KR20070093421A - Compositions curable with actinic energy ray - Google Patents

Compositions curable with actinic energy ray Download PDF

Info

Publication number
KR20070093421A
KR20070093421A KR20077015869A KR20077015869A KR20070093421A KR 20070093421 A KR20070093421 A KR 20070093421A KR 20077015869 A KR20077015869 A KR 20077015869A KR 20077015869 A KR20077015869 A KR 20077015869A KR 20070093421 A KR20070093421 A KR 20070093421A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
meth
composition
acrylate
compound
component
Prior art date
Application number
KR20077015869A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
켄타로 야치
에이이치 오카자키
Original Assignee
도아고세이가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 도아고세이가부시키가이샤 filed Critical 도아고세이가부시키가이샤
Publication of KR20070093421A publication Critical patent/KR20070093421A/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/54Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by X-rays or electrons
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0047Photosensitive materials characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

[PROBLEMS] To provide an actinic-energy-ray-curable composition which, when used as a composition for pattern formation, has high sensitivity to exposure light and satisfactory developability and can form a fine precise pattern and which after curing is excellent in various properties including film strength, heat resistance, and chemical resistance; a composition for pattern formation which, when used in color filter formation in liquid-crystal panel production, not only has those performances but, after curing, has high elasticity and an elastic behavior which makes the cured composition suitable for use as columnar spacers and a protective film; and a coloring composition which, when used, e.g., for forming pixels of a color filter, gives a colored layer reduced in color unevenness and contrast unevenness. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] The actinic-energy-ray-curable compositions contain as an essential ingredient a compound (a) having two or more ethylenically unsaturated groups, a tertiary amine group, and an acid group.

Description

활성 에너지선 경화형 조성물{COMPOSITIONS CURABLE WITH ACTINIC ENERGY RAY}Active energy ray curable composition {COMPOSITIONS CURABLE WITH ACTINIC ENERGY RAY}

본 발명은, 활성 에너지선 경화형 조성물에 관한 것으로서, 본 발명의 조성물은 잉크, 도료 및 레지스트 등의 패턴 형성용 조성물 등의 여러 가지의 용도에 사용 가능하며, 특히 알칼리 현상성이 뛰어나기 때문에 패턴 형성용 조성물로서 바람직하게 사용할 수 있고, 이들 기술분야에 속한다. 본 발명의 조성물은, 특히 액정 패널 제조 용도에 보다 바람직하게 사용할 수 있고, 구체적으로는 기둥형상 스페이서 제조, 컬러필터 보호막 제조 및 컬러필터용 착색층 형성 등의 용도에 바람직하게 사용할 수 있으며, 이들 기술분야에도 속한다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to an active energy ray-curable composition, and the composition of the present invention can be used for various uses, such as compositions for forming patterns such as inks, paints, and resists, and in particular, the pattern is formed because of its excellent alkali developability. It can use suitably as a composition for, and belongs to these technical fields. The composition of the present invention can be particularly preferably used for liquid crystal panel production, and specifically, it can be suitably used for applications such as columnar spacer production, color filter protective film production, and color layer formation for color filters. It also belongs to the field.

종래, 에칭 레지스트, 솔더 레지스트 및 컬러필터의 착색층을 형성하는 컬러 레지스트 등으로 사용되는 레지스트로서는, (메타)아크릴레이트가 많이 사용되고 있다. 이 경우에 있어서, 조성물의 감도향상 및 경화물의 경도향상 등을 목적으로 해서, (메타)아크릴로일기를 복수개 갖는 화합물[이하 「다관능 (메타)아크릴레이트」라고 한다]이 사용되고 있다.Conventionally, (meth) acrylate is used as a resist used by an etching resist, a soldering resist, and the color resist which forms the colored layer of a color filter. In this case, the compound (henceforth "polyfunctional (meth) acrylate") which has two or more (meth) acryloyl groups for the purpose of the sensitivity improvement of a composition, the hardness improvement of hardened | cured material, etc. is used.

이 경우, 다관능 (메타)아크릴레이트는 알칼리 불용성이며, 현상시에 미경화부 도막의 막 잔부가 발생하고, 충분한 해상도가 얻어지지 않는다고 하는 문제점이 있었기 때문에, 히드록실기와 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물을 2가 카르복실산 무수물과 부가시켜서 얻어지는 카르복실기함유 다관능 (메타)아크릴레이트의 검토가 이루어져 왔다.In this case, since polyfunctional (meth) acrylate is alkali insoluble, the film remainder of the unhardened part coating film generate | occur | produced at the time of image development, and there existed a problem that sufficient resolution was not obtained, but a hydroxyl group and a (meth) acryloyl group Examination of the carboxyl group-containing polyfunctional (meth) acrylate obtained by adding the compound which has the thing with bivalent carboxylic anhydride has been made | formed.

그러나, 사용되는 용도에 따라서는, 상기 카르복실기함유 다관능 (메타)아크릴레이트에서도 경도 및 현상성이 불충분할 경우가 있었다.However, depending on the use used, hardness and developability may be insufficient even in the said carboxyl group-containing polyfunctional (meth) acrylate.

그래서, 경도 및 현상성을 더욱 개선하기 위해서, 1개이상의 히드록실기와 2개이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물을 4가 카르복실산의 2무수물과 부가반응시켜서 얻어지는 카르복실기함유 다관능 (메타)아크릴레이트의 검토도 이루어지고 있다(특허문헌 1).Therefore, in order to further improve hardness and developability, a carboxyl group-containing polyfunctional obtained by addition reaction of a compound having at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyl groups with a dianhydride of a tetravalent carboxylic acid ( Examination of meth) acrylate is also made (patent document 1).

그러나, 특허문헌 1에 기재된 카르복실기함유 다관능 (메타)아크릴레이트를 사용할 경우에 있어서도, 가교밀도가 부족하기 때문에 경화막 강도, 내열성 및 내약품성이 떨어진다고 하는 문제를 갖는 것이었다.However, also when using the carboxyl group-containing polyfunctional (meth) acrylate of patent document 1, since there existed a shortage of crosslinking density, it had a problem that cured film strength, heat resistance, and chemical-resistance were inferior.

한편, 액정 패널의 제조에 있어서 사용되는 컬러필터용의 활성 에너지선 경화형 패턴 형성용 조성물에는, 경화물의 가교밀도 및 알칼리 가용성이 요구되는 것이 많다. On the other hand, in the composition for active energy ray hardening pattern formation for color filters used in manufacture of a liquid crystal panel, the crosslinking density of hardened | cured material and alkali solubility are many requested | required.

컬러필터용의 활성 에너지선 경화형 패턴 형성용 조성물로서는, 카르복실기를 갖지 않는 다관능 (메타)아크릴레이트 화합물, 알칼리 가용성 수지, 광중합 개시제 및 유기용제를 함유하는 조성물이 알려져 있다(특허문헌 2).As a composition for active energy ray hardening pattern formation for color filters, the composition containing the polyfunctional (meth) acrylate compound which does not have a carboxyl group, alkali-soluble resin, a photoinitiator, and the organic solvent is known (patent document 2).

본 발명은, 경화물의 가교밀도 및 알칼리 가용성을 향상시키기 위해서, 알칼리 가용성 수지의 광경화성 기와 산성 관능기의 도입비율을 증가시킨 것이지만, 도 입할 수 있는 광경화성 기와 산성 관능기의 양에는 한계가 있는 동시에, 조성물의 점도가 상승해버려 도포 적성이 손상되어버린다고 하는 문제도 발생하는 것이었다.In order to improve the crosslinking density and alkali solubility of hardened | cured material, this invention increased the introduction ratio of the photocurable group and acidic functional group of alkali-soluble resin, but there is a limit to the quantity of the photocurable group and acidic functional group which can be introduced, The problem that the viscosity of a composition rises and coating applicability is impaired also arises.

이 문제를 해결하기 위해서, 카르복실기를 갖는 다관능 (메타)아크릴레이트를 사용한 패턴 형성용 조성물이 제안되어 있다(특허문헌 3). 그러나, 이 조성물에 의하면, 1분자 중에 1개의 카르복실기를 갖는 화합물을 사용하기 때문에 알칼리 가용성은 향상되지만, 특히 알칼리 가용성 수지의 함유량이 적을 경우에는 현상성은 불충분함과 아울러, 감도도 충분한 것은 아니었다.In order to solve this problem, the composition for pattern formation using the polyfunctional (meth) acrylate which has a carboxyl group is proposed (patent document 3). However, according to this composition, since the compound which has one carboxyl group is used in 1 molecule, alkali solubility improves, but especially when content of alkali-soluble resin is small, developability was insufficient and sensitivity was not enough.

특허문헌 1 : 일본 특허공개 2001-089416호 공보(특허청구범위)Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-089416 (claims)

특허문헌 2 : 일본 특허공개 2000-105456호 공보(특허청구범위)Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-105456 (claims)

특허문헌 3 : 일본 특허공개 2001-91954호 공보(특허청구범위)Patent Document 3: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-91954 (claims)

본 발명의 제1의 목적은, 활성 에너지선 경화형 패턴 형성용 조성물로서 사용했을 경우, 노광 감도가 높고 현상성이 양호하며, 정밀하고 정확한 패턴을 형성할 수 있고, 또한 경화 후에 있어서 경화막 강도, 내열성 및 내약품성 등의 모든 물성 이 우수한 활성 에너지선 경화형 조성물을 제공하는 것이다.The first object of the present invention is that when used as a composition for forming an active energy ray-curable pattern, the exposure sensitivity is high, developability is good, precise and accurate patterns can be formed, and the cured film strength after curing, It is to provide an active energy ray-curable composition having excellent physical properties such as heat resistance and chemical resistance.

본 발명의 제2의 목적은, 액정 패널 제조에 있어서의 컬러필터 제조를 위해서 사용했을 경우, 상기한 성능에 더해, 경화 후에 있어서 고탄성이며, 기둥형상 스페이서 및 보호막에 적합한 탄성 거동을 갖는 패턴 형성용 조성물을 제공하는 것, 및 컬러필터의 화소를 형성했을 경우 등에 있어서, 착색층이 색 얼룩짐 또는 콘트라스트 얼룩이 적은 활성 에너지선 경화형 착색 조성물을 제공하는 것에 있다.The second object of the present invention is, when used for the production of color filters in liquid crystal panel production, in addition to the above-described performance, it is highly elastic after curing and for pattern formation having an elastic behavior suitable for columnar spacers and protective films. In providing a composition, and when forming the pixel of a color filter, etc., a colored layer provides the active energy ray hardening type coloring composition with few color unevenness or contrast unevenness.

이하, 본 발명을 상세하게 설명한다. 또한, 본 명세서 중에 있어서, (메타)아크릴이란 아크릴 및/또는 메타크릴을 의미하고, (메타)아크릴레이트란 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 의미하고, (메타)아크릴로일이란 아크릴로일 및/또는 메타크릴로일을 의미한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail. In addition, in this specification, (meth) acryl means an acryl and / or methacryl, (meth) acrylate means an acrylate and / or methacrylate, and (meth) acryloyl means acryloyl And / or methacryloyl.

본 발명은 2개이상의 에틸렌성 불포화기, 3급 아미노기 및 산성기를 갖는 화합물(a)[이하 「(a)성분」이라고 한다]을 함유하는 활성 에너지선 경화형 조성물 에 관한 것이다.The present invention relates to an active energy ray-curable composition containing a compound (a) (hereinafter referred to as "(a) component") having two or more ethylenically unsaturated groups, tertiary amino groups and acidic groups.

이하, (a)성분 및 그 밖의 성분에 대하여 설명한다.Hereinafter, the component (a) and the other components will be described.

1. (a)성분1. (a) Component

본 발명에 있어서 사용되는 (a)성분으로서는, 2개이상의 에틸렌성 불포화기, 3급 아미노기 및 산성기를 갖는 화합물이면, 여러 가지의 화합물을 사용할 수 있다. (a)성분으로서는 3개이상의 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물이 경화성이 뛰어나고, 그 경화물이 고경도라고 하는 이유에서 바람직하다.As (a) component used in this invention, if it is a compound which has two or more ethylenically unsaturated groups, tertiary amino groups, and an acidic group, various compounds can be used. As (a) component, the compound which has three or more ethylenically unsaturated groups is preferable in the reason that it is excellent in sclerosis | hardenability, and the hardened | cured material is high hardness.

(a)성분에 있어서의 에틸렌성 불포화기로서는, (메타)아크릴로일기, (메타)알릴기 및 비닐기 등을 들 수 있고, 입수 및 제조가 용이한 점에서 (메타)아크릴로일기가 바람직하다.As an ethylenically unsaturated group in (a) component, a (meth) acryloyl group, a (meth) allyl group, a vinyl group, etc. are mentioned, A (meth) acryloyl group is preferable at the point which is easy to obtain and manufacture. Do.

(a)성분에 있어서의 산성기로서는 카르복실기, 술포닐기 및 인산기 등을 들 수 있고, 입수 및 제조가 용이한 점에서 카르복실기가 바람직하다.As an acidic group in (a) component, a carboxyl group, a sulfonyl group, a phosphoric acid group, etc. are mentioned, A carboxyl group is preferable at the point which is easy to acquire and manufacture.

(a)성분 1분자 중의 산성기의 비율을 나타내는 산가로서는, 조성물을 패턴 형성용에 사용했을 경우에 있어서 현상성 및 패턴형상이 우수하다는 이유에서, 10∼150mgKOH/g이 바람직하고, 보다 바람직하게는 20∼100mgKOH/g이다.As an acid value which shows the ratio of the acidic group in 1 molecule of (a) component, 10-150 mgKOH / g is preferable from a reason for being excellent in developability and a pattern shape when a composition is used for pattern formation, More preferably, Is 20 to 100 mgKOH / g.

(a)성분의 분자량으로서는 400∼3,000의 것이 바람직하다.As molecular weight of (a) component, the thing of 400-3,000 is preferable.

(a)성분으로서는 후기하는 화합물의 복수종으로 이루어지는 것이라도 좋다.As (a) component, you may consist of multiple types of the compound mentioned later.

(a)성분으로서는 간편하게 제조할 수 있다고 하는 이유에서 하기 (a-1)∼(a-3)의 화합물로부터 선택되는 1종이상이 바람직하다.As (a) component, at least 1 sort (s) chosen from the compound of following (a-1)-(a-3) is preferable because it can manufacture easily.

(a-1): 3개이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물(이하 「다관능 (메타)아크릴레이트」라고 한다)과 산성기를 갖는 1급 또는 2급 아민(이하 「산성 아민」이라고 한다)의 마이클 부가반응 생성물[이하 「(a-1)」이라고 한다].(a-1): The compound which has three or more (meth) acryloyl groups (henceforth "a polyfunctional (meth) acrylate"), and the primary or secondary amine which has an acidic group (henceforth "acidic amine" Michael addition reaction product (henceforth "(a-1)").

(a-2): 3개이상의 (메타)아크릴로일기 및 산성기를 갖는 화합물(이하 「산성 다관능 (메타)아크릴레이트」라고 한다)과 산성 아민의 마이클 부가반응 생성물[이하 「(a-2)」라고 한다].(a-2): Michael addition reaction product of the compound which has three or more (meth) acryloyl groups and an acidic group (henceforth "acidic polyfunctional (meth) acrylate"), and an acidic amine [Hereafter, "(a-2 )].

(a-3): 산성 다관능 (메타)아크릴레이트와 히드록실기 및 산성기를 갖지 않는 1급 또는 2급 아민(이하 「아민」이라고 한다)의 마이클 부가반응 생성물[이하 「(a-3)」이라고 한다].(a-3): Michael addition reaction product of the acidic polyfunctional (meth) acrylate, the primary or secondary amine (hereinafter referred to as "amine") having no hydroxyl group and acidic group [hereinafter "(a-3) Is called.

이하, 이들 (a-1)∼(a-3)에 대하여 설명한다.Hereinafter, these (a-1)-(a-3) are demonstrated.

1-1. (a-1)1-1. (a-1)

(a-1)에 있어서의 다관능 (메타)아크릴레이트로서는 3개이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물이면 여러 가지 화합물을 사용할 수 있다.As the polyfunctional (meth) acrylate in (a-1), various compounds can be used as long as it is a compound having three or more (meth) acryloyl groups.

다관능 (메타)아크릴레이트로서는, 구체적으로는 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디트리메티롤프로판테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트 및 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 등의 폴리올폴리(메타)아크릴레이트; 상기 폴리올의 알킬렌옥사이드 부가물의 폴리(메타)아크릴레이트; 및 이소시아누르산 알킬렌옥사이드 부가물의 트리(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 상기 알킬렌옥사이드로서는 에틸렌옥사이드 및 프로필렌옥사이드 등을 들 수 있다.Specifically as a polyfunctional (meth) acrylate, a trimethol propane tri (meth) acrylate, a pentaerythritol tri (meth) acrylate, a pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and a ditrimethol propane tetra (meth) Polyol poly (meth) acrylates such as acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate; Poly (meth) acrylates of alkylene oxide adducts of the polyols; And tri (meth) acrylates of isocyanuric acid alkylene oxide adducts. Ethylene oxide, a propylene oxide, etc. are mentioned as said alkylene oxide.

이들 중에서도, 4개이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물이 바람직하다. 구체적으로는 디펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트 및 헥사(메타)아크릴레이트가 얻어지는 경화물의 탄성변형율이 보다 높기 때문에 특히 바람직하다.Among these, the compound which has four or more (meth) acryloyl groups is preferable. It is especially preferable because the elastic strain rate of the hardened | cured material from which dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and hexa (meth) acrylate are obtained is higher.

산성 아민으로서는 카르복실기를 갖는 1급 또는 2급 아민이 바람직하다.As acidic amine, the primary or secondary amine which has a carboxyl group is preferable.

상기 아민으로서는 아미노산을 들 수 있고, 구체적으로는 아미노카프론산 등의 1급 아민, 프롤린 등의 2급 아민, 글리실글리신 등의 1급 아미노기 및 2급 아미노기를 갖는 디아민 등을 들 수 있다.Examples of the amines include amino acids, and specific examples include primary amines such as aminocaproic acid, secondary amines such as proline, and diamines having primary amino groups such as glycylglycine and secondary amino groups.

(a-1)의 구체예를 하기의 식(1)에 나타낸다. 식(1)은 다관능 (메타)아크릴레이트로서 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트[(A)]의 1몰을 사용하고, 산성 아민으로서 카르복실기를 갖는 2급 아민[(B)]의 1몰을 사용하는 예이다.The specific example of (a-1) is shown to following formula (1). Formula (1) uses 1 mol of dipentaerythritol hexaacrylate [(A)] as polyfunctional (meth) acrylate, and uses 1 mol of secondary amines [(B)] which have a carboxyl group as acidic amine. This is an example.

식(A)에 있어서, A는 아크릴로일옥시기를 나타내고, A'는 -OCOCH2CH2-를 나타낸다.In the formula (A), A represents an acryloyloxy group of acrylic, A 'is -OCOCH 2 CH 2 - shows a.

Figure 112007050640174-PCT00001
Figure 112007050640174-PCT00001

1-2. (a-2)1-2. (a-2)

(a-2)에 있어서의 산성 다관능 (메타)아크릴레이트는 3개이상의 (메타)아크릴로일기와 1개의 히드록실기를 갖는 화합물(이하 「히드록시 다관능 (메타)아크릴레이트」라고 한다)과 동일 분자 내에 1개 또는 2개의 산무수물기를 갖는 화합물(이하 「산무수물」이라고 한다)을 반응시킴으로써 합성된다.The acidic polyfunctional (meth) acrylate in (a-2) is referred to as a compound (hereinafter referred to as "hydroxy polyfunctional (meth) acrylate") having three or more (meth) acryloyl groups and one hydroxyl group. ) And a compound having one or two acid anhydride groups in the same molecule (hereinafter referred to as "acid anhydride").

히드록시 다관능 (메타)아크릴레이트로서는, 구체적으로는 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트 및 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the hydroxy polyfunctional (meth) acrylate include pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and the like.

히드록시 다관능 (메타)아크릴레이트로서는, 동일 분자 내에 4개이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물이 바람직하다.As hydroxy polyfunctional (meth) acrylate, the compound which has four or more (meth) acryloyl groups in the same molecule is preferable.

본 발명에 있어서의 히드록시 다관능 (메타)아크릴레이트로서는, 제조공정에서 부생하는 3개이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물을 함유하고 있어도 된다. 예를 들면 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트 및 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들은 통상, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트 중에는 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트가 함유되고, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 중에는 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트가 함유된다.As hydroxy polyfunctional (meth) acrylate in this invention, you may contain the compound which has three or more (meth) acryloyl groups by-produced in a manufacturing process. For example, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. are mentioned. These usually contain pentaerythritol tri (meth) acrylate in pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and dipentaerythritol penta (meth) acrylate in dipentaerythritol hexa (meth) acrylate.

이들 3개이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물은, 히드록시 다관능 (메타)아크릴레이트 성분 중에 20∼80질량%의 비율로 함유되어 있어도 된다.The compound which has these three or more (meth) acryloyl groups may be contained in the ratio of 20-80 mass% in the hydroxy polyfunctional (meth) acrylate component.

산무수물로서는 무수 숙신산, 무수1-도데세닐숙신산, 무수 말레인산, 무수 글루타르산, 무수 이타콘산, 무수 프탈산, 헥사히드로 무수 프탈산, 메틸헥사히드로 무수 프탈산, 테트라메틸렌 무수 말레인산, 테트라히드로 무수 프탈산, 메틸테트라히드로 무수 프탈산, 엔도메틸렌테트라히드로 무수 프탈산, 메틸엔도메틸렌테트라히드로 무수 프탈산, 무수 테트라클로로프탈산, 무수 테트라브로모프탈산, 무수 트리멜리트산 등의 동일 분자 내에 1개의 산무수물기를 갖는 화합물, 또는 무수 피로멜리트산, 무수 프탈산 2량체, 디페닐에테르테트라카르복실산 2무수물, 디페닐술폰테트라카르복실산 2무수물, 벤조페논테트라카르복실산 2무수물 및 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산 2무수물, 디페닐에테르테트라카르복실산 무수물, 무수 트리멜리트산·에틸렌글리콜에스테르(시판품으로서는, 예를 들면 신닛폰케미컬(주)제, 상품명 라카싯도 TMEG-100이 있다) 등을 들 수 있다.As the acid anhydride, succinic anhydride, 1-dodecenyl succinic anhydride, maleic anhydride, glutaric anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, hexahydro phthalic anhydride, methylhexahydro phthalic anhydride, tetramethylene anhydride, tetrahydro phthalic anhydride, methyl Compound which has one acid anhydride group in the same molecule, such as tetrahydro phthalic anhydride, endo methylene tetrahydro phthalic anhydride, methylendo methylene tetrahydro phthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, trimellitic anhydride, or anhydrous Pyromellitic acid, phthalic anhydride dimer, diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, diphenyl sulfontetracarboxylic dianhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride and 1,2,3,4-butane tetracarboxylic Acid dianhydride, diphenyl ether tetracarboxylic anhydride, trimellitic acid ethylene glycol anhydride Switch and the like can be given hotel (as commercial products, for example, there are, trade name: LA kasit FIG TMEG-100 Nippon Chemical Co., Ltd.).

산성 다관능 (메타)아크릴레이트의 제조방법으로서는 통상적인 방법에 따르면 된다.As a manufacturing method of an acidic polyfunctional (meth) acrylate, it should follow a conventional method.

예를 들면 히드록시 다관능 (메타)아크릴레이트와 산무수물을 촉매의 존재 하, 60∼110℃에서 1∼20시간 반응시키는 방법 등을 들 수 있다.For example, the method of making hydroxy polyfunctional (meth) acrylate and an acid anhydride react at 60-110 degreeC for 1 to 20 hours in presence of a catalyst is mentioned.

이 경우의 촉매로서는, N,N-디메틸벤질아민, 트리에틸아민, 트리부틸아민, 트리에틸렌디아민, 벤질트리메틸암모늄클로라이드, 벤질트리에틸암모늄브로마이드, 테트라메틸암모늄브로마이드, 세틸트리메틸암모늄브로마이드 및 산화아연 등을 들 수 있다.Examples of the catalyst in this case include N, N-dimethylbenzylamine, triethylamine, tributylamine, triethylenediamine, benzyltrimethylammonium chloride, benzyltriethylammonium bromide, tetramethylammonium bromide, cetyltrimethylammonium bromide and zinc oxide. Can be mentioned.

산성 아민으로서는 상기와 같은 것을 들 수 있다.Examples of acidic amines include those mentioned above.

(a-2)의 구체예를 하기의 식(2)에 나타낸다. 식(2)는 산성 다관능 (메타)아크릴레이트로서 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트의 산무수물 부가물[(C)]의 1몰을 사용하고, 산성 아민으로서 카르복실기를 갖는 2급 아민[(B)]의 1몰을 사용하는 예이다.The specific example of (a-2) is shown to following formula (2). Formula (2) uses the secondary amine [(B) which has a carboxyl group as acidic amine, using 1 mol of acid anhydride adducts ((C)] of dipentaerythritol pentaacrylate as acidic polyfunctional (meth) acrylate. ] Is an example of using 1 mole of].

식(C)에 있어서, A 및 A'는 식(A)와 같은 기를 나타낸다.In Formula (C), A and A 'represent the same group as Formula (A).

Figure 112007050640174-PCT00002
Figure 112007050640174-PCT00002

1-3. (a-3)1-3. (a-3)

(a-3)에 있어서의 산성 다관능 (메타)아크릴레이트로서는 상기와 같은 것을 들 수 있다.Examples of the acidic polyfunctional (meth) acrylate in (a-3) include those mentioned above.

아민으로서는, 구체적으로는 n-프로필아민, n-부틸아민, n-헥실아민 및 벤질아민 등의 1급 아민, 디메틸아민, 디에틸아민, 디프로필아민, 디이소프로필아민, 디부틸아민, 시클로헥실아민 및 모르폴린 등의 2급 아민을 들 수 있다.Specific examples of the amine include primary amines such as n-propylamine, n-butylamine, n-hexylamine and benzylamine, dimethylamine, diethylamine, dipropylamine, diisopropylamine, dibutylamine and cyclo And secondary amines such as hexylamine and morpholine.

(a-3)의 구체예를 하기의 식(3)에 나타낸다. 식(3)은 산성 다관능 (메타)아크릴레이트로서 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트의 산무수물 부가물[(C)]의 2몰에 대하여, 아민[(D)]의 1몰이 반응하는 예이다.The specific example of (a-3) is shown to following formula (3). Formula (3) is an example in which 1 mol of amine [(D)] reacts with 2 mol of the acid anhydride adduct [(C)] of dipentaerythritol pentaacrylate as acidic polyfunctional (meth) acrylate.

단, 실제의 반응에 있어서는 (C)의 2몰에 대하여 (D)의 1몰을 사용했을 경우, 겔화되어 버릴 경우가 있기 때문에, (C)의 2몰에 대하여 (D)의 1몰미만, 바람직하게는 0.8몰이하의 비율로 사용해서 반응을 행한다.However, in an actual reaction, when 1 mol of (D) is used with respect to 2 mol of (C), it may gelatinize, and less than 1 mol of (D) with respect to 2 mol of (C), Preferably, the reaction is carried out at a ratio of 0.8 mol or less.

Figure 112007050640174-PCT00003
Figure 112007050640174-PCT00003

1-4. (a-1)∼(a-3)의 제조방법1-4. Manufacturing method of (a-1)-(a-3)

(a-1)∼(a-3)은, 각각 다관능 (메타)아크릴레이트와 산성 아민, 산성 다관능 (메타)아크릴레이트와 산성 아민, 및 산성 다관능 (메타)아크릴레이트와 아민을 마이클 부가반응에 의해 얻어지는 것이다.(a-1)-(a-3) show that a polyfunctional (meth) acrylate and an acidic amine, an acidic polyfunctional (meth) acrylate and an acidic amine, and an acidic polyfunctional (meth) acrylate and an amine, respectively, It is obtained by addition reaction.

원료성분의 바람직한 비율로서는 목적에 따라서 적당하게 설정하면 되지만, 바람직하게는 하기와 같다. As a preferable ratio of a raw material component, what is necessary is just to set suitably according to the objective, Preferably it is as follows.

(a-1): 다관능 (메타)아크릴레이트 중의 (메타)아크릴로일기 합계량 1몰에 대하여 산성 1급 아민의 경우에는 0.2∼0.4몰이 바람직하고, 산성 2급 아민의 경우에는 0.4∼0.8몰이 바람직하다.(a-1): 0.2-0.4 mol is preferable in the case of acidic primary amine with respect to 1 mol of total amounts of the (meth) acryloyl group in polyfunctional (meth) acrylate, and 0.4-0.8 mol is preferable in acidic secondary amine. desirable.

(a-2): 산성 다관능 (메타)아크릴레이트의 (메타)아크릴로일기 합계량 1몰에 대하여 산성 1급 아민의 경우에는 0.2∼0.4몰이 바람직하고, 산성 2급 아민의 경우에는 0.4∼0.8몰이 바람직하다.(a-2): 0.2-0.4 mol is preferable in the case of acidic primary amine with respect to 1 mol of total amounts of the (meth) acryloyl group of acidic polyfunctional (meth) acrylate, and 0.4-0.8 in the case of acidic secondary amine. Moles are preferred.

(a-3): 산성 다관능 (메타)아크릴레이트의 (메타)아크릴로일기 합계량 1몰에 대하여 1급 아민의 경우에는 0.2∼0.4몰이 바람직하고, 2급 아민의 경우에는 0.4∼0.8몰이 바람직하다.(a-3): 0.2-0.4 mol is preferable with respect to 1 mol of total amounts of the (meth) acryloyl group of an acidic polyfunctional (meth) acrylate, and 0.4-0.8 mol is preferable with a secondary amine. Do.

마이클 부가반응의 방법으로서는 통상적인 방법에 따르면 된다. 구체적으로는, 예를 들면 이들 화합물을 상온∼50℃ 정도에서 1시간 이상 반응시키는 방법 등을 들 수 있다.As a method of Michael addition reaction, it should follow a conventional method. Specifically, the method etc. which make these compounds react at normal temperature-about 50 degreeC for 1 hour or more are mentioned.

(a-1)∼(a-3)성분의 원료인 다관능 불포화 화합물과 산성 아민, 산성 다관능 (메타)아크릴레이트와 산성 아민, 및 산성 다관능 (메타)아크릴레이트와 아민은, 각각 단독으로 사용하는 것도, 2종이상을 조합시켜서 사용할 수도 있다.The polyfunctional unsaturated compound which is a raw material of (a-1)-(a-3) component, acidic amine, acidic polyfunctional (meth) acrylate, acidic amine, and acidic polyfunctional (meth) acrylate and amine are respectively independent. It can also be used in combination of 2 or more types.

1-5. 히드록실기를 갖는 (a)성분1-5. (A) component having a hydroxyl group

(a)성분으로서는, 히드록실기를 더 갖는 화합물[이하 「(a2)」라고 한다]이, 조성물을 패턴 형성 용도에 사용했을 경우, 현상액인 수용액과의 친화성이 뛰어나고, 현상성이 뛰어난 것으로 되는 이유에서 바람직하다.As the component (a), a compound having a hydroxyl group (hereinafter referred to as "(a2)") is excellent in affinity with an aqueous solution which is a developing solution and excellent in developability when the composition is used for pattern formation. It is preferable for the reason.

(a2)성분의 구체예로서는 이하에 나타내는 화합물 등을 들 수 있다.As a specific example of (a2) component, the compound etc. which are shown below are mentioned.

1) (a-1)에 있어서의 다관능 (메타)아크릴레이트로서, 디트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트 및 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트 등의 3개이상의 (메타)아크릴로일기 및 수산기를 갖는 화합물을 사용해서 제조된 화합물.1) As a polyfunctional (meth) acrylate in (a-1), three or more (meth) acryls, such as ditrimethyrol propane tri (meth) acrylate and dipentaerythritol penta (meth) acrylate, Compound prepared using the compound having a diary and a hydroxyl group.

2) (a-2) 및 (a-3)에 있어서의 산성 다관능 (메타)아크릴레이트로서, 히드록시 다관능 (메타)아크릴레이트 중의 수산기 합계량보다 적은 비율로 산무수물을 반응시켜서 얻어지는 수산기를 갖는 산성 다관능 (메타)아크릴레이트를 사용해서 제조된 화합물.2) A hydroxyl group obtained by reacting an acid anhydride in a proportion less than the total amount of hydroxyl groups in the hydroxy polyfunctional (meth) acrylate as the acidic polyfunctional (meth) acrylate in (a-2) and (a-3). Compound prepared using an acidic polyfunctional (meth) acrylate having.

3) 산성 다관능 불포화 화합물과 히드록실기를 갖는 1급 또는 2급 아민(이하 「히드록실아민」이라고 한다)의 마이클 부가반응 생성물[이하 「(a2-1)」이라고 한다].3) Michael addition reaction product of an acidic polyfunctional unsaturated compound and a primary or secondary amine (henceforth "hydroxylamine") which has a hydroxyl group (henceforth "(a2-1)").

이들 중에서도 (a2-1)이 산성기와 수산기의 도입량을 임의로 조정하기 쉽기 때문에 바람직하다.Among these, since (a2-1) is easy to adjust the introduction amount of an acidic group and a hydroxyl group arbitrarily, it is preferable.

(a2-1)에 있어서, 산성 다관능 (메타)아크릴레이트로서는 상기와 같은 것을 들 수 있다.In (a2-1), the above-mentioned thing is mentioned as acidic polyfunctional (meth) acrylate.

히드록시아민으로서는, 구체적으로는 모노에탄올아민, 2-(2-아미노에톡시)에탄올, o-아미노페놀, m-아미노페놀, p-아미노페놀 등의 1급 아민, N-메틸에탄올아민, N-아세틸에탄올아민, 디에탄올아민, 3-아닐리노페놀, 4-아닐리노페놀 등의 2급 아민을 들 수 있다.Specific examples of the hydroxyamine include primary amines such as monoethanolamine, 2- (2-aminoethoxy) ethanol, o-aminophenol, m-aminophenol, and p-aminophenol, N-methylethanolamine, and N. And secondary amines such as acetylethanolamine, diethanolamine, 3-anilinophenol, and 4-anilinophenol.

산성 다관능 불포화 화합물 및 히드록시 아민은, 각각 단독으로 사용하는 것도, 2종이상을 조합시켜서 사용할 수도 있다.The acidic polyfunctional unsaturated compound and the hydroxy amine may be used alone, or two or more kinds thereof may be used in combination.

(a2-1)의 구체예를 이하의 식(4)에 나타낸다. 식(4)는 산성 다관능 (메타)아크릴레이트로서 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트의 산무수물 부가물[(C)]의 2몰에 대하여 히드록시아민[(E)]의 1몰 반응하는 예이다.The specific example of (a2-1) is shown to following formula (4). Formula (4) is an example in which 1 mol of hydroxyamine [(E)] is reacted with 2 mol of the acid anhydride adduct [(C)] of dipentaerythritol pentaacrylate as an acidic polyfunctional (meth) acrylate. .

단, 실제의 반응에 있어서는 (C)의 2몰에 대하여 (E)의 1몰을 사용했을 경우 겔화되어 버릴 경우가 있기 때문에, (C)의 2몰에 대하여 (D)의 1몰미만, 바람직하게는 0.8몰이하의 비율로 사용해서 반응을 행한다.However, in actual reaction, when 1 mol of (E) is used with respect to 2 mol of (C), it may gelatinize, and less than 1 mol of (D) is preferable with respect to 2 mol of (C). Preferably, the reaction is conducted at a rate of 0.8 mol or less.

Figure 112007050640174-PCT00004
Figure 112007050640174-PCT00004

(a2-1)의 제조방법으로서는 상기와 같은 방법에 따르면 된다.As a manufacturing method of (a2-1), it is good to follow the above methods.

1-6. 기타의 예1-6. Other example

(a)성분 및 (a2)로서는, 상기 이외에도 다관능 (메타)아크릴레이트 또는 히드록시 다관능 (메타)아크릴레이트와 히드록실아민의 마이클 부가반응 생성물을, 산무수물과 부가반응시켜서 얻어지는 화합물[이하 「(a3-1)」이라고 한다]을 들 수 있다.As (a) component and (a2), the compound obtained by addition-reacting the Michael addition reaction product of polyfunctional (meth) acrylate or hydroxy polyfunctional (meth) acrylate, and hydroxylamine other than the above with an acid anhydride [follows] "(A3-1)"] is mentioned.

다관능 (메타)아크릴레이트 또는 히드록시 다관능 (메타)아크릴레이트와 히드록실아민의 마이클 부가반응 생성물에 있어서, 히드록실기와 산무수물기의 당량비가 1인 경우에는 (a)성분으로 되고, 마찬가지로 히드록실기와 산무수물기의 당량비가 1미만인 경우에는 (a2)성분으로 된다.In the Michael addition reaction product of polyfunctional (meth) acrylate or hydroxy polyfunctional (meth) acrylate with hydroxylamine, when the equivalent ratio of hydroxyl group and acid anhydride group is 1, it becomes (a) component, Similarly, when the equivalent ratio of hydroxyl group and acid anhydride group is less than 1, it becomes (a2) component.

(a3-1)의 구체예를 이하의 식(5)에 나타낸다. 식(5)는 다관능 (메타)아크릴레이트로서 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트[(A)]의 2몰을 사용하고, 히드록시아민[(E)]의 1몰에 대하여 산무수물[(F)]의 1몰 반응하는 예이다.The specific example of (a3-1) is shown to following formula (5). Formula (5) uses 2 mol of dipentaerythritol hexaacrylate [(A)] as polyfunctional (meth) acrylate, and it is an acid anhydride [(F) with respect to 1 mol of hydroxyamine [(E)]. ] Is an example of 1 mol reaction.

단, 실제의 반응에 있어서는, (A)의 2몰에 대하여 (E)의 1몰을 사용했을 경우 겔화되어 버릴 경우가 있기 때문에, (A)의 2몰에 대하여 (E)의 1몰미만, 바람직하게는 0.8몰이하의 비율로 사용해서 반응을 행한다.However, in actual reaction, when 1 mol of (E) is used with respect to 2 mol of (A), it may gelatinize, and less than 1 mol of (E) with respect to 2 mol of (A), Preferably, the reaction is carried out at a ratio of 0.8 mol or less.

Figure 112007050640174-PCT00005
Figure 112007050640174-PCT00005

(a3-1)의 제조방법으로서는, 마이클 부가반응 및 산무수물의 부가반응의 어느 것이나 상기와 같은 방법에 따르면 된다.As a manufacturing method of (a3-1), any of the addition reaction of Michael and the addition reaction of an acid anhydride should follow the above method.

2. 기타의 성분2. Other Ingredients

본 발명의 조성물은 상술한 (a)성분을 필수로 하는 것이지만, 필요에 따라 기타의 성분을 배합할 수 있다.Although the composition of this invention is essential to the above-mentioned component (a), other components can be mix | blended as needed.

구체적으로는, 광중합 개시제, 유기용제, 불포화기함유 화합물, 안료, 염료, 소포제, 레벨링제, 무기 필러 및 유기 필러 등을 배합할 수도 있다. 또, 필요에 따라 산화방지제, 광안정제, 자외선 흡수제 및 중합금지제 등을 소량 첨가해도 좋다.Specifically, a photoinitiator, an organic solvent, an unsaturated group containing compound, a pigment, dye, an antifoamer, a leveling agent, an inorganic filler, an organic filler, etc. can also be mix | blended. Moreover, you may add a small amount of antioxidant, a light stabilizer, a ultraviolet absorber, a polymerization inhibitor, etc. as needed.

이하, 광중합 개시제, 유기용제 및 불포화기함유 화합물에 대해서 상세하게 설명한다.Hereinafter, a photoinitiator, an organic solvent, and an unsaturated group containing compound are explained in full detail.

2-1. 광중합 개시제2-1. Photopolymerization initiator

본 발명의 조성물은 활성 에너지선의 조사에 의해 경화되는 것이지만, 이 경우의 활성 에너지선으로서는 전자선, 가시광선 및 자외선 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 특별한 장치를 필요로 하지 않고, 간편하기 때문에 가시광선 또는 자외선이 바람직하다.Although the composition of this invention hardens | cures by irradiation of an active energy ray, as an active energy ray in this case, an electron beam, a visible ray, an ultraviolet-ray, etc. are mentioned. Among these, visible light or ultraviolet light is preferable because it does not require a special device and is simple.

가시광선 또는 자외선 경화형 조성물로 할 경우 조성물에 광중합 개시제를 배합한다. 또한 전자선 경화형 조성물로 하는 경우에는, 광중합 개시제를 반드시 배합할 필요는 없다.In the case of the visible or ultraviolet curable composition, a photopolymerization initiator is blended into the composition. In addition, when setting it as an electron beam curable composition, it is not necessary to mix | blend a photoinitiator.

광중합 개시제[이하 「(b)성분」이라고 한다]로서는, 예를 들면 비이미다졸계 화합물, 벤조인계 화합물, 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, α-디케톤계 화합물, 다핵퀴논계 화합물, 크산톤계 화합물, 티옥산톤계 화합물, 트리아진계 화합물 및 케탈계 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerization initiator (hereinafter referred to as "(b) component") include a biimidazole compound, a benzoin compound, an acetophenone compound, a benzophenone compound, an α-diketone compound, a polynuclear quinone compound, and a xane. Ton compounds, thioxanthone compounds, triazine compounds, ketal compounds, and the like.

비이미다졸계 화합물의 구체예로서는, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 및 2,2'-비스(2,4,6-트리브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 등을 들 수 있다.Specific examples of the biimidazole-based compound include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-ratio. Imidazole, 2,2'-bis (2-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, 2, 2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4, 4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenyl -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2' -Bis (2,4-dibromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole and 2,2'-bis (2,4,6-tribro Mophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, etc. are mentioned.

(b)성분으로서 비이미다졸계 화합물을 사용할 경우, 수소공여체를 병용하는 것이 감도를 더욱 개량할 수 있는 점에서 바람직하다. 여기에서 말하는 「수소공여체」란, 노광에 의해 비이미다졸계 화합물로부터 발생한 라디칼에 대하여 수소원자를 공급할 수 있는 화합물을 의미한다.When using a biimidazole type compound as (b) component, using a hydrogen donor together is preferable at the point which can improve a sensitivity further. The "hydrogen donor" as used here means the compound which can supply a hydrogen atom with respect to the radical which generate | occur | produced from the biimidazole type compound by exposure.

수소공여체로서는, 메르캅탄계 수소공여체 및 아민계 수소공여체 등이 바람직하다.As the hydrogen donor, mercaptan-based hydrogen donors, amine-based hydrogen donors and the like are preferable.

메르캅탄계 수소공여체는, 벤젠환 또는 복소환을 모핵으로 하고, 상기 모핵에 직접 결합한 메르캅토기를 1개이상, 바람직하게는 1∼3개, 더욱 바람직하게는 1∼2개 갖는 화합물로 이루어진다. 메르캅탄계 수소공여체의 구체예로서는, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조옥사졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 2,5-디메르캅토-1,3,4-티아디아졸 및 2-메르캅토-2,5-디메틸아미노피리딘 등을 들 수 있다. 이들 메르캅탄계 수소공여체 중, 2-메르캅토벤조티아졸 및 2-메르캅토벤조옥사졸이 바람직하고, 특히 2-메르캅토벤조티아졸이 바람직하다.The mercaptan-based hydrogen donor is composed of a compound having a benzene ring or a heterocycle as a mother nucleus, and having at least one, preferably one to three, more preferably one to two mercapto groups directly bonded to the mother nucleus. . Specific examples of the mercaptan-based hydrogen donor include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoimidazole, and 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole. And 2-mercapto-2,5-dimethylaminopyridine. Among these mercaptan-based hydrogen donors, 2-mercaptobenzothiazole and 2-mercaptobenzoxazole are preferable, and 2-mercaptobenzothiazole is particularly preferable.

아민계 수소공여체는, 벤젠환 또는 복소환을 모핵으로 하고, 상기 모핵에 직접 결합한 아미노기를 1개이상, 바람직하게는 1∼3개, 더욱 바람직하게는 1∼2개 갖는 화합물로 이루어진다. 아민계 수소공여체의 구체예로서는, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4-디에틸아미노아세토페논, 4-디메틸아미노프로피오페논, 에틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 4-디메틸아미노안식향산 및 4-디메틸아미노벤조니트릴 등을 들 수 있다.The amine-based hydrogen donor is composed of a compound having a benzene ring or a heterocycle as a mother nucleus and having at least one, preferably one to three, more preferably one to two amino groups directly bonded to the mother nucleus. Specific examples of the amine hydrogen donor include 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 4-diethylaminoacetophenone, and 4-dimethylaminopropiophenone. And ethyl-4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylaminobenzoic acid, and 4-dimethylaminobenzonitrile.

수소공여체는 단독으로 또는 2종이상을 혼합해서 사용할 수 있지만, 1종이상의 메르캅탄계 수소공여체와 1종이상의 아민계 수소공여체를 조합시켜서 사용하는 것이, 형성된 스페이서 또는 화소가 현상시에 기판으로부터 탈락하기 어렵고, 스페이서 또는 화소의 강도 및 감도도 높은 점에서 바람직하다. 또, 메르캅토기와 아미노기를 동시에 갖는 수소공여체도 적합하게 사용할 수 있다.The hydrogen donors may be used alone or in combination of two or more thereof. However, the combination of one or more mercaptan-based hydrogen donors and one or more amine-based hydrogen donors may cause the formed spacers or pixels to fall off the substrate during development. It is difficult to do this, and the intensity and sensitivity of the spacer or the pixel are also preferable. Moreover, the hydrogen donor which has a mercapto group and an amino group simultaneously can also be used suitably.

벤조인계 화합물의 구체예로서는, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인i-프로필에테르, 벤조인i-부틸에테르 및 2-벤조일안식향산메틸 등을 들 수 있다.Specific examples of the benzoin compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin i-propyl ether, benzoin i-butyl ether, methyl 2-benzoylbenzoate, and the like.

아세토페논계 화합물의 구체예로서는, 2,2-디메톡시아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-(4-i-프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 1-(4-메틸티오페닐)-2-메틸-2-모르폴리노프로판-1-온, 1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸-2-히드록시 프로판-1-온, 1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질-2-디메틸아미노부탄-1-온, 1-히드록시 시클로헥실페닐케톤 및 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 등을 들 수 있다.Specific examples of the acetophenone-based compound include 2,2-dimethoxyacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, and 2-hydroxy-2-methyl-1- Phenylpropane-1-one, 1- (4-i-propylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1- (4-methylthiophenyl) -2-methyl-2-morpholi Nopropan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-methyl-2-hydroxy propan-1-one, 1- (4-morpholinophenyl) -2- Benzyl-2-dimethylaminobutan-1-one, 1-hydroxy cyclohexylphenyl ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one and the like.

벤조페논계 화합물의 구체예로서는, 벤질디메틸케톤, 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸벤조페논) 및 4,4'-비스(디에틸벤조페논) 등을 들 수 있다.Specific examples of the benzophenone compound include benzyl dimethyl ketone, benzophenone, 4,4'-bis (dimethylbenzophenone), 4,4'-bis (diethylbenzophenone), and the like.

α-디케톤계 화합물의 구체예로서는, 디아세틸, 디벤조일, 메틸벤조일포메이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the α-diketone compound include diacetyl, dibenzoyl, methylbenzoyl formate and the like.

다핵 퀴논계 화합물의 구체예로서는, 안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논 및 1,4-나프토퀴논 등을 들 수 있다.Specific examples of the multinuclear quinone compound include anthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 1,4-naphthoquinone, and the like.

크산톤계 화합물의 구체예로서는, 크산톤, 티옥산톤, 2-클로로티옥산톤 등을 들 수 있다.As a specific example of a xanthone type compound, xanthone, a thioxanthone, 2-chloro thioxanthone, etc. are mentioned.

트리아진계 화합물의 구체예로서는, 1,3,5-트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(2'-클로로페닐)-s-트리아진, 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(4'-클로로페닐)-s-트리아진, 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(2'-메톡시페닐)-s-트리아진, 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(4'-메톡시페닐)-s-트리아진, 2-메틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진 및 2-(4-n-부톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진 등을 들 수 있다.Specific examples of the triazine-based compound include 1,3,5-tris (trichloromethyl) -s-triazine and 1,3-bis (trichloromethyl) -5- (2'-chlorophenyl) -s-triazine , 1,3-bis (trichloromethyl) -5- (4'-chlorophenyl) -s-triazine, 1,3-bis (trichloromethyl) -5- (2'-methoxyphenyl) -s -Triazine, 1,3-bis (trichloromethyl) -5- (4'-methoxyphenyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine , 2- (4'-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl)- s-triazine, 2- (4-n-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, and the like.

이들 중에서도, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 및 1-(4-메틸티오페닐)-2-메틸-2-모르폴리노프로판-1-온은, 소량으로도 활성 에너지선의 조사에 의한 중합반응을 개시하여 촉진하므로, 발명에 있어서 바람직하게 사용된다.Among these, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone and 1- (4-methylthiophenyl) -2-methyl-2-morpholinopropane-1-one are polymerized by irradiation of an active energy ray even in a small amount. Since it is disclosed and promoted, it is preferably used in the invention.

(b)성분은 단독으로 또는 2종이상을 병용해서 사용할 수 있다.(b) A component can be used individually or in combination of 2 or more types.

(b)성분의 배합 비율로서는 조성물 중의 광중합 개시제 이외의 고형분 100질량부에 대하여 0.5∼20질량부가 바람직하다. 0.5중량부 미만에서는 광경화성이 불충분하게 되는 일이 있고, 한편 20질량부를 넘으면 알칼리 현상시에 노광 부분이 깨지기 쉬워지는 일이 있다. 또한, (b)성분의 비율로서는 2∼10중량%가 정밀도가 높은 패턴을 얻을 수 있는 점에서 보다 바람직하다.As a compounding ratio of (b) component, 0.5-20 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of solid content other than the photoinitiator in a composition. If it is less than 0.5 weight part, photocurability may become inadequate, and when it exceeds 20 mass parts, an exposure part may become easy to be broken at the time of alkali image development. Moreover, as a ratio of (b) component, 2-10 weight% is more preferable at the point which can obtain a high precision pattern.

2-2. 유기용제2-2. Organic solvent

본 발명에 있어서, 조성물의 도포성을 개량 등의 목적을 위해서 유기용제를 배합할 수 있다.In this invention, an organic solvent can be mix | blended for the purpose of improving the coating property of a composition.

유기용제[이하 「(c)성분」이라고 한다]는 조성물의 각 성분과 반응하지 않는 것이면 된다. 도포성이 뛰어나고, 또한, 얻어지는 도막의 건조속도가 적당한 점에서 80∼200℃의 비점을 갖는 유기용제가 바람직하고, 그 중에서도 100∼170℃의 비점을 갖는 유기용제가 보다 바람직하다.What is necessary is just an organic solvent (henceforth "(c) component") to not react with each component of a composition. The organic solvent which has the boiling point of 80-200 degreeC is preferable at the point which is excellent in applicability | paintability, and the drying speed of the coating film obtained is suitable, and the organic solvent which has a boiling point of 100-170 degreeC is especially more preferable.

구체적으로는, 예를 들면 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 화합물; 초산 부틸, 초산 벤질, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 및 에톡시에틸프로피오네이트 등의 지방산 에스테르; 에틸셀로솔브 및 부틸셀로솔브 등의 셀로솔브; 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알킬렌글리콜에테르; 에탄올, 에틸렌글리콜 및 디에틸렌글리콜 등의 알코올; 디에틸렌글리콜디메틸에테르 등의 에테르; 메틸이소부틸케톤 및 시클로헥사논 등의 케톤; N,N-디메틸포름아미드 등의 포름아미드; γ-부틸로락탐 및 N-메틸-2-피롤리돈 등의 락탐; 및 γ-부틸로락톤 등의 락톤 등을 들 수 있다.Specifically, For example, aromatic compounds, such as toluene and xylene; Fatty acid esters such as butyl acetate, benzyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and ethoxyethyl propionate; Cellosolves such as ethyl cellosolve and butyl cellosolve; Alkylene glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether; Alcohols such as ethanol, ethylene glycol and diethylene glycol; Ethers such as diethylene glycol dimethyl ether; Ketones such as methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; Formamides such as N, N-dimethylformamide; lactams such as γ-butyrolactam and N-methyl-2-pyrrolidone; And lactones, such as (gamma)-butyrolactone, etc. are mentioned.

(c) 성분은 단독으로 또는 2종이상을 병용해서 사용할 수 있다.(c) A component can be used individually or in combination of 2 or more types.

(c)성분의 배합 비율로서는 조성물의 고형분 농도가 10∼50질량%가 되는 비율이 바람직하다.As a compounding ratio of (c) component, the ratio which becomes 10-50 mass% of solid content concentration of a composition is preferable.

2-3. 불포화기함유 화합물2-3. Unsaturated group-containing compound

본 발명의 조성물에는, 필요에 따라 (a)성분 이외의 불포화기함유 화합물[이하 「(d)성분」이라고 한다]을 배합할 수 있다.The composition of this invention can mix | blend unsaturated group containing compound (henceforth "(d) component") other than (a) component as needed.

(d)성분으로서는, 예를 들면 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 카르비톨(메타)아크릴레이트, N-비닐카프로락톤, 아크릴로일모르폴린, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올모노(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 노난디올디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페닐옥시프로필(메타)아크릴레이트, 트리브로모페닐(메타)아크릴레이트, 2,2-비스(4-(메타)아크릴로일옥시에톡시페닐)-프로판, 2,2-비스(4-(메타)아크릴로일옥시디에톡시페닐)-프로판, 2,2-비스(4-(메타)아크릴로일옥시트리에톡시페닐)-프로판, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리브로모페닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 비스페놀A형 에폭시 수지의 디(메타)아크릴레이트, 각종 폴리우레탄폴리(메타)아크릴레이트 및 폴리에스테르폴리(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.As the (d) component, for example, phenoxyethyl (meth) acrylate, carbitol (meth) acrylate, N-vinylcaprolactone, acryloyl morpholine, glycidyl (meth) acrylate, 2-hydrate Hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 1,4-butanediol mono (meth) acrylate, 1,6-hexanedioldi (meth) acrylate, nonanediol diacrylate, Polyethylene glycol di (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, tribromophenyl (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxy Ethoxyphenyl) -propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxydiethoxyphenyl) -propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxytriethoxyphenyl)- Propane, ethylene glycol di (meth) acrylate, tribromophenyloxyethyl (meth) acrylate, trimetholpropane tri (meth) acrylate And pentaerythritol tetra (meth) acrylate, di (meth) acrylate of bisphenol A epoxy resin, various polyurethane poly (meth) acrylates, polyester poly (meth) acrylates, and the like.

(d)성분은 단독으로 또는 2종이상을 병용해서 사용할 수 있다.(d) A component can be used individually or in combination of 2 or more types.

(d)성분의 바람직한 배합 비율은, 조성물 중에 0∼50질량%의 범위이다.The preferable compounding ratio of (d) component is 0-50 mass% in a composition.

3. 활성 에너지선 경화형 조성물3. Active Energy Ray Curing Composition

본 발명의 조성물은 상기 (a)성분을 필수로 하는 것이다.The composition of this invention makes said (a) component essential.

본 발명의 조성물은, 상기 필수성분인 (a)성분 이외에 필요에 따라서 (b)성분∼(e)성분이나 그 밖의 성분을, 통상의 방법에 따라 교반·혼합해서 얻을 수 있다.The composition of this invention can be obtained by stirring and mixing (b) component-(e) component and other components as needed other than (a) component which is the said essential component as needed.

본 발명의 조성물의 바람직한 조합으로서는, (a)성분과 (b)성분을 함유하는 조성물, (a)성분, (b)성분 및/또는 (c)성분을 함유하는 조성물, (a)성분, (b)성분, (c)성분 및/또는 (d)성분을 함유하는 조성물을 들 수 있다. 이들 배합 비율로서는, 상기한 바람직한 배합 비율에 따라서 배합하면 된다.As a preferable combination of the composition of this invention, the composition containing (a) component and (b) component, the composition containing (a) component, (b) component and / or (c) component, (a) component, ( The composition containing b) component, (c) component, and / or (d) component is mentioned. What is necessary is just to mix | blend as these compounding ratios according to the above-mentioned preferable compounding ratio.

4. 용도4. Uses

본 발명의 조성물은 여러 가지의 용도에 사용가능하다. 예를 들면 레지스트 등의 패턴 형성용 조성물, 잉크 및 도료 등의 코팅재 등을 들 수 있다.The composition of the present invention can be used for various uses. For example, coating materials, such as compositions for pattern formation, such as a resist, ink, and a coating material, etc. are mentioned.

본 발명의 조성물로서는, 이들 중에서도 알칼리 현상성이 뛰어나기 때문에 패턴 형성용 조성물로서 바람직하게 사용할 수 있다.As a composition of this invention, since it is excellent in alkali developability among these, it can be used suitably as a composition for pattern formation.

본 발명의 조성물을 패턴 형성용 조성물로서 사용할 경우, 알칼리 가용성 수지를 함유하는 것이 바람직하다. 이하, 알칼리 가용성 수지에 대하여 설명한다.When using the composition of this invention as a composition for pattern formation, it is preferable to contain alkali-soluble resin. Hereinafter, alkali-soluble resin is demonstrated.

4-1. 알칼리 가용성 수지4-1. Alkali soluble resin

본 발명에 있어서의 알칼리 가용성 수지[이하 「(e)성분」이라고 한다]로서는, (a)성분에 대하여 바인더로서 작용하고, 현상처리 공정에 있어서 사용되는 현상액, 특히 바람직하게는 알칼리 현상액에 대하여 가용성을 갖는 것이면 특별하게 한정되는 것은 아니다.As alkali-soluble resin (henceforth "(e) component") in this invention, it acts as a binder with respect to (a) component, and is especially soluble with respect to the developing solution used in a developing process, Especially preferably an alkaline developing solution. It does not specifically limit if it has.

(e)성분으로서는, 부가중합체, 폴리에스테르, 에폭시 수지 및 폴리에테르 등을 들 수 있고, 에틸렌성 불포화 단량체를 중합해서 얻어지는 부가중합체가 바람직하다.Examples of the component (e) include an addition polymer, polyester, epoxy resin, polyether, and the like, and an addition polymer obtained by polymerizing an ethylenically unsaturated monomer is preferable.

(e)성분으로서는, 카르복실기를 갖는 알칼리 가용성 수지가 바람직하고, 특히 1개이상의 카르복실기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체(이하 「카르복실기함유 불포화 단량체」라고 한다)와 이것과 공중합 가능한 에틸렌성 불포화 단량체(이하 「공중합성 불포화 단량체」라고 한다)의 공중합체(이하 「카르복실기함유 공중합체」라고 한다)가 바람직하다.As (e) component, alkali-soluble resin which has a carboxyl group is preferable, Especially ethylenically unsaturated monomer which has 1 or more carboxyl groups (henceforth "carboxyl group-containing unsaturated monomer"), and ethylenically unsaturated monomer copolymerizable with this (hereinafter " Copolymer (hereinafter referred to as "carboxyl group-containing copolymer") is preferred.

카르복실기함유 불포화 단량체의 예로서는, (메타)아크릴산, 크로톤산, α-클로로아크릴산 및 계피산 등의 불포화 모노카르복실산류; 말레인산, 무수 말레인산, 푸말산, 이타콘산, 무수 이타콘산, 시트라콘산, 무수 시트라콘산 및 메사콘산 등의 불포화 디카르복실산 또는 그 무수물류; 3가이상의 불포화 다가 카르복실산 또는 그 무수물류; 숙신산 모노(2-(메타)아크릴로일옥시에틸) 및 프탈산 모노(2-(메타)아크릴로일옥시에틸) 등의 2가이상의 다가 카르복실산의 모노[(메타)아크릴로일옥시알킬]에스테르류; 및 ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트 등의 양 말단에 카르복시기와 수산기를 갖는 폴리머의 모노(메타)아크릴레이트류 등을 들 수 있다. 이들의 카르복실기함유 불포화 단량체 중, ω-카르복시폴리카프로락톤모노아크릴레이트 및 프탈산 모노(2-아크릴로일옥시에틸)은, 각각 아로닉스 M-5300 및 M-5400[도아고세이(주)]의 상품명으로 시판되고 있다.As an example of a carboxyl group-containing unsaturated monomer, Unsaturated monocarboxylic acids, such as (meth) acrylic acid, crotonic acid, (alpha)-chloroacrylic acid, and cinnamic acid; Unsaturated dicarboxylic acids or anhydrides thereof such as maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride and mesaconic acid; Trivalent or higher unsaturated polyvalent carboxylic acid or anhydrides thereof; Mono [(meth) acryloyloxyalkyl] of bivalent or more polyvalent carboxylic acids, such as succinic acid mono (2- (meth) acryloyloxyethyl) and phthalic acid mono (2- (meth) acryloyloxyethyl) Esters; And mono (meth) acrylates of polymers having a carboxyl group and a hydroxyl group at both terminals, such as? -Carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate. Among these carboxyl group-containing unsaturated monomers, ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate and phthalic acid mono (2-acryloyloxyethyl) are the trade names of Aronix M-5300 and M-5400 (Doagosei Co., Ltd.), respectively. It is commercially available.

카르복실기함유 불포화 단량체는 단독으로 또는 2종이상을 혼합해서 사용할 수 있다.A carboxyl group-containing unsaturated monomer can be used individually or in mixture of 2 or more types.

또, 공중합성 불포화 단량체로서는, 카르복실기함유 불포화 단량체와 공중합 하는 것이면 되고, 방향족 비닐 화합물, 불포화 카르복실산 에스테르류, 불포화 이미드류 및 말단에 모노(메타)아크릴로일기를 갖는 매크로 모노머류 등이 바람직하다. Moreover, what is necessary is just to copolymerize with a carboxyl group-containing unsaturated monomer as a copolymerizable unsaturated monomer, Aromatic vinyl compound, unsaturated carboxylic ester, unsaturated imides, macromonomer which has a mono (meth) acryloyl group at the terminal, etc. are preferable. Do.

방향족 비닐 화합물로서는, 스티렌, α-메틸스티렌, o-비닐톨루엔, m-비닐톨루엔, p-비닐톨루엔, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, 2-비닐벤질메틸에테르, 3-비닐벤질메틸에테르, 4-비닐벤질메틸에테르, 2-비닐벤질글리시딜에테르, 3-비닐벤질글리시딜에테르 및 4-비닐벤질글리시딜에테르 등을 들 수 있다.As an aromatic vinyl compound, styrene, (alpha) -methylstyrene, o-vinyl toluene, m-vinyl toluene, p-vinyl toluene, p-chloro styrene, o-methoxy styrene, m-methoxy styrene, p-methoxy styrene, 2-vinyl benzyl methyl ether, 3-vinyl benzyl methyl ether, 4-vinyl benzyl methyl ether, 2-vinyl benzyl glycidyl ether, 3-vinyl benzyl glycidyl ether, 4-vinyl benzyl glycidyl ether, and the like. Can be.

불포화 카르복실산 에스테르류로서는, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필(메타)아크릴레이트, 이소프로필(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, sec-부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 3-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 3-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 알릴(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글루콜(메타)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글루콜(메타)아크릴레이트, 메톡시프로필렌글루콜(메타)아크릴레이트, 메톡시디프로필렌글루콜(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.02, 6]데칸-8-일(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트 및 글리세롤모노(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.As unsaturated carboxylic acid ester, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (Meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxy Propyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, benzyl (meth ) Acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylic Latex, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, Methoxy propylene glycol (meth) acrylate, methoxy dipropylene glycol (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2 , 6] decane-8-yl (meth) acrylic Acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, and the like.

불포화 이미드류로서는, 말레이미드, N-페닐말레이미드 및 N-시클로헥실말레이미드 등을 들 수 있다.Examples of the unsaturated imides include maleimide, N-phenylmaleimide, N-cyclohexyl maleimide, and the like.

말단에 모노(메타)아크릴로일기를 갖는 매크로 모노머류로서는, 폴리스티렌, 폴리메틸(메타)아크릴레이트, 폴리-n-부틸(메타)아크릴레이트 및 폴리실록산 등의 중합체 분자쇄를 갖는 것 등을 들 수 있다.Examples of the macromonomers having a mono (meth) acryloyl group at the terminal include polymer molecular chains such as polystyrene, polymethyl (meth) acrylate, poly-n-butyl (meth) acrylate, and polysiloxane, and the like. have.

공중합성 불포화 단량체로서는, 상기 이외에도 2-(3,4,5,6-테트라히드로프탈이미드)에틸(메타)아크릴레이트, 2-(2,3-디메틸말레이미드)에틸(메타)아크릴레이트 등의 이미드(메타)아크릴레이트류; 2-아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-아미노프로필(메타)아크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 3-아미노프로필(메타)아크릴레이트 및 3-디메틸아미노프로필(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 아미노알킬에스테르류; 글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 글리시딜에스테르류; 인덴 및 1-메틸인덴 등의 인덴류; 초산 비닐, 프로피온산 비닐, 낙산 비닐 및 안식향산 비닐 등의 카르복실산 비닐에스테르류; 비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르 및 알릴글리시딜에테르 등의 불포화 에테르류; (메타)아크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴 및 시안화 비닐리덴 등의 시안화 비닐 화합물; (메타)아크릴아미드, α-클로로아크릴아미드 및 N-2-히드록시에틸(메타)아크릴아미드 등의 불포화 아미드류; 및 1,3-부타디엔, 이소프렌 및 클로로프렌 등의 지방족 공역디엔류 등을 들 수 있다.As a copolymerizable unsaturated monomer, 2- (3,4,5,6- tetrahydrophthalimide) ethyl (meth) acrylate, 2- (2, 3- dimethyl maleimide) ethyl (meth) acrylate, etc. are also mentioned above. Imide (meth) acrylates; 2-aminoethyl (meth) acrylate, 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-aminopropyl (meth) acrylate, 2-dimethylaminopropyl acrylate, 3-aminopropyl (meth) acrylate and 3 Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl esters such as -dimethylaminopropyl (meth) acrylate; Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl (meth) acrylate; Indenes such as indene and 1-methylindene; Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate and vinyl benzoate; Unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether and allyl glycidyl ether; Vinyl cyanide compounds such as (meth) acrylonitrile, α-chloroacrylonitrile and vinylidene cyanide; Unsaturated amides such as (meth) acrylamide, α-chloroacrylamide and N-2-hydroxyethyl (meth) acrylamide; And aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene, and chloroprene.

이들의 공중합성 불포화 단량체는, 단독으로 또는 2종이상을 혼합해서 사용할 수 있다.These copolymerizable unsaturated monomers can be used individually or in mixture of 2 or more types.

카르복실기함유 공중합체로서는, (메타)아크릴산을 필수성분으로 하고, 경우에 따라 숙신산 모노(2-(메타)아크릴로일옥시에틸), ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트의 군에서 선택되는 적어도 1종의 화합물을 더 함유하는 카르복실기함유 불포화 단량체 성분과, 스티렌, 메틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 알릴(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 글리세롤모노(메타)아크릴레이트, N-페닐말레이미드, 폴리스티렌 매크로 모노머 및 폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머의 군에서 선택되는 적어도 1종의 공중합체(이하 「카르복실기함유 공중합체(α)」라고 한다.)가 바람직하다.As the carboxyl group-containing copolymer, (meth) acrylic acid is an essential component, and optionally selected from the group of succinic acid mono (2- (meth) acryloyloxyethyl) and ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate. A carboxyl group-containing unsaturated monomer component which further contains at least 1 sort (s) compound, and styrene, methyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate , At least one copolymer selected from the group consisting of glycerol mono (meth) acrylate, N-phenylmaleimide, polystyrene macromonomer and polymethyl methacrylate macromonomer (hereinafter referred to as "carboxyl group-containing copolymer (α)"). Is preferred.

카르복실기함유 공중합체(α)의 구체예로서는, (메타)아크릴산/메틸(메타)아크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질(메타)아크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/글리시딜(메타)아크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/글리시딜(메타)아크릴레이트/스티렌 공중합체, (메타)아크릴산/메틸(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로 모노머 공중합체, (메타)아크릴산/메틸(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머 공중합체, (메타)아크릴산/벤질(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로 모노머 공중합체, (메타)아크릴산/벤질(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머 공중합체, (메타)아크릴산/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로 모노머 공중합체, (메타)아크릴산/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머 공중합체, 메타크릴산/스티렌/벤질(메타)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체, (메타)아크릴산/숙신산 모노[2-(메타)아크릴로일옥시에틸]/스티렌/벤질(메타)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체, (메타)아크릴산/숙신산 모노[2-(메타)아크릴로일옥시에틸]/스티렌/알릴(메타)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체, (메타)아크릴산/스티렌/벤질(메타)아크릴레이트/글리세롤모노(메타)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체, (메타)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트/스티렌/벤질(메타)아크릴레이트/글리세롤모노(메타)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체 등을 들 수 있다.Specific examples of the carboxyl group-containing copolymer (α) include (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer, and (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl ( Meta) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / glycidyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / glycidyl (meth) acrylate / styrene copolymer, (meth ) Acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / Polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl ( (2) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer, methacrylic acid / styrene / Benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer, (meth) acrylic acid / succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide aerial Copolymer, (meth) acrylic acid / succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / styrene / allyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer, (meth) acrylic acid / styrene / benzyl (meth) Acrylate / glycerol mono (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer, (meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / styrene / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) Acrylate / N-phenylmaleic And the like can be de-copolymer.

카르복실기함유 공중합체에 있어서의 카르복실기함유 불포화 단량체의 공중합 비율은, 통상 5∼50질량%이며, 바람직하게는 10∼40질량%이다. 이 경우, 상기 공중합 비율이 5질량% 미만에서는 얻어지는 조성물의 알칼리 현상액에 대한 용해성이 저하되는 경향이 있고, 한편 50질량%를 넘으면 알칼리 현상액에 대한 용해성이 과대하게 되어, 알칼리 현상액에 의해 현상할 때에 스페이서층이나 화소의 기판으로부터의 탈락이나 스페이서 표면의 막거침을 야기하기 쉬워지는 경향이 있다.The copolymerization ratio of the carboxyl group-containing unsaturated monomer in the carboxyl group-containing copolymer is usually 5 to 50% by mass, preferably 10 to 40% by mass. In this case, when the said copolymerization ratio is less than 5 mass%, the solubility with respect to the alkaline developing solution of the composition obtained tends to fall, while when it exceeds 50 mass%, the solubility with respect to an alkaline developing solution will become excessive, and when developing with alkaline developing solution, It tends to be easy to cause the spacer layer or the pixel to fall off from the substrate and to cause film roughness on the surface of the spacer.

본 발명에 있어서의 (e)성분으로서는, 에틸렌성 불포화기를 측쇄에 갖는 알칼리 가용성 수지가, 얻어지는 경화막의 가교밀도가 향상되고, 도막강도, 내열성 및 내약품성이 향상된다고 하는 점에서 뛰어난 것으로 되기 때문에 바람직하다. As (e) component in this invention, since alkali-soluble resin which has an ethylenically unsaturated group in a side chain becomes excellent in the point that the crosslinking density of the cured film obtained improves, coating film strength, heat resistance, and chemical resistance improve. Do.

에틸렌성 불포화기를 측쇄에 갖는 알칼리 가용성 수지로서는, 카르복실기를 갖는 알칼리 가용성 수지가 바람직하다. 상기 수지로서는, 상기한 카르복실기함유 공중합체에, 에폭시기를 갖는 불포화 화합물(이하 「에폭시계 불포화 화합물」이라고 한다)을 부가한 것 등을 들 수 있다.As alkali-soluble resin which has an ethylenically unsaturated group in a side chain, alkali-soluble resin which has a carboxyl group is preferable. As said resin, what added the unsaturated compound which has an epoxy group (henceforth "epoxy unsaturated compound") to the said carboxyl group-containing copolymer is mentioned.

에폭시계 불포화 화합물로서는, 글리시딜(메타)아크릴레이트 및 시클로헥센옥사이드함유 (메타)아크릴레이트 등의 에폭시기함유 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.As an epoxy-type unsaturated compound, epoxy group containing (meth) acrylates, such as glycidyl (meth) acrylate and cyclohexene oxide containing (meth) acrylate, etc. are mentioned.

부가반응의 방법으로서는 통상적인 방법에 따르면 되고, 유기용매 중 또는 무용제에서, 카르복실기함유 공중합체에 에폭시계 불포화 화합물을 부가함으로써 제조할 수 있다. 부가반응의 조건으로서는, 각 반응에 따라 반응온도, 반응시간 및 촉매를 적당하게 선택하면 좋다.The addition reaction can be carried out according to a conventional method, and can be produced by adding an epoxy unsaturated compound to a carboxyl group-containing copolymer in an organic solvent or in a solvent-free solvent. As conditions for addition reaction, reaction temperature, reaction time, and a catalyst may be selected suitably according to each reaction.

(e)성분의 중량평균 분자량(이하 「Mw」라고 한다.)은 통상 3,000∼300,000, 바람직하게는 5,000∼100,000이다. 또, 수평균 분자량(이하 「Mn」이라고 한다.)은 통상 3,000∼60,000, 바람직하게는 5,000∼25,000이다.The weight average molecular weight (hereinafter referred to as "Mw") of the component (e) is usually 3,000 to 300,000, preferably 5,000 to 100,000. Moreover, a number average molecular weight (henceforth "Mn") is 3,000-60,000 normally, Preferably it is 5,000-25,000.

또한, 본 발명에 있어서 Mw 및 Mn은, 겔 투과 크로마토그래피(GPC, 용출용매: 테트라히드로푸란)로 측정한 분자량을 폴리스티렌 환산한 값을 의미한다.In addition, in this invention, Mw and Mn mean the value which carried out polystyrene conversion of the molecular weight measured by the gel permeation chromatography (GPC, eluting solvent: tetrahydrofuran).

본 발명에 있어서는, 이러한 특정한 Mw 및 Mn을 갖는 (e)성분을 사용함으로써, 현상성이 우수한 감광성 수지 조성물이 얻어지고, 그것에 의하여 샤프한 패턴 엣지를 갖는 패턴을 형성할 수 있음과 아울러, 현상시에 미노광부의 기판 상 및 차광층 상에 잔사, 바탕오염, 막 잔류 등이 발생하기 어려워진다. 또, (e)성분의 Mw와 Mn의 비(Mw/Mn)는 통상 1∼5, 바람직하게는 1∼4이다.In the present invention, by using the (e) component having such specific Mw and Mn, a photosensitive resin composition excellent in developability is obtained, whereby a pattern having a sharp pattern edge can be formed, and at the time of development Residues, ground contamination, film residues, etc. are less likely to occur on the substrate and the light shielding layer of the unexposed part. Moreover, ratio (Mw / Mn) of Mw and Mn of (e) component is 1-5 normally, Preferably it is 1-4.

(e)성분은 단독으로 또는 2종이상을 병용해서 사용할 수 있다.(e) A component can be used individually or in combination of 2 or more types.

(a)성분과 (e)성분의 비율로서는, 이들의 합계량을 기준으로 해서 (a)성분 10∼100질량% 및 (e)성분 0∼90질량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 (a)성분 30∼100질량% 및 (e)성분 0∼70질량%이다. (a)성분의 비율이 10질량%에 미치지 않으면 가교밀도가 저하하기 때문에 도막강도, 내열성, 내약품성이 저하되는 경향이 있다.As a ratio of (a) component and (e) component, 10-100 mass% of (a) component and 0-90 mass% of (e) component are preferable based on these total amounts, More preferably, (a) 30-100 mass% of components, and 0-70 mass% of (e) components. If the proportion of the component (a) is less than 10% by mass, the crosslinking density decreases, so that the coating film strength, heat resistance and chemical resistance tend to decrease.

(a)성분과 (e)성분의 조성물 중의 비율로서는, (a)성분과 (e)성분의 합계량으로서 조성물 중에 10∼50질량%가 바람직하다. 이 비율이 10질량%에 미치지 못하면 프리베이크 후의 막두께가 지나치게 얇아져버리고, 한편 50질량%를 넘으면 조성물의 점도가 지나치게 높아져서 도포성이 불량해지거나, 프리베이크 후의 막두께가 지나치게 두꺼워져버린다.As a ratio in the composition of (a) component and (e) component, 10-50 mass% is preferable in a composition as a total amount of (a) component and (e) component. If this ratio is less than 10 mass%, the film thickness after prebaking will become too thin. On the other hand, if it exceeds 50 mass%, the viscosity of a composition will become high too much, and applicability | paintability will become bad, or the film thickness after prebaking will become too thick.

4-2. 패턴 형성용 조성물4-2. Pattern Formation Composition

본 발명의 조성물은, 노광 감도가 높고 현상성이 매우 뛰어나며, 정밀하고 정확한 패턴을 형성할 수 있기 때문에 패턴 형성용 조성물로서 바람직하게 사용할 수 있다.Since the composition of this invention has high exposure sensitivity, is very excellent in developability, and can form a precise and accurate pattern, it can be used suitably as a composition for pattern formation.

본 발명의 조성물을 패턴 형성용 조성물로서 사용할 경우에는, (a), (b), (c) 및 (e)성분으로 이루어지는 조성물이 바람직하다.When using the composition of this invention as a composition for pattern formation, the composition which consists of (a), (b), (c) and (e) component is preferable.

상기 조성물을 사용하는 패턴 형성 방법으로서는 통상적인 방법에 따르면 되고, 조성물을 기판에 도포하고·건조시켜서 도막을 형성한 후, 이 위에서 특정한 패턴 형상을 갖는 마스크를 통해서 활성 에너지선을 조사해서 경화시키고, 미경화 부분을 현상액에 의해 현상하는 방법 등을 들 수 있다.As a pattern formation method using the said composition, it is following a conventional method, and after apply | coating a composition to a board | substrate and drying to form a coating film, it irradiates and hardens an active energy ray through the mask which has a specific pattern shape on this, The method of developing an unhardened part with a developing solution, etc. are mentioned.

기판으로서는 유리 및 플라스틱 등을 들 수 있다. 현상액으로서는 알칼리계의 현상액이 바람직하고, 구체예로서는 후기에 나타내는 바와 같다.Glass and plastics etc. are mentioned as a board | substrate. As a developing solution, an alkaline developing solution is preferable and it is as showing later in a specific example.

패턴 형성용 조성물로서는, 에칭 레지스트 및 솔더 레지스트 등의 레지스트, 액정 패널 제조에 있어서의 기둥형상 스페이서, 컬러필터에 있어서의 화소나 블랙 매트릭스 등을 형성을 위한 착색 조성물, 및 컬러필터 보호막 등을 들 수 있다.As a composition for pattern formation, resist, such as an etching resist and a soldering resist, a columnar spacer in liquid crystal panel manufacture, the coloring composition for forming pixels, a black matrix, etc. in a color filter, a color filter protective film, etc. are mentioned. have.

본 발명의 조성물은 이들의 용도 중에서도, 액정 패널 제조에 있어서의 기둥형상 스페이서용, 컬러필터용 착색 조성물, 및 컬러필터용 보호막의 용도에 의해 바람직하게 사용할 수 있다.The composition of this invention can be used suitably by the use of the columnar spacer in a liquid crystal panel manufacture, the coloring composition for color filters, and the protective film for color filters among these uses.

기둥형상 스페이서 및 컬러필터 보호막 용도로 사용할 경우에는, 도포성, 현상성을 개량하기 위해서 조성물에 폴리옥시에틸렌라우릴에테르 등의 비이온계 계면활성제나, 불소계 계면활성제를 첨가할 수도 있다. 또, 필요에 따라 접착 조제, 보존 안정제 및 소포제 등을 적당하게 첨가해도 좋다.When using for a columnar spacer and a color filter protective film use, in order to improve applicability | paintability and developability, you may add nonionic surfactant, such as polyoxyethylene lauryl ether, and fluorine-type surfactant. Moreover, you may add an adhesion | attachment adjuvant, a storage stabilizer, an antifoamer, etc. suitably as needed.

이하, 기둥형상 스페이서(이하 단지 「스페이서」라고 한다) 및 착색 조성물의 용도에 대하여 설명한다.Hereinafter, the use of a columnar spacer (hereinafter only referred to as "spacer") and a coloring composition is demonstrated.

4-2-1. 스페이서4-2-1. Spacer

스페이서는 포토리소그래피법에 의해 조성물의 광경화 도막으로 형성된다. 상기 스페이서는 액정 패널 기판의 임의의 장소에 임의의 크기로 형성할 수 있지만, 일반적으로는 컬러필터의 차광부인 블랙 매트릭스 영역이나, TFT 전극 상에 형성하는 일이 많다. 보다 구체적으로는, 유리 등의 기판 상에 형성된 화소 상에, 필요에 따라서 보호막을 통해서 형성된 ITO 등의 투명전극 상에 있어서 상기한 영역에 형성한다.The spacer is formed into a photocurable coating film of the composition by a photolithography method. Although the said spacer can be formed in arbitrary locations of a liquid crystal panel board | substrate, it is generally formed in the black matrix area | region which is a light shielding part of a color filter, or a TFT electrode. More specifically, it forms in the above-mentioned area | region on the pixel formed on the board | substrate, such as glass, on transparent electrodes, such as ITO, formed through the protective film as needed.

스페이서를 형성하는 방법으로서는 통상적인 방법에 따르면 되고, 예를 들면 본 발명의 조성물을 기판 상에 셀 갭을 구성하는데에 필요한 막두께로 도포한 후, 가열(이하 「프리베이크」라고 약기한다.)해서 도막을 건조시켜, 노광, 현상, 후가열(이하, 「포스트베이크」라고 약기한다) 공정을 거쳐서 형성하는 방법 등을 들 수 있다.As a method of forming a spacer, it should follow a conventional method, for example, after apply | coating the composition of this invention to the film thickness necessary for forming a cell gap on a board | substrate, heating (it abbreviates as "prebaking" hereafter.) Then, the method of drying a coating film, forming through a process of exposure, image development, post-heating (it abbreviates as "post-baking" hereafter), etc. are mentioned.

조성물을 기판 상에 도포할 때는, 현상, 포스트베이크 등에 의한 막감소나 변형을 고려하여, 셀 갭의 설계값에 대하여 약간 두껍게 도포한다. 구체적으로는, 프리베이크 후의 막두께가 5∼10㎛가 되도록, 또한 6∼7㎛가 되도록 하는 것이 바람직하다.When apply | coating a composition on a board | substrate, it apply | coats a little thick with respect to the design value of a cell gap in consideration of film | membrane reduction and deformation by image development, post-baking, etc. Specifically, it is preferable to make the film thickness after prebaking become 5-10 micrometers, and to be 6-7 micrometers.

도포방법으로서는, 예를 들면 인쇄법, 스프레이법, 롤 코트법, 바 코트법, 커튼 코트법, 스핀 코트법, 다이 코트법(슬릿 코트법) 등을 들 수 있고, 일반적으로는 스핀 코트법이나 다이 코트법을 사용한다.As the coating method, for example, a printing method, a spray method, a roll coating method, a bar coating method, a curtain coating method, a spin coating method, a die coating method (slit coat method), etc. may be mentioned. The die coat method is used.

기판 상에 조성물을 도포한 후 프리베이크를 행한다. 이 경우의 온도·시간으로서는 50∼150℃에서 5∼15분 정도를 들 수 있다.Prebaking is performed after apply | coating a composition on a board | substrate. As temperature and time in this case, about 5 to 15 minutes are mentioned at 50-150 degreeC.

프리베이크 후의 도막면에, 스페이서를 형성하기 위한 소정의 패턴 형상을 갖는 마스크를 통해서 광을 조사한다.Light is irradiated to the coating film surface after prebaking through the mask which has a predetermined pattern shape for forming a spacer.

사용하는 광은 자외선이나 가시광선이 바람직하고, 고압수은등이나 메탈할라이드램프 등으로부터 얻어지는 240㎚∼410㎚의 파장광을 사용한다.Ultraviolet light or visible light is preferable, and the light to be used uses wavelength light of 240 nm to 410 nm obtained from a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like.

광조사 조건은, 광원의 종류나 사용하는 광중합 개시제의 흡수 파장, 혹은 도막의 막두께 등에 의하지만, 대강 광조사량이 50∼600mJ/㎠로 되도록 하는 것이 바람직하다. 광조사량이 50mJ/㎠보다 작으면 경화 불량이 되어 현상시에 노광 부분이 탈락하기 쉽고, 한편, 광조사량이 600mJ/㎠보다 크면 정밀한 스페이서 패턴이 얻어지기 어려운 경향이 있다.Although light irradiation conditions are based on the kind of light source, the absorption wavelength of the photoinitiator to be used, the film thickness of a coating film, etc., it is preferable to make it the approximate amount of light irradiation 50-600mJ / cm <2>. If the amount of light irradiation is less than 50 mJ / cm 2, it becomes poor in curing and the exposed portion tends to fall off during development. On the other hand, if the amount of light irradiation is larger than 600 mJ / cm 2, a precise spacer pattern tends to be difficult to be obtained.

상기 도막면에 광조사 후, 현상액으로 미노광 부분을 제거한다.After irradiating the coating film surface, the unexposed part is removed with a developer.

현상액으로서는 알칼리 화합물의 수용액을 사용할 수 있다. 알칼리성 화합물로서는, 예를 들면 수산화칼륨, 수산화나트륨, 탄산나트륨, 탄산수소나트륨, 규산나트륨, 암모니아, 테트라메틸암모늄히드록시드 등을 들 수 있다. 또, 현상속도 촉진을 위해서 현상액에 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 및 벤질알코올 등의 수용성유기용제나, 각종 계면활성제를 적당량 첨가해도 좋다.As a developing solution, the aqueous solution of an alkali compound can be used. As an alkaline compound, potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, sodium silicate, ammonia, tetramethylammonium hydroxide, etc. are mentioned, for example. In addition, in order to promote the development speed, an appropriate amount of water-soluble organic solvents such as methanol, ethanol, isopropanol and benzyl alcohol and various surfactants may be added to the developing solution.

현상방법은, 액도포법, 딥핑법 및 스프레이법 등의 어느 것이라도 좋다. 현상 후, 패턴 부분을 0.5∼1.5분간 물로 세정하고, 압축공기 등으로 바람으로 건조시켜서 스페이서 패턴을 얻는다.The developing method may be any of a liquid coating method, a dipping method and a spray method. After the development, the pattern portion is washed with water for 0.5 to 1.5 minutes and dried by compressed air or the like to obtain a spacer pattern.

얻어진 스페이서 패턴을 핫플레이트, 오븐 등의 가열 장치로 150∼350℃의 온도범위에서 포스트베이크하여, 본 발명의 액정 패널 스페이서를 얻는다.The obtained spacer pattern is post-baked in the temperature range of 150-350 degreeC with heating apparatuses, such as a hotplate and oven, and the liquid crystal panel spacer of this invention is obtained.

포스트베이크함으로써, 잔류 용제나 현상시에 흡수한 수분을 휘발시킬 수 있고, 또한 스페이서의 내열성을 향상시킬 수 있다. 스페이서의 막두께는 액정 패널의 셀 갭 설정값에 따라 다르지만, 대강 포스트베이크 후에 3∼5㎛가 되도록 설계한다.By post-baking, the residual solvent and the water absorbed at the time of image development can volatilize, and the heat resistance of a spacer can be improved. Although the film thickness of a spacer changes with the cell gap setting value of a liquid crystal panel, it is designed so that it may become 3-5 micrometers after a rough postbaking.

본 발명의 조성물을 스페이서 제조에 사용할 경우, 초미소 경도계[(주)피셔 인스트루먼트 제, H-100C]를 사용하여, 실온에 있어서 평면압자(100㎛×100㎛의 평면을 형성한 압자)의 압축 하중이 0.2GPa가 되는 조건에서 측정했을 때의 탄성변형율[(탄성변형율/총변계량)×100]이 60%이상인 것이 바람직하다. When the composition of the present invention is used for spacer production, compression of a planar indenter (indenter having a flat surface of 100 µm x 100 µm) is performed at room temperature using an ultra-small hardness tester (manufactured by Fischer Instruments Co., Ltd., H-100C). It is preferable that the elastic strain ([elastic strain / total strain measurement) × 100] measured at the condition that the load becomes 0.2 GPa is 60% or more.

이러한 조성물을 사용함으로써, 실온하에서 압축하중에 대하여 소성변형하기 어려운 충분한 경도와, 액정표시장치의 사용 환경온도 영역 내에서의 액정수축 및 팽창에 추종할 수 있는 유연함을 갖고 있다. 따라서, 본 발명에 의해 얻어지는 액정 패널용 기판은, 실온 셀 압착법에 의해 접합을 행할 경우에 소성변형을 일으키지 않고, 정확하고 또한 균일한 셀 갭을 형성할 수 있고, 특히 ODF법에 있어서 실온 셀 압착을 행할 경우에도 적합하게 이용할 수 있다.By using such a composition, it has sufficient hardness that it is hard to plastically deform with respect to a compression load at room temperature, and has the flexibility to track liquid crystal shrinkage and expansion in the use environment temperature range of a liquid crystal display device. Therefore, the liquid crystal panel substrate obtained by the present invention can form an accurate and uniform cell gap without causing plastic deformation when bonding by the room temperature cell crimping method, and particularly in the ODF method. Also when crimping | bonding is used, it can use suitably.

4-2-2. 착색 조성물4-2-2. Coloring composition

본 발명의 조성물을 착색 조성물로서 사용할 경우에는, 안료 및 안료 분산제를 더 배합한다. 이하, 이들의 성분에 대하여 설명한다.When using the composition of this invention as a coloring composition, a pigment and a pigment dispersant are further mix | blended. Hereinafter, these components are demonstrated.

안료는 특별하게 한정되지 않고, 여러 가지의 유기 또는 무기안료를 사용할 수 있다.The pigment is not particularly limited, and various organic or inorganic pigments can be used.

유기안료의 구체예로서는, 컬러 인덱스(C.I.; The Society of Dyers and Colourists사 발행)에 있어서 피그먼트(Pigment)로 분류되어 있는 화합물, 즉, 하기와 같은 컬러 인덱스(C.I.) 번호가 부여되어 있는 것을 들 수 있다. C.I. 피그먼트옐로 1, C.I. 피그먼트 옐로 3, C.I. 피그먼트 옐로 12, C.I. 피그먼트 옐로 13, C.I. 피그먼트 옐로 83, C.I. 피그먼트 옐로 138, C.I. 피그먼트 옐로 139, C.I. 피그먼트 옐로 150, C.I. 피그먼트 옐로 180, C.I. 피그먼트 옐로 185 등의 옐로계 피그먼트; C.I. 피그먼트 레드 1, C.I. 피그먼트 레드 2, C.I. 피그먼트 레드 3, C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 254 등의 레드계 피그먼트; 및 C.I. 피그먼트 블루 15, C.I. 피그먼트 블루 15:3, C.I. 피그먼트 블루 15:4, C.I. 피그먼트 블루 15:6 등의 블루계 피그먼트; C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36 등의 그린계 피그먼트; C.I. 피그먼트 바이올렛 23, C.I. 피그먼트 바이올렛 23:19 등.As a specific example of an organic pigment, the compound classified as pigment in the color index (Issue of The Society of Dyers and Colourists), ie, the thing assigned the following color index (CI) number is mentioned. Can be. C.I. Pigment Yellow 1, C.I. Pigment Yellow 3, C.I. Pigment Yellow 12, C.I. Pigment Yellow 13, C.I. Pigment Yellow 83, C.I. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment Yellow 139, C.I. Pigment Yellow 150, C.I. Pigment Yellow 180, C.I. Yellow-based pigments such as Pigment Yellow 185; C.I. Pigment Red 1, C.I. Pigment Red 2, C.I. Pigment Red 3, C.I. Pigment Red 177, C.I. Red pigments such as Pigment Red 254; And C.I. Pigment Blue 15, C.I. Pigment Blue 15: 3, C.I. Pigment Blue 15: 4, C.I. Blue pigments such as Pigment Blue 15: 6; C.I. Pigment Green 7, C.I. Green pigments such as pigment green 36; C.I. Pigment Violet 23, C.I. Pigment violet 23:19 et al.

또, 종래 분산 곤란하였던 브롬화율이 높은 프탈로시아닌, 예를 들면 모나스트랄 그린 6YC, 9YC(아비시아 가부시키가이샤 제)의 고휘도 G안료, 중심금속이 동 이외의 금속, 예를 들면 Mg, Al, Si, Ti, V, Mn, Fe, Co, Ni, Zn, Ge, Sn 등의 이종 금속 프탈로시아닌 안료로 이루어지는 고색순도 G안료를 사용할 수 있다.In addition, phthalocyanine having a high bromination ratio, which is difficult to disperse conventionally, for example, high brightness G pigment of Monastral Green 6YC and 9YC (manufactured by Abyssia Co., Ltd.), and the central metal is a metal other than copper, for example, Mg, Al, Si High color purity G pigments composed of dissimilar metal phthalocyanine pigments such as, Ti, V, Mn, Fe, Co, Ni, Zn, Ge and Sn can be used.

또, 상기 무기안료의 구체예로서는, 산화티탄, 황산바륨, 탄산칼슘, 아연화, 황산납, 황색납, 아연황, 벵갈라(적색 산화철(III)), 카드뮴 빨강, 군청, 산화크롬 초록, 코발트 초록, 엄버, 티타늄 블랙, 합성 철흑, 카본블랙 등을 들 수 있다. 본 발명에 있어서 안료는 단독으로 또는 2종이상을 혼합해서 사용할 수 있다.Specific examples of the inorganic pigments include titanium oxide, barium sulfate, calcium carbonate, zincated, lead sulfate, lead yellow, zinc sulfur, bengal (red iron oxide (III)), cadmium red, ultramarine blue, chromium oxide green, cobalt green, Umber, titanium black, synthetic iron black, carbon black, etc. are mentioned. In this invention, a pigment can be used individually or in mixture of 2 or more types.

안료 분산액은, 이들 안료 중에서도 액정표시장치용 컬러필터에 범용되고 있는 각종의 안료에 대하여 뛰어난 분산성을 부여할 수 있고, 구체적으로는, C.I. 피그먼트 옐로 150, C.I. 피그먼트 그린 36, C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 옐로 138, C.I. 피그먼트 옐로 83, C.I. 피그먼트 블루 15:6, C.I. 피그먼트 바이올렛 23, C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 254 및, C.I. 피그먼트 옐로 139, 브롬화율이 높은 상기 프탈로시아닌 안료, 상기 이종 금속 프탈로시아닌 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 함유하는 안료 분산액을 조제할 경우에 적합하게 사용할 수 있다.Among these pigments, the pigment dispersion liquid can impart excellent dispersibility to various pigments that are commonly used in color filters for liquid crystal display devices, and specifically, C.I. Pigment Yellow 150, C.I. Pigment Green 36, C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment Yellow 83, C.I. Pigment Blue 15: 6, C.I. Pigment Violet 23, C.I. Pigment Red 177, C.I. Pigment Red 254 and C.I. Pigment yellow 139, the said phthalocyanine pigment with a high bromination rate, and the pigment dispersion containing at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of the said dissimilar metal phthalocyanine pigment can be used suitably.

안료 분산제는 특별하게 한정되지 않고, 여러 가지의 안료 분산제를 사용할 수 있다.The pigment dispersant is not particularly limited, and various pigment dispersants may be used.

사용가능한 안료 분산제로서 구체예에는, 노나노아미드, 데칸아미드, 도데칸아미드, N-도데실헥사아미드, N-옥타데실프로피오아미드, N,N-디메틸도데칸아미드 및 N,N-디헥실아세트아미드 등의 아미드 화합물, 디에틸아민, 디헵틸아민, 디부틸헥사데실아민, N,N,N',N'-테트라메틸메탄아민, 트리에틸아민, 트리부틸아민 및 트리옥틸아민 등의 아민 화합물, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, N,N,N',N'-(테트라히드록시에틸)-1,2-디아미노에탄, N,N,N'-트리(히드록시에틸)-1,2-디아미노에탄, N,N,N',N'-테트라(히드록시에틸폴리옥시에틸렌)-1,2-디아미노 에탄, 1,4-비스(2-히드록시에틸)피페라진 및 1-(2-히드록시에틸)피페라진 등의 히드록시기를 갖는 아민 등을 예시할 수 있고, 그 밖에 니페코타미드, 이소니페코타미드, 니코틴산 아미드 등의 화합물을 들 수 있다.Specific examples of pigment dispersants that can be used include nonanoamide, decanamide, dodecaneamide, N-dodecylhexaamide, N-octadecylpropioamide, N, N-dimethyldodecaneamide and N, N-dihexyl. Amide compounds such as acetamide, amines such as diethylamine, diheptylamine, dibutylhexadecylamine, N, N, N ', N'-tetramethylmethaneamine, triethylamine, tributylamine and trioctylamine Compound, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N, N, N ', N'-(tetrahydroxyethyl) -1,2-diaminoethane, N, N, N'-tri (hydroxyethyl ) -1,2-diaminoethane, N, N, N ', N'-tetra (hydroxyethylpolyoxyethylene) -1,2-diamino ethane, 1,4-bis (2-hydroxyethyl) Amine etc. which have hydroxyl groups, such as a piperazine and 1- (2-hydroxyethyl) piperazine, etc. can be illustrated, In addition, compounds, such as nipopetamide, isonipecotamide, and nicotinic acid amide, are mentioned. have.

또한, 폴리아크릴산 에스테르 등의 불포화 카르복실산 에스테르의 (공)중합체류; 폴리아크릴산 등의 불포화 카르복실산 에스테르의 (공)중합체의 (부분)아민 염, (부분)암모늄염이나 (부분)알킬아민염류; 수산기함유 폴리아크릴산 에스테르 등의 수산기함유 불포화 카르복실산 에스테르의 (공)중합체나 그들의 변성물; 폴리우레탄류; 불포화 폴리아미드류; 폴리실록산류; 장쇄 폴리아미노아미드인산염류; 폴리(저급 알킬렌이민)과 유리 카르복실기함유 폴리에스테르의 반응에 의해 얻어지는 아미드나 그들의 염류를 들 수 있다.Moreover, (co) polymers of unsaturated carboxylic ester, such as polyacrylic acid ester; (Partial) amine salts, (partial) ammonium salts and (partial) alkylamine salts of (co) polymers of unsaturated carboxylic acid esters such as polyacrylic acid; (Co) polymers and modified substances of hydroxyl group-containing unsaturated carboxylic acid esters such as hydroxyl group-containing polyacrylic acid esters; Polyurethanes; Unsaturated polyamides; Polysiloxanes; Long-chain polyaminoamide phosphates; Amides and salts thereof obtained by the reaction of poly (lower alkyleneimine) and free carboxyl group-containing polyesters may be mentioned.

또, 분산제의 시판품으로서, 시게녹스-105(상품명, 핫콜케미컬사 제), Disperbyk-101, 동-130, 동-140, 동-170, 동-171, 동-182, 동-2001[이상, 빅 케미 재팬(주)제], EFKA-49, 동-4010, 동-9009(이상, EFKA CHEMICALS사 제), 솔스파스12000, 동13240, 동13940, 동17000, 동20000, 동24000GR, 동24000SC, 동27000, 동28000, 동33500[이상, 제네카(주)제], PB821, 동822[이상, 아지노모토(주)제] 등을 들 수 있다.Moreover, as a commercial item of a dispersing agent, Shigenox-105 (brand name, the product made by Hot Call Chemical Co., Ltd.), Disperbyk-101, copper-130, copper-140, copper-170, copper-171, copper-182, copper-2001 [more than, Big Chemie Japan Co., Ltd.], EFKA-49, copper -4010, copper-9009 (more than, made in EFKA CHEMICALS company), sole spas 12000, copper 13240, copper 13940, copper 17000, copper 20000, copper 24000GR, copper 24000SC, 27000, 28000, 33500 (above, made by Geneka Co., Ltd.), PB821, 822 (above, made by Ajinomoto Co., Ltd.), etc. are mentioned.

안료 분산제는, 안료 100질량부에 대하여 통상은 10∼90질량부, 바람직하게는 20∼80질량부의 비율로 사용한다.A pigment dispersant is 10-90 mass parts normally with respect to 100 mass parts of pigments, Preferably it uses in the ratio of 20-80 mass parts.

착색 조성물에는, 또한 필요에 따라 자외선 차단제, 자외선 흡수제, 표면조정제(레벨링제) 및 그 밖의 성분을 배합해도 좋다.You may mix | blend a sunscreen, a ultraviolet absorber, a surface conditioner (leveling agent), and other components with a coloring composition as needed.

착색 조성물은, (a)성분, 안료, 안료 분산제 및 필요에 따라 기타의 성분을, (c)성분에 직접 혼합하고, 공지의 분산기를 이용하여 분산시킴으로써 제조해도 좋지만, 안료분산이 불충분하게 되는 일이 있기 때문에 미리 안료 분산액을 조제하는 방법이 바람직하다.Although the coloring composition may be manufactured by mixing (a) component, a pigment, a pigment dispersing agent, and other components directly to (c) component as needed, and disperse | distributing using a well-known dispersing machine, pigment dispersion becomes inadequate Since this exists, the method of preparing a pigment dispersion liquid previously is preferable.

이 방법에 의하면, 안료 분산성이 우수한 감광성 착색 조성물을 용이하게 얻을 수 있다. 이 방법에서는, 특히 (e)성분을 배합할 경우에 있어서, 안료, 안료 분산제 및 필요에 따라 일부의 (e)성분을 분산하기 위한 용제(이하 「분산 용제」라고 한다)에 혼합, 분산시킴으로써 안료 분산액을 미리 조제한다. 한편, 이것과는 별도로 (a)성분 및 필요에 따라 (e)성분이나 다른 성분을 희석하기 위한 용제(이하 「희석 용제」라고 한다)에 혼합해 용해 또는 분산시킴으로써, 클리어 레지스트액을 조제한다. 그리고, 얻어진 안료 분산액과 클리어 레지스트액을 혼합하고, 필요에 따라서 분산 처리를 행함으로써, 안료 분산성이 우수한 착색 조성물이 용이하게 얻어진다. 이 방법에 의하면 분산 용제 및 희석 용제를 각각 선택할 수 있으므로 용제 선택의 폭도 넓어진다.According to this method, the photosensitive coloring composition excellent in the pigment dispersibility can be obtained easily. In this method, especially when mix | blending (e) component, a pigment is mixed and disperse | distributed to the pigment, a pigment dispersing agent, and the solvent for disperse | distributing some (e) component as needed (henceforth a "dispersion solvent"). The dispersion is prepared in advance. On the other hand, a clear resist liquid is prepared by mixing and dissolving or disperse | distributing (a) component and the solvent for diluting (e) component and another component (henceforth "dilution solvent") separately as needed. And the coloring composition excellent in pigment dispersibility is obtained easily by mixing the obtained pigment dispersion liquid and clear resist liquid, and performing a dispersion process as needed. According to this method, since a dispersion solvent and a dilution solvent can be selected, a wide range of solvent selection is also possible.

안료 분산액을 예비 조제하지 않을 경우에는, 유기용제에 우선, 안료, 안료 분산제, 및 필요에 따라 알칼리 가용성 수지를 투입해 충분히 혼합, 교반해서 안료를 분산시킨 후, 카르복실기함유 다관능 아크릴레이트 등의 나머지의 성분을 추가해서 혼합함으로써, 안료의 분산 공정에 있어서 그 밖의 배합 성분에 의해 안료 분산성이 저해되지 않고 완료될 뿐만 아니라, 안정성도 뛰어나다.In the case of not preliminarily preparing a pigment dispersion, first, a pigment, a pigment dispersant, and an alkali-soluble resin are added to the organic solvent, if necessary, sufficiently mixed and stirred to disperse the pigment, and then the remainder of the carboxyl group-containing polyfunctional acrylate and the like. By adding and mixing the components of, the pigment dispersibility is completed without being inhibited by other compounding components in the pigment dispersion step, and also excellent in stability.

얻어진 착색 조성물을 사용하는 착색층의 형성 방법으로서는 통상적인 방법에 따르면 된다. 구체적으로는, 조성물을 기판에 도포해서 도막을 형성하고 건조시킨 후, 상기 도막에 광선을 소정의 패턴상으로 조사함으로써 도막의 일부를 선택적으로 경화시킨 후, 알칼리액으로 현상 후 포스트베이크를 행하고, 또한 열경화함으로써 소정 패턴의 착색 도막이 얻어진다. What is necessary is just to follow a conventional method as a formation method of the colored layer using the obtained coloring composition. Specifically, after the composition is applied to a substrate to form a coating film and dried, a part of the coating film is selectively cured by irradiating the coating film with light rays in a predetermined pattern, followed by post-baking after development with an alkaline liquid, In addition, a colored coating film having a predetermined pattern is obtained by thermosetting.

사용하는 광은 자외선이나 가시광선이 바람직하고, 고압수은등이나 메탈할라이드램프 등으로부터 얻어지는 240㎚∼410㎚의 파장광을 사용한다. 경화에 필요한 조사 에너지는 통상 10∼500mJ/㎠ 정도이다. 노광 공정에 있어서는, 도막의 표면에 레이저광을 조사하거나, 또는 마스크를 통해서 광선을 조사함으로써 도막의 소정 위치를 선택적으로 노광, 경화시킬 수 있다.Ultraviolet light or visible light is preferable, and the light to be used uses wavelength light of 240 nm to 410 nm obtained from a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like. Irradiation energy required for hardening is about 10-500 mJ / cm <2> normally. In an exposure process, the predetermined position of a coating film can be selectively exposed and hardened by irradiating a laser beam to the surface of a coating film, or irradiating a light ray through a mask.

또, 열경화는 통상 진공건조기, 오븐, 핫플레이트, 또는 그 밖의 열을 줄수 있는 장치를 이용하여 50∼200℃에서 건조하고, 그 후 120∼250℃ 정도의 온도에서 가열해서 경화시킨다.In addition, thermosetting is generally dried at 50-200 degreeC using a vacuum dryer, oven, a hotplate, or other apparatus which can give heat, and it hardens by heating at the temperature of about 120-250 degreeC after that.

도막 중의 경화된 부분은, 상기 본 발명에 따른 광경화 반응 및 열경화 반응에 의해 형성된 가교결합의 네트워크에 의해 형성된 매트릭스 중에, 안료가 균일하게 분산된 구조를 갖고 있다.The hardened part in the coating film has a structure in which the pigment is uniformly dispersed in the matrix formed by the crosslinking network formed by the photocuring reaction and the thermosetting reaction according to the present invention.

이 착색 조성물은 경화성이 뛰어나고, 가교밀도가 상승하여 내부까지 균일하게 잘 굳어지기 때문에, 현상시에 역테이퍼가 되기 어렵고, 순테이퍼 형상이며 엣지가 샤프하고 또한 표면평활성이 양호한 패턴이 형성된다.Since this coloring composition is excellent in sclerosis | hardenability, and crosslinking density rises and it hardens uniformly to the inside, it is hard to become an inverse taper at the time of image development, and a pattern which is a forward taper shape, a sharp edge, and a favorable surface smoothness is formed.

또, 본 발명의 착색 조성물은 경화시에 내부까지 잘 굳어진 가교밀도가 높은 매트릭스 중 내에 불순물이 가두어져서 액정층에 용출하기 어렵기 때문에, 전기신뢰성이 높은 착색 경화막이 얻어진다. 특히, 이 착색 조성물을 이용하여 액정 패널의 착색층을 제작할 경우에는, 표시부의 전압을 안정되게 유지하는 것이 가능하며, 전기신뢰성이 높다. Moreover, since the impurity is trapped in the matrix of the high crosslinking density hardened to the inside at the time of hardening, and it is hard to elute to a liquid crystal layer, the coloring composition of this invention obtains a highly cured colored cured film. In particular, when producing the colored layer of a liquid crystal panel using this coloring composition, it is possible to keep the voltage of a display part stably, and high electrical reliability.

또, 상기 착색 조성물은 고농도의 안료를 미세 또한 균일하게 분산시킬 수 있고, 착색성이 높기 때문에, 얇아도 착색 농도가 큰 착색 패턴을 형성할 수 있고, 색재현 영역이 넓다.Moreover, since the said coloring composition can disperse | distribute a pigment of high concentration finely and uniformly, and since coloring property is high, it can form the coloring pattern with a large coloring density, even if it is thin, and a wide color reproduction area | region.

착색 조성물은 여러 가지의 착색 도막을 형성하는데에 이용할 수 있지만, 특히 컬러필터의 세부를 구성하는 착색층, 즉, 화소나 블랙 매트릭스를 형성하는데에 적합하다.Although a coloring composition can be used for forming various colored coating films, it is especially suitable for forming the colored layer which comprises the detail of a color filter, ie, a pixel or a black matrix.

[발명의 효과][Effects of the Invention]

본 발명의 조성물은, 경화성 및 알칼리 현상성이 우수한 (a)성분을 필수로 하기 때문에, 활성 에너지선 경화형 패턴 형성용 조성물로서 사용했을 경우, 노광 감도가 높고 현상성이 양호하며, 정밀하고 정확한 패턴을 형성할 수 있고, 또한 경화 후에 있어서 도막강도, 내열성 및 내약품성 등의 모든 물성이 뛰어난 것이 된다.Since the composition of this invention requires (a) component which is excellent in sclerosis | hardenability and alkali developability, when used as a composition for active-energy-ray-curable pattern formation, it has high exposure sensitivity, good developability, and a precise and accurate pattern. Can be formed, and after curing, excellent physical properties such as coating film strength, heat resistance and chemical resistance are obtained.

또, 본 발명의 조성물은 알칼리 가용성 수지(e)성분을 함유하지 않더라도 패턴 제작이 가능하고, (e)성분을 배합할 경우라도 그 배합 비율을 줄이는 것이 가능하기 때문에, 상대적으로 가교성 성분인 (a)성분의 비율을 많게 배합할 수 있다.In addition, the composition of the present invention can be produced even without containing the alkali-soluble resin (e) component, and even when the component (e) is blended, the blending ratio can be reduced. The ratio of a) component can be mix | blended a lot.

또한 본 발명의 조성물은, 경화 후에 실온에서의 탄성이 높기 때문에 패턴의 소성변형이 일어나기 어려운 점에서 뛰어나고, 특히 기둥형상 스페이서 및 컬러필터 보호막을 형성하는데에 알맞고, 또 알칼리 현상성이 뛰어나기 때문에 착색층을 형성하는데에 알맞다.Furthermore, since the composition of the present invention has high elasticity at room temperature after curing, it is excellent in that plastic deformation of the pattern is unlikely to occur, and is particularly suitable for forming columnar spacers and color filter protective films, and is excellent in alkali developability. Suitable for forming a layer.

본 발명은 상기 (a)성분을 필수로 하는 활성 에너지선 경화형 조성물에 관한 것이다.This invention relates to the active-energy-ray-curable composition which makes the said (a) component essential.

(a)성분으로서는 상기 (a-1)∼(a-3)의 화합물로부터 선택되는 1종이상이 바람직하다. As (a) component, 1 or more types chosen from the compound of said (a-1)-(a-3) is preferable.

또한, (a)성분으로서는 히드록실기를 더 갖는 (a2)의 화합물이 바람직하다. (a2)로서는 (a2-1)의 화합물이 바람직하다.Moreover, as (a) component, the compound of (a2) which has a hydroxyl group further is preferable. As (a2), the compound of (a2-1) is preferable.

또한, (a)성분 및 (a2)로서는 상기 (a3-1)의 화합물이 더욱 바람직하다.Moreover, as (a) component and (a2), the compound of said (a3-1) is more preferable.

본 발명의 조성물로서는, 또한 (b)성분을 함유하는 것 또는/및 (c)성분을 함유하는 것이 바람직하다.As the composition of the present invention, it is preferable to further contain the component (b) or / and the component (c).

본 발명의 조성물은 패턴 형성 용도에 바람직하게 사용할 수 있고, 이 경우, (e)성분을 더 함유하여 이루어지는 것이 바람직하다.The composition of this invention can be used suitably for a pattern formation use, and in this case, it is preferable to contain (e) component further.

패턴 형성용 조성물로서는, 또한 기둥형상 스페이서용 조성물, 컬러필터 보 호용 조성물 또는 컬러필터용 착색 조성물로서 바람직하게 사용할 수 있다.As a composition for pattern formation, it can also use suitably as a composition for columnar spacers, the composition for color filter protection, or the coloring composition for color filters.

[실시예]EXAMPLE

이하, 실시예 및 비교예를 들어, 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다.Hereinafter, an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated more concretely.

또한, 이하에 있어서 「부」란 질량부를 의미하고, 「%」란 질량%를 의미한다.In addition, below, a "part" means a mass part and "%" means a mass%.

○제조예 1[(a-1)의 제조]○ Production example 1 [production of (a-1)]

교반장치, 온도계, 수냉 콘덴서를 구비한 500㎖ 유리제 플라스크에, 에탄올 110g, 디펜타에리스리톨펜타 및 헥사아크릴레이트를 30:70(질량비)으로 함유하는 아크릴레이트 혼합물, 수산기값 36mgKOH/g, 이하 「g1」이라고 한다] 100g을 넣고, 프롤린 10g을 실온에서 투입 후, 4시간 반응을 행하였다. 반응은 공기 분위기하에서 행하였다.An acrylate mixture containing 110 g of ethanol, dipentaerythritol penta, and hexaacrylate in a 30:70 (mass ratio) in a 500 ml glass flask equipped with a stirring device, a thermometer and a water-cooled condenser; 100 g was added, and 10 g of proline was added at room temperature, followed by reaction for 4 hours. The reaction was carried out in an air atmosphere.

그 결과, 산가 45mgKOH/g(고형분 환산)의 (a-1)(이하 「a1」이라고 한다)을 고형분으로서 50% 함유하는 용액을 얻었다.As a result, a solution containing 50% of (a-1) (hereinafter referred to as "a1") having an acid value of 45 mgKOH / g (solid content conversion) was obtained.

○제조예 2[(a2-1)의 제조]○ Production example 2 [production of (a2-1)]

제조예 1과 같은 플라스크에 무수 숙신산 16g, g1의 250g, 메토퀴논 0.13g을 넣고, 85℃로 승온했다. 그 속에 촉매인 트리에틸아민 1.3g을 투입 후, 4시간 반응을 행했다. 반응은 공기/질소의 혼합 분위기하에서 행하여, 산가 34mgKOH/g의 화합물(이하 「h1」이라고 한다)을 얻었다.16 g of succinic anhydride, 250 g of g1, and 0.13 g of metoquinone were put into the flask like the manufacture example 1, and it heated up at 85 degreeC. After adding 1.3 g of triethylamine as a catalyst therein, the reaction was carried out for 4 hours. The reaction was carried out under a mixed atmosphere of air / nitrogen to obtain a compound having an acid value of 34 mg KOH / g (hereinafter referred to as "h1").

이어서, 별도의 플라스크에 DMDG[니폰유카자이(주)제:상품명 DMDG, 이하 「DMDG」라고 한다] 103g, g1의 100g을 넣고, 에탄올아민 2.6g을 실온에서 투입 후, 공기 분위기하에서 4시간 반응을 행하였다.Subsequently, 103 g of DMDG (Nippon Yukazai Co., Ltd. make: brand name DMDG, hereinafter referred to as "DMDG") and 100 g of g1 were added thereto, and 2.6 g of ethanolamine was added at room temperature, followed by reaction for 4 hours in an air atmosphere. Was performed.

이것에 의해 산가 33mgKOH/g(고형분 환산), 수산기값(고형분 환산) 23mgKOH/g의 (a2-1)(이하 「a2」라고 한다)을 고형분으로서 50% 함유하는 용액을 얻었다.This obtained the solution which contains 50% of (a2-1) (henceforth "a2") of acid value 33 mgKOH / g (solid content conversion) and hydroxyl value (solid content conversion) 23 mgKOH / g as solid content.

또한, h1은 비교예 2, 5, 8 및 11에서도 사용했다.H1 was also used in Comparative Examples 2, 5, 8 and 11.

○제조예 3[(a3-1)의 제조]○ Production example 3 [production of (a3-1)]

제조예 1과 같은 플라스크에 DMDG 114g, g1의 100g을 넣고, 에탄올아민 5.4g을 실온에서 투입 후, 4시간 반응을 행하였다. 반응은 공기 분위기하에서 행하였다.Into the same flask as in Production Example 1, 114 g of DMDG and 100 g of g1 were added, and 5.4 g of ethanolamine was added at room temperature, followed by reaction for 4 hours. The reaction was carried out in an air atmosphere.

그 후에 무수 숙신산 15g, 트리에틸아민 0.6g, 메토퀴논 0.06g을 넣고, 85℃로 승온하여 8시간 반응을 행했다. 반응은 공기/질소의 혼합 분위기하에서 행하였다. Thereafter, 15 g of succinic anhydride, 0.6 g of triethylamine, and 0.06 g of metoquinone were added thereto, and the temperature was raised to 85 ° C. for reaction for 8 hours. The reaction was carried out in a mixed atmosphere of air / nitrogen.

그 결과, 산가 70mgKOH/g(고형분 환산)의 (a3-1)(이하 「a3」이라고 한다)을 고형분으로서 50% 함유하는 용액을 얻었다.As a result, a solution containing 50% of (a3-1) (hereinafter referred to as "a3") having an acid value of 70 mgKOH / g (solid content conversion) was obtained.

○제조예 4[(e)성분의 제조]○ Production example 4 [production of (e) component]

교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소도입관을 구비한 분리가능한 플라스크에, 벤질메타크릴레이트를 52%, 아크릴산을 23%, DMDG를 모노머 합계량에 대하여 2배량, 2,2'-아조비스(2-메틸부틸로니트릴)을 모노머의 합계량에 대하여 10% 첨가하고, 균일하게 용해시켰다. 그 후에 질소기류하에서, 85℃에서 2시간 교반하고, 또한 100℃에서 1시간 반응시켰다. 또한 얻어진 용액에 글리시딜메타크릴 레이트를 25%, 트리에틸아민을 글리시딜메타크릴레이트에 대하여 10%, 하이드로퀴논을 글리시딜메타크릴레이트에 대하여 1%, 및 투입한 모노머와 글리시딜메타크릴레이트를 합친 중량이 35%가 되도록 DMDG를 첨가하고, 100℃에서 5시간 교반하여 목적으로 하는 공중합체 용액(고형분 농도 31.5%)을 얻었다.In a detachable flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, dropping lot and nitrogen introduction conduit, 52% benzyl methacrylate, 23% acrylic acid, 2 times DMDG, 2,2'-azo Bis (2-methylbutylonitrile) was added 10% with respect to the total amount of the monomers and dissolved uniformly. Thereafter, the mixture was stirred at 85 ° C for 2 hours under a nitrogen stream, and further reacted at 100 ° C for 1 hour. In the solution thus obtained, glycidyl methacrylate was 25%, triethylamine was 10% to glycidyl methacrylate, hydroquinone was 1% to glycidyl methacrylate, and the monomer and glycine added DMDG was added so that the combined weight of dimethyl methacrylate could be 35%, and it stirred at 100 degreeC for 5 hours, and obtained the target copolymer solution (solid content concentration 31.5%).

얻어진 (e)성분(이하 「e1」이라고 한다)의 Mw는 14,200이고, 산가는 84mgKOH/g, 수산기값은 96mgKOH/g이었다.Mw of the obtained (e) component (henceforth "e1") was 14,200, the acid value was 84 mgKOH / g and the hydroxyl value was 96 mgKOH / g.

○비교 제조예 1[(i1)성분의 제조]○ Comparative Production Example 1 [Production of (i1) Component]

교반장치, 온도계, 수냉 콘덴서를 구비한 500㎖ 유리제 플라스크에, DMDG 91g, 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산 2무수물[신닛폰리카(주)제:상품명 리카싯도 T-100, 이하 「BT-100」이라고 한다] 10g, g1의 150g, 메토퀴논 0.08g을 넣고, 95℃로 승온했다. 그 속에 트리에틸아민 0.8g을 투입한 후, 8시간 반응을 행했다. 반응은 공기/질소의 혼합 분위기하에서 행하였다.DMDG 91g, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid dianhydride [manufactured by Shin-Nippon Rika Co., Ltd .: product name: Rikashitdo T-100 in a 500 ml glass flask equipped with a stirring device, a thermometer, and a water-cooled condenser. 10 g, 150 g of g1, and 0.08 g of metoquinone were put, and it heated up at 95 degreeC. After 0.8 g of triethylamine was added thereto, the reaction was carried out for 8 hours. The reaction was carried out in a mixed atmosphere of air / nitrogen.

그 결과, 산가 34mgKOH/g의 화합물(이하 [i1」이라고 한다)을 고형분으로서 65% 함유하는 용액을 얻었다.As a result, a solution containing 65% of a compound having an acid value of 34 mg KOH / g (hereinafter referred to as [i1]) as a solid content was obtained.

○실시예 1∼6, 비교예 1∼6(스페이서 또는 보호막용 수지 조성물)○ Examples 1-6, Comparative Examples 1-6 (resin composition for spacer or protective film)

하기 표 1 및 2에 나타내는 비율이 되도록 (a)∼(c)성분 및 (e)성분을, 통상적인 방법에 따라 혼합하고, 스페이서 또는 보호막용 수지 조성물을 조정했다.(A)-(c) component and (e) component were mixed according to the conventional method so that it might become the ratio shown in following Table 1 and 2, and the resin composition for spacers or protective films was adjusted.

얻어진 조성물을 사용해서 이하에 나타내는 평가를 행하였다. 그들의 결과를 표 1 및 2에 나타낸다.Evaluation shown below was performed using the obtained composition. Their results are shown in Tables 1 and 2.

<현상성><Developing>

10㎝ 사이즈의 크롬 마스크 유리기판 상에 표 1 및 2에 기재된 조성물을 스핀코터에 의해 도포하고, 이 도포막을 80℃의 송풍 건조기로 10분간 건조시켜, 건조 막두께 5㎛의 도포막을 형성했다. 얻어진 도막을 0.5wt% 탄산나트륨 수용액으로 스프레이 현상하고, 완전하게 용해될 때까지의 시간을 측정하여 하기 기준으로 평가했다.The composition shown in Table 1 and 2 was apply | coated by the spin coater on the 10-cm size chromium mask glass board | substrate, and this coating film was dried for 10 minutes with 80 degreeC ventilation dryer, and the coating film of 5 micrometers of dry film thicknesses was formed. The obtained coating film was spray-developed with 0.5 wt% sodium carbonate aqueous solution, the time until complete dissolution was measured, and the following reference | standard evaluated.

·○ : 15초 이내에 완전하게 용해된다.○: completely dissolved within 15 seconds.

·△ : 60초 이내에 완전하게 용해된다.Δ: completely dissolved within 60 seconds

·× : 60초 이내에 완전하게 용해되지 않는다.X: It does not melt | dissolve completely within 60 second.

<잔사><Residue>

현상성 평가 후의 기판 표면의 용해 잔사의 유무를 관찰하고, 하기 기준으로 평가했다.The presence or absence of the melt | dissolution residue on the surface of the board | substrate after developability evaluation was observed, and the following reference | standard evaluated.

·○ : 용해 잔사가 전혀 없다.○: There is no melting residue at all.

·△ : 용해 잔사가 약간 있다.△: There are some dissolved residues.

·× : 용해 잔사가 매우 많다.X: The melting residue is very large.

<탄성변형율의 평가><Evaluation of Elastic Strain>

10㎝ 사이즈의 크롬 마스크 유리기판 상에, 표 1 및 2에 기재된 조성물을 스핀코터에 의해 도포하고, 이 도포막을 80℃의 송풍 건조기로 10분간 건조시켜, 건조 막두께 6㎛의 도포막을 형성했다. 이 도막으로부터 100㎛의 거리에 포토마스크를 배치해서 프록시미티 얼라이너에 의해 초고압 수은등에 의해 300mJ/㎠의 강도(365㎚조도 환산)로 자외선을 조사했다. 이어서, 액온 23℃의 0.5wt% 탄산나트륨 수용액중에 60초간 침지해서 알칼리 현상하고, 도막의 미경화 부분만을 제거했다. 그 후에 기판을 200℃의 분위기 중에 30분간 방치함으로써 가열 처리를 실시하고, 높이 5㎛, 지름 15㎛의 기둥형상 스페이서를 형성했다.On the chrome mask glass substrate having a size of 10 cm, the compositions shown in Tables 1 and 2 were applied by a spin coater, and the coating film was dried for 10 minutes with a blow dryer at 80 ° C to form a coating film having a dry film thickness of 6 µm. . The photomask was arrange | positioned at the distance of 100 micrometers from this coating film, and the ultraviolet-ray was irradiated with the intensity | strength (365 nm roughness conversion) of 300 mJ / cm <2> with an ultrahigh pressure mercury lamp by the proximity aligner. Subsequently, it immersed in 0.5 wt% sodium carbonate aqueous solution of 23 degreeC of liquid temperature for 60 second, and developed alkali, and removed only the unhardened part of the coating film. Thereafter, the substrate was left to stand in an atmosphere of 200 ° C. for 30 minutes to conduct heat treatment to form columnar spacers having a height of 5 μm and a diameter of 15 μm.

얻어진 기둥형상 스페이서의 실온에 있어서의 탄성변형율을, 평면압자(100㎛×100㎛의 평면을 형성한 압자)를 장착한 초미소 경도계[(주)핏셔 인스트루먼트 제, H-100C]를 이용하여 압축하중이 0.2GPa가 되는 조건으로 측정했을 때의, [(탄성변형량/총변계량)×100]으로서 산출했다.The elastic strain at room temperature of the obtained columnar spacer was compressed using an ultra-small hardness tester (manufactured by Fischer Instruments Co., Ltd., H-100C) equipped with a planar indenter (a indenter having a plane of 100 µm x 100 µm). It calculated as [(elastic deformation amount / total deformation coefficient) x100] when measured on the conditions which become a load 0.2GPa.

Figure 112007050640174-PCT00006
Figure 112007050640174-PCT00006

Figure 112007050640174-PCT00007
Figure 112007050640174-PCT00007

표 1 및 2에 있어서의 조성물의 란의 숫자는 질량부를 의미하고, a1∼a3, e1 및 i1은 고형분의 비율로서 나타냈다.The number of the column of the composition in Table 1 and 2 means the mass part, and a1-a3, e1, and i1 were shown as ratio of solid content.

또한, 표 1 및 2에 있어서의 약호는, 이하를 의미한다.In addition, the symbol in Table 1 and 2 means the following.

·Irg907: 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 치바 스페셜티 케미컬즈사 제 일가큐아 907Irg907: 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropane-1-one, Chiba Specialty Chemicals, Inc.

실시예 1∼6의 조성물은 현상성이 매우 뛰어나고, 기판 상의 잔사가 전혀 없었다. 또한 그들의 경화물은 스페이서 또는 보호막용으로서 충분한 탄성변형율을 갖는 것이었다.The compositions of Examples 1 to 6 were extremely developable and had no residue on the substrate. Moreover, those hardened | cured materials were those which had sufficient elastic strain for a spacer or a protective film.

이것에 대하여 종래의 알칼리 불용인 다관능 아크릴레이트인 g1을 사용한 비교예 1 및 동4나, 히드록실기와 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물을 2가 카르복실산 무수물과 부가시켜서 얻어지는 카르복실기함유 다관능 (메타)아크릴레이트인 h1을 사용한 비교예 2 및 동5의 조성물은, 현상성, 잔사 모두 불충분하며, 1개이상의 히드록실기와 2개이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물을 4가 카르복실산의 2무수물과 부가반응시켜서 얻어지는 카르복실기함유 다관능 (메타)아크릴레이트인 i1을 사용한 비교예 3 및 6의 조성물은, 잔사는 없지만 현상성은 불충분했다.On the other hand, the carboxyl group-containing obtained by adding Comparative Example 1 and 4 which use g1 which is a conventional alkali-insoluble polyfunctional acrylate, and the compound which has a hydroxyl group and a (meth) acryloyl group with a bivalent carboxylic anhydride. The compositions of Comparative Examples 2 and 5 using h1, which is a polyfunctional (meth) acrylate, are insufficient in both developability and residue, and have 4 or more compounds having at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyl groups. Although the composition of Comparative Examples 3 and 6 using i1 which is a carboxyl group-containing polyfunctional (meth) acrylate obtained by addition reaction with the dianhydride of carboxylic acid, there was no residue but the developability was insufficient.

○실시예 7∼13, 비교예 7∼13(청색 착색 조성물)○ Examples 7-13 and Comparative Examples 7-13 (blue coloring composition)

하기 표 3 및 4에 나타내는 비율이 되도록 (a)∼(c)성분 및 (e)성분, 안료 및 안료 분산제를, 통상적인 방법에 따라 혼합하여 착색 조성물을 조정했다.The coloring composition was adjusted by mixing (a)-(c) component and (e) component, a pigment, and a pigment dispersing agent in accordance with a conventional method so that it may become the ratio shown to following Tables 3 and 4.

얻어진 조성물을 사용하고, 현상성 및 잔사를 하기의 방법에 따라 평가했다. 그들의 결과를 표 3 및 4에 나타낸다.Using the obtained composition, the developability and the residue were evaluated according to the following method. Their results are shown in Tables 3 and 4.

<현상성><Developing>

실시예 1∼6에 있어서의 현상성 시험에 있어서, 건조 막두께를 2㎛로 하는 이외는 같은 방법으로 시험을 행하였다. 얻어진 도막을 0.5wt% 탄산나트륨 수용액으로 스프레이 현상하고, 완전하게 용해될 때까지의 시간을 측정하여 하기 기준으로 평가했다.In the developability test in Examples 1-6, it tested by the same method except making a dry film thickness into 2 micrometers. The obtained coating film was spray-developed with 0.5 wt% sodium carbonate aqueous solution, the time until complete dissolution was measured, and the following reference | standard evaluated.

·○ : 60초 이내에 완전하게 용해된다.○: completely dissolved within 60 seconds.

·△ : 90초 이내에 완전하게 용해된다.Δ: completely dissolved within 90 seconds

·× : 90초 이내에 완전하게 용해되지 않는다.X: It does not melt | dissolve completely within 90 second.

<잔사><Residue>

현상성 평가 후의 기판 표면을 에탄올을 함유시킨 면봉으로 10회 닦아내고, 면봉의 착색의 유무를 조사하여 하기 기준으로 평가했다.The board | substrate surface after developability evaluation was wiped 10 times with the cotton swab containing ethanol, and the presence or absence of coloring of the cotton swab was investigated and it evaluated on the following reference | standard.

·○ : 면봉이 전혀 착색되지 않는다.○: The cotton bud is not colored at all.

·△ : 면봉이 미약하게 착색된다.?: The cotton swab is weakly colored.

·× : 면봉이 착색된다.X: The cotton swab is colored.

Figure 112007050640174-PCT00008
Figure 112007050640174-PCT00008

Figure 112007050640174-PCT00009
Figure 112007050640174-PCT00009

또한, 표 3 및 4에 있어서의 약호는, 이하를 제외하고 표 1과 같은 의미를 나타낸다.In addition, the symbol in Tables 3 and 4 shows the same meaning as Table 1 except the following.

·PB: 안료, C.I. 피그먼트 블루 15:6PB: pigment, C.I. Pigment Blue 15: 6

·DlS: 안료 분산제, Disperbyk-2001, 고형분 46%(주용제:메톡시프로필아세테이트, 메톡시프로판올, 부틸셀로솔브)DlS: pigment dispersant, Disperbyk-2001, solid content 46% (main solvent: methoxypropyl acetate, methoxypropanol, butyl cellosolve)

실시예 7∼13의 조성물은 현상성이 매우 뛰어나고, 기판상의 잔사가 전혀 없었다.The compositions of Examples 7-13 were very developable and there was no residue on a board | substrate at all.

이것에 대하여 g1을 사용한 비교예 8 및 동11의 조성물은 현상성, 잔사 모두 전혀 충분하지 않고, h1을 사용한 비교예 7, 동9 및 동12의 조성물은 현상성, 잔사 모두 불충분하며, i1을 사용한 비교예 10 및 동13의 조성물은 잔사는 없지만, 현상성은 불충분했다.On the other hand, the compositions of Comparative Examples 8 and 11 using g1 are not sufficiently developable and residues at all, while the compositions of Comparative Examples 7, 9 and 12 using h1 are insufficient in both developability and residues. There were no residues in the compositions of Comparative Examples 10 and 13 used, but the developability was insufficient.

○실시예 14∼16, 비교예 14∼16(적색 착색 조성물)○ Examples 14-16, Comparative Examples 14-16 (red coloring composition)

하기 표 5 및 6에 나타내는 비율이 되도록 (a)∼(c)성분 및 (e)성분, 안료 및 안료 분산제를, 통상적인 방법에 따라 혼합하여 착색 조성물을 조정했다.The coloring composition was adjusted by mixing (a)-(c) component and (e) component, a pigment, and a pigment dispersing agent in accordance with a conventional method so that it may become the ratio shown in following Tables 5 and 6.

얻어진 조성물을 사용하여, 현상성 및 잔사에 대해서 실시예 7∼13과 같은 방법에 따라 평가했다. 그들의 결과를 표 5 및 6에 나타낸다.Using the obtained composition, the developability and the residue were evaluated in the same manner as in Examples 7 to 13. Their results are shown in Tables 5 and 6.

Figure 112007050640174-PCT00010
Figure 112007050640174-PCT00010

Figure 112007050640174-PCT00011
Figure 112007050640174-PCT00011

또한, 표 5 및 6에 있어서의 약호는, 이하를 제외하고 표 1 및 표 3과 같은 의미를 나타낸다.In addition, the symbol in Tables 5 and 6 shows the same meaning as Table 1 and Table 3 except the following.

·PR: 안료, C.I. 피그먼트 레드 177PR: pigment, C.I. Pigment Red 177

실시예 14∼16의 조성물은 현상성이 매우 뛰어나고, 기판상의 잔사가 전혀 없었다. The compositions of Examples 14-16 were very developable and had no residue on the substrate.

이것에 대하여 g1을 사용한 비교예 14나 h1을 사용한 비교예 15의 조성물은 현상성, 잔사 모두 전혀 충분하지 않고, i1을 사용한 비교예 16의 조성물은 현상성, 잔사 모두 불충분했다.On the other hand, neither the developability nor the residue of the composition of the comparative example 14 using g1 and the comparative example 15 using h1 was sufficient at all, and the composition of the comparative example 16 using i1 was insufficient in both developability and a residue.

본 발명의 조성물은, 잉크, 도료 및 레지스트 등의 여러 가지의 용도에 사용 가능하고, 레지스트 등의 패턴 형성용 조성물로서 바람직하게 사용할 수 있다. The composition of this invention can be used for various uses, such as an ink, a coating material, and a resist, and can be used suitably as a composition for pattern formation, such as a resist.

또한, 본 발명의 조성물은 액정 패널 제조에 있어서의 기둥형상 스페이서 및 컬러필터 보호막용 조성물, 컬러필터에 있어서의 화소나 블랙 매트릭스 등을 형성하기 위한 착색 조성물로서 바람직하게 사용할 수 있다.Moreover, the composition of this invention can be used suitably as a coloring composition for forming the columnar spacer in the liquid crystal panel manufacture, the composition for color filter protective films, and the pixel, black matrix, etc. in a color filter.

Claims (11)

2개이상의 에틸렌성 불포화기, 3급 아미노기 및 산성기를 갖는 화합물(a)을 필수성분으로서 함유하는 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화형 조성물.An active energy ray curable composition comprising a compound (a) having two or more ethylenically unsaturated groups, tertiary amino groups and acidic groups as essential components. 제 1 항에 있어서, 상기 (a)성분이 히드록실기를 더 갖는 화합물(a2)인 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화형 조성물.The active energy ray-curable composition according to claim 1, wherein the component (a) is a compound (a2) further having a hydroxyl group. 제 1 항에 있어서, 상기 (a)성분이 하기 (a-1)∼(a-3)의 화합물로부터 선택되는 1종이상인 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화형 조성물.The active energy ray-curable composition according to claim 1, wherein the component (a) is at least one selected from compounds of the following (a-1) to (a-3). (a-1): 3개이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물과 산성기를 갖는 1급 또는 2급 아민의 마이클 부가반응 생성물.(a-1): Michael addition reaction product of the compound which has three or more (meth) acryloyl groups, and the primary or secondary amine which has an acidic group. (a-2): 3개이상의 (메타)아크릴로일기 및 산성기를 갖는 화합물과 산성기를 갖는 1급 또는 2급 아민의 마이클 부가반응 생성물.(a-2): Michael addition reaction product of the compound which has three or more (meth) acryloyl groups and an acidic group, and the primary or secondary amine which has an acidic group. (a-3): 3개이상의 (메타)아크릴로일기 및 산성기를 갖는 화합물과 산성기 및 히드록실기를 갖지 않는 1급 또는 2급 아민의 마이클 부가반응 생성물.(a-3): Michael addition reaction product of the compound which has three or more (meth) acryloyl groups and an acidic group, and the primary or secondary amine which does not have an acidic group and a hydroxyl group. 제 2 항에 있어서, 상기 (a2)가 하기 (a2-1)의 화합물인 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화형 조성물.The active energy ray-curable composition according to claim 2, wherein (a2) is a compound of the following (a2-1). (a2-1): 3개이상의 (메타)아크릴로일기 및 산성기를 갖는 화합물과 히드록실 기를 갖는 1급 또는 2급 아민의 마이클 부가반응 생성물.(a2-1): Michael addition reaction product of the compound which has three or more (meth) acryloyl groups and an acidic group, and a primary or secondary amine which has a hydroxyl group. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 (a)성분 또는 (a2)성분이 하기 (a3-1)의 화합물인 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화형 조성물.The active energy ray curable composition according to claim 1 or 2, wherein the component (a) or the component (a2) is a compound of the following (a3-1). (a3-1): 3개이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물과 히드록실기를 갖는 1급 또는 2급 아민의 마이클 부가반응 생성물을 산무수물과 부가반응시켜서 얻어지는 화합물.(a3-1): A compound obtained by addition-reacting a Michael addition reaction product of a compound having three or more (meth) acryloyl groups with a primary or secondary amine having a hydroxyl group with an acid anhydride. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 광중합 개시제를 더 함유해서 이루어지는 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화형 조성물.The active energy ray-curable composition according to any one of claims 1 to 5, further comprising a photopolymerization initiator. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 유기용제를 더 함유해서 이루어지는 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화형 조성물.The active energy ray-curable composition according to any one of claims 1 to 6, further comprising an organic solvent. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 조성물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화형 패턴 형성용 조성물.It consists of the composition in any one of Claims 1-7, The composition for active energy ray hardening pattern formation. 제 8 항에 있어서, 알칼리 가용성 수지를 더 함유해서 이루어지는 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화형 패턴 형성용 조성물.The composition for forming an active energy ray-curable pattern according to claim 8, further comprising an alkali-soluble resin. 제 8 항 또는 제 9 항에 기재된 조성물을 기판에 도포해서 도막을 형성한 후, 이 위에서 특정한 패턴 형상을 갖는 마스크를 통해서 활성 에너지선을 조사해서 경화시키고, 미경화 부분을 현상액에 의해 현상하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.After applying the composition of Claim 8 or 9 to a board | substrate, and forming a coating film, it is irradiated and hardened | cured by irradiating an active energy ray through the mask which has a specific pattern shape on this, and developing an uncured part with a developing solution. The pattern formation method characterized by the above-mentioned. 제 8 항 또는 제 9 항에 기재된 조성물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 기둥형상 스페이서용 조성물, 컬러필터 보호막용 조성물 또는 컬러필터용 착색 조성물.The composition for columnar spacers, the composition for color filter protective films, or the coloring composition for color filters which consists of a composition of Claim 8 or 9.
KR20077015869A 2005-01-17 2006-01-17 Compositions curable with actinic energy ray KR20070093421A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005009664 2005-01-17
JPJP-P-2005-00009664 2005-01-17

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20070093421A true KR20070093421A (en) 2007-09-18

Family

ID=36677773

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR20077015869A KR20070093421A (en) 2005-01-17 2006-01-17 Compositions curable with actinic energy ray

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP4797993B2 (en)
KR (1) KR20070093421A (en)
CN (1) CN101116034B (en)
TW (1) TWI390346B (en)
WO (1) WO2006075754A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101537115B1 (en) * 2007-12-14 2015-07-15 제이에스알 가부시끼가이샤 Radiation sensitive resin composition, spacer and protective film of liquid crystal display device, and method for forming the same

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4940582B2 (en) * 2005-06-21 2012-05-30 東洋インキScホールディングス株式会社 Pigment dispersant and pigment composition
JP2008248109A (en) * 2007-03-30 2008-10-16 The Inctec Inc Pigment dispersion and colored photosensiyive composition
JP5051371B2 (en) * 2007-11-26 2012-10-17 Jsr株式会社 Radiation-sensitive resin composition, spacer and protective film for liquid crystal display element, and liquid crystal display element
JP2010134182A (en) * 2008-12-04 2010-06-17 Dnp Fine Chemicals Co Ltd Colored photosensitive resin composition and color filter
JP5924350B2 (en) * 2012-02-02 2016-05-25 日立化成株式会社 Photosensitive resin composition, photosensitive element using the same, method for forming spacer, and spacer
JP2016056285A (en) * 2014-09-10 2016-04-21 東洋インキScホールディングス株式会社 Amphoteric ionic curable compound, active energy ray-curable coating agent, biocompatible material, and production method of the same
JP7008517B2 (en) * 2018-01-29 2022-01-25 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Curing composition for plating mask, mask material and method for removing plating
CN109734885B (en) * 2019-01-23 2021-06-29 安庆北化大科技园有限公司 Cationic waterborne polyester acrylate photocuring resin and preparation method thereof
CN111925127A (en) * 2020-04-03 2020-11-13 田菱智能科技(昆山)有限公司 Printing ink process for curved surface special-shaped screen glass, and preparation method and application thereof
WO2023119898A1 (en) 2021-12-23 2023-06-29 株式会社レゾナック Pigment dispersion composition, photosensitive colored composition, and color filter
JP7478332B1 (en) 2023-02-22 2024-05-07 artience株式会社 Photosensitive composition, film using same, optical filter, solid-state image pickup device, image display device, and infrared sensor

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0315069A (en) * 1989-03-20 1991-01-23 Toray Ind Inc Manufacture of photopolymerizable unsaturated compound
JP3922757B2 (en) * 1997-04-24 2007-05-30 三菱化学株式会社 Resist composition for color filter
JP3509512B2 (en) * 1996-11-29 2004-03-22 三菱化学株式会社 Resist composition for color filter, resist composition for forming light-shielding film, and color filter
JP3752916B2 (en) * 1999-09-21 2006-03-08 凸版印刷株式会社 Photosensitive composition for columnar spacer and color filter for liquid crystal display device using the same
JP2001089416A (en) * 1999-09-21 2001-04-03 Daicel Chem Ind Ltd Method for manufacturing (meth)acylate compound having carboxyl group and composition using the same compound
SG97168A1 (en) * 1999-12-15 2003-07-18 Ciba Sc Holding Ag Photosensitive resin composition
JP4330756B2 (en) * 2000-03-23 2009-09-16 東亞合成株式会社 Active energy ray-curable graft copolymer composition
JP3937681B2 (en) * 2000-04-03 2007-06-27 東亞合成株式会社 Process for producing active energy ray-curable graft copolymer
JP4639530B2 (en) * 2000-06-01 2011-02-23 パナソニック株式会社 Photosensitive paste and plasma display
JP2002116538A (en) * 2000-07-18 2002-04-19 Mitsubishi Chemicals Corp Photopolymerizable composition and color filter using the same
JP4014946B2 (en) * 2001-09-28 2007-11-28 東亞合成株式会社 Photosensitive pattern-forming curable resin, method for producing the same, curable resin composition, color filter, liquid crystal panel substrate, and liquid crystal panel
KR100529577B1 (en) * 2001-11-22 2005-11-17 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 Photosensitive resin compositions, dry film, and a product using the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101537115B1 (en) * 2007-12-14 2015-07-15 제이에스알 가부시끼가이샤 Radiation sensitive resin composition, spacer and protective film of liquid crystal display device, and method for forming the same

Also Published As

Publication number Publication date
TWI390346B (en) 2013-03-21
CN101116034B (en) 2011-07-06
JP4797993B2 (en) 2011-10-19
TW200627065A (en) 2006-08-01
WO2006075754A1 (en) 2006-07-20
CN101116034A (en) 2008-01-30
JPWO2006075754A1 (en) 2008-06-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20070093421A (en) Compositions curable with actinic energy ray
JP6157193B2 (en) (Meth) acrylate polymer, composition containing the polymer and use thereof
JP4586918B2 (en) Active energy ray-curable composition and method for producing the same
KR20110019979A (en) Colored photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display device prepared by using the same
JP7364020B2 (en) Photosensitive resin composition
KR20120035995A (en) Colored photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display using same
JP2021038289A (en) Pigment dispersion composition for black matrix, and pigment dispersion resist composition for black matrix containing the same
JP6113466B2 (en) Black matrix pigment dispersion composition and black matrix pigment dispersion resist composition containing the same
WO2022070977A1 (en) Photocurable colored resin composition, cured product, color filter, and display device
TWI478996B (en) Binder resin for resist ink and resist ink using same
KR102384001B1 (en) Colored Photosensitive Resin Composition and Color Filter Comprising the Same
KR101224424B1 (en) Active energy ray-curable compositon
JP5130914B2 (en) Active energy ray-curable composition
KR102012523B1 (en) Colored photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display having the same
KR102012520B1 (en) A colored photosensitive resin composition, colored pattern,color filter and liquid crystal display device having the same
KR20100072934A (en) Photosensitive resin composition for color filter and color filter using same
JP2001164142A (en) Pigment dispersion composition
KR102078594B1 (en) A colored photosensitive resin composition for color filter, color filter and liquid crystal display device having the same
KR20130048642A (en) A colored photosensitive resin composition, colored pattern, color filter and liquid crystal display device having the same
JPWO2008102834A1 (en) Curable pigment dispersant
JP2006139137A (en) Photosensitive resin composition
JP2018084810A (en) Black photosensitive resin composition, black matrix for image display device produced therefrom, column spacer, and black matrix-integrated column spacer
JP2008201979A (en) Curable colored composition
JP2023165728A (en) Color filter coloring composition and color filter
TW202233698A (en) Method for producing copolymer

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration