KR20090012921A - 광투과율이 우수한 전자기파 차폐 필름, 및 이를 구비한직부착 필름 필터와 플라즈마 디스플레이 모듈 - Google Patents

광투과율이 우수한 전자기파 차폐 필름, 및 이를 구비한직부착 필름 필터와 플라즈마 디스플레이 모듈 Download PDF

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송정석
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Abstract

전자기파 차폐 필름, 및 이를 구비한 직부착 필름 필터와 플라즈마 디스플레이 모듈이 개시된다. 개시된 전자기파 차폐 필름은 복수개의 메쉬선들(mesh lines) 및 상기 메쉬선들과 함께 그물망 형태의 도전성 메쉬층(mesh layer)을 이루는 것으로, 상기 메쉬선들 각각을 상호 연결하는 메쉬 연결부들(mesh connections);을 구비하고, 상기 메쉬 연결부들 각각에는 적어도 하나의 관통홀이 형성된 것을 특징으로 한다.
따라서, 개시된 전자기파 차폐 필름, 및 이를 구비한 직부착 필름 필터와 플라즈마 디스플레이 모듈은 광투과율이 우수하여 휘도를 향상시킬 수 있다.

Description

광투과율이 우수한 전자기파 차폐 필름, 및 이를 구비한 직부착 필름 필터와 플라즈마 디스플레이 모듈{An electromagnetic wave shielding film having a high light transmissivity, and a film filter and a plasma display module having the same}
본 발명은 전자기파 차폐 필름, 및 이를 구비한 직부착 필름 필터와 플라즈마 디스플레이 모듈에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 광투과율이 우수한 전자기파 차폐 필름, 및 이를 구비한 직부착 필름 필터와 플라즈마 디스플레이 모듈에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 패널은 기존의 디스플레이 패널을 대표하는 음극선관(CRT)에 비해 대형화 및 박형화를 동시에 만족할 수 있어 차세대 디스플레이 패널로서 각광받고 있다.
플라즈마 디스플레이 패널은 구동시 강한 전자기파를 발생하게 되며, 이러한 전자기파는 인체에 유해할 뿐만 아니라 주변 전자기기의 오작동을 유발할 수 있기 때문에 이를 법정 기준치 이하로 조절하는 것이 요구되고 있다. 이 때문에, 플라즈마 디스플레이 패널에는 전자기파를 차폐하는 필름이 구비된다.
종래의 전자기파 차폐 필름은 금속 메쉬(mesh) 타입과 투명도전막 타입으로 구분되는데, 메쉬 타입의 전자기파 차폐 필름은 전자기파를 차폐하는데 있어서는 우수한 특성을 나타내지만 광투과율이 저하되어 이를 장착한 플라즈마 디스플레이 패널의 휘도를 저하시키는 문제점이 있다.
이러한 전자기파 차폐 필름은 플라즈마 디스플레이 패널에 단독으로 사용되기 보다는 반사방지필름, 오렌지광 차단 필름, 및/또는 근적외선 차단 필름과 함께 필름 필터 형태로 사용되는 것이 일반적이다.
본 발명은 광투과율이 우수한 전자기파 차폐 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 다른 목적은 광투과율이 우수한 직부착 필름 필터를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 휘도 특성이 향상된 플라즈마 디스플레이 모듈을 제공하는 것이다.
상기와 같은 과제를 해결하기 위하여 본 발명은,
복수개의 메쉬선들(mesh lines); 및
상기 메쉬선들과 함께 그물망 형태의 도전성 메쉬층(mesh layer)을 이루는 것으로, 상기 메쉬선들 각각을 상호 연결하는 메쉬 연결부들(mesh connections);을 구비하고,
상기 메쉬 연결부들 각각에는 적어도 하나의 관통홀이 형성된 전자기파 차폐 필름을 제공한다.
본 발명의 한 실시예에 따르면, 상기 도전성 메쉬층을 이루는 단위 메쉬는 마름모 형태이다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 관통홀은 원형, 타원형, 또는 사각형이다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 상기 도전성 메쉬층은 금속, 금속 산화물, 및 도전성 폴리머로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종을 함유한다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 상기 금속은 팔라듐(Palladium), 구리, 백금, 로듐(Rhodium), 알루미늄(Aluminium), 철, 코발트(Cobalt), 니켈(Nickel), 아연, 루테늄(Ruthenium), 주석, 텅스텐(Tungsten), 이리듐(Iridium), 납, 은(Ag)으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종이다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 상기 금속 산화물은 산화 주석, 산화 인듐, 산화 안티몬, 산화 아연, 산화 지르코늄, 산화 티탄, 산화 마그네슘, 산화 규소, 산화 알루미늄, 금속 알콕사이드, ITO(Indium Tin Oxide), ATO(Antimony Tin Oxide)로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종이다.
또한 상기와 같은 과제를 해결하기 위하여 본 발명은,
상기 실시예들에 따른 전자기파 차폐 필름을 구비하는 플라즈마 디스플레 모듈을 제공한다.
또한 상기와 같은 과제를 해결하기 위하여 본 발명은,
제1 베이스필름;
상기 제1 베이스필름상에 배치되는 도전성 메쉬층;
상기 제1 베이스필름상에 상기 도전성 메쉬층을 덮도록 배치되는 제1점착층;
상기 제1점착층상에 배치되는 제2 베이스필름; 및
상기 제2 베이스필름상에 배치되는 반사방지층;을 구비하고,
상기 도전성 메쉬층은 복수개의 메쉬선들(mesh lines), 및 상기 메쉬선들과 함께 그물망 형태의 도전성 메쉬층(mesh layer)을 이루는 것으로 상기 메쉬선들 각각을 상호 연결하며 각각에 적어도 하나의 관통홀이 형성된 메쉬 연결부들(mesh connections)을 구비하는 직부착 필름 필터를 제공한다.
본 발명의 한 실시예에 따르면, 상기 제1점착층과 상기 제2 베이스필름 사이에는 근적외선/네온광 차단층이 더 배치된다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 제1 베이스필름의 상기 도전성 메쉬층이 배치된 면과 반대쪽에 있는 면에는 제2점착층이 더 배치된다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 상기 반사방지층상에는 내스크래치성의 하드코팅층이 더 배치된다.
본 발명에 의하면, 광투과율이 우수한 전자기파 차폐 필름이 제공될 수 있다.
또한 본 발명에 의하면, 광투과율이 우수한 직부착 필름 필터가 제공될 수 있다.
또한 본 발명에 의하면, 휘도 특성이 향상된 플라즈마 디스플레이 모듈이 제공될 수 있다.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 관하여 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 전자기파 차폐 필름에서 도전성 메쉬층만을 발췌하여 도시한 평면도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명에 한 실시예에 따른 전자기파 차폐 필름은 도전성 메쉬층(2)을 구비한다. 이러한 도전성 메쉬층(2)은 플라즈마 디스플레이 모듈에서 발생되는 인체에 유해한 전자기파의 차폐를 위해 사용된다.
도전성 메쉬층(2)은 복수개의 단위 메쉬(A)가 모여 이루어진 그물망 형태를 갖는다. 단위 메쉬(A)는 메쉬선(2a)과 메쉬 연결부(2b)로 구성된다. 구체적으로, 단위 메쉬(A)는 메쉬선(2a)과 메쉬 연결부(2b)가 교대로 연결되어 이루어진 폐곡선 형태이다. 본 실시예에서, 단위 메쉬(A)는 4개의 메쉬선들(2a)과 이들 4개의 메쉬선들(2a) 사이 마다에 각각 배치된 4개의 메쉬 연결부들(2b)을 포함하는 마름모 형태를 갖는다. 그러나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 이러한 단위 메쉬(A)는 삼각형, 오각형, 육각형, 또는 팔각형 등 다른 다양한 형태를 갖도록 구성될 수 있다. 단위 메쉬(A)는 장단축의 폭이 각각 약 10~15㎛이고, 두께가 약 10㎛이다.
본 실시예에서 도전성 메쉬층(2)은 에칭 공법에 의하여 제조되고, 이에 따라 단위 메쉬(A)를 상기와 같이 마름모 형태로 제조하게 되면, 메쉬선들(2a)이 교차하는 지점에 가로×세로가 약 2㎛×2㎛인 사각형 형태의 메쉬 연결부(2b)가 형성되게 된다. 따라서, 메쉬 연결부(2b)에 후술하는 관통홀(2c)을 형성하지 않으면, 도전성 메쉬층(2)을 포함하는 전자기파 차폐 필름이 플라즈마 디스플레이 모듈에 장착되고, 이러한 플라즈마 디스플레이 모듈이 작동되어 유지방전을 일으킬 경우, 상기 사각형 형태의 메쉬 연결부(2b)가 방전공간 내부의 형광체층에서 방출되는 가시광을 차단함으로써 플라즈마 디스플레이 모듈의 휘도를 감소시키게 된다.
이와 같은 휘도 감소 현상을 방지하기 위하여, 본 실시예에서는 메쉬 연결부(2b)에 적어도 하나의 관통홀(2c)을 형성한다. 본 실시예에서, 도전성 메쉬층(2)은, 먼저 구리 등의 기판(미도시) 위에 감광성 필름(미도시)을 도포하고, 이후 노광과 현상의 공정을 거쳐 패턴을 형성하며, 마지막으로 상기 패턴을 따라 에칭을 함으로써 완성된다. 또한, 관통홀(2c)은 상기와 같이 기판 상에 패턴을 형성할 때 해당 부분에 관통홀 패턴을 추가하고 에칭을 함으로써 완성된다. 이러한 관통홀(2c)은 원형, 타원형, 또는 사각형으로 형성될 수도 있고, 오각형 또는 육각형 등 다른 다양한 형태로 형성될 수도 있다.
이러한 도전성 메쉬층(2)은 상술한 에칭 공법 외에, 스퍼터링(sputtering)법, 진공증착법, 이온도금법, 화학기상증착법(CVD), 물리기상증착법(PVD), 또는 금속이나 금속산화물의 미립자 도포 방법 등에 의해 형성될 수 있다.
도전성 메쉬층(2)은 금속, 금속 산화물, 도전성 폴리머, 또는 이들의 혼합물을 함유할 수 있다. 즉, 도전성 메쉬층(2)은 금속, 금속 산화물, 도전성 폴리머, 또는 이들의 혼합물로 형성된 기판을 이용하여 제조될 수 있다. 여기서, 금속은 팔라듐(Palladium), 구리, 백금, 로듐(Rhodium), 알루미늄(Aluminium), 철, 코발트(Cobalt), 니켈(Nickel), 아연, 루테늄(Ruthenium), 주석, 텅스텐(Tungsten), 이리듐(Iridium), 납, 은(Ag), 또는 이들의 혼합물일 수 있다. 또한 여기서, 금속 산화물은 산화 주석, 산화 인듐, 산화 안티몬, 산화 아연, 산화 지르코늄, 산화 티탄, 산화 마그네슘, 산화 규소, 산화 알루미늄, 금속 알콕사이드, ITO(Indium Tin Oxide), ATO(Antimony Tin Oxide), 또는 이들의 혼합물일 수 있다.
또한, 도전성 메쉬층(2)은 금속 및 금속 산화물의 혼합물을 포함할 수도 있는데, 특히 금속 산화물이 추가된 경우에는 금속의 산화나 열화를 방지할 수 있다.
도 2는 도 1의 도전성 메쉬층을 구비한 직부착 필름 필터의 전개도이고, 도 3은 도 2의 직부착 필름 필터의 부분 단면도이다. 앞서 도시된 도면에서와 동일한 참조부호는 동일한 부재 또는 동일한 부재의 부분을 가리킨다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 본 실시예에 따른 직부착 필름 필터(10)는 제1 베이스필름(11), 도전성 메쉬층(12), 제1점착층(13), 근적외선/네온광 차단층(14), 제2 베이스필름(15), 및 반사방지층(16)을 구비한다.
제1, 제2 베이스 필름(11, 15)은 직부착 필름 필터(10)의 기재로 사용되는데, 이의 종류는 폴리에테르술폰(PES, polyethersulphone), 폴리아크릴레이트(PAR, polyacrylate), 폴리에테르 이미드(PEI, polyetherimide), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN, polyethyelenen naphthalate), 폴리에틸렌 테레프탈레이드(PET, polyethyeleneterephthalate), 폴리페닐렌 설파이드(polyphenylene sulfide: PPS), 폴리아릴레이트(polyallylate), 폴리이미드(polyimide), 폴리카보네이트(PC), 셀룰로오스 트리 아세테이트(TAC), 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트(cellulose acetate propinonate: CAP)로 이루어진 그룹으로부터 선택된다. 바람직하게는, 폴리카보네이트(PC), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET, polyethyeleneterepthalate), 셀룰로오스 트리 아세테이트(TAC), 또는 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN, polyethyelenen napthalate)일 수 있다.
또한, 제1, 제2 베이스 필름(11, 15)은 투명한(transparent) 것이 바람직한데, 이는 완전히 투명한 것만을 의미하는 것이 아니라 당업계에서 공히 투명하다고 인정될 수 있는 정도를 의미한다.
도전성 메쉬층(12)은 제1 베이스필름(11)상에 배치되어 전자기파를 차폐시킨다. 도 1 및 도 2에는 도전성 메쉬층이 단층으로 구성된 것으로 도시되어 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 적어도 두개 층 이상을 포함하는 다층으로 구성될 수도 있다. 이러한 도전성 메쉬층의 구체적인 구성 및 작용효과는 도 1의 실시예에서 살펴본 것과 동일하므로, 여기에서는 이에 대한 자세한 설명을 생략하기로 한다.
제1점착층(13)은 도전성 메쉬층(12)을 덮도록 제1 베이스필름(11)상에 배치된다. 제1점착층(13)은 열가소성 수지 또는 UV 경화성 수지를 포함하여 형성될 수 있고, 또한 열가소성 수지-UV 경화성 수지 복합형을 포함하여 형성될 수도 있다. 제1점착층(13)은 스크린 인쇄법, 딥 코팅법, 에어 나이프법, 커튼 코팅법, 롤러 코팅법, 와이어 바 코팅법, 또는 그라비아 코팅법 등에 의해 형성될 수 있다.
근적외선/네온광 차단층(14)은 제1점착층(13)상에 배치될 수 있으나, 이러한 근적외선/네온광 차단층(14)은 별도로 배치되지 않고 제1점착층(13) 내에 근적외선 흡수 화합물 또는 색소와, 네온광 차단 색소를 첨가함으로써 상기 차단층(14)을 배치하는 것과 동일한 효과를 얻을 수도 있다.
근적외선/네온광 차단층(14) 또는 제1점착층(13)에 포함되는 근적외선 흡수 화합물로는 구리원자를 포함하는 레진(resin), 구리화합물이나 인화합물을 함유하는 레진, 구리화합물이나 티오(thio) 요소 유도체를 포함하는 레진, 또는 텅스텐계 화합물을 포함하는 레진 등이 사용될 수 있다. 근적외선은 주변 전자 기기의 오작동을 일키는 원인이 되므로, 이의 차폐가 필요하다
근적외선/네온광 차단층(14) 또는 제1점착층(13)에 포함되는 네온광 차단 색소로는, 시아닌계(cyanine)계, 스쿠아릴륨계, 아조메틴(azomethine)계, 키산텐계, 옥소(oxo)놀 계, 또는 아조(azo)계 등의 화합물이 사용될 수 있다. 네온광이란 네온 가스가 여기됨에(excited) 따라 발생하는 약 585nm 파장 부근의 불필요한 빛을 의미한다.
제2 베이스필름(15)은 근적외선/네온광 차단층(14)상, 또는 이러한 차단층(14)이 배치되지 않은 경우에는 제1점착층(13)상에 배치된다. 제2 베이스필름(15)의 재질 및 특성은 상술한 바와 같다.
반사방지층(16)은 제2 베이스필름(15)상에 배치된다. 반사방지층(16)은 가시광 투과율을 조절함으로써 장시간 시청하는 플라즈마 디스플레이 모듈 사용자들의 안구 피로감을 최소화시키는 기능을 담당한다. 이와 같이 반사방지층(16)을 배치하 여 가시광 투과율을 조절함으로써, 가시광의 선택적 흡수 효과 외에, 명실 컨트라스트 등의 색재현 범위 향상 효과를 얻을 수 있다. 도 2 및 도 3에서는 반사방지층(16)이 단층으로 구성된 것으로 도시되어 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 적어도 두개 층 이상을 포함하는 다층으로 구성될 수도 있다.
반사방지층(16)을 적층하는 방법은 크게 건식 코팅법(dry coating method)과 습식 코팅법(wet coating method)으로 구분될 수 있다.
건식 코팅법은 증착, 또는 스퍼터링 등에 의해 기재에 반사방지층(6)을 형성하는 방법이다. 이러한 건식 코팅법은 단일재료로된 막을 제조할 수 있기 때문에, 재료의 특성(예를 들어, 굴절율, 도전성, 경도 등)을 유용하게 활용할 수 있을 뿐만 아니라, 막의 두께 정밀도를 높일 수 있다.
습식 코팅법은 액상의 재료를 기재에 도포하고, 이후 필요에 따라 도포액을 경화하여 반사방지층(16)을 형성하는 방법으로서, 건식 코팅법에 비해 고생산성/ 저비용이고, 대면적에의 대응이 용이하며, 막재료의 자유도가 높고, 기능화가 비교적 용이하다는 장점이 있는 반면에, 특성면에서 뒤떨어지는 점이 많은 단점이 있다.
반사방지층(16)은, 외부로부터 입사되어 반사방지층(16)의 표면(A)에서 반사되는 가시광과, 이후 반사방지층(16)과 제2 베이스필름(15)과의 계면(B)에서 반사되는 가시광이 서로 역위상으로 되어 소멸간섭현상을 일으키는 원리에 의하여 반사방지 효과를 얻는다.
반사방지층(16)으로 ITO(Indium Tin Oxide)와 실리콘 옥사이드(SiO3)의 혼합물, 니켈크로메이트(NiCr)와 실리콘 옥사이드(SiO2)의 혼합물 등을 경화, 고착하여 사용할 수도 있다. 이외에도, 반사방지층(16)으로 산화티타늄 또는 저굴절율의 특수 불소레진을 사용할 수 있다.
하드코팅층(17)은 반사방지층(16)상에 배치된다. 하드코팅층(17)은 내스크래치성으로서 반사방지층(16)이 외부 물질과의 접촉등으로 인해 손상되는 것을 방지한다. 이러한 하드코팅층(17)은 바인더로서 폴리머를 포함할 수 있다. 하드코팅층(17)은 아크릴계, 우레탄계, 에폭시계, 또는 실록산계 폴리머를 포함하여 형성될 수 있고, 또한, 올리고머(Oligomer)와 같은 자외선 경화 수지를 포함하여 형성될 수도 있다. 게다가, 강도(Hardness)의 향상을 위해 하드코팅층(17)에 실리카(silica)계의 필러를 부가할 수 있다.
이러한 하드코팅층(17)은 반사방지층(16)에 포함될 수도 있는데, 이 경우에는 첨부 도면과는 달리 하드코팅층(17)은 도면에서 생략된다. 아울러, 도면에서는 하드코팅층(17)이 반사방지층(16)의 상부에 형성되어 있는데, 이와는 달리 하드코팅층(17)이 반사방지층(16)의 하부에 형성되어도 무관하다.
또한, 제1 베이스필름(11)의 일면, 즉 도전성 메쉬층(2)이 배치된 면의 반대쪽 면에는 제2점착층(18)이 더 배치될 수 있다. 이와 같이 제2점착층(18)을 배치함으로써, 직부착 필름 필터(10)를 플라즈마 디스플레이 모듈의 전면패널 등에 부착시킬 수 있다.
또한, 제1 베이스필름(11)의 도전성 메쉬층(12)이 배치된 면의 반대쪽 면에는 제2점착층(18) 외에, 차례로 내충격필름(미도시), 제3점착층(미도시)이 더 배치될 수 있다. 내충격필름은 플라즈마 디스플레이 모듈의 패널 강도를 보완하기 위한 것이다.
도 4는 도 1의 도전성 메쉬층을 구비한 플라즈마 디스플레이 모듈를 도시한 부분 분리 사시도이다. 앞서 도시된 도면에서와 동일한 참조부호는 동일한 부재 또는 동일한 부재의 부분을 가리킨다.
여기에서는, 비록 플라즈마 디스플레이 모듈(PDP)을 예로 들어 설명하지만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 본 발명에 따른 전자기파 차폐 필름 또는 직부착 필름 필터는 이밖에 전계 방출 소자(FED), 유기발광소자(OLED), 진공 형광 디스플레이(VFD), 또는 액정 디스플레이(LCD) 등 다른 다양한 평판 디스플레이 모듈에 구비될 수 있다.
도 4를 참조하면, 본 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 모듈(200)은 플라즈마 디스플레이 패널(50), 섀시(100), 구동회로기판(40), 및 직부착 필름 필터(10) 등을 구비하는데, 직부착 필름 필터(10)의 구성 및 작용효과는 상술한 바와 동일 또는 유사하므로 여기에서는 이에 대한 자세한 설명을 생략하기로 한다.
플라즈마 디스플레이 패널(50)은 전면기판(51)과 배면기판(52)을 포함하고, 배면기판(52)과 섀시(100) 사이에는 방열시트(53)와 접착부재(54)가 배치된다.
직부착 필름 필터(10)가 플라즈마 디스플레이 모듈(200)의 전면에 부착됨에 있어서, 전술한 제2점착층(18)이 전면 기판(51)을 향하도록 배치된다.
또한, 직부착 필름 필터(10) 대신에 도 1의 전자기파 차폐 필름이 부착될 수도 있다.
플라즈마 디스플레이 패널(50)의 상호 접합된 전면기판(51)과 배면기판(52)의 내면에는 형성된 격벽(미도시)에 의하여 구획되고 가스방전이 일어나는 다수의 방전셀(미도시)이 형성되어 있으며, 이 방전셀의 각각을 구획하는 격벽 등의 측면에는 적색, 녹색 또는 청색 형광체가 도포되어 있다.
또한, 이 방전셀 내에는 네온 가스와 같은 가스가 주입되어 있고, 이러한 기판들(51, 52)의 내측에는 가스방전을 일으키도록 전압을 인가하는 다수의 전극들(미도시)이 형성되어 있다.
이러한 구조를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널(50)은 전극에 인가된 전압에 의해 방전셀 내에서 유지방전이 일어나고, 유지방전시 발생하는 자외선에 의해 형광체를 여기시켜 가시광을 방출시킴으로써 화상을 표시하게 된다.
섀시(100)는 플라즈마 디스플레이 패널(50)의 배면에 배치된다. 섀시(100)는 플라즈마 디스플레이 패널(50)을 지지하기 위하여 소정의 강성을 갖는 것이 바람직하다. 이러한 섀시(100)는 패널(50)에서 발생된 열을 전달받아 외부로 방출하는 역할을 하기도 한다. 따라서, 섀시(100)는 알루미늄과 같은 재질로 이루어져 있는 것이 바람직하다.
이러한 섀시(100)는 양면테이프 등과 같은 접착부재(54)에 의해 플라즈마 디스플레이 패널(50)과 접착된다.
플라즈마 디스플레이 패널(50)에서 발생하는 열을 섀시(50)로 원활하게 전달 하기 위해 상기 플라즈마 디스플레이 패널(50)과 섀시(100) 사이의, 접착부재(54)가 배치하지 않는 부분에는 방열시트(53)가 배치된다.
상기 섀시(100)의 배면에는 플라즈마 디스플레이 패널(50)을 구동시키는 소정 개수의 구동회로기판(40)이 설치되어 있다.
상기와 같은 구성을 갖는 플라즈마 디스플레이 모듈(200)에 상술한 직부착 필름 필터(10) 또는 전자기파 차폐 필터가 배치될 경우, 전술한 도 1의 도전성 메쉬층(2)에 형성된 관통홀(2c)로 인해 플라즈마 디스플레이 모듈(200)의 광투과율이 향상되어 휘도 개선 효과를 가져올 수 있다.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 전자기파 차폐 필름에서 도전성 메쉬층만을 발췌하여 도시한 평면도이다.
도 2는 도 1의 도전성 메쉬층을 구비한 직부착 필름 필터의 전개도이다.
도 3은 도 2의 직부착 필름 필터의 부분 단면도이다.
도 4는 도 1의 도전성 메쉬층을 구비한 플라즈마 디스플레이 모듈를 도시한 부분 분리 사시도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
2, 12: 도전성 메쉬층 2a: 메쉬선
2b: 메쉬 연결부 2c: 관통홀
10: 직부착 필름 필터 11: 제1 베이스필름
12: 도전성 메쉬층 13: 제1점착층
14: 근적외선/네온광 차단층 15: 제2 베이스필름
16: 반사방지층 17: 하드코팅층
18: 제2점착층 40: 구동회로기판
50: 플라즈마 디스플레이 패널 100: 섀시
200: 플라즈마 디스플레이 모듈 A: 단위 메쉬

Claims (7)

  1. 복수개의 메쉬선들(mesh lines); 및
    상기 메쉬선들과 함께 그물망 형태의 도전성 메쉬층을(mesh layer)을 이루는 것으로, 상기 메쉬선들 각각을 상호 연결하는 메쉬 연결부들(mesh connections);을 구비하고,
    상기 메쉬 연결부들 각각에는 적어도 하나의 관통홀이 형성된 전자기파 차폐 필름.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 도전성 메쉬층을 이루는 단위 메쉬는 마름모 형태인 것을 특징으로 하는 전자기파 차폐 필름.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 관통홀은 원형, 타원형, 또는 사각형인 것을 특징으로 하는 전자기파 차폐 필름.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 도전성 메쉬층은 금속, 금속 산화물, 및 도전성 폴리머로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종을 함유하는 것을 특징으로 하는 전자기파 차폐 필름.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 금속은 팔라듐(Palladium), 구리, 백금, 로듐(Rhodium), 알루미늄(Aluminium), 철, 코발트(Cobalt), 니켈(Nickel), 아연, 루테늄(Ruthenium), 주석, 텅스텐(Tungsten), 이리듐(Iridium), 납, 은(Ag)으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 전자기파 차폐 필름.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 금속 산화물은 산화 주석, 산화 인듐, 산화 안티몬, 산화 아연, 산화 지르코늄, 산화 티탄, 산화 마그네슘, 산화 규소, 산화 알루미늄, 금속 알콕사이드, ITO(Indium Tin Oxide), ATO(Antimony Tin Oxide)로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 전자기파 차폐 필름.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 전자기파 차폐 필름을 구비하는 플라즈마 디스플레 모듈.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200132702A (ko) * 2019-05-16 2020-11-25 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 플라즈마 처리 장치

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