KR20080003613A - Substrates and substrates adhesion apparatus - Google Patents

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KR20080003613A
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강진규
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주식회사 에이디피엔지니어링
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Abstract

A substrate and a substrate adhesion apparatus are provided to prevent a control error by separately forming a space where bubbles included in liquid crystals flow and remain or providing a thermal resource for preventing generation of bubbles to the substrate adhesion apparatus. An upper substrate(130) and a lower substrate(140) are prepared such that they are attached to each other. A buffer space is formed in counter surfaces of the upper and lower substrates. Bubbles included in liquid crystals injected in the attachment of the upper and lower substrates move into the buffer space. The buffer space is formed at an edge of at least one of the upper and lower substrates. The buffer space includes depressed portions(132,142).

Description

기판 및 기판 합착기{SUBSTRATES AND SUBSTRATES ADHESION APPARATUS}Substrate and Substrate Bonder {SUBSTRATES AND SUBSTRATES ADHESION APPARATUS}

도 1은 액정표시소자의 구조를 개략적으로 나타내는 단면도이다. 1 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a liquid crystal display device.

도 2는 종래의 기판 합착기를 도시한 정단면도이다.Figure 2 is a front sectional view showing a conventional substrate bonding machine.

도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 합착기를 도시한 정단면도이다.3 is a front cross-sectional view illustrating a substrate combiner according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 기판 합착기에 의해 합착된 액정표시소자인 기판의 구조를 개략적으로 도시한 단면도이다.4 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a substrate which is a liquid crystal display device bonded by the substrate bonding machine of the present invention.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

130, 140: 상, 하 기판 132, 142: 요부130, 140: upper and lower substrates 132, 142: main part

150: 실링재 160: 액정층150: sealing material 160: liquid crystal layer

170: 히팅수단170: heating means

본 발명은 기판 및 기판 합착기에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기판 합착시 액정에 포함된 기포가 유동한 후 잔류하는 공간을 기판에 별도로 형성하거나, 기판 합착기에 기포가 발생되지 않도록 열원을 제공하여 기포에 의한 제어 불량을 방지하는 기판 및 기판 합착기에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate and a substrate combiner, and more particularly, to form a space remaining after the air bubbles contained in the liquid crystal flow to the substrate separately, or to provide a heat source so that bubbles do not occur in the substrate combiner The present invention relates to a substrate and a substrate joining machine which prevents poor control by the present invention.

정보화 사회가 발전함에 따라 표시 장치에 대한 요구도 다양한 형태로 점증하고 있으며, 이에 부응하여 근래에는 LCD(Liquid Crystal Device), PDP(Plasma Display Panal) 등 여러 가지 평판 표시 장치가 연구되어 왔고 일부는 이미 여러 장비에서 표시 장치로 활용되고 있다.As the information society develops, the demand for display devices is increasing in various forms. In response, various flat panel display devices such as liquid crystal devices (LCDs) and plasma display panels (PDPs) have been studied. It is used as a display device in various equipments.

일반적으로 액정 표시 장치는 도 1에 도시된 바와 같이 전극이 형성되어 있는 TFT(Thin Film Transistor) 기판인 상 기판(30)과 형광체가 도포된 칼라 필터(Color filter) 기판인 하 기판(40) 사이에 액정(Liquid Crystal)을 주입한 액정층(60)이 형성된다. Generally, a liquid crystal display device is formed between an upper substrate 30, which is a TFT (Thin Film Transistor) substrate, on which an electrode is formed, and a lower substrate 40, which is a color filter substrate coated with phosphors, as shown in FIG. 1. A liquid crystal layer 60 into which liquid crystal is injected is formed in the liquid crystal layer 60.

물론 양 기판(30, 40)의 가장자리에는 액정 물질을 가두기 위한 실링재(Sealer: 50)가 구비되며, 양 기판(30, 40) 사이에는 소정 간격으로 양 기판(30, 40) 사이의 간격을 유지하기 위한 간격재(Spacer: 도면에 미도시)가 위치된다.Of course, a sealing material 50 for confining the liquid crystal material is provided at the edges of both substrates 30 and 40, and the gap between the substrates 30 and 40 is maintained at predetermined intervals between the substrates 30 and 40. Spacer (not shown in the figure) for positioning.

상기 액정 표시 장치는 액정 물질에 전원을 인가하여 구동되는 것이며, 액정 물질은 이방성 유전율을 갖기 때문에 전원의 세기를 조절하여 기판에 투과되는 빛의 양을 조절함으로써 화상을 표시한다.The liquid crystal display is driven by applying power to the liquid crystal material. Since the liquid crystal material has anisotropic dielectric constant, the liquid crystal display device displays an image by controlling the intensity of the power to control the amount of light transmitted through the substrate.

따라서 액정 표시 장치를 제조함에 있어서는 TFT기판 및 칼라필터 기판을 제조한 후에 양 기판을 합착하고 그 사이의 공간에 액정 물질을 주입하는 것이 필수적인 공정이면서, 매우 중요한 공정이다.Therefore, in manufacturing a liquid crystal display device, it is an essential and very important process to bond the two substrates and inject the liquid crystal material into the space therebetween after the TFT substrate and the color filter substrate are manufactured.

종래의 기판 합착기는 도 2에 도시된 바와 같이, 크게는 내부가 진공 상태와 대기압 상태로 전환되는 상, 하부 챔버(10, 20) 및 상기 상, 하부 챔버(10, 20)내 상측과 하측에 마련되는 상, 하부 스테이지(12, 22)로 이루어지며, 상기 상, 하부 챔버(10, 20) 내에 반입되는 두 개의 기판(컬러필터 기판과 TFT 어레이 기판(이하 "상하 기판": 30, 40)을 상부 스테이지(12)와 하부 스테이지(22)에 수평으로 배치한 후 상하로 합착하는 구조로 되어있다.As shown in FIG. 2, the conventional substrate joining apparatus is generally disposed on the upper and lower sides of the upper and lower chambers 10 and 20 and the upper and lower chambers 10 and 20 in which the interior is changed into a vacuum state and an atmospheric pressure state. Two substrates (color filter substrate and TFT array substrate (hereinafter referred to as "upper and lower substrate": 30, 40)) carried in the upper and lower chambers 10 and 20, which are formed of upper and lower stages 12 and 22 provided. Is arranged horizontally on the upper stage 12 and the lower stage 22, and is then joined up and down.

그리고 상기 상부 챔버(10)는 상하 기판(30, 40) 반입 또는 반출시 승강하며 상기 상부 스테이지(12)의 하부와 하부 스테이지(22) 상부에는 로딩된 상하 기판(30, 40)이 안착되고 일차적으로 가흡착시키는 리프트 핀(14, 24)이 다수개 마련되며, 이러한 리프트 핀(14, 24)은 상, 하부에 마련되는 하나의 플레이트에 의해 일률적으로 이동한다.The upper chamber 10 moves up and down when the upper and lower substrates 30 and 40 are brought in or taken out, and the loaded upper and lower substrates 30 and 40 are seated on the lower part of the upper stage 12 and the upper part of the lower stage 22. A plurality of lift pins 14 and 24 for absorbing and adsorbing are provided, and the lift pins 14 and 24 are uniformly moved by one plate provided at upper and lower portions thereof.

그리고 상기 상, 하 기판(30, 40)의 일단을 액정에 접촉시킴과 동시에 비활성 가스인 질소 가스(N2) 등을 상기 상, 하부 챔버(10, 20) 내로 주입하기 시작하여 대기압 상태에 도달하도록 하고 수시간 이상 방치하여 액정의 주입을 완료한다.In addition, one end of the upper and lower substrates 30 and 40 is brought into contact with the liquid crystal, and at the same time, nitrogen gas N2, which is an inert gas, is injected into the upper and lower chambers 10 and 20 to reach an atmospheric pressure state. And left for several hours or more to complete the injection of the liquid crystal.

그러나 상기 기판 합착기에 의해 상하 기판(30, 40)을 합착한 후 주입구를 통해 액정을 주입하는 과정에서 상기 상, 하부 챔버(10, 20) 내부에 잔류되는 외기(에어 및 질소가스)가 액정 주입 공간으로 유입되어 액정층(60)에 기포가 발생되며 이로 인해 기포가 발생된 부분에서 액정 표시 장치의 제어가 불가능한 문제점이 있었다.However, in the process of injecting the liquid crystal through the injection hole after bonding the upper and lower substrates 30 and 40 by the substrate adhering device, the outside air (air and nitrogen gas) remaining in the upper and lower chambers 10 and 20 is injected into the liquid crystal. Bubbles are generated in the liquid crystal layer 60 by flowing into the space, and thus, there is a problem in that the control of the liquid crystal display device is impossible at the bubble generated portion.

본 발명은 상기 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 그 목적은 기판 합착시 액정에 포함된 기포가 유동한 후 잔류하는 공간을 기판에 별도로 형성하거나 기판 합착기에 기포의 발생을 방지할 수 있도록 열원을 제공하여 제어 불량을 방지할 수 있게 한 기판 및 기판 합착기를 제공함에 있다.The present invention has been made to solve the above problems, the object is to form a space remaining after the air bubbles contained in the liquid crystal when the substrate is bonded to the substrate separately or to prevent the generation of bubbles in the substrate bonding The present invention provides a substrate and a substrate bonder that provide a heat source to prevent poor control.

상술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 합착할 수 있도록 상하로 구비되는 기판에 있어서, 상기 상하 기판의 대향 면에 기판 합착시 주입된 액정 중에 포함된 기포가 이동하여 위치될 수 있는 버퍼(Buffer) 공간이 형성됨으로써, 기포 발생에 의한 제어 불량을 방지하므로 바람직하다.In order to achieve the above object, the present invention, in the substrate provided up and down to be bonded, the buffer in which the bubbles contained in the liquid crystal injected when the substrate is bonded to the opposite surface of the upper and lower substrates (Buffer Since the space is formed, it is preferable to prevent poor control due to bubble generation.

또한, 본 발명에서의 상기 버퍼 공간은, 상기 상하 기판 중 적어도 어느 하나의 가장자리에 형성되는 요(凹)부인 것을 특징으로 함으로써, 액정 중에 포함된 기포가 상기 요부에 수집되므로 바람직하다.Moreover, since the said buffer space in this invention is a recessed part formed in the edge of at least one of the said upper and lower board | substrates, it is preferable because the bubble contained in a liquid crystal collects in the said recessed part.

또한, 본 발명에서의 상하 기판을 합착하는 기판 합착기에 있어서, 챔버; 상기 챔버 내부에 구비되어 상기 상하 기판을 각각 흡착하는 상, 하부 스테이지; 상기 상하 기판에 열원을 제공하여 기판 합착시 기포 발생을 방지하는 히팅수단; 을 포함하여 이루어짐으로써, 상기 기판 합착기에 구비된 히팅수단에 의해 상기 상하 기판 사이의 온도가 상승함과 동시에 압력이 상승하여 상기 챔버 내로 질소 가스 등을 주입하는 과정에서 액정 주입 공간으로 유입되어 기포가 발생되는 것을 방지하므로 바람직하다.Moreover, the board | substrate bonding machine which adhere | attaches the upper and lower substrates in this invention, Comprising: Chamber; Upper and lower stages provided inside the chamber to respectively adsorb the upper and lower substrates; Heating means for providing a heat source to the upper and lower substrates to prevent the generation of bubbles when bonding the substrate; In this case, the temperature is increased between the upper and lower substrates by the heating means provided in the substrate adhering device and the pressure is increased to inject the nitrogen gas into the liquid crystal injection space in the process of injecting nitrogen gas into the chamber. It is preferable because it prevents it from occurring.

이하, 본 발명의 기판 및 기판 합착기를 첨부도면을 참조하여 일 실시 예를 들어 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, an embodiment will be described with reference to the accompanying drawings of the substrate and the substrate adapter of the present invention.

본 발명의 바람직한 일 실시 예에 따른 기판은 도 3에 도시된 바와 같이 TFT(Thin Film Transistor) 기판인 상 기판(130)과 형광체가 도포된 칼라 필터(Color filter) 기판인 하 기판(140) 사이에 액정(Liquid Crystal)을 주입한 액정층(160)이 형성된다.As shown in FIG. 3, a substrate according to an exemplary embodiment of the present invention is provided between an upper substrate 130 that is a thin film transistor (TFT) substrate and a lower substrate 140 that is a color filter substrate coated with phosphors. A liquid crystal layer 160 in which a liquid crystal is injected into the liquid crystal layer 160 is formed.

물론, 종래와 마찬가지로 상하 기판(130, 140)의 가장자리에는 액정 물질을 가두기 위한 실링재(Sealer: 150)가 구비되며, 상기 상하 기판(130, 140) 사이에는 소정 간격으로 양 기판(130, 140) 사이의 간격을 유지하기 위한 간격재(Spacer: 도면에 미도시)가 위치된다.Of course, a sealing material 150 for confining the liquid crystal material is provided at the edges of the upper and lower substrates 130 and 140 as in the related art, and both substrates 130 and 140 are spaced at predetermined intervals between the upper and lower substrates 130 and 140. Spacers (not shown in the figure) are positioned to maintain the gap therebetween.

여기서, 상기 상하 기판(130, 140) 중 적어도 어느 하나의 대향면 가장자리에는 기판 합착시 주입되는 액정 중에 포함된 기포가 이동하여 위치될 수 있는 버퍼(Buffer) 공간인 요부(132, 142)가 형성된다.Here, at least one of the upper and lower substrates 130 and 140 is formed at the edge of the opposite surface, recesses 132 and 142, which are buffer spaces in which bubbles contained in the liquid crystal injected when the substrates are bonded, are moved. do.

상기 요부(132, 142)는 상기 상하 기판(130, 140)의 합착시 내부에 액정을 주입하는 과정에서 액정 중에 포함된 기포가 이 상하 기판(130, 140) 외곽으로 이동하여 수집될 수 있는 버퍼 공간이다.The recesses 132 and 142 are buffers in which bubbles included in the liquid crystal are moved to the outer periphery of the upper and lower substrates 130 and 140 and are collected when the liquid crystal is injected into the upper and lower substrates 130 and 140. Space.

결국, 상기 요부(132, 142)로 액정 중에 포함된 기포가 이동하고 위치하여 액정 표시 장치의 제어시 오류가 발생되는 것을 방지한다.As a result, bubbles included in the liquid crystal are moved and positioned to the recesses 132 and 142 to prevent an error from occurring during the control of the liquid crystal display.

본 발명의 기판 합착기는 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이 상, 하부 챔버 (110, 120)와 상, 하부 스테이지(112, 122)로 크게 이루어지며, 상기 상, 하부 챔버(110, 120)는 종래의 그것과 동일한 구조와 기능을 하므로 상세한 설명은 생략한다.As shown in FIGS. 3 and 4, the substrate combiner of the present invention is composed of the upper and lower chambers 110 and 120 and the upper and lower stages 112 and 122, and the upper and lower chambers 110 and 120. Since the same structure and function as the conventional one, detailed description thereof will be omitted.

다만, 상기 상하 기판(130, 140)이 근접된 상, 하부 스테이지(112, 122)의 내부에 인가 전원에 의해 열을 발생시키는 열원인 히팅수단(170)이 구비되어 상기 상, 하부 스테이지(112, 122)의 대향 면에 각각 흡착되는 상하 기판(130, 140)을 합착하고 온도를 설정치만큼 상승시킨 후 상기 상하 기판(130, 140)의 내부에 액정을 주입하면 이 액정이 등방성 온도 이상으로 가열되고 액정 분자 배열은 방향성을 상실하면서 유동성이 증가하게 된다.However, heating means 170, which is a heat source for generating heat by an applied power source, is provided in the upper and lower stages 112 and 122 where the upper and lower substrates 130 and 140 are adjacent to each other. The upper and lower substrates 130 and 140 adsorbed on the opposite surfaces of the upper and lower substrates 122, and the temperature is increased by a predetermined value, and then the liquid crystal is injected into the upper and lower substrates 130 and 140, and the liquid crystal is heated above the isotropic temperature. The liquid crystal molecule array loses orientation and increases fluidity.

그러면서 상기 히팅수단(170)의 열원에 의해 상기 상하 기판(130, 140)의 합착된 내부의 온도 및 압력이 상승하고 부피가 팽창함에 따라 액정 주입 및 실링(Sealing) 공정 중에 상기 상하 챔버(110, 120) 내로 질소 가스 등을 주입하는 과정에서 액정 주입 공간을 통해 유입되어 기포가 발생되는 것을 방지한다.As the temperature and pressure of the bonded interior of the upper and lower substrates 130 and 140 rise and the volume expands due to the heat source of the heating means 170, the upper and lower chambers 110 and 110 are formed during the liquid crystal injection and sealing process. In the process of injecting nitrogen gas and the like into the liquid crystal display 120, bubbles are prevented from being generated through the liquid crystal injection space.

결국, 대기압 하에서도 상기 액정층(160)을 이루는 액정이 적하된 후 상기 하 기판(140)의 상면에 균일하게 확산되면서 충진되므로 안정적인 합착이 가능하게 되므로 종래와 다르게 상하 기판(130, 140)의 합착시 상, 하부 챔버 내부를 진공상태로 형성시키지 않아도 된다.As a result, the liquid crystal constituting the liquid crystal layer 160 is dropped evenly under the atmospheric pressure and then uniformly diffused and filled on the upper surface of the lower substrate 140, thereby enabling stable bonding, so that the upper and lower substrates 130 and 140 are different from each other. When bonding, the inside of the lower chamber does not have to be formed in a vacuum state.

여기서, 상기 히팅수단(170)은 열선 등이 접목되며 상기 상, 하부 스테이지 중 적어도 어느 하나에 구비되며 액정이 상기 하 기판(140)을 따라 이동하므로 이 하 기판(140)이 흡착되는 상기 하부 스테이지(122)에 구비되는 것이 바람직하다.Here, the heating means 170 is a lower stage to which a heating wire is grafted and is provided in at least one of the upper and lower stages and the liquid crystal moves along the lower substrate 140 so that the lower substrate 140 is adsorbed. It is preferable to be provided in 122.

그러므로 본 발명의 기판 및 기판 합착기는 상하 기판(130, 140)에 액정을 주입하도록 상기 상하 기판(130, 140)의 합착하기 전에 이 상하 기판(130, 140)의 대향면 가장자리에 요부(132, 142)를 형성하여 주입한 액정에 기포가 포함하여도 액정이 외측 방향으로 이동하면서 액정에 포함된 기포가 상기 요부(132, 142)로 이동하고 수집되어 상하 기판(130, 140)의 액정층(160)에는 기포가 잔류하지 않는다.Therefore, the substrate and the substrate joining device of the present invention have recessed portions 132, 132, at the edges of the opposite surfaces of the upper and lower substrates 130 and 140 before bonding the upper and lower substrates 130 and 140 to inject liquid crystal into the upper and lower substrates 130 and 140. Even if bubbles are included in the liquid crystal injected and formed 142, the liquid crystal moves in an outward direction, and bubbles included in the liquid crystal move to the recesses 132 and 142 and are collected to form the liquid crystal layer of the upper and lower substrates 130 and 140. There is no bubble remaining in 160).

더욱이, 상기 상, 하부 스테이지(112, 122)에는 히팅수단(170)이 더 구비되어 합착된 상하 기판(130, 140)의 내부에 액정을 주입하기 전 상기 상하 기판(130, 140)을 상기 히팅수단(170)의 열원에 의해 적정 온도로 가열하여 가열 후 액정을 주입하면 상기 상하 기판(130, 140)의 합착 공간 내의 온도 및 압력이 상승하고 부피가 팽창하면서 외부의 질소가 유입되어 기포가 발생되는 것을 방지한다.In addition, the upper and lower stages 112 and 122 are further provided with a heating means 170 to heat the upper and lower substrates 130 and 140 before injecting liquid crystal into the upper and lower substrates 130 and 140. When the liquid crystal is injected after heating to a proper temperature by the heat source of the means 170, the temperature and pressure in the bonding space of the upper and lower substrates 130 and 140 rise and the volume expands, and external nitrogen flows into the bubble. Prevent it.

결국, 상기 상하 기판(130, 140)을 합착한 후 액정을 주입하는 과정에서 합착 전 상하 기판(130, 140)의 대향면 가장자리에 요부(132, 142)를 각각 형성하여 액정에 포함된 기포들이 이동하는 과정에서 요부(132, 142)로 수용됨에 따라 액정층(160)에 기포가 발생되지 않는다. As a result, in the process of injecting the liquid crystal after bonding the upper and lower substrates 130 and 140, the recesses 132 and 142 are formed on the edges of the opposite surfaces of the upper and lower substrates 130 and 140, respectively, before the bubbles are included in the liquid crystals. As it is accommodated in the recesses 132 and 142 in the moving process, bubbles are not generated in the liquid crystal layer 160.

그리고, 상기 상, 하부 스테이지(112, 122)에 히팅수단(170)을 구비하여 이 상하 기판(130, 140)의 합착시 상기 히팅수단(170)에 의해 상하 기판(130, 140)을 적정 온도로 예열시킨 상태에서 내부에 액정을 주입하면 방향성을 잃은 액정 분자의 유동성이 증가하여 상하 기판(130, 140)의 대향면 가장자리로 이동하며 나아가서는 합착된 상기 상하 기판(130, 140)의 사이에 온도 및 압력 상승, 그리고 부피 팽창에 의해 이 상하 기판(130, 140)에 액정을 주입하고 실링 공정 수행시 상기 상하 챔버(110, 120) 내로 질소 가스 등을 주입하는 과정에서 액정 주입 공간으로 유입되어 기포가 발생되는 것을 방지한다.In addition, the heating means 170 is provided on the upper and lower stages 112 and 122 so that the upper and lower substrates 130 and 140 are heated by the heating means 170 when the upper and lower substrates 130 and 140 are bonded together. When the liquid crystal is injected into the liquid crystal in the preheated state, the liquidity of the liquid crystal molecules lost the direction is increased to move to the edges of the opposite surfaces of the upper and lower substrates 130 and 140, and further, between the upper and lower substrates 130 and 140 bonded together. Liquid crystal is injected into the upper and lower substrates 130 and 140 by temperature and pressure rise and volume expansion, and nitrogen is injected into the upper and lower chambers 110 and 120 when the sealing process is performed. Prevents bubbles from occurring.

여기서, 설명하지 않은 부호 114, 124는 리프트 핀이다.Here, reference numerals 114 and 124 not described herein are lift pins.

이와 같은 본 발명의 기판 및 기판 합착기는 기판 합착시 액정에 포함된 기포가 유동한 후 잔류하는 공간을 기판에 별도로 형성하거나 기판 합착기에 기포의 발생을 방지하는 열원을 제공하여 제어 불량을 방지할 수 있는 효과가 있다.Such a substrate and the substrate combiner of the present invention can prevent poor control by forming a space remaining after the air bubbles contained in the liquid crystal flow to the substrate separately or providing a heat source to prevent the generation of bubbles in the substrate bonder It has an effect.

또한, 본 발명의 기판은 상기 기판이 대형화되는 추세에 따라 버퍼 공간을 형성하여 중량이 감소되는 효과가 있다.In addition, the substrate of the present invention has the effect of reducing the weight by forming a buffer space in accordance with the trend that the substrate is enlarged.

Claims (6)

합착할 수 있도록 상하로 구비되는 기판에 있어서,In the substrate provided up and down so as to be bonded, 상기 상하 기판의 대향 면에 기판 합착시 주입된 액정 중에 포함된 기포가 이동하여 위치될 수 있는 버퍼(Buffer) 공간이 형성되는 것을 특징으로 하는 기판.And a buffer space in which bubbles contained in the liquid crystal injected when the substrates are bonded to opposite surfaces of the upper and lower substrates may be moved. 제 1항에 있어서, 상기 버퍼 공간은,The method of claim 1, wherein the buffer space, 상기 상하 기판 중 적어도 어느 하나의 가장자리에 형성되는 것을 특징으로 하는 기판.A substrate, characterized in that formed on the edge of at least one of the upper and lower substrates. 제 2항에 있어서, The method of claim 2, 상기 버퍼 공간은 요(凹)부인 것을 특징으로 하는 기판.The buffer space is a substrate, characterized in that the recess. 상하 기판을 합착하는 기판 합착기에 있어서,In the substrate joining machine for joining the upper and lower substrates, 챔버; chamber; 상기 챔버 내부에 구비되어 상기 상하 기판을 각각 흡착하는 상, 하부 스테이지;Upper and lower stages provided inside the chamber to respectively adsorb the upper and lower substrates; 상기 상하 기판에 열원을 제공하여 기판 합착시 기포 발생을 방지하는 히팅수단; 을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 합착기.Heating means for providing a heat source to the upper and lower substrates to prevent the generation of bubbles when bonding the substrate; Substrate bonder comprising a. 제 4항에 있어서, 상기 히팅수단은,The method of claim 4, wherein the heating means, 상기 상, 하부 스테이지 중 적어도 어느 하나에 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 합착기.And at least one of the upper and lower stages. 제 5항에 있어서, The method of claim 5, 상기 히팅수단은, 열선인 것을 특징으로 하는 기판 합착기.And the heating means is a hot wire.
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