KR20070081317A - 멀티 챔버형 식각 설비 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 에칭(etching)공정을 위한 멀티 챔버형 식각 설비에 관한 것이다. 본 발명의 멀티 챔버형 식각 설비는 기판을 이송하는 이송로봇을 갖는 반송챔버, 반송챔버의 측면에 연통되어 설치되며 기판에 대한 에칭공정이 수행되는 공정챔버들, 반송챔버의 측면에 연통도어 설치되며 공정챔버에서 에칭공정을 마친 기판에 대한 스트립공정이 수행되는 적어도 2개의 스트립챔버를 포함한다.
상술한 구성을 갖는 멀티 챔버형 식각 설비는, 스트립 공정에서의 병목 현상을 해소할 수 있다.

Description

멀티 챔버형 식각 설비{ETCHING EQUIPMENT OF MULTI CHAMBER TYPE}
도 1은 종래 멀티 챔버형 식각 설비를 보여주는 구성도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 멀티 챔버형 식각 설비를 보여주는 구성도이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
110 : 반송 챔버 120 : 공정챔버
130 : 로드락 챔버 150 : 스트립 챔버
본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는 에칭(etching)공정을 위한 멀티 챔버형 식각 설비에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자는, 기판인 기판 상에 여러 가지 물질을 박막형태로 증착하고 이를 패터닝하여 구현되는데, 이를 위하여 증착공정, 식각공정, 세정공정 및 건조공정 등 여러 단계의 서로 공정이 요구된다. 이러한 각각의 공정에서 처리대상물인 기판은 해당 공정의 진행에 최적의 환경을 지니고 있는 프로세스 챔버에 장착되어 처리된다. 이러한 반도체 처리 시스템은 기판을 처리하기 위한 프로세스 챔버와 상기 프로세스 챔버내로 기판을 이송하거나, 상기 프로세스 챔버로부터 다른 프로세스 챔버로 이송하기 위한 이송공간이 구비된 이송챔버를 구비한 멀티 챔버 시스템을 사용한다. 상기 프로세스 챔버로 이송된 기판은 통상적으로 리소그래피, 화학 또는 물리적 증착 및 플라즈마 에칭 등과 같은 일련의 반도체 공정을 거쳐 반도체 소자 또는 칩으로 제조된다.
그 중에서 반도체 기판에 대해 에칭(etching)공정을 수행하는 멀티 챔버형 식각 설비(10)는 도 1에 나타낸 바와 같이, 다수의 기판이 수납된 카세트가 안착되어 자동으로 공정을 진행하도록 하는 로드락챔버(load lock chamber)(12)과, 로드락챔버(12)의 카세트로부터 이송된 낱장의 기판에서 노치(notch)부분을 찾아 일정한 방향으로 맞추어주는 오리엔트챔버(orient chamber)(14)와, 얼라인(align)된 기판이 이송되어 에칭이 수행되는 프로세스챔버(process chamber)(16)와, 에칭이 완료된 기판이 이송되어 대략 250℃의 척(chuck) 위에서 기판 표면의 감광막(photo resist film)이 스트립(strip)되는 스트립챔버(strip chamber)(18)와, 감광막이 스트립된 기판이 이송되어 상온까지 냉각되는 쿨다운챔버(cool down chamber)(20)와, 상기한 각 챔버에 기판을 이송하는 트랜스퍼챔버(transfer chamfer)(22)로 이루어져 있다.
즉, 기판의 금속막상에 감광막이 도포되어 포토(photo)공정에서 감광막에 패턴이 형성된 다음, 감광막패턴을 마스크로 사용하여 금속막을 식각함으로써 금속막패턴이 형성되며, 이어서, 금속막패턴상의 감광막패턴을 제거하기 위한 스트립공정 이 수행된다.
그러나, 종래 멀티 챔버형 식각 설비(10)는 3개의 프로세스챔버(16)와, 하나의 스트립 챔버(18)를 구비하고 있기 때문에, 프로세스 챔버(16)들로부터 공정을 마친 기판들이 하나의 스트립 챔버(18)로 몰리는 병목 현상이 발생되어, 공정 지연을 유발하여 생산성을 저하시키는 등의 문제점이 발생되고 있다.
본 발명은 스트립 공정에서의 병목 현상을 해소할 수 있는 멀티 챔버형 식각 설비를 제공하는데 있다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 의하면, 멀티 챔버형 식각 설비는 기판을 이송하는 이송로봇을 갖는 반송챔버; 상기 반송챔버의 측면에 연통되어 설치되며 기판에 대한 에칭공정(제1처리공정)이 수행되는 제1챔버들; 상기 반송챔버의 측면에 연통되어 설치되며 상기 제1챔버에서 에칭공정을 마친 기판에 대한 스트립공정(제2처리공정)이 수행되는 적어도 2개의 제2챔버를 포함한다.
예컨대, 본 발명의 실시예들은 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어져서는 안 된다. 본 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면 도 2에 의거하여 상세히 설명한다.
도 2에 도시된 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 반도체장치 식각설비(100)는 이송로봇(또는 핸들러;handler)(112)과 그 주위에 마련된 복수의 처리 모듈들을 포함하는 멀티 챔버형으로 일명, 클라스터(cluster) 시스템이라고도 한다.
멀티 챔버형 식각설비(100)는 중앙에 펌프에 의해 일정한 저진공 상태로 유지되는 반송 챔버(110)가 설치된다. 반송로봇(112)은 다수의 공정챔버(120)로의 기판 이송이 용이하도록 반송 챔버(110)의 중앙에 배치된다. 반송로봇(110)은 기판을 지지하기 위한 엔드 이펙터(114)(또는 블레이드라고도 함)를 포함한다.
출입 포트(116)는 기판의 진입과 배출이 가능하도록 반송 챔버(110)와 각각의 챔버들 사이에 한정된다. 출입 포트(116)는 격리 밸브(Isolation Valve;118)에 의해 선택적으로 개폐된다.
반송 챔버(110)의 각진 측면에는 복수개의 챔버들이 연통되어 연결된다. 즉, 공정수행을 위해 대기중이거나 공정수행이 완료된 기판들이 대기중인 로드락 챔버(130), 로드락 챔버(130)로부터 이송된 낱장의 기판에서 노치(notch)부분을 찾아 일정한 방향으로 맞추어주는 오리엔트챔버(orient chamber)(140), 얼라인(align)된 기판이 이송되어 에칭이 수행되는 그리고 고진공 환경이 요구되는 3개의 공정 챔버(process chamber;120), 에칭이 완료된 기판이 이송되어 대략 250℃의 척(chuck) 위에서 기판 표면의 감광막(photo resist film)이 스트립(strip)되는 2개의 스트립챔버(strip chamber)(150)와, 상술한 식각공정이 완료된 후 기판을 일정한 온도까지 냉각시키기 위한 쿨다운챔버(cool down chamber;160)가 반송 챔버(110)를 둘러싸고 배치된다.
한편, 로드락 챔버(130)는 반송 챔버(110)와 인터페이스 챔버(170) 사이에 결합되며, 로드락 챔버(130)는 반송 챔버(110)의 진공환경과 인터페이스 챔버(170)의 상압 환경 사이에서 기판 이송을 용이하게 한다. 참고로, 인터페이스 챔버(170)는 인터페이스 로봇(172)을 가지며, 기판 저장 카세트(180)를 수용하는 다수의 베이를 포함한다.
상술한 바와 같이 멀티 챔버형 식각 설비(100)는 3개의 공정챔버(120)와 2개의 스트립 챔버(150)를 구비함으로써, 스트립 공정에서의 병목 현상을 방지할 수 있다.
이상에서, 본 발명에 따른 멀티 챔버형 식각설비의 구성 및 작용을 상기한 설명 및 도면에 따라 도시하였지만 이는 예를 들어 설명한 것에 불과하며 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.
이와 같은 본 발명에 의하면, 병목현상이 발생되지 않아 기판이 정체되지 않으므로 생산성을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.

Claims (2)

  1. 멀티 챔버형 식각 설비에 있어서:
    기판을 이송하는 이송로봇을 갖는 반송챔버;
    상기 반송챔버의 측면에 연통되어 설치되며 기판에 대한 제1처리공정이 수행되는 복수의 제1챔버들; 및
    상기 반송챔버의 측면에 연통되어 설치되며, 상기 제1챔버에서 공정을 마친 기판에 대한 제2처리공정이 수행되는 복수의 제2챔버들을 포함하는 것을 특징으로 하는 멀티 챔버형 식각 설비.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1챔버에서는 기판에 대한 에칭공정이 수행되며,
    상기 제2챔버에서는 에칭공정을 마친 기판에 대한 스트립공정이 수행되는 것을 특징으로 하는 멀티 챔버형 식각 설비.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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