닛에 대한 상술된 다양한 카운터링 메커니즘이 글로벌 카운터링 메커니즘에서 다수의 기본 유닛을 갖는 시스템에 동일하게 적용될 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 즉, 상기 카운터링 메커니즘은 단일 기본 유닛에 의해 조사 된 그러한 유해한 파에 적용되는 것이 아니라 다수의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파의 합산에 적용될 수도 있다. 시스템이 로컬 카운터링 메커니즘으로 동작할 경우, 상술된 메커니즘은 그러한 기본 유닛의 정확한 수에 관계없이 다수의 기본 유닛 각각에 또한 적용될 수도 있다.It will be appreciated that the various countering mechanisms described above for a single base unit may apply equally to systems with multiple base units in the global countering mechanism. That is, the countering mechanism may not be applied to such harmful waves irradiated by a single base unit but may be applied to the summation of harmful waves irradiated by a plurality of base units. If the system operates as a local countering mechanism, the mechanism described above may also be applied to each of a number of base units regardless of the exact number of such base units.

본 발명의 또 다른 양태에서, 다수의 범용 카운터 유닛은, 그 카운터 유닛으로부터의 카운터 파에 의해 다수의 범용 기본 유닛으로부터의 유해한 파를 카운터링하기 위해 그 기본 유닛에 대해 또한 제공될 수도 있다. 일 예에서, 다수의 카운터 유닛은 그 기본 유닛과 동일한 수로 제공되며, 각각의 카운터 유닛은 로컬 카운터링 메커니즘에서 그러한 기본 유닛 중 하나의 기본 유닛만을 카운터링하도록 배열된다. 다른 방법으로, 그러한 카운터 유닛 중 적어도 하나의 카운터 유닛은 로컬 카운터링 메커니즘에 기초하여 그러한 기본 유닛 중 하나의 기본 유닛만을 카운터링할 수도 있지만, 그 카운터 유닛 중 적어도 하나의 또 다른 카운터 유닛은 글로벌 카운터링 메커니즘으로 그 기본 유닛 중 적어도 2개의 기본 유닛을 카운터링할 수도 있다. 또 다른 예에서, 각각의 카운터 유닛이 글로벌 카운터링 메커니즘에 기초하여 기본 유닛 중 적어도 2개의 기본 유닛을 카운터링하도록 배열되고, 그 카운터 유닛 중 적어도 하나의 카운터 유닛이 로컬 카운터링 메커니즘에 기초하여 그 기본 유닛 중 하나의 기본 유닛을 카운터링하지만, 그 카운터 유닛 중 적어도 하나의 또 다른 카운터 유닛이 글로벌 카운터링 메커니즘에서 그 기본 유닛 중 적어도 2개의 기본 유닛을 카운터링하도록 더 적은 수의 카운터 유닛이 제공된다. 또 다른 예에서, 각각의 기본 유닛이 카운터 유닛 중 적어도 2개의 카운터 유닛에 의해 카운터링될 수도 있고, 카운터 유닛 중 하나의 카운터 유닛이 로컬 카운터링 메커니즘에서 기본 유닛 중 하나의 기본 유닛을 카운터링하고, 그 카운터 유닛 중 적어도 하나의 또 다른 카운터 유닛이 글로벌 카운터링 메커니즘에서 그러한 기본 유닛 중 적어도 2개의 기본 유닛을 카운터링할 수도 있도록, 더 많은 수의 카운터 유닛이 제공된다. 이러한 모든 예에서, 상기 전면, 후면, 또는 측면 카운터링 메커니즘 중 임의의 메커니즘이 카운터 유닛에 의해 사용될 수도 있으며, 그러한 카운터링 메커니즘은 각각의 카운터 유닛에 대해 동일 또는 상이할 수도 있다.In another aspect of the present invention, a plurality of general purpose counter units may also be provided for the base unit for countering harmful waves from the plurality of general purpose base units by the counter wave from the counter unit. In one example, multiple counter units are provided in the same number as their base units, and each counter unit is arranged to counter only one base unit of such base units in a local countering mechanism. Alternatively, at least one counter unit of such counter units may only counter a base unit of one of those base units based on a local countering mechanism, while another counter unit of at least one of the counter units may be a global counter. The ring mechanism may counter at least two of the base units. In another example, each counter unit is arranged to counter at least two of the base units based on the global countering mechanism, wherein at least one counter unit of the counter units is based on the local countering mechanism. Counters one of the base units, but fewer counter units are provided such that at least one other counter unit of the counter units counters at least two of the base units in the global countering mechanism. do. In another example, each base unit may be countered by at least two counter units of the counter units, wherein one counter unit of the counter units counters the base unit of one of the base units in the local countering mechanism and A larger number of counter units are provided such that another counter unit of at least one of the counter units may counter at least two of the base units in the global countering mechanism. In all these examples, any of the front, rear, or side countering mechanisms may be used by the counter unit, which may be the same or different for each counter unit.

도 1a 내지 도 1f 및 도 2a 내지 도 2f에 예시된 바와 같은 그러한 EMC 시스템 및 그의 카운터 유닛의 구성 및/또는 동작 변경뿐만 아니라 그러한 EMC 시스템 및 그의 카운터 유닛의 구성 및/또는 동작 변형 또한 본 발명의 범위내에 있다.Configurations and / or operational variations of such EMC systems and their counter units as illustrated in FIGS. 1A-1F and 2A-2F, as well as configuration and / or operational variations of such EMC systems and their counter units, are also described herein. It is in range.

상술된 바와 같이, 통상적인 EMC 시스템은 적어도 하나의 파원 및 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함하며, 차례로, 그 파원은 적어도 하나의 기본 유닛을 그 내에 포함 또는 둘러싸고, 그 카운터 유닛은, 리드 (lead) 와이어와 같은 적어도 하나의 옵션적인 전기 커넥터 및 시스템의 다른 부분에 그 카운터 유닛을 커플링시키는 적어도 하나의 옵션적인 커플러를 포함할 수도 있다. 또한, EMC 시스템은, 기본 유닛의 적어도 일부, 카운터 유닛의 적어도 일부 등을 둘러싸는 적어도 하나의 옵션적인 케이스 부재를 포함할 수도 있다. 다른 방법으로, 카운터 및/또는 기본 유닛의 전체 부분은 그러한 케이스 부재와 함께 또는 그 케이스 부재없이 노출될 수도 있다.As mentioned above, a typical EMC system includes at least one source and at least one counter unit, which in turn contains or surrounds at least one base unit, the counter unit being lead At least one optional electrical connector, such as a wire, and at least one optional coupler for coupling the counter unit to another part of the system. The EMC system may also include at least one optional case member surrounding at least a portion of the base unit, at least a portion of the counter unit, and the like. Alternatively, the entire part of the counter and / or base unit may be exposed with or without such case member.

더 상세하게, 카운터 유닛은, 적어도 하나의 보디부, 적어도 하나의 옵션적인 지지부 및 적어도 하나의 입구와 같은 다양한 부분으로 구성된다. 카운터 유닛의 보디부는, 그러한 보디부가 전류가 흐를 때, 전압이 인가될 때 등에 카운터 파를 방출하는 카운터 유닛의 유일한 컴포넌트이라는 점에서, 파원의 기본 유닛에 성질상 대응한다. 따라서, 그러한 보디부는 전류가 그 내에 흐를 때 적어도 하나의 도체로 구성 및/또는 그 도체를 포함할 수도 있고, 전압이 인가될 때 임의의 전기적으로 도전성, 반도전성 또는 절연성 재료로 구성 및/또는 그 재료들을 포함할 수도 있는 것이 바람직하다. 그 지지부는, 기계적인 보호 및/또는 전기적인 격리를 위해 상기 보디부를 기계적으로 지지하고 및/또는 그 내에 그러한 보디부를 보유하도록 제공된다. 통상적으로, 그 입구는, 특히 그러한 입구가 배치되는 도전성 와이어의 적어도 하나의 코일을 카운터 유닛이 포함할 때, 카운터 파의 진폭을 증가시키기 위해 사용된다. 그 입구는, 예를 들어, 강자성 재료, 상자성 재료, 반자성 재료, 및 페리자성 재료와 같은 다양한 자성 재료로 구성 및/또는 그 재료들을 포함할 수도 있으며, 여기서, 그 강자성 재료가 선호되는 재료이다. 일반적으로, 카운터 유닛이 그러한 카운터 파를 방출하는 동안 그의 구성을 유지하도록 구성된다는 것을 인식할 것이며, 이러한 고정된 구성은, 경질 재료의 카운터 유닛의 보디부를 형성함으로써, 그 카운터 유닛의 보디부를 그 지지부에 고정적으로 커플링시킴으로써 등에 의해 구현될 수도 있다. 다른 방법으로, 카운터 유닛은 그러한 카운터 파를 방출하는 동안 그의 형상을 변경시키도록 배열될 수도 있으며, 이러한 가변 구성은, 탄성 또는 변형가능한 재료의 카운터 유닛의 보디부를 형성함으로써, 그 카운터 유닛의 보디부를 그 지지부에 이동가능하게 커플링시킴으로써 등에 의해 구현될 수도 있다. 그러한 카운터 파를 방출하는 카운터 유닛이 반대 자극의 유해한 파를 조사하는 기본 유닛과 대립된다는 것을 인식할 것이다. 따라서, 그러한 카운터 유닛은 카운터 파를 방출하는 동안 이동하는 경향이 있으며, 그 카운터 유닛의 동작 동안 그 카운터 유닛을 고정시키는 것이 바람직한 경우 특수한 설비가 구현될 필요가 있을 수도 있다.More specifically, the counter unit consists of various parts such as at least one body part, at least one optional support part and at least one inlet. The body portion of the counter unit corresponds in nature to the base unit of the wave source in that such a body portion is the only component of the counter unit that emits a counter wave when a current flows, a voltage is applied, or the like. Thus, such body portion may consist of and / or comprise at least one conductor when current flows therein, and / or consist of any electrically conductive, semiconductive or insulating material when a voltage is applied. It is desirable to include materials. The support is provided to mechanically support and / or retain such body portion therein for mechanical protection and / or electrical isolation. Typically, the inlet is used to increase the amplitude of the counter wave, especially when the counter unit comprises at least one coil of conductive wire in which such inlet is disposed. The inlet may consist of and / or include various magnetic materials such as, for example, ferromagnetic materials, paramagnetic materials, diamagnetic materials, and ferrimagnetic materials, where the ferromagnetic materials are the preferred materials. It will generally be appreciated that the counter unit is configured to maintain its configuration while releasing such a counter wave, and this fixed configuration forms the body portion of the counter unit of hard material, thereby supporting the body portion of the counter unit. It may be implemented by, for example, fixedly coupled to. Alternatively, the counter unit may be arranged to change its shape while emitting such a counter wave, and this variable configuration may form the body portion of the counter unit by forming the body portion of the counter unit of elastic or deformable material. Or by movably coupling to the support. It will be appreciated that the counter unit emitting such a counter wave will be opposed to the base unit illuminating the harmful wave of the opposite stimulus. Thus, such a counter unit tends to move while emitting a counter wave, and special equipment may need to be implemented if it is desired to fix the counter unit during operation of the counter unit.

카운터 유닛은, 통상적으로 형상, 사이즈, 배열 등으로 지칭되는 다양한 구성으로 제공될 수도 있다. 일반적으로, 카운터 유닛의 구성은, 일반적으로 기본 유닛의 구성적 특성, 유해한 파의 파 특성 등에 의존하는, (소스 매칭 및 파 매칭과 같은) 상기 카운터링 모드 및/또는 (전면, 후면, 또는 측면 배열, 로컬 또는 글로벌 카운터링 등과 같은) 카운터링 메커니즘에 의존한다. 또한, 카운터 유닛의 구성은, 카운터 유닛의 일 측면상에 형성될 타겟 공간의 형상, 사이즈, 배향, 및/또는 배치에 또한 의존한다.The counter unit may be provided in various configurations, commonly referred to as shape, size, arrangement, and the like. In general, the configuration of the counter unit is generally dependent on the constituent characteristics of the base unit, harmful wave characteristics, etc., and the countering mode (such as source matching and wave matching) and / or (front, back, or side). Rely on countering mechanisms (such as arrays, local or global countering, etc.). In addition, the configuration of the counter unit also depends on the shape, size, orientation, and / or arrangement of the target space to be formed on one side of the counter unit.

카운터 유닛의 형상은 기본 유닛의 형상과 동일 또는 유사하도록 배열될 수도 있으며, 그러한 카운터 유닛은 유해한 파에 자동으로 매칭하는 카운터 파를 방출하도록 구성될 것이다. 대신에, 그 카운터 유닛의 형상은 기본 유닛의 형상과 상이하도록 배열될 수도 있으며, 그러한 카운터 유닛은 다른 형상으로 제공될 수도 있고, 그 기본 유닛 주변에 감겨질 수도 있고, 기본 유닛의 적어도 일부를 그 내에 둘러쌀 수도 있고, 기본 유닛의 적어도 일부에 의해 둘러싸일 수도 있으며, 그 외에도 여러 예가 있을 수도 있다. 그러한 카운터 유닛은, 와이어, 스트립, 시트, 튜브, 코일, 나선, 및/또는 메시의 형상을 정의할 수도 있고, 그 형상을 통한 임의의 홀 또는 개구부를 정의하지 않고 그러한 형상 중 2개 이상의 형상의 조합을 정의할 수도 있고, 그 형상을 통한 다수의 홀 및/또는 개구부를 정의하면서 그러한 형상 중 2개 이상의 어레이를 정의할 수도 있고, 그 외에도 여러 예가 있을 수도 있으며, 그 조합 및/또는 어레이의 예는, 서로 번들링 (bundle) 하는 다수의 동일한 또는 상이한 형상을 포함한 번들, 서로를 따라 편조된 다수의 동일한 또는 상이한 형상의 편조 등을 포함할 수도 있지만, 이에 제한되지는 않는다. 또한, 카운터 유닛은, 적어도 2개의 재료를 포함하고, 또한, 임의의 상기 형상들, 조합들, 및/또는 어레이들로 제공되는 혼합물로 구성될 수도 있다. (솔레노이드 또는 토로이드를 포함하는) 코일, 나선, 메시, 및 이들의 어레이가 후술될 바와 같이 특히 파 매칭에 유용할 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 또한, 다수의 카운터 유닛 모두는 동일한 형상을 정의할 수도 있고, 또는 그러한 카운터 유닛 모두가 아닌 적어도 2개의 카운터 유닛이 동일한 형상을 정의할 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 다른 방법으로, 그러한 카운터 유닛 모두는 상이한 형상을 정의할 수도 있다.The shape of the counter unit may be arranged to be the same as or similar to the shape of the base unit, and such counter unit will be configured to emit a counter wave that automatically matches a harmful wave. Instead, the shape of the counter unit may be arranged to be different from the shape of the base unit, and such counter unit may be provided in a different shape, wound around the base unit, and at least part of the base unit It may be enclosed within, surrounded by at least a portion of the base unit, and there may be other examples. Such counter units may define the shape of wires, strips, sheets, tubes, coils, spirals, and / or meshes, and do not define any holes or openings through the shape, Combinations may be defined, or two or more arrays of such shapes may be defined while defining multiple holes and / or openings through the shapes, and there may be other examples, and examples of the combinations and / or arrays May include, but is not limited to, bundles comprising a plurality of identical or different shapes bundling with each other, braiding a plurality of same or different shapes braided along each other, and the like. In addition, the counter unit may comprise a mixture comprising at least two materials and also provided in any of the above shapes, combinations, and / or arrays. It will be appreciated that coils, spirals, meshes, and arrays thereof (including solenoids or toroids) may be particularly useful for wave matching, as described below. It will also be appreciated that all of the multiple counter units may define the same shape, or that at least two counter units, rather than all of those counter units, may define the same shape. Alternatively, all such counter units may define different shapes.

카운터 유닛은, 그 카운터 유닛에 의한 카운터 파가 유해한 파에 더 양호하게 매칭하기 위해 기본 유닛에 일치하도록 형성될 수도 있으며, 그러한 카운터 유닛은, 그 기본 유닛에 근사하거나 그 기본 유닛에 추가적인 세부사항을 제공하는 동안 그러한 기본 유닛에 일치될 수도 있다. 다른 방법으로, 카운터 유닛은, 유해한 파에 매칭하도록 카운터 파를 조작하는 동안 기본 유닛에 일치하지 않도록 형성될 수도 있다. 이러한 배열은, 단일 카운터 유닛이 다수의 기본 유닛을 카운터링할 경우 또는 다수의 카운터 유닛이 단일 기본 유닛을 카운터링할 경우 구현될 수도 있다. 그러한 배열에서, 카운터 유닛(들)이 타겟 공간에서 유해한 파에 매칭 및 그 파를 카운터링할 수 있는 카운터 파를 방출하기 위해 적절한 전기 에너지 (예를 들어, 전류 또는 전압) 를 공급받을 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 또한, 다수의 카운터 유닛 모두가 기본 유닛(들)에 일치할 수도 있거나, 그 카운터 유닛 모두가 아닌 적어도 2개의 카운터 유닛이 기본 유닛(들)에 일치할 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 다른 방법으로, 그 카운터 유닛 모두는 기본 유닛(들)에 일치하지 않을 수도 있다.The counter unit may be formed such that the counter wave by the counter unit matches the base unit in order to better match the harmful wave, which counter unit approximates the base unit or provides additional details to the base unit. It may be matched to such a base unit while providing. Alternatively, the counter unit may be configured not to match the base unit while manipulating the counter wave to match the harmful wave. This arrangement may be implemented when a single counter unit counters multiple base units or when multiple counter units counter a single base unit. In such an arrangement, it may be noted that the counter unit (s) may be supplied with appropriate electrical energy (eg, current or voltage) to emit a counter wave capable of matching and countering the harmful wave in the target space. Will recognize. It will also be appreciated that all of the plurality of counter units may match the base unit (s), or at least two counter units that are not all of the counter units may match the base unit (s). Alternatively, all of the counter units may not match the base unit (s).

하나 또는 다수의 카운터 유닛이 하나 또는 다수의 기본 유닛과 유사 또는 동일하게 형성되는 경우, 카운터 유닛은 그 기본 유닛에 근사하도록 배열되는 것이 바람직하다. 기본 유닛이 3-차원 (또는 3-D) 형상을 형성할 경우, 카운터 유닛은, 더 유사한 형상 또는 더 간단한 형상을 갖는 3-차원 유사물, 2-차원 (또는 2-D) 유사물 또는 1-차원 (또는 1-D) 유사물로서 구성될 수도 있다. 기본 유닛이 2-D 형상을 정의하는 경우, 카운터 유닛은 더 유사한 또는 더 간단한 형상의 2-D 또는 1-D 유사물로서 제조될 수도 있다. 기본 유닛이 1-D 형상을 형성하는 경우, 카운터 유닛은, 더 유사한 또는 더 간단한 형상을 정의하는 또 다른 1-D 유사물로서 제공될 수도 있다. 단일 카운터 유닛이 다수의 기본 유닛을 카운터링해야 하는 경우, 그 카운터 유닛은 그러한 유사물 중 하나의 유사물로서 주요 기본 유닛에만 근사할 수도 있고, 그 유사물 중 하나의 유사물로 그러한 기본 유닛 중 적어도 2개의 기본 유닛에 근사할 수도 있다. 다수의 카운터 유닛이 단일 기본 유닛을 카운터링하는 경우, 각각의 카운터 유닛은 기본 유닛의 일부에만 근사할 수도 있다. 다수의 카운터 유닛이 다수의 기본 유닛을 카운터링할 경우, 그 카운터 유닛은, 동일한 차원의 유사물로, 또는 상이한 차원에서 제공되는 다양한 유사물로 그 기본 유닛에 근사할 수도 있다. 이러한 유사물이 그 기본 유닛에 일치하고, 따라서, 그 유사물은 그 기본 유닛의 형상에 의존하여 보다 직선형 또는 곡선형 형상을 정의할 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 또한, 그 유사물이 그 기본 유닛과의 유사성을 유지하는 것이 바람직하다는 것을 인식할 것이며, 여기서, 그러한 유사성은, 그러한 카운터 유닛 및 기본 유닛의 길이, 그들의 폭, 그들의 높이, 그들의 두께, 그들의 직경 또는 반경, 그들의 곡률 반경, 그들의 회전 또는 턴의 수, 그러한 길이들의 비율, 그러한 폭들의 비율, 그러한 두께들 또는 높이들의 비율, 그러한 직경들 또는 반경들의 비율, 그러한 수들의 비율 등의 관점에서 유지될 수도 있다. 단일 기본 유닛이 단일 카운터 유닛에 의해 카운터링되는 경우, 그러한 구성 파라미터들은 기본 유닛 및 카운터 유닛의 각각에서 정의된다. 단일 카운터 유닛이 다수의 기본 유닛을 카운터링하는 경우, 그러한 구성 파라미터는, 카운터 유닛, 그러한 기본 유닛 모두의 어레이, 그러한 기본 유닛 모두가 아닌 적어도 2개의 기본 유닛의 어레이 등에서 정의된다. 다수의 카운터 유닛이 단일 기본 유닛을 카운터링하는 경우, 그러한 구성 파라미터는, 그 기본 유닛, 그러한 카운터 유닛 모두의 어레이, 그러한 카운터 유닛 모두가 아닌 적어도 2개의 카운터 유닛의 어레이 등에서 정의된다. 다수의 카운터 유닛이 동일한 또는 상이 한 수의 기본 유닛을 카운터링하는 경우, 그러한 구성 파라미터는 상술된 바와 같이 개별적으로 또는 어레이에서 또한 정의된다.If one or more counter units are formed similarly or identically to one or more base units, the counter units are preferably arranged to approximate that base unit. When the base unit forms a three-dimensional (or 3-D) shape, the counter unit is a three-dimensional analogue, a two-dimensional (or 2-D) analogue or one with a more similar shape or a simpler shape. It may also be configured as a -dimensional (or 1-D) analog. If the base unit defines a 2-D shape, the counter unit may be manufactured as a 2-D or 1-D analogue of a more similar or simpler shape. If the base unit forms a 1-D shape, the counter unit may be provided as another 1-D analogue defining a more similar or simpler shape. If a single counter unit needs to counter multiple base units, the counter unit may approximate only the main base unit as an analog of one of those analogues, and one of those analogs may be one of those base units. It may be approximated to at least two basic units. If multiple counter units counter a single base unit, each counter unit may approximate only a portion of the base unit. When multiple counter units counter multiple base units, the counter units may approximate that base unit with analogs of the same dimension or with various analogs provided in different dimensions. It will be appreciated that this analogue corresponds to its base unit, and thus the analogue may define a more straight or curved shape depending on the shape of the base unit. It will also be appreciated that the analogue is desirable to maintain similarity with the base unit, where such similarity may include the length of their counter units and the base unit, their width, their height, their thickness, their diameter, or In terms of radius, their radius of curvature, the number of their turns or turns, the ratio of such lengths, the ratio of such widths, the ratio of such thicknesses or heights, the ratio of such diameters or radii, the ratio of such numbers, etc. have. If a single base unit is countered by a single counter unit, such configuration parameters are defined in each of the base unit and the counter unit. When a single counter unit counters multiple base units, such configuration parameters are defined in a counter unit, an array of all such base units, an array of at least two base units other than all such base units, and the like. When multiple counter units counter a single base unit, such configuration parameters are defined in that base unit, an array of all such counter units, an array of at least two counter units that are not all such counter units, and the like. If multiple counter units counter the same or different numbers of base units, such configuration parameters are also defined individually or in an array as described above.

단일 또는 다수의 카운터 유닛이 단일 또는 다수의 기본 유닛과 유사하게 또는 동일하게 형성되는 경우, 카운터 유닛은, 유해한 파의 파면과 그러한 카운터 파의 파면을 매칭시키려는 더 양호한 목적을 위해, 기본 유닛에 존재하지 않는 구조를 부가하는 관점이 아니라 카운터 파의 파면을 스트리밍하는 콘텍스트에서, 세부사항을 그 기본 유닛에 제공하도록 배열된다. 예를 들어, 하나 또는 다수의 작은 카운터 유닛은, 주요 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파들의 합산의 파면의 외부 (또는 내부) 에지를 조작하기 위해, 하나 이상의 주요 카운터 유닛 주변 (또는 내부) 에 배치될 수도 있다. 또 다른 예에서, 하나 또는 다수의 작은 카운터 유닛은, 또한, 하나 이상의 주요 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파들의 합산의 파면의 곡률 반경을 조작하기 위해 그 주요 카운터 유닛에 근접하여 (또는 이격하여) 배치될 수도 있다. 그러한 주요하지 않은 카운터 유닛의 포함이 타겟 공간에서 카운터 파와 유해한 파 사이의 매칭을 개선시킬 수도 있는 한, 그러한 작은 또는 주요하지 않은 카운터 유닛은, 또한 다른 목적을 위해 하나 이상의 주요 카운터 유닛에 관한 다양한 관계로 포함될 수도 있다. 따라서, 시스템이 다수의 카운터 유닛을 포함하는 경우, 모든 카운터 유닛은 기본 유닛(들)에 근사하도록 배열될 수도 있고, 모든 그러한 카운터 유닛은 세부사항을 기본 유닛(들)에 제공하도록 배열될 수도 있으며, 또한, 카운터 유닛 모두가 아닌 일부의 카운터 유닛은 기본 유닛(들)에 근사할 수도 있다.If a single or multiple counter units are formed similarly or identically to a single or multiple base units, the counter units are present in the base unit for a better purpose of matching the wavefront of such a wave with the harmful wavefront. In the context of streaming the wavefront of the counter wave, but not in terms of adding a structure that does not, it is arranged to provide details to its base unit. For example, one or more small counter units are disposed around (or inside) one or more main counter units to manipulate the outer (or inner) edge of the wavefront of the sum of the counter waves emitted by the main counter units. May be In another example, one or more small counter units may also be in close proximity (or spaced apart) to the curvature radius of the wavefront of the sum of the counter waves emitted by the one or more main counter units. It may be arranged. As long as the inclusion of such non-major counter units may improve the matching between counter waves and harmful waves in the target space, such small or non-major counter units may also have various relationships with respect to one or more major counter units for other purposes. It may be included as. Thus, if the system includes multiple counter units, all counter units may be arranged to approximate the base unit (s), and all such counter units may be arranged to provide details to the base unit (s) and Also, some counter units that are not all of the counter units may approximate the base unit (s).

카운터 유닛은, 그의 종축 또는 장축, 그 장축에 수직하거나 횡단할 수도 있는 단축 등을 따라 다양한 섹션을 정의하도록 배열될 수도 있다. 일 예에서, 카운터 유닛은, 그에 의해 방출된 카운터 파가 그러한 축을 따라 동일한 형상을 정의하는 파면을 또한 정의하도록 그러한 축 중 적어도 하나의 축을 따라 균일한 섹션을 정의하도록 배열된다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은, 그에 의해 방출된 카운터 파가 그러한 축 중 적어도 하나의 축을 따라 그 카운터 파의 형상을 변경하는 그 파면을 또한 정의하도록, 그러한 축 중 적어도 하나의 축을 따라 그 카운터 유닛의 섹션을 변경하도록 구성될 수도 있다. 시스템이 다수의 카운터 유닛을 갖는 경우, 그러한 유닛 모두는 동일한 형상을 정의할 수도 있거나 그러한 카운터 유닛 중 적어도 2개의 카운터 유닛은 상이한 형상을 정의할 수도 있다.The counter unit may be arranged to define various sections along its longitudinal or long axis, a short axis that may be perpendicular to or transverse to the long axis, and the like. In one example, the counter unit is arranged to define a uniform section along at least one of those axes such that the counter wave emitted by it also defines a wavefront that defines the same shape along that axis. In another example, the counter unit may be configured to define the wavefront along which the counter wave emitted thereby changes the shape of the counter wave along at least one of those axes, along the counter unit along at least one of those axes. It may also be configured to change the section of. If the system has multiple counter units, all such units may define the same shape or at least two of the counter units may define different shapes.

카운터 유닛은 다양한 사이즈를 갖도록 배열될 수도 있으며, 여기서, 그러한 카운터 유닛은, 그에 의해 유해한 파를 효과적으로 카운터링할 수 있는 적절한 진폭의 카운터 파를 방출할 수도 있다. 예를 들어, 전면 배열로 포함된 카운터 유닛은, 타겟 공간에 관해 그의 더 근접한 배치로 인해 기본 유닛보다 더 작은 사이즈를 정의할 수도 있지만, 후면 배열로 포함된 카운터 유닛은, 타겟 공간에 관한 더 큰 거리로 인해 기본 유닛보다 더 큰 사이즈를 정의할 수도 있다. 그러나, 카운터 유닛의 사이즈는, 예를 들어, 카운터 유닛의 형상, 그에 공급된 전기 에너지 (즉, 전류 및/또는 전압) 의 진폭 등과 같은 다른 인자에 의해 결정될 수도 있다. 따라서, 전면 배열에서의 카운터 유닛은 단위 영역 당 더 적은 양의 카운터 파를 방출하는 동안 기본 유닛보다 더 큰 사이즈를 정의할 수도 있지만, 후면 배열에서의 카운터 유닛은 단위 영역 당 더 많은 양의 카운터 파를 방출하는 동안 기본 유닛보다 더 작은 사이즈를 정의할 수도 있으며, 그외 다른 경우도 존재할 수도 있다. 즉, 카운터 유닛의 사이즈는, 예를 들어, 그 카운터 유닛의 형상, 그에 공급된 전기 에너지의 진폭, 기본 유닛 및/또는 타겟 공간에 대한 거리, 카운터 유닛(들)의 배열, 그 카운터 유닛의 배향 등과 같은 다른 인자들에 의해 결정될 수도 있는 2차원 파라미터로서 간주될 수도 있다.The counter unit may be arranged to have various sizes, where such counter unit may thereby emit a counter wave of an appropriate amplitude that can effectively counter harmful waves. For example, a counter unit included in the front array may define a smaller size than the base unit due to its closer placement with respect to the target space, while a counter unit included in the rear array may have a larger size relative to the target space. Because of the distance, you can define a larger size than the base unit. However, the size of the counter unit may be determined by other factors such as, for example, the shape of the counter unit, the amplitude of the electrical energy (ie, current and / or voltage) supplied thereto, and the like. Thus, while the counter units in the front array may define a larger size than the base unit while emitting less counter waves per unit area, the counter units in the rear array may have a larger amount of counter waves per unit area. It may be possible to define a smaller size than the base unit while emitting it, and there may be other cases as well. That is, the size of the counter unit is, for example, the shape of the counter unit, the amplitude of the electrical energy supplied thereto, the distance to the base unit and / or the target space, the arrangement of the counter unit (s), the orientation of the counter unit It may be regarded as a two-dimensional parameter, which may be determined by other factors such as.

카운터 유닛은 그의 종축 및/또는 단축을 따라 다양한 사이즈를 갖도록 배열될 수도 있다. 일 예에서, 카운터 유닛은, 동일한 양의 전기 에너지가 그 카운터 유닛에 공급된다고 가정하면, 그에 의해 방출된 카운터 파가 그러한 축을 따라 동일한 형상을 정의하는 파면을 또한 정의하도록 그러한 축 중 적어도 하나의 축을 따라 균일한 사이즈를 정의하도록 배열된다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은, 그에 의해 방출된 카운터 파가 그러한 축을 따라 그 카운터 파의 형상을 변경하는 그 파면을 또한 정의하도록 축 중 적어도 하나의 축을 따라 그 카운터 유닛의 형상을 변경하도록 구성될 수도 있다. 또한, 카운터 유닛은, 그러한 축 중 적어도 하나의 축을 따라 그의 형상을 변경하는 동안 그 축을 따라 동일한 사이즈를 유지할 수도 있다. 시스템이 다수의 카운터 유닛을 포함하는 경우, 그러한 카운터 유닛은 동일한 사이즈를 가질 수도 있거나 그러한 유닛 중 적어도 2개의 유닛은 상이한 사이즈를 정의할 수도 있다.The counter unit may be arranged to have various sizes along its longitudinal and / or short axis. In one example, the counter unit assumes that at least one of those axes is such that, given the same amount of electrical energy supplied to the counter unit, the counter wave emitted thereby also defines a wavefront that defines the same shape along that axis. Are arranged to define a uniform size accordingly. In another example, the counter unit may be configured to change the shape of the counter unit along at least one axis of the axis such that the counter wave emitted by it also defines that wavefront that changes the shape of the counter wave along that axis. It may be. The counter unit may also maintain the same size along that axis while changing its shape along at least one of those axes. If the system includes multiple counter units, such counter units may have the same size or at least two of those units may define different sizes.

또한, 다수의 카운터 유닛이 다양한 배열로 포함될 수도 있으며, 여기서, 그러한 카운터 유닛은, 그 배열로 인해 그러한 유해한 파에 자동으로 매칭할 수 있는 카운터 파를 방출하도록 배열된다. 일 예에서, 그러한 카운터 유닛은, 카운터 파가 타겟 공간에서 유해한 파에 매칭하도록, 기본 유닛의 형상에 일치하거나 다수의 기본 유닛의 또 다른 배열에 일치하는 배열로 포함될 수도 있다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은, 단일 기본 유닛의 형상에 일치하지 않거나 다수의 기본 유닛의 배열에 일치하지 않는 배열로 포함될 수도 있다. 이러한 배열은, 다수의 카운터 유닛이 단일 기본 유닛을 카운터링할 경우, 또는 다수의 카운터 유닛이 상이한 수의 다수의 기본 유닛을 카운터링할 경우 구현될 수도 있다. 그러한 배열에서, 카운터 유닛(들)이, 타겟 공간에서 유해한 파에 매칭 및 그 유해한 파를 카운터링할 수 있는 카운터 파를 방출하기 위해 적절한 전기 에너지 (예를 들어, 전류 또는 전압) 을 제공받을 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 카운터 유닛은, 그에 의해 방출된 카운터 파가 대칭적인 유해한 파에 또한 매칭하도록 기본 유닛 및/또는 타겟 공간에 대칭적인 배열로 배치될 수도 있다. 이와 대조적으로, 카운터 유닛은, 비 대칭 카운터 파가 타겟 공간에서 비대칭 유해한 파를 카운터링하도록 기본 유닛 또는 타겟 공간에 비대칭적인 배열로 또한 배치될 수도 있다. 단일 카운터 유닛 또는 다수의 카운터 유닛은, 하나 또는 다수의 기본 유닛의 적어도 일부를 그 내에 둘러싸는 배열로 포함될 수도 있다. 이와 대조적으로, 단일 카운터 유닛 또는 다수의 카운터 유닛은, 그러한 카운터 유닛(들)의 적어도 일부가 하나 또는 다수의 기본 유닛에 의해 둘러싸일 수도 있는 또 다른 배열로 포함될 수도 있다. 일반적으로, 그 배열이 다수의 카운터 유닛의 패턴을 암시하지만, 그러한 배열이 또한 단일 카운터 유닛의 배향 및/또는 정렬을 의미할 수도 있 다는 것을 인식할 것이다.Also, a plurality of counter units may be included in various arrangements, where such counter units are arranged to emit counter waves that can automatically match such harmful waves due to the arrangement. In one example, such counter units may be included in an arrangement that matches the shape of the base unit or to another arrangement of the plurality of base units, such that the counter waves match harmful waves in the target space. In another example, the counter units may be included in an arrangement that does not match the shape of a single base unit or that does not match the arrangement of multiple base units. This arrangement may be implemented when multiple counter units counter a single base unit, or when multiple counter units counter a different number of multiple base units. In such an arrangement, the counter unit (s) may be provided with suitable electrical energy (eg, current or voltage) to emit counter waves that can match harmful waves in the target space and counter those harmful waves. It will be recognized. The counter units may be arranged in a symmetrical arrangement in the base unit and / or target space such that the counter waves emitted by them also match symmetric harmful waves. In contrast, the counter units may also be arranged in an asymmetrical arrangement in the base unit or target space such that asymmetric counter waves counter asymmetric harmful waves in the target space. A single counter unit or multiple counter units may be included in an arrangement enclosing at least a portion of one or more base units therein. In contrast, a single counter unit or multiple counter units may be included in another arrangement in which at least some of such counter unit (s) may be surrounded by one or multiple base units. In general, while the arrangement suggests a pattern of multiple counter units, it will be appreciated that such arrangement may also mean the orientation and / or alignment of a single counter unit.

또한, 카운터 유닛은, 일반적으로 배향, 정렬, 거리, 이동도 등으로 지칭되는 다양한 배치로 제공될 수도 있다. 일반적으로, 카운터 유닛의 그러한 배치는, 각각이 일반적으로 기본 유닛의 구성 특성, 유해한 파의 파 특성 등에 의존하는, (소스 매칭 또는 파 매칭과 같은) 그러한 카운터링 모드, (전면, 후면 또는 측면 배열, 로컬 또는 글로벌 카운터링 등과 같은) 카운터링 메커니즘, 카운터 유닛의 구성 등에 의존한다. 또한, 카운터 유닛의 배치는, 형상, 사이즈, 배향, 및/또는 카운터 유닛의 일 측면상에 정의되는 타겟 공간의 배치에 또한 의존한다. 그러한 카운터 유닛(들)이 통상적으로 로컬 카운터링 메커니즘에서 기본 유닛(들)에 더 근접하여 배치될 수도 있고, 그 카운터 유닛(들)이 글로벌 카운터링 메커니즘에서 기본 유닛(들)에 이격하여 배치될 수도 있다는 경험칙 (rule of thumb) 을 인식할 것이다.The counter unit may also be provided in various arrangements, generally referred to as orientation, alignment, distance, mobility, and the like. In general, such arrangements of counter units are such countering modes (such as source matching or wave matching), front, rear or side arrangements, each of which generally depends on the constituent characteristics of the base unit, harmful wave characteristics, and the like. , Countering mechanisms, such as local or global countering, configuration of counter units, and the like. In addition, the placement of the counter unit also depends on the shape, size, orientation, and / or placement of the target space defined on one side of the counter unit. Such counter unit (s) may typically be disposed closer to the base unit (s) in the local countering mechanism, and the counter unit (s) may be disposed apart from the base unit (s) in the global countering mechanism. You will recognize the rule of thumb.

카운터 유닛은, 그에 의해 방출된 카운터 파가 그러한 유해한 파와 함께 적절히 배향되고 그 유해한 파를 카운터링할 수도 있도록 다양한 배향으로 배치될 수도 있다. 일 예에서, 카운터 유닛은, 예를 들어, 유해한 파의 전파 방향에 수직인 그의 장축을 배향시킴으로써 그러한 전파 방향에 관해 정의된 배향으로 배치될 수도 있다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은, 예를 들어, 전기 에너지의 방향에 관해 병렬, 수직, 또는 미리 설정된 각도로 그의 장축을 배향시킴으로써, 전류 또는 전압의 방향에 관해 정의된 또 다른 배향으로 배치될 수도 있다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은, 기본 유닛의 종축 및/또는 단축에 관해 정의된 또 다 른 배향으로 대신 배치될 수도 있다. 특히, 기본 유닛이 그의 축 중 적어도 하나의 축과 상이한, 그의 코일 또는 다른 부분의 감긴 방향과 상이한 방향 등으로 유해한 파를 방출하도록 배열되는 경우, 카운터 유닛의 그러한 배향이 통상적으로 그러한 기본 유닛의 다른 구성에 의존한다는 것을 인식할 것이다. 시스템이 다수의 카운터 유닛을 포함하는 경우, 그러한 카운터 유닛 모두는 동일한 배향으로 배치될 수도 있고, 각각의 카운터 유닛은 상이한 배향으로 배치될 수도 있고, 그 카운터 유닛 모두가 아닌 적어도 2개의 카운터 유닛은 동일한 배향으로 배치될 수도 있다.The counter unit may be arranged in various orientations such that the counter wave emitted by it may be properly oriented with such harmful wave and may counter the harmful wave. In one example, the counter unit may be arranged in a defined orientation with respect to such propagation direction, for example by orienting its long axis perpendicular to the propagation direction of the harmful wave. In another example, the counter unit may be arranged in another orientation defined with respect to the direction of the current or voltage, for example by orienting its long axis in parallel, vertical, or at a preset angle with respect to the direction of electrical energy. have. In another example, the counter unit may instead be arranged in another orientation defined with respect to the longitudinal and / or short axis of the base unit. In particular, when the base unit is arranged to emit harmful waves in a direction different from the winding direction of its coil or other part, such as different from at least one of its axes, such an orientation of the counter unit is typically different from that of the base unit. It will be appreciated that it depends on the configuration. If the system includes multiple counter units, all such counter units may be arranged in the same orientation, each counter unit may be arranged in a different orientation, and at least two counter units that are not all of the counter units are the same It may be arranged in an orientation.

카운터 유닛은, 그에 의해 방출된 카운터 파가 그러한 유해한 파와 함께 적절히 정렬되고 그 유해한 파를 적절히 카운터링할 수도 있도록 다양한 정렬로 배치될 수도 있다. 일 예에서, 카운터 유닛은 상기 방향 및/또는 축 중 하나 이상으로 정렬될 수도 있다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은 상기 방향 및/또는 축 중 적어도 하나와 오정렬될 수도 있고, 기본 유닛의 방향과는 상이한 방향으로 감겨질 수도 있다. 시스템이 다수의 카운터 유닛을 포함하는 경우, 그러한 카운터 유닛 모두는 동일한 방향 및/또는 축으로 정렬될 수도 있으며, 각각의 카운터 유닛은 상이한 방향 또는 축으로 정렬될 수도 있고, 그러한 카운터 유닛 모두가 아닌 적어도 2개의 카운터 유닛은 동일한 방향 또는 축으로 정렬될 수도 있다. 시스템이 다수의 카운터 유닛을 포함하는 경우, 그러한 카운터 유닛 모두는 상이한 정렬로 배치될 수도 있고, 그 카운터 유닛 모두가 아닌 적어도 2개의 카운터 유닛은 동일한 배향으로 정렬될 수도 있다.The counter unit may be arranged in various alignments such that the counter waves emitted by it may be properly aligned with such harmful waves and may properly counter those harmful waves. In one example, the counter units may be aligned in one or more of the directions and / or axes. In another example, the counter unit may be misaligned with at least one of the above directions and / or axes, and may be wound in a different direction than the direction of the base unit. If the system includes multiple counter units, all such counter units may be aligned in the same direction and / or axis, and each counter unit may be aligned in different directions or axes, and at least not all of those counter units. The two counter units may be aligned in the same direction or axis. If the system includes multiple counter units, all such counter units may be arranged in different alignments, and at least two counter units that are not all of the counter units may be aligned in the same orientation.

또한, 카운터 유닛은 측면 배열, 축 배열, 동심 배열 등으로 배치될 수도 있다. 그 측면 배열에서, 하나 또는 다수의 카운터 유닛은 기본 유닛에 관해 나란히 또는 그러한 기본 유닛(들)의 장축 및/또는 단축을 따라 그 기본 유닛들 사이에 배치될 수도 있다. 축 배열에서, 하나 또는 다수의 카운터 유닛은, 그러한 기본 유닛(들)로부터 미리 설정된 거리에서 그러한 축 중 하나 이상의 축 방향을 따라 배치된다. 그 동심 배열에서, 하나 또는 다수의 카운터 유닛은 단일 기본 유닛내에 배치될 수도 있고, 다수의 기본 유닛으로 둘러싸일 수도 있고, 단일 또는 다수의 기본 유닛을 둘러쌀 수도 있다.In addition, the counter units may be arranged in a side arrangement, an axial arrangement, a concentric arrangement, or the like. In that lateral arrangement, one or more counter units may be arranged side by side with respect to the base unit or between the base units along the major and / or minor axis of such base unit (s). In an axial arrangement, one or more counter units are arranged along the axial direction of one or more of those axes at a predetermined distance from such base unit (s). In its concentric arrangement, one or more counter units may be disposed within a single base unit, may be surrounded by multiple base units, and may surround a single or multiple base units.

카운터 유닛은 기본 유닛 및/또는 타겟 공간으로부터의 다양한 거리로 배치될 수도 있다. 일 예에서, 그러한 카운터 유닛은, 유해한 파의 파면에 매칭하는 파면을 갖는 카운터 파를 방출하도록 시스템의 기본 유닛으로부터 미리 설정된 거리로 그 시스템에 고정적으로 커플링될 수도 있다. 바람직한 경우, 카운터 유닛은, 가변 진폭의 유해한 파를 카운터링, 상이한 타겟 공간을 정의 등을 위해, 카운터 파의 진폭이 그에 따라 변할 수도 있도록 하는 가변 전기 에너지 (즉, 전류 또는 전압) 를 수신할 수도 있다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은, 카운터 파를 방출하고 유해한 파에 관해 상이한 위치로 그 카운터 파의 파면을 배치시키도록 시스템에 이동가능하게 커플링되고 2개의 위치 사이에서 변환 또는 회전할 수도 있으며, 그 카운터 파는 가변 진폭을 갖거나 갖지 않는다. 따라서, 카운터 파는 카운터 파에 의해 유해한 파를 카운터링하며, 그 카운터 파의 파면의 특성은 기본 유닛 및/또는 타겟 공간에 관한 카운터 유닛의 위치에 따라 변한다. 또 다른 예에서, 시스템은 다수의 카운터 유닛을 그 내에 포함할 수도 있고, 카운터 유닛 각각의 파 방출 동작을 조작할 수도 있다. 그러한 카운터 유닛 모두 또는 일부로부터 방출된 카운터 파의 진폭을 조작하거나 조작하지 않으면서 그러한 카운터 유닛을 적절히 모집함으로써, 시스템은, 기본 유닛에 관한 다양한 위치로 타겟 공간을 정의하는 동안 유해한 파를 카운터링할 수도 있다. 시스템이 다수의 카운터 유닛을 포함하는 경우, 그러한 유닛 모두는 그 시스템 내에 고정적으로 포함될 수도 있고, 그러한 유닛 모두는 그 시스템 내에 이동가능하게 포함될 수도 있거나, 그러한 유닛 모두가 아닌 적어도 2개의 유닛은 그 시스템내에 이동가능하게 포함될 수도 있다.The counter unit may be arranged at various distances from the base unit and / or the target space. In one example, such a counter unit may be fixedly coupled to the system at a predetermined distance from the base unit of the system to emit a counter wave having a wavefront that matches the wavefront of the harmful wave. If desired, the counter unit may receive variable electrical energy (ie, current or voltage) such that for countering harmful waves of variable amplitude, defining different target spaces, etc., the amplitude of the counter waves may change accordingly. have. In another example, the counter unit may be movably coupled to the system and convert or rotate between the two positions to emit the counter wave and to position the wavefront of the counter wave to a different position with respect to the harmful wave, The counter wave may or may not have variable amplitude. Thus, the counter wave counters harmful waves by the counter wave, and the wavefront characteristic of the counter wave varies with the position of the counter unit with respect to the base unit and / or the target space. In yet another example, the system may include a number of counter units therein and may manipulate the wave emission operation of each counter unit. By properly recruiting such counter units with or without manipulating the amplitude of the counter waves emitted from all or some of those counter units, the system can counter harmful waves while defining the target space at various locations relative to the base unit. It may be. If a system includes a number of counter units, all such units may be fixedly included within the system, and all such units may be movably included within the system, or at least two units that are not all such units are the system. It may be included movably within.

카운터 유닛의 배치는, 기본 유닛의 종축, 단축을 따라, 그 축 중 적어도 하나의 주변 등에서 측정된 거리의 관점에서 산정될 수도 있다. 카운터 유닛은, 전면 배열에서와 같이 기본 유닛보다 타겟 공간에 더 근접하여, 후면 배열에서와 같이 기본 유닛보다 타겟 공간으로부터 이격하여, 측면 배열에서와 같이 타겟 공간과 수평 등으로 배치될 수도 있다. 시스템이 다수의 카운터 유닛을 포함하는 경우, 그러한 유닛 모두는 동일한 배열로 배치될 수도 있거나 그러한 유닛 중 적어도 2개의 유닛은 상이한 배열로 배치될 수도 있다. 또한, 카운터 유닛 모두는 기본 유닛으로부터 동일한 거리에 배치될 수도 있고, 다른 방법으로, 그러한 카운터 유닛 중 적어도 2개의 카운터 유닛은 그 기본 유닛으로부터 상이한 거리에 배치될 수도 있다. 카운터 유닛이 타겟 공간에 관해 기본 유닛의 동일한 측면상에 배치되는 것이 바람직하다는 것을 인식할 것이다. 그러나, 카운터 유닛이 타겟 공간에 관해 기본 유닛의 반대측상에 배치되는 경우, 그러한 배치가 바람직한 실시형태가 아닐 수도 있음에도, 카운터 유닛은 유해한 파를 여전히 카운터링할 수 있을 수도 있다.The arrangement of the counter units may be calculated in terms of the distance measured along the longitudinal axis, the minor axis of the base unit, around at least one of the axes, and the like. The counter unit may be arranged in a horizontal manner or the like as in the side array, closer to the target space than the base unit, as in the front side arrangement, and spaced apart from the target space than the base unit, as in the rear side arrangement. If the system includes multiple counter units, all such units may be arranged in the same arrangement or at least two of those units may be arranged in different arrangements. In addition, all of the counter units may be arranged at the same distance from the base unit, or alternatively, at least two counter units of such counter units may be arranged at different distances from the base unit. It will be appreciated that the counter unit is preferably placed on the same side of the base unit with respect to the target space. However, if the counter unit is arranged on the opposite side of the base unit with respect to the target space, the counter unit may still be able to counter harmful waves, although such arrangement may not be the preferred embodiment.

카운터 유닛은 시스템의 다양한 부분에서 포함될 수도 있고 또한 다양한 노출로 배치될 수도 있다. 시스템이 케이스 부재를 포함할 경우, 카운터 유닛은 그 케이스 부재의 외부 표면상 또는 위에, 그 케이스 부재의 내부 표면상 또는 아래에 배치될 수도 있고, 그 케이스 부재내에 및/또는 그 케이스 부재 내부에 구현될 수도 있다. 대신, 그러한 카운터 유닛은, 파원의 외부 표면상 또는 위에, 그러한 파원의 내부 표면상 또는 아래에 배치될 수도 있고, 그 파원의 그러한 표면들 사이, 그 파원의 내부에 구현될 수도 있다. 또한, 카운터 유닛은, 기본 유닛의 외부 표면상 또는 위에, 그 기본 유닛의 내부 표면상 또는 아래에 배치될 수도 있고, 기본 유닛의 그 표면들 사이, 그 기본 유닛내부에 구현될 수도 있다. 또한, 그러한 카운터 유닛은 그 기본 유닛의 적어도 일부에 의해 배치되고 둘러싸일 수도 있다. 유사하게, 카운터 유닛의 적어도 일부 또는 전체 부분은, 또한, 시스템, 케이스 부재, 파원, 기본 유닛 등을 통해 노출될 수도 있다. 또한, 카운터 유닛은 시스템의 하나 이상의 기존 부분, 파원, 및/또는 케이스 부재와 고정적으로 또는 이동가능하게 커플링할 수도 있으며, 다른 방법으로, 커플러에 의해 그들에 커플링될 수도 있다. 유사하게, 카운터 유닛은, 그러한 시스템, 파원, 및/또는 기본 유닛을 갖는 임의의 물품으로부터 이격될 수도 있거나 그 물품을 형성할 수도 있다.The counter unit may be included in various parts of the system and may be arranged in various exposures. If the system includes a case member, the counter unit may be disposed on or above the outer surface of the case member, on or below the inner surface of the case member, and implemented within and / or within the case member. May be Instead, such a counter unit may be disposed on or below the outer surface of the source, on or below the inner surface of the source, and may be implemented within the source, between such surfaces of the source. Further, the counter unit may be disposed on or above the outer surface of the base unit, on or below the inner surface of the base unit, and may be implemented between the surfaces of the base unit and within the base unit. In addition, such a counter unit may be arranged and surrounded by at least part of its base unit. Similarly, at least some or all of the counter unit may also be exposed through the system, case member, wave source, base unit, or the like. In addition, the counter unit may be fixedly or movably coupled with one or more existing parts, wave sources, and / or case members of the system, or alternatively, may be coupled to them by a coupler. Similarly, the counter unit may be spaced from or form an article with any such system, source, and / or base unit.

카운터 유닛은, 그 카운터 유닛에 공급된 전기 에너지에 응답하여 적절한 진폭을 갖고 유해한 파에 매칭하는 카운터 파를 방출하기 위해, 다양한 재료로 구성되고 및/또는 그 재료를 포함할 수도 있다. 일 예에서, 카운터 유닛 및 기본 유닛은, 그러한 유닛들이 그러한 전기 에너지의 단위량 당 카운터 파 및 유해한 파의 동일한 양을 방출할 수도 있도록, 동일한 재료로 구성되고 및/또는 그 재료를 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛 및 기본 유닛은, 그러한 유닛들이 전기 에너지의 단위량 당 카운터 파 및 유해한 파의 동일한 양은 아니지만 유사한 양을 방출할 수도 있도록, 적어도 하나의 공통 재료 및 적어도 하나의 상이한 재료를 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛 및 기본 유닛은, 카운터 유닛 및 기본 유닛이 전기 에너지의 단위량 당 상이한 양의 파를 방출하도록 상이한 재료로 구성되고 및/또는 그 재료를 포함할 수도 있다. 일반적으로, 카운터 유닛 및 기본 유닛의 조성에 의해 결정된 그들의 다양한 특성은, 전기 저항, 전도도, 자기 유전율, 공진 주파수 등일 수도 있다. 따라서, 카운터 유닛은, 그의 조성에 기초하여, 동일, 유사, 또는 상이한 전도도, 유전율, 및 공진 주파수를 정의하도록 배열될 수도 있다. 그 카운터 유닛의 전체 부분은, 동일한 조성을 갖도록 배열될 수도 있거나, 다른 방법으로, 그 카운터 유닛의 다양한 부분은 그의 장축 또는 단축을 따라 변할 수도 있는 상이한 조성을 갖도록 배열될 수도 있다. 시스템이 다수의 카운터 유닛을 포함하는 경우, 그러한 카운터 유닛 모두는 동일한 조성을 가질 수도 있고, 그 카운터 유닛 모두가 아닌 적어도 2개의 카운터 유닛은 동일한 조성을 가질 수도 있거나, 그러한 카운터 유닛 모두가 상이한 조성을 가 질 수도 있으며, 그에 의해, 그 조성에 따른 상기 특성을 또한 유지 또는 변경시킨다.The counter unit may be composed of and / or include various materials to emit a counter wave having an appropriate amplitude and matching a harmful wave in response to the electrical energy supplied to the counter unit. In one example, the counter unit and the base unit may be composed of and / or include the same material such that such units may emit the same amount of counter and harmful waves per unit amount of such electrical energy. . In another example, the counter unit and the base unit may comprise at least one common material and at least one different material such that such units may emit similar but not equal amounts of counter and harmful waves per unit amount of electrical energy. It may also include. In another example, the counter unit and the base unit may be composed of and / or include different materials such that the counter unit and the base unit emit different amounts of waves per unit amount of electrical energy. In general, their various characteristics, determined by the composition of the counter unit and the base unit, may be electrical resistance, conductivity, magnetic permittivity, resonant frequency, and the like. Thus, the counter unit may be arranged to define the same, similar, or different conductivity, dielectric constant, and resonant frequency based on its composition. The entire portion of the counter unit may be arranged to have the same composition or, alternatively, the various portions of the counter unit may be arranged to have different compositions that may vary along its long or short axis. If the system includes multiple counter units, all such counter units may have the same composition, and at least two counter units that are not all of the counter units may have the same composition, or all such counter units may have different compositions. Thereby, the above characteristics according to the composition are also maintained or changed.

상술된 바와 같이, 카운터 파 및 유해한 파의 (반대 또는 유사한) 위상각을 정확히 매칭시키는 것은, 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파에 의하여 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 파를 카운터링하기 위한 전제 조건이다. 이러한 위상 매칭은, 그러한 기본 유닛 및 카운터 유닛에 적절한 전기 에너지 (즉, 전류 또는 전압) 를 공급하고, 카운터 유닛 및 기본 유닛을 서로 옵션적 및 전기적으로 커플링함으로써 획득될 수도 있다. 예시의 목적을 위해, 기본 유닛에 공급된 전기 에너지는, 이하, '소스 에너지' 로 지칭될 것이고, 그 '소스 에너지' 의 전류 및 전압은, 이하, '소스 전류' 및 '소스 전압' 으로 각각 지칭될 것이다. 일 예에서, 동일한 소스 전류 또는 전압은, 유해한 파 및 카운터 파의 그러한 위상각이 적절히 동기화되도록, 순차적으로 또는 동시에 기본 및 카운터 유닛에 공급될 수도 있다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은 소스 전류 또는 전압의 일부만을 공급받으며, 여기서, 그러한 유해한 파 및 카운터 파의 위상각은 또한 여전히 동기화된다. 또 다른 예에서, 먼저, 기본 유닛은 소스 전류 또는 전압을 공급받고, 그 후, 시스템은 소스 전류 또는 전압의 진폭 또는 방향을 변형시키며, 그 후, 변형된 전류 또는 전압을 카운터 유닛에 공급한다. 그러한 소스 에너지의 위상각이 변형 동안 유지되는 한, 카운터 파 및 유해한 파는 적절히 위상 동기화된다. 또 다른 예에서, 기본 유닛은 소스 에너지를 공급받으며, 시스템은, 그러한 소스 에너지의 유사물을 제공하고, 소스 에너지의 진폭 및/또는 방향을 변경시키거나 변 경시키지 않고 카운터 유닛에 유사물 에너지를 공급하며, 여기서, 그러한 시스템은, 그러한 유사물을 제공하기 위해 다양한 전자 컴포넌트, 회로, 및/또는 제어기를 이용할 수도 있다. 전기 에너지의 위상각이 그 유사물 에너지에서 유지되는 한, 카운터 파 및 유해한 파 또한 위상 동기화된다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은 직렬 모드, 병렬 모드, 또는 하이브리드 모드로 기본 유닛에 전기적으로 커플링되며, 여기서, 그 카운터 유닛은, 소스 에너지, 상술된 바와 같은 변형된 소스 에너지 또는 유사물 에너지를 공급받고, 그 카운터 유닛은 그러한 에너지를 순차적으로 또는 동시에 공급받을 수도 있다. 시스템이 다수의 카운터 유닛을 포함하는 경우, 그러한 카운터 유닛 모두는 동일한 에너지를 공급받을 수도 있고, 그러한 유닛 모두가 아닌 적어도 2개의 유닛은 동일한 에너지를 공급받을 수도 있고, 각각의 유닛은 상이한 에너지를 공급받을 수도 있다. 시스템이, 상이한 소스 에너지를 공급받는 다수의 기본 유닛을 포함하는 경우, 단일 카운터 유닛은 그러한 에너지의 일부만, 그러한 에너지 중 적어도 2개의 에너지의 조합 등을 공급받을 수도 있다. 시스템이 다수의 카운터 유닛을 포함하는 경우, 그러한 유닛은 동일한 또는 상이한 모드에 의해 기본 유닛과 커플링할 수도 있고, 동일한 또는 상이한 에너지를 순차적으로 또는 동시에 공급받을 수도 있다. 상기 예들 모두에서, 카운터 유닛의 감는 방향, 카운터 유닛의 배향 및/또는 정렬이 적절한 위상 매칭을 달성하기 위해 고려되어야 할 수도 있으므로, 위상 매칭 또한 그 카운터 유닛의 다른 구성 및/또는 배치에 의존한다는 것을 인식할 것이다.As mentioned above, exactly matching the (opposite or similar) phase angles of the counter wave and the harmful wave is a prerequisite for countering the harmful wave irradiated from the base unit by the counter wave emitted by the counter unit. Such phase matching may be obtained by supplying appropriate base energy (ie, current or voltage) to such base unit and counter unit, and by selectively and electrically coupling the counter unit and base unit to each other. For purposes of illustration, the electrical energy supplied to the base unit will hereinafter be referred to as 'source energy' and the current and voltage of that 'source energy' are hereinafter referred to as 'source current' and 'source voltage', respectively. Will be referred to. In one example, the same source current or voltage may be supplied to the base and counter units sequentially or simultaneously so that such phase angles of harmful and counter waves are properly synchronized. In another example, the counter unit receives only a portion of the source current or voltage, where the phase angles of such harmful waves and counter waves are still synchronized. In another example, first, the base unit is supplied with a source current or voltage, and then the system modifies the amplitude or direction of the source current or voltage, and then supplies the modified current or voltage to the counter unit. As long as the phase angle of such source energy is maintained during deformation, the counter and harmful waves are properly phase synchronized. In another example, the base unit is supplied with source energy, and the system provides analogs of such source energy and provides analog energy to the counter unit without changing or changing the amplitude and / or direction of the source energy. In such a case, such a system may use a variety of electronic components, circuits, and / or controllers to provide such analogues. As long as the phase angle of the electrical energy is maintained at its analog energy, the counter and harmful waves are also phase synchronized. In another example, the counter unit is electrically coupled to the base unit in series mode, parallel mode, or hybrid mode, where the counter unit is configured to supply source energy, modified source energy or similar energy as described above. The counter unit may be supplied with such energy sequentially or simultaneously. If the system includes multiple counter units, all such counter units may be supplied with the same energy, at least two units that are not all such units may be supplied with the same energy, and each unit supplies different energy. You can get it. If a system includes multiple base units supplied with different source energies, a single counter unit may be supplied with only a portion of that energy, a combination of at least two of those energies, and the like. If the system includes multiple counter units, such units may be coupled with the base unit by the same or different modes and may be supplied with the same or different energy sequentially or simultaneously. In all of the above examples, the phase matching also depends on other configurations and / or arrangements of the counter units, since the winding direction, orientation and / or alignment of the counter units may have to be taken into account to achieve proper phase matching. Will recognize.

이하, 그러한 소스 매칭 및 파 매칭의 추가적인 세부사항이 제공될 것이다. 상술된 바와 같이, 그러한 소스 매칭에서, 그러한 카운터 유닛의 구성과 그 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파의 구성 사이의 임의의 일-대-일 상관은 존재하지 않는다는 것을 이해할 것이다. 즉, 카운터 파의 일정 구성 (또는 파 특성) 은, 일정한 형상 및 사이즈를 정의하고 일정한 배열로 제공되는 단일 카운터 유닛, 유사한 형상 및 사이즈를 정의하지만 또 다른 배열로 제공되는 또 다른 카운터 유닛, 상이한 형상 및 사이즈를 갖지만 유사한 배열로 제공되는 또 다른 카운터 유닛, 미리 설정된 형상 및 사이즈를 정의하고 미리 설정된 배열로 제공되는 적어도 2개의 카운터 유닛, 상이한 형상 및/또는 사이즈를 정의하고 또한 상이한 배열에서의 카운터 유닛들의 동일한 수, 유사한 형상 및/또는 사이즈를 정의하고 또한 유사한 배열에서의 카운터 유닛들의 상이한 수에 의해 획득될 수도 있다. 또한, 그러한 파 매칭에서, 카운터 유닛의 배치와 그 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파의 파면 사이의 일-대-일 상관은 존재하지 않는다는 것을 인식할 것이다. 즉, 일정한 형상을 갖는 파면은, 일정한 구성을 정의하고 기본 유닛 및/또는 타겟 공간에 관해 일정한 위치에 배치되는 단일 카운터 유닛, 또 다른 구성을 형성하고 또 다른 위치에 배치되는 또 다른 단일 카운터 유닛, 미리 설정된 구성을 갖고 미리 설정된 위치에 배치되는 적어도 2개의 카운터 유닛, 상이한 구성을 정의하고 상이한 위치에 배치되는 카운터 유닛들의 동일한 수, 상이한 구성을 정의하고 상이한 위치에 배치되는 카운터 유닛들의 상이한 수 등에 의해 획득될 수도 있다. 그러나, 소스 매칭뿐만 아니라 파 매칭에 적용될 수도 있는 몇몇 경험칙이 존재한다. 제 1 법칙은, 전면 배열로 배치된 카운터 유닛이, 카운터 파의 파면의 곡률 반 경을 증가시키고 카운터 파와 유해한 파 사이에 더 양호한 매칭을 획득하도록 다른 것들이 동일한 경우, 기본 유닛보다 더 큰 특성 차원을 정의하는 것이 바람직하다는 것이다. 제 2 법칙은 그 제 1 법칙의 반대이며, 후면 배열로 배치된 카운터 유닛이, 카운터 파의 파면의 곡률 반경을 감소시키고 카운터 파와 유해한 파 사이에 더 양호한 매칭을 획득하기 위해 기본 유닛의 특성 차원보다 더 작은 특성 차원을 갖는 것이 바람직하다는 것을 나타낸다. 그러나, 카운터 파 및 유해한 파의 진폭을 매칭시키기 위해, 전면 배열에서의 더 긴 또는 더 넓은 카운터 유닛은, 유해한 파의 진폭보다 더 작은 진폭을 갖는 카운터 파를 방출하도록 배열된다. 유사하게, 후면 배열에서의 더 짧은 또는 더 협소한 카운터 유닛은, 유해한 파의 진폭보다 더 큰 진폭을 정의하는 카운터 파를 방출하도록 배열된다. 제 3 법칙은, 동일한 또는 유사한 위상각의 카운터 파를 방출하는 다수의 카운터 유닛을 배치시키는 것은, 카운터 파들의 합산의 파면을 평평하게 하고, 그 카운터 파의 파면의 곡률 반경을 증가시키는 경향이 있다는 것이다. 제 4 법칙은 그 제 3 법칙의 반대이며, 더 적은 수의 카운터 유닛을 배치시키는 것은, 카운터 파의 합산의 그러한 파면을 샤프하게 하고 그 카운터 파의 파면의 곡률 반경을 감소시키는 경향이 있다는 것을 나타낸다. 제 5 법칙은, 다수의 카운터 유닛 모두가 아닌 적어도 2개의 카운터 유닛이 다른 카운터 유닛의 위상각과 반대인 위상각을 갖는 카운터 파를 방출하도록 배열될 수도 있는 경우, 카운터 파의 합산의 파면이 샤프하게 될 수도 있고, 그러한 파면의 곡률 반경이 감소될 수도 있다는 것이다. 이러한 법칙들이, 카운터 유닛의 형상과 상이한 형상을 정의한 파면을 갖는 카운터 파를 방출하는 카운터 유닛에 일반적으로 적용되지 않고, 그러한 법칙들이, 더 상세히 후술될 비균일한 방출 전력의 카운터 유닛에 일반적으로 또한 적용되지 않는다는 것을 인식할 것이다.In the following, further details of such source matching and wave matching will be provided. As mentioned above, it will be appreciated that in such source matching, there is no one-to-one correlation between the configuration of such counter units and the configuration of counter waves emitted by the counter unit. That is, a certain configuration (or wave characteristic) of a counter wave is a single counter unit that defines a constant shape and size and is provided in a constant arrangement, another counter unit that defines a similar shape and size but is provided in another arrangement, a different shape And another counter unit having a size but provided in a similar arrangement, at least two counter units defining a predetermined shape and size, provided in a preset arrangement, a counter unit defining a different shape and / or size and also in a different arrangement It may define the same number, similar shape and / or size of them and also be obtained by different number of counter units in a similar arrangement. It will also be appreciated that in such wave matching, there is no one-to-one correlation between the placement of the counter unit and the wavefront of the counter wave emitted by the counter unit. That is, the wavefront having a constant shape may be defined as a single counter unit defining a certain configuration and disposed at a predetermined position with respect to the base unit and / or the target space, another single counter unit forming another configuration and disposed at another position, By at least two counter units having a preset configuration and arranged at preset positions, the same number of counter units defining different configurations and arranged at different positions, different numbers of counter units defining different configurations and arranged at different positions, and the like May be obtained. However, there are some heuristics that may apply to wave matching as well as source matching. The first law states that the counter units arranged in the front array have a larger characteristic dimension than the base unit if the others are equal so as to increase the radius of curvature of the wavefront of the counter wave and obtain a better match between the counter wave and the harmful wave. It is desirable to define. The second law is the inverse of the first law, and the counter units arranged in the rear array are less than the characteristic dimension of the base unit to reduce the radius of curvature of the wavefront of the counter wave and obtain a better match between the counter wave and the harmful wave. It is desirable to have smaller characteristic dimensions. However, in order to match the amplitudes of the counter and harmful waves, the longer or wider counter unit in the front array is arranged to emit a counter wave having an amplitude smaller than that of the harmful wave. Similarly, a shorter or narrower counter unit in the rear array is arranged to emit a counter wave that defines an amplitude greater than that of the harmful wave. The third law states that placing multiple counter units emitting counter waves of the same or similar phase angle tends to flatten the wavefront of the summation of the counter waves and increase the radius of curvature of the wavefront of the counter wave. will be. The fourth law is the inverse of the third law, and placing fewer counter units indicates that such a wavefront of the summation of counter waves tends to sharpen and reduce the radius of curvature of the wavefront of the counter wave. . The fifth law states that if at least two counter units, but not all of the plurality of counter units, may be arranged to emit counter waves having a phase angle that is opposite the phase angle of the other counter units, the wavefront of the sum of the counter waves is sharp. Or the radius of curvature of such a wavefront may be reduced. These laws do not generally apply to a counter unit that emits a counter wave having a wavefront that defines a shape that is different from the shape of the counter unit, and such laws generally apply to counter units of non-uniform emission power, which will be described in more detail below. It will be appreciated that it does not apply.

소스 매칭의 주요 목적은, 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파가 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파에 최상으로 매칭되도록, 그 기본 유닛의 구성에 매칭하기 위해 그 카운터 유닛의 구성을 조작하는 것이다. 시스템이 카운터 파를 카운터링하기 위한 소스 매칭에 의존하는 것이 바람직한 경우, 유사하게 구성된 카운터 유닛에 의해 획득가능할 수도 있지만 그렇지 않으면 손실될 수도 있는 임의의 이점을 위해, 그 시스템의 카운터 유닛은 기본 유닛으로부터 미리 설정된 또는 합당한 위치내에 배치되는 것이 바람직할 수도 있다. 기본 유닛이 간단한 또는 대칭인 구성을 갖는 경우 또는 복잡한 기본 유닛의 복사품을 구성하는 것이 합당하게 가능한 경우 소스 매칭이 가장 유용하다는 것을 이해할 것이다. 시스템이 다수의 기본 유닛을 포함한 단일 파원을 포함하거나 적어도 하나의 기본 유닛을 각각 포함한 다수의 파원을 포함하는 경우, 단일 카운터 유닛은 다수의 기본 유닛과의 소스 매칭을 획득하도록 배열될 수도 있거나, 다수의 카운터 유닛은 다수의 기본 유닛과의 소스 매칭을 수행하도록 배열될 수도 있다. 그 소스 매칭은, 형상 매칭, 사이즈 매칭, 배열 매칭, 배치 매칭, 강도 매칭, 및 다른 구성 매칭을 포함할 수도 있다.The main purpose of source matching is to manipulate the configuration of the counter unit to match the configuration of the base unit so that the counter wave emitted by the counter unit best matches the harmful wave irradiated by the base unit. If it is desired for the system to rely on source matching to counter the counter wave, for any benefit that may be obtainable by a similarly configured counter unit but otherwise lost, the counter unit of the system is removed from the base unit. It may be desirable to be placed in a preset or reasonable position. It will be appreciated that source matching is most useful when the base unit has a simple or symmetrical configuration or where it is reasonably possible to construct a copy of a complex base unit. If the system includes a single source including multiple base units or includes multiple sources each including at least one base unit, the single counter unit may be arranged to obtain source matching with multiple base units, or The counter unit of may be arranged to perform source matching with multiple base units. The source matching may include shape matching, size matching, array matching, batch matching, strength matching, and other configuration matching.

형상 매칭의 일부 세부사항이 이제까지 개시되어 왔다. 예를 들어, 카운터 유닛은, 하나 또는 다수의 3-D 기본 유닛의 근사 또는 복제인 3-D (또는 벌크) 유사물로서 형성될 수도 있고, 단일 또는 다수의 3-D 또는 2-D 기본 유닛의 근사이거나 단일 또는 다수의 2-D 기본 유닛의 복제인 2-D (또는 평면적) 유사물로서 제공될 수도 있고, 하나 또는 다수의 3-D, 2-D 또는 1-D 기본 유닛의 근사 또는 단일 또는 다수의 1-D 기본 유닛의 복제인 1-D (또는 선형적) 유사물로서 또한 형성될 수도 있다. 유사하게, 다수의 카운터 유닛은, 하나 또는 다수의 3-D 기본 유닛의 복제 또는 근사인 3-D 유사물로서 구성될 수도 있고, 하나 또는 다수의 3-D 또는 2-D 기본 유닛의 근사이거나 단일 또는 다수의 2-D 기본 유닛의 복제인 2-D 유사물로서 형성될 수도 있고, 단일 또는 다수의 3-D, 2-D 또는 1-D 기본 유닛의 근사 또는 하나 또는 다수의 1-D 기본 유닛의 복제인 1-D 유사물로서 제공될 수도 있다. 그러한 유사물은, 연속적인 형상 또는 다수의 홀 또는 개구부를 갖는 형상을 가질 수도 있고, 입체적 형상 또는 변형가능한 형상을 형성할 수도 있고, 대칭 또는 비대칭 형상을 정의할 수도 있다. 또한, 유사물의 형상은 전술한 카운터링 메커니즘에 의해 결정될 수도 있거나, 이와 대조적으로, 그러한 형상들은, 유사물의 다른 구성, 그에 의해 채용된 적절한 카운터링 메커니즘 등의 선택을 지시할 수도 있다.Some details of shape matching have been disclosed so far. For example, the counter unit may be formed as a 3-D (or bulk) analog that is an approximation or a replica of one or multiple 3-D base units, and a single or multiple 3-D or 2-D base units. May be provided as a 2-D (or planar) analog that is an approximation of or is a replica of a single or multiple 2-D base units, or an approximation of one or multiple 3-D, 2-D or 1-D base units, or It may also be formed as a 1-D (or linear) analog that is a replica of a single or multiple 1-D base units. Similarly, multiple counter units may be configured as 3-D analogues that are replicas or approximations of one or multiple 3-D base units, and may be approximations of one or multiple 3-D or 2-D base units. It may be formed as a 2-D analog that is a duplicate of a single or multiple 2-D base units, and approximation of a single or multiple 3-D, 2-D or 1-D base units or one or multiple 1-Ds. It may be provided as a 1-D analog that is a duplicate of the base unit. Such an analog may have a continuous shape or a shape having a plurality of holes or openings, may form a three-dimensional shape or a deformable shape, and may define a symmetrical or asymmetrical shape. In addition, the shape of the analog may be determined by the countering mechanism described above, or in contrast, such shapes may dictate the selection of other configurations of the analog, the appropriate countering mechanism employed thereby, and the like.

그 사이즈 매칭은, 카운터 유닛의 구성과 기본 유닛의 구성 사이의 유사성을 유지하는지 여부에 따라, 그 기본 유닛보다 더 크거나, 유사하거나, 더 작도록 그 카운터 유닛을 정의함으로써 구현될 수도 있다. 그 카운터 유닛이 그 카운터 유닛 자체의 형상과 유사한 형상의 파면을 갖는 카운터 파를 방출할 수도 있는지의 여부에 관계없이, 카운터 유닛의 사이즈는, 카운터 파의 산란 또는 평평함의 정도, 파면의 에지 특성 등을 결정한다. 상술된 바와 같이, 카운터 유닛의 사이즈는, 그 카운터 유닛에 의해 채용된 다양한 카운터링 메커니즘, 배치, 그 카운터 유닛의 배치, 그 카운터 유닛에 공급된 전기 에너지의 진폭 등에 의해 또한 표시된다. 이와 대조적으로, 카운터 유닛의 사이즈는, 그의 다른 구성, 적절한 카운터링 메커니즘 등의 선택을 나타낼 수도 있다.The size matching may be implemented by defining the counter unit to be larger, similar, or smaller than the base unit, depending on whether or not the similarity is maintained between the configuration of the counter unit and the configuration of the base unit. Regardless of whether or not the counter unit may emit a counter wave having a wavefront having a shape similar to that of the counter unit itself, the size of the counter unit may include the degree of scattering or flatness of the counter wave, the edge characteristics of the wavefront, and the like. Determine. As mentioned above, the size of the counter unit is also indicated by various countering mechanisms, arrangements, placement of the counter unit, amplitude of electrical energy supplied to the counter unit, and the like employed by the counter unit. In contrast, the size of the counter unit may indicate the choice of its other configuration, appropriate countering mechanism, and the like.

배치 매칭은, 카운터 유닛의 배향, 정렬, 그 카운터 유닛으로부터 기본 유닛 및/또는 타겟 공간까지의 거리, 그 카운터 유닛의 이동도 등을 조작함으로써 구현될 수도 있다. 여기에 설명된 바와 같이, 카운터 유닛은, 다양한 축 및/또는 다양한 방향에 관한 미리 설정된 관계로 배향될 수도 있고, 전면, 후면, 또는 측면 배열로 배치될 수도 있고, 그러한 방향 및/또는 축으로 정렬 또는 오정렬될 수도 있고, 축 방향, 조사 방향, 각 방향, 동심 방향, 측면 등으로 기본 유닛과 정렬 또는 오정렬될 수도 있다. 또한, 카운터 유닛의 배치는, 그 카운터 유닛에 의해 채용된 다양한 카운터링 메커니즘, 그 카운터 유닛의 형상 및 사이즈, 그 카운터 유닛에 공급된 전기 에너지의 진폭 등에 의해 지시될 수도 있다. 이와 대조적으로, 카운터 유닛의 배치는, 그 카운터 유닛의 다른 구성, 적절한 카운터링 메커니즘 등의 선택을 지시할 수도 있다.Placement matching may be implemented by manipulating the orientation, alignment of the counter units, the distance from the counter units to the base unit and / or target space, the mobility of the counter units, and the like. As described herein, the counter units may be oriented in a predetermined relationship with respect to various axes and / or various directions, and may be arranged in a front, rear, or lateral arrangement and aligned in such directions and / or axes. Alternatively, they may be misaligned, aligned or misaligned with the base unit in the axial direction, irradiation direction, angular direction, concentric direction, side surface, or the like. The arrangement of the counter units may also be dictated by the various countering mechanisms employed by the counter units, the shape and size of the counter units, the amplitude of the electrical energy supplied to the counter units, and the like. In contrast, the arrangement of the counter units may instruct the selection of other configurations of the counter units, appropriate countering mechanisms, and the like.

강도 매칭은, 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파의 진폭을 조작함으로써 구현될 수도 있다. 예를 들어, 기본 유닛으로부터의 일정한 거리에서 측정된 경우, 타겟 공간에 걸쳐 또는 그 타겟 공간에서의 미리 설정된 위치 등의 경우, 그 카운터 파는 유해한 파의 진폭보다 크거나, 유사하거나 작은 진폭을 정의할 수도 있다. 또한, 카운터 파의 진폭은, 그에 의해 채용된 다양한 카운터링 메커니즘, 그의 형상 및 사이즈, 그의 배치, 그에 공급된 그러한 전기 에너지의 진폭 등에 의해 지시된다. 이와 대조적으로, 카운터 파의 진폭은, 그의 다른 구성, 적절한 카운터링 메커니즘 등의 선택을 결정할 수도 있다.Intensity matching may be implemented by manipulating the amplitude of the counter wave emitted by the counter unit. For example, when measured at a certain distance from the base unit, such as over a target space or a preset position in the target space, the counter wave may define an amplitude that is greater than, similar to, or less than that of the harmful wave. It may be. In addition, the amplitude of the counter wave is dictated by the various countering mechanisms employed by it, its shape and size, its arrangement, the amplitude of such electrical energy supplied thereto, and the like. In contrast, the amplitude of the counter wave may determine the choice of its other configuration, appropriate countering mechanism, and the like.

파 매칭의 주요 목적은, 유해한 파의 그러한 파면 중 적어도 하나의 파면을 따라 카운터 유닛을 배치시키고, 유해한 파의 파면에 매칭하고 그 파면을 카운터링할 수 있는 파면을 정의한 카운터 파를 방출하는 것이다. 시스템이 그 유해한 파를 카운터링하기 위해 그 파 매칭에 의존하는 것이 바람직한 경우, 카운터 파면이 그 유해한 파면에 매칭할 수도 있는 한, 그 시스템의 카운터 유닛은 임의의 거리로 기본 유닛 주변의 임의의 위치에 배치될 수도 있다. 그 기본 유닛이 보다 복잡하거나 비대칭인 구성을 정의하는 경우 또는 복잡한 기본 유닛의 복제 또는 근사를 구성하는 것이 불가능한 경우, 그 파 매칭이 가장 강력하다는 것을 인식할 것이다. 그러한 시스템이 다수의 기본 유닛을 갖는 단일 파원을 포함하거나 적어도 하나의 기본 유닛을 각각 포함한 다수의 파원을 포함하는 경우, 단일 카운터 유닛은 다수의 기본 유닛과의 파 매칭을 획득하도록 배열될 수도 있거나, 다수의 카운터 유닛은, 대신, 다수의 기본 유닛과의 파 매칭을 수행하도록 배열될 수도 있다. 그 파 매칭에 관한 단지 하나의 불이익 또는 문제는, 유해한 파의 파면의 상세한 형상 및 분포가 선험적으로 (a prior) 산정되어야 한다는 것이다.The primary purpose of wave matching is to place a counter unit along at least one of those wavefronts of a harmful wave and emit a counter wave defining a wavefront that can match the wavefront of the harmful wave and counter the wavefront. If it is desirable for a system to rely on the wave matching to counter that harmful wave, the counter unit of the system may be positioned at any distance around the base unit at any distance, as long as the counter wavefront may match that harmful wavefront. It may be arranged in. If the base unit defines a more complex or asymmetrical configuration, or if it is impossible to construct a replica or approximation of a complex base unit, it will be appreciated that the wave matching is the most powerful. If such a system includes a single source with multiple base units or includes multiple sources each including at least one base unit, the single counter unit may be arranged to obtain wave matching with multiple base units, Multiple counter units may instead be arranged to perform wave matching with multiple base units. The only disadvantage or problem with the wave matching is that the detailed shape and distribution of the wavefront of the harmful wave must be estimated a priori.

파 매칭의 일 타입에서, 카운터 파는, 카운터 유닛의 길이, 폭, 반경 또는 직경, 영역 및/또는 중량과 같은 카운터 유닛의 단위 구성 당 진폭이 균일하도록 유지되는 균일한 방출 용량을 정의한 적어도 하나의 카운터 유닛에 의해 방출된다. 따라서, 그러한 카운터 유닛은, 그 카운터 유닛 자체와 유사하게 형성된 파면을 갖는 카운터 파를 방출하며, 유해한 파의 파면을 따라 배치되는 경우, 타겟 공간을 정의하면서 카운터 파를 카운터링한다. 파 매칭의 또 다른 타입에서, 그러한 카운터 파는, 카운터 유닛의 단위 구성 당 진폭이 변하는 비-균일한 방출 용량을 갖는 또 다른 카운터 유닛에 의해 방출된다. 그러한 배열에서, 카운터 유닛은 그 카운터 유닛의 형상과 유사하지 않은 파면의 카운터 파를 방출한다. 따라서, 이러한 비-균일한 용량의 카운터 유닛은, 유해한 파에 매칭하고 타겟 공간을 정의할 수 있는 카운터 파를 방출하기 위해, 유해한 파의 단일 파면을 따라 배치되는 것이 아니라, 그러한 파면 중 적어도 2개의 파면에 걸쳐 배치된다.In one type of wave matching, the counter wave is at least one counter that defines a uniform emission capacity such that the amplitude per unit configuration of the counter unit, such as length, width, radius or diameter, area and / or weight of the counter unit, remains constant. Emitted by the unit. Thus, such a counter unit emits a counter wave having a wavefront formed similarly to the counter unit itself, and when placed along the wavefront of the harmful wave, counters the counter wave while defining a target space. In another type of wave matching, such counter waves are emitted by another counter unit having a non-uniform emission capacity that varies in amplitude per unit configuration of the counter unit. In such an arrangement, the counter unit emits wavefront counter waves that are not similar in shape to the counter unit. Thus, such non-uniform capacity counter units are not disposed along a single wavefront of the harmful wave, to emit a counter wave that can match the harmful wave and define a target space, but at least two of those wavefronts. Disposed across the wavefront.

또한, 균일한 방출 용량을 갖는 카운터 유닛이 도 2e에 예시된 바와 같이 유해한 파의 적어도 2개의 파면을 따라 배치될 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 다수의 카운터 유닛이 유해한 파의 상이한 파면에 배치되는 경우, 그러한 유닛은, 그 유닛으로부터 기본 유닛까지의 거리에서의 불일치를 보상하기 위해, 상이한 진폭의 카운터 파를 방출하도록 또한 배열될 수도 있다. 그러한 보상은, 다양한 수단들, 예를 들어, 카운터 유닛의 형상 및 사이즈를 조정하는 것, 그 카운터 유닛에 공급된 전기 에너지의 양을 조작하는 것, 그러한 카운터 유닛의 배향 및/또는 정렬을 제어하는 것 등에 의해 획득될 수도 있다. 카운터 파의 합산이 타겟 공간에서 유해한 파의 파면에 매칭하는 파면을 정의하는 한, 그러한 카운터 유닛은, 다양한 구성 및/또는 배치에서 유해한 파의 인접한 또는 이격된 파면을 따라 배치 될 수도 있다.It will also be appreciated that a counter unit with a uniform discharge capacity may be disposed along at least two wavefronts of the harmful wave, as illustrated in FIG. 2E. If multiple counter units are arranged at different wavefronts of a harmful wave, such units may also be arranged to emit counter waves of different amplitudes to compensate for discrepancies in the distance from that unit to the base unit. Such compensation may be achieved by adjusting various means, for example adjusting the shape and size of the counter unit, manipulating the amount of electrical energy supplied to the counter unit, and controlling the orientation and / or alignment of such counter unit. It may be obtained by, for example. Such counter units may be disposed along adjacent or spaced wavefronts of harmful waves in various configurations and / or arrangements, as long as the sum of the counter waves defines wavefronts that match the wavefronts of the harmful waves in the target space.

소스 매칭의 경우에서 그들의 대응부와 유사하게, 파 매칭을 위한 카운터 유닛은, 와이어, 스트립, 시트, 튜브, 코일, 나선, 및/또는 메시의 형상을 유사하게 정의할 수도 있고, 또한, 그러한 형상을 통한 임의의 홀 또는 개구부를 정의하지 않고 그러한 형상들 중 2개 이상의 형상의 조합을 정의할 수도 있고, 그러한 형상을 통한 다수의 홀 및/또는 개구부를 정의하면서 그러한 형상들 중 2개 이상의 형상의 어레이를 정의할 수도 있으며, 여기서, 그러한 조합 및/또는 어레이의 예는, 서로 번들링하는 다수의 동일한 또는 상이한 형상의 번들, 서로를 따라 편조된 다수의 동일한 또는 상이한 형상의 편조 등을 포함할 수도 있지만, 이에 제한되지는 않는다. 그 후, 그러한 카운터 유닛은 유해한 파의 단일 또는 다수의 파면을 따라 배치될 수도 있다.Similar to their counterparts in the case of source matching, counter units for wave matching may similarly define the shapes of wires, strips, sheets, tubes, coils, spirals, and / or meshes, and also such shapes It is also possible to define a combination of two or more of these shapes without defining any holes or openings through them, and to define a plurality of holes and / or openings through those shapes, Arrays may be defined, wherein examples of such combinations and / or arrays may include multiple identical or different shaped bundles bundling with each other, multiple identical or different shaped braids braided along each other, and the like. However, the present invention is not limited thereto. Such counter units may then be disposed along a single or multiple wavefronts of harmful waves.

상세하게, 본 발명의 EMC 시스템은, 캐리어 주파수 범위, 또는 약 50Hz로부터 약 60Hz까지의 범위인 극저주파 범위, 또는 약 300Hz 미만의 또 다른 주파수 범위에서 다양한 유해한 파를 카운터링하도록 의도된다. 따라서, 본 발명의 바람직한 실시형태에서, EMC 시스템의 다양한 카운터 유닛은, 캐리어 주파수 범위, 또는 약 50Hz로부터 약 60Hz까지의 범위인 극저주파 범위, 또는 약 30Hz 미만의 또 다른 주파수 범위에서 카운터 파를 방출하도록 배열되며, 그에 의해, 비교가능한 주파수 범위에서 유해한 파를 효과적으로 카운터링한다. 다양한 의학적 발견 및/또는 EM파의 주요 원인이 이러한 주파수 범위에서의 EM파라는 가정을 고려하면, 이러한 카운터 유닛은, 다양한 전기 및 전자 디바이스의 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 파로부터 이러한 유해한 주파수 컴포넌트들을 효과적으로 제거한다고 생각된다.Specifically, the EMC system of the present invention is intended to counter a variety of harmful waves in the carrier frequency range, or in the very low frequency range that ranges from about 50 Hz to about 60 Hz, or another frequency range of less than about 300 Hz. Thus, in a preferred embodiment of the present invention, the various counter units of the EMC system emit counter waves in the carrier frequency range, or in the very low frequency range, which ranges from about 50 Hz to about 60 Hz, or another frequency range of less than about 30 Hz. To effectively counter harmful waves in a comparable frequency range. Given the various medical findings and / or assumptions that the primary cause of EM waves is EM waves in this frequency range, this counter unit effectively removes these harmful frequency components from the harmful waves emitted from the base units of various electrical and electronic devices. I think to remove.

바람직하지 않더라도, 본 발명의 EMC 시스템의 다양한 카운터 유닛은, 동일한 또는 유사한 주파수 범위에서 유해한 파를 카운터링하기 위해, 약 3kHz 미만의 울트라 저주파 범위에서의 카운터 파, 약 30kHz 미만의 초저주파 범위에서의 카운터 파, 및 약 300kHz 미만의 저주파 범위에서의 카운터 파를 방출하도록 또한 배열될 수도 있다. 또한, 그 카운터 유닛은, 유사한 주파수 범위의 유해한 파를 카운터링하기 위해, 예를 들어, 약 5×102Hz로부터 약 108Hz까지의 범위인 무선파 주파수, 약 108Hz로부터 약 1012Hz까지의 범위인 마이크로파 주파수 등과 같은 다른 주파수 범위에서 카운터 파를 방출하도록 배열될 수도 있다. 바람직한 경우, 카운터 유닛은, 유사한 주파수 범위의 유해한 파를 카운터링하기 위해, 예를 들어, 약 7.5×1014Hz로부터 약 1017Hz까지의 범위인 주파수의 자외선, 약 7×1016Hz로부터 약 1019Hz까지의 범위인 주파수의 X-선, 5×1018Hz 이상의 주파수 범위의 감마선 등과 같은 더 높은 주파수를 정의하는 카운터 파를 방출하도록 또한 배열될 수도 있다.Although not preferred, the various counter units of the EMC system of the present invention are designed for counter waves in the ultra low frequency range of less than about 3 kHz, ultra low frequency ranges of less than about 30 kHz, in order to counter harmful waves in the same or similar frequency ranges. It may also be arranged to emit a counter wave and a counter wave in a low frequency range of less than about 300 kHz. In addition, the counter unit may, for example, counter a harmful wave in a similar frequency range, for example, a radio wave frequency ranging from about 5 × 10 2 Hz to about 10 8 Hz, about 10 8 Hz to about 10 12 Hz. It may be arranged to emit a counter wave in another frequency range, such as a microwave frequency, which is in the range up to. If desired, the counter unit may be configured to counter harmful waves in a similar frequency range, for example, from about 7.5 × 10 14 Hz to about 10 17 Hz ultraviolet light at a frequency ranging from about 7 × 10 16 Hz to about It may also be arranged to emit a counter wave that defines a higher frequency, such as X-rays of frequencies in the range up to 10 19 Hz, gamma rays in the frequency range above 5x10 18 Hz, and the like.

또한, 그러한 카운터 유닛은, 유해한 파의 특정 컴포넌트를 선택적으로 카운터링하도록, 또는 다른 방법으로, 유해한 파의 나머지를 카운터링 (즉, 소거 및/또는 억제) 하는 동안 그러한 유해한 파의 특정 컴포넌트를 특히 보호하도록 배열될 수도 있다. 예를 들어 및 유해한 파가 더 높은 주파수 컴포넌트를 포함하는 경우, 카운터 유닛은, 캐리어 주파수 범위 및 극저주파 범위의 유해한 파를 포함한 유해한 파의 나머지를 카운터링하는 동안, 특히, 예를 들어, 약 300gHz로부터 약 10tHz까지의 주파수 범위의 원적외선, 약 10tHz로부터 약 100tHz까지의 주파수 범위의 중적외선, 약 100tHz로부터 약 700tHz까지의 주파수 범위의 근적외선 등을 포함한 적외선과 같은 유익한 파를 보호하도록 배열될 수도 있다. 이와 대조적으로, 카운터 유닛은, 그러한 원적외선, 중적외선, 및/또는 근적외선을 포함한 적외선을 또한 방출하도록 배열될 수도 있다.In addition, such a counter unit is particularly capable of selectively countering certain components of a harmful wave, or in other ways, in particular identifying a particular component of such a harmful wave while countering (ie, erasing and / or suppressing) the remainder of the harmful wave. It may be arranged to protect. For example, and if the harmful wave includes a higher frequency component, the counter unit may, in particular, for example, about 300 gHz, while countering the remainder of the harmful wave, including the harmful wave in the carrier frequency range and the very low frequency range. May be arranged to protect beneficial waves such as infrared, including far infrared in the frequency range from about 10 tHz, mid-infrared in the frequency range from about 10 tHz to about 100 tHz, near infrared in the frequency range from about 100 tHz to about 700 tHz, and the like. In contrast, the counter unit may be arranged to also emit infrared radiation, including such far infrared, mid-infrared, and / or near infrared.

본 발명의 또 다른 양태에서, 다양한 카운터 유닛은, 또한, 다양한 디바이스의 기본 유닛으로 구현될 수도 있고, EMC 시스템으로 그러한 디바이스를 변환할 수도 있으며, 그 EM 시스템에서, 그 시스템의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 디바이스 EM파는 그 시스템의 카운터 유닛에 의해 방출된 카운터 파에 의하여 카운터링 (즉, 소거 및/또는 억제) 될 수도 있다.In another aspect of the invention, the various counter units may also be implemented as base units of various devices, and may convert such devices into an EMC system, in which the EM system is examined by the base unit of the system. The harmful device EM wave may be countered (ie, erased and / or suppressed) by the counter wave emitted by the counter unit of the system.

본 발명의 이러한 양태의 일 예시적인 실시형태에서, 카운터 유닛은, 카운터 파에 의하여 그러한 유해한 파를 카운터링함으로써, 예를 들어, 타겟 공간에서 유해한 파의 적어도 일부를 소거하고 및/또는 그 유해한 파가 그러한 타겟 공간으로 전파하는 것을 억제함으로써, 그 유해한 파의 조사를 최소화하기 위해, 전기적으로 도전성 와이어, 스트립, 시트, 튜브, 코일, 나선, 및/또는 메시로서 형성된 임의의 기본 유닛내에 구현될 수도 있거나, 다른 방법으로, 임의의 전기적으로 반도전성 및/또는 절연성 와이어, 스트립, 시트, 튜브, 코일, 나선, 및/또는 메시로 구현될 수도 있다. 그러한 카운터 유닛은, 전기적으로 도전성, 절연성 또는 반절연성일 수도 있는 적어도 하나의 재료로 구성되고 및/또는 그 재료를 포함할 수도 있다. 카운터 유닛은, 하나 또는 다수의 와이어, 스트립, 시트, 튜브, 코일, 나선, 및/또는 메시의 형상을 변형시킴으로써, 하나 또는 다수의 와이어, 스트립, 시트, 튜브, 코일, 나선, 및/또는 메시에 의해 형성된 형상을 갖는 임의의 기본 유닛에 구현될 수도 있으며, 여기서, 그 변형된 형상들의 몇몇 예는, 각각 코일의 형상을 변형시킴으로써 형성된 솔레노이드 및 토로이드일 수도 있다. 일반적으로, 이러한 실시형태의 카운터 유닛은, 전술한 배열들 중 임의의 하나의 배열로 배치될 수도 있으며, 전술한 메커니즘 중 임의의 메커니즘에 의해 유해한 파를 카운터링할 수도 있다. 따라서, 유사하게 또는 동일하게 형성된 및/또는 사이징된 카운터 유닛은, 소스 매칭에 기초하여, 하나 이상의 기본 유닛에 관해 측면으로 또는 나란히 배치될 수도 있고, 하나 이상의 기본 유닛과 축 방향으로, 조사 방향으로, 또는 각 방향으로 정렬될 수도 있고, 하나 이상의 기본 유닛을 그 내에 둘러싸일 수도 있고, 하나 이상의 기본 유닛에 의해 둘러싸일 수도 있고, 하나 이상의 기본 유닛 주변에 감길 수도 있고, 하나 이상의 기본 유닛에 의해 감겨질 수도 있다. 다른 방법으로, 유사하게 또는 상이하게 형성된 및/또는 사이징된 카운터 유닛은, 파 매칭을 위하여 하나 이상의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파의 하나 이상의 파면을 따라 배치될 수도 있다. 또한, 그러한 카운터 유닛은, 로컬 카운터링 또는 글로벌 카운터링에 따라 유해한 파를 카운터링하기 위해 적절한 수 및/또는 배열로 이용될 수도 있다.In one exemplary embodiment of this aspect of the invention, the counter unit counters such harmful waves by counter waves, for example, eliminating at least a portion of the harmful waves in the target space and / or making them harmful waves. May be implemented in any base unit formed as electrically conductive wires, strips, sheets, tubes, coils, spirals, and / or meshes to minimize propagation of such harmful waves by inhibiting propagation into such target spaces. Or, alternatively, may be implemented with any electrically semiconductive and / or insulated wire, strip, sheet, tube, coil, spiral, and / or mesh. Such a counter unit may consist of and / or comprise at least one material which may be electrically conductive, insulating or semi-insulating. The counter unit may be configured to modify the shape of one or more wires, strips, sheets, tubes, coils, spirals, and / or meshes to form one or more wires, strips, sheets, tubes, coils, spirals, and / or meshes. It may be implemented in any basic unit having a shape formed by, where some examples of the modified shapes may be solenoids and toroids, respectively, formed by modifying the shape of the coil. In general, the counter unit of this embodiment may be arranged in any one of the above-described arrangements, and may counter harmful waves by any of the above-described mechanisms. Thus, similarly or identically formed and / or sized counter units may be arranged laterally or side by side with respect to one or more base units, based on source matching, in the axial direction with the one or more base units, in the irradiation direction. Or may be aligned in each direction, may be surrounded by one or more base units, may be surrounded by one or more base units, wound around one or more base units, wound by one or more base units You may lose. Alternatively, similarly or differently formed and / or sized counter units may be disposed along one or more wavefronts of harmful waves irradiated by one or more base units for wave matching. Such counter units may also be used in an appropriate number and / or arrangement to counter harmful waves in accordance with local or global countering.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 또한, 카운터 유닛은, 예를 들어, 저항기, 인덕터, 커패시터, 다이오드, 트랜지스터, 증폭기, 및 다른 신호 프로세서 및/또는 조절기와 같은 임의의 종래의 전기 및/또는 전자 엘리먼트로 구현되어, 그 엘리먼트들에 의해 조사된 유해한 파를 카운터링할 수도 있으며, 여기서, 그러한 전기 및/또는 전자 엘리먼트는 그 카운터 유닛에 공급된 적어도 하나의 입력 신호를 조작하고 그 입력 신호와 적어도 부분적으로 상이한 적어도 하나의 출력 신호를 생성하도록 기능한다. 상기 전기 및/또는 전자 엘리먼트 모두는, 불안정한 전류가 그 내에 흐를 때 또는 불안정한 전압이 인가될 때, 본 발명의 범위내에서 기본 유닛으로서 적격일 수도 있다. 또한, 상기 엘리먼트들은, 엘리먼트들 중 임의의 엘리먼트가 안정 또는 불안정할 수도 있는 입력 신호에 응답하여 불안정한 출력 신호 (즉, 전류 또는 전압) 를 생성할 때, 본 발명의 범위내에서 기본 유닛으로서 또한 적격일 수도 있다. 따라서, 상기 종래의 엘리먼트들 및/또는 그러한 엘리먼트들을 포함한 디바이스들은, 임의의 상기 배치 및/또는 배열로 상기 구성들 중 임의의 구성을 갖는 다양한 카운터 유닛을 그 내에 포함함으로써 EMC 엘리먼트로 변환될 수도 있으며, 그에 의해, 상기 메커니즘들 중 임의의 메커니즘으로 유해한 파를 카운터링한다. 그러한 카운터 유닛가 임의의 차원으로 제공될 수도 있으므로, 그러한 EMC 엘리먼트는 미크론 또는 나노미터의 범위에서 제공될 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the counter unit is also any conventional, such as, for example, resistors, inductors, capacitors, diodes, transistors, amplifiers, and other signal processors and / or regulators. It may be implemented with electrical and / or electronic elements to counter harmful waves radiated by the elements, where such electrical and / or electronic elements manipulate at least one input signal supplied to the counter unit and Function to generate at least one output signal that is at least partially different from the input signal. Both the electrical and / or electronic elements may be eligible as base units within the scope of the present invention when an unstable current flows therein or when an unstable voltage is applied. In addition, the elements are also eligible as base units within the scope of the present invention when any of the elements generates an unstable output signal (ie, current or voltage) in response to an input signal that may be stable or unstable. It may be. Thus, the conventional elements and / or devices comprising such elements may be converted to EMC elements by including therein various counter units having any of the above configurations in any of the above arrangements and / or arrangements. Thereby countering harmful waves with any of the above mechanisms. Since such counter units may be provided in any dimension, such EMC elements may be provided in the range of microns or nanometers.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 카운터 유닛은, 다양한 스피커들의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파를 카운터링하기 위해 그 다 양한 스피커내에 또한 포함될 수도 있으며, 그 스피커들의 예는 콘-드라이브 스피커, 정전형 스피커, 및 압전 스피커를 포함할 수도 있지만, 이에 제한되지는 않는다. 따라서, 이어폰, 헤드폰, 유선 전화기, 이동 전화기, 및 시청각 디바이스와 같은 이러한 EMC 스피커를 포함한 임의의 종래 디바이스는, EMC 이어폰, EMC 헤드폰, EMC 유선 전화기, EMC 이동 전화기, 및 EMC 시청각 시스템과 같은 다양한 EMC 시스템으로 변환될 수도 있다. 도 3a 내지 3i는, 본 발명에 따라, 다양한 기본 유닛을 포함한 스피커에 구현된 예시적인 카운터 유닛의 개략적인 사시도이며, 여기서, 도 3a 내지 도 3d는 종래 기술의 콘-드라이브 스피커에 구현되고 그 스피커의 기본 유닛을 카운터링하는 다양한 카운터 유닛을 예시하지만, 도 3e 내지 도 3i는 종래의 압전 스피커에 구현되고 그 스피커의 기본 유닛을 카운터링하는 다양한 카운터 유닛을 나타낸다. 도 3a 내지 도 3d에서, 스피커 콘 주변 또는 내부에 배치된 영구 자석이 도시의 간략화를 위해 그 도면들에서 생략되거나, 다른 방법으로, 콘-드라이브 스피커가, 발명의 명칭이 "Electromagnetically-Countered Speaker Systems and Methods" 이고 공동-계류중인 미국 출원 제 60/???,??? 호에 개시된 무자석 스피커 시스템이라는 것을 이해할 것이다. 유사하게, 도 3e 내지 도 3i에서, 압전판 및 전극만이 종래 기술의 압전 스피커의 대표적인 기본 유닛으로서 선택된다는 것을 이해할 것이다. 따라서, 유해한 파를 방출할 수도 있는 그러한 스피커의 다른 도전성, 반도전성, 및/또는 절연성 부분이 이러한 도면들 모두로부터 생략될 것이고, 필요한 경우, 그러한 부분이 상술된 바와 같이 그러한 카운터 유닛 중 임의의 카운터 유닛에 의지함으로써 적절히 카운터링될 수도 있다 는 것을 인식할 것이다. 또한, 도 3a 내지 도 3i에서, 다양한 스피커 및 그의 카운터 유닛이 각각의 도면 상단상에 타겟 공간을 정의하기 위해 배치된다는 것을 인식할 것이다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, a counter unit may also be included in the various speakers to counter harmful waves radiated by the base unit of the various speakers, examples of which are cones -May include, but is not limited to, drive speakers, capacitive speakers, and piezoelectric speakers. Thus, any conventional device, including such EMC speakers, such as earphones, headphones, landline phones, mobile phones, and audiovisual devices, can be used with a variety of EMC such as EMC earphones, EMC headphones, EMC landline phones, EMC mobile phones, and EMC audiovisual systems. It may be converted to a system. 3A-3I are schematic perspective views of an exemplary counter unit implemented in a speaker including various basic units, in accordance with the present invention, where FIGS. 3A-3D are implemented in a prior art cone-drive speaker and the speaker thereof 3E-3I illustrate various counter units implemented in a conventional piezoelectric speaker and countering the base unit of the speaker. In Figures 3A-3D, permanent magnets disposed around or within the speaker cone are omitted in the figures for simplicity of illustration, or alternatively, a cone-drive speaker is named "Electromagnetically-Countered Speaker Systems". and Methods "and co-pending US application No. 60 / ???, ??? It will be appreciated that it is a magnetless speaker system disclosed in the call. Similarly, in FIGS. 3E-3I, it will be understood that only piezoelectric plates and electrodes are selected as representative base units of prior art piezoelectric speakers. Thus, other conductive, semiconductive, and / or insulative parts of such speakers that may emit harmful waves will be omitted from all of these figures, and if necessary, any of those counter units as such described above. It will be appreciated that depending on the unit may be properly countered. 3A-3I, it will be appreciated that various speakers and their counter units are arranged to define the target space on top of each figure.

도 3a의 일 예에서, 콘-드라이브 스피커 (22) 는 통상적으로 콘 (22C) 및 그 콘 (22C) 주변에 감긴 적어도 하나의 음성 코일 (22V) 을 포함한다. 당업계에 주지된 바와 같이, 그 음성 코일 (22V) 은 소스 전류를 공급받을 경우 그 주변에 동적 자기장을 정의하고, 음성 코일 (22C) 의 동적 자기장과 영구 자석 (이러한 도면에 포함되지 않음) 에 의해 형성된 정적 자기장 사이의 상호작용은, 그 소스 전류에 응답하여 가청음을 생성하면서 그 콘 (22C) 을 진동시킨다. 음성 코일 (22V) (즉, 이러한 스피커 (22) 의 기본 유닛) 에 의해 조사된 유해한 파를 카운터링하기 위해, 적어도 하나의 카운터 유닛 (40) 은 그 음성 코일 (22V) 에 관한 미리 설정된 관계에 따라 배치된다. 이러한 예에서, 카운터 유닛 (40) 은, 그 음성 코일 (22V) 보다 더 큰 곡률 반경을 정의하는 또 다른 코일로서 형성된다. 이러한 콘텍스트에서, 이러한 카운터 유닛 (40) 이 소스 매칭, 더 상세하게는 형상 매칭의 모드에서 동작하는 것이 바람직하다. 또한, 카운터 유닛 (40) 은, 그 카운터 유닛이 음성 코일 (22V) 보다 타겟 공간에 대한 더 큰 거리로 인해 유해한 파의 진폭보다 더 큰 진폭의 그러한 카운터 파를 방출하는 것이 바람직하도록, 후면 배열로 그 타겟 공간 및 그 음성 코일 (22V) 아래에 배치된다. 또한, 카운터 유닛 (40) 은, 카운터 파의 파면의 중심이 유해한 파의 파면의 종축과 일치하도록, 음성 코일 (22V) 의 종축으로 정렬된다. 그러한 카운터 파가 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖는 것을 보장하기 위해, 소스 전류 또는 그의 유사물은, 카운터 유닛 (40) 에서 와이어의 감겨진 방향에 의존하여 음성 코일 (22V) 에 흐르는 소스 전류의 방향과 동일 또는 반대인 방향으로 그 카운터 유닛 (40) 에 공급될 수도 있다. 따라서, 카운터 유닛 (40) 은, 유해한 파와 함께 정렬되고 그러한 유해한 파의 위상각과 반대인 위상각을 정의하며, 따라서, 타겟 공간에서 그 유해한 파에 매칭 및 그 유해한 파를 카운터링하는 카운터 파를 방출할 수도 있다. 상술된 바와 같이, 그러한 카운터 유닛 (40) 은, 음성 코일 (22V) 의 형상과 유사한 형상을 정의하지만 그 음성 코일 (22V) 의 구성보다 더 크거나 더 넓은 구성을 정의하는 그 음성 코일 (22V) 의 3-D 유사물로서 관측될 수도 있다. 바람직한 경우, 카운터 유닛 (40) 은, 파 매칭에서 상술된 바와 같이, 그 카운터 유닛 (40) 으로부터의 카운터 파의 파면이 음성 코일 (22V) 로부터의 유해한 파의 파면에 매칭할 수도 있는 그 음성 코일 (22V) 로부터 미리 설정된 거리에 배치될 수도 있다. 이러한 예들 모두에서, 그러한 스피커 (22) 는 카운터 유닛 (40) 에 의하여 본 발명의 EMC 스피커 시스템으로 변환된다.In the example of FIG. 3A, cone-drive speaker 22 typically includes a cone 22C and at least one voice coil 22V wound around the cone 22C. As is well known in the art, the voice coil 22V defines a dynamic magnetic field around it when supplied with a source current, and the dynamic coil and permanent magnet (not included in these figures) of the voice coil 22C. The interaction between the static magnetic fields formed by this causes the cone 22C to vibrate while generating an audible sound in response to its source current. In order to counter the harmful waves irradiated by the voice coil 22V (that is, the basic unit of such a speaker 22), the at least one counter unit 40 is in a predetermined relationship with respect to the voice coil 22V. Are arranged accordingly. In this example, the counter unit 40 is formed as another coil which defines a radius of curvature that is larger than that of the voice coil 22V. In this context, it is desirable for this counter unit 40 to operate in the mode of source matching, more particularly shape matching. In addition, the counter unit 40 is arranged in a rearward arrangement such that it is desirable for the counter unit to emit such counter waves of greater amplitude than that of the harmful waves due to the greater distance to the target space than the voice coil 22V. It is arranged under the target space and the voice coil 22V. In addition, the counter unit 40 is aligned with the longitudinal axis of the voice coil 22V so that the center of the wavefront of the counter wave coincides with the longitudinal axis of the wavefront of the harmful wave. In order to ensure that such a counter wave has a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave, the source current or the like is dependent on the winding direction of the wire in the counter unit 40 depending on the voice coil 22V. It may be supplied to the counter unit 40 in the same or opposite direction to the direction of the source current flowing in the. Thus, the counter unit 40 defines a phase angle that is aligned with the harmful wave and is opposite to the phase angle of such harmful wave, and thus emits a counter wave that matches the harmful wave in the target space and counters the harmful wave. You may. As described above, such a counter unit 40 defines a shape similar to that of the voice coil 22V but defines a configuration larger or wider than that of the voice coil 22V. It can also be observed as a 3-D analog of. If desired, the counter unit 40 has its voice coil as described above in wave matching, where the wavefront of the counter wave from the counter unit 40 may match the wavefront of the harmful wave from the voice coil 22V. It may be arranged at a predetermined distance from 22V. In both of these examples, such speaker 22 is converted to the EMC speaker system of the present invention by counter unit 40.

상기 카운터 유닛 (40) 은 다른 구성으로 변형될 수도 있고, 다른 배치로 구현될 수도 있고, 및/또는 다른 메커니즘으로 유해한 파를 카운터링할 수도 있다. 예를 들어, 그러한 카운터 유닛은 상이한 곡률 반경을 가질 수도 있으며, 그 곡률 반경은, 음성 코일의 곡률 반경보다 더 작을 수도 있고, 일정할 수도 있거나 그 카운터 유닛의 종축을 따라 변할 수도 있다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은 곡률 반경을 정의하는 동안 후면 배열로 배치될 수도 있으며, 그 곡률 반경은, 음 성 코일의 곡률 반경보다 크거나, 유사하거나 작을 수도 있다. 또 다른 예에서, 2개 이상의 유사하게 또는 상이하게 형성된 카운터 유닛은, 그러한 로컬 또는 글로벌 카운터링을 위해 다양한 배열로 배치될 수도 있다.The counter unit 40 may be modified in other configurations, may be implemented in other configurations, and / or counter harmful waves with other mechanisms. For example, such a counter unit may have a different radius of curvature, the radius of curvature may be smaller than the radius of curvature of the voice coil, may be constant or may vary along the longitudinal axis of the counter unit. In another example, the counter units may be arranged in a rearward arrangement while defining the radius of curvature, which radius of curvature may be greater than, similar to, or less than the radius of curvature of the voice coil. In another example, two or more similarly or differently formed counter units may be arranged in various arrangements for such local or global countering.

도 3b의 또 다른 예에서, 콘-드라이브 스피커 (22) 는 또한 콘 (22C) 및 그 콘 (22C) 주변에 감긴 하나 이상의 음성 코일 (22V) 을 포함한다. 음성 코일 (22V) 에 의해 조사된 유해한 파를 카운터링하기 위해, 적어도 하나의 카운터 유닛 (40) 은, 그 음성 코일 (22V) 와 유사하게 형성되고, 그 음성 코일 (22V) 에 관한 미리 설정된 관계에 따라 배치된다. 이러한 예에서, 이러한 카운터 유닛 (40) 은, 소스 매칭, 더 상세하게는, 형상 매칭에 기초하여 동작할 것이다. 또한, 카운터 유닛 (40) 은, 음성 코일 (22V) 보다 타겟 공간에 대한 유사한 또는 약간 더 큰 거리로 인해 카운터 유닛이 유해한 파의 진폭과 유사 또는 그 진폭보다 약간 더 작은 진폭의 카운터 파를 방출하는 것이 바람직하도록, 측면 및 동심 배열로 그 음성 코일 (22V) 의 적어도 일부 주변에 배치된다. 또한, 카운터 유닛 (40) 은, 카운터 파의 파면의 중심이 유해한 파의 파면의 중심으로 정렬되도록, 음성 코일 (22V) 의 종축으로 정렬된다. 또한, 소스 전류 또는 그 전류의 유사물은, 카운터 파가 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하는 것을 보장하기 위해, 카운터 유닛 (40) 에서 와이어의 감긴 방향에 기초하여 음성 코일 (22V) 에 흐르는 소스 전류의 방향과 동일한 또는 반대인 방향으로 그 카운터 유닛 (40) 에 공급될 수도 있다. 따라서, 카운터 유닛 (40) 은, 유해한 파와 정렬되고 유해한 파의 위상각과 반대인 그러한 위상각을 정의하며, 그에 의해, 타 겟 공간에서 그 유해한 파에 매칭하고 그 유해한 파를 카운터링하는 카운터 파를 방출한다. 바람직한 경우, 카운터 유닛 (40) 은 음성 코일 (22V) 로부터 미리 설정된 반경 방향 또는 축 방향의 거리에 배치될 수도 있으며, 그 음성 코일에서, 카운터 유닛 (40) 으로부터의 카운터 파의 파면은, 파 매칭에서 설명된 바와 같이 그 음성 코일 (22V) 로부터의 유해한 파의 파면에 매칭할 수도 있다. 이러한 예들 모두에서, 스피커 (22) 는, 카운터 유닛 (40) 에 의해 본 발명의 그러한 EMC 스피커 시스템으로 변환된다. 도 3b의 카운터 유닛 (40) 의 다른 구성적 및/또는 동작 특성은 도 3a의 카운터 유닛의 그러한 특성들과 유사 또는 동일하다.In another example of FIG. 3B, cone-drive speaker 22 also includes a cone 22C and one or more voice coils 22V wound around the cone 22C. In order to counter the harmful waves irradiated by the voice coil 22V, the at least one counter unit 40 is formed similarly to the voice coil 22V, and has a preset relationship with respect to the voice coil 22V. Are placed according to. In this example, this counter unit 40 will operate based on source matching, more specifically, shape matching. In addition, the counter unit 40 causes the counter unit to emit a counter wave of an amplitude similar to or slightly smaller than that of the harmful wave due to a similar or slightly larger distance to the target space than the voice coil 22V. Preferably, it is arranged around at least a portion of its voice coil 22V in a lateral and concentric arrangement. In addition, the counter unit 40 is aligned with the longitudinal axis of the voice coil 22V so that the center of the wavefront of the counter wave is aligned with the center of the wavefront of the harmful wave. In addition, the source current or the analogue of the current is a negative coil based on the winding direction of the wire in the counter unit 40 to ensure that the counter wave defines a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave. It may be supplied to the counter unit 40 in the same or opposite direction as the direction of the source current flowing in the 22V. Thus, the counter unit 40 defines such a phase angle aligned with the harmful wave and opposite the phase angle of the harmful wave, thereby matching the counter wave in the target space and countering the harmful wave. Release. If desired, the counter unit 40 may be disposed at a predetermined radial or axial distance from the voice coil 22V, in which the wavefront of the counter wave from the counter unit 40 is wave matched. As described in the following, the wavefront of the harmful wave from the voice coil 22V may be matched. In all these examples, the speaker 22 is converted to such EMC speaker system of the present invention by the counter unit 40. Other structural and / or operational characteristics of the counter unit 40 of FIG. 3B are similar or identical to those of the counter unit of FIG. 3A.

상기 카운터 유닛 (40) 은, 다른 구성으로 변형될 수도 있고, 다른 배치로 구현될 수도 있고, 및/또는 다른 메커니즘으로 유해한 파를 카운터링할 수도 있다. 예를 들어, 그러한 카운터 유닛은 상이한 곡률 반경을 가질 수도 있으며, 그 곡률 반경은, 음성 코일의 곡률 반경보다 더 작을 수도 있고, 콘 내부에 배치될 수도 있고, 일정할 수도 있거나 그 카운터 유닛의 종축을 따라 변할 수도 있다. 또 다른 예에서, 그러한 카운터 유닛은, 음성 코일의 곡률 반경보다 더 크거나, 유사하거나 더 작은 곡률 반경을 정의하는 동안, 음성 코일의 상이한 부분을 둘러싸거나 그 음성 코일의 전체 부분을 둘러싸도록 배치될 수도 있다. 또 다른 예에서, 다수의 유사하게 또는 상이하게 형성된 카운터 유닛은, 그러한 로컬 또는 글로벌 카운터링을 위해 다양한 배열로 배치될 수도 있다. 도 3a 및 도 3b에서, 음성 코일 및 카운터 유닛이 서로 대체될 수도 있다는 것을 이해할 것이다. 즉, 각각의 도면은, 외부 코일이 더 큰 음성 코일을 나타내고 내부 코일이 그 외부 음 성 코일에 의해 둘러싸인 카운터 유닛이도록 해석될 수도 있으며, 여기서, 도 3a 및 도 3b의 다른 특성이 또한 적용된다.The counter unit 40 may be modified in other configurations, may be implemented in other arrangements, and / or counter harmful waves with other mechanisms. For example, such a counter unit may have a different radius of curvature, the radius of curvature may be smaller than the radius of curvature of the voice coil, may be disposed inside the cone, may be constant or may vary the longitudinal axis of the counter unit. It may change accordingly. In another example, such a counter unit may be arranged to surround different portions of the voice coil or to surround the entire portion of the voice coil while defining a radius of curvature that is larger, similar or smaller than the radius of curvature of the voice coil. It may be. In another example, multiple similarly or differently formed counter units may be arranged in various arrangements for such local or global countering. 3A and 3B, it will be appreciated that the voice coil and counter unit may be replaced with each other. That is, each figure may be interpreted such that the outer coil represents a larger voice coil and the inner coil is a counter unit surrounded by its outer voice coil, where the other characteristics of FIGS. 3A and 3B also apply.

도 3c의 또 다른 예에서, 콘-드라이브 스피커 (22) 는, 또한, 콘 (22C) 및 그 콘 (22C) 주변에 감겨진 적어도 하나의 음성 코일 (22V) 을 포함한다. 음성 코일 (22V) 에 의해 조사된 유해한 파를 카운터링하기 위해, 카운터 유닛 (40) 은, 그 내에 다수의 개구부를 갖는 메시로 구성되고, 음성 코일 (22V) 의 배열과 유사한 배열로 환상 튜브에 랩핑 (wrap) 된다. 그 후, 카운터 유닛 (40) 은, 음성 코일 (22V) 보다 타겟 공간에 대한 유사하거나 약간 더 큰 거리로 인해, 그 카운터 유닛 (40) 이 유해한 파의 진폭과 유사하거나 그 진폭보다 약간 작은 진폭의 카운터 파를 방출하도록, 측면 및 동심 배열로 그 음성 코일 (22V) 의 적어도 일부 주변에 배치된다. 또한, 카운터 유닛 (40) 은, 카운터 파의 파면의 중심이 그러한 유해한 파의 파면의 중심으로 정렬하도록, 음성 코일 (22V) 의 종축으로 정렬된다. 소스 전류 또는 그 전류의 유사물은, 카운터 파가 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖는 것을 보장하는 방향으로 카운터 유닛 (40) 에 공급될 수도 있다. 따라서, 카운터 유닛 (40) 은, 유해한 파로 정렬되고, 그 유해한 파의 위상각과 반대인 위상각을 가지며, 그에 의해, 타겟 공간에서 그러한 유해한 파를 카운터링하는 카운터 파를 방출한다. 바람직한 경우, 카운터 유닛 (40) 은 음성 코일 (22V) 로부터 미리 설정된 반경 방향 또는 축 방향의 거리에 배치될 수도 있으며, 그 음성 코일에서, 카운터 유닛 (40) 에 의한 그러한 카운터 파의 파면은, 파 매칭에서 설명된 바와 같이 그 음성 코일 (22V) 로부터의 유해한 파의 파면에 매칭할 수도 있다. 이러한 예들 모두에서, 스피커 (22) 는, 그 내에 카운터 유닛 (40) 을 포함함으로써 본 발명의 EMC 스피커 시스템으로 변환된다. 도 3c의 그러한 카운터 유닛 (40) 의 다른 구성적 및/또는 동작 특성은, 도 3a 및 도 3b의 카운터 유닛의 그러한 특성들과 유사 또는 동일하다.In another example of FIG. 3C, the cone-drive speaker 22 also includes a cone 22C and at least one voice coil 22V wound around the cone 22C. In order to counter the harmful waves irradiated by the voice coil 22V, the counter unit 40 is composed of a mesh having a plurality of openings therein, and is provided to the annular tube in an arrangement similar to that of the voice coil 22V. It is wrapped. The counter unit 40 then has a similar or slightly larger distance to the target space than the voice coil 22V, so that the counter unit 40 is of an amplitude similar to or slightly less than that of the harmful wave. To emit a counter wave, it is arranged around at least a portion of its voice coil 22V in side and concentric arrangement. In addition, the counter unit 40 is aligned with the longitudinal axis of the voice coil 22V so that the center of the wavefront of the counter wave is aligned with the center of the wavefront of such a harmful wave. The source current or the like may be supplied to the counter unit 40 in a direction to ensure that the counter wave has a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave. Thus, the counter unit 40 is aligned with harmful waves and has a phase angle that is opposite to the phase angle of the harmful waves, thereby emitting counter waves that counter such harmful waves in the target space. If desired, the counter unit 40 may be arranged at a predetermined radial or axial distance from the voice coil 22V, in which the wavefront of such a counter wave by the counter unit 40 is a wave. As described in the matching, the wavefront of the harmful wave from the voice coil 22V may be matched. In all these examples, the speaker 22 is converted to the EMC speaker system of the present invention by including the counter unit 40 therein. Other structural and / or operational characteristics of such counter unit 40 of FIG. 3C are similar or identical to those of the counter unit of FIGS. 3A and 3B.

상기 카운터 유닛 (40) 은, 다른 구성으로 변형될 수도 있고, 다른 배치로 구현될 수도 있고, 및/또는 다른 메커니즘으로 유해한 파를 카운터링할 수도 있다. 예를 들어, 그러한 카운터 유닛은, 임의의 개구부가 없는 다른 형상의 입체적 환상 튜브, 다른 형상의 환상 다공성 튜브 등으로 형성될 수도 있다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은 상이한 곡률 반경을 정의 할 수도 있으며, 그 곡률 반경은, 음성 코일의 곡률 반경보다 더 작을 수도 있고 콘 내에 배치될 수도 있고, 일정할 수도 있거나 그 카운터 유닛의 종축을 따라 변할 수도 있다. 또 다른 예에서, 그러한 카운터 유닛은, 음성 코일의 곡률 반경보다 더 크거나, 유사하거나, 더 작은 곡률 반경을 갖는 동안, 음성 코일의 상이한 부분을 둘러싸거나 그 음성 코일의 전체 부분을 둘러싸도록 배치될 수도 있다. 또 다른 예에서, 다수의 유사하게 또는 상이하게 형성된 카운터 유닛은, 또한, 그러한 로컬 또는 글로벌 카운터링을 위해 다양한 배열로 배치될 수도 있다.The counter unit 40 may be modified in other configurations, may be implemented in other arrangements, and / or counter harmful waves with other mechanisms. For example, such a counter unit may be formed of another shape of three-dimensional annular tube, other shape of annular porous tube, etc., without any opening. In another example, the counter unit may define a different radius of curvature, the radius of curvature may be smaller than the radius of curvature of the voice coil and may be disposed in the cone, may be constant or along the longitudinal axis of the counter unit. It may change. In another example, such counter units may be arranged to surround different portions of the voice coil or to surround the entire portion of the voice coil while having a radius of curvature that is greater, similar, or smaller than the radius of curvature of the voice coil. It may be. In another example, multiple similarly or differently formed counter units may also be arranged in various arrangements for such local or global countering.

도 3d의 또 다른 예에서, 콘-드라이브 스피커 (22) 는, 또한, 콘 (22C) 및 그 콘 (22C) 주변에 감겨진 적어도 하나의 음성 코일 (22V) 을 포함한다. 음성 코일 (22V) 에 의해 조사된 유해한 파를 카운터링하기 위해, 카운터 유닛 (40) 은, 그 내에 다수의 개구부를 갖는 메시의 시트로서 제공된다. 그러나, 이러한 카 운터 유닛 (40) 은, 도 3c의 메시와는 약간 상이한 메시로 구성된다. 예를 들어, 도 3d의 메시는 카운터 유닛의 동심 와이어와 반경 와이어 사이에 형성된 다수의 개구부를 정의하지만, 도 3c의 메시는 그의 카운터 유닛의 수평 와이어와 수직 와이어 사이에 형성된 다수의 개구부를 정의한다. 그러한 카운터 유닛 (40) 은, 그 카운터 유닛 (40) 이 음성 코일 (22V) 보다 타겟 공간에 대한 더 짧은 거리로 인해 유해한 파의 진폭보다 작은 진폭의 카운터 파를 방출하도록 전면 배열로 그 음성 코일 (22V) 위에 배치된다. 또한, 카운터 유닛 (40) 의 중심은, 카운터 파의 파면의 중심이 유해한 파의 파면의 중심으로 정렬되도록 음성 코일 (22V) 의 종축으로 정렬된다. 또한, 소스 전류 또는 그의 유사물은, 카운터 파가 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖는 것을 보장하는 방향으로 카운터 유닛 (40) 에 공급될 수도 있다. 따라서, 카운터 유닛 (40) 은, 유해한 파로 정렬되고 유해한 파의 위상각과 반대인 위상각을 가지며, 그에 의해, 타겟 공간에서 그러한 유해한 파를 카운터링하는 카운터 파를 방출한다. 바람직한 경우, 또한, 카운터 유닛 (40) 은 음성 코일 (22V) 로부터 미리 설정된 반경 방향 또는 축 방향의 거리에 배치될 수도 있으며, 그 음성 코일에서, 그 카운터 유닛 (40) 에 의한 카운터 파의 파면은, 파 매칭에서 설명된 바와 같이 그 음성 코일 (22V) 로부터의 유해한 파의 파면에 매칭할 수도 있다. 이러한 예들 모두에서, 스피커 (22) 는, 그 내에 그러한 카운터 유닛 (40) 을 포함함으로써 본 발명의 EMC 스피커 시스템으로 변환된다. 도 3d의 그러한 카운터 유닛 (40) 의 추가적인 구성적 및/또는 동작 특성은, 도 3a 내지 도 3c의 카운터 유닛의 그러한 특성들과 유사 또는 동일하다.In another example of FIG. 3D, the cone-drive speaker 22 also includes a cone 22C and at least one voice coil 22V wound around the cone 22C. In order to counter the harmful waves irradiated by the voice coil 22V, the counter unit 40 is provided as a sheet of mesh having a plurality of openings therein. However, this counter unit 40 is composed of a mesh slightly different from the mesh of FIG. 3C. For example, the mesh of FIG. 3D defines a number of openings formed between the concentric wire and the radial wire of the counter unit, while the mesh of FIG. 3C defines a plurality of openings formed between the horizontal and vertical wires of its counter unit. . Such a counter unit 40 is arranged in a front array such that the counter unit 40 emits a counter wave of an amplitude smaller than that of the harmful wave due to a shorter distance to the target space than the voice coil 22V. 22V). In addition, the center of the counter unit 40 is aligned with the longitudinal axis of the voice coil 22V so that the center of the wavefront of the counter wave is aligned with the center of the wavefront of the harmful wave. In addition, the source current or the like may be supplied to the counter unit 40 in a direction to ensure that the counter wave has a phase angle that is at least partially opposite to that of the harmful wave. Thus, the counter unit 40 has a phase angle aligned with the harmful waves and opposite the phase angle of the harmful waves, thereby emitting counter waves that counter those harmful waves in the target space. If desired, the counter unit 40 may also be arranged at a predetermined radial or axial distance from the voice coil 22V, in which the wavefront of the counter wave by the counter unit 40 is The wavefront may be matched to a harmful wave from the voice coil 22V as described in wave matching. In all these examples, the speaker 22 is converted to the EMC speaker system of the present invention by including such a counter unit 40 therein. The additional structural and / or operational characteristics of such counter unit 40 of FIG. 3D are similar or identical to those of the counter unit of FIGS. 3A-3C.

상기 카운터 유닛 (40) 은, 다른 구성으로 변형될 수도 있고, 다른 배치로 구현될 수도 있고, 및/또는 다른 메커니즘으로 유해한 파를 카운터링할 수도 있다. 예를 들어, 그러한 카운터 유닛은, 임의의 개구부가 없는 다른 형상의 입체적 시트, 다른 형상의 다공성 시트 등으로 형성될 수도 있다. 더 상세하게, 카운터 유닛은, 유해한 파의 파면과 그러한 카운터 파의 파면을 더 양호하게 매칭시키기 위해, 위쪽으로 (또는 아랫쪽으로) 오목하도록, 또한, 윤곽을 나타낼 수도 있다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은, 기본 유닛으로부터의 상이한 거리에 배치될 수도 있고, 음성 코일의 상이한 부분 위에 배치될 수도 있다. 또 다른 예에서, 다수의 유사하게 또는 상이하게 형성된 카운터 유닛은, 또한, 그러한 로컬 또는 글로벌 카운터링을 위해 다양한 배열로 배치될 수도 있다.The counter unit 40 may be modified in other configurations, may be implemented in other arrangements, and / or counter harmful waves with other mechanisms. For example, such a counter unit may be formed of a three-dimensional sheet of another shape without any opening, a porous sheet of another shape, or the like. More specifically, the counter unit may also be contoured to concave upward (or downward) to better match the wavefront of the harmful wave with that of the counter wave. In another example, the counter unit may be disposed at different distances from the base unit, and may be disposed over different portions of the voice coil. In another example, multiple similarly or differently formed counter units may also be arranged in various arrangements for such local or global countering.

도 3e의 또 다른 예에서, 압전 스피커 (22) 는, 압전판 (22P), 전극 쌍 (22E), 및 금속판 (22M) 을 포함하며, 여기서, 그 전극 (22E) 각각은 (이하, '피에조 판 (piezo plate)' 으로 지칭될) 압전판 (22P) 의 반대측 각각에 고정적으로 커플링되지만, 그 금속판은 그러한 전극 (22E) 중 하나의 전극에 고정적으로 부착된다. 당업계에 주지된 바와 같이, 피에조 판 (22P) 은 교번하는 소스 전압이 그러한 전극 (22E) 에 의해 그 피에조 판 양단에 인가될 때 진동하도록 배열되며, 여기서, 금속판 (22M) 은 그 피에조 판 (22P) 및 전극 (22E) 을 기계적으로 지지하지만, 피에조 판 (22P) 과 함께 진동하지 않도록 일반적으로 배열되고, 그 피에조 판 (22P) 및 전극 (22E) 의 어셈블리는, 종종, '압전성 엘리먼트' 로서 지칭된다. 따라서, 압전 스피커 (22) 는, 압전성 엘리먼트에서 그 스피커의 기본 유닛 (22P, 22E) 에 의해 유해한 파를 조사하는 동안, 소스 전압에 응답하여 가청음을 생성한다. 금속판 (22M) 은, 그 금속판 (22M) 이 그 금속판을 통한 유해한 파의 경로에 영향을 줄 수도 있는지 여부에 의존하여, 기본 유닛에 또한 포함될 수도 있다. 그러한 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 파를 카운터링하기 위해, 적어도 하나의 카운터 유닛 (40) 은, 압전 스피커 (22) 의 다양한 기본 유닛들 (22P, 22E) 에 관해 미리 설정된 관계로 배치되는 것이 바람직하다. 이러한 예에서, 카운터 유닛 (40) 은, 피에조 판, 그 피에조 판의 측면에 부착된 2개의 전극, 및 금속판을 유사하게 포함하는 기본 유닛들 (22P, 22E) 의 3-D 복제로서 제공된다. 이러한 콘텍스트에서, 이러한 카운터 유닛 (40) 은, 소스 매칭, 더 상세하게는, 형상 매칭에 관해 동작하는 것이 바람직하다. 그러나, 그러한 카운터 유닛 (40) 이 임의의 가청음을 생성하는 것을 방지하기 위해, 이러한 카운터 유닛 (40) 의 피에조 판은 그의 금속판에 고정적으로 커플링될 수도 있거나, 그 피에조 판에 공급된 소스 전압 또는 그 전압의 유사물에 응답하여 진동하지 않도록 배열된다. 또한, 카운터 유닛 (40) 은, 그 카운터 유닛 (40) 이 기본 유닛들 (22P, 22E) 보다 타겟 공간에 대한 더 큰 거리로 인해 그러한 유해한 파의 진폭보다 더 큰 진폭의 카운터 파를 방출하는 것이 바람직하도록, 후면 배열로 압전 스피커 (22) 아래에 배치된다. 카운터 유닛 (40) 은, 카운터 파의 파면의 중심이 유해한 파의 파면의 중심과 일치하도록, 스피커 (22) 의 종축으로 정렬된다. 그러한 카운터 파가 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하는 것을 보장하기 위해, 소스 전류 또는 그의 유사물은, 스피커 (22) 에 흐르는 소스 전류의 방향과 반대인 방향으로 그 카운터 유닛 (40) 에 공급될 수도 있다. 따라서, 카운터 유닛 (40) 은 유해한 파로 정렬되고, 그러한 유해한 파의 위상각과 반대인 위상각을 정의하며, 그에 의해, 타겟 공간에서 그 유해한 파에 매칭하고 그 파를 카운터링하는 카운터 파를 방출할 수도 있다. 상술된 바와 같이, 카운터 유닛 (40) 은, 유사한 형상이지만 압전 스피커 (22) 의 구성보다는 더 크거나 더 두꺼운 구성을 정의하는 그 스피커 (22) 의 3-D 유사물로서 관측될 수도 있다. 바람직한 경우, 카운터 유닛 (40) 은, 그 카운터 유닛 (40) 으로부터의 카운터 파의 파면이 파 매칭에서 설명된 바와 같이 스피커 (22) 로부터의 유해한 파의 파면에 매칭할 수도 있는 그 스피커 (22) 로부터 미리 설정된 거리에 배치될 수도 있다. 이러한 예들의 모두에서, 스피커 (22) 는, 그 내에 카운터 유닛 (40) 을 포함함으로써 본 발명의 EMC 스피커 시스템으로 변환된다.In another example of FIG. 3E, the piezoelectric speaker 22 includes a piezoelectric plate 22P, an electrode pair 22E, and a metal plate 22M, where each of the electrodes 22E is (hereinafter referred to as 'piezo' It is fixedly coupled to each of the opposite sides of the piezoelectric plate 22P (which will be referred to as 'piezo plate'), but the metal plate is fixedly attached to one of such electrodes 22E. As is well known in the art, the piezoelectric plate 22P is arranged to vibrate when an alternating source voltage is applied across the piezoelectric plate by such an electrode 22E, where the metal plate 22M is a piezoelectric plate ( 22P) and the electrode 22E are mechanically supported, but are generally arranged so as not to vibrate with the piezoelectric plate 22P, and the assembly of the piezoelectric plate 22P and the electrode 22E is often referred to as a 'piezoelectric element'. It is referred to. Thus, the piezoelectric speaker 22 generates an audible sound in response to the source voltage while radiating harmful waves from the piezoelectric element by the base units 22P and 22E of the speaker. The metal plate 22M may also be included in the base unit, depending on whether the metal plate 22M may influence the path of harmful waves through the metal plate. In order to counter harmful waves irradiated from such a base unit, at least one counter unit 40 is preferably arranged in a preset relationship with respect to the various base units 22P, 22E of the piezoelectric speaker 22. . In this example, the counter unit 40 is provided as a 3-D replica of the basic units 22P, 22E, which similarly includes a piezo plate, two electrodes attached to the side of the piezo plate, and a metal plate. In this context, this counter unit 40 preferably operates with respect to source matching, more specifically, shape matching. However, in order to prevent such counter unit 40 from producing any audible sound, the piezo plate of such counter unit 40 may be fixedly coupled to its metal plate, or the source voltage supplied to the piezo plate or It is arranged so as not to oscillate in response to similarities in its voltage. In addition, the counter unit 40 is such that the counter unit 40 emits a counter wave of an amplitude larger than that of the harmful wave due to the larger distance to the target space than the base units 22P and 22E. Preferably, it is disposed below the piezoelectric speaker 22 in a rear array. The counter unit 40 is aligned with the longitudinal axis of the speaker 22 so that the center of the wavefront of the counter wave coincides with the center of the wavefront of the harmful wave. In order to ensure that such a counter wave defines a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave, the source current or the like may be countered in the direction opposite to the direction of the source current flowing through the speaker 22. 40 may be supplied. Thus, counter unit 40 is aligned with harmful waves and defines a phase angle that is opposite to the phase angle of such harmful waves, thereby emitting counter waves that match and counter the harmful waves in target space. It may be. As described above, the counter unit 40 may be observed as a 3-D analogue of its speaker 22 that is similar in shape but defines a larger or thicker configuration than that of the piezoelectric speaker 22. If desired, the counter unit 40 has its speaker 22 where the wavefront of the counter wave from the counter unit 40 may match the wavefront of the harmful wave from the speaker 22 as described in wave matching. It may be arranged at a predetermined distance from the. In all of these examples, the speaker 22 is converted to the EMC speaker system of the present invention by including the counter unit 40 therein.

상기 카운터 유닛 (40) 은, 다른 구성으로 변형될 수도 있고, 다른 배치로 구현될 수도 있고, 및/또는 다른 메커니즘으로 유해한 파를 카운터링할 수도 있다. 예를 들어, 그러한 카운터 유닛은, 스피커의 애스펙트 비 (aspect ratio) 를 유지하거나 그러한 비율을 변경하는 동안 상이한 반경 및/또는 높이를 가질 수도 있다. 또 다른 예에서, 그러한 카운터 유닛은, 유사한 애스펙트 비를 정의하는 형상을 가질 수도 있지만, 스피커의 두께와는 상이한 두께의 판 및 전극을 포함할 수도 있다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은, 도면의 상부 물품이 카운터 유닛으로서 관측될 수도 있거나 하부 물품이 스피커로서 해석될 수도 있는 전면 배열로 또한 배치될 수도 있다. 또 다른 예에서, 2개 이상의 유사하게 또는 상이하게 형성된 카운터 유닛은, 로컬 또는 글로벌 카운터링을 위해 다양한 배열로 배치될 수도 있다. 카운터 유닛이 압전 스피커의 형상과 유사한 형상을 가질 수도 있지만, 상이한 재료로 구성 및/또는 그 재료를 포함할 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 예를 들어, 카운터 유닛은, 압전성이 아니라 스피커의 피에조 판의 저항율과 유사한 전기 저항율을 정의하는 절연성 또는 반도전성 재료로 구성 및/또는 그 재료를 포함하는 판을 가질 수도 있다. 또 다른 예에서, 전극 및/또는 금속판은, 스피커의 재료와는 상이하지만 값이 더 싼 재료로 구성 및/또는 그 재료를 포함할 수도 있다. 카운터 유닛이 타겟 공간에서 유해한 파를 카운터링할 수 있는 카운터 파를 방출할 수도 있는 한, 그 카운터 유닛은 다양한 구성을 정의할 수도 있고, 다양한 재료로 구성 및/또는 그 재료를 포함할 수도 있다.The counter unit 40 may be modified in other configurations, may be implemented in other arrangements, and / or counter harmful waves with other mechanisms. For example, such a counter unit may have a different radius and / or height while maintaining or changing the aspect ratio of the speaker. In another example, such a counter unit may have a shape that defines a similar aspect ratio, but may include plates and electrodes of a different thickness than that of the speaker. In another example, the counter unit may also be arranged in a frontal arrangement in which the top article in the figure may be viewed as a counter unit or the bottom article may be interpreted as a speaker. In another example, two or more similarly or differently formed counter units may be arranged in various arrangements for local or global countering. It will be appreciated that the counter unit may have a shape similar to that of a piezoelectric speaker, but may be constructed from and / or include different materials. For example, the counter unit may have a plate constructed from and / or comprising an insulating or semiconductive material that defines an electrical resistivity that is not piezoelectric but similar to that of the piezoelectric plate of the speaker. In another example, the electrode and / or metal plate may be constructed from and / or include a material that is different from the material of the speaker but is less expensive. As long as the counter unit may emit a counter wave capable of countering harmful waves in the target space, the counter unit may define various configurations, and may comprise and / or comprise various materials.

또한, 카운터 유닛 그 자체가, 소스 전압을 공급받고 스피커에 의해 생성된 가청음과 동일한 가청음을 생성하는 부가적인 압전 스피커로서 또한 동작할 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 그러나, 카운터 유닛 및 카운터 유닛은 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖는 카운터 파를 방출하도록 배열되며, 그에 의해, 스피커와 동일한 가청음을 생성하는 동안 그 카운터 파에 의해 유해한 파를 카운터링한다. 그러한 카운터 유닛은 다양한 배열로 구현될 수도 있다. 예를 들어, 스피커 및 카운터 유닛은 서로 축 방향으로 또는 각 방향으로 정렬될 수도 있지만, 소스 전압은 반대 방향으로 그들에 공급된다. 또 다른 예에서, 소스 전압은 동일한 방향으로 스피커 및 카운터 유닛 양자에 공급될 수도 있지만, 그 카운터 유닛은, 카운터 파가 유해한 파의 위상각과 반대인 위상각을 정의하는 방식으로 구성 및/또는 배향된다. 카운터 유닛의 피에조 판이 스피커의 피에조 판과 동일한 방향으로 진동하고 그 카운터 유닛이 유해한 파에 매칭 및 그 유해한 파를 카운터링하는 카운터 파를 전체적으로 방출하는 한, 그 카운터 유닛은, 다양한 구성을 정의할 수도 있고, 다양한 배향 또는 정렬로 배치될 수도 있고, 및/또는 다양한 방향을 따라 소스 전압을 공급받을 수도 있다.It will also be appreciated that the counter unit itself may also operate as an additional piezoelectric speaker that is supplied with a source voltage and produces an audible sound identical to that produced by the speaker. However, the counter unit and the counter unit are arranged to emit a counter wave having a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave, thereby countering the harmful wave by the counter wave while producing the same audible sound as the speaker. Ring. Such counter units may be implemented in various arrangements. For example, the speaker and counter units may be aligned with each other in the axial direction or in each direction, but the source voltage is supplied to them in the opposite direction. In another example, the source voltage may be supplied to both the speaker and the counter unit in the same direction, but the counter unit is constructed and / or oriented in such a way that the counter wave defines a phase angle that is opposite to the phase angle of the harmful wave. . As long as the piezo plate of the counter unit vibrates in the same direction as the piezo plate of the speaker and the counter unit emits a counter wave that matches the harmful wave and counters the harmful wave as a whole, the counter unit may define various configurations. May be arranged in various orientations or alignments, and / or may be supplied with source voltage along various directions.

도 3f의 또 다른 예에서, 압전 스피커 (22) 는, 도 3e의 압전 스피커와 유사하게, 압전판 (22P), 전극 쌍 (22E), 및 금속판 (22M) 을 포함한다. 그러한 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 파를 카운터링하기 위해, 적어도 하나의 카운터 유닛 (40) 은, 스피커 (22) 의 기본 유닛들 (22P, 22E) 에 관한 미리 설정된 관계로 배치되는 것이 바람직하다. 이러한 예에서, 카운터 유닛 (40) 은 도 3b의 와이어와 유사한 도전성 와이어의 코일로서 형성된다. 이러한 콘텍스트에서, 그러한 카운터 유닛 (40) 은 파 매칭에 관해 동작할 것이다. 카운터 유닛 (40) 은, 그 카운터 유닛 (40) 이 기본 유닛들 (22P, 22E) 보다 타겟 공간에 대한 더 큰 거리로 인해 유해한 파의 진폭보다 더 큰 진폭의 카운터 파를 방출하도록, 후면 배열로 압전 스피커 (22) 아래에 배치된다. 그러한 카운터 유닛 (40) 은, 카운터 파의 파면의 중심이 유해한 파의 파면의 중심과 일치하도록, 스피커 (22) 의 종축으로 정렬된다. 그러한 카운터 파가 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖는 것을 보장하기 위해, 소스 전류 또는 그의 유사물은 스피커 (22) 에 흐르는 소스 전류의 방향과 반대 방향으로 카운터 유닛 (40) 에 공급될 수 도 있다. 따라서, 카운터 유닛 (40) 은, 유해한 파로 정렬되고 그 유해한 파의 위상각과 반대인 위상각을 가지며, 그에 의해, 타겟 공간에서 그 유해한 파에 매칭 및 그 유해한 파를 카운터링하는 카운터 파를 방출할 수도 있다. 바람직한 경우, 카운터 유닛 (40) 은, 그 카운터 유닛에 의한 그러한 카운터 파의 파면이 파 매칭에서 설명된 바와 같이 스피커 (22) 에 의한 유해한 파의 파면에 매칭할 수도 있는 그 스피커 (22) 로부터 미리 설정된 거리에 배치된다. 이러한 모든 예에서, 압전 스피커 (22) 는, 그 내에 카운터 유닛 (40) 을 포함함으로써 본 발명의 EMC 스피커 시스템으로 변환된다. 도 3f에 도시된 카운터 유닛 (40) 의 추가적인 구성적 및/또는 동작 특성은 도 3e의 카운터 유닛의 특성들과 유사 또는 동일하다.In another example of FIG. 3F, the piezoelectric speaker 22 includes a piezoelectric plate 22P, an electrode pair 22E, and a metal plate 22M, similar to the piezoelectric speaker of FIG. 3E. In order to counter harmful waves irradiated from such a base unit, at least one counter unit 40 is preferably arranged in a preset relationship with respect to the base units 22P, 22E of the speaker 22. In this example, the counter unit 40 is formed as a coil of conductive wire similar to the wire of FIG. 3B. In this context, such counter unit 40 will operate with respect to wave matching. The counter unit 40 is arranged in a rearward arrangement such that the counter unit 40 emits a counter wave of an amplitude greater than that of the harmful wave due to the greater distance to the target space than the base units 22P, 22E. The piezoelectric speaker 22 is disposed below. Such a counter unit 40 is aligned with the longitudinal axis of the speaker 22 so that the center of the wavefront of the counter wave coincides with the center of the wavefront of the harmful wave. To ensure that such a counter wave has a phase angle that is at least partially opposite to that of the harmful wave, the source current or the like may be directed to the counter unit 40 in a direction opposite to the direction of the source current flowing through the speaker 22. It can also be supplied. Thus, the counter unit 40 has a phase angle aligned with the harmful wave and opposite the phase angle of the harmful wave, thereby emitting a counter wave that matches the harmful wave in the target space and counters the harmful wave. It may be. If desired, the counter unit 40 may advance from its speaker 22 where the wavefront of such a counter wave by the counter unit may match the wavefront of a harmful wave by the speaker 22 as described in wave matching. It is placed at a set distance. In all these examples, the piezoelectric speaker 22 is converted to the EMC speaker system of the present invention by including the counter unit 40 therein. The additional structural and / or operational characteristics of the counter unit 40 shown in FIG. 3F are similar or identical to those of the counter unit of FIG. 3E.

상기 카운터 유닛 (40) 은, 다른 구성으로 변형될 수도 있고, 다른 배치로 구현될 수도 있고, 및/또는 다른 메커니즘으로 유해한 파를 카운터링할 수도 있다. 예를 들어, 그러한 카운터 유닛은 기본 유닛으로부터의 상이한 거리에 배치될 수도 있거나, 기본 유닛 중 하나 이상의 기본 유닛을 그 내에 둘러싸일 수도 있다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은, 스피커의 곡률 반경보다 작을 수도 있는 곡률 반경을 정의할 수도 있다. 또 다른 예에서, 그러한 카운터 유닛은, 일정할 수도 있거나 그 카운터 유닛의 종축을 따라 변할 수도 있는 반경을 가질 수도 있다. 또 다른 예에서, 다수의 유사한 또는 상이한 카운터 유닛은 로컬 또는 글로벌 카운터링을 위해 다양한 배열로 배치될 수도 있다.The counter unit 40 may be modified in other configurations, may be implemented in other arrangements, and / or counter harmful waves with other mechanisms. For example, such counter units may be disposed at different distances from the base unit, or may enclose therein one or more of the base units. In another example, the counter unit may define a radius of curvature that may be less than the radius of curvature of the speaker. In another example, such a counter unit may have a radius that may be constant or may vary along the longitudinal axis of the counter unit. In another example, multiple similar or different counter units may be arranged in various arrangements for local or global countering.

도 3g의 또 다른 예에서, 스피커 (22) 는, 도 3e에 설명된 스피커와 유사하 게, 압전판 (22P), 전극 쌍 (22E), 및 금속판 (22M) 을 포함한다. 그러한 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 파를 카운터링하기 위해, 적어도 하나의 카운터 유닛 (40) 은 스피커 (22) 의 기본 유닛들 (22P, 22E) 에 관한 미리 설정된 관계로 배치되는 것이 바람직하다. 이러한 예에서, 카운터 유닛 (40) 은 도 3c의 와이어와 유사한 도전성 와이어의 메시로 형성된다. 이러한 콘텍스트에서, 카운터 유닛 (40) 은 파 매칭에 관해 동작할 것이다. 카운터 유닛 (40) 은, 그 카운터 유닛 (40) 이 기본 유닛들 (22P, 22E) 보다 타겟 공간에 관한 더 큰 거리로 인해 유해한 파의 진폭보다 더 큰 진폭의 유해한 파를 방출하도록, 후면 배열로 압전 스피커 (22) 아래에 배치된다. 그러한 카운터 유닛 (40) 은, 카운터 파의 파면의 중심이 유해한 파의 파면의 중심과 일치하도록 스피커 (22) 의 종축으로 정렬된다. 그러한 카운터 파가 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖는 것을 보장하기 위해, 소스 전류 또는 그의 유사물은 스피커 (22) 에 흐르는 소스 전류의 방향과 반대 방향으로 그 카운터 유닛 (40) 에 공급될 수도 있다. 따라서, 카운터 유닛 (40) 은, 유해한 파로 정렬되고 그 유해한 파의 위상각과 반대인 위상각을 가지며, 그에 의해, 타겟 공간에서 유해한 파에 매칭 및 그 유해한 파를 카운터링하는 카운터 파를 방출할 수도 있다. 바람직한 경우, 카운터 유닛 (40) 은, 카운터 유닛에 의한 그러한 카운터 파의 파면이, 파 매칭에서 설명된 바와 같이, 스피커 (22) 에 의한 유해한 파의 파면에 매칭할 수도 있는 스피커 (22) 로부터 미리 설정된 거리에 배치된다. 모든 예에서, 그러한 압전 스피커는, 카운터 유닛 (40) 에 의하여 본 발명의 EMC 스피커로 변환된다. 도 3g의 카운터 유닛 (40) 의 다른 구성적 및/또는 동작 특성은 도 3e 및 도 3f의 카운터 유닛의 그 특성들과 유사 또는 동일하다.In another example of FIG. 3G, the speaker 22 includes a piezoelectric plate 22P, an electrode pair 22E, and a metal plate 22M, similar to the speaker described in FIG. 3E. In order to counter harmful waves irradiated from such a base unit, at least one counter unit 40 is preferably arranged in a preset relationship with respect to the base units 22P and 22E of the speaker 22. In this example, the counter unit 40 is formed of a mesh of conductive wire similar to the wire of FIG. 3C. In this context, the counter unit 40 will operate on wave matching. The counter unit 40 is arranged in a rearward arrangement such that the counter unit 40 emits harmful waves of amplitude greater than that of the harmful waves due to the greater distance with respect to the target space than the base units 22P, 22E. The piezoelectric speaker 22 is disposed below. Such a counter unit 40 is aligned with the longitudinal axis of the speaker 22 so that the center of the wavefront of the counter wave coincides with the center of the wavefront of the harmful wave. In order to ensure that such a counter wave has a phase angle that is at least partially opposite to that of the harmful wave, the source current or the like may be countered to the counter unit 40 in the direction opposite to the direction of the source current flowing through the speaker 22. It can also be supplied to. Thus, the counter unit 40 has a phase angle aligned with the harmful wave and opposite the phase angle of the harmful wave, thereby emitting a counter wave that matches the harmful wave in the target space and counters the harmful wave. have. If desired, the counter unit 40 may advance from the speaker 22 where the wavefront of such a counter wave by the counter unit may match the wavefront of a harmful wave by the speaker 22, as described in wave matching. It is placed at a set distance. In all examples, such piezoelectric speakers are converted to the EMC speakers of the present invention by the counter unit 40. Other structural and / or operational characteristics of the counter unit 40 of FIG. 3G are similar or identical to those of the counter unit of FIGS. 3E and 3F.

상기 카운터 유닛 (40) 은, 다른 구성으로 변형될 수도 있고, 다른 배치로 구현될 수도 있고, 및/또는 다른 메커니즘으로 유해한 파를 카운터링할 수도 있다. 예를 들어, 그러한 카운터 유닛은, 임의의 개구부가 없는 다른 형상의 입체적 환상 튜브, 다른 형상의 환상 다공성 튜브 등으로 형성될 수도 있다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은 상이한 곡률 반경을 정의 할 수도 있으며, 그 곡률 반경은, 기본 유닛의 곡률 반경보다 더 작을 수도 있고 그 기본 유닛 내에 배치될 수도 있고, 일정할 수도 있거나 그 기본 유닛의 종축을 따라 변할 수도 있다. 또 다른 예에서, 그러한 카운터 유닛은, 기본 유닛의 곡률 반경보다 더 크거나, 유사하거나, 더 작은 곡률 반경을 갖는 동안, 그 기본 유닛의 적어도 일부 또는 전체 부분을 그 기본 유닛 내에 둘러싸도록 배치될 수도 있다. 또 다른 예에서, 다수의 유사하게 또는 상이하게 형성된 카운터 유닛은, 그러한 로컬 또는 글로벌 카운터링을 위해 다양한 배열로 배치될 수도 있다.The counter unit 40 may be modified in other configurations, may be implemented in other arrangements, and / or counter harmful waves with other mechanisms. For example, such a counter unit may be formed of another shape of three-dimensional annular tube, other shape of annular porous tube, etc., without any opening. In another example, the counter unit may define a different radius of curvature, the radius of curvature may be smaller than the radius of curvature of the base unit and may be disposed within the base unit, may be constant or the longitudinal axis of the base unit. It may change accordingly. In another example, such counter units may be arranged to surround at least some or all of the base unit within the base unit while having a radius of curvature that is greater than, similar to, or smaller than the radius of curvature of the base unit. have. In another example, multiple similarly or differently formed counter units may be arranged in various arrangements for such local or global countering.

도 3h의 또 다른 예에서, 스피커 (22) 는, 도 3e에 설명된 스피커와 유사하게, 압전판 (22P), 전극 쌍 (22E), 및 금속판 (22M) 을 포함한다. 그러한 기본 유닛으로부터 조사된 유해한 파를 카운터링하기 위해, 적어도 하나의 카운터 유닛 (40) 은, 스피커 (22) 의 기본 유닛들 (22P, 22E) 에 대한 미리 설정된 관계로 배치되는 것이 바람직하다. 이러한 예에서, 카운터 유닛 (40) 은 기본 유닛들 (22P, 22E) 의 3-D 유사물로서 형성되며, 여기서, 그러한 유사물은 기본 유닛들 (22P, 22E) 의 근사에 대응하고, 미리 설정된 수의 활 모양의 와이어에 의해 상호접속된 또 다른 미리 설정된 수의 와이어의 동심링으로 구성된다. 이러한 콘텍스트에서, 그러한 카운터 유닛 (40) 은 소스 매칭에 관해 동작하는 것이 바람직하다. 카운터 유닛 (40) 은, 그 카운터 유닛 (40) 이 타겟 공간에 대한 더 짧은 거리로 인해 유해한 파의 진폭보다 작은 진폭의 카운터 파를 방출하도록, 전면 배열로 압전 스피커 (22) 위에 배치된다. 그러한 카운터 유닛 (40) 은, 카운터 파의 파면의 중심이 유해한 파의 파면의 중심과 일치하도록, 스피커 (22) 의 종축으로 정렬된다. 그러한 카운터 파가 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖는 것을 보장하기 위해, 소스 전류 또는 그의 유사물은, 스피커 (22) 를 통해 흐르는 그 소스 전류의 방향과 반대 방향을 따라 그러한 카운터 유닛 (40) 에 공급될 수도 있다. 따라서, 카운터 유닛 (40) 은, 유해한 파로 정렬되고 그 유해한 파의 위상각과 반대인 위상각을 가지며, 그에 의해, 타겟 공간에서 그 유해한 파에 매칭 및 그 유해한 파를 카운터링하는 카운터 파를 방출할 수도 있다. 이러한 관점에서, 이러한 카운터 유닛 (40) 은, 이러한 카운터 유닛 (40) 이 아래쪽으로 오목한 윤곽선을 정의한다는 점을 제외하고, 도 3d의 카운터 유닛과 유사하다. 바람직한 경우, 카운터 유닛 (40) 은 스피커 (22) 로부터 미리 설정된 거리에 배치되며, 그 스피커에서, 그 카운터 유닛 (40) 에 의한 그러한 카운터 파의 파면은, 파 매칭에서 설명된 바와 같이, 스피커 (22) 에 의한 유해한 파의 파면에 매칭할 수도 있다. 이러한 모든 예에서, 그러한 압전 스피커 (22) 는 카운터 유닛 (40) 에 의하여 본 발명의 EMC 스피커로 변환된다. 도 3h의 카운터 유닛 (40) 의 다른 구성적 및/또는 동작 특성은, 도 3e 내지 도 3g의 카운터 유닛의 그 특성들과 유사 또는 동일하다.In another example of FIG. 3H, the speaker 22 includes a piezoelectric plate 22P, an electrode pair 22E, and a metal plate 22M, similar to the speaker described in FIG. 3E. In order to counter harmful waves irradiated from such a base unit, at least one counter unit 40 is preferably arranged in a preset relationship to the base units 22P, 22E of the speaker 22. In this example, the counter unit 40 is formed as a 3-D analogue of the base units 22P, 22E, where such analogue corresponds to an approximation of the base units 22P, 22E, and is preset. It consists of a concentric ring of another preset number of wires interconnected by a number of bow-shaped wires. In this context, such counter unit 40 preferably operates with respect to source matching. The counter unit 40 is disposed above the piezoelectric speaker 22 in a frontal arrangement such that the counter unit 40 emits a counter wave of an amplitude smaller than that of the harmful wave due to the shorter distance to the target space. Such a counter unit 40 is aligned with the longitudinal axis of the speaker 22 so that the center of the wavefront of the counter wave coincides with the center of the wavefront of the harmful wave. In order to ensure that such counter waves have a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful wave, the source current or the like is such counter along the direction opposite to that of the source current flowing through the speaker 22. It may be supplied to the unit 40. Thus, the counter unit 40 has a phase angle aligned with the harmful wave and opposite the phase angle of the harmful wave, thereby emitting a counter wave that matches the harmful wave in the target space and counters the harmful wave. It may be. In this respect, this counter unit 40 is similar to the counter unit of FIG. 3D, except that this counter unit 40 defines a downwardly concave contour. If desired, the counter unit 40 is arranged at a predetermined distance from the speaker 22, in which the wavefront of such a counter wave by the counter unit 40, as described in wave matching, 22) may be matched to the wavefront of a harmful wave. In all these examples, such piezoelectric speakers 22 are converted to the EMC speakers of the present invention by the counter unit 40. Other structural and / or operational characteristics of the counter unit 40 of FIG. 3H are similar or identical to those of the counter unit of FIGS. 3E-3G.

상기 카운터 유닛 (40) 은, 다른 구성으로 변형될 수도 있고, 다른 배치로 구현될 수도 있고, 및/또는 다른 메커니즘으로 유해한 파를 카운터링할 수도 있다. 예를 들어, 그러한 카운터 유닛은, 임의의 개구부가 없는 다른 형상의 입체적 오목 시트, 다른 형상의 다공성 시트 등으로 형성될 수도 있으며, 여기서, 그 카운터 유닛은 상이한 수의 링 또는 원호를 포함하고 상이한 형상의 개구부를 정의할 수도 있다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은, 기본 유닛에 더 양호하게 근사하기 위해 각각이 상이한 진폭 및/또는 방향의 전압을 공급받을 수도 있는 다수의 섹션으로 구성될 수도 있다. 그러한 섹션은, 상이한 전압이 방향 방향으로 인가될 수도 있도록 동심 방향으로 형성될 수도 있거나, 다른 방법으로, 상이한 전압이 각 방향으로 인가될 수도 있도록 각 방향으로 형성될 수도 있다. 또 다른 예에서, 다수의 유사하게 또는 상이하게 형성된 카운터 유닛은, 그러한 로컬 또는 글로벌 카운터링을 위해 다양한 배열로 배치될 수도 있다.The counter unit 40 may be modified in other configurations, may be implemented in other arrangements, and / or counter harmful waves with other mechanisms. For example, such counter units may be formed from other shaped three-dimensional concave sheets without any openings, other shaped porous sheets, etc., where the counter units comprise different numbers of rings or arcs and have different shapes. It is also possible to define the opening of. In another example, the counter unit may be comprised of multiple sections, each of which may be supplied with voltages of different amplitudes and / or directions to better approximate the base unit. Such sections may be formed concentrically so that different voltages may be applied in the directional direction, or alternatively may be formed in each direction such that different voltages may be applied in each direction. In another example, multiple similarly or differently formed counter units may be arranged in various arrangements for such local or global countering.

도 3i의 또 다른 예에서, 스피커 (22) 는, 도 3e에서 설명된 스피커와 유사하게, 압전판 (22P), 전극 쌍 (22E), 및 금속판 (22M) 을 포함한다. 그러한 기본 유닛으로부터 조사된 그러한 유해한 파를 카운터링하기 위해, 적어도 하나의 카운터 유닛 (40) 이 스피커 (22) 의 기본 유닛들 (22P, 22E) 에 관한 미리 설정된 관계로 배치되는 것이 바람직하다. 이러한 예에서, 카운터 유닛 (40) 은 환상 튜브로 형성된다. 이러한 콘텍스트에서, 카운터 유닛 (40) 은 소스 매칭에 관 해 동작할 것이다. 카운터 유닛 (40) 은, 그 카운터 유닛 (40) 이, 기본 유닛들 (22P, 22E) 로부터의 거리와 유사한 타겟 공간에 대한 거리로 인해, 유해한 파의 진폭과 유사한 진폭을 정의하는 카운터 파를 방출하도록, 수평 또는 동심 배열로 앞전 스피커 (22) 주변에 배치된다. 카운터 유닛 (40) 은, 카운터 파의 파면의 중심이 유해한 파의 파면의 중심과 일치하도록 스피커 (22) 의 종축으로 정렬된다. 그러한 카운터 파가 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖는 것을 보장하기 위해, 소스 전류 또는 그의 유사물은, 스피커 (22) 에 흐르는 소스 전류의 방향과 반대 방향으로 카운터 유닛 (40) 에 공급될 수도 있다. 따라서, 카운터 유닛 (40) 은, 유해한 파로 정렬되고 그러한 유해한 파의 위상각과 반대인 위상각을 정의하며, 그에 의해, 타겟 공간에서 그 유해한 파에 매칭 및 그 유해한 파를 카운터링하는 카운터 파를 방출할 수도 있다. 바람직한 경우, 카운터 유닛 (40) 은 스피커 (22) 로부터 미리 설정된 거리에 배치되며, 그 스피커에서, 그 카운터 유닛 (40) 에 의한 그러한 카운터 파의 파면은, 파 매칭에서 설명된 바와 같이, 그 스피커 (22) 에 의한 유해한 파의 파면에 매칭한다. 모든 예에서, 압전 스피커 (22) 는 카운터 유닛 (40) 에 의하여 본 발명의 EMC 스피커로 변환된다. 도 3g의 카운터 유닛 (40) 의 다른 구성적 및/또는 동작 특성은, 도 3e 및 도 3f의 카운터 유닛의 그 특성들과 유사 또는 동일하다.In another example of FIG. 3I, the speaker 22 includes a piezoelectric plate 22P, an electrode pair 22E, and a metal plate 22M, similar to the speaker described in FIG. 3E. In order to counter such harmful waves irradiated from such a base unit, it is preferable that at least one counter unit 40 is arranged in a preset relationship with respect to the base units 22P, 22E of the speaker 22. In this example, the counter unit 40 is formed of an annular tube. In this context, counter unit 40 will operate with respect to source matching. Counter unit 40 emits a counter wave whose counter unit 40 defines an amplitude similar to that of the harmful wave due to the distance to the target space similar to the distance from base units 22P and 22E. So as to be arranged around the front speaker 22 in a horizontal or concentric arrangement. The counter unit 40 is aligned with the longitudinal axis of the speaker 22 so that the center of the wavefront of the counter wave coincides with the center of the wavefront of the harmful wave. In order to ensure that such a counter wave has a phase angle that is at least partially opposite to that of the harmful wave, the source current or the like may be counter unit 40 in a direction opposite to the direction of the source current flowing through the speaker 22. It may also be supplied to. Thus, the counter unit 40 defines a phase angle aligned with the harmful waves and opposite the phase angle of such harmful waves, thereby releasing counter waves that match the harmful waves in the target space and counter the harmful waves. You may. If desired, the counter unit 40 is arranged at a predetermined distance from the speaker 22, in which the wavefront of such a counter wave by the counter unit 40 is the speaker, as described in wave matching. Match with the wavefront of the harmful wave by (22). In all examples, the piezoelectric speaker 22 is converted into the EMC speaker of the present invention by the counter unit 40. Other structural and / or operational characteristics of the counter unit 40 of FIG. 3G are similar or identical to those of the counter unit of FIGS. 3E and 3F.

상기 카운터 유닛 (40) 은, 다른 구성으로 변형될 수도 있고, 다른 배치로 구현될 수도 있고, 및/또는 다른 메커니즘으로 유해한 파를 카운터링할 수도 있다. 예를 들어, 그러한 카운터 유닛은, 다른 형상의 다공성 환상 튜브, 다른 형상의 환상 입체적 튜브 등으로 형성될 수도 있다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛은 상이한 곡률 반경을 정의할 수도 있으며, 그 곡률 반경은, 기본 유닛의 곡률 반경보다 작을 수도 있고, 그 기본 유닛 내에 배치될 수도 있고, 일정할 수도 있거나 그 기본 유닛의 종축을 따라 변할 수도 있다. 또 다른 예에서, 그러한 카운터 유닛은, 기본 유닛의 곡률 반경보다 크거나, 유사하거나, 작은 곡률 반경을 가지면서, 기본 유닛의 상이한 부분을 그 내에 둘러싸도록 배치될 수도 있다. 또 다른 예에서, 다수의 유사하게 또는 상이하게 형성된 카운터 유닛은 로컬 또는 글로벌 카운터링을 위해 다양한 배열로 배치될 수도 있다. 이러한 모든 예에서, 스피커 (22) 는, 카운터 유닛 (40) 에 의하여 본 발명의 EMC 스피커로 변환된다. 도 3i의 카운터 유닛 (40) 의 다른 구성적 및/또는 동작 특성은 도 3e 및 도 3g의 카운터 유닛의 그 특성들과 유사 또는 동일하다.The counter unit 40 may be modified in other configurations, may be implemented in other arrangements, and / or counter harmful waves with other mechanisms. For example, such a counter unit may be formed of a porous annular tube of another shape, an annular three-dimensional tube of another shape, or the like. In another example, the counter unit may define a different radius of curvature, the radius of curvature may be less than the radius of curvature of the base unit, may be disposed within, be constant, or the longitudinal axis of the base unit. It may change accordingly. In another example, such a counter unit may be arranged to surround different portions of the base unit therein, while having a radius of curvature that is greater than, similar to, or less than the radius of curvature of the base unit. In another example, multiple similarly or differently formed counter units may be arranged in various arrangements for local or global countering. In all these examples, the speaker 22 is converted to the EMC speaker of the present invention by the counter unit 40. Other structural and / or operational characteristics of the counter unit 40 of FIG. 3I are similar or identical to those of the counter unit of FIGS. 3E and 3G.

도 3a 내지 도 3i에서 예시될 뿐만 아니라 상술된 상기 카운터 유닛은, 상기 배열들 중 임의의 배열로 배치될 수도 있고, 전술한 메커니즘 중 임의의 메커니즘에 의해 유해한 파를 카운터링할 수도 있다. 따라서, 카운터 유닛이 소스 매칭에 기초하여 동작할 경우, 다양한 스피커의 기본 유닛 중 하나 이상의 기본 유닛과 유사 또는 동일하게 형성될 수도 있는 카운터 유닛은, 하나 이상의 기본 유닛에 대해 측면으로 또는 나란히 배치될 수도 있고, 하나 이상의 기본 유닛과 함께 축 방향으로, 반경 방향으로, 및/또는 각 방향으로 정렬될 수도 있고, 그 카운터 유닛내에 하나 이상의 기본 유닛을 둘러쌀 수도 있고, 하나 이상의 기본 유닛에 의해 둘러싸일 수도 있고, 하나 이상의 기본 유닛 주변에 감길 수도 있고, 하나 이상의 기 본 유닛에 의해 감겨질 수도 있다. 다른 방법으로, 기본 유닛 중 하나 이상의 기본 유닛과 동일 또는 상이하게 형성될 수도 있는 카운터 유닛은, 파 매칭을 위해, 하나 이상의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파의 하나 이상의 파면을 따라 배치될 수도 있다. 또한, 그러한 카운터 유닛은, 로컬 카운터링 또는 글로벌 카운터링에 기초하여 그러한 유해한 파를 카운터링하기 위해, 적절한 수 및/또는 배열로 이용될 수도 있다.The counter unit described above in addition to illustrated in FIGS. 3A-3I may be arranged in any of the above arrangements and may counter harmful waves by any of the above described mechanisms. Thus, when the counter unit operates based on source matching, the counter units, which may be formed similarly or identically to one or more of the base units of the various speakers, may be arranged laterally or side by side with respect to the one or more base units. May be arranged in an axial direction, radially, and / or angular direction together with one or more base units, may enclose one or more base units within the counter unit, or may be surrounded by one or more base units It may be wound around one or more base units, or may be wound by one or more base units. Alternatively, a counter unit, which may be formed identically or differently than one or more of the base units, may be disposed along one or more wavefronts of the harmful wave irradiated by the one or more base units for wave matching. In addition, such counter units may be used in an appropriate number and / or arrangement to counter such harmful waves based on local countering or global countering.

상술된 바와 같이, 다양한 EMC 스피커의 추가적인 세부사항 및 그러한 EMC 스피커의 다양한 카운터 유닛은 다양한 공동-계류중인 출원에 이미 제공되어 있으며, 그 출원 중 하나는, 발명의 명칭이 'Electromagnetically-Shielded Actuator Systems and Methods' 인 미국 출원 U.S. 제 11/440,135 호이고, 또 다른 하나는, 발명의 명칭이 'Electromagnetically-Countered Speaker Systems and Method' 인 제 60/???,??? 호이다. 따라서, 그러한 EMC 스피커를 갖는 다양한 종래의 디바이스는, 그러한 카운터 유닛에 의하여 그 디바이스의 모터에 의해 조사된 그러한 유해한 파를 카운터링하면서, 그들의 의도된 기능을 수행할 수 있는 EMC 시스템으로 변환될 수도 있다.As mentioned above, additional details of various EMC speakers and various counter units of such EMC speakers have already been provided in various co-pending applications, one of which is named 'Electromagnetically-Shielded Actuator Systems and Methods' in US Application US 11 / 440,135, and another one, entitled 60 / ???, ???, entitled 'Electromagnetically-Countered Speaker Systems and Method'; Ho. Thus, various conventional devices having such EMC speakers may be converted into an EMC system capable of performing their intended function while countering such harmful waves irradiated by the motor of the device by such a counter unit. .

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 또한, 카운터 유닛은, 그러한 스피커의 인버스 예이고, 그 스피커의 기본 유닛과 유사한 다양한 기본 유닛을 또한 갖는 다양한 마이크로폰내에 포함될 수도 있으며, 여기서, 그 기본 유닛의 예는, 전자석, 영구 자석, 불안정한 전류가 흐르는 그러한 마이크로폰의 임의의 부분, 및 불안정한 전압이 인가되는 그러한 부분의 임의의 부분을 포함할 수 도 있지만, 이에 제한되지는 않는다. 따라서, 자립형 마이크로폰, 유선 전화기, 이동 전화기, 오디오 디바이스, 시청각 디바이스와 같은 그러한 EMC 마이크로폰, 및 이어폰과 그 마이크로폰의 어셈블리를 포함한 임의의 종래의 디바이스는, 예를 들어, EMC 자립형 마이크로폰, EMC 유선 또는 이동 전화기, EMC 오디오 시스템, EMC 시청각 시스템, 및 그러한 EMC 어셈블리와 같은 다양한 EMC 시스템으로 변환될 수도 있으며, 여기서, 상기 구성 중 임의의 구성의 다양한 카운터 유닛은 상기 배치 및/또는 배열 중 임의의 하나로 그 디바이스내에 포함될 수도 있고 상기 메커니즘 중 임의의 메커니즘으로 유해한 파를 카운터링할 수도 있다.In still another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the counter unit is also an inverse example of such a speaker and may be included in a variety of microphones that also have various basic units similar to that of the speaker, wherein Examples of base units may include, but are not limited to, electromagnets, permanent magnets, any portion of such a microphone through which an unstable current flows, and any portion of such a portion where an unstable voltage is applied. Accordingly, any conventional device, such as a standalone microphone, a landline telephone, a mobile phone, an audio device, an audiovisual device, and any conventional microphone, such as an earphone and an assembly of the microphone, may be, for example, an EMC standalone microphone, an EMC wired or mobile device. May be converted to various EMC systems, such as telephones, EMC audio systems, EMC audiovisual systems, and such EMC assemblies, wherein the various counter units of any of the above configurations are those devices in any of the arrangements and / or arrangements. It may be included within and counter harmful waves with any of the above mechanisms.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 또한, 카운터 유닛은, 다양한 모터들의 기본 유닛에 의해 조사된 그러한 유해한 파를 카운터링하기 위해 그 다양한 모터에 포함될 수도 있으며, 그러한 모터들은, 전기 에너지를 기계적 에너지 또는 기전력으로 변환하도록 기능하고, 그 모터들의 예는, 또한, DC 모터, 유니버셜 모터, AC 동기형 모터, AC 유도형 모터, 선형 또는 스텝 모터 등을 포함할 수도 있지만, 이에 제한되지는 않는다. 따라서, 주방 기기 (예를 들어, 푸드 프로세서, 믹서기, 쥬서, 분쇄기, 혼합기, 압착기, 식기 세척기, 냉장고, 냉동기, 제빙기, 캔 오프너, 식품 건조기, 쿨러, 식품 찜기, 음식물 쓰레기 압축기, 음식물 쓰레기 처리기 등), 조리 기기 (예를 들어, 전기 그릴, 전기 오븐, 전기 스토브, 전기 레인지, 전기 토스트 오븐, 전기 토스터, 그들의 전기 팬, 커피 메이커, 에스프레소 메이커, 가열 용기 등), 가전 기기 (예를 들어, 세탁기, 건조기, 에어콘, 차고 오프너, 건식 또는 습식 진공 청소기 등), 도구 (예를 들어, 전기 드 릴, 전기 톱, 전기 연삭기, 전기 스크루 드라이버, 전기 못 건, 전기 스테이플 건, 전기 샌더, 전기 연삭기 등), 및/또는 개인용 위생 디바이스 (예를 들어, 전기 칫솔, 전기 면도기, 전기 헤어 드라이어 등) 와 같은 이러한 EMC 모터들을 포함한 임의의 종래 기술의 디바이스 (또는 액추에이터) 는, 모두, EMC 주방 기기, EMC 조리 기기, EMC 가전 기기, EMC 도구, EMC 위생 시스템 등과 같은 다양한 EMC 시스템으로 변환될 수도 있다. 일반적으로, DC 모터는 적어도 하나의 영구 자석을 갖는 적어도 하나의 고정자 및 적어도 하나의 전자석을 갖는 적어도 하나의 회전자를 포함하고, 유니버셜 모터는 적어도 하나의 전자석을 갖는 적어도 하나의 고정자 및 적어도 하나의 전자석을 갖는 적어도 하나의 회전자를 갖고, 동기형 AC 모터는 적어도 하나의 전자석을 갖는 적어도 하나의 고정자 및 적어도 하나의 영구 자석을 갖는 회전자를 그 내에 포함하고, 유도형 AC 모터는 적어도 하나의 전자석을 갖는 적어도 하나의 고정자 및 적어도 하나의 전기 도체를 갖는 적어도 하나의 회전자를 포함하고, 선형 모터는 적어도 하나의 전자석을 갖는 적어도 하나의 고정자 및 적어도 하나의 영구 자석을 갖는 적어도 하나의 회전자를 그 내에 포함한다. 따라서, 그 모터의 기본 유닛은, 회전자, 고정자, 영구 자석, 불안정한 전류가 흐르는 모터의 임의의 부분, 불안정한 전압이 인가되는 임의의 그러한 부분 등을 포함할 수도 있다. 도 4a 내지 4f는 본 발명에 따른 다양한 이점을 갖는 모터들로 구현되는 예시적인 카운터 유닛의 개략적인 사시도이며, 여기서, 도 4a 내지 도 4c는 그러한 모터의 종래 기술의 회전자로 구현되는 다양한 카운터 유닛을 예시하지만, 도 4d 내지 도 4f는 그 모터들의 다양한 종래의 고정자로 구현된 다양한 카운 터 유닛을 설명한다. 도시의 간략화를 위하여, 도 4a 내지 도 4c에서 고정자의 상세한 구성이 생략되지만, 도 4d 내지 도 4f에서 고정자만이 포함되고 매칭하는 회전자가 생략된다는 것을 인식할 것이다. 따라서, 유해한 파를 방출할 수도 있는 모터들의 다른 도전성, 반도전성, 및/또는 절연성 부분은 이러한 도면 모두에서 생략될 것이고, 필요한 경우, 그러한 부분은 상술된 바와 같은 그러한 카운터 유닛 중 임의의 카운터 유닛에 의지함으로써 적절히 카운터링될 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 또한, 도 4a 내지 4f에서, 다양한 모터들 및 그들의 카운터 유닛들이 그 주변에서, 그러한 모터들의 전면 (즉, 그 도면들의 상단) 또는 후면 (즉, 그 도면의 하단) 에서 타겟 공간을 정의하도록 배치된다는 것을 인식할 것이다. 또한, 이러한 실시형태의 다양한 카운터 유닛들의 세부사항은, 발명이 명칭이 'Electromagnetically-Countered Actuator Systems and Methods' 인 공동-계류중인 미국 출원 U.S. 제 60/???,??? 호에 개시되어 있다는 것을 인식할 것이다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, a counter unit may also be included in the various motors to counter such harmful waves irradiated by the base unit of the various motors, such motors being electrically It functions to convert energy into mechanical energy or electromotive force, and examples of the motors may also include, but are not limited to, DC motors, universal motors, AC synchronous motors, AC induction motors, linear or step motors, and the like. Does not. Thus, kitchen appliances (e.g., food processors, blenders, juicers, grinders, mixers, presses, dishwashers, refrigerators, freezers, ice makers, can openers, food dryers, coolers, food steamers, food waste compressors, food waste handlers, etc.) Cooking appliances (e.g., electric grills, electric ovens, electric stoves, electric ranges, electric toast ovens, electric toasters, their electric pans, coffee makers, espresso makers, heating vessels, etc.), home appliances (e.g., Washing machines, dryers, air conditioners, garage openers, dry or wet vacuum cleaners, etc., tools (e.g. electric drills, chainsaws, electric grinding machines, electric screwdrivers, electric nail guns, electric staple guns, electric sanders, electric grinding machines) And / or any such EMC motors, such as personal hygiene devices (eg, electric toothbrushes, electric shavers, electric hair dryers, etc.). Devices of future technologies (or actuators) are, both, may be converted into a variety of systems such as EMC EMC kitchen appliances, cooking appliances EMC, EMC appliances, tools, EMC, EMC sanitation systems. In general, a DC motor includes at least one stator with at least one permanent magnet and at least one rotor with at least one electromagnet, and the universal motor includes at least one stator with at least one electromagnet and at least one Having at least one rotor with an electromagnet, the synchronous AC motor comprising at least one stator with at least one electromagnet and a rotor with at least one permanent magnet therein, the inductive AC motor having at least one At least one stator with an electromagnet and at least one rotor with at least one electrical conductor, the linear motor comprises at least one stator with at least one electromagnet and at least one rotor with at least one permanent magnet Include therein. Thus, the base unit of the motor may include a rotor, a stator, a permanent magnet, any part of the motor through which an unstable current flows, any such part where an unstable voltage is applied, and the like. 4A-4F are schematic perspective views of an exemplary counter unit implemented with motors having various advantages in accordance with the present invention, wherein FIGS. 4A-4C are various counter units implemented with prior art rotors of such motors. 4D-4F illustrate various counter units implemented with various conventional stators of the motors. For simplicity of illustration, while the detailed configuration of the stator is omitted in FIGS. 4A-4C, it will be appreciated that only the stator is included in FIGS. 4D-4F and the matching rotor is omitted. Thus, other conductive, semiconductive, and / or insulative parts of motors that may emit harmful waves will be omitted in all of these figures, and if necessary, such parts may be applied to any counter unit of such counter units as described above. It will be appreciated that by counting may be properly countered. Also, in FIGS. 4A-4F, various motors and their counter units are arranged to define a target space around them, in front of (ie, the top of, or at) the back of the motors (ie, at the bottom of the, of the figure). Will recognize that. Also, details of the various counter units of this embodiment can be found in the co-pending US application U.S. Pat. Article 60 / ???, ??? It will be appreciated that the call is disclosed.

도 4a의 일 예에서, 모터 (24) 는 회전자 유닛 (25) 및 고정자 유닛 (26) 을 포함하며, 여기서, 그러한 회전자 유닛 (25) 은 그 고정자 유닛 (26) 내부에 회전가능하게 배치되거나 그 고정자 유닛 (26) 에 의해 둘러싸여 있다. 회전자 유닛 (25) 은 전자석의 단일 내부 기본 회전자 (25N) 를 포함하지만, 고정자 유닛 (26) 은 영구 자석의 단일 내부 기본 유닛 (26N) 을 포함한다. 당업계에 주지된 바와 같이, 그러한 기본 회전자 (25N) 는 그 내에 소스 전류가 흐를 때 동적 자기장을 정의하며, 회전자 유닛 (25) 의 회전을 유지하기 위해 매 180°로 기본 회전자 (25N) 으로의 소스 전류의 방향을 바꾸는 동안, 기본 회전자 (25) 의 동적 자 기장과 기본 고정자 (26N) 의 고정 자기장 사이의 상호작용은 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전자 유닛 (25) 을 회전시킨다. 회전자 유닛의 회전 동안, 그 회전자 유닛 (25) 은 소스 전류가 그 내에 흐를 때 유해한 파를 조사하지만, 그 고정자 유닛 (26) 은, 그 유해한 파의 극성에 의존하여 그 유해한 파의 전파 경로에 영향을 주면서, 그 고정자 유닛을 통한 그러한 유해한 파를 수신후 송신한다. 이러한 콘텍스트에서, 회전자 유닛 (25) 및 고정자 유닛 (26) 양자, 더 상세하게, 기본 회전자 (25N) 및 기본 고정자 (26N) 는 이러한 모터 (24) 에 대한 기본 유닛들로서 기능한다. 기본 유닛들 (25N, 26N) 에 의해 조사된 유해한 파를 카운터링하기 위해, 적어도 하나의 카운터 유닛 (40) 은 모터 (25) 의 그러한 기본 유닛 (25N, 26N) 에 관한 미리 설정된 관계로 배치되는 것이 바람직하다. 이러한 예에서, 카운터 유닛 (40) 은 외부 카운터 회전자들 (25U) 의 쌍 및 옵션적인 외부 고정자 (26U) 를 포함하며, 여기서, 각각의 카운터 회전자 (25U) 는 기본 회전자 (25U) 의 전자석과 유사한 또 다른 전자석으로 형성되고, 카운터 고정자 (26U) 는 기본 고정자 (26N) 의 영구 자석과 유사한 또 다른 영구 자석으로 형성된다. 이러한 콘텍스트에서, 카운터 회전자 (25U) 는 소스 매칭에 관해 동작한다. 더 상세하게, 카운터 회전자 (25U) 는 기본 회전자 (25N) 에 대해 측면으로 배치되고, 기본 회전자 (25N) 의 동일한 자극과 인접하도록 배향된다. 또한, 카운터 유닛 (25U) 은, 상기 측면 배열 및 인접 배향이 회전자 유닛 (25) 의 회전 동안 유지될 수도 있도록, 기본 회전자 (25N) 과 기계적으로 커플링한다. 따라서, 카운터 회전자 (25U) 는, 유해한 파로 정렬되고 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으 로 반대인 위상각을 정의하며, 그에 의해, 타겟 공간에서 그 유해한 파에 매칭 및 그 유해한 파를 카운터링하는 그러한 카운터 파를 방출할 수도 있다. 카운터 회전자 (25U) 와 유사하게, 카운터 고정자 (26U) 는 기본 고정자 (26N) 에 대해 측면 배열 및 동심 배열로 배치되고, 그 기본 고정자 (26N) 의 동일한 자극과 인접한다. 따라서, 카운터 고정자 (25N) 는, 유해한 파로 정렬되고 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 또한 정의하며, 그에 의해, 타겟 공간에서 그러한 유해한 파에 매칭 및 그 유해한 파를 카운터링하는 그러한 카운터 파를 방출할 수도 있다. 카운터 회전자 (25U) 및 카운터 고정자 (26U) 양자가 기본 회전자 (25N) 및 기본 회전자 (26N) 에 의해 조사된 유해한 파를 카운터링하기 때문에, 이러한 EMC 모터 (24) 는 그 모터의 기본 유닛들 (25N, 26N) 로부터의 유해한 파의 조사를 효과적으로 최소화한다.In the example of FIG. 4A, the motor 24 includes a rotor unit 25 and a stator unit 26, where such rotor unit 25 is rotatably disposed within its stator unit 26. Or surrounded by the stator unit 26. The rotor unit 25 comprises a single inner basic rotor 25N of electromagnets, while the stator unit 26 comprises a single inner basic unit 26N of permanent magnets. As is well known in the art, such a base rotor 25N defines a dynamic magnetic field when a source current flows therein, and the base rotor 25N at every 180 ° to maintain rotation of the rotor unit 25. The interaction between the dynamic magnetic field of the basic rotor 25 and the stationary magnetic field of the basic stator 26N rotates the rotor unit 25 clockwise or counterclockwise while redirecting the source current to Let's do it. During rotation of the rotor unit, the rotor unit 25 irradiates harmful waves when the source current flows therein, while the stator unit 26 relies on the polarity of the harmful waves to propagate the harmful waves. Affecting, transmit and receive such harmful waves through the stator unit. In this context, both the rotor unit 25 and the stator unit 26, more specifically, the base rotor 25N and the base stator 26N serve as base units for this motor 24. In order to counter harmful waves irradiated by the base units 25N, 26N, at least one counter unit 40 is arranged in a preset relationship with respect to such base unit 25N, 26N of the motor 25. It is preferable. In this example, the counter unit 40 includes a pair of external counter rotors 25U and an optional external stator 26U, where each counter rotor 25U is of the base rotor 25U. It is formed of another electromagnet similar to the electromagnet, and the counter stator 26U is formed of another permanent magnet similar to the permanent magnet of the basic stator 26N. In this context, the counter rotor 25U operates on source matching. More specifically, the counter rotor 25U is disposed laterally with respect to the base rotor 25N and is oriented so as to be adjacent to the same magnetic pole of the base rotor 25N. In addition, the counter unit 25U mechanically couples with the basic rotor 25N such that the side arrangement and the adjacent orientation may be maintained during the rotation of the rotor unit 25. Thus, the counter rotor 25U defines a phase angle that is aligned with the harmful wave and at least partially opposite the phase angle of the harmful wave, thereby countering the harmful wave in the target space and countering the harmful wave. It may emit such a counter wave. Similar to the counter rotor 25U, the counter stator 26U is disposed in a lateral arrangement and a concentric arrangement with respect to the base stator 26N, and is adjacent to the same magnetic pole of the base stator 26N. Thus, the counter stator 25N also defines a phase angle that is aligned with the harmful waves and that is at least partially opposite to the phase angle of the harmful waves, thereby countering the harmful waves and matching those harmful waves in the target space. Such counter waves may be emitted. Since both the counter rotor 25U and the counter stator 26U counter the harmful waves irradiated by the base rotor 25N and the base rotor 26N, such an EMC motor 24 is the base of the motor. Effectively minimizing the irradiation of harmful waves from the units 25N, 26N.

도 4b의 또 다른 예에서, 모터 (24) 는 회전자 유닛 (25) 및 고정자 유닛 (26) 을 유사하게 포함하며, 여기서, 그 회전자 유닛 (25) 은 그 고정자 유닛 (26) 내부에 회전가능하게 배치되거나 그 고정자 유닛 (26) 에 의해 둘러싸인다. 그 고정자 유닛 (26) 은, 영구 자석 또는 전자석이고, 회전자 유닛 (25) 의 반대측상에 배치되며, 동일한 자극을 정의하도록 배열된 2개의 외부 기본 고정자 (26U) 를 포함한다. 이러한 회전자 유닛 (25) 은, 동일한 형상 및 사이즈를 정의하고, 회전자 유닛 (25) 의 회전축에 관해 대칭으로 배치되며, 동일한 자극에 의해 서로 인접하는 전자석의 내부 회전자 (25N) 의 쌍을 포함한다. 이러한 콘텍스트에서, 회전자 유닛 (25) 은 소스 매칭에 관해 동작하는 것이 바람직하다. 이러한 내부 회전자들 (25N) 은 다양한 방식으로 해석될 수도 있다. 예를 들어, 그 내부 회전자들 (25N) 중 하나는 기본 회전자로서 기능하는 것으로 간주될 수도 있지만, 그러한 회전자들 중 다른 회전자는 카운터 회전자로서 기능하도록 배열된다. 따라서, 그 회전자들 (25N) 중 하나의 회전자는 유해한 파를 조사하지만, 그 회전자들 중 다른 회전자는, 그 유해한 파로 정렬되고, 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 가지며, 따라서, 타겟 공간에서 그 유해한 파를 카운터링하는 카운터 파를 방출한다. 또 다른 예에서, 그러한 내부 회전자들 (25N) 양자는, 유해한 파를 조사하지만, 또한, 그러한 유해한 파를 소거하는 것 및/또는 다른 유닛에 의해 조사된 유해한 파가 바깥쪽으로 전파하는 것을 억제하는 것을 통해 서로 협력하도록 배열되는, 기본 (또는 카운터) 회전자로서 간주될 수도 있다. 그러한 내부 회전자 (25N) 를 둘러싸는 고정자 유닛 (26) 은, 유해한 파의 극성에 의존하여 그러한 유해한 파의 전파 경로에 영향을 주면서, 그 고정자 유닛을 통해 유해한 파를 수신 및 송신한다. 바람직한 경우, 부가적인 고정자 유닛은, 외부 고정자 (26U) 를 통해 송신하는 유해한 파를 카운터링하기 위해, 내부 회전자들 (25U) 사이에 및/또는 외부 고정자 (26U) 주변에 포함될 수도 있다. 도 4b의 모터 (24) 의 추가적인 구성적 및/또는 동작 특성은 도 4a의 모터의 특성과 유사 또는 동일하다.In another example of FIG. 4B, the motor 24 similarly includes a rotor unit 25 and a stator unit 26, where the rotor unit 25 rotates inside its stator unit 26. Possibly arranged or surrounded by the stator unit 26. The stator unit 26, which is a permanent magnet or an electromagnet, is disposed on the opposite side of the rotor unit 25 and comprises two external basic stators 26U arranged to define the same magnetic pole. These rotor units 25 define the same shape and size, are arranged symmetrically with respect to the axis of rotation of the rotor unit 25, and pair a pair of internal rotors 25N of electromagnets adjacent to each other by the same magnetic pole. Include. In this context, the rotor unit 25 preferably operates with respect to source matching. These internal rotors 25N may be interpreted in various ways. For example, one of its internal rotors 25N may be considered to function as a basic rotor, while another of those rotors is arranged to function as a counter rotor. Thus, one of the rotors 25N irradiates a harmful wave, while the other of the rotors are aligned with the harmful wave and have a phase angle that is at least partially opposite to that of the harmful wave. Thus, it emits a counter wave that counters that harmful wave in the target space. In another example, both such internal rotors 25N irradiate harmful waves, but also suppress the elimination of such harmful waves and / or inhibit the harmful waves radiated by other units from propagating outward. May be considered as a base (or counter) rotor, arranged to cooperate with one another. The stator unit 26 surrounding such internal rotor 25N receives and transmits harmful waves through the stator unit, affecting the propagation path of such harmful waves depending on the polarity of the harmful waves. If desired, additional stator units may be included between the inner rotors 25U and / or around the outer stator 26U to counter harmful waves transmitting through the outer stator 26U. Additional structural and / or operational characteristics of the motor 24 of FIG. 4B are similar or identical to those of the motor of FIG. 4A.

도 4c의 또 다른 예에서, 모터 (24) 는 회전자 유닛 (25) 및 고정자 유닛 (26) 을 유사하게 포함하며, 여기서, 그 회전자 유닛 (25) 은 그 고정자 유닛 (26) 내부에 회전가능하게 배치되거나 그 고정자 유닛 (26) 에 의해 둘러싸인다. 회 전자 유닛 (25) 및 고정자 유닛 (26) 각각은 도 4a의 회전자 및 고정자 유닛과 유사하므로, 내부 회전자 (25N) 는 기본 회전자로서 기능하고, 외부 회전자 (25U) 는 카운터 회전자로서 기능하고, 내부 고정자들 (26N) 의 쌍은 기본 고정자들로서 기능하며, 외부 고정자들 (26U) 의 옵션적인 쌍은 카운터 고정자로서 기능한다. 그러나, 반대극에 의해 내부 회전자 (25N) 의 인접극과 인접하는 동안 각각의 내부 고정자 (26N) 가 반대극의 쌍을 정의한다는 것을 인식할 것이다. 따라서, 외부 회전자 (25U) 는, 그 외부 회전자 (25U) 의 인접극과 또한 반대인 내부 고정자 (26N) 의 또 다른 극에 의해 인접된다. 그러한 배열은 유해한 파를 카운터링하는데 더 효과적일 수도 있지만, 대신, 기전력을 발생할 시에 효율성을 감소시킬 수도 있다. 도 4c의 모터 (24) 의 다른 구성적 및/또는 동작 특성은, 도 4a 및 도 4b의 모터들의 특성들과 유사 또는 동일할 수도 있다.In another example of FIG. 4C, the motor 24 similarly includes a rotor unit 25 and a stator unit 26, where the rotor unit 25 rotates inside its stator unit 26. Possibly arranged or surrounded by the stator unit 26. Since each of the rotor unit 25 and the stator unit 26 is similar to the rotor and stator unit of FIG. 4A, the inner rotor 25N functions as a basic rotor, and the outer rotor 25U is a counter rotor. Function as a pair of internal stators 26N, and an optional pair of external stators 26U as a counter stator. However, it will be appreciated that each inner stator 26N defines a pair of opposite poles while adjacent to the adjacent pole of the inner rotor 25N by the opposite pole. Thus, the outer rotor 25U is adjacent by another pole of the inner stator 26N which is also opposite to the adjacent pole of the outer rotor 25U. Such an arrangement may be more effective for countering harmful waves, but may instead reduce efficiency when generating electromotive force. Other structural and / or operational characteristics of the motor 24 of FIG. 4C may be similar or identical to those of the motors of FIGS. 4A and 4B.

도 4d의 또 다른 예에서, 모터 (24) 는 회전자 유닛 (이 도면에는 포함되지 않음) 및 고정자 유닛 (26) 를 포함하며, 여기서, 그 고정자 유닛 (26) 은 고정자들 (26N, 26U) 의 2개의 세트를 포함하고, 상기 회전자 유닛 중 임의의 회전자 및 상기 공동-계류중인 출원에 개시된 다른 회전자 유닛들은 고정자 유닛 (26) 과 함께 사용될 수도 있다. 더 상세하게, 고정자 유닛 (26) 의 제 1 세트는 C-형 내부 고정자들 (26N) 의 쌍을 포함하지만, 고정자 유닛 (26) 의 제 2 세트는 더 큰 C-형 외부 고정자 (26U) 의 또 다른 쌍을 포함한다. 또한, 내부 고정자 (26N) 및 외부 고정자 (26U) 의 각각의 쌍 (즉, 우측 쌍 및 좌측 쌍) 은, 서로 물리적으로 인접하고, 또한, 반대 극성의 그들의 극에 의해 서로 자기적으로 인접하도록 배 열된다. 따라서, 그러한 고정자들 (26N, 26U) 중 하나는 다른 고정자를 통해 송신하는 유해한 파를 카운터링할 수도 있다. 이러한 실시형태에서, 다양한 회전자 유닛은, 그러한 내부 고정자들 (26N) 내부, 내부 고정자 (26N) 와 외부 고정자 (26U) 사이, 외부 고정자 (26U) 의 외부 등에 배치될 수도 있다. 따라서, 특정 고정자가 기본 고정자 또는 카운터 고정자로서 기능하는지의 여부는 기본 및/또는 카운터 회전자의 배치에 의존할 수도 있다. 도 4d의 모터 (24) 의 다른 구성적 및/또는 동작 특성은 도 4a 내지 도 4c의 모터들의 특성과 유사 또는 동일할 수도 있다.In another example of FIG. 4D, the motor 24 includes a rotor unit (not included in this figure) and a stator unit 26, where the stator unit 26 includes stators 26N and 26U. And two of the rotor units and other rotor units disclosed in the co-pending application may be used with the stator unit 26. More specifically, the first set of stator units 26 comprises a pair of C-shaped internal stators 26N, while the second set of stator units 26 is of a larger C-shaped external stator 26U. Another pair. In addition, each pair of inner stator 26N and outer stator 26U (ie, right pair and left pair) are physically adjacent to each other and further arranged to be magnetically adjacent to each other by their poles of opposite polarities. Is heated. Thus, one of such stators 26N, 26U may counter harmful waves transmitting through the other stator. In this embodiment, the various rotor units may be disposed inside such internal stators 26N, between the internal stators 26N and the external stators 26U, outside of the external stators 26U, and the like. Thus, whether a particular stator functions as a base stator or a counter stator may depend on the placement of the base and / or counter rotors. Other structural and / or operational characteristics of the motor 24 of FIG. 4D may be similar or identical to those of the motors of FIGS. 4A-4C.

도 4e의 또 다른 예에서, 또 다른 모터 (24) 는 회전자 유닛 (이 도면에 포함되지 않음) 및 고정자 유닛 (26) 을 가지며, 여기서, 그 고정자 유닛 (26) 은 고정자들 (26N, 26U) 의 2개의 세트를 포함하고, 상기 회전자 유닛들 중 임의의 회전자 유닛 및 상기 공동-계류중인 출원에 개시된 다신 회전자 유닛들은 그 고정자 유닛 (26) 과 함께 사용될 수도 있다. 더 상세하게, 고정자 유닛 (26) 의 제 1 세트는 회전자 유닛의 회전축 주변에 각 방향으로 배치된 4개의 동일한 내부 고정자들 (26N) 을 그 내에 포함하지만, 고정자 유닛 (26) 의 제 2 세트는 더 큰 C-형 외부 고정자들 (26U) 의 쌍을 포함한다. 도 4d의 고정자 유닛과 유사하게, 이러한 실시형태의 고정자 유닛 (26) 은, 그러한 내부 고정자들 (26N), 내부 고정자들 (26N) 과 외부 고정자들 (26U) 사이, 및/또는 외부 고정자들 (26U) 외부에 다양한 회전자 유닛들을 포함할 수도 있다. 따라서, 특정 고정자가 기본 고정자 또는 카운터 고정자로 기능하는지의 여부는 그러한 기본 및/또는 카운터 회전자의 배 치에 의존할 수도 있다. 도 4e의 모터 (24) 의 추가적인 구성적 및/또는 동작 특성은 도 4a 내지 도 4d의 모터들의 특성과 유사 또는 동일하다.In another example of FIG. 4E, another motor 24 has a rotor unit (not included in this figure) and a stator unit 26, where the stator unit 26 is a stator 26N, 26U. ), Any of the rotor units and the multi-body rotor units disclosed in the co-pending application may be used with the stator unit 26. More specifically, the first set of stator units 26 includes four identical internal stators 26N disposed therein in each direction about the axis of rotation of the rotor unit, but the second set of stator units 26. Comprises a pair of larger C-type external stators 26U. Similar to the stator unit of FIG. 4D, the stator unit 26 of this embodiment includes such internal stators 26N, between internal stators 26N and external stators 26U, and / or external stators ( 26U) may include various rotor units externally. Thus, whether a particular stator functions as a base stator or counter stator may depend on the placement of such base and / or counter rotors. Additional structural and / or operational characteristics of the motor 24 of FIG. 4E are similar or identical to those of the motors of FIGS. 4A-4D.

도 4f의 또 다른 예에서, 또 다른 모터 (24) 는 회전자 유닛 (이 도면에 포함되지 않음) 및 고정자 유닛 (26) 을 가지며, 여기서, 그 고정자 유닛 (26) 은 동일한 또는 유사한 사이즈의 C-형 고정자들 (26L, 26R) 의 쌍을 포함한다. 더 상세하게, 좌측 고정자 (26L) 및 우측 고정자 (26R) 는 약 또는 270°이하로 퍼져있다. 또한, 그러한 고정자들 (26L, 26R) 은, 그 고정자들 (26L, 26R) 이 고정자 유닛 (26) 의 최측면부를 따라 서로 중첩하도록 그들의 갭을 오정렬시키면서 동심 배열로 배치된다. 도 4f의 모터 (24) 의 다른 구성적 및/또는 동작 특성은 도 4a 내지 도 4e의 모터들의 특성과 유사 또는 동일할 수도 있다.In another example of FIG. 4F, another motor 24 has a rotor unit (not included in this figure) and a stator unit 26, where the stator unit 26 is of the same or similar size C. FIG. A pair of -shaped stators 26L, 26R. In more detail, the left stator 26L and the right stator 26R are spread to about or less than 270 °. In addition, such stators 26L, 26R are arranged in a concentric arrangement while misaligning their gaps such that the stators 26L, 26R overlap each other along the outermost side of the stator unit 26. Other structural and / or operational characteristics of the motor 24 of FIG. 4F may be similar or identical to those of the motors of FIGS. 4A-4E.

상술된 바와 같이, 다양한 EMC 모터들의 그러한 회전자 및 고정자 유닛 및 그 EMC 모터를 위한 다양한 카운터 유닛들의 추가적인 세부사항은, 발명의 명칭이 'Electromagnetically-Countered Actuator Systems and Methods' 인 공동-계류중인 미국 출원 U.S. 제 60/???,??? 호에 제공되어 있다. 따라서, 그러한 EMC 모터들을 포함한 다양한 종래 기술의 디바이스들은, 그러한 카운터 유닛에 의하여 그 디바이스들의 모터들에 의해 조사된 그러한 유해한 파를 카운터링하는 동안 그 디바이스들의 의도된 기능들을 수행할 수 있는 EMC 시스템으로 변환될 수 있다.As mentioned above, additional details of such rotor and stator units of various EMC motors and various counter units for the EMC motor are described in the co-pending US application entitled 'Electromagnetically-Countered Actuator Systems and Methods'. US Article 60 / ???, ??? It is provided in the arc. Accordingly, various prior art devices, including such EMC motors, are incorporated into an EMC system capable of performing the intended functions of the devices while countering such harmful waves irradiated by the motors of the devices by such counter units. Can be converted.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 카운터 유닛은, 그러한 모터의 인버스 예이고, 그 모터의 기본 유닛과 유사한, 다양한 기본 유닛을 포함하는 다양한 전기 발전기에 또한 구현될 수도 있으며, 여기서, 그 기본 유닛의 예는, 전자석, 영구 자석, 불안정한 전류가 흐르는 발전기의 임의의 부분, 불안정한 전압이 인가되는 발전기의 임의의 부분 등을 포함할 수도 있지만 이에 제한되지는 않는다. 따라서, AC 발전기, DC 발전기, 및 (자동차) 교류 발전기와 같은 EMC 발전기를 포함하는 임의의 종래의 디바이스는, EMC AC 발전기, EMC DC 발전기, EMC 교류 발전기와 같은 EMC 시스템으로 변환될 수도 있으며, 여기서, 그러한 구성 중 임의의 구성의 다양한 카운터 유닛은, 임의의 그러한 배치 및/또는 배열로 그 디바이스에 포함될 수도 있고 상기 메커니즘 중 임의의 메커니즘으로 유해한 파를 카운터링할 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the counter unit is an inverse example of such a motor and may also be implemented in various electric generators including various base units, similar to the base unit of the motor, wherein Examples of the base unit may include, but are not limited to, electromagnets, permanent magnets, any part of a generator through which an unstable current flows, any part of a generator to which an unstable voltage is applied, and the like. Thus, any conventional device including an EMC generator, such as an AC generator, a DC generator, and an (automotive) alternator, may be converted to an EMC system, such as an EMC AC generator, an EMC DC generator, an EMC alternator, where Various counter units of any of such configurations may be included in the device in any such arrangement and / or arrangement and may counter harmful waves with any of the above mechanisms.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 카운터 유닛은 다양한 가열 유닛의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파를 카운터링하기 위해 그 다양한 가열 유닛에 또한 포함될 수도 있으며, 여기서, 그러한 가열 유닛은, 전기 에너지를 열 (또는 열 에너지) 로 변환한 후, 열 전도, 대류, 및/또는 복사에 의해 그 열을 전달하도록 기능하고, 그러한 가열 유닛의 예는, 저항성 와이어, 저항성 스트립, 저항성 코일, 저항성 솔레노이드, 저항성 토로이드, 저항성 시트 등을 포함할 수도 있지만 이에 제한되지는 않는다. 따라서, 개인용 가열 기기 (예를 들어, 전기 매트리스, 전기 매트, 전기 담요, 전기 가열 패드 등), 조리 기기 (예를 들어, 전기 그릴, 전기 오븐, 전기 스토브 또는 레인지, 전기 토스트 오븐, 전기 토스터, 커피 메이커, 에스프레소 메이커, 가열 용기 등), 및 미용 기기 (예를 들어, 헤어 드라이어, 헤어 셋팅기, 헤어 컬러, 헤어 스팀기 등) 와 그러한 가열 유닛을 포함한 임의의 종래 기술의 가열 디바이스는, 그러한 EMC 개인용 가열 시스 템, EMC 조리 시스템, EMC 비용 시스템 등으로 변환될 수도 있다. 일반적으로, 그러한 가열 유닛은, 상기 저항성 부분뿐만 아니라, 고정 또는 가변 위치에서 그 저항성 부분들을 지지 또는 유지, 다른 물품을 절연 등을 위한 다른 부분들을 포함한다. 따라서, 가열 유닛의 기본 유닛은, 그러한 저항성 부분들, 불안정한 전류가 흐르는 그 가열 유닛의 임의의 부분, 불안정한 전압이 인가되는 임의의 그러한 부분, 그 가열 유닛의 다른 부분으로부터 조사된 유해한 파의 전파 경로에 영향을 줄 수 있는 임의의 그러한 부분 등을 포함할 수도 있다. 도 5a 내지 도 5h는 본 발명에 따라 다양한 기본 유닛을 갖는 가열 유닛에 구현된 예시적인 카운터 유닛의 개략적인 사시도를 도시하며, 여기서, 도 5a 내지 도 5c는, 각각, 종래의 와이어-타입, 스트립-타입, 또는 시트-타입 가열 유닛에 구현된 다양한 카운터 유닛을 예시하지만, 도 5d 내지 도 5h는 다양한 종래의 코일-타입 가열 유닛에 구현된 다양한 카운터 유닛을 도시한다. 이러한 도면들에서, 다양한 가열 유닛이 다양한 저항성 물품들 및 그 가열 유닛을 위한 카운터 유닛들만을 포함하고, 그 가열 유닛의 다른 부분이 도시의 간략화를 위해 생략된다는 것을 인식할 것이다. 따라서, 유해한 파를 방출할 수도 있는 가열 유닛의 다른 도전성, 반도전성, 및/또는 절연성 부분은 도면에서 생략되며, 필요한 경우, 그러한 부분들은 상술된 바와 같은 그러한 카운터 유닛들 중 임의의 카운터 유닛에 의지함으로써 적절히 카운터링될 수도 있다. 또한, 도 5a 내지 도 5h에서, 가열 유닛의 주변, 예를 들어, 가열 유닛의 전면 (즉 시트 위), 후면 (즉, 시트 아래), 상단 (즉, 도면 상단) 등에서 타겟 공간을 형성하기 위해, 그러한 가열 유닛의 다양한 기본 유닛 및 카운터 유닛이 배치된다는 것을 인식할 것이다. 또한, 이러한 실시형태의 다양한 카운터 유닛의 세부사항은, 발명의 명칭이 'Electromagnetically-Shielded Heat Generation Systems and Methods' 인 공동-계류중인 미국 출원 U.S. 제 11/289,693 호에 개시되어 있다는 것을 인식할 것이다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the counter unit may also be included in the various heating units to counter harmful waves irradiated by the base unit of the various heating units, where such heating units are And converts electrical energy into heat (or thermal energy) and then transfers it by thermal conduction, convection, and / or radiation, and examples of such heating units include resistive wires, resistive strips, resistive coils, It may also include, but is not limited to, resistive solenoids, resistive toroids, resistive sheets, and the like. Thus, personal heating appliances (e.g. electric mattresses, electric mats, electric blankets, electric heating pads, etc.), cooking appliances (e.g. electric grills, electric ovens, electric stoves or cookers, electric toast ovens, electric toasters, Any prior art heating device, including coffee makers, espresso makers, heating vessels, and the like, and beauty equipment (eg, hair dryers, hair setters, hair curlers, hair steamers, etc.) and such heating units, is suitable for such EMC personal use. It can also be converted to heating systems, EMC cooking systems, EMC cost systems, and so on. In general, such a heating unit includes not only the resistive portion, but also other portions for supporting or holding the resistive portions in a fixed or variable position, for insulating other articles, and the like. Thus, the base unit of the heating unit is the propagation path of harmful waves irradiated from such resistive portions, any portion of the heating unit through which an unstable current flows, any such portion to which an unstable voltage is applied, and other portions of the heating unit. May include any such part that may affect a. 5A-5H show schematic perspective views of an exemplary counter unit implemented in a heating unit having various basic units in accordance with the present invention, wherein FIGS. 5A-5C are, respectively, conventional wire-types, strips Although various counter units are illustrated in a -type, or sheet-type heating unit, FIGS. 5D-5H illustrate various counter units implemented in various conventional coil-type heating units. In these figures, it will be appreciated that the various heating units comprise only various resistive articles and counter units for the heating unit, and other parts of the heating unit are omitted for simplicity of illustration. Thus, other conductive, semiconductive, and / or insulative parts of the heating unit that may emit harmful waves are omitted in the drawings, and if necessary, such parts rely on any of the counter units as described above. May be countered as appropriate. In addition, in FIGS. 5A-5H, to form a target space at the periphery of the heating unit, for example, at the front side (ie above the sheet), the rear side (ie below the sheet), the top side (ie at the top of the figure), etc. of the heating unit. It will be appreciated that various basic units and counter units of such heating units are arranged. Further details of the various counter units of this embodiment are described in the co-pending U.S. application U.S., entitled 'Electromagnetically-Shielded Heat Generation Systems and Methods'. It will be appreciated that it is disclosed in 11 / 289,693.

도 5a의 일 예에서, 가열 유닛 (28) 은 적어도 하나의 저항성 물품 및 카운터 유닛 (40) 을 포함하며, 여기서, 그 저항성 물품은, 그 내에 전류가 흐를 때 유해한 파를 조사하면서 전기 에너지를 열로 변환시킬 수 있는 저항성 와이어 또는 저항성 로드 (28W) 로 형성되고, 그 저항성 와이어 또는 로드 (28W) 는 그러한 가열 유닛 (28) 의 기본 유닛으로 기능한다. 기본 유닛 (28W) 에 의해 조사된 유해한 파를 카운터링하기 위해, 카운터 유닛 (40) 은, 가열 유닛 (28) 의 기본 유닛 (28W) 에 대해 미리 설정된 방향에서 나선으로 감겨지는 코일로서 제공된다. 이러한 콘텍스트에서, 카운터 유닛 (40) 은 파 매칭에 관해 동작하는 것이 바람직하다. 더 상세하게, 그러한 카운터 유닛 (40) 은, 그의 중심에서 기본 유닛 (28W) 를 동심적으로 둘러싸고 그 기본 유닛 (28W) 에 대칭으로 배향된다. 또한, 전류가 기본 유닛 (28W) 및 카운터 유닛 (40) 에 반대 방향으로 공급된다. 따라서, 카운터 유닛 (40) 은, 유해한 파로 정렬되고 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 또한 정의하며, 그에 의해, 카운터 파의 파면과 그 유해한 파의 파면을 매칭함으로써 타겟 공간에서 그 유해한 파를 카운터링하는 그러한 카운터 파를 방출한다. 겉보기에는 종래의 동축 와이어와 유사하지만, 이 예의 가열 유닛 (28) 은 몇몇 주요한 양태에서 그 종래의 동축 와이어와 상이하 다. 먼저, 다수의 도전성 엘리먼트가 동심적으로 배치된 동축 와이어와는 대조적으로, 가열 유닛 (28) 은, 유한한 전기 저항을 정의하고 전류가 그 내에 흐를 때 열을 발생시키는, 저항성 와이어 또는 로드 (28W) 를 포함한다. 둘째로, 가열 유닛 (28) 은, 산재된 (sparse) 배열로 기본 유닛 (28W) 을 둘러싸는 카운터 유닛 (40) 을 포함하거나, 즉, 카운터 유닛 (40) 은 그것을 통한 다수의 개구부 또는 갭을 형성할 수도 있으며, 그 개구부 또는 갭의 특성 차원은 기본 유닛 (28W) 의 특성 차원보다 수십 또는 수 백배 더 클 수도 있다. 따라서, 그러한 카운터 유닛 (40) 은 더 적은 양의 저항성 재료에 의해 더 낮은 비용으로 구현될 수도 있다. 이러한 예에서, 그러한 카운터 유닛 (40) 은 도전성 재료로 구성 및/또는 그 재료를 포함할 수도 있거나, 카운터 유닛 (40) 그 자체는 또한 저항성 재료로 구성 및/또는 그 재료를 포함하고 또 다른 저항성 물품으로 기능한다는 것을 인식할 것이다. 또한, 저항성 와이어 (또는 로드) (28W) 에 공급된 소스 전류의 방향과는 반대 방향으로 전류가 공급되는 한, 카운터 유닛 (40) 은 임의의 방향으로 기본 유닛 (28) 주변에 감겨질 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 그러한 일 예에서, 이러한 예의 가열 유닛 (40) 이 그의 길이 주변 모두에서 타겟 공간을 정의할 수도 있다는 것을 이해할 것이다.In the example of FIG. 5A, heating unit 28 includes at least one resistive article and counter unit 40, where the resistive article heats electrical energy while irradiating harmful waves when current flows therein. It is formed of a resistive wire or resistive rod 28W which can be converted, and the resistive wire or rod 28W functions as a basic unit of such a heating unit 28. In order to counter the harmful waves irradiated by the base unit 28W, the counter unit 40 is provided as a coil wound in a spiral in a direction preset for the base unit 28W of the heating unit 28. In this context, the counter unit 40 preferably operates on wave matching. More specifically, such a counter unit 40 concentrically surrounds the base unit 28W at its center and is symmetrically oriented to the base unit 28W. In addition, current is supplied to the base unit 28W and the counter unit 40 in opposite directions. Thus, the counter unit 40 also defines a phase angle aligned with the harmful wave and at least partially opposite the phase angle of the harmful wave, thereby matching the wavefront of the counter wave with the wavefront of the harmful wave in the target space. It emits such counter waves that counter those harmful waves. Apparently similar to conventional coaxial wires, the heating unit 28 of this example is different from its conventional coaxial wires in some major aspects. First, in contrast to coaxial wires in which a plurality of conductive elements are arranged concentrically, heating unit 28 defines a finite electrical resistance and generates heat when a current flows therein. ) Secondly, the heating unit 28 comprises a counter unit 40 which surrounds the base unit 28W in a sparse arrangement, ie the counter unit 40 has a plurality of openings or gaps therethrough. And the characteristic dimension of the opening or the gap may be tens or hundreds of times larger than the characteristic dimension of the base unit 28W. Thus, such counter unit 40 may be implemented at lower cost by a smaller amount of resistive material. In this example, such counter unit 40 may consist of and / or comprise a conductive material, or the counter unit 40 itself may also consist of and / or comprise a resistive material and be further resistive. You will recognize that it functions as an item. Further, as long as the current is supplied in a direction opposite to the direction of the source current supplied to the resistive wire (or rod) 28W, the counter unit 40 may be wound around the base unit 28 in any direction. Will recognize that. In such an example, it will be appreciated that the heating unit 40 of this example may define the target space all around its length.

도 5b의 또 다른 예에서, 가열 유닛 (28) 은 적어도 하나의 저항성 물품 및 적어도 하나의 카운터 유닛 (40) 을 유사하게 포함하며, 그 저항성 물품은, 전류가 그 내에 흐를 때 그러한 유해한 파를 조사하면서 전기 에너지를 열로 변환시킬 수 있는 저항성 스트립 (28t) 로 형성되고, 그 카운터 유닛 (40) 은 도전성 또는 저항 성 재료의 또 다른 코일로서 제공된다. 도 5a의 카운터 유닛과 유사하게, 그러한 카운터 유닛 (40) 은 임의의 방향을 따라 감겨지고 다수의 갭 또는 개구부를 형성할 수도 있다. 바람직한 경우, 또한, 코일 (40) 은, 기본 유닛 (28t) 의 형상에 더 양호하게 근사하기 위해, 타원형 단면을 정의하도록 접혀질 수도 있고, 그 코일의 장축을 따라 저항성 스트립 (28t) 의 폭 또는 높이를 수용하도록 배향될 수도 있다. 도 5b의 가열 유닛 (28) 의 다른 구성적 및/또는 동작 특성은 도 5a의 가열 유닛의 특성과 유사 또는 동일하다.In another example of FIG. 5B, the heating unit 28 similarly includes at least one resistive article and at least one counter unit 40, the resistive article irradiating such harmful waves when an electric current flows therein. While being formed of a resistive strip 28t capable of converting electrical energy into heat, the counter unit 40 being provided as another coil of conductive or resistive material. Similar to the counter unit of FIG. 5A, such counter unit 40 may be wound along any direction and form multiple gaps or openings. If desired, the coil 40 may also be folded to define an elliptical cross section, in order to better approximate the shape of the base unit 28t, and the width of the resistive strip 28t along the long axis of the coil or It may be oriented to receive the height. Other structural and / or operational characteristics of the heating unit 28 of FIG. 5B are similar or identical to those of the heating unit of FIG. 5A.

도 5c의 또 다른 예에서, 가열 유닛 (28) 은 적어도 하나의 저항성 물품 및 적어도 하나의 카운터 유닛 (40) 을 유사하게 포함하며, 그 저항성 물품은, 전류가 그 내에 흐를 때 유해한 파를 조사하면서 전기 에너지를 열로 변환시킬 수 있는 저항성 시트 (28H) 로 정의되고, 그 카운터 유닛 (40) 은 도전성 또는 저항성 재료의 또 다른 시트로 형성된다. 더 상세하게, 카운터 유닛 (40) 은, 그 카운터 유닛 (40) 이 형상 매칭에 관해 동작하도록, 기본 유닛 (28H) 에 병렬로 배향되고 그 카운터 유닛으로부터 미리 설정된 거리에 배치된다. 따라서, 카운터 유닛 (40) 은, 유해한 파로 정렬되고 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하며, 그에 의해, 타겟 공간에서 카운터 파에 의하여 그 유해한 파를 카운터링할 수 있는 그러한 카운터 파를 방출한다. 카운터 유닛 (40) 에 공급된 전류의 진폭은 타겟 공간이 기본 유닛 (28H) 의 어느 측면에 정의되는지에 의해 결정될 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 타겟 공간이 가열 유닛 (28) 의 전면 (또는 시트 위) 에 형성되는 경우, 카운터 유닛 (40) 은 유해한 파의 진폭보다 더 큰 진폭을 갖는 카운터 파를 방출하고, 그에 의해, 기본 유닛 (28H) 으로부터의 거리보다 큰 거리에서 그러한 유해한 파를 카운터링할 것이다. 타겟 공간이 가열 유닛 (28) 의 후면 (또는 시트 아래) 에 정의되는 경우, 카운터 유닛 (40) 은, 유해한 파의 진폭보다 더 작은 진폭을 정의하는 카운터 파를 방출하고, 그에 의해, 기본 유닛 (28H) 보다 더 짧은 거리에서 그러한 유해한 파를 카운터링할 것이다. 타겟 공간이 가열 유닛 (28) 의 상단에 정의되는 경우, 카운터 유닛 (40) 은 유해한 파의 진폭과 유사한 진폭을 갖는 카운터 파를 방출하고, 그에 의해, 그러한 기본 유닛 (28H) 과 유사한 거리에서 그러한 파를 카운터링할 것이다. 도 5c의 가열 유닛 (28) 의 다른 구성적 및/또는 동작 특성은 도 5a 및 도 5b의 가열 유닛의 특성과 유사 또는 동일하다.In another example of FIG. 5C, the heating unit 28 similarly includes at least one resistive article and at least one counter unit 40, the resistive article being irradiated with harmful waves when an electric current flows therein. It is defined as a resistive sheet 28H capable of converting electrical energy into heat, and the counter unit 40 is formed of another sheet of conductive or resistive material. More specifically, the counter unit 40 is oriented in parallel to the base unit 28H and disposed at a predetermined distance from the counter unit so that the counter unit 40 operates with respect to shape matching. Thus, the counter unit 40 defines a phase angle that is aligned with the harmful wave and that is at least partially opposite to the phase angle of the harmful wave, whereby it can counter the harmful wave by the counter wave in the target space. Emits a counter wave. It will be appreciated that the amplitude of the current supplied to the counter unit 40 may be determined by which side of the base unit 28H is defined. When the target space is formed on the front side (or on the sheet) of the heating unit 28, the counter unit 40 emits a counter wave having an amplitude larger than that of the harmful wave, whereby the base unit 28H At a distance greater than the distance from it will counter such harmful waves. When the target space is defined on the rear side (or under the seat) of the heating unit 28, the counter unit 40 emits a counter wave that defines an amplitude smaller than that of the harmful wave, whereby the base unit ( 28H) will counter such harmful waves at shorter distances. When the target space is defined at the top of the heating unit 28, the counter unit 40 emits a counter wave having an amplitude similar to that of the harmful wave, whereby it is at a distance similar to that base unit 28H. Will counter the wave. Other structural and / or operational characteristics of the heating unit 28 of FIG. 5C are similar or identical to those of the heating unit of FIGS. 5A and 5B.

도 5d의 또 다른 예에서, 가열 유닛 (28) 은 적어도 하나의 저항성 물품 및 적어도 하나의 카운터 유닛 (40) 을 유사하게 포함하며, 그 저항성 물품은, 전류가 그 내에 흐를 때 유해한 파를 조사하면서 전기 에너지를 열로 변환시킬 수 있는 저항성 코일 (28C) 로 형성되고, 그 저항성 코일 (28C) 은 그러한 가열 유닛 (28) 의 기본 유닛으로 기능한다. 기본 유닛 (28C) 에 의해 조사된 유해한 파를 카운터링하기 위해, 카운터 유닛 (40) 은, 가열 코일 (28C) 내부에 배치되고 그 코일 (28C) 의 중심으로 정렬되는 로드 또는 와이어로 제공된다. 이러한 콘텍스트에서, 카운터 유닛 (40) 은 파 매칭에 관해 동작하는 것이 바람직하다. 더 상세하게, 그러한 카운터 유닛 (40) 은 그의 중심에서 기본 유닛 (28W) 에 의해 둘러싸이고, 그 기본 유닛 (28W) 에 대칭으로 배향된다. 또한, 전류는 기본 유닛 (28W) 및 카운터 유닛 (40) 에 반대 방향으로 공급된다. 따라서, 카운터 유닛 (40) 은, 유해한 파로 정렬되고 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하며, 그에 의해, 카운터 파의 파면에 의하여 그러한 유해한 파의 파면에 매칭함으로써 타겟 공간에서 그 유해한 파를 카운터링하는 카운터 파를 방출한다. 겉보기에는 종래의 동축 와이어와 유사하지만, 이러한 예의 가열 유닛 (28) 은, 도 5a에 설명된 바와 같이 몇몇 주요 양태에서 그 가열 유닛과 유사하게 상이하다. 이러한 예에서, 카운터 유닛 (40) 이 또한 도전성 재료로 구성 및/또는 그 재료를 포함할 수도 있고, 그 카운터 유닛 (40) 자체가 또한 저항성 재료로 구성 및/또는 그 재료를 포함할 수도 있고 또 다른 저항성 물품으로 기능할 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 또한, 저항성 코일 (28C) 에 공급된 소스 전류의 방향과 반대 방향으로 전류가 카운터 유닛에 공급되는 한, 그 카운터 유닛 (40) 이 임의의 방향으로 기본 유닛 (28) 주변에 감겨질 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 이러한 예에서, 이러한 예의 가열 유닛 (40) 이 그의 길이 주변 모두에서 타겟 공간을 정의할 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 이러한 예의 가열 유닛 (28) 의 다른 구성적 및/또는 동작 특성은 도 5a 내지 도 5c의 가열 유닛의 특성과 유사 또는 동일하다.In another example of FIG. 5D, the heating unit 28 similarly includes at least one resistive article and at least one counter unit 40, which resists harmful waves when an electric current flows therein. It is formed of a resistive coil 28C capable of converting electrical energy into heat, and the resistive coil 28C functions as a basic unit of such a heating unit 28. In order to counter the harmful waves irradiated by the base unit 28C, the counter unit 40 is provided with a rod or wire disposed inside the heating coil 28C and aligned with the center of the coil 28C. In this context, the counter unit 40 preferably operates on wave matching. More specifically, such a counter unit 40 is surrounded by a base unit 28W at its center and is symmetrically oriented to the base unit 28W. In addition, current is supplied to the base unit 28W and the counter unit 40 in opposite directions. Thus, the counter unit 40 defines a phase angle aligned with the harmful wave and at least partially opposite the phase angle of the harmful wave, thereby matching the wavefront of such harmful wave by the wavefront of the counter wave in the target space. Emit a counter wave that counters that harmful wave. Although apparently similar to conventional coaxial wires, the heating unit 28 of this example differs similarly to its heating unit in some major aspects as described in FIG. 5A. In this example, the counter unit 40 may also consist of and / or comprise a conductive material, and the counter unit 40 itself may also consist of and / or comprise a resistive material and It will be appreciated that it may also function as another resistive article. Also, as long as the current is supplied to the counter unit in a direction opposite to the direction of the source current supplied to the resistive coil 28C, that counter unit 40 may be wound around the base unit 28 in any direction. Will recognize. In this example, it will be appreciated that the heating unit 40 of this example may define the target space all around its length. Other structural and / or operating characteristics of the heating unit 28 of this example are similar or identical to those of the heating unit of FIGS. 5A-5C.

도 5e의 또 다른 예에서, 가열 유닛 (28) 은 적어도 하나의 저항성 물품 및 적어도 하나의 카운터 유닛 (40) 을 유사하게 포함하며, 그 저항성 물품은, 전류가 그 내에 흐를 때 그러한 유해한 파를 조사하면서 전기 에너지를 열로 변환시킬 수 있는 저항성 코일 (28C) 로 정의되고, 그 카운터 유닛 (40) 은, 그 카운터 유닛 (40) 이 파 매칭에 관해 동작하도록 도전성 또는 저항성 재료의 또 다른 코일로서 제공된다. 특히, 카운터 유닛 (40) 은 기본 유닛 (28C) 과 병렬로 정렬되고 또한 그 기본 유닛 (28C) 로부터 미리 설정된 거리에 배치된다. 따라서, 카운터 유닛 (40) 은, 유해한 파로 정렬되고 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하며, 그에 의해, 타겟 공간에서 그 유해한 파를 카운터링할 수 있는 그러한 카운터 파를 방출한다. 그러한 카운터 유닛 (40) 에 공급된 전류의 진폭은, 타겟 공간이 기본 유닛 (28H) 의 어느 측면에 정의되는지에 의존할 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 타겟 공간이 가열 유닛 (28) 의 전면 또는 시트 위에 형성될 경우, 카운터 유닛 (40) 은 유해한 파의 진폭보다 더 큰 진폭을 갖는 카운터 파를 방출하며, 그에 의해, 기본 유닛 (28H) 로부터의 거리보다 더 큰 거리에서 그러한 유해한 파를 카운터링한다. 타겟 공간이 가열 유닛 (28) 의 후면 (또는 시트 아래) 에 정의될 경우, 카운터 유닛 (40) 은 그러한 유해한 파의 진폭보다 더 작은 진폭의 카운터 파를 방출하며, 그에 의해, 기본 유닛 (28H) 로부터의 거리보다 더 짧은 거리에서 그 유해한 파를 카운터링한다. 타겟 공간이 가열 유닛 (28) 의 상단에 형성될 경우, 카운터 유닛 (40) 은 유해한 파의 진폭과 유사한 진폭의 카운터 파를 방출하며, 그에 의해, 그러한 기본 유닛 (28H) 와 유사한 거리에서 그 파를 카운터링한다. 도 5e의 가열 유닛 (28) 의 다른 구성적 및/또는 동작 특성은 도 5a 내지 5d의 가열 유닛의 특성과 유사 또는 동일하다.In another example of FIG. 5E, the heating unit 28 similarly includes at least one resistive article and at least one counter unit 40, the resistive article irradiating such harmful waves when current flows therein. And a resistive coil 28C capable of converting electrical energy into heat while the counter unit 40 is provided as another coil of conductive or resistive material such that the counter unit 40 operates with respect to wave matching. . In particular, the counter unit 40 is aligned in parallel with the base unit 28C and is arranged at a predetermined distance from the base unit 28C. Thus, counter unit 40 defines a phase angle that is aligned with the harmful wave and at least partially opposite the phase angle of the harmful wave, thereby emitting such a counter wave that can counter the harmful wave in the target space. do. It will be appreciated that the amplitude of the current supplied to such counter unit 40 may depend on which side of base unit 28H is defined. When the target space is formed on the front surface or the seat of the heating unit 28, the counter unit 40 emits a counter wave having an amplitude larger than that of the harmful wave, whereby the distance from the base unit 28H Counter such harmful waves at greater distances. When the target space is defined on the rear side (or under the seat) of the heating unit 28, the counter unit 40 emits a counter wave of an amplitude smaller than that of the harmful wave, whereby the base unit 28H Counter the harmful waves at a distance shorter than the distance from. When a target space is formed on top of the heating unit 28, the counter unit 40 emits a counter wave of an amplitude similar to that of the harmful wave, whereby the wave at a distance similar to such a base unit 28H. Counter Other structural and / or operating characteristics of the heating unit 28 of FIG. 5E are similar or identical to those of the heating units of FIGS. 5A-5D.

도 5f 및 도 5g의 다른 예에서, 각각의 그러한 가열 유닛 (28) 은 적어도 하나의 저항성 물품 및 적어도 하나의 카운터 유닛 (40) 을 가지며, 그 저항성 물품 은, 전류가 그 내에 흐를 때 그러한 유해한 파를 조사하면서 전기 에너지를 열로 변환시킬 수 있는 저항성 코일 (28C) 로 정의되고, 그 카운터 유닛 (40) 은 그 기본 유닛 (28C) 내부에 배치되는 도전성 또는 저항성 재료의 또 다른 코일로서 제공된다. 따라서, 카운터 유닛 (40) 은 소스 매칭에 관해 동작하는 것이 바람직하다. 더 상세하게, 카운터 유닛 (40) 은 기본 유닛 (28C) 의 중심에 병렬로 정렬되고, 유해한 파로 정렬되고 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하며, 그에 의해, 타겟 공간에서 유해한 파를 카운터링하는 카운터 파를 방출한다. 카운터 유닛 (40) 은 임의의 방향, 예를 들어, 도 5f에서와 같이 가열 코일 (28C) 과 동일한 방향을 따라, 또는 도 5g에서와 같이 가열 코일 (28C) 의 방향과 반대 방향을 따라 감겨질 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 어느 예에서든, 카운터 유닛 (40) 은 적어도 실질적으로 가열 유닛 (28) 주변에서 타겟 공간을 정의한다. 도 5f 및 도 5g의 가열 유닛 (28) 의 다른 구성적 및/또는 동작 특성은 도 5a 내지 도 5e의 가열 유닛의 특성과 유사 또는 동일하다.In another example of FIGS. 5F and 5G, each such heating unit 28 has at least one resistive article and at least one counter unit 40, the resistive article having such a harmful wave when current flows therein. Is defined as a resistive coil 28C capable of converting electrical energy into heat while the counter unit 40 is provided as another coil of conductive or resistive material disposed inside the base unit 28C. Thus, counter unit 40 preferably operates with respect to source matching. More specifically, counter unit 40 defines a phase angle aligned in parallel to the center of base unit 28C and aligned with a harmful wave and at least partially opposite the phase angle of that harmful wave, whereby in target space Emit a counter wave that counters harmful waves. The counter unit 40 may be wound in any direction, for example, in the same direction as the heating coil 28C as in FIG. 5F or in the direction opposite to the direction of the heating coil 28C as in FIG. 5G. It will be appreciated. In either example, the counter unit 40 defines the target space at least substantially around the heating unit 28. The other constitutive and / or operating characteristics of the heating unit 28 of FIGS. 5F and 5G are similar or identical to those of the heating units of FIGS. 5A-5E.

도 5h의 또 다른 예에서, 또한 가열 유닛 (28) 은 적어도 하나의 저항성 물품 및 적어도 하나의 카운터 유닛 (40) 을 포함하며, 그 저항성 물품은, 전류가 그 내에 흐를 때 그러한 유해한 파를 조사하면서 전기 에너지를 열로 변환시키는 저항성 코일 (28C) 로 정의되고, 그 카운터 유닛 (40) 은, 그 저항성 코일 (28C) 및 카운터 코일 (40) 이 가열 유닛 (28) 의 매 피치에서 서로 교번하도록, 그 저항성 코일 (28C) 과 얽혀 꼬인 도전성 또는 저항성 재료의 또 다른 코일로서 제공된다. 이러한 콘텍스트에서, 카운터 유닛 (40) 은 소스 매칭에 관해 동작한다. 더 상세하게, 그러한 카운터 유닛 (40) 은, 기본 유닛 (28C) 의 중심선에 병렬로 정렬되고, 저항성 코일 (28C) 에 관해 대칭인 배열로 배치되며, 유해한 파로 정렬되고 그 유해한 파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 가지며, 그에 의해, 타겟 공간에서 그러한 유해한 파를 카운터링하는 카운터 파를 방출한다. 적어도 실질적으로 가열 유닛 (28) 주변에 타겟 공간을 정의하는 동안, 카운터 유닛 (40) 이 가열 코일 (28C) 와 동일한 방향으로 감겨질 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 도 5h의 가열 유닛 (28) 의 다른 구성적 및/또는 동작 특성은 도 5a 내지 도 5g의 가열 유닛의 특성과 유사 또는 동일하다.In another example of FIG. 5H, the heating unit 28 also includes at least one resistive article and at least one counter unit 40, which resists such harmful waves when an electric current flows therein. It is defined as a resistive coil 28C that converts electrical energy into heat, and the counter unit 40 is such that the resistive coil 28C and the counter coil 40 alternate with each other at every pitch of the heating unit 28. It is provided as another coil of conductive or resistive material intertwined with the resistive coil 28C. In this context, counter unit 40 operates on source matching. More specifically, such counter unit 40 is arranged in parallel to the centerline of base unit 28C, arranged in a symmetrical arrangement with respect to resistive coil 28C, aligned with harmful waves and at least with the phase angle of the harmful waves. It has a partially opposite phase angle, thereby emitting a counter wave that counters such harmful waves in the target space. It will be appreciated that while defining the target space at least substantially around the heating unit 28, the counter unit 40 may be wound in the same direction as the heating coil 28C. Other constitutive and / or operational characteristics of the heating unit 28 of FIG. 5H are similar or identical to those of the heating unit of FIGS. 5A-5G.

상술된 바와 같이, 다양한 EMC 가열 유닛의 그러한 카운터 유닛의 추가적인 세부사항은, 발명의 명칭이 'Electromagnetically-Shielded Heat Generating Systems and Methods' 이고 공동-계류중인 미국 출원 U.S. 제 11/289,693 호에서 제공되어 있다. 따라서, 그러한 EMC 가열 유닛을 갖는 다양한 종래 기술의 디바이스는, 그 디바이스의 저항성 가열 물품에 의해 조사된 그러한 유해한 파를 그러한 카운터 유닛에 의해 카운터링하면서 의도된 가열 기능을 수행할 수 있는 EMC 시스템으로 변환될 수 있다.As mentioned above, additional details of such counter units of various EMC heating units are described in the co-pending US application U.S. Patent No. 8, entitled 'Electromagnetically-Shielded Heat Generating Systems and Methods'. No. 11 / 289,693. Accordingly, various prior art devices having such EMC heating units convert such harmful waves irradiated by the resistive heating article of the device into an EMC system capable of performing the intended heating function while countering by such counter units. Can be.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 또한, 카운터 유닛은, 서로 자기적으로 커플링된 적어도 2개의 코일을 그 내에 포함한 다양한 트랜스포머에 포함될 수도 있으며, 여기서, 그러한 트랜스포머의 기본 유닛의 예는, 전자석, 강자성 재료, 페리자성 재료, 및/또는 반자성 재료로 구성 및/또는 그 재료들을 포함할 수도 있는 삽입물, 불안정한 전류가 흐르는 트랜스포머의 임의의 부 분, 불안정한 전압이 인가되는 트랜스포머의 임의의 부분 등을 포함할 수도 있지만 이에 제한되지는 않는다. 따라서, 스텝-업 트랜스포머, 스텝-다운 트랜스포머와 같은 그러한 EMC 트랜스포머를 포함한 임의의 종래 기술의 디바이스, 및 다양한 전기 디바이스의 AC/DC 어댑터는 EMC 트랜스포머 시스템 및 EMC 어댑터 시스템으로 변환될 수도 있으며, 여기서, 상기 구성 중 임의의 구성을 갖는 다양한 카운터 유닛은 임의의 그러한 배치 및/또는 배열로 그 내에 포함될 수도 있고, 상기 메커니즘 중 임의의 메커니즘으로 유해한 파를 카운터링할 수도 있다. EMC 트랜스포머는, 카운터 유닛이 저항성 히터가 아니라 전기 전도체로 구성 및/또는 그 전도체를 포함할 수도 있다는 조건부로, 도 5d 내지 도 5h의 기본 유닛이 본질적으로 코일이기 때문에 그 도면의 그 기본 유닛과 함께 개시된 그러한 카운터 유닛 중 하나 이상의 카운터 유닛을 포함할 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 유사하게, 발명의 명칭이 'Electromagnetically-Shielded Heat Generating Systems and Methods' 이고 공동-계류중인 미국 출원 U.S. 제 11/289,693 호에 개시된 다양한 카운터 유닛들은, 또한, 그러한 카운터 유닛들이 저항성 재료들이 아닌 도전성 물품들로 구성 및/또는 포함한다는 조건부로, 그러한 EMC 시스템에 포함될 수도 있다.In still another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the counter unit may also be included in various transformers comprising therein at least two coils magnetically coupled to each other, wherein the base unit of such transformer is Examples include an electromagnet, ferromagnetic material, ferrimagnetic material, and / or an insert that may be made of and / or include diamagnetic materials, any portion of a transformer with an unstable current, any of the transformers to which an unstable voltage is applied. And the like, but are not limited thereto. Thus, any prior art device, including such EMC transformers, such as step-up transformers, step-down transformers, and AC / DC adapters of various electrical devices may be converted into EMC transformer systems and EMC adapter systems, wherein Various counter units having any of the above configurations may be included therein in any such arrangement and / or arrangement, and may counter harmful waves with any of the above mechanisms. The EMC transformer, together with its base unit in that figure, provided that the base unit of FIGS. 5D-5H is essentially a coil, provided that the counter unit may comprise and / or comprise an electrical conductor rather than a resistive heater. It will be appreciated that it may include one or more counter units of such counter units disclosed. Similarly, the invention is named 'Electromagnetically-Shielded Heat Generating Systems and Methods' and co-pending US application U.S. The various counter units disclosed in US Pat. No. 11 / 289,693 may also be included in such EMC systems, provided that such counter units are constructed and / or comprised of conductive articles rather than resistive materials.

본 발명의 이러한 양태의 또 다른 예시적인 실시형태에서, 카운터 유닛은, 또한, 다양한 발광 유닛의 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파를 카운터링하기 위해 그 다양한 발광 유닛에 포함될 수도 있으며, 여기서, 이러한 발광 유닛은, 가시광선, 자외선, 및/또는 적외선으로 전기 에너지를 변환시키도록 기능하고, 그 발광 유닛의 예는, 백열 전구, CCFL (즉, 냉음극 형광 램프) 뿐만 아니라 EEFL (즉, 외부 전극 형광 램프) 를 포함하는 형광 전구, CRT (즉, 음극선 튜브), LED (즉, 발광 디바이스), OLED (즉, 유기 발광 디바이스), IOLED 및 ILED (즉, 무기 발광 디바이스), PDP (즉, 플라즈마 디스플레이 패널), 및 그러한 광선을 방출할 수 있는 임의의 다른 디바이스를 포함할 수도 있지만 이에 제한되지는 않는다. 따라서, 그러한 발광 유닛의 기본 유닛은, 그러한 광선으로 전기 에너지를 변환시키는 발광 엘리먼트, 불안정한 전류가 흐르는 발광 유닛의 임의의 부분, 불안정한 전압이 인가되는 발광 유닛의 임의의 부분 등을 포함할 수도 있다. 따라서, 임의의 이러한 종래 기술의 디바이스는, 각각이 상기 발광 유닛들 중 적어도 하나의 유닛 및 그 카운터 유닛들 중 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함하는 EMC 발광 유닛들로 변환될 수도 있으며, 여기서, 상기 구성들 중 임의의 구성의 다양한 카운터 유닛은 임의의 상기 배치 및/또는 배열로 그 디바이스에 포함될 수도 있고, 상기 메커니즘 중 임의의 메커니즘으로 유해한 파를 카운터링할 수도 있다.In another exemplary embodiment of this aspect of the invention, the counter unit may also be included in the various light emitting units to counter harmful waves emitted by the base unit of the various light emitting units, where such light emission The unit functions to convert electrical energy into visible light, ultraviolet light, and / or infrared light, and examples of the light emitting unit include not only incandescent bulbs, CCFLs (i.e. cold cathode fluorescent lamps) but also EEFLs (i.e. external electrode fluorescence). Fluorescent bulbs including lamps, CRT (ie cathode ray tube), LED (ie light emitting device), OLED (ie organic light emitting device), IOLED and ILED (ie inorganic light emitting device), PDP (ie plasma display) Panel), and any other device capable of emitting such light rays. Thus, the base unit of such a light emitting unit may include a light emitting element that converts electrical energy into such light rays, any part of the light emitting unit through which an unstable current flows, any part of the light emitting unit to which an unstable voltage is applied, and the like. Thus, any such prior art device may be converted into EMC light emitting units, each of which comprises at least one of the light emitting units and at least one counter unit of the counter units, wherein the configuration Various counter units of any of these configurations may be included in the device in any of the above arrangements and / or arrangements, and may counter harmful waves with any of the above mechanisms.

본 발명의 또 다른 양태에서, 상기 EMC 시스템 중 임의의 시스템은 적어도 하나의 전기적 쉴드 및/또는 자기적 쉴드를 포함할 수도 있다. 일 예에서, 전기적 쉴드 및/또는 자기적 쉴드 (이하, 각각, 'ES' 및 'MS' 로 지칭됨) 는 EMC 시스템의 다양한 부분 내에, 상에, 위에 또는 아래에 구현될 수도 있다. 또 다른 예에서, 그러한 ES 및/또는 MS는 상기와 같이 또한 구현될 수도 있고 상기 카운터 유닛 중 임의의 카운터 유닛과 함께 사용될 수도 있다. 일반적으로, ES는, 유해한 파의 전기파가 그 내에서 흡수되고 재라우팅될 수도 있도록 적어도 하나의 전 기적으로 도전성 재료로 구성 및/또는 그 재료를 포함할 수도 있다. 바람직한 경우, ES는, 흡수되고 재라우팅된 파가 그 ES로부터 제거될 수도 있도록, 또한 접지될 수도 있다. MS는, 유해한 파의 자기파를 그 내에 흡수할 수 있고 그 후 그러한 자기파를 그를 통해 재라우팅할 수 있는, 적어도 하나의 자기적으로 투과성있는 경로 부재로 구성 및/또는 그 부재를 포함할 수도 있다. 바람직한 경우, MS는, 경로 부재에 자기적으로 커플링될 수도 있는 자석 부재를 가질 수도 있고, 그 자석 부재의 적어도 하나의 자극에서 흡수되고 재라우팅된 자기파를 종료시킬 수도 있다. MS는, 또한, 자기적으로 투과성있고 그 MS의 자석 부재를 보호할 수도 있는 적어도 하나의 옵션적인 분로 부재를 포함할 수도 있으며, 그에 의해 그 옵션적인 분로 부재에 근접한 그러한 자석 부재로부터의 자기장을 제한한다. 그러한 ES 및/또는 MS의 다른 세부사항은, 예를 들어, 'Shunted Magnet Systems and Methods' 인 제 11/213,703호, 'Magnet-Shunted Systems and Methods' 인 제 11/213,686 호, 및 'Electromagnetic Shield Systems and Methods' 인 U.S. 제 60/723,274 호와 같은 공동-계류중인 출원에 이미 제공되어 있다. 그러한 공동-계류중인 출원들의 가열 엘리먼트들이 본 발명의 다양한 카운터 유닛들에 의해 대체될 수도 있고, ES 및/또는 MS가 상기 공동-계류중인 출원의 다양한 가열 엘리먼트들에 포함되므로 그 ES 및/또는 MS가 본 발명의 카운터 유닛들에 포함될 수도 있도록, 이러한 공동-계류중인 출원의 세부사항이 변형될 수도 있다는 것을 인식할 것이다. 또한, 카운터 유닛이 본 발명의 EMC 시스템의 그러한 부분에 포함되므로, ES 및/또는 MS가 본 발명의 EMC 시스템의 다양한 부분에 포함될 수도 있다는 것을 인식할 것이다.In another aspect of the present invention, any of the EMC systems may include at least one electrical shield and / or magnetic shield. In one example, the electrical and / or magnetic shield (hereinafter referred to as 'ES' and 'MS', respectively) may be implemented within, on, above or below various parts of the EMC system. In another example, such an ES and / or MS may also be implemented as above and used with any of the counter units. In general, an ES may be constructed from and / or include at least one electrically conductive material such that an electrical wave of harmful waves may be absorbed and rerouted therein. If desired, the ES may also be grounded so that absorbed and rerouted waves may be removed from the ES. The MS may comprise and / or comprise at least one magnetically permeable path member capable of absorbing magnetic waves of harmful waves therein and then rerouting therethrough. have. If desired, the MS may have a magnet member that may be magnetically coupled to the path member, and may terminate the magnetic wave absorbed and rerouted at at least one magnetic pole of the magnet member. The MS may also include at least one optional shunt member that is magnetically permeable and may protect the magnet member of the MS, thereby limiting the magnetic field from such magnet member proximate the optional shunt member. do. Other details of such ES and / or MS are described, for example, in 'Shunted Magnet Systems and Methods' 11 / 213,703, in 'Magnet-Shunted Systems and Methods' 11 / 213,686, and in 'Electromagnetic Shield Systems'. and Methods' in US It is already provided in co-pending applications such as 60 / 723,274. Heating elements of such co-pending applications may be replaced by various counter units of the present invention, and the ES and / or MS may be included in the various heating elements of the co-pending application. It will be appreciated that the details of this co-pending application may be modified such that may be included in the counter units of the present invention. It will also be appreciated that since counter units are included in such parts of the EMC system of the present invention, ES and / or MS may be included in various parts of the EMC system of the present invention.

ES 및/또는 MS는 본 발명의 다양한 카운터 유닛의 구성과 동일 또는 유사한 구성을 정의하도록 제공될 수도 있다. ES 및/또는 MS는 기본 유닛 및/또는 카운터 유닛내에, 상에, 위에, 주변에, 및/또는 통해 또한 배치될 수도 있다. ES 및/또는 MS는 그러한 기본 유닛 및/또는 카운터 유닛의 구성에 적어도 부분적으로 일치하는 구성을 가질 수도 있거나, 다른 방법으로, ES 및/또는 MS의 구성과 적어도 부분적으로 상이한 구성을 정의할 수도 있다.The ES and / or MS may be provided to define the same or similar configuration as that of the various counter units of the present invention. The ES and / or MS may also be placed in, on, over, around, and / or through the base unit and / or the counter unit. The ES and / or MS may have a configuration that at least partially matches the configuration of such base unit and / or counter unit, or alternatively, define a configuration that is at least partially different from the configuration of the ES and / or MS. .

MS의 경로 부재는, 1,000 또는 10,000, 100,000 또는 1,000,000보다 더 큰 상대적인 자기적 투자율을 정의할 수도 있다. 분로 부재는 자석 부재에 직접적으로 또는 간접적으로 접촉하고, 1,000, 10,000, 100,000 또는 1,000,000 보다 더 큰 상대적인 자기적 투자율을 정의하도록 배열될 수도 있다. 상술된 또는 공동-계류중인 출원에 개시된 ES 및/또는 MS는, 또한, 상기 카운터 유닛 중 임의의 카운터 유닛을 갖거나 갖지 않는 임의의 종래 기술의 디바이스에 포함될 수도 있고, 본 발명의 그러한 EMC 시스템을 정의할 수도 있다. ES 및/또는 MS는, 기본 및/또는 카운터 유닛의 종축 또는 단축을 따라 균일하게 유지될 수도 있거나 그 축들을 따라 변할 수도 있는 구성을 정의할 수도 있다. ES 및/또는 MS의 그러한 구성들은 기본 및/또는 카운터 유닛의 구성과 동일, 유사, 상이할 수도 있다. EMC 시스템은 다수의 ES 및/또는 MS를 포함할 수도 있으며, 여기서, MS 및/또는 ES 중 적어도 2개는 동일한 또는 상이한 정도로 동일한 또는 상이한 주파수의 자기파 및/또는 전기파를 보호할 수도 있다. ES 및/또는 MS는 기본 및/또는 카운터 유 닛의 적어도 일부 (또는 전체 부분) 에 걸쳐 배치될 수도 있다. 또한, EMC 시스템은 ES 및/또는 MS 뿐만 아니라 상기 카운터 유닛들 중 하나 이상의 임의의 카운터 유닛을 그 내에 포함할 수도 있으며, 여기서, 기본 및/또는 카운터 유닛은 AC 또는 DC를 통해 동작할 수도 있다.The path absence of the MS may define a relative magnetic permeability greater than 1,000 or 10,000, 100,000 or 1,000,000. The shunt member may be arranged to contact the magnet member directly or indirectly and define a relative magnetic permeability greater than 1,000, 10,000, 100,000 or 1,000,000. The ES and / or MS disclosed in the above-mentioned or co-pending application may also be included in any prior art device with or without any of the counter units, and may incorporate such EMC systems of the present invention. It can also be defined. The ES and / or MS may define a configuration that may remain uniform along the longitudinal or short axis of the base and / or counter unit or may vary along those axes. Such configurations of the ES and / or MS may be the same, similar, or different than the configurations of the basic and / or counter units. An EMC system may include multiple ESs and / or MSs, where at least two of the MSs and / or ESs may protect magnetic and / or electric waves of the same or different frequencies to the same or different degrees. The ES and / or MS may be deployed over at least a portion (or all portions) of the base and / or counter unit. In addition, the EMC system may include any counter units of one or more of the counter units as well as the ES and / or MS, where the base and / or counter units may operate via AC or DC.

상술된 바와 같이, 본 발명의 EMC 시스템은, 그러한 시스템의 다양한 기본 유닛에 의해 조사된 유해한 파에 대한 다수의 방어 메커니즘을 제공받을 수도 있다. 일 예에서, 상술된 바와 같이, 카운터 유닛은 그러한 EMC 시스템의 다양한 부분에 포함될 수도 있다. 따라서, 단일 또는 다수의 카운터 유닛은 상기 구성 중 임의의 구성으로 제공될 수도 있고, 상기 배치 중 임의의 배치로 포함될 수도 있다. 또 다른 예에서, 그러한 ES 및/또는 MS는 EMC 시스템의 다양한 부분에 포함될 수도 있고, 각각, 그러한 유해한 파의 전기파 및/또는 자기파를 보호할 수도 있으며, 여기서, 그 ES 및/또는 MS의 배치는 상기 공동-계류중인 출원에 설명되어 있다. 또 다른 예에서, 카운터 유닛뿐만 아니라 ES 및/또는 MS 중 적어도 하나는, 카운터 유닛이 그러한 유해한 파의 적어도 일부를 카운터링할 수도 있고 ES 및/또는 MS가 그의 나머지를 흡수 및 재라우팅할 수도 있도록, EMC 시스템에 구현될 수도 있다. 도 6a 내지 6h는, 본 발명에 따른 MS 및/또는 ES 및 상기 카운터 유닛을 포함한 예시적인 스피커의 개략적인 사시도를 도시한다.As mentioned above, the EMC system of the present invention may be provided with a number of defense mechanisms against harmful waves investigated by the various basic units of such systems. In one example, as described above, the counter unit may be included in various parts of such an EMC system. Thus, a single or multiple counter units may be provided in any of the above configurations, or may be included in any of the above configurations. In another example, such an ES and / or MS may be included in various parts of an EMC system, and may also protect the electromagnetic and / or magnetic waves of such harmful waves, respectively, where the placement of the ES and / or MS is Is described in the co-pending application. In another example, at least one of the ES and / or MS as well as the counter unit may allow the counter unit to counter at least some of such harmful waves and allow the ES and / or MS to absorb and reroute the remainder of it. It may also be implemented in an EMC system. 6A-6H show schematic perspective views of an exemplary speaker comprising the MS and / or ES and the counter unit according to the invention.

예의 제 1 세트에서, 도 6a의 코일-드라이브 스피커 (22) 및 도 6b의 압전 스피커 (22) 는, 상기 소스 매칭에 따라 스피커들 (22) 의 기본 유닛들의 구성과 유사한 구성을 정의하는 카운터 유닛 (40) 과 함께 포함된다. 도 6a의 카운터 유닛 (40) 은 기본 유닛보다 더 크게 배열되지만, 도 6b의 카운터 유닛 (40) 은 기본 유닛보다 작게 배열된다. 또한, 그러한 카운터 유닛 (40) 은, 그 카운터 유닛 (40) 이 일반적으로 스피커들 (22) 의 기본 유닛들로부터의 유해한 파의 진폭보다 더 큰 진폭의 카운터 파를 방출하도록, 후면 배열로 기본 유닛 아래에 배치된다. MS (또는 ES) 는, 카운터 유닛 (40) 에 의해 적절히 카운터링되지 않은 임의의 잔류 유해한 파가 그 내에 흡수되고 그를 따라 재라우팅되며 그곳에서 종료될 수도 있도록 스피커들 (22) 의 기본 유닛 위에 배치되는 평면형 메시의 형상으로 제공된다. MS (또는 ES) 는, 유해한 파를 카운터링한 이후 남겨진 임의의 잔류 카운터 파를 흡수, 재라우팅, 그 후, 종료시킬 수도 있다. 예들의 또 다른 세트에서, 또한, 도 6c의 코일-드라이브 스피커 (22) 및 도 6d의 압전 스피커는, 파 매칭에 따라 유해한 파의 하나 이상의 파면을 따라 배치된 카운터 유닛들 (40) 과 함께 포함되며, 양자의 카운터 유닛들 (40) 은 기본 유닛보다 더 크게 또는 더 넓게 제조된다. 그러한 카운터 유닛 (40) 은, 그 카운터 유닛 (40) 이 일반적으로 그러한 스피커 (22) 의 기본 유닛에 의한 유해한 파의 진폭보다 작은 진폭을 갖는 카운터 파를 방출하도록, 전면 배열로 스피커 (22) 의 기본 유닛 위에 배치된다. MS (또는 ES) 는, 잔류 유해한 파 및/또는 카운터 파를 흡수, 재라우팅, 및 종료시키기 위해, 환상 실린더의 형상으로 제공되고 스피커 (22) 의 기본 유닛의 적어도 일부를 그 내에 둘러싼다. 도 6a 및 도 6b의 MS (또는 ES) 와 대조적으로, 도 6c 또는 도 6d의 MS (또는 ES) 는 스피커 (22) 에 의해 생성된 가청음의 전파 경로로부터 이격하여 배치되며, 따라서, 그러한 입체적 구성으로 제공될 수도 있다. 예들의 또 다른 세트에서, 도 6e의 코일-드라이브 스피커 (22) 및 도 6f의 압전 스피커 (22) 는, 소스 매칭의 경우와 같이 스피커 (22) 의 기본 유닛의 구성과 유사한 구성을 정의하는 카운터 유닛 (40) 과 함께 포함된다. 도 6e의 카운터 유닛 (40) 은 기본 유닛보다 더 작게 제공되지만, 도 6f의 카운터 유닛은 기본 유닛보다 더 크게 또는 더 넓게 제조된다. 또한, 그러한 카운터 유닛 (40) 은, 그 카운터 유닛 (40) 이 일반적으로 스피커 (22) 의 기본 유닛으로부터의 유해한 파의 진폭보다 더 큰 진폭의 카운터 파를 방출하도록 후면 배열로 기본 유닛 아래에 배치된다. MS (또는 ES) 는, 임의의 잔류 유해한 파 또는 카운터 파가 그 내에 흡수될 수도 있도록 스피커 (22) 의 기본 유닛 주변에 배치된 실린더 메시의 형상으로 제공된다.In a first set of examples, the coil-drive speaker 22 of FIG. 6A and the piezoelectric speaker 22 of FIG. 6B define a counter unit that defines a configuration similar to that of the basic units of the speakers 22 according to the source matching. Included with 40 is. The counter unit 40 of FIG. 6A is arranged larger than the base unit, while the counter unit 40 of FIG. 6B is arranged smaller than the base unit. In addition, such a counter unit 40 is a base unit in a rear arrangement such that the counter unit 40 emits a counter wave of an amplitude that is generally larger than the amplitude of the harmful wave from the base units of the speakers 22. Is placed below. The MS (or ES) is placed above the base unit of the speakers 22 such that any residual harmful waves not properly countered by the counter unit 40 may be absorbed therein, rerouted along and terminate there. In the shape of a planar mesh. The MS (or ES) may absorb, reroute, and then terminate any residual counter waves left after countering harmful waves. In another set of examples, the coil-drive speaker 22 of FIG. 6C and the piezoelectric speaker of FIG. 6D also include counter units 40 disposed along one or more wavefronts of the harmful wave in accordance with wave matching. Both counter units 40 are made larger or wider than the base unit. Such a counter unit 40 is arranged in front of the speaker 22 so that the counter unit 40 emits a counter wave having an amplitude that is generally less than that of the harmful wave by the base unit of such a speaker 22. It is placed on the base unit. The MS (or ES) is provided in the shape of an annular cylinder and surrounds at least a portion of the base unit of the speaker 22 to absorb, reroute, and terminate the residual harmful waves and / or counter waves. In contrast to the MS (or ES) of FIGS. 6A and 6B, the MS (or ES) of FIG. 6C or 6D is arranged spaced apart from the audible propagation path generated by the speaker 22, and thus such a three-dimensional configuration. It may be provided as. In another set of examples, the coil-drive speaker 22 of FIG. 6E and the piezoelectric speaker 22 of FIG. 6F define a counter similar to that of the base unit of the speaker 22 as in the case of source matching. Included with unit 40. The counter unit 40 of FIG. 6E is provided smaller than the base unit, while the counter unit of FIG. 6F is made larger or wider than the base unit. In addition, such counter unit 40 is arranged below the base unit in a rear arrangement such that the counter unit 40 emits a counter wave of an amplitude that is generally greater than the amplitude of the harmful wave from the base unit of the speaker 22. do. The MS (or ES) is provided in the form of a cylinder mesh disposed around the base unit of the speaker 22 so that any residual harmful waves or counter waves may be absorbed therein.

그러한 카운터 유닛의 부피, 사이즈, 및/또는 질량을 최소화하면서 최소량의 그러한 전기적으로 도전성, 반도전성, 및/또는 절연성 재료를 사용하는 동안, 상기 카운터 유닛 중 임의의 카운터 유닛이 제공된다는 것을 인식할 것이다. 따라서, 그러한 카운터 유닛은 더 낮은 비용으로 더 적은 재료에 의해 제조될 수도 있고, EMC 시스템의 다양한 위치에 용이하게 구현될 수도 있다. 또한, 상기 카운터 유닛 중 임의의 카운터 유닛이, 예를 들어, 최소량의 전류 또는 전압을 인출함으로써 최소량의 전기 에너지를 사용하면서 카운터 파를 방출하도록 제공된다는 것을 인식할 것이다. 따라서, 그러한 카운터 유닛은 에너지-효율적일 뿐만 아니라 EMC 시스템의 다른 부분의 동작 및 그 시스템의 의도된 기능에 최소의 영향을 준다. 또한, 이러한 파라그래프의 요건은 카운터 유닛의 전기 저항을 최소화시 킬 수도 있으며, 따라서, 카운터 유닛에 걸친 전압 강하를 최소화한다.It will be appreciated that while using a minimum amount of such electrically conductive, semiconductive, and / or insulating material while minimizing the volume, size, and / or mass of such counter units, any of the counter units will be provided. . Thus, such counter units may be manufactured with less material at lower cost and may be readily implemented at various locations in the EMC system. It will also be appreciated that any of the counter units is provided to emit a counter wave while using a minimum amount of electrical energy, for example by drawing a minimum amount of current or voltage. Thus, such a counter unit is not only energy-efficient but also has a minimal impact on the operation of other parts of the EMC system and its intended function. In addition, the requirements of such paragraphs may minimize the electrical resistance of the counter unit, thus minimizing the voltage drop across the counter unit.

달리 특정되지 않는다면, 본 발명의 일 양태의 일 실시형태의 다양한 특성은, 본 발명의 동일한 양태의 다른 실시형태 및/또는 본 발명의 다른 양태의 하나 이상의 실시형태에 상호교환가능하게 적용될 수도 있다. 따라서, 도 1a 내지 도 1f 및 도 2a 내지 도 2f의 카운터 유닛 중 임의의 카운터 유닛은, 도 3a 내지 도 3i의 다양한 EMC 스피커 시스템, 도 4a 내지 도 4f의 다양한 EMC 모터 시스템, 도 5a 내지 도 5h의 다양한 가열 유닛, 및 임의의 첨부한 도면없이 여기에 개시된 다른 EMC 시스템에 구현될 수도 있다. 또한, EMC 스피커 시스템을 위한 그러한 카운터 유닛은 본 발명의 다른 EMC 시스템에 포함될 수도 있고, EMC 모터 시스템을 위한 카운터 유닛은 본 발명의 다른 EMC 시스템에 포함될 수도 있고, EMC 가열 유닛을 위한 카운터 유닛은 본 발명의 다른 EMC 시스템에 적용될 수도 있다. 또한, 소스 매칭에 관해 동작하는 카운터 유닛 중 임의의 카운터 유닛은 파 매칭에 관해 동작하도록 변환될 수도 있거나, 그 역도 가능하며, 여기서, 그 후, 소스-매칭된 카운터 유닛은 기본 유닛으로부터의 유해한 파의 하나 이상의 파면을 따라 배치될 수도 있거나, 파-매칭된 카운터 유닛은 기본 유닛에 관한 미리 설정된 관계로 배치되거나 기본 유닛의 배열과 유사한 배열로 포함될 수도 있다. 또한, 도 6a 내지 도 6f에서 예시되고 공동-계류중인 출원에 개시된 임의의 ES 및/또는 MS는 도 1a 내지 도 5h에서 개시된 임의의 카운터 유닛에 포함될 수도 있다.Unless otherwise specified, various features of one embodiment of one aspect of the present invention may be interchangeably applied to other embodiments of the same aspect of the present invention and / or one or more embodiments of other aspects of the present invention. Accordingly, any of the counter units of FIGS. 1A-1F and 2A-2F may include various EMC speaker systems of FIGS. 3A-3I, various EMC motor systems of FIGS. 4A-4F, and FIGS. 5A-5H. Of various heating units, and other EMC systems disclosed herein without any accompanying drawings. Also, such counter units for EMC speaker systems may be included in other EMC systems of the present invention, counter units for EMC motor systems may be included in other EMC systems of the present invention, and counter units for EMC heating units may be included in the present invention. It may be applied to other EMC systems of the invention. In addition, any of the counter units operating with respect to source matching may be converted to operate with respect to wave matching, or vice versa, where the source-matched counter unit is then harmful from the base unit. The wave-matched counter units may be disposed in a preset relationship with respect to the base unit or may be included in an arrangement similar to the arrangement of the base unit. In addition, any ES and / or MS disclosed in the co-pending applications illustrated in FIGS. 6A-6F may be included in any counter unit disclosed in FIGS. 1A-5H.

본 발명의 다양한 EMC 시스템은, 그 시스템의 카운터 유닛으로 유해한 EM 파를 카운터링하는 동안, AC 전력을 통해 동작할 수도 있다. 바람직한 경우, 또 한, 그러한 EMC 시스템은, 유해한 파를 유사하게 카운터링하면서 DC 전력을 통해 동작할 수도 있다. 또한, 시스템이 그러한 유해한 파에 대한 보호 및/또는 그 유해한 파를 소거할 수 있는 임의의 종래 양식을 사용할 수도 있다는 것을 이해할 것이다. 따라서, 유해한 파의 조사를 최소화하기 위해, EMC 시스템의 임의의 여분의 와이어, 스트립, 판, 시트, 및 다른 부분이 편조, 번들링, 동심적으로 제조 또는 처리될 수도 있는 것이 바람직하다.The various EMC systems of the present invention may operate on AC power while countering harmful EM waves with the counter unit of the system. If desired, such an EMC system may also operate over DC power while similarly countering harmful waves. It will also be appreciated that the system may use any conventional modality that can protect against and / or eliminate such harmful waves. Accordingly, it is desirable that any extra wires, strips, plates, sheets, and other portions of the EMC system may be braided, bundled, concentrically manufactured or processed to minimize the irradiation of harmful waves.

본 발명의 다양한 양태 및/또는 실시형태가 본 발명의 상세한 설명과 함께 설명되었지만, 전술한 설명이, 첨부된 청구항의 범위에 의해 정의된 본 발명의 범위를 제한하는 것이 아니라 예시하도록 의도된다는 것을 이해할 것이다. 다른 실시형태, 양태, 이점 및 변형이 또한 다음의 청구항의 범위내에 존재한다.While various aspects and / or embodiments of the invention have been described in conjunction with the detailed description of the invention, it is to be understood that the foregoing description is intended to illustrate, but not to limit the scope of the invention as defined by the appended claims. will be. Other embodiments, aspects, advantages, and modifications also fall within the scope of the following claims.

Claims (20)

타겟 공간에서 유해한 전자기파를 소거하는 것 및 상기 유해한 전자기파가 상기 타겟 공간으로 전파하는 것을 억제하는 것 중 적어도 하나에 의하여, 조사된 상기 유해한 전자기파를 카운터링 (counter) 할 수 있는 시스템으로서, A system capable of countering an irradiated electromagnetic wave irradiated by at least one of eliminating harmful electromagnetic waves in a target space and suppressing propagation of the harmful electromagnetic waves to the target space, 상기 유해한 전자기파는 약 1kHz 미만인 주파수를 갖고, 상기 타겟 공간은 상기 시스템과 상기 시스템의 사용자 사이에 정의되며, 상기 시스템은,The harmful electromagnetic wave has a frequency less than about 1 kHz, the target space is defined between the system and the user of the system, 적어도 하나의 기본 유닛을 포함하도록 구성된 적어도 하나의 파원 (wave source) 으로서, 상기 기본 유닛은, 상기 기본 유닛에 의해 상기 유해한 전자기파를 조사하는 것 및 상기 기본 유닛을 통한 상기 유해한 전자기파의 전파 경로에 영향을 주는 것 중 적어도 하나의 원인이 되는 상기 파원의 부분만을 포함하도록 구성되고, 상기 기본 유닛은, 상기 기본 유닛내에 전류가 흐를 경우 및 상기 기본 유닛 양단에 전압이 인가될 경우 중 적어도 하나의 경우에 상기 유해한 전자기파를 조사하도록 구성되는, 상기 적어도 하나의 파원; 및At least one wave source configured to include at least one base unit, the base unit irradiating the harmful electromagnetic wave by the base unit and affecting a propagation path of the harmful electromagnetic wave through the base unit; It is configured to include only the portion of the wave source that causes at least one of giving a, wherein the base unit, at least one of when the current flows in the base unit and when a voltage is applied across the base unit The at least one wave source configured to irradiate the harmful electromagnetic wave; And 상기 기본 유닛의 구성과 유사한 구성을 정의하고, 상기 유해한 전자기파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하는 카운터 전자기파를 방출하기 위한 방식으로 전류 및 전압 중 적어도 하나를 공급받도록 구성된 적어도 하나의 카운터 유닛으로서, 상기 카운터 전자기파는, 상기 구성으로 인해 상기 유해한 전자기파의 파 특성과 상기 카운터 전자기파의 파 특성을 매칭시키고, 따라서, 상기 타겟 공간에서 상기 파 특성 및 상기 위상각으로 인해 상기 유해한 전자기파를 카운터링하도록, 또한, 구성되는, 상기 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함하는, 유해한 전자기파 카운터링 시스템.At least one counter configured to receive a configuration similar to that of the base unit and to receive at least one of a current and a voltage in such a manner as to emit a counter electromagnetic wave that defines a phase angle that is at least partially opposite the phase angle of the harmful electromagnetic wave As a unit, the counter electromagnetic waves match wave characteristics of the harmful electromagnetic waves with the counter characteristics of the counter electromagnetic waves due to the configuration, and thus counter the harmful electromagnetic waves due to the wave characteristics and the phase angle in the target space. And further comprising the at least one counter unit. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 파원은, 정전형 스피커, 콘-드라이브 (cone-drive) 스피커, 및 압전 스피커 중 하나의 스피커이며,The wave source is a speaker of one of a capacitive speaker, a cone-drive speaker, and a piezoelectric speaker, 상기 정전형 스피커의 상기 기본 유닛은, 적어도 하나의 진동가능한 진동판, 및 상기 진동판의 반대측상에 배치되는 적어도 2개의 전기 그리드이고,The basic unit of the electrostatic speaker is at least one vibrable diaphragm and at least two electrical grids disposed on opposite sides of the diaphragm, 상기 콘-드라이브 스피커의 상기 기본 유닛은, 적어도 하나의 음성 코일 및 상기 음성 코일에 자기적으로 커플링된 적어도 하나의 영구 자석이며,The basic unit of the cone-drive speaker is at least one voice coil and at least one permanent magnet magnetically coupled to the voice coil, 상기 압전 스피커의 상기 기본 유닛은, 적어도 하나의 압전판 및 상기 압전판의 반대측에 커플링된 적어도 2개의 전극을 포함하는, 유해한 전자기파 카운터링 시스템.And said base unit of said piezoelectric speaker comprises at least one piezoelectric plate and at least two electrodes coupled to opposite sides of said piezoelectric plate. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 시스템은, 유선 전화기, 무선 전화기, 이어폰, 헤드폰, 및 상기 스피커들 중 적어도 하나 및 적어도 하나의 마이크로폰을 포함한 어셈블리 중 하나인, 유해한 전자기파 카운터링 시스템.And the system is one of an assembly comprising a landline telephone, a cordless telephone, earphones, headphones, and at least one and at least one microphone of the speakers. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 파원은, DC 모터, 유니버셜 모터, AC 동기형 모터, AC 유도형 모터, 및 선형 모터 중 하나의 모터이며, 상기 모터들의 각각은 적어도 하나의 회전자 및 고정자를 갖고, The wave source is a motor of one of a DC motor, a universal motor, an AC synchronous motor, an AC induction motor, and a linear motor, each of the motors having at least one rotor and stator, 상기 DC 모터의 상기 기본 유닛은 상기 DC 모터의 고정자의 적어도 하나의 영구 자석 및 상기 DC 모터의 회전자의 적어도 하나의 전자석을 포함하고, 상기 유니버셜 모터의 상기 기본 유닛은 상기 유니버셜 모터의 고정자를 위한 적어도 하나의 전자석 및 상기 유니버셜 모터의 회전자를 위한 적어도 하나의 전자석을 포함하고, 상기 AC 동기형 모터의 상기 기본 유닛은 상기 AC 동기형 모터의 고정자를 위한 적어도 하나의 전자석 및 상기 AC 동기형 모터의 회전자를 위한 적어도 하나의 영구 자석을 포함하고, 상기 AC 유도형 모터의 상기 기본 유닛은 상기 AC 유도형 모터의 고정자를 위한 적어도 하나의 전자석 및 상기 AC 유도형 모터의 회전자를 위한 적어도 하나의 전기 도전체를 포함하며, 상기 선형 모터의 상기 기본 유닛은 상기 선형 모터의 고정자를 위한 적어도 하나의 전자석 및 상기 선형 모터의 회전자를 위한 적어도 하나의 영구 자석을 포함하는, 유해한 전자기파 카운터링 시스템.The basic unit of the DC motor includes at least one permanent magnet of the stator of the DC motor and at least one electromagnet of the rotor of the DC motor, wherein the basic unit of the universal motor is configured for the stator of the universal motor. At least one electromagnet and at least one electromagnet for the rotor of the universal motor, wherein the basic unit of the AC synchronous motor comprises at least one electromagnet for the stator of the AC synchronous motor and the AC synchronous motor And at least one permanent magnet for the rotor of the at least one electromagnet for the stator of the AC induction motor and at least one for the rotor of the AC induction motor. An electrical conductor of said linear motor, said basic unit of said linear motor being positioned above said stator of said linear motor. At least one electromagnet and at least, harmful electromagnetic counter ring system including a single permanent magnet for the rotor of the linear motor. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 시스템은, 헤어 드라이어, 전기 칫솔, 전기 면도기, 식기 세척기, 세탁기, 건조기, 마이크로파 오븐, 진공 청소기, 캔 오프너, 및 전기 모터화된 도구 중 하나인, 유해한 전자기파 카운터링 시스템The system is a harmful electromagnetic wave countering system, which is one of a hair dryer, electric toothbrush, electric shaver, dishwasher, washing machine, dryer, microwave oven, vacuum cleaner, can opener, and electric motorized tool. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 파원은 가열 엘리먼트이며,The wave source is a heating element, 상기 파원의 상기 기본 유닛은 직선형 저항성 와이어 및 코일형 저항성 와이어 중 적어도 하나인, 유해한 전자기파 카운터링 시스템.And the base unit of the wave source is at least one of a straight resistive wire and a coiled resistive wire. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 시스템은, 헤어 드라이어, 헤어 컬러 (curler), 헤어 셋팅기, 열 건 (heat gun), 전기 담요, 전기 매트리스, 전기 가열 패드, 전기 그릴, 전기 오븐, 전기 레인지, 및 전기 토스터 오븐 중 하나인, 유해한 전자기파 카운터링 시스템.The system is one of a hair dryer, hair curler, hair setter, heat gun, electric blanket, electric mattress, electric heating pad, electric grill, electric oven, electric range, and electric toaster oven, Harmful electromagnetic wave countering system. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 구성은, 형상, 사이즈, 및 배열 중 적어도 하나이도록 구성되며,The configuration is configured to be at least one of shape, size, and arrangement, 상기 카운터 유닛은, 각각, 상기 기본 유닛의 상기 형상, 사이즈, 및 배열 중 적어도 하나와 유사한, 상기 형상, 사이즈, 및 배열 중 적어도 하나를 정의하도록 구성되는, 유해한 전자기파 카운터링 시스템.And the counter unit is configured to define at least one of the shape, size, and arrangement, each similar to at least one of the shape, size, and arrangement of the base unit. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 카운터 유닛은, 상기 기본 유닛의 상기 구성을 단순화시킨 유사물 (analog) 이도록 구성되는, 유해한 전자기파 카운터링 시스템.The counter unit is configured to be an analog that simplifies the configuration of the base unit. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 카운터 유닛은, 상기 기본 유닛의 상기 구성에 대한 세부사항 (detail) 을 제공하는 유사물을 정의하도록 구성되는, 유해한 전자기파 카운터링 시스템.The counter unit is configured to define an analog that provides details about the configuration of the base unit. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 시스템은, 복수의 상기 카운터 유닛들을 포함하도록 구성되며,The system is configured to include a plurality of the counter units, 상기 복수의 카운터 유닛 중 적어도 2개의 카운터 유닛은, 상기 기본 유닛의 상기 구성과 유사하게 정의되는 배열로 배치되도록 구성되는, 유해한 전자기파 카운터링 시스템.At least two counter units of the plurality of counter units are configured to be arranged in an arrangement defined similarly to the configuration of the base unit. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 카운터 유닛은, 상기 기본 유닛과 상기 타겟 공간 사이에 배치되고, 그 후, 상기 소거 및 억제 중 적어도 하나를 위해 상기 유해한 전자기파의 진폭보다 작은 진폭을 정의한 상기 카운터 전자기파를 방출하도록 구성되는, 유해한 전자기파 카운터링 시스템.The counter unit is disposed between the base unit and the target space, and is then configured to emit the counter electromagnetic wave that defines an amplitude less than the amplitude of the harmful electromagnetic wave for at least one of the cancellation and suppression. Countering system. 제 12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 유해한 전자기파는 상기 기본 유닛 주변에 복수의 파면 (wavefront) 들을 정의하며,The harmful electromagnetic waves define a plurality of wavefronts around the base unit, 상기 카운터 유닛은, 상기 기본 유닛의 길이보다 크도록 구성되는 길이를 따른 상기 파면들 중 적어도 하나의 파면을 따라 연장되도록 구성되는, 유해한 전자기파 카운터링 시스템.The counter unit is configured to extend along a wavefront of at least one of the wavefronts along a length configured to be greater than the length of the base unit. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 카운터 유닛은, 상기 기본 유닛에 관해 상기 타겟 공간의 반대측상에 배치되고, 그 후, 상기 소거 및 억제 중 적어도 하나를 위해 상기 유해한 전자기파의 진폭보다 큰 진폭을 정의하는 상기 카운터 전자기파를 방출하도록 구성되는, 유해한 전자기파 카운터링 시스템.The counter unit is arranged on the opposite side of the target space with respect to the base unit, and is then configured to emit the counter electromagnetic wave that defines an amplitude greater than the amplitude of the harmful electromagnetic wave for at least one of the cancellation and suppression. , Harmful electromagnetic wave countering system. 제 14 항에 있어서,The method of claim 14, 상기 카운터 유닛은 상기 기본 유닛의 길이보다 작도록 구성된 길이를 따라 연장되도록 구성되는, 유해한 전자기파 카운터링 시스템.And the counter unit is configured to extend along a length configured to be less than the length of the base unit. 타겟 공간에서 유해한 전자기파를 소거하는 것 및 상기 유해한 전자기파가 상기 타겟 공간으로 전파하는 것을 억제하는 것 중 적어도 하나에 의하여, 조사된 상기 유해한 전자기파를 카운터링할 수 있는 시스템으로서, A system capable of countering an irradiated electromagnetic wave irradiated by at least one of eliminating harmful electromagnetic waves in a target space and suppressing propagation of the harmful electromagnetic waves to the target space, 상기 유해한 전자기파는 약 1kHz 미만인 주파수를 갖고, 상기 타겟 공간은 상기 시스템과 상기 시스템의 사용자 사이에 정의되며, 상기 시스템은,The harmful electromagnetic wave has a frequency less than about 1 kHz, the target space is defined between the system and the user of the system, 적어도 하나의 기본 유닛을 포함하도록 구성된 적어도 하나의 파원으로서, 상기 기본 유닛은, 상기 기본 유닛에 의한 상기 유해한 전자기파를 조사하는 것 및 상기 기본 유닛을 통한 상기 유해한 전자기파의 전파 경로에 영향을 주는 것 중 적어도 하나의 원인이 되는 상기 파원의 부분만을 포함하도록 구성되고, 상기 기본 유닛은, 상기 기본 유닛내에 전류가 흐를 경우 및 상기 기본 유닛 양단에 전압이 인가될 경우 중 적어도 하나의 경우에 상기 유해한 전자기파를 조사하도록 구성되는, 상기 적어도 하나의 파원; 및At least one wave source configured to include at least one base unit, wherein the base unit is one of: irradiating the harmful electromagnetic wave by the base unit and affecting a propagation path of the harmful electromagnetic wave through the base unit; Configured to include only a portion of the wave source that causes at least one cause, wherein the base unit is configured to receive the harmful electromagnetic wave in at least one of when current flows in the base unit and when a voltage is applied across the base unit. The at least one wave source configured to irradiate; And 상기 기본 유닛의 구성과 상이한 구성을 정의하고, 미리 설정된 배열로 포함되며, 상기 유해한 전자기파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 정의하는 카운터 전자기파를 방출하기 위한 방식으로 전류 및 전압 중 적어도 하나를 공급받도록 구성된 적어도 하나의 카운터 유닛으로서, 상기 카운터 전자기파는, 상기 배열로 인해 상기 유해한 전자기파의 파 특성과 상기 카운터 전자기파의 파 특성을 매칭시키고, 따라서, 상기 타겟 공간에서 상기 파 특성 및 상기 위상각으로 인해 상기 유해한 전자기파를 카운터링하도록, 또한, 구성되는, 상기 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함하는, 유해한 전자기파 카운터링 시스템.Define at least one of current and voltage in a manner to define a configuration different from that of the base unit, and to emit a counter electromagnetic wave that is included in a preset arrangement and that defines a phase angle that is at least partially opposite to the phase angle of the harmful electromagnetic wave. At least one counter unit configured to be supplied, wherein the counter electromagnetic waves match the wave characteristics of the harmful electromagnetic waves with the wave characteristics of the counter electromagnetic waves due to the arrangement, and thus, at the wave characteristics and the phase angle in the target space. And the at least one counter unit, further configured to counter the harmful electromagnetic waves. 타겟 공간에서 유해한 전자기파를 소거하는 것 및 상기 유해한 전자기파가 상기 타겟 공간으로 전파하는 것을 억제하는 것 중 적어도 하나에 의하여, 조사된 상기 유해한 전자기파를 카운터링할 수 있는 시스템으로서, A system capable of countering an irradiated electromagnetic wave irradiated by at least one of eliminating harmful electromagnetic waves in a target space and suppressing propagation of the harmful electromagnetic waves to the target space, 상기 유해한 전자기파는 약 1kHz 미만인 주파수를 갖고, 상기 타겟 공간은 상기 시스템과 상기 시스템의 사용자 사이에 정의되며, 상기 시스템은,The harmful electromagnetic wave has a frequency less than about 1 kHz, the target space is defined between the system and the user of the system, 적어도 하나의 기본 유닛을 포함하도록 구성된 적어도 하나의 파원으로서, 상기 기본 유닛은, 상기 기본 유닛에 의해 상기 유해한 전자기파를 조사하는 것 및 상기 기본 유닛을 통한 상기 유해한 전자기파의 전파 경로에 영향을 주는 것 중 적어도 하나의 원인이 되는 상기 파원의 부분만을 포함하도록 구성되고, 상기 기본 유닛은, 상기 기본 유닛내에 전류가 흐를 경우 및 상기 기본 유닛 양단에 전압이 인가될 경우 중 적어도 하나의 경우에 상기 유해한 전자기파를 조사하도록 구성되며, 상기 유해한 전자기파는, 상기 기본 유닛 주변에 복수의 파면들을 정의하면서 상기 타겟 공간을 향해 전파하도록 구성되는, 상기 적어도 하나의 파원; 및At least one wave source configured to include at least one base unit, wherein the base unit is one of: irradiating the harmful electromagnetic wave by the base unit and affecting a propagation path of the harmful electromagnetic wave through the base unit; Configured to include only a portion of the wave source that causes at least one cause, wherein the base unit is configured to receive the harmful electromagnetic wave in at least one of when current flows in the base unit and when a voltage is applied across the base unit. The harmful electromagnetic wave, the at least one wave source configured to propagate toward the target space while defining a plurality of wavefronts around the base unit; And 상기 파면들 중 적어도 하나의 파면을 따라 정의된 배열로 배치되고, 상기 유해한 전자기파의 위상각과 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖는 카운터 전자기파를 방출하기 위한 방식으로 전류 및 전압 중 적어도 하나를 공급받도록 구성된 적어도 하나의 카운터 유닛으로서, 상기 카운터 전자기파는, 상기 배열로 인해 상기 카운터 유닛 주변에 또 다른 복수의 파면들을 정의하면서 상기 타겟 공간으로 전파하고, 따라서, 상기 타겟 공간에서 상기 배열 및 상기 위상각으로 인해 상기 유해한 전자기파를 카운터링하도록 구성되는, 상기 적어도 하나의 카운터 유닛을 포함하는, 유해한 전자기파 카운터링 시스템.Arranged in an array along a wavefront of at least one of the wavefronts and configured to receive at least one of a current and a voltage in a manner to emit a counter electromagnetic wave having a phase angle at least partially opposite to the phase angle of the harmful electromagnetic wave At least one counter unit, wherein the counter electromagnetic waves propagate into the target space defining another plurality of wavefronts around the counter unit due to the arrangement, and thus, due to the arrangement and the phase angle in the target space. And the at least one counter unit, configured to counter the harmful electromagnetic waves. 제 17 항에 있어서,The method of claim 17, 상기 기본 유닛보다 상기 타겟 공간에 더 근접하게 배치되는 경우 상기 기본 유닛의 길이보다 큰 길이를 따라 연장하도록 상기 카운터 유닛이 구성되고, 상기 기본 유닛보다 상기 타겟 공간으로부터 더 이격하여 배치되는 경우 상기 기본 유닛의 길이보다 작은 또 다른 길이를 따라 연장하도록 상기 카운터 유닛이 구성되기 위해, 상기 카운터 유닛은 상기 기본 유닛 및 상기 타겟 공간 중 적어도 하나로부터 미리 설정된 거리에 포함되는, 유해한 전자기파 카운터링 시스템.The counter unit is configured to extend along a length greater than the length of the base unit when disposed closer to the target space than the base unit, and the base unit when disposed further away from the target space than the base unit. And the counter unit is included at a predetermined distance from at least one of the base unit and the target space so that the counter unit is configured to extend along another length less than the length of the counter. 제 17 항에 있어서,The method of claim 17, 상기 시스템은 복수의 상기 카운터 유닛들을 갖도록 구성되며,The system is configured to have a plurality of the counter units, 상기 복수의 카운터 유닛들 중 적어도 2개의 카운터 유닛은, 상기 소거 및 상기 억제 중 적어도 하나를 위해 상기 배열로 배치되도록 구성되는, 유해한 전자기파 카운터링 시스템.At least two counter units of the plurality of counter units are configured to be arranged in the arrangement for at least one of the erase and the suppression. 제 17 항에 있어서,The method of claim 17, 상기 시스템은 복수의 상기 카운터 유닛을 갖도록 구성되며,The system is configured to have a plurality of the counter units, 상기 파면들 각각은 곡률 반경을 정의하도록 구성되고, 상기 카운터 유닛들 중 적어도 2개의 카운터 유닛은, 상기 카운터 유닛들 중 적어도 2개의 카운터 유닛이 상기 카운터 전자기파의 곡률 반경을 증가시키기 위해 동일한 위상각을 갖는 카운터 전자기파를 방출하고, 상기 카운터 유닛들 중 적어도 2개의 카운터 유닛이 상기 카운터 전자기파의 곡률 반경을 감소시키기 위해 적어도 부분적으로 반대인 위상각을 갖는 카운터 전자기파를 방출하기 위한 방식으로, 상기 카운터 전자기파의 상기 위상각을 조작하도록 구성되는, 유해한 전자기파 카운터링 시스템.Each of the wavefronts is configured to define a radius of curvature, wherein at least two of the counter units have the same phase angle so that at least two of the counter units increase the radius of curvature of the counter electromagnetic waves. To emit counter electromagnetic waves, wherein at least two of the counter units emit counter electromagnetic waves having at least partially opposite phase angles to reduce the radius of curvature of the counter electromagnetic waves. A harmful electromagnetic wave countering system, configured to manipulate the phase angle.
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