KR20080032320A - Plasma display pannel and method for treating surface of the same - Google Patents

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KR20080032320A
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김보현
박민수
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엘지전자 주식회사
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Abstract

A plasma display panel and a surface treating method thereof are provided to reduce jitters at an addressing interval when displaying an image by decreasing dangling bond on a surface of the panel. An MgO thin film is formed on a substrate(401), and then the substrate with the MgO thin film is loaded in a chamber(402). The chamber is vacuumed(403), and then predetermined gas is injected into the chamber(404). An inductively coupling plasma is generated in the gas(405). The MgO thin film is reacted with the inductively coupling plasma(406). The gas injected into the chamber comprises at least one selected from the group consisting of Ar, N3 and O2, and the inductively coupling plasma is generated by a high frequency AC voltage.

Description

플라즈마 디스플레이 패널 및 그 표면처리방법{Plasma Display Pannel and Method for Treating Surface of the Same}Plasma Display Pannel and Method for Treating Surface of the Same}

도 1은 종래 교류방식의 면방전형 PDP를 개략적으로 도시한 도면이다.1 is a view schematically showing a conventional surface discharge type PDP of the AC method.

도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 표면처리방법을 설명하기 위한 도면이다. 2 is a view for explaining a surface treatment method of the plasma display panel according to the present invention.

도 3은 상기의 플라즈마 디스플레이 패널의 표면처리방법에 의한 표면처리 전/후의 지터를 비교한 그래프이다. 3 is a graph comparing jitter before and after surface treatment by the surface treatment method of the plasma display panel.

도 4는 도 2에서 설명한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 표면처리방법을 순차적으로 나타낸 블록도이다.4 is a block diagram sequentially illustrating a surface treatment method of a plasma display panel according to the exemplary embodiment described with reference to FIG. 2.

도 5는 본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 표면처리방법을 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 제작방법을 순차적으로 나타낸 블록도이다.5 is a block diagram sequentially illustrating a method of manufacturing a plasma display panel using the surface treatment method of the plasma display panel according to the present invention.

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 특히 플라즈마 디스플레이 패널의 표면처리에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma display panel, and more particularly to a surface treatment of the plasma display panel.

일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel : 이하 PDP라 함)은 He+Xe 또는 Ne+Xe 가스의 방전시 발생하는 147nm의 자외선이 형광체를 여기시켜 발생하는 빛을 이용하여 문자 또는 그래픽을 표시하는 디스플레이로서 박막화와 대형화가 용이할 뿐만 아니라 최근의 기술 개발에 힘입어 화질이 크게 향상되고 코스트가 경쟁력을 갖게 됨에 따라 차세대 디스플레이로서 주목을 받고 있다. 이 PDP는 화소들이 매트릭스 형태로 배치되고 각 화소셀들은 적색, 녹색, 청색의 신호를 발생하기 위한 적색, 녹색, 청색 3개의 서브 방전셀로 조합된다. PDP는 그 구동방식에 따라 크게 대향방전을 하게 되는 직류(DC)형과 면방전을 하게 되는 교류(AC)형으로 대별된다. 교류방식의 플라즈마 표시장치는 직류방식에 비하여 저소비전력과 라이프 타임이 큰 장점이 있기 때문에 주목을 받고 있는 구동방식이다. In general, a plasma display panel (hereinafter referred to as a PDP) is a display that displays characters or graphics by using light generated by excitation of phosphors by 147 nm ultraviolet rays generated when a He + Xe or Ne + Xe gas is discharged. In addition, the film has been attracting attention as a next-generation display because it is not only easy to thin and large in size but also greatly improves image quality and competitiveness in cost due to recent technology development. In this PDP, pixels are arranged in a matrix, and each pixel cell is combined into three sub discharge cells of red, green, and blue for generating red, green, and blue signals. PDPs are roughly classified into direct current (DC) type with large discharges and alternating current (AC) type with surface discharges. The plasma display device of the AC type is a driving method that has attracted attention because of the advantages of low power consumption and lifetime compared to the DC method.

도 1은 교류방식의 면방전형 PDP를 개략적으로 도시한 도면이다. 도 1을 참조하면, PDP는 크게 상판과 하판으로 이루어지며 상판은 상부 유리기판(101)에 형성되는 유지전극쌍(102)과, 유지전극쌍(102)에 나란하게 형성되는 버스전극(103)과, 이 버스전극(103)과 상부 유리기판(101) 위 표면에 성막되는 유전체층(104)과, 유전체층(104) 위에 형성되는 MgO 보호막(106)을 구비한다. 1 is a view schematically showing an AC discharge type surface discharge PDP. Referring to FIG. 1, the PDP is composed of a top plate and a bottom plate, and the top plate includes a sustain electrode pair 102 formed on the upper glass substrate 101 and a bus electrode 103 formed side by side on the sustain electrode pair 102. And a dielectric layer 104 formed on the surface of the bus electrode 103 and the upper glass substrate 101, and an MgO protective film 106 formed on the dielectric layer 104.

유지전극쌍(102)은 투명전극(ITO)으로서 대향방전을 행함으로써 방전을 유지하는 전극들이다. 유지전극쌍(102)에 나란하게 접촉되는 버스전극(103)은 유지전극쌍(102)의 전기적 저항을 감소시킴으로써 방전 전압을 낮추는 역할을 한다. 버스전극(103)은 Cr/Cu/Cr 물질로 이루어져 유지전극(102) 위에 나란하게 증착 또는 식각(etching)됨으로써 형성된다. 유전체층(104)은 방전으로부터 유지전극쌍(102)을 보호하는 역할을 하게 되며 방전시에는 벽전하들이 축적된다. 이 유전체층(104)은 스크린 프린팅(Screen printing) 방법으로 도포 된다. 보호층(105)은 방전으로부터 유전체층(104)을 보호하는 역할을 하도록 MgO로 이루어지며 유전체층(104) 위에 약 2000Å 정도 성막된다. The sustain electrode pairs 102 are electrodes which sustain a discharge by performing a counter discharge as the transparent electrode ITO. The bus electrode 103 in parallel with the sustain electrode pair 102 serves to lower the discharge voltage by reducing the electrical resistance of the sustain electrode pair 102. The bus electrode 103 is formed of Cr / Cu / Cr material and is formed by being deposited or etched side by side on the sustain electrode 102. The dielectric layer 104 serves to protect the sustain electrode pair 102 from discharge, and wall charges are accumulated during discharge. This dielectric layer 104 is applied by a screen printing method. The protective layer 105 is made of MgO to serve to protect the dielectric layer 104 from discharge, and is deposited on the dielectric layer 104 by about 2000 kV.

하판은 하부 유리기판(111) 위에 유지전극쌍(102)과 직교하도록 형성된 어드레스 전극(113)과, 하부 유리기판(111)과 어드레스 전극(113) 위에 도포되는 제2 유전체층(112)과, 어드레스 전극(113)을 사이에 두고 하부 유리기판(111) 표면에서 수직으로 신장되는 격벽(115)과, 격벽(115)과 하부 유리기판(111)에 도포되어지는 형광체(114)를 구비한다. The lower plate includes an address electrode 113 formed on the lower glass substrate 111 so as to be orthogonal to the sustain electrode pairs 102, a second dielectric layer 112 applied on the lower glass substrate 111 and the address electrode 113, and an address. A partition wall 115 extending vertically from the surface of the lower glass substrate 111 with the electrode 113 interposed therebetween, and a phosphor 114 applied to the partition wall 115 and the lower glass substrate 111.

상/하부 유리기판(101, 111)은 소다 석회 규산염(Soda Lime Silicate) 재질로 제작된다. 어드레스전극(113)은 데이터가 공급되어 하나의 유지전극(102)과 대향방전을 하여 주사되는 방전셀을 선택하는 역할을 하게 된다. 이 어드레스전극(113)은 하부 유리기판(111)에 스크린 프린팅 방법에 의해 인쇄된다. 형광체(114)는 방전에 의해 발생되는 자외선에 의해 여기·발광되어 각 서브셀에서 적녹청(RGB)의 가시광선을 발생하게 된다.The upper and lower glass substrates 101 and 111 are made of soda lime silicate. The address electrode 113 serves to select a discharge cell which is supplied with data and is scanned by facing a discharge with one sustaining electrode 102. The address electrode 113 is printed on the lower glass substrate 111 by the screen printing method. The phosphor 114 is excited and emitted by ultraviolet rays generated by discharge to generate visible light of red green blue (RGB) in each subcell.

어드레스 전극과 유지전극이 대향방전을 하기 위해 발광신호가 입력되나, 실제 방전영역에서는 일정한 시간이 지난 후에 방전에 일어난다. 이러한 지연시간(delaying time)을 소위 지터(Jitter)라고 한다. 지터는 디스플레이 시에 잡음으로 나타나거나 화질을 저하시키는 원인이 된다. 따라서 PDP의 화질을 더욱 선명하게 하기 위해서는 지터를 감소시킬 필요성이 있다. A light emission signal is inputted so that the address electrode and the sustain electrode face opposite discharges, but in a real discharge area, a discharge occurs after a certain time. This delaying time is called jitter. Jitter can appear as noise on display or cause image degradation. Therefore, there is a need to reduce jitter in order to make the PDP image more clear.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상술한 종래 문제점을 해결하여 플라즈마 디스프레이 구동시의 어드레싱구간에서의 지터를 감소시키는 플라즈마 디스플레이 패널의 표면처리방법을 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in an effort to provide a surface treatment method for a plasma display panel which reduces jitter in an addressing section during plasma display driving by solving the above-described problems.

또한, 본 발명이 이루고자하는 기술적 과제는 상술한 문제점을 해결하여 플라즈마 디스플레이 구동시의 어드레싱 구간에서의 지터를 감소시킨 플라즈마 디스플레이 패널을 제공함에 있다.Another object of the present invention is to provide a plasma display panel in which jitter is reduced in an addressing period when driving a plasma display by solving the above problems.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 표면처리방법은 기판의 상부에 MgO 박막을 형성하는 단계, 상기 박막이 형성된 기판을 소정의 챔버 내에 장착하는 단계, 상기 챔버 내부를 진공으로 만드는 단계, 상기 챔버 내부에 소정의 가스를 주입하는 단계, 상기 가스에 유도결합플라즈마를 발생시키는 단계 및 상기 유도결합플라즈마와 MgO 박막을 반응시키는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. In order to achieve the above object, the surface treatment method of the plasma display panel according to the present invention comprises the steps of forming an MgO thin film on the upper portion of the substrate, mounting the substrate on which the thin film is formed in a predetermined chamber, vacuum inside the chamber And a step of injecting a predetermined gas into the chamber, generating an inductively coupled plasma in the gas, and reacting the inductively coupled plasma with the MgO thin film.

상기 챔버 내부에 주입하는 소정의 가스는 Ar, N2, O2 중에서 선택된 하나 또는 2이상인 것이 바람직하며, 상기 유도결합플라즈마는 고주파 유도전압에 의해 발생시킬 수 있다.The predetermined gas injected into the chamber is preferably one or two or more selected from Ar, N 2 and O 2, and the inductively coupled plasma may be generated by a high frequency induction voltage.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 패널은 기판의 상부에 MgO 박막을 형성하는 단계, 상기 박막이 형성된 기판을 소정의 챔버 내에 장착하는 단계, 상기 챔버 내부를 진공으로 만드는 단계, 상기 챔버 내부에 소정의 가스를 주입하는 단계, 상기 가스에 유도결합플라즈마를 발생시키는 단계 및 상기 유도결합플라즈마와 MgO 박막을 반응시키는 단계를 포함하여 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널의 표면처리방법에 의해 처리된 것을 특징으로 한다.Plasma display panel according to the present invention for achieving the above object comprises the steps of forming a thin film MgO on top of the substrate, mounting the substrate on which the thin film is formed in a predetermined chamber, making the interior of the chamber into a vacuum, the Injecting a predetermined gas into the chamber, generating an inductively coupled plasma in the gas, and reacting the inductively coupled plasma with the MgO thin film. It is done.

본 발명의 다른 목적, 특징 및 이점들은 첨부한 도면을 참조한 실시예들의 상세한 설명을 통해 명백해 질 것이다.Other objects, features and advantages of the present invention will become apparent from the following detailed description of embodiments taken in conjunction with the accompanying drawings.

첨부된 도면에서는 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타냈으며, 도면에 나타난 각 층간의 두께 비가 실제 두께 비를 나타내는 것은 아니다. 한편, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 형성 또는 위치한다고 할 때, 이는 다른 부분의 바로 위에 형성되어 직접 접촉하는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 존재하는 경우도 포함하는 것을 이해하여야 한다.In the accompanying drawings, the thickness of layers, films, panels, regions, etc., are exaggerated for clarity, and the thickness ratios of the layers in the drawings do not represent actual thickness ratios. On the other hand, when a part such as a layer, film, region, plate, etc. is formed or positioned on another part, it is formed not only in direct contact with another part but also when another part exists in the middle thereof. It should be understood to include.

이하, 본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 표면처리방법 및 플라즈마 디스플레이 패널의 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 동작을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the configuration and operation of the present invention will be described in detail with reference to the surface treatment method of the plasma display panel and the embodiment of the plasma display panel according to the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 표면처리방법을 설명하기 위한 도면이다. 본 발명에 의한 표면 처리는 도 2에서 도시된 것과 같이 챔버(201) 내에서 이루어진다. 상기 챔버(201)상부에는 안테나 전극(203)이 존재하고, 챔버(201)와 전극(203)사이에 있는 절연막(205)이 구비되어 있다. 2 is a view for explaining a surface treatment method of the plasma display panel according to the present invention. Surface treatment according to the invention is carried out in the chamber 201 as shown in FIG. 2. An antenna electrode 203 is present above the chamber 201, and an insulating film 205 is provided between the chamber 201 and the electrode 203.

구체적으로 본 발명인 플라즈마 디스플레이 패널의 표면처리방법에 대해 살펴본다. 우선 기판위에 전극 및 유전체를 형성하고 그 위에 MgO 박막을 형성한다(미도시). 상기 MgO 박막이 형성된 기판(210)을 챔버(201)내에 장착한다. 그 후에 챔버 내부에 불순한 공기를 제거하기 위해 챔버 내부를 진공으로 만들고 플라즈마 로 만들 소정의 가스를 주입한다. 상기 소정의 가스는 Ar, N2, O2 중에 하나가 될 수 있고, 또한 이들 가스를 혼합한 가스도 사용될 수 있다. 일반적으로는 Ar 가스가 안정성이 높아 주로 이용된다. Specifically, it looks at the surface treatment method of the present invention plasma display panel. First, an electrode and a dielectric are formed on a substrate and an MgO thin film is formed thereon (not shown). The substrate 210 on which the MgO thin film is formed is mounted in the chamber 201. Thereafter, a predetermined gas is injected into the chamber to make a vacuum and plasma to remove impurities in the chamber. The predetermined gas may be one of Ar, N 2 and O 2, and a gas mixed with these gases may also be used. In general, Ar gas is mainly used because of its high stability.

그 후, 안테나 전극(203)을 이용해 챔버외부에서 고주파의 교류전압(207)을 가하여 전계(electric field) 및 자계(magnetic field)를 형성한다. 이 전계와 자계에 의해서 챔버 내부의 가스는 플라즈마 상태로 변한다. 이러한 방식으로 발생한 플라즈마를 유도결합플라즈마라고 한단. 플라즈마는 크게 유도결합플라즈마(Inductively Coupled Plasma; ICP)와 용량결합플라즈마( Capacitively Coupled Plasm;CCP)로 나눌 수 있으나 본 발명에서는 유도결합플라즈마(ICP)를 이용하여 MgO 박막의 표면을 처리하는 것을 특징으로 한다. 유도결합플라즈마의 발생 알고리즘의 자세한 내용은 공지의 것이므로 그 기재는 생략한다. 유도결합플라즈마는 고밀도 플라즈마로서 플라즈마 내 전자의 온도가 높아 반응성이 크고, 쉬스전압(sheath voltage)가 작아 기판이 받는 플라즈마 데미지가 작은 장점이 있다. Thereafter, the high frequency AC voltage 207 is applied outside the chamber using the antenna electrode 203 to form an electric field and a magnetic field. The gas in the chamber changes into a plasma state by the electric field and the magnetic field. The plasma generated in this way is called inductively coupled plasma. Plasma can be largely divided into Inductively Coupled Plasma (ICP) and Capacitively Coupled Plasma (CCP), but in the present invention, the surface of the MgO thin film is treated by using Inductively Coupled Plasma (ICP). do. Since the details of the generation algorithm of the inductively coupled plasma are well known, the description thereof is omitted. Inductively coupled plasma is a high-density plasma and has a high responsiveness due to the high temperature of electrons in the plasma, and has a small plasma damage to the substrate due to a small sheath voltage.

상기 발생한 유도결합플라즈마는 챔버내에서 MgO 박막과 반응하여 박막표면의 불포화결합(dangling bond)을 감소시켜준다. 이렇게 불포화결합이 감소하면 플라즈마 어드레싱시에 어드레스 전극과 상판 전극 사이의 전압변화에 따라 빠른 응답특성이 생기므로 패널의 지터(jitter)는 줄어들게 된다.The generated inductively coupled plasma reacts with the MgO thin film in the chamber to reduce dangling bonds on the thin film surface. When the unsaturated bond is reduced in this way, the jitter of the panel is reduced because the fast response characteristic is generated by the voltage change between the address electrode and the upper electrode during plasma addressing.

도 3은 상기의 플라즈마 디스플레이 패널의 표면처리방법에 의한 표면처리 전/후의 지터를 비교한 그래프이다. 도 3의 세로축은 표면처리전(ref) 지터의 크기를 1로 했을 때 표면처리후 지터의 상대적 크기를 나타낸다. 그래프에서 보듯이 유 도결합플라즈마로 표면처리를 한 후에 표면처리전의 지터에 비해 Ar 플라즈마인 경우 0.78, N2 플라즈마인 경우 0.62, O2 플라즈마의 경우 0.72 수준으로 감소한 것을 볼 수 있다.3 is a graph comparing jitter before and after surface treatment by the surface treatment method of the plasma display panel. 3 shows the relative size of the jitter after the surface treatment when the size of the jitter before the surface treatment (ref) is 1. As shown in the graph, after the surface treatment with inductively coupled plasma, the jitter before surface treatment decreased to 0.78 for Ar plasma, 0.62 for N 2 plasma, and 0.72 for O 2 plasma.

도 4는 도 2에서 설명한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 표면처리방법을 순차적으로 나타낸 블록도이다. 본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 표면처리방법은 기판의 상부에 MgO 박막을 형성하는 단계(401), 상기 박막이 형성된 기판을 소정의 챔버 내에 장착하는 단계(402), 상기 챔버 내부를 진공으로 만드는 단계(403), 상기 챔버 내부에 소정의 가스를 주입하는 단계(404), 상기 가스에 유도결합플라즈마를 발생시키는 단계(405) 및 상기 유도결합플라즈마와 상기 MgO 박막을 반응시키는 단계(406)로 이루어진다.4 is a block diagram sequentially illustrating a surface treatment method of a plasma display panel according to the exemplary embodiment described with reference to FIG. 2. The surface treatment method of the plasma display panel according to the present invention comprises the steps of forming a thin film MgO on the substrate (401), mounting the substrate on which the thin film is formed in a predetermined chamber (402), making the inside of the chamber into a vacuum Step 403, injecting a predetermined gas into the chamber 404, generating an inductively coupled plasma in the gas 405, and reacting the inductively coupled plasma with the MgO thin film 406. Is done.

도 5는 본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 표면처리방법을 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 제작방법을 순차적으로 나타낸 블록도이다. 5 is a block diagram sequentially illustrating a method of manufacturing a plasma display panel using the surface treatment method of the plasma display panel according to the present invention.

도 5에 도시된 것과 같이 플라즈마 디스플레이 패널의 제작방법은 우측에 나열된 상부 패널 제작과정과 좌측에 나열된 하부 패널 제작과정 및 하측에 나열된 실링과정 등을 포함한다.As shown in FIG. 5, the manufacturing method of the plasma display panel includes an upper panel manufacturing process listed on the right side, a lower panel manufacturing process listed on the left side, and a sealing process listed below.

먼저, 상부 패널 제작 과정을 설명하면 다음과 같다. 상부 패널은 먼저 기재가 되는 상부 글라스를 준비한 후(501), 상부 글라스 상부에 복수의 유지전극쌍이 형성된다(502). 이 후, 유지전극쌍 상부에 상부 유전체층이 형성되고(503), 상부 유전체층 상부에 유지전극쌍을 보호하기 위한 MgO 보호층이 형성된다(504). 본 발 명에 의한 플라즈마 디스플레이 패널은 상기 MgO 보호층 형성단계(504)는 상기 도 4의 블럭구성도에 의한 순서에 의하는 것을 특징으로 한다. First, the manufacturing process of the upper panel is as follows. The upper panel first prepares an upper glass as a substrate (501), and then a plurality of sustain electrode pairs are formed on the upper glass (502). Thereafter, an upper dielectric layer is formed over the sustain electrode pair (503), and an MgO protective layer for protecting the sustain electrode pair is formed over the upper dielectric layer (504). In the plasma display panel according to the present invention, the MgO protective layer forming step 504 may be based on the sequence according to the block diagram of FIG. 4.

이어서, 하부 패널 제조 과정을 설명하면 다음과 같다. 하부 패널은 상부 패널과 마찬가지로 먼저 기재가 되는 하부 글라스를 준비하고(505), 상부 패널에 형성된 유지전극쌍과 교차하여 대향되도록 복수의 어드레스전극이 하부 글라스에 형성된다(506). 이 후, 어드레스전극 상면에 하부 유전체층이 형성되고(507), 하부 유전체층 상면에 형광체층이 형성된다(508).Next, the lower panel manufacturing process will be described. Like the upper panel, the lower panel first prepares a lower glass, which is a substrate (505), and a plurality of address electrodes are formed on the lower glass so as to face and cross the sustain electrode pair formed on the upper panel (506). Thereafter, a lower dielectric layer is formed on the upper surface of the address electrode (507), and a phosphor layer is formed on the upper surface of the lower dielectric layer (508).

이와 같이 제조된 상부 패널과 하부패널은 서로 실링(509)되어 플라즈마 디스플레이 패널을 형성한다(510).The upper panel and the lower panel manufactured as described above are sealed to each other 509 to form a plasma display panel (510).

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention.

따라서, 본 발명의 기술적 범위는 실시예에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허청구범위에 의하여 정해져야 한다.Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the embodiments, but should be defined by the claims.

이상에서 본 것과 같이, 본 발명에 의하면 플라즈마 디스플레이 패널의 표면을 유도결합플라즈마로 처리를 하여 패널 표면의 불포화결합(dangling bond)을 감소시킴으로써 디스플레이시 어드레싱구간에서 지터를 감소시켜 선명도 높은 화질을 제공하는 효과가 있다.As described above, according to the present invention, the surface of the plasma display panel is treated with inductively coupled plasma to reduce dangling bonds on the surface of the panel, thereby reducing jitter in the addressing section during display, thereby providing high image quality. It works.

Claims (4)

기판의 상부에 MgO 박막을 형성하는 단계;Forming an MgO thin film on top of the substrate; 상기 박막이 형성된 기판을 소정의 챔버 내에 장착하는 단계;Mounting the substrate on which the thin film is formed in a predetermined chamber; 상기 챔버 내부를 진공으로 만드는 단계;Vacuuming the interior of the chamber; 상기 챔버 내부에 소정의 가스를 주입하는 단계;Injecting a predetermined gas into the chamber; 상기 가스에 유도결합플라즈마를 발생시키는 단계; 및 Generating an inductively coupled plasma in the gas; And 상기 유도결합플라즈마와 상기 MgO 박막을 반응시키는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 표면처리방법.And reacting the inductively coupled plasma with the MgO thin film. 제1항에 있어서 The method of claim 1 챔버 내부에 주입하는 소정의 가스는 Ar, N2, O2 중에서 선택된 하나 또는 2이상인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 표면처리방법.The predetermined gas to be injected into the chamber is at least one selected from Ar, N2, O2, or at least two. 제1항에 있어서The method of claim 1 상기 유도결합플라즈마는 고주파 교류전압에 의해 발생하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 표면처리방법.The inductively coupled plasma is generated by a high frequency AC voltage surface treatment method of a plasma display panel. 제1항에 의한 플라즈마 디스플레 패널의 표면처리방법에 의해 표면처리된 플라즈마 디스플레 패널.A plasma display panel surface-treated by the surface treatment method of the plasma display panel according to claim 1.
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