KR20090012226U - High frequency electrode unit for hair - Google Patents

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Abstract

본 고안은 두피 관리용 전극 유닛 및 두피 관리용 전극 유닛을 구비하는 두피 관리용 고주파 치료 장치에 관한 것으로, 본 고안에 따른 두피 관리용 전극 유닛은 복수의 돌출 단자를 통해 두피로 고주파 전류를 최대한 인가시키며 복수의 돌출 단자를 통해 두피를 효율적으로 자극시킬 수 있는 두피 관리용 전극 유닛을 제공하는 것이다.The present invention relates to a scalp management electrode unit having a scalp management electrode unit and a scalp management electrode unit, the scalp management electrode unit according to the present invention to apply the high frequency current to the scalp through a plurality of protruding terminals to the maximum The present invention provides a scalp management electrode unit that can effectively stimulate the scalp through a plurality of protruding terminals.

본 고안에 따른 두피 관리용 전극 유닛은 복수의 돌출 단자를 통해 두피로 고주파를 제공함으로써, 돌출 단자와 두피가 서로 용이하게 직접 접촉되도록 도와주며 두피를 자극시켜 모발 관리 효과를 극대화할 수 있다. 또한 본 고안에 따른 두피 관리용 전극 유닛은 인체의 머리 형태에 상응하도록 길이가 상이한 복수의 돌출 단자를 구비한 전극 유닛을 형성함으로써, 두피와의 접촉 면적이 증대된다.The electrode unit for managing the scalp according to the present invention provides high frequency to the scalp through a plurality of protruding terminals, thereby helping the protruding terminals and the scalp to directly contact each other and stimulating the scalp to maximize the hair care effect. In addition, the electrode unit for managing the scalp according to the present invention forms an electrode unit having a plurality of protruding terminals different in length to correspond to the shape of the human head, thereby increasing the contact area with the scalp.

고주파 치료 장치, 모발 관리, 두피 관리, 복수의 돌출 단자 Radiofrequency treatment device, hair care, scalp care, multiple protruding terminals

Description

두피 관리용 고주파 전극 유닛{High frequency electrode unit for hair}High frequency electrode unit for scalp care

본 고안은 고주파 치료 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 두피로 고주파 전류를 인가시켜 두피 안쪽에 심부열을 발생시키고 발생한 심부열을 이용하여 모발 성장을 촉진시키는 두피 관리용 전극 유닛에 관한 것이다.The present invention relates to a radiofrequency treatment apparatus, and more particularly, to a scalp management electrode unit that generates a deep heat inside the scalp by applying a high frequency current to the scalp and promotes hair growth using the deep heat generated.

일반적으로 고주파 치료 장치는 고주파 전류를 인체에 통전시켜 전기에너지를 투여해 생체에너지로 전환하고, 이러한 생체에너지를 이용하여 발생된 심부열을 통하여 지방대사와 근육운동을 촉진시킴으로써 비만치료나 근육강화, 피부관리, 모발촉진 또는 통증완화 등에 사용되는 의료용 기기이다. In general, high frequency therapy device converts high frequency current into human body by applying electric energy and converts it into bioenergy, and promotes fat metabolism and muscle movement through deep heat generated by using such bioenergy. It is a medical device used for skin care, hair promotion or pain relief.

고주파 전류는 인체조직을 통전할 때 진동 폭이 매우 짧기 때문에, 이온 운동이 거의 일어나지 않으며 전기화학적 반응 또는 전기 분해 현상이 없다. 이러한 고주파 전류가 인체 내에 통전되면 조직에서 열이 발생하는데, 이를 심부열 이라 한다. 이와 같이 심부열이 발생하는 이유는, 고주파수의 전기 에너지가 가해지면 전류의 방향이 바뀔 때마다, 조직을 구성하는 분자들이 진동하면서, 서로 마찰하게 되어 회전운동, 뒤틀림, 충돌운동에 의해 생체열을 발생시키기 때문이다.Since the high frequency current has a very short vibration width when energizing human tissue, almost no ion movement occurs and there is no electrochemical reaction or electrolysis. When such a high frequency current is energized in the human body, heat is generated in the tissue, which is called deep heat. The reason why the deep heat is generated is that whenever high-frequency electric energy is applied, the molecules constituting the tissues vibrate and rub against each other when the direction of the current changes, thereby causing the bio-heat to be generated by rotational motion, distortion, and collision motion. Because it is generated.

고주파 전류는 인체 내 불편함이나 근육수축을 일으키지 않으면서, 신체 조 직 안의 특정부위를 가열할 수 있으며, 발생된 심부열은 조직의 온도를 상승시켜 세포의 기능을 증진시키고 혈류량을 증가시키는 등의 역할을 한다. 그 결과, 인체의 신진 대사 및 근육 운동이 촉진되어, 비만치료나 근육강화, 피부관리, 모발촉진 또는 통증완화의 효과를 얻을 수 있다.High-frequency current can heat certain parts of the body tissue without causing discomfort or muscle contraction in the body, and the deep heat generated increases the temperature of the tissue to enhance cell function and increase blood flow. Play a role. As a result, the metabolism and muscle movement of the human body is promoted, and the effects of obesity treatment, muscle strengthening, skin care, hair promotion or pain relief can be obtained.

도 1을 참조하여, 종래 기술에 따른 고주파 치료 장치를 살펴보면, 고주파 전류를 생성하여 출력하는 본체(10), 발생한 고주파 전류를 관리하고자 하는 환부로 인가하는 치료 전극부(20) 및 신체의 일부와 접촉되며 환부로 인가된 고주파 전류를 접촉된 신체 일부로 통전시키는 대향 전극부(30)을 포함한다. 이때, 치료 전극부(20)은 치료 전극 유닛(21), 손잡이(23) 및 케이블(25)로 구성되며 대향 전극부(30)는 대향 전극판(31)과 케이블(33)로 구성된다. Referring to FIG. 1, a high frequency treatment apparatus according to the related art includes a main body 10 generating and outputting a high frequency current, a treatment electrode unit 20 for applying the generated high frequency current to an affected part, and a part of a body. And a counter electrode part 30 which contacts and energizes the high frequency current applied to the affected part to the contacted body part. At this time, the treatment electrode 20 is composed of a treatment electrode unit 21, the handle 23 and the cable 25, the counter electrode 30 is composed of a counter electrode plate 31 and the cable 33.

치료 전극부(30)의 치료 전극 유닛(21)을 환부에 접촉시키고, 대향 전극부(30)의 대향 전극판(31)은 인체의 일부에 접촉시킨 후, 본체(10)를 작동시킨다. 그러면, 본체(10)에서는 고주파 전류가 생성되고, 치료 전극부(20)와 대향 전극부(20) 사이에 놓여지는 인체를 통하여 고주파 전류가 통전되면서, 치료 전극 유닛(21)을 접촉시킨 환부 주위에서 심부열이 발생된다.The treatment electrode unit 21 of the treatment electrode part 30 is brought into contact with the affected part, and the counter electrode plate 31 of the counter electrode part 30 is in contact with a part of the human body, and then the main body 10 is operated. Then, in the main body 10, a high frequency current is generated, and a high frequency current is energized through the human body placed between the treatment electrode portion 20 and the counter electrode portion 20, and the periphery of the affected part that contacts the treatment electrode unit 21. Deep fever develops in the

위에서 설명한 종래 고주파 치료 장치의 치료 전극 유닛(21)은 평평한 플레이트 형태로서, 신체의 특정 부위에 한정되지 않고 평평한 접촉면을 가지는 모든 신체 부위에 사용하도록 제작되었다. The therapeutic electrode unit 21 of the conventional high frequency treatment apparatus described above is a flat plate, and is not limited to a specific part of the body, but is manufactured to be used for all body parts having a flat contact surface.

따라서 종래 치료 전극 유닛(21)을 구비하는 고주파 치료 장치를 이용하여 두피를 관리하고자 하는 경우 치료 전극부(20)의 치료 전극 유닛(21)은 평평한 플레이트 형태로 형성되었기 때문에, 치료 전극 유닛(21)을 관리하고자 하는 두피에 접촉시키려 해도 두피에 나있는 머리로 인해 실제 관리하고자 하는 두피와 직접 접촉되기 곤란하다. 또한 치료 전극 유닛(21)이 두피와 접촉하더라도 접촉 면적이 작아서 심부열이 발생되는 영역이 협소하다. 따라서 두피 자극이 효율적으로 이루어지지 않으며 두피 전체를 관리하기 위하여 많은 시간이 소요된다는 문제점이 발생한다.Therefore, in the case of managing the scalp by using the radiofrequency treatment device having the conventional treatment electrode unit 21, since the treatment electrode unit 21 of the treatment electrode unit 20 is formed in a flat plate shape, the treatment electrode unit 21 ) Even if you try to contact the scalp to manage, it is difficult to directly contact the scalp due to the hair on the scalp. In addition, even if the treatment electrode unit 21 contacts the scalp, the contact area is small and a region where deep heat is generated is narrow. Therefore, the problem that the scalp stimulation is not made efficiently and takes a lot of time to manage the entire scalp.

본 고안은 상술한 종래의 문제점을 극복하기 위한 것으로서, 본 고안이 해결하고자 하는 과제는 두피와 접촉 면적을 최대화시켜서 두피로 고주파 전류가 잘 전달되도록 하며 두피를 효율적으로 자극하여 치료 시간을 단축시키기 위한 두피 관리용 전극 유닛을 제공하는 것이다.The present invention is to overcome the above-mentioned conventional problems, the problem to be solved by the present invention is to maximize the contact area with the scalp so that high frequency current is well transmitted to the scalp and efficiently stimulate the scalp to shorten the treatment time It is to provide an electrode unit for scalp management.

본 고안이 해결하고자 하는 다른 과제는 두피와 접촉 면적을 최대화시켜 두피로 고주파 전류를 잘 전달시킬 수 있는 두피 관리용 전극 유닛을 구비하는 두피 관리용 고주파 치료 장치를 제공하기 위한 것이다.Another problem to be solved by the present invention is to provide a scalp management radiofrequency treatment apparatus having an electrode unit for scalp management to maximize the scalp and contact area to deliver high frequency current to the scalp.

본 고안의 일 실시예에 따른, 고주파 전류를 두피로 인가하여 두피 내부에서 심부열을 발생시키고 발생한 심부열을 통해 두피를 관리하는 두피 관리용 전극 유닛은 평판 형태의 베이스 전극판와, 베이스 전극판의 일 측에 형성되어 있으며 고주파 전류가 입력되는 연결 단자와, 베이스 전극판의 타 측에 형성되어 있으며 입력된 고주파 전류를 관리하고자 하는 두피로 인가하는 복수의 돌출 단자와, 베이 스 전극판을 둘러싸는 제1 절연체를 포함하며, 각 돌출 단자는 전도체 및 전도체를 둘러싸는 제2 절연체를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an embodiment of the present invention, the scalp management electrode unit for generating a deep heat inside the scalp by applying a high frequency current to the scalp and managing the scalp through the generated deep heat includes a base electrode plate and a base electrode plate. A connection terminal formed at one side and receiving a high frequency current, a plurality of protruding terminals formed at the other side of the base electrode plate and applied to the scalp to manage the input high frequency current, and surrounding the base electrode plate. And a first insulator, each protruding terminal comprising a conductor and a second insulator surrounding the conductor.

본 고안의 일 실시예에 따른 두피 관리용 고주파 치료 장치는 고주파 전류를 발생시키기 위한 고주파 발생 유닛과 관리하고자 하는 두피와 접촉되는 복수의 돌출 단자를 구비하며 발생한 고주파 전류를 복수의 돌출 단자를 통해 관리하고자 하는 두피로 인가하는 제1 전극 유닛 및 신체의 일부와 접촉되는 전극판을 구비하며 두피로 인가된 고주파 전류를 접촉된 신체 일부로 통전시키는 제2 전극 유닛을 포함한다.The high frequency treatment apparatus for managing the scalp according to an embodiment of the present invention includes a high frequency generating unit for generating a high frequency current and a plurality of protruding terminals in contact with the scalp to be managed, and manages the generated high frequency current through the plurality of protruding terminals. And a second electrode unit having a first electrode unit to be applied to the scalp and a electrode plate to be in contact with a part of the body, and energizing a high frequency current applied to the scalp to the part of the body to be contacted.

본 고안에 따른 두피 관리용 전극 유닛은 아래와 같은 다양한 효과들을 가진다.The electrode unit for scalp management according to the present invention has various effects as follows.

첫째, 본 고안에 따른 두피 관리용 전극 유닛은 복수의 돌출 단자를 통해 두피로 고주파를 제공함으로써, 돌출 단자와 두피가 서로 용이하게 직접 접촉되도록 도와주어 관리 시간을 단축할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.First, the electrode unit for managing the scalp according to the present invention provides a high frequency to the scalp through a plurality of protruding terminals, so that the protruding terminal and the scalp can be easily in direct contact with each other, thereby reducing the management time. .

둘째, 본 고안에 따른 두피 관리용 전극 유닛은 인체의 머리 형태에 상응하도록 길이가 상이한 복수의 돌출 단자를 구비한 전극 유닛을 형성함으로써, 두피와의 접촉 면적이 증대된다.Second, the electrode unit for scalp management according to the present invention forms an electrode unit having a plurality of protruding terminals of different lengths to correspond to the shape of the human head, thereby increasing the contact area with the scalp.

셋째, 본 고안에 따른 두피 관리용 전극 유닛은 다수의 돌출 단자를 이용함으로써, 두피에 심부열을 제공함과 동시에 돌출 단자를 통해 두피를 자극시켜 모발 관리 효과를 극대화할 수 있다.Third, the electrode unit for managing the scalp according to the present invention can maximize the hair care effect by stimulating the scalp through the protruding terminal while providing deep heat to the scalp by using a plurality of protruding terminals.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 고안의 바람직한 실시예에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.

도 2는 본 고안의 일 실시예에 따른 두피 관리용 고주파 치료 장치의 사시도이며, 도 3은 본 고안의 일 실시예에 따른 두피 관리용 고주파 치료 장치의 개략적인 기능 블록도이고, 도 4는 본 고안의 제1 전극 유닛의 분해 사시도이다.Figure 2 is a perspective view of a radiofrequency treatment device for scalp management according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is a schematic functional block diagram of a radiofrequency treatment device for scalp management according to an embodiment of the present invention, Figure 4 An exploded perspective view of the first electrode unit of the invention.

도 2 내지 도 4를 참조하면, 본 고안의 일 실시예에 따른 두피 관리용 고주파 치료 장치는 고주파 전류를 발생시키고 발생한 고주파 전류를 출력하는 고주파 발생 유닛(100), 관리하고자 하는 두피와 접촉되는 복수의 돌출 단자를 구비하며 발생한 고주파 전류를 복수의 돌출 단자를 통해 관리하고자 하는 두피로 인가하는 제1 전극 유닛(200) 및 신체의 일부와 접촉되는 전극판을 구비하며 두피로 인가된 고주파 전류를 전극판으로 통전시키는 제2 전극 유닛(300)을 포함한다.2 to 4, the high frequency treatment apparatus for managing the scalp according to an embodiment of the present invention generates a high frequency current and outputs the generated high frequency current 100, a plurality of contact with the scalp to be managed And a first electrode unit 200 for applying the generated high frequency current to the scalp to be managed through the plurality of protruding terminals, and an electrode plate contacting a part of the body. And a second electrode unit 300 for energizing the plate.

고주파 발생 유닛(100)은 전원부(110), 발진부(120), 증폭부(130), 레벨 조절부(140) 및 출력부(150)를 포함한다.The high frequency generation unit 100 includes a power supply unit 110, an oscillator 120, an amplifier 130, a level adjuster 140, and an output unit 150.

전원부(110)는 고주파 발생 유닛(100)의 각 구성요소에 필요한 전원을 공급하며, 발진부(120)에서는 고주파 전류를 발진하며, 증폭부(130)는 발진부(120)에서 발진된 고주파 전류를 증폭하는 역할을 수행한다. 레벨 조절부(140)에서는 고주파 전류의 세기를 조절하며, 출력부(150)는 소정 세기의 고주파 전류를 출력하는 역할을 수행한다. 출력부(150)에서 출력되는 고주파 전류의 범위는 400㎑ 내지 600㎑의 범위이며, 이러한 대역의 고주파 전류는 제1 전극 유닛(200)과 제2 전극 유닛(300) 을 통해 관리하고자 부위의 두피로 인가된다.The power supply unit 110 supplies power required for each component of the high frequency generation unit 100, the oscillator 120 oscillates a high frequency current, and the amplifier 130 amplifies the high frequency current oscillated by the oscillator 120. It plays a role. The level adjuster 140 adjusts the intensity of the high frequency current, and the output unit 150 serves to output a high frequency current of a predetermined intensity. The range of the high frequency current output from the output unit 150 is in the range of 400 Hz to 600 Hz, and the high frequency current of the band is managed through the first electrode unit 200 and the second electrode unit 300. Is applied.

제1 전극 유닛(200)은 바디부(210), 제1 케이블(230) 및 헤드부(250)를 포함하며 제2 전극 유닛(300)은 제2 전극판(310) 및 제2 케이블(330)를 포함한다.The first electrode unit 200 includes a body portion 210, a first cable 230, and a head portion 250, and the second electrode unit 300 includes a second electrode plate 310 and a second cable 330. ).

제1 전극 유닛(200)의 바디부(210)는 고주파 치료 장치의 사용자가 파지하여 사용하기 용이하도록 스틱(stick) 형태로 형성된다. 바디부(210)는 절연성 재료로 형성되며, 바디부(210)의 내부에는 관통홀(220)이 형성된다. 바디부(210)의 일 단에는 제2 케이블(230)이 삽입되어 체결되고, 타 단에는 헤드부(250)가 삽입되어 체결된다. The body portion 210 of the first electrode unit 200 is formed in a stick shape so that the user of the radiofrequency treatment apparatus can grip and use it. The body portion 210 is formed of an insulating material, and a through hole 220 is formed inside the body portion 210. The second cable 230 is inserted and fastened to one end of the body part 210, and the head part 250 is inserted and fastened to the other end.

헤드부(250)는 관리하고자 하는 두피로 고주파 전류를 인가하기 위한 구성요소로서, 베이스 전극판(미도시)과, 제1 절연체(265), 연결 단자(270) 및 복수의 돌출 단자(280)를 포함한다. The head 250 is a component for applying a high frequency current to the scalp to be managed, and includes a base electrode plate (not shown), a first insulator 265, a connection terminal 270, and a plurality of protruding terminals 280. It includes.

베이스 전극판의 일 면에는 연결 단자(270)의 일 단이 체결되고, 베이스 전극판의 타 면에는 복수의 돌출 단자(280)가 체결되며, 제1 절연체(265)는 베이스 전극판을 둘러싸도록 형성된다. 연결 단자(270)의 타 단은 바디부(210)의 내부에 형성된 관통홀(220)에 삽입되어, 제2 케이블(230)과 전기적으로 접속된다.One end of the connection terminal 270 is fastened to one surface of the base electrode plate, and a plurality of protruding terminals 280 are fastened to the other surface of the base electrode plate, and the first insulator 265 surrounds the base electrode plate. Is formed. The other end of the connection terminal 270 is inserted into the through hole 220 formed in the body 210 to be electrically connected to the second cable 230.

제2 전극 유닛(300)은 인체의 일부 즉, 두피를 제외한 다른 인체 부위(예를 들면, 팔, 손 등)에 접촉되는 제2 전극판(310)과, 제2 전극판(310)과 고주파 발생 유닛(100)의 출력부(150)를 연결하는 제2 케이블(330)로 구성된다. 제2 케이블(330)의 일 단은 출력부(150)와 전기적으로 접속되며, 타 단은 제2 전극판(310)과 전기적으로 접속된다. 제2 전극판(310)은 도전성 재료로 구성되며, 본 실시예에 서는 사각 플레이트 형태로 구성되는 것을 예로서 상술하고 있으나, 제2 전극판(310)의 형태가 이에 한정되는 것은 아니며, 다양한 형태로 형성될 수 있다. The second electrode unit 300 is a part of the human body, that is, the second electrode plate 310 in contact with other parts of the human body (eg, arms, hands, etc.) except the scalp, the second electrode plate 310 and the high frequency. The second cable 330 is connected to the output unit 150 of the generation unit 100. One end of the second cable 330 is electrically connected to the output unit 150, and the other end thereof is electrically connected to the second electrode plate 310. The second electrode plate 310 is made of a conductive material, and in the present embodiment, the shape of the second electrode plate 310 is described as an example, but the shape of the second electrode plate 310 is not limited thereto. It can be formed as.

바람직하게, 제2 전극판(310)은 그라운드 단자로 작동한다. 예를 들어, 제1 전극 유닛(200)을 통해 인체로 인가되는 고주파 전류와 대응하여 제1 전극 유닛(200)을 통해 + 전류가 인가되는 경우 제2 전극판(310)은 - 단자로 작동하며, 제1 전극 유닛(200)을 통해 - 전류가 인가되는 경우 제2 전극판(310)은 + 단자로 작동한다.Preferably, the second electrode plate 310 acts as a ground terminal. For example, when + current is applied through the first electrode unit 200 in response to a high frequency current applied to the human body through the first electrode unit 200, the second electrode plate 310 operates as a negative terminal. When a current is applied through the first electrode unit 200, the second electrode plate 310 operates as a + terminal.

도 5a는 본 고안의 헤드부의 분해 사시도이며, 도 5b는 본 고안의 헤드부의 사시도이고, 도 5c는 본 고안의 헤드부의 변형예이다. Figure 5a is an exploded perspective view of the head of the present invention, Figure 5b is a perspective view of the head of the present invention, Figure 5c is a modification of the head of the present invention.

도 5a 및 도 5b를 참조하면, 헤드부(250)는 베이스 전극판(260), 제1 절연체(265), 연결 단자(270), 복수의 돌출 단자(280)를 포함하며, 제1 절연체(265)는 상부 케이스(266)와 하부 케이스(268)로 구성된다.5A and 5B, the head part 250 includes a base electrode plate 260, a first insulator 265, a connection terminal 270, and a plurality of protruding terminals 280, and includes a first insulator ( 265 includes an upper case 266 and a lower case 268.

베이스 전극판(260)는 전체적으로 원판형으로 형성되며, 복수의 관통홀(261) 및 중앙 관통홀(262)이 형성된다. 관통홀(261)은 상호 이격되어 형성되며, 베이스 전극판(260)의 중심부로부터 소정 간격 이격되도록 형성된다. 즉, 관통홀(261)은 베이스 전극판(260)에 방사상의 형태로 형성된다. 베이스 전극판(260)은 고주파 전류를 통전시키기 위하여 도전성 재료로 형성되며, 본 실시예의 경우 구리(Cu)를 이용하여 형성하나, 베이스 전극판(260)의 재료가 이에 한정되는 것은 아니다.The base electrode plate 260 is generally formed in a disc shape, and a plurality of through holes 261 and a central through hole 262 are formed. The through holes 261 are formed to be spaced apart from each other, and are formed to be spaced apart from the center of the base electrode plate 260 by a predetermined interval. That is, the through hole 261 is formed in the base electrode plate 260 in a radial shape. The base electrode plate 260 is formed of a conductive material to conduct high frequency current. In the present embodiment, the base electrode plate 260 is formed using copper (Cu), but the material of the base electrode plate 260 is not limited thereto.

제1 절연체(265)는 베이스 전극판(260)의 상부에 배치되는 상부 케이스(266)와 베이스 전극판(260)의 하부에 배치되며 상부 케이스(266)와 체결되어 결합되는 하부 케이스(268)로 구성된다. 하부 케이스(268)에는 베이스 전극판(260)에 형성된 복수의 관통홀(261)에 대응되도록 복수의 관통홀(269a)이 형성되며, 상부 케이스(266)의 중앙부에는 관통홀(267)이 형성된다. 연결 단자(270)는 상부 케이스(266)의 관통홀(267)을 통과하여 베이스 전극판(260)의 중앙 관통홀(262)에 체결된다. The first insulator 265 is disposed on the upper case 266 disposed above the base electrode plate 260 and the lower case 268 disposed under the base electrode plate 260 and fastened to and coupled to the upper case 266. It consists of. A plurality of through holes 269a are formed in the lower case 268 to correspond to the plurality of through holes 261 formed in the base electrode plate 260, and a through hole 267 is formed in the center of the upper case 266. do. The connection terminal 270 is fastened to the center through hole 262 of the base electrode plate 260 by passing through the through hole 267 of the upper case 266.

복수의 돌출 단자(280) 각각은 베이스 전극판(260)에 형성된 관통홀(261)에 삽입되어 체결되며, 복수의 돌출 단자(280)는 서로 상이한 길이를 갖도록 형성된다. 길이가 긴 돌출 단자는 베이스 전극판(260)의 외주에 배치되며, 길이가 짧은 돌출 단자는 베이스 전극판(260)의 내주에 배치되게 하여, 복수의 돌출 단자(280)는 전체적으로 중심부가 오목하게 들어간 형태로 형성된다. 이와 같이, 복수의 돌출 단자(280)의 길이를 상이하게 구성하면, 복수의 돌출 단자 모두가 환부에 직접 접촉하게 되고, 이로 인해 두피와의 접촉 면적이 증대되어 두피의 자극을 보다 효율적으로 수행할 수 있게 된다. Each of the plurality of protruding terminals 280 is inserted into and fastened to the through hole 261 formed in the base electrode plate 260, and the plurality of protruding terminals 280 are formed to have different lengths from each other. The long protruding terminal is disposed on the outer circumference of the base electrode plate 260, and the short protruding terminal is disposed on the inner circumference of the base electrode plate 260, so that the plurality of protruding terminals 280 are concave in the center. It is formed into a shape. As such, when the lengths of the plurality of protruding terminals 280 are different from each other, all of the plurality of protruding terminals are in direct contact with the affected part, thereby increasing the contact area with the scalp to more effectively perform the stimulation of the scalp. It becomes possible.

도 5c에 도시된 헤드부는 전체적으로 사각형의 형태로 구성된다는 점이 상이하며, 나머지 구성은 거의 유사한 바, 상이한 구성을 위주로 상술한다. 도 5c에 도시된 헤드부는 전체적으로 사각 플레이트의 형태로 형성된다. 베이스 전극판(미도시)과 베이스 전극판을 둘러싸는 제1 절연체(265a)는 사각 플레이트 형태로 형성된다. The head part shown in FIG. 5C is different in that it is generally configured in the form of a square, and the rest of the configuration is almost similar, and will be described in detail with a different configuration. The head portion shown in FIG. 5C is formed in the form of a square plate as a whole. The base electrode plate (not shown) and the first insulator 265a surrounding the base electrode plate are formed in a rectangular plate shape.

도 6a는 본 고안의 헤드부의 단면도이며, 도 6b는 복수의 돌출 단자의 개략 단면도이다. 6A is a sectional view of a head portion of the present invention, and FIG. 6B is a schematic sectional view of a plurality of protruding terminals.

도 6a 및 도 6b를 참조하면, 복수의 돌출 단자(280)는 제1 그룹 돌출 단자(280a), 제2 그룹 돌출 단자(280b) 및 제3 그룹 돌출 단자(280c)로 구성된다. 제1 그룹 돌출 단자(280a)는 베이스 전극판(260)의 외주부에 배치되며, 제3 그룹 돌출 단자(280c)는 베이스 전극판(260)의 중심 영역에 인접한 내주부에 배치되고, 제2 그룹 돌출 단자(280b)는 제1 그룹 돌출 단자(280a)와 제3 그룹 돌출 단자(280c) 사이에 배치된다. 돌출 단자의 길이는 제1 그룹 돌출 단자(280a), 제2 그룹 돌출 단자(280b) 및 제3 그룹 돌출 단자(280c)의 순서로 길게 형성되어, 복수의 돌출 단자(280)는 전체적으로 중심 영역이 오목하게 들어간 형태로 형성된다. 6A and 6B, the plurality of protruding terminals 280 may include a first group protruding terminal 280a, a second group protruding terminal 280b, and a third group protruding terminal 280c. The first group protruding terminal 280a is disposed at the outer circumferential portion of the base electrode plate 260, and the third group protruding terminal 280c is disposed at the inner circumferential portion adjacent to the central region of the base electrode plate 260, and the second group The protruding terminal 280b is disposed between the first group protruding terminal 280a and the third group protruding terminal 280c. The protruding terminals have a length formed in the order of the first group protruding terminals 280a, the second group protruding terminals 280b, and the third group protruding terminals 280c, so that the plurality of protruding terminals 280 may have a central area as a whole. It is formed in a concave shape.

각 돌출 단자(280)는 전도체(281)와 전도체(281)를 둘러싸도록 형성된 제2 절연체(285)로 구성된다. 본 실시예에서 전도체(281)는 알루미늄으로 구성되나, 전도체의 재료가 이에 한정되는 것은 아니며, 다양하게 변형될 수 있다. 도 6b에 도시된 바와 같이, 제1 내지 제3 그룹 돌출 단자(280a, 280b, 280c)는 각 전도체(281a, 281b, 281c)의 길이는 동일하게 형성되고, 제2 절연체(285a, 285b, 285c)의 코팅 두께를 상이하게 형성하여, 복수의 돌출 단자의 길이를 서로 상이하게 형성할 수 있다. 이와는 달리, 각 전도체의 길이를 상이하게 하고, 제2 절연체의 코팅 두께는 동일하게 형성하여, 복수의 돌출 단자의 길이를 상이하게 조절할 수도 있다.Each protruding terminal 280 is composed of a conductor 281 and a second insulator 285 formed to surround the conductor 281. In the present embodiment, the conductor 281 is made of aluminum, but the material of the conductor is not limited thereto, and may be variously modified. As shown in FIG. 6B, the first to third group protruding terminals 280a, 280b, and 280c have the same length of each of the conductors 281a, 281b, and 281c, and the second insulators 285a, 285b, and 285c. By coating different thicknesses), the lengths of the plurality of protruding terminals can be formed different from each other. Alternatively, the length of each conductor may be different, and the coating thickness of the second insulator may be the same, so that the lengths of the plurality of protruding terminals may be adjusted differently.

이하에서는 제2 절연체(285)의 구성을 제3 그룹 돌출 단자(280c)를 예로서 설명하고 있으나, 나머지 제1 및 제2 그룹 돌출 단자(280a, 280b)의 제2 절연체 역시 제3 그룹 돌출 단자(280c)와 같이 구성된다. Hereinafter, the configuration of the second insulator 285 will be described using the third group protruding terminal 280c as an example, but the second insulator of the remaining first and second group protruding terminals 280a and 280b is also the third group protruding terminal. It is configured as 280c.

제2 절연체(285c)는 전도체(281c) 상에 형성된 제1층(286c)과, 제1층(286c) 상에 형성된 제2층(287c)으로 구성된다. 이때, 제1층(286c)은 전도체(281c) 상에 세라믹 코팅을 함으로써 형성되며, 제2층(287c)은 제1층(286c)상에 나일론 코팅을 함으로써 형성된다. 이와 같이, 전도체(281c)를 2중으로 코팅하게 되면, 제2 절연체에 크랙이 발생하는 것을 방지할 수 있으며, 그 결과 크랙을 통하여 고주파 전류가 직접 인체에 인가되는 것을 방지할 수 있게 되어, 제품의 안정성 및 신뢰성을 보다 향상시킬 수 있게 된다. The second insulator 285c is composed of a first layer 286c formed on the conductor 281c and a second layer 287c formed on the first layer 286c. In this case, the first layer 286c is formed by ceramic coating on the conductor 281c, and the second layer 287c is formed by nylon coating on the first layer 286c. As such, by coating the conductor 281c in double, it is possible to prevent the occurrence of cracks in the second insulator, and as a result, it is possible to prevent the high-frequency current directly applied to the human body through the cracks, Stability and reliability can be further improved.

도 7a는 헤드부의 제1 절연체 중 상부 케이스의 평면도이며, 도 7b는 제1 절연체 중 상부 케이스의 측면도이며, 도 7c는 베이스 전극판의 평면도이며, 도 7c는 제1 절연체 중 하부 케이스의 평면도이다.7A is a plan view of the upper case of the first insulator of the head portion, FIG. 7B is a side view of the upper case of the first insulator, FIG. 7C is a plan view of the base electrode plate, and FIG. 7C is a plan view of the lower case of the first insulator. .

도 7a 내지 도 7d를 참조하면, 제1 절연체의 상부 케이스(266)는 중심 영역이 돌출된 원판형으로 형성되며, 돌출된 부위에는 관통홀(267)이 형성되어, 연결 단자(270)가 삽입될 수 있는 공간을 제공한다. 7A to 7D, the upper case 266 of the first insulator is formed in a disc shape in which a center region protrudes, and a through hole 267 is formed in the protruding portion so that the connection terminal 270 is inserted. Provides space to be

베이스 전극판(260)의 중심 영역에는 중앙 관통홀(262)이 형성되며, 중앙 관통홀 주위에 복수의 관통홀(261)이 소정 간격 이격되게 형성된다. 중앙 관통홀(262)에 인접하게 3개의 관통홀이 형성되며, 그 둘레에 6개의 관통홀이 형성되 고, 최외각에 12개의 관통홀이 형성되어, 복수의 관통홀은 전체적으로 방사상의 형태로 형성된다. A central through hole 262 is formed in the central region of the base electrode plate 260, and a plurality of through holes 261 are formed around the central through hole so as to be spaced apart by a predetermined interval. Three through-holes are formed adjacent to the central through-hole 262, six through-holes are formed around it, and twelve through-holes are formed on the outermost side, and the plurality of through-holes are formed in a radial shape as a whole. do.

하부 케이스(268)는 베이스 전극판(260)에 형성된 복수의 관통홀(261)에 크기 및 위치가 대응되는 복수의 관통홀(269)이 형성되어, 복수의 돌출 단자(미도시)가 삽입될 수 있는 공간을 제공하며, 중심 영역에는 삽입홈(269b)이 형성되어, 연결 단자(270)의 단부가 삽입된다.The lower case 268 has a plurality of through holes 269 corresponding to sizes and positions formed in the plurality of through holes 261 formed in the base electrode plate 260, and a plurality of protruding terminals (not shown) may be inserted therein. It provides a space for the insertion, the insertion groove (269b) is formed in the center area, the end of the connection terminal 270 is inserted.

도 8은 본 고안의 다른 실시예에 따른 모발 관리용 고주파 치료 장치의 사시도이다. 도 8에 도시된 실시예는 상기 실시예와 비교하여 제1 전극 유닛이 제2 전극 유닛의 일부에 설치된다는 점이 상이하며, 이하에서는 상이한 구성을 위주로 상술한다.8 is a perspective view of a radio frequency treatment device for hair care according to another embodiment of the present invention. The embodiment shown in FIG. 8 differs from the above embodiment in that the first electrode unit is provided in a part of the second electrode unit, and will be described below with a different configuration.

도 8을 참조하면, 본 고안의 다른 실시예에 따른 모발 관리용 고주파 치료 장치는 고주파 전류를 발생하는 고주파 발생 유닛(100), 복수의 돌출 단자를 구비하며 발생한 고주파 전류를 복수의 돌출 단자를 통해 관리하고자 하는 두피로 인가하는 제1 전극 유닛(200) 및 신체에 접촉되는 전극판을 구비하며 두피로 인가된 고주파 전류를 전극판으로 통전시키는 제2 전극 유닛(300)을 포함한다. Referring to FIG. 8, the radio frequency treatment apparatus for managing hair according to another embodiment of the present invention includes a high frequency generating unit 100 for generating a high frequency current and a plurality of protruding terminals, and generates the generated high frequency current through the plurality of protruding terminals. And a second electrode unit 300 having a first electrode unit 200 to be applied to the scalp to be managed and an electrode plate contacting the body, and energizing the high frequency current applied to the scalp through the electrode plate.

제1 전극 유닛(200)은 바디부(210), 제1 케이블(230) 및 헤드부(250)를 포함하며, 제2 전극 유닛(300)은 제2 전극판(320) 및 제2 케이블(330)를 포함한다. 제2 전극판(320)은 제1 전극 유닛(200)의 바디부(210) 상에 형성된다. 그 결과, 사용자는 제1 전극 유닛(200)의 바디부(210)를 파지하여 헤드부(250)를 환부 즉, 두피에 접촉시키면, 바디부(210)를 파지한 손이 제2 전극판(320)에 접촉되기 때문에, 별도 로 제2 전극판(320)과 인체의 일부를 접촉시키기 위한 부수적인 행위를 하지 않아도 고주파 치료를 수행할 수 있게 된다.The first electrode unit 200 includes a body portion 210, a first cable 230, and a head portion 250, and the second electrode unit 300 includes a second electrode plate 320 and a second cable ( 330). The second electrode plate 320 is formed on the body portion 210 of the first electrode unit 200. As a result, when the user grips the body portion 210 of the first electrode unit 200 and makes the head portion 250 contact with the affected part, ie, the scalp, the hand holding the body portion 210 may cause the second electrode plate ( 320, the radio frequency treatment may be performed without any additional act of contacting the second electrode plate 320 and a part of the human body.

이상에서 설명한 것은 본 고안에 따른 두피 관리용 전극 유닛의 예시적인 실시예에 불과한 것으로서, 본 고안은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 실용신안등록청구범위에서 청구하는 바와 같이, 본 고안의 요지를 벗어남이 없이 당해 고안이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능한 범위까지 본 고안의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.As described above is merely an exemplary embodiment of the electrode unit for scalp management according to the present invention, the present invention is not limited to the above embodiment, as claimed in the following utility model registration claims, Without departing from the gist, any person having ordinary knowledge in the field to which the present invention belongs will have a technical spirit of the present invention to the extent that various modifications can be made.

도 1은 종래 기술에 따른 고주파 치료 장치의 사시도이다.1 is a perspective view of a radiofrequency treatment apparatus according to the prior art.

도 2는 본 고안의 일 실시예에 따른 두피 관리용 고주파 치료 장치의 사시도이다.2 is a perspective view of a radiofrequency treatment device for scalp management according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 고안의 일 실시예에 따른 두피 관리용 고주파 치료 장치의 개략적인 기능 블록도이다.Figure 3 is a schematic functional block diagram of a radiofrequency treatment device for scalp management according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 고안의 제1 전극 유닛의 분해 사시도이다.4 is an exploded perspective view of the first electrode unit of the present invention.

도 5a는 본 고안의 헤드부의 분해 사시도이며, 도 5b는 본 고안의 헤드부의 사시도이고, 도 5c는 본 고안의 헤드부의 변형예이다.Figure 5a is an exploded perspective view of the head of the present invention, Figure 5b is a perspective view of the head of the present invention, Figure 5c is a modification of the head of the present invention.

도 6a는 본 고안의 헤드부의 단면도이며, 도 6b는 복수의 돌출 단자의 개략 단면도이다.6A is a sectional view of a head portion of the present invention, and FIG. 6B is a schematic sectional view of a plurality of protruding terminals.

도 7a는 헤드부의 제1 절연체 중 상부 케이스의 평면도이며, 도 7b는 제1 절연체 중 상부 케이스의 측면도이며, 도 7c는 베이스 전극판의 평면도이고, 도 7d는 제1 절연체 중 하부 케이스의 평면도이다.7A is a plan view of the upper case of the first insulator of the head portion, FIG. 7B is a side view of the upper case of the first insulator, FIG. 7C is a plan view of the base electrode plate, and FIG. 7D is a plan view of the lower case of the first insulator. .

도 8은 본 고안의 다른 실시예에 따른 두피용 고주파 치료 장치의 사시도이다.8 is a perspective view of a radiofrequency treatment apparatus for a scalp according to another embodiment of the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

100 : 고주파 발생 유닛100: high frequency generation unit

200 : 제1 전극 유닛200: first electrode unit

210 : 바디부210: body part

230 : 제1 케이블230: first cable

250 : 헤드부250: head

260 : 베이스 전극판260: base electrode plate

265 : 제1 절연체265: first insulator

270 : 연결 단자270 connection terminal

280 : 돌출 단자280: protruding terminal

285 : 제2 절연체285: second insulator

300 : 제2 전극 유닛300: second electrode unit

Claims (10)

고주파 전류를 두피로 인가하여 두피 내부에서 심부열을 발생시키고, 상기 발생한 심부열을 통해 두피를 관리하는 두피 관리용 전극 유닛에 있어서, In the scalp management electrode unit for generating a deep heat inside the scalp by applying a high frequency current to the scalp, and manages the scalp through the generated deep heat, 평판 형태의 베이스 전극판;A base electrode plate in the form of a plate; 상기 베이스 전극판의 일 측에 형성되어 있으며 고주파 전류가 입력되는 연결 단자; 및A connection terminal formed at one side of the base electrode plate and receiving a high frequency current; And 상기 베이스 전극판의 타 측에 형성되어 있으며 상기 입력된 고주파 전류를 관리하고자 하는 두피로 인가하는 복수의 돌출 단자를 포함하는 두피 관리용 전극 유닛.The electrode unit for scalp management is formed on the other side of the base electrode plate and comprises a plurality of protruding terminals for applying to the scalp to manage the input high frequency current. 제 1 항에 있어서, 상기 두피 관리용 전극 유닛은The method of claim 1, wherein the scalp management electrode unit 상기 베이스 전극판을 둘러싸는 제1 절연체를 더 포함하며,Further comprising a first insulator surrounding the base electrode plate, 상기 각 돌출 단자는 전도체 및 상기 전도체를 둘러싸는 제2 절연체를 포함하는 것을 특징으로 하는 두피 관리용 전극 유닛.Wherein each protruding terminal comprises a conductor and a second insulator surrounding the conductor. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 베이스 전극판에는 제1 체결홀 및 복수의 제2 체결홀이 형성되며,A first fastening hole and a plurality of second fastening holes are formed in the base electrode plate. 상기 연결 단자는 상기 제1 체결홀에 삽입되어 체결되는 제1 체결부를 더 포함하며, 상기 각 돌출 단자는 상기 각 제2 체결홀에 삽입되어 체결되는 제2 체결부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 두피 관리용 전극 유닛.The connection terminal further includes a first fastening part inserted into and fastened to the first fastening hole, and each protruding terminal further includes a second fastening part inserted into and fastened to the respective second fastening holes. Electrode unit for management. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 베이스 전극판, 상기 연결 단자 및 상기 복수의 돌출 단자는 일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 두피 관리용 전극 유닛.And the base electrode plate, the connection terminal and the plurality of protruding terminals are integrally formed. 제2항에 있어서, 상기 제1 절연체는The method of claim 2, wherein the first insulator 상기 베이스 전극판의 상부를 덮는 상부 케이스; 및An upper case covering an upper portion of the base electrode plate; And 상기 상부 절연체와 결합되며, 상기 베이스 전극판의 하부를 덮는 하부 케이스를 포함하는 것을 특징으로 하는 두피 관리용 전극 유닛.And a lower case coupled to the upper insulator and covering a lower portion of the base electrode plate. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 복수의 돌출 단자는 상호 이격되게 배치되며, 상기 복수의 돌출 단자의 길이는 상기 베이스 전극판의 중심 영역으로 갈수록 짧아지게 형성되는 것을 특징으로 하는 두피 관리용 전극 유닛.The plurality of protruding terminals are disposed to be spaced apart from each other, the length of the plurality of protruding terminals is shorter toward the center area of the base electrode plate characterized in that the electrode unit for managing the scalp. 제2항에 있어서, 상기 제2 절연체는The method of claim 2, wherein the second insulator 상기 전도체를 둘러싸도록 코팅된 제1층; 및A first layer coated to surround the conductor; And 상기 제1층 상에 코팅된 제2층으로 구성되는 것을 특징으로 하며, 상기 제1 층은 세라믹을 포함하며, 상기 제2 층은 나일론을 포함하는 것을 특징으로 하는 두피 관리용 전극 유닛.And a second layer coated on the first layer, wherein the first layer comprises a ceramic and the second layer comprises nylon. 고주파 전류를 발생시키기 위한 고주파 발생 유닛;A high frequency generating unit for generating a high frequency current; 관리하고자 하는 두피와 접촉되는 복수의 돌출 단자를 구비하며, 상기 발생한 고주파 전류를 상기 복수의 돌출 단자를 통해 관리하고자 하는 두피로 인가하는 제1 전극 유닛; 및A first electrode unit having a plurality of protruding terminals in contact with the scalp to be managed, and applying the generated high frequency current to the scalp to be managed through the plurality of protruding terminals; And 신체의 일부와 접촉되는 전극판을 구비하며 상기 두피로 인가된 고주파 전류를 상기 접촉된 신체 일부로 통전시키는 제2 전극 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 두피 관리용 고주파 치료 장치.And a second electrode unit having an electrode plate in contact with a part of the body and energizing the high frequency current applied to the scalp to the part of the contacted body. 제8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 제1 전극 유닛은 상기 제2 전극 유닛의 바디부 상에 형성되는 것을 특 징으로 하는 두피 관리용 고주파 치료 장치.And the first electrode unit is formed on the body portion of the second electrode unit. 제8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 고주파 전류는 400㎑ 내지 600㎑의 범위인 것을 특징으로 하는 두피 관리용 고주파 치료 장치.The high frequency current is a high frequency treatment device for scalp, characterized in that the range of 400 kHz to 600 kHz.
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