KR20070093198A

KR20070093198A - Structure glass lineup for adhesion equipment of chamber vacuum

Info

Publication number: KR20070093198A
Application number: KR1020060023019A
Authority: KR
Inventors: 심석희
Original assignee: 주식회사 에이디피엔지니어링
Priority date: 2006-03-13
Filing date: 2006-03-13
Publication date: 2007-09-18
Also published as: KR100957723B1

Abstract

A substrate line-up structure in a vacuum bonding device is provided to minimize movement loss and make high speed and high precision arrangement possible by enabling a worker to adjust movement tolerance of a guide and ensure a work space by installing base plates corresponding to each guide. A substrate line-up structure in a vacuum bonding device comprises the followings: at least one or more base plates(110,120) which are combined with a stage located so as to perform a predetermined process on a substrate; and a driving guide(200) and a supporting guide(300) which are combined so as to cross each other on each base plate. In the driving guide and the supporting guide, guide blocks capable of vertical and horizontal movement and rotation are respectively installed. The guide blocks slide through the surface contact to arrange a stage. The horizontal guide block and the vertical guide block further include a position adjusting bolt of which the position can be adjusted with respect to each of the blocks.

Description

Substrate alignment structure of vacuum bonding device {Structure Glass Lineup for Adhesion Equipment of Chamber Vacuum}

도 1은 종래 기술의 기판 정렬 구조를 나타내는 단면도.1 is a cross-sectional view showing a substrate alignment structure of the prior art.

도 2는 종래 기술의 기판 정렬 구조를 나타내는 개략적인 평면도.2 is a schematic plan view showing a substrate alignment structure of the prior art;

도 3은 본 발명의 기판 정렬 구조를 나타내는 개략적인 평면도.3 is a schematic plan view showing a substrate alignment structure of the present invention.

도 4는 도 3에 도시된 기판 정렬 구조를 나타내는 단면도.4 is a cross-sectional view illustrating the substrate alignment structure shown in FIG. 3.

도 5는 도 4에 도시된 기판 정렬 구조를 나타내는 분해 사시도.FIG. 5 is an exploded perspective view showing the substrate alignment structure shown in FIG. 4. FIG.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

100 : 스테이지 110,120 : 베이스 플레이트100: stage 110, 120: base plate

200 : 구동가이드 210 : 가로 가이드200: driving guide 210: horizontal guide

220 : 세로 가이드 230 : 회전 가이드220: vertical guide 230: rotation guide

240 : 회전축 242 : 제1가압링240: rotating shaft 242: first pressing ring

244 : 제2가압링 250 : 외측블록244: second pressure ring 250: outer block

300 : 지지가이드300: support guide

본 발명은 진공 합착 장치의 기판 정렬 구조에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 작업자로 하여금 가이드의 이동 공차를 조절할 수 있게 함으로써 이동 손실을 최소화하여 고속, 고정밀의 정렬을 가능하게 함과 동시에 각각의 가이드에 대해 대응되는 베이스 플레이트를 마련하여 작업 공간을 확보할 수 있는 진공 합착장치의 기판 정렬 구조에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate alignment structure of a vacuum bonding device, and more particularly, to allow the operator to adjust the movement tolerance of the guide, thereby minimizing the movement loss, thereby enabling high-speed and high-precision alignment to each guide. It relates to a substrate alignment structure of the vacuum bonding apparatus that can secure a work space by providing a corresponding base plate.

일반적으로 액정 표시 장치는 전극이 형성되어 있는 TFT(Thin Film Transisror) 기판과 형광체가 도포된 CF(Color Filter) 기판 사이에 위치하는 주입되는 액정 물질을 포함하며, 상기 두 기판의 가장자리에 액정 물질을 가두는 봉인재로 결합되어 있으며 상기 두 기판 사이에 산포되어 있는 간격재에 의해 지지되고 있다. 또한 상기 두 기판 사이에 주입되어 있는 이방성 유전율을 갖는 액정 물질에 전극을 이용하여 전원을 인가하고, 이 전원의 세기를 조절하여 기판에 투과하는 빛의 양을 조절함으로써 화상을 표시하게 된다.In general, a liquid crystal display includes an injected liquid crystal material positioned between a thin film transistor (TFT) substrate on which electrodes are formed and a color filter (CF) substrate coated with phosphors, and a liquid crystal material is formed on the edges of the two substrates. The curb is joined by a sealing material and is supported by spacers dispersed between the two substrates. In addition, a power is applied to the liquid crystal material having an anisotropic dielectric constant injected between the two substrates by using an electrode, and the intensity of the power is adjusted to adjust the amount of light transmitted through the substrate to display an image.

여기서 상기 두 기판을 합착시키고, 상기 두 기판 사이에 액정 물질을 주입하는 공정에 있어서, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 기판을 정확히 정렬하기 위하여 하부에 마련된 스테이지 상에 베이스 플레이트를 결합시키고, 상기 베이스 플레이트에 다수개의 LM가이드(10,20)를 결합시켜 가로(11a), 세로(11b) 및 회전(12)에 의해 기판을 정렬하도록 하고 있다.Here, in the process of bonding the two substrates, and injecting a liquid crystal material between the two substrates, as shown in Figure 1, to combine the base plate on the stage provided in the lower to accurately align the substrate, A plurality of LM guides 10 and 20 are coupled to the base plate to align the substrate by the horizontal 11a, vertical 11b and rotation 12.

그러나 상기 기판 정렬을 위한 스테이지 정렬시 LM가이드(10,20)의 가공 축에 회전베어링을 직접 조립하여 축의 가공 공차에 의한 흔들림이 발생하여 이동 손실이 발생하는 문제점이 있었으며, 또한 조립 공차에 대해 이미 설정이 끝난 LM가 이드를 조립하여 사용하고 있기 때문에 사용자가 원하는 만큼 조절을 할 수 없어서 상기 기판에 대한 이동 공차를 줄이지 못하는 문제점이 있었다.However, when the stage alignment for the substrate alignment, the rotation bearing is directly assembled to the machining shafts of the LM guides 10 and 20 to cause shaking due to the machining tolerances of the shafts, which causes a loss of movement. Since the set LM is used to assemble the id, there is a problem that the user cannot adjust as much as the user wants to reduce the moving tolerance with respect to the substrate.

그리고, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 하나의 베이스 플레이트(30) 상에 다수개의 정렬 LM 가이드(10,20)를 구비하고 있어, 이로 인해 작업 공간을 확보하는데 어려움이 있었다.As shown in FIG. 2, a plurality of alignment LM guides 10 and 20 are provided on the one base plate 30, which makes it difficult to secure a working space.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명은 목적은 작업자로 하여금 가이드의 이동 공차를 조절할 수 있게 함으로써 이동 손실을 최소화하여 고속, 고정밀의 정렬을 가능하게 함과 동시에 각각의 가이드에 대해 대응되는 베이스 플레이트를 마련하여 작업 공간을 확보할 수 있는 진공 합착장치의 기판 정렬 구조를 제공함에 있다.The present invention has been made to solve the above problems, the object of the present invention is to enable the operator to adjust the moving tolerance of the guide to minimize the loss of movement to enable high-speed, high-precision alignment at the same time It is to provide a substrate alignment structure of the vacuum bonding apparatus that can secure a working space by providing a base plate corresponding to the guide.

본 발명은 앞서 본 목적을 달성하기 위하여 다음과 같은 구성을 가진다.The present invention has the following configuration to achieve the above object.

본 발명의 진공 합착 장치의 기판 정렬 구조는, 기판상에 소정 공정을 수행할 수 있도록 위치한 스테이지와 결합되는 적어도 하나 이상의 베이스 플레이트와; 상기 각각의 베이스 플레이트에 대해 상호 엇갈리게 결합하는 구동가이드 및 지지가이드;를 포함하여 이루어지며, 상기 구동가이드 및 지지가이드는 각각에 구비되는 가로 이동, 세로 이동 및 회전 가능한 가이드 블록이 면접촉 슬라이딩되어 스테이지를 정렬하도록 하는 것을 특징으로 한다.The substrate alignment structure of the vacuum bonding apparatus of the present invention includes: at least one base plate coupled to a stage positioned to perform a predetermined process on a substrate; And a driving guide and a support guide that are alternately coupled to each of the base plates, wherein the driving guide and the support guide are horizontally movable, vertically moved, and rotatable guide blocks, each of which is in surface contact sliding stage. Characterized in that to align.

또한, 본 발명의 진공 합착 장치의 기판 정렬 구조에 있어서, 상기 가로 가 이드 블록 및 세로 가이드 블록은 그 각각에 대해 위치를 조절할 수 있는 위치조절 볼트;를 더 포함하여 이루어지며, 상기 회전 가이드 블록은 중심으로부터 외측으로 확장되며, 상기 회전 가이드 블록의 간극 발생을 방지하기 위한 제1가압링 및 제2가압링;을 더 포함하여 이루어진다.In addition, in the substrate alignment structure of the vacuum bonding device of the present invention, the horizontal guide block and the vertical guide block further comprises a position adjustment bolt for adjusting the position with respect to each of the rotation guide block is made, It extends outward from the center, the first pressing ring and the second pressing ring for preventing the occurrence of the gap of the rotary guide block; further comprises.

그리고, 상기 제1가압링 및 제2가압링은 상기 회전 가이드 블록의 간극 발생을 방지하기 위한 쐬기 형태를 하고, 상기 제1가압링 및 제2가압링은 쐬기 형태의 결합면이 상호 대향되게 위치하되, 결합면의 슬라이딩에 의해 상기 회전 가이드 블록이 압지되도록 하는 것이 바람직하다.The first pressing ring and the second pressing ring have a drainage shape for preventing a gap of the rotary guide block, and the first pressing ring and the second pressure ring are positioned so that the mating surfaces of the draining shape face each other. However, it is preferable that the rotation guide block is pressed by sliding the engaging surface.

또한, 상기 제1가압링 및 제2가압링은 그 상부에 위치하여 압지하는 고정판;을 더 구비한다.The first pressing ring and the second pressing ring may further include a fixing plate positioned on the upper portion of the first pressing ring and the second pressing ring.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 3에 도시된 바에 의하면, 상기 기판 정렬 구조는, 평판 형태의 스테이지(100) 하면에 6개의 베이스 플레이트(110,120)를 각각 독립적으로 결합하고 있으며, 상기 각각의 베이스 플레이트(110,120)에 대해 3개의 구동가이드(200)와 3개의 지지가이드(300)가 엇갈린 형태로 결합되어 상기 각각의 구동가이드에 의해 베이스 플레이트(110)를 가로, 세로 및 회전시켜 이동시키면, 상기 스테이지(100)가 이동하여 기판이 정렬되는 것이다. 또한 상기 지지가이드(300)는 상기 구동가이드(200)와 엇갈린 상태로 위치하여 상기 스테이지를 지지하도록 하고 있다. 이는 베이스 플레이트(110,120)를 상기 스테이지에 대해 독립적으로 위치시킴으로써 스테이지 하부에 마련되는 여러 가지 장치의 유지 보수를 수월하게 할 수 있을 뿐만 아니라 가이드 손상시 개별적인 교체 및 보수가 용이하게 할 수 있게 하기 위함이다.As shown in FIG. 3, the substrate alignment structure independently couples six base plates 110 and 120 to the bottom surface of the stage 100 having a flat plate shape, and three base plates 110 and 120 for each of the base plates 110 and 120. When the driving guide 200 and the three support guides 300 are combined in a staggered form, when the base plate 110 is moved horizontally, vertically, and rotated by the respective driving guides, the stage 100 moves to the substrate. This is to be sorted. In addition, the support guide 300 is positioned in a staggered state with the drive guide 200 to support the stage. This is because the base plates 110 and 120 are positioned independently of the stage to facilitate the maintenance of various devices provided under the stage, as well as to facilitate individual replacement and repair in case of damage to the guide. .

상기 구동가이드 및 지지가이드의 구성중 구동가이드를 예를 들어 설명하면, 도 4 또는 도 5에 도시된 바와 같이, 먼저 하부에 마련되는 한쌍의 가로 가이드(210)는 각각 한쌍의 가이드 블록(211a,211b)을 구비하고 있으며, 상기 가이드 블록의 상호 대향면을 따라 형성된 안내홈(212) 상에 원통 형상의 가이드롤러(213)가 각각에 대해 엇갈린 경사각을 갖고 다수개 결합된 가이드롤러 고정판(214)을 위치시킨다. 그리고 상기 가이드롤러(213)와 가이드 블록(211a,211b)이 밀착되도록 한 후 상기 한쌍의 가로 가이드(210)의 상부를 감싸는 고정블록(215)을 위치시킨다. 이와 같은 방법으로 세로 가이드(220)를 결합하여 상기 고정블록(215)의 상면에 고정하면, 상기 가로 가이드(210)와 세로 가이드(220)에 의해 상기 스테이지가 가로와 세로 방향으로 면접촉에 의해 슬라이딩 이동할 수 있게 된다. 그리고 상기 가로 가이드(210) 및 세로 가이드(220)의 고정블록(215,225)과 결합되는 상기 가이드 블록의 사이 간격을 조절할 수 있도록 상기 고정블록(215,225) 외측 측면을 관통시켜 외부에서 내측 방향으로 위치조절 볼트(216,226)를 결합하고, 상기 위치조절 볼트에 의해 상기 가이드 블록(211a,221a)을 가압시키면 작업자가 상기 가이드롤러(213,223)와 가이드 블록(211,221)간의 간격을 조절할 수 있어서, 기판 정렬시 정렬 오차를 최소화할 수 있게 하여 작업 손실을 사전에 방지할 수 있게 된다.Referring to the driving guide of the configuration of the drive guide and the support guide, for example, as shown in Figure 4 or 5, the pair of horizontal guide 210 is provided at the lower first of each of the pair of guide block (211a, 211b) and a plurality of guide roller fixing plates 214 having a plurality of cylindrical guide rollers 213 having a staggered inclination angle with respect to the guide grooves 212 formed along the mutually opposite surfaces of the guide block. Locate it. The guide rollers 213 and the guide blocks 211a and 211b are brought into close contact with each other, and then the fixing block 215 surrounding the upper portion of the pair of horizontal guides 210 is positioned. When the vertical guide 220 is coupled in this manner and fixed to the upper surface of the fixing block 215, the stage is contacted by the horizontal guide 210 and the vertical guide 220 by surface contact in the horizontal and vertical directions. Sliding can be moved. And through the outer side of the fixing block (215, 225) to adjust the distance between the guide block coupled to the fixed block (215, 225) of the horizontal guide 210 and the vertical guide 220 to adjust the position from the outside inward Combining the bolts (216, 226), and pressing the guide block (211a, 221a) by the position adjustment bolt allows the operator to adjust the distance between the guide rollers (213, 223) and the guide block (211, 221), alignment during substrate alignment By minimizing the error, it is possible to prevent the loss of work in advance.

또한, 상기 세로 가이드(220)의 상부에 위치한 고정블록(225) 상에 회전축(240)을 위치시키고, 상기 회전축(240)의 상부에 회전가이드(230)를 결합시킨다. 이때 상기 회전가이드(230)의 내측 가이드 블록(231b)은 회전축(240)과, 상기 외측 가이드 블록(231a)은 외측 고정 블록(250)과 결합되도록 하며, 상기 회전 가이드(230)의 구성은 상기 가로 및 세로 가이드와 동일한 구성을 하고 있으므로 그 구성의 설명은 생략하기로 한다.In addition, the rotary shaft 240 is positioned on the fixed block 225 located above the vertical guide 220, and the rotary guide 230 is coupled to the upper portion of the rotary shaft 240. At this time, the inner guide block 231b of the rotation guide 230 is coupled to the rotation shaft 240, the outer guide block 231a and the outer fixing block 250, the configuration of the rotation guide 230 is Since the same configuration as the horizontal and vertical guides, the description of the configuration will be omitted.

여기서 상기 회전축(240)과 회전 가이드(230)가 결합된 상태에서 상기 회전축(240)과 회전 가이드(230)의 내측 가이드 블록(231b)의 사이에 공간부(246)를 마련하여 상기 공간부(246) 상에 제2가압링(244)를 결합시키는데, 이때 상기 제2가압링(244)은 상기 회전축(240)과의 결합면은 밀착되도록 하고, 외측은 쏴기 형태의 경사면을 갖도록 한다. 그리고 상기 제2가압링(244)과 대향되는 쏴기 형태의 경사면을 갖는 제1가압링(242)을 위치시켜 각각의 경사면이 상호 맞닿도록 삽입한다. 이는 상기 제1가압링(242)과 제2가압링(244)의 경사면이 서로 맞닿아 각각에 대해 슬라이딩되도록 함으로써 상기 내측 가이드블록(231b)을 외부로 확장시켜 상기 내측 가이브블록과 가이드롤러가 밀착되도록 하며, 더불어 외측 가이드 블록과 밀착되게 하여 상기 회전 가이드가 회전시 오차 없이 회전하도록 하기 위함이며, 이를 통해 기판의 정렬을 정확하고 신속하게 할 수 있게 하기 위함이다.Here, the space portion 246 is provided between the rotary shaft 240 and the inner guide block 231b of the rotary guide 230 in a state where the rotary shaft 240 and the rotary guide 230 are coupled to each other. 246 is coupled to the second pressing ring 244, wherein the second pressing ring 244 is in close contact with the rotating shaft 240, the outer side to have a shooting surface inclined surface. Then, the first pressing ring 242 having a shooting surface inclined surface facing the second pressing ring 244 is positioned so that the inclined surfaces are in contact with each other. This is because the inclined surfaces of the first pressing ring 242 and the second pressing ring 244 abut each other and slide with respect to each other to extend the inner guide block 231b to the outside, so that the inner gripping block and the guide roller are In order to be in close contact with the outer guide block and to make the rotation guide to rotate without error during rotation, through which the alignment of the substrate can be accurately and quickly.

한편, 상기 회전 가이드(230)와 제1,2가압링(242,244)을 상부에서 압치하는 고정판(252)를 결합시켜 제1,2가압링이 이탈되는 것을 방지하도록 하는 것이 바람직하다.On the other hand, it is preferable to prevent the first and second pressure rings from being detached by combining the rotating guide 230 and the fixing plate 252 for pressing the first and second pressure rings 242 and 244 from the top.

이상의 본 발명은 상기에 기술된 실시예들에 의해 한정되지 않고, 당업자들에 의해 다양한 변형 및 변경을 가져올 수 있으며, 이는 첨부된 청구항에서 정의되는 본 고안의 취지와 범위에 포함된다.The present invention is not limited to the embodiments described above, and various modifications and changes can be made by those skilled in the art, which are included in the spirit and scope of the present invention as defined in the appended claims.

본 발명은 앞서 본 구성에 의해 다음과 같은 효과를 가진다.The present invention has the following effects by the above configuration.

본 발명은 작업자로 하여금 가이드의 이동 공차를 조절할 수 있게 함으로써 이동 손실을 최소화하여 고속, 고정밀의 정렬을 가능하게 함과 동시에 각각의 가이드에 대해 대응되는 베이스 플레이트를 마련하여 작업 공간을 확보할 수 있는 효과가 있다.The present invention enables the operator to adjust the movement tolerance of the guide to minimize the movement loss to enable high-speed, high-precision alignment, and at the same time to provide a base plate corresponding to each guide to secure a work space It works.

Claims

At least one base plate coupled with a stage positioned to perform a predetermined process on the substrate;

It comprises a; drive guide and the support guide to be mutually staggered with respect to each base plate;

The drive guide and the support guide is a substrate alignment structure of the vacuum bonding apparatus, characterized in that the horizontal movement, vertical movement and rotatable guide block is provided in each of the surface contact sliding to align the stage.

The method of claim 1,

The horizontal guide block and the vertical guide block is a substrate alignment structure of the vacuum bonding apparatus further comprises a; position adjustment bolt that can adjust the position with respect to each.

The method of claim 1,

The rotation guide block is extended from the center to the outside, the first pressing ring and the second pressing ring for preventing the occurrence of the gap of the rotating guide block; substrate alignment structure of the vacuum bonding apparatus further comprises.

The method of claim 3, wherein

The first pressing ring and the second pressing ring is a substrate alignment structure of the vacuum bonding apparatus, characterized in that the drainage to prevent the occurrence of gaps in the rotary guide block.

The method of claim 4, wherein

The first pressing ring and the second pressing ring is a mating structure of the vacuum bonding device substrate alignment structure, characterized in that the mating surface of the drain type is positioned opposite to each other, but the rotation guide block is pressed by sliding the coupling surface.

The method of claim 5,

The first pressing ring and the second pressing ring is located on top of the fixing plate for holding the pressure; further comprising a substrate alignment structure of the vacuum bonding apparatus.