KR20070091830A - Substrate supporting member - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명에 따른 기판 지지부재를 도시한 구성도이다.1 is a block diagram showing a substrate support member according to the present invention.
도 2a 및 도 2b는 도 1에 도시된 기판 지지부재의 작동 과정을 설명하기 위한 도면들이다.2A and 2B are diagrams for describing an operation process of the substrate support member illustrated in FIG. 1.
도 3은 도 1에 도시된 기판 지지부재의 작동 과정을 보여주는 순서도이다.3 is a flow chart showing an operation process of the substrate support member shown in FIG.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *
10 : 챔버 140 : 구동바10
12 : 지지체 150 : 구동축12: support 150: drive shaft
100 : 기판 지지부재 160 : 회전축100: substrate support member 160: rotation axis
110 : 리프트 핀 170 : 모니터링 부재110: lift pin 170: monitoring member
112 : 샤프트 172 : 감지 부재112: shaft 172: sensing member
114 : 기어 172a : 제 1 접촉센서114:
120 : 지지체 172b : 제 2 접촉센서120
130 : 하우징 174 : 제어부130
132 : 프레임 176 : 표시 부재132
134 : 브라켓134: Bracket
본 발명은 기판 지지부재에 관한 것으로, 보다 상세하게는 리프트 핀을 가지는 기판 지지부재에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate support member, and more particularly to a substrate support member having a lift pin.
일반적인 반도체 소자 및 칩의 제조는 일련의 처리 공정이 수행되며, 이러한 처리 공정시 기판은 기설정된 상태로 정렬되어야 한다. 특히, 보통 처리 공정이 진행되는 동안에는 기판에 형성된 패턴이 기설정된 패턴 방향으로 정렬되어야 하므로, 처리 공정이 개시되기 전에 기판에 형성된 패턴을 정렬시키는 과정이 수행되어야 한다.BACKGROUND OF THE INVENTION In general, semiconductor devices and chips are manufactured by a series of processing processes, in which substrates must be aligned in a predetermined state. In particular, since the pattern formed on the substrate must be aligned in a predetermined pattern direction during the normal processing process, a process of aligning the pattern formed on the substrate must be performed before the processing process is started.
반도체 이온 주입 공정에서는 불순물 이온을 기판에 주입하기 전에 기판에 형성된 반도체 소정의 패턴을 기설정된 방향으로 정렬시키는 과정이 요구된다. 이러한 정렬 과정은 보통 이온 주입 설비의 엔드 스테이션에서 수행되며, 엔드 스테이션에는 기판을 지지하여 기판을 소정의 회전 속도로 회전시켜 기판 패턴을 정렬하는 기판 지지부재가 설치된다.In a semiconductor ion implantation process, a process of aligning a predetermined pattern of a semiconductor formed on a substrate in a predetermined direction is required before implanting impurity ions into the substrate. This alignment process is usually performed at the end station of the ion implantation facility, and the end station is provided with a substrate support member for supporting the substrate and rotating the substrate at a predetermined rotational speed to align the substrate pattern.
기판 지지부재는 기판을 안착시키는 안착면을 가지는 지지체, 지지체의 저면에 결합되는 리프트 핀, 그리고 리프트 핀을 승하강시키는 구동 어셈블리는 가진다. 구동 어셈블리는 모터, 모터에 의해 회전되는 구동축, 일단에는 구동축이 삽입되고 타단은 리프트 핀과 결합되는 구동바, 구동바의 중심에 결속되는 회전축을 가진다. 따라서, 구동바는 구동축으로부터 구동력을 전달받아 회전축을 중심으로 시 소(seesaw) 운동하게 되고, 시소 운동되는 구동바의 타단에 결합되는 리프트 핀은 승하강 동작함으로써 지지체를 상승 및 하강시킨다.The substrate support member has a support having a seating surface for seating the substrate, a lift pin coupled to the bottom of the support, and a drive assembly for lifting and lowering the lift pin. The drive assembly has a motor, a drive shaft rotated by the motor, a drive shaft is inserted into one end and the other end is coupled to the lift pin, the rotation shaft is coupled to the center of the drive bar. Therefore, the driving bar receives a driving force from the driving shaft to seesaw around the rotating shaft, and the lift pin coupled to the other end of the driving bar to be moved by the seesaw movement raises and lowers the support.
그러나, 기판 지지부재에는 구동 어셈블리의 구동 상태를 감지하는 수단이 제공되어 있지 않았다. 따라서, 공정시 구동 어셈블리의 구동 상태에 오류가 발생되면 기판의 승하강이 원활히 이루어지지 않아 기판의 손상 및 설비의 오염 등의 문제가 발생된다.However, the substrate support member is not provided with means for detecting the driving state of the drive assembly. Therefore, if an error occurs in the driving state of the driving assembly during the process, the substrate is not raised and lowered smoothly, which causes problems such as damage to the substrate and contamination of equipment.
상술한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 리프트 핀을 승하강시키는 구동 어셈블리의 구동 상태를 모니터링할 수 있는 기판 지지부재를 제공함에 있다.An object of the present invention for solving the above problems is to provide a substrate support member that can monitor the driving state of the drive assembly for raising and lowering the lift pin.
본 발명의 다른 목적은 리프트 핀을 승하강시키는 구동 어셈블리의 오동작에 따른 기판 손상을 방지하는 기판 지지부재를 제공함에 있다.Another object of the present invention is to provide a substrate support member that prevents substrate damage due to a malfunction of a drive assembly for elevating a lift pin.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 지지부재는 기판이 안착되는 안착면을 가지는 지지체, 상기 지지체의 저면에 제공되어 기판을 상기 안착면에 안착시키는 리프트 핀, 그리고 상기 리프트 핀을 승하강시키는 구동 어셈블리를 포함하되, 상기 구동 어셈블리는 모터, 상기 모터의 회전에 의해 상기 리프트 핀을 상승 및 하강시키는 승강 부재, 그리고 상기 승강 부재의 상승 및 하강 동작을 감지하는 감지 부재를 포함한다.According to an aspect of the present invention, a substrate support member includes a support having a seating surface on which a substrate is seated, a lift pin provided on a bottom surface of the support to seat a substrate on the seating surface, and lifting and lowering the lift pin. Including a drive assembly, wherein the drive assembly includes a motor, a lifting member for raising and lowering the lift pin by the rotation of the motor, and a sensing member for detecting the lifting and lowering of the lifting member.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 승강 부재는 바(bar) 형상을 가지며, 일단에는 상기 바의 길이방향으로 장공이 형성되고 타단에는 상기 핀 지지대와 결합되 는 결합부가 형성된 구동바, 상기 구동바의 일단 및 타단 사이에서 상기 구동바가 상기 리프트 핀을 상승시키는 제 1 위치 및 상기 리프트 핀을 하강시키는 제 2 위치 상호간에 시소 운동되도록 제공되는 회전축, 그리고 상기 장공에 삽입되어 상기 구동바가 상기 시소 운동하도록 구동력을 제공하는 구동축을 포함하고, 상기 감지 부재는 상기 구동바가 제 1 위치 및 상기 제 2 위치에 위치되는지 여부를 감지한다.According to an embodiment of the present invention, the elevating member has a bar (bar) shape, the driving bar is formed at one end is formed with a long hole in the longitudinal direction of the bar and the other end coupled to the pin support, the driving bar A rotational shaft provided between the first and the other ends of the driving bar to move the first and second positions of the lift pins and the second positions of the lift pins; and a rotary shaft inserted into the long hole to allow the drive bars to move. And a driving shaft for providing a driving force, wherein the sensing member detects whether the driving bar is positioned at the first position and the second position.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 감지 부재는 상기 구동바가 상기 제 1 위치에 위치하였을 때, 상기 구동바의 타단과 접촉하는 제 1 접촉 센서 및 상기 구동바가 상기 제 2 위치에 위치하였을 때, 상기 구동바의 타단과 접촉하는 제 2 접촉 센서를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, when the driving bar is positioned at the first position, the sensing member has a first contact sensor contacting the other end of the driving bar and the driving bar is positioned at the second position. And a second contact sensor contacting the other end of the drive bar.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 감지 부재는 상기 구동바의 타단에 설치되는 센서바, 상기 구동바가 상기 제 1 위치에 위치하였을 때, 상기 센서바와 접촉하는 제 1 접촉 센서, 그리고 상기 구동바가 상기 제 2 위치에 위치하였을 때, 상기 센서바와 접촉하는 제 2 접촉 센서를 포함한다.According to another exemplary embodiment of the present disclosure, the sensing member may include a sensor bar installed at the other end of the driving bar, a first contact sensor contacting the sensor bar when the driving bar is located at the first position, and the driving bar may include: And a second contact sensor in contact with the sensor bar when positioned in the second position.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 기판 지지부재는 공정시 상기 구동바가 상기 제 1 위치 및 상기 제 2 위치에 위치하였을 때, 상기 제 1 및 제 2 접촉센서와 상기 구동바가 정상적으로 접촉하지 않으면 설비의 공정 진행을 중지하는 제어부를 더 포함한다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the substrate support member may be installed in a facility in which the first and second contact sensors and the driving bar do not normally contact each other when the driving bar is positioned at the first position and the second position during the process. It further includes a control unit for stopping the process progress.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 기판 지지부재는 이온 주입 장치의 엔드 스테이션에 구비되며, 상기 리프트 핀은 공정시 상기 안착면에 안착된 기판을 회전 시키는 것을 특징으로 하는 기판 지지부재.According to an embodiment of the invention, the substrate support member is provided in the end station of the ion implantation device, the lift pin is a substrate support member, characterized in that for rotating the substrate seated on the seating surface.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 지지부재는 이온 주입 공정시 기판을 안착하고, 안착된 기판을 회전시키는 기판 지지부재에 있어서, 기판이 안착되는 안착면을 가지는 지지체, 상기 지지체의 하부에 결합되는 적어도 하나의 리프트 핀, 바(bar) 형상을 가지며 일단에는 상기 바의 길이방향으로 장공이 형성되고 타단에는 상기 핀 지지대와 결합되는 결합부가 형성되는, 그리고 상기 핀 지지대를 상승시키는 제 1 위치 및 상기 핀 지지대를 하강시키는 제 2 위치 상호간에 시소 운동하는 구동바, 상기 구동바의 일단 및 상기 타단 사이에서 상기 구동바가 상기 제 1 위치 및 상기 제 2 위치 상호간에 시소 운동되도록 제공되는 회전축, 상기 장공에 삽입되어 상기 구동바가 상기 시소 운동하도록 구동력을 제공하는 구동축, 상기 구동바가 상기 제 1 위치에 위치하였을 때 상기 구동바의 타단과 접촉하는 제 1 접촉 센서 및 상기 구동바가 상기 제 2 위치에 위치하였을 때, 상기 구동바의 타단과 접촉하는 제 2 접촉 센서를 가지는 감지 부재, 공정시 상기 구동바가 상기 제 1 위치 및 상기 제 2 위치에 위치하였을 때, 상기 감지 부재가 상기 구동바를 정상적으로 감지하는 않으면 설비의 공정 진행을 중지하는 제어부를 포함한다.A substrate support member according to an embodiment of the present invention for achieving the above object is a support for mounting a substrate in the ion implantation process, the substrate supporting member for rotating the seated, the substrate having a mounting surface on which the substrate, At least one lift pin coupled to the lower portion of the support, having a bar shape (bar) and one end is formed with a long hole in the longitudinal direction of the bar and the other end is formed with a coupling portion coupled to the pin support, and the pin support Drive bar for seesawing between the first position to raise and the second position for lowering the pin support, so that the drive bar is seesawed between the first position and the second position between one end and the other end of the drive bar A rotating shaft provided, a driving shaft inserted into the long hole and providing a driving force to the driving bar to move the seesaw; A first contact sensor contacting the other end of the drive bar when the copper bar is located in the first position and a second contact sensor contacting the other end of the drive bar when the drive bar is located in the second position The member may include a control unit which stops the process of the installation when the driving member is located at the first position and the second position during the process, when the sensing member does not normally sense the driving bar.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 기판 지지부재를 상세히 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어져서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완 전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소의 형상은 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a substrate support member according to an embodiment of the present invention. The embodiments of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited by the embodiments described below. This embodiment is provided to more fully describe the present invention to those skilled in the art. Accordingly, the shape of elements in the figures is exaggerated to emphasize clear explanation.
(실시예)(Example)
도 1은 본 발명에 따른 기판 지지부재를 도시한 구성도이고, 도 2a 및 도 2b는 도 1에 도시된 기판 지지부재의 작동 과정을 설명하기 위한 도면들이다.1 is a block diagram showing a substrate support member according to the present invention, Figures 2a and 2b are views for explaining the operation of the substrate support member shown in FIG.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 기판 지지부재(100)는 리프트 핀(lift pin)(110), 지지체(support member)(120), 그리고, 구동 어셈블리(driven assembly)를 가진다. 리프트 핀(110)은 구동 어셈블리에 의해 승강되며, 리프트 핀(110)의 상부에는 지지체(120)가 결합된다. 지지체(120)는 반도체 처리공정이 수행되는 챔버(미도시됨) 내부에 위치한다. 챔버는 반도체 기판(W)에 소정의 처리 공정을 수행하는 공간을 가진다. 일 실시예로서, 상기 챔버는 이온주입장치의 엔드 스테이션(end-station)에 구비되며, 상기 처리 공정은 반도체 제조 공정 중 이온주입공정일 수 있다.Referring to FIG. 1, the
리프트 핀(110)은 기판(W)의 로딩 및 언로딩을 위해 지지체(120)를 승강시킨다. 리프트 핀(110)은 적어도 하나가 구비되며, 리프트 핀(110)의 상부는 지지체(120)의 저면과 결합된다. 리프트 핀(110)의 하부에는 후술할 구동바(140)와 결속되는 샤프트(112)가 구비된다. 샤프트(112)에는 보조 모터(미도시됨)로부터 회전력을 전달받는 기어(114)가 결합된다. 기어(114)는 공정시 보조 모터로부터 회전력을 전달받아 리프트 핀(110)이 소정의 회전속도로 회전되기 위한 것으로, 기어(114)와 보조 모터는 벨트(미도시됨)에 의해 서로 구름접촉된다. 공정시 지지체(120)에 기판(W)이 안착되면, 보조 모터는 기어(114)를 회전시켜 리프트 핀(110)을 회전시킨다. 따라서, 기판(W)은 일정 각도로 회전되게 되며, 이온 공정을 위한 기판(W)의 정렬이 수행된다.The
지지체(support body)(120)는 공정시 기판(W)을 지지한다. 지지체(120)는 일 실시예로서 기판(W)의 지름보다 직경이 작은 원반 형상으로 제작된다. 지지체(120)의 상부에는 기판(W)의 피처리면을 지지하는 안착면을 가지며, 지지체(120)의 하부에는 리프트 핀(110)과 결합된다. 또한, 지지체(120)는 기판(W)이 안착되면, 기판(W)이 상기 안착면으로부터 이탈되지 않도록 고정시키는 고정 수단을 구비할 수 있다. 고정 수단으로는 상기 안착면에 안착된 기판(W)의 저면을 진공으로 흡착시키는 진공 라인(vacuum line) 및 상기 진공 라인에 진공압을 제공하는 진공 펌프 등이 사용될 수 있다.The
또한, 지지체(120)는 챔버 내부에서 회전 가능하도록 설치된다. 이는 공정시 지지체(120)에 안착된 기판(W)을 소정의 각도로 회전시켜 기판(W)에 형성된 패턴을 기설정된 방향으로 정렬하기 위함이다. 즉, 이온주입공정시에는 기판(W)에 형성된 패턴이 기설정된 방향으로 정렬되어야 하므로, 지지체(12)는 안착된 기판(W)을 회전시켜 기판(W)에 형성된 패턴 방향을 정렬한다.In addition, the
구동 어셈블리는 리프트 핀(110)을 상하로 이동시킨다. 구동 어셈블리는 하우징(housing)(130), 모터(motor)(미도시됨), 승강 부재(elevating member), 그리고 모니터링 부재(monitoring emember)(170)를 가진다. 하우징(130)은 구동 어셈블 리의 구성들이 설치되는 프레임(frame)(132) 및 브라켓(bracket)(134)을 가진다. 프레임(132) 및 브라켓(134)에는 특히, 리피트 핀(110)을 상하 운동시키는 승강 부재의 구성들이 설치된다. 승강 부재는 구동바(driven bar)(140), 구동축(driven shaft)(150), 그리고 회전축(rotating shaft)(160)을 가진다.The drive assembly moves the
구동바(140)는 긴 바(bar) 형상을 가진다. 구동바(140)의 일단에는 상기 모터에 의해 구동되는 구동축(150)이 삽입되는 장공(142)이 형성된다. 장공(142)은 구동바(140)의 길이방향으로 형성된다. 장공(142)은 구동축(150)의 회전력을 구동바(140)의 시소 운동(seesaw)으로 변환하기 위해 제공되는 것이다. 또한, 구동바(140)의 타단에는 리프트 핀(110)의 샤프트(112)와 결합되는 결합부가 제공된다. 일 실시예로서, 상기 결합부는 샤프트(112)를 홀딩(holding)하여 고정하도록 제작된 집게의 구성일 수 있다.The driving
구동축(150)은 모터(미도시됨)에 의해 구동된다. 구동축(134)은 구동바(140)에 형성된 장공(142)에 삽입되며, 환형의 이동 경로(10)를 따라 회전된다. 이동 경로(10)는 구동바(120)가 회전축(160)을 중심으로 시소(seesaw) 운동되기 위한 구동축(150)의 동작 경로이다. 이동 경로(10)는 예컨대, 정원 및 타원 등을 포함하는 환형일 수 있다. 회전축(160)은 구동바(140)의 일단 및 타단 사이에서 구동바(140)에 삽입된다. 회전축(160)은 구동바(140)의 시소 운동의 중심축으로 작용된다.The
여기서, 도 2a 및 도 2b를 참조하면, 상술한 시소 운동은 제 1 위치(a) 및 제 2 위치(b)를 가진다. 제 1 위치(a)는 공정시 기판(W)을 안착면으로부터 이격시키기 위한 구동바(140)의 위치이며, 제 2 위치(b)는 공정시 기판(W)을 안착면에 안 착시키기 위한 구동바(140)의 위치이다. 예컨대, 제 1 위치(a)는 구동바(140)가 회전축(160)을 중심으로 반시계 방향으로 회전하여 리프트 핀(110)을 상승시킨 위치이며, 제 2 위치(b)는 구동바(140)가 회전축(160)을 중심으로 시계 방향으로 회전하여 리프트 핀(110)을 하강시킨 위치이다. 2A and 2B, the above-described seesaw motion has a first position a and a second position b. The first position (a) is the position of the
상술한 구동축(150)의 이동 경로(10) 및 장공(142)의 형상은 구동바(140)가 제 1 및 제 2 위치(a, b) 상호간에 회전 동작을 위해 제공되는 것이며, 이동 경로(10) 및 장공(142)의 형상은 다양하게 변형 및 변경이 가능하다. 예컨대, 상기 구동축(150)의 이동 경로(10)는 환형이 아닌, 직선 및 곡선일 수 있다. 이때, 구동바(140)에 형성된 장공(142)의 형상은 구동축(150)의 형상 및 이동 경로에 따라 다양하게 변형될 수 있다.The above-described shape of the
모니터링 부재(170)는 감지 부재(sensing member)(172), 제어부(control member)(174), 그리고 표시 부재(display member)(176)를 가진다. 감지 부재(172)는 상기 구동바(140)가 제 1 및 제 2 위치(a,b)에 정상적으로 위치하였는지를 감지한다. 이를 위해, 감지 부재(172)는 제 1 및 제 2 접촉센서(172a, 172b)를 가진다. 제 1 및 제 2 접촉센서(172a, 172b)는 공정시 고정바(140)와 접촉가능하며, 접촉 여부에 따라 고정바(140)의 유무를 감지한다.The monitoring
일 실시예로서, 제 1 접촉센서(172a)는 고정바(140)가 제 1 위치(a)에 위치할 때 고정바(140)의 타단과 접촉하도록 고정설치된다. 제 2 접촉센서(172b)는 고정바(140)가 제 2 위치(b)에 위치할 때 고정바(140)의 타단과 접촉하도록 고정설치된다. 따라서, 제 1 및 제 2 접촉센서(172a, 172b)는 고정바(140)가 각각 제 1 및 제 2 위치(a, b)에 정상적으로 위치하면 고정바(140)의 타단과 접촉되어 고정바(140)를 감지한다. 그리고, 각각의 제 1 및 제 2 접촉센서(172a, 172b)는 고정바(140)의 감지 여부에 대응되는 신호를 제어부(174)로 전송한다.In one embodiment, the
본 실시예에서는 감지 부재(172)가 구동바(140)의 제 1 및 제 2 위치(a,b) 상호간에 동작하는 것을 감지하여 리프트 핀(110)이 정상적으로 동작하는지 여부를 감지하는 방식을 예로 들어 설명하였다. 이는 구동바(140)가 리프트 핀(110)의 승강 운동에 직접적으로 연동되기 때문이다. 그러나, 감지 부재(172)는 리프트 핀(110)을 승강시키는 구성들 중 적어도 어느 하나의 구성의 동작을 감지함으로써 리프트 핀(110)의 정상적인 승강 여부를 감지할 수 있다. 또한, 감지 부재(172)의 위치는 하우징(130)에 설치되는 것으로 한정되는 것이 아니며, 설비의 다양한 지점에 설치될 수 있다.In the present exemplary embodiment, the sensing
또한, 본 발명의 일 실시예에서는 감지 부재(172)의 제 1 및 제 2 접촉 센서(172a, 172b)가 구동바(140)와 직접적으로 접촉하여, 구동바(140)의 제 1 및 제 2 위치(a,b)를 감지하는 방식을 예로 들어 설명하였다. 그러나, 제 1 및 제 2 접촉센서(172a, 172b)는 구동바(140)와 접촉될 때, 민감하게 이를 감지하지 못할 수 있다. 따라서, 감지 부재(172)는 제 1 및 제 2 접촉센서(172a, 172b)의 감지 감도를 높이기 위해 센서바(sensor bar)를 더 구비할 수 있다. 센서바는 제 1 및 제 2 접촉센서(172a, 172b)와 민감하게 반응한다. 예컨대, 센서바(미도시됨)는 구동바(140)의 타단에 고정설치된다. 이때, 센서바는 구동바(140)가 제 1 위치(a)에 위치할 때 제 1 접촉센서(172a)와 접촉하고, 구동바(140)가 제 2 위치(b)에 위치할 때 제 2 접촉센서(172b)와 접촉한다. 따라서, 감지 부재(172)는 센서바의 접촉 여부에 따라 구동바(140)의 제 1 및 제 2 위치(a,b)에 위치하였는지 여부를 감지한다.In addition, in an embodiment of the present invention, the first and
본 발명의 다른 실시예에 따른 감지 부재(172)는 제 1 및 제 2 접촉센서(172a, 172b)가 구동바(140)와 접촉할 때, 센싱 능력이 없는 구동바(140)를 민감하게 인지하지 못하는 것을 보완하기 위해 센서바를 가진다. 따라서, 감지 부재(172)는 구동바(140)의 제 1 및 제 2 위치(a,b)를 보다 정밀하게 감지할 수 있다.The sensing
제어부(174)는 감지 부재(172)가 감지한 고정바(140)의 제 1 및 제 2 위치(a, b)의 위치하였는지 여부를 판단한다. 제어부(174)는 감지 부재(172)의 감지 여부가 정상적으로 이루어지지 않으면, 설비의 공정 진행을 중단하고, 이를 작업자가 인지하도록 표시 부재(176)에 표시한다. 표시 부재(176)는 상술한 승강 부재의 작동 상태를 작업자가 인지하도록 표시한다. 표시 부재(176)로는 마이컴과 같은 디스플레이 부재 또는 알람을 발생시키는 경보장치가 사용될 수 있다.The
이하, 상기와 같은 구성을 가지는 기판 지지부재(100)의 동작 과정을 상세히 설명한다. 여기서, 상술한 구성과 동일한 구성에 대한 참조번호는 동일하게 병기하며 이에 대한 설명은 생략하겠다.Hereinafter, an operation process of the
도 3은 도 1에 도시된 기판 지지부재의 작동 과정을 보여주는 순서도이다. 도 3을 참조하면, 공정이 개시되면 챔버(미도시됨) 외부에 설치된 로봇암(미도시됨)은 기판(W)을 장착된 블레이드(blade)(미도시됨)를 챔버 내부로 반입시킨 후 지지체(120)의 상부에 기판(W)을 위치시킨다. 지지체(120)의 상부에 기판(W)이 위치되면, 모터는 구동축(150)을 회전시켜 구동바(140)가 제 1 위치(a)에 위치되도록 하여 리프트 핀(110)을 상승시킨다. 지지체(120)는 리프트 핀(110)의 상승에 의해 로봇암에 안착된 기판(W)을 안착면에 로딩(loading)시킨다. 그리고, 지지체(120)에 기판(W)이 로딩되면 로봇암은 챔버 외부로 이동된다.3 is a flow chart showing an operation process of the substrate support member shown in FIG. Referring to FIG. 3, when a process is started, a robot arm (not shown) installed outside the chamber (not shown) may bring a blade (not shown) into which the substrate W is mounted into the chamber. The substrate W is positioned on the
로봇암의 블레이드가 챔버 외부로 반출되면, 구동바(140)는 제 1 위치(a)에서 제 2 위치(b)로 회전축(160)을 중심으로 시계방향으로 회전됨으로써, 리프트 핀(110)을 하강시킨다. 그리고, 리프트 핀(110)은 소정의 회전 속도로 회전하여, 안착된 기판(W)에 형성된 패턴이 기설정된 방향으로 정렬되도록 한다. 기판(W)의 정렬이 완료되면, 기판(W)의 처리면으로 불순물 이온이 주입된다. When the blade of the robot arm is taken out of the chamber, the driving
이러한, 이온 주입 공정이 완료되면, 구동바(140)는 반시계 방향으로 회전되어 제 2 위치(b)로부터 제 1 위치(a)로 회전되어 리프트 핀(110)을 상승시킨다. 그리고, 리프트 핀(110)의 상승되면, 로봇암의 블레이드가 챔버 내부로 이동되어 지지체(120)에 안착된 기판(W)을 반출시킨다.When the ion implantation process is completed, the driving
상술한 공정 진행시에 모니터링 부재(170)는 리프트 핀(110)을 승강시키는 승강 부재의 작동을 모니터링한다. 즉, 공정이 진행되면, 모니터링 부재(170)의 감지 부재(172)는 구동바(140)의 제 1 및 제 2 위치(a,b)에 정상적으로 위치하는지를 감지한다(S110). 즉, 제 1 접촉센서(172a)는 구동바(140)가 제 1 위치(a)에 정상적으로 위치하였을 때 구동바(140)의 타단과 접촉되어 구동바(140)의 정상적인 동작이 이루어졌음을 감지한다. 같은 방식으로 제 2 접촉센서(172b)는 구동바(140)가 제 2 위치(b)에 정상적으로 위치하였을 때 구동바(140)의 타단과 접촉되어 구동바(140)의 정상적인 동작이 이루어졌음을 감지한다. 그리고, 제 1 및 제 2 접촉센서 (172a, 172b)는 감지한 신호를 제어부(184)로 전송한다.During the process described above, the monitoring
제어부(174)는 감지 부재(172)가 감지한 신호를 전송받아, 구동바(140)의 제 1 및 제 2 위치(a,b) 상호간에 동작이 정상적으로 이루어졌는지를 판단한다(S120). 만약, 고정바(140)가 제 1 위치(a)에 위치하였을 때 제 1 접촉센서(172a)가 고정바(140)와 접촉되지 않거나, 고정바(140)가 제 2 위치(b)에 위치하였을 때 제 2 접촉센서(172b)가 고정바(140)와 접촉되지 않으면, 제어부(174)는 고정바(140)의 동작이 정상적으로 이루어지지 않은 것으로 판단하여 설비의 공정 진행을 중지하고, 이를 작업자가 인지할 수 있도록 표시 부재(176)에 표시한다(S130). 작업자는 표시 부재(176)에 표시된 정보를 파악하여, 기판 지지부재(100)의 정상적인 가동을 위한 유지 보수를 실시한다.The
상술한 바와 같이 본 발명에 따른 기판 지지부재(100)는 리프트 핀(110)의 승강을 위한 승강 부재의 동작 여부가 정상적으로 이루어지는지 여부를 감지하고, 이를 작업자가 인지하도록 표시한다. 따라서, 리프트 핀(110)을 승하강시키는 승강 부재의 동작을 모니터링할 수 있다.As described above, the
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내고 설명하는 것에 불과하며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉, 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시예들은 본 발명을 실시하는데 있어 최선의 상태를 설명하기 위한 것이며, 본 발명과 같은 다른 발명을 이용하는 데 당업계에 알려진 다른 상태로의 실시, 그리고 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서, 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The foregoing detailed description illustrates the present invention. In addition, the foregoing description merely shows and describes preferred embodiments of the present invention, and the present invention can be used in various other combinations, modifications, and environments. That is, changes or modifications may be made within the scope of the concept of the invention disclosed in this specification, the scope equivalent to the disclosed contents, and / or the skill or knowledge in the art. The above-described embodiments are intended to illustrate the best state in carrying out the present invention, the practice in other states known in the art for using other inventions such as the present invention, and the specific fields of application and uses of the invention. Various changes are also possible. Accordingly, the detailed description of the invention is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments. Also, the appended claims should be construed to include other embodiments.
상술한 바와 같이 본 발명에 따른 기판 지지부재는 리프트 핀을 승하강시키는 구동 어셈블리의 구동 상태를 모니터링할 수 있다. 따라서, 공정시 구동 어셈블리의 오동작에 따른 기판의 손상 및 설비의 오염을 방지할 수 있다.As described above, the substrate support member according to the present invention may monitor the driving state of the driving assembly for elevating the lift pin. Therefore, it is possible to prevent damage to the substrate and contamination of equipment due to malfunction of the drive assembly during the process.
Claims (6)
Priority Applications (1)
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Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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KR1020060021448A KR20070091830A (en) | 2006-03-07 | 2006-03-07 | Substrate supporting member |
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-
2006
- 2006-03-07 KR KR1020060021448A patent/KR20070091830A/en not_active Application Discontinuation
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Legal Events
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WITN | Withdrawal due to no request for examination |