KR20080027567A - Etching device of substrate - Google Patents

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KR20080027567A
KR20080027567A KR1020060092763A KR20060092763A KR20080027567A KR 20080027567 A KR20080027567 A KR 20080027567A KR 1020060092763 A KR1020060092763 A KR 1020060092763A KR 20060092763 A KR20060092763 A KR 20060092763A KR 20080027567 A KR20080027567 A KR 20080027567A
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etching
thin film
film transistor
color filter
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KR1020060092763A
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성시준
윤현석
정환경
한정윤
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삼성전자주식회사
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Abstract

An etching apparatus of a substrate is provided to prevent damage of a thin film transistor and maintain the strength thereof by simultaneously etching one side of a first display panel or second display panel. An etch array substrate includes a pad(72) with a display panel attached to one side of the pad, and a support plate(70) provided on both sides of the pad. One side of the display panel is etched by an etchant(92), and the etched array substrate and the etchant are received in a container(90). The display panel has a thin film transistor substrate(50) and a color filter substrate(40), and the pad is attached to any one of the thin film transistor substrate and the color filter substrate.

Description

기판의 식각장치{ETCHING DEVICE OF SUBSTRATE} Etching Device for Substrate {ETCHING DEVICE OF SUBSTRATE}

도 1 및 도 2는 종래의 식각장치를 나타내는 단면도이다.1 and 2 are cross-sectional views showing a conventional etching apparatus.

도 3은 제 1 실시예에 따른 식각어레이 기판을 포함하는 식각장치들을 나타내는 도면이다.3 is a view illustrating etching apparatuses including an etching array substrate according to a first embodiment.

도 4는 본 발명에 따른 식각어레이 기판을 나타내는 단면도이다.4 is a cross-sectional view showing an etching array substrate according to the present invention.

도 5는 제 2 실시예에 따른 식각어레이 기판을 포함하는 식각장치들을 나타내는 도면이다.5 is a view illustrating etching apparatuses including an etching array substrate according to a second embodiment.

도 6은 본 발명에 따른 식각어레이 기판에 의해 형성된 제 1 및 제 2 기판을 가지는 액정표시패널을 나타내는 사시도이다.6 is a perspective view illustrating a liquid crystal display panel having first and second substrates formed by an etch array substrate according to the present invention.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 간단한 설명><Brief description of symbols for the main parts of the drawings>

1, 30 : 제 1 기판 2, 20 : 제 2 기판1, 30: 1st board | substrate 2, 20: 2nd board | substrate

3, 83: 버블판 4, 92 : 식각액3, 83: bubble plate 4, 92: etching solution

5, 84 : 버블 6, 90 : 용기5, 84: bubble 6, 90: container

7, 80 : 고정대 8, 88 : 다공홀7, 80: fixed base 8, 88: porous hole

9, 86 : 다공판 22 : 컬러필터9, 86: perforated plate 22: color filter

24 : 공통전극 26 : 블랙매트릭스24: common electrode 26: black matrix

32 : 박막트랜지스터 34 : 화소전극32: thin film transistor 34: pixel electrode

36 : 데이터 라인 38 : 게이트 라인36 data line 38 gate line

40 : 컬러필터 기판 50 : 박막트랜지스터 기판 60 : 표시패널 70 : 지지플레이트40: color filter substrate 50: thin film transistor substrate 60: display panel 70: support plate

72 : 패드 100 : 식각어레이 기판72: pad 100: etching array substrate

본 발명은 기판의 식각장치 및 그 식각방법에 관한 것으로, 특히 본 발명은 표시패널의 두께를 줄일 수 있는 기판의 식각 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for etching a substrate and an etching method thereof, and more particularly, to an apparatus for etching a substrate capable of reducing the thickness of a display panel.

최근에 액정표시장치(Liquid Crystal Display)는 휴대용 텔레비젼이나 노트북 컴퓨터 등에 사용된다. 이러한 액정표시장치는 휴대하고 다니기 때문에 크기나 중량을 줄이기 위해 연구가 계속되고 있다. 이를 위해 액정표시장치의 두께를 줄이기 위해 박막트랜지스터 기판 및 컬러필터 기판으로 이루어진 액정표시패널의 두께를 줄이고 있다. 이처럼 액정표시패널의 두께를 줄이기 위한 방법으로는 패널의 기판을 식각하는 공정이 있다. Recently, liquid crystal displays are used in portable televisions and notebook computers. Since the liquid crystal display is portable, research is continued to reduce size and weight. To this end, in order to reduce the thickness of the liquid crystal display device, the thickness of the liquid crystal display panel including the thin film transistor substrate and the color filter substrate is reduced. As such, a method of reducing the thickness of the liquid crystal display panel includes etching a substrate of the panel.

이러한 공정은 도 1에 도시된 바와 같이 제 1 기판(1) 및 제 2 기판(2)으로 이루어진 표시패널과, 다수 개의 표시패널을 식각하는 식각액(4)과, 식각액(4)을 담구는 용기(6)와, 버블(5)을 일으키는 버블판(3)을 구비하여 제 1 기판(1) 및 제 2 기판(2)을 동시에 식각하여 두께를 줄이거나 도 2에 도시된 바와 같이 표시패널과, 표시패널에 식각액(4)을 뿌리는 다공홀(8)을 가지는 다공판(9)등을 사용한다.As shown in FIG. 1, a display panel including a first substrate 1 and a second substrate 2, an etchant 4 for etching a plurality of display panels, and a container in which the etchant 4 is immersed. (6) and a bubble plate (3) generating bubbles (5) to simultaneously etch the first substrate 1 and the second substrate (2) to reduce the thickness or as shown in FIG. The porous plate 9 having the porous hole 8 for spraying the etchant 4 on the display panel is used.

도 1 및 도 2 에 도시된 식각 방법은 제 1 및 제 2 기판(1, 2)을 동시에 식각하여 제 1 및 제 2 기판(1, 2)의 두께를 동일하게 형성된다. 여기서, 제 1 기판(1)의 면적은 제 2 기판(2)의 면적보다 더 크게 형성된다. 이에 따라, 제 1 기판(1) 및 제 2 기판(2) 합착시 제 2 기판(2)과 합착되지 않은 제 1 기판(1)의 면적은 제 2 기판(2)과 합착된 제 1 기판(1)의 강도보다 낮아 외부로부터의 충격으로부터 쉽게 파손되거나 금이 생기게 된다.In the etching method shown in FIGS. 1 and 2, the first and second substrates 1 and 2 are simultaneously etched to form the same thicknesses of the first and second substrates 1 and 2. Here, the area of the first substrate 1 is larger than the area of the second substrate 2. Accordingly, the area of the first substrate 1 that is not bonded to the second substrate 2 when the first substrate 1 and the second substrate 2 are bonded together is the first substrate bonded to the second substrate 2 ( It is lower than the strength of 1), so it is easily broken or cracked from the impact from outside.

이를 해결하기 위한 제 1 기판(1)의 파손 등을 막기 위한 식각공정으로는 제 1 기판(30) 및 제 2 기판(1, 2)의 두께를 다르게 하기 위해 제 1 기판(1) 및 제 2 기판(2) 중 어느 하나에 식각 반응이 일어나지 않는 코팅지를 사용하거나 식각이 일어나지 않는 물질을 도포하는 방법이 있다. 이러한 방법은 코팅을 하는 공정이 추가되어 제조공정이 지연될 뿐만 아니라 제조공정비가 증가한다.In order to solve this problem, an etching process for preventing damage to the first substrate 1 may be performed in order to change thicknesses of the first substrate 30 and the second substrates 1 and 2. One of the substrates 2 may be coated with a non-etching coated paper or a method of applying a material without etching. This method not only delays the manufacturing process by adding a coating process, but also increases the manufacturing process cost.

따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 표시패널의 두께를 줄일 수 있는 기판의 식각 장치를 제공하는데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide an etching apparatus for a substrate that can reduce the thickness of the display panel.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 식각장치는 일측면에 표시패널을 부착하는 패드, 상기 패드를 양측면에 각각 구비하는 지지플레이트를 포함하는 식각어레이 기판과; 상기 각각의 표시패널 일측면을 식각하는 식각액과; 상기 식각어레이 기판과 식각액을 수납하는 용기를 구비한다.In order to achieve the above technical problem, an etching apparatus according to the present invention includes an etching array substrate comprising a pad for attaching a display panel on one side, and a support plate each having the pad on both sides; An etchant that etches one side of each display panel; A container for storing the etching array substrate and the etching liquid is provided.

상기 박막트랜지스터 기판 또는 컬러필터 기판 중 어느 하나가 고무패드에 접착되며 상기 박막트랜지스터 기판 또는 컬러필터기판 중 고무패드와 비접촉면이 상기 식각액에 의해 식각되는 것을 특징으로 한다. Any one of the thin film transistor substrate or the color filter substrate is adhered to the rubber pad and the rubber pad and the non-contact surface of the thin film transistor substrate or the color filter substrate are etched by the etchant.

상기 식각액은 불산 및 불산염 계열의 화합물 또는 상기 불산 및 불산염 계열의 화합물의 수용액인 것을 특징으로 한다.The etchant is characterized in that the aqueous solution of the hydrofluoric acid and hydrofluoric acid-based compound or the hydrofluoric acid and hydrofluoric acid-based compound.

상기 지지플레이트는 폴리비닐클로라이드 계열를 포함하는 폴리롤레핀계 고분자 수지, 테프론, 불산 또는 불산염과 비반응하는 고분자 화합물, 불산 내식성이 있는 스테인리스강 중 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 한다.The support plate is characterized by using any one of polyolefin-based polymer resin, including polyvinyl chloride series, Teflon, hydrofluoric acid or a hydrofluoric acid polymer compound, hydrofluoric acid corrosion resistant stainless steel.

상기 패드는 실리콘 고무, 천연고무 또는 합성고무 중 어느 하나로 사용되는 것을 특징으로 한다. The pad is characterized in that it is used as any one of silicone rubber, natural rubber or synthetic rubber.

상기 박막트랜지스터 기판과 컬러필터기판의 두께차는 0.01mm 이상 0.06mm 이하인것을 특징으로 한다.The thickness difference between the thin film transistor substrate and the color filter substrate is 0.01 mm or more and 0.06 mm or less.

상기 기술적 과제 외에 본 발명의 다른 기술적 과제 및 이점들은 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 대한 설명을 통해 명백하게 드러나게 될 것이다.Other technical problems and advantages of the present invention in addition to the above technical problem will be apparent from the description of the preferred embodiment of the present invention with reference to the accompanying drawings.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 도 3 내지 도 6은 참조하여 상세히 설 명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 3 to 6.

도 3 및 도 4는 본 발명에 따른 식각어레이 기판(100)을 포함하는 식각장치를 나타내는 단면도이다.3 and 4 are cross-sectional views showing an etching apparatus including an etching array substrate 100 according to the present invention.

도 3을 참조하면, 표시패널(60)의 식각장치는 식각액(92)을 담는 용기(90)와, 용기(90) 내부에 설치되며 박막트랜지스터 기판(50) 및 컬러필터 기판(40)을 포함하는 표시패널(60)이 부착되는 식각어레이 기판(100)과, 용기(90) 내부에 설치된 버블판(83)으로 구성된다.Referring to FIG. 3, the etching apparatus of the display panel 60 includes a container 90 containing an etching solution 92, a thin film transistor substrate 50, and a color filter substrate 40 installed inside the container 90. And an etch array substrate 100 to which the display panel 60 is attached, and a bubble plate 83 provided inside the container 90.

용기(90)는 컬러필터 기판(40) 및 식각어레이 기판(100)이 내장되는 공간이다. 여기서,용기(90)에는 컬러필터 기판(40)의 제 2 기판(20)과 반응하는 식각액(92)과, 식각액(92)에 담긴 식각어레이 기판(100), 버블판(83), 고정대(80)이 설치된다. 여기서 식각액(92)은 식각액 배출관(미도시)을 통해 용기(90)에 채워지며 고정대(80)는 용기에 설치된 식각어레이 기판(100)이 유동되는 것을 방지하도록 고정한다. 이때, 식각액(92)이 식각어레이 기판(100) 상에 원활하게 퍼져 제 2 기판(20) 표면이 균일하고 매끄럽게 하기 위해 인위적으로 버블(84)을 제공하는 버블판(84)을 형성한다. The container 90 is a space in which the color filter substrate 40 and the etching array substrate 100 are embedded. Here, the container 90 includes an etching solution 92 reacting with the second substrate 20 of the color filter substrate 40, an etching array substrate 100 contained in the etching solution 92, a bubble plate 83, and a fixing table ( 80) is installed. Here, the etchant 92 is filled in the container 90 through the etchant discharge pipe (not shown) and the fixing stand 80 is fixed to prevent the etching array substrate 100 installed in the container from flowing. At this time, the etching solution 92 is smoothly spread on the etching array substrate 100 to form a bubble plate 84 that artificially provides the bubble 84 to make the surface of the second substrate 20 uniform and smooth.

식각어레이 기판(60)은 도 4에 도시된 바와 같이 양면에 제 1 및 제 2 표시패널(60)이 각각 부착되는 지지플레이트(70)와, 지지플레이트(70)와 제 1 및 제 2 표시패널(60) 사이에 형성된 패드(72)를 포함한다.As shown in FIG. 4, the etch array substrate 60 includes a support plate 70 having first and second display panels 60 attached to both surfaces thereof, a support plate 70, and first and second display panels. And pads 72 formed between 60.

지지플레이트(70)는 지지플레이트(70)의 일측면에는 제 1 표시패널(60)을 부착하고 타측면으로는 제 2 표시패널(60)을 부착한다. 이러한 지지플레이트(70)는 제 1 및 제 2 표시패널(60)을 부착시키기 위해 지지플레이트(70)의 일측과 부착된 제 1 표시패널(60) 사이와, 지지플레이 타측과 부착된 제 2 표시패널(60) 사이에 각각의 패드(72)들을 구성한다. 이때, 지지플레이트(70)는 패드(72)를 지지하며 패드(72)의 모형이 변형되지 않게 한다. 이러한 지지플레이트(70)는 폴리올레핀계 고분자 수지를 이용하며, 바람직하게는 폴리비닐클로라이드 계열, 테프론, 불산 및 불산염과 반응이 없는 고분자 화합물, 불산 내식성이 있는 스테인리스강 등을 이용한다.The support plate 70 attaches the first display panel 60 to one side of the support plate 70 and the second display panel 60 to the other side. The support plate 70 is disposed between one side of the support plate 70 and the first display panel 60 attached to the first and second display panels 60, and a second display attached to the other side of the support play plate. Each of the pads 72 is configured between the panels 60. At this time, the support plate 70 supports the pad 72 and prevents the model of the pad 72 from being deformed. The support plate 70 uses a polyolefin-based polymer resin, preferably a polyvinyl chloride-based, Teflon, a high molecular compound that does not react with hydrofluoric acid and hydrofluoric acid, stainless steel with hydrofluoric acid corrosion resistance and the like.

패드(72)는 제 1 기판(30)과 부착된다. 여기서 제 1 기판(30)은 제 1 및 제 2 표시패널(60)에 각각에 포함된 박막트랜지스터 기판(50) 및 컬러필터 기판(40) 중 하나이며, 본 발명에서는 제 1 기판(30)이 박막트랜지스터 기판(50)이며 제 2 기판(20)은 컬러필터 기판(40)이다. 여기서 패드(72) 및 제 1 기판(30) 중 어느 하나는 접촉 전에 패드(72)와 제 1 기판(30)의 합착력을 강화 위한 수용액 등이 도포된다. 이 패드(72)들은 지지플레이트(70)의 양면에 각각 형성된다. 즉, 패드(72)의 일측들은 지지플레이트(70)을 사이에 두고 서로 마주보도록 형성되며 타측들은 제 1 기판(30)과 부착된다. 패드(72)부에 부착에 의해 제 1 기판(30)은 식각액(92)과 반응되는 것이 방지되며 패드(72)부와 부착되지 않은 제 2 기판(20)은 식각액(92)에 반응하여 식각되어 제 1 기판(30)보다 작은 두께로 형성된다. 이러한 패드(72)는 고무재질로 이용하며 바람직하게는 실리콘 고무, 천연고무, 합성고무 중 어느 하나를 사용한다. 여기서 패드(72)부는 제 1 기판(30)과 부착된 것에 대해 설명하였지만 제 2 기판(20)이 부착되어 제 1 기판(30)이 식각액(92)과 반응하 여 식각될 수 있다.The pad 72 is attached to the first substrate 30. The first substrate 30 is one of the thin film transistor substrate 50 and the color filter substrate 40 included in each of the first and second display panels 60. In the present invention, the first substrate 30 is The thin film transistor substrate 50 and the second substrate 20 are the color filter substrate 40. Here, any one of the pad 72 and the first substrate 30 is coated with an aqueous solution or the like for enhancing the bonding force between the pad 72 and the first substrate 30 before contacting. These pads 72 are formed on both sides of the support plate 70, respectively. That is, one side of the pad 72 is formed to face each other with the support plate 70 therebetween and the other side is attached to the first substrate 30. By attaching to the pad 72, the first substrate 30 is prevented from reacting with the etchant 92, and the second substrate 20 not attached to the pad 72 is reacted with the etchant 92 to etch. As a result, the thickness is smaller than that of the first substrate 30. The pad 72 is used as a rubber material and preferably any one of silicone rubber, natural rubber and synthetic rubber. Although the pad 72 is described with respect to being attached to the first substrate 30, the second substrate 20 may be attached so that the first substrate 30 may be etched by reacting with the etchant 92.

도 5를 참조하면, 표시장치의 식각장치는 용기(90)와, 식각액(92)을 제공하는 다공홀을 구비하는 다공부, 다공부 사이에 형성된 식각어레이 기판(100), 식각어레이 기판(100)을 고정하는 고정대(80)로 구성된다.Referring to FIG. 5, the etching apparatus of the display device includes a porous portion having a container 90, a porous hole for providing an etching liquid 92, an etching array substrate 100 formed between the porous portions, and an etching array substrate 100. It is composed of a holding 80 for fixing.

용기(90)에는 컬러필터 기판(40)의 제 2 기판(20)을 식각하기 위한 식각액(92)과, 식각액(92)을 제공하는 다공부, 식각어레이 기판(100)이 설치된다. 여기서 식각액(92)은 다공부의 여러 개의 다공홀을 통해 제 2 기판(20)으로 뿌려진다. 이 식각액(92)에 의해 제 2 기판(20)은 식각액(92)과 반응하여 식각되며 제 1 기판(30)의 두께보다 작게 된다. 여기서, 식각어레이 기판(100)은 도 4와 동일하므로 생략하기로 한다. The container 90 is provided with an etching solution 92 for etching the second substrate 20 of the color filter substrate 40, a porous portion for providing the etching solution 92, and an etching array substrate 100. The etchant 92 is sprayed onto the second substrate 20 through the plurality of porous holes in the porous portion. By the etchant 92, the second substrate 20 reacts with the etchant 92 to be etched and becomes smaller than the thickness of the first substrate 30. Here, the etch array substrate 100 is the same as in Figure 4 will be omitted.

본 발명에 따른 식각어레이 기판(100)은 도 3 및 도 5에 도시된 버블판(83) 및 다공판(86)을 구비하는 식각장치에 포함되는 것을 예로 하여 설명하였지만 기판을 식각하는 모든 식각장치에 포함할 수 있다.Although the etching array substrate 100 according to the present invention has been described with an example of being included in an etching apparatus having a bubble plate 83 and a porous plate 86 illustrated in FIGS. 3 and 5, all etching apparatuses for etching a substrate are described. It can be included in.

도 6은 본 발명에 따른 표시패널(60)을 나타내는 사시도이다.6 is a perspective view illustrating a display panel 60 according to the present invention.

도 6을 참조하면, 표시패널(60)은 액정층을 사이에 두고 서로 대향하여 합착된 박막트랜지스터(32) 어레이가 형성된 박막트랜지스터 기판(50) 및 박막트랜지스터(32)의 기판보다 두께가 작은 컬러필터(88) 어레이가 형성된 컬러필터 기판(40)을 구비한다.Referring to FIG. 6, the display panel 60 has a thickness smaller than that of the thin film transistor substrate 50 and the thin film transistor 32 on which the array of thin film transistors 32 bonded to each other with the liquid crystal layer interposed therebetween is formed. The color filter substrate 40 in which the filter 88 array was formed is provided.

박막트랜지스터 기판(50)은 제 1 기판(30) 상에 서로 교차하게 형성된 게이트 라인(38) 및 데이터 라인(36)과, 그 교차부에 인접한 박막트랜지스터(32)와, 그 교차 구조로 마련된 화소 영역에 형성된 화소전극(34)을 구비한다. The thin film transistor substrate 50 includes a gate line 38 and a data line 36 formed on the first substrate 30 to cross each other, a thin film transistor 32 adjacent to the intersection portion, and a pixel provided in an intersecting structure. The pixel electrode 34 formed in the area is provided.

박막트랜지스터(32)는 게이트 라인(38)에 공급되는 스캔 신호에 응답하여 데이터 라인(36)에 공급되는 화소 신호가 화소전극(34)에 충전되어 유지되게 한다. 이를 위하여, 박막트랜지스터(32)는 게이트 라인(38)과 접속된 게이트 전극, 데이터 라인(36)과 접속된 소스 전극, 소스 전극과 대향하게 위치하여 화소전극(34)과 접속된 드레인 전극, 소스 전극과 드레인 전극 사이에 채널을 형성하는 활성층, 소스 전극 및 드레인 전극과의 오믹 접촉을 위한 오믹 접촉층을 구비한다. The thin film transistor 32 keeps the pixel signal supplied to the data line 36 charged in the pixel electrode 34 in response to the scan signal supplied to the gate line 38. To this end, the thin film transistor 32 may include a gate electrode connected to the gate line 38, a source electrode connected to the data line 36, a drain electrode positioned to face the source electrode, and connected to the pixel electrode 34. An ohmic contact layer for ohmic contact with an active layer, a source electrode, and a drain electrode, which forms a channel between the electrode and the drain electrode, is provided.

화소전극(34)은 박막트랜지스터(32)로부터 공급된 화소 신호를 충전하여 컬러필터 기판(40)에 형성되는 공통전극(24)과 전위차를 발생시키게 된다. 이 전위차에 의해 박막트랜지스터 기판(50)과 컬러필터 기판(40)에 위치하는 액정이 유전 이방성에 의해 회전하게 되며 백라이트 유닛으로부터 화소전극(34)을 경유하여 입사되는 광량을 조절하여 컬러필터 기판(40) 쪽으로 투과시키게 된다.The pixel electrode 34 charges the pixel signal supplied from the thin film transistor 32 to generate a potential difference with the common electrode 24 formed on the color filter substrate 40. Due to the potential difference, the liquid crystal positioned on the thin film transistor substrate 50 and the color filter substrate 40 is rotated by dielectric anisotropy, and the amount of light incident from the backlight unit via the pixel electrode 34 is adjusted to adjust the color filter substrate ( 40).

합착층(도시안함)은 컬러필터(88) 및박막트랜지스터 기판(50) 내부로 주입된 액정의 누설을 방지하는 기능을 한다.The bonding layer (not shown) functions to prevent leakage of the liquid crystal injected into the color filter 88 and the thin film transistor substrate 50.

액정층은 박막트랜지스터 기판(50)의 화소전극(34)으로부터의 데이타 전압과 컬러필터 기판(40)의 공통전극(24)으로부터의 공통전압의 차이에 의해 회전하여 입사되는 광의 투과율을 조절한다. 이를 위해, 액정층은 유전율 이방성 및 굴절율 이방성을 갖는 액정분자로 이루어진다.The liquid crystal layer adjusts the transmittance of light incident by rotation by the difference between the data voltage from the pixel electrode 34 of the thin film transistor substrate 50 and the common voltage from the common electrode 24 of the color filter substrate 40. To this end, the liquid crystal layer is composed of liquid crystal molecules having dielectric anisotropy and refractive index anisotropy.

컬러필터 기판(40)은 제 2 기판(20) 상에 순차적으로 형성된 블랙매트릭스(26), 컬러필터(88), 공통전극(24), 컬럼 스페이서를 구비한다. The color filter substrate 40 includes a black matrix 26, a color filter 88, a common electrode 24, and column spacers sequentially formed on the second substrate 20.

블랙매트릭스(26)는 제 2 기판(20)을 컬러필터(88)가 형성될 다수의 셀영역들로 나누고, 인접한 셀들간의 광 간섭 및 외부광 반사를 방지한다. 이를 위해, 블랙매트릭스(26)는 제 1 기판(30) 상에 형성된 데이터 라인(36), 게이트 라인(38) 및 박막트랜지스터(32) 중 적어도 어느 하나와 중첩되게 제 2 기판(20) 상에 형성된다. The black matrix 26 divides the second substrate 20 into a plurality of cell regions in which the color filter 88 is to be formed, and prevents light interference and external light reflection between adjacent cells. To this end, the black matrix 26 is formed on the second substrate 20 to overlap at least one of the data line 36, the gate line 38, and the thin film transistor 32 formed on the first substrate 30. Is formed.

컬러필터(88)는 블랙매트릭스(26)에 의해 구분된 셀영역에 적(R), 녹(G), 청(B)으로 구분되게 형성되어 적, 녹, 청색 광을 각각 투과시킨다. The color filter 88 is formed to be divided into red (R), green (G), and blue (B) in the cell region divided by the black matrix 26 to transmit red, green, and blue light, respectively.

공통전극(24)은 투명 도전층으로 액정 구동시 기준이 되는 공통 전압(Vcom)을 공급한다. The common electrode 24 supplies a common voltage Vcom which is a reference when driving the liquid crystal to the transparent conductive layer.

컬럼스페이서는 박막트랜지스터 기판(50)과 컬러필터 기판(40)과의 셀갭을 일정하게 유지시키는 역할을 한다.The column spacer serves to maintain a constant cell gap between the thin film transistor substrate 50 and the color filter substrate 40.

여기서, 제 1 및 제 2 기판(20, 30) 각각은 박막트랜지스터 어레이와 컬러필터 어레이가 형성된다. 제 2 기판(20)의 두께(h1)은 제 1 기판(30)의 두께(h2)보다 작게 형성되어 표시패널(60)의 전체적인 두께가 감소된다. 이때, 제 1 및 제 2 기판(20, 30)이 합착된 두께는 0.1 이상 0.7 이하이며 제 1 및 제 2 기판(20, 30)의 합착된 두께에 의해 제 1 및 제 2 기판(20, 30)의 두께 차는 0.01mm 이상 0.60mm 이하이다. 이러한 제 1 및 제 2 기판(20, 30)은 플라스틱, 유리, 실리콘 웨이퍼 등이 이용되며 바람직하게는 유리를 이용한다.Here, each of the first and second substrates 20 and 30 is formed with a thin film transistor array and a color filter array. The thickness h1 of the second substrate 20 is smaller than the thickness h2 of the first substrate 30 so that the overall thickness of the display panel 60 is reduced. In this case, the thicknesses of the first and second substrates 20 and 30 bonded to each other are 0.1 or more and 0.7 or less and the first and second substrates 20 and 30 are formed by the bonded thicknesses of the first and second substrates 20 and 30. ), The thickness difference is 0.01 mm or more and 0.60 mm or less. The first and second substrates 20 and 30 may be made of plastic, glass, silicon wafer, or the like, and preferably glass.

이에 따라, 본 발명에 따른 식각어레이 기판(100)은 하나의 지지플레이트(70)에 두 개의 표시패널(60)을 구비하여 동시에 두 개의 컬러필터 기판(40)을 식 각함으로써 공정시간을 단축시킬 수 있다. 뿐만 아니라, 식각어레이 기판(100)은 컬러필터(88)의 기판면을 식각함으로써 박막트랜지스터 기판(50)의 두께를 유지하여 강도를 유지할 수 있어 파손을 방지할 수 있다. 또한, 식각어레이 기판(100)은 중량화 및 박형화가 가능한 기판을 제조할 수 있다.Accordingly, the etching array substrate 100 according to the present invention includes two display panels 60 on one support plate 70 to simultaneously reduce the processing time by etching two color filter substrates 40. Can be. In addition, the etching array substrate 100 may maintain the thickness of the thin film transistor substrate 50 by etching the substrate surface of the color filter 88, thereby preventing damage. In addition, the etch array substrate 100 can manufacture a substrate that can be weighted and thinned.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 식각장치 및 그 식각장치의 제조 방법은 제 1 및 제 표시패널을 양측면에 부착하는 식각 기판 어레이를 구비한다. 이러한 식각어레이 기판은 제 1 및 제 2 표시패널과 식각 기판 어레이 기판 사이에 형성된 고무패드들을 구비하며 제 1 및 제 2 표시 패널의 일측을 동시에 식각 할 수 있다.As described above, the etching apparatus and the method of manufacturing the etching apparatus according to the present invention include an etching substrate array for attaching the first and first display panels to both sides. The etching array substrate may include rubber pads formed between the first and second display panels and the etching substrate array substrate, and may simultaneously etch one side of the first and second display panels.

이에 따라, 식각장치는 지지대에 의해 하나의 지지대에 의해 두 개의 표시 패널을 식각하며 표시패널의 전체적인 두께를 줄일 수 있고, 특히 박막트랜지스터의 파손을 방지하고 강도를 유지할 수 있다. 또한, 하나의 지지대에 두 개의 패널을 식각함으로써 제조 시간이 단축될 뿐만 아니라 지지대를 추가함으로써 제조 비용을 절감할 수 있다. 더하여, 지지대는 식각 공정에 사용되는 식각장치에 모두 적용할 수 있다.Accordingly, the etching apparatus may reduce the overall thickness of the display panel by etching two display panels by one support by the support, and in particular, prevent the breakage of the thin film transistor and maintain the strength. In addition, by etching two panels in one support, not only the manufacturing time can be shortened, but also the manufacturing cost can be reduced by adding the support. In addition, the support can be applied to all the etching apparatus used in the etching process.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술 사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

Claims (7)

일측면에 표시패널을 부착하는 패드, 상기 패드를 양측면에 각각 구비하는 지지플레이트를 포함하는 식각어레이 기판과;An etch array substrate including a pad attaching the display panel to one side, and a support plate having the pads at both sides thereof; 상기 각각의 표시패널 일측면을 식각하는 식각액과;An etchant that etches one side of each display panel; 상기 식각어레이 기판과 식각액을 수납하는 용기를 구비하는 식각장치. Etching apparatus comprising a container for receiving the etching array substrate and the etching liquid. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 표시패널은 박막트랜지스터 기판 및 컬러필터 기판이 합착되며, 상기 박막트랜지스터 기판 또는 컬러필터 기판 중 어느 하나가 패드에 접착되는 것을 특징으로 하는 식각장치.The display panel is an etching apparatus, characterized in that the thin film transistor substrate and the color filter substrate is bonded to any one of the thin film transistor substrate or the color filter substrate is bonded to the pad. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 박막트랜지스터 기판 또는 컬러필터기판 중 패드와 비접촉면이 상기 식각액에 의해 식각되는 것을 특징으로 하는 식각장치. The non-contact surface with the pad of the thin film transistor substrate or the color filter substrate is etched by the etchant. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 식각액은 불산 및 불산염 계열의 화합물 또는 상기 불산 및 불산염 계열의 화합물의 수용액인 것을 특징으로 하는 식각장치.The etching solution is an etching apparatus, characterized in that the aqueous solution of the hydrofluoric acid and hydrofluoric acid-based compound or the hydrofluoric acid and hydrofluoric acid-based compound. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 지지플레이트는 폴리비닐클로라이드 계열를 포함하는 폴리롤레핀계 고분자 수지, 테프론, 불산 또는 불산염과 비반응하는 고분자 화합물, 불산 내식성이 있는 스테인리스강 중 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 식각장치.The support plate is an etching apparatus using any one of polyolefin-based polymer resin, including polyvinyl chloride series, Teflon, hydrofluoric acid or a hydrofluoric acid polymer compound, hydrofluoric acid resistant stainless steel. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 패드는 실리콘 고무, 천연고무 또는 합성고무 중 어느 하나로 사용되는 것을 특징으로 하는 식각장치. The pad is an etching apparatus, characterized in that used as any one of silicone rubber, natural rubber or synthetic rubber. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 박막트랜지스터 기판과 컬러필터기판의 두께차는 0.01mm 이상 0.06mm 이하인것을 특징으로 하는 식각장치.And the thickness difference between the thin film transistor substrate and the color filter substrate is 0.01 mm or more and 0.06 mm or less.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101133538B1 (en) * 2010-07-08 2012-04-05 주식회사 이코니 Structure for supportigng glass plate and method for etching glass plate using the same

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