KR20080002024A - Shadow mask and organic electro-luminescence device method for fabricating using shadow mask - Google Patents

Shadow mask and organic electro-luminescence device method for fabricating using shadow mask Download PDF

Info

Publication number
KR20080002024A
KR20080002024A KR1020060060561A KR20060060561A KR20080002024A KR 20080002024 A KR20080002024 A KR 20080002024A KR 1020060060561 A KR1020060060561 A KR 1020060060561A KR 20060060561 A KR20060060561 A KR 20060060561A KR 20080002024 A KR20080002024 A KR 20080002024A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
shadow mask
substrate
organic
pixel
pixel areas
Prior art date
Application number
KR1020060060561A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
이재윤
유충근
김정현
Original Assignee
엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지.필립스 엘시디 주식회사 filed Critical 엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority to KR1020060060561A priority Critical patent/KR20080002024A/en
Publication of KR20080002024A publication Critical patent/KR20080002024A/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/16Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/166Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/16Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

A shadow mask and a method for manufacturing an organic electro-luminescence device using the same are provided to prevent the shadow mask from being separated from a substrate by preventing the shadow mask from being lowered from the substrate. A shadow mask includes a block region(110) and plural apertures(120). The apertures are arranged so that one aperture corresponds to at least two adjacent pixel regions in the block region. The block region is made of a metal. The adjacent pixel regions are pixel regions for representing the same color. Organic materials with different colors are deposited on different pixel regions by moving the shadow mask. The organic material contains low molecular organic materials. The organic material is formed by thermal vaporization.

Description

새도우 마스크 및 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의 제조 방법{SHADOW MASK and ORGANIC ELECTRO-LUMINESCENCE DEVICE METHOD FOR FABRICATING USING SHADOW MASK}SHADOW MASK and ORGANIC ELECTRO-LUMINESCENCE DEVICE METHOD FOR FABRICATING USING SHADOW MASK}

도 1은 단위화소를 패턴하는 슬릿 타입의 새도우 마스크의 평면도.1 is a plan view of a slit type shadow mask patterning a unit pixel.

도 2는 단위화소를 패턴하는 슬롯 타입의 새도우 마스크의 평면도.2 is a plan view of a slot type shadow mask patterning a unit pixel;

도 3a 내지 도 3c는 일반적인 도 2의 I-I` 선상의 슬롯 타입의 새도우 마스크를 이용한 저분자 유기물질 증착공정 단면도.3A to 3C are cross-sectional views of a process of depositing low molecular weight organic materials using a slot mask of a slot type along a line II ′ of FIG. 2.

도 4는 본 발명에 따른 새도우 마스크의 평면도.4 is a plan view of a shadow mask according to the present invention.

도 5는 일반적인 새도우 마스크의 화소영역당 립 형성시 새도윙 마진을 보여주는 평면도FIG. 5 is a plan view showing shadowing margin when forming ribs per pixel area of a typical shadow mask; FIG.

도 6는 본 발명에 따른 새도우 마스크의 두 화소영역당 립 형성시 새도윙 마진을 보여주는 평면도.FIG. 6 is a plan view showing shadow margin when forming ribs per two pixel areas of a shadow mask according to the present invention; FIG.

도 7은 본 발명에 따른 도 4의 Ⅱ-Ⅱ` 선상의 새도우 마스크를 이용한 저분자 유기물질 증착 단면도.7 is a cross-sectional view of the deposition of low molecular weight organic materials using the shadow mask of the II-II` line of Figure 4 in accordance with the present invention.

*도면의 주요 부분을 나타낸 부호의 설명** Description of the Signs of the Major Parts of the Drawings *

200: 어레이 기판 210: 제 1 전극200: array substrate 210: first electrode

220: 버스라인 230: 절연막220: bus line 230: insulating film

300: 새도우마스크 460: 열 증발300: shadow mask 460: thermal evaporation

본 발명은 슬롯타입과 슬릿타입의 새도우 마스크의 장점을 살려 새도우 마스크의 처짐을 방지함과 동시에 개구부 감소를 개선 시킬 수 있는 새도우 마스크와 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a shadow mask that can prevent sagging of a shadow mask by utilizing the advantages of the shadow mask of the slot type and the slit type and at the same time improve the reduction of the opening and a method of manufacturing the organic EL device using the same.

일반적으로 액정표시장치(LCD ; Liquid Crystal Display Device)는 가볍고 전력 소모가 적은 장점이 있어, 평판 디스플레이(FPD ; Flat Panel Display)로서 가장 많이 사용되고 있다. 그러나, 액정표시장치는 자체 발광소자가 아니므로 밝기, 콘트라스트(contrast), 시야각, 그리고 대면적화 등에 기술적 한계가 있기 때문에 이러한 단점을 극복할 수 있는 평판디스플레이를 개발하려는 노력이 활발하게 전개되고 있고 그중 하나가 유기 전계 발광 소자이다.In general, a liquid crystal display device (LCD) has a light weight and low power consumption, and thus is most commonly used as a flat panel display (FPD). However, since LCDs are not self-light emitting devices, there are technical limitations in brightness, contrast, viewing angle, and large area, and efforts to develop a flat panel display that can overcome these disadvantages have been actively developed. One is an organic electroluminescent element.

유기 전계 발광 소자는 유기 발광 물질에 순 방향으로 전류를 공급하면, 정공 제공층인 양극(anode electrode)과 전자 제공층인 음극(cathode electrode)간의 P(positive)-N(negative) 접합(Junction)부분을 통해 전자와 정공이 이동하면서 서로 재결합하여, 상기 전자와 정공이 떨어져 있을 때보다 작은 에너지를 가지게 되므로, 이때 발생하는 에너지 차로 인해 빛을 방출하는 원리를 이용하는 것이다.When the organic electroluminescent device supplies a current to the organic light emitting material in a forward direction, a P (positive) -N (negative) junction between an anode electrode, which is a hole providing layer, and a cathode electrode, which is an electron providing layer, is applied. Electrons and holes recombine with each other as they move through the part, and thus have a smaller energy than when the electrons and holes are separated, thereby utilizing the principle of emitting light due to the energy difference generated.

이러한 유기 전계 발광 소자는 자체발광형이기 때문에 액정표시장치에 비해 시야각, 콘트라스트 등이 우수하며 백라이트가 필요하지 않기 때문에 경량 박형이 가능하고, 따라서 저전압 구동을 실현할 수 있어서 소비전력 측면에서도 유리하다.Since the organic light emitting device is self-luminous, the viewing angle, contrast, etc. are superior to the liquid crystal display, and since the backlight is not required, the organic light emitting device is light and thin, and thus low voltage driving can be realized, which is advantageous in terms of power consumption.

유기 전계 발광 소자로 사용되는 유기 재료는 종류에 따라 유기 단분자와 고분자로 유기 단분자를 사용하는 유기 전계 발광소자와 고분자를 사용하는 고분자전계 발광소자, 그리고 고분자/단분자를 동시에 사용하는 혼성 유기 전계 발광 소자로 구분할 수 있다.Organic materials used as organic electroluminescent devices are organic electroluminescent devices using organic monomolecules as polymers and polymers, polymer electroluminescent devices using polymers, and hybrid organic materials using polymers / monomers at the same time, depending on the type. It can be divided into an electroluminescent element.

이중, 일반적으로 유기 단분자를 이용한 전기 발광 소자를 유기 전계 발광 소자라 칭한다. 풀칼라(full color) 유기 전계 발광 디스플레이를 제작하기 위해서 유기 단분자는 저항 가열식 열증발(thermal evaporation) 방법으로 새도우 마스크(shadow mask)를 이용하여 단위화소를 패턴한다.In general, an electroluminescent device using an organic single molecule is called an organic electroluminescent device. In order to fabricate a full color organic electroluminescent display, organic single molecules pattern unit pixels using a shadow mask by a resistive thermal evaporation method.

이 새도우 마스크의 종류로는 슬릿 타입(slit type)과 슬롯 타입(slot type)이 있다.There are two types of shadow masks: a slit type and a slot type.

도 1은 단위화소를 패턴하는 슬릿 타입의 새도우 마스크의 평면도이고 도 2는 단위화소를 패턴하는 슬롯 타입의 새도우 마스크의 평면도이다.1 is a plan view of a slit type shadow mask patterning a unit pixel and FIG. 2 is a plan view of a slot type shadow mask patterning a unit pixel.

도 1에서 도시한 바와 같이, 슬릿 타입의 새도우 마스크(10)는 차단영역(11)과, 기판(미도시)의 화소영역과 대응하는 개구부(12)로 구성된다.As shown in FIG. 1, the slit-type shadow mask 10 includes a blocking region 11 and an opening 12 corresponding to a pixel region of a substrate (not shown).

도 1를 참조하면, 도 1과 같은 슬릿 타입의 새도우 마스크는 RGB 각각이 스트립(stripe) 형태로 열려있는 형태이다. 화소단위로 열려있는 슬롯 타입에 비해 상하 픽셀 간의 새도윙(shadowing)을 고려하지 않아도 되므로 개구부가 크다는 장점이 있다. 그러나 가로 방향이 립(rib)이 없으므로 마스크에 형성된 직사각형 형태의 긴 패턴들로 인해 슬롯 타입에 비하여 마스크의 쳐짐이 심하여 센터 부분의 마스크와 기판과의 이격이 발생한다. Referring to FIG. 1, the slit-type shadow mask of FIG. 1 is a form in which each RGB is opened in a stripe form. Compared to the slot type opened in the pixel unit, the shadowing between the upper and lower pixels does not have to be taken into account, so the opening is large. However, since there are no ribs in the horizontal direction, the long patterns of the rectangular shape formed in the mask are drooped more than the slot type, so that the separation between the mask of the center portion and the substrate occurs.

도 2에 도시한 바와 같이, 슬롯 타입의 새도우 마스크(13)는 차단영역(14)과, 기판(미도시)의 화소영역과 대응하는 개구부(15)로 구성된다.As shown in FIG. 2, the slot type shadow mask 13 includes a blocking region 14 and an opening 15 corresponding to a pixel region of a substrate (not shown).

도 2를 참조하면, 도 2와 같은 슬롯 타입의 새도우 마스크는 RGB 각각이 스트립 형태에서 상하 립을 가진 채 열려있는 형태이다. 슬롯 타입의 경우 슬릿 타입에 비해서는 마스크 지지도가 좋아서 처짐현상은 개선되나 상하 화소영역 간의 립에 의한 새도윙 현상이 발생하여 개구부가 좁아진다.Referring to FIG. 2, the shadow mask of the slot type as shown in FIG. 2 is an open form in which each of RGB has a top and bottom lip in a strip form. Compared to the slit type, the slot type has better mask support and thus sag is improved, but the opening is narrowed due to the occurrence of the sawing phenomenon caused by the lip between the upper and lower pixel areas.

그리고, 좌우 새도윙 마진(shadowing margin)에 비해 상하 새도윙 마진이 2배 이상 요구되는데, 이것은 립의 폭에 따라 마스크의 테이퍼(taper)가 영향을 받기 때문이다. In addition, the upper and lower shadowing margin is required to be twice or more than the shadowing margin of the left and right, because the taper of the mask is affected by the width of the lip.

또한, 좌우 립은 두 화소영역의 피치에 해당되는 폭을 가지며, 상하 립은 새도우 마스크 공정이 요구하는 최소 폭(약 30um)을 가져야 한다. 상하 립의 경우 폭이 좁아 새도우 마스크 제조 공정에서 폭이 넓은 경우에 비해 테이퍼 각이 좋지 않으며 이에 따라 EL 공정에서 더 넓은 새도윙 마진이 요구된다. 따라서 고해상도의 경우 슬릿 타입 대비 60%의 개구율을 얻을 수 있다.In addition, the left and right lip has a width corresponding to the pitch of the two pixel areas, and the upper and lower lip should have a minimum width (about 30um) required by the shadow mask process. The upper and lower ribs have a narrower width, resulting in a poorer taper angle than the wider shadow mask manufacturing process, and thus require a larger shadow margin in the EL process. Therefore, in the case of high resolution, the aperture ratio of 60% compared to the slit type is obtained.

이와 같은 일반적인 새도우 마스크를 이용하여 유기 전계 발광 소자를 제작하는 공정을 설명하면 다음과 같다.Referring to the process of manufacturing an organic EL device using such a general shadow mask as follows.

도 3a 내지 도 3c는 일반적인 도 2의 I-I` 선상의 슬롯 타입의 새도우 마스크를 이용한 저분자 유기물질 증착공정 단면도이다.3A to 3C are cross-sectional views of a process of depositing a low molecular organic material using a shadow mask of a slot type along a line II ′ of FIG. 2.

도 3a를 참조하면, 유기 전계 발광 소자의 상부 기판(20)은 매트릭스 형태로 배열된 다수 개의 화소영역(P)으로 정의되어 있으며, 상기 화소영역(P)을 포함한 상부 기판의 전면에는 제 1 전극층(21)이 형성되어 있다. Referring to FIG. 3A, the upper substrate 20 of the organic EL device is defined as a plurality of pixel regions P arranged in a matrix form, and a first electrode layer is formed on the front surface of the upper substrate including the pixel regions P. Referring to FIG. 21 is formed.

그리고, 상기 제 1 전극층(21) 상에 일정한 간격을 갖고 일방향으로 버스라인(22)이 배열되고 상기 버스라인(22)을 커버하도록 상기 버스라인(22) 상에 절연막(23)이 형성되며 도면에 도시되지는 않았지만 상기 절연막(23) 위에 각 화소영역들 간을 서로 격리시키기 위한 격벽이 형성된다.In addition, the bus line 22 is arranged in one direction at regular intervals on the first electrode layer 21, and an insulating film 23 is formed on the bus line 22 to cover the bus line 22. Although not shown in FIG. 2, barrier ribs are formed on the insulating layer 23 to isolate the pixel areas from each other.

상기 각 화소영역(P)에는 적색과 녹색과 청색을 각각 발광하는 특성을 가진 유기발광층이 형성하게 되는데, 도시한 바와 같이 상기 기판의 상부에 전술한 새도우 마스크(34)를 위치시키고 상기 화소영역에 대응하는 부분에 개구부가 위치하고, 화소영역 사이에 차단영역이 대응하도록 상기 새도우 마스크를 위치시킨 후 이 상태에서 상기 새도우 마스크(34)의 개구부을 통한 열증발(화살표 46)로 인하여 각 화소영역에 레드 발광 물질(red emitting material)층(24)을 형성한다.An organic light emitting layer having a characteristic of emitting red, green, and blue light is formed in each pixel area P. As shown in the drawing, the shadow mask 34 is positioned on the substrate, and the pixel area P is disposed in the pixel area. An opening is positioned in a corresponding portion, and the shadow mask is positioned so that a blocking region corresponds to the pixel region, and in this state, red light is emitted in each pixel region due to thermal evaporation (arrow 46) through the opening of the shadow mask 34. A layer of red emitting material 24 is formed.

이어, 도 3b와 도 3c에 도시된 바와 같이 레드 발광 물질층 형성 방법과 마찬가지로 다른 새도우 마스크를 옆으로 이동하면서 그린(green) 발광 물질층(25) 및 블루(blue) 발광 물질층(26)을 형성한다. Next, as shown in FIGS. 3B and 3C, the green light emitting material layer 25 and the blue light emitting material layer 26 are moved while moving the other shadow masks to the side as in the red light emitting material layer forming method. Form.

그러나 이와 같은 슬롯 타입의 새도우 마스크의 경우 마스크 지지도는 좋아서 처짐현상은 개선되나 새도윙 현상이 발생하여 개구부가 좁아지고 슬릿 타입의 새도우 마스크의 경우 개구부가 크지만 마스크의 처짐이 심하여 기판과의 이격이 발생한다.However, the slot-type shadow mask has good mask support, which improves the deflection phenomenon, but the shadowing phenomenon occurs, and the opening is narrowed. In the case of the slit type shadow mask, the opening is large, but the mask is severely deflected and separated from the substrate. This happens.

즉, 일반적인 새도우 마스크를 이용하는 방법에 있어서 대면적으로 갈수록 새도우 마스크가 커지게 되고 따라서 그 무게에 의해 중간부분이 쳐지는 현상이 발생한다.That is, in the method of using a general shadow mask, the shadow mask becomes larger as the area becomes larger, and thus the middle part is struck by its weight.

또한 기판의 크기를 크게 형성하여 한번에 여러 개의 단위소자를 만들게 되면 생산성의 이점을 증폭시킬 수 있으나, 이 경우 새도우 마스크 역시 기판의 크기만큼 크게 형성하여야 하므로 새도우 마스크의 쳐짐이 더욱 커지게 된다.In addition, if the size of the substrate is made large and several unit devices are made at once, the productivity advantage can be amplified. However, in this case, the shadow mask must be formed as large as the size of the substrate, thereby increasing the sagging of the shadow mask.

또한 쳐짐이 없는 새도우 마스크를 사용한다 하더라도 작은 충격에도 마스크의 금속 스트립들이 진동하게 되어 패널의 격벽에 손상을 주게 된다.In addition, even with a sagging shadow mask, the metal strips of the mask vibrate under a small impact, damaging the panel's bulkhead.

즉, 새도우 마스크와 패널과의 간격이 매우 좁기 때문에 패널에 형성된 층들 중 가장 높은 위치에 있는 격벽들이 마스크의 진동으로 손상을 입게 된다. 이러한 격벽의 손상은 제 2 전극 형성시 픽셀 간에 쇼트가 일어나는 원인이 된다. 그리고 만일 격벽의 손상을 막기 위해 새도우 마스크와 패널 간의 간격을 넓히면 증착되는 물질의 새도우(shadow) 효과가 발생되어, 증착하고자 하는 RGB 물질은 원하는 위치에 정확히 형성되지 못하여 색이 혼합되며, 그로 인해 색감이 떨어지는 문제가 발생된다.That is, since the gap between the shadow mask and the panel is very narrow, the partition walls at the highest positions among the layers formed in the panel are damaged by the vibration of the mask. The damage of the barrier rib causes a short circuit between the pixels when the second electrode is formed. If the distance between the shadow mask and the panel is widened to prevent damage to the partition wall, the shadow effect of the deposited material is generated, and the RGB material to be deposited is not formed exactly at the desired position, and the color is mixed, thereby This falling problem occurs.

본 발명은, 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로 본 발명은 슬롯타입과 슬릿타입의 새도우 마스크의 장점을 살려 새도우 마스크의 처짐을 방지함과 동시에 개구부 감소를 개선 시킬 수 있는 새도우 마스크와 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의 제조 방법을 제공하는 데 그 목적이 있다.The present invention is to solve the above problems, the present invention is to take advantage of the shadow mask of the slot type and slit type shadow mask and organic using the same to prevent sagging of the shadow mask and at the same time improve the reduction of the opening It is an object to provide a method of manufacturing an electroluminescent device.

본 발명에 따른 슬롯타입과 슬릿타입의 새도우 마스크의 장점을 살려 새도우 마스크의 처짐을 방지함과 동시에 개구부 감소를 개선 시킬 수 있는 새도우 마스크 는 차단영역; 상기 차단영역 내 적어도 2개의 인접한 화소영역에 하나의 개구부가 대응되도록 형성되는 복수 개의 개구부를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.Taking advantage of the slot type and slit type shadow masks according to the present invention, the shadow mask can prevent sagging of the shadow mask and at the same time improve the reduction of the opening area; And a plurality of openings formed to correspond to at least two adjacent pixel areas in the blocking area.

본 발명에 따른 슬롯타입과 슬릿타입의 새도우 마스크의 장점을 살려 새도우 마스크의 처짐을 방지함과 동시에 개구부 감소를 개선 시킬 수 있는 새도우 마스크를 이용한 유기 전계 발광 소자의 제조 방법은 복수개의 화소 영역을 정의하며, 서로 대향되어 형성된 제 1 기판 및 제 2 기판을 준비하는 단계; 상기 제 1 기판 상에 각 화소 영역에 대응되어 박막 트랜지스터를 형성하는 단계; 상기 제 2 기판 전면에 제 1 전극을 형성하는 단계; 상기 화소영역 사이의 상기 제 1 전극 상에 일정한 간격을 갖고 버스 라인을 형성하는 단계; 상기 버스라인을 포함하여 상기 버스라인 상측의 상기 제 1 전극 상에 절연막을 형성하는 단계; 적어도 2개의 인접한 화소영역에 하나의 개구부가 대응되도록 형성되는 복수 개의 개구부를 구비한 새도우 마스크를 상기 화소영역에 상기 개구부가 대응되도록 상기 기판 위에 위치시키는 단계; 및 상기 새도우 마스크를 통해 상기 기판의 화소영역에 유기물질을 증착하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. The manufacturing method of the organic electroluminescent device using the shadow mask which can improve the reduction of the opening and at the same time prevent the sagging of the shadow mask by taking advantage of the slot type and the slit type shadow mask according to the present invention defines a plurality of pixel regions. Preparing a first substrate and a second substrate formed to face each other; Forming a thin film transistor corresponding to each pixel area on the first substrate; Forming a first electrode on the front surface of the second substrate; Forming bus lines at regular intervals on the first electrode between the pixel regions; Forming an insulating film on the first electrode above the bus line including the bus line; Positioning a shadow mask having a plurality of openings corresponding to one opening in at least two adjacent pixel areas on the substrate such that the openings correspond to the pixel areas; And depositing an organic material in the pixel region of the substrate through the shadow mask.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명에 따른 새도우 마스크의 평면도이고, 도 5는 일반적인 새도 우 마스크의 화소영역당 립 형성시 새도윙 마진을 보여주는 평면도이고 도 6은 본 발명에 따른 새도우 마스크의 두 화소영역당 립 형성시 새도윙 마진을 보여주는 평면도이다.4 is a plan view of a shadow mask according to the present invention, Figure 5 is a plan view showing a shadow margin when forming a lip per pixel area of a typical shadow mask and FIG. 6 is per two pixel areas of the shadow mask according to the present invention This is a plan view showing the bird wing margin when forming a lip.

도 4에서 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 새도우 마스크(100)는 차단영역(110)과, 기판(미도시)의 화소영역과 대응하는 개구부(120)로 구성된다.As shown in FIG. 4, the shadow mask 100 according to the present invention includes a blocking region 110 and an opening 120 corresponding to a pixel region of a substrate (not shown).

이때, 상기 차단영역(110)은 데이터 라인에 대응하는 부분이고 개구부(120)는 적어도 2개의 인접한 화소영역에 하나의 개구부가 대응되도록 형성되는 복수 개로 이루어지는 부분이다. In this case, the blocking region 110 is a portion corresponding to the data line, and the opening 120 is a portion formed of a plurality of openings corresponding to at least two adjacent pixel regions.

두 화소영역당 립을 형성하였을 때 같은 개구부에 있는 경우 새도윙 마진을 줄일 수 있다. 즉 화소영역당 상하 한쪽은 넓은 새도윙 마진을 가져야 하지만 반대쪽은 새도윙 마진을 줄일 수 있어 개구율이 향상된다.When the ribs are formed per two pixel areas, the shadowing margin can be reduced when the ribs are in the same opening. In other words, the upper and lower sides per pixel area should have a wider shadowing margin, while the other side can reduce the shadowing margin, thereby improving the aperture ratio.

즉, 도 5, 6에 도시된 바와 같이 기존의 슬롯 타입의 새도우 마스크처럼 각 화소영역당 립을 형성하였을 때 화소영역당 상하 립의 길이가 예를 들어 72um 반대쪽이 72um라면 본 발명에 따른 새도우 마스크에서는 상하 한쪽은 넓은 새도윙 마진을 가져야 하는 반면 반대쪽은 25um으로 줄일 수 있기 때문에 개구율이 향상된다. That is, as shown in FIGS. 5 and 6, when the ribs are formed in each pixel region like the conventional slot type shadow mask, the shadow mask according to the present invention is formed when the length of the upper and lower ribs per pixel region is 72um opposite to 72um, for example. The upper and lower sides have to have a wider margin of bird swing, while the other side can be reduced to 25um, which improves the aperture ratio.

따라서 마스크의 지지도가 좋아져서 기판과의 이격 발생으로 인한 처짐현상이 개선되고 상하 화소영역 간의 립에 의한 새도윙 현상 발생을 감소시킴으로써 개구부가 커지는 효과를 가져온다. As a result, the support of the mask is improved, and the deflection phenomenon due to the separation from the substrate is improved, and the opening of the opening is increased by reducing the occurrence of the shadowing phenomenon caused by the lip between the upper and lower pixel regions.

도 7은 본 발명에 따른 도 4의 Ⅱ-Ⅱ` 선상의 새도우 마스크를 이용한 저분자 유기물질 증착 단면도이다.FIG. 7 is a cross-sectional view of depositing a low molecular weight organic material using the shadow mask along the II-II ′ line of FIG. 4 according to the present invention.

도 7을 참조하면, 유기 전계 발광 소자의 상부 기판(200)은 매트릭스 형태로 배열된 다수 개의 화소영역(P)으로 정의되어 있으며, 상기 화소영역(P)을 포함한 상부 기판의 전면에는 제 1 전극층(210)이 형성되어 있다. Referring to FIG. 7, the upper substrate 200 of the organic EL device is defined as a plurality of pixel regions P arranged in a matrix form, and a first electrode layer is formed on the front surface of the upper substrate including the pixel regions P. Referring to FIG. 210 is formed.

그리고, 상기 제 1 전극층(210) 상에 일정한 간격을 갖고 일방향으로 버스라인(220)이 배열되고 상기 버스라인(220)을 커버하도록 상기 버스라인(220) 상에 절연막(230)이 형성되며 도면에 도시되지는 않았지만 상기 절연막(230) 위에 각 화소영역들 간을 서로 격리 시키기 위한 격벽이 형성된다.In addition, the bus line 220 is arranged in one direction at regular intervals on the first electrode layer 210 and an insulating film 230 is formed on the bus line 220 to cover the bus line 220. Although not shown in FIG. 2, barrier ribs are formed on the insulating layer 230 to isolate the pixel areas from each other.

상기 각 화소영역(P)에는 적색과 녹색과 청색을 각각 발광하는 특성을 가진 유기발광층이 형성하게 되는데, 도시한 바와 같이 상기 기판의 상부에 본 발명의 새도우 마스크(340)를 위치시키고 적어도 2개의 인접한 상기 화소영역에 하나의 개구부가 대응되도록 위치하고, 화소영역 사이에 차단영역이 대응하도록 상기 새도우 마스크(340)를 위치시킨 후 이 상태에서 상기 새도우 마스크(340)의 개구부을 통한 열증발(화살표 460)로 인하여 각 화소영역에 레드 발광 물질(red emitting material)층을 형성한다.An organic light emitting layer having a characteristic of emitting red, green, and blue light is formed in each pixel area P. As shown in the drawing, at least two shadow masks 340 of the present invention are positioned on the substrate. One opening corresponds to the adjacent pixel area, and the shadow mask 340 is positioned to correspond to the blocking area between the pixel areas, and thermal evaporation through the opening of the shadow mask 340 in this state (arrow 460). Therefore, a red emitting material layer is formed in each pixel region.

이어, 도 4에 도시된 바와 같이 Ⅱ-Ⅱ` 선상의 수직방향인 Ⅲ-Ⅲ` 선상 방향으로 새도우 마스크를 이동하여 레드 발광 물질층 형성 방법과 마찬가지로 다른 새도우 마스크를 옆으로 이동하면서 각 화소영역에 그린(green) 발광 물질층 및 블루(blue) 발광 물질층을 형성한다. Next, as shown in FIG. 4, the shadow mask is moved in the III-III` line direction, which is the vertical direction along the II-II` line, and the other shadow mask is moved sideways in the same manner as in the red light emitting material layer forming method. A green light emitting material layer and a blue light emitting material layer are formed.

이러한, 본 발명의 유기물질을 열증발하기 위해 이용되는 새도우 마스크와 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의 제조방법은 슬릿 타입 새도우 마스크에서의 새 도윙 마진 처짐에 대한 기판과의 이격 발생 및 혼색 불량을 개선하고 슬롯 타입 새도우 마스크에서의 개구율 감소를 향상시킨다.Such a shadow mask used to thermally evaporate the organic material of the present invention and a method of manufacturing an organic electroluminescent device using the same improve the spacing and mixing defect with the substrate for the new dogging margin sag in the slit type shadow mask. Improved aperture ratio reduction in slot type shadow mask.

한편, 이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시 예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 종래의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.On the other hand, the present invention described above is not limited to the above-described embodiment and the accompanying drawings, it is possible that various substitutions, modifications and changes within the scope without departing from the technical spirit of the present invention It will be apparent to those skilled in the art.

상술한 바와 같은 본 발명에 따른 슬롯타입과 슬릿타입의 새도우 마스크의 장점을 살려 새도우 마스크의 처짐을 방지함과 동시에 개구부 감소를 개선 시킬 수 있는 새도우 마스크와 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의 제조 방법은 새도윙 마진 처짐에 대한 기판과의 이격 발생 및 혼색 불량을 개선하고 개구율을 향상시킨다.The shadow mask and the manufacturing method of the organic electroluminescent device using the same to prevent the sag of the shadow mask and improve the reduction of the opening by taking advantage of the slot type and the slit type shadow mask according to the present invention as described above Improve spacing and misalignment with the substrate for sagging dogging margins and improve aperture ratio.

Claims (7)

차단영역;Blocking area; 상기 차단영역 내 적어도 2개의 인접한 화소영역에 하나의 개구부가 대응되도록 형성되는 복수 개의 개구부를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 새도우 마스크.And a plurality of openings formed to correspond to one opening in at least two adjacent pixel areas in the blocking region. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 차단 영역은 금속재질임을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 새도우 마스크.The blocking region is a shadow mask of the organic electroluminescent device, characterized in that the metal material. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 적어도 2개의 인접한 화소영역은 동일한 칼라를 구현하기 위한 화소영역임을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 새도우 마스크.And at least two adjacent pixel areas are pixel areas for implementing the same color. 복수개의 화소 영역을 정의하며, 서로 대향되어 형성된 제 1 기판 및 제 2 기판을 준비하는 단계;Defining a plurality of pixel regions and preparing a first substrate and a second substrate formed to face each other; 상기 제 1 기판 상에 각 화소 영역에 대응되어 박막 트랜지스터를 형성하는 단계;Forming a thin film transistor corresponding to each pixel area on the first substrate; 상기 제 2 기판 전면에 제 1 전극을 형성하는 단계;Forming a first electrode on the front surface of the second substrate; 상기 화소영역 사이의 상기 제 1 전극 상에 일정한 간격을 갖고 버스 라인을 형성하는 단계;Forming bus lines at regular intervals on the first electrode between the pixel regions; 상기 버스라인을 포함하여 상기 버스라인 상측의 상기 제 1 전극 상에 절연막을 형성하는 단계;Forming an insulating film on the first electrode above the bus line including the bus line; 적어도 2개의 인접한 화소영역에 하나의 개구부가 대응되도록 형성되는 복수 개의 개구부를 구비한 새도우 마스크를 상기 화소영역에 상기 개구부가 대응되도록 상기 기판 위에 위치시키는 단계; 및 Positioning a shadow mask having a plurality of openings corresponding to one opening in at least two adjacent pixel areas on the substrate such that the openings correspond to the pixel areas; And 상기 새도우 마스크를 통해 상기 기판의 화소영역에 유기물질을 증착하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.And depositing an organic material in the pixel region of the substrate through the shadow mask. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 새도우 마스크를 이동하여 다른 화소영역에 다른 칼라 유기 물질 증착을 반복함을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.And moving the shadow mask to repeat deposition of different color organic materials in different pixel areas. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 유기물질은 저분자 유기물질을 포함함을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.The organic material is a method of manufacturing an organic electroluminescent device, characterized in that it comprises a low molecular weight organic material. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 유기물질은 열증발을 통하여 형성하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.The organic material is a method of manufacturing an organic EL device, characterized in that formed through thermal evaporation.
KR1020060060561A 2006-06-30 2006-06-30 Shadow mask and organic electro-luminescence device method for fabricating using shadow mask KR20080002024A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060060561A KR20080002024A (en) 2006-06-30 2006-06-30 Shadow mask and organic electro-luminescence device method for fabricating using shadow mask

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060060561A KR20080002024A (en) 2006-06-30 2006-06-30 Shadow mask and organic electro-luminescence device method for fabricating using shadow mask

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20080002024A true KR20080002024A (en) 2008-01-04

Family

ID=39213884

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060060561A KR20080002024A (en) 2006-06-30 2006-06-30 Shadow mask and organic electro-luminescence device method for fabricating using shadow mask

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20080002024A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101065314B1 (en) * 2009-04-28 2011-09-16 삼성모바일디스플레이주식회사 Organic light emitting display apparatus
KR102014171B1 (en) 2018-08-20 2019-08-26 케이맥(주) Apparatus and method for inspecting color mix defect of OLED

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101065314B1 (en) * 2009-04-28 2011-09-16 삼성모바일디스플레이주식회사 Organic light emitting display apparatus
US8183768B2 (en) 2009-04-28 2012-05-22 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Organic light emitting display apparatus having pixels with increased aperture ratio
KR102014171B1 (en) 2018-08-20 2019-08-26 케이맥(주) Apparatus and method for inspecting color mix defect of OLED

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11522152B2 (en) Display panel and fabrication method thereof, and display apparatus
CN107863366B (en) Organic light emitting diode display device
KR101479994B1 (en) Organic light emitting diode display and method for manufacturing the same
KR100659057B1 (en) Mask frame assembly for thin layer vacuum evaporation and organic electro-luminescence display device
US8852346B2 (en) Mask frame assembly for thin layer deposition and organic light emitting display device
US8691016B2 (en) Deposition apparatus, and deposition method
US20120156812A1 (en) Mask frame assembly, method of manufacturing the same, and method of manufacturing organic light-emitting display device using the mask frame assembly
KR101661541B1 (en) Organic electro luminescent device and shadow mask for fabricating the same
US11066742B2 (en) Vapor deposition mask
KR101097305B1 (en) Fine deposition mask providing block unit to block dummy slit unit, the manufacturing method of organic light emitting device using the same mask, and the organic light emitting device which is manufactured by the same method
KR20130060722A (en) Mask assembly and organic light emitting diode display
CN109728061B (en) Pixel structure, display panel and display device
KR20030090185A (en) Electroluminescent display device and fabrication method of the same
KR20080002024A (en) Shadow mask and organic electro-luminescence device method for fabricating using shadow mask
KR20210080925A (en) Electroluminescent Device
KR100626284B1 (en) Organic Electro Luminescence Device And Fabricating Method Thereof
KR101222971B1 (en) shadow mask frame assembly and method for manufacturing organic light emitting device using the same
KR101441388B1 (en) Organic Emitting Display Device
KR100959110B1 (en) Mask Pattern using deposition
KR20030077370A (en) Shadow mask and fabrication method of organic light emitting display device using the same
KR20070050330A (en) Organic light emitting diode
KR100779947B1 (en) Organic electro luminescent display device
US11398529B2 (en) Display panel and manufacturing method thereof
CN117202692B (en) Organic electroluminescent device, manufacturing method thereof and display panel
US8003913B2 (en) Base plate with electrodes, process for producing the same, and electro-optical device

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid