KR20080057079A - Control method high-speed scanning probe microscopy mode - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 고속 주사힘현미경(Scanning Force Microscopy) 모드의 원리를 일반 주사힘현미경 모드와 비교하여 도식적으로 도시한 도면,1 is a diagram schematically illustrating the principle of a scanning force microscopy mode according to an embodiment of the present invention in comparison with the conventional scanning force microscope mode,
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 고속 주사힘현미경(Scanning Force Microscopy) 모드의 플로우차트(Flow chart)를 도식적으로 도시한 도면,FIG. 2 is a diagram illustrating a flowchart of a scanning force microscopy mode according to an embodiment of the present invention; FIG.
도 3은 기존의 일반주사탐침현미경의 한 예인 주사힘현미경의 피드백 방법을 도식적으로 도시한 도면.3 is a diagram schematically illustrating a feedback method of a scanning force microscope, which is an example of a conventional general scanning probe microscope.
<도면 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
11 : 캔틸레버 12 : 탐침11
13 : 일반 주사힘현미경 탐침 주사 경로 13: general scanning microscope probe injection path
14 : 시편의 표면 굴곡14: Surface Curvature of Specimen
15 : 시편의 표면과 탐침 사이의 거리가 고속모드작동거리 일때의 탐침의 주사 경로15: Scanning path of the probe when the distance between the surface of the specimen and the probe is the high speed mode operating distance
16 : 시편의 표면과 탐침 사이의 거리가 고속모드작동거리를 벗어날 때 탐침의 주사 경로16: Scanning path of the probe when the distance between the surface of the specimen and the probe is outside the high speed mode of operation
본 발명은 고속 주사탐침현미경(Scanning Probe Microscopy)의 제어 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method for controlling a scanning probe microscopy.
본 발명에 따른 고속 주사탐침현미경의 제어 방법은 주사탐침현미경의 작동 요소중 탐침이 시편의 굴곡을 따라 Z축상으로 이동하는 탐침 피드백 요소를 줄여서 고속으로 이미징할 수 있는 것을 특징으로 한다.The method of controlling a high speed scanning probe microscope according to the present invention is characterized in that the probe can be imaged at high speed by reducing a probe feedback element moving along the Z axis along the curvature of the specimen.
주사탐침현미경은 탐침과 시편 표면 사이의 상호작용에서 발생하고 거리에 의존하는 신호인 피드백 신호를 미리 정해진 값으로 일정하게 유지하면서 그러기 위해서 탐침을 상하로 이동시키면서 이동시킨 이동거리를 수직축 값으로 하여 이미징한다. The scanning probe microscope maintains a constant feedback signal, which is a signal that depends on the distance between the probe and the specimen surface, and maintains the feedback signal at a predetermined value. do.
이렇게 이미징할 때 도 1의 탐침(12)은 샘플 표면 위로 도 1의 경로 13과 같이 탐침과 시편 표면 사이의 거리가 일정하게 유지되면서 시편 표면 위를 지나가게 된다. 즉, 탐침이 피드백 신호에 따라 피드백되는 피드백 방법은 주사탐침현미경의 원리이고 피드백은 핵심 요소이다. In this imaging, the
그러나 도 3에 도시한 바와 같이 종래의 주사탐침현미경은 2차원으로 시편을 움직이면서 시면의 표면을 검사하되 시편 표면 높이가 달라지면 측정하는 피드백신호가 달라진다. 이 피드백신호을 일정하게 유지하기 위해서 z축 스캐너를 움직여서 피드백신호가 정해 놓은 값을 갖도록 하고, 이때 z축 스캐너가 움직인 거리를 각 x, y위치에 대입하여 3차원토포그래피 이미지를 얻는다. 이 때 z축 스캐너를 움직여 피드백 신호값이 일정하게 유지되도록 탐침을 피드백하여야 함으로 탐침은 시료의 표면의 굴곡을 따라 이동됨으로 시간이 많이 소요된다.However, as shown in FIG. 3, the conventional scanning probe microscope examines the surface of the surface while moving the specimen in two dimensions, but the feedback signal measured when the surface height of the specimen is changed. In order to keep the feedback signal constant, the z-axis scanner is moved to have a predetermined value, and at this time, the distance traveled by the z-axis scanner is substituted for each x and y position to obtain a three-dimensional topography image. At this time, the probe must be fed back so that the feedback signal value is kept constant by moving the z-axis scanner. Therefore, the probe is time-consuming because the probe is moved along the curvature of the surface of the sample.
본 발명의 목적은 이러한 종래의 문제를 해소하기 위해 발명된 것으로 실시간으로 이미징이 되는 주사전자현미경(Scanning Electron Microscopy)과 같이 탐침이 피드백심호에 따라 시편의 표면 굴곡을 따라 피드백되지 않고 일정하게 수평이동하면서 변하는 피드백신호를 감지하여 시편의 굴곡을 감지함으로서 실시간으로 이미징도 가능하여 고속이미징을 할 수 있기 때문에 지금까지 불가능했던 웨이퍼 전수 검사나 동력학 연구에 활용될 수 있는 고속 주사탐침현미경(Scanning Probe Microscopy)의 제어 방법을 제공함을 목적으로 한다. An object of the present invention is to solve this conventional problem, such as scanning electron microscope (Scanning Electron Microscopy) that is imaged in real time, the horizontal movement of the probe without feedback along the surface curvature of the specimen according to the feedback depth High-speed imaging by detecting the feedback signal that changes while detecting the bending of the specimen enables high-speed imaging, enabling high-speed scanning probe microscopy that can be used for wafer inspection or dynamics research An object of the present invention is to provide a control method.
이러한 본 발명의 목적은 탐침과 ; 탐침과 시편 사이의 거리에 따라서 변하는 신호인 피드백신호를 감지하는 검출기와 ; 탐침과 시편 사이의 거리를 일정하게 유지하는 피드백신호와, 상기 탐침 또는 시편을 이동시키는 스캐너를 포함하여 구성된 주사탐침현미경의 제어 방법에 있어서, 상기 탐침을 수평 이동시켜 시편의 표면을 스캐닝하되, 상기 탐침과 시편 사이의 거리가 고속모드작동거리의 안에 속하는지를 피드백신호를 통하여 판단하여 거리가 고속모드작동거리에 속할 경우 탐침 피드백신호를 제거한 상태로 탐침 또는 시편을 고속으로 주사하여 변하는 피드백신호를 감지함을 특징으로 하는 고속 주사탐침현미경의 제어 방법에 의해 이루어진 다.The object of the present invention is a probe; A detector for detecting a feedback signal, which is a signal that varies according to the distance between the probe and the specimen; In the control method of the scanning probe microscope comprising a feedback signal for maintaining a constant distance between the probe and the specimen, and a scanner for moving the probe or the specimen, the probe is moved horizontally to scan the surface of the specimen, The feedback signal determines whether the distance between the probe and the specimen is within the high speed mode operation distance.If the distance is within the high speed mode operation distance, the feedback signal is changed by scanning the probe or specimen at high speed with the probe feedback signal removed. It is made by a high speed scanning probe microscope control method characterized in that.
또한, 본 발명의 목적은 상기 시편의 표면굴곡을 감지하는 과정에서 시편의 표면의 과도한 굴곡 부분에서는 피드백요소를 즉시 회복하여 표면을 감지할 수 있게 함에 의해 이루어진다. In addition, an object of the present invention is to make it possible to detect the surface by immediately recovering the feedback element in the excessive bending portion of the surface of the specimen in the process of detecting the surface curvature of the specimen.
상기 피드백 신호는 주사힘현미경 (Scanning Force Microscopy)의 힘, 주사이온전류현미경 (Scanning Ion Conductance Microscopy)의 이온전류 등 주사탐침현미경의 피드백신호가 모두 가능하다. The feedback signal may be a feedback signal of a scanning probe microscope such as a force of a scanning force microscope or an ion current of a scanning ion conduction microscope.
피드백신호의 거리 의존성이 측정잡음으로부터 분리가 가능하도록 피드백신호가 미리 정한 값 최대작동거리신호값을 갖는 때의 거리인 미리 정한 최대 거리를 최대작동거리라고 하고 탐침이 시편에 부딪히는 것을 방지하기 위해서 부딪히기 직전의 미리 정해둔 피드백신호 최소작동거리신호와 같은 값을 가질 때의 미리 정해 둔 거리를 최소작동거리라고 할 때, 상기 탐침과 시편 사이의 거리는 처음에 최대작동거리의 절반에 해당하거나 최대작동거리와 최소작동거리의 평균 또는 이와 가깝게 설정될 수 있다.The maximum operating distance, which is the distance when the feedback signal has a predetermined maximum operating distance signal value, is called the maximum operating distance so that the distance dependence of the feedback signal can be separated from the measurement noise, and is hit to prevent the probe from hitting the specimen. When the predetermined distance when having the same value as the previous predetermined feedback signal minimum working distance signal is the minimum working distance, the distance between the probe and the specimen is initially half of the maximum working distance or the maximum working distance. It can be set at or close to the average of and the minimum working distance.
도 1의 b에 도시한 바와 같이, 상기 탐침이 15와 같이 일정한 높이로 주사하면서 피드백신호를 환산하여 표면굴곡을 측정하는 동안, 시편의 표면 굴곡은 탐침과 굴곡 사이의 거리가 최대작동거리와 최소작동거리 사이에서 부딪히지 않고 변하는 것이 바람직한데 이 거리를 고속모드작동거리라고 할 때, 만약 이 고속모드작동거리를 벗어나 최대작동거리보다 커지거나 탐침이 시편에 부딪히기 직전 에 이를 감지하여 제거된 피드백 기능을 즉시 회복하여 피드백신호에 의해 감지한다. 이는 도 1 b의 16과 같으며 이 부분을 지나면 다시 고속모드작동거리로 들어오도록 한다.As shown in b of FIG. 1, while measuring the surface curvature by converting the feedback signal while scanning the probe at a constant height as shown in FIG. 1, the surface curvature of the specimen is determined by the distance between the probe and the bend of the maximum working distance and the minimum. It is preferable to change the operating distance without bumping between the working distances. When this distance is called the high speed mode operating distance, the feedback function can be removed by detecting this shorter than the maximum working distance or immediately before the probe hits the specimen. Immediate recovery and detection by feedback signal. This is the same as 16 in FIG.
따라서 고속모드가 실행되기에 유리한 시편은 작동거리 이내로 평평한 시편, 평평한 가운데 작은 영역에 작동거리를 벗어나는 구조가 존재하는 시편이다. Therefore, the specimen which is advantageous to execute the high speed mode is a specimen having a flat specimen within the working distance, and a structure out of the working distance in a small area among the flat surfaces.
고속모드가 실행되기에 적합한 주사탐침현미경은 주사이온전류현미경, 전자힘현미경(Electric Force Microscopy), 자기력현미경(Magnetic Force Microscopy) 등 최대작동거리가 긴 주사탐침현미경이다.Suitable scanning probe microscopes for the high speed mode are the scanning electron microscopes with long maximum operating distances, such as scanning ion current microscope, electric force microscopy, and magnetic force microscopy.
본 발명에 따른 주사탐침현미경 모드는 주사전자현미경과 주사탐침현미경 실험을 통하여 깨달은 실험적인 발견에 근거한다.The scanning probe microscope mode according to the present invention is based on experimental findings realized through scanning electron microscope and scanning probe microscope experiments.
종래에 주사탐침현미경은 표면을 주사전자현미경에 비해서 상대적으로 매우 느리지만 공기중이나 액체 속이나 진공 중에서 고분해능으로 측정하고 이미징하는데 한정되어 왔다. Conventionally, scanning probe microscopes have been limited to measuring and imaging surfaces with a very high resolution compared to scanning electron microscopes in air, in liquids or in vacuum.
이러한 주사탐침현미경에 의한 이미징 예는 웨이퍼 검사를 그 예로 들 수 있다.An example of the imaging by such a scanning probe microscope may be a wafer inspection.
본 발명에 따른 주사탐침현미경은 기존의 주사탐침현미경의 핵심 요소이고 원리인 피드백요소를 주사전자현미경의 주사방법처럼 완전히 제거하면 주사전자현미경의 속도로 주사할 수 있다는 새로운 발견에 근거한다. The scanning probe microscope according to the present invention is based on a new discovery that the scanning element can be scanned at the speed of the scanning electron microscope when the feedback element, which is a key element and principle of the existing scanning probe microscope, is completely removed like the scanning method of the scanning electron microscope.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 고속 주사힘현미경(Scanning Force Microscopy) 모드의 원리를 일반 주사힘현미경 모드와 비교하여 도식적으로 도시한 도면이다. 1 is a diagram schematically illustrating the principle of a scanning force microscopy mode according to an embodiment of the present invention in comparison with a conventional scanning force microscope mode.
도 1에 도시된 바와 같이 피드백신호가 측정잡음과 같은 거리를 최대작동거리라고 할 때 상기 탐침과 시편 사이의 거리는 최대작동거리의 절반에 해당하거나 이와 가깝게 설정될 수 있다.As shown in FIG. 1, when the feedback signal is the maximum operating distance, such as measurement noise, the distance between the probe and the specimen may be set to correspond to or close to half of the maximum working distance.
상기 탐침이 도 1의 15와 같이 일정한 높이로 고속으로 주사하면서 피드백신호를 측정하는 동안, 시편의 표면 굴곡은 최소작동거리와 최대작동거리 이내에서 부딪히지 않고 변하게 되면, 나중에 피드백신호를 환산하여 표면 굴곡을 이미징할 수 있다. 만약 거리가 고속모드작동거리를 벗어나 최대작동거리보다 커지거나 탐침이 시편에 부딪히기 직전 의 최소작동거리보다 작아지면 이를 감지하여 제거된 피드백 기능을 즉시 회복하여 도 1의 16과 같이 피드백신호가 다시 고속모드작동거리로 들어오도록 한다.While measuring the feedback signal while the probe scans at a high speed at a constant height as shown in 15 of FIG. Can be imaged. If the distance exceeds the maximum operating distance beyond the high speed mode operation distance or becomes smaller than the minimum working distance just before the probe hits the specimen, it detects this and immediately restores the removed feedback function. Enter the mode operation distance.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 고속 주사힘현미경(Scanning Force Microscopy) 모드의 플로우차트(Flow chart)를 도식적으로 도시한 도면이다.FIG. 2 is a diagram illustrating a flowchart of a scanning force microscopy mode according to an embodiment of the present invention.
피드백 신호 측정(21) 후에 거리가 고속모드작동거리 안에 있는지 계산하여(22), 거리가 고속모드작동거리 이내에 있을 경우 고속 주사하고(23), 거리가 고속모드작동거리 밖에 있을 때는 즉시 피드백을 복원하여 저속 주사함으로써(24), 거리가 고속모드작동거리 이내로 평평한 시편의 경우 고속모드로 이미징하여 주사전자현미경과 같이 매우 빠른 속도로 이미징할 수 있다. After the feedback signal measurement (21), the distance is calculated within the high speed mode operating distance (22), and if the distance is within the high speed mode operating distance, the high speed scan (23), and the feedback is immediately restored when the distance is outside the high speed mode operating distance. By scanning at low speed (24), in the case of specimens whose distance is flat within the high speed mode of operation, the imaging can be performed in a high speed mode and imaged at a very high speed such as a scanning electron microscope.
만약 이미징 영역의 일부에서 이보다 높거나 낮은 구조가 존재하면, 이 부분에서만 피드백신호를 감지하여 피드백신호가 최대작동거리보다 더 먼 영역의 신호 수준이 되어 최대작동거리를 벗어나거나 피드백신호가 미리 정해 놓은 최대작동거 리보다 가까운 영역의 신호 수준이 되는 경우 즉시 피드백요소를 회복하여 이미징이 되도록 한다. If there is a structure higher or lower than this in part of the imaging area, the feedback signal is detected only in this area, so that the feedback signal becomes the signal level in the area farther than the maximum working distance, so that it is out of the maximum working distance or the feedback signal is predetermined. If the signal level is closer to the maximum operating distance, the feedback element is recovered immediately to allow imaging.
이 고속모드는 고속이미징에 중점을 두는 모드로 이 영역에서는 이미징 능력이 감소할 수 있으나 이는 주사전자현미경과 같이 자세히 보고자 하는 영역으로 가서 피드백요소를 복원한 일반 주사탐침현미경 모드로 이미징한다면 매우 고속으로 시편의 표면 구조를 이미징할 수 있다.This high-speed mode focuses on high-speed imaging and can reduce imaging capabilities in this area, but if you go to the area you want to see in detail, such as a scanning electron microscope, and image it in the normal scanning probe mode where you restore the feedback elements, The surface structure of the specimen can be imaged.
본 발명에 따른 고속 주사탐침현미경 모드는 모든 주사탐침현미경에 사용될 수 있다. 주사탐침현미경은 해당 현미경의 최대작동거리보다 평평한 시편의 검사나 평평한 가운데 일부 영역에서 최대작동거리를 벗어나는 구조물이 존재할 때에 이 고속 모드를 적용하여 이미징 속도를 획기적으로 높일 수 있다.The high speed scanning microscope mode according to the present invention can be used for all scanning microscopes. Scanning microscopes can dramatically increase imaging speeds by applying this high-speed mode when testing specimens that are flatter than the microscope's maximum working distance, or when there are structures outside the maximum working distance in some areas of the flat.
이와 같은 본 발명에 따른 고속 주사탐침현미경모드는 특별한 요소를 추가하지 않고 오히려 피드백요소만 제거하거나 복원시키는 방법으로 용이하게 고속이미징을 할 수 있으므로, 현재 산업계서 크게 요구되는 평평한 웨이퍼와 같은 시편의 고속검사나 바이오인터페이스 고속검사에 활용될 수 있다.The high-speed scanning probe microscope mode according to the present invention can easily perform high-speed imaging by removing or restoring only the feedback element without adding a special element, so that the high-speed scanning of a specimen such as a flat wafer is greatly required in the present industry. It can be used for inspection or biointerface high speed inspection.
본 발명은 피드백요소를 제거하여 고속으로 이미징할 수 있는 고속 이미징 모드를 제공하며, 아울러 그러한 모드를 이용하여 새로운 고속주사탐침현미경을 제공하고 시편을 고속으로 검사할 수 있는 효과가 있다.The present invention provides a high speed imaging mode capable of imaging at high speed by removing feedback elements, and also provides a new high speed scanning probe microscope and inspects the specimen at high speed using such a mode.
지금까지 본 발명에 관한 바람직한 실시예가 설명되었다. 그러나, 이제까지 설명된 실시예는 단지 예시로서만 받아들여야 한다. 즉, 본 발명이 속한 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 다양한 변형을 도출해 낼 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적인 권리 범위는 첨부된 청구항에 의해서만 해석되어야 한다.So far, a preferred embodiment of the present invention has been described. However, the embodiments described so far should only be taken as examples. That is, those skilled in the art to which the present invention pertains will be able to derive various modifications with reference to the preferred embodiment of the present invention. Accordingly, the technical scope of the present invention should be interpreted only by the appended claims.
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