KR20090012226U - High frequency electrode unit for hair - Google Patents
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Abstract
본 고안은 두피 관리용 전극 유닛 및 두피 관리용 전극 유닛을 구비하는 두피 관리용 고주파 치료 장치에 관한 것으로, 본 고안에 따른 두피 관리용 전극 유닛은 복수의 돌출 단자를 통해 두피로 고주파 전류를 최대한 인가시키며 복수의 돌출 단자를 통해 두피를 효율적으로 자극시킬 수 있는 두피 관리용 전극 유닛을 제공하는 것이다.The present invention relates to a scalp management electrode unit having a scalp management electrode unit and a scalp management electrode unit, the scalp management electrode unit according to the present invention to apply the high frequency current to the scalp through a plurality of protruding terminals to the maximum The present invention provides a scalp management electrode unit that can effectively stimulate the scalp through a plurality of protruding terminals.
본 고안에 따른 두피 관리용 전극 유닛은 복수의 돌출 단자를 통해 두피로 고주파를 제공함으로써, 돌출 단자와 두피가 서로 용이하게 직접 접촉되도록 도와주며 두피를 자극시켜 모발 관리 효과를 극대화할 수 있다. 또한 본 고안에 따른 두피 관리용 전극 유닛은 인체의 머리 형태에 상응하도록 길이가 상이한 복수의 돌출 단자를 구비한 전극 유닛을 형성함으로써, 두피와의 접촉 면적이 증대된다.The electrode unit for managing the scalp according to the present invention provides high frequency to the scalp through a plurality of protruding terminals, thereby helping the protruding terminals and the scalp to directly contact each other and stimulating the scalp to maximize the hair care effect. In addition, the electrode unit for managing the scalp according to the present invention forms an electrode unit having a plurality of protruding terminals different in length to correspond to the shape of the human head, thereby increasing the contact area with the scalp.
고주파 치료 장치, 모발 관리, 두피 관리, 복수의 돌출 단자 Radiofrequency treatment device, hair care, scalp care, multiple protruding terminals
Description
본 고안은 고주파 치료 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 두피로 고주파 전류를 인가시켜 두피 안쪽에 심부열을 발생시키고 발생한 심부열을 이용하여 모발 성장을 촉진시키는 두피 관리용 전극 유닛에 관한 것이다.The present invention relates to a radiofrequency treatment apparatus, and more particularly, to a scalp management electrode unit that generates a deep heat inside the scalp by applying a high frequency current to the scalp and promotes hair growth using the deep heat generated.
일반적으로 고주파 치료 장치는 고주파 전류를 인체에 통전시켜 전기에너지를 투여해 생체에너지로 전환하고, 이러한 생체에너지를 이용하여 발생된 심부열을 통하여 지방대사와 근육운동을 촉진시킴으로써 비만치료나 근육강화, 피부관리, 모발촉진 또는 통증완화 등에 사용되는 의료용 기기이다. In general, high frequency therapy device converts high frequency current into human body by applying electric energy and converts it into bioenergy, and promotes fat metabolism and muscle movement through deep heat generated by using such bioenergy. It is a medical device used for skin care, hair promotion or pain relief.
고주파 전류는 인체조직을 통전할 때 진동 폭이 매우 짧기 때문에, 이온 운동이 거의 일어나지 않으며 전기화학적 반응 또는 전기 분해 현상이 없다. 이러한 고주파 전류가 인체 내에 통전되면 조직에서 열이 발생하는데, 이를 심부열 이라 한다. 이와 같이 심부열이 발생하는 이유는, 고주파수의 전기 에너지가 가해지면 전류의 방향이 바뀔 때마다, 조직을 구성하는 분자들이 진동하면서, 서로 마찰하게 되어 회전운동, 뒤틀림, 충돌운동에 의해 생체열을 발생시키기 때문이다.Since the high frequency current has a very short vibration width when energizing human tissue, almost no ion movement occurs and there is no electrochemical reaction or electrolysis. When such a high frequency current is energized in the human body, heat is generated in the tissue, which is called deep heat. The reason why the deep heat is generated is that whenever high-frequency electric energy is applied, the molecules constituting the tissues vibrate and rub against each other when the direction of the current changes, thereby causing the bio-heat to be generated by rotational motion, distortion, and collision motion. Because it is generated.
고주파 전류는 인체 내 불편함이나 근육수축을 일으키지 않으면서, 신체 조 직 안의 특정부위를 가열할 수 있으며, 발생된 심부열은 조직의 온도를 상승시켜 세포의 기능을 증진시키고 혈류량을 증가시키는 등의 역할을 한다. 그 결과, 인체의 신진 대사 및 근육 운동이 촉진되어, 비만치료나 근육강화, 피부관리, 모발촉진 또는 통증완화의 효과를 얻을 수 있다.High-frequency current can heat certain parts of the body tissue without causing discomfort or muscle contraction in the body, and the deep heat generated increases the temperature of the tissue to enhance cell function and increase blood flow. Play a role. As a result, the metabolism and muscle movement of the human body is promoted, and the effects of obesity treatment, muscle strengthening, skin care, hair promotion or pain relief can be obtained.
도 1을 참조하여, 종래 기술에 따른 고주파 치료 장치를 살펴보면, 고주파 전류를 생성하여 출력하는 본체(10), 발생한 고주파 전류를 관리하고자 하는 환부로 인가하는 치료 전극부(20) 및 신체의 일부와 접촉되며 환부로 인가된 고주파 전류를 접촉된 신체 일부로 통전시키는 대향 전극부(30)을 포함한다. 이때, 치료 전극부(20)은 치료 전극 유닛(21), 손잡이(23) 및 케이블(25)로 구성되며 대향 전극부(30)는 대향 전극판(31)과 케이블(33)로 구성된다. Referring to FIG. 1, a high frequency treatment apparatus according to the related art includes a
치료 전극부(30)의 치료 전극 유닛(21)을 환부에 접촉시키고, 대향 전극부(30)의 대향 전극판(31)은 인체의 일부에 접촉시킨 후, 본체(10)를 작동시킨다. 그러면, 본체(10)에서는 고주파 전류가 생성되고, 치료 전극부(20)와 대향 전극부(20) 사이에 놓여지는 인체를 통하여 고주파 전류가 통전되면서, 치료 전극 유닛(21)을 접촉시킨 환부 주위에서 심부열이 발생된다.The
위에서 설명한 종래 고주파 치료 장치의 치료 전극 유닛(21)은 평평한 플레이트 형태로서, 신체의 특정 부위에 한정되지 않고 평평한 접촉면을 가지는 모든 신체 부위에 사용하도록 제작되었다. The
따라서 종래 치료 전극 유닛(21)을 구비하는 고주파 치료 장치를 이용하여 두피를 관리하고자 하는 경우 치료 전극부(20)의 치료 전극 유닛(21)은 평평한 플레이트 형태로 형성되었기 때문에, 치료 전극 유닛(21)을 관리하고자 하는 두피에 접촉시키려 해도 두피에 나있는 머리로 인해 실제 관리하고자 하는 두피와 직접 접촉되기 곤란하다. 또한 치료 전극 유닛(21)이 두피와 접촉하더라도 접촉 면적이 작아서 심부열이 발생되는 영역이 협소하다. 따라서 두피 자극이 효율적으로 이루어지지 않으며 두피 전체를 관리하기 위하여 많은 시간이 소요된다는 문제점이 발생한다.Therefore, in the case of managing the scalp by using the radiofrequency treatment device having the conventional
본 고안은 상술한 종래의 문제점을 극복하기 위한 것으로서, 본 고안이 해결하고자 하는 과제는 두피와 접촉 면적을 최대화시켜서 두피로 고주파 전류가 잘 전달되도록 하며 두피를 효율적으로 자극하여 치료 시간을 단축시키기 위한 두피 관리용 전극 유닛을 제공하는 것이다.The present invention is to overcome the above-mentioned conventional problems, the problem to be solved by the present invention is to maximize the contact area with the scalp so that high frequency current is well transmitted to the scalp and efficiently stimulate the scalp to shorten the treatment time It is to provide an electrode unit for scalp management.
본 고안이 해결하고자 하는 다른 과제는 두피와 접촉 면적을 최대화시켜 두피로 고주파 전류를 잘 전달시킬 수 있는 두피 관리용 전극 유닛을 구비하는 두피 관리용 고주파 치료 장치를 제공하기 위한 것이다.Another problem to be solved by the present invention is to provide a scalp management radiofrequency treatment apparatus having an electrode unit for scalp management to maximize the scalp and contact area to deliver high frequency current to the scalp.
본 고안의 일 실시예에 따른, 고주파 전류를 두피로 인가하여 두피 내부에서 심부열을 발생시키고 발생한 심부열을 통해 두피를 관리하는 두피 관리용 전극 유닛은 평판 형태의 베이스 전극판와, 베이스 전극판의 일 측에 형성되어 있으며 고주파 전류가 입력되는 연결 단자와, 베이스 전극판의 타 측에 형성되어 있으며 입력된 고주파 전류를 관리하고자 하는 두피로 인가하는 복수의 돌출 단자와, 베이 스 전극판을 둘러싸는 제1 절연체를 포함하며, 각 돌출 단자는 전도체 및 전도체를 둘러싸는 제2 절연체를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an embodiment of the present invention, the scalp management electrode unit for generating a deep heat inside the scalp by applying a high frequency current to the scalp and managing the scalp through the generated deep heat includes a base electrode plate and a base electrode plate. A connection terminal formed at one side and receiving a high frequency current, a plurality of protruding terminals formed at the other side of the base electrode plate and applied to the scalp to manage the input high frequency current, and surrounding the base electrode plate. And a first insulator, each protruding terminal comprising a conductor and a second insulator surrounding the conductor.
본 고안의 일 실시예에 따른 두피 관리용 고주파 치료 장치는 고주파 전류를 발생시키기 위한 고주파 발생 유닛과 관리하고자 하는 두피와 접촉되는 복수의 돌출 단자를 구비하며 발생한 고주파 전류를 복수의 돌출 단자를 통해 관리하고자 하는 두피로 인가하는 제1 전극 유닛 및 신체의 일부와 접촉되는 전극판을 구비하며 두피로 인가된 고주파 전류를 접촉된 신체 일부로 통전시키는 제2 전극 유닛을 포함한다.The high frequency treatment apparatus for managing the scalp according to an embodiment of the present invention includes a high frequency generating unit for generating a high frequency current and a plurality of protruding terminals in contact with the scalp to be managed, and manages the generated high frequency current through the plurality of protruding terminals. And a second electrode unit having a first electrode unit to be applied to the scalp and a electrode plate to be in contact with a part of the body, and energizing a high frequency current applied to the scalp to the part of the body to be contacted.
본 고안에 따른 두피 관리용 전극 유닛은 아래와 같은 다양한 효과들을 가진다.The electrode unit for scalp management according to the present invention has various effects as follows.
첫째, 본 고안에 따른 두피 관리용 전극 유닛은 복수의 돌출 단자를 통해 두피로 고주파를 제공함으로써, 돌출 단자와 두피가 서로 용이하게 직접 접촉되도록 도와주어 관리 시간을 단축할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.First, the electrode unit for managing the scalp according to the present invention provides a high frequency to the scalp through a plurality of protruding terminals, so that the protruding terminal and the scalp can be easily in direct contact with each other, thereby reducing the management time. .
둘째, 본 고안에 따른 두피 관리용 전극 유닛은 인체의 머리 형태에 상응하도록 길이가 상이한 복수의 돌출 단자를 구비한 전극 유닛을 형성함으로써, 두피와의 접촉 면적이 증대된다.Second, the electrode unit for scalp management according to the present invention forms an electrode unit having a plurality of protruding terminals of different lengths to correspond to the shape of the human head, thereby increasing the contact area with the scalp.
셋째, 본 고안에 따른 두피 관리용 전극 유닛은 다수의 돌출 단자를 이용함으로써, 두피에 심부열을 제공함과 동시에 돌출 단자를 통해 두피를 자극시켜 모발 관리 효과를 극대화할 수 있다.Third, the electrode unit for managing the scalp according to the present invention can maximize the hair care effect by stimulating the scalp through the protruding terminal while providing deep heat to the scalp by using a plurality of protruding terminals.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 고안의 바람직한 실시예에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.
도 2는 본 고안의 일 실시예에 따른 두피 관리용 고주파 치료 장치의 사시도이며, 도 3은 본 고안의 일 실시예에 따른 두피 관리용 고주파 치료 장치의 개략적인 기능 블록도이고, 도 4는 본 고안의 제1 전극 유닛의 분해 사시도이다.Figure 2 is a perspective view of a radiofrequency treatment device for scalp management according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is a schematic functional block diagram of a radiofrequency treatment device for scalp management according to an embodiment of the present invention, Figure 4 An exploded perspective view of the first electrode unit of the invention.
도 2 내지 도 4를 참조하면, 본 고안의 일 실시예에 따른 두피 관리용 고주파 치료 장치는 고주파 전류를 발생시키고 발생한 고주파 전류를 출력하는 고주파 발생 유닛(100), 관리하고자 하는 두피와 접촉되는 복수의 돌출 단자를 구비하며 발생한 고주파 전류를 복수의 돌출 단자를 통해 관리하고자 하는 두피로 인가하는 제1 전극 유닛(200) 및 신체의 일부와 접촉되는 전극판을 구비하며 두피로 인가된 고주파 전류를 전극판으로 통전시키는 제2 전극 유닛(300)을 포함한다.2 to 4, the high frequency treatment apparatus for managing the scalp according to an embodiment of the present invention generates a high frequency current and outputs the generated
고주파 발생 유닛(100)은 전원부(110), 발진부(120), 증폭부(130), 레벨 조절부(140) 및 출력부(150)를 포함한다.The high
전원부(110)는 고주파 발생 유닛(100)의 각 구성요소에 필요한 전원을 공급하며, 발진부(120)에서는 고주파 전류를 발진하며, 증폭부(130)는 발진부(120)에서 발진된 고주파 전류를 증폭하는 역할을 수행한다. 레벨 조절부(140)에서는 고주파 전류의 세기를 조절하며, 출력부(150)는 소정 세기의 고주파 전류를 출력하는 역할을 수행한다. 출력부(150)에서 출력되는 고주파 전류의 범위는 400㎑ 내지 600㎑의 범위이며, 이러한 대역의 고주파 전류는 제1 전극 유닛(200)과 제2 전극 유닛(300) 을 통해 관리하고자 부위의 두피로 인가된다.The
제1 전극 유닛(200)은 바디부(210), 제1 케이블(230) 및 헤드부(250)를 포함하며 제2 전극 유닛(300)은 제2 전극판(310) 및 제2 케이블(330)를 포함한다.The
제1 전극 유닛(200)의 바디부(210)는 고주파 치료 장치의 사용자가 파지하여 사용하기 용이하도록 스틱(stick) 형태로 형성된다. 바디부(210)는 절연성 재료로 형성되며, 바디부(210)의 내부에는 관통홀(220)이 형성된다. 바디부(210)의 일 단에는 제2 케이블(230)이 삽입되어 체결되고, 타 단에는 헤드부(250)가 삽입되어 체결된다. The
헤드부(250)는 관리하고자 하는 두피로 고주파 전류를 인가하기 위한 구성요소로서, 베이스 전극판(미도시)과, 제1 절연체(265), 연결 단자(270) 및 복수의 돌출 단자(280)를 포함한다. The
베이스 전극판의 일 면에는 연결 단자(270)의 일 단이 체결되고, 베이스 전극판의 타 면에는 복수의 돌출 단자(280)가 체결되며, 제1 절연체(265)는 베이스 전극판을 둘러싸도록 형성된다. 연결 단자(270)의 타 단은 바디부(210)의 내부에 형성된 관통홀(220)에 삽입되어, 제2 케이블(230)과 전기적으로 접속된다.One end of the
제2 전극 유닛(300)은 인체의 일부 즉, 두피를 제외한 다른 인체 부위(예를 들면, 팔, 손 등)에 접촉되는 제2 전극판(310)과, 제2 전극판(310)과 고주파 발생 유닛(100)의 출력부(150)를 연결하는 제2 케이블(330)로 구성된다. 제2 케이블(330)의 일 단은 출력부(150)와 전기적으로 접속되며, 타 단은 제2 전극판(310)과 전기적으로 접속된다. 제2 전극판(310)은 도전성 재료로 구성되며, 본 실시예에 서는 사각 플레이트 형태로 구성되는 것을 예로서 상술하고 있으나, 제2 전극판(310)의 형태가 이에 한정되는 것은 아니며, 다양한 형태로 형성될 수 있다. The
바람직하게, 제2 전극판(310)은 그라운드 단자로 작동한다. 예를 들어, 제1 전극 유닛(200)을 통해 인체로 인가되는 고주파 전류와 대응하여 제1 전극 유닛(200)을 통해 + 전류가 인가되는 경우 제2 전극판(310)은 - 단자로 작동하며, 제1 전극 유닛(200)을 통해 - 전류가 인가되는 경우 제2 전극판(310)은 + 단자로 작동한다.Preferably, the
도 5a는 본 고안의 헤드부의 분해 사시도이며, 도 5b는 본 고안의 헤드부의 사시도이고, 도 5c는 본 고안의 헤드부의 변형예이다. Figure 5a is an exploded perspective view of the head of the present invention, Figure 5b is a perspective view of the head of the present invention, Figure 5c is a modification of the head of the present invention.
도 5a 및 도 5b를 참조하면, 헤드부(250)는 베이스 전극판(260), 제1 절연체(265), 연결 단자(270), 복수의 돌출 단자(280)를 포함하며, 제1 절연체(265)는 상부 케이스(266)와 하부 케이스(268)로 구성된다.5A and 5B, the
베이스 전극판(260)는 전체적으로 원판형으로 형성되며, 복수의 관통홀(261) 및 중앙 관통홀(262)이 형성된다. 관통홀(261)은 상호 이격되어 형성되며, 베이스 전극판(260)의 중심부로부터 소정 간격 이격되도록 형성된다. 즉, 관통홀(261)은 베이스 전극판(260)에 방사상의 형태로 형성된다. 베이스 전극판(260)은 고주파 전류를 통전시키기 위하여 도전성 재료로 형성되며, 본 실시예의 경우 구리(Cu)를 이용하여 형성하나, 베이스 전극판(260)의 재료가 이에 한정되는 것은 아니다.The
제1 절연체(265)는 베이스 전극판(260)의 상부에 배치되는 상부 케이스(266)와 베이스 전극판(260)의 하부에 배치되며 상부 케이스(266)와 체결되어 결합되는 하부 케이스(268)로 구성된다. 하부 케이스(268)에는 베이스 전극판(260)에 형성된 복수의 관통홀(261)에 대응되도록 복수의 관통홀(269a)이 형성되며, 상부 케이스(266)의 중앙부에는 관통홀(267)이 형성된다. 연결 단자(270)는 상부 케이스(266)의 관통홀(267)을 통과하여 베이스 전극판(260)의 중앙 관통홀(262)에 체결된다. The
복수의 돌출 단자(280) 각각은 베이스 전극판(260)에 형성된 관통홀(261)에 삽입되어 체결되며, 복수의 돌출 단자(280)는 서로 상이한 길이를 갖도록 형성된다. 길이가 긴 돌출 단자는 베이스 전극판(260)의 외주에 배치되며, 길이가 짧은 돌출 단자는 베이스 전극판(260)의 내주에 배치되게 하여, 복수의 돌출 단자(280)는 전체적으로 중심부가 오목하게 들어간 형태로 형성된다. 이와 같이, 복수의 돌출 단자(280)의 길이를 상이하게 구성하면, 복수의 돌출 단자 모두가 환부에 직접 접촉하게 되고, 이로 인해 두피와의 접촉 면적이 증대되어 두피의 자극을 보다 효율적으로 수행할 수 있게 된다. Each of the plurality of protruding
도 5c에 도시된 헤드부는 전체적으로 사각형의 형태로 구성된다는 점이 상이하며, 나머지 구성은 거의 유사한 바, 상이한 구성을 위주로 상술한다. 도 5c에 도시된 헤드부는 전체적으로 사각 플레이트의 형태로 형성된다. 베이스 전극판(미도시)과 베이스 전극판을 둘러싸는 제1 절연체(265a)는 사각 플레이트 형태로 형성된다. The head part shown in FIG. 5C is different in that it is generally configured in the form of a square, and the rest of the configuration is almost similar, and will be described in detail with a different configuration. The head portion shown in FIG. 5C is formed in the form of a square plate as a whole. The base electrode plate (not shown) and the
도 6a는 본 고안의 헤드부의 단면도이며, 도 6b는 복수의 돌출 단자의 개략 단면도이다. 6A is a sectional view of a head portion of the present invention, and FIG. 6B is a schematic sectional view of a plurality of protruding terminals.
도 6a 및 도 6b를 참조하면, 복수의 돌출 단자(280)는 제1 그룹 돌출 단자(280a), 제2 그룹 돌출 단자(280b) 및 제3 그룹 돌출 단자(280c)로 구성된다. 제1 그룹 돌출 단자(280a)는 베이스 전극판(260)의 외주부에 배치되며, 제3 그룹 돌출 단자(280c)는 베이스 전극판(260)의 중심 영역에 인접한 내주부에 배치되고, 제2 그룹 돌출 단자(280b)는 제1 그룹 돌출 단자(280a)와 제3 그룹 돌출 단자(280c) 사이에 배치된다. 돌출 단자의 길이는 제1 그룹 돌출 단자(280a), 제2 그룹 돌출 단자(280b) 및 제3 그룹 돌출 단자(280c)의 순서로 길게 형성되어, 복수의 돌출 단자(280)는 전체적으로 중심 영역이 오목하게 들어간 형태로 형성된다. 6A and 6B, the plurality of protruding
각 돌출 단자(280)는 전도체(281)와 전도체(281)를 둘러싸도록 형성된 제2 절연체(285)로 구성된다. 본 실시예에서 전도체(281)는 알루미늄으로 구성되나, 전도체의 재료가 이에 한정되는 것은 아니며, 다양하게 변형될 수 있다. 도 6b에 도시된 바와 같이, 제1 내지 제3 그룹 돌출 단자(280a, 280b, 280c)는 각 전도체(281a, 281b, 281c)의 길이는 동일하게 형성되고, 제2 절연체(285a, 285b, 285c)의 코팅 두께를 상이하게 형성하여, 복수의 돌출 단자의 길이를 서로 상이하게 형성할 수 있다. 이와는 달리, 각 전도체의 길이를 상이하게 하고, 제2 절연체의 코팅 두께는 동일하게 형성하여, 복수의 돌출 단자의 길이를 상이하게 조절할 수도 있다.Each protruding
이하에서는 제2 절연체(285)의 구성을 제3 그룹 돌출 단자(280c)를 예로서 설명하고 있으나, 나머지 제1 및 제2 그룹 돌출 단자(280a, 280b)의 제2 절연체 역시 제3 그룹 돌출 단자(280c)와 같이 구성된다. Hereinafter, the configuration of the second insulator 285 will be described using the third group protruding terminal 280c as an example, but the second insulator of the remaining first and second
제2 절연체(285c)는 전도체(281c) 상에 형성된 제1층(286c)과, 제1층(286c) 상에 형성된 제2층(287c)으로 구성된다. 이때, 제1층(286c)은 전도체(281c) 상에 세라믹 코팅을 함으로써 형성되며, 제2층(287c)은 제1층(286c)상에 나일론 코팅을 함으로써 형성된다. 이와 같이, 전도체(281c)를 2중으로 코팅하게 되면, 제2 절연체에 크랙이 발생하는 것을 방지할 수 있으며, 그 결과 크랙을 통하여 고주파 전류가 직접 인체에 인가되는 것을 방지할 수 있게 되어, 제품의 안정성 및 신뢰성을 보다 향상시킬 수 있게 된다. The
도 7a는 헤드부의 제1 절연체 중 상부 케이스의 평면도이며, 도 7b는 제1 절연체 중 상부 케이스의 측면도이며, 도 7c는 베이스 전극판의 평면도이며, 도 7c는 제1 절연체 중 하부 케이스의 평면도이다.7A is a plan view of the upper case of the first insulator of the head portion, FIG. 7B is a side view of the upper case of the first insulator, FIG. 7C is a plan view of the base electrode plate, and FIG. 7C is a plan view of the lower case of the first insulator. .
도 7a 내지 도 7d를 참조하면, 제1 절연체의 상부 케이스(266)는 중심 영역이 돌출된 원판형으로 형성되며, 돌출된 부위에는 관통홀(267)이 형성되어, 연결 단자(270)가 삽입될 수 있는 공간을 제공한다. 7A to 7D, the
베이스 전극판(260)의 중심 영역에는 중앙 관통홀(262)이 형성되며, 중앙 관통홀 주위에 복수의 관통홀(261)이 소정 간격 이격되게 형성된다. 중앙 관통홀(262)에 인접하게 3개의 관통홀이 형성되며, 그 둘레에 6개의 관통홀이 형성되 고, 최외각에 12개의 관통홀이 형성되어, 복수의 관통홀은 전체적으로 방사상의 형태로 형성된다. A central through
하부 케이스(268)는 베이스 전극판(260)에 형성된 복수의 관통홀(261)에 크기 및 위치가 대응되는 복수의 관통홀(269)이 형성되어, 복수의 돌출 단자(미도시)가 삽입될 수 있는 공간을 제공하며, 중심 영역에는 삽입홈(269b)이 형성되어, 연결 단자(270)의 단부가 삽입된다.The
도 8은 본 고안의 다른 실시예에 따른 모발 관리용 고주파 치료 장치의 사시도이다. 도 8에 도시된 실시예는 상기 실시예와 비교하여 제1 전극 유닛이 제2 전극 유닛의 일부에 설치된다는 점이 상이하며, 이하에서는 상이한 구성을 위주로 상술한다.8 is a perspective view of a radio frequency treatment device for hair care according to another embodiment of the present invention. The embodiment shown in FIG. 8 differs from the above embodiment in that the first electrode unit is provided in a part of the second electrode unit, and will be described below with a different configuration.
도 8을 참조하면, 본 고안의 다른 실시예에 따른 모발 관리용 고주파 치료 장치는 고주파 전류를 발생하는 고주파 발생 유닛(100), 복수의 돌출 단자를 구비하며 발생한 고주파 전류를 복수의 돌출 단자를 통해 관리하고자 하는 두피로 인가하는 제1 전극 유닛(200) 및 신체에 접촉되는 전극판을 구비하며 두피로 인가된 고주파 전류를 전극판으로 통전시키는 제2 전극 유닛(300)을 포함한다. Referring to FIG. 8, the radio frequency treatment apparatus for managing hair according to another embodiment of the present invention includes a high
제1 전극 유닛(200)은 바디부(210), 제1 케이블(230) 및 헤드부(250)를 포함하며, 제2 전극 유닛(300)은 제2 전극판(320) 및 제2 케이블(330)를 포함한다. 제2 전극판(320)은 제1 전극 유닛(200)의 바디부(210) 상에 형성된다. 그 결과, 사용자는 제1 전극 유닛(200)의 바디부(210)를 파지하여 헤드부(250)를 환부 즉, 두피에 접촉시키면, 바디부(210)를 파지한 손이 제2 전극판(320)에 접촉되기 때문에, 별도 로 제2 전극판(320)과 인체의 일부를 접촉시키기 위한 부수적인 행위를 하지 않아도 고주파 치료를 수행할 수 있게 된다.The
이상에서 설명한 것은 본 고안에 따른 두피 관리용 전극 유닛의 예시적인 실시예에 불과한 것으로서, 본 고안은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 실용신안등록청구범위에서 청구하는 바와 같이, 본 고안의 요지를 벗어남이 없이 당해 고안이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능한 범위까지 본 고안의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.As described above is merely an exemplary embodiment of the electrode unit for scalp management according to the present invention, the present invention is not limited to the above embodiment, as claimed in the following utility model registration claims, Without departing from the gist, any person having ordinary knowledge in the field to which the present invention belongs will have a technical spirit of the present invention to the extent that various modifications can be made.
도 1은 종래 기술에 따른 고주파 치료 장치의 사시도이다.1 is a perspective view of a radiofrequency treatment apparatus according to the prior art.
도 2는 본 고안의 일 실시예에 따른 두피 관리용 고주파 치료 장치의 사시도이다.2 is a perspective view of a radiofrequency treatment device for scalp management according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본 고안의 일 실시예에 따른 두피 관리용 고주파 치료 장치의 개략적인 기능 블록도이다.Figure 3 is a schematic functional block diagram of a radiofrequency treatment device for scalp management according to an embodiment of the present invention.
도 4는 본 고안의 제1 전극 유닛의 분해 사시도이다.4 is an exploded perspective view of the first electrode unit of the present invention.
도 5a는 본 고안의 헤드부의 분해 사시도이며, 도 5b는 본 고안의 헤드부의 사시도이고, 도 5c는 본 고안의 헤드부의 변형예이다.Figure 5a is an exploded perspective view of the head of the present invention, Figure 5b is a perspective view of the head of the present invention, Figure 5c is a modification of the head of the present invention.
도 6a는 본 고안의 헤드부의 단면도이며, 도 6b는 복수의 돌출 단자의 개략 단면도이다.6A is a sectional view of a head portion of the present invention, and FIG. 6B is a schematic sectional view of a plurality of protruding terminals.
도 7a는 헤드부의 제1 절연체 중 상부 케이스의 평면도이며, 도 7b는 제1 절연체 중 상부 케이스의 측면도이며, 도 7c는 베이스 전극판의 평면도이고, 도 7d는 제1 절연체 중 하부 케이스의 평면도이다.7A is a plan view of the upper case of the first insulator of the head portion, FIG. 7B is a side view of the upper case of the first insulator, FIG. 7C is a plan view of the base electrode plate, and FIG. 7D is a plan view of the lower case of the first insulator. .
도 8은 본 고안의 다른 실시예에 따른 두피용 고주파 치료 장치의 사시도이다.8 is a perspective view of a radiofrequency treatment apparatus for a scalp according to another embodiment of the present invention.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *
100 : 고주파 발생 유닛100: high frequency generation unit
200 : 제1 전극 유닛200: first electrode unit
210 : 바디부210: body part
230 : 제1 케이블230: first cable
250 : 헤드부250: head
260 : 베이스 전극판260: base electrode plate
265 : 제1 절연체265: first insulator
270 : 연결 단자270 connection terminal
280 : 돌출 단자280: protruding terminal
285 : 제2 절연체285: second insulator
300 : 제2 전극 유닛300: second electrode unit
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