KR20080098727A - Semiconductor memory device and method for controlling equalizing unit - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명의 상세한 설명에서 인용되는 도면을 보다 충분히 이해하기 위하여 각 도면의 간단한 설명이 제공된다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS In order to better understand the drawings cited in the detailed description of the invention, a brief description of each drawing is provided.
도 1은 종래의 기술에 따른 게이트 전압 제어 유닛과 이퀄라이징 유닛을 포함하는 반도체 장치의 회로도를 나타낸다.1 shows a circuit diagram of a semiconductor device including a gate voltage control unit and an equalizing unit according to the prior art.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 게이트 전압 제어 유닛과 이퀄라이징 유닛을 포함하는 반도체 장치의 회로도를 나타낸다.2 is a circuit diagram of a semiconductor device including a gate voltage control unit and an equalizing unit according to an embodiment of the present invention.
도 3은 도 2에 도시된 반도체 장치의 제어신호들의 타이밍도이다. 3 is a timing diagram of control signals of the semiconductor device illustrated in FIG. 2.
본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 특히 이퀄라이징 유닛의 동작을 제어할 수 있는 장치와 방법에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to semiconductor memory devices, and more particularly, to an apparatus and a method capable of controlling the operation of an equalizing unit.
도 1은 종래의 기술에 따른 게이트 전압 제어 유닛과 이퀄라이징 유닛을 포함하는 반도체 장치의 회로도를 나타낸다. 도 1을 참조하면, 상기 메모리 장치(100)는 비트라인(103), 상보 비트라인(105), 워드라인(107), 메모리 셀(110), 이퀄라이징 유닛(120), 및 게이트 전압 제어 유닛(130)을 포함한다. 1 shows a circuit diagram of a semiconductor device including a gate voltage control unit and an equalizing unit according to the prior art. Referring to FIG. 1, the
상기 메모리 셀(110)은 스위치 역할을 하는 하나의 트랜지스터(113)와 데이터를 저장하는 하나의 캐패시터(115)를 포함한다. 상기 캐패시터(115)는 상기 트랜지스터(113)와 접지전압(VSS) 사이에 접속된다. 상기 게이트 전압 제어 유닛(130)은 제1전압(VCC)과 접지전압(VSS) 사이에 접속되며, 다수의 PMOS 트랜지스터들과 다수의 NMOS 트랜지스터들을 구비한다. 상기 게이트 전압 제어 유닛(130)은 제어신호(BLKSEL)와 상기 제어신호(BLKSEL)에 연관된 신호에 기초하여 제1전압(VCC) 또는 접지전압(VSS)을 갖는 출력신호(PEQBR)를 발생한다.The
상기 이퀄라이징 유닛(120)은 상기 비트라인(103)과 상기 상보 비트라인(105) 사이에 접속되며, 제1NMOS 트랜지스터(123), 제2NMOS 트랜지스터(125), 및 제3NMOS 트랜지스터(127)를 포함한다. 상기 NMOS 트랜지스터(123, 125, 및 127)들 각각의 게이트 단자는 상기 게이트 전압 제어 유닛(130)으로부터 출력된 상기 출력신호(PEQBR)를 수신한다. 상기 제1 및 제2 NMOS 트랜지스터들(233과 235)각각은 하이 레벨을 갖는 상기 출력신호(PEQBR)에 응답하여 온(on)되어 상기 비트라인(103)과 상기 상보 비트라인(105)으로 프리차지전압(VBL)을 공급하고, 상기 제3NMOS 트랜지스터(127)는 하이 레벨을 갖는 상기 출력신호(PEQBR)에 응답하여 상기 비트라인(103)과 상기 상보 비트라인(105)의 전압을 이퀄라이징한다.The equalizing
반도체 메모리가 점차 소형화, 대용량화, 및 고속화됨에 따라 상기 MOS트랜지스터들의 집적도를 증가시키기 위해, 상기 MOS 트랜지스터의 사이즈와 전원전압은 스케일 다운(scale down)되고 있다. 상기 MOS 트랜지스터의 사이즈를 줄이기 위 해 산화막의 두께를 얇게하면, 채널을 따라 이동하는 전류가 상기 산화막을 통과하여 게이트로 흘러나오는 전류, 즉 게이트 누설 전류(gate leakage current)가 발생한다. 상기 게이트 누설 전류는 상기 반도체 메모리 장치의 소비전력을 증가시킨다.As semiconductor memories become smaller, larger, and faster, the size and power supply voltage of the MOS transistors are scaled down to increase the integration degree of the MOS transistors. When the thickness of the oxide film is reduced to reduce the size of the MOS transistor, a current flowing along the channel passes through the oxide film and flows to the gate, that is, a gate leakage current occurs. The gate leakage current increases power consumption of the semiconductor memory device.
또한 상기 MOS 트랜지스터의 게이트 단자에 인가되는 전원전압이 감소되면 산화막 아래쪽에 충분한 채널이 형성되지 않아 전류의 흐름이 감소할 수 있다. 상기 전원전압이 감소됨에 따라, 상기 메모리 장치는 비트라인(103)과 상보 비트라인(105)을 통해 메모리 셀(110)의 데이터를 감지 증폭하는 감지전압이 감소하여 동작 속도가 느려질 수 있다.In addition, when the power supply voltage applied to the gate terminal of the MOS transistor is reduced, sufficient channels may not be formed below the oxide layer, thereby reducing the flow of current. As the power supply voltage is decreased, an operating speed of the memory device may decrease by decreasing a sensing voltage for sensing and amplifying data of the
상기 반도체 메모리의 빠른 읽기/쓰기 동작은 이퀄라이징 유닛의 동작 속도에 의존한다. tRP(Ras Precharge Time)은 메모리 장치의 재충전을 위해 전하를 충분히 충전하기 위한 시간을 나타내며, 메모리 장치의 시스템의 성능을 결정하는 요소중의 하나이다. 즉, 상기 tRP를 감소시키면 낮은 전원 전압하에 동작되는 메모리 장치의 고속 동작을 구현할 수 있다.The fast read / write operation of the semiconductor memory depends on the operating speed of the equalizing unit. Ras Precharge Time (tRP) represents a time for sufficiently charging the charge for recharging the memory device, and is one of the factors that determine the performance of the system of the memory device. In other words, by reducing the tRP, a high speed operation of a memory device operated under a low power supply voltage may be realized.
따라서, MOS 트랜지스터의 게이트 누설 전류를 억제하고, 고속으로 동작할 수 있는 반도체 메모리 장치가 요구된다.Therefore, there is a demand for a semiconductor memory device capable of suppressing the gate leakage current of a MOS transistor and operating at high speed.
따라서 본 발명이 이루고자 하는 기술적인 과제는 게이트 누설 전류를 억제할 수 있는 반도체 메모리 장치 및 상기 반도체 메모리 장치의 이퀄라이징 제어 방법을 제공하는 것이다. Accordingly, a technical problem to be achieved by the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of suppressing gate leakage current and an equalization control method of the semiconductor memory device.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 반도체 장치는 게이트 누설 전류를 억제하고 고속으로 동작하기 위하여 게이트 전압 제어 유닛과 이퀄라이징 유닛을 구비한다.The semiconductor device for achieving the above technical problem includes a gate voltage control unit and an equalizing unit to suppress the gate leakage current and operate at a high speed.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 이퀄라이징 유닛 제어 방법은 프리차지 동작시, 제어신호에 응답하여 제1전압을 이퀄라이징 유닛으로 공급하는 (a)단계; 및 상기 제어신호에 응답하여 상기 제1전압의 레벨보다 낮은 레벨을 갖는 제2전압을 상기 이퀄라이징 유닛으로 공급하는 (b)단계를 구비한다.The equalizing unit control method for achieving the above technical problem comprises the steps of: (a) supplying a first voltage to the equalizing unit in response to a control signal during a precharge operation; And (b) supplying a second voltage having a level lower than that of the first voltage to the equalizing unit in response to the control signal.
상기 이퀄라이징 유닛 제어방법은, 상기 제어신호와 상기 제어신호에 연관된 신호들의 조합에 기초하여 제1스위칭 제어신호와 제2스위칭 제어신호를 발생하는 단계를 더 포함하며, 상기 (a)단계는 상기 제어신호와 상기 제1스위칭 제어신호에 응답하여 상기 제1전압을 상기 이퀄라이징 유닛으로 공급하는 단계이고, 상기 (b)단계는 상기 제어신호와 상기 제2스위칭 제어신호에 응답하여 상기 제2전압을 상기 이퀄라이징 유닛으로 공급하는 단계를 구비한다.The equalizing unit control method may further include generating a first switching control signal and a second switching control signal based on a combination of the control signal and the signals associated with the control signal, wherein step (a) is performed. Supplying the first voltage to the equalizing unit in response to a signal and the first switching control signal, and step (b) includes the second voltage in response to the control signal and the second switching control signal. Supplying to an equalizing unit.
또한, 비트라인과 상보 비트라인 프리차지 방법은 프리차지 동작시, 이퀄라이징 유닛으로 공급되는 제1전압에 응답하여 비트라인과 상보 비트라인 각각을 프리차지 전압으로 프리차지하는 단계; 및 상기 이퀄라이징 유닛으로 공급되는 상기 제1전압의 레벨보다 낮은 레벨을 갖는 제2전압에 응답하여 상기 비트라인과 상기 상보 비트라인 각각을 상기 프리차지 전압으로 프리차지하는 단계를 구비한다.Further, the bit line and complementary bit line precharge method may further include: precharging each of the bit line and the complementary bit line to a precharge voltage in response to a first voltage supplied to the equalizing unit during a precharge operation; And precharging each of the bit line and the complementary bit line to the precharge voltage in response to a second voltage having a level lower than the level of the first voltage supplied to the equalizing unit.
반도체 메모리 장치는 비트라인; 상보 비트라인; 제어신호와 상기 제어신호 에 연관된 신호들에 기초하여 제1전압을 출력한 후 상기 제1전압보다 낮은 레벨을 갖는 제2전압을 출력하기 위한 게이트 전압 제어 유닛; 및 상기 비트라인과 상기 상보 비트라인 사이에 접속되고, 상기 제1전압에 응답하여 프리차지 전압을 상기 비트라인과 상기 상보 비트라인으로 공급한 후 상기 제2전압에 기초하여 상기 프리차지 전압을 상기 비트라인과 상기 상보 비트라인으로 공급하기 위한 이퀄라이저를 구비한다.The semiconductor memory device includes a bit line; Complementary bitline; A gate voltage control unit for outputting a first voltage based on a control signal and signals associated with the control signal and then outputting a second voltage having a level lower than the first voltage; And supplying a precharge voltage to the bit line and the complementary bit line in response to the first voltage and supplying the precharge voltage based on the second voltage. And an equalizer for supplying a bit line and the complementary bit line.
상기 게이트 전압 제어 유닛은, 상기 제어신호와 상기 제어신호에 연관된 신호들을 기초하여 서로 다른 위상을 갖는 제1스위칭 제어신호와 제2스위칭 제어신호를 발생하는 스위칭 신호 발생 유닛; 및 상기 제1스위칭 제어신호에 응답하여 상기 제1전압을 출력한 후 상기 제2스위칭 제어신호에 응답하여 상기 제2전압을 순차적으로 출력하기 위한 전압 공급 유닛을 구비한다.The gate voltage control unit may include: a switching signal generation unit configured to generate a first switching control signal and a second switching control signal having different phases based on the control signal and the signals associated with the control signal; And a voltage supply unit for outputting the first voltage in response to the first switching control signal and then sequentially outputting the second voltage in response to the second switching control signal.
상기 게이트 전압 제어 유닛은, 상기 제어신호를 수신하기 위한 인버터; 상기 제어신호를 지연시키기 위한 지연 유닛; 상기 제어신호와 상기 지연 유닛의 출력신호에 응답하여 상기 제2스위칭 제어신호를 발생하기 위한 제1NAND 게이트; 상기 제어신호와 상기 제1NAND 게이트의 출력신호에 응답하여 상기 제1스위칭 제어신호를 발생하기 위한 제2NAND 게이트; 상기 제1스위칭 제어신호에 응답하여 상기 제1전압을 상기 게이트 제어유닛의 출력단자로 공급하는 것을 제어하는 제1스위치; 상기 제2스위칭 제어신호에 응답하여 상기 제2전압을 상기 게이트 제어유닛의 출력단자로 공급하는 것을 제어하는 제2스위치; 및 상기 인버터로부터 출력된 신호에 응답하여 접지전압을 상기 게이트 제어유닛의 출력단자로 공급하는 것을 제어하는 제2스위치를 구비한다.The gate voltage control unit includes an inverter for receiving the control signal; A delay unit for delaying the control signal; A first NAND gate for generating the second switching control signal in response to the control signal and an output signal of the delay unit; A second NAND gate for generating the first switching control signal in response to the control signal and an output signal of the first NAND gate; A first switch controlling supply of the first voltage to an output terminal of the gate control unit in response to the first switching control signal; A second switch controlling the supply of the second voltage to the output terminal of the gate control unit in response to the second switching control signal; And a second switch for controlling supplying a ground voltage to an output terminal of the gate control unit in response to a signal output from the inverter.
본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다.In order to fully understand the present invention, the operational advantages of the present invention, and the objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings which illustrate preferred embodiments of the present invention and the contents described in the accompanying drawings.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Like reference numerals in the drawings denote like elements.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 게이트 전압 제어 유닛과 이퀄라이징 유닛을 포함하는 반도체 장치의 회로도를 나타낸다. 도 2를 참조하면, 상기 메모리 장치(200)는 비트라인(103), 상보 비트라인(105), 워드라인(107), 메모리 셀(110), 이퀄라이징 유닛(220), 및 게이트 전압 제어 유닛(230)을 포함한다2 is a circuit diagram of a semiconductor device including a gate voltage control unit and an equalizing unit according to an embodiment of the present invention. 2, the
제1전압(VCC)과 제2전압(VINT)을 순차적으로 출력할 수 있는 상기 게이트 전압 제어 유닛(230)은 스위칭 신호 발생 유닛(240)과 전압공급유닛(250)을 포함한다. The gate
상기 스위칭 신호 발생 유닛(240)은 지연 유닛(243), 제1NAND 게이트(245), 및 제2NAND 게이트(247)를 포함한다. The switching
상기 지연 유닛(243)은 제어신호(BLKSEL)를 수신하여 일정 시간(td)을 지연시킨 후, 지연신호(ds1)를 발생한다. 상기 지연신호(ds1)는 상기 제어신호(BLKSEL)와 위상이 서로 다른 신호이다.The
상기 제2NAND 게이트(247)는 상기 제어신호(BLKSEL)와 상기 지연신호(ds1)를 수신하고, 이들을 NAND연산하여 제2스위칭 신호(sw2)를 발생한다.The
상기 제1NAND 게이트(245)는 상기 제어신호(BLKSEL)와 상기 제2스위칭 신호(sw2)를 수신하고, 이들을 NAND연산하여 제1스위칭 신호(sw1)를 발생한다.The
상기 제1스위칭신호(sw1)와 상기 제2스위칭 신호(sw2)는 서로 다른 위상을 갖는다.The first switching signal sw1 and the second switching signal sw2 have different phases.
상기 전압공급유닛(250)은 인버터(253), 제1스위치(255), 제2스위치(257), 및 제3스위치(259)를 포함한다. 본 발명의 실시예에 따른 상기 제1스위치(255) 및 상기 제2 스위치(257)는 PMOS 트랜지스터로 구현되며, 상기 제3스위치는 NMOS 트랜지스터로 구현되나 이에 한정되는 것은 아니다. The
상기 인버터(253)는 제1전압(VCC)과 접지전압(VSS) 사이에 접속되며, PMOS 트랜지스터와 NMOS 트랜지스터를 포함한다. 상기 인버터(253)는 상기 제어신호(BLKSEL)를 수신하고, 상기 제어신호(BLKSEL)와 반대의 위상을 갖는 제3스위칭 신호(sw3)를 출력한다. The
상기 제1스위치(255)는 제1NAND 게이트(245)로부터 출력된 제1스위칭 신호(sw1)를 수신하고, 상기 제1스위칭 신호(sw1)의 신호 레벨에 따라 상기 제1전압(VCC)을 출력신호(PEQBR)로서 출력한다. 예컨대, 상기 제1스위치(255)는 상기 제1 스위칭 신호(sw1)가 제1레벨(예컨대, 로우 레벨)일 때는 상기 제1전압(VCC)을 출력하고, 제2레벨(예컨대, 하이레벨)일 때는 오프된다. The
상기 제2스위치(257)는 제2NAND 게이트(247)로부터 출력된 제2스위칭 신호(sw2)를 수신하고, 상기 제2스위칭 신호(sw2)의 레벨에 따라 상기 제1전압(VCC) 보다 낮은 레벨을 갖는 제2전압(VINT)을 출력신호(PEQBR)로서 출력한다. 예컨대, 상기 제2스위칭 신호(sw2)가 제1레벨일 때는 상기 제2스위치(257)는 제2전압(VINT)을 출력하고, 상기 제2레벨일 때는 오프된다. The
상기 제3스위치(259)는 상기 인버터(253)로부터 출력된 제3스위칭 신호(sw3)를 수신하고, 상기 제3스위칭 신호(sw3)의 레벨에 따라 접지전압(VSS)을 출력신호(PEQBR)로서 출력한다. 예컨대, 상기 제3스위칭 신호(sw3)의 레벨이 상기 제1레벨일 때는 상기 제3스위치(259)는 오프되고, 상기 제2레벨일 때는 상기 제3스위치(259)는 온되어 접지전압(VSS)을 출력한다.The
상기 제1스위칭신호(sw1), 제2스위칭신호(sw2), 및 제3스위칭신호(sw3) 각각은 서로 다른 위상을 갖는 신호이다. 즉, 상기 게이트 전압 제어 유닛(230)은 상기 제어신호(BLKSEL)와 상기 제어신호(BLKSEL)에 연관된 신호들(sw1, sw2, 및 sw3)을 조합하여 프리차지 동작시 일정 시간(td)동안 제1전압(VCC)을 출력하여 빠르게 상기 비트라인(103)과 상기 상보 비트라인(105)을 프리차지한다. 또한 일정 시간(td)이 지난 후, 상기 제1전압(VCC)의 레벨보다 낮은 레벨을 갖는 제2전압(VINT)을 순차적으로 출력하여 상기 프리차지 동작을 수행한다. 상기 프리차지 동작이 종료되면, 상기 게이트 전압 제어 유닛(230)은 접지전압(VSS)을 출력한다.Each of the first switching signal sw1, the second switching signal sw2, and the third switching signal sw3 is a signal having a different phase. That is, the gate
상기 이퀄라이징 유닛(220)은 상기 비트라인(203)과 상기 상보 비트라인(205) 사이에 접속되며, 제1NMOS 트랜지스터(223), 제2NMOS 트랜지스터(225), 및 제3NMOS 트랜지스터(257)를 포함한다. 상기 NMOS 트랜지스터들(223, 225, 및 227) 각각의 게이트 단자는 상기 게이트 전압 제어 유닛(230)으로부터 출력된 상기 출력 신호(PEQBR)를 수신한다. 상기 게이트 전압 제어 유닛(230)이 제1전압(VCC)을 출력하는 경우 상기 제1 및, 제2 NMOS 트랜지스터들(223, 및 225) 각각은 상기 출력신호(PEQBR)에 응답하여 온되어 상기 비트라인(103)과 상기 상보 비트라인(105)으로 프리차지전압(VBL)을 공급하고, 상기 제3NMOS 트랜지스터(227)는 상기 비트라인(203)과 상기 상보 비트라인(205)의 전압을 이퀄라이징한다.The equalizing
상기 제1전압(VCC), 제2전압(VINT), 및 접지전압(VSS)에 따른 상기 이퀄라이징 유닛(220)에 대한 상세한 설명은 도 3을 참조하여 상세히 설명될 것이다.A detailed description of the equalizing
도 3은 도 2에 도시된 반도체 장치의 제어신호들의 타이밍도이다.3 is a timing diagram of control signals of the semiconductor device illustrated in FIG. 2.
상기 제어신호(BLKSEL)가 제1레벨(예컨대, 로우 레벨)을 갖는 구간 동안, 즉 제1구간(T1) 동안, 게이트 전압 제어 유닛(230)은 이퀄라이징 유닛(220)으로 접지전압(VSS)을 공급한다. 따라서 상기 이퀄라이징 유닛(220)에서 프리차지 동작이 수행되지 않는다.During the period in which the control signal BLKSEL has the first level (eg, the low level), that is, during the first period T1, the gate
그러나, 상기 제어신호(BLKSEL)가 제1레벨(예컨대, 로우 레벨)에서 제2레벨(예컨대, 하이 레벨)로 천이하면, 게이트 전압 제어 유닛(230)은 T2구간 동안 제1전압(VCC)을 상기 이퀄라이징 유닛(220)으로 공급하고, 상기 T2구간에 연이어 발생하는 T3구간동안 상기 게이트 전압 제어 유닛(230)은 제1전압(VCC) 레벨보다 낮은 레벨을 갖는 제2전압(VINT)을 상기 이퀄라이징 유닛(220)으로 공급한다. 따라서 상기 이퀄라이징 유닛(220)은 제1전압(VCC)와 제2전압(VINT) 각각에 응답하여 프리차지 동작을 수행한다.However, when the control signal BLKSEL transitions from the first level (eg, low level) to the second level (eg, high level), the gate
좀 더 상세히 설명하면, 상기 제2스위칭 신호(sw2)는 상기 제어신호(BLKSEL) 와 상기 지연 신호(ds1)를 NAND연산한 신호이다. 상기 제2스위칭 신호(sw2)가 제2레벨 일 때 상기 제2스위치(257)는 오프되며, 제1레벨 일때 상기 제2스위치(257)는 온된다. 따라서, 상기 제2스위치(257)는 제1레벨을 갖는 제2스위칭 신호(sw2)에 응답하여 이퀄라이징 유닛(220)으로 제2전압(VINT)을 출력신호(PEQBR)로서 출력한다.In more detail, the second switching signal sw2 is a signal obtained by NAND operation of the control signal BLKSEL and the delay signal ds1. The
상기 제1스위칭 신호(sw1)는 상기 제어신호(BLKSEL)와 상기 제2스위칭 신호(sw2)를 NAND연산한 신호이다. 상기 제1스위치(255)는 제1레벨을 갖는 제1스위칭 신호(sw1)에 응답하여 이퀄라이징 유닛(220)으로 제1전압(VCC)을 출력신호(PEQBR)로서 출력한다.The first switching signal sw1 is a signal obtained by NAND operation of the control signal BLKSEL and the second switching signal sw2. The
본 발명의 실시예에 따른 게이트 전압 제어 유닛(230)는 프리차지 동작시 상기 제어신호(BLKSEL)와 상기 제어신호(BLKSEL)와 연관된 신호들(SW1, SW2, 및 SW3)에 기초하여 제1전압(VCC)과 제2전압(VINT)을 순차적으로 출력한다.The gate
즉, 게이트 전압 제어 유닛(230)은, 프리차지 동작시, tRP을 빠르게 하기 위하여 일정 시간(td)동안 제1전압(VCC)을 이퀄라이징 유닛(220)으로 인가하고, 일정 시간(td)이 지난뒤에는 게이트 누설 전류를 감소시키기 위하여 상기 제1전압(VCC)의 레벨보다 낮은 레벨을 갖는 제2전압(VINT)을 이퀄라이징 유닛(220)으로 인가한다.That is, in the precharge operation, the gate
본 발명은 도면에 도시된 일 실시 예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 등록청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이 다.Although the present invention has been described with reference to one embodiment shown in the drawings, this is merely exemplary, and those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.
상술한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 반도체 메모리 장치 및 상기 반도체 메모리 장치의 이퀄라이징 유닛 제어 방법은 높은 전압으로 인한 게이트 누설 전류를 억제하여 소비 전력을 감소시킬 수 있는 효과가 있다.As described above, the semiconductor memory device and the method of controlling the equalizing unit of the semiconductor memory device according to the embodiment of the present invention have the effect of reducing the power consumption by suppressing the gate leakage current caused by the high voltage.
또한, 상기 이퀄라이징 유닛 제어 방법은 낮은 전압을 사용하는 메모리 장치에서 프리차지 동작시 일정 시간동안 높은 전압을 인가하여 tRP에 빠르게 도달하여 고속으로 동작할 수 있는 효과가 있다.In addition, the equalizing unit control method has an effect of rapidly reaching tRP and operating at a high speed by applying a high voltage for a predetermined time during a precharge operation in a memory device using a low voltage.
Claims (6)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020070043954A KR20080098727A (en) | 2007-05-07 | 2007-05-07 | Semiconductor memory device and method for controlling equalizing unit |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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KR20080098727A true KR20080098727A (en) | 2008-11-12 |
Family
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Family Applications (1)
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2007
- 2007-05-07 KR KR1020070043954A patent/KR20080098727A/en not_active Application Discontinuation
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WITN | Withdrawal due to no request for examination |